KR20160098033A - Radiation-sensitive colored composition, colored pattern and process for forming the same, and liquid crystal display device - Google Patents

Radiation-sensitive colored composition, colored pattern and process for forming the same, and liquid crystal display device Download PDF

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Abstract

The present invention provides a radiation-sensitive colored composition capable of forming a colored pattern which reduces contamination of a liquid crystal layer due to a coloring agent; a colored pattern formed in the radiation-sensitive colored composition; a process for forming the same; and a liquid crystal display device comprising the colored pattern. According to the present invention, the radiation-sensitive colored composition comprises: a polymer; a photopolymerizable initiator having at least two moieties represented by formula (1) per molecule; and a coloring agent having a lactam structure, two isomeric ring structures or a combination thereof. The polymer preferably includes groups such as a cyclic ether group and a (meth)acryloyl group. The process for forming a colored pattern uses the radiation-sensitive colored composition in the processes for forming a film on a substrate; irradiating radioactive rays on a part of the film; developing the film irradiated with the radioactive rays; and heating the developed film. In the formula (1), R^X represents a monovalent organic group.

Description

감방사선성 착색 조성물, 착색 패턴, 그의 형성 방법 및 액정 표시 소자{RADIATION-SENSITIVE COLORED COMPOSITION, COLORED PATTERN AND PROCESS FOR FORMING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a radiation-sensitive coloring composition, a coloring pattern, a method of forming the same, and a liquid crystal display device,

본 발명은, 감방사선성 착색 조성물, 착색 패턴, 그의 형성 방법 및 액정 표시 소자에 관한 것이다.The present invention relates to a radiation-sensitive coloring composition, a coloring pattern, a method for forming the same, and a liquid crystal display element.

액정 표시 소자에 있어서의 기판 간의 간격(셀 갭)을 유지하기 위한 스페이서의 형성에, 포토리소그래피를 이용하는 방법이 있다. 이 방법은, 감방사선성 조성물을 기판 상에 도포하고, 소정의 마스크를 개재하여 자외선 등의 방사선을 노광한 후에 현상하고, 도트 형상이나 스트라이프 형상의 패턴을 스페이서로서 형성하는 것이다(일본공개특허공보 2001-302712호 참조).Photolithography is used to form a spacer for maintaining a gap (cell gap) between substrates in a liquid crystal display element. In this method, a radiation sensitive composition is coated on a substrate, exposed to radiation such as ultraviolet rays through a predetermined mask and developed, and a dot or stripe pattern is formed as a spacer (Japanese Patent Application Laid-Open 2001-302712).

최근에는, 카본 블랙 등의 착색제에 의해 스페이서에 차광성을 갖게 한, 소위 블랙 칼럼 스페이서도 제안되고 있다(일본공개특허공보 2011-170075호 참조). 그러나, 블랙 칼럼 스페이서 등의 착색 패턴을 채용한 경우, 이 착색 패턴 중의 착색제의 액정층으로의 용출 등에 의해, 액정층의 오염이 발생하기 쉬워진다. 이러한 액정층의 오염은, 액정 표시 소자의 전압 보전율의 저하 등을 초래한다. Recently, a so-called black column spacer has been proposed in which the spacers are made light-shielding by a coloring agent such as carbon black (see Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2011-170075). However, when a coloring pattern such as a black column spacer is employed, contamination of the liquid crystal layer tends to occur due to leaching of the coloring agent into the liquid crystal layer in the colored pattern. Such contamination of the liquid crystal layer causes a decrease in the voltage holding ratio of the liquid crystal display element.

일본공개특허공보 2001-302712호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-302712 일본공개특허공보 2011-170075호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-170075

본 발명은, 이상과 같은 사정에 기초하여 이루어진 것이며, 그 목적은, 착색제에 의한 액정층의 오염이 저감되는 착색 패턴을 형성 가능한 감방사선성 착색 조성물, 이 감방사선성 착색 조성물로 형성되는 착색 패턴 및 그의 형성 방법, 그리고 이 착색 패턴을 구비하는 액정 표시 소자를 제공하는 것이다. The object of the present invention is to provide a radiation-sensitive coloring composition capable of forming a coloring pattern in which contamination of a liquid crystal layer by a coloring agent is reduced, a coloring pattern formed of the radiation- A method of forming the same, and a liquid crystal display element having the colored pattern.

상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 발명은, 중합체(이하, 「[A] 중합체」라고도 함), 1분자 중에 2 이상의 하기식 (1)로 나타나는 부위를 갖는 광중합 개시제(이하, 「[B] 광중합 개시제」라고도 함) 및, 락탐 구조, 이 이성체 환구조 또는 이들의 조합을 갖는 착색제(이하, 「[C] 착색제」라고도 함)를 함유하는 감방사선성 착색 조성물이다: The invention made to solve the above problems is a photopolymerization initiator (hereinafter, also referred to as a "photopolymerization initiator") having at least two sites in the molecule represented by the following formula (1) ), And a colorant having a lactam structure, an isomeric ring structure, or a combination thereof (hereinafter, also referred to as "[C] colorant"))

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 (1) 중, RX는 1가의 유기기를 나타냄).(In the formula (1), R X represents a monovalent organic group).

상기 착색제가, 하기식 (2)로 나타나는 부위 및 하기식 (3)으로 나타나는 부위의 적어도 한쪽을 갖는 것이 바람직하다. It is preferable that the coloring agent has at least one of a site represented by the following formula (2) and a site represented by the following formula (3).

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 착색제가, 하기식 (4)로 나타나는 착색제 및 하기식 (5)로 나타나는 착색제의 적어도 한쪽인 것이 바람직하다:It is preferable that the coloring agent is at least one of a coloring agent represented by the following formula (4) and a coloring agent represented by the following formula (5)

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 (4) 및 식 (5) 중, R1, R6, R11 및 R16은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 1∼6의 불화 알킬기이고; (Wherein R 1 , R 6 , R 11 and R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkyl fluoride group having 1 to 6 carbon atoms ;

R2∼R5, R7∼R10, R12∼R15 및 R17∼R20은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 R21, COOH, COOR21, COO-, CONH2, CONHR21, CONR21R22, CN, OH, OR21, OCOR21, OCONH2, OCONHR21, OCONR21R22, NO2, NH2, NHR21, NR21R22, NHCOR21, NR21COR22, N=CH2, N=CHR21, N=CR21R22, SH, SR21, SOR21, SO2R21, SO3R21, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR21 또는 SO2NR21R22로 나타나는 기이고; R2∼R5, R7∼R10, R12∼R15 및 R17∼R20 중 인접하는 탄소 원자에 각각 결합하는 기끼리는, 직접 또는 -O-, -S-, -NH- 또는 -NR21-를 개재하여 결합하고, 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 환구조를 형성하고 있어도 좋고;R 2 to R 5 , R 7 to R 10 , R 12 to R 15 and R 17 to R 20 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or R 21 , COOH, COOR 21 , COO - , CONH 2 , CONHR 21, CONR 21 R 22, CN, OH, OR 21, OCOR 21, OCONH 2, OCONHR 21, OCONR 21 R 22, NO 2, NH 2, NHR 21, NR 21 R 22, NHCOR 21, NR 21 COR 22 , N = CH 2, N = CHR 21, N = CR 21 R 22, SH, SR 21, SOR 21, SO 2 R 21, SO 3 R 21, SO 3 H, SO 3 -, SO 2 NH 2, SO 2 NHR 21 or SO 2 NR 21 R 22 ; Groups bonded to adjacent carbon atoms of R 2 to R 5 , R 7 to R 10 , R 12 to R 15 and R 17 to R 20 may be bonded to each other directly or by -O-, -S-, -NH- or - NR 21 - and may form a cyclic structure together with the carbon atom to which they are bonded;

R21 및 R22는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 3∼12의 사이클로알킬기, 탄소수 2∼12의 알케닐기, 탄소수 4∼12의 사이클로알케닐기 또는 탄소수 2∼12의 알키닐기, 또는 이들 기의 탄소-탄소 결합 간에 -O-, -NH-, -NR23- 또는 -S-가 개재된 기이고, 이 알킬기, 사이클로알킬기, 알케닐기, 사이클로알케닐기 및 알키닐기가 갖는 수소 원자의 일부 또는 전부는, 할로겐 원자, COOH, COOR23, COO-, CONH2, CONHR23, CONR23R24, CN, =O, OH, OR23, OCOR23, OCONH2, OCONHR23, OCONR23R24, =NR23, NH2, NHR23, NR23R24, NHCOR24, NR23COR24, N=CH2, N=CHR23, N=CR23R24, SH, SR23, SOR23, SO2R23, SO3R23, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR23 또는 SO2NR23R24로 나타나는 기, 탄소수 7∼12의 아르알킬기, 탄소수 1∼11의 헤테로아릴기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로 치환되어 있어도 좋고; 상기 아르알킬기, 헤테로아릴기 및 아릴기가 갖는 수소 원자의 일부 또는 전부는, 할로겐 원자, 또는 COOH, COOR23, COO-, CONH2, CONHR23, CONR23R24, CN, OH, OR23, OCOR23, OCONH2, OCONHR23, OCONR23R24, NO2, NH2, NHR23, NR23R24, NHCOR24, NR23COR24, N=CH2, N=CHR23, N=CR23R24, SH, SR23, SOR23, SO2R23, SO3R23, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR23 또는 SO2NR23R24로 나타나는 기로 치환되어 있어도 좋고; R 21 and R 22 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 4 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms , Or a group in which -O-, -NH-, -NR 23 - or -S- is interposed between the carbon-carbon bonds of these groups, and the hydrogen having the alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, cycloalkenyl group and alkynyl group some or all of the atoms, a halogen atom, COOH, COOR 23, COO - , CONH 2, CONHR 23, CONR 23 R 24, CN, = O, OH, oR 23, OCOR 23, OCONH 2, OCONHR 23, OCONR 23 R 24, = NR 23, NH 2, NHR 23, NR 23 R 24, NHCOR 24, NR 23 COR 24, N = CH 2, N = CHR 23, N = CR 23 R 24, SH, SR 23, SOR 23 , SO 2 R 23 , SO 3 R 23 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 23 or SO 2 NR 23 R 24 , an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, 11 heteroaryl group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, It may be good; Some or all of the aralkyl group, a heteroaryl group, and hydrogen atom having an aryl group, the halogen atom, or COOH, COOR 23, COO -, CONH 2, CONHR 23, CONR 23 R 24, CN, OH, OR 23, OCOR 23, OCONH 2, OCONHR 23, OCONR 23 R 24, NO 2, NH 2, NHR 23, NR 23 R 24, NHCOR 24, NR 23 COR 24, N = CH 2, N = CHR 23, N = CR 23 R 24 , SH, SR 23 , SOR 23 , SO 2 R 23 , SO 3 R 23 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 23 or SO 2 NR 23 R 24 Good;

R23 및 R24는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼6의 알킬기, 벤질기 또는 페닐기이고, R23과 R24는, 직접 또는 -O-, -S-, -NH- 또는 -NR25-를 개재하여 결합하고, 이들이 결합하는 원자와 함께 환구조를 형성하고 있어도 좋고; R 23 and R 24 are, each independently, an alkyl group, a benzyl group or a phenyl group having a carbon number of 1~6, R 23 and R 24 are, directly or -O-, -S-, -NH- or -NR 25 - the And may form a cyclic structure together with the atoms to which they are bonded;

R25는, 1가의 유기기임).R < 25 > is a monovalent organic group).

상기 중합체가, 환상 에테르기, (메타)아크릴로일기, 비닐기 또는 이들의 조합을 갖는 것이 바람직하다. It is preferable that the polymer has a cyclic ether group, a (meth) acryloyl group, a vinyl group, or a combination thereof.

상기 광중합 개시제가, 하기식 (6)으로 나타나는 광중합 개시제인 것이 바람직하다:It is preferable that the photopolymerization initiator is a photopolymerization initiator represented by the following formula (6)

Figure pat00004
Figure pat00004

(식 (6) 중, 2개의 R1A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 4∼20의 사이클로알킬기, 탄소수 1∼6의 할로알킬기, 2-푸릴기, 2-푸르푸릴기, 2-티에닐기, 2-테닐기, 페닐기 또는 나프틸기이고, 이 페닐기 또는 나프틸기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋고;(In the formula (6), two R < 1A > independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 20 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a 2-furyl group, , A 2-thienyl group, a 2-thenyl group, a phenyl group or a naphthyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of the phenyl group or the naphthyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, It may be good;

R2A 및 R3A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 탄소수 3∼10의 사이클로알킬기이고;R 2A and R 3A are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms;

R4A는, 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 할로겐 원자, 2-푸릴기, 2-푸르푸릴기, 2-티에닐기 또는 2-테닐기이고;R 4A represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, a 2-furyl group, a 2-furfuryl group, a 2-thienyl group or a 2-thienyl group;

R5A는, 술포기, 또는 SO2R6A, P(R7A)2, PO(R8A)2 또는 Si(R9A)3으로 나타나는 기이고; R 5A is a sulfo group or a group represented by SO 2 R 6A , P (R 7A ) 2 , PO (R 8A ) 2 or Si (R 9A ) 3 ;

R6A는, 수소 원자, 메틸기, 탄소수 2∼12의 알킬기, 페닐기, 또는 나프틸기이고, 상기 탄소수 2∼12의 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 카복시기, 메톡시카보닐기, 에톡시카보닐기, 탄소수 1∼6의 아실옥시기, 벤조일옥시기 또는 탄소수 1∼20의 아실기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 페닐기 또는 나프틸기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋고;R 6A represents a hydrogen atom, a methyl group, an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a phenyl group, or a naphthyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of the alkyl group having 2 to 12 carbon atoms may be substituted with a carboxyl group, a methoxycarbonyl group, An acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms, a benzoyloxy group or an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a part or all of the hydrogen atoms of the phenyl group or the naphthyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or a halogen atom;

R7A, R8A 및 R9A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기, 페닐기 또는 나프틸기이고, 이 페닐기 또는 나프틸기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋음).R 7A , R 8A and R 9A are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group or a naphthyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of the phenyl group or the naphthyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Or an alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms or a halogen atom).

당해 감방사선성 착색 조성물은, 액정 표시 소자의 착색 패턴 형성용으로서 적합하다. Such a radiation-sensitive coloring composition is suitable for forming a coloring pattern of a liquid crystal display element.

상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 다른 발명은, 당해 감방사선성 착색 조성물을 이용하여, 기판 상에 도막을 형성하는 공정, 상기 도막의 일부에 방사선을 조사하는 공정, 상기 방사선이 조사된 도막을 현상하는 공정 및, 상기 현상된 도막을 가열하는 공정을 구비하는 착색 패턴의 형성 방법이다. Another invention made to solve the above problems is to provide a process for producing a radiation sensitive film, which comprises a step of forming a coating film on a substrate using the radiation sensitive coloring composition, a step of irradiating a part of the coating film with radiation, And a step of heating the developed coating film.

상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 또 다른 발명은, 당해 감방사선성 착색 조성물로 형성된 착색 패턴 및, 이 착색 패턴을 구비하는 액정 표시 소자이다. Another invention made to solve the above problems is a liquid crystal display element comprising a coloring pattern formed of the radiation-sensitive coloring composition and the coloring pattern.

본 발명의 감방사선성 착색 조성물은, 착색제에 의한 액정층의 오염이 저감되는 착색 패턴을 형성할 수 있다. 본 발명의 착색 패턴 및 액정 표시 소자는 착색제에 의한 액정층의 오염이 저감되고, 본 발명의 착색 패턴의 형성 방법은, 이러한 착색 패턴을 형성할 수 있다. The radiation sensitive coloring composition of the present invention can form a colored pattern in which contamination of the liquid crystal layer by the colorant is reduced. In the coloring pattern and the liquid crystal display element of the present invention, the contamination of the liquid crystal layer by the coloring agent is reduced, and the coloring pattern forming method of the present invention can form such a coloring pattern.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Mode for carrying out the invention)

<감방사선성 착색 조성물><Radiation-sensitive coloring composition>

당해 감방사선성 착색 조성물은, [A] 중합체, [B] 광중합 개시제 및 [C] 착색제를 함유한다. The radiation-sensitive coloring composition contains the [A] polymer, the [B] photopolymerization initiator and the [C] colorant.

<[A] 중합체><[A] Polymer>

[A] 중합체는, 통상, 감방사선성 조성물에 이용되는 공지의 것을 사용할 수 있다. [A] 중합체로서는, 알칼리 현상액에 대한 현상성 등의 점에서, 카복시기, 페놀성 수산기 등의 산성기를 갖는 알칼리 가용성 수지인 것이 바람직하고, 카복시기를 갖는 수지인 것이 보다 바람직하다. As the polymer [A], conventionally known ones used in the radiation-sensitive composition may be used. The polymer [A] is preferably an alkali-soluble resin having an acidic group such as a carboxy group or a phenolic hydroxyl group, and more preferably a resin having a carboxy group, from the viewpoint of developability with respect to an alkali developer.

(공중합체 (α))(Copolymer (?))

카복시기를 갖는 수지로서는, (a1) 불포화 카본산, 불포화 카본산 무수물 또는 이들의 조합(이하, 「화합물 (a1)」이라고 함)과, (a2) (a1) 이외의 불포화 화합물(이하, 「화합물 (a2)」라고 함)과의 공중합체 (α)가 바람직하다. As the resin having a carboxy group, an unsaturated compound (hereinafter referred to as &quot; compound (a1) &quot;) other than (a1) an unsaturated carboxylic acid, an unsaturated carboxylic acid anhydride, or a combination thereof (a2) &quot;) is preferable.

화합물 (a1)의 구체예로서는,As specific examples of the compound (a1)

아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 2-아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-메타크릴로일옥시에틸숙신산, 2-아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-메타크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산 등의 모노카본산;Acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, 2-acryloyloxyethylsuccinic acid, 2-methacryloyloxyethylsuccinic acid, 2-acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2-methacryloyloxyethylhexahydrophthalic acid And the like;

말레산, 푸마르산, 시트라콘산 등의 디카본산;Dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid and citraconic acid;

상기 디카본산의 산 무수물 등을 들 수 있다. And the acid anhydrides of the above-mentioned dicarboxylic acids.

공중합체 (α)에 있어서, 화합물 (a1)은, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 공중합체 (α)에 있어서, 화합물 (a1)에 유래하는 구조 단위의 함유율의 하한은, 5질량%가 바람직하고, 7질량%가 보다 바람직하고, 10질량%가 더욱 바람직하다. 한편, 이 상한은, 60질량%가 바람직하고, 50질량%가 보다 바람직하고, 40질량%가 더욱 바람직하다. 화합물 (a1)에 유래하는 구조 단위의 함유율을 이러한 범위로 함으로써, 방사선 감도 및 현상성 등의 제(諸)특성이 보다 높은 레벨로 균형 잡힌 감방사선성 착색 조성물이 얻어진다. In the copolymer (?), The compound (a1) may be used alone or in combination of two or more. In the copolymer (), the lower limit of the content of the structural unit derived from the compound (a1) is preferably 5% by mass, more preferably 7% by mass, and further preferably 10% by mass. On the other hand, the upper limit is preferably 60% by mass, more preferably 50% by mass, still more preferably 40% by mass. By setting the content ratio of the structural unit derived from the compound (a1) within this range, a radiation sensitive coloring composition in which various properties such as radiation sensitivity and developability are balanced to a higher level can be obtained.

화합물 (a2)의 구체예로서는,As specific examples of the compound (a2)

아크릴산 메틸, 아크릴산 n-프로필, 아크릴산 i-프로필, 아크릴산 n-부틸, 아크릴산 sec-부틸, 아크릴산 t-부틸 등의 아크릴산 알킬에스테르;Acrylic acid alkyl esters such as methyl acrylate, n-propyl acrylate, i-propyl acrylate, n-butyl acrylate, sec-butyl acrylate and t-butyl acrylate;

메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸, 메타크릴산 n-프로필, 메타크릴산 i-프로필, 메타크릴산 n-부틸, 메타크릴산 sec-부틸, 메타크릴산 t-부틸 등의 메타크릴산 알킬에스테르;Methacrylic acid alkyl esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, ester;

아크릴산 사이클로헥실, 아크릴산 2-메틸사이클로헥실, 아크릴산 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일, 아크릴산 2-(트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일옥시)에틸, 아크릴산 이소보르닐 등의 아크릴산 지환식 에스테르;2-methylcyclohexyl acrylate, acrylic acid tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl, acrylic acid 2- (tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yloxy) ethyl , Acrylic acid alicyclic ester such as isobornyl acrylate;

메타크릴산 사이클로헥실, 메타크릴산 2-메틸사이클로헥실, 메타크릴산 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일, 메타크릴산 2-(트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일옥시)에틸, 메타크릴산 이소보르닐 등의 메타크릴산 지환식 에스테르;2-methylcyclohexyl methacrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl methacrylate, 2- (tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] Decane-8-yloxy) ethyl methacrylate, isobornyl methacrylate and the like;

아크릴산 페닐, 아크릴산 벤질 등의 아크릴산의 아릴에스테르 혹은 아르알킬에스테르;Aryl esters or aralkyl esters of acrylic acid such as phenyl acrylate and benzyl acrylate;

메타크릴산 2-하이드록시에틸에스테르, 메타크릴산 3-하이드록시프로필에스테르 등의 메타크릴산의 하이드록시알킬에스테르류;Hydroxyalkyl esters of methacrylic acid such as 2-hydroxyethyl methacrylate and 3-hydroxypropyl methacrylate;

메타크릴산 페닐, 메타크릴산 벤질 등의 메타크릴산의 아릴에스테르 혹은 아르알킬에스테르;Aryl esters or aralkyl esters of methacrylic acid such as phenyl methacrylate and benzyl methacrylate;

말레산 디에틸, 푸마르산 디에틸 등의 불포화 디카본산 디알킬에스테르;Unsaturated dicarboxylic acid dialkyl esters such as diethyl maleate and diethyl fumarate;

아크릴산 테트라하이드로푸란-2-일, 아크릴산 테트라하이드로피란-2-일, 아크릴산 2-메틸테트라하이드로피란-2-일 등의 산소 함유 복소 5원환 혹은 산소 함유 복소 6원환을 갖는 아크릴산 에스테르;An oxygen-containing complex five-membered ring or an acrylic acid ester having an oxygen-containing complex 6-membered ring such as tetrahydrofuran-2-yl acrylate, tetrahydropyran-2-yl acrylate, or 2-methyltetrahydropyran-2-yl acrylate;

메타크릴산 테트라하이드로푸란-2-일, 메타크릴산 테트라하이드로피란-2-일, 메타크릴산 2-메틸테트라하이드로피란-2-일 등의 산소 함유 복소 5원환 혹은 산소 함유 복소 6원환을 갖는 메타크릴산 에스테르;An oxygen-containing complex 5-membered ring such as tetrahydrofuran-2-yl methacrylate, tetrahydropyran-2-yl methacrylate, 2-methyltetrahydropyran- Methacrylic acid esters;

스티렌, α-메틸스티렌, p-메톡시스티렌 등의 비닐 방향족 화합물;Vinyl aromatic compounds such as styrene,? -Methylstyrene, and p-methoxystyrene;

1,3-부타디엔, 이소프렌 등의 공액 디엔계 화합물;Conjugated diene-based compounds such as 1,3-butadiene and isoprene;

(메타)아크릴산 글리시딜, 3,4-에폭시사이클로헥실(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산 알릴 등의 환상 에테르기 또는 비닐기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르;(Meth) acrylic acid ester having a vinyl group or a cyclic ether group such as glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate and allyl (meth) acrylate;

그 외, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 아크릴아미드, 메타크릴아미드 등을 들 수 있다. In addition, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide, methacrylamide and the like can be mentioned.

공중합체 (α)에 있어서, 화합물 (a2)는, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 공중합체 (α)에 있어서, 화합물 (a2)에 유래하는 구조 단위의 함유율의 하한은, 10질량%가 바람직하고, 20질량%가 보다 바람직하고, 30질량%가 더욱 바람직하다. 한편, 이 상한은, 70질량%가 바람직하고, 60질량%가 보다 바람직하고, 50질량%가 더욱 바람직하다. 화합물 (a2)의 구조 단위의 함유율을 이러한 범위로 함으로써, 공중합체의 분자량의 제어가 용이해져, 현상성, 방사선 감도 등이 보다 높은 레벨로 균형 잡힌 감방사선성 착색 조성물이 얻어진다. In the copolymer (?), The compound (a2) may be used alone or in combination of two or more. In the copolymer (), the lower limit of the content of the structural unit derived from the compound (a2) is preferably 10% by mass, more preferably 20% by mass, still more preferably 30% by mass. On the other hand, the upper limit is preferably 70% by mass, more preferably 60% by mass, still more preferably 50% by mass. When the content ratio of the structural unit of the compound (a2) is within this range, the control of the molecular weight of the copolymer is facilitated, and a radiation sensitive coloring composition balanced in development and radiation sensitivity is obtained.

공중합체 (α)는, 공지의 방법에 의해 제조할 수 있다. 예를 들면 일본공개특허공보 2003-222717호, 일본공개특허공보 2006-259680호, 국제공개공보 제07/029871호 등에 개시되어 있는 방법에 의해, 그 구조나 Mw(중량 평균 분자량), Mn(수평균 분자량), Mw/Mn 등을 제어할 수도 있다. The copolymer (?) Can be produced by a known method. (Weight average molecular weight), Mn (number-average molecular weight), and number average molecular weight (number average molecular weight), by the method disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2003-222717, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2006-259680, Average molecular weight), Mw / Mn, and the like.

[A] 중합체로서, 공중합체 (α)의 카복시기에 대하여, (메타)아크릴산 글리시딜, 3,4-에폭시사이클로헥실(메타)아크릴레이트 등의 환상 에테르기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르를 반응시키고, (메타)아크릴로일기를 도입시킨 공중합체를 이용할 수 있다. 이러한 공중합체로서는, 예를 들면 일본공개특허공보 평5-19467호, 일본공개특허공보 평6-230212호, 일본공개특허공보 평7-207211호, 일본공개특허공보 평09-325494호, 일본공개특허공보 평11-140144호, 일본공개특허공보 2008-181095호 등에 기재된 중합체를 들 수 있다. As the polymer (A), a (meth) acrylic acid ester having a cyclic ether group such as glycidyl (meth) acrylate or 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate is reacted with the carboxy group of the copolymer , And (meth) acryloyl groups may be used. Such copolymers include, for example, those described in JP-A-5-19467, JP-A-6-230212, JP-A-7-207211, JP-A-09-325494, 11-140144, and JP-A-2008-181095.

(카도 수지)(Carded resin)

[A] 중합체로서는, 카도 수지를 이용하는 것도 바람직하다. 이러한 [A] 중합체로서는, 하기식 (7)로 나타나는 플루오렌 골격을 갖는 화합물과 4염기산 2무수물을 반응시켜 얻어지는 폴리머에, 하기식 (8)로 나타나는 화합물을 부가시켜 얻어지는 중합체를 들 수 있다. As the polymer [A], it is also preferable to use a cadmium resin. Examples of such a polymer [A] include a polymer obtained by adding a compound represented by the following formula (8) to a polymer obtained by reacting a compound having a fluorene skeleton represented by the following formula (7) with a tetrabasic acid dianhydride .

 

Figure pat00005
 
Figure pat00005

식 (7) 중, 환 Z1 및 환 Z2는, 각각 독립적으로, 단환식 또는 축합 다환식 탄화수소환이다. R1a 및 R1b는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 알킬기이다. R2a 및 R2b는, 각각 독립적으로, 탄화수소기, 알콕시기, 아실기, 알콕시카보닐기, 할로겐 원자, 니트로기 또는 시아노기이다. R3a 및 R3b는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기이다. k1 및 k2는, 각각 독립적으로, 0∼4의 정수이다. m1 및 m2는, 각각 독립적으로, 0∼3의 정수이다. n1 및 n2는, 각각 독립적으로, 0∼10의 정수이다. p1 및 p2는, 각각 독립적으로, 0∼4의 정수이다. 단, 환 Z1 및 환 Z2가 단환식 탄화수소환의 경우, p1 및 p2는, 각각 독립적으로, 1∼3의 정수이고, 환 Z1 및 환 Z2가 축합 다환식 탄화수소환의 경우, 환 Z1에 포함되는 p1의 합 및 환 Z2에 포함되는 p2의 합은, 각각 1 이상이다. In the formula (7), the ring Z 1 and the ring Z 2 are each independently a monocyclic or condensed polycyclic hydrocarbon ring. R 1a and R 1b are each independently a hydrogen atom or an alkyl group. R 2a and R 2b each independently represent a hydrocarbon group, an alkoxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, a nitro group or a cyano group. R 3a and R 3b are each independently a hydrogen atom or a methyl group. k1 and k2 are each independently an integer of 0 to 4; m1 and m2 are each independently an integer of 0 to 3; n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 10; p1 and p2 are each independently an integer of 0 to 4; In the case where the ring Z 1 and the ring Z 2 are monocyclic hydrocarbon rings, p 1 and p 2 are each independently an integer of 1 to 3, and when the ring Z 1 and the ring Z 2 are condensed polycyclic hydrocarbon rings, the ring Z 1 And the sum of p &lt; 2 &gt; included in the ring Z &lt; 2 &gt;

Figure pat00006
Figure pat00006

식 (8) 중, R31은 수소 원자 또는 메틸기이다. R32는, 단결합, 메틸렌기 또는 탄소수 2∼12의 알킬렌기이다. X1은, 에폭시기, 3,4-에폭시사이클로헥실기, 또는 하기식 (9-1) 또는 식 (9-2)로 나타나는 기이다. *는 결합 부위를 나타낸다. In the formula (8), R 31 is a hydrogen atom or a methyl group. R 32 is a single bond, a methylene group or an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms. X 1 is an epoxy group, a 3,4-epoxycyclohexyl group, or a group represented by the following formula (9-1) or (9-2). * Represents the binding site.

Figure pat00007
Figure pat00007

상기식 (7)에 있어서, 환 Z1 및 환 Z2로 나타나는 탄화수소환은, 통상, 방향환이다. 이 탄화수소환에 대응하는 탄화수소는, 단환식 또는 축합 다환식의 것이며, 예를 들면 벤젠 등의 단환식 탄화수소, 축합 2환식 탄화수소(예를 들면 인덴, 나프탈렌 등의 탄소수 8∼20의 축합 2환식 탄화수소, 바람직하게는 탄소수 10∼16의 축합 2환식 탄화수소), 축합 3환식 탄화수소(예를 들면 안트라센, 페난트렌 등) 등의 축합 다환식 탄화수소 등을 들 수 있다. 특히 높은 굴절률, 내열성이 요구되는 용도에 있어서 바람직한 탄화수소로서는, 축합 다환식 방향족 탄화수소를 들 수 있고, 특히 나프탈렌이 바람직하다. 또한, 특히 높은 용해성, 상용성 및 저용액 점도가 요구되는 용도에 있어서는 벤젠이 바람직하다. In the formula (7), the hydrocarbon ring represented by the ring Z 1 and the ring Z 2 is usually an aromatic ring. The hydrocarbon corresponding to the hydrocarbon ring is a monocyclic or condensed polycyclic hydrocarbon. Examples thereof include monocyclic hydrocarbons such as benzene, condensed bicyclic hydrocarbons (e.g., condensed bicyclic hydrocarbons having 8 to 20 carbon atoms such as indene and naphthalene , Condensed bicyclic hydrocarbons having preferably 10 to 16 carbon atoms), and condensed polycyclic hydrocarbons such as condensed tricyclic hydrocarbons (e.g., anthracene, phenanthrene, etc.). Particularly preferred hydrocarbons for applications requiring high refractive index and heat resistance include condensed polycyclic aromatic hydrocarbons, and naphthalene is particularly preferred. Furthermore, benzene is particularly preferred for applications requiring high solubility, compatibility and low solution viscosity.

상기식 (7)에 있어서 R1a 및 R1b로서 나타나는 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, t-부틸기 등의 탄소수 1∼12의 알킬기를 들 수 있다. 이들 중에서도, 탄소수 1∼6의 알킬기가 바람직하고, 1∼4의 알킬기가 보다 바람직하고, 메틸기가 더욱 바람직하다. 치환수 k1 및 k2로서는, 0 및 1이 바람직하고, 0이 보다 바람직하다. Examples of the alkyl group represented by R 1a and R 1b in the formula (7) include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and a t-butyl group. Among them, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable, and a methyl group is more preferable. As substitution numbers k1 and k2, 0 and 1 are preferable, and 0 is more preferable.

상기식 (7)에 있어서 R2a 및 R2b로서 나타나는 탄화수소기로서는, 알킬기, 사이클로알킬기, 아릴기, 아르알킬기 등을 들 수 있다. 알킬기로서는, R1a 등으로서 예시한 것을 들 수 있다. 사이클로알킬기로서는, 사이클로부틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로헵틸기, 사이클로옥틸기, 노르보르닐기, 아다만틸기 등의 탄소수 3∼20의 사이클로알킬기를 들 수 있고, 탄소수 4∼10의 사이클로알킬기가 바람직하고, 탄소수 5∼8의 사이클로알킬기가 보다 바람직하다. 아릴기로서는, 페닐기, 톨릴기, 자일릴기, 나프틸기 등을 들 수 있다. 아르알킬기로서는, 벤질기, 페네틸기 등을 들 수 있다. Examples of the hydrocarbon group represented by R 2a and R 2b in the above formula (7) include an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, and an aralkyl group. Examples of the alkyl group include those exemplified as R 1a . Examples of the cycloalkyl group include a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms such as a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group and an adamantyl group, Cycloalkyl group is preferable, and a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms is more preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenethyl group.

상기식 (7)에 있어서 R2a 및 R2b로서 나타나는 알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 벤조옥시기 등의 탄소수 1∼12의 알콕시기를 들 수 있다. 상기식 (7)에 있어서 R2a 및 R2b로서 나타나는 아실기로서는, 메타노일기, 에타노일기(아세틸기), 벤조일기 등의 탄소수 2∼13의 아실기를 들 수 있다. 상기식 (7)에 있어서 R2a 및 R2b로서 나타나는 알콕시카보닐기로서는, 메톡시카보닐기, 에톡시카보닐기, 벤조옥시카보닐기 등의 탄소수 2∼13의 알콕시카보닐기를 들 수 있다. 상기식 (7)에 있어서 R2a 및 R2b로서 나타나는 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자 등을 들 수 있다. Examples of the alkoxy group represented by R 2a and R 2b in the above formula (7) include an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group and a benzooxy group. Examples of the acyl group represented by R 2a and R 2b in the above formula (7) include an acyl group having 2 to 13 carbon atoms such as a methanoyl group, ethanoyl group (acetyl group) and benzoyl group. Examples of the alkoxycarbonyl group represented by R 2a and R 2b in the above formula (7) include an alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group and benzooxycarbonyl group. Examples of the halogen atom represented by R 2a and R 2b in the above formula (7) include a fluorine atom and a chlorine atom.

R2a 및 R2b로서는, 탄화수소기가 바람직하고, 알킬기, 사이클로알킬기, 아릴기 및 아르알킬기가 보다 바람직하고, 탄소수 1∼12의 알킬기가 더욱 바람직하다. m1 및 m2의 상한은, 2가 바람직하고, 1이 보다 바람직하고, 0이 더욱 바람직하다. As R 2a and R 2b , a hydrocarbon group is preferable, and an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group and an aralkyl group are more preferable, and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is more preferable. The upper limit of m1 and m2 is preferably 2, more preferably 1, and still more preferably 0.

상기식 (7)에 있어서의 (폴리)알킬렌옥시기의 부가수 n1 및 n2의 상한은, 8이 바람직하고, 6이 보다 바람직하고, 4가 더욱 바람직하다. 이 하한으로서는, 1로 할 수 있다. n1과 n2의 합(n1+n2)의 상한은, 16이 바람직하고, 12가 보다 바람직하고, 8이 더욱 바람직하다. 이 하한은, 예를 들면 2로 할 수 있다. The upper limit of the addition numbers n1 and n2 of the (poly) alkyleneoxy groups in the formula (7) is preferably 8, more preferably 6, and further preferably 4. This lower limit can be set to one. The upper limit of the sum (n1 + n2) of n1 and n2 is preferably 16, more preferably 12, and even more preferably 8. This lower limit can be, for example, 2.

상기식 (7)에 있어서의 p1 및 p2의 상한은 2가 바람직하다. 이 하한은, 예를 들면 1이 바람직하다. p1과 p2와의 합(p1+p2)의 상한은, 6이 바람직하고, 4가 보다 바람직하다. 이 하한으로서는, 2로 할 수 있다. 특히 경화물의 가교 밀도가 요구되는 용도에 있어서 p1 및 p2는, 2 및 3이 바람직하다. The upper limit of p1 and p2 in the formula (7) is preferably 2. This lower limit is preferably 1, for example. The upper limit of the sum (p1 + p2) of p1 and p2 is preferably 6, more preferably 4. This lower limit can be set to 2. P1 and p2 are preferably 2 and 3, particularly in applications where the crosslinking density of the cured product is required.

또한, 동일한 페놀 골격을 구성하는 복수의 하이드록실기 함유기는, 동일해도 좋고, 상이해도 좋다. 예를 들면, 복수의 하이드록실기 함유기가, (i) n1=0(n2=0)인 하이드록실기 단독(단, p1 및 p2가 2일 때를 제외함)으로 구성되어 있어도 좋고, (ⅱ) n1=0(n2=0)인 하이드록실기와 n1≠0(n2≠0)인 하이드록시(폴리)알콕시기(2-하이드록시에톡시기 등)로 구성되어 있어도 좋고, (ⅲ) n1≠0(n2≠0)인 동일한 하이드록시(폴리)알콕시기 단독으로 구성되어 있어도 좋고, (ⅳ) n1≠0(n2≠0)인 상이한 하이드록시(폴리)알콕시기[예를 들면 2-하이드록시에톡시기 및 2-(2-하이드록시에톡시)에톡시기]로 구성되어 있어도 좋다. The plurality of hydroxyl group-containing groups constituting the same phenol skeleton may be the same or different. For example, a plurality of hydroxyl group-containing groups may be composed of (i) a hydroxyl group having n1 = 0 (n2 = 0) (except when p1 and p2 are 2) ) may be composed of a hydroxyl group of n1 = 0 (n2 = 0) and a hydroxy (poly) alkoxy group of n1 ≠ 0 (n2 ≠ 0) (such as 2-hydroxyethoxy group) (Poly) alkoxy groups of the same hydroxy (poly) alkoxy group of which n1 is not 0 (n2 ≠ 0) and (iv) different hydroxy (poly) alkoxy groups Hydroxyethoxy group and a 2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy group].

상기식 (7)로 나타나는 화합물로서는, 구체적으로는, 9,9-비스(하이드록시알콕시나프틸)플루오렌류, 9,9-비스(하이드록시폴리알콕시나프틸)플루오렌류 등을 들 수 있다. Specific examples of the compound represented by the formula (7) include 9,9-bis (hydroxyalkoxynaphthyl) fluorenes, 9,9-bis (hydroxypolyalkoxynaphthyl) have.

9,9-비스(하이드록시알콕시나프틸)플루오렌류로서는, 예를 들면 9,9-비스[6-(2-하이드록시에톡시)-2-나프틸]플루오렌, 9,9-비스[6-(2-하이드록시프로폭시)-2-나프틸]플루오렌, 9,9-비스[5-(2-하이드록시에톡시)-1-나프틸]플루오렌, 9,9-비스[5-(2-하이드록시프로폭시)-1-나프틸]플루오렌 등의 9,9-비스(하이드록시C2-4알콕시나프틸)플루오렌 등을 들 수 있다. Examples of the 9,9-bis (hydroxyalkoxynaphthyl) fluorenes include 9,9-bis [6- (2-hydroxyethoxy) -2-naphthyl] fluorene, 9,9- Fluorene, 9,9-bis [5- (2-hydroxyethoxy) -1-naphthyl] fluorene, And 9,9-bis (hydroxy C2-4 alkoxynaphthyl) fluorene such as [5- (2-hydroxypropoxy) -1-naphthyl] fluorene.

9,9-비스(하이드록시폴리알콕시나프틸)플루오렌류로서는, 예를 들면 9,9-비스{6-[2-(2-하이드록시에톡시)에톡시]-2-나프틸}플루오렌, 9,9-비스{6-[2-(2-하이드록시프로폭시)프로폭시]-2-나프틸}플루오렌, 9,9-비스{5-[2-(2-하이드록시에톡시)에톡시]-1-나프틸}플루오렌, 9,9-비스{5-[2-(2-하이드록시프로폭시)프로폭시]-1-나프틸}플루오렌 등의 9,9-비스(하이드록시디알콕시나프틸)플루오렌류 등을 들 수 있다. Examples of the 9,9-bis (hydroxypolyalkoxynaphthyl) fluorenes include 9,9-bis {6- [2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy] -2-naphthyl} Fluorene, 9,9-bis {5- [2- (2-hydroxy-2-hydroxyphenyl) Ethoxy] -1-naphthyl} fluorene, 9,9-bis {5- [2- (2-hydroxypropoxy) propoxy] And bis (hydroxy dialkoxynaphthyl) fluorenes.

상기 4염기산 2무수물로서는, 부탄테트라카본산 2무수물, 펜탄테트라카본산 2무수물, 헥산테트라카본산 2무수물, 사이클로부탄테트라카본산 2무수물, 사이클로펜탄테트라카본산 2무수물, 사이클로헥산테트라카본산 2무수물, 사이클로헵탄테트라카본산 2무수물, 노르보르난테트라카본산 2무수물, 피로멜리트산 2무수물, 벤조페논테트라카본산 2무수물, 비페닐테트라카본산 2무수물, 비페닐에테르테트라카본산 2무수물, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)-3-메틸-3-사이클로헥센-1,2-디카본산 무수물, 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카본산 무수물, 나프탈렌-1,4,5,8-테트라카본산 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물, 3,4,9,10-페릴렌테트라카본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카본산 2무수물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 피로멜리트산 2무수물, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)-3-메틸-3-사이클로헥센-1,2-디카본산 무수물, 벤조페논테트라카본산 2무수물 및 비페닐테트라카본산 2무수물이 바람직하다. Examples of the tetrabasic acid dianhydride include butane tetracarboxylic dianhydride, pentane tetracarboxylic dianhydride, hexanetetracarboxylic dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, cyclohexanetetracarboxylic acid Biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, cycloheptanetetracarboxylic acid dianhydride, cycloheptanetetracarboxylic acid dianhydride, cycloheptanetetracarboxylic acid dianhydride, , 2,5- dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 4- (2,5-dioxotetrahydrofuran- -Yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid dianhydride, 4,4 '- (hexafluorois Propylidene) diphthalic acid anhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid 2-anhydride and the like. Among these, pyromellitic dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, benzophenonetetracarboxylic acid 2 Anhydrides and biphenyltetracarboxylic dianhydrides are preferred.

상기 플루오렌 골격을 갖는 화합물과 4염기산 2무수물과의 반응에 있어서의, 플루오렌 골격을 갖는 화합물 1㏖에 대한 4염기산 2무수물의 비율로서는, 예를 들면 0.5㏖ 이상 1.5㏖ 이하이다. 이 범위를 벗어나는 경우, 충분한 분자량이 얻어지지 않는 경우가 있다. The ratio of the tetrabasic acid dianhydride to 1 mol of the compound having a fluorene skeleton in the reaction of the compound having the fluorene skeleton with the tetrabasic acid dianhydride is, for example, 0.5 mol or more and 1.5 mol or less. Outside this range, a sufficient molecular weight may not be obtained.

플루오렌 골격을 갖는 화합물과 4염기산 2무수물과의 반응에 있어서는, 촉매를 사용해도 좋다. 이 촉매로서는, 예를 들면 피리딘, 퀴놀린, 이미다졸, N,N-디메틸사이클로헥실아민, 트리에틸아민, N-메틸모르폴린, N-에틸모르폴린, 트리에틸렌디아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디메틸벤질아민, 트리스(N,N-디메틸아미노메틸)페놀, 4-디메틸아미노피리딘, 1,8-디아자바이사이클로[5,4,0]-7-운데센, 1,5-디아자바이사이클로[4,3,0]노넨-5 등의 아민류, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 트리메틸벤질암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄하이드록사이드 등의 제4급 암모늄 화합물, 트리부틸포스핀, 트리페닐포스핀 등을 들 수 있다. 또한, 사용하는 촉매의 양은 특별히 제한은 없지만, 플루오렌 골격을 갖는 화합물 및 4염기산 2무수물의 합계 100질량부에 대하여 0.1질량부 이상 2.0질량부 이하가 바람직하다. 촉매의 양이 2.0질량부를 초과하는 경우, 전기 특성이나 보존 안정성에 악영향이 나오는 경우가 있다. In the reaction of the compound having a fluorene skeleton with the tetrabasic acid dianhydride, a catalyst may be used. Examples of the catalyst include pyridine, quinoline, imidazole, N, N-dimethylcyclohexylamine, triethylamine, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholine, triethylenediamine, N, (N, N-dimethylaminomethyl) phenol, 4-dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7- undecene, 1,5- Diazabicyclo [4,3,0] nonene-5, quaternary ammonium compounds such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium chloride and tetramethylammonium hydroxide, tributylphosphine , Triphenylphosphine, and the like. The amount of the catalyst to be used is not particularly limited, but is preferably 0.1 parts by mass or more and 2.0 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the total amount of the compound having a fluorene skeleton and the tetrabasic acid dianhydride. When the amount of the catalyst is more than 2.0 parts by mass, the electrical properties and storage stability may be adversely affected.

또한, 반응시에 있어서는, 반응 원료의 용해, 점도 저감 등의 목적으로 용매를 사용해도 좋다. 용매의 종류는 반응을 저해하지 않는 것이면 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 등의 글리콜에테르류, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 등의 글리콜에테르아세테이트류, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르 등의 프로필렌글리콜에테르류, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜에테르아세테이트류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥산온 등의 케톤류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 아세트산 에스테르류, 디메틸술폭사이드, N-메틸피롤리돈, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 이들의 혼합물 등을 들 수 있다. In the course of the reaction, a solvent may be used for the purpose of dissolving the reaction raw materials, reducing viscosity, and the like. The solvent is not particularly limited so long as it does not inhibit the reaction. Examples of the solvent include glycol ethers such as ethylene glycol diethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, Propylene glycol ethers such as dipropylene glycol monoethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether and dipropylene glycol diethyl ether; glycol ether esters such as ethylene glycol monobutyl ether acetate and diethylene glycol monobutyl ether acetate; , Propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate and dipropylene glycol monoethyl ether acetate, acetone, Methyl ethyl ketone, cyclohexanone and the like, acetic acid esters such as ethyl acetate and butyl acetate, dimethylsulfoxide, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide and mixtures thereof .

사용하는 용매의 양은, 특별히 한정되지 않지만, 플루오렌 골격을 갖는 화합물 및 4염기산 2무수물의 합계 100질량부에 대하여, 25질량부 이상 150질량부 이하의 범위가 바람직하다. 25질량부 미만에서는 점도가 충분히 저감되지 않는 경우가 있다. 한편, 150질량부를 초과하는 경우, 반응물의 농도가 지나치게 내려가 반응 속도가 저하되는 경우가 있다. The amount of the solvent to be used is not particularly limited, but is preferably in the range of 25 parts by mass or more and 150 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the total amount of the compound having a fluorene skeleton and the tetrabasic acid dianhydride. When the amount is less than 25 parts by mass, the viscosity may not be sufficiently reduced. On the other hand, if it exceeds 150 parts by mass, the concentration of the reactant may be too low to lower the reaction rate.

플루오렌 골격을 갖는 화합물과 4염기산 2무수물과의 반응에 의해 얻어지는 폴리머에 부가되는 상기식 (8)로 나타나는 카본산 반응성 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산 글리시딜, 3,4-에폭시사이클로헥실(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산[3,4-에폭시트리사이클로(5.2.1.02,6)데칸-9-일] 등을 들 수 있다. Examples of the carbonic acid-reactive (meth) acrylate represented by the above formula (8) to be added to the polymer obtained by reacting a compound having a fluorene skeleton with a tetrabasic acid dianhydride include glycidyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid [3,4-epoxytricyclo (5.2.1.0 2,6 ) decan-9-yl], and the like.

상기 폴리머와 카본산 반응성 (메타)아크릴레이트 화합물과의 반응에 있어서는, 반응 촉진의 목적으로 촉매를 이용해도 좋다. 촉매로서는, 예를 들면 피리딘, 퀴놀린, 이미다졸, N,N-디메틸사이클로헥실아민, 트리에틸아민, N-메틸모르폴린, N-에틸모르폴린, 트리에틸렌디아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디메틸벤질아민, 트리스(N,N-디메틸아미노메틸)페놀, 4-디메틸아미노피리딘, 1,8-디아자바이사이클로[5,4,0]-7-운데센, 1,5-디아자바이사이클로[4,3,0]노넨-5 등의 아민류, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 트리메틸벤질암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄하이드록사이드 등의 제4급 암모늄 화합물, 트리부틸포스핀, 트리페닐포스핀 등 및 이들 혼합물을 들 수 있다. In the reaction of the polymer with the carbonic acid-reactive (meth) acrylate compound, a catalyst may be used for promoting the reaction. Examples of the catalyst include pyridine, quinoline, imidazole, N, N-dimethylcyclohexylamine, triethylamine, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholine, triethylenediamine, N, (N, N-dimethylaminomethyl) phenol, 4-dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7- undecene, Quaternary ammonium compounds such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium chloride and tetramethylammonium hydroxide; amines such as quaternary ammonium compounds such as tributylphosphine, Triphenylphosphine, and the like, and mixtures thereof.

카본산 반응성 (메타)아크릴레이트를 반응시킬 때에 있어서는, 중합 금지제를 더하는 것이 바람직하다. 중합 금지제로서는, 불포화 결합의 반응을 억제하는 것이면 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, t-부틸하이드로퀴논, t-부틸카테콜, N-메틸-N-니트로소아닐린, N-니트로소페닐하이드록실아민·암모늄염, N-니트로소페닐하이드록실아민·알루미늄염, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실, 4-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실 등을 들 수 있다. When the carbonic acid reactive (meth) acrylate is reacted, it is preferable to add a polymerization inhibitor. The polymerization inhibitor is not particularly limited as long as it inhibits the reaction of the unsaturated bond. Examples thereof include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, t-butyl hydroquinone, t-butyl catechol, Aniline, N-nitrosophenylhydroxylamine ammonium salt, N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-hydroxy- 2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, and the like.

(그 외의 구성 등)(Other configurations, etc.)

[A] 중합체로서는, 전술한 공중합체 (α)나 카도 수지에 한정되는 것은 아니다. The polymer [A] is not limited to the above-mentioned copolymer (?) Or cadoline resin.

[A] 중합체로서는, 환상 에테르기, (메타)아크릴로일기, 비닐기 또는 이들의 조합 등의 중합성기를 갖는 중합체가 바람직하다. 환상 에테르기로서는, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 이러한 중합성기를 갖는 중합체를 이용함으로써, 당해 감방사선성 착색 조성물로부터 얻어지는 착색 패턴에 있어서의 [C] 착색제의 용출 등을 저감할 수 있다. 이러한 [A] 중합체로서는, (1) 전술한 공중합체 (α)나 카도 수지 등에 대하여, 카본산 반응성 (메타)아크릴레이트 등을 이용하여 (메타)아크릴로일기 등이 도입된 공중합체, (2) 공중합체 (α)에 있어서 화합물 (a2)로서 전술의 환상 에테르기 또는 비닐기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르 등을 이용하여 얻어진 공중합체, 그 외 (3) 에폭시아크릴레이트 수지 등의 중합성기를 갖는 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 에폭시아크릴레이트 수지로서는, 산 변성된 알칼리 가용성 수지가 적합하게 이용된다. The polymer [A] is preferably a polymer having a polymerizable group such as cyclic ether group, (meth) acryloyl group, vinyl group, or a combination thereof. Examples of the cyclic ether group include an oxiranyl group and an oxetanyl group. By using such a polymer having a polymerizable group, elution of [C] coloring agent in a coloring pattern obtained from the radiation sensitive coloring composition can be reduced. Examples of the polymer (A) include (1) a copolymer into which a (meth) acryloyl group is introduced by using a carbonic acid-reactive (meth) acrylate or the like with respect to the copolymer ) Copolymer obtained by using the above-mentioned cyclic ether group or vinyl group-containing (meth) acrylic acid ester as the compound (a2) in the copolymer (?), And other copolymers obtained by using a polymerizable group such as an epoxy acrylate resin Epoxy resins and the like. As the epoxy acrylate resin, an acid-modified alkali-soluble resin is suitably used.

[A] 중합체에 있어서의 중합성기를 갖는 구조 단위의 함유율의 하한으로서는, 5질량%가 바람직하고, 10질량%가 보다 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는, 50질량%가 바람직하고, 40질량%가 보다 바람직하다. 중합성기를 갖는 구조 단위의 함유율을 이러한 범위로 함으로써, 현상성 등을 충분히 구비하면서, 착색제의 용출을 효과적으로 저감시키는 것 등을 할 수 있다. The lower limit of the content of the structural unit having a polymerizable group in the [A] polymer is preferably 5% by mass, more preferably 10% by mass. On the other hand, the upper limit is preferably 50% by mass, more preferably 40% by mass. By setting the content ratio of the structural unit having a polymerizable group within this range, it is possible to effectively dissolve the coloring agent while sufficiently providing developability and the like.

[A] 중합체의 GPC(용출 용매: 테트라하이드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)의 하한으로서는, 통상 1,000이고, 바람직하게는 3,000이다. 이 상한으로서는, 통상 100,000이고, 바람직하게는 50,000이다. 또한, [A] 중합체의 중량 평균 분자량(Mw)과, GPC(용출 용매: 테트라하이드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산의 수 평균 분자량(Mn)과의 비(Mw/Mn)의 상한으로서는, 통상 5이고, 3이 바람직하다. The lower limit of the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by GPC (elution solvent: tetrahydrofuran) of the polymer [A] is usually 1,000, preferably 3,000. The upper limit is usually 100,000, preferably 50,000. The upper limit of the ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight (Mw) of the polymer [A] to the number average molecular weight (Mn) in terms of polystyrene measured by GPC (dissolution solvent: tetrahydrofuran) , And 3 is preferable.

[A] 중합체는, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The [A] polymers may be used alone or in combination of two or more.

<[B] 광중합 개시제>&Lt; [B] Photopolymerization initiator &gt;

[B] 광중합 개시제는, 1분자 중에 2 이상의 상기식 (1)로 나타나는 부위를 갖는다. [B] 광중합 개시제는, 복수의 상기 부위를 갖기 때문에, 방사선 감도가 우수하고, [C] 착색제의 용출이 억제된 착색 패턴을 형성할 수 있다. [B] The photopolymerization initiator has at least two sites in the molecule represented by the above formula (1). [B] Since the photopolymerization initiator [B] has a plurality of the above sites, it is possible to form a coloring pattern having excellent radiation sensitivity and inhibiting elution of the [C] coloring agent.

식 (1)에 있어서의 RX로 나타나는 1가의 유기기로서는, 1 이상의 탄소 원자를 포함하는 기이면 특별히 한정되지 않지만, 알킬기, 사이클로알킬기 등의 탄화수소기, 할로알킬기, 2-푸릴기, 2-푸르푸릴기, 2-티에닐기, 2-테닐기, 페닐기, 나프틸기, 이들을 조합하여 이루어지는 기 등을 들 수 있다. 이 페닐기 또는 나프틸기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋다. The monovalent organic group represented by R X in the formula (1) is not particularly limited as long as it is a group containing at least one carbon atom, and examples thereof include a hydrocarbon group such as an alkyl group and a cycloalkyl group, a haloalkyl group, A thienyl group, a 2-thienyl group, a phenyl group, a naphthyl group, and a group formed by combining these groups. Some or all of the hydrogen atoms of the phenyl group or the naphthyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom.

RX로서 나타나는 알킬기로서는, R1a 등으로서 나타나는 알킬기로서 예시한 것을 들 수 있고, 탄소수 1∼12의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1∼6의 알킬기가 보다 바람직하다. As the alkyl group represented by R X , those exemplified as R 1a and the like can be mentioned, and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable.

RX로서 나타나는 사이클로알킬기로서는, R2a 등으로서 나타나는 사이클로알킬기로서 예시한 것을 들 수 있고, 탄소수 4∼20의 사이클로알킬기가 바람직하다. As the cycloalkyl group represented by R X , those exemplified as the cycloalkyl group represented by R 2a and the like can be mentioned, and a cycloalkyl group having 4 to 20 carbon atoms is preferable.

RX로서 나타나는 할로알킬기는, 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부를 할로겐 원자로 치환한 기이고, 예를 들면 클로로메틸기, 클로로에틸기, 클로로프로필기, 클로로부틸기, 클로로헥실기 등의 탄소수 1∼6의 할로알킬기를 들 수 있다. The haloalkyl group represented by R X is a group in which a part or all of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with a halogen atom and includes, for example, 1 to 6 carbon atoms such as a chloromethyl group, a chloroethyl group, a chloropropyl group, a chlorobutyl group, Of haloalkyl groups.

[B] 광중합 개시제로서는, 상기식 (6)으로 나타나는 것이 바람직하다. 이러한 구조의 화합물을 이용함으로써, 감도가 높아짐과 동시에, 용해성 등도 높일 수 있다. As the photopolymerization initiator [B], those represented by the above formula (6) are preferable. By using the compound having such a structure, the sensitivity can be increased and the solubility and the like can be increased.

식 (6) 중, 복수의 R1A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 4∼20의 사이클로알킬기, 탄소수 1∼6의 할로알킬기, 2-푸릴기, 2-푸르푸릴기, 2-티에닐기, 2-테닐기, 페닐기 또는 나프틸기이고, 이 페닐기 또는 나프틸기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋다. In formula (6), the plurality of R &lt; 1A &gt; each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 20 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a 2-furyl group, A thienyl group, a 2-thienyl group, a phenyl group or a naphthyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of the phenyl group or the naphthyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, good.

R2A 및 R3A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 탄소수 3∼10의 사이클로알킬기이다. R 2A and R 3A are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms.

R4A는, 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 할로겐 원자, 2-푸릴기, 2-푸르푸릴기, 2-티에닐기 또는 2-테닐기이다. R 4A represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, a 2-furyl group, a 2-furfuryl group, a 2-thienyl group or a 2-thienyl group.

R5A는, 술포기, 또는 -SO2R6A, -P(R7A)2, -PO(R8A)2 또는 -Si(R9A)3으로 나타나는 기이다. R 5A represents a sulfo group or a group represented by -SO 2 R 6A , -P (R 7A ) 2 , -PO (R 8A ) 2 or -Si (R 9A ) 3 .

R6A는, 수소 원자, 메틸기, 탄소수 2∼12의 알킬기, 페닐기, 또는 나프틸기이고, 상기 탄소수 2∼12의 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 카복시기, 메톡시카보닐기, 에톡시카보닐기, 탄소수 1∼6의 아실옥시기, 벤조일옥시기 또는 탄소수 1∼20의 아실기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 페닐기 또는 나프틸기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋다. R 6A represents a hydrogen atom, a methyl group, an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a phenyl group, or a naphthyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of the alkyl group having 2 to 12 carbon atoms may be substituted with a carboxyl group, a methoxycarbonyl group, An acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms, a benzoyloxy group or an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a part or all of the hydrogen atoms of the phenyl group or the naphthyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Or an alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms or a halogen atom.

R7A, R8A 및 R9A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기, 페닐기 또는 나프틸기이고, 이 페닐기 또는 나프틸기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋다.R 7A , R 8A and R 9A are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group or a naphthyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of the phenyl group or the naphthyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Or an alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms or a halogen atom.

R1A로서 나타나는 각 기의 구체예는, RX로서 나타나는 기로서 예시한 것을 들 수 있다. R1A로서는, 탄소수 1∼12의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1∼6의 알킬기가 보다 바람직하고, 탄소수 1∼3의 알킬기가 더욱 바람직하다. Specific examples of each group represented by R 1A include those exemplified as groups represented by R X. R 1A is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

R2A 및 R3A로서 나타나는 탄소수 1∼12의 알킬기 및 탄소수 3∼10의 사이클로알킬기로서는, R1a, R2a 등으로서 나타나는 기로서 예시한 것을 들 수 있다. R2A 및 R3A로서는 탄소수 1∼12의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1∼6의 알킬기가 보다 바람직하고, 탄소수 1∼3의 알킬기가 더욱 바람직하다. Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and the cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms represented by R 2A and R 3A include those exemplified as groups represented by R 1a and R 2a . As R 2A and R 3A, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is more preferable.

R4A로서 나타나는 탄소수 1∼12의 알킬기 및 탄소수 1∼12의 알콕시기로서는, R1a, R2a 등으로서 나타나는 기로서 예시한 것을 들 수 있다. R4A로서는, 탄소수 1∼12의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1∼6의 알킬기가 보다 바람직하고, 탄소수 1∼3의 알킬기가 더욱 바람직하다. Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 4A include those exemplified as groups represented by R 1a and R 2a . R 4A is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

R6A로서 나타나는 탄소수 2∼12의 알킬기로서는, R1a 등으로서 나타나는 기로서 예시한 것을 들 수 있다. 치환기인 탄소수 1∼6의 아실옥시기로서는, 예를 들면 아세톡시기, 프로피오닐옥시기 등을 들 수 있다. 치환기인 탄소수 1∼20의 아실기로서는, 예를 들면 포르밀기, 아세틸기, 프로피오닐기, 부티릴기, 이소부티릴기, 발레릴기, 헥사노일기 등을 들 수 있다. Examples of the alkyl group having 2 to 12 carbon atoms represented by R 6A include those exemplified as groups represented by R 1a . Examples of the acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms as a substituent include an acetoxy group and a propionyloxy group. Examples of the acyl group having 1 to 20 carbon atoms as the substituent include a formyl group, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a valeryl group and a hexanoyl group.

R7A, R8A 및 R9A로서 나타나는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R1a 등으로서 나타나는 기로서 예시한 것을 들 수 있다. 치환기인 탄소수 1∼6의 알킬기 및 탄소수 1∼6의 알콕시기로서는, R1a, R2a 등으로서 나타나는 기로서 예시한 것을 들 수 있다. Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 7A , R 8A and R 9A include those exemplified as groups represented by R 1a . Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms as the substituent include those exemplified as groups represented by R 1a and R 2a .

R5A로서는, SO2R6A로 나타나는 기가 바람직하다. R6A로서는, 수소 원자의 일부 또는 전부가 탄소수 1∼6의 아실옥시기로 치환되어 있는 탄소수 2∼12의 알킬기가 바람직하다. As R 5A , a group represented by SO 2 R 6A is preferable. As R 6A , an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms in which a part or all of the hydrogen atoms are substituted with an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferable.

상기 R1A, R2A, R3A 및 R4A는, 각각 탄소수 1∼8의 알킬기이고, 상기 R5A는, SO2R6A, PO(R8A)2 또는 Si(R9A)3으로 나타나는 기이고, 상기 R6A는, 수소 원자의 일부 또는 전부가 아세톡시기로 치환된 탄소수 2∼6의 알킬기이고, 상기 R8A는 페닐기이고, 상기 R9A는 탄소수 1∼6의 알킬기인 것이 바람직하다. 이러한 구조임으로써, 용해성을 보다 향상시키는 것 등을 할 수 있다. R 5A is a group represented by SO 2 R 6A , PO (R 8A ) 2 or Si (R 9A ) 3 , and R 5A is a group represented by R 1 , R 2 A , R 3 A and R 4A , , wherein R 6A is a part or all of the hydrogen atoms and the alkyl group having a carbon number of 2 to 6 substituted with an acetoxy group, wherein R 8A is a phenyl group, it is the R 9A is preferred that the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. By such a structure, it is possible to improve the solubility and the like.

상기식 (6)으로 나타나는 화합물은, 예를 들면 일본공개특허공보 2011-178776호에 기재된 제조 방법에 의해 얻을 수 있다. The compound represented by the formula (6) can be obtained by the production method described in, for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2011-178776.

당해 감방사선성 착색 조성물에 있어서의 [B] 광중합 개시제의 함유량으로서는 특별히 한정되지 않지만, 하한으로서는, 예를 들면 [A] 중합체(고형분) 100질량부에 대하여 5질량부가 바람직하고, 10질량부가 보다 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는, 50질량부가 바람직하고, 30질량부가 보다 바람직하다. The content of the [B] photopolymerization initiator in the radiation-sensitive coloring composition is not particularly limited, but is preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more per 100 parts by mass of the polymer (solid content) desirable. On the other hand, the upper limit is preferably 50 parts by mass, more preferably 30 parts by mass.

<[B'] 광중합 개시제>&Lt; [B '] Photopolymerization initiator &gt;

당해 감방사선성 착색 조성물은, [B] 광중합 개시제와 함께, [B'] 그 외의 광중합 개시제를 함유할 수 있다. [B'] 광중합 개시제로서는, 예를 들면 티옥산톤계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, O-아실옥심계 화합물, 오늄염계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 디아조계 화합물, 이미드술포네이트계 화합물 등을 들 수 있다. The radiation-sensitive coloring composition may contain a photopolymerization initiator [B] together with [B] a photopolymerization initiator. [B '] Examples of the photopolymerization initiator include a thioxanthone compound, an acetophenone compound, a nonimidazole compound, a triazine compound, an O-acyloxime compound, an onium salt compound, a benzoin compound, , an? -diketone compound, a polynuclear quinone compound, a diazo compound, and an imidosulfonate compound.

당해 감방사선성 착색 조성물에 있어서의 [B] 광중합 개시제 및 [B'] 광중합 개시제의 합계 함유량으로서는 특별히 한정되지 않지만, 하한으로서는, 예를 들면 [A] 중합체(고형분) 100질량부에 대하여 5질량부가 바람직하고, 10질량부가 보다 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는, 50질량부가 바람직하고, 30질량부가 보다 바람직하다. The total content of the [B] photopolymerization initiator and the [B '] photopolymerization initiator in the radiation sensitive coloring composition is not particularly limited, but the lower limit is, for example, 5 parts by mass per 100 parts by mass of the [A] More preferably 10 parts by mass. On the other hand, the upper limit is preferably 50 parts by mass, more preferably 30 parts by mass.

<[C] 착색제>&Lt; [C] Colorant &gt;

[C] 착색제는, 락탐 구조, 이 이성체 환구조 또는 이들의 조합을 갖는 착색제이다. 락탐 구조란, -CONR-(R은, 수소 원자 또는 유기기임)로 나타나는 기를 포함하는 지방족 탄화수소 환구조이다. 락탐 구조의 이성체 환구조로서는, -CO-와 -NR-(R은, 수소 원자 또는 유기기임)가, 탄소 원자를 개재하여 결합된 지방족 환구조 등을 들 수 있다. [C] Colorant is a colorant having a lactam structure, an isomeric ring structure, or a combination thereof. The lactam structure is an aliphatic hydrocarbon ring structure containing a group represented by -CONR- (R is a hydrogen atom or an organic group). Examples of the isomeric ring structure of the lactam structure include an aliphatic ring structure in which -CO- and -NR- (R is a hydrogen atom or an organic group) are bonded via a carbon atom.

[C] 착색제로서는, 락탐 구조, 이 이성체 환구조 또는 이들의 조합을 갖는 것인 한 특별히 한정되지 않지만, 상기식 (2)로 나타나는 부위 및 상기식 (3)으로 나타나는 부위의 적어도 한쪽을 갖는 것이 바람직하다. 상기식 (2) 및 식 (3) 중의 벤젠환에는 치환기가 결합하고 있어도 좋다. 이러한 착색제로서는, 벤조디푸라논 골격에 2개의 상기 부위가 치환된 구조를 갖는 비스-옥소디하이드로인돌리렌-벤조디푸라논 착색제, 이 이성체 또는 호변 이성체 등을 들 수 있다. The [C] colorant is not particularly limited as long as it has a lactam structure, an isomeric ring structure, or a combination thereof. It is preferable that the colorant has at least one of the moiety represented by the formula (2) and the moiety represented by the formula (3) desirable. A substituent may be bonded to the benzene ring in the formulas (2) and (3). Examples of such a coloring agent include a bis-oxodihydroindolylene-benzodipuranone colorant having a structure in which two of the above-mentioned moieties are substituted in the benzodifuranone skeleton, isomers thereof, or tautomers thereof.

[C] 착색제로서는, 상기식 (4)로 나타나는 착색제 및 상기식 (5)로 나타나는 착색제의 적어도 한쪽인 것이 바람직하다. The [C] colorant is preferably at least one of the colorant represented by the formula (4) and the colorant represented by the formula (5).

식 (4) 및 식 (5) 중, R1, R6, R11 및 R16은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 1∼6의 불화 알킬기를 나타낸다. In the formulas (4) and (5), R 1 , R 6 , R 11 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, .

R1, R6, R11 및 R16으로 나타나는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, R1a 등으로 나타나는 알킬기로서 예시한 것을 들 수 있고, 탄소수 1∼6의 불소화 알킬기로서는 이들 알킬기가 갖는 수소 원자의 일부 또는 전부를 불소 원자로 치환한 기를 들 수 있다. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 1 , R 6 , R 11 and R 16 include those exemplified as the alkyl group represented by R 1a and the fluorinated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Or a group in which all or part of them is substituted with a fluorine atom.

R2∼R5, R7∼R10, R12∼R15 및 R17∼R20은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 R21, COOH, COOR21, COO-, CONH2, CONHR21, CONR21R22, CN, OH, OR21, OCOR21, OCONH2, OCONHR21, OCONR21R22, NO2, NH2, NHR21, NR21R22, NHCOR21, NR21COR22, N=CH2, N=CHR21, N=CR21R22, SH, SR21, SOR21, SO2R21, SO3R21, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR21 또는 SO2NR21R22로 나타나는 기이다. R2∼R5, R7∼R10, R12∼R15 및 R17∼R20 중 인접하는 탄소 원자에 각각 결합하는 기끼리는, 직접 또는 -O-, -S-, -NH- 또는 -NR21-를 개재하여 결합하고, 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 환구조를 형성하고 있어도 좋다. R 2 to R 5 , R 7 to R 10 , R 12 to R 15 and R 17 to R 20 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or R 21 , COOH, COOR 21 , COO - , CONH 2 , CONHR 21, CONR 21 R 22, CN, OH, OR 21, OCOR 21, OCONH 2, OCONHR 21, OCONR 21 R 22, NO 2, NH 2, NHR 21, NR 21 R 22, NHCOR 21, NR 21 COR 22 , N = CH 2, N = CHR 21, N = CR 21 R 22, SH, SR 21, SOR 21, SO 2 R 21, SO 3 R 21, SO 3 H, SO 3 -, SO 2 NH 2, SO 2 NHR 21 or SO 2 NR 21 R 22 . Groups bonded to adjacent carbon atoms of R 2 to R 5 , R 7 to R 10 , R 12 to R 15 and R 17 to R 20 may be bonded to each other directly or by -O-, -S-, -NH- or - NR 21 - may be bonded to each other to form a ring structure together with the carbon atoms to which they are bonded.

R21 및 R22는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 3∼12의 사이클로알킬기, 탄소수 2∼12의 알케닐기, 탄소수 4∼12의 사이클로알케닐기 또는 탄소수 2∼12의 알키닐기, 또는 이들 기의 탄소-탄소 결합 간에 -O-, -NH-, -NR23- 또는 -S-가 개재된 기이며, 이 알킬기, 사이클로알킬기, 알케닐기, 사이클로알케닐기 및 알키닐기가 갖는 수소 원자의 일부 또는 전부는, 할로겐 원자, COOH, COOR23, COO-, CONH2, CONHR23, CONR23R24, CN, =O, OH, OR23, OCOR23, OCONH2, OCONHR23, OCONR23R24, =NR23, NH2, NHR23, NR23R24, NHCOR24, NR23COR24, N=CH2, N=CHR23, N=CR23R24, SH, SR23, SOR23, SO2R23, SO3R23, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR23 또는 SO2NR23R24로 나타나는 기, 탄소수 7∼12의 아르알킬기, 탄소수 1∼11의 헤테로아릴기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로 치환되어도 좋다. 상기 아르알킬기, 헤테로아릴기 및 아릴기가 갖는 수소 원자의 일부 또는 전부는, 할로겐 원자, 또는 COOH, COOR23, COO-, CONH2, CONHR23, CONR23R24, CN, OH, OR23, OCOR23, OCONH2, OCCNHR23, OCONR23R24, NO2, NH2, NHR23, NR23R24, NHCOR24, NR23COR24, N=CH2, N=CHR23, N=CR23R24, SH, SR23, SOR23, SO2R23, SO3R23, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR23 또는 SO2NR23R24로 나타나는 기로 치환되어 있어도 좋다. R 21 and R 22 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 4 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms , Or a group in which -O-, -NH-, -NR 23 - or -S- is interposed between the carbon-carbon bonds of these groups, and the hydrogen having the alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, cycloalkenyl group and alkynyl group some or all of the atoms, a halogen atom, COOH, COOR 23, COO - , CONH 2, CONHR 23, CONR 23 R 24, CN, = O, OH, oR 23, OCOR 23, OCONH 2, OCONHR 23, OCONR 23 R 24, = NR 23, NH 2, NHR 23, NR 23 R 24, NHCOR 24, NR 23 COR 24, N = CH 2, N = CHR 23, N = CR 23 R 24, SH, SR 23, SOR 23 , SO 2 R 23 , SO 3 R 23 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 23 or SO 2 NR 23 R 24 , an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, 11 heteroaryl group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, It is also good. Some or all of the aralkyl group, a heteroaryl group, and hydrogen atom having an aryl group, the halogen atom, or COOH, COOR 23, COO -, CONH 2, CONHR 23, CONR 23 R 24, CN, OH, OR 23, OCOR 23, OCONH 2, OCCNHR 23, OCONR 23 R 24, NO 2, NH 2, NHR 23, NR 23 R 24, NHCOR 24, NR 23 COR 24, N = CH 2, N = CHR 23, N = CR 23 R 24 , SH, SR 23 , SOR 23 , SO 2 R 23 , SO 3 R 23 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 23 or SO 2 NR 23 R 24 good.

또한, =O 및 =NR23은, 1의 탄소 원자에 결합하는 2개의 수소 원자가, O 또는 NR23로 치환되어 있는 것을 나타낸다. = O and = NR &lt; 23 &gt; represent that two hydrogen atoms bonded to the carbon atom of 1 are substituted with O or NR &lt; 23 & gt ;.

R21 및 R22로 나타나는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R1a 등으로서 나타나는 알킬기로서 예시한 것을 들 수 있다. 탄소수 3∼12의 사이클로알킬기로서는, R2a 등으로서 나타나는 사이클로알킬기로서 예시한 것을 들 수 있다. 탄소수 2∼12의 알케닐기로서는, 에테닐기(비닐기), 프로페닐기(알릴기) 등을 들 수 있다. 탄소수 4∼12의 사이클로알케닐기로서는, 사이클로펜테닐기, 사이클로헥세닐기, 사이클로옥테닐기 등을 들 수 있다. 탄소수 2∼12의 알키닐기로서는, 에티닐기, 프로피닐기 등을 들 수 있다. 탄소수 7∼12의 아르알킬기로서는, 벤질기, 페네틸기 등을 들 수 있다. 탄소수 1∼11의 헤테로아릴기로서는, 티오펜환, 피롤환, 푸란환 등의 환원수 5∼12의 방향환을 갖는 기를 들 수 있다. 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 페닐기, 톨릴기, 나프틸기 등을 들 수 있다. Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 21 and R 22 include those exemplified as the alkyl group represented by R 1a . Examples of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms include those exemplified as cycloalkyl groups represented by R 2a . Examples of the alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms include an ethynyl group (vinyl group) and a propenyl group (allyl group). Examples of the cycloalkenyl group having 4 to 12 carbon atoms include a cyclopentenyl group, a cyclohexenyl group and a cyclooctenyl group. Examples of the alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms include an ethynyl group and a propynyl group. Examples of the aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms include a benzyl group and a phenethyl group. Examples of the heteroaryl group having 1 to 11 carbon atoms include groups having an aromatic ring having a reduced number of 5 to 12 such as a thiophene ring, a pyrrole ring, and a furan ring. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group and a naphthyl group.

R23 및 R24는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼6의 알킬기, 벤질기 또는 페닐기이고, R23과 R24는, 직접 또는 -O-, -S-, -NH- 또는 -NR25-를 개재하여 결합하고, 이들이 결합하는 원자와 함께 환구조를 형성하고 있어도 좋다. R 23 and R 24 are, each independently, an alkyl group, a benzyl group or a phenyl group having a carbon number of 1~6, R 23 and R 24 are, directly or -O-, -S-, -NH- or -NR 25 - the And may form a ring structure together with the atoms to which they are bonded.

R23 및 R24로 나타나는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, R1a 등으로서 나타나는 알킬기로서 예시한 것을 들 수 있다. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 23 and R 24 include those exemplified as the alkyl group represented by R 1a .

R25는, 1가의 유기기이다. 1가의 유기기로서는, RX로서 나타나는 1가의 유기기로서 예시한 것을 들 수 있다. R 25 is a monovalent organic group. As the monovalent organic group, those exemplified as a monovalent organic group represented by R X can be mentioned.

상기식 (4)로 나타나는 착색제 및 상기식 (5)로 나타나는 착색제가 음이온성인 경우, 양이온과 함께 이온 화합물로서 존재한다. 쌍이 되는 양이온으로서는 특별히 한정되지 않고, 나트륨 이온 등의 알칼리 금속 이온, 그 외의 금속 이온, 암모늄 이온, 유기 금속 이온 등을 들 수 있다. When the coloring agent represented by the formula (4) and the coloring agent represented by the formula (5) are anion, they exist as an ionic compound together with the cation. The cations to be paired are not particularly limited, and examples thereof include alkali metal ions such as sodium ions, other metal ions, ammonium ions, and organometallic ions.

R1, R2, R4∼R7, R9, R10, R11, R12, R14∼R17, R19, R20으로서는, 수소 원자, 불소 원자 및 염소 원자가 바람직하고, 수소 원자가 보다 바람직하다. R3, R8, R13 및 R18로서는, 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸기, β-나프틸기 및 SO3 -가 바람직하다. R1 및 R6, R2 및 R7, R3 및 R8, R4 및 R9, R5 및 R10, R11 및 R16, R12 및 R17, R13 및 R18, R14 및 R19, R15 및 R20이 각각 동일한 것이 바람직하다. As the R 1 , R 2 , R 4 to R 7 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 14 to R 17 , R 19 and R 20 , a hydrogen atom, a fluorine atom and a chlorine atom are preferable, More preferable. R 3, R 8, R 13, and as the R 18, a hydrogen atom, NO 2, OCH 3, OC 2 H 5, a bromine atom, a chlorine atom, CH 3, C 2 H 5 , N (CH 3) 2, N ( CH 3 ) (C 2 H 5 ), N (C 2 H 5 ) 2 , α-naphthyl group, β-naphthyl group and SO 3 - . R 1 and R 6, R 2 and R 7, R 3 and R 8, R 4 and R 9, R 5 and R 10, R 11 and R 16, R 12 and R 17, R 13 and R 18, R 14 And R 19 , R 15 and R 20 are preferably the same.

상기식 (4)로 나타나는 착색제 및 상기식 (5)로 나타나는 착색제는, 예를 들면 WO2000/24736에 기재된 방법에 의해 제조할 수 있다. The coloring agent represented by the formula (4) and the coloring agent represented by the formula (5) can be produced, for example, by the method described in WO 2000/24736.

[C] 착색제는, 통상, 흑색의 안료(착색제)로서 기능한다. [C] 착색제의 입경의 상한으로서는, 0.4㎛가 바람직하고, 0.3㎛가 보다 바람직하다. 한편, 이 하한으로서는, 예를 들면 0.01㎛이다. 이러한 입경의 [C] 착색제를 이용함으로써, 당해 감방사선성 착색 조성물 중의 [C] 착색제의 분산 안정성 등이 향상된다. [C] The colorant generally functions as a black pigment (colorant). The upper limit of the particle size of the [C] colorant is preferably 0.4 탆, more preferably 0.3 탆. On the other hand, the lower limit is, for example, 0.01 mu m. By using the [C] coloring agent having such a particle size, dispersion stability and the like of the [C] coloring agent in the radiation-sensitive coloring composition are improved.

[C] 착색제의 함유량으로서는 특별히 한정되지 않지만, 당해 감방사선성 착색 조성물 중의 고형분 100질량부에 대한 하한으로서, 5질량부가 바람직하고, 10질량부가 보다 바람직하고, 20질량부가 더욱 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는, 60질량부가 바람직하고, 50질량부가 보다 바람직하고, 40질량부가 더욱 바람직하다. [C] 착색제의 함유량을 이러한 범위로 함으로써, 착색제의 용출을 억제하면서, 충분히 착색된 패턴을 얻을 수 있다. The content of the [C] colorant is not particularly limited, but is preferably 5 parts by mass, more preferably 10 parts by mass, and further preferably 20 parts by mass as a lower limit to 100 parts by mass of the solid content in the radiation sensitive coloring composition. On the other hand, the upper limit is preferably 60 parts by mass, more preferably 50 parts by mass, still more preferably 40 parts by mass. By setting the content of the [C] colorant to such a range, a sufficiently colored pattern can be obtained while inhibiting dissolution of the colorant.

<[C'] 기타 착색제><[C '] Other colorants>

당해 감방사선성 착색 조성물에 있어서는, 색조의 조정의 목적 등으로, [C] 착색제 이외의 [C'] 기타 착색제를 병용할 수 있다. [C'] 기타 착색제로서는, 공지의 안료나 염료를 들 수 있다. In the radiation-sensitive coloring composition, other colorants other than the [C] colorant may be used together with the purpose of adjusting the color tone and the like. [C '] Other coloring agents include known pigments and dyes.

안료로서는, 유기 안료, 무기 안료 중 어느 것이라도 좋고, 유기 안료로서는, 예를 들면 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있다. 구체적으로는, 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.)명이 부착되어 있는 것을 들 수 있다. As the pigment, any of organic pigments and inorganic pigments may be used. As the organic pigment, for example, a compound classified by pigment in the color index (C.I., published by The Society of Dyers and Colourists) may be mentioned. Specifically, a color index (C.I.) name as described below is attached.

C.I. 피그먼트 옐로우 12, C.I. 피그먼트 옐로우 13, C.I. 피그먼트 옐로우 14, C.I. 피그먼트 옐로우 17, C.I. 피그먼트 옐로우 20, C.I. 피그먼트 옐로우 24, C.I. 피그먼트 옐로우 31, C.I. 피그먼트 옐로우 55, C.I. 피그먼트 옐로우 83, C.I. 피그먼트 옐로우 93, C.I. 피그먼트 옐로우 109, C.I. 피그먼트 옐로우 110, C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 153, C.I. 피그먼트 옐로우 154, C.I. 피그먼트 옐로우 155, C.I. 피그먼트 옐로우 166, C.I. 피그먼트 옐로우 168, C.I. 피그먼트 옐로우 180, C.I. 피그먼트 옐로우 211;C.I. Pigment Yellow 12, C.I. Pigment Yellow 13, C.I. Pigment Yellow 14, C.I. Pigment Yellow 17, C.I. Pigment Yellow 20, C.I. Pigment Yellow 24, C.I. Pigment Yellow 31, C.I. Pigment Yellow 55, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow 93, C.I. Pigment Yellow 109, C.I. Pigment Yellow 110, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 153, C.I. Pigment Yellow 154, C.I. Pigment Yellow 155, C.I. Pigment Yellow 166, C.I. Pigment Yellow 168, C.I. Pigment Yellow 180, C.I. Pigment Yellow 211;

C.I. 피그먼트 오렌지 5, C.I. 피그먼트 오렌지 13, C.I. 피그먼트 오렌지 14, C.I. 피그먼트 오렌지 24, C.I. 피그먼트 오렌지 34, C.I. 피그먼트 오렌지 36, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 오렌지 40, C.I. 피그먼트 오렌지 43, C.I. 피그먼트 오렌지 46, C.I. 피그먼트 오렌지 49, C.I. 피그먼트 오렌지 61, C.I. 피그먼트 오렌지 64, C.I. 피그먼트 오렌지 68, C.I. 피그먼트 오렌지 70, C.I. 피그먼트 오렌지 71, C.I. 피그먼트 오렌지 72, C.I. 피그먼트 오렌지 73, C.I. 피그먼트 오렌지 74;C.I. Pigment Orange 5, C.I. Pigment Orange 13, C.I. Pigment Orange 14, C.I. Pigment Orange 24, C.I. Pigment Orange 34, C.I. Pigment Orange 36, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Orange 40, C.I. Pigment Orange 43, C.I. Pigment Orange 46, C.I. Pigment Orange 49, C.I. Pigment Orange 61, C.I. Pigment Orange 64, C.I. Pigment Orange 68, C.I. Pigment Orange 70, C.I. Pigment Orange 71, C.I. Pigment Orange 72, C.I. Pigment Orange 73, C.I. Pigment Orange 74;

C.I. 피그먼트 레드 1, C.I. 피그먼트 레드 2, C.I. 피그먼트 레드 5, C.I. 피그먼트 레드 17, C.I. 피그먼트 레드 31, C.I. 피그먼트 레드 32, C.I. 피그먼트 레드 41, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 123, C.I. 피그먼트 레드 144, C.I. 피그먼트 레드 149, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 168, C.I. 피그먼트 레드 170, C.I. 피그먼트 레드 171, C.I. 피그먼트 레드 175, C.I. 피그먼트 레드 176, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 178, C.I. 피그먼트 레드 179, C.I. 피그먼트 레드 180, C.I. 피그먼트 레드 185, C.I. 피그먼트 레드 187, C.I. 피그먼트 레드 202, C.I. 피그먼트 레드 206, C.I. 피그먼트 레드 207, C.I. 피그먼트 레드 209, C.I. 피그먼트 레드 214, C.I. 피그먼트 레드 220, C.I. 피그먼트 레드 221, C.I. 피그먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 243, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 레드 262, C.I. 피그먼트 레드 264, C.I. 피그먼트 레드 272;C.I. Pigment Red 1, C.I. Pigment Red 2, C.I. Pigment Red 5, C.I. Pigment Red 17, C.I. Pigment Red 31, C.I. Pigment Red 32, C.I. Pigment Red 41, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 123, C.I. Pigment Red 144, C.I. Pigment Red 149, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 168, C.I. Pigment Red 170, C.I. Pigment Red 171, C.I. Pigment Red 175, C.I. Pigment Red 176, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 178, C.I. Pigment Red 179, C.I. Pigment Red 180, C.I. Pigment Red 185, C.I. Pigment Red 187, C.I. Pigment Red 202, C.I. Pigment Red 206, C.I. Pigment Red 207, C.I. Pigment Red 209, C.I. Pigment Red 214, C.I. Pigment Red 220, C.I. Pigment Red 221, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 243, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 255, C.I. Pigment Red 262, C.I. Pigment Red 264, C.I. Pigment Red 272;

C.I. 피그먼트 바이올렛 1, C.I. 피그먼트 바이올렛 19, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 바이올렛 29, C.I. 피그먼트 바이올렛 32, C.I. 피그먼트 바이올렛 36, C.I. 피그먼트 바이올렛 38;C.I. Pigment Violet 1, C.I. Pigment Violet 19, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Violet 29, C.I. Pigment Violet 32, C.I. Pigment Violet 36, C.I. Pigment Violet 38;

C.I. 피그먼트 블루 15, C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15: 4, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 블루 60, C.I. 피그먼트 블루 80;C.I. Pigment Blue 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment Blue 60, C.I. Pigment Blue 80;

C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 58;C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 58;

C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25;C.I. Pigment Brown 23, C.I. Pigment Brown 25;

C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7.C.I. Pigment Black 1, C.I. Pigment Black 7.

또한, 무기 안료로서는, 예를 들면 산화 티탄, 황산 바륨, 탄산 칼슘, 아연화, 황산 납, 황색 납, 아연황, 벵갈라(적색 산화철 (Ⅲ)), 카드뮴 레드, 군청, 감청, 산화 크롬 그린, 코발트 그린, 엄버, 티탄 블랙, 합성 철흑, 카본 블랙 등을 들 수 있다. Examples of the inorganic pigments include titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zinc oxide, lead sulfate, yellow lead, zinc sulfur, spinach (red iron oxide (III)), cadmium red, Green, umber, titanium black, synthetic iron black, and carbon black.

염료로서는, 각종의 유용성 염료, 직접 염료, 산성 염료, 금속 착체 염료 등 중으로부터 적절히 선택할 수 있고, 예를 들면 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.)명이 부착되어 있는 것을 들 수 있다. The dyes can be appropriately selected from among various kinds of oil-soluble dyes, direct dyes, acid dyes, metal complex dyes and the like, for example, those having the following color index (C.I.) names.

C.I. 솔벤트 옐로우 4, C.I. 솔벤트 옐로우 14, C.I. 솔벤트 옐로우 15, C.I. 솔벤트 옐로우 24, C.I. 솔벤트 옐로우 82, C.I. 솔벤트 옐로우 88, C.I. 솔벤트 옐로우 94, C.I. 솔벤트 옐로우 98, C.I. 솔벤트 옐로우 162, C.I. 솔벤트 옐로우 179;C.I. Solvent Yellow 4, C.I. Solvent Yellow 14, C.I. Solvent Yellow 15, C.I. Solvent Yellow 24, C.I. Solvent Yellow 82, C.I. Solvent Yellow 88, C.I. Solvent Yellow 94, C.I. Solvent Yellow 98, C.I. Solvent Yellow 162, C.I. Solvent Yellow 179;

C.I. 솔벤트 레드 45, C.I. 솔벤트 레드 49;C.I. Solvent Red 45, C.I. Solvent Red 49;

C.I. 솔벤트 오렌지 2, C.I. 솔벤트 오렌지 7, C.I. 솔벤트 오렌지 11, C.I. 솔벤트 오렌지 15, C.I. 솔벤트 오렌지 26, C.I. 솔벤트 오렌지 56;C.I. Solvent Orange 2, C.I. Solvent Orange 7, C.I. Solvent Orange 11, C.I. Solvent Orange 15, C.I. Solvent Orange 26, C.I. Solvent Orange 56;

C.I. 솔벤트 블루 35, C.I. 솔벤트 블루 37, C.I. 솔벤트 블루 59, C.I. 솔벤트 블루 67;C.I. Solvent Blue 35, C.I. Solvent Blue 37, C.I. Solvent Blue 59, C.I. Solvent Blue 67;

C.I. 애시드 옐로우 17, C.I. 애시드 옐로우 29, C.I. 애시드 옐로우 40, C.I. 애시드 옐로우 76;C.I. Acid Yellow 17, C.I. Acid Yellow 29, C.I. Acid Yellow 40, C.I. Acid Yellow 76;

C.I. 애시드 레드 91, C.I. 애시드 레드 92, C.I. 애시드 레드 97, C.I. 애시드 레드 114, C.I. 애시드 레드 138, C.I. 애시드 레드 151;C.I. Acid Red 91, C.I. Acid Red 92, C.I. Acid Red 97, C.I. Acid Red 114, C.I. Acid Red 138, C.I. Acid Red 151;

C.I. 애시드 오렌지 51, C.I. 애시드 오렌지 63;C.I. Acid Orange 51, C.I. Acid Orange 63;

C.I. 애시드 블루 80, C.I. 애시드 블루 83, C.I. 애시드 블루 90;C.I. Acid Blue 80, C.I. Acid Blue 83, C.I. Acid Blue 90;

C.I. 애시드 그린 9, C.I. 애시드 그린 16, C.I. 애시드 그린 25, C.I. 애시드 그린 27.C.I. Acid Green 9, C.I. Acid Green 16, C.I. Acid Green 25, C.I. Acid Green 27.

[C'] 기타 착색제는, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. [C '] Other coloring agents may be used alone or in combination of two or more.

당해 감방사선성 착색 조성물에 있어서의 [C] 착색제 및 [C'] 기타 착색제의 합계 함유량으로서는, 전체 고형분 100질량부에 대한 하한으로서, 5질량부가 바람직하고, 10질량부가 보다 바람직하고, 20질량부가 더욱 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는, 60질량부가 바람직하고, 50질량부가 보다 바람직하고, 40질량부가 더욱 바람직하다. 착색제의 합계 함유량을 이러한 범위로 함으로써, 착색제의 용출을 억제하면서, 충분히 착색된 패턴을 얻을 수 있다. The total content of the [C] coloring agent and the [C '] other coloring agent in the radiation sensitive coloring composition is preferably 5 parts by mass, more preferably 10 parts by mass, and more preferably 20 parts by mass as the lower limit to 100 parts by mass of the total solid content More preferred is the addition. On the other hand, the upper limit is preferably 60 parts by mass, more preferably 50 parts by mass, still more preferably 40 parts by mass. By setting the total content of the coloring agent to this range, it is possible to obtain a sufficiently colored pattern while suppressing the elution of the coloring agent.

<그 외의 임의 성분>&Lt; Other optional components &gt;

당해 감방사선성 착색 조성물은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 필요에 따라서 티올계 화합물, 다관능 아크릴레이트, 환상 에테르기를 갖는 화합물, 계면활성제, 밀착 조제, 분산제, 분산 조제, 용매 등의 그 외의 임의 성분을 함유해도 좋다. 그 외의 임의 성분은, 각각 단독으로 사용해도 2종 이상을 병용해도 좋다. 이하, 각 성분에 대해서 상술한다. The radiation-sensitive coloring composition may contain a thiol compound, a polyfunctional acrylate, a compound having a cyclic ether group, a surfactant, an adhesion aid, a dispersant, a dispersion aid, a solvent, etc. May also contain other optional components. The other optional components may be used singly or in combination of two or more. Each component will be described in detail below.

<티올계 화합물><Thiol compound>

티올계 화합물은, 티올기(메르캅토기)를 갖는 화합물이다. 티올계 화합물로서는, 1분자 중에 2개 이상의 메르캅토기를 갖는 화합물이 바람직하다. 이러한 화합물로서는, 예를 들면 하기식 (10)으로 나타나는 화합물을 들 수 있다. The thiol compound is a compound having a thiol group (mercapto group). As the thiol compound, a compound having two or more mercapto groups in one molecule is preferable. Such a compound includes, for example, a compound represented by the following formula (10).

Figure pat00008
Figure pat00008

식 (10) 중, R33은, 메틸렌기 또는 탄소수 2∼10의 알킬렌기이다. 단, 이들 기가 갖는 수소 원자의 일부 또는 전부는 알킬기로 치환되어 있어도 좋다. Y1은, 단결합, -CO- 또는 -O-CO-*이다. 단, *를 붙인 결합손이 R33과 결합한다. n은 2∼10의 정수이다. A1은, 1개 또는 복수개의 에테르 결합을 갖고 있어도 좋은 탄소수 2∼70의 n가의 탄화수소기, 또는, n이 3인 경우, 하기식 (11)로 나타나는 기이다. In the formula (10), R 33 is a methylene group or an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms. However, some or all of the hydrogen atoms of these groups may be substituted with an alkyl group. Y 1 is a single bond, -CO- or -O-CO- *. However, a combined hand with an asterisk (*) is combined with R 33 . n is an integer of 2 to 10; A 1 is an n-valent hydrocarbon group of 2 to 70 carbon atoms which may have one or more ether bonds, or when n is 3, a group represented by the following formula (11).

Figure pat00009
Figure pat00009

상기식 (11) 중, R34∼R36은, 각각 독립적으로, 메틸렌기 또는 탄소수 2∼6의 알킬렌기이다. 「*」는, 결합손이다. In the formula (11), R 34 to R 36 each independently represent a methylene group or an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. "*" Is a combined hand.

상기식 (10)으로 나타나는 화합물로서는, 전형적으로는 메르캅토카본산과 다가 알코올과의 에스테르화물 등을 들 수 있다. 에스테르화물을 구성하는 메르캅토카본산으로서는, 예를 들면 티오글리콜산, 3-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토부탄산, 3-메르캅토펜탄산 등을 들 수 있다. 에스테르화물을 구성하는 다가 알코올로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 테트라에틸렌글리콜, 디펜타에리트리톨, 1,4-부탄디올, 펜타에리트리톨 등을 들 수 있다. Typical examples of the compound represented by the formula (10) include esters of mercaptocarboxylic acid and polyhydric alcohol. Examples of the mercaptocarboxylic acid constituting the esterified product include thioglycolic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutanoic acid and 3-mercaptopentanoic acid. Examples of the polyhydric alcohol constituting the esterified product include ethylene glycol, propylene glycol, trimethylol propane, pentaerythritol, tetraethylene glycol, dipentaerythritol, 1,4-butanediol and pentaerythritol.

상기식 (10)으로 나타나는 화합물로서는, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(티오글리콜레이트), 1,4-비스(3-메르캅토부티릴옥시)부탄, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토펜틸레이트) 및, 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온이 바람직하다. Examples of the compound represented by the formula (10) include trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, pentaerythritol tetra (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopentylate) and 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine- 2,4,6 (1H, 3H, 5H) -tione is preferred.

1분자 중에 2개 이상의 메르캅토기를 갖는 티올계 화합물로서는, 하기식 (12) 또는 식 (13)으로 나타나는 화합물을 이용할 수도 있다. As the thiol compound having two or more mercapto groups in one molecule, a compound represented by the following formula (12) or (13) may be used.

 

Figure pat00010
 
Figure pat00010

Figure pat00011
Figure pat00011

상기식 (12) 중, R41은, 메틸렌기 또는 탄소수 2∼20의 알킬렌기이다. R42는, 메틸렌기 또는 탄소수 2∼6의 알킬렌기이다. k는, 1∼20의 정수이다. In the formula (12), R 41 is a methylene group or an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms. R 42 is a methylene group or an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. k is an integer of 1 to 20;

상기식 (13) 중, R43∼R46은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기 또는 하기식 (14)로 나타나는 기이다. 단, R43∼R46의 적어도 1개는 하기식 (14)로 나타나는 기이다. In the above formula (13), R 43 to R 46 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group or a group represented by the following formula (14). Provided that at least one of R 43 to R 46 is a group represented by the following formula (14).

Figure pat00012
Figure pat00012

상기식 (14) 중, R47은, 메틸렌기 또는 탄소수 2∼6의 알킬렌기이다. In the above formula (14), R 47 is a methylene group or an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.

티올계 화합물은, 1종 또는 2종 이상의 화합물을 혼합하여 사용할 수 있다. 당해 감방사선성 착색 조성물에 있어서의 티올계 화합물의 함유량의 하한으로서는, [A] 중합체 100질량부에 대하여, 0.5질량부가 바람직하고, 1질량부가 보다 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는, 20질량부가 바람직하고, 15질량부가 보다 바람직하다. 티올계 화합물의 함유량이 상기 하한 미만의 경우는 경화성 향상의 효과가 충분히 얻어지지 않고, 상기 상한을 초과하는 경우는 패턴 형상이 손상될 우려가 있다. The thiol compound may be used alone or in combination of two or more. The lower limit of the content of the thiol compound in the radiation-sensitive coloring composition is preferably 0.5 parts by mass, more preferably 1 part by mass, per 100 parts by mass of the polymer [A]. On the other hand, the upper limit is preferably 20 parts by mass, more preferably 15 parts by mass. If the content of the thiol compound is less than the above lower limit, the effect of improving the curability is not sufficiently obtained, and if it exceeds the upper limit, the pattern shape may be damaged.

<다관능 아크릴레이트><Polyfunctional acrylate>

당해 감방사선성 착색 조성물에 다관능 아크릴레이트가 함유됨으로써, 얻어지는 패턴의 경도를 높이는 것 등을 할 수 있다. 다관능 아크릴레이트로서는, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시폴리에톡시페닐)프로판, 2-하이드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 프탈산 디글리시딜에스테르디(메타)아크릴레이트, 글리세린트리아크릴레이트, 글리세린폴리글리시딜에테르폴리(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트(즉, 톨릴렌디이소시아네이트), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트와 헥사메틸렌디이소시아네이트와 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트와의 반응물, 메틸렌비스(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드메틸렌에테르, 다가 알코올과 N-메틸올(메타)아크릴아미드와의 축합물 등의 다관능 모노머나, 트리아크릴포멀 등을 들 수 있다. 이들 다관능 아크릴레이트는, 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다. It is possible to increase the hardness of the obtained pattern by containing the polyfunctional acrylate in the radiation sensitive coloring composition. Examples of polyfunctional acrylates include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol Bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxyphenyl (meth) acrylate, (Meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethyleneglycol diglycidylether di (meth) acrylate, diethyleneglycol diglycidylether di (meth) acrylate, phthalic acid diglyme (Meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (i.e., tolylene diisocyanate), trimethylhexamethylene diisocyanate and hexamethylene A reaction product of a diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, a condensation product of methylene bis (meth) acrylamide, (meth) acrylamide methylene ether, polyhydric alcohol and N-methylol (meth) Of It may include a functional monomer, or an acrylic conformal tree or the like. These polyfunctional acrylates may be used alone or in combination of two or more.

다관능 아크릴레이트의 함유량의 하한으로서는, [A] 중합체 100질량부에 대하여, 10질량부가 바람직하고, 30질량부가 보다 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는, 200질량부가 바람직하고, 150질량부가 보다 바람직하다. 다관능 아크릴레이트의 함유량을 이러한 범위로 함으로써, 얻어지는 패턴의 경도를 보다 높일 수 있음과 동시에, 당해 감방사선성 착색 조성물의 방사선 감도를 높일 수 있다. The lower limit of the content of the polyfunctional acrylate is preferably 10 parts by mass, more preferably 30 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymer [A]. On the other hand, the upper limit is preferably 200 parts by mass, more preferably 150 parts by mass. By setting the content of the polyfunctional acrylate within this range, it is possible to further increase the hardness of the obtained pattern and to increase the radiation sensitivity of the radiation sensitive coloring composition.

<환상 에테르기를 갖는 화합물>&Lt; Compound having cyclic ether group &gt;

환상 에테르기를 갖는 화합물은, 환상 에테르기를 갖고, 또한 [A] 중합체 이외의 화합물(예를 들면 분자량 1,000 이하의 저분자량 화합물)이다. 당해 감방사선성 착색 조성물은, 환상 에테르기를 갖는 화합물을 함유함으로써, [A] 중합체 등의 가교를 촉진하여, 얻어지는 패턴의 경도를 보다 높일 수 있음과 동시에, 당해 감방사선성 착색 조성물의 방사선 감도를 높일 수 있다. The compound having a cyclic ether group has a cyclic ether group and is a compound other than the [A] polymer (e.g., a low molecular weight compound having a molecular weight of 1,000 or less). The present radiation-sensitive coloring composition contains a compound having a cyclic ether group, thereby accelerating the crosslinking of the [A] polymer or the like, and can further increase the hardness of the obtained pattern, and the radiation sensitivity of the radiation- .

환상 에테르기를 갖는 화합물로서는, 분자 내에 2개 이상의 에폭시기(옥시라닐기, 옥세타닐기 등)를 갖는 화합물이 바람직하다. As the compound having a cyclic ether group, a compound having two or more epoxy groups (oxirane group, oxetanyl group, etc.) in the molecule is preferable.

분자 내에 2개 이상의 옥시라닐기를 갖는 화합물로서는, 예를 들면As the compound having two or more oxiranyl groups in the molecule, for example,

비스페놀 A 디글리시딜에테르, 비스페놀 F 디글리시딜에테르, 비스페놀 S 디글리시딜에테르, 수소 첨가 비스페놀 A 디글리시딜에테르, 수소 첨가 비스페놀 F 디글리시딜에테르, 수소 첨가 비스페놀 AD 디글리시딜에테르 등의 비스페놀형 디글리시딜에테르류;Bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol AD diglyme Bisphenol-type diglycidyl ethers such as cidyl ether;

1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르 등의 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르류;1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylol propane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, Polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols such as cidyl ether;

에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 글리세린 등의 지방족 다가 알코올에 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 폴리에테르폴리올의 폴리글리시딜에테르류;Polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol and glycerin;

지방족 장쇄 2염기산의 디글리시딜에스테르류;Diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids;

고급 지방산의 글리시딜에스테르류;Glycidyl esters of higher fatty acids;

지방족 폴리글리시딜에테르류;Aliphatic polyglycidyl ethers;

에폭시화 대두유, 에폭시화 아마인유 등을 들 수 있다. 이들 환상 에테르기를 갖는 화합물은, 단독으로 사용해도 2종 이상을 병용해도 좋다. Epoxidized soybean oil, and epoxidized linseed oil. These cyclic ether group-containing compounds may be used singly or in combination of two or more kinds.

분자 내에 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 환상 에테르기를 갖는 화합물로서는, 예를 들면 이소프탈산 비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메틸], 1,4-비스[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]벤젠, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 디[1-에틸-(3-옥세타닐)메틸]에테르(별명: 비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르), 3,7-비스(3-옥세타닐)-5-옥사-노난, 3,3'-[1,3-(2-메틸레닐)프로판디일비스(옥시메틸렌)]비스-(3-에틸옥세탄), 1,2-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에탄, 1,3-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]프로판, 에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디사이클로펜테닐비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리사이클로데칸디일디메틸렌(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리메틸올프로판트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 1,4-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)부탄, 자일렌비스옥세탄, 1,6-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)헥산, 펜타에리트리톨트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타에리트리톨테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 폴리에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨헥사키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨펜타키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디트리메틸올프로판테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 비스페놀 A 비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, PO 변성 비스페놀 A 비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 수소 첨가 비스페놀 A 비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, PO 변성 수소 첨가 비스페놀 A 비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 비스페놀 F (3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르 등을 들 수 있다. Examples of the compound having a cyclic ether group having two or more oxetanyl groups in the molecule include isophthalic acid bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methyl], 1,4-bis [ (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) benzene, di [1-ethyl- (3-oxetanyl) methyl] (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 3,7-bis (3-oxetanyl) (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ethane, 1,3-bis [(3-ethyloxetane) (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenylbis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether , Triethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetraethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tricyclodecanediyldimethylene (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) butane, xylenebisoxetane, 1 (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, trimethylolpropane tris (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) hexane, pentaerythritol tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol pentaquis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol hexaquis -Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol hexakis Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol pentaquis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ditrimethylolpropane tetrakis Bisphenol (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, PO-modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, EO-modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, PO-modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether and EO modified bisphenol F (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether.

환상 에테르기를 갖는 화합물의 함유량의 하한으로서는, [A] 중합체 100질량부에 대하여, 0.5질량부가 바람직하고, 1질량부가 보다 바람직하고, 10질량부가 더욱 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는, 통상 150질량부이고, 100질량부가 바람직하고, 50질량부가 보다 바람직하고, 25질량부가 더욱 바람직하다. 환상 에테르기를 갖는 화합물의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 얻어지는 패턴의 경도를 보다 높일 수 있다. The lower limit of the content of the cyclic ether group-containing compound is preferably 0.5 part by mass, more preferably 1 part by mass, further preferably 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymer [A]. On the other hand, the upper limit is usually 150 parts by mass, preferably 100 parts by mass, more preferably 50 parts by mass, further preferably 25 parts by mass. When the content of the compound having a cyclic ether group is within the above range, the hardness of the obtained pattern can be further increased.

<계면활성제><Surfactant>

계면활성제는, 당해 감방사선성 착색 조성물의 도막 형성성을 높이는 성분이다. 당해 감방사선성 착색 조성물은, 계면활성제를 함유함으로써, 도막의 표면 평활성을 향상시킬 수 있고, 그 결과, 얻어지는 패턴(경화막)의 막두께 균일성을 향상시킬 수 있다. The surfactant is a component for enhancing the film-forming property of the radiation-sensitive coloring composition. The radiation sensitive coloring composition can improve the surface smoothness of the coating film by containing a surfactant, and as a result, the film thickness uniformity of the resulting pattern (cured film) can be improved.

계면활성제로서는, 예를 들면 불소계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들 계면활성제는, 단독으로 사용해도 2종 이상을 병용해도 좋다. Examples of the surfactant include fluorine surfactants and silicone surfactants. These surfactants may be used singly or in combination of two or more kinds.

계면활성제의 함유량의 하한으로서는, [A] 중합체 100질량부에 대하여, 0.01질량부가 바람직하고, 0.05질량부가 보다 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는, 통상 3질량부이고, 2질량부가 바람직하고, 1질량부가 보다 바람직하다. 계면활성제의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 형성되는 도막의 막두께 균일성을 보다 향상시킬 수 있다. The lower limit of the content of the surfactant is preferably 0.01 parts by mass, more preferably 0.05 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymer [A]. On the other hand, the upper limit is usually 3 parts by mass, preferably 2 parts by mass, more preferably 1 part by mass. When the content of the surfactant is within the above range, the uniformity of the film thickness of the formed coating film can be further improved.

<밀착 조제><Adhesion preparation>

밀착 조제는, 기판 등의 패턴 형성 대상물과 패턴(경화막)과의 접착성을 향상시키는 성분이다. 밀착 조제는, 특히 무기물의 기판과 경화막과의 접착성을 향상시키기 위해 유용하다. 무기물로서는, 예를 들면 실리콘, 산화 실리콘, 질화 실리콘 등의 실리콘 화합물, 금, 구리, 알루미늄 등의 금속 등을 들 수 있다. The adhesion assistant is a component for improving adhesion between a pattern forming object such as a substrate and a pattern (cured film). The adhesion aid is particularly useful for improving the adhesion between the inorganic substrate and the cured film. Examples of the inorganic substance include silicon compounds such as silicon, silicon oxide and silicon nitride, and metals such as gold, copper and aluminum.

밀착 조제로서는, 관능성 실란 커플링제가 바람직하다. 이 관능성 실란 커플링제로서는, 예를 들면 카복시기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기(바람직하게는 옥시라닐기), 티올기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제 등을 들 수 있다. 이들 밀착 조제는, 단독으로 사용해도 2종 이상을 병용해도 좋다. 관능성 실란 커플링제로서는, 예를 들면 트리메톡시실릴벤조산, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시실란, γ-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필알킬디알콕시실란, γ-클로로프로필트리알콕시실란, γ-메르캅토프로필트리알콕시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 관능성 실란 커플링제로서는, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필알킬디알콕시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 및, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란이 바람직하다. As the adhesion aid, a functional silane coupling agent is preferred. Examples of the functional silane coupling agent include a silane coupling agent having a reactive substituent such as a carboxy group, a methacryloyl group, an isocyanate group, an epoxy group (preferably an oxiranyl group), and a thiol group. These adhesion aids may be used alone or in combination of two or more. Examples of the functional silane coupling agent include trimethoxysilylbenzoic acid,? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane,? -Isocyanatepropyltriethoxysilane,? - Glycidoxypropyltrimethoxysilane, gamma -glycidoxypropylalkyldialkoxysilane,? -Chloropropyltrialkoxysilane,? -Mercaptopropyltrialkoxysilane,? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl tri Methoxysilane and the like. Among them, examples of the functional silane coupling agent include? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane,? -Glycidoxypropylalkyldialkoxysilane,? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, gamma -methacryloxypropyltrimethoxysilane is preferable.

밀착 조제의 함유량의 하한으로서는, [A] 중합체 100질량부에 대하여, 0.5질량부가 바람직하고, 1질량부가 보다 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는, 통상 30질량부이고, 20질량부가 바람직하고, 10질량부가 보다 바람직하다. 밀착 조제의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 형성되는 패턴과 기판과의 밀착성이 보다 개선된다. The lower limit of the content of the adhesion promoter is preferably 0.5 parts by mass, more preferably 1 part by mass, per 100 parts by mass of the polymer [A]. On the other hand, the upper limit is usually 30 parts by mass, preferably 20 parts by mass, more preferably 10 parts by mass. By setting the content of the adhesion aid within the above range, the adhesion between the formed pattern and the substrate is further improved.

<분산제><Dispersant>

분산제 및 후술하는 분산 조제를 이용함으로써, [C] 착색제 등의 분산 안정성 등을 높일 수 있다. 상기 분산제로서는, 예를 들면 양이온계, 음이온계, 비이온계 등의 적절한 분산제를 사용할 수 있지만, 폴리머 분산제가 바람직하다. 구체적으로는, 아크릴계 공중합체, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리에틸렌이민, 폴리알릴아민 등을 들 수 있다. By using a dispersant and a dispersion aid to be described later, the dispersion stability of [C] colorant and the like can be enhanced. As the dispersing agent, for example, a suitable dispersing agent such as cationic, anionic and nonionic ones can be used, but a polymer dispersing agent is preferable. Specific examples thereof include acrylic copolymers, polyurethanes, polyesters, polyethyleneimines, polyallylamines, and the like.

이러한 분산제는 상업적으로 입수할 수 있으며, 예를 들면 아크릴계 공중합체로서, 빅케미(BYK)사 제조의 「Disperbyk-2000」, 「Disperbyk-2001」, 「BYK-LPN6919」, 「BYK-LPN21116」, 폴리우레탄으로서, 빅케미(BYK)사 제조의 「Disperbyk-161」, 「Disperbyk-162」, 「Disperbyk-165」, 「Disperbyk-167」, 「Disperbyk-170」, 「Disperbyk-182」, 루브리졸사 제조의 「솔스퍼스(SOLSPERSE) 76500」, 폴리에틸렌이민으로서, 루브리졸사 제조의 「솔스퍼스 24000」, 폴리에스테르로서, 아지노모토 파인 테크노사 제조의 「아지스퍼(AJISPER)-PB821」, 「아지스퍼-PB822」, 「아지스퍼-PB880」 등을 들 수 있다. These dispersants are commercially available and include, for example, acrylic copolymers such as "Disperbyk-2000", "Disperbyk-2001", "BYK-LPN6919", "BYK-LPN21116" Disperbyk-161, Disperbyk-162, Disperbyk-165, Disperbyk-167, Disperbyk-170, Disperbyk-182, SOLSPERSE 76500 &quot; manufactured by JSR Corporation, &quot; SOL SPRUS 24000 &quot; manufactured by Lubrizol Corporation as a polyethyleneimine, AJISPER-PB821 manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., -PB822 &quot;, &quot; Ajisper-PB880 &quot;, and the like.

이들 분산제는, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. These dispersants may be used alone or in combination of two or more.

분산제의 함유량의 하한으로서는, [C] 착색제(고형분) 100질량부에 대하여, 1질량부가 바람직하고, 10질량부가 보다 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는, 통상 100질량부이고, 70질량부가 바람직하고, 50질량부가 보다 바람직하다. 분산제의 함유량이 지나치게 많으면, 현상성 등이 손상될 우려가 있다. The lower limit of the content of the dispersant is preferably 1 part by mass, more preferably 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the [C] colorant (solid content). On the other hand, the upper limit is usually 100 parts by mass, preferably 70 parts by mass, more preferably 50 parts by mass. If the content of the dispersing agent is too large, there is a possibility that developability and the like are damaged.

<분산 조제>&Lt; Dispersing agent &

상기 분산 조제로서는, 예를 들면 안료 유도체를 들 수 있고, 구체적으로는, 구리 프탈로시아닌, 디케토피롤로피롤, 퀴노프탈론의 술폰산 유도체 등을 들 수 있다. 또한, 분산 조제의 함유량은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위 내에서 적절히 결정하는 것이 가능하다. Examples of the dispersing aid include pigment derivatives, specifically, copper phthalocyanine, diketopyrrolopyrrole, and sulfonic acid derivatives of quinophthalone. The content of the dispersing aid can be suitably determined within a range not hindering the object of the present invention.

<감방사선성 착색 조성물의 조제 방법>&Lt; Preparation method of a radiation-sensitive coloring composition &gt;

당해 감방사선성 착색 조성물은, 통상, 용매에 [A] 중합체, [B] 광중합 개시제, [C] 착색제 및, 필요에 따라서 다른 임의 성분을 혼합함으로써 용해 또는 분산시킨 상태로 조제된다. 또한, [C] 착색제, 분산제, 용매(분산매) 등을 포함하는 분산액을 조제한 후, 이 분산액을 다른 성분과 혼합함으로써 조제해도 좋다. The radiation-sensitive coloring composition is usually prepared by dissolving or dispersing the [A] polymer, the [B] photopolymerization initiator, the [C] colorant and, if necessary, other optional components in a solvent. The dispersion may be prepared by preparing a dispersion containing [C] a colorant, a dispersant, a solvent (dispersion medium) and the like, and then mixing the dispersion with other components.

<용매><Solvent>

용매로서는, 당해 감방사선성 착색 조성물 중의 각 성분을 균일하게 용해 또는 분산하고, 각 성분과 반응하지 않는 것이 적합하게 이용된다. 이러한 용매로서는, 알코올류, 에테르류, 글리콜에테르, 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜알킬에테르, 프로필렌글리콜모노알킬에테르, 프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노알킬에테르프로피오네이트, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 기타 에스테르류 등을 들 수 있다. 용매로서는, 일본공개특허공보 2011-232632호에 기재된 용매를 이용할 수 있다. The solvent is suitably used so that each component in the radiation-sensitive coloring composition is uniformly dissolved or dispersed and does not react with each component. Examples of such solvents include alcohols, ethers, glycol ethers, ethylene glycol alkyl ether acetates, diethylene glycol alkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ether acetates, propylene glycol monoalkyl ether propionates, aromatic hydrocarbons , Ketones, and other esters. As the solvent, a solvent described in JP-A-2011-232632 can be used.

<착색 패턴의 형성 방법>&Lt; Method of Forming Coloring Pattern &gt;

당해 감방사선성 착색 조성물은, 액정 표시 소자의 패턴(경화막)의 형성용으로서 바람직하다. 또한, 본 발명에는 당해 감방사선성 착색 조성물로 형성되는 착색 패턴이 적합하게 포함된다. Such a radiation-sensitive coloring composition is preferable for forming a pattern (cured film) of a liquid crystal display element. In addition, the present invention preferably includes a coloring pattern formed from the radiation-sensitive coloring composition.

본 발명의 착색 패턴의 형성 방법은, The method for forming a coloring pattern of the present invention is characterized in that,

(1) 당해 감방사선성 착색 조성물을 이용하여, 기판 상에 도막을 형성하는 공정,(1) a step of forming a coating film on a substrate using the radiation sensitive coloring composition,

(2) 상기 도막의 일부에 방사선을 조사하는 공정,(2) a step of irradiating a part of the coating film with radiation,

(3) 상기 방사선이 조사된 도막을 현상하는 공정 및,(3) a step of developing the coating film irradiated with the radiation, and

(4) 상기 현상된 도막을 가열하는 공정을 구비한다. (4) heating the developed coating film.

본 발명의 형성 방법에 의하면, 액정층의 오염이 억제된, 전압 보전율 등이 우수한 표시 소자용의 착색 패턴을 형성할 수 있다. 이하, 각 공정을 상술한다. According to the forming method of the present invention, it is possible to form a coloring pattern for a display element in which contamination of the liquid crystal layer is suppressed and which has excellent voltage holding ratio and the like. Hereinafter, each process will be described in detail.

[공정 (1)][Step (1)]

본 공정에서는, 투명 기판의 편면에 투명 도전막을 형성하고, 이 투명 도전막 위에 당해 감방사선성 착색 조성물의 도막을 형성한다. 투명 기판으로서는, 예를 들면 소다 라임 유리, 무알칼리 유리 등의 유리 기판, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트, 폴리이미드 등의 플라스틱으로 이루어지는 수지 기판 등을 들 수 있다. In this step, a transparent conductive film is formed on one surface of the transparent substrate, and a coating film of the radiation sensitive coloring composition is formed on the transparent conductive film. Examples of the transparent substrate include glass substrates such as soda lime glass and alkali-free glass, resin substrates made of plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether sulfone, polycarbonate, and polyimide .

투명 기판의 일면에 형성되는 투명 도전막으로서는, 산화 주석(SnO2)으로 이루어지는 NESA막(미국 PPG사의 등록상표), 산화 인듐-산화 주석(In2O3-SnO2)으로 이루어지는 ITO막 등을 들 수 있다. As the transparent conductive film formed on one surface of the transparent substrate, an ITO film made of a NESA film (registered trademark of PPG Corporation, USA) or indium oxide-tin oxide (In 2 O 3 -SnO 2 ) made of tin oxide (SnO 2 ) .

도포법에 의해 도막을 형성하는 경우, 상기 투명 도전막 위에 당해 감방사선성 착색 조성물의 용액을 도포한 후, 바람직하게는 도포면을 가열(프리베이킹)함으로써, 도막을 형성할 수 있다. 도포법에 이용하는 조성물 용액의 고형분 농도로서는, 5질량% 이상 50질량% 이하가 바람직하다. 당해 감방사선성 착색 조성물의 도포 방법으로서는, 예를 들면 스프레이법, 롤 코팅법, 회전 도포법(스핀 코팅법), 슬릿 도포법(슬릿 다이 도포법), 바 도포법, 잉크젯 도포법 등의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 이들 중, 스핀 코팅법 및 슬릿 도포법이 바람직하다. When a coating film is formed by a coating method, a coating film can be formed by applying a solution of the radiation-sensitive coloring composition on the transparent conductive film, and then preferably heating (prebaking) the coating surface. The solid content concentration of the composition solution used in the coating method is preferably 5 mass% or more and 50 mass% or less. Examples of the application method of the radiation sensitive coloring composition include a spraying method, a roll coating method, a rotary coating method (spin coating method), a slit coating method (slit die coating method), a bar coating method, Method can be adopted. Among them, the spin coating method and the slit coating method are preferable.

상기 프리베이킹의 조건으로서는, 각 성분의 종류, 배합 비율 등에 따라 상이하지만, 70℃ 이상 120℃ 이하, 1분 이상 15분 이하 정도이다. 도막의 프리베이킹 후의 평균 막두께는, 0.5㎛ 이상 10㎛ 이하가 바람직하다. The conditions for the pre-baking vary depending on the kind of each component, the mixing ratio, and the like, but are about 70 ° C or more and 120 ° C or less and about 1 minute or more and about 15 minutes or less. The average film thickness of the coating film after prebaking is preferably 0.5 탆 or more and 10 탆 or less.

[공정 (2)][Step (2)]

본 공정에서는, 형성된 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사한다. 이때, 도막의 일부에만 조사할 때에는, 예를 들면 소정의 패턴을 갖는 포토마스크를 개재하여 조사하는 방법에 의할 수 있다. In this step, at least a part of the formed coating film is irradiated with radiation. At this time, when irradiating only a part of the coated film, for example, a method of irradiating with a photomask having a predetermined pattern may be employed.

조사에 사용되는 방사선으로서는, 가시광선, 자외선, 원자외선 등을 들 수 있다. 이 중 파장이 250㎚ 이상 550㎚ 이하의 범위에 있는 방사선이 바람직하고, 365㎚의 자외선을 포함하는 방사선이 보다 바람직하다. Examples of the radiation used for the irradiation include visible light, ultraviolet light, and far ultraviolet light. Among them, radiation having a wavelength in the range of 250 nm to 550 nm is preferable, and radiation containing ultraviolet light of 365 nm is more preferable.

방사선 조사량(노광량)의 하한은, 조사되는 방사선의 파장 365㎚에 있어서의 강도를 조도계(OAI model 356, Optical Associates Inc. 제조)에 의해 측정한 값으로서, 100J/㎡가 바람직하고, 200J/㎡가 보다 바람직하다. 이 상한으로서는, 5,000J/㎡가 바람직하고, 3,000J/㎡가 보다 바람직하다. The lower limit of the irradiation dose (exposure dose) is preferably 100 J / m 2, preferably 200 J / m 2, as measured by a light meter (OAI model 356, manufactured by Optical Associates Inc.) Is more preferable. The upper limit is preferably 5,000 J / m 2, more preferably 3,000 J / m 2.

[공정 (3)][Step (3)]

본 공정에서는, 방사선 조사 후의 도막을 현상함으로써, 불필요한 부분을 제거하여, 소정의 패턴을 형성한다. 현상에 사용되는 현상액으로서는, 예를 들면 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨 등의 무기 알칼리, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드 등의 4급 암모늄염 등의 알칼리성 화합물의 수용액을 들 수 있다. 상기 알칼리성 화합물의 수용액에는, 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용매 및/또는 계면활성제를 적당량 첨가해도 좋다. In this step, unnecessary portions are removed by developing the coated film after irradiation with radiation to form a predetermined pattern. Examples of the developing solution used in the development include aqueous solutions of alkaline compounds such as inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and sodium carbonate, and quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide. have. To the aqueous solution of the alkaline compound, an appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol and ethanol and / or a surfactant may be added.

현상 방법으로서는, 퍼들법, 디핑법, 샤워법 등 중 어느 것이라도 좋고, 현상 시간은, 상온에서 10초 이상 180초 이하 정도가 바람직하다. 현상 처리에 이어서, 예를 들면, 유수 세정을 30초 이상 90초 이하 정도 행한 후, 압축 공기나 압축 질소로 풍건함으로써 소망하는 패턴이 얻어진다. As the developing method, any of a puddle method, a dipping method, and a shower method may be used, and the developing time is preferably 10 seconds or more and 180 seconds or less at room temperature. Following the developing treatment, for example, water washing is carried out for about 30 seconds to 90 seconds, followed by air drying with compressed air or compressed nitrogen to obtain a desired pattern.

[공정 (4)][Step (4)]

본 공정에서는, 얻어진 패턴 형상 도막을 핫 플레이트, 오븐 등의 적당한 가열 장치로 가열함으로써 표시 소자용 경화막(착색 패턴)을 얻는다. 가열 온도로서는, 100℃ 이상 250℃ 이하 정도이다. 가열 시간으로서는, 예를 들면 핫 플레이트 상에서는 5분 이상 30분 이하, 오븐에서는 20분 이상 180분 이하 정도이다. In this step, the resulting patterned coating film is heated with a suitable heating apparatus such as a hot plate or an oven to obtain a cured film for a display element (coloring pattern). The heating temperature is about 100 ° C or more and 250 ° C or less. The heating time is, for example, from 5 minutes to 30 minutes on a hot plate, and from 20 minutes to 180 minutes in an oven.

<표시 소자의 제조 방법><Manufacturing Method of Display Element>

본 발명에는, 당해 착색 패턴을 구비하는 액정 표시 소자도 적합하게 포함된다. 액정 표시 소자의 제조 방법으로서는, 우선 편면에 투명 도전막(전극)을 갖는 투명 기판을 한 쌍(2매) 준비하고, 그 중의 1매의 기판의 투명 도전막 상에, 당해 감방사선성 착색 조성물을 이용하여, 전술의 방법에 따라 스페이서 혹은 보호막 또는 그 쌍방을 형성한다. 이어서, 이들 기판의 투명 도전막 및 스페이서 또는 보호막 상에 액정 배향능을 갖는 배향막을 형성한다. 이들 기판을, 그 배향막이 형성된 측의 면을 내측으로 하여, 각각의 배향막의 액정 배향 방향이 직교 또는 역평행이 되도록 일정한 간극(셀 갭)을 개재하여 대향 배치하고, 기판의 표면(배향막) 및 스페이서에 의해 구획된 셀 갭 내에 액정층이 되는 액정을 충전하고, 충전 구멍을 봉지하여 액정 셀을 구성한다. 그리고, 액정 셀의 양 외표면에, 편광판을, 그 편광 방향이 당해 기판의 일면에 형성된 배향막의 액정 배향 방향과 일치 또는 직교하도록 접합함으로써, 본 발명의 액정 표시 소자가 얻어진다. In the present invention, a liquid crystal display element having such a coloring pattern is also suitably included. As a method for producing a liquid crystal display element, a pair of transparent substrates (transparent electrodes) having a transparent conductive film (electrode) on one surface thereof are first prepared, and a transparent conductive film A spacer, a protective film, or both are formed according to the above-described method. Then, an alignment film having a liquid crystal aligning ability is formed on the transparent conductive film and the spacer or the protective film of these substrates. These substrates were placed face to face with a certain gap (cell gap) so that the liquid crystal alignment directions of the respective alignment films were orthogonal or anti-parallel with the side of the side on which the alignment film was formed as the inside, The liquid crystal serving as the liquid crystal layer is filled in the cell gap defined by the spacer, and the filling hole is sealed to constitute the liquid crystal cell. The liquid crystal display element of the present invention is obtained by joining a polarizing plate on both outer surfaces of the liquid crystal cell so that the polarizing direction thereof coincides with or orthogonal to the liquid crystal alignment direction of the alignment film formed on one side of the substrate.

다른 방법으로서는, 상기 방법과 동일하게 하여 투명 도전막과, 층간 절연막, 보호막 또는 스페이서와, 배향막을 형성한 한 쌍의 투명 기판을 준비한다. 그 후 한쪽의 기판의 단부를 따라, 디스펜서를 이용하여 자외선 경화형 시일제를 도포하고, 이어서 액정 디스펜서를 이용하여 미소 액적 형상으로 액정층이 되는 액정을 적하하고, 진공하에서 양 기판의 접합을 행한다. 그리고, 상기의 시일제부에, 고압 수은 램프를 이용하여 자외선을 조사하여 양 기판을 봉지한다. 마지막으로, 액정 셀의 양 외표면에 편광판을 접합함으로써, 본 발명의 액정 표시 소자가 얻어진다. As another method, a pair of transparent substrates on which a transparent conductive film, an interlayer insulating film, a protective film or a spacer, and an orientation film are formed is prepared in the same manner as the above method. Thereafter, an ultraviolet curable sealant is applied using a dispenser along the edge of one of the substrates, and liquid crystal serving as a liquid crystal layer is dropped in a microdroplet using a liquid crystal dispenser, and bonding of both substrates is performed under vacuum. Then, ultraviolet rays are irradiated to the seal portion using a high-pressure mercury lamp, and both substrates are sealed. Finally, the polarizing plate is bonded to both outer surfaces of the liquid crystal cell to obtain the liquid crystal display element of the present invention.

상기의 각 방법에 있어서 사용되는 액정으로서는, 예를 들면 네마틱형 액정, 스멕틱형 액정 등을 들 수 있다. 또한, 액정 셀의 외측에 사용되는 편광판으로서는, 폴리비닐알코올을 연신 배향시키면서, 요오드를 흡수시킨 「H막」이라고 불리는 편광막을 아세트산 셀룰로오스 보호막으로 사이에 끼운 편광판, H막 그 자체로 이루어지는 편광판 등을 들 수 있다. Examples of the liquid crystal used in each of the above methods include a nematic liquid crystal and a smectic liquid crystal. As the polarizing plate used for the outside of the liquid crystal cell, a polarizing plate in which a polarizing film called &quot; H film &quot;, in which iodine is absorbed, in which polyvinyl alcohol is stretched and oriented is sandwiched by a cellulose acetate protective film, .

(실시예)(Example)

이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은, 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 중합체의 중량 평균 분자량(Mw)은, 이하의 방법에 의해 측정했다. Hereinafter, the present invention will be described concretely with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer was measured by the following method.

[중량 평균 분자량 (Mw)][Weight average molecular weight (Mw)]

하기 조건하, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정했다. Was measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions.

장치: 쇼와덴코사의 「GPC-101」Device: "GPC-101" of Showa Denko

칼럼: GPC-KF-801, GPC-KF-802, GPC-KF-803 및 GPC-KF-804를 결합Column: GPC-KF-801, GPC-KF-802, GPC-KF-803 and GPC-KF-804

이동상: 테트라하이드로푸란Mobile phase: tetrahydrofuran

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40 DEG C

유속: 1.0mL/분Flow rate: 1.0 mL / min

시료 농도: 1.0질량%Sample concentration: 1.0 mass%

시료 주입량: 100μLSample injection amount: 100 μL

검출기: 시차 굴절계Detector: differential refractometer

표준 물질: 단분산 폴리스티렌Standard material: monodisperse polystyrene

<중합체의 합성>&Lt; Synthesis of Polymer &

[합성예 1] (A-1) 측쇄에 메타크로일기를 갖는 알칼리 가용성 수지의 합성[Synthesis Example 1] (A-1) Synthesis of an alkali-soluble resin having a methacryl group in a side chain

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 4질량부 및 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르 300질량부를 투입하고, 메타크릴산 23질량부, 스티렌 10질량부, 메타크릴산 벤질 32질량부 및 메타크릴산 메틸 35질량부, 그리고 분자량 조절제로서의 α-메틸스티렌다이머 2.7질량부를 투입했다. 이어서, 온화하게 교반하면서, 용액의 온도를 80℃로 상승하고, 이 온도를 4시간 보존유지(保持)한 후, 100℃로 상승시키고, 이 온도를 1시간 보존유지하여 중합함으로써 공중합체를 함유하는 용액을 얻었다(고형분 농도=24.9질량%). 얻어진 공중합체의 Mw는, 12,500이었다. 이어서, 공중합체를 포함하는 용액에, 테트라부틸암모늄브로마이드 1.1질량부, 중합 금지제로서의 4-메톡시페놀 0.05질량부를 더하고, 공기 분위기하 90℃에서 30분간 교반 후, 메타크릴산 글리시딜 16질량부를 넣고 90℃인 채로 10시간 반응시킴으로써, 공중합체 (A-1)을 얻었다(고형분 농도=29.0질량%). 공중합체 (A-1)의 Mw는, 14,200이었다. 공중합체 (A-1)을 헥산에 적하함으로써 재침전 정제를 행하고, 재침전한 수지 고형분에 대해서, 1H-NMR 분석에 의해 메타크릴산 글리시딜의 반응률을 산출했다. 6.1ppm 부근 및 5.6ppm 부근에 메타크릴산 글리시딜의 메타크릴기에 유래하는 피크와 공중합체의 메타크릴산 벤질의 구조 단위에 유래하는 6.8ppm∼7.4ppm 부근의 방향환의 프로톤과의 적분비의 비교로부터, 메타크릴산 글리시딜과 공중합체 내의 카복시기와의 반응률을 산출했다. 그 결과, 반응시킨 메타크릴산 글리시딜의 96몰%가 공중합체 중의 카복시기와 반응한 것이 확인되었다. 4 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile and 300 parts by mass of diethylene glycol methyl ethyl ether were fed into a flask equipped with a stirrer, a cooling tube and a stirrer, and 23 parts by mass of methacrylic acid, 10 parts by mass of styrene, 32 parts by mass of benzyl acrylate, 35 parts by mass of methyl methacrylate and 2.7 parts by mass of? -Methylstyrene dimer as a molecular weight regulator were added. Subsequently, while the solution was gently stirred, the temperature of the solution was raised to 80 DEG C, the temperature was maintained (maintained) for 4 hours, and the temperature was raised to 100 DEG C, (Solid content concentration = 24.9 mass%). The Mw of the obtained copolymer was 12,500. Subsequently, 1.1 parts by mass of tetrabutylammonium bromide and 0.05 part by mass of 4-methoxyphenol as a polymerization inhibitor were added to the solution containing the copolymer, and the mixture was stirred at 90 占 폚 for 30 minutes in an air atmosphere. Then, glycidyl methacrylate 16 (A-1) was obtained (solid content concentration = 29.0% by mass) by reacting the mixture at 90 占 폚 for 10 hours. The Mw of the copolymer (A-1) was 14,200. Re-precipitation purification was carried out by dropping the copolymer (A-1) into hexane, and the reaction rate of glycidyl methacrylate was calculated by 1 H-NMR analysis of the resolidified resin solid content. The ratio of the peak derived from the methacryl group of glycidyl methacrylate to the proton of the aromatic ring near 6.8 ppm to 7.4 ppm derived from the structural unit of the copolymer of benzyl methacrylate at about 6.1 ppm and around 5.6 ppm From the comparison, the reaction rate of glycidyl methacrylate with the carboxy group in the copolymer was calculated. As a result, it was confirmed that 96 mol% of the reacted glycidyl methacrylate reacted with the carboxy group in the copolymer.

[합성예 2] (A-2) 측쇄에 에폭시기를 갖는 알칼리 가용성 수지의 합성[Synthesis Example 2] (A-2) Synthesis of alkali-soluble resin having an epoxy group in side chain

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 7질량부 및 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르 220질량부를 투입했다. 이어서 메타크릴산 20질량부, 메타크릴산 글리시딜 20질량부, 스티렌 30질량부, N-사이클로헥실말레이미드 30질량부 및, α-메틸스티렌다이머 7질량부를 투입하고 질소 치환한 후, 온화하게 교반을 시작했다. 용액의 온도를 70℃로 상승하고, 이 온도를 5시간 보존유지함으로써, 공중합체 (A-2)를 포함하는 중합체 용액을 얻었다. 7 parts by mass of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 220 parts by mass of diethylene glycol ethyl methyl ether were fed into a flask equipped with a condenser and a stirrer. Subsequently, 20 parts by mass of methacrylic acid, 20 parts by mass of glycidyl methacrylate, 30 parts by mass of styrene, 30 parts by mass of N-cyclohexylmaleimide, and 7 parts by mass of? -Methylstyrene dimer were charged, To start stirring. The temperature of the solution was raised to 70 캜, and this temperature was maintained for 5 hours to obtain a polymer solution containing the copolymer (A-2).

<바인더 수지의 합성>&Lt; Synthesis of binder resin &gt;

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 3질량부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 235질량부를 투입하고, 이어서 메타크릴산 20질량부, N-페닐말레이미드 12질량부, 벤질메타크릴레이트 14질량부, 스티렌 10질량부, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트 15질량부, 2-에틸헥실메타크릴레이트 29질량부 및 α-메틸스티렌다이머(연쇄 이동제) 5질량부를 투입하고, 질소 치환했다. 그 후, 온화하게 교반하면서, 반응 용액을 80℃로 승온하고, 이 온도를 보존유지하여 3시간 중합했다. 그 후, 반응 용액을 100℃로 승온하고, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.5질량부를 추가하고, 추가로 1시간 중합을 계속함으로써, 공중합체로서 바인더 수지 (c-1)을 포함하는 중합체 용액을 얻었다. A cooling tube and a stirrer, 3 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile and 235 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate were fed. Then, 20 parts by mass of methacrylic acid, 50 parts by mass of N-phenylmaleimide 12 mass parts of benzyl methacrylate, 10 mass parts of styrene, 15 mass parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 29 mass parts of 2-ethylhexyl methacrylate, and 5 mass parts of? -Methylstyrene dimer (chain transfer agent) Mass portion was charged, and the atmosphere was replaced with nitrogen. Thereafter, while gently stirring, the temperature of the reaction solution was raised to 80 占 폚, and the temperature was maintained and polymerized for 3 hours. Thereafter, the reaction solution was heated to 100 占 폚, and 0.5 part by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile was added, and the polymerization was further continued for 1 hour to obtain a binder resin (c-1) as a copolymer &Lt; / RTI &gt;

<안료 분산액의 조제>&Lt; Preparation of pigment dispersion &gt;

[C] 착색제(흑색 안료)로서, 상기식 (4)로 나타나는 화합물(R1∼R10은 수소 원자임)과 상기식 (5)로 나타나는 화합물(R11∼R20은 수소 원자임)과의 혼합물 15질량부, 분산제로서 아크릴계 공중합체(빅케미(BYK)사 제조의 「BYK-LPN21116」) 5질량부, 중합체로서 바인더 수지 (c-1) 5질량부 및, 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 75질량부를 이용하고, 이들을 비즈밀에 의해 혼합하여, 안료 분산액 (C-1)을 조제했다. The compound represented by the formula (4) (wherein R 1 to R 10 are hydrogen atoms) and the compound represented by the formula (5) (R 11 to R 20 are hydrogen atoms) as the [C] coloring agent (black pigment) , 5 parts by mass of an acrylic copolymer (BYK-LPN21116, manufactured by BYK) as a dispersant, 5 parts by mass of a binder resin (c-1) as a polymer, and 15 parts by mass of propylene glycol monomethyl And 75 parts by mass of ether acetate (PGMEA) were mixed with a bead mill to prepare a pigment dispersion (C-1).

[실시예 1∼6 및 비교예 1∼4] <감방사선성 착색 조성물의 조제>[Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4] <Preparation of radiation-sensitive coloring composition>

표 1에 나타내는 종류 및 배합량(질량부)의 [A] 중합체를 포함하는 용액(중합체 용액), [B] 광중합 개시제, [C] 착색제를 포함하는 안료 분산액, [D] 티올계 화합물 및, [E] 다관능 아크릴레이트, 그리고 실리콘계 계면활성제(토레·다우코닝·실리콘사 제조의 「SH8400FLUID」) 0.2질량부를 혼합했다. 이 혼합물에 추가로, 고형분 농도가 25질량%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)를 더하여, 감방사선성 착색 조성물을 조제했다. A pigment dispersion containing a solution (polymer solution) containing a polymer [A], a photopolymerization initiator [B], a pigment dispersion containing [C] a colorant, and a [D] thiol compound and a [ E] polyfunctional acrylate, and 0.2 parts by mass of a silicone surfactant ("SH8400FLUID" manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) were mixed. In addition to this mixture, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was added so that the solid content concentration became 25 mass%, to prepare a radiation-sensitive coloring composition.

표 1 중의 「-」는 배합하고 있지 않는 것을 나타낸다. And &quot; - &quot; in Table 1 indicate that they are not blended.

Figure pat00013
Figure pat00013

또한, 표 1 중의 각 기호는 이하와 같다. The symbols in Table 1 are as follows.

[A] 중합체(중합체 용액)[A] Polymer (Polymer solution)

A-1: 합성예 1에서 얻어진 측쇄에 메타크로일기를 갖는 알칼리 가용성 수지(고형분 농도: 40질량%)A-1: An alkali-soluble resin (solid concentration: 40% by mass) having a methacrylic group in the side chain obtained in Synthesis Example 1,

A-2: 합성예 2에서 얻어진 측쇄에 에폭시기를 갖는 알칼리 가용성 수지(고형분 농도: 40질량%)A-2: An alkali-soluble resin (solid concentration: 40% by mass) having an epoxy group in the side chain obtained in Synthesis Example 2

A-3: 아크릴로일기 및 카복시기를 갖는 카도 수지(오사카가스케미컬사 제조의 「오그솔(OGSOL) CR-1030」)(고형분 농도: 50질량%)A-3: Codo resin having acryloyl group and carboxy group ("OGSOL CR-1030" manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) (solid concentration: 50% by mass)

A-4: 산 변성 에폭시아크릴레이트 수지(닛폰가야쿠사 제조의 「ZCR-1797H」)(고형분 농도: 65질량%)A-4: acid-modified epoxy acrylate resin ("ZCR-1797H", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (solid concentration: 65%

[B] 광중합 개시제[B] Photopolymerization initiator

b-1: 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심)(BASF사 제조의 「이르가큐어(등록상표) OXE01」)b-1: 1,2-octadione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O-benzoyloxime) ("Irgacure (registered trademark) OXE01"

b-2: 에탄온-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심)(BASF사 제조의 「이르가큐어(등록상표) OXE02」)b-2: Ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O- acetyloxime) (Registered trademark) OXE02 &quot;

B-3: 하기식으로 나타나는 화합물B-3: Compound represented by the following formula

Figure pat00014
Figure pat00014

[C] 착색제[C] Colorant

C-1: 안료 분산액C-1: Pigment dispersion

[D] 티올계 화합물[D] thiol compound

D-1: 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트)D-1: pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate)

D-2: 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트)(쇼와덴코사 제조의 「카렌즈(Karenz) MTPE1」)D-2: Pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate) ("Karenz MTPE1" manufactured by Showa Denko KK)

[E] 다관능 아크릴레이트[E] polyfunctional acrylate

E-1: 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와의 혼합물(닛폰가야쿠사 제조의 「KAYARAD DPHA」)E-1: A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate ("KAYARAD DPHA" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

<특성 평가><Characteristic evaluation>

실시예 1∼6 및 비교예 1∼4에서 조제한 감방사선성 착색 조성물을 사용하여, 이하의 특성 평가를 행했다. Using the radiation-sensitive coloring compositions prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4, the following characteristics were evaluated.

<경화막의 형성>&Lt; Formation of cured film &

유리 기판(코닝사 제조의 「코닝(Corning)(등록상표) 7059」)에, 실시예 1∼6 및 비교예 1∼4에서 조제한 감방사선성 착색 조성물을 스피너를 이용하여 도포한 후, 핫 플레이트 상에서 90℃에서 2분간 프리베이킹하여 도막을 형성했다. 이들 기판을 실온으로 냉각한 후, 고압 수은 램프를 이용하여, 포토마스크를 개재하지 않고, 각 도막에 365㎚, 405㎚ 및 436㎚의 각 파장을 포함하는 방사선을 1,000J/㎡의 노광량으로 조사(이하, 「노광」이라고도 함)했다. 그 후, 이들 기판에 대하여, 23℃의 0.04질량% 수산화 칼륨 수용액으로 이루어지는 현상액을 현상압 1kgf/㎠(노즐 지름 1㎜)로 토출함으로써, 60초간 샤워 현상을 행했다. 그 후, 이 기판을 초순수로 세정하고, 풍건한 후, 추가로 230℃의 클린 오븐 내에서 30분간 포스트베이킹을 행함으로써, 포스트베이킹 후의 막두께가 3.0㎛가 되는 평가용 경화막을 형성했다. The radiation sensitive coloring compositions prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 were applied to a glass substrate ("Corning (registered trademark) 7059" manufactured by Corning Inc.) using a spinner, Followed by pre-baking at 90 DEG C for 2 minutes to form a coating film. After these substrates were cooled to room temperature, radiation containing each wavelength of 365 nm, 405 nm, and 436 nm was irradiated onto each coating film at an exposure amount of 1,000 J / m 2 using a high-pressure mercury lamp without interposing a photomask (Hereinafter also referred to as &quot; exposure &quot;). Subsequently, a showering phenomenon was carried out on these substrates for 60 seconds by discharging a developer composed of 0.04 mass% aqueous potassium hydroxide solution at 23 占 폚 at a developing pressure of 1 kgf / cm2 (nozzle diameter of 1 mm). Thereafter, this substrate was washed with ultrapure water, air-dried, and further baked in a clean oven at 230 캜 for 30 minutes to form a cured film for evaluation having a film thickness of 3.0 탆 after post-baking.

<HPLC 평가><Evaluation of HPLC>

이 경화막을 깎아 분말 형상으로 하고, 액정(메르크사 제조의 「MLC6608」)과 혼합한 후, 120℃에서 60분간 가열을 행함으로써, 경화막 중의 불순물을 액정 중으로 용출시켰다. 그 후, PTFE 필터를 이용한 여과에 의해 액정 중의 경화막을 제거하여, 액정 추출액을 얻었다. 액정 추출액을 THF로 100배로 희석하고, Agilent Technologies사 제조의 「LC/MS6130」(칼럼: Capcelpak C18, 전개 용매: 메탄올)을 이용하여 분석을 행했다. 액정 추출액과 액정의 차트를 비교하여, 액정 추출액에서만 피크가 있는 경우, 불순물 용출이 있음으로 판정했다. This cured film was cut into a powder form, mixed with a liquid crystal ("MLC6608" manufactured by Merck Ltd.), and then heated at 120 ° C for 60 minutes to elute the impurities in the cured film into liquid crystals. Thereafter, the cured film in the liquid crystal was removed by filtration using a PTFE filter to obtain a liquid crystal extract solution. The liquid crystal extract was diluted 100-fold with THF and analyzed using &quot; LC / MS6130 &quot; (column: Capcelpak C18, developing solvent: methanol) manufactured by Agilent Technologies. The charts of the liquid crystal extract and the liquid crystal were compared and it was judged that there was an elution of impurities when there was a peak only in the liquid crystal extract.

<전압 보전율 VHR><Voltage Conservation Rate VHR>

표면에 나트륨 이온의 용출을 방지하는 SiO2막이 형성되고, 추가로 ITO(인듐-산화 주석 합금) 전극을 소정 형상으로 증착한 소다 유리 기판 상에, 배향막 형성용 조성물(JSR사 제조의 「AL65008」)을 스피너를 이용하여 도포했다. 그 후, 핫 플레이트 상에서 90℃에서 2분간 프리베이킹하고, 추가로 200℃의 클린 오븐 내에서 30분간 포스트베이킹을 행함으로써 막두께 100㎚의 도막을 형성했다. 이어서, 이 배향막을 갖는 기판 상에 5.5㎛ 지름의 비즈 스페이서를 산포 후, 이것과 표면에 ITO 전극을 소정 형상으로 증착했을 뿐인 소다 유리 기판을 대향시킨 상태에서, 액정 주입구를 남기고 4변을 0.8㎜의 글래스 비드를 혼합한 시일제를 이용하여 접합하고, 상기의 액정 추출액을 주입한 후에 액정 주입구를 봉지함으로써, 액정 셀을 제작했다. 이 액정 셀을 60℃의 항온층에 넣고, 액정 셀의 전압 보전율을 액정 전압 보전율 측정 시스템(토요 테크니카사 제조의 「VHR-1A형」)에 의해 측정했다. 이때의 인가 전압은 5.5V의 방형파, 측정 주파수는 60㎐이다. 또한, 여기에서 전압 보전율이란, 하기식으로부터 산출되는 값이다. 전압 보전율의 값이 낮아질수록, 액정 셀은 16.7밀리초의 시간, 인가 전압을 소정 레벨로 보존유지할 수 없고, 충분히 액정을 배향시킬 수 없는 것을 의미하고, 잔상 등의 「번인」을 일으킬 우려가 높다. A composition for forming an alignment film ("AL65008" manufactured by JSR Corporation) was formed on a soda glass substrate on which an SiO 2 film was formed to prevent elution of sodium ion on the surface and further an ITO (indium-tin oxide alloy) ) Was applied using a spinner. Thereafter, the film was prebaked on a hot plate at 90 DEG C for 2 minutes, and further baked in a 200 DEG C clean oven for 30 minutes to form a 100 nm thick coating film. Subsequently, a bead spacer having a diameter of 5.5 占 퐉 was dispersed on the substrate having this alignment film, and a soda glass substrate having only ITO electrodes deposited in a predetermined shape on the surface thereof was opposed to the substrate. Glass beads were mixed. After injecting the liquid crystal extract solution described above, the liquid crystal injection port was sealed to produce a liquid crystal cell. The liquid crystal cell was placed in a constant temperature layer at 60 占 폚 and the voltage holding ratio of the liquid crystal cell was measured by a liquid crystal voltage preservation rate measuring system ("VHR-1A type" manufactured by Toyotec Corporation). The applied voltage at this time is a square wave of 5.5 V, and the measurement frequency is 60 Hz. Here, the voltage holding ratio is a value calculated from the following formula. As the value of the voltage holding ratio is lower, the liquid crystal cell can not store and maintain the applied voltage at a predetermined level for 16.7 milliseconds, meaning that the liquid crystal can not be aligned sufficiently, and there is a high possibility of causing "burn-in"

전압 보전율(%)=(기준시부터 16.7밀리초 후의 액정 셀 전위차)/(0밀리초로 인가한 전압)×100Voltage Conservation Rate (%) = (Potential difference of liquid crystal cell after 16.7 milliseconds from the time of reference) / (Voltage applied at 0 milliseconds) 占 100

표 1에 나타나는 바와 같이, 실시예 1∼6의 감방사선성 착색 조성물로부터 얻어진 경화막에 있어서는, HPLC 피크가 없고, 액정으로의 용출이 확인되지 않았다. 또한, 실시예 1∼6의 감방사선성 착색 조성물을 이용하여 얻어진 액정 표시 소자는 높은 전압 보전율을 갖는 것이 확인되었다.As shown in Table 1, in the cured films obtained from the radiation sensitive coloring compositions of Examples 1 to 6, there was no HPLC peak and elution into liquid crystals was not confirmed. It was also confirmed that the liquid crystal display elements obtained using the radiation sensitive coloring compositions of Examples 1 to 6 had a high voltage holding ratio.

본 발명의 감방사선성 착색 조성물은, 액정 표시 소자의 스페이서 등이 되는 착색 패턴의 형성 재료로서 적합하게 이용할 수 있다. The radiation-sensitive coloring composition of the present invention can be suitably used as a material for forming a coloring pattern to be a spacer of a liquid crystal display element or the like.

Claims (9)

중합체,
1분자 중에 2 이상의 하기식 (1)로 나타나는 부위를 갖는 광중합 개시제 및,
락탐 구조, 이 이성체 환구조 또는 이들의 조합을 갖는 착색제
를 함유하는 감방사선성 착색 조성물:
Figure pat00015

(식 (1) 중, RX는 1가의 유기기를 나타냄).
polymer,
A photopolymerization initiator having two or more sites represented by the following formula (1) in one molecule,
A lactam structure, an isomeric ring structure, or a combination thereof
A radiation-sensitive coloring composition comprising:
Figure pat00015

(In the formula (1), R X represents a monovalent organic group).
제1항에 있어서,
상기 착색제가, 하기식 (2)로 나타나는 부위 및 하기식 (3)으로 나타나는 부위의 적어도 한쪽을 갖는 감방사선성 착색 조성물.
Figure pat00016
The method according to claim 1,
Wherein the coloring agent has at least one of a site represented by the following formula (2) and a site represented by the following formula (3).
Figure pat00016
제2항에 있어서,
상기 착색제가, 하기식 (4)로 나타나는 착색제 및 하기식 (5)로 나타나는 착색제의 적어도 한쪽인 감방사선성 착색 조성물:
Figure pat00017

(식 (4) 및 식 (5) 중, R1, R6, R11 및 R16은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 1∼6의 불화 알킬기이고;
R2∼R5, R7∼R10, R12∼R15 및 R17∼R20은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 R21, COOH, COOR21, COO-, CONH2, CONHR21, CONR21R22, CN, OH, OR21, OCOR21, OCONH2, OCONHR21, OCONR21R22, NO2, NH2, NHR21, NR21R22, NHCOR21, NR21COR22, N=CH2, N=CHR21, N=CR21R22, SH, SR21, SOR21, SO2R21, SO3R21, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR21 또는 SO2NR21R22로 나타나는 기이고; R2∼R5, R7∼R10, R12∼R15 및 R17∼R20 중 인접하는 탄소 원자에 각각 결합하는 기끼리는, 직접 또는 -O-, -S-, -NH- 또는 -NR21-를 개재하여 결합하고, 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 환구조를 형성하고 있어도 좋고;
R21 및 R22는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 3∼12의 사이클로알킬기, 탄소수 2∼12의 알케닐기, 탄소수 4∼12의 사이클로알케닐기 또는 탄소수 2∼12의 알키닐기, 또는 이들 기의 탄소-탄소 결합 간에 -O-, -NH-, -NR23- 또는 -S-가 개재된 기이고, 이 알킬기, 사이클로알킬기, 알케닐기, 사이클로알케닐기 및 알키닐기가 갖는 수소 원자의 일부 또는 전부는, 할로겐 원자, COOH, COOR23, COO-, CONH2, CONHR23, CONR23R24, CN, =O, OH, OR23, OCOR23, OCONH2, OCONHR23, OCONR23R24, =NR23, NH2, NHR23, NR23R24, NHCOR24, NR23COR24, N=CH2, N=CHR23, N=CR23R24, SH, SR23, SOR23, SO2R23, SO3R23, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR23 또는 SO2NR23R24로 나타나는 기, 탄소수 7∼12의 아르알킬기, 탄소수 1∼11의 헤테로아릴기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로 치환되어 있어도 좋고; 상기 아르알킬기, 헤테로아릴기 및 아릴기가 갖는 수소 원자의 일부 또는 전부는, 할로겐 원자, 또는 COOH, COOR23, COO-, CONH2, CONHR23, CONR23R24, CN, OH, OR23, OCOR23, OCONH2, OCONHR23, OCONR23R24, NO2, NH2, NHR23, NR23R24, NHCOR24, NR23COR24, N=CH2, N=CHR23, N=CR23R24, SH, SR23, SOR23, SO2R23, SO3R23, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR23 또는 SO2NR23R24로 나타나는 기로 치환되어 있어도 좋고;
R23 및 R24는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼6의 알킬기, 벤질기 또는 페닐기이고, R23과 R24는, 직접 또는 -O-, -S-, -NH- 또는 -NR25-를 개재하여 결합하고, 이들이 결합하는 원자와 함께 환구조를 형성하고 있어도 좋고;
R25는, 1가의 유기기임).
3. The method of claim 2,
Wherein the coloring agent is at least one of a coloring agent represented by the following formula (4) and a coloring agent represented by the following formula (5):
Figure pat00017

(Wherein R 1 , R 6 , R 11 and R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkyl fluoride group having 1 to 6 carbon atoms ;
R 2 to R 5 , R 7 to R 10 , R 12 to R 15 and R 17 to R 20 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or R 21 , COOH, COOR 21 , COO - , CONH 2 , CONHR 21, CONR 21 R 22, CN, OH, OR 21, OCOR 21, OCONH 2, OCONHR 21, OCONR 21 R 22, NO 2, NH 2, NHR 21, NR 21 R 22, NHCOR 21, NR 21 COR 22 , N = CH 2, N = CHR 21, N = CR 21 R 22, SH, SR 21, SOR 21, SO 2 R 21, SO 3 R 21, SO 3 H, SO 3 -, SO 2 NH 2, SO 2 NHR 21 or SO 2 NR 21 R 22 ; Groups bonded to adjacent carbon atoms of R 2 to R 5 , R 7 to R 10 , R 12 to R 15 and R 17 to R 20 may be bonded to each other directly or by -O-, -S-, -NH- or - NR 21 - and may form a cyclic structure together with the carbon atom to which they are bonded;
R 21 and R 22 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 4 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms , Or a group in which -O-, -NH-, -NR 23 - or -S- is interposed between the carbon-carbon bonds of these groups, and the hydrogen having the alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, cycloalkenyl group and alkynyl group some or all of the atoms, a halogen atom, COOH, COOR 23, COO - , CONH 2, CONHR 23, CONR 23 R 24, CN, = O, OH, oR 23, OCOR 23, OCONH 2, OCONHR 23, OCONR 23 R 24, = NR 23, NH 2, NHR 23, NR 23 R 24, NHCOR 24, NR 23 COR 24, N = CH 2, N = CHR 23, N = CR 23 R 24, SH, SR 23, SOR 23 , SO 2 R 23 , SO 3 R 23 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 23 or SO 2 NR 23 R 24 , an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, 11 heteroaryl group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, It may be good; Some or all of the aralkyl group, a heteroaryl group, and hydrogen atom having an aryl group, the halogen atom, or COOH, COOR 23, COO -, CONH 2, CONHR 23, CONR 23 R 24, CN, OH, OR 23, OCOR 23, OCONH 2, OCONHR 23, OCONR 23 R 24, NO 2, NH 2, NHR 23, NR 23 R 24, NHCOR 24, NR 23 COR 24, N = CH 2, N = CHR 23, N = CR 23 R 24 , SH, SR 23 , SOR 23 , SO 2 R 23 , SO 3 R 23 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , SO 2 NHR 23 or SO 2 NR 23 R 24 Good;
R 23 and R 24 are, each independently, an alkyl group, a benzyl group or a phenyl group having a carbon number of 1~6, R 23 and R 24 are, directly or -O-, -S-, -NH- or -NR 25 - the And may form a cyclic structure together with the atoms to which they are bonded;
R &lt; 25 &gt; is a monovalent organic group).
제1항에 있어서,
상기 중합체가, 환상 에테르기, (메타)아크릴로일기, 비닐기 또는 이들의 조합을 갖는 감방사선성 착색 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the polymer has a cyclic ether group, a (meth) acryloyl group, a vinyl group, or a combination thereof.
제1항에 있어서,
상기 광중합 개시제가, 하기식 (6)으로 나타나는 광중합 개시제인 감방사선성 착색 조성물:
Figure pat00018

(식 (6) 중, 2개의 R1A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 4∼20의 사이클로알킬기, 탄소수 1∼6의 할로알킬기, 2-푸릴기, 2-푸르푸릴기, 2-티에닐기, 2-테닐기, 페닐기 또는 나프틸기이고, 이 페닐기 또는 나프틸기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋고;
R2A 및 R3A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 탄소수 3∼10의 사이클로알킬기이고;
R4A는, 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 할로겐 원자, 2-푸릴기, 2-푸르푸릴기, 2-티에닐기 또는 2-테닐기이고;
R5A는, 술포기, 또는 SO2R6A, P(R7A)2, PO(R8A)2 또는 Si(R9A)3으로 나타나는 기이고;
R6A는, 수소 원자, 메틸기, 탄소수 2∼12의 알킬기, 페닐기, 또는 나프틸기이고, 상기 탄소수 2∼12의 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 카복시기, 메톡시카보닐기, 에톡시카보닐기, 탄소수 1∼6의 아실옥시기, 벤조일옥시기 또는 탄소수 1∼20의 아실기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 페닐기 또는 나프틸기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋고;
R7A, R8A 및 R9A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼12의 알킬기, 페닐기 또는 나프틸기이고, 이 페닐기 또는 나프틸기의 수소 원자의 일부 또는 전부는, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋음).
The method according to claim 1,
Wherein the photopolymerization initiator is a photopolymerization initiator represented by the following formula (6):
Figure pat00018

(In the formula (6), two R &lt; 1A &gt; independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 20 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a 2-furyl group, , A 2-thienyl group, a 2-thenyl group, a phenyl group or a naphthyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of the phenyl group or the naphthyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, It may be good;
R 2A and R 3A are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms;
R 4A represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, a 2-furyl group, a 2-furfuryl group, a 2-thienyl group or a 2-thienyl group;
R 5A is a sulfo group or a group represented by SO 2 R 6A , P (R 7A ) 2 , PO (R 8A ) 2 or Si (R 9A ) 3 ;
R 6A represents a hydrogen atom, a methyl group, an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a phenyl group, or a naphthyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of the alkyl group having 2 to 12 carbon atoms may be substituted with a carboxyl group, a methoxycarbonyl group, An acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms, a benzoyloxy group or an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a part or all of the hydrogen atoms of the phenyl group or the naphthyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or a halogen atom;
R 7A , R 8A and R 9A are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group or a naphthyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of the phenyl group or the naphthyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Or an alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms or a halogen atom).
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
액정 표시 소자의 착색 패턴 형성용인 감방사선성 착색 조성물.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Sensitive coloring composition for forming a coloring pattern of a liquid crystal display element.
제6항에 기재된 감방사선성 착색 조성물을 이용하여, 기판 상에 도막을 형성하는 공정,
상기 도막의 일부에 방사선을 조사하는 공정,
상기 방사선이 조사된 도막을 현상하는 공정 및,
상기 현상된 도막을 가열하는 공정을 구비하는 착색 패턴의 형성 방법.
A step of forming a coating film on a substrate using the radiation sensitive coloring composition according to claim 6,
A step of irradiating a part of the coating film with radiation,
A step of developing the coated film irradiated with the radiation,
And heating the developed coating film.
제6항에 기재된 감방사선성 착색 조성물로 형성된 착색 패턴.A colored pattern formed by the radiation sensitive coloring composition according to claim 6. 제8항에 기재된 착색 패턴을 구비하는 액정 표시 소자.9. A liquid crystal display element comprising the coloring pattern according to claim 8.
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