KR20160088470A - 표시장치의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

표시장치의 제조방법은 제1 베이스 기판의 제1 면 상에 보호막을 형성하는 단계; 상기 제1 면과 마주하는 상기 제1 베이스 기판의 제2 면 상에 구비된 복수의 와이어 그리드 패턴을 포함하는 편광판을 형성하는 단계; 상기 보호막을 상기 제1 면으로부터 제거하는 단계; 및 상기 제1 면 상에 화소 어레이층을 형성하는 단계를 포함한다.

Description

표시장치의 제조방법{METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY APPARATUS}
본 발명은 표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 와이어 그리드 편광판을 채용하는 표시장치의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로, 상호 이격되어 어레이된 금속 와이어는 전자기파의 편광을 선택적으로 투과시키거나 반사시킨다. 즉, 입사되는 전자기파의 파장보다 금속 와이어 배열의 주기가 짧은 경우, 금속 와이어와 평행한 편광 성분은 반사되고, 수직한 평광 성분은 투과된다.
이 현상을 이용하여 편광 효율이 우수하고, 투과율이 높으며, 시야각이 넓은 편광자를 제조할 수 있는데, 이러한 소자를 와이어 그리드 편광자(Wire Grid Polarizer)라고 한다.
최근, 와이어 그리드 편광판이 표시 장치에 채용되고 있다.
본 발명의 목적은 선 격자 편광판을 채용하는 표시장치에서 제조 공정 상의 불량을 방지할 수 있는 표시장치의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 제조방법은 제1 베이스 기판의 제1 면 상에 보호막을 형성하는 단계; 상기 제1 면과 마주하는 상기 제1 베이스 기판의 제2 면 상에 구비된 복수의 와이어 그리드 패턴을 포함하는 편광판을 형성하는 단계; 상기 보호막을 상기 제1 면으로부터 제거하는 단계; 및 상기 제1 면 상에 화소 어레이층을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 제조방법은 제1 베이스 기판의 제1 면 상에 보호막을 형성하는 단계; 상기 제1 면과 마주하는 상기 제1 베이스 기판의 제2 면 상에 구비된 복수의 와이어 그리드 패턴을 포함하는 편광판을 형성하는 단계; 상기 보호막을 패터닝하여 금속 배선을 형성하는 단계; 및 상기 금속 배선 상에 화소들을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 보호막은 상기 제1 베이스 기판의 상기 제2 면 상에 상기 편광판을 형성하는 공정이 시작되기 이전에, 상기 제1 면에 형성되어, 상기 편광판 제조 과정에서 상기 제1 면에 이물이 흡착되거나 상기 제1 면이 스크래치되는 불량을 방지한다.
따라서, 상기 제1 면에 화소 어레이층을 형성하는 과정에서 공정상의 불량이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치를 나타낸 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 화소의 등가 회로도이다.
도 3은 도 1에 도시된 편광판을 나타낸 사시도이다.
도 4는 도 3에 도시된 I 부분의 확대도이다.
도 5a 내지 도 5k는 도 1에 도시된 제1 기판의 제조 과정을 나타낸 공정도들이다.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시장치의 제조 과정을 나타낸 공정도들이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치를 나타낸 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 화소의 등가 회로도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(600)는 광을 발생하는 백라이트 유닛(500) 및 상기 광을 이용하여 영상을 표시하는 표시패널(300)을 포함한다.
상기 백라이트 유닛(500)은 광을 발생하는 광원(미도시), 상기 광원으로부터 상기 광을 수신하여 상기 표시패널(300) 측으로 가이드하는 도광판(510) 및 상기 도광판(510)으로부터 누설된 광을 반사하여 상기 도광판(510)으로 재입사시키는 반사판(520)을 포함한다.
상기 백라이트 유닛(500)은 상기 표시패널(300)의 배면에 인접하여 구비되며, 상기 도광판(510)은 상기 표시패널(300)에 대응하는 크기로 형성되어 상기 광을 전면으로 출력한다. 상기 반사판(520)은 상기 도광판(510)의 하면에 대응하는 크기로 구비되고, 반사율이 높은 물질로 이루어져 상기 하면을 통해 누설된 광을 반사한다.
상기 표시패널(300)은 제1 기판(350), 상기 제1 기판(350)과 마주하는 제2 기판(380) 및 상기 제1 기판(350)과 상기 제2 기판(380)과의 사이에 개재된 액정층(390)을 포함한다.
상기 제1 기판(350)은 제1 베이스 기판(310), 상기 제1 베이스 기판(310)의 제1 면(311) 상에 구비된 화소 어레이층(340), 및 상기 제1 면(311)과 마주하는 상기 제1 베이스 기판(310)의 제2 면(312) 상에 구비된 편광판(320)을 포함한다.
상기 표시패널(300)은 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)으로 구분된다. 상기 편광판(320)은 상기 표시 영역(DA)에 대응하여 상기 제2 면(312) 상에 구비된 복수의 와이어 그리드 패턴(323)을 포함한다. 상기 편광판(320)은 상기 비표시 영역(NDA)에 대응하여 상기 제2 면(312) 상에 구비된 반사 패턴(324)을 더 포함할 수 있다.
상기 와이어 그리드 패턴들(323)은 상기 백라이트 유닛(500)으로부터 제공된 상기 광 중 상기 와이어 그리드 패턴들(323)의 연장 방향과 평행한 편광 성분인 S파는 상기 와이어 그리드 패턴들(323)의 금속(예를 들어, 알루미늄) 성질에 의해서 반사되고, 상기 와이어 그리드 패턴들(323)의 연장 방향과 직교하는 방향과 평행한 편광 성분인 P파는 유효 굴절 매질로 인식되어 투과된다.
상기 반사 패턴(324)은 알루미늄과 같은 반사율이 높은 물질로 이루어져 상기 백라이트 유닛(500)으로부터 제공된 상기 광을 반사할 수 있다. 상기 반사 패턴(324)을 통해 반사된 광은 상기 백라이트 유닛(500)의 상기 반사판(520)에 의해서 반사되어 상기 표시패널(300) 측으로 재입사된다. 따라서, 상기 편광판(320)의 상기 반사 패턴(324)에 의해서 광 이용 효율이 향상될 수 있다.
상기 반사 패턴(324)은 상기 비표시 영역(NDA)에 대응하는 크기로 형성되어, 상기 비표시 영역(NDA)으로 입사된 광을 재사용할 수 있도록 반사시킨다. 따라서, 상기 반사 패턴(324)에 의해서 상기 표시 영역(DA) 측으로 재입사되는 광량이 증가하고, 그로 인해, 상기 표시장치(600)의 광 이용 효율이 상기 반사 패턴(324)에 의해서 향상될 수 있다.
상기 표시장치(600)는 상기 편광판(320) 상에 형성된 투명 보호막(335)을 더 포함할 수 있다. 상기 투명 보호막(335)은 TiOx, AlOx 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.
상기 표시패널(300)은 복수의 화소, 복수의 게이트 라인, 복수의 데이터 라인을 포함할 수 있다. 상기 복수의 화소들 각각은 박막 트랜지스터(TR), 액정 커패시터(Clc) 및 스토리지 커패시터(Cst)를 포함한다. 상기 스토리지 커패시터(Cst)는 생략될 수 있다.
도 2에서는 상기 복수의 화소들 중 i×j번째 화소의 등가 회로도를 나타낸다. 상기 i×j번째 화소에서, 상기 박막 트랜지스터(TR)는 상기 복수의 게이트 라인 중 i번째 게이트 라인(GLi)과 상기 복수의 데이터 라인 중 j번째 데이터 라인(DLj)에 연결된다. 따라서, 상기 박막 트랜지스터(TR)는 상기 i번째 게이트 라인(GLi)으로부터 수신한 게이트 신호에 응답하여, 상기 j번째 데이터 라인(DLj)으로부터 수신한 데이터 신호에 대응하는 화소 전압을 출력한다.
상기 액정 커패시터(Clc)는 상기 화소 트랜지스터(TR)로부터 출력된 화소 전압을 충전한다. 상기 액정 커패시터(Clc)에 충전된 전하량에 따라 액정층(390)에 포함된 액정 분자들의 배열이 변화된다. 액정 분자들의 배열에 따라 상기 액정층으(390)로 입사된 광의 투과율이 조절된다.
상기 스토리지 커패시터(Cst)는 상기 액정 커패시터(Clc)에 병렬로 연결된다. 상기 스토리지 커패시터(Cst)는 상기 액정 분자들의 배열을 일정한 구간 동안 유지시킨다.
상기 화소 어레이층(340)은 각 화소를 구성하는 박막 트랜지스터(TR), 층간 절연막(346) 및 화소 전극(347)을 포함할 수 있다. 또한, 상기 화소 어레이층(340)은 상기 복수의 게이트 라인, 상기 복수의 데이터 라인을 포함할 수 있다. 상기 박막 트랜지스터(TR)는 게이트 전극(341), 소오스 전극(344) 및 드레인 전극(345)을 포함한다. 구체적으로, 상기 제1 베이스 기판(310)의 상기 제1 면(311) 상에는 상기 게이트 전극(341)이 형성되고, 상기 게이트 전극(341)은 해당 게이트 라인으로부터 분기된다. 상기 복수의 게이트 라인 및 상기 게이트 전극(341)은 게이트 절연막(342)에 의해서 커버된다. 상기 게이트 전극(341)에 대응하여 상기 게이트 절연막(342) 상에는 반도체층(343)이 형성되고, 상기 반도체층(343) 상에서 상기 소오스 전극(344) 및 상기 드레인 전극(345)은 소정 간격 이격하여 배치된다.
상기 층간 절연막(346)은 상기 박막 트랜지스터(TR)를 커버하도록 상기 게이트 절연막(342) 상에 형성되고, 상기 층간 절연막(346) 위로 상기 화소 전극(347)이 형성된다. 상기 층간 절연막(346)에는 상기 박막 트랜지스터(TR)의 상기 드레인 전극(345)을 노출시키는 콘택홀(346a)이 형성되고, 상기 콘택홀(346a)을 통해 상기 화소 전극(247)은 상기 드레인 전극(345)과 전기적으로 연결될 수 있다.
도 1에 도시된 상기 화소 어레이층(340)의 구조는 본 발명의 일 실시예로 제시된 것이며, 본 발명은 도 1에 도시된 상기 화소 어레이층(340)의 구조에 한정되지 않는다.
상기 제2 기판(380)은 제2 베이스 기판(360), 컬러 필터층(371) 및 블랙 매트릭스(372)를 포함한다. 상기 제2 베이스 기판(360)은 상기 제1 베이스 기판(310)과 대향하여 배치되고, 상기 블랙 매트릭스(372)는 상기 비표시 영역(NDA)에 대응하여 상기 제2 베이스 기판(360) 상에 구비된다. 상기 컬러 필터층(371)은 레드, 그린 및 블루 색화소를 포함하고, 각 색화소들은 적어도 상기 표시 영역(DA)에 대응하고, 상기 블랙 매트릭스(372)와 중첩할 수 있다.
상기 제2 기판(380)은 오버 코팅층(373) 및 공통 전극(374)을 더 포함한다. 상기 오버 코팅층(373)은 상기 블랙 매트릭스(372)와 상기 컬러 필터층(371) 사이의 단차를 감소시키기 위하여 형성된 절연층이며, 상기 공통 전극(374)은 상기 오버 코팅층(373) 상에 형성되어 상기 화소 전극(347)과 마주하여 상기 액정 커패시터(Clc)를 형성한다.
상기 제1 기판(350)과 상기 제2 기판(380) 사이에는 상기 액정층(390)이 구비된다. 상기 액정층(390)의 액정 분자들은 상기 화소 전극(347)과 상기 공통 전극(374) 사이에 형성된 전계의 크기에 따라 배열될 수 있다.
또한, 상기 표시 패널(300) 상에는 이색성 편광판(dichroic polarizer)(400)이 구비된다. 상기 이색성 편광판(400)은 시트 형태로 이루어져 상기 표시 패널(300) 상에 부착될 수 있다. 상기 이색성 편광판(400)의 편광축은 상기 편광판(320)의 상기 와이어 그리드 패턴들(323)의 연장 방향과 수직 또는 평행할 수 있다.
도 3은 도 1에 도시된 편광판을 나타낸 사시도이고, 도 4는 도 3에 도시된 I 부분의 확대도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 편광판(320)은 상기 제1 베이스 기판(310)의 상기 제2 면(312) 상에 구비된 복수의 와이어 그리드 패턴(323)을 포함한다.
상기 제1 베이스 기판(310)은 광이 투과되는 물질, 예를 들어 실리콘 기판일 수 있다. 또한, 상기 제1 베이스 기판(310)은 사각 형상의 기판일 수 있다.
상기 와이어 그리드 패턴들(323) 각각은 제1 방향(D1)으로 길게 연장된다. 상기 제1 방향(D1)은 상기 제1 베이스 기판(310)의 네 변 중 서로 평행한 두 개의 변과 나란한 방향일 수 있다. 또한, 상기 와이어 그리드 패턴들(323)은 상기 제1 방향(D1)과 직교하는 제2 방향(D2)으로 소정 간격 이격되어 서로 평행하게 배열된다.
상기 편광판(320)은 입사되는 광(Li)을 상기 와이어 그리드 패턴들(323)을 통해 편광한다. 구체적으로, 상기 입사광(Li) 중 상기 와이어 그리드 패턴들(323)의 연장 방향(즉, 상기 제1 방향(D1))과 평행한 편광 성분인 S파는 상기 와이어 그리드 패턴들(323)의 금속 성질에 의해서 반사되고, 상기 와이어 그리드 패턴들(323)의 연장 방향과 직교하는 방향(즉, 상기 제2 방향(D2))과 평행한 편광 성분인 P파는 유효 굴절 매질로 인식되어 투과된다.
즉, 상기 와이어 그리드 패턴들(323)의 배열 주기를 "T"라고 할 때, 상기 입사광(Li)의 파장이 상기 배열 주기(T)가 짧을 경우, 편광 성분에 따라 반사 및 투과가 일어난다.
도 5a 내지 도 5j는 도 1에 도시된 제1 기판의 제조 과정을 나타낸 공정도들이다.
도 5a를 참조하면, 상기 제1 베이스 기판(310)의 상기 제1 면(311) 상에는 보호층(330)이 형성된다. 상기 보호층(330)은 금속 물질로 이루어질 수 있다. 본 발명의 일 예로, 상기 보호층(330)은 몰리브덴, 알루미늄(Al) 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다.
도 5b에 도시된 바와 같이, 상기 제1 베이스 기판(310)의 상기 제1 면(311) 상에는 금속층(313)이 형성된다. 상기 금속층(313)은 알루미늄(Al)으로 이루어질 수 있다. 그 위로 도 5c에 도시된 바와 같이 포토 레지스트 패턴들(314)이 형성된다. 본 발명의 일 예로, 상기 포토 레지스트 패턴들(314)은 비표시 영역(NDA) 대응하여 구비되고, 표시 영역(DA)에는 상기 포토 레지스트 패턴들(314)이 구비되지 않는다.
도 5d를 참조하면, 상기 포토 레지스트 패턴들(314) 사이의 공간은 공중합체층(315)으로 채워진다. 여기서, 상기 공중합체층(315)은 상기 포토 레지스트 패턴들(314) 각각의 높이보다 작은 높이로 형성될 수 있다. 본 발명의 일 예로, 상기 공중합체층(315)은 제1 폴리머 및 제2 폴리머가 서로 불규칙하게 무질서한 방향으로 정렬되어 있다. 상기 제1 및 제2 폴리머는 각각 PMMA(Poly methylmethacrylate) 및 PS(poly stylrene)일 수 있다.
상기 공중합체층(315)을 열처리하면, 도 5e와 같이 상기 공중합체층(315)는 제1 및 제2 폴리머(316, 317)로 상분리된다. 특히, 상기 제1 및 제2 폴리머(316, 317)는 두 개의 포토 레지스트 패턴들(314) 사이에서 교번적으로 배열될 수 있다.
이후, 상기 제1 및 제2 폴리머(316, 317) 중 어느 하나를 제거하면, 도 5f에 도시된 바와 같이 두 개의 포토 레지스트 패턴들(314) 사이에는 서로 소정 간격 이격된 이들 중 하나의 폴리머만이 잔류하여 나노 그리드 패턴(318)을 형성한다. 본 발명의 일 예로, PMMA로 이루어진 상기 제1 폴리머(316)가 제거되고, 잔류하는 상기 제2 폴리머(317)가 상기 나노 그리드 패턴(318)을 형성할 수 있다.
이후, 상기 나노 그리드 패턴(318) 및 상기 포토 레지스트 패턴들(314)을 마스크로 하여 상기 금속층(313)을 식각한다. 그러면, 도 5g에 도시된 바와 같이 상기 제2 면(312) 상에는 와이어 그리드 패턴들(323) 및 반사 패턴(324)이 형성된다.
도 5h를 참조하면, 스트립 공정을 통해 상기 와이어 그리드 패턴들(323) 및 반사 패턴(324)의 상면에 잔류하는 포토 레지스트 패턴(314) 및 나노 그리드 패턴(318)을 제거할 수 있다. 이로써, 상기 제1 베이스 기판(310)의 상기 제2 면(312) 상에 상기 편광판(320)이 형성된다.
도 5i를 참조하면, 상기 편광판(320) 상에 투명 보호막(335)이 더 형성될 수 있다. 상기 투명 보호막(335)은 TiOx, AlOx 중 어느 하나로 이루어질 수 있다. 상기 투명 보호막(335)은 이후에 수행되는 공정으로부터 상기 편광판(320)을 보호할 수 있다.
도 5j에 도시된 바와 같이, 식각 공정을 통해 상기 제1 베이스 기판(310)의 상기 제1 면(311) 상에 구비된 상기 보호막(330)을 제거한다. 상기 보호막(330)은 상기 제1 베이스 기판(310)의 상기 제2 면(312) 상에 상기 편광판(320)을 형성하는 과정에서 상기 제1 면(311)에 이물이 흡착되거나 상기 제1 면(311)이 스크래치되는 불량을 방지하기 위하여 형성된다. 상기 보호막(330)은 상기 편광판(320)을 상기 제2 면(312) 상에 형성하는 공정이 시작되기 이전에 상기 제1 면(311) 상에 먼저 형성하고, 상기 편광판(320)을 형성하는 공정이 완료된 이후에 식각 공정을 통해서 상기 제1 면(311)으로부터 제거될 수 있다.
이후 상기 보호막(330)이 제거되면, 도 5k와 같이 상기 제1 베이스 기판(310)의 상기 제1 면(311) 상에 상기 화소 어레이층(340)을 형성하기 위한 공정을 실시한다. 상기 화소 어레이층(340)의 구체적인 공정 단계에 대한 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시장치의 제조 과정을 나타낸 공정도들이다. 단, 상기 제1 베이스 기판(310)의 상기 제2 면(312) 상에 상기 편광판(320)을 형성하는 공정은 도 5a 내지 도 5i에 도시된 과정과 동일하므로, 상기 편광판(320)을 형성하는 과정에 대한 설명은 중복을 피하기 위하여 생략하기로 한다.
도 6a를 참조하면, 상기 제1 베이스 기판(310)의 상기 제2 면(312) 상에 상기 편광판(320)을 형성하는 공정이 완료되면, 상기 제1 베이스 기판(310)의 상기 제1 면(311) 상에 형성된 상기 보호막(330)을 패터닝한다. 상기 보호막(330)은 알루미늄, 몰리브덴 또는 이들의 합금으로 이루어진 금속 물질로 이루어질 수 있다. 상기 보호막(330)을 패터닝하여 상기 제1 면(311) 상에 게이트 라인들(GLi, GLi+1) 및 게이트 전극들(341)을 형성할 수 있다.
배선 저항을 고려하여 상기 게이트 라인들(GLi, GLi+1) 및 상기 게이트 전극(341)들을 이중막 또는 삼중막으로 형성하고자 하는 경우, 상기 보호막(330)을 형성하는 단계에서, 상기 보호막(330)을 이중막 또는 삼중막으로 형성할 수 있다.
상기 보호막(330)을 패터닝하여 상기 게이트 라인들(GLi, GLi+1) 및 상기 게이트 전극들(341)을 형성하면, 상기 보호막(330)을 전면적으로 식각하는 단계(즉, 도 5j에 도시된 단계)가 생략될 수 있다. 또한, 상기 화소 어레이층(340)을 형성하는 과정에서 상기 게이트 라인들(GLi, GLi+1) 및 상기 게이트 전극들(341)을 형성하기 위한 금속층을 증착하는 단계가 생략될 수 있다.
상기 편광판(320)을 제조하는 과정에서 상기 보호막(330)에 스크래치 또는 이물 흡착 등이 발생하더라도, 상기 패터닝 과정을 통해 대부분 제거되고, 또한, 상기 보호막(330)이 이중막 또는 삼중막으로 형성되는 경우 상기 게이트 라인들(GLi, GLi+1)에 발생되는 상기 스크래치 등은 불량으로 이어지지 않는다.
이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
300 : 표시패널 310 : 제1 베이스 기판
311 : 제1 면 312 : 제2 면
320 : 편광판 340 : 화소 어레이층
323 : 와이어 그리드 패턴 324 : 반사패턴
340 : 화소 어레이층 350 : 제1 기판
360 : 제2 베이스 기판 380 : 제2 기판
390 : 액정층 400 : 이색성 편광판
500 : 백라이트 유닛 600 : 표시장치

Claims (15)

  1. 제1 베이스 기판의 제1 면 상에 보호막을 형성하는 단계;
    상기 제1 면과 마주하는 상기 제1 베이스 기판의 제2 면 상에 구비된 복수의 와이어 그리드 패턴을 포함하는 편광판을 형성하는 단계;
    상기 보호막을 상기 제1 면으로부터 제거하는 단계; 및
    상기 제1 면 상에 화소 어레이층을 형성하는 단계를 포함하는 표시장치의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 보호막은 금속 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 편광판 상에 투명 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 투명 보호막은 TiOx, AlOx 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 편광판을 형성하는 단계는,
    상기 제1 면 상에 금속층을 형성하는 단계;
    상기 금속층 상에 포토레지스트 패턴들을 형성하는 단계;
    상기 포토레지스트 패턴들 사이에 제1 및 제2 폴리머로 이루어진 공중합체층를 제공하는 단계;
    상기 공중합체층을 열처리하여 제1 및 제2 폴리머를 교대로 배열시키는 단계;
    상기 제1 및 제2 폴리머 중 제1 폴리머를 제거하여 제2 폴리머로 이루어지고, 상기 포토레지스트 패턴들 사이에서 서로 소정 간격 이격된 다수의 그리드 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 포토레지스트 패턴들 및 상기 그리드 패턴들을 마스크로하여 상기 금속층을 식각하여 상기 와이어 그리드 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 제2 베이스 기판을 상기 제1 베이스 기판에 결합시키는 단계;
    상기 제1 및 제2 베이스 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제2 베이스 기판 상에는 컬러필터층, 블랙 매트릭스 및 공통 전극 중 적어도 하나가 형성되는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  8. 제1 베이스 기판의 제1 면 상에 보호막을 형성하는 단계;
    상기 제1 면과 마주하는 상기 제1 베이스 기판의 제2 면 상에 구비된 복수의 와이어 그리드 패턴을 포함하는 편광판을 형성하는 단계;
    상기 보호막을 패터닝하여 금속 배선을 형성하는 단계; 및
    상기 금속 배선 상에 화소들을 형성하는 단계를 포함하는 표시장치의 제조방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 금속 배선은 게이트 라인들 및 게이트 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 보호막은 몰리브덴, 알루미늄 또는 이들의 합금으로 이루어진 금속 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  11. 제8항에 있어서, 상기 금속 배선을 형성하기 이전에,
    상기 편광판 상에 투명 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 투명 보호막은 TiOx, AlOx 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법.
  13. 제8항에 있어서, 상기 편광판을 형성하는 단계는,
    상기 제1 면 상에 금속층을 형성하는 단계;
    상기 금속층 상에 포토레지스트 패턴들을 형성하는 단계;
    상기 포토레지스트 패턴들 사이에 제1 및 제2 폴리머로 이루어진 공중합체층를 제공하는 단계;
    상기 공중합체층을 열처리하여 제1 및 제2 폴리머를 교대로 배열시키는 단계;
    상기 제1 및 제2 폴리머 중 제1 폴리머를 제거하여 제2 폴리머로 이루어지고, 상기 포토레지스트 패턴들 사이에서 서로 소정 간격 이격된 다수의 그리드 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 포토레지스트 패턴들 및 상기 그리드 패턴들을 마스크로하여 상기 금속층을 식각하여 상기 와이어 그리드 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  14. 제8항에 있어서, 제2 베이스 기판을 상기 제1 베이스 기판에 결합시키는 단계;
    상기 제1 및 제2 베이스 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 제2 베이스 기판 상에는 컬러필터층, 블랙 매트릭스 및 공통 전극 중 적어도 하나가 형성되는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
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