KR20160106825A - 표시 장치의 제조 방법 및 표시 장치 - Google Patents

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Abstract

표시 장치의 제조 방법은 복수의 화소들 및 상기 화소들 중 적어도 하나와 연결되는 박막 트랜지스터를 포함하는 플렉서블 표시 패널을 준비하는 단계, 상기 플렉서블 표시 패널 상에 박막 봉지층을 형성하는 단계 및 상기 박막 봉지층 상에 전사 공정을 수행하여 터치 스크린 패널을 형성하는 단계를 포함한다.

Description

표시 장치의 제조 방법 및 표시 장치{FABRICATION METHOD OF DISPLAY DEVICE AND DISPLAY DEVICE}
본 발명은 표시 장치의 제조 방법 및 표시 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 크랙 발생을 줄일 수 있는 표시 장치의 제조 방법 및 표시 장치에 관한 것이다.
최근, 플렉서블 표시 패널 및 상기 플렉서블 표시 패널 상에 제공되는 플렉서블 모듈을 포함하는 플렉서블 표시 장치는 디지털 카메라, 비디오 카메라, 캠코더, 휴대 정보 단말기, 스마트 폰, 초슬림 노트북, 태블릿 퍼스널 컴퓨터, 모바일 기기용 디스플레이 장치, 초박형 텔레비전 같은 대형 전자 제품 또는 대형 전기 제품에 적용할 수 있어서 각광 받고 있다.
상기 플렉서블 표시 패널에 포함되는 유기층 등은 공기 중의 수분과 산소에 취약하여, 상기 플렉서블 표시 패널 상에는 공기 중의 수분과 산소로부터 상기 유기층 등을 보호하기 위한 봉지층이 제공된다. 상기 플렉서블 표시 패널 상에는 박막 형태의 봉지층, 즉 박막 봉지층이 주로 제공된다. 일반적으로, 터치 스크린 패널등을 포함하는 플렉서블 모듈은 상기 박막 봉지층 상에 라미네이션 공정을 통해 제공된다.
본 발명의 목적은 제조 공정을 간소화할 수 있고, 제조된 표시 장치의 두께를 줄일 수 있는 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 간단한 제조 공정에 의해 제조되고, 두께가 얇은 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 복수의 화소들 및 상기 화소들 중 적어도 하나와 연결되는 박막 트랜지스터를 포함하는 플렉서블 표시 패널을 준비하는 단계, 상기 플렉서블 표시 패널 상에 박막 봉지층을 형성하는 단계 및 상기 박막 봉지층 상에 전사 공정을 수행하여 터치 스크린 패널을 형성하는 단계를 포함한다.
상기 터치 스크린 패널을 형성하는 단계는 제1 전사용 기판을 제공하는 단계 및 상기 제1 전사용 기판에 열 또는 광을 가하여 상기 박막 봉지층 상에 제1 전사층을 전사하는 단계를 포함한다.
상기 제1 전사용 기판을 제공하는 단계는 제1 베이스 필름 상에 제1 팽창층을 제공하는 단계, 상기 제1 팽창층 상에 상기 제1 전사층을 제공하는 단계 및 상기 제1 전사층과 상기 박막 봉지층을 대향하도록 배치하는 단계를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 상기 박막 봉지층 상에 전사 공정을 수행하여 컬러 필터 및 블랙 매트릭스를 형성하는 단계를 더 포함한다.
상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스를 형성하는 단계는 제2 전사용 기판을 제공하는 단계 및 상기 제2 전사용 기판에 열 또는 광을 가하여 상기 박막 봉지층 상에 제2 전사층을 전사하는 단계를 포함한다.
상기 제2 전사용 기판을 제공하는 단계는 제2 베이스 필름 상에 제2 팽창층을 제공하는 단계, 상기 제2 팽창층 상에 상기 제2 전사층을 제공하는 단계 및 상기 제2 전사층과 상기 박막 봉지층을 대향하도록 배치하는 단계를 포함한다.
상기 컬러 필터 및 블랙 매트릭스를 형성하는 단계는 상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스를 상기 터치 스크린 패널 상에 형성하는 것일 수 있다.
상기 터치 스크린 패널을 형성하는 단계는 터치 또는 근접 터치를 인식하는 감지 전극을 형성하는 단계를 더 포함한다. 상기 컬러 필터 및 블랙 매트릭스를 형성하는 단계는 상기 컬러 필터를 상기 감지 전극 상에 형성하는 것일 수 있다.
상기 터치 스크린 패널을 형성하는 단계는 상기 터치 스크린 패널을 상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스 상에 형성하는 것일 수 있다.
상기 터치 스크린 패널을 형성하는 단계는 터치 또는 근접 터치를 인식하는 감지 전극을 형성하는 단계를 더 포함한다. 상기 감지 전극을 형성하는 단계는 상기 감지 전극을 상기 블랙 매트릭스 상에 형성하는 것일 수 있다.
상기 터치 스크린 패널을 형성하는 단계는 상기 블랙 매트릭스 및 상기 감지 전극 상에 형성되고, 상기 감지 전극을 커버하는 커버 블랙 매트릭스를 전사 공정으로 형성하는 단계를 더 포함하는 것일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 플렉서블 표시 패널, 박막 봉지층 및 터치 스크린 패널을 포함한다. 상기 플렉서블 표시 패널은 복수의 화소들 및 상기 화소들 중 적어도 하나와 연결되는 박막 트랜지스터를 포함한다. 상기 박막 봉지층은 상기 플렉서블 표시 패널 상에 제공된다. 상기 터치 스크린 패널은 상기 박막 봉지층 상에 제공되고, 전사 공정으로 형성된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 컬러 필터 및 블랙 매트릭스를 포함한다. 상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스 각각은 전사 공정으로 형성된다.
상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스는 상기 터치 스크린 패널 상에 제공되는 것일 수 있다.
상기 터치 스크린 패널은 터치 또는 근접 터치를 인식하는 감지 전극을 더 포함한다. 상기 컬러 필터는 상기 감지 전극 상에 제공된다.
상기 터치 스크린 패널은 상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스 상에 제공되는 것일 수 있다.
상기 터치 스크린 패널은 터치 또는 근접 터치를 인식하는 감지 전극을 더 포함한다. 상기 감지 전극은 상기 블랙 매트릭스 상에 제공된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 상기 블랙 매트릭스 및 상기 감지 전극 상에 제공되고, 상기 감지 전극을 커버하는 커버 블랙 매트릭스를 더 포함한다. 상기 커버 블랙 매트릭스는 전사 공정으로 형성된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법에 따르면, 표시 장치의 제조 공정을 간소화하고, 표시 장치의 두께를 줄일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 따르면 간단한 제조 공정에 의해 제조되고, 두께가 얇은 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 포함되는 화소들 중 하나의 회로도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 포함되는 화소들 중 하나를 나타낸 평면도이다.
도 4는 도 3의 I-I'선에 대응하여 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법의 개략적인 순서도이다.
도 6a, 도 6b 및 도 6c는 전사 공정에 의한 터치 스크린 패널의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 단면도이다.
도 7a, 도 7b 및 도 7c는 전사 공정에 컬러 필터 및 블랙 매트릭스의 전사 방법을 순차적으로 나타낸 단면도이다.
도 8a, 도 8b, 도 8c 및 도 8d는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
이상의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 통상의 기술자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.
각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법 및 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 대하여 설명한다.
도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(10)는 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)을 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(10)는 플렉서블 표시 패널(100), 박막 봉지층(TFE) 및 플렉서블 모듈(200)을 포함한다. 박막 봉지층(TFE)은 플렉서블 표시 패널(100) 상에 제공된다. 플렉서블 모듈(200)은 박막 봉지층(TFE) 상에 제공된다. 플렉서블 모듈(200)은 터치 스크린 패널(도 6c의 TSP), 컬러 필터(도 7b의 CF) 및 블랙 매트릭스(도 7c의 BM)를 포함한다. 플렉서블 표시 패널(100), 박막 봉지층(TFE) 및 플렉서블 모듈(200)에 대해서는 보다 구체적으로 후술한다.
표시 영역(DA)은 영상을 표시한다. 표시 장치(10)의 두께 방향에서 보았을 때(예를 들어 DR3), 표시 영역(DA)은 대략적으로 직사각형 형상을 갖는 것일 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.
표시 영역(DA)은 복수의 화소 영역들(PA)을 포함한다. 화소 영역들(PA)은 매트릭스 형태로 배치될 수 있다. 화소 영역들(PA)은 화소 정의막(도 4의 PDL)에 의해 정의될 수 있다. 화소 영역들(PA)은 복수의 화소들(도 2의 PX) 각각을 포함할 수 있다.
비표시 영역(NDA)은 영상을 표시하지 않는다. 표시 장치(10)의 두께 방향에서 보았을 때(DR3), 비표시 영역(NDA)은 예를 들어, 표시 영역(DA)을 둘러싸는 것일 수 있다. 비표시 영역(NDA)은 제1 방향(DR1) 및 제1 방향(DR1)과 교차하는 제2 방향(DR2)으로 표시 영역(DA)과 인접할 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 포함되는 화소들 중 하나의 회로도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 포함되는 화소들 중 하나를 나타낸 평면도이다.
도 4는 도 3의 I-I'선에 대응하여 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 플렉서블 표시 패널(100)은 화소들(PX)을 포함한다. 플렉서블 표시 패널(100)은 통상적으로 사용하는 것이라면, 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어, 유기 발광 표시 패널(organic light emitting display panel), 액정 표시 패널(liquid crystal display panel), 전기영동 표시 패널(electrophoretic display panel) 및 일렉트로웨팅 표시 패널(electrowetting display panel)으로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있다. 이하에서는 플렉서블 표시 패널(100)이 유기 발광 표시 패널인 것을 예를 들어 설명한다.
화소들(PX) 각각은 게이트 라인(GL), 데이터 라인(DL) 및 구동 전압 라인(DVL)으로 이루어진 배선부와, 배선부에 연결된 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2), 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)에 연결된 유기 발광 소자(OEL) 및 커패시터(Cst)를 포함한다.
화소들(PX) 각각은 특정 컬러의 광, 예를 들어, 적색광, 녹색광, 청색광 중 하나를 출사할 수 있다. 컬러 광의 종류는 상기한 것에 한정된 것은 아니며, 예를 들어, 시안광, 마젠타광, 옐로우광 등이 추가될 수 있다.
게이트 라인(GL)은 제1 방향(DR1)으로 연장된다. 데이터 라인(DL)은 게이트 라인(GL)과 교차하는 제2 방향(DR2)으로 연장된다. 구동 전압 라인(DVL)은 데이터 라인(DL)과 실질적으로 동일한 방향, 즉 제2 방향(DR2)으로 연장된다. 게이트 라인(GL)은 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)에 주사 신호를 전달하고, 데이터 라인(DL)은 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)에 데이터 신호를 전달하며, 구동 전압 라인(DVL)은 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)에 구동 전압을 제공한다.
박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)는 유기 발광 소자(OEL)를 제어하기 위한 구동 박막 트랜지스터(TFT2)와, 구동 박막 트랜지스터(TFT2)를 스위칭 하는 스위칭 박막 트랜지스터(TFT1)를 포함할 수 있다. 본 발명이 일 실시예에서는 화소들(PX) 각각이 두 개의 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)를 포함하는 것을 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니고, 화소들(PX) 각각이 하나의 박막 트랜지스터와 커패시터를 포함할 수도 있고, 화소들(PX) 각각이 셋 이상의 박막 트랜지스터와 둘 이상의 커패시터를 구비할 수도 있다.
스위칭 박막 트랜지스터(TFT1)는 제1 게이트 전극(GE1), 제1 소스 전극(SE1) 및 제1 드레인 전극(DE1)을 포함한다. 제1 게이트 전극(GE1)은 게이트 라인(GL)에 연결되며, 제1 소스 전극(SE1)은 데이터 라인(DL)에 연결된다. 제1 드레인 전극(DE1)은 제5 콘택홀(CH5)에 의해 제1 공통 전극(CE1)과 연결된다. 스위칭 박막 트랜지스터(TFT1)는 게이트 라인(GL)에 인가되는 주사 신호에 따라 데이터 라인(DL)에 인가되는 데이터 신호를 구동 박막 트랜지스터(TFT2)에 전달한다.
구동 박막 트랜지스터(TFT2)는 제2 게이트 전극(GE2), 제2 소스 전극(SE2) 및 제2 드레인 전극(DE2)을 포함한다. 제2 게이트 전극(GE2)은 제1 공통 전극(CE1)에 연결된다. 제2 소스 전극(SE2)은 구동 전압 라인(DVL)에 연결된다. 제2 드레인 전극(DE2)은 제3 콘택홀(CH3)에 의해 제1 전극(EL1)과 연결된다.
제1 전극(EL1)은 구동 박막 트랜지스터(TFT2)의 제2 드레인 전극(DE2)과 연결된다. 제2 전극(EL2)에는 공통 전압이 인가되며, 발광층(EML)은 구동 박막 트랜지스터(TFT2)의 출력 신호에 따라 블루 광을 출사함으로써 영상을 표시한다. 제1 전극(EL1) 및 제2 전극(EL2)에 대해서는 보다 구체적으로 후술한다.
커패시터(Cst)는 구동 박막 트랜지스터(TFT2)의 제2 게이트 전극(GE2)과 제2 소스 전극(SE2) 사이에 연결되며, 구동 박막 트랜지스터(TFT2)의 제2 게이트 전극(GE2)에 입력되는 데이터 신호를 충전하고 유지한다. 커패시터(Cst)는 제1 드레인 전극(DE1)과 제6 콘택홀(CH6)에 의해 연결되는 제1 공통 전극(CE1) 및 구동 전압 라인(DVL)과 연결되는 제2 공통 전극(CE2)을 포함할 수 있다.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(10)는 박막 트랜지스터(TFT1, TFT2)와 유기 발광 소자(OEL)가 적층되는 베이스 기판(SUB)을 포함한다. 베이스 기판(SUB)은 통상적으로 사용하는 것이라면 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어, 유리, 플라스틱, 수정 등의 절연성 물질로 형성될 수 있다. 베이스 기판(SUB)을 이루는 유기 고분자로는 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리술폰(PSF), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 시클로올레핀 폴리머(COP), 시클로올레핀 코폴리머(COC) 등을 들 수 있다. 베이스 기판(SUB)은 기계적 강도, 열적 안정성, 투명성, 표면 평활성, 취급 용이성, 방수성 등을 고려하여 선택될 수 있다.
베이스 기판(SUB) 상에는 기판 버퍼층(미도시)이 제공될 수 있다. 기판 버퍼층(미도시)은 스위칭 박막 트랜지스터(TFT1) 및 구동 박막 트랜지스터(TFT2)에 불순물이 확산되는 것을 막는다. 기판 버퍼층(미도시)은 질화규소(SiNx), 산화규소(SiOx), 질산화규소(SiOxNy) 등으로 형성될 수 있으며, 베이스 기판(SUB)의 재료 및 공정 조건에 따라 생략될 수도 있다.
베이스 기판(SUB) 상에는 제1 반도체층(SM1)과 제2 반도체층(SM2)이 제공된다. 제1 반도체층(SM1)과 제2 반도체층(SM2)은 반도체 소재로 형성되며, 각각 스위칭 박막 트랜지스터(TFT1)와 구동 박막 트랜지스터(TFT2)의 활성층으로 동작한다. 제1 반도체층(SM1)과 제2 반도체층(SM2)은 각각 소스 영역(SA), 드레인 영역(DA) 및 소스 영역(SA)과 드레인 영역(DA) 사이에 제공된 채널 영역(CA)을 포함한다. 제1 반도체층(SM1)과 제2 반도체층(SM2)은 각각 무기 반도체 또는 유기 반도체로부터 선택되어 형성될 수 있다. 소스 영역(SA) 및 드레인 영역(DA)은 n형 불순물 또는 p형 불순물이 도핑될 수 있다.
제1 반도체층(SM1) 및 제2 반도체층(SM2) 상에는 게이트 절연층(GI)이 제공된다. 게이트 절연층(GI)은 제1 반도체층(SM1) 및 제2 반도체층(SM2)을 커버한다. 게이트 절연층(GI)은 유기 절연물 또는 무기 절연물로 이루어질 수 있다.
게이트 절연층(GI) 상에는 제1 게이트 전극(GE1)과 제2 게이트 전극(GE2)이 제공된다. 제1 게이트 전극(GE1)과 제2 게이트 전극(GE2)은 각각 제1 반도체층(SM1)과 제2 반도체층(SM2)의 채널 영역(CA)에 대응되는 영역을 커버하도록 형성된다.
제1 게이트 전극(GE1) 및 제2 게이트 전극(GE2) 상에는 층간 절연층(IL)이 제공된다. 층간 절연층(IL)은 제1 게이트 전극(GE1) 및 제2 게이트 전극(GE2)을 커버한다. 층간 절연층(IL)은 유기 절연물 또는 무기 절연물로 이루어질 수 있다.
층간 절연층(IL)의 상에는 제1 소스 전극(SE1)과 제1 드레인 전극(DE1), 제2 소스 전극(SE2)과 제2 드레인 전극(DE2)이 제공된다. 제2 드레인 전극(DE2)은 게이트 절연층(GI) 및 층간 절연층(IL)에 형성된 제1 콘택홀(CH1)에 의해 제2 반도체층(SM2)의 드레인 영역(DA)과 접촉하고, 제2 소스 전극(SE2)은 게이트 절연층(GI) 및 층간 절연층(IL)에 형성된 제2 콘택홀(CH2)에 의해 제2 반도체층(SM2)의 소스 영역(SA)과 접촉한다. 제1 소스 전극(SE1)은 게이트 절연층(GI) 및 층간 절연층(IL)에 형성된 제4 콘택홀(CH4)에 의해 제1 반도체층(SM1)의 소스 영역(미도시)과 접촉하고, 제1 드레인 전극(DE1)은 게이트 절연층(GI) 및 층간 절연층(IL)에 형성된 제5 콘택홀(CH5)에 의해 제1 반도체층(SM1)의 드레인 영역(미도시)과 접촉한다.
제1 소스 전극(SE1)과 제1 드레인 전극(DE1), 제2 소스 전극(SE2)과 제2 드레인 전극(DE2) 상에는 제1 패시베이션층(PL1)이 제공된다. 제1 패시베이션층(PL1)은 스위칭 박막 트랜지스터(TFT1) 및 구동 박막 트랜지스터(TFT2)를 보호하는 보호막의 역할을 할 수도 있고, 그 상면을 평탄화시키는 평탄화막의 역할을 할 수도 있다.
제1 패시베이션층(PL1) 상에는 제1 전극(EL1)이 제공된다. 제1 전극(EL1)은 예를 들어 양극일 수 있다. 제1 전극(EL1)은 제1 패시베이션층(PL1)에 형성되는 제3 콘택홀(CH3)을 통해 구동 박막 트랜지스터(TR2)의 제2 드레인 전극(DE2)에 연결된다.
제1 패시베이션층(PL1) 상에는 화소들(PX) 각각에 대응하도록 화소 영역들(도 1a의 PA)을 구획하는 화소 정의막(PDL)이 제공된다. 화소 정의막(PDL)은 제1 전극(EL1)의 상면을 노출하며 화소들(PX) 각각의 둘레를 따라 베이스 기판(SUB)으로부터 돌출된다. 화소 정의막(PDL)은 이에 한정하는 것은 아니나, 금속-불소 이온 화합물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 화소 정의막(PDL)은 LiF, BaF2, 및 CsF 중 어느 하나의 금속-불소 이온 화합물로 구성될 수 있다. 금속-불소 이온 화합물은 소정의 두께를 가질 경우, 절연 특성을 갖는다. 화소 정의막(PDL)의 두께는 예를 들어, 10 nm 내지 100 nm일 수 있다.
화소 정의막(PDL)에 의해 둘러싸인 화소 영역(도 1a의 PA) 각각에는 유기 발광 소자(OEL)가 제공된다. 유기 발광 소자(OEL)는 제1 전극(EL1), 정공 수송 영역(HTR), 발광층(EML), 전자 수송 영역(ETR) 및 제2 전극(EL2)을 포함한다.
제1 전극(EL1)은 도전성을 갖는다. 제1 전극(EL1)은 화소 전극 또는 양극일 수 있다. 제1 전극(EL1)은 투과형 전극, 반투과형 전극 또는 반사형 전극일 수 있다. 제1 전극(EL1)이 투과형 전극인 경우, 제1 전극(EL1)은 투명 금속 산화물, 예를 들어, ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ZnO(zinc oxide), ITZO(indium tin zinc oxide) 등으로 이루어질 수 있다. 제1 전극(EL1)이 반투과형 전극 또는 반사형 전극인 경우, 제1 전극(EL1)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr 또는 금속의 혼합물을 포함할 수 있다.
제1 전극(EL1) 상에는 유기층(OL)이 배치될 수 있다. 유기층(OL)은 발광층(EML)을 포함한다. 유기층(OL)은 정공 수송 영역(HTR) 및 전자 수송 영역(ETR)을 더 포함할 수 있다.
정공 수송 영역(HTR)은 제1 전극(EL1) 상에 제공된다. 정공 수송 영역(HTR)은, 정공 주입층, 정공 수송층, 버퍼층 및 전자 저지층 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
정공 수송 영역(HTR)은 단일 물질로 이루어진 단일층, 복수의 서로 다른 물질로 이루어진 단일층 또는 복수의 서로 다른 물질로 이루어진 복수의 층을 갖는 다층 구조를 가질 수 있다.
예를 들어, 정공 수송 영역(HTR)은, 복수의 서로 다른 물질로 이루어진 단일층의 구조를 갖거나, 제1 전극(EL1)으로부터 차례로 적층된 정공 주입층/정공 수송층, 정공 주입층/정공 수송층/버퍼층, 정공 주입층/버퍼층, 정공 수송층/버퍼층 또는 정공 주입층/정공 수송층/전자 저지층의 구조를 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
발광층(EML)은 정공 수송 영역(HTR) 상에 제공된다. 발광층(EML)은 단일 물질로 이루어진 단일층, 복수의 서로 다른 물질로 이루어진 단일층 또는 복수의 서로 다른 물질로 이루어진 복수의 층을 갖는 다층 구조를 가질 수 있다.
발광층(EML)은 통상적으로 사용하는 물질이라면 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 적색, 녹색 및 청색을 발광하는 물질로 이루어질 수 있으며, 형광 물질 또는 인광 물질을 포함할 수 있다. 또한, 발광층(EML)은 호스트 및 도펀트를 포함할 수 있다.
전자 수송 영역(ETR)은 발광층(EML) 상에 제공된다. 전자 수송 영역(ETR)은, 정공 저지층, 전자 수송층 및 전자 주입층 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
예를 들어, 전자 수송 영역(ETR)은, 발광층(EML)으로부터 차례로 적층된 전자 수송층/전자 주입층 또는 정공 저지층/전자 수송층/전자 주입층의 구조를 가지거나, 층 중 둘 이상의 층이 혼합된 단일층 구조를 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
제2 전극(EL2)은 전자 수송 영역(ETR) 상에 제공된다. 제2 전극(EL2)은 공통 전극 또는 음극일 수 있다. 제2 전극(EL2)은 투과형 전극, 반투과형 전극 또는 반사형 전극일 수 있다.
제2 전극(EL2)이 투과형 전극인 경우, 제2 전극(EL2)은 Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Mg, BaF, Ba, Ag 또는 이들의 화합물이나 혼합물(예를 들어, Ag와 Mg의 혼합물)을 포함할 수 있다.
제2 전극(EL2)은 보조 전극을 포함할 수 있다. 보조 전극은 상기 물질이 발광층(EML)을 향하도록 증착하여 형성된 막, 및 상기 막 상에 투명 금속 산화물, 예를 들어, ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ZnO(zinc oxide), ITZO(indium tin zinc oxide), Mo, Ti 등을 포함할 수 있다.
제2 전극(EL2)이 반투과형 전극 또는 반사형 전극인 경우, 제2 전극(EL2)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Mo, Ti 또는 이들의 화합물이나 혼합물(예를 들어, Ag와 Mg의 혼합물)을 포함할 수 있다. 또는 상기 물질로 형성된 반사막이나 반투과막 및 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), ZnO(zinc oxide), ITZO(indium tin zinc oxide) 등으로 형성된 투명 도전막을 포함하는 복수의 층 구조일 수 있다.
제2 전극(EL2) 상에는 제2 전극(EL2)을 커버하는 박막 봉지층(TFE)이 제공된다. 박막 봉지층(TFE)은 유기물층 및 무기물층 중 적어도 하나의 층을 포함할 수 있다. 박막 봉지층(TFE)은 유기 발광 소자(OEL)를 보호한다.
박막 봉지층(TFE) 상에는 플렉서블 모듈(도 8a의 200)이 제공된다. 플렉서블 모듈(도 8a의 200)은 터치 스크린 패널(도 6c의 TSP), 컬러 필터(도 7b의 CF) 및 블랙 매트릭스(도 7c의 BM)를 포함할 수 있다. 플렉서블 모듈(도 8a의 200)의 적어도 일부는 전사 공정에 의해 제조될 수 있다.
박막 봉지층(TFE) 상에는 터치 스크린 패널(도 6c의 TSP)이 제공될 수 있다. 터치 스크린 패널(도 6c의 TSP)은 사용자의 터치, 사용자의 근접 터치, 물체의 터치 또는 물체의 근접 터치를 인식할 수 있다. 근접 터치란 사용자 또는 물체가 터치 스크린 패널(도 6c의 TSP)을 직접적으로 접촉하지 않아도, 터치 스크린 패널(도 6c의 TSP)이 사용자 또는 물체가 터치하는 것으로 인식할 수 있는 거리에 있어, 터치 스크린 패널(도 6c의 TSP)이 터치를 인식하는 것을 의미한다. 터치 스크린 패널(도 6c의 TSP)은 전사 공정에 의해 박막 봉지층(TFE) 상에 제공될 수 있다.
박막 봉지층(TFE) 상에는 블랙 매트릭스(도 7c의 BM) 및 컬러 필터(도 7b의 CF)가 제공될 수 있다. 블랙 매트릭스(도 7c의 BM) 및 컬러 필터(도 7b의 CF) 각각은 전사 공정에 의해 박막 봉지층(TFE) 상에 제공될 수 있다. 터치 스크린 패널(도 6c의 TSP), 블랙 매트릭스(도 7c의 BM), 컬러 필터(도 7b의 CF) 각각의 전사 공정과 배치 관계는 구체적으로 후술하도록 한다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법의 개략적인 순서도이다.
도 1a, 도 1b 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(도 1a의 10)의 제조 방법은 복수의 화소들(도 2의 PX) 및 화소들(도 2의 PX) 중 적어도 하나와 연결되는 박막 트랜지스터(도 2의 TFT1, TFT2)를 포함하는 플렉서블 표시 패널(100)을 준비하는 단계(S100), 플렉서블 표시 패널(100) 상에 박막 봉지층(TFE)을 형성하는 단계(S200) 및 박막 봉지층(TFE) 상에 전사 공정을 수행하여 터치 스크린 패널(도 6c의 TSP)을 형성하는 단계(S300)를 포함한다.
도 6a, 도 6b 및 도 6c는 전사 공정에 의한 터치 스크린 패널의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 단면도이다.
도 5, 도 6a, 도 6b 및 도 6c를 참조하면, 터치 스크린 패널(TSP)을 형성하는 단계(S300)는 제1 전사용 기판(TSUB1)을 제공하는 단계 및 제1 전사용 기판(TSUB1)에 열 또는 광을 가하여 박막 봉지층(TFE) 상에 제1 전사층(TL1)을 전사하는 단계를 포함한다. 도 6a, 도 6b 및 도 6c에서는 제1 전사층(TL1)을 박막 봉지층(TFE)에 전사하는 것을 예를 들어 도시하였으나 이에 한정하는 것은 아니고, 제1 전사층(TL1)은 블랙 매트릭스(도 7c의 BM), 제3 패시베이션층(도 8b의 PL3) 등 다양한 층 상에 전사될 수 있다.
제1 전사용 기판(TSUB1)을 제공하는 단계는 제1 베이스 필름(BS1) 상에 제1 팽창층(EPL1)을 제공하는 단계, 제1 팽창층(EPL1) 상에 제1 전사층(TL1)을 제공하는 단계 및 제1 전사층(TL1)과 박막 봉지층(TFE)을 대향하도록 배치하는 단계를 포함한다.
먼저 제1 베이스 필름(BS1)을 준비한다. 제1 베이스 필름(BS1)은 통상적으로 사용하는 것이라면 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어, 폴레에틸렌 테레프탈레이트와 같은 폴리에스테르, 폴리아크릴, 폴리에폭시, 폴리에틸렌, 폴리스티렌 등을 포함할 수 있다.
제1 베이스 필름(BS1) 상에 제1 팽창층(EPL1)을 제공한다. 제1 팽창층(EPL1)은 예를 들어, 적외선 영역, 가시광선 영역 및 자외선 영역의 광을 흡수하는 성질을 갖는 광흡수성 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1 팽창층(EPL1)은 알루미늄, 그 산화물 및 황화물로 이루어진 금속막 그리고 카본 블랙, 흑연이나 적외선 염료가 첨가된 고분자로 이루어진 유기막을 포함할 수 있다. 금속막은 예를 들어, 진공 증착법, 전자빔 증착법 또는 스퍼터링을 이용하여 형성될 수 있고, 유기막은 예를 들어, 압출(extrusion), 스핀(spin), 및 나이프(knife) 코팅 방법을 이용하여 형성될 수 있다.
제1 팽창층(EPL1) 상에 제1 전사층(TL1)을 제공한다. 제1 전사층(TL1)은 메탈 메쉬, 유기물, 무기물 등을 포함할 수 있다. 제1 전사층(TL1)은 예를 들어, 압출, 스핀, 나이프 코팅 방법, 진공 증착법, CVD 등의 방법을 이용하여 형성될 수 있다.
제1 전사층(TL1)을 박막 봉지층(TFE)과 대향하도록 배치한다. 제1 전사층(TL1)을 박막 봉지층(TFE)과 대향하도록 배치한 후, 제1 베이스 필름(BS1)의 상부에서 열 또는 광을 가한다. 제1 팽창층(EPL1)은 열 또는 광을 제공 받아, 팽창하게 되고, 제1 팽창층(EPL1) 상에 제공되는 제1 전사층(TL1)은 박막 봉지층(TFE) 상에 전사된다. 제1 전사층(TL1)과 박막 봉지층(TFE) 사이에는 제1 마스크(MSK1)가 제공될 수 있다. 예를 들어, 제1 전사층(TL1)이 메탈 메쉬를 포함할 때, 제1 전사층(TL1)을 박막 봉지층(TFE) 상에 전사하여, 감지 전극(TE)을 형성할 수 있다. 감지 전극(TE)은 적어도 일부가 투명한 것일 수 있다. 감지 전극(TE)은 사용자의 터치, 사용자의 근접 터치, 물체의 터치 또는 물체의 근접 터치를 감지할 수 있다.
예를 들어, 제1 전사층(TL1)이 유기물 또는 무기물을 포함할 때, 제1 전사층(TL1)을 박막 봉지층(TFE) 상에 전사하여, 감지 전극(TE) 상에 형성되는 제2 패시베이션층(PL2)을 형성할 수 있다. 제2 패시베이션층(PL2)은 감지 전극(TE)을 보호하는 보호막의 역할을 할 수도 있고, 그 상면을 평탄화시키는 평탄화막의 역할을 할 수도 있다.
도시하지는 않았으나, 감지 전극(TE)은 복수 개일 수 있고, 감지 전극(TE)들 사이 및 감지 전극(TE)들 상에는 전사 공정에 의해, 유기물층, 무기물층이 제공될 수 있다.
도 7a, 도 7b 및 도 7c는 전사 공정에 컬러 필터 및 블랙 매트릭스의 전사 방법을 순차적으로 나타낸 단면도이다.
도 5, 도 7a, 도 7b 및 도 7c를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(도 1a의 10)의 제조 방법은 박막 봉지층(TFE) 상에 전사 공정을 수행하여 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)를 형성하는 단계를 더 포함한다. 도 7a, 도 7b 및 도 7c에서는 제2 전사층(TL2)을 박막 봉지층(TFE)에 전사하는 것을 예를 들어 도시하였으나 이에 한정하는 것은 아니고, 제2 전사층(TL2)은 제2 패시베이션층(PL2) 등 다양한 층 상에 전사될 수 있다.
컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)를 형성하는 단계는 제2 전사용 기판(TSUB2)을 제공하는 단계 및 제2 전사용 기판(TSUB2)에 열 또는 광을 가하여 박막 봉지층(TFE) 상에 제2 전사층(TL2)을 전사하는 단계를 포함한다.
제2 전사용 기판(TSUB2)을 제공하는 단계는 제2 베이스 필름(BS2) 상에 제2 팽창층(EPL2)을 제공하는 단계, 제2 팽창층(EPL2) 상에 제2 전사층(TL2)을 제공하는 단계 및 제2 전사층(TL2)과 박막 봉지층(TFE)을 대향하도록 배치하는 단계를 포함한다.
먼저 제2 베이스 필름(BS2)을 준비한다. 제2 베이스 필름(BS2)은 통상적으로 사용하는 것이라면 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어, 폴레에틸렌 테레프탈레이트와 같은 폴리에스테르, 폴리아크릴, 폴리에폭시, 폴리에틸렌, 폴리스티렌 등을 포함할 수 있다.
제2 베이스 필름(BS2) 상에 제2 팽창층(EPL2)을 제공한다. 제2 팽창층(EPL2)은 예를 들어, 적외선 영역, 가시광선 영역 및 자외선 영역의 광을 흡수하는 성질을 갖는 광흡수성 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제2 팽창층(EPL2)은 알루미늄, 그 산화물 및 황화물로 이루어진 금속막 그리고 카본 블랙, 흑연이나 적외선 염료가 첨가된 고분자로 이루어진 유기막을 포함할 수 있다. 금속막은 예를 들어, 진공 증착법, 전자빔 증착법 또는 스퍼터링을 이용하여 형성될 수 있고, 유기막은 예를 들어, 압출(extrusion), 스핀(spin), 및 나이프(knife) 코팅 방법을 이용하여 형성될 수 있다.
제2 팽창층(EPL2) 상에 제2 전사층(TL2)을 제공한다. 제2 전사층(TL2)은 유기물, 무기물 등을 포함할 수 있다. 제2 전사층(TL2)은 예를 들어, 압출, 스핀, 나이프 코팅 방법, 진공 증착법, CVD 등의 방법을 이용하여 형성될 수 있다.
제2 전사층(TL2)을 박막 봉지층(TFE)과 대향하도록 배치한다. 제2 전사층(TL2)을 박막 봉지층(TFE)과 대향하도록 배치한 후, 제2 베이스 필름(BS2)의 상부에서 열 또는 광을 가한다. 제2 팽창층(EPL2)은 열 또는 광을 제공 받아, 팽창하게 되고, 제2 팽창층(EPL2) 상에 제공되는 제2 전사층(TL2)은 박막 봉지층(TFE) 상에 전사된다. 제2 전사층(TL2)과 박막 봉지층(TFE) 사이에는 제2 마스크(MSK2)가 제공될 수 있다. 예를 들어, 제2 전사층(TL2)이 유기물 또는 무기물을 포함할 때, 제2 전사층(TL2)을 박막 봉지층(TFE) 상에 전사하여, 컬러 필터(CF), 블랙 매트릭스(BM) 및 제2 패시베이션층(PL2)을 형성할 수 있다. 제2 패시베이션층(PL2)은 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)를 보호하는 보호막의 역할을 할 수도 있고, 그 상면을 평탄화시키는 평탄화막의 역할을 할 수도 있다.
도 8a, 도 8b, 도 8c 및 도 8d는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 8a, 도 8b, 도 8c 및 도 8d를 참조하면, 전사 공정에 의해 형성되는 터치 스크린 패널(TSP), 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)는 다양한 층 구조를 가질 수 있다. 도 8a, 도 8b, 도 8c 및 도 8d에서는 터치 스크린 패널(TSP), 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM) 각각이 전사 공정에 의해 형성되는 것을 예를 들어 도시하였으나, 이에 한정하는 것은 아니고, 터치 스크린 패널(TSP), 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM) 중 박막 봉지층(TFE)의 상면에 접촉하여 형성되는 것만 전사 공정에 의해 형성될 수도 있다.
도 8a를 참조하면, 전사 공정에 의해 감지 전극(TE)이 박막 봉지층(TFE) 상에 형성될 수 있다. 감지 전극(TE)은 사용자의 터치, 사용자의 근접 터치, 물체의 터치 또는 물체의 근접 터치를 감지할 수 있다. 예를 들어 감지 전극(TE)은 도 5, 도 6a, 도 6b 및 도 6c에 의한 전사 방법에 의해 형성될 수 있다. 감지 전극(TE)은 적어도 일부가 투명한 것일 수 있다.
감지 전극(TE)은 복수 개일 수 있다. 도시하지는 않았으나, 감지 전극(TE)들 사이 및 감지 전극(TE)들 상에는 전사 공정에 의해, 유기물층, 무기물층이 제공될 수 있다.
감지 전극(TE) 상에는 제2 패시베이션층(PL2)이 제공될 수 있다. 제2 패시베이션층(PL2)은 전사 공정에 의해 제공될 수 있다. 다만 이에 한정하는 것은 아니고, 제2 패시베이션층(PL2)은 스핀 코팅(spin coating), 플래시 증착(flash evaporation)에 의해 제공될 수도 있다. 도시하지는 않았으나, 감지 전극(TE)들 사이 및 감지 전극(TE)들 상에는 전사 공정에 의해, 유기물층, 무기물층이 제공될 수 있다.
제2 패시베이션층(PL2) 상에는 전사 공정에 의해 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)가 제공될 수 있다. 예를 들어 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM) 각각은 도 5, 도 7a, 도 7b 및 도 7c에 의한 전사 방법에 의해 형성될 수 있다. 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)는 예를 들어, 그리드 패턴과 같은 일정한 형상으로 제공될 수 있다.
컬러 필터(CF)는 발광층(도 4의 EML)에서 제공받은 광에 색을 제공한다. 컬러 필터(CF)는 플렉서블 표시 패널(100)의 유기층(OL)과 중첩할 수 있다.
블랙 매트릭스(BM)는 발광층(도 4의 EML)에서 제공받은 광을 흡수한다. 블랙 매트릭스(BM)는 플렉서블 표시 패널(100)의 차광 영역과 중첩할 수 있다. 차광 영역은 게이트 라인, 데이터 라인 및 박막 트랜지스터(도 2의 TFT1, TFT2)가 형성된 영역으로 정의될 수 있다. 블랙 매트릭스(BM)는 광을 흡수하여 차광 영역에서 발생하는 빛샘을 차단할 수 있다.
컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)는 편광판의 기능을 수행할 수 있다. 발광층(도 4의 EML)에서 발광된 광은 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)를 투과하면서 편광될 수 있고, 사용자는 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)를 투과한 광에 의해 표시되는 영상을 인식할 수 있다.
외부에서 제공받은 외부광은 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)를 투과하면서 편광될 수 있고, 플렉서블 표시 패널(100)에 의해 반사된 후, 다시 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)를 투과하면서 편광될 수 있다. 다시 편광된 광은 차단되어 외부로 출력되지 않는다. 이에 따라 사용자는 외부로부터 입사되는 외부광을 인식할 수 없게 된다.
컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM) 상에는 하드 코팅층(HL)이 제공될 수 있다. 하드 코팅층(HL)은 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM) 등을 보호할 수 있다. 하드 코팅층(HL)은 통상적으로 사용하는 방법이라면 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어 슬릿 코팅법(slit coating)에 의해 제공될 수 있다.
도시하지는 않았으나, 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)와 하드 코팅층(HL) 사이에는 윈도우가 제공될 수 있다. 윈도우는 통상적으로 사용하는 것이라면 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어 유리를 포함할 수 있다.
이하에서는 도 8b, 도 8c 및 도 8d 각각에 따른 표시 장치(10) 및 표시 장치(10)의 제조 방법에 대하여 설명한다. 이하에서는 앞서 설명한 도 8a에 따른 표시 장치(10) 및 표시 장치(10)의 제조 방법과의 차이점을 위주로 구체적으로 설명하고, 설명되지 않은 부분은 앞서 설명한 도 8a에 따른 표시 장치(10) 및 표시 장치(10)의 제조 방법에 따른다.
도 8b를 참조하면, 전사 공정에 의해 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)가 제공될 수 있다. 예를 들어 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM) 각각은 도 5, 도 7a, 도 7b 및 도 7c에 의한 전사 방법에 의해 형성될 수 있다. 컬러 필터(CF)는 발광층(도 4의 EML)에서 제공받은 광에 색을 제공한다. 컬러 필터(CF)는 플렉서블 표시 패널(100)의 유기층(OL)과 중첩할 수 있다. 블랙 매트릭스(BM)는 발광층(도 4의 EML)에서 제공받은 광을 흡수한다. 블랙 매트릭스(BM)는 플렉서블 표시 패널(100)의 차광 영역과 중첩할 수 있다. 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)는 편광판의 기능을 수행할 수 있다.
컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM) 상에는 제3 패시베이션층(PL3)이 제공될 수 있다. 제3 패시베이션층(PL3)은 전사 공정에 의해 제공될 수 있다. 다만 이에 한정하는 것은 아니고, 제3 패시베이션층(PL3)은 스핀 코팅(spin coating), 플래시 증착(flash evaporation)에 의해 제공될 수도 있다.
제3 패시베이션층(PL3) 상에는 전사 공정에 의해 감지 전극(TE)이 제공될 수 있다. 예를 들어 감지 전극(TE)은 도 5, 도 6a, 도 6b 및 도 6c에 의한 전사 방법에 의해 형성될 수 있다. 감지 전극(TE)은 복수 개일 수 있다. 감지 전극(TE)은 블랙 매트릭스(BM)와 중첩하고, 컬러 필터(CF)와 중첩하지 않을 수 있다. 감지 전극(TE)은 블랙 매트릭스(BM)와 중첩하고 컬러 필터(CF)와 중첩하지 않아, 개구율을 감소시키지 않아 표시 장치(10)의 신뢰성을 유지할 수 있다.
감지 전극(TE) 상에는 제2 패시베이션층(PL2)이 제공될 수 있다. 제2 패시베이션층(PL2)은 전사 공정에 의해 제공될 수 있다. 다만 이에 한정하는 것은 아니고, 제2 패시베이션층(PL2)은 스핀 코팅(spin coating), 플래시 증착(flash evaporation)에 의해 제공될 수도 있다. 도시하지는 않았으나, 감지 전극(TE)들 사이 및 감지 전극(TE)들 상에는 전사 공정에 의해, 유기물층, 무기물층이 제공될 수 있다.
제2 패시베이션층(PL2) 상에는 하드 코팅층(HL)이 제공될 수 있다. 하드 코팅층(HL)은 감지 전극(TE) 등을 보호할 수 있다. 하드 코팅층(HL)은 통상적으로 사용하는 방법이라면 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어 슬릿 코팅법(slit coating)에 의해 제공될 수 있다.
도 8c를 참조하면, 전사 공정에 의해 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)가 제공될 수 있다. 예를 들어 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM) 각각은 도 5, 도 7a, 도 7b 및 도 7c에 의한 전사 방법에 의해 형성될 수 있다. 컬러 필터(CF)는 발광층(도 4의 EML)에서 제공받은 광에 색을 제공한다. 컬러 필터(CF)는 플렉서블 표시 패널(100)의 유기층(OL)과 중첩할 수 있다. 블랙 매트릭스(BM)는 발광층(도 4의 EML)에서 제공받은 광을 흡수한다. 블랙 매트릭스(BM)는 플렉서블 표시 패널(100)의 차광 영역과 중첩할 수 있다. 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)는 편광판의 기능을 수행할 수 있다.
블랙 매트릭스(BM) 상에는 전사 공정에 의해 감지 전극(TE)이 제공될 수 있다. 예를 들어 감지 전극(TE)은 도 5, 도 6a, 도 6b 및 도 6c에 의한 전사 방법에 의해 형성될 수 있다. 감지 전극(TE)은 블랙 매트릭스(BM)와 중첩하고, 컬러 필터(CF)와 중첩하지 않을 수 있다. 감지 전극(TE)은 블랙 매트릭스(BM)와 중첩하고 컬러 필터(CF)와 중첩하지 않아, 개구율을 감소시키지 않아 표시 장치(10)의 신뢰성을 유지할 수 있다. 감지 전극(TE)은 복수 개일 수 있다.
컬러 필터(CF), 블랙 매트릭스(BM) 및 감지 전극(TE) 상에는 제2 패시베이션층(PL2)이 제공될 수 있다. 제2 패시베이션층(PL2)은 전사 공정에 의해 제공될 수 있다. 다만 이에 한정하는 것은 아니고, 제2 패시베이션층(PL2)은 스핀 코팅(spin coating), 플래시 증착(flash evaporation)에 의해 제공될 수도 있다. 도시하지는 않았으나, 감지 전극(TE)들 사이 및 감지 전극(TE)들 상에는 전사 공정에 의해, 유기물층, 무기물층이 제공될 수 있다.
제2 패시베이션층(PL2) 상에는 하드 코팅층(HL)이 제공될 수 있다. 하드 코팅층(HL)은 컬러 필터(CF), 블랙 매트릭스(BM) 및 감지 전극(TE) 등을 보호할 수 있다. 하드 코팅층(HL)은 통상적으로 사용하는 방법이라면 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어 슬릿 코팅법(slit coating)에 의해 제공될 수 있다.
도 8d를 참조하면, 전사 공정에 의해 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)가 제공될 수 있다. 예를 들어 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM) 각각은 도 5, 도 7a, 도 7b 및 도 7c에 의한 전사 방법에 의해 형성될 수 있다. 컬러 필터(CF)는 발광층(도 4의 EML)에서 제공받은 광에 색을 제공한다. 컬러 필터(CF)는 플렉서블 표시 패널(100)의 유기층(OL)과 중첩할 수 있다. 블랙 매트릭스(BM)는 발광층(도 4의 EML)에서 제공받은 광을 흡수한다. 블랙 매트릭스(BM)는 플렉서블 표시 패널(100)의 차광 영역과 중첩할 수 있다. 컬러 필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)는 편광판의 기능을 수행할 수 있다.
블랙 매트릭스(BM) 상에는 전사 공정에 의해 감지 전극(TE)이 제공될 수 있다. 예를 들어 감지 전극(TE)은 도 5, 도 6a, 도 6b 및 도 6c에 의한 전사 방법에 의해 형성될 수 있다. 감지 전극(TE)은 블랙 매트릭스(BM)와 중첩하고, 컬러 필터(CF)와 중첩하지 않을 수 있다. 감지 전극(TE)은 블랙 매트릭스(BM)와 중첩하고 컬러 필터(CF)와 중첩하지 않아, 개구율을 감소시키지 않아 표시 장치(10)의 신뢰성을 유지할 수 있다. 감지 전극(TE)은 복수 개일 수 있다.
블랙 매트릭스(BM) 및 감지 전극(TE) 상에는 전사 공정에 의해 커버 블랙 매트릭스(CBM)가 제공될 수 있다. 예를 들어 커버 블랙 매트릭스(CBM)는 도 5, 도 7a, 도 7b 및 도 7c에 의한 전사 방법에 의해 형성될 수 있다. 커버 블랙 매트릭스(CBM)는 블랙 매트릭스(BM) 및 감지 전극(TE) 상에 제공되고, 감지 전극(TE)을 커버할 수 있다. 도 8d에서는 커버 블랙 매트릭스(CBM)가 블랙 매트릭스(BM)와 완전히 중첩하는 것을 예를 들어 도시하였으나, 이에 한정하는 것은 아니고, 커버 블랙 매트릭스(CBM)는 블랙 매트릭스(BM)의 일부와 중첩할 수도 있다.
커버 블랙 매트릭스(CBM)는 블랙 매트릭스(BM)와 동일한 물질로 구성될 수 있다. 다만 이에 한정하는 것은 아니고, 커버 블랙 매트릭스(CBM)는 블랙 매트릭스(BM)와 상이한 물질로 구성될 수도 있다.
컬러 필터(CF) 및 커버 블랙 매트릭스(CBM) 상에는 제2 패시베이션층(PL2)이 제공될 수 있다. 제2 패시베이션층(PL2)은 전사 공정에 의해 제공될 수 있다. 다만 이에 한정하는 것은 아니고, 제2 패시베이션층(PL2)은 스핀 코팅(spin coating), 플래시 증착(flash evaporation)에 의해 제공될 수도 있다. 도시하지는 않았으나, 감지 전극(TE)들 사이 및 감지 전극(TE)들 상에는 전사 공정에 의해, 유기물층, 무기물층이 제공될 수 있다.
제2 패시베이션층(PL2) 상에는 하드 코팅층(HL)이 제공될 수 있다. 하드 코팅층(HL)은 컬러 필터(CF), 블랙 매트릭스(BM), 커버 블랙 매트릭스(CBM) 및 감지 전극(TE) 등을 보호할 수 있다. 하드 코팅층(HL)은 통상적으로 사용하는 방법이라면 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어 슬릿 코팅법(slit coating)에 의해 제공될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 전사 공정에 의해 플렉서블 모듈을 박막 봉지층 상에 제공할 수 있다. 이에 따라 별도의 라미네이션 공정 없이, 박막 봉지층 상에서 직접적으로 플렉서블 모듈의 제조 공정을 수행하여 표시 장치의 제조 공정을 단순화할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 전사 공정에 의해 제조된 플렉서블 모듈을 포함하고, 컬러 필터 및 블랙 매트릭스가 편광판의 기능을 수행하여, 슬림화를 구현할 수 있다.
이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징으로 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
10: 표시 장치 100: 플렉서블 표시 패널
200: 플렉서블 모듈 TFE: 박막 봉지층
TSP: 터치 스크린 패널 TE: 감지 전극

Claims (19)

  1. 복수의 화소들 및 상기 화소들 중 적어도 하나와 연결되는 박막 트랜지스터를 포함하는 플렉서블 표시 패널을 준비하는 단계;
    상기 플렉서블 표시 패널 상에 박막 봉지층을 형성하는 단계; 및
    상기 박막 봉지층 상에 전사 공정을 수행하여 터치 스크린 패널을 형성하는 단계;를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 터치 스크린 패널을 형성하는 단계는
    제1 전사용 기판을 제공하는 단계; 및
    상기 제1 전사용 기판에 열 또는 광을 가하여 상기 박막 봉지층 상에 제1 전사층을 전사하는 단계;를 포함하는 것인 표시 장치의 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 전사용 기판을 제공하는 단계는
    제1 베이스 필름 상에 제1 팽창층을 제공하는 단계;
    상기 제1 팽창층 상에 상기 제1 전사층을 제공하는 단계; 및
    상기 제1 전사층과 상기 박막 봉지층을 대향하도록 배치하는 단계;를 포함하는 것인 표시 장치의 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 박막 봉지층 상에 전사 공정을 수행하여 컬러 필터 및 블랙 매트릭스를 형성하는 단계를 더 포함하는 것인 표시 장치의 제조 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스를 형성하는 단계는
    제2 전사용 기판을 제공하는 단계; 및
    상기 제2 전사용 기판에 열 또는 광을 가하여 상기 박막 봉지층 상에 제2 전사층을 전사하는 단계;를 포함하는 것인 표시 장치의 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제2 전사용 기판을 제공하는 단계는
    제2 베이스 필름 상에 제2 팽창층을 제공하는 단계;
    상기 제2 팽창층 상에 상기 제2 전사층을 제공하는 단계; 및
    상기 제2 전사층과 상기 박막 봉지층을 대향하도록 배치하는 단계;를 포함하는 것인 표시 장치의 제조 방법.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 컬러 필터 및 블랙 매트릭스를 형성하는 단계는
    상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스를 상기 터치 스크린 패널 상에 형성하는 것인 표시 장치의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 터치 스크린 패널을 형성하는 단계는
    터치 또는 근접 터치를 인식하는 감지 전극을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 컬러 필터 및 블랙 매트릭스를 형성하는 단계는
    상기 컬러 필터를 상기 감지 전극 상에 형성하는 것인 표시 장치의 제조 방법.
  9. 제4항에 있어서,
    상기 터치 스크린 패널을 형성하는 단계는
    상기 터치 스크린 패널을 상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스 상에 형성하는 것인 표시 장치의 제조 방법.
  10. 제4항에 있어서,
    상기 터치 스크린 패널을 형성하는 단계는
    터치 또는 근접 터치를 인식하는 감지 전극을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 감지 전극을 형성하는 단계는
    상기 감지 전극을 상기 블랙 매트릭스 상에 형성하는 것인 표시 장치의 제조 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 터치 스크린 패널을 형성하는 단계는
    상기 블랙 매트릭스 및 상기 감지 전극 상에 형성되고, 상기 감지 전극을 커버하는 커버 블랙 매트릭스를 전사 공정으로 형성하는 단계를 더 포함하는 것인 표시 장치의 제조 방법.
  12. 복수의 화소들 및 상기 화소들 중 적어도 하나와 연결되는 박막 트랜지스터를 포함하는 플렉서블 표시 패널;
    상기 플렉서블 표시 패널 상에 제공되는 박막 봉지층; 및
    상기 박막 봉지층 상에 제공되고, 전사 공정으로 형성되는 터치 스크린 패널;을 포함하는 표시 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 박막 봉지층 상에 제공되는 컬러 필터; 및
    상기 컬러 필터와 동일한 층 상에 제공되는 블랙 매트릭스;를 더 포함하고,
    상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스 각각은
    전사 공정으로 형성되는 것인 표시 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스는
    상기 터치 스크린 패널 상에 제공되는 것인 표시 장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 터치 스크린 패널은
    터치 또는 근접 터치를 인식하는 감지 전극을 더 포함하고,
    상기 컬러 필터는
    상기 감지 전극 상에 제공되는 것인 표시 장치.
  16. 제13항에 있어서,
    상기 터치 스크린 패널은
    상기 컬러 필터 및 상기 블랙 매트릭스 상에 제공되는 것인 표시 장치.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 터치 스크린 패널은
    터치 또는 근접 터치를 인식하는 감지 전극을 더 포함하고,
    상기 감지 전극은
    상기 블랙 매트릭스 상에 제공되는 것인 표시 장치.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 블랙 매트릭스 및 상기 감지 전극 상에 제공되고, 상기 감지 전극을 커버하는 커버 블랙 매트릭스를 더 포함하고,
    상기 커버 블랙 매트릭스는
    전사 공정으로 형성되는 것인 표시 장치.
  19. 복수의 화소들 및 상기 화소들 중 적어도 하나와 연결되는 박막 트랜지스터를 포함하는 플렉서블 표시 패널;
    상기 플렉서블 표시 패널 상에 제공되는 박막 봉지층; 및
    상기 박막 봉지층 상에 제공되고, 적어도 일부가 전사 공정으로 형성되는 플렉서블 모듈을 포함하는 표시 장치.
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