KR20160070763A - Pigment dispersion for black matrix, and pigment-dispersed resist composition for black matrix containing same - Google Patents

Pigment dispersion for black matrix, and pigment-dispersed resist composition for black matrix containing same Download PDF

Info

Publication number
KR20160070763A
KR20160070763A KR1020167010212A KR20167010212A KR20160070763A KR 20160070763 A KR20160070763 A KR 20160070763A KR 1020167010212 A KR1020167010212 A KR 1020167010212A KR 20167010212 A KR20167010212 A KR 20167010212A KR 20160070763 A KR20160070763 A KR 20160070763A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
black matrix
pigment dispersion
pigment
epoxy compound
group
Prior art date
Application number
KR1020167010212A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
히데오 시바타
도모히로 나베타
야스히토 츠지
Original Assignee
사카타 인쿠스 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 사카타 인쿠스 가부시키가이샤 filed Critical 사카타 인쿠스 가부시키가이샤
Publication of KR20160070763A publication Critical patent/KR20160070763A/en

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/44—Carbon
    • C09C1/48—Carbon black
    • C09C1/56—Treatment of carbon black ; Purification
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
    • C09C3/10—Treatment with macromolecular organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • C09D17/001—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints in aqueous medium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • C09D17/004—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints containing an inorganic pigment
    • C09D17/005—Carbon black
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • C09D17/004—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints containing an inorganic pigment
    • C09D17/007—Metal oxide
    • C09D17/008—Titanium dioxide
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/003—Light absorbing elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

본 발명은 고차광성과 높은 절연성을 갖는 블랙 매트릭스용 안료 분산물 및 그것을 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물을 제공한다.
본 발명은 산성 카본 블랙, 안료 분산제, 다관능 에폭시 화합물 및 용제를 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산물로서, 상기 다관능 에폭시 화합물은, 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 0.1 ∼ 50 질량부 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 안료 분산물이다.The present invention provides a pigment dispersion for a black matrix having a high order light and a high insulating property, and a pigment dispersion resist composition for a black matrix containing the same.
The present invention relates to a pigment dispersion for a black matrix containing an acidic carbon black, a pigment dispersant, a polyfunctional epoxy compound and a solvent, wherein the polyfunctional epoxy compound is contained in an amount of 0.1 to 50 parts by mass based on 100 parts by mass of the acidic carbon black Wherein the pigment dispersion is a pigment dispersion for a black matrix.

Description

블랙 매트릭스용 안료 분산물 및 그것을 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물{PIGMENT DISPERSION FOR BLACK MATRIX, AND PIGMENT-DISPERSED RESIST COMPOSITION FOR BLACK MATRIX CONTAINING SAME}[0001] The present invention relates to a pigment dispersion for a black matrix, and a pigment dispersion resist composition for a black matrix containing the pigment dispersion for a black matrix. BACKGROUND ART < RTI ID = 0.0 >

본 발명은 고차광성을 유지하면서, 높은 절연성을 갖는 블랙 매트릭스용 안료 분산물 및 그것을 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a pigment dispersion for a black matrix having a high insulating property and a pigment dispersion resist composition for a black matrix containing the pigment dispersion while maintaining high order light.

최근, 블랙 매트릭스용 안료 분산물의 용도는 다방면에 걸쳐, 예를 들어, 액정이나 플라즈마 등의 플랫 패널 디스플레이에 있어서는, 화면의 표시 영역내의 착색 패턴의 간극이나 표시 영역 주변 부분의 가장자리, 또, TFT 를 사용한 액정 디스플레이에서는 TFT 의 외광측 등에서 차광막 (블랙 매트릭스) 을 형성하기 위해 사용되고 있다. 그리고, 액정 디스플레이에서는 주로 백라이트로부터의 누출광이, 또, 플라즈마 디스플레이에서는 주로 각 색광의 혼탁에 의한 번짐이 화면에 비치는 것을 방지하여, 표시 특성 (콘트라스트 및 색 순도) 을 향상시키기 위해서 도움이 되고 있다.In recent years, the use of a pigment dispersion for a black matrix has been widely used, for example, in a flat panel display such as a liquid crystal or a plasma, in the case where a gap of the coloring pattern in the display region of the screen, In the used liquid crystal display, it is used for forming a light-shielding film (black matrix) on the external light side of the TFT or the like. In the liquid crystal display, leakage light mainly from a backlight is prevented. In a plasma display, it is mainly prevented from spreading due to haze of each color light to the screen, and it is helpful to improve display characteristics (contrast and color purity) .

예를 들어, 액정 디스플레이의 백라이트의 백색광을 착색광으로 변환하기 위해서 이용되는 컬러 필터에서는, 통상, 블랙 매트릭스를 형성한 유리나 플라스틱 시트 등의 투명 기판 표면에, 적, 녹, 청의 상이한 색상의 화소를 순차, 스트라이프상 혹은 모자이크상 등의 패턴으로 형성하는 방법에 의해 제조되고 있다.For example, in a color filter used for converting white light of a backlight of a liquid crystal display into colored light, pixels of different colors of red, green, and blue are usually formed on the surface of a transparent substrate such as glass or plastic sheet formed with a black matrix Or in a pattern such as a stripe, a stripe, or a mosaic pattern.

또, 화상 표시 장치와 위치 입력 장치를 합한 터치 패널에 있어서도, 마찬가지로 차광막으로서 블랙 매트릭스가 형성된 컬러 필터가 이용되고 있고, 지금까지는, 커버 유리를 사이에 두고, 센서 기판과 반대 측에 형성하는 것이 일반적으로 이루어지고 있었다. 그러나, 터치 패널의 경량화에 대한 요구가 높아짐에 따라, 보다 경량화를 도모할 수 있도록, 커버 유리의 동일 측에 차광막과 터치 센서를 동시에 형성하는 기술의 개발이 진행되고 있다. 그러한 경우, 커버 유리 상에 블랙 매트릭스를 형성한 후에, 센서를 위한 전극 등을 형성할 필요가 있기 때문에, 우선은 블랙 매트릭스가 복수의 전극에 걸쳐 접촉해도 오작동을 일으키지 않는 높은 절연성에 더하여, 높은 밀착성이나 내약품성이 요구된다.In addition, a color filter in which a black matrix is formed as a light-shielding film is also used for a touch panel including an image display device and a position input device. Up to now, it is generally preferable to form a color filter on the side opposite to the sensor substrate . However, as the demand for lightening the weight of the touch panel increases, development of a technology for simultaneously forming a light-shielding film and a touch sensor on the same side of the cover glass is progressing so as to achieve a reduction in weight. In such a case, it is necessary to form an electrode or the like for the sensor after forming the black matrix on the cover glass. Therefore, in addition to high insulating property that does not cause malfunction even if the black matrix contacts the plurality of electrodes, Or chemical resistance is required.

그래서, 높은 절연성을 갖는 블랙 매트릭스를 얻기 위해서, 차광성 안료로서 카본 블랙을, 그리고 광경화성 재료로서 산기 함유 에폭시 아크릴레이트 화합물을 이용하는 기술 (예를 들어, 특허문헌 1 참조), 카본 블랙을 다관능 에폭시 수지(단, 실시예에서는, 다관능 에폭시 수지로서 2 관능인 것이 예시되어 있을 뿐) 로 피복 처리하여 이루어지는 절연성 카본 블랙을 사용하는 기술 (예를 들어, 특허문헌 2 참조) 등이 개시되어 있다.Therefore, in order to obtain a black matrix having high insulating properties, a technique of using carbon black as a light-shielding pigment and an epoxy group-containing epoxy acrylate compound as a photo-curable material (see, for example, Patent Document 1) (Refer to, for example, Patent Document 2) using an insulating carbon black obtained by coating with an epoxy resin (in the examples, the bifunctional one is exemplified as the polyfunctional epoxy resin) .

이들에 개시되어 있는 기술에 의해 높은 절연성을 얻는 것이 가능해지지만, 최근, 더욱 박막에서의 고차광성과 높은 절연성을 구비하는 블랙 매트릭스가 요구되고 있어, 차광성 재료인 카본 블랙의 함유 비율을 높이는 것이 필요시되고 있다. 그러나, 카본 블랙은 도전성을 가지므로, 함유 비율을 높이면 절연성 저하의 요인이 되어, 이들이 개시되어 있는 기술에서는 고차광성과 높은 절연성의 양립이라는 요구를 만족할 수 없는 것이었다.It is possible to obtain a high insulating property by the techniques disclosed in these documents. Recently, however, a black matrix having higher light transmittance and higher insulating property in a thin film is required, and it is necessary to increase the content ratio of carbon black, which is a light- It is getting worse. However, since carbon black has conductivity, increasing the content ratio leads to deterioration of insulation, and in these technologies, it has not been possible to satisfy the requirement of compatibility between high order light and high insulation.

일본 공개특허공보 평08-278629호Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-278629 일본 공개특허공보 평09-124969호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 09-124969

그래서, 본 발명의 과제는 고차광성과 높은 절연성을 갖는 블랙 매트릭스용 안료 분산물 및 그것을 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물을 제공하는 것이다.Therefore, an object of the present invention is to provide a pigment dispersion for a black matrix having a high order light and a high insulating property, and a pigment dispersion resist composition for a black matrix containing the pigment dispersion.

본 발명자들은 블랙 매트릭스용 레지스트 조성물의 도포막이 보다 박막이면서 고차광성을 갖도록, 도포막 중에 있어서의 카본 블랙의 함유 비율을 증가시키면, 카본 블랙이 도전성인 것에서 기인하여 도포막의 절연성이 저하된다는 지견으로부터, 블랙 매트릭스용 레지스트 조성물의 도포막이 광경화에 의해 형성된 후, 고온에서 후경화 처리되면, 절연성의 저하가 현저해지는 것을 알아내었다.The inventors of the present invention found from the knowledge that when the content ratio of the carbon black in the coating film is increased so that the coated film of the resist composition for black matrix has a higher film thickness and a higher degree of light transmittance, It has been found that when the resist film of the resist composition for black matrix is formed by photo-curing and then post-cured at a high temperature, the deterioration of the insulating property becomes remarkable.

본 발명자들은 이 현상은 후경화의 가열에 의해, 일단, 광경화된 도포막이 연화되어, 카본 블랙의 응집이 진행될 가능성을 시사하는 것으로 추측하여, 카본 블랙 표면에 내열성이 높은 수지 피막을 형성하고, 응집이 일어나도 절연성의 저하를 억제하고, 또한 블랙 매트릭스 형성시의 현상 특성 등에는 악영향을 미치지 않는 재료에 대해 검토하였다.The inventors of the present invention have conjectured that this phenomenon suggests the possibility that once the photocured coating film is softened by the post-curing heating, the agglomeration of the carbon black proceeds, and a resin film having high heat resistance is formed on the surface of the carbon black, A material which suppresses deterioration of insulation even when agglomeration occurs and which does not adversely affect development characteristics and the like upon formation of a black matrix has been studied.

그 결과, 본 발명자들은 산성 카본 블랙과 다관능 에폭시 화합물을 이용하면, 산성 카본 블랙의 함유 비율을 증가시켜도 높은 절연성을 유지할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.As a result, the present inventors have found that when an acidic carbon black and a polyfunctional epoxy compound are used, high insulation can be maintained even if the content ratio of the acidic carbon black is increased, and the present invention has been accomplished.

즉, 본 발명은 산성 카본 블랙, 안료 분산제, 다관능 에폭시 화합물 및 용제를 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산물로서, 상기 다관능 에폭시 화합물은, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 0.1 ∼ 50 질량부 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산물에 관한 것이다.That is, the present invention is a pigment dispersion for a black matrix containing an acidic carbon black, a pigment dispersant, a polyfunctional epoxy compound and a solvent, wherein the polyfunctional epoxy compound is contained in an amount of 0.1 to 50 mass parts per 100 mass parts of the acidic carbon black To a pigment dispersion for a black matrix.

또, 본 발명은 상기 다관능 에폭시 화합물은, 디페닐메탄 골격, 디나프틸메탄 골격, 트리아진 골격 및 비페닐 골격에서 선택되는 적어도 1 종의 골격을 갖는 에폭시 화합물인 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable that the polyfunctional epoxy compound is an epoxy compound having at least one skeleton selected from diphenylmethane skeleton, dinaphthylmethane skeleton, triazine skeleton and biphenyl skeleton.

또, 본 발명은 상기 블랙 매트릭스용 안료 분산물, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제를 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물이기도 하다.The present invention is also a pigment dispersion resist composition for a black matrix containing the pigment dispersion for a black matrix, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator.

또, 본 발명은 4 관능 이상의 다관능 에폭시 화합물인 것이 바람직하다.Further, the present invention is preferably a polyfunctional epoxy compound having four or more functionalities.

이하, 본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물 및 그것을 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, the pigment dispersion for a black matrix of the present invention and the pigment dispersion resist composition for a black matrix containing the same will be described in detail.

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물이 높은 절연성을 갖는 기구에 대해서는 확실하지는 않지만, 이하와 같이 추측된다.The pigment dispersion for a black matrix of the present invention is not sure about a mechanism having a high insulating property, but it is presumed as follows.

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물에 있어서, 산성 카본 블랙과 다관능 에폭시 화합물은, 그 산성 카본 블랙의 표면에 갖는 치환기와, 다관능 에폭시 화합물이 갖는 치환기가 상호 작용하고 있어, 그 산성 카본 블랙의 표면에 다관능 에폭시 화합물이 흡착된 상태에 있을 것으로 생각된다. 따라서, 다관능 에폭시 화합물에 많은 결합부위를 갖게 함으로써, 카본 블랙 표면의 관능기와 상호 작용할 확률을 높일 수 있다.In the pigment dispersion for a black matrix of the present invention, the acidic carbon black and the polyfunctional epoxy compound have a substituent group on the surface of the acidic carbon black interacted with a substituent group of the polyfunctional epoxy compound, and the acidic carbon black It is considered that the polyfunctional epoxy compound is adsorbed on the surface of the epoxy resin. Therefore, by having many bonding sites in the polyfunctional epoxy compound, the probability of interacting with the functional groups on the surface of the carbon black can be increased.

또, 블랙 매트릭스용 레지스트 조성물의 도포시에, 산성 카본 블랙 표면의 관능기에 다관능 에폭시 화합물의 에폭시기가 상호 작용함으로써 흡착하고 있는 상태로부터, 광경화시 및 후경화시의 열에 의해 반응하여 산성 카본 블랙의 에폭시 수지 피복물이 형성되는 것이 충분히 생각된다.When a resist composition for a black matrix is applied, the epoxy group of the polyfunctional epoxy compound interacts with the functional group on the surface of the acidic carbon black to react with the acidic carbon black Lt; RTI ID = 0.0 > of epoxy < / RTI >

그러면, 산성 카본 블랙끼리가 응집에 의해 접촉해도, 직접, 도전성의 카본 블랙 표면이 접촉하는 경우는 없고, 비도전성의 다관능 에폭시 화합물 피막을 개재한 접촉이 된다. 또한, 다관능 에폭시 화합물이 다고리 구조의 골격을 가지고 있으면, 고온시에 있어서의 산성 카본 블랙의 피막 유지가 우수하기 때문에, 벌크와 함께 높은 절연성을 유지할 수 있을 것으로 추측된다.Then, even if the acidic carbon blacks come into contact with each other by agglomeration, there is no direct contact of the conductive carbon black surface, and the contact is made through the non-conductive polyfunctional epoxy compound coating. Further, it is presumed that when the polyfunctional epoxy compound has a skeleton of a polycyclic structure, the film retainability of the acidic carbon black at a high temperature is excellent, so that it is possible to maintain high insulation with the bulk.

(산성 카본 블랙)(Acidic carbon black)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물은 산성 카본 블랙을 함유한다. The pigment dispersion for black matrix of the present invention contains acidic carbon black.

상기 산성 카본 블랙으로는, 종래부터 블랙 매트릭스를 형성하기 위해서 사용되고 있는 산성 카본 블랙을 사용할 수 있다.As the acidic carbon black, acidic carbon black which has been conventionally used for forming a black matrix can be used.

상기 산성 카본 블랙의 구체예로는, 미츠비시 화학사 제조의 MA7, MA8, MA11, MA14, ＃1000, ＃2350 등, 데구사사 제조의 SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack550 등, 캬보트사 제조의 MOGUL L, REGAL400R 등, 컬럼비안 카본사 제조의 RAVEN1200, RAVEN1250, RAVEN1255, RAVEN1190U, RAVEN1170, RAVEN1035, RAVEN1080U, RAVEN1060U, RAVEN1100U 등을 들 수 있다.Specific examples of the acidic carbon black include MOGUL L and REGAL 400R manufactured by Cabot Co., such as MAb7, MA8, MA11, MA14, # 1000 and # 2350 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, SpecialBlack 350, SpecialBlack 250 and SpecialBlack550 manufactured by Degussa , RAVEN1200, RAVEN1250, RAVEN1255, RAVEN1190U, RAVEN1170, RAVEN1035, RAVEN1080U, RAVEN1060U, RAVEN1100U manufactured by Column Bianco.

상기 산성 카본 블랙 중에서도, pH 가 5 이하이고, 카르복실기 등의 산성기를 갖는 것이 바람직하다. 또, 입자 직경이 20 ∼ 60 ㎚ 인 것이 바람직하다. 이와 같은 산성 카본 블랙이면, 후술하는 다관능 에폭시 화합물과 바람직하게 상호 작용하여, 본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물에 높은 절연성을 부여할 수 있다.Among the acidic carbon blacks, those having a pH of 5 or less and an acidic group such as a carboxyl group are preferable. It is also preferable that the particle diameter is 20 to 60 nm. Such an acidic carbon black preferably interacts with a polyfunctional epoxy compound to be described later to give a high dielectric constant to the pigment dispersion for black matrix of the present invention.

상기를 만족하는 산성 카본 블랙으로는, SpecialBlack250, SpecialBlack350 등을 들 수 있다. Examples of the acidic carbon black satisfying the above are Special Black 250, Special Black 350 and the like.

또한, 상기 입자 직경은, 현미경 관찰에 의해 측정 또는 산출한 평균 일차 입자 직경을 의미한다.The particle diameter means an average primary particle diameter measured or calculated by microscopic observation.

상기 산성 카본 블랙의 함유량은, 본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물 중에, 3 ∼ 70 질량％ 함유하는 것이 바람직하다. 상기 산성 카본 블랙의 함유량이 3 질량％ 미만이면, 차광성이 저하되는 경우가 있다. 한편으로, 상기 산성 카본 블랙의 함유량이 70 질량％ 를 초과하면, 안료 분산이 곤란해지는 경우가 있다.The content of the acidic carbon black is preferably 3 to 70 mass% in the pigment dispersion for black matrix of the present invention. If the content of the acidic carbon black is less than 3% by mass, the light shielding property may be lowered. On the other hand, if the content of the acidic carbon black exceeds 70% by mass, pigment dispersion may become difficult.

상기 산성 카본 블랙 함유량의 보다 바람직한 하한은, 본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물 중에 10 질량％ 이고, 상기 산성 카본 블랙 함유량의 보다 바람직한 상한은, 본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물 중에 50 질량％ 이다.A more preferable lower limit of the content of the acidic carbon black is 10% by mass in the pigment dispersion for a black matrix of the present invention, and a more preferable upper limit of the content of the acidic carbon black is 50% by mass in the pigment dispersion for black matrix of the present invention. to be.

(안료 분산제)(Pigment dispersant)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물은, 안료 분산제를 함유한다.The pigment dispersion for a black matrix of the present invention contains a pigment dispersant.

상기 안료 분산제로는, 염기성기 함유 안료 분산제이고, 아니온성 계면 활성제, 염기성기 함유 폴리에스테르계 안료 분산제, 염기성기 함유 아크릴계 안료 분산제, 염기성기 함유 우레탄계 안료 분산제, 염기성기 함유 카르보디이미드계 안료 분산제 등을 사용할 수 있다.Examples of the pigment dispersing agent include basic group-containing pigment dispersants, anionic surfactants, basic group-containing polyester-based pigment dispersants, basic group-containing acrylic pigment dispersants, basic group-containing urethane-based pigment dispersants, basic group-containing carbodiimide- Etc. may be used.

이들 염기성기 함유 안료 분산제는, 단독으로 사용해도 되고, 또, 2 종류 이상의 조합을 사용해도 된다. 그 중에서도, 양호한 안료 분산성이 얻어지는 점에서, 염기성기 함유 고분자 안료 분산제가 바람직하다.These basic group-containing pigment dispersing agents may be used alone or in combination of two or more. Among them, a polymer pigment dispersant containing a basic group is preferable in that a good pigment dispersibility can be obtained.

염기성기 함유 고분자 안료 분산제의 구체예로는,As specific examples of the basic group-containing polymer pigment dispersant,

(1) 폴리아민 화합물 (예를 들어, 폴리알릴아민, 폴리비닐아민, 폴리에틸렌폴리이민 등의 폴리(저급 알킬렌아민) 등) 의 아미노기 및/또는 이미노기와, 유리 (遊離) 의 카르복실기를 갖는 폴리에스테르, 폴리아미드 및 폴리에스테르아미드로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 반응 생성물 (일본 공개특허공보 2001-59906호),(1) a polyester having an amino group and / or an imino group of a polyamine compound (for example, polyallylamine, polyvinylamine, poly (lower alkyleneamine) such as polyethylene polyimine and the like) and a free carboxyl group , At least one reaction product selected from the group consisting of polyamide and polyester amide (JP-A-2001-59906),

(2) 폴리(저급)알킬렌이민, 메틸이미노비스프로필아민 등의 저분자 아미노 화합물과, 유리의 카르복실기를 갖는 폴리에스테르의 반응 생성물 (일본 공개특허공보 소54-37082호, 일본 공개특허공보 평01-311177호),(2) a reaction product of a low-molecular amino compound such as poly (lower) alkyleneimine or methyliminobispropylamine and a polyester having a free carboxyl group (JP-A-54-37082, JP-A- -311177),

(3) 폴리이소시아네이트 화합물의 이소시아네이트기에, 메톡시폴리에틸렌글리콜 등의 알코올류나 카프로락톤폴리에스테르 등의 수산기를 1 개 갖는 폴리에스테르류, 2 ∼ 3 개의 이소시아네이트기 반응성 관능기를 갖는 화합물, 이소시아네이트기 반응성 관능기와 제 3 급 아미노기를 갖는 지방족 또는 복소 고리형 탄화수소 화합물을 순차 반응시켜 이루어지는 반응 생성물 (일본 공개특허공보 평02-612호),(3) A method for producing a polyisocyanate compound, which comprises adding to the isocyanate group of a polyisocyanate compound a polyester having one hydroxyl group such as an alcohol such as methoxypolyethylene glycol or caprolactone polyester, a compound having two or three isocyanate group- A reaction product obtained by successively reacting an aliphatic or heterocyclic hydrocarbon compound having a tertiary amino group (JP-A-02-612)

(4) 알코올성 수산기를 갖는 아크릴레이트의 중합물에, 폴리이소시아네이트 화합물과 아미노기를 갖는 탄화수소 화합물을 반응시킨 화합물,(4) a compound obtained by reacting a polyisocyanate compound with a hydrocarbon compound having an amino group to a polymer of an acrylate having an alcoholic hydroxyl group,

(5) 저분자 아미노 화합물에 폴리에테르 사슬을 부가시켜 이루어지는 반응 생성물,(5) a reaction product obtained by adding a polyether chain to a low molecular weight amino compound,

(6) 이소시아네이트기를 갖는 화합물에 아미노기를 갖는 화합물을 반응시켜 이루어지는 반응 생성물 (일본 공개특허공보 평04-210220호),(6) a reaction product obtained by reacting a compound having an isocyanate group with a compound having an amino group (JP-A-04-210220),

(7) 폴리에폭시 화합물에 유리의 카르복실기를 갖는 선상 폴리머 및 2 급 아미노기를 1 개 갖는 유기 아민 화합물을 반응시킨 반응 생성물 (일본 공개특허공보 평09-87537호),(7) reaction products obtained by reacting a polyepoxy compound with a linear polymer having a free carboxyl group and an organic amine compound having one secondary amino group (JP-A-09-87537)

(8) 편말단에 아미노기와 반응할 수 있는 관능기를 갖는 폴리카보네이트 화합물과 폴리아민 화합물의 반응 생성물 (일본 공개특허공보 평09-194585호),(8) A reaction product of a polycarbonate compound having a functional group capable of reacting with an amino group and a polyamine compound at one end (JP-A-09-194585)

(9) 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 프로필메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 스테아릴메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 프로필아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 스테아릴아크릴레이트, 벤질아크릴레이트 등의 메타크릴산에스테르 또는 아크릴산에스테르에서 선택되는 적어도 1 종과, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-메틸올아미드, 비닐이미다졸, 비닐피리딘, 아미노기와 폴리카프로락톤 골격을 갖는 모노머 등의 염기성기 함유 중합 모노머의 적어도 1 종과, 스티렌, 스티렌 유도체, 그 밖의 중합성 모노머의 적어도 1 종의 공중합체 (일본 공개특허공보 평01-164429호),(9) A photopolymerizable composition comprising at least one compound selected from the group consisting of methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, stearyl methacrylate, benzyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, Methacrylic acid esters such as stearyl acrylate and benzyl acrylate, or acrylic ester, and at least one member selected from the group consisting of acrylamide, methacrylamide, N-methylolamide, vinylimidazole, vinylpyridine, At least one kind of basic monomer containing a basic group such as a monomer having a lactone skeleton and at least one kind of copolymer of styrene, styrene derivatives and other polymerizable monomers (JP-A-01-164429)

(10) 염기성기 함유 카르보디이미드계 안료 분산제 (국제 공개 WO04/000950호),(10) Carbodiimide-based pigment dispersants containing basic groups (International Publication No. WO04 / 000950),

(11) 3 급 아미노기, 4 급 암모늄염기 등의 염기성기를 갖는 블록과 관능기를 갖고 있지 않은 블록으로 이루어지는 블록 공중합체 (일본 공개특허공보 2005-55814호의 기재 참조)(11) a block copolymer comprising a block having a basic group such as a tertiary amino group or a quaternary ammonium salt group and a block having no functional group (see the description of JP-A No. 2005-55814)

(12) 폴리알릴아민에 폴리카보네이트 화합물을 마이클 부가 반응시켜 얻어지는 안료 분산제 (일본 공개특허공보 평09-194585호),(12) Pigment dispersants obtained by Michael addition reaction of a polycarbonate compound with polyallylamine (JP-A-09-194585),

(13) 폴리부타디엔 사슬과 염기성 질소 함유기를 각각 적어도 1 개 갖는 카르보디이미드계 화합물 (일본 공개특허공보 2006-257243호),(13) carbodiimide compounds each having at least one polybutadiene chain and a basic nitrogen-containing group (JP-A-2006-257243),

(14) 분자 내에 아미드기를 갖는 측사슬과 염기성 질소 함유기를 각각 적어도 1 개 갖는 카르보디이미드계 화합물 (일본 공개특허공보 2006-176657호) 등을 들 수 있다.(14) A carbodiimide compound having at least one side chain having an amide group in the molecule and at least one basic nitrogen-containing group (JP-A-2006-176657).

(15) 에틸렌옥사이드 사슬과 프로필렌옥사이드 사슬을 갖는 구성 단위를 갖고, 또한 4 급화제에 의해 4 급화된 아미노기를 갖는 폴리우레탄계 화합물 (일본 공개특허공보 2009-175613호),(15) a polyurethane compound having an ethylene oxide chain and a constituent unit having a propylene oxide chain and having an amino group quaternized by a quaternarizing agent (JP-A-2009-175613),

(16) 분자 내에 이소시아누레이트 고리를 갖는 이소시아네이트 화합물의 이소시아네이트기와, 분자 내에 활성 수소기를 갖고, 또한, 카르바졸 고리 및/또는 아조벤젠 골격을 갖는 화합물의 활성 수소기를 반응시켜 얻어지는 화합물로서, 그 화합물의 분자 내의, 이소시아누레이트 고리를 갖는 이소시아네이트 화합물에서 유래하는 이소시아네이트기와, 이소시아네이트기와 활성 수소기의 반응에 의해 발생한 우레탄 결합 및 우레아 결합의 합계에 대한 카르바졸 고리과 아조벤젠 골격의 수가 15 ∼ 85 ％ 인 화합물 (일본 특허출원 2009-220836).(16) A compound obtained by reacting an isocyanate group of an isocyanate compound having an isocyanurate ring in a molecule, an active hydrogen group in the molecule, and an active hydrogen group of a compound having a carbazole ring and / or an azobenzene skeleton, In which the number of carbazole rings and azobenzene skeletons is 15 to 85% based on the sum of urethane bonds and urea bonds generated by the reaction between an isocyanate group and an active hydrogen group, which is derived from an isocyanate compound having an isocyanurate ring in the molecule Compound (Japanese Patent Application 2009-220836).

상기 염기성기 함유 고분자 안료 분산제 중에서도, 염기성기 함유 우레탄계 고분자 안료 분산제, 염기성기 함유 폴리에스테르계 고분자 안료 분산제, 염기성기 함유 아크릴계 고분자 안료 분산제가 보다 바람직하고, 아미노기 함유 우레탄계 고분자 안료 분산제, 아미노기 함유 폴리에스테르계 고분자 안료 분산제, 아미노기 함유 아크릴계 고분자 안료 분산제가 더욱 바람직하다. 상기 염기성기 함유 우레탄계 고분자 안료 분산제 중에서도, 폴리에스테르 사슬, 폴리에테르 사슬, 및 폴리카보네이트 사슬로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 갖는 염기성기 (아미노기) 함유 우레탄계 고분자 안료 분산제가 특히 바람직하다.Among these basic group-containing polymeric pigment dispersants, a basic group-containing urethane-based polymer pigment dispersant, a basic group-containing polyester-based polymeric pigment dispersant and a basic group-containing acrylic polymer pigment dispersant are more preferred, and an amino group-containing urethane type polymeric pigment dispersant, Based polymeric pigment dispersant and an amino group-containing acrylic polymeric pigment dispersant are more preferable. Among the basic group-containing urethane-based polymeric pigment dispersing agents, a urethane-based polymeric pigment dispersing agent containing a basic group (amino group) having at least one kind selected from the group consisting of polyester chain, polyether chain and polycarbonate chain is particularly preferable.

상기 염기성기 함유 분산제는, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 1 ∼ 200 질량부 함유하는 것이 바람직하다.The basic group-containing dispersant is preferably contained in an amount of 1 to 200 parts by mass based on 100 parts by mass of the acidic carbon black.

상기 염기성기 함유 분산제의 함유량이 1 질량부 미만이면, 안료 분산물의 안정성을 저해하는 경우가 있다. 한편으로, 상기 염기성기 함유 분산제의 함유량이 200 질량부를 초과하면, 도포막의 차광성이나 절연성을 저해하는 경우가 있다.If the content of the basic group-containing dispersant is less than 1 part by mass, the stability of the pigment dispersion may be impaired. On the other hand, when the content of the basic group-containing dispersant exceeds 200 parts by mass, the light shielding property and insulating property of the coating film may be deteriorated.

또, 상기 염기성기 함유 분산제는, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 1 ∼ 60 질량부 함유하는 것이 보다 바람직하다.It is more preferable that the basic group-containing dispersant is contained in an amount of 1 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acidic carbon black.

(다관능 에폭시 화합물)(Polyfunctional epoxy compound)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물은, 다관능 에폭시 화합물을 함유한다.The pigment dispersion for black matrix of the present invention contains a polyfunctional epoxy compound.

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물은, 상기 다관능 에폭시 수지와, 상기 산성 카본 블랙의 표면에 존재하는 관능기가, 바람직하게 상호 작용함으로써, 높은 절연성을 부여할 수 있다.In the pigment dispersion for black matrix of the present invention, the above-mentioned polyfunctional epoxy resin and the functional group present on the surface of the acidic carbon black preferably interact with each other to give high insulating property.

상기 다관능 에폭시 화합물로는, 종래부터 블랙 매트릭스용 안료 분산물을 형성하기 위해서 사용되고 있는 다관능 에폭시 화합물을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional epoxy compound include polyfunctional epoxy compounds conventionally used for forming a pigment dispersion for black matrix.

상기 다관능 에폭시 화합물로는, 디페닐메탄 골격, 디나프틸메탄 골격, 트리아진 골격 및 비페닐 골격에서 선택되는 적어도 1 종의 골격을 갖는 것이 바람직하다.The polyfunctional epoxy compound preferably has at least one skeleton selected from diphenylmethane skeleton, dinaphthylmethane skeleton, triazine skeleton, and biphenyl skeleton.

상기 디페닐메탄 골격, 디나프틸메탄 골격 및 비페닐 골격은 상기 산성 카본 블랙의 표면 구조와 유사한 구조를 가지고 있기 때문에, 산성 카본 블랙에 근접하기 쉬워져, 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물의 베이크시에 산성 카본 블랙의 표면에 존재하는 관능기와 반응하기 쉬워지므로, 본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물에, 높은 절연성을 바람직하게 부여할 수 있을 것으로 생각된다.Since the diphenylmethane skeleton, the dinaphthylmethane skeleton and the biphenyl skeleton have structures similar to the surface structure of the acidic carbon black, it is easy to get closer to the acidic carbon black, so that the bake time of the pigment dispersion resist composition for black matrix Is easily reacted with the functional groups present on the surface of the acidic carbon black. Therefore, it is considered that high dielectric properties can be preferably imparted to the pigment dispersion for black matrix of the present invention.

또, 상기 트리아진 골격을 갖는 다관능 에폭시 화합물에서는, 트리아진 골격이 염기성을 가지고 있기 때문에, 산성 카본 블랙에 근접하기 쉬워져, 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물의 베이크시에 산성 카본 블랙의 표면에 존재하는 관능기와 반응하기 쉬워지므로, 본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물에 높은 절연성을 바람직하게 부여할 수 있을 것으로 생각된다.In the polyfunctional epoxy compound having the triazine skeleton, since the triazine skeleton has a basicity, it is easy to approach the acidic carbon black, and when the pigment dispersion resist composition for black matrix is baked, the surface of the acidic carbon black It is likely that the pigment dispersion for black matrix of the present invention can be preferably imparted with high insulating property since it is easy to react with the functional groups present.

상기 디페닐메탄 골격, 디나프틸메탄 골격, 트리아진 골격 및 비페닐 골격에서 선택되는 적어도 1 종의 골격을 갖는 다관능 에폭시 화합물로는, 하기 식 (1) ∼ (3) 을 들 수 있다.Examples of polyfunctional epoxy compounds having at least one skeleton selected from diphenylmethane skeleton, dinaphthylmethane skeleton, triazine skeleton and biphenyl skeleton include the following formulas (1) to (3).

상품명：TEPIC (닛산 화학사 제조)Trade name: TEPIC (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

상품명：에피크론 830 (DIC 사 제조)Trade name: Epikron 830 (manufactured by DIC)

[화학식 2](2)

Figure pct00002
Figure pct00002

상품명：JER-YX-4000 (미츠비시 화학사 제조)Trade name: JER-YX-4000 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)

[화학식 3](3)

Figure pct00003
Figure pct00003

상기 다관능 에폭시 화합물은, 4 관능 이상의 다관능 에폭시 화합물이 바람직하다. 상기 4 관능 이상의 다관능 에폭시 화합물이면, 고온시에 있어서의 피막 유지가 우수하기 때문에, 벌크와 함께 높은 절연성을 유지할 수 있을 것으로 생각된다.The polyfunctional epoxy compound is preferably a tetrafunctional or higher polyfunctional epoxy compound. If the polyfunctional epoxy compound having four or more functionalities is used, it is considered that high insulating property can be maintained together with the bulk because of excellent film retention at high temperature.

상기 4 관능 이상의 다관능 에폭시 화합물은, 디페닐메탄 골격, 디나프틸메탄 골격, 트리아진 골격 및 비페닐 골격을 갖는 4 관능 이상의 다관능 에폭시 화합물이 보다 바람직하다. 이와 같은 화합물로는, 하기 식 (4) 를 들 수 있다.The tetrafunctional or higher polyfunctional epoxy compound is more preferably a tetrafunctional or higher polyfunctional epoxy compound having a diphenylmethane skeleton, a dinaphthylmethane skeleton, a triazine skeleton, and a biphenyl skeleton. Examples of such a compound include the following formula (4).

상품명：JER-604 (미츠비시 화학사 제조)Trade name: JER-604 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

상기 다관능 에폭시 화합물은, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 0.1 ∼ 50 질량부 함유한다.The polyfunctional epoxy compound is contained in an amount of 0.1 to 50 parts by mass based on 100 parts by mass of the acidic carbon black.

상기 다관능 에폭시 화합물의 함유량이, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 0.1 질량부 미만이면, 고저항의 블랙 매트릭스용 안료 분산물을 얻을 수 없다. 한편, 상기 다관능 에폭시 화합물의 함유량이, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 50 질량부를 초과하면, 에폭시기의 중합에 의해 분산액의 안정성을 저해할 가능성이 있다.If the content of the polyfunctional epoxy compound is less than 0.1 part by mass based on 100 parts by mass of the acidic carbon black, a pigment dispersion for a black matrix with high resistance can not be obtained. On the other hand, if the content of the polyfunctional epoxy compound exceeds 50 parts by mass based on 100 parts by mass of the acidic carbon black, there is a possibility that the stability of the dispersion may be impaired by polymerization of an epoxy group.

상기 다관능 에폭시 화합물의 바람직한 함유량의 하한은, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해 5 질량부이고, 상기 다관능 에폭시 화합물의 바람직한 함유량의 상한은, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해 20 질량부이다.The preferable lower limit of the content of the polyfunctional epoxy compound is 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acidic carbon black and the upper limit of the content of the polyfunctional epoxy compound is preferably 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acidic carbon black to be.

(용제)(solvent)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물은, 용제를 함유한다.The pigment dispersion for a black matrix of the present invention contains a solvent.

상기 용제로는, 종래부터 사용되고 있는 것으로, 산성 카본 블랙을 안정적으로 분산시킬 수 있고, 또한, 상기 안료 분산제, 상기 다관능 에폭시 화합물, 후술하는 알칼리 가용성 수지를 용해시킬 수 있는 것이다.As the above-mentioned solvent, conventionally used, acidic carbon black can be stably dispersed, and the pigment dispersant, the polyfunctional epoxy compound, and an alkali-soluble resin described later can be dissolved.

상기 용제로는, 상압 (1.013 × 102 ㎪) 에 있어서의 비점이 100 ∼ 250 ℃ 인 에스테르계 유기 용제, 에테르계 유기 용제, 에테르에스테르계 유기 용제, 케톤계 유기 용제, 방향족 탄화수소계 유기 용제, 함질소계 유기 용제 등이 바람직하다.Examples of the solvent include an ester organic solvent, an ether organic solvent, an ether ester organic solvent, a ketone organic solvent, an aromatic hydrocarbon organic solvent having a boiling point of 100 to 250 ° C at normal pressure (1.013 × 10 2 ,) Nitrogen-containing organic solvents and the like are preferable.

이와 같은 용제로는, 구체적으로는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르 등의 에테르계 유기 용제류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에테르에스테르계 유기 용제류, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, δ-부티로락톤 등의 케톤계 유기 용제류, 2-하이드록시프로피온산메틸, 2-하이드록시프로피온산에틸, 2-하이드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 하이드록시아세트산에스테르, 포름산n-아밀 등의 에스테르계 유기 용제류, N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 함질소계 유기 용제류 등을 예시할 수 있고, 이들 유기 용제는 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene Ether organic solvents such as glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol methyl ethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate , Ether ester organic solvents such as ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate, organic solvents such as methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone , δ -Butyrolactone, ketone-based organic solvents such as methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, Ester organic solvents such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, hydroxyacetic acid ester and n-amyl formate, Nitrogen-containing organic solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide. These organic solvents may be used alone or as a mixture of two or more kinds thereof Can be used.

(필요에 따라 첨가할 수 있는 첨가제)(Additive that can be added as needed)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물은, 산성 카본 블랙의 분산성을 향상시키기 위해서, 산기 함유 안료 유도체, 산기 함유 색소 유도체 및 산기 함유 색소 중간체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종, 그리고, 알칼리 가용성 수지를 함유시킬 수 있다.In order to improve the dispersibility of the acidic carbon black, the pigment dispersion for black matrix of the present invention may contain at least one kind selected from the group consisting of an acid group-containing pigment derivative, an acid group-containing dye derivative and an acid group-containing dye intermediate, Resin can be contained.

먼저, 산기 함유 안료 유도체, 산기 함유 색소 유도체로는, 산기를 갖는 프탈로시아닌계 안료 유도체, 산기를 갖는 안트라퀴논계 안료 유도체, 산기를 갖는 나프탈렌계 안료 유도체 등을 예시할 수 있다. 이 중에서도, 술폰산기를 갖는 프탈로시아닌계 안료 유도체가 산성 카본 블랙의 분산성의 점에서 바람직하다.Examples of the acid group-containing pigment derivative and acid group-containing pigment derivative include phthalocyanine-based pigment derivatives having an acid group, anthraquinone-based pigment derivatives having an acid group, and naphthalene-based pigment derivatives having an acid group. Among them, a phthalocyanine-based pigment derivative having a sulfonic acid group is preferable from the viewpoint of dispersibility of the acidic carbon black.

상기 산기 함유 안료 유도체, 상기 산기 함유 색소 유도체 및 상기 산기 함유 색소 중간체는, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 0 ∼ 20 질량부 함유하는 것이 바람직하다.The acid group-containing pigment derivative, the acid group-containing colorant derivative and the acid group-containing colorant intermediate are preferably contained in an amount of 0 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the acidic carbon black.

상기 산기 함유 안료 유도체, 상기 산기 함유 색소 유도체 및 상기 산기 함유 색소 중간체는, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 0.5 ∼ 10 질량부 함유하는 것이 보다 바람직하다.It is more preferable that the acid group-containing pigment derivative, the acid group-containing dye derivative and the acid group-containing dye intermediate are contained in an amount of 0.5 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the acidic carbon black.

상기 알칼리 가용성 수지로는, 후술에 기재하는 알칼리 가용성 공중합체 수지, 알칼리 가용성 카도 수지 등을 들 수 있다.Examples of the alkali-soluble resin include an alkali-soluble copolymer resin described later and an alkali-soluble resin.

상기 알칼리 가용성 수지는, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 0 ∼ 100 질량부 함유하는 것이 바람직하다.The alkali-soluble resin is preferably contained in an amount of 0 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acidic carbon black.

상기 알칼리 가용성 수지는, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 0.5 ∼ 60 질량부 함유하는 것이 보다 바람직하다.The alkali-soluble resin is more preferably contained in an amount of 0.5 to 60 parts by mass based on 100 parts by mass of the acidic carbon black.

(블랙 매트릭스용 안료 분산물의 제조)(Production of pigment dispersion for black matrix)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산물은, 산성 카본 블랙, 안료 분산제, 상기 다관능 에폭시 화합물, 용제, 필요에 따라, 산기 함유 안료 유도체, 산기 함유 색소 유도체, 산기 함유 색소 중간체, 및 알칼리 가용성 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과의 혼합물이다. 블랙 매트릭스용 안료 분산물은, 이들의 혼합물을 롤밀, 니더, 고속 교반기, 비즈밀, 볼밀, 샌드밀, 초음파 분산기, 고압 분산 장치 등을 사용하여, 분산 처리하여 얻을 수 있다.The pigment dispersion for a black matrix of the present invention can be obtained by dispersing an acidic carbon black, a pigment dispersant, the above polyfunctional epoxy compound, a solvent, an acid group-containing pigment derivative, an acid group-containing pigment derivative, And at least one member selected from the group consisting of The pigment dispersion for black matrix can be obtained by dispersing the mixture by using a roll mill, a kneader, a high-speed stirrer, a bead mill, a ball mill, a sand mill, an ultrasonic dispersing machine, a high pressure dispersing machine or the like.

다음으로, 본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물에 대해 설명한다.Next, the pigment dispersion resist composition for black matrix of the present invention will be described.

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물은, 상기 블랙 매트릭스용 안료 분산물에 더하여, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 용제로 주로 구성되고, 필요에 따라 중합 금지제 등의 각종 첨가제를 적절히 첨가하여 얻어지는 것이다.The pigment-dispersed resist composition for a black matrix of the present invention is mainly composed of an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a solvent in addition to the above-mentioned pigment dispersion for a black matrix, and various additives such as a polymerization inhibitor And is appropriately added.

(알칼리 가용성 수지)(Alkali-soluble resin)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물에 사용하는 알칼리 가용성 수지로는, 알칼리 가용성 공중합체, 알칼리 가용성 카도 수지 등을 예시할 수 있다.Examples of the alkali-soluble resin to be used in the pigment dispersion resist composition for black matrix of the present invention include an alkali-soluble copolymer and an alkali-soluble cadosa resin.

알칼리 가용성 공중합체로는, 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, 무수 말레산, 말레산모노알킬에스테르, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 시트라콘산모노알킬에스테르 등의 카르복실기 함유 불포화 단량체와, 스티렌, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤메타크릴레이트, 디시클로펜타디엔 골격을 갖는 모노(메트)아크릴레이트, N-페닐말레이미드, 폴리스티렌 매크로모노머 및 폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 반응시켜 얻어지는 공중합체이다.Examples of the alkali-soluble copolymer include carboxyl groups such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, maleic acid monoalkyl ester, citraconic acid, citraconic anhydride and citraconic acid monoalkyl ester Containing unsaturated monomer and at least one monomer selected from the group consisting of styrene, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol methacrylate Mono (meth) acrylate having a dicyclopentadiene skeleton, N-phenylmaleimide, polystyrene macromonomer, and polymethylmethacrylate macromonomer.

상기 알칼리 가용성 카도 수지로는, 플루오렌에폭시(메트)아크릴산 유도체와 디카르복실산 무수물 및/또는 테트라카르복실산 2 무수물의 부가 생성물인 플루오렌 골격을 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트산 부가물 등을 들 수 있다.Examples of the alkali-soluble cado resin include an epoxy (meth) acrylate acid adduct having a fluorene skeleton which is an adduct of a fluorene epoxy (meth) acrylic acid derivative and a dicarboxylic acid anhydride and / or a tetracarboxylic acid dianhydride .

상기 알칼리 가용성 수지는, 단독 또는 2 종 이상을 병용하여 사용할 수 있다. 알칼리 가용성 수지는, 도포막 형성성, 알칼리 현상성의 점에서, 산가 20 ∼ 300 ㎎KOH/g, 중량 평균 분자량 1000 ∼ 20 만인 것이 바람직하다. 상기 알칼리 가용성 수지는, 요구되는 성능에 따라, 적절히 1 종 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The alkali-soluble resin may be used alone or in combination of two or more. The alkali-soluble resin preferably has an acid value of 20 to 300 mgKOH / g and a weight-average molecular weight of 1,000 to 200,000 from the viewpoint of coating film formability and alkali developability. The alkali-soluble resin may suitably be used alone or in combination of two or more thereof, depending on the required performance.

블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물 중의 상기 알칼리 가용성 수지의 함유량은, 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물 중의 고형분 중에 5 ∼ 50 질량％ 가 되는 범위가 바람직하다.The content of the alkali-soluble resin in the pigment dispersion resist composition for black matrix is preferably in the range of 5 to 50 mass% of the solid content in the pigment dispersion resist composition for black matrix.

(광중합성 화합물)(Photopolymerizable compound)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물에 사용하는 광중합성 화합물로는, 광중합성 불포화 결합을 갖는 모노머, 올리고머 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerizable compound used in the pigment dispersion resist composition for black matrix of the present invention include monomers and oligomers having photopolymerizable unsaturated bonds.

구체적으로는, 광중합성 불포화 결합을 분자 내에 1 개 갖는 모노머로서, 예를 들어, 메틸메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 등의 알킬메타크릴레이트 또는 아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트 등의 아르알킬메타크릴레이트 또는 아크릴레이트, 부톡시에틸메타크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트 등의 알콕시알킬메타크릴레이트 또는 아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸메타크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸아크릴레이트 등의 아미노알킬메타크릴레이트 또는 아크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 폴리알킬렌글리콜모노알킬에테르의 메타크릴산에스테르 또는 아크릴산에스테르, 헥사에틸렌글리콜모노페닐에테르 등의 폴리알킬렌글리콜모노아릴에테르의 메타크릴산에스테르 또는 아크릴산에스테르, 이소보닐메타크릴레이트 또는 아크릴레이트, 글리세롤메타크릴레이트 또는 아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트 또는 아크릴레이트 등을 사용할 수 있다.Specifically, examples of the monomer having one photopolymerizable unsaturated bond in the molecule include methyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, methyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethyl Hexyl acrylate, and the like; aralkyl methacrylates or acrylates such as acrylate, benzyl methacrylate and benzyl acrylate; alkoxyalkyl methacrylates such as butoxyethyl methacrylate and butoxy ethyl acrylate; Aminoalkyl methacrylates or acrylates such as N-methylmethacrylate, N-methylmethacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate and N, N-dimethylaminoethyl acrylate, diethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, Methacrylic acid of polyalkylene glycol monoalkyl ether such as dipropylene glycol monomethyl ether, Methacrylic acid esters or acrylic acid esters of polyalkylene glycol monoaryl ethers such as ter- or acrylic esters and hexaethylene glycol monophenyl ether, isobonyl methacrylate or acrylate, glycerol methacrylate or acrylate, 2-hydroxy Ethyl methacrylate or acrylate may be used.

광중합성 불포화 결합을 분자 내에 2 개 이상 갖는 모노머로서, 예를 들어, 비스페놀 A 디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 글리세롤디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 글리세롤디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 등을 사용할 수 있다.As the monomer having two or more photopolymerizable unsaturated bonds in the molecule, for example, bisphenol A dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol Dimethacrylate, dimethacrylate, dimethacrylate, glycerol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, Pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, bisphenol A diacrylate, 1 , 4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate , Glycerol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and the like can be used.

상기 광중합성 불포화 결합을 갖는 올리고머로는, 상기 모노머를 적절히 중합시켜 얻어진 것을 사용할 수 있다. 이들의 광중합성 화합물은, 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the oligomer having a photopolymerizable unsaturated bond, those obtained by appropriately polymerizing the above-mentioned monomers can be used. These photopolymerizable compounds may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에 있어서, 상기 광중합성 화합물의 사용량은, 본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물 중의 전체 고형분에 기초하여, 바람직하게는 3 ∼ 50 질량％ 의 범위이다.In the present invention, the amount of the photopolymerizable compound to be used is preferably in the range of 3 to 50% by mass based on the total solid content in the pigment dispersion resist composition for black matrix of the present invention.

(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물에 사용하는 광중합 개시제로는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 벤조페논, N,N'-테트라에틸-4, 4'-디아미노벤조페논, 4-메톡시-4'-디메틸아미노벤조페논, 벤질, 2,2-디에톡시아세토페논, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈, α-하이드록시이소부틸페논, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 1-하이드록시시클로헥실 페닐케톤, t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논, 2,3-디클로로안트라퀴논, 3-클로르-2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논, 1,2-벤조안트라퀴논, 1,4-디메틸안트라퀴논, 2-페닐안트라퀴논, 트리아진계 광중합 개시제, 옥심에스테르계 광중합 개시제 등을 사용할 수 있다. 이들의 광중합 개시제는 단독으로, 또는 2 종 이상을 병용하여 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator used in the pigment dispersion resist composition for a black matrix of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include benzophenone, N, N'-tetraethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 4- 4-dimethylamino benzophenone, benzyl, 2,2-diethoxyacetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyldimethyl ketal,? -Hydroxyisobutylphenone, thioxanthone , 2-chlorothioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, t-butyl anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2,3-dichloroanthraquinone, 3- Anthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 1,2-benzoanthraquinone, 1,4-dimethyl anthraquinone, 2-phenylanthraquinone, triazine type photopolymerization initiator and oxime ester type photopolymerization initiator. These photopolymerization initiators may be used singly or in combination of two or more.

본 발명에 있어서, 상기 광중합 개시제의 사용량은, 본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물 중의 전체 고형분에 기초하여, 바람직하게는 1 ∼ 20 질량％ 의 범위이다.In the present invention, the amount of the photopolymerization initiator used is preferably in the range of 1 to 20% by mass based on the total solid content in the pigment dispersion resist composition for black matrix of the present invention.

(용제)(solvent)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물에 사용하는 용제로는, 상기에 든 용제와 동일한 것을 사용할 수 있다. 특히, 상압 (1.013 × 102 ㎪) 에 있어서의 비점이 100 ∼ 250 ℃ 인 에스테르계 유기 용제, 에테르계 유기 용제, 에테르에스테르계 유기 용제, 케톤계 유기 용제, 방향족 탄화수소계 유기 용제, 함질소계 유기 용제 등이 바람직하다. 비점이 250 ℃ 를 초과하는 유기 용제를 다량으로 함유하고 있으면, 도포 형성된 도포막을 프리베이크할 때에 유기 용제가 충분히 증발하지 않고 건조 도포막 내에 잔존하여, 건조 도포막의 내열성이 저하되는 경우가 있다. 또, 비점이 100 ℃ 미만인 유기 용제를 다량으로 함유하고 있으면, 불균일 없이 균일하게 도포하는 것이 곤란해져, 표면 평활성이 우수한 도포막이 얻어지지 않게 되는 경우가 있다.As the solvent for use in the pigment dispersion resist composition for black matrix of the present invention, the same solvent as the above-mentioned solvent may be used. Particularly, an ester organic solvent, an ether organic solvent, an ether ester organic solvent, a ketone organic solvent, an aromatic hydrocarbon organic solvent, a nitrogen-containing organic solvent having a boiling point of 100 to 250 ° C at normal pressure (1.013 × 10 2 ㎪) Organic solvents and the like are preferable. When the organic solvent containing a large amount of organic solvent having a boiling point exceeding 250 캜 is contained in the dried coating film without sufficiently evaporating the organic solvent at the time of prebaking the applied coating film, the heat resistance of the dried coating film may be lowered. If a large amount of an organic solvent having a boiling point of less than 100 占 폚 is contained, it is difficult to uniformly coat the film with uniformity, and a coating film having excellent surface smoothness may not be obtained.

이와 같은 용제로는, 구체적으로는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르 등의 에테르계 유기 용제류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에테르에스테르계 유기 용제류, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, δ-부티로락톤 등의 케톤계 유기 용제류, 2-하이드록시프로피온산메틸, 2-하이드록시프로피온산에틸, 2-하이드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 하이드록시아세트산에스테르, 포름산n-아밀 등의 에스테르계 유기 용제류, N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 함질소계 유기 용제류 등이 있고, 이들을 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene Ether organic solvents such as glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol methyl ethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate , Ether ester organic solvents such as ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate, organic solvents such as methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone , δ -Butyrolactone, ketone-based organic solvents such as methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, Ester organic solvents such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, hydroxyacetic acid ester and n-amyl formate, Nitrogen-containing organic solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

이들 용제 중에서도, 용해성, 분산성, 도포성 등의 점에서, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 2-헵타논, 2-하이드록시프로피온산에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 포름산n-아밀 등이 바람직하다. 특히 바람직하게는, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트이다.Among these solvents, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and the like are preferable from the viewpoints of solubility, dispersibility, Propyl methacrylate, cyclohexanone, 2-heptanone, ethyl 2-hydroxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate and n- Do. Particularly preferred is propylene glycol monomethyl ether acetate.

이들 용제는, 상기 안료 분산제, 상기 다관능 에폭시 화합물, 상기 알칼리 가용성 수지의 용해성, 안료 분산성, 도포성 등의 점에서, 상기 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물에 사용되는 전체 유기 용제 중, 50 질량％ 이상인 것이 바람직하고, 70 질량％ 이상 함유시키는 것이 보다 바람직하다.From the viewpoints of the solubility of the pigment dispersant, the polyfunctional epoxy compound, and the alkali-soluble resin, the pigment dispersibility, and the coating property, these solvents are preferably used in an amount of 50 mass % Or more, more preferably 70 mass% or more.

(첨가제)(additive)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물에는, 필요에 따라, 상기 서술한 것 이외의 그 밖의 광중합성 화합물, 열중합 금지제, 산화 방지제 등의 각종 첨가제를 적절히 사용할 수도 있다.To the pigment dispersion resist composition for black matrix of the present invention, various other additives other than the above-described photopolymerizable compounds, heat polymerization inhibitors, and antioxidants may be suitably used, if necessary.

(블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물)(Pigment-dispersed resist composition for black matrix)

본 발명의 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물을 제조하는 방법은, 본 발명의 바람직한 실시형태의 일례이고, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 블랙 매트릭스용 안료 분산물에, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 알칼리 가용성 수지, 필요에 따라 유기 용제, 그 밖의 첨가제를 더하고, 교반 장치 등을 사용하여 교반 혼합하는 방법을 이용할 수 있다.The method for producing a pigment dispersion resist composition for black matrix of the present invention is an example of a preferred embodiment of the present invention, and the present invention is not limited thereto. For example, a method of adding a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, an alkali-soluble resin, an organic solvent and other additives as needed, to the pigment dispersion for a black matrix, and stirring and mixing the mixture with a stirring device or the like can be used.

또한, 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물 중의 카본 블랙은, 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물의 고형분 중의 질량％ 로 30 ∼ 80 질량％인 것이 바람직하다.The carbon black in the pigment dispersion resist composition for black matrix is preferably 30 to 80% by mass in terms of the solid content of the pigment dispersion resist composition for black matrix.

본 발명에 의하면, 고차광성과 높은 절연성을 갖는 블랙 매트릭스용 안료 분산물 및 그것을 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a pigment dispersion for a black matrix having a high order light and a high insulating property, and a pigment dispersion resist composition for a black matrix containing the same.

이하, 실시예를 이용하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 주지와 적용 범위를 일탈하지 않는 한 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 특별히 언급이 없는 한, 본 실시예에 있어서, 「부」및 「％」는, 각각 「질량부」및 「질량％」를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples, so long as they do not depart from the spirit and scope of the present invention. In the present embodiment, " part " and "% " indicate " part by mass " and "% by mass ", respectively, unless otherwise specified.

이하의 실시예, 비교예에서 사용하는 블랙 매트릭스용 안료 분산물의 재료는 다음과 같다.The materials of the pigment dispersion for black matrix used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.

＜산성 카본 블랙＞<Acidic carbon black>

스페셜 블랙 250 (데구사사 제조, 흡유량：46 ㎖/100 g, pH：3.1, 평균 일차 입자 직경 56 ㎚)Special Black 250 (manufactured by Degussa, oil absorption: 46 ml / 100 g, pH: 3.1, average primary particle diameter 56 nm)

＜안료 분산제＞<Pigment dispersant>

BYK-161 (빅케미사 제조, Disperbyk-161, 아민가 11 ㎎KOH/g, 산가 0 ㎎KOH/g)BYK-161 (Disperbyk-161, amine value 11 mgKOH / g, acid value 0 mgKOH / g,

＜다관능 에폭시 화합물＞&Lt; Polyfunctional epoxy compound &

JER-604 (미츠비시 화학사 제조, 비페닐 골격을 갖는 다관능 에폭시 화합물)JER-604 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, polyfunctional epoxy compound having biphenyl skeleton)

에피크론 830 (DIC 사 제조, 디페닐메탄 골격을 갖는 다관능 에폭시 화합물)Epikron 830 (polyfunctional epoxy compound having diphenylmethane skeleton, manufactured by DIC)

JER-YX-4000 (미츠비시 화학사 제조, 비페닐 골격을 갖는 다관능 에폭시 화합물)JER-YX-4000 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, polyfunctional epoxy compound having biphenyl skeleton)

TEPIC (닛산 화학사 제조, 트리아진 골격을 갖는 다관능 에폭시 화합물)TEPIC (polyfunctional epoxy compound having triazine skeleton, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.)

＜단관능 에폭시 화합물＞&Lt; Monofunctional epoxy compound &

데나콜 EX-141 (나가세켐텍스사 제조, 단관능 에폭시 화합물)Denacol EX-141 (monofunctional epoxy compound manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.)

＜산기 함유 안료 유도체＞<Acid group-containing pigment derivative>

솔스퍼스 5000 (루브리졸사 제조, 프탈로시아닌 유도체)Sorbus 5000 (manufactured by Lubrizol, phthalocyanine derivative)

＜용제＞<Solvent>

PGMEA (프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트)PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate)

이하의 실시예, 비교예에서 사용하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물의 재료는 다음과 같다.The materials of the pigment dispersion resist composition for black matrix used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.

＜알칼리 가용성 수지＞<Alkali-soluble resin>

BzMA/MAA (벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 이론 산가：120 ㎎KOH/g, 질량 평균 분자량：25000)BzMA / MAA (benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, theoretical acid value: 120 mgKOH / g, mass average molecular weight: 25000)

＜광중합성 화합물＞&Lt; Photopolymerizable compound &gt;

DPHA (디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트)DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate)

＜광중합 개시제＞<Photopolymerization initiator>

이르가큐어 907 (BASF 사 제조, 2-메틸-1[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온)2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one manufactured by BASF,

＜용제＞<Solvent>

PGMEA (프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트)PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate)

＜실시예 1 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 4 의 블랙 매트릭스용 안료 분산물의 조제＞<Preparation of pigment dispersions for black matrixes of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4>

표 1 의 조성 (표 1 에 있어서의 각 재료의 사용량은 질량％ 이다) 이 되도록 각종 재료를 혼합하고, 비즈밀로 하룻밤 연육 (練肉) 하여, 실시예 1 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 4 의 블랙 매트릭스용 안료 분산물을 조제하였다.The various materials were mixed so as to obtain the composition shown in Table 1 (the amount of each material in Table 1 being in mass%), and the mixture was kneaded overnight with a beads mill to obtain the black of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 To prepare a pigment dispersion for a matrix.

＜실시예 1 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 4 의 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물의 조제＞<Preparation of Pigment-Dispersed Resist Composition for Black Matrix of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4>

고속 교반기를 사용하여, 실시예 1 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 4 의 각 블랙 매트릭스용 안료 분산물과 다른 재료를 표 1 의 조성 (표 1 에 있어서의 각 재료의 사용량은 질량％ 이다) 이 되도록 균일하게 혼합한 후, 구멍 직경 3 ㎛ 의 필터로 여과하여, 실시예 1 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 4 의 각 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물을 얻었다.Using the high-speed stirrer, the pigment dispersions for the respective black matrices of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 were mixed so that the composition shown in Table 1 (the amount of each material in Table 1 used is in mass%) The mixture was homogeneously mixed and then filtered through a filter having a pore diameter of 3 탆 to obtain respective pigment dispersion resist compositions for black matrixes of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4.

Figure pct00005
Figure pct00005

＜평가 시험＞&Lt; Evaluation test &gt;

실시예 1 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 4 에서 얻어진 블랙 매트릭스용 안료 분산물 및 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물에 대해, 하기 방법으로 분산 안정성, 광학 농도 및 표면 저항값을 평가하고, 그 결과를 표 2 에 나타내었다.The dispersion stability, optical density and surface resistance value of the pigment dispersion for black matrix and the pigment dispersion resist composition for black matrix obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 were evaluated by the following method, Respectively.

(분산 안정성)(Dispersion stability)

실시예 1 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 4 의 각 블랙 매트릭스용 안료 분산물을 각각 유리병에 취하고, 뚜껑을 덮어 실온에서 7 일간 보존한 후의 상태를 하기 평가 기준에 따라 평가하였다.The pigment dispersions for each of the black matrixes of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 were each placed in a glass bottle, covered with a lid, and stored at room temperature for 7 days, and then evaluated according to the following evaluation criteria.

A：증점, 침강물이 모두 확인되지 않는다A: Thickening and sediment are not confirmed.

B：가볍게 흔들면 원래로 돌아갈 정도의 증점이나 침강물이 확인된다B: If you shake it lightly, you can see thickening or sediment to return to original.

C：세게 흔들어도 원래로 돌아가지 않을 정도의 증점이나 침강물이 확인된다C: Thickening and sedimentation are confirmed to the extent that it does not return to original

＜광학 농도 (OD 값)＞&Lt; Optical density (OD value) &gt;

실시예 1 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 4 의 각 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물을 스핀 코터로 막 두께 1 ㎛ 가 되도록 유리 기판 상에 도포하고, 100 ℃ 에서 3 분간 프리베이크한 후, 고압 수은등으로 노광하고, 다시 230 ℃ 에서 3 시간 포스트베이크를 실시하여, 민인쇄부만으로 형성된 블랙 레지스트 패턴을 얻었다. 얻어진 각 민인쇄부의 블랙 레지스트 패턴의 광학 농도 (OD 값) 를 맥베스 농도계 (TD-931, 상품명, 맥베스사 제조) 로 측정하였다.Each of the pigment-dispersed resist compositions for black matrixes of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 was coated on a glass substrate to a thickness of 1 占 퐉 by a spin coater and pre-baked at 100 占 폚 for 3 minutes. Followed by post-baking at 230 캜 for 3 hours to obtain a black resist pattern formed only by the printing portion. The optical density (OD value) of the obtained black resist pattern of each printed portion was measured with a Macbeth densitometer (TD-931, trade name, manufactured by Macbeth).

(표면 저항값)(Surface resistance value)

실시예 1 ∼ 6, 비교예 1 ∼ 4 의 각 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물을 스핀 코터로 막 두께 1 ㎛ 가 되도록 유리 기판 상에 도포하고, 100 ℃ 에서 3 분간 프리베이크한 후, 고압 수은등으로 노광하고, 다시 230 ℃ 에서 3 시간 포스트베이크를 실시하여, 민인쇄부만으로 형성된 블랙 레지스트 패턴을 얻었다. 얻어진 각 민인쇄부의 블랙 레지스트 패턴의 표면 저항값을 어드밴스사 제조, 본체：미소 전류계 R8340, 옵션：실드 박스 R12702A 로 측정하였다.Each of the pigment-dispersed resist compositions for black matrixes of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 was coated on a glass substrate to a thickness of 1 占 퐉 by a spin coater and pre-baked at 100 占 폚 for 3 minutes. Followed by post-baking at 230 캜 for 3 hours to obtain a black resist pattern formed only by the printing portion. The surface resistance value of the obtained black resist pattern of each printed portion was measured with a body: Micro ammeter R8340, Option: Shield box R12702A manufactured by Advance Corporation.

Figure pct00006
Figure pct00006

실시예 1 ∼ 6 에 관련된 블랙 매트릭스용 레지스트 조성물은, 고차광성과 높은 절연성의 양면에 있어서 우수하였다.The resist compositions for black matrix according to Examples 1 to 6 were excellent in both high-order light and high-insulating properties.

한편, 비교예 1, 2, 4 에 관련된 블랙 매트릭스용 레지스트 조성물에서는, 고차광성과 높은 절연성을 양립시킨 것은 얻어지지 않았다.On the other hand, in the resist compositions for black matrices relating to Comparative Examples 1, 2 and 4, neither high-order light property nor high insulating property were obtained.

또, 비교예 3 에 관련된 블랙 매트릭스용 안료 분산물은, 분산 안정성이 나쁘고, 광학 농도 및 표면 저항값 평가의 대상 충족할 수 있는 블랙 매트릭스용 레지스트 조성물이 얻어지지 않았다.In addition, the pigment dispersion for black matrix according to Comparative Example 3 had poor dispersion stability, and a resist composition for a black matrix which can satisfy the object of optical density and surface resistance evaluation was not obtained.

산업상 이용가능성Industrial availability

본 발명에 의하면, 고차광성과 높은 절연성을 갖는 블랙 매트릭스용 안료 분산물 및 그것을 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물을 제공할 수 있다.
According to the present invention, it is possible to provide a pigment dispersion for a black matrix having a high order light and a high insulating property, and a pigment dispersion resist composition for a black matrix containing the same.

Claims (4)

산성 카본 블랙, 안료 분산제, 다관능 에폭시 화합물 및 용제를 함유하는 블랙 매트릭스용 안료 분산물로서,
상기 다관능 에폭시 화합물은, 상기 산성 카본 블랙 100 질량부에 대해, 0.1 ∼ 50 질량부 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 안료 분산물.1. A pigment dispersion for a black matrix containing acidic carbon black, a pigment dispersant, a polyfunctional epoxy compound and a solvent,
Wherein the polyfunctional epoxy compound is contained in an amount of 0.1 to 50 parts by mass based on 100 parts by mass of the acidic carbon black. 제 1 항에 있어서,
다관능 에폭시 화합물은, 디페닐메탄 골격, 디나프틸메탄 골격, 트리아진 골격 및 비페닐 골격에서 선택되는 적어도 1 종의 골격을 갖는 에폭시 화합물인 블랙 매트릭스용 안료 분산물.The method according to claim 1,
The polyfunctional epoxy compound is an epoxy compound having at least one skeleton selected from diphenylmethane skeleton, dinaphthylmethane skeleton, triazine skeleton and biphenyl skeleton. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
다관능 에폭시 화합물은, 4 관능 이상의 에폭시 화합물인 블랙 매트릭스용 안료 분산물.3. The method according to claim 1 or 2,
The polyfunctional epoxy compound is a tetrafunctional or more epoxy compound, and is a pigment dispersion for a black matrix. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 블랙 매트릭스용 안료 분산물, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 안료 분산 레지스트 조성물.A pigment dispersion resist composition for a black matrix, comprising the pigment dispersion for a black matrix according to any one of claims 1 to 3, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator.
KR1020167010212A 2013-10-16 2014-10-15 Pigment dispersion for black matrix, and pigment-dispersed resist composition for black matrix containing same KR20160070763A (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013215634 2013-10-16
JPJP-P-2013-215634 2013-10-16
PCT/JP2014/077379 WO2015056688A1 (en) 2013-10-16 2014-10-15 Pigment dispersion for black matrix, and pigment-dispersed resist composition for black matrix containing same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20160070763A true KR20160070763A (en) 2016-06-20

Family

ID=52828131

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167010212A KR20160070763A (en) 2013-10-16 2014-10-15 Pigment dispersion for black matrix, and pigment-dispersed resist composition for black matrix containing same

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6516676B2 (en)
KR (1) KR20160070763A (en)
CN (1) CN105518087A (en)
TW (1) TWI663221B (en)
WO (1) WO2015056688A1 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017159634A1 (en) * 2016-03-16 2017-09-21 株式会社Ｄｎｐファインケミカル Colored resin composition for color filter, pigment dispersion, color filter, and display device
CN109154775A (en) * 2016-05-31 2019-01-04 富士胶片株式会社 Photosensitive polymer combination, transfer film, the manufacturing method of pattern, decorative pattern and touch panel
CN107446409A (en) * 2017-04-01 2017-12-08 济南市塑料油墨厂 A kind of dumb light black ink with insulating properties
JP6914807B2 (en) * 2017-10-30 2021-08-04 サカタインクス株式会社 Black coloring composition and black colored resist composition containing it
JP7507006B2 (en) * 2020-04-30 2024-06-27 サカタインクス株式会社 Pigment dispersion composition for black matrix, resist composition for black matrix, and black matrix
JP2021173971A (en) 2020-04-30 2021-11-01 サカタインクス株式会社 Black matrix pigment dispersion composition, black matrix resist composition, and black matrix
JP2022083713A (en) * 2020-11-25 2022-06-06 サカタインクス株式会社 Black matrix pigment dispersion composition, black matrix resist composition, and black matrix
CN113956687A (en) * 2021-11-30 2022-01-21 长沙惠科光电有限公司 Negative photoresist and preparation method thereof, and composite carbon black and preparation method thereof
CN114156329B (en) * 2021-11-30 2023-07-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Display panel, manufacturing method thereof and display device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08278629A (en) 1995-04-07 1996-10-22 Nippon Steel Chem Co Ltd Composition for forming light-shielding thin film and light-shielding film formed using the composition
JPH09124969A (en) 1995-10-30 1997-05-13 Mitsubishi Chem Corp Carbon black for insulation black matrix

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3559615B2 (en) * 1995-06-15 2004-09-02 株式会社日本触媒 Carbon black, resin composition and black matrix
TW460489B (en) * 1995-06-14 2001-10-21 Nippon Catalytic Chem Ind Carbon black graft polymer, the production method and use thereof
JP3856402B2 (en) * 1995-10-13 2006-12-13 東京応化工業株式会社 Photosensitive resin composition for light shielding film formation, black matrix formed with the photosensitive resin composition for light shielding film formation, and method for producing the same
JPH1160988A (en) * 1997-08-20 1999-03-05 Mitsubishi Chem Corp Resin-coated carbon black
JPH1180583A (en) * 1997-08-29 1999-03-26 Mitsubishi Chem Corp Carbon black for forming black resist pattern
JP2000001522A (en) * 1998-06-16 2000-01-07 Mitsubishi Chemicals Corp Light-screening photopolymer composition and color filter prepared therefrom
JP4032519B2 (en) * 1998-08-06 2008-01-16 三菱化学株式会社 Light-shielding pixel and color filter using the same
JP2004029745A (en) * 2002-04-16 2004-01-29 Mikuni Color Ltd Carbon black-dispersed solution for color filter, resin composition containing carbon black, and black matrix
JP2006130911A (en) * 2004-10-07 2006-05-25 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacturing method of dampening water-free lithographic printing form original plate

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08278629A (en) 1995-04-07 1996-10-22 Nippon Steel Chem Co Ltd Composition for forming light-shielding thin film and light-shielding film formed using the composition
JPH09124969A (en) 1995-10-30 1997-05-13 Mitsubishi Chem Corp Carbon black for insulation black matrix

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2015056688A1 (en) 2017-03-09
CN105518087A (en) 2016-04-20
WO2015056688A1 (en) 2015-04-23
TW201522528A (en) 2015-06-16
JP6516676B2 (en) 2019-05-22
TWI663221B (en) 2019-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20160070763A (en) Pigment dispersion for black matrix, and pigment-dispersed resist composition for black matrix containing same
KR101393381B1 (en) pigment dispersion composition for black matrix and pigment dispersed resist composition for black matrix containing the same
KR102605836B1 (en) Pigment dispersion composition for black matrix and pigment dispersion resist composition for black matrix containing the same
KR101981805B1 (en) Blue pigment dispersion composition for color filter and blue pigment dispersion resist composition for color filter containing the same
JP6589305B2 (en) Coloring composition for color filter, and color filter
KR102567272B1 (en) Black pigment dispersion composition and black pigment dispersion resist composition containing the same
JP6543453B2 (en) Pigment dispersion composition for black matrix
JP7360798B2 (en) Colored composition and colored resist composition containing the same
JP6113466B2 (en) Black matrix pigment dispersion composition and black matrix pigment dispersion resist composition containing the same
CN105372936B (en) Red colorant composition for color filter
JP2018101039A (en) Coloring composition for color filter and color filter
JP2021173971A (en) Black matrix pigment dispersion composition, black matrix resist composition, and black matrix
JP7495272B2 (en) Resist composition for black matrix and black matrix
JP7507006B2 (en) Pigment dispersion composition for black matrix, resist composition for black matrix, and black matrix
JP7299036B2 (en) Coloring composition and coloring resist composition
CN114539848A (en) Pigment dispersion composition for black matrix, resist composition for black matrix, and black matrix
CN114539847A (en) Pigment dispersion composition for black matrix, resist composition for black matrix, and black matrix
TW202244201A (en) Pigment dispersion composition for black matrix, resist composition for black matrix and black matrix
KR20240021110A (en) Coloring composition containing dioxazine pigment, and color filter

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application