KR20160095307A - 폴더블 표시 장치 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 62
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 31
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 19
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 18
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 101150037603 cst-1 gene Proteins 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020923 Sn-O Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910007541 Zn O Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910007611 Zn—In—O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007604 Zn—Sn—O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007746 Zr—O Inorganic materials 0.000 description 1
- GWQGFBOINSFOEJ-UHFFFAOYSA-N [Ge]=O.[In] Chemical compound [Ge]=O.[In] GWQGFBOINSFOEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWXIRYKCFANFRC-UHFFFAOYSA-N [O--].[O--].[O--].[Al+3].[In+3] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[Al+3].[In+3] KWXIRYKCFANFRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNHWXTTYEVZWGS-UHFFFAOYSA-N [Sn]=O.[Ta].[P] Chemical compound [Sn]=O.[Ta].[P] XNHWXTTYEVZWGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N alstonine Natural products C1=CC2=C3C=CC=CC3=NC2=C2N1C[C@H]1[C@H](C)OC=C(C(=O)OC)[C@H]1C2 WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WCOSNLGKHNWDQR-UHFFFAOYSA-N germanium;indium;oxotin Chemical compound [Ge].[In].[Sn]=O WCOSNLGKHNWDQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMCMKBBLRYJDNO-UHFFFAOYSA-N indium(3+) oxygen(2-) tantalum(5+) Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[In+3].[Ta+5] WMCMKBBLRYJDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJZPJSFRSAHQNT-UHFFFAOYSA-N indium(3+) oxygen(2-) zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[Zr+4].[In+3] HJZPJSFRSAHQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N oxotin;zinc Chemical compound [Zn].[Sn]=O KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- YSRUGFMGLKANGO-UHFFFAOYSA-N zinc hafnium(4+) indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Zn+2].[In+3].[Hf+4] YSRUGFMGLKANGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHNUEJOZZSDCTO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[Zn+2].[In+3].[Ta+5].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2] FHNUEJOZZSDCTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
- H10K59/1213—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs
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- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
- G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
- G09F9/301—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133305—Flexible substrates, e.g. plastics, organic film
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
- H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
- H10K10/481—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the gate conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
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- Y02E10/549—Organic PV cells
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Abstract
본 발명에 따른 폴더블 표시 장치는 접히는 부분인 폴딩부를 가지는 기판, 상기 기판 위에 형성되어 있는 게이트 전극, 상기 게이트 전극과 중첩하고 있는 채널, 상기 채널의 양 옆에 각각 위치하고 있는 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 복수개의 트랜지스터를 포함하고, 상기 게이트 전극은 적어도 하나 이상의 게이트 절개부에 의해 복수개의 서브 게이트 전극으로 분리되어 있을 수 있다.
Description
본 발명은 폴더블 표시 장치에 관한 것이다.
현재 알려져 있는 평판 표시 장치에는 액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD), 플라스마 표시 장치(plasma display panel, PDP), 폴더블 표시 장치(organic light emitting display, OLED), 전계 효과 표시 장치(field effect display, FED), 전기 영동 표시 장치(eletrophoretic display, EPD)등이 있다.
이러한 평판 표시 장치를 다양한 상황에 적용하기 위해 쉽게 구부릴 수 있는 플렉서블 표시 장치(Flexible Display), 접을 수 있는 폴더블 표시 장치(Foldable Display), 감을 수 있는 롤러블 표시 장치(Rollable Display), 신축할 수 있는 스트레쳐블 표시 장치(Stretchable Display) 등이 연구되고 있다.
특히, 폴더블 표시 장치는 접고 펴는 동작을 반복하는 경우, 접히는 폴딩부(Folding portion)에 위치하는 화소 내부의 트랜지스터가 손상되어 트랜지스터 특성 이상 현상이 발생할 수 있다. 예컨대, 폴딩부의 폴딩선과 게이트 전극의 전류 이동 방향이 교차하는 경우, 게이트 전극의 일부가 접혀지게 되므로 게이트 전극의 일부에서 전류가 원활히 이동하기 어려워 트랜지스터 전체에 이상 현상이 발생하게 된다. 또한, 폴딩부의 폴딩선과 반도체의 전류 이동 방향이 교차하는 경우, 반도체의 일부가 접혀지게 되므로 반도체의 일부에서 전류가 원활히 이동하기 어려워 트랜지스터 전체에 이상 현상이 발생하게 된다.
본 발명은 전술한 배경 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 폴딩부의 불량을 최소화할 수 있는 폴더블 표시 장치에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치는 접히는 부분인 폴딩부를 가지는 기판, 상기 기판 위에 형성되어 있는 게이트 전극, 상기 게이트 전극과 중첩하고 있는 채널, 상기 채널의 양 옆에 각각 위치하고 있는 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 복수개의 트랜지스터를 포함하고, 상기 게이트 전극은 적어도 하나 이상의 게이트 절개부에 의해 복수개의 서브 게이트 전극으로 분리되어 있을 수 있다.
상기 복수개의 트랜지스터 중 일부는 상기 폴딩부에서 접히는 기준선인 폴딩선 상에 위치하고 있을 수 있다.
상기 게이트 절개부 중 일부는 상기 폴딩선과 평행하게 배치되어 있을 수 있다.
상기 기판 위에 형성되어 있으며 스캔 신호를 전달하는 스캔선, 상기 스캔선과 교차하며 데이터 전압 및 구동 전압을 각각 전달하는 데이터선 및 구동 전압선을 더 포함하고, 상기 트랜지스터는 상기 스캔선 및 상기 데이터선과 연결되어 있으며, 상기 데이터 전압을 출력하는 스위칭 드레인 전극을 포함하는 스위칭 트랜지스터, 상기 스위칭 드레인 전극과 연결되어 있는 구동 소스 전극을 포함하는 구동 트랜지스터를 포함하고, 상기 구동 트랜지스터의 구동 게이트 전극은 적어도 하나 이상의 구동 게이트 절개부에 의해 복수개의 서브 구동 게이트 전극으로 분리되어 있을 수 있다.
상기 스위칭 트랜지스터의 스위칭 게이트 전극은 적어도 하나 이상의 스위칭 게이트 절개부에 의해 복수개의 서브 스위칭 게이트 전극으로 분리되어 있을 수 있다.
상기 구동 게이트 전극 또는 상기 스위칭 게이트 전극은 상기 폴딩부에서 접히는 기준선인 폴딩선 상에 위치하고 있을 수 있다.
상기 구동 트랜지스터의 구동 드레인 전극과 전기적으로 연결되어 있는 유기 발광 다이오드를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 폴더블 표시 장치는 접히는 부분인 폴딩부를 가지는 기판, 상기 기판 위에 형성되어 있는 게이트 전극, 상기 게이트 전극과 중첩하고 있는 채널, 상기 채널의 양 옆에 각각 위치하고 있는 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 트랜지스터를 포함하고, 상기 채널은 적어도 하나 이상의 채널 절개부에 의해 복수개의 서브 채널로 분리되어 있을 수 있다.
상기 트랜지스터는 상기 폴딩부에서 접히는 기준선인 폴딩선 상에 위치할 수있다.
상기 채널 절개부 중 일부는 상기 폴딩선과 평행하게 배치되어 있을 수 있다.
상기 기판 위에 형성되어 있으며 스캔 신호를 전달하는 스캔선, 상기 스캔선과 교차하며 데이터 전압 및 구동 전압을 각각 전달하는 데이터선 및 구동 전압선을 더 포함하고, 상기 트랜지스터는 상기 스캔선 및 상기 데이터선과 연결되어 있으며, 상기 데이터 전압을 출력하는 스위칭 드레인 전극을 포함하는 스위칭 트랜지스터, 상기 스위칭 드레인 전극과 연결되어 있는 구동 소스 전극을 포함하는 구동 트랜지스터를 포함하고, 상기 구동 트랜지스터의 구동 채널은 적어도 하나 이상의 구동 채널 절개부에 의해 복수개의 서브 구동 채널로 분리되어 있을 수 있다.
상기 스위칭 트랜지스터의 스위칭 채널은 적어도 하나 이상의 스위칭 채널 절개부에 의해 복수개의 서브 스위칭 채널로 분리되어 있을 수 있다.
상기 구동 채널 또는 상기 스위칭 채널은 상기 폴딩부에서 접히는 기준선인 폴딩선 상에 위치하고 있을 수 있다.
상기 구동 트랜지스터의 구동 드레인 전극과 전기적으로 연결되어 있는 유기 발광 다이오드를 더 포함할 수 있다.
상기 구동 채널은 평면상 굴곡되어 있을 수 있다.
본 발명에 따르면, 게이트 전극에 게이트 절개부를 형성하여 복수개의 서브 게이트 전극으로 분리하거나, 채널에 채널 절개부를 형성하여 복수개의 서브 채널로 분리함으로써, 폴딩부의 폴딩선 상에 위치하는 트랜지스터의 특성 이상 현상을 제거하여 폴딩부의 불량을 최소화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 하나의 화소의 등가 회로도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 하나의 화소에 인가되는 신호의 타이밍도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 복수개의 트랜지스터 및 커패시터를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 5는 도 4의 구체적인 배치도이다.
도 6은 도 5의 구동 트랜지스터의 확대 배치도이다.
도 7은 도 5의 보상 트랜지스터의 확대 배치도이다.
도 8은 도 5의 폴더블 표시 장치를 VIII-VIII선을 따라 자른 단면도이다.
도 9는 도 5의 폴더블 표시 장치를 IX-IX선을 따라 자른 단면도이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 구체적인 배치도이다.
도 11은 도 10의 구동 트랜지스터의 확대 배치도이다.
도 12는 도 10의 보상 트랜지스터의 확대 배치도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 하나의 화소의 등가 회로도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 하나의 화소에 인가되는 신호의 타이밍도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 복수개의 트랜지스터 및 커패시터를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 5는 도 4의 구체적인 배치도이다.
도 6은 도 5의 구동 트랜지스터의 확대 배치도이다.
도 7은 도 5의 보상 트랜지스터의 확대 배치도이다.
도 8은 도 5의 폴더블 표시 장치를 VIII-VIII선을 따라 자른 단면도이다.
도 9는 도 5의 폴더블 표시 장치를 IX-IX선을 따라 자른 단면도이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 구체적인 배치도이다.
도 11은 도 10의 구동 트랜지스터의 확대 배치도이다.
도 12는 도 10의 보상 트랜지스터의 확대 배치도이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.
또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서 전체에서, "~상에"라 함은 대상 부분의 위 또는 아래에 위치함을 의미하는 것이며, 반드시 중력 방향을 기준으로 상 측에 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다.
또한, 명세서 전체에서, "평면상"이라 할 때, 이는 대상 부분을 위에서 보았을 때를 의미하며, "단면상"이라 할 때, 이는 대상 부분을 수직으로 자른 단면을 옆에서 보았을 때를 의미한다.
그러면 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치에 대하여 도 1 내지 도 9를 참고로 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 사시도이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치(100)는 접히는 부분인 폴딩부(10)를 가지고 있다. 폴딩부에 위치하는 폴딩선(FL)을 기준으로 폴더블 표시 장치(100)는 접히게 된다. 이러한 폴딩선(FL) 상에 위치하는 화소는 폴더블 표시 장치(100)에서 접고 피는 동작을 반복하는 경우 손상되기 쉽다.
이러한 폴더블 표시 장치는 유기 발광 표시 장치를 포함하며, 유기 발광 표시 장치는 두 개의 전극과 그 사이에 위치하는 유기 발광층을 포함하며, 하나의 전극으로부터 주입된 전자(electron)와 다른 전극으로부터 주입된 정공(hole)이 유기 발광층에서 결합하여 여기자(exciton)를 형성하고, 여기자가 에너지를 방출하면서 발광한다. 본 발명의 일 실시예에서는 유기 발광 표시 장치를 예로 들어 설명하였으나, 반드시 여기에 한정되지는 않으며 다양한 폴더블 표시 장치에 적용가능하다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 하나의 화소의 등가 회로도이다.
도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 하나의 화소(1)는 복수개의 신호선(151, 152, 153, 158, 171, 172, 192), 복수개의 신호선에 연결되어 있는 복수개의 트랜지스터(T1, T2, T3, T4, T5, T6, T7), 스토리지 커패시터(storage capacitor, Cst) 및 유기 발광 다이오드(organic light emitting diode, OLED)를 포함한다.
트랜지스터(T1, T2, T3, T4, T5, T6, T7)는 구동 트랜지스터(driving transistor)(T1), 스위칭 트랜지스터(switching transistor)(T2), 보상 트랜지스터(compensation transistor)(T3), 초기화 트랜지스터(initialization transistor)(T4), 동작 제어 트랜지스터(operation control transistor)(T5), 발광 제어 트랜지스터(light emission control transistor)(T6) 및 바이패스 트랜지스터(bypass transistor)(T7)를 포함한다.
신호선(151, 152, 153, 158, 171, 172, 192)은 스캔 신호(Sn)를 전달하는 스캔선(151), 초기화 트랜지스터(T4)에 전단 스캔 신호(Sn-1)를 전달하는 전단 스캔선(152), 동작 제어 트랜지스터(T5) 및 발광 제어 트랜지스터(T6)에 발광 제어 신호(EM)를 전달하는 발광 제어선(153), 바이패스 트랜지스터(T7)에 바이패스 신호(BP)를 전달하는 바이패스 제어선(158), 스캔선(151)과 교차하며 데이터 신호(Dm)를 전달하는 데이터선(171), 구동 전압(ELVDD)을 전달하며 데이터선(171)과 거의 평행하게 형성되어 있는 구동 전압선(172), 구동 트랜지스터(T1)를 초기화하는 초기화 전압(Vint)을 전달하는 초기화 전압선(192)을 포함한다.
구동 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(G1)은 스토리지 커패시터(Cst)의 일단(Cst1)과 연결되어 있고, 구동 트랜지스터(T1)의 소스 전극(S1)은 동작 제어 트랜지스터(T5)를 경유하여 구동 전압선(172)과 연결되어 있으며, 구동 트랜지스터(T1)의 드레인 전극(D1)은 발광 제어 트랜지스터(T6)를 경유하여 유기 발광 다이오드(OLED)의 애노드(anode)와 전기적으로 연결되어 있다. 구동 트랜지스터(T1)는 스위칭 트랜지스터(T2)의 스위칭 동작에 따라 데이터 신호(Dm)를 전달받아 유기 발광 다이오드(OLED)에 구동 전류(Id)를 공급한다.
스위칭 트랜지스터(T2)의 게이트 전극(G2)은 스캔선(151)과 연결되어 있고, 스위칭 트랜지스터(T2)의 소스 전극(S2)은 데이터선(171)과 연결되어 있으며, 스위칭 트랜지스터(T2)의 드레인 전극(D2)은 구동 트랜지스터(T1)의 소스 전극(S1)과 연결되어 있으면서 동작 제어 트랜지스터(T5)을 경유하여 구동 전압선(172)과 연결되어 있다. 이러한 스위칭 트랜지스터(T2)는 스캔선(151)을 통해 전달받은 스캔 신호(Sn)에 따라 턴 온되어 데이터선(171)으로 전달된 데이터 신호(Dm)을 구동 트랜지스터(T1)의 소스 전극(S1)으로 전달하는 스위칭 동작을 수행한다.
보상 트랜지스터(T3)의 게이트 전극(G3)은 스캔선(151)에 연결되어 있고, 보상 트랜지스터(T3)의 소스 전극(S3)은 구동 트랜지스터(T1)의 드레인 전극(D1)과 연결되어 있으면서 발광 제어 트랜지스터(T6)를 경유하여 유기 발광 다이오드(OLED)의 애노드(anode)와 연결되어 있으며, 보상 트랜지스터(T3)의 드레인 전극(D3)은 초기화 트랜지스터(T4)의 드레인 전극(D4), 스토리지 커패시터(Cst)의 일단(Cst1) 및 구동 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(G1)에 함께 연결되어 있다. 이러한 보상 트랜지스터(T3)는 스캔선(151)을 통해 전달받은 스캔 신호(Sn)에 따라 턴 온되어 구동 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(G1)과 드레인 전극(D1)을 서로 연결하여 구동 트랜지스터(T1)를 다이오드 연결시킨다.
초기화 트랜지스터(T4)의 게이트 전극(G4)은 전단 스캔선(152)과 연결되어 있고, 초기화 트랜지스터(T4)의 소스 전극(S4)은 초기화 전압선(192)과 연결되어 있으며, 초기화 트랜지스터(T4)의 드레인 전극(D4)은 보상 트랜지스터(T3)의 드레인 전극(D3)을 거쳐 스토리지 커패시터(Cst)의 일단(Cst1) 및 구동 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(G1)에 함께 연결되어 있다. 이러한 초기화 트랜지스터(T4)는 전단 스캔선(152)을 통해 전달받은 전단 스캔 신호(Sn-1)에 따라 턴 온되어 초기화 전압(Vint)을 구동 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(G1)에 전달하여 구동 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(G1)의 게이트 전압을 초기화시키는 초기화 동작을 수행한다.
동작 제어 트랜지스터(T5)의 게이트 전극(G5)은 발광 제어선(153)과 연결되어 있으며, 동작 제어 트랜지스터(T5)의 소스 전극(S5)은 구동 전압선(172)와 연결되어 있고, 동작 제어 트랜지스터(T5)의 드레인 전극(D5)은 구동 트랜지스터(T1)의 소스 전극(S1) 및 스위칭 트랜지스터(T2)의 드레인 전극(D2)에 연결되어 있다.
발광 제어 트랜지스터(T6)의 게이트 전극(G6)은 발광 제어선(153)과 연결되어 있으며, 발광 제어 트랜지스터(T6)의 소스 전극(S6)은 구동 트랜지스터(T1)의 드레인 전극(D1) 및 보상 트랜지스터(T3)의 소스 전극(S3)과 연결되어 있고, 발광 제어 트랜지스터(T6)의 드레인 전극(D6)은 유기 발광 다이오드(OLED)의 애노드(anode)와 전기적으로 연결되어 있다. 이러한 동작 제어 트랜지스터(T5) 및 발광 제어 트랜지스터(T6)는 발광 제어선(153)을 통해 전달받은 발광 제어 신호(EM)에 따라 동시에 턴 온되고 이를 통해 구동 전압(ELVDD)이 다이오드 연결된 구동 트랜지스터(T1)를 통해 보상되어 유기 발광 다이오드(OLED)에 전달된다.
바이패스 트랜지스터(T7)의 게이트 전극(G7)은 바이패스 제어선(158)과 연결되어 있고, 바이패스 트랜지스터(T7)의 소스 전극(S7)은 발광 제어 트랜지스터(T6)의 드레인 전극(D6) 및 유기 발광 다이오드(OLED)의 애노드에 함께 연결되어 있고, 바이패스 트랜지스터(T7)의 드레인 전극(D7)은 초기화 전압선(192) 및 초기화 트랜지스터(T4)의 소스 전극(S4)에 함께 연결되어 있다. 여기서, 바이패스 제어선(158)은 전단 스캔선(152)에 연결되어 있으므로, 바이패스 신호(BP)는 전단 스캔 신호(Sn-1)와 동일하다.
스토리지 커패시터(Cst)의 타단(Cst2)은 구동 전압선(172)과 연결되어 있으며, 유기 발광 다이오드(OLED)의 캐소드(cathode)는 공통 전압(ELVSS)을 전달하는 공통 전압선(741)과 연결되어 있다.
한편, 본 발명의 일 실시예에서는 바이패스 트랜지스터(T7)를 포함하는 7 트랜지스터 1 커패시터 구조를 도시하고 있지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 트랜지스터의 수와 커패시터의 수는 다양하게 변형 가능하다.
이하에서 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 한 화소의 구체적인 동작 과정을 도 3을 참고하여 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 하나의 화소에 인가되는 신호의 타이밍도이다.
도 3에 도시한 바와 같이, 우선, 초기화 기간 동안 전단 스캔선(152)을 통해 로우 레벨(low level)의 전단 스캔 신호(Sn-1)가 공급된다. 그러면, 로우 레벨의 전단 스캔 신호(Sn-1)에 대응하여 초기화 트랜지스터(T4)가 턴 온(Turn on)되며, 초기화 전압선(192)으로부터 초기화 트랜지스터(T4)를 통해 초기화 전압(Vint)이 구동 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(G1)에 연결되고, 초기화 전압(Vint)에 의해 구동 트랜지스터(T1)가 초기화된다.
이 후, 데이터 프로그래밍 기간 중 스캔선(151)을 통해 로우 레벨의 스캔 신호(Sn)가 공급된다. 그러면, 로우 레벨의 스캔 신호(Sn)에 대응하여 스위칭 트랜지스터(T2) 및 보상 트랜지스터(T3)가 턴 온된다. 이 때, 구동 트랜지스터(T1)는 턴 온된 보상 트랜지스터(T3)에 의해 다이오드 연결되고, 순방향으로 바이어스 된다.
그러면, 데이터선(171)으로부터 공급된 데이터 신호(Dm)에서 구동 트랜지스터(T1)의 문턱 전압(Threshold voltage, Vth)만큼 감소한 보상 전압(Dm+Vth, Vth는 (-)의 값)이 구동 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(G1)에 인가된다. 스토리지 커패시터(Cst)의 양단에는 구동 전압(ELVDD)과 보상 전압(Dm+Vth)이 인가되고, 스토리지 커패시터(Cst)에는 양단 전압 차에 대응하는 전하가 저장된다.
이 후, 발광 기간 동안 발광 제어선(153)으로부터 공급되는 발광 제어 신호(EM)가 하이 레벨에서 로우 레벨로 변경된다. 그러면, 발광 기간 동안 로우 레벨의 발광 제어 신호(EM)에 의해 동작 제어 트랜지스터(T5) 및 발광 제어 트랜지스터(T6)가 턴 온된다.
그러면, 구동 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(G1)의 게이트 전압과 구동 전압(ELVDD) 간의 전압차에 따르는 구동 전류(Id)가 발생하고, 발광 제어 트랜지스터(T6)를 통해 구동 전류(Id)가 유기 발광 다이오드(OLED)에 공급된다. 발광 기간동안 스토리지 커패시터(Cst)에 의해 구동 트랜지스터(T1)의 게이트-소스 전압(Vgs)은 '(Dm+Vth)-ELVDD'으로 유지되고, 구동 트랜지스터(T1)의 전류-전압 관계에 따르면, 구동 전류(Id)는 소스-게이트 전압에서 문턱 전압을 차감한 값의 제곱 '(Dm-ELVDD)2'에 비례한다. 따라서 구동 전류(Id)는 구동 트랜지스터(T1)의 문턱 전압(Vth)에 관계 없이 결정된다.
이 때, 바이패스 트랜지스터(T7)는 바이패스 제어선(158)으로부터 바이패스 신호(BP)를 전달받는다. 바이패스 신호(BP)는 바이패스 트랜지스터(T7)를 항상 오프시킬 수 있는 소정 레벨의 전압으로서, 바이패스 트랜지스터(T7)는 트랜지스터 오프 레벨의 전압을 게이트 전극(G7)에 전달받게 됨으로써, 바이패스 트랜지스터(T7)가 항상 오프되고, 오프된 상태에서 구동 전류(Id)의 일부는 바이패스 전류(Ibp)로 바이패스 트랜지스터(T7)를 통해 빠져나가게 한다.
블랙 영상을 표시하는 구동 트랜지스터(T1)의 최소 전류가 구동 전류로 흐를 경우에도 유기 발광 다이오드(OLED)가 발광하게 된다면 제대로 블랙 영상이 표시되지 않는다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 바이패스 트랜지스터(T7)는 구동 트랜지스터(T1)의 최소 전류의 일부를 바이패스 전류(Ibp)로서 유기 발광 다이오드 쪽의 전류 경로 외의 다른 전류 경로로 분산시킬 수 있다. 여기서 구동 트랜지스터(T1)의 최소 전류란 구동 트랜지스터(T1)의 게이트-소스 전압(Vgs)이 문턱 전압(Vth)보다 작아서 구동 트랜지스터(T1)가 오프되는 조건에서의 전류를 의미한다. 이렇게 구동 트랜지스터(T1)를 오프시키는 조건에서의 최소 구동 전류(예를 들어 10pA 이하의 전류)가 유기 발광 다이오드(OLED)에 전달되어 블랙 휘도의 영상으로 표현된다. 블랙 영상을 표시하는 최소 구동 전류가 흐르는 경우 바이패스 전류(Ibp)의 우회 전달의 영향이 큰 반면, 일반 영상 또는 화이트 영상과 같은 영상을 표시하는 큰 구동 전류가 흐를 경우에는 바이패스 전류(Ibp)의 영향이 거의 없다고 할 수 있다. 따라서, 블랙 영상을 표시하는 구동 전류가 흐를 경우에 구동 전류(Id)로부터 바이패스 트랜지스터(T7)를 통해 빠져나온 바이패스 전류(Ibp)의 전류량만큼 감소된 유기 발광 다이오드(OLED)의 발광 전류(Ioled)는 블랙 영상을 확실하게 표현할 수 있는 수준으로 최소의 전류량을 가지게 된다. 따라서, 바이패스 트랜지스터(T7)를 이용하여 정확한 블랙 휘도 영상을 구현하여 콘트라스트비를 향상시킬 수 있다. 도 3에서는 바이패스 신호(BP)는 전단 스캔 신호(Sn-1)와 동일하나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
이하에서, 이러한 구조가 적용된 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 상세 구조에 대하여 도 4, 도 5, 도 6, 도 7, 도 8 및 도 9를 참고하여 상세하게 설명한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 복수개의 트랜지스터 및 커패시터를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 5는 도 4의 구체적인 배치도이며, 도 6은 도 5의 P1 부분의 확대 배치도이고, 도 7은 도 5의 P2 부분의 확대 배치도이며, 도 8은 도 5의 폴더블 표시 장치를 VIII-VIII선을 따라 자른 단면도이고, 도 9는 도 5의 폴더블 표시 장치를 IX-IX선을 따라 자른 단면도이다.
이하에서 도 4, 도 5, 도 6 및 도 7을 참고하여 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 구체적인 평면상 구조에 대해 우선 상세히 설명하고, 도 8 및 도 9를 참고하여 구체적인 단면상 구조에 대해 상세히 설명한다.
우선, 도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치는 스캔 신호(Sn), 전단 스캔 신호(Sn-1), 발광 제어 신호(EM) 및 바이패스 신호(BP)를 각각 인가하며 행 방향을 따라 형성되어 있는 스캔선(151), 전단 스캔선(152), 발광 제어선(153) 및 바이패스 제어선(158)을 포함한다. 그리고, 스캔선(151), 전단 스캔선(152), 발광 제어선(153) 및 바이패스 제어선(158)과 교차하고 있으며 화소(1)에 데이터 신호(Dm) 및 구동 전압(ELVDD)을 각각 인가하는 데이터선(171) 및 구동 전압선(172)을 포함한다. 초기화 전압(Vint)은 초기화 전압선(192)에서 초기화 트랜지스터(T4)를 경유하여 보상 트랜지스터(T3)로 전달된다.
또한, 화소(1)에는 구동 트랜지스터(T1), 스위칭 트랜지스터(T2), 보상 트랜지스터(T3), 초기화 트랜지스터(T4), 동작 제어 트랜지스터(T5), 발광 제어 트랜지스터(T6), 바이패스 트랜지스터(T7), 스토리지 커패시터(Cst), 그리고 유기 발광 다이오드(OLED)가 형성되어 있다. 유기 발광 다이오드(OLED)는 화소 전극(191), 유기 발광층(370) 및 공통 전극(270)으로 이루어진다. 이 때, 보상 트랜지스터(T3)와 초기화 트랜지스터(T4)는 누설 전류를 차단하기 위해 듀얼 게이트(dual gate) 구조의 트랜지스터로 구성되어 있다.
구동 트랜지스터(T1), 스위칭 트랜지스터(T2), 보상 트랜지스터(T3), 초기화 트랜지스터(T4), 동작 제어 트랜지스터(T5), 발광 제어 트랜지스터(T6) 및 바이패스 트랜지스터(T7)의 각각의 채널(channel)은 연결되어 있는 하나의 반도체(130)의 내부에 형성되어 있으며, 반도체(130)는 다양한 형상으로 굴곡되어 형성될 수 있다. 이러한 반도체(130)는 다결정 규소 또는 산화물 반도체로 이루어질 수 있다. 산화물 반도체는 티타늄(Ti), 하프늄(Hf), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 탄탈륨(Ta), 게르마늄(Ge), 아연(Zn), 갈륨(Ga), 주석(Sn) 또는 인듐(In)을 기본으로 하는 산화물, 이들의 복합 산화물인 인듐―갈륨―아연 산화물(InGaZnO4), 인듐―아연 산화물(Zn―In―O), 아연―주석 산화물(Zn―Sn―O) 인듐―갈륨 산화물 (In―Ga―O), 인듐―주석 산화물(In―Sn―O), 인듐―지르코늄 산화물(In―Zr―O), 인듐―지르코늄―아연 산화물(In―Zr―Zn―O), 인듐―지르코늄―주석 산화물(In―Zr―Sn―O), 인듐―지르코늄―갈륨 산화물(In―Zr―Ga―O), 인듐―알루미늄 산화물(In―Al―O), 인듐―아연―알루미늄 산화물(In―Zn―Al―O), 인듐―주석―알루미늄 산화물(In―Sn―Al―O), 인듐―알루미늄―갈륨 산화물(In―Al―Ga―O), 인듐―탄탈륨 산화물(In―Ta―O), 인듐―탄탈륨―아연 산화물(In―Ta―Zn―O), 인듐―탄탈륨―주석 산화물(In―Ta―Sn―O), 인듐―탄탈륨―갈륨 산화물(In―Ta―Ga―O), 인듐―게르마늄 산화물(In―Ge―O), 인듐―게르마늄―아연 산화물(In―Ge―Zn―O), 인듐―게르마늄―주석 산화물(In―Ge―Sn―O), 인듐―게르마늄―갈륨 산화물(In―Ge―Ga―O), 티타늄―인듐―아연 산화물(Ti―In―Zn―O), 하프늄―인듐―아연 산화물(Hf―In―Zn―O) 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 반도체(130)가 산화물 반도체로 이루어지는 경우에는 고온 등의 외부 환경에 취약한 산화물 반도체 물질를 보호하기 위해 별도의 보호층이 추가될 수 있다.
반도체(130)는 N형 불순물 또는 P형 불순물로 채널 도핑이 되어 있는 채널 (channel)과, 채널의 양 옆에 형성되어 있으며 채널에 도핑된 도핑 불순물보다 도핑 농도가 높은 소스 도핑 영역 및 드레인 도핑 영역을 포함한다. 본 실시예에서 소스 도핑 영역 및 드레인 도핑 영역은 각각 소스 전극 및 드레인 전극에 해당한다. 반도체(130)에 형성되어 있는 소스 전극 및 드레인 전극은 해당 영역만 도핑하여 형성할 수 있다. 또한, 반도체(130)에서 서로 다른 트랜지스터의 소스 전극과 드레인 전극의 사이 영역도 도핑되어 소스 전극과 드레인 전극이 전기적으로 연결될 수 있다.
도 5에 도시한 바와 같이, 채널(131)은 구동 트랜지스터(T1)에 형성되는 구동 채널(131a), 스위칭 트랜지스터(T2)에 형성되는 스위칭 채널(131b), 보상 트랜지스터(T3)에 형성되는 보상 채널(131c), 초기화 트랜지스터(T4)에 형성되는 초기화 채널(131d), 동작 제어 트랜지스터(T5)에 형성되는 동작 제어 채널(131e), 발광 제어 트랜지스터(T6)에 형성되는 발광 제어 채널(131f) 및 바이패스 트랜지스터(T7)에 형성되는 바이패스 채널(131g)을 포함한다.
구동 트랜지스터(T1)는 구동 채널(131a), 구동 게이트 전극(155a), 구동 소스 전극(136a) 및 구동 드레인 전극(137a)을 포함한다. 구동 채널(131a)은 굴곡되어 있으며, 사행 형상 또는 지그재그 형상을 가질 수 있다. 이와 같이, 굴곡된 형상의 구동 채널(131a)을 형성함으로써, 좁은 공간 내에 길게 구동 채널(131a)을 형성할 수 있다. 따라서, 길게 형성된 구동 채널(131a)에 의해 구동 게이트 전극(155a)과 구동 소스 전극(136a) 간의 구동 게이트 소스 전압(Vgs)의 구동 범위(driving range)는 넓어지게 된다. 구동 게이트 소스 전압(Vgs)의 구동 범위가 넓으므로 구동 게이트 소스 전압(Vgs)의 크기를 변화시켜 유기 발광 다이오드(OLED)에서 방출되는 빛의 계조를 보다 세밀하게 제어할 수 있으며, 그 결과 폴더블 표시 장치의 해상도를 높이고 표시 품질을 향상시킬 수 있다. 이러한 구동 채널(131a)의 형상을 다양하게 변형하여 '역S', 'S', 'M', 'W' 등의 다양한 실시예가 가능하다.
구동 게이트 전극(155a)은 구동 채널(131a)과 중첩하고 있으며, 구동 소스 전극(136a) 및 구동 드레인 전극(137a)은 구동 채널(131a)의 양 옆에 인접하여 각각 형성되어 있다. 구동 게이트 전극(155a)은 접촉 구멍(61)을 통해 제1 데이터 연결 부재(174)와 연결되어 있다.
구동 게이트 전극(155a)은 구동 채널(131a)과 중첩하는 위치에 적어도 하나 이상의 구동 게이트 절개부(55a)를 가지고 있다. 하나의 구동 게이트 절개부(55a)는 구동 채널(131a)의 전류 이동 방향인 길이 방향(I)과 교차하는 방향으로 형성되어 있다. 복수개의 구동 게이트 절개부(55a)는 구동 채널(131a)의 길이 방향(I)을 따라 서로 소정 간격 이격되어 형성되어 있다. 도 6에 도시한 바와 같이, 이러한 복수개의 구동 게이트 절개부(55a)는 구동 채널(131a)과 중첩하는 위치의 구동 게이트 전극(155a)을 복수개의 서브 구동 게이트 전극(1a, 2a)으로 분할한다. 따라서, 폴딩부(10)의 폴딩선(FL) 상에 구동 게이트 전극(155a)이 위치하더라도 구동 게이트 절개부(55a) 중 일부가 폴딩선(FL)과 평행하게 배치되어 있는 경우에는 폴딩선(FL)과 중첩하는 일부의 서브 구동 게이트 전극(2a)만 손상될 뿐 폴딩선(FL)과 중첩하지 않는 나머지의 서브 구동 게이트 전극(1a)은 손상되지 않는다. 따라서, 나머지 서브 구동 게이트 전극(2a)은 정상적으로 동작하므로, 구동 트랜지스터(T1)에는 특성 이상 현상이 발생하지 않게 된다. 본 실시예에서는 구동 게이트 절개부(55a) 중 일부가 폴딩선(FL)과 평행하게 배치되어 있는 경우를 도시하고 있으나, 반드시 여기에 한정되지는 않으며, 구동 게이트 절개부(55a) 중 일부가 폴딩선(FL)과 수직하게 배치되거나 경사지게 배치되는 경우도 가능하다.
한편, 스위칭 트랜지스터(T2)는 스위칭 채널(131b), 스위칭 게이트 전극(155b), 스위칭 소스 전극(136b) 및 스위칭 드레인 전극(137b)을 포함한다. 스캔선(151)에서 아래쪽으로 확장된 일부인 스위칭 게이트 전극(155b)은 스위칭 채널(131b)과 중첩하고 있으며, 스위칭 소스 전극(136b) 및 스위칭 드레인 전극(137b)은 스위칭 채널(131b)의 양 옆에 인접하여 각각 형성되어 있다. 스위칭 소스 전극(136b)은 접촉 구멍(62)을 통해 데이터선(171)과 연결되어 있다.
스위칭 게이트 전극(155b)은 스위칭 채널(131b)과 중첩하는 위치에 적어도 하나 이상의 스위칭 게이트 절개부(55b)를 가지고 있다. 하나의 스위칭 게이트 절개부(55b)는 스위칭 채널(131b)의 전류 이동 방향과 교차하는 방향으로 형성되어 있다. 이러한 복수개의 스위칭 게이트 절개부(55b)는 구동 게이트 절개부(55a)와 동일하게 폴딩부(10)의 폴딩선(FL) 상에 위치하는 스위칭 트랜지스터(T2)의 특성 이상 현상을 제거하여 폴딩부(10)의 불량을 최소화할 수 있다.
보상 트랜지스터(T3)는 누설 전류 방지를 위해 2개가 형성되어 있으며 서로 인접하고 있는 제1 보상 트랜지스터(T3-1) 및 제2 보상 트랜지스터(T3-2)를 포함한다. 제1 보상 트랜지스터(T3-1)는 스캔선(151)을 중심으로 위치하고 있으며, 제2 보상 트랜지스터(T3-2)는 스캔선(151)의 돌출부를 중심으로 위치하고 있다. 제1 보상 트랜지스터(T3-1)는 제1 보상 채널(131c1), 제1 보상 게이트 전극(155c1), 제1 보상 소스 전극(136c1) 및 제1 보상 드레인 전극(137c1)을 포함하고, 제2 보상 트랜지스터(T3-2)는 제2 보상 채널(131c2), 제2 보상 게이트 전극(155c2), 제2 보상 소스 전극(136c2) 및 제2 보상 드레인 전극(137c2)을 포함한다.
스캔선(151)의 일부인 제1 보상 게이트 전극(155c1)은 제1 보상 채널(131c1)과 중첩하고 있으며, 제1 보상 소스 전극(136c1) 및 제1 보상 드레인 전극(137c1)은 제1 보상 채널(131c1)의 양 옆에 인접하여 각각 형성되어 있다. 제1 보상 소스 전극(136c1)은 발광 제어 소스 전극(136f) 및 구동 드레인 전극(137a)과 연결되어 있으며, 제1 보상 드레인 전극(137c1)은 제2 보상 소스 전극(136c2)과 연결되어 있다.
스캔선(151)에서 위쪽으로 돌출된 돌출부인 제2 보상 게이트 전극(155c2)은 제2 보상 채널(131c2)과 중첩하고 있으며, 제2 보상 소스 전극(136c2) 및 제2 보상 드레인 전극(137c2)은 제2 보상 채널(131c2)의 양 옆에 인접하여 각각 형성되어 있다. 제2 보상 드레인 전극(137c2)은 접촉 구멍(63)을 통해 제1 데이터 연결 부재(174)와 연결되어 있다.
제1 보상 게이트 전극(155c1)은 제1 보상 채널(131c1)과 중첩하는 위치에 적어도 하나 이상의 보상 게이트 절개부(55c)를 가지고 있다. 하나의 제1 보상 게이트 절개부(55c)는 제1 보상 채널(131c1)의 전류 이동 방향인 길이 방향(I)과 교차하는 방향으로 형성되어 있다. 복수개의 보상 게이트 절개부(55c)는 제1 보상 채널(131c1)의 길이 방향(I)을 따라 서로 소정 간격 이격되어 형성되어 있다. 도 7에 도시한 바와 같이, 이러한 복수개의 보상 게이트 절개부(55c)는 제1 보상 채널(131c1)과 중첩하는 위치의 제1 보상 게이트 전극(155c1)을 복수개의 서브 제1 보상 게이트 전극(1c1, 2c1)으로 분할한다. 따라서, 폴딩부(10)의 폴딩선(FL) 상에 제1 보상 게이트 전극(155c1)이 위치하더라도 보상 게이트 절개부(55c) 중 일부가 폴딩선(FL)과 평행하게 배치되어 있는 경우에는 폴딩선(FL)과 중첩하는 일부의 서브 제1 보상 게이트 전극(2c1)만 손상될 뿐 폴딩선(FL))과 중첩하지 않는 나머지의 서브 제1 보상 게이트 전극(1c1)은 손상되지 않는다. 따라서, 나머지 서브 제1 보상 게이트 전극(1c1)은 정상적으로 동작하므로, 제1 보상 트랜지스터(T3-1)에는 특성 이상 현상이 발생하지 않게 된다. 이와 동일하게 제2 보상 게이트 전극(155c2)도 제2 보상 채널(131c2)과 중첩하는 위치에 동일한 효과를 가지는 적어도 하나 이상의 보상 게이트 절개부(55c)를 가지고 있다.
초기화 트랜지스터(T4)는 누설 전류 방지를 위해 2개가 형성되어 있으며 서로 인접하고 있는 제1 초기화 트랜지스터(T4-1) 및 제2 초기화 트랜지스터(T4-2)를 포함한다. 제1 초기화 트랜지스터(T4-1)는 전단 스캔선(152)을 중심으로 위치하고 있으며, 제2 초기화 트랜지스터(T4-2)는 전단 스캔선(152)의 돌출부를 중심으로 위치하고 있다. 제1 초기화 트랜지스터(T4-1)는 제1 초기화 채널(131d1), 제1 초기화 게이트 전극(155d1), 제1 초기화 소스 전극(136d1) 및 제1 초기화 드레인 전극(137d1)을 포함하고, 제2 초기화 트랜지스터(T4-2)는 제2 초기화 채널(131d2), 제2 초기화 게이트 전극(155d2), 제2 초기화 소스 전극(136d2) 및 제2 초기화 드레인 전극(137d2)을 포함한다.
전단 스캔선(152)의 일부인 제1 초기화 게이트 전극(155d1)은 제1 초기화 채널(131d1)과 중첩하고 있으며, 제1 초기화 채널(131d1)의 양 옆에 인접하여 각각 형성되어 있다. 제1 초기화 소스 전극(136d1)은 접촉 구멍(64)을 통해 제2 데이터 연결 부재(175)와 연결되어 있으며, 제1 초기화 드레인 전극(137d1)은 제2 초기화 소스 전극(136d2)과 연결되어 있다.
전단 스캔선(152)에서 아래쪽으로 돌출된 돌출부인 제2 초기화 게이트 전극(155d2)은 제2 초기화 채널(131d2)과 중첩하고 있으며, 제2 초기화 소스 전극(136d2) 및 제2 초기화 드레인 전극(137d2)은 제2 초기화 채널(131c2)의 양 옆에 인접하여 각각 형성되어 있다. 제2 초기화 드레인 전극(137d2)은 접촉 구멍(63)을 통해 제1 데이터 연결 부재(174)와 연결되어 있다.
제1 초기화 게이트 전극(155d1) 및 제2 초기화 게이트 전극(155d2)은 각각 제1 초기화 채널(131d1) 및 제2 초기화 채널(131d2)과 중첩하는 위치에 초기화 게이트 절개부(55d)를 가지고 있다. 각각의 초기화 게이트 절개부(55d)는 제1 초기화 채널(131d1) 및 제2 초기화 채널(131d2)의 전류 이동 방향과 교차하는 방향으로 형성되어 있다. 이러한 복수개의 초기화 게이트 절개부(55d)는 보상 게이트 절개부(55c)와 동일하게 폴딩부(10)의 폴딩선(FL) 상에 위치하는 초기화 트랜지스터(T4)의 특성 이상 현상을 제거하여 폴딩부(10)의 불량을 최소화할 수 있다.
이와 같이, 보상 트랜지스터(T3)는 제1 보상 트랜지스터(T3-1) 및 제2 보상 트랜지스터(T3-2)로 2개를 형성하고, 초기화 트랜지스터(T4)는 제1 초기화 트랜지스터(T4-1) 및 제2 초기화 트랜지스터(T4-2)로 2개를 형성함으로써, 오프 상태에서 채널(131c1, 131c2, 131d1, 131d2)의 전자 이동 경로를 차단하여 누설 전류가 발생하는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
동작 제어 트랜지스터(T5)는 동작 제어 채널(131e), 동작 제어 게이트 전극(155e), 동작 제어 소스 전극(136e) 및 동작 제어 드레인 전극(137e)을 포함한다. 발광 제어선(153)의 일부인 동작 제어 게이트 전극(155e)은 동작 제어 채널(131e)과 중첩하고 있으며, 동작 제어 소스 전극(136e) 및 동작 제어 드레인 전극(137e)은 동작 제어 채널(131e)의 양 옆에 인접하여 각각 형성되어 있다. 동작 제어 소스 전극(136e)은 접촉 구멍(65)을 통해 구동 전압선(172)의 일부와 연결되어 있다.
발광 제어 트랜지스터(T6)는 발광 제어 채널(131f), 발광 제어 게이트 전극(155f), 발광 제어 소스 전극(136f) 및 발광 제어 드레인 전극(137f)을 포함한다. 발광 제어선(153)의 일부인 발광 제어 게이트 전극(155f)은 발광 제어 채널(131f)과 중첩하고 있으며, 발광 제어 소스 전극(136f) 및 발광 제어 드레인 전극(137f)은 발광 제어 채널(131f)의 양 옆에 인접하여 각각 형성되어 있다. 발광 제어 드레인 전극(137f)은 접촉 구멍(66)을 통해 제3 데이터 연결 부재(179)와 연결되어 있다.
바이패스 트랜지스터(T7)는 바이패스 채널(131g), 바이패스 게이트 전극(155g), 바이패스 소스 전극(136g) 및 바이패스 드레인 전극(137g)을 포함한다. 바이패스 제어선(158)의 일부인 바이패스 게이트 전극(155g)은 바이패스 채널(131g)과 중첩하고 있으며, 바이패스 소스 전극(136g) 및 바이패스 드레인 전극(137g)은 바이패스 채널(131g)의 양 옆에 인접하여 각각 형성되어 있다. 바이패스 소스 전극(136g)은 접촉 구멍(81)을 통해 제3 데이터 연결 부재(179)와 연결되어 있고, 바이패스 드레인 전극(137g)은 제1 초기화 소스 전극(136d1)와 직접 연결되어 있다.
동작 제어 게이트 전극(155e), 발광 제어 게이트 전극(155f) 및 바이 패스 게이트 전극(155g)은 동작 제어 채널(131e), 발광 제어 채널(131f) 및 바이 패스 채널(131g)과 중첩하는 위치에 각각 동작 제어 게이트 절개부(55e), 발광 제어 게이트 절개부(55f) 및 바이 패스 게이트 절개부(55g)를 가지고 있다. 이러한 동작 제어 게이트 절개부(55e), 발광 제어 게이트 절개부(55f) 및 바이 패스 게이트 절개부(55g)는 초기화 게이트 절개부(55d)와 동일하게 폴딩부(10)의 폴딩선(FL) 상에 위치하는 동작 제어 트랜지스터(T5), 발광 제어 트랜지스터(T6) 및 바이패스 트랜지스터(T7)의 특성 이상 현상을 제거하여 폴딩부(10)의 불량을 최소화할 수 있다.
구동 트랜지스터(T1)의 구동 채널(131a)의 일단은 스위칭 드레인 전극(137b) 및 동작 제어 드레인 전극(137e)과 연결되어 있으며, 구동 채널(131a)의 타단은 보상 소스 전극(136c) 및 발광 제어 소스 전극(136f)과 연결되어 있다.
스토리지 커패시터(Cst)는 제2 게이트 절연막(142)을 사이에 두고 배치되는 제1 스토리지 전극(155a)과 제2 스토리지 전극(156)을 포함한다. 제1 스토리지 전극(155a)은 구동 게이트 전극(155a)에 해당하고, 제2 스토리지 전극(156)은 스토리지선(126)에서 확장된 부분으로서, 구동 게이트 전극(155a)보다 넓은 면적을 차지하며 구동 게이트 전극(155a)을 전부 덮고 있다. 여기서, 제2 게이트 절연막(142)은 유전체가 되며, 스토리지 커패시터(Cst)에서 축전된 전하와 양 전극(155a, 156) 사이의 전압에 의해 스토리지 커패시턴스(Storage Capacitance)가 결정된다. 이와 같이, 구동 게이트 전극(155a)을 제1 스토리지 전극(155a)으로 사용함으로써, 화소 내에서 큰 면적을 차지하는 구동 채널(131a)에 의해 좁아진 공간에서 스토리지 커패시터를 형성할 수 있는 공간을 확보할 수 있다.
구동 게이트 전극(155a)인 제1 스토리지 전극(155a)은 접촉 구멍(61) 및 스토리지 개구부(68)를 통하여 제1 데이터 연결 부재(174)의 일단과 연결되어 있다. 스토리지 개구부(68)은 제2 스토리지 전극(156)에 형성된 개구부이다. 제1 데이터 연결 부재(174)는 데이터선(171)과 거의 평행하게 동일한 층에 형성되어 있으며 제1 데이터 연결 부재(174)의 타단은 접촉 구멍(63)을 통해 제2 보상 트랜지스터(T3-2)의 제2 보상 드레인 전극(137c2) 및 제2 초기화 트랜지스터(T4-2)의 제2 초기화 드레인 전극(137d2)과 연결되어 있다. 따라서, 제1 데이터 연결 부재(174)는 구동 게이트 전극(155a)과 제2 보상 트랜지스터(T3-2)의 제2 보상 드레인 전극(137c2) 및 제2 초기화 트랜지스터(T4-2)의 제2 초기화 드레인 전극(137d2)을 서로 연결하고 있다.
제2 스토리지 전극(156)은 접촉 구멍(69)을 통해 구동 전압선(172)과 연결되어 있다.
따라서, 스토리지 커패시터(Cst)는 구동 전압선(172)을 통해 제2 스토리지 전극(156)에 전달된 구동 전압(ELVDD)과 구동 게이트 전극(155a)의 게이트 전압(Vg)간의 차에 대응하는 스토리지 커패시턴스를 저장한다.
제3 데이터 연결 부재(179)는 접촉 구멍(81)을 통해 화소 전극(191)과 연결되어 있으며, 제2 데이터 연결 부재(175)는 접촉 구멍(82)을 통해 초기화 전압선(192)과 연결되어 있다.
이하, 도 8 및 도 9를 참고하여 본 발명의 일 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 단면상 구조에 대해 적층 순서에 따라 구체적으로 설명한다.
이 때, 동작 제어 트랜지스터(T5)는 발광 제어 트랜지스터(T6)의 적층 구조와 대부분 동일하므로 상세한 설명은 생략한다.
기판(110) 위에는 버퍼층(120)이 형성되어 있다. 기판(110)은 유리, 석영, 세라믹, 플라스틱 등으로 이루어진 절연성 기판으로 형성될 수 있고, 버퍼층(120)은 다결정 반도체를 형성하기 위한 결정화 공정 시 기판(110)으로부터 불순물을 차단하여 다결정 반도체의 특성을 향상시키고, 기판(110)이 받는 스트레스를 줄이는 역할을 할 수 있다.
버퍼층(120) 위에는 구동 채널(131a), 스위칭 채널(131b), 보상 채널(131c), 초기화 채널(131d), 동작 제어 채널(131e), 발광 제어 채널(131f) 및 바이패스 채널(131g)을 포함하는 반도체(130)가 형성되어 있다. 반도체(130) 중 구동 채널(131a)의 양 옆에는 구동 소스 전극(136a) 및 구동 드레인 전극(137a)이 형성되어 있고, 스위칭 채널(131b)의 양 옆에는 스위칭 소스 전극(136b) 및 스위칭 드레인 전극(137b)이 형성되어 있다. 그리고, 제1 보상 채널(131c1)의 양 옆에는 제1 보상 소스 전극(136c1) 및 제1 보상 드레인 전극(137c1)이 형성되어 있고, 제2 보상 채널(131c2)의 양 옆에는 제2 보상 소스 전극(136c2) 및 제2 보상 드레인 전극(137c2)이 형성되어 있고, 제1 초기화 채널(131d1)의 양 옆에는 제1 초기화 소스 전극(136d1) 및 제1 초기화 드레인 전극(137d1)이 형성되어 있고, 제2 초기화 채널(131d2)의 양 옆에는 제2 초기화 소스 전극(136d2) 및 제2 초기화 드레인 전극(137d2)이 형성되어 있다. 그리고, 동작 제어 채널(131e)의 양 옆에는 동작 제어 소스 전극(136e) 및 동작 제어 드레인 전극(137e)이 형성되어 있고, 발광 제어 채널(131f)의 양 옆에는 발광 제어 소스 전극(136f) 및 발광 제어 드레인 전극(137f)이 형성되어 있다. 그리고, 바이패스 채널(131g)의 양 옆에는 바이패스 소스 전극(136g) 및 바이패스 드레인 전극(137g)이 형성되어 있다.
반도체(130) 위에는 이를 덮는 제1 게이트 절연막(141)이 형성되어 있다. 제1 게이트 절연막(141) 위에는 스위칭 게이트 전극(155b), 제1 보상 게이트 전극(155c1) 및 제2 보상 게이트 전극(155c2)을 포함하는 스캔선(151), 제1 초기화 게이트 전극(155d1) 및 제2 초기화 게이트 전극(155d2)을 포함하는 전단 스캔선(152), 동작 제어 게이트 전극(155e) 및 발광 제어 게이트 전극(155f)을 포함하는 발광 제어선(153), 바이패스 게이트 전극(155g)을 포함하는 바이패스 제어선(158), 그리고 구동 게이트 전극(제1 스토리지 전극)(155a)을 포함하는 제1 게이트 배선(151, 152, 153, 158, 155a, 155b, 155c1, 155c2, 155d1, 155d2, 155e, 155f)이 형성되어 있다.
제1 게이트 배선(151, 152, 153, 158, 155a, 155b, 155c1, 155c2, 155d1, 155d2, 155e, 155f) 및 제1 게이트 절연막(141) 위에는 이를 덮는 제2 게이트 절연막(142)이 형성되어 있다. 제1 게이트 절연막(141) 및 제2 게이트 절연막(142)은 질화 규소(SiNx) 또는 산화 규소(SiO2) 따위로 형성될 수 있다.
제2 게이트 절연막(142) 위에는 스캔선(151)과 평행하게 배치되어 있는 스토리지선(126), 스토리지선(126)에서 확장된 부분인 제2 스토리지 전극(156)을 포함하는 제2 게이트 배선(126, 156)이 형성되어 있다.
제2 게이트 절연막(142) 및 제2 게이트 배선(126, 156) 위에는 층간 절연막(160)이 형성되어 있다. 층간 절연막(160)은 질화 규소(SiNx) 또는 산화 규소(SiO2) 따위로 형성될 수 있다.
층간 절연막(160)에는 접촉 구멍(61, 62, 63, 64, 65, 66, 69)이 형성되어 있다. 층간 절연막(160) 위에는 데이터선(171), 구동 전압선(172), 제1 데이터 연결 부재(174), 제2 데이터 연결 부재(175), 그리고 제3 데이터 연결 부재(179)를 포함하는 데이터 배선(171, 172, 174, 175, 179)이 형성되어 있다.
데이터선(171)은 제1 게이트 절연막(141), 제2 게이트 절연막(142) 및 층간 절연막(160)에 형성된 접촉 구멍(62)을 통해 스위칭 소스 전극(136b)와 연결되어 있으며, 제1 데이터 연결 부재(174)의 일단은 제2 게이트 절연막(142) 및 층간 절연막(160)에 형성된 접촉 구멍(61)을 통하여 제1 스토리지 전극(155a)과 연결되어 있고, 제1 데이터 연결 부재(174)의 타단은 제1 게이트 절연막(141), 제2 게이트 절연막(142) 및 층간 절연막(160)에 형성된 접촉 구멍(63)을 통해 제2 보상 드레인 전극(137c2) 및 제2 초기화 드레인 전극(137d2)와 연결되어 있다.
사각 형상의 제2 데이터 연결 부재(175)는 제1 게이트 절연막(141), 제2 게이트 절연막(142) 및 층간 절연막(160)에 형성된 접촉 구멍(64)을 통해 제1 초기화 소스 전극(136d1)과 연결되어 있다. 그리고, 사각 형상의 제3 데이터 연결 부재(179)는 제1 게이트 절연막(141), 제2 게이트 절연막(142) 및 층간 절연막(160)에 형성된 접촉 구멍(66)을 통해 발광 제어 드레인 전극(137f)과 연결되어 있다.
데이터 배선(171, 172, 174, 175, 179) 및 층간 절연막(160) 위에는 이를 덮는 보호막(180)이 형성되어 있다. 보호막(180)은 유기막으로 형성될 수 있다.
보호막(180) 위에는 화소 전극(191) 및 초기화 전압선(192)이 형성되어 있다. 제3 데이터 연결 부재(179)는 보호막(180)에 형성된 접촉 구멍(81)을 통해 화소 전극(191)과 연결되어 있고, 제2 데이터 연결 부재(175)는 보호막(180)에 형성된 접촉 구멍(82)을 통해 초기화 전압선(192)과 연결되어 있다.
보호막(180), 초기화 전압선(192) 및 화소 전극(191)의 가장자리 위에는 이를 덮는 화소 정의막(Pixel Defined Layer, PDL)(350)이 형성되어 있고, 화소 정의막(350)은 화소 전극(191)을 드러내는 화소 개구부(351)를 가진다. 화소 정의막(350)은 폴리아크릴계 수지(polyacrylates resin) 및 폴리이미드계(polyimides) 등의 수지 또는 실리카 계열의 무기물 등으로 만들 수 있다.
화소 개구부(351)에 의해 노출된 화소 전극(191) 위에는 유기 발광층(370)이 형성되고, 유기 발광층(370) 상에는 공통 전극(270)이 형성된다. 공통 전극(270)은 화소 정의막(350) 위에도 형성되어 복수의 화소에 걸쳐 형성된다. 이와 같이, 화소 전극(191), 유기 발광층(370) 및 공통 전극(270)을 포함하는 유기 발광 다이오드(OLED)가 형성된다.
여기서, 화소 전극(191)은 정공 주입 전극인 애노드이며, 공통 전극(270)은 전자 주입 전극인 캐소드가 된다. 그러나 본 발명에 따른 일 실시예는 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 폴더블 표시 장치의 구동 방법에 따라 화소 전극(191)이 캐소드가 되고, 공통 전극(270)이 애노드가 될 수도 있다. 화소 전극(191) 및 공통 전극(270)으로부터 각각 정공과 전자가 유기 발광층(370) 내부로 주입되고, 주입된 정공과 전자가 결합한 엑시톤(exiton)이 여기상태로부터 기저상태로 떨어질 때 발광이 이루어진다.
유기 발광층(370)은 저분자 유기물 또는 PEDOT(Poly 3,4-ethylenedioxythiophene) 등의 고분자 유기물로 이루어진다. 또한, 유기 발광층(370)은 발광층과, 정공 주입층(hole injection layer, HIL), 정공 수송층(hole transporting layer, HTL), 전자 수송층(electron transporting layer, ETL), 및 전자 주입층(electron injection layer, EIL) 중 하나 이상을 포함하는 다중막으로 형성될 수 있다. 이들 모두를 포함할 경우, 정공 주입층이 양극인 화소 전극(191) 상에 배치되고, 그 위로 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층이 차례로 적층된다.
유기 발광층(370)은 적색을 발광하는 적색 유기 발광층, 녹색을 발광하는 녹색 유기 발광층 및 청색을 발광하는 청색 유기 발광층을 포함할 수 있으며, 적색 유기 발광층, 녹색 유기 발광층 및 청색 유기 발광층은 각각 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소에 형성되어 컬러 화상을 구현하게 된다.
또한, 유기 발광층(370)은 적색 유기 발광층, 녹색 유기 발광층 및 청색 유기 발광층을 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소에 모두 함께 적층하고, 각 화소별로 적색 색필터, 녹색 색필터 및 청색 색필터를 형성하여 컬러 화상을 구현할 수 있다. 다른 예로, 백색을 발광하는 백색 유기 발광층을 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소 모두에 형성하고, 각 화소별로 각각 적색 색필터, 녹색 색필터 및 청색 색필터를 형성하여 컬러 화상을 구현할 수도 있다. 백색 유기 발광층과 색필터를 이용하여 컬러 화상을 구현하는 경우, 적색 유기 발광층, 녹색 유기 발광층 및 청색 유기 발광층을 각각의 개별 화소 즉, 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소에 증착하기 위한 증착 마스크를 사용하지 않아도 된다.
다른 예에서 설명한 백색 유기 발광층은 하나의 유기 발광층으로 형성될 수 있음은 물론이고, 복수 개의 유기 발광층을 적층하여 백색을 발광할 수 있도록 한 구성까지 포함한다. 예로, 적어도 하나의 옐로우 유기 발광층과 적어도 하나의 청색 유기 발광층을 조합하여 백색 발광을 가능하게 한 구성, 적어도 하나의 시안 유기 발광층과 적어도 하나의 적색 유기 발광층을 조합하여 백색 발광을 가능하게 한 구성, 적어도 하나의 마젠타 유기 발광층과 적어도 하나의 녹색 유기 발광층을 조합하여 백색 발광을 가능하게 한 구성 등도 포함할 수 있다.
공통 전극(270) 상에는 유기 발광 다이오드(OLED)를 보호하는 봉지 부재(도시하지 않음)가 형성될 수 있으며, 봉지 부재는 실런트에 의해 기판(110)에 밀봉될 수 있으며, 유리, 석영, 세라믹, 플라스틱, 및 금속 등 다양한 소재로 형성될 수 있다. 한편, 실런트를 사용하지 않고 공통 전극(270) 상에 무기막과 유기막을 증착하여 박막 봉지층을 형성할 수도 있다.
한편, 상기 일 실시예에서는 게이트 전극에 게이트 절개부를 형성하여 복수개의 서브 게이트 전극으로 분리하였으나, 채널에 채널 절개부를 형성하여 복수개의 서브 채널로 분리하는 다른 실시예도 가능하다.
이하에서, 도 10, 도 11 및 도 12를 참고하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 폴더블 표시 장치에 대해 상세히 설명한다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 구체적인 배치도이고, 도 11은 도 10의 구동 트랜지스터의 확대 배치도이며, 도 12는 도 10의 보상 트랜지스터의 확대 배치도이다.
도 10, 도 11 및 도 12에 도시한 다른 실시예는 도 1, 도 2, 도 3, 도 4, 도 5, 도 6, 도 7, 도 8 및 도 9에 도시된 일 실시예와 비교하여 채널에 채널 절개부를 형성하여 복수개의 서브 채널로 분리하는 것만을 제외하고 실질적으로 동일한 바 반복되는 설명은 생략한다.
도 10, 도 11 및 도 12에 도시한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 폴더블 표시 장치의 채널(131)은 구동 트랜지스터(T1)에 형성되는 구동 채널(131a), 스위칭 트랜지스터(T2)에 형성되는 스위칭 채널(131b), 보상 트랜지스터(T3)에 형성되는 보상 채널(131c), 초기화 트랜지스터(T4)에 형성되는 초기화 채널(131d), 동작 제어 트랜지스터(T5)에 형성되는 동작 제어 채널(131e), 발광 제어 트랜지스터(T6)에 형성되는 발광 제어 채널(131f) 및 바이패스 트랜지스터(T7)에 형성되는 바이패스 채널(131g)을 포함한다.
구동 채널(131a)은 구동 게이트 전극(155a)과 중첩하는 위치에 구동 채널 절개부(31a)를 가지고 있다. 구동 채널 절개부(31a)는 구동 채널(131a)의 전류 이동 방향인 길이 방향(I)과 평행한 방향으로 형성되어 있다. 도 11에 도시한 바와 같이, 이러한 구동 채널 절개부(31a)는 구동 채널(131a)을 한 쌍의 서브 구동 채널(11a, 12a)으로 분할한다. 따라서, 폴딩부(10)의 폴딩선(FL) 상에 구동 채널(131a)이 위치하더라도 구동 채널 절개부(31a)의 일부가 폴딩선(FL)과 평행하게 배치되어 있는 경우에는 폴딩선(FL)과 중첩하는 일부의 서브 구동 채널(12a)만 손상될 뿐 폴딩선(FL)과 중첩하지 않는 나머지의 서브 구동 채널(11a)은 손상되지 않는다. 따라서, 나머지 서브 구동 채널(12a)은 정상적으로 동작하므로, 구동 트랜지스터(T1)에는 특성 이상 현상이 발생하지 않게 된다. 본 실시예에서는 구동 채널 절개부(31a)의 일부가 폴딩선(FL)과 평행하게 배치되어 있는 경우를 도시하고 있으나, 반드시 여기에 한정되지는 않으며, 구동 채널 절개부(31a)의 일부가 폴딩선(FL)과 수직하게 배치되거나 경사지게 배치되는 경우도 가능한다.
스위칭 채널(131b)은 스위칭 게이트 전극(155b)과 중첩하는 위치에 스위칭 채널 절개부(31b)를 가지고 있다. 스위칭 채널 절개부(31b)는 스위칭 채널(131b)의 전류 이동 방향과 평행한 방향으로 형성되어 있다. 이러한 스위칭 채널 절개부(31b)는 구동 채널 절개부(31a)와 동일하게 폴딩부(10)의 폴딩선(FL) 상에 위치하는 스위칭 트랜지스터(T2)의 특성 이상 현상을 제거하여 폴딩부(10)의 불량을 최소화할 수 있다.
제1 보상 채널(131c1)은 제1 보상 게이트 전극(155c1)과 중첩하는 위치에 보상 채널 절개부(31c)를 가지고 있다. 보상 채널 절개부(31c)는 제1 보상 채널(131c1)의 전류 이동 방향인 길이 방향(I)과 평행한 방향으로 형성되어 있다. 도 12에 도시한 바와 같이, 이러한 보상 채널 절개부(31c)는 제1 보상 채널(131c1)을 한 쌍의 서브 제1 보상 채널(11c1, 12c1)으로 분할한다. 따라서, 폴딩부(10)의 폴딩선(FL) 상에 제1 보상 채널(131c1)이 위치하더라도 보상 채널 절개부(31c)의 일부가 폴딩선(FL)과 평행하게 배치되어 있는 경우에는 폴딩선(FL)과 중첩하는 일부의 서브 제1 보상 채널(12c1)만 손상될 뿐 폴딩선(FL)과 중첩하지 않는 나머지의 서브 제1 보상 채널(11c1)은 손상되지 않는다. 따라서, 나머지 서브 제1 보상 채널(11c1)은 정상적으로 동작하므로, 제1 보상 트랜지스터(T3-1)에는 특성 이상 현상이 발생하지 않게 된다. 이와 동일하게 제2 보상 채널(131c2)도 제2 보상 게이트 전극(155c2)과 중첩하는 위치에 동일한 효과를 가지는 보상 채널 절개부(31c)를 가지고 있다.
상기와 유사하게 제1 초기화 채널(131d1) 및 제2 초기화 채널(131d2), 동작 제어 채널(131e), 발광 제어 채널(131f) 및 바이 패스 채널(131g)은 제1 초기화 게이트 전극(155d1) 및 제2 초기화 게이트 전극(155d2), 동작 제어 게이트 전극(155e), 발광 제어 게이트 전극(155f) 및 바이 패스 게이트 전극(155g)과 중첩하는 위치에 각각 초기화 채널 절개부(31d), 동작 제어 채널 절개부(31e), 발광 제어 채널 절개부(31f) 및 바이 패스 채널 절개부(31g)를 가지고 있다. 이러한 초기화 채널 절개부(31d), 동작 제어 채널 절개부(31e), 발광 제어 채널 절개부(31f) 및 바이 패스 채널 절개부(31g)는 스위칭 채널 절개부(31b)와 동일하게 폴딩부(10)의 폴딩선(FL) 상에 위치하는 초기화 트랜지스터(T4), 동작 제어 트랜지스터(T5), 발광 제어 트랜지스터(T6) 및 바이패스 트랜지스터(T7)의 특성 이상 현상을 제거하여 폴딩부(10)의 불량을 최소화할 수 있다.
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.
31a: 구동 채널 절개부
31b: 스위칭 채널 절개부
31c: 보상 채널 절개부 31d: 초기화 채널 절개부
31e: 동작 제어 채널 절개부 31f: 발광 제어 채널 절개부
31g: 바이 패스 채널 절개부 55a: 구동 게이트 절개부
55b: 스위칭 게이트 절개부 55c: 보상 게이트 절개부
55d: 초기화 게이트 절개부 55e: 동작 제어 게이트 절개부
55f: 발광 제어 게이트 절개부 55g: 바이 패스 게이트 절개부
151: 스캔선 152: 전단 스캔선
153: 발광 제어선 158: 바이패스 제어선
155a: 구동 게이트 전극 155b: 스위칭 게이트 전극
131a: 구동 채널 132b: 스위칭 채널
141: 제1 게이트 절연막 142: 제2 게이트 절연막
160: 층간 절연막 171: 데이터선
172: 구동 전압선
31c: 보상 채널 절개부 31d: 초기화 채널 절개부
31e: 동작 제어 채널 절개부 31f: 발광 제어 채널 절개부
31g: 바이 패스 채널 절개부 55a: 구동 게이트 절개부
55b: 스위칭 게이트 절개부 55c: 보상 게이트 절개부
55d: 초기화 게이트 절개부 55e: 동작 제어 게이트 절개부
55f: 발광 제어 게이트 절개부 55g: 바이 패스 게이트 절개부
151: 스캔선 152: 전단 스캔선
153: 발광 제어선 158: 바이패스 제어선
155a: 구동 게이트 전극 155b: 스위칭 게이트 전극
131a: 구동 채널 132b: 스위칭 채널
141: 제1 게이트 절연막 142: 제2 게이트 절연막
160: 층간 절연막 171: 데이터선
172: 구동 전압선
Claims (15)
- 접히는 부분인 폴딩부를 가지는 기판,
상기 기판 위에 형성되어 있는 게이트 전극,
상기 게이트 전극과 중첩하고 있는 채널,
상기 채널의 양 옆에 각각 위치하고 있는 소스 전극 및 드레인 전극
을 포함하는 복수개의 트랜지스터를 포함하고,
상기 게이트 전극은 적어도 하나 이상의 게이트 절개부에 의해 복수개의 서브 게이트 전극으로 분리되어 있는 폴더블 표시 장치. - 제1항에서,
상기 복수개의 트랜지스터 중 일부는 상기 폴딩부에서 접히는 기준선인 폴딩선 상에 위치하고 있는 폴더블 표시 장치. - 제2항에서,
상기 게이트 절개부 중 일부는 상기 폴딩선과 평행하게 배치되어 있는 폴더블 표시 장치. - 제2항에서,
상기 기판 위에 형성되어 있으며 스캔 신호를 전달하는 스캔선,
상기 스캔선과 교차하며 데이터 전압 및 구동 전압을 각각 전달하는 데이터선 및 구동 전압선
을 더 포함하고,
상기 트랜지스터는
상기 스캔선 및 상기 데이터선과 연결되어 있으며, 상기 데이터 전압을 출력하는 스위칭 드레인 전극을 포함하는 스위칭 트랜지스터,
상기 스위칭 드레인 전극과 연결되어 있는 구동 소스 전극을 포함하는 구동 트랜지스터
를 포함하고,
상기 구동 트랜지스터의 구동 게이트 전극은 적어도 하나 이상의 구동 게이트 절개부에 의해 복수개의 서브 구동 게이트 전극으로 분리되어 있는 폴더블 표시 장치. - 제4항에서,
상기 스위칭 트랜지스터의 스위칭 게이트 전극은 적어도 하나 이상의 스위칭 게이트 절개부에 의해 복수개의 서브 스위칭 게이트 전극으로 분리되어 있는 폴더블 표시 장치. - 제5항에서,
상기 구동 게이트 전극 또는 상기 스위칭 게이트 전극은 상기 폴딩부에서 접히는 기준선인 폴딩선 상에 위치하고 있는 폴더블 표시 장치. - 제4항에서,
상기 구동 트랜지스터의 구동 드레인 전극과 전기적으로 연결되어 있는 유기 발광 다이오드를 더 포함하는 폴더블 표시 장치. - 접히는 부분인 폴딩부를 가지는 기판,
상기 기판 위에 형성되어 있는 게이트 전극,
상기 게이트 전극과 중첩하고 있는 채널,
상기 채널의 양 옆에 각각 위치하고 있는 소스 전극 및 드레인 전극
을 포함하는 트랜지스터를 포함하고,
상기 채널은 적어도 하나 이상의 채널 절개부에 의해 복수개의 서브 채널로분리되어 있는 폴더블 표시 장치. - 제8항에서,
상기 트랜지스터는 상기 폴딩부에서 접히는 기준선인 폴딩선 상에 위치하는 폴더블 표시 장치. - 제9항에서,
상기 채널 절개부 중 일부는 상기 폴딩선과 평행하게 배치되어 있는 폴더블 표시 장치. - 제9항에서,
상기 기판 위에 형성되어 있으며 스캔 신호를 전달하는 스캔선,
상기 스캔선과 교차하며 데이터 전압 및 구동 전압을 각각 전달하는 데이터선 및 구동 전압선
을 더 포함하고,
상기 트랜지스터는
상기 스캔선 및 상기 데이터선과 연결되어 있으며, 상기 데이터 전압을 출력하는 스위칭 드레인 전극을 포함하는 스위칭 트랜지스터,
상기 스위칭 드레인 전극과 연결되어 있는 구동 소스 전극을 포함하는 구동 트랜지스터
를 포함하고,
상기 구동 트랜지스터의 구동 채널은 적어도 하나 이상의 구동 채널 절개부에 의해 복수개의 서브 구동 채널로 분리되어 있는 폴더블 표시 장치. - 제11항에서,
상기 스위칭 트랜지스터의 스위칭 채널은 적어도 하나 이상의 스위칭 채널 절개부에 의해 복수개의 서브 스위칭 채널로 분리되어 있는 폴더블 표시 장치. - 제12항에서,
상기 구동 채널 또는 상기 스위칭 채널은 상기 폴딩부에서 접히는 기준선인 폴딩선 상에 위치하고 있는 폴더블 표시 장치. - 제11항에서,
상기 구동 트랜지스터의 구동 드레인 전극과 전기적으로 연결되어 있는 유기 발광 다이오드를 더 포함하는 폴더블 표시 장치. - 제11항에서,
상기 구동 채널은 평면상 굴곡되어 있는 폴더블 표시 장치.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150016350A KR102301503B1 (ko) | 2015-02-02 | 2015-02-02 | 폴더블 표시 장치 |
US14/959,864 US9634272B2 (en) | 2015-02-02 | 2015-12-04 | Foldable display |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150016350A KR102301503B1 (ko) | 2015-02-02 | 2015-02-02 | 폴더블 표시 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160095307A true KR20160095307A (ko) | 2016-08-11 |
KR102301503B1 KR102301503B1 (ko) | 2021-09-13 |
Family
ID=56554734
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150016350A KR102301503B1 (ko) | 2015-02-02 | 2015-02-02 | 폴더블 표시 장치 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9634272B2 (ko) |
KR (1) | KR102301503B1 (ko) |
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US7161199B2 (en) | 2004-08-24 | 2007-01-09 | Freescale Semiconductor, Inc. | Transistor structure with stress modification and capacitive reduction feature in a width direction and method thereof |
-
2015
- 2015-02-02 KR KR1020150016350A patent/KR102301503B1/ko active IP Right Grant
- 2015-12-04 US US14/959,864 patent/US9634272B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160225836A1 (en) | 2016-08-04 |
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KR102301503B1 (ko) | 2021-09-13 |
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Date | Code | Title | Description |
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E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |