KR20160097748A - Flat Nozzle for Dispenser and system using it - Google Patents

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KR20160097748A
KR20160097748A KR1020150019940A KR20150019940A KR20160097748A KR 20160097748 A KR20160097748 A KR 20160097748A KR 1020150019940 A KR1020150019940 A KR 1020150019940A KR 20150019940 A KR20150019940 A KR 20150019940A KR 20160097748 A KR20160097748 A KR 20160097748A
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dispenser
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허수영
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허수영
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    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
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Abstract

Disclosed is a flat nozzle for a dispenser. The flat nozzle for a dispenser comprises: a chamber having an inner space; an inner plate which is projected by being coupled to the bottom and a sidewall of the chamber with a separation distance from an upper wall of the chamber, wherein an upper surface thereof is vertical with respect to the direction of gravity when the chamber is coupled to the dispenser; an outlet formed on the bottom of the chamber in parallel to the sidewall of the chamber; and an inlet formed in the chamber to input a coating material to a space formed by the inner plate, the sidewall of the chamber, the bottom of the chamber and a front wall of the chamber. Thereby, the flat nozzle for a dispenser according to the present invention can discharge a constant amount of the coating material on an entire area of the outlet.

Description

디스펜서 평면노즐 및 이를 이용한 디스펜싱 시스템{Flat Nozzle for Dispenser and system using it}[0001] The present invention relates to a dispenser flat nozzle and a dispensing system using the dispenser,

본 발명은 디스펜서 평면노즐 및 이를 이용한 디스펜싱 시스템에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 점도가 있는 액상의 도포물질을 균일하게 평판에 도포할 수 있는 디스펜서 평면노즐 및 이를 이용한 디스펜싱 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dispenser plane nozzle and a dispensing system using the same, and more particularly, to a dispenser plane nozzle capable of uniformly applying a liquid coating material having a viscosity to a flat plate and a dispensing system using the same.

디스플레이 패널 제조공정에 있어서, LCD패널 혹은 OLED 패널과 강화유리판을 부착하기 위하여, 그 사이에 액상의 점착제 또는 접착제가 도포된다. 이때, 액상의 접착제를 LCD패널의 전 영역에 균일하게 도포하여야 강화유리판과 접착된 이후 기포가 포함되지 않을 뿐만 아니라, 제품의 신뢰성도 증가하게 된다. In the display panel manufacturing process, in order to attach the LCD panel or the OLED panel and the tempered glass plate, a liquid adhesive or an adhesive is applied therebetween. In this case, since the liquid adhesive should be uniformly applied over the entire area of the LCD panel, not only the bubble is not included after bonding to the tempered glass plate, but also the reliability of the product is increased.

아울러, 정밀한 제품 생산을 위하여 인쇄프린팅이나 기타 다른 제조업 분야에도 액상의 물질을 균일하게 도포하고자 하는 요구는 점점 증가하고 있다.
In addition, there is a growing demand for uniform application of liquid materials to printing and other manufacturing industries for precision product production.

종래의 디스펜서 노즐은 고압으로 이송되어온 액상의 도포물질을 사진 1과 같은 디스펜서 노즐을 통해서 선형의 분출구를 통하여 분사하였다. 디스펜서 노즐은 내부의 공간이 형성되어 있고, 아래쪽은 선형의 분출구(길이 10cm, 폭 0.4mm)가 형성되어 있다. 선형의 분출구가 일정 면적을 지나갈 때, 해당 영역이 도포물질로 도포되는 방식이었다. 그러나, 도포물질이 선형의 분출구로 동일한 양으로 토출한다는 것은 기술적으로 상당히 어려웠다. 특히, 도포물질의 점도에 따라서 가장자리와 중심의 토출량이 달라 도포 두께가 균일하지 않는 문제가 발생하였다. 또한, 접착면적이 다른 패널을 작업하고자 할 경우 그에 상응하는 새로운 디스펜서 노즐을 맞춤제작해야 했다.
In the conventional dispenser nozzle, the liquid coating material transferred at a high pressure was sprayed through a linear air outlet through a dispenser nozzle as shown in photograph 1. The dispenser nozzle has an inner space formed therein, and the lower portion thereof has a linear jet port (length 10 cm, width 0.4 mm). When the linear jet passes through a certain area, the area is coated with the coating material. However, it was technically very difficult to discharge the coating material in the same amount as a linear outlet. Particularly, depending on the viscosity of the coating material, the amount of discharge between the edge and the center is different, resulting in a problem that the coating thickness is not uniform. Also, if you want to work on panels with different adhesive areas, you have to customize the new dispenser nozzles that correspond to them.

본 발명과 관련된 선행기술은 특허출원 제10-2010-0104212호가 있다.
The prior art relating to the present invention is the patent application No. 10-2010-0104212.

본 발명은 디스펜서로부터 고압 전송된 도포물질의 전송 압력을 상쇄하고, 중력을 이용하여 일정한 압력으로 선형의 토출구의 전 영역에서 일정량의 도포물질을 토출하는 디스펜서 평면노즐 및 이를 이용한 디스펜싱 시스템을 제공하고자 한다.Disclosed is a dispenser plane nozzle for offsetting a transfer pressure of a coating material transferred from a dispenser at a high pressure and discharging a predetermined amount of a coating material over a whole area of a linear discharge port at a constant pressure using gravity and a dispensing system using the nozzle do.

본 발명의 일측면에 따르면,According to an aspect of the present invention,

내부 공간이 형성된 챔버와;A chamber in which an internal space is formed;

상기 챔버의 상부벽과는 이격거리를 두고 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하여 돌출되며, 상기 챔버가 디스펜서에 결합시 상부면이 중력방향에 대하여 수직인 내부판과;An inner plate protruding from the bottom wall and the side wall of the chamber at a distance from the upper wall of the chamber, the upper wall of the chamber being perpendicular to the gravity direction when the chamber is coupled to the dispenser;

상기 챔버의 바닥면에 상기 측면벽과 평행하게 형성된 토출구와;A discharge port formed on a bottom surface of the chamber in parallel with the side wall;

상기 내부판과 상기 챔버의 측면벽, 상기 챔버의 바닥면 및 상기 챔버의 전면벽으로 이루어진 공간으로 도포물질이 유입되도록 상기 챔버에 형성된 유입구를 포함하는 디스펜서 평면노즐이 제공된다.
There is provided a dispenser plane nozzle comprising an inner plate and an inlet formed in the chamber for introducing a coating material into a space defined by a side wall of the chamber, a bottom surface of the chamber, and a front wall of the chamber.

본 발명의 다른 측면은,According to another aspect of the present invention,

내부 공간이 형성된 챔버와;A chamber in which an internal space is formed;

상기 챔버의 상부벽과는 이격거리 두고 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하여 돌출된 제1 내부판과;A first inner plate spaced apart from the upper wall of the chamber and protruding from the bottom wall and the side wall of the chamber;

상기 챔버의 바닥면에 상기 측면벽과 평행하게 형성된 토출구와;A discharge port formed on a bottom surface of the chamber in parallel with the side wall;

상기 토출구와 상기 제1 내부판 사이에 위치하며, 상기 챔버의 상부벽과는 이격거리를 두고, 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하며, 상기 챔버가 디스펜서에 결합시 상부면이 중력방향에 대하여 수직이며, 상기 제1 내부판보다 높이가 낮은 제2 내부판과;Wherein the chamber is coupled to a bottom surface and a side wall of the chamber, the chamber being positioned between the discharge port and the first inner plate and spaced apart from the top wall of the chamber, A second inner plate which is perpendicular to the first inner plate and is lower in height than the first inner plate;

상기 제 1 내부판, 상기 챔버의 바닥면, 상기 챔버의 측면벽 및 상기 챔버의 전면벽으로 이루어진 공간에 도포물질이 유입되도록 상기 챔버에 형성된 유입구를 포함하는 디스펜서 평면노즐이 제공된다.
There is provided a dispenser plane nozzle comprising an inlet formed in the chamber for introducing a coating material into a space defined by the first inner plate, the bottom surface of the chamber, the side wall of the chamber, and the front wall of the chamber.

또한,Also,

상기 챔버에는 진공장치가 더 결합되는 것을 특징으로 하는 디스펜서 평면노즐이 제공된다.
And a vacuum device is further coupled to the chamber.

또한,Also,

상기 제1 내부판과 상기 제2 내부판 사이에는, 상기 챔버의 상부벽과 상기 측면벽과 결합하되, 하부면이 상기 챔버의 바닥면과 이격거리를 두고 돌출된 차단판을 더 포함하는 디스펜서 평면노즐이 제공된다.
Further comprising a shutoff plate coupled between the first inner plate and the second inner plate, the shutoff plate coupled to the upper wall and the side wall of the chamber, the lower surface projecting with a distance from the bottom surface of the chamber, A nozzle is provided.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면,According to another aspect of the present invention,

원료공급장치;A raw material supply device;

상기 원료공급장치로부터 도포물질을 공급받는 디스펜서와;A dispenser for receiving a coating material from the raw material supply device;

상기 디스펜서와 결합되어, 대상물에 도포물질이 도포되도록 토출하는 디스펜서 평면노즐을 포함하되,And a dispenser plane nozzle coupled to the dispenser for discharging a coating material to the object to be coated,

상기 디스펜서 평면노즐은, The dispenser plane nozzle

내부 공간이 형성된 챔버와;A chamber in which an internal space is formed;

상기 챔버의 상부벽과는 이격거리를 두고 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하여 돌출되며, 상기 챔버가 디스펜서에 결합시 상부면이 중력방향에 대하여 수직인 내부판과;An inner plate protruding from the bottom wall and the side wall of the chamber at a distance from the upper wall of the chamber, the upper wall of the chamber being perpendicular to the gravity direction when the chamber is coupled to the dispenser;

상기 챔버의 바닥면에 상기 측면벽과 평행하게 형성된 토출구와;A discharge port formed on a bottom surface of the chamber in parallel with the side wall;

상기 내부판과 상기 챔버의 측면벽, 상기 챔버의 바닥면 및 상기 챔버의 전면벽으로 이루어진 공간에 도포물질이 유입되도록 상기 챔버에 형성된 유입구를 포함하는 디스펜서 시스템이 제공된다.
There is provided a dispenser system including an inlet formed in the chamber for introducing a coating material into a space formed by the side wall of the inner plate and the chamber, the bottom surface of the chamber, and the front wall of the chamber.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면,According to another aspect of the present invention,

원료공급장치;A raw material supply device;

상기 원료공급장치로부터 도포물질을 공급받는 디스펜서와;A dispenser for receiving a coating material from the raw material supply device;

상기 디스펜서와 결합되어, 대상물에 도포물질이 도포되도록 토출하는 디스펜서 평면노즐을 포함하되,And a dispenser plane nozzle coupled to the dispenser for discharging a coating material to the object to be coated,

상기 디스펜서 평면노즐은.The dispenser plane nozzle comprises:

내부 공간이 형성된 챔버와;A chamber in which an internal space is formed;

상기 챔버의 상부벽과는 이격거리 두고 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하여 돌출된 제1 내부판과;A first inner plate spaced apart from the upper wall of the chamber and protruding from the bottom wall and the side wall of the chamber;

상기 챔버의 바닥면에 상기 측면벽과 평행하게 형성된 토출구와;A discharge port formed on a bottom surface of the chamber in parallel with the side wall;

상기 토출구와 상기 제1 내부판 사이에 위치하며, 상기 챔버의 상부벽과는 이격거리를 두고, 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하며, 상기 챔버가 디스펜서에 결합시 상부면이 중력방향에 대하여 수직이며, 상기 제1 내부판보다 높이가 낮은 제2 내부판과;Wherein the chamber is coupled to a bottom surface and a side wall of the chamber, the chamber being positioned between the discharge port and the first inner plate and spaced apart from the top wall of the chamber, A second inner plate which is perpendicular to the first inner plate and is lower in height than the first inner plate;

상기 제 1 내부판, 상기 챔버의 바닥면, 상기 챔버의 측면벽 및 상기 챔버의 전면벽으로 이루어진 공간에 도포물질이 유입되도록 상기 챔버에 형성된 유입구를 포함하는 디스펜서 시스템이 제공된다.
There is provided a dispenser system including an inlet formed in the chamber for introducing a coating material into a space defined by the first inner plate, the bottom surface of the chamber, the side wall of the chamber, and the front wall of the chamber.

또한,Also,

상기 챔버에는 진공장치가 더 결합되는 것을 특징으로 하는 디스펜서 시스템이 제공된다.
And a vacuum device is further coupled to the chamber.

또한,Also,

상기 제1 내부판과 상기 제2 내부판 사이에는, 상기 챔버의 상부벽과 상기 측면벽과 결합하되, 하부면이 상기 챔버의 바닥면과 이격거리를 두고 돌출된 차단판을 더 포함하는 디스펜서 시스템이 제공된다.
Further comprising a shield plate coupled between the first inner plate and the second inner plate, the shield plate coupled with the upper wall and the side wall of the chamber, the lower surface projecting with a distance from the bottom surface of the chamber, / RTI >

본 발명은 디스펜서로부터 고압 전송된 도포물질의 전송압력을 상쇄하고, 중력을 이용하여 일정한 압력으로 선형의 토출구의 전 영역에서 일정량의 도포물질을 토출하는 디스펜서 평면노즐 및 이를 이용한 디스펜싱 시스템을 제공한다.The present invention provides a dispenser plane nozzle for offsetting a transfer pressure of a coating material transferred at a high pressure from a dispenser and discharging a predetermined amount of a coating material in a whole area of a linear discharge port at a constant pressure using gravity and a dispensing system using the same .

도 1은 본 발명의 종래기술에 따른 디스펜서 평면노즐의 사진.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스펜싱 시스템의 구성도.
도 3은 본 발명의 일 실싱예에 따른 디스펜서 평면노즐의 사시도.
도 4는 도 3의 A-A'의 단면도.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스펜서 평면노즐의 사시도.
도 6은 도 5의 B-B'의 단면도.
1 is a photograph of a dispenser plane nozzle according to the prior art of the present invention;
2 is a configuration diagram of a dispensing system according to an embodiment of the present invention;
3 is a perspective view of a dispenser plane nozzle according to one embodiment of the present invention;
4 is a sectional view taken along line A-A 'in Fig. 3;
5 is a perspective view of a dispenser plane nozzle according to another embodiment of the present invention.
6 is a sectional view taken along line B-B 'in Fig. 5;

이하에는, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조로 상세하게 설명하되, 이는 본 발명에 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세하게 설명하기 위한 것이지, 이로써 본 발명의 사상 및 범주가 한정되는 것을 의미하지는 않는다.
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the preferred embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to the like elements throughout. , Thereby not limiting the spirit and scope of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스펜싱 시스템의 구성도이며, 도 3은 본 발명의 일 실싱예에 따른 디스펜서 평면노즐의 사시도이며, 도 4는 도 3의 A-A'의 단면도이다.
3 is a perspective view of a dispenser plane nozzle according to one embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a sectional view taken along line A-A 'of FIG. 3 .

본 실시예의 디스펜싱 시스템(100)은, 원료공급장치(10)와; 상기 원료공급장치(10)로부터 도포물질을 공급받는 디스펜서(20)와; 상기 디스펜서(20)와 결합되어, 대상물에 도포물질(C)이 도포되도록 토출하는 디스펜서 평면노즐(30)을 포함한다.
The dispensing system 100 of the present embodiment includes a raw material supply device 10; A dispenser (20) for receiving a coating material from the material supply device (10); And a dispenser plane nozzle (30) coupled to the dispenser (20) to dispense the coating material (C) on the object.

본 실시예의 디스펜싱 시스템(100)은 디스펜서 평면노즐(30)에 기술적 특징이 있는 바, 이하 디스펜서 평면노즐(30)에 대해서 상세히 설명하기로 한다.
The dispensing system 100 of the present embodiment is characterized in that the dispenser plane nozzle 30 has a technical feature. Hereinafter, the dispenser plane nozzle 30 will be described in detail.

본 실시예의 디스펜서 평면노즐(30)은 디스펜서(20)로부터 공급되면서 발생되는 도포물질의 전송압력(도포물질을 관을 통해서 전송하면서 발생하는 압력)을 상쇄시키고, 어떤 상황에서도 균일한 중력의 힘으로 도포물질을 토출한다. 그 결과, 넓은 면에 도포물질을 도포하더라도 균일한 두께를 유지하면서 도포할 수 있다.
The dispenser plane nozzle 30 of this embodiment compensates for the transfer pressure of the coating material (pressure generated when the coating material is transferred through the tube) generated while being supplied from the dispenser 20, and uniformly applies gravity force Thereby discharging the coating material. As a result, even if a coating material is applied to a wide surface, it can be applied while maintaining a uniform thickness.

디스펜서 평면노즐(30)은, 내부 공간이 형성된 챔버(31)와; 챔버(31)의 상부벽과(315)는 이격거리를 두고 챔버(31)의 바닥면(314)과 측면벽(312)에 결합하며, 챔버(31)가 디스펜서(20)에 결합시 상부면(331)이 중력방향에 대하여 수직인 내부판(33)과; 챔버(31)의 바닥면(314)에 측면벽(312)과 평행하게 형성된 토출구(35)와; 내부판(33)과 챔버(31)의 바닥면(314), 측면벽(312) 및 전면벽(311)으로 이루어진 공간에 도포물질이 유입되도록 챔버(31)에 형성된 유입구(34)를 포함한다.(도 3 및 도 4 참조)
The dispenser plane nozzle (30) has a chamber (31) in which an internal space is formed; The upper wall 315 of the chamber 31 is coupled to the bottom surface 314 and the side wall 312 of the chamber 31 at a distance from the upper surface 314 of the chamber 31. When the chamber 31 is coupled to the dispenser 20, (331) is perpendicular to the direction of gravity; A discharge port 35 formed on the bottom surface 314 of the chamber 31 in parallel with the side wall 312; And an inlet 34 formed in the chamber 31 for introducing the coating material into the space formed by the inner plate 33 and the bottom surface 314 of the chamber 31, the side wall 312 and the front wall 311 (See Figures 3 and 4)

챔버(31)는 육면체를 기준으로, 전면벽(311), 측면벽(312), 후면벽(313), 바닥면(314), 상부벽(315)으로 이루어져 있다. 측면벽(313)은 촤측면벽 및 좌측면벽과 마주보는 우측면벽으로 이루어져 있다.
The chamber 31 includes a front wall 311, a side wall 312, a rear wall 313, a bottom wall 314 and a top wall 315 with reference to a hexahedron. The side wall 313 is composed of a side wall and a right side wall facing the left side wall.

디스펜서(20)를 통하여 고압의 도포물질이 챔버(31)의 내부로 유입된다. 챔버(31)의 내부는 내부판(33)에 의해서 구획된다. 내부판(33), 챔버(31)의 전면벽(311), 챔버(31)의 바닥면(314), 챔버(31)의 측면벽(312)으로 액체를 수용할 수 있는 공간이 마련된다. 유입구(34)를 통하여 들어온 액상의 도포물질은 이 공간에 저장된다. 유입구(34)를 통하여, 들어온 액상의 도포물질은 내부판(33)에 의해서 구획된 공간에 저장된다. (도 4 참조)
The high-pressure coating material flows into the chamber 31 through the dispenser 20. The inside of the chamber 31 is partitioned by the inner plate 33. A space is provided for accommodating liquid to the inner plate 33, the front wall 311 of the chamber 31, the bottom surface 314 of the chamber 31, and the side wall 312 of the chamber 31. The liquid coating material coming in through the inlet 34 is stored in this space. The liquid coating material entered through the inlet 34 is stored in a space defined by the inner plate 33. (See Fig. 4)

한편, 내부판(33)은 챔버(31)의 상부벽(315)과는 이격거리를 두고 떨어져 있다. 따라서, 도포물질(C)이 지속적으로 유입되면, 내부판(33)의 상부면(331)을 넘어 흘러내린다. 이때, 상부면(331)이 중력방향에 대하여 수직으로 위치하면, 도포물질(C)이 상부면(331)의 전 영역에서 골고루 동일하게 넘쳐흐르게 된다. 이렇게 넘쳐흐르는 도포물질(C)은 토출구(35)를 통하여 외부로 토출된다.On the other hand, the inner plate 33 is spaced apart from the upper wall 315 of the chamber 31 at a distance. Therefore, when the coating material C continuously flows, it flows down over the upper surface 331 of the inner plate 33. At this time, when the upper surface 331 is positioned perpendicular to the gravity direction, the coating material C overflows uniformly over the entire area of the upper surface 331. The overflowing coating material (C) is discharged to the outside through the discharge port (35).

이러한, 토출구(35)를 평면의 대상물 위에서, 일정한 속도로 지나가면, 대상물에 도포물질(C)이 균일한 두께로 도포된다.
When the discharge port 35 is passed over the planar object at a constant speed, the coating material C is applied to the object at a uniform thickness.

내부판(33)의 상부면(331)은 디스펜서(20)에 챔버(31)가 결합될 경우, 중력방향에 대해서 수직인 상태여야 한다. 상부면(331)이 특정 방향으로 기울어질 경우, 기울어진 부분에 도포물질(C)이 쏠려서 흘러내린다. 따라서, 디스펜서(20)에 챔버(31)가 결합시 상부면(331)이 수평(중력방향에 대해서는 수직)을 유지하도록 조율이 필요하다.
The upper surface 331 of the inner plate 33 should be perpendicular to the gravity direction when the chamber 31 is coupled to the dispenser 20. When the upper surface 331 is inclined in a specific direction, the coating material C is applied to the inclined portion and flows down. Therefore, when the chamber 31 is coupled to the dispenser 20, it is necessary to tune the top surface 331 to keep it horizontal (perpendicular to the gravity direction).

한편, 도포물질(C)에는 기포가 함유되어 있을 수 있다. 이러한 기포는 추후 제품의 불량을 일으킬 수 있다. 따라서, 토출구(35)로 도포물질이 흘러내리기 전에, 도포물질(C)에 함유된 기포를 제거할 필요가 있다. 본 실시예에서는 진공장치(32)가 챔버(31)에 결합되어 있다. 진공장치(32)가 작동하면, 챔버(31)의 내부의 압력이 떨어져, 기포가 도포물질(C) 밖으로 분출된다.(도 3 참조)
On the other hand, the coating material (C) may contain air bubbles. Such bubbles may cause defective products in the future. Therefore, it is necessary to remove the bubbles contained in the coating material (C) before the coating material flows down to the discharge port (35). In the present embodiment, the vacuum device 32 is coupled to the chamber 31. When the vacuum device 32 is operated, the pressure inside the chamber 31 is released and the bubbles are ejected out of the coating material C (see FIG. 3)

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스펜서 평면노즐의 사시도이며, 도 6은 도 5의 B-B'의 단면도이다.FIG. 5 is a perspective view of a dispenser plane nozzle according to another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a sectional view taken along line B-B 'of FIG.

본 실시예의 디스펜서 평면노즐(40)은, 내부 공간이 형성된 챔버(41)와; 상기 챔버(41)의 상부벽(415)과는 이격거리 두고 상기 챔버(41)의 바닥면(414)과 측면벽(412)에 결합하여 돌출된 제1 내부판(431)과; 상기 챔버(41)의 바닥면(414)에 상기 측면벽(412)과 평행하게 형성된 토출구(45)와; 상기 토출구(45)와 상기 제1 내부판(431) 사이에 위치하며, 상기 챔버(41)의 상부벽(415)과는 이격거리를 두고, 상기 챔버(41)의 바닥면(414)과 측면벽(412)에 결합하며, 상기 챔버(41)가 디스펜서에 결합시 상부면(415)이 중력방향에 대하여 수직이며, 상기 제1 내부판(431)보다 높이가 낮은 제2 내부판(432)과; 상기 제 1 내부판(431), 상기 챔버(41)의 바닥면(414), 상기 챔버(41)의 측면벽(412) 및 상기 챔버(41)의 전면벽(411)으로 이루어진 공간에 도포물질이 유입되도록 상기 챔버(41)에 형성된 유입구(44)를 포함한다.
The dispenser plane nozzle 40 of this embodiment has a chamber 41 in which an inner space is formed; A first inner plate 431 protruding from the bottom wall 414 and the side wall 412 of the chamber 41 so as to protrude from the upper wall 415 of the chamber 41; A discharge port 45 formed on the bottom surface 414 of the chamber 41 in parallel with the side wall 412; The bottom surface 414 of the chamber 41 and the side wall 414 of the chamber 41 are located between the discharge port 45 and the first inner plate 431 and are spaced apart from the upper wall 415 of the chamber 41. [ A second inner plate 432 coupled to the wall 412 and having a top surface 415 perpendicular to the gravity direction when the chamber 41 is coupled to the dispenser and a lower height than the first inner plate 431, and; A space formed by the first inner plate 431, the bottom surface 414 of the chamber 41, the side wall 412 of the chamber 41 and the front wall 411 of the chamber 41 is coated with a coating material (44) formed in the chamber (41).

본 실시예의 디스펜서 평면노즐(40)은 도 3 및 도 4의 디스펜서 평면노즐(30)과 대략적인 구성은 동일하다. 따라서, 이하에서는 차이점 위주로 설명한다. 도 4의 디스펜서 평면노즐(30)의 경우, 고압의 도포물질이 유입구(34)를 통하여 챔버(31) 내부로 분사될 경우, 도포물질의 표면에서 출렁거리는 파동이 발생할 수 있다. 이러한 파동이 내부판(33)의 상부면(331)으로 전달되면, 넘쳐 흐르는 도포물질의 양이 상부면(331)의 위치에 따라서 달라진다. 본 실시예의 디스펜서 평면노즐(40)은 이러한 파동을 고려하여, 다단 구조의 도포물질 저장부를 챔버(41)의 내부에 마련함으로써, 파동으로 인한 문제를 해결하였다.
The dispenser plane nozzle 40 of this embodiment is substantially the same in construction as the dispenser plane nozzle 30 of Figs. 3 and 4. Therefore, the following description focuses on the difference. In the case of the dispenser plane nozzle 30 of Fig. 4, when a high-pressure coating material is injected into the chamber 31 through the inlet 34, a rippling wave may occur on the surface of the coating material. When such a wave is transmitted to the upper surface 331 of the inner plate 33, the amount of the overflowing coating material differs depending on the position of the upper surface 331. The dispenser plane nozzle 40 of the present embodiment solves the problem caused by the wave by providing the coating material storage portion of the multi-stage structure in the chamber 41 in consideration of such a wave.

챔버(41)의 내부에는 바닥면(414)에 두 개의 내부판이 돌출되어 있다. 제1 내부판(431)으로 만들어진 공간에 1차적으로 액상의 도포물질을 가둬둘 수 있다. 제1 내부판(431)과 챔버(41)의 전면벽(411), 챔버(41)의 측면벽(412) 및 챔버(41)의 바닥면(414)로 만들어진 공간에 유입구(44)를 통하여 고압으로 도포물질이 토출된다. 이 도포물질은, 제1 내부판(431)의 상부면(4311)을 넘쳐서 흘러내리게 된다. 이때, 넘친 도포물질은 제1 내부판(431), 제2 내부판(432), 챔버(41)의 측면벽(412), 챔버(41)의 바닥면(414)로 이루어진 공간에 다시 모이게 된다. 이때는, 제1 내부판(431)을 단순히 넘쳐서 중력으로 흘러들어온 도포물질이기 때문에 표면 출렁거림으로 인한 파동은 거의 없다. Inside the chamber 41, two inner plates protrude from the bottom surface 414. It is possible to primarily confine the liquid coating material in the space formed by the first inner plate 431. [ The space formed by the first inner plate 431 and the front wall 411 of the chamber 41, the side wall 412 of the chamber 41 and the bottom surface 414 of the chamber 41 The coating material is discharged at a high pressure. This coating material flows over the upper surface 4311 of the first inner plate 431 and flows down. At this time, the overflowing coating material is collected again in the space formed by the first inner plate 431, the second inner plate 432, the side wall 412 of the chamber 41, and the bottom surface 414 of the chamber 41 . At this time, since the first inner plate 431 is merely overflowing and is a coating material flowing in gravity, there is almost no vibration due to the surface rattling.

한편, 제1 내부판(431)과 제2 내부판(431) 사이에, 차단판(433)을 둠으로써, 제1 내부판(431)을 흘러 넘치면서 발생하는 미약한 파동마저도 차단된다. 차단판(433)은 상부벽(433)에서 바닥면(414) 방향으로 돌출되어 있다.
On the other hand, by disposing the blocking plate 433 between the first inner plate 431 and the second inner plate 431, even a weak wave generated by overflowing the first inner plate 431 is blocked. The blocking plate 433 protrudes from the top wall 433 toward the bottom surface 414.

제1 내부판(431)은 제2 내부판(432) 보다 바닥면(414)에서 더 돌출되어 있다. 따라서, 제1 내부판(431)을 흘러넘친 도포물질은 제2 내부판(432)으로 만들어진 공간에 채워진 이후, 제2 내부판(432)을 넘쳐흘러, 토출구(45)를 향한다.The first inner plate 431 is further projected from the bottom surface 414 than the second inner plate 432. The coating material overflowing the first inner plate 431 flows over the second inner plate 432 and flows toward the discharge port 45 after being filled in the space formed by the second inner plate 432. [

이때, 제2 내부판(432)의 상부면(4321)은 중력방향에 대하여 수직인 것이 좋다. 이렇게 될 때, 상부면(4321)의 전 영역에 균일하게 도포물질이 흘러내린다. 토출구(45)의 길이가 길던 짧던 상부면(4321)이 수평(중력방향에 대해서 수직)으로 유지된다면, 동일한 양의 도포물질이 토출구(45)로 유출된다. 결과적으로 넓은 면의 대상물에도 균일한 도포물질의 도포가 가능하다. At this time, the upper surface 4321 of the second inner plate 432 is preferably perpendicular to the gravity direction. When this happens, the coating material flows uniformly over the entire area of the upper surface 4321. The same amount of the coating material flows out to the discharge port 45 if the upper surface 4321 of which the discharge port 45 is long is kept horizontal (perpendicular to the gravity direction). As a result, it is possible to apply a uniform coating material even to a large-sized object.

본 실시예의 디스펜서 평면노즐(40)도, 도포물질에 함유된 기포를 제거하기 위하여 진공장치(42)를 챔버(41)에 결합시킬 수 있다.
The dispenser plane nozzle 40 of this embodiment can also couple the vacuum device 42 to the chamber 41 to remove the bubbles contained in the coating material.

이상에서 본 발명의 실시예에 대해서 상세히 설명하였으나, 이는 하나의 실시예에 불과하며, 이로써 본 발명의 특허청구범위를 한정하는 것은 아니다. 본 실시예를 바탕으로 균등한 범위까지 당업자가 변형 및 추가하는 범위도 본 발명의 권리범위에 속한다 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. Modifications and additions by those skilled in the art to an equivalent range based on the embodiments will also fall within the scope of the present invention.

디스펜싱 시스템(100) 원료공급장치(10)
디스펜서(20) 디스펜서 평면노즐(30)
챔버(31) 진공장치(32)
내부판(33) 유입구(34)
The dispensing system 100 comprises a raw material supply device 10,
Dispensers (20) Dispenser flat nozzles (30)
Chamber (31) Vacuum Equipment (32)
The inlet (34) of the inner plate (33)

Claims (8)

내부 공간이 형성된 챔버와;
상기 챔버의 상부벽과는 이격거리를 두고 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하여 돌출되며, 상기 챔버가 디스펜서에 결합시 상부면이 중력방향에 대하여 수직인 내부판과;
상기 챔버의 바닥면에 상기 측면벽과 평행하게 형성된 토출구와;
상기 내부판과 상기 챔버의 측면벽, 상기 챔버의 바닥면 및 상기 챔버의 전면벽으로 이루어진 공간으로 도포물질이 유입되도록 상기 챔버에 형성된 유입구를 포함하는 디스펜서 평면노즐.
A chamber in which an internal space is formed;
An inner plate protruding from the bottom wall and the side wall of the chamber at a distance from the upper wall of the chamber, the upper wall of the chamber being perpendicular to the gravity direction when the chamber is coupled to the dispenser;
A discharge port formed on a bottom surface of the chamber in parallel with the side wall;
And an inlet formed in the chamber for introducing the coating material into a space defined by a side wall of the inner plate and the chamber, a bottom surface of the chamber, and a front wall of the chamber.
내부 공간이 형성된 챔버와;
상기 챔버의 상부벽과는 이격거리 두고 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하여 돌출된 제1 내부판과;
상기 챔버의 바닥면에 상기 측면벽과 평행하게 형성된 토출구와;
상기 토출구와 상기 제1 내부판 사이에 위치하며, 상기 챔버의 상부벽과는 이격거리를 두고, 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하며, 상기 챔버가 디스펜서에 결합시 상부면이 중력방향에 대하여 수직이며, 상기 제1 내부판보다 높이가 낮은 제2 내부판과;
상기 제 1 내부판, 상기 챔버의 바닥면, 상기 챔버의 측면벽 및 상기 챔버의 전면벽으로 이루어진 공간으로 도포물질이 유입되도록 상기 챔버에 형성된 유입구를 포함하는 디스펜서 평면노즐.

A chamber in which an internal space is formed;
A first inner plate spaced apart from the upper wall of the chamber and protruding from the bottom wall and the side wall of the chamber;
A discharge port formed on a bottom surface of the chamber in parallel with the side wall;
Wherein the chamber is coupled to a bottom surface and a side wall of the chamber, the chamber being positioned between the discharge port and the first inner plate and spaced apart from the top wall of the chamber, A second inner plate which is perpendicular to the first inner plate and is lower in height than the first inner plate;
And an inlet formed in the chamber for introducing the coating material into a space defined by the first inner plate, the bottom surface of the chamber, the side wall of the chamber, and the front wall of the chamber.

제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 챔버에는 진공장치가 더 결합되는 것을 특징으로 하는 디스펜서 평면노즐.
3. The method according to claim 1 or 2,
And a vacuum device is further coupled to the chamber.
제2항에 있어서,
상기 제1 내부판과 상기 제2 내부판 사이에는, 상기 챔버의 상부벽과 상기 측면벽과 결합하되, 하부면이 상기 챔버의 바닥면과 이격거리를 두고 돌출된 차단판을 더 포함하는 디스펜서 평면노즐.

3. The method of claim 2,
Further comprising a shutoff plate coupled between the first inner plate and the second inner plate, the shutoff plate coupled to the upper wall and the side wall of the chamber, the lower surface projecting with a distance from the bottom surface of the chamber, Nozzle.

원료공급장치;
상기 원료공급장치로부터 도포물질을 공급받는 디스펜서와;
상기 디스펜서와 결합되어, 대상물에 도포물질이 도포되도록 토출하는 디스펜서 평면노즐을 포함하되,
상기 디스펜서 평면노즐은,
내부 공간이 형성된 챔버와;
상기 챔버의 상부벽과는 이격거리를 두고 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하여 돌출되며, 상기 챔버가 디스펜서에 결합시 상부면이 중력방향에 대하여 수직인 내부판과;
상기 챔버의 바닥면에 상기 측면벽과 평행하게 형성된 토출구와;
상기 내부판과 상기 챔버의 측면벽, 상기 챔버의 바닥면 및 상기 챔버의 전면벽으로 이루어진 공간으로 도포물질이 유입되도록 상기 챔버에 형성된 유입구를 포함하는 디스펜서 시스템.
A raw material supply device;
A dispenser for receiving a coating material from the raw material supply device;
And a dispenser plane nozzle coupled to the dispenser for discharging a coating material to the object to be coated,
The dispenser plane nozzle
A chamber in which an internal space is formed;
An inner plate protruding from the bottom wall and the side wall of the chamber at a distance from the upper wall of the chamber, the upper wall of the chamber being perpendicular to the gravity direction when the chamber is coupled to the dispenser;
A discharge port formed on a bottom surface of the chamber in parallel with the side wall;
And an inlet formed in the chamber for introducing the coating material into a space defined by the side walls of the inner plate and the chamber, the bottom surface of the chamber, and the front wall of the chamber.
원료공급장치;
상기 원료공급장치로부터 도포물질을 공급받는 디스펜서와;
상기 디스펜서와 결합되어, 대상물에 도포물질이 도포되도록 토출하는 디스펜서 평면노즐을 포함하되,
상기 디스펜서 평면노즐은.
내부 공간이 형성된 챔버와;
상기 챔버의 상부벽과는 이격거리 두고 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하여 돌출된 제1 내부판과;
상기 챔버의 바닥면에 상기 측면벽과 평행하게 형성된 토출구와;
상기 토출구와 상기 제1 내부판 사이에 위치하며, 상기 챔버의 상부벽과는 이격거리를 두고, 상기 챔버의 바닥면과 측면벽에 결합하며, 상기 챔버가 디스펜서에 결합시 상부면이 중력방향에 대하여 수직이며, 상기 제1 내부판보다 높이가 낮은 제2 내부판과;
상기 제 1 내부판, 상기 챔버의 바닥면, 상기 챔버의 측면벽 및 상기 챔버의 전면벽으로 이루어진 공간으로 도포물질이 유입되도록 상기 챔버에 형성된 유입구를 포함하는 디스펜서 시스템.

A raw material supply device;
A dispenser for receiving a coating material from the raw material supply device;
And a dispenser plane nozzle coupled to the dispenser for discharging a coating material to the object to be coated,
The dispenser plane nozzle comprises:
A chamber in which an internal space is formed;
A first inner plate spaced apart from the upper wall of the chamber and protruding from the bottom wall and the side wall of the chamber;
A discharge port formed on a bottom surface of the chamber in parallel with the side wall;
Wherein the chamber is coupled to a bottom surface and a side wall of the chamber, the chamber being positioned between the discharge port and the first inner plate and spaced apart from the top wall of the chamber, A second inner plate which is perpendicular to the first inner plate and is lower in height than the first inner plate;
An inlet formed in the chamber for introducing the coating material into a space defined by the first inner plate, the bottom surface of the chamber, the side wall of the chamber, and the front wall of the chamber.

제5항 또는 제6항에 있어서,
상기 챔버에는 진공장치가 더 결합되는 것을 특징으로 하는 디스펜서 시스템.
The method according to claim 5 or 6,
And a vacuum device is further coupled to the chamber.
제8항에 있어서,
상기 제1 내부판과 상기 제2 내부판 사이에는, 상기 챔버의 상부벽과 상기 측면벽과 결합하되, 하부면이 상기 챔버의 바닥면과 이격거리를 두고 돌출된 차단판을 더 포함하는 디스펜서 시스템.

9. The method of claim 8,
Further comprising a shield plate coupled between the first inner plate and the second inner plate, the shield plate coupled with the upper wall and the side wall of the chamber, the lower surface projecting with a distance from the bottom surface of the chamber, .

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