KR20160093078A - 민감성 피부의 예방 또는 치료를 위한 화장용 또는 피부과 제조물에서 알킬아미도티아졸의 용도 - Google Patents

민감성 피부의 예방 또는 치료를 위한 화장용 또는 피부과 제조물에서 알킬아미도티아졸의 용도 Download PDF

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Abstract

본 발명은 민감성 피부, 소양증, 건성 피부, 및 인간 피부의 염증 상태를 예방하거나 치료하기 위한 화장용 또는 피부과 제조물에서 알킬아미도티아졸의 용도에 관한 것이다.

Description

민감성 피부의 예방 또는 치료를 위한 화장용 또는 피부과 제조물에서 알킬아미도티아졸의 용도{USE OF ALKYLAMIDOTHIAZOLES IN COSMETIC OR DERMATOLOGICAL PREPARATIONS FOR THE PROPHYLAXIS OR TREATMENT OF SENSITIVE SKIN}
본 발명은 민감성 피부, 소양증(itching), 및 인간 피부에서 염증 상태의 예방 및 치료를 위한 화장용 또는 피부과 제조물에서 알킬아미도티아졸의 용도에 관한 것이다.
노화 과정 및 외부 요인과 관련된 변화 (예컨대, 피부 장벽에 대한 손상, UV 광, 자극제 또는 알레르기-유발 물질의 효과, 기계적 작용, 예컨대 면도로 인한)는 피부 자극을 발생시킬 수 있다. 본 출원과 관련하여, 피부 자극은 사람 또는 동물에서 감각적 불편함을 유발하고/하거나 건조하고, 붉어지며 및/또는 염증이 있는 안색을 특징으로 하는 피부에서의 임의의 변화를 의미하는 것으로 이해된다. 이에 관해, 물론 용어 "감각적 불편함"은 또한 소양증 또는 동통과 같은 병태를 포함한다. 피부 자극은 특히 현상학적으로 상이한 피부 상태: 민감성 두피를 포함하는 민감성 피부, 손상 피부, 건성 피부, 아토피 및 건선 피부, 자극받은 피부, 장미증, 염증 피부, 및 또한 자체적으로 소위 홍반이라 불리는 피부 발적에서의 높은 정도의 중증도를 개별적으로 나타내는 당뇨병에서의 피부 변화를 포함할 수 있다.
"민감성 피부"의 문제는 영향을 받는 성인 및 어린이의 수가 증가하고 있다는 것이다. 한편 인구의 최대 50%가 민감성 피부를 갖는 것으로 추정된다 (L. Misery et al., Ann. Dermatol. Venereol. 2005, 132, 425-429). 민감성 피부는 과반응성 및 불관용성과 같이 자극제에 대해 감소된 자극성 임계를 갖는 피부, 뿐만 아니라 아토피 피부를 나타내는데 사용되는 용어이다. 민감성 또는 손상된 피부를 갖는 사람에서, "자통(stinging)" ("찌르는" = 통증을 야기하는 손상, 화상)이라 언급되는 현상이 관찰될 수 있다. 통상적으로 용어 "자통" 또는 "민감성 피부"와 관련된 다루기 힘든 현상은 피부 발적, 얼얼한 느낌, 따끔거림, 당김 및 피부의 화끈거림 및 자극이다. 이들은 자극적인 환경 조건, 예를 들어 마사지, 계면활성제 작용, 예컨대 락트산과 같은 다른 화학 물질의 효과, 날씨 영향, 예컨대 더위, 추위, 건조함, 뿐만 아니라 고온 다습, 열 복사 및 UV 복사, 예컨대, 태양, 또는 심리적 스트레스에 의해 발생할 수 있다.
"민감성" 두피는 유사하게 피부 발적, 얼얼한 느낌, 따끔거림, 화끈거림 및 소양증을 특징으로 한다. 촉발제는, 예를 들어, 비누, 샴푸 또는 다른 모발관리 제품, 계면활성제, 높은 석회 농도를 갖는 경수 및/또는 기계적 스트레스이다. 두피의 홍반 및 과다 피지 분비 (피지의 과잉 생산) 뿐만 아니라 비듬도 종종 기재된 현상과 관련된다.
선진국 인구의 대략 10-20%에서, 아토피는 자연 환경으로부터의 물질에 대한 직접적인 유형의 과민성 반응 (알레르기)이 발생할 태세가 증가하는 것과 함께, 환경 물질에 대해 가족력으로 발생하는 피부 및 점막의 과민감성의 경향이 증가하는 것으로 관찰된다. 아토피는 아마도 유전에 의해 결정된다. 아토피는 자체적으로 아토피 피부염으로서 나타날 수 있다. 여기서, 피부 장벽이 손상되고, 피부는 종종 염증이 생기고 가렵다.
피부에 대한 태양 복사 또는 합성 복사의 자외선 부분의 홍반성 효과가 일반적으로 알려져 있다. 290 nm 미만의 파장을 갖는 선들 (소위 UVC 영역)은 지구 대기의 오존층에 의해 흡수되는 반면, 소위 UVB 영역이라 불리는 290 nm 내지 320 nm 범위의 선들은 홍반, 단순 일광화상 또는 심지어 크거나 덜한 중증도의 화상을 발생시킨다. 홍반성 피부 증상은 또한 특정한 피부 질환 또는 이상, 예를 들어 여드름, 박테리아 유도된 피부 염증, 피부 반응, 피부그림증, 일반적인 피부 통증, 모래벼룩 질병, 단독 얕은연조직염, 대상포진, 동상 또는 화상에 동반되는 증상으로서 발생한다. 본원에서 피부 발적의 특정 형태는 장미증이다. 따라서 항염증 제조물은 일반적 질병 및 특히 장미증으로 인한 피부 발적에 대항하고, 장기간 동안 이들을 억제하고 이들이 재발하는 것을 대부분 예방하기 위해 유리하게 이용될 수 있다.
발적 및 소양증과 관련된 피부 염증은 마찬가지로 벌레 물림에 의해 발생한다. 따라서, 항염증 생성물은 또한 벌레 물림의 결과, 예컨대 피부의 발적, 팽진 형성, 소양증 및 고통스런 종창을 경감시키고, 장기간 동안 이들을 억제하고 이들이 재발하는 것을 예방하는데 기여할 수 있다.
홍반은 또한 유아의 기저귀 부위에 증가된 정도로 발생하며, 갓난아이에서 더욱 그러하다 (기저귀 피부염). 특히 나이가 들면서 증가된 정도로 발생하는 병태인 실금은 또한 종종 수분 및 자극에 대한 일정한 노출의 결과로서 홍반 및 피부 발적과 관련된다 (실금 피부염).
피부-자극-감소 효과를 지닌 매우 많은 활성 성분이 논의된 기술 분야에 이미 이용되고 있으나, 대안도 계속하여 모색되고 있다.
미용 및 약학 산업에서, 따라서 피부-자극-감소 효과를 지닌 생성물에 대한 일정한 필요가 존재한다. 상응하는 항-염증 생성물에 대한 조사에서, 미용 및/또는 약학적 생성물에 이용되는 물질은 또한
- 독성학적으로 안전하고,
- 피부에 매우 상용가능하며,
- 안정하고 (특히 통상적인 화장 및/또는 약학적 제형에서),
- 바람직하게는 저취성이거나 (대부분) 무취이고,
- 바람직하게는 무색이거나 비-오염성(non-staining)이고,
- 비용-효과적인 방식으로 (즉, 표준 공정을 이용하고/하거나 표준 전구체에서 출발) 제조될 수 있어야 함이 보장되어야 한다.
명시된 특성들 중 하나 이상을 적당한 정도로 갖는 적합한 (활성) 물질에 대한 조사는 한편으로 물질의 화학 구조 및 다른 한편으로 이의 항염증 활성 및 이의 안정성 사이에 명확한 의존성이 없다는 사실에 의해 당분야 숙련자를 더욱 곤란하게 한다. 더욱이, 항염증 효과, 독성학적 안전성, 피부 상용성 및/또는 안정성 사이에 예측할 수 있는 연관성이 없다.
따라서, 본 발명의 목적은 바람직하게는 상기 언급된 부수적 조건 중 하나 이상 및 특히 바람직하게는 상기 언급된 조건 모두를 만족시키는 항염증 활성 성분을 알리는 것이었다.
놀랍게도, 인간 피부에서 민감성 피부, 소양증, 및 염증 상태의 예방 및 치료를 위한 화장용 또는 피부과 제조물에서의 알킬아미도티아졸의 이용이 종래의 단점들을 극복하는 것이 발견되었다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 화장용 또는 피부과 제조물은 제조물의 총 중량에 기반하여, 0.000001 내지 10 중량%, 특히 바람직하게는 0.0001 내지 3 중량%, 및 특히 바람직하게는 0.001 내지 1 중량%의 알킬아미도티아졸을 포함한다.
본 발명에 따라 이용된 활성 성분 및/또는 본 발명에 따라 이용된 효과적인 함량의 활성 성분을 지니는 화장용 또는 국소용 피부과 제조물을 이용할 때, 놀랍게도 결함성, 민감성 또는 과민한 피부 상태 또는 피부 부속기관의 결함성, 민감성 또는 과민 상태 및/또는 염증 상태 및/또는 소양증의 경우에 효과적인 치료, 뿐만 아니라 예방이 가능하다.
본 발명에 따르면, 화장용 또는 바람직하지 않은 피부 병태의 피부과 치료 또는 예방을 위해 본 발명에 따라 이용된 활성 성분 및/또는 본 발명에 따라 이용된 효과적인 함량의 활성 성분을 지니는 화장용 또는 국소용 피부과 제조물을 이용하는 것이 특히 매우 바람직하다.
본 발명의 맥락에서 바람직한 알킬아미도티아졸은 하기 화학식의 물질들이다:
Figure pct00001
상기 식에서,
R1, R2, X 및 Y는 상이할 수 있거나, 부분적으로 동일할 수 있거나 또는 완전히 동일할 수 있으며, 서로 독립적으로 다음을 의미할 수 있다:
R 1 = -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C8-사이클로알킬-알킬하이드록시, -C1-C24-알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아민 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴-알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬-O-C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알키-모르폴리노, -C1-C24-알키-피페리디노, -C1-C24-알키-피페라지노, -C1-C24-알키-피페라지노-N-알킬,
R 2 = H, C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C24-하이드록시알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형),
X = H, -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C24-아릴 (임의로 -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN으로 단일- 또는 다중 치환됨), -C1-C24-헤테로아릴 (임의로 -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN으로 단일- 또는 다중 치환됨), -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형), -아릴 (임의로 -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN으로 단일- 또는 다중 치환됨), -페닐, 2,4-디하이드록시페닐, -2,3-디하이드록시페닐, -2,4-디메톡시페닐, -2,3-디메톡시페닐,
Y = H, -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C24-아릴, -C1-C24-헤테로아릴, -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형), -아릴, -페닐, -2,4-디하이드록시페닐, -2,3-디하이드록시페닐, -2,4-디메톡시페닐, -2,3-디메톡시-페닐, -COO-알킬, -COO-알케닐, -COO-사이클로알킬, -COO-아릴, -COO-헤테로아릴,
그리고 X, Y는 임의로 또한 축합된 방향족 화합물일 수 있으며,
이 경우 X 및 Y는 서로, 최대 n개의 고리-형성 원자를 갖는 방향족 또는 지방족 호모- 또는 헤테로사이클릭 고리계를 형성할 수 있고, 이 경우 숫자 n은 5 내지 8의 값을 취할 수 있으며, 그리고 개개 고리계는 다시 n-1개까지의 알킬기, 하이드록실기, 카르복실기, 아미노기, 니트릴 작용기, 황-함유 치환기, 에스테르기 및/또는 에테르기로 치환될 수 있다.
명시된 티아졸은 자유 염기로서 또는 그 외에 염으로서 존재할 수 있다: 예컨대 플루오라이드, 클로라이드, 브로마이드, 아이오다이드, 설페이트, 카르보네이트, 아스코르베이트, 아세테이트 또는 포스페이트, 특히, 예를 들어 클로라이드 및 브로마이드와 같은 할로겐 염으로서 존재할 수 있다.
바람직하게, X는 치환된 페닐의 그룹으로부터 선택되며, 이 경우 치환기들 (Z)은 -H, -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN, 아세틸 기로부터 선택될 수 있고 이들은 동일하거나 상이할 수 있다.
Figure pct00002
특히 바람직하게, X는 하나 이상의 하이드록실기로 치환된 페닐기의 그룹으로부터 선택되며, 이 경우 치환기(Z)는 -H, -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN, 아세틸 기로부터 선택될 수 있고, 이하의 포괄적인(generic) 구조식이 바람직하며, 이와 같은 구조에서 Y, R1 및 R2는 앞에서 규정된 특성들을 가질 수 있다.
Figure pct00003
하기 화합물이 특히 유리하다:
X =
Figure pct00004
Y = H
R 1 = -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C8-사이클로알킬-알킬하이드록시, -C1-C24알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아민 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴-알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬-O-C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알키-모르폴리노, -C1-C24-알키-피페리디노, -C1-C24-알키-피페라지노, -C1-C24-알키-피페라지노-N-알킬,
R 2 = H, -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형),
Z = -H, -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN, 아세틸.
하기 화합물이 특히 바람직하게 제공된다:
X =
Figure pct00005
Y = H
R 1 = -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C8-사이클로알킬-알킬하이드록시, -C1-C24-알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아민 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴-알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬-O-C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알키-모르폴리노, -C1-C24-알키-피페리디노, -C1-C24-알키-피페라지노, -C1-C24-알키-피페라지노-N-알킬,
R 2 = H.
하기 화합물이 본 발명에 따라 선호되는 화합물들이다:
Figure pct00006
Figure pct00007
Figure pct00008
Figure pct00009
Figure pct00010
Figure pct00011
Figure pct00012
Figure pct00013
Figure pct00014
Figure pct00015
Figure pct00016
및
Figure pct00017
본 발명에 따라 이용된 활성 성분 및/또는 본 발명에 따라 이용된 효과적인 함량의 활성 성분을 지니는 화장용 또는 국소용 피부과 제조물을 이용한 예방 및/또는 화장용 또는 피부과 치료는 일반적인 방식으로 일어나며, 특히 본 발명에 따라 이용된 활성 성분 및/또는 본 발명에 따라 이용된 효과적인 함량의 활성 성분을 지니는 화장용 또는 국소용 피부과 제조물이 피부의 환부에 도포되는 방식으로 일어난다.
본 발명에 따라 이용된 활성 성분은 다양한 형태일 수 있는 통상적인 화장용 및 피부과 제조물에 유리하게 포함될 수 있다. 따라서, 이들은 예컨대 용액, 유중수 (W/O) 타입 또는 수중유 (O/W) 타입의 에멀젼, 또는 예를 들어, 수중유중수 (W/O/W) 타입 또는 유중수중유 (O/W/O) 타입의 다중 에멀젼, 수분산액(hydrodispersion) 또는 지질분산액(lipodispersion), 피커링(Pickering) 에멀젼, 겔, 고체 스틱 또는 다른 에어로졸일 수 있다.
본 발명의 맥락에서 예컨대, 크림, 로션, 화장용 밀크 형태의 본 발명에 따른 에멀젼이 유리하며, 예컨대 지방, 오일, 왁스 및/또는 다른 지방체, 뿐만 아니라 물 및 하나 이상의 에멀젼화제를 포함하는데, 이들은 그러한 유형의 제형에 통상적으로 이용된다.
본 발명의 맥락에서 피부 및 모발을 세정하기 위해 본 발명에 따라 이용된 활성 성분을 수성 시스템 또는 계면활성제 제조물에 첨가하는 것이 또한 가능하며 유리하다.
세련된 화장용 조성물은 대부분 통상적인 보조제 및 첨가제 없이는 상상도 할 수 없음이 당분야 숙련자에게 물론 알려져 있다. 이들은, 예를 들어, 조도 조절제, 충전제, 퍼퓸, 염료, 에멀젼화제, 비타민 또는 단백질과 같은 추가적인 활성 성분, 광 보호제, 안정화제, 방충제, 알콜, 물, 염, 항균제, 단백질분해 또는 각질용해 물질 등을 포함한다.
해당 요건은 의약 제조물의 제형에 적절한 변경을 가하여 이용된다.
본 발명의 맥락에서 국소용 의약 조성물은 일반적으로 하나 이상의 약제를 유효 농도로 포함한다. 간략화를 위해, 화장품 및 의약 용도와 해당 제품 간의 명확한 구분에 대해서는, 독일 연방 공화국의 법정 규정을 참조한다 (예컨대, Cosmetics Ordinance, Food and Drugs Act).
이에 관해, 본 발명에 따라 이용된 활성 성분을 상이한 목적을 위해 이미 다른 활성 성분을 포함하는 제조물에 첨가제로서 첨가하는 것이 마찬가지로 유리하다.
따라서, 화장용 또는 국소용 피부과 조성물은, 예를 들어 피부 보호 크림, 클렌징 밀크, 선스크린 로션, 영양 크림, 데이 또는 나이트 크림 등으로서 이들의 제형에 따라, 본 발명의 맥락에서 이용될 수 있다. 본 발명에 따른 조성물은 약학적 제형을 위한 기재로서 이용되는 것이 또한 가능하고 유리하다.
사용을 위해, 본 발명에 따른 화장용 및 피부과 제조물은 적당한 양으로 미용에 통상적인 방식으로 피부 및/또는 모발에 도포된다.
선스크린 제품의 형태로 존재하는 화장용 및 피부과 제조물이 특히 바람직하게 제공된다. 이들은 유리하게는 적어도 하나의 추가 UVA 필터 및/또는 적어도 하나의 추가 UVB 필터 및/또는 적어도 하나의 무기 안료, 바람직하게는 무기 마이크로안료를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 화장용 및 피부과 제조물은 그러한 제조물에 통상적으로 이용되는, 예컨대 보존제, 살균제, 퍼퓸, 기포를 방지하기 위한 물질, 염료, 착색 효과를 갖는 안료, 증점제, 보습 및/또는 습윤 물질, 지방, 오일, 왁스 또는 화장용 또는 피부과 제형의 다른 통상적인 구성성분, 예컨대 알콜, 폴리올, 중합체, 기포 안정화제, 전해액, 유기 용매 또는 실리콘 유도체와 같은 화장용 보조제를 포함할 수 있다.
추가 함량의 통상적인 항산화제가 일반적으로 바람직하다. 본 발명에 따르면, 이용될 수 있는 유리한 항산화제는 화장용 및/또는 피부과 적용에 통상적이거나 적합한 모든 항산화제이다.
제조물에서 상기 언급된 항산화제 (하나 이상의 화합물)의 양은 제조물의 총 중량에 기반하여 바람직하게는 0.001 내지 30 중량%, 특히 바람직하게는 0.05-20 중량%, 특히 1-10 중량%이다.
본 발명의 맥락에서 화장용 또는 피부과 제조물이 용액 또는 에멀젼 또는 분산액인 경우, 이용될 수 있는 용매는,
- 물 또는 수용액
- 오일, 예컨대 카프르산 또는 카프릴산의 트리글리세라이드, 그러나 바람직하게는 피마자유;
- 지방, 왁스 및 다른 천연 및 합성 지방체, 바람직하게는 지방산과 낮은 탄소 수의 알콜, 예컨대 이소프로판올, 프로필렌 글리콜 또는 글리세롤과의 에스테르, 또는 지방 알콜과 낮은 탄소 수의 알칸산 또는 지방산과의 에스테르;
- 낮은 탄소 수의 알콜, 디올 또는 폴리올, 및 이의 에테르, 바람직하게는 에탄올, 이소프로판올, 프로필렌 글리콜, 글리세롤, 에틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜 모노에틸 또는 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸, 모노에틸 또는 모노부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸 또는 모노에틸 에테르 및 유사한 생성물이다.
특히, 상기 언급된 용매의 혼합물이 이용된다. 알코올 용매의 경우, 물이 추가 구성성분일 수 있다.
본 발명의 맥락에서 화장용 또는 피부과 제조물이 용액 또는 에멀젼 또는 분산액인 경우, 이용될 수 있는 용매는,
- 물 또는 수용액
- 오일, 예컨대 카프르산 또는 카프릴산의 트리글리세라이드, 그러나 바람직하게는 피마자유;
- 지방, 왁스 및 다른 천연 및 합성 지방체, 바람직하게는 지방산과 낮은 탄소 수의 알콜, 예컨대 이소프로판올, 프로필렌 글리콜 또는 글리세롤과의 에스테르, 또는 지방 알콜과 낮은 탄소 수의 알칸산 또는 지방산과의 에스테르;
- 낮은 탄소 수의 알콜, 디올 또는 폴리올, 및 이의 에테르, 바람직하게는 에탄올, 이소프로판올, 프로필렌 글리콜, 글리세롤, 에틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜 모노에틸 또는 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸, 모노에틸 또는 모노부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸 또는 모노에틸 에테르 및 유사한 생성물이다.
특히, 상기 언급된 용매의 혼합물이 이용된다. 알코올 용매의 경우, 물이 추가 구성성분일 수 있다.
본 발명의 맥락에서, 에어로졸 용기로부터 분무될 수 있는 화장용 및/또는 피부과 제조물에 적합한 분사제는 독자적으로 또는 서로 혼합하여 사용될 수 있는, 통상적으로 공지되어 있는, 용이하게 휘발되는 액화 분사제, 예를 들어 탄화수소 (프로판, 부탄, 이소부탄)이다. 압축 공기도 유리하게 이용된다.
당분야 숙련자는 물론 원칙적으로 에어로졸 제조물 형태로 본 발명을 실현하기에 적합하지만, 그럼에도 불구하고 환경 또는 기타 수반되는 상황에서 허용될 수 없는 효과로 인해 분배되어야 하는, 그 자체로 무독성인 분사제 가스, 특히 플루오로하이드로카본 및 클로로플루오로하이드로카본 (CFC)이 존재함을 알고 있다.
본 발명의 맥락에서 화장용 제조물은 또한, 본 발명에 따른 효과적인 함량의 활성 성분 및 거기에 통상적으로 이용되는 용매, 바람직하게는 물 외에, 유기 증점제, 예컨대 아라비아 검, 크산탄 검, 소듐 알기네이트, 셀룰로스 유도체, 바람직하게는 메틸셀룰로스, 하이드록시메틸셀룰로스, 하이드록시에틸셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스, 하이드록시프로필메틸셀룰로스 또는 무기 증점제, 예컨대 알루미늄 실리케이트, 예를 들어, 벤토나이트, 또는 폴리에틸렌 글리콜과 폴리에틸렌 글리콜 스테아레이트 또는 디스테아레이트의 혼합물을 또한 포함하는 겔의 형태일 수 있다. 증점제는, 예컨대 0.1 내지 30 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 15 중량%의 양으로 겔에 존재한다.
본 발명에 따른 조합물과 별개로, 지질상에 추가의 지용성 UVA 필터 및/또는 UVB 필터 및/또는 수성상에 추가의 수용성 UVA 필터 및/또는 UVB 필터를 이용하는 것이 본 발명에 따라 유리하다.
본 발명에 따르면, 광 보호 제형은 유리하게는 전체 범위의 자외선으로부터 피부를 보호하는 화장용 제조물을 제공하기 위해, UVB 영역의 UV 선을 흡수하는 추가 물질을 포함할 수 있고, 여기서 필터 물질의 총 양은 제조물의 총 중량에 기반하여 예컨대 0.1 중량% 내지 30 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 10 중량%, 특히 1 내지 6 중량%이다. 이들은 또한 일광 차단제로서 작용할 수 있다.
효과의 입증:
핵 인자 카파 B (NFκB)는 염증의 주된 조절제이다. 다수의 전-염증 매개물질 (예컨대 사이토카인 및 케모카인)의 발현은 NFκB에 의해 제어된다. 따라서, NFκB의 활성화의 억제는 염증 과정을 최소화시키는 중요한 메커니즘이다. NFκB 활성을 측정하기 위해, Cell Culture Service GmbH (Hamburg)로부터의 상업적 검정을 이용하였다. 이러한 시험에서, NFκB는 전-염증 매개물질 TNF-알파를 첨가시킴에 의해 활성화된다. 본 발명에 따른 알킬아미도티아졸의 첨가는 용량-의존적인 방식으로 TNF-알파 효과를 억제한다. 도 1은 심지어 매우 낮은 농도의 N-(4-(2,4-디하이드록시페닐)티아졸-2-일)이소부티르아미드가 TNF-알파-유도된 NFκB의 활성화를 억제하는 것을 예로서 도시한다.
추가 실험에서 NFκB 활성화의 억제가 또한 실제로 전-염증 매개물질의 후속 분비를 감소시키는 지를 조사하였다. 예로서, 두 실험 결과를 도면에 설명한다. 인간 진피 섬유모세포와 리포폴리사카라이드 (LPS)의 인큐베이션에 의해, 전-염증 프로스타글란딘 E2의 형성이 세포에서 유도되었고, LPS 및 본 발명에 따른 증가하는 농도의 물질과 24시간 인큐베이션 후에, 특이적 ELISA를 이용하여 세포 배양 상청액에서의 농도를 결정하였다. 도 2로부터 명백한 바와 같이, N-(4-(2,4-디하이드록시페닐)티아졸-2-일)이소부티르아미드는 PGE2의 방출을 약리적 표준 디클로페낙과 유사한 수준으로 매우 현저하게 감소시킨다. 다음 실험에서, LPS에 의한 자극 및 본 발명에 따른 물질과 동시 인큐베이션 (24시간 동안) 후에 혈액 백혈구로부터 인터루킨 1β (IL-1β)의 방출을 측정하였다. 여기서도 역시, 알킬아미도티아졸 (본원에서 예로서 N-(4-(2,4-디하이드록시페닐)티아졸-2-일)이소부티르아미드)은 매우 우수한 항염증 효과를 나타낸다. 16.67 μM의 농도에서, 초-효력 코르티코스테로이드인 500 ng의 덱사메타손만큼의 효과가 달성된다. 따라서, 알킬아미도티아졸의 항염증 활성 수준은, 비록 더 높은 농도의 본 발명에 따른 물질이 이용되어야 하지만, 인지된 약리적 표준의 활성 수준이다.
예로서 선택된 알킬아미도티아졸의 합성 절차:
2-브로모-2',4'-비스메톡시카르보닐옥시아세토페논:
Figure pct00018
Figure pct00019
900 ml의 테트라하이드로푸란 중 60 g (369 mmol)의 2,4-디하이드록시아세토페논 및 186 ml의 트리에틸아민의 용액을 0℃로 냉각시키고, 400 ml의 테트라하이드로푸란 중 93 ml의 메틸 클로로포르메이트를 천천히 적가하였다. 백색 침전물이 형성되었다. 3시간 동안 실온에서 교반시킨 후, 반응이 완료되었다 (TLC 조절). 침전물을 석션에 의해 여과시키고, 풍부한 양의 테트라하이드로푸란으로 세척하였다. 여과액을 회전 증발기 상에서 증발 건조시키고, 에틸 아세테이트에 용해시키고, 1N HCl 및 NaCl 용액 (포화)으로 세척하고, 마그네슘 설페이트 상에서 건조시키고, 마그네슘 설페이트로부터 여과하고, 에틸 아세테이트를 회전 증발기 상에서 농축시켰다. 105 g의 2,4-비스메톡시카르보닐옥시아세토페논을 수득하였다. 1H NMR (DMSO-D6): 8.05 (d, 1H), 7.38 (d, 1H), 7.36 (s, 1H), 3.86 (d, 6H). 생성물을 추가 정제 없이 이용하였다. 450 ml의 클로로포름 중 63 g (392 mmol)의 브롬을 클로로포름 (1000 ml) 중 105 g의 2,4-비스-메톡시카르보닐옥시아세토페논의 용액에 3시간에 걸쳐 적가하였다. 그 후 반응물을 추가 15분 동안 실온에서 교반시켰다. 용매를 회전 증발기 상에서 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트/n-헥산에서 교반시키고, 생성된 침전물을 석션에 의해 여과시켰다. 에틸 아세테이트/n-헥산으로부터 재결정화시켜 100 g의 2-브로모-2',4'-비스메톡시카르보닐옥시아세토페논을 수득하였다. 1H NMR (DMSO-D6): 8.11 (d, 1H), 7.42 (m, 2H), 4.87 (s, 2H), 3.87 (s, 3H), 3.85 (s, 3H) ppm; m.p. 73-74℃.
N-(4-(2,4-디하이드록시페닐)티아졸-2-일)피발아미드:
Figure pct00020
126 g (1.66 mmol)의 티오우레아를 초기에 톨루엔 (1000 ml)에 도입시키고, 100 g (829 mmol)의 피발로일 클로라이드를 첨가하였다. 반응 용액을 환류 하에 3시간 동안 비등시켜, 2개의 상을 생성하였다. 상부 상을 디캔팅하여 냉각시켰다. 침전된 무색 바늘을 석션에 의해 여과하고, 사이클로헥산으로 세척하고, 진공에서 건조시켰다. 수율: 64 g. 1H NMR (DMSO-D6): 10.27 (s, 1H), 9.74 (s, 1H), 9.40 (s, 1H), 1.19 (s, 9H) ppm.
107.7 g (310 mmol)의 2-브로모-2',4'-비스메톡시카르보닐옥시아세토페논을 1.2 ℓ의 에탄올 중 49.7 g (13.6 mmol)의 N-피발로일티오우레아 및 39.2 g (466 mmol)의 NaHCO3와 함께 0.5시간 동안 환류 하에 비등시켰다. 반응 용액을 냉각시키고, 250 ml의 물 중 50.6 g (1.27 mol)의 NaOH와 혼합시켰다. 실온에서 30분 동안 교반시킨 후, 반응 용액을 300 ml의 물에 용해시키고, 2N HCl로 중화시켰다. 생성된 침전물을 여과하고, 에탄올/물로부터 재결정화시켰다. 80 g의 티아졸을 수득하여다. 1H NMR (DMSO-D6): 11.77 (bs, 1H), 11.02 (bs, 1H), 9.47 (bs, 2H), 7.65 (d, 1H), 7.39 (s, 1H), 6.30 (s, 1H), 6.28 (d, 1H), 1.27 (s, 9H) ppm; m.p. 257-259℃.
N-(4-(2,4-디하이드록시페닐)티아졸-2-일)이소부티르아미드:
Figure pct00021
114 g (1.5 mol)의 티오우레아를 초기에 톨루엔 (800 ml)에 도입시키고, 80 g (0.75 mol)의 이소부티릴 클로라이드를 적가하였다. 반응 용액을 환류 하에 3시간 동안 비등시켜, 2개의 상을 생성하였다. 상부 상을 디캔팅하여 냉각시켰다. 침전된 백색 결정을 석션에 의해 여과시키고, 톨루엔으로 세척하고, 진공에서 건조시켰다. 수율: 62 g. 1H NMR (DMSO-D6): 11.03 (bs, 1H), 9.66 (bs, 1H), 9.35 (bs, 1H), 2.72 (m, 1H), 1.03 (2, 6H) ppm;
89 g (260 mmol)의 2-브로모-2',4'-비스메톡시카르보닐옥시아세토페논을 1000 ml의 에탄올 중 37.5 g (260 mmol)의 N-이소부티릴티오우레아 및 32 g (380 mmol)의 NaHCO3와 함께 환류 하에 0.5시간 동안 비등시켰다. 반응 용액을 냉각시키고, 250 ml의 물 중 41 g (0.93 mol)의 NaOH와 혼합시켰다. 실온에서 30분 동안 교반시킨 후, 반응 용액을 300 ml의 물에 용해시키고, 2N HCl로 pH=3으로 조정하였다. 생성된 침전물을 여과시키고, 에탄올/물로부터 재결정화시켰다. 56 g의 티아졸을 수득하였다. 1H NMR (DMSO-D6): 12.16 (bs, 1H), 10.88 (bs, 1H), 9.47 (bs, 1H), 7.65 (m, 1H), 7.41 (s, 1H), 6.32 (m, 2H), 2.75 (m, 1H), 1.14 (d, 6H) ppm. m.p.: 243-245℃.
N-(4-(2,4-디하이드록시페닐)티아졸-2-일)부티르아미드:
Figure pct00022
143 g (1.88 mol)의 티오우레아를 초기에 톨루엔 (1000 ml)에 도입시키고, 100 g (0.93 mol)의 n-부티릴 클로라이드를 적가하였다. 반응 용액을 환류 하에 3시간 동안 비등시켜, 2개의 상을 생성하였다. 상부 상을 디캔팅하여 냉각시켰다. 침전된 약간 노란색의 결정을 석션에 의해 여과시키고, 톨루엔으로 세척하고, 진공에서 건조시켰다. 수율: 88 g. 1H NMR (DMSO-D6): 11.03 (bs, 1H), 9.65 (bs, 1H), 9.33 (bs, 1H), 2.33 (t, 2H), 1.53 (m, 2H), 0.86 (t, 3H) ppm; m.p.: 115-188℃.
92 g (265 mmol)의 2-브로모-2',4'-비스메톡시카르보닐옥시아세토페논을 900 ml의 에탄올 중 38.75 g (265 mmol)의 N-부티릴티오우레아 및 34 g (397 mmol)의 NaHCO3와 함께 환류 하에 0.5시간 동안 비등시켰다. 반응 용액을 냉각시키고 300 ml의 물 중 37 g (0.93 mol)의 NaOH와 혼합시켰다. 실온에서 30분 동안 교반시킨 후, 반응 용액을 300 ml의 물에 용해시키고, 2N HCl로 중화시켰다. 생성된 침전물을 여과시키고, 에탄올/물로부터 재결정화시켰다. 67 g의 티아졸을 수득하였다. 1H NMR (DMSO-D6): 12.18 (bs, 1H), 10.89 (bs, 1H), 9.48 (bs, 1H), 7.65 (1 arom. H), 7.40 (s, 1H), 6.31 (2 arom. H), 2.43 (t, 2H), 1.64 (m, 2H), 0.91 (t, 3H)ppm. m.p.: 227-229℃.
N-(4-(2,4-디하이드록시페닐)티아졸-2-일)아세트아미드
Figure pct00023
4.71 g (13.6 mmol)의 2-브로모-2',4'-비스메톡시카르보닐옥시아세토페논을 45 ml의 에탄올 중 1.61 g (13.6 mmol)의 N-아세틸티오우레아 및 1.72 g (20.4 mmol)의 NaHCO3와 함께 환류 하에 0.5시간 동안 비등시켰다. 반응 용액을 냉각시키고, 20 ml의 물 중 2.0 g (50 mmol)의 NaOH와 혼합시켰다. 0℃에서 20분 동안 교반시킨 후, 반응 용액을 30 ml의 물에 용해시키고, 반-농축(semi-conc.) HCl로 중화시켰다. 생성된 침전물을 여과시키고, 에탄올/물로부터 재결정화시켰다. 2.73 g의 생성물을 수득하였다. 1H NMR (DMSO-D6): 12.20 (b, 1H), 10.85 (s, 1H), 9.46 (s, 1H), 7.64 (m, 1H), 7.38 (s, 1H), 6.28 (m, 2H), 2.15 (s, 3H) ppm; m.p. 264-264℃.
N-(4-(2,4-디하이드록시페닐)티아졸-2-일)-4-(하이드록시메틸)사이클로헥산-카르복스아미드:
Figure pct00024
문헌과 유사한 절차.
Figure pct00025
수율: 96%, 1H NMR (DMSO-D6): 12.03 (bs, 1H), 3.85, 3.82 (2 x d, 2H), 2.50, 2.47 (2 x m, 1H), 2.00 (s, 3H), 0.95-1.90 (m, 9H) ppm;
Figure pct00026
95 g (0.47 mol)의 4-아세톡시메틸사이클로헥산카르복실산을 350 ml의 티오닐 클로라이드에서 환류 하에 2시간 동안 가열시켰다. 과량의 티오닐 클로라이드를 진공에서 제거한 후, 잔류물을 1 ℓ의 톨루엔에 용해시키고, 71 g (0.94 mol)의 티오우레아를 첨가하였다. 반응 용액을 환류 하에 3시간 동안 비등시킨 다음, 고온 여과시켰다. 모액을 냉각시킨 후, 생성된 백색 결정을 석션에 의해 여과시키고, 톨루엔으로 세척하고, 진공에서 건조시켰다. 수율: 59 g. 1H NMR (DMSO-D6): 11.03, 10.97 (2 x s, 1H), 9.64 (bs, 1H), 9.35 (bs, 1H), 3.93, 3.82 (2 x d, 2H), 2.61, 2.42 (2 x m, 1H), 2.00 (s, 3H), 1.60 (m, 8H), 1.35, 0.94 (2 x m, 1H) ppm;
79 g (228 mmol)의 2-브로모-2',4'-비스메톡시카르보닐옥시아세토페논을 1000 ml의 에탄올 중 59 g (228 mmol)의 N-(4-아세톡시메틸사이클로헥실카르보닐)티오우레아 및 29 g (340 mmol)의 NaHCO3와 함께 환류 하에 0.5시간 동안 비등시켰다. 반응 용액을 냉각시키고, 300 ml의 물 중 73 g (1.8 mol)의 NaOH와 혼합시켰다. 실온에서 30분 동안 교반시킨 후, 반응 용액을 300 ml의 물에 용해시키고, 2N HCl로 pH=3으로 조정하였다. 생성된 침전물을 여과시키고, 에탄올/물로부터 재결정화시켰다. 47 g의 티아졸을 수득하였다. 1H NMR (DMSO-D6): 12.15, 12.10, (2 x s, 1H), 10.96 (2 x s, 1H), 9.47 (br, 2H), 7.64 (d, 1H), 7.39 (s, 1H), 6.29 (m, 2H), 4.40 (br, 1H), 3.32, 3.23 (2 x d, 2H), 2.65, 2.44 (2 x m, 1H), 1.90 (m, 1H), 1.78 (m, 2H), 1.50 (m, 5H), 0.94 (m, 1H) ppm. m.p.: 152-160℃.
N-(4-(2,4-디하이드록시페닐)티아졸-2-일)사이클로헥산카르복스아미드:
Figure pct00027
52 g (0.68 mol)의 티오우레아를 초기에 톨루엔 (500 ml)에 도입시키고, 50 g (0.34 mol)의 사이클로헥사노일 클로라이드를 적가하였다. 반응 용액을 환류 하에 3시간 동안 비등시켜, 2개의 상을 생성하였다. 상부 상을 디캔팅하여 냉각시켰다. 침전된 결정을 석션에 의해 여과시키고, 톨루엔으로 세척하고, 메탄올로부터 재결정화시켰다. 수율: 35 g. 1H NMR (DMSO-D6): 10.98 (bs, 1H), 9.65 (bs, 1H), 9.32 (bs, 1H), 2.49 (t, 1H), 1.75 (m, 4H), 1.61 (m, 1H), 1.18 (m, 5H) ppm.
92 g (265 mmol)의 2-브로모-2',4'-비스메톡시카르보닐옥시아세토페논을 900 ml의 에탄올 중 49.4 g (265 mmol)의 N-사이클로헥사노일티오우레아 및 34 g (397 mmol)의 NaHCO3와 함께 환류 하에 0.5시간 동안 비등시켰다. 반응 용액을 냉각시키고, 300 ml의 물 중 37 g (930 mmol)의 NaOH와 혼합시켰다. 실온에서 30분 동안 교반시킨 후, 반응 용액을 300 ml의 물에 용해시키고, 2N HCl로 중화시켰다. 에탄올을 회전 증발기 상에서 대부분 제거하였다. 생성된 침전물을 여과하고, 에탄올/물로부터 재결정화시켰다. 70 g의 티아졸을 수득하였다. 1H NMR (DMSO-D6): 12.14 (bs, 1H), 11.00 (bs, 1H), 9.48 (bs, 1H), 7.64 (1 arom. H), 7.39 (s, 1H), 6.30 (2 arom. H), 2.49 (m, 1H), 1.84 (m, 2H), 1.76 (m, 2H), 1.65 (m, 1H), 1.42 (m, 2H), 1.25 (m, 3H) ppm. m.p.: 262-266℃.
N-(4-(2,4-디하이드록시페닐)티아졸-2-일)-2-(4-(하이드록시메틸)페닐)아세트아미드:
Figure pct00028
문헌과 유사한 절차.
Figure pct00029
수율: 76%, 1H NMR (DMSO-D6): 12.31 (bs, 1H), 7.26 (m, 4H), 5.05 (s, 2H), 3.57 (s, 2H), 2.05 (s, 3H) ppm;
Figure pct00030
3.7 g (18 mmol)의 4-아세톡시메틸페닐아세트산을 40 ml의 티오닐 클로라이드에서 환류 하에 2시간 동안 가열시켰다. 과량의 티오닐 클로라이드를 진공에서 제거시킨 후, 잔류물을 70 ml의 톨루엔에 용해시키고, 2.7 g (36 mmol)의 티오우레아를 첨가하였다. 반응 용액을 환류 하에 3시간 동안 비등시킨 다음, 용매를 진공에서 제거하였다. 실리카겔 상에서 사이클로헥산/에틸 아세테이트 1/1에 의한 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제를 수행하였다. 수율: 2.7 g. 1H NMR (DMSO-D6): 11.29 (bs, 1H), 9.55 (bs, 1H), 9.40 (bs, 1H), 7.30 (m, 4H), 5.04 (s, 2H), 3.71 (s, 2H), 2.05 (s, 3H) ppm;
3.5 g (10 mmol)의 2-브로모-2',4'-비스메톡시카르보닐옥시아세토페논을 50 ml의 에탄올 중 2.7 g (10 mmol)의 N-[2-(4-아세톡시메틸페닐)아세틸]티오우레아 및 1.3 g (15 mmol)의 NaHCO3와 함께 환류 하에 0.5시간 동안 비등시켰다. 반응 용액을 냉각시키고, 20 ml의 물 중 4.0 g (0.1 mol)의 NaOH와 혼합시켰다. 60℃에서 2시간 동안 교반시킨 후, 반응 용액을 100 ml의 물에 용해시키고, 2N HCl로 pH=3으로 조정하였다. 생성된 침전물을 여과시키고, 에탄올/물로부터 재결정화시켰다. 1.3 g의 티아졸을 수득하였다. 1H NMR (DMSO-D6): 12.44 (s, 1H), 10.80 (s, 1H), 9.48 (s, 1H), 7.66 (d, 1H), 7.41 (s, 1H), 7.29 (m, 4H), 6.32 (m, 2H), 5.13 (t, 1H), 4.47 (d, 2H), 3.77 (s, 2H) ppm. m.p.: 254-256℃.
하기 실시예는 본 발명을 제한하지 않으며 이를 예시하기 위한 것이다. 달리 언급되지 않는 한, 모든 정량적 데이터, 분획 및 백분율은 중량 및 제조물의 총 양 또는 총 중량을 기준으로 한다.
포뮬레이션 예
O/W 에멀젼
Figure pct00031
Figure pct00032
Figure pct00033
Figure pct00034
Figure pct00035
Figure pct00036
Figure pct00037

Claims (10)

  1. 민감성 피부, 소양증, 건성 피부, 뿐만 아니라 인간 피부의 염증 상태를 미리 예방하고 치료하기 위한 화장용 또는 피부과 제조물에서 알킬아미도티아졸의 용도.
  2. 제 1항에 있어서, 화장용 또는 피부과 제조물 중 알킬아미도티아졸의 함량이, 각 경우에 조성물의 총 중량에 기반하여, 0.000001 내지 10.0 중량%, 특히 0.0001 내지 3.0 중량% 및 매우 특히 0.001 내지 1 중량%의 범위로부터 선택됨을 특징으로 하는 용도.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 알킬아미도티아졸(들)이 하기 화학식의 물질이며, 알킬아미도티아졸(들)은 유리 염기 또는 화장용 또는 피부과적으로 이용될 수 있는 염으로서 존재할 수 있음을 특징으로 하는 용도:
    Figure pct00038

    상기 식에서,
    R1, R2, X 및 Y는 상이할 수 있거나, 부분적으로 동일할 수 있거나 또는 완전히 동일할 수 있으며, 서로 독립적으로 다음을 의미할 수 있다:
    R 1 = -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C8-사이클로알킬-알킬하이드록시, -C1-C24-알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아민 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴-알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬-O-C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알키-모르폴리노, -C1-C24-알키-피페리디노, -C1-C24-알키-피페라지노, -C1-C24-알키-피페라지노-N-알킬,
    R 2 = H, C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C24-하이드록시알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형),
    X = H, -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C24-아릴 (임의로 -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN으로 단일- 또는 다중 치환됨), -C1-C24-헤테로아릴 (임의로 -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN으로 단일- 또는 다중 치환됨), -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형), -아릴 (임의로 -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN으로 단일- 또는 다중 치환됨), -페닐, 2,4-디하이드록시페닐, -2,3-디하이드록시페닐, -2,4-디메톡시페닐, -2,3-디메톡시페닐,
    Y = H, -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C24-아릴, -C1-C24-헤테로아릴, -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형), -아릴, -페닐, -2,4-디하이드록시페닐, -2,3-디하이드록시페닐, -2,4-디메톡시페닐, -2,3-디메톡시-페닐, -COO-알킬, -COO-알케닐, -COO-사이클로알킬, -COO-아릴, -COO-헤테로아릴,
    그리고 X, Y는 임의로 또한 축합된 방향족 화합물일 수 있으며,
    이 경우 X 및 Y는 서로, 최대 n개의 고리-형성 원자를 갖는 방향족 또는 지방족 호모- 또는 헤테로사이클릭 고리계를 형성할 수 있고, 이 경우 숫자 n은 5 내지 8의 값을 취할 수 있으며, 그리고 개개 고리계는 다시 n-1개까지의 알킬기, 하이드록실기, 카르복실기, 아미노기, 니트릴 작용기, 황-함유 치환기, 에스테르기 및/또는 에테르기로 치환될 수 있다.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, X가 치환된 페닐기의 그룹으로부터 선택되고, Y, R1 및 R2가 제 3항에서 규정된 특성들을 가질 수 있음을 특징으로 하는 용도.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, X가 치환된 페닐기의 그룹으로부터 선택되고, 특히 하기 구조를 지닌 물질의 그룹으로부터 선택됨을 특징으로 하는 용도:
    Figure pct00039

    상기 식에서, 치환기들 (Z)은 -H, -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN, 아세틸 기로부터 선택될 수 있고 이들은 동일하거나 상이할 수 있으며, Y, R1 및 R2는 제 3항에서 규정된 특성들을 가질 수 있다.
  6. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 알킬아미도티아졸(들)이 하기 구조를 지님을 특징으로 하는 용도:
    Figure pct00040

    상기 식에서, 치환기 (Z)는 -H, -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN 기로부터 선택될 수 있고, Y, R1 및 R2는 제 3항에서 규정된 특성들을 가질 수 있다.
  7. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 알킬아미도티아졸(들)이 하기 구조를 지님을 특징으로 하는 용도:
    X =
    Figure pct00041

    Y = H
    R 1 = -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C8-사이클로알킬-알킬하이드록시, -C1-C24-알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아민 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴-알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬-O-C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알키-모르폴리노, -C1-C24-알키-피페리디노, -C1-C24-알키-피페라지노, -C1-C24-알키-피페라지노-N-알킬,
    R 2 = H, -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형),
    Z = -H, -OH, -F, -Cl, -Br, -I, -OMe, -NH2, -CN, 아세틸.
  8. 알킬아미도티아졸(들)이 하기 구조를 지님을 특징으로 하는 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 활성 성분 조합물:
    X =
    Figure pct00042

    Y = H
    R 1 = -C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알케닐 (선형 및 분지형), -C1-C8-사이클로알킬, -C1-C8-사이클로알킬-알킬하이드록시, -C1-C24-알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아민 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬아릴-알킬하이드록시 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬헤테로아릴 (선형 및 분지형), -C1-C24-알킬-O-C1-C24-알킬 (선형 및 분지형), -C1-C24-알키-모르폴리노, -C1-C24-알키-피페리디노, -C1-C24-알키-피페라지노, -C1-C24-알키-피페라지노-N-알킬,
    R 2 = H.
  9. 알킬아미도티아졸(들)이 하기 구조를 지님을 특징으로 하는 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 활성 성분 조합물:
    Figure pct00043

    Figure pct00044

    Figure pct00045

    Figure pct00046

    Figure pct00047

    Figure pct00048

    Figure pct00049

    Figure pct00050

    Figure pct00051

    Figure pct00052

    Figure pct00053

    및
    Figure pct00054
    .
  10. 민감성 피부, 소양증, 건성 피부, 및 인간 피부의 염증 상태를 예방하고 치료하기 위한 제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 따른 알킬아미도티아졸.
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