JP2006130911A - Manufacturing method of dampening water-free lithographic printing form original plate - Google Patents

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Koji Sonokawa
浩二 園川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the manufacturing method of water-free lithographic printing form original plate, in which the flawing of non-image part in a developing treatment process, a printing process or the like is suppressed and also the problem of a printed matter from being stained with ink is suppressed. <P>SOLUTION: In the manufacturing method of a dampening water-free lithographic printing form original plate, which is formed by laminating at least a photothermic conversion layer and a silicone rubber layer in a support in the order named, the photothermic conversion layer is directly provided on the surface being treated with corona discharge of the support, which is left behind for from at least ten minutes to not more than one month after being treated with the corona discharge of 0.01-0.12 kW/m<SP>2</SP>/min thereon or after treating the surface of the support with the corona discharge so as to set the atomic ratio between oxygen/carbon of the surface of the support measured by an X ray photoelectron spectroscopy (ESCA) to be at least 0.41. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明はレーザー光によるヒートモード記録によって画像形成可能な、湿し水を必要としない印刷ができる高感度な湿し水不要平版印刷版原版(以下、水なし平版印刷版原版と称す。)の製造方法に関し、特に、耐傷性に優れた水なし平版印刷版原版の製造方法に関する。   The present invention is a highly sensitive fountain solution-free lithographic printing plate precursor (hereinafter referred to as a waterless lithographic printing plate precursor) capable of printing without the need for fountain solution, which can form an image by heat mode recording with a laser beam. More particularly, the present invention relates to a method for producing a waterless lithographic printing plate precursor having excellent scratch resistance.

従来の湿し水を必要とする印刷方式は湿し水とインキの微妙なバランスのコントロールが難しく、インキの乳化を起こしたり、湿し水にインキが混ざったりして、インキ濃度不良や地汚れを発生し、損紙の原因となるなど、大きな問題点を有していた。それに対して、水なし平版印刷版原版は湿し水を必要としないために数多くの利点を有する。
一方、近年プリプレスシステムやイメージセッター、レーザープリンターなどの出力システムの急激な進歩によって、印刷画像をデジタルデータ化し、コンピューター・トゥ・プレート、コンピューター・トゥ・シリンダー等の新しい製版方法により、印刷版を得る方法が提案されるようになり、これらの印刷システムのための新しいタイプの印刷材料が望まれ、開発が進められている。
In conventional printing methods that require dampening water, it is difficult to control the delicate balance between dampening water and ink, which causes emulsification of ink and ink mixing with dampening water, resulting in poor ink density and soiling. And has a major problem such as causing waste paper. In contrast, waterless lithographic printing plate precursors have a number of advantages because they do not require fountain solution.
On the other hand, recent printing systems such as prepress systems, image setters, and laser printers have made rapid progress in digitizing printed images, and printing plates can be obtained by new plate making methods such as computer-to-plate and computer-to-cylinder. As methods are proposed, new types of printing materials for these printing systems are desired and are being developed.

レーザー書き込み可能な水なし平版印刷版原版の例としては、カーボンブラック等のレーザー光吸収剤及びバインダーを含有した層又は金属薄膜層からなる光を熱に変換する層(以下、光熱変換層と称す。)上にインキ反撥性のシリコーンゴム層を設けた平版印刷版原版が挙げられる。この平版印刷版原版にレーザー照射することにより、照射部のシリコーンゴム層が除去されてインク付着性領域(画像部)となり、未照射のシリコーンゴム層残存領域が撥インク領域(非画像部)となって、水なし印刷が可能となる。
このような水なし平版印刷版原版は、製造コストが安価であり、かつ、レーザー照射部の光熱変換層がアブレーションすることを利用して画像形成しているため、発生した気体がレーザー照射部のシリコーンゴム層を上に押し上げて、その後のレーザー照射部のシリコーンゴム層の除去(以下、現像ともいう。)が効率的に行えるというメリットを有している。
As an example of a water-less lithographic printing plate precursor capable of laser writing, a layer containing a laser light absorber such as carbon black and a binder or a metal thin film layer that converts light into heat (hereinafter referred to as a photothermal conversion layer). .) A lithographic printing plate precursor on which an ink-repellent silicone rubber layer is provided. By irradiating the lithographic printing plate precursor with a laser, the silicone rubber layer in the irradiated area is removed to form an ink adhering area (image area), and the unirradiated silicone rubber layer remaining area becomes an ink repellent area (non-image area). Thus, waterless printing is possible.
Such a waterless lithographic printing plate precursor is low in manufacturing cost and forms an image by utilizing the ablation of the photothermal conversion layer of the laser irradiation part. It has the merit that the silicone rubber layer can be pushed up and the subsequent removal of the silicone rubber layer in the laser irradiation part (hereinafter also referred to as development) can be performed efficiently.

また、このような水なし平版印刷版原版を、ロール形態にして印刷機版胴内に装着し、前記水なし平版印刷版原版の印刷表面が表側になるように版胴上に供給し、前記水なし平版印刷版原版の新しい面が版胴上の印刷領域に位置するようにスプールし、前記版胴上で画像様にレーザー走査し、レーザー照射部のシリコーンゴム層を除去した後に印刷する態様が記載されている(例えば、特許文献1参照。)。   Further, such a waterless lithographic printing plate precursor is mounted in a printing press plate cylinder in a roll form, and is supplied onto the plate cylinder so that the printing surface of the waterless lithographic printing plate precursor is on the front side, A mode in which spooling is performed so that a new surface of a waterless lithographic printing plate precursor is positioned in a printing region on the plate cylinder, laser scanning is performed imagewise on the plate cylinder, and printing is performed after removing the silicone rubber layer in the laser irradiation portion. (For example, refer to Patent Document 1).

しかし、このような水なし平版印刷版原版は、レーザーによる書き込み記録後の現像処理工程、及び印刷工程において、非画像部がキズ付くトラブルを起こしやかった。例えば現像処理工程が、現像処理液を含浸させた現像用パッドやブラシなどで版表面をこすってレーザー照射部のシリコーンゴム層を除去する方式である場合には、現像用パッドなどに付着したゴミなどによって非画像部に微細な亀裂や剥離が発生して、印刷物インキ汚れとなってしまうことがあった。   However, such a waterless lithographic printing plate precursor is liable to cause a trouble that a non-image portion is scratched in a development processing step and a printing step after writing and recording with a laser. For example, if the development process is a method in which the silicone rubber layer of the laser irradiation part is removed by rubbing the plate surface with a development pad or brush impregnated with a development processing solution, dust adhering to the development pad etc. As a result, fine cracks or peeling may occur in the non-image area, resulting in printed ink stains.

上記シリコーンゴム層のキズ付きを改良する手段として、支持体にコロナ放電処理を施すこと提案されており、コロナ放電処理の条件(処理量)1W/m2/分〜200W/m2/分が有効であることが記載されている(特許文献2参照。)。また、支持体上に、カーボンブラック及びポリマーバインダーを含有する感熱層を有し、さらに該感熱層上に親水性層または疎油性層を有してなる平版印刷版原版において、カーボンブラックに酸化処理
されたものを用いると耐傷性、耐刷性および画像再現性が良好であることが知られている(特許文献3参照。)。
国際公開第90/02045号パンフレット 特開平11−245529号公報 特開2002−240452号公報
As means for improving the scratching of the silicone rubber layer, has been proposed to apply a corona discharge treatment to the support, the conditions of the corona discharge treatment (treatment amount) of 1W / m 2 / min ~200W / m 2 / min It is described that it is effective (see Patent Document 2). Further, in the lithographic printing plate precursor having a heat-sensitive layer containing carbon black and a polymer binder on the support, and further having a hydrophilic layer or an oleophobic layer on the heat-sensitive layer, the carbon black is oxidized. It is known that the use of such a material has good scratch resistance, printing durability and image reproducibility (see Patent Document 3).
International Publication No. 90/02045 Pamphlet Japanese Patent Laid-Open No. 11-245529 JP 2002-240552 A

しかしながら、上記コロナ放電では、支持体表面に無用なダメージと残渣を生じて支持体と光熱変換層との密着性が劣化し、非画像部がキズ付き、印刷物インキ汚れを起こすことがあった。また、酸化処理カーボンブラックによる耐傷性改良では、まだ効果が不十分であった。   However, in the corona discharge, unnecessary damage and residue are generated on the surface of the support, the adhesion between the support and the photothermal conversion layer is deteriorated, the non-image area is scratched, and the printed product ink may be stained. In addition, the effect of improving the scratch resistance by oxidation-treated carbon black is still insufficient.

本発明の目的は、上記のアブレーションを利用して画像形成を行う水なし平版印刷版原版における上記の課題を解決することであり、現像処理工程、印刷工程等における非画像部のキズ付きを抑制し、印刷物インキ汚れの問題を抑制した水なし平版印刷版原版の製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in a waterless lithographic printing plate precursor that forms an image by utilizing the above-described ablation, and suppresses scratches in a non-image area in a development processing step, a printing step, and the like. And providing a method for producing a waterless lithographic printing plate precursor in which the problem of ink stains on printed matter is suppressed.

本発明者らは鋭意検討の結果、支持体のコロナ放電処理量と、コロナ放電処理してから光熱変換層を設けるまでの時間を規定することが重要であること、またコロナ放電処理によって生成する支持体表面の元素組成が耐傷性には重要であることを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は以下の通りである。
(1)支持体上に、少なくとも光熱変換層及びシリコーンゴム層を順次積層してなる湿し水不要平版印刷版原版の製造方法であって、支持体上に0.01〜0.12kW/m2/分のコロナ放電処理を施してから10分以上1ヶ月以内の経時後に、該コロナ放電処理面上に光熱変換層を直接設けることを特徴とする湿し水不要平版印刷版原版の製造方法。
(2)支持体が、二軸延伸処理したポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする前記(1)に記載の湿し水不要平版印刷版原版の製造方法。
(3)コロナ放電処理量が、0.06〜0.09kW/m2/分であることを特徴とする前記(1)又は(2)に記載の湿し水不要平版印刷版原版の製造方法。
(4)ポリエチレンテレフタレート支持体上に、少なくとも光熱変換層及びシリコーンゴム層を順次積層してなる湿し水不要平版印刷版原版であって、X線光電子分光法(ESCA)で測定した支持体表面の酸素/炭素元素比が0.41以上となるように支持体表面にコロナ放電処理を施した後に、該コロナ放電処理面上に光熱変換層を直接設けたことを特徴とする湿し水不要平版印刷版原版。
(5)光熱変換層が、酸化処理されたカーボンブラックを含有することを特徴とする前記(1)〜(4)のいずれかに記載の湿し水不要平版印刷版原版の製造方法。
(6)光熱変換層中の酸化処理されたカーボンブラックの含有率が、光熱変換層全固形分に対して35質量%以上であることを特徴とする前記(5)に記載の湿し水不要平版印刷版原版の製造方法。
As a result of intensive studies, the present inventors have determined that it is important to define the amount of corona discharge treatment of the support and the time from the corona discharge treatment to the provision of the photothermal conversion layer. The present inventors have found that the elemental composition on the surface of the support is important for scratch resistance and have reached the present invention.
That is, the present invention is as follows.
(1) A method for producing a fountain solution-free lithographic printing plate precursor comprising at least a light-to-heat conversion layer and a silicone rubber layer sequentially laminated on a support, and 0.01 to 0.12 kW / m on the support A method for producing a dampening-free lithographic printing plate precursor, characterized in that a photothermal conversion layer is directly provided on the corona discharge treated surface after a lapse of 10 minutes to 1 month after the corona discharge treatment of 2 / min. .
(2) The method for producing a dampening-free lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the support is polyethylene terephthalate that has been biaxially stretched.
(3) The method for producing a fountain solution-free lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2) above, wherein the corona discharge treatment amount is 0.06 to 0.09 kW / m 2 / min. .
(4) A dampening-free lithographic printing plate precursor obtained by laminating at least a photothermal conversion layer and a silicone rubber layer on a polyethylene terephthalate support, and the support surface measured by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) A dampening solution is unnecessary, characterized in that a photothermal conversion layer is directly provided on the corona discharge treatment surface after the support surface is subjected to a corona discharge treatment so that the oxygen / carbon element ratio of the water is 0.41 or more A lithographic printing plate precursor.
(5) The method for producing a dampening-free lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (4) above, wherein the photothermal conversion layer contains oxidized carbon black.
(6) The dampening solution is unnecessary according to (5) above, wherein the content of oxidized carbon black in the photothermal conversion layer is 35% by mass or more based on the total solid content of the photothermal conversion layer A method for producing a lithographic printing plate precursor.

一般に、コロナ放電処理の後、コロナ放電によって支持体表面に生成した水酸基やカルボン酸基などを含む高エネルギー表面に徐々に疎水性物質が付着することによって表面エネルギ−が低下することは良く知られている。ところが、本発明者らは、支持体のコロナ放電処理の直後に光熱変換層を設けた平版印刷版原版より、10分以上経ってから光熱変換層を設けたものの方が、コロナ放電処理が有効に作用し、耐傷性が良好であることを見出した。この理由は、まだ明確にはできていないが、コロナ放電処理直後は支持体表面にラジカル種など極めて反応性の高い活性種が存在していて、この状態で光熱変換層を設け
ると光熱変換層中の例えばバインダーなどと活性種とが反応して一部分解してしまうことがあり、これが耐傷性に不利に作用すると考えられる。また本発明者らは、コロナ放電処理によって生成する支持体表面の元素組成が耐傷性には重要であることを見出した。
支持体のコロナ放電処理後、上記発明の経時期間内に光熱変換層を設けることによって、あるいは、コロナ放電処理によって生成する支持体表面の元素組成を特定することによって、支持体と光熱変換層との密着性を効率よく向上させることが可能となって、本発明の目的である非画像部の耐傷性を良化させることが達成できた。
In general, it is well known that after a corona discharge treatment, the surface energy is lowered by gradually adhering a hydrophobic substance to a high energy surface containing a hydroxyl group or a carboxylic acid group generated on the support surface by corona discharge. ing. However, the inventors of the present invention are more effective in the case where the photothermal conversion layer is provided after 10 minutes or more than the planographic printing plate precursor provided with the photothermal conversion layer immediately after the corona discharge treatment of the support. It was found that the scratch resistance was good. The reason for this has not been clarified yet, but immediately after the corona discharge treatment, active species such as radical species are present on the support surface, and if a photothermal conversion layer is provided in this state, the photothermal conversion layer is provided. Among them, for example, a binder and the active species may react and partially decompose, which is considered to adversely affect the scratch resistance. The present inventors have also found that the elemental composition on the surface of the support produced by the corona discharge treatment is important for scratch resistance.
After the corona discharge treatment of the support, by providing a photothermal conversion layer within the time period of the above invention, or by specifying the elemental composition of the support surface generated by the corona discharge treatment, the support and the photothermal conversion layer It was possible to efficiently improve the adhesion of the non-image area, which is the object of the present invention.

本発明によれば、レーザー光照射及び露光部のシリコーンゴム層除去による画像パターン形成を行い、印刷する態様において、非画像部のキズによるインキ汚れのない印刷が可能である水なし平版印刷版原版の製造方法を提供できる。   According to the present invention, a waterless lithographic printing plate precursor capable of printing without causing ink stains due to scratches in a non-image part in a printing mode in which an image pattern is formed by laser beam irradiation and removal of a silicone rubber layer in an exposed part. Can be provided.

本発明の製造方法による水なし平版印刷版原版は、ロール形態で印刷機版胴内に装着し、画像形成表面が表側になるように版胴上に供給し、印刷機上でデジタル信号に基づいて赤外線レーザー光による画像の走査露光による像パターンの形成及び平版印刷版の製版を行い、その同じ印刷機でその印刷版を用いて印刷する態様においても、現像処理工程や印刷工程における非画像部キズ付き起因によるインキ汚れが抑制された印刷が可能である。   A waterless planographic printing plate precursor according to the production method of the present invention is mounted in a printing press plate cylinder in a roll form, and is supplied onto the printing drum so that the image forming surface is on the front side, and based on a digital signal on the printing press. In an embodiment in which an image pattern is formed by scanning exposure of an image with an infrared laser beam and a lithographic printing plate is made, and printing is performed using the printing plate with the same printing machine, a non-image portion in a development process or a printing process Printing with suppressed ink stains due to scratches is possible.

以下に、本発明の水なし平版印刷版原版の製造方法を詳しく説明する。
本発明に係る水なし平版印刷版原版は、支持体上に、少なくとも、光熱変換層及びシリコーンゴム層を順次積層するものである。ここで、順次積層とは、これらの層が上記の順に積層されていることを指し、他の層、例えば、オーバーコート層、中間層など他の層の存在を否定するものではないが、光熱変換層は支持体上に直接設けられる。また、該光熱変換層及びシリコーンゴム層と反対面の支持体上にバック層を有していてもよい。
Below, the manufacturing method of the waterless planographic printing plate precursor of this invention is demonstrated in detail.
The waterless planographic printing plate precursor according to the present invention is obtained by sequentially laminating at least a photothermal conversion layer and a silicone rubber layer on a support. Here, “sequential lamination” means that these layers are laminated in the above order, and does not deny the existence of other layers such as an overcoat layer and an intermediate layer. The conversion layer is provided directly on the support. Further, a back layer may be provided on the support opposite to the photothermal conversion layer and the silicone rubber layer.

まず、本発明の特徴である支持体及びそのコロナ放電処理について説明する。   First, the support and its corona discharge treatment, which are the features of the present invention, will be described.

〔支持体〕
本発明の水なし平版印刷版原版に用いられる支持体は、通常の印刷機にセットできる程度のたわみ性を有し、同時に印刷時にかかる荷重に耐えるものでなければならない。従って、代表的な支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、フッ素樹脂、ポリカーボネート、ポリアセテート、ポリアミド、ポリイミド等のプラスチックフイルム、及びそれらと紙や金属、合金を複合させたもの(例えば、紙の上下をポリエチレンで挟んだコート紙や、アルミニウム上にポリエチレンテレフタレートを積層させたもの)を用いることができるが、これらに限定されるものではない。また、プラスチックフイルムは、未延伸、一軸延伸、あるいは二軸延伸のいずれであってもよく、好ましくはポリエチレンレレフタレートフィルム、さらに好ましくは二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイルムである。このポリエチレンテレフタレートフイルムには、特開平9−314794号公報に記載されているように、空洞を含有させたものを使用することができる。
[Support]
The support used for the waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention must be flexible enough to be set on a normal printing press and can withstand the load applied during printing. Therefore, typical supports include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, fluororesin, polycarbonate, polyacetate and polyamide. , Using a plastic film such as polyimide, and a composite of these with paper, metal, or alloy (for example, coated paper in which the upper and lower sides of the paper are sandwiched with polyethylene or polyethylene terephthalate laminated on aluminum) However, it is not limited to these. The plastic film may be any of unstretched, uniaxially stretched, or biaxially stretched, preferably a polyethylene terephthalate film, more preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film. As this polyethylene terephthalate film, a film containing a cavity can be used as described in JP-A-9-314794.

本発明においては、これらの支持体の光熱変換層及びシリコーンゴム層を積層する側の表面にコロナ放電処理を施すことが必須である。コロナ放電処理の処理量は、一般に単位面積及び単位時間当たりの放電量で表される。本発明における実用的な範囲は、0.01〜0.12kW/m2/分であり、好ましくは0.06〜0.09kW/m2/分である。0.01kW/m2/分未満では耐傷性に対して有効な効果が得られない。また、0.12kW/m2/分を超えると支持体に対する無用なダメージを起こしやすくなる。
しかしながら、同じコロナ放電処理量で処理した支持体でも、コロナ放電処理後の経時によって、コロナ放電処理の効果が変化してしまう。本発明の製造方法の一つの態様では、支持体のコロナ放電処理後、10分以上1ヶ月以内に光熱変換層を設ける。支持体のコロナ放電処理の後、光熱変換層を設けるまでの経時時間のより好ましい範囲は30分以上1週間以内であり、更に好ましくは1時間以上3日以内である。経時時間が10分未満または1ヶ月超では耐傷性に対して有効な効果が得られない。
これによって、支持体と光熱変換層との密着性を効率よく向上させることが可能となって、本発明の目的である非画像部の耐傷性を良化させることが達成できる。
In the present invention, it is essential to perform corona discharge treatment on the surface of the support on the side where the photothermal conversion layer and the silicone rubber layer are laminated. The amount of corona discharge treatment is generally expressed as a discharge amount per unit area and unit time. The practical range in the present invention is 0.01 to 0.12 kW / m 2 / min, preferably 0.06 to 0.09 kW / m 2 / min. If it is less than 0.01 kW / m 2 / min, an effective effect on scratch resistance cannot be obtained. Moreover, when it exceeds 0.12 kW / m < 2 > / min, it will become easy to cause an unnecessary damage with respect to a support body.
However, even with a support treated with the same corona discharge treatment amount, the effect of the corona discharge treatment changes with time after the corona discharge treatment. In one embodiment of the production method of the present invention, the photothermal conversion layer is provided within 10 minutes to 1 month after the corona discharge treatment of the support. A more preferable range of the elapsed time until the photothermal conversion layer is provided after the corona discharge treatment of the support is from 30 minutes to 1 week, more preferably from 1 hour to 3 days. If the elapsed time is less than 10 minutes or more than 1 month, an effective effect on scratch resistance cannot be obtained.
This makes it possible to efficiently improve the adhesion between the support and the light-to-heat conversion layer, and to improve the scratch resistance of the non-image area, which is the object of the present invention.

コロナ放電処理後の支持体を上記期間経時させるためには、コイル状の支持体をウェブ状にハンドリングしながらコロナ放電処理を施し、これを巻き取った状態で経時させることが、生産性やコンタミ付着防止の観点から好ましい。またこのときの温湿度環境は5〜45℃、25〜75%RHであることが好ましい。   In order to allow the support after the corona discharge treatment to elapse for the above period, it is necessary to perform the corona discharge treatment while handling the coiled support in the form of a web, and to let it elapse in the state of being wound, in order to improve productivity and contamination. It is preferable from a viewpoint of adhesion prevention. Moreover, it is preferable that the temperature / humidity environment at this time is 5-45 degreeC and 25-75% RH.

また本発明の別の態様においては、ポリエチレンテレフタレート表面のX線光電子分光法(ESCA)で測定した酸素/炭素元素比(以下ではO/C元素比と略記する。)が0.41以上となるようにコロナ放電処理することによって本発明の目的を達成し得る。より好ましくはO/C元素比が0.45以上である。ここで用いられるESCAとはXPSとも呼び、超高真空下におかれた固体表面に軟X線を照射し、光電効果により表面から放出される光電子の運動エネルギーを測定する分析手法であって、光電子の脱出深さが数nmであることから、固体最表面に近い層を構成する原子や分子に関する情報が得られるものである。即ち支持体上に設けた層との密着性に極めて影響の大きい支持体最表面の元素組成情報が得られる。   In another aspect of the present invention, the oxygen / carbon element ratio (hereinafter abbreviated as O / C element ratio) measured by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) on the surface of polyethylene terephthalate is 0.41 or more. Thus, the object of the present invention can be achieved by performing the corona discharge treatment. More preferably, the O / C element ratio is 0.45 or more. ESCA used here is also called XPS, and is an analytical technique for measuring the kinetic energy of photoelectrons emitted from a surface by irradiating soft X-rays on a solid surface placed in an ultra-high vacuum, Since the escape depth of the photoelectrons is several nm, information on atoms and molecules constituting a layer close to the outermost surface of the solid can be obtained. That is, element composition information on the outermost surface of the support that has a great influence on the adhesion to the layer provided on the support can be obtained.

コロナ放電処理によって支持体表面の元素組成を上記の範囲にすることで、非画像部の耐傷性が向上する。これは、コロナ放電処理によってポリエチレンテレフタレートのような支持体表面上に水酸基やカルボン酸基が生成して極性が高くなり光熱変換層との相互作用が強くなって密着性が向上したためと推定している。この効果は、後述する酸化処理したカ−ボンブラックを含有した光熱変換層との組合せで更に向上する。   By setting the elemental composition on the surface of the support to the above range by corona discharge treatment, the scratch resistance of the non-image area is improved. This is presumed that the corona discharge treatment produced hydroxyl groups and carboxylic acid groups on the surface of the support such as polyethylene terephthalate, which increased the polarity and increased the interaction with the photothermal conversion layer, thereby improving the adhesion. Yes. This effect is further improved by a combination with a photothermal conversion layer containing an oxidized carbon black described later.

本発明に用いられる支持体の厚さは25μmから3mm、好ましくは75μmから500μmが適当であるが、印刷条件により最適な厚さは変動する。一般には100μmから300μmが最も好ましい。   The thickness of the support used in the present invention is 25 μm to 3 mm, preferably 75 μm to 500 μm, but the optimum thickness varies depending on the printing conditions. In general, the thickness is most preferably from 100 μm to 300 μm.

〔光熱変換層〕
本発明に用いられる光熱変換剤としては、書き込みに使用されるレーザー光を熱に変換(光熱変換)する機能を有する公知の物質が使用可能であり、レーザー光源を赤外線レーザーとした場合、赤外線吸収顔料、赤外線吸収色素、赤外線吸収性金属、赤外線吸収金属酸化物等、書込レーザーに使用する波長の光を吸収する各種の有機及び無機材料が使用可能であることが従来から知られている。これらの光熱変換剤は、バインダー、添加剤など他の成分との混合膜の形態で使用されてもよい。
(Photothermal conversion layer)
As the photothermal conversion agent used in the present invention, a known substance having a function of converting laser light used for writing into heat (photothermal conversion) can be used. When the laser light source is an infrared laser, infrared absorption is possible. It has been conventionally known that various organic and inorganic materials that absorb light having a wavelength used for a writing laser, such as pigments, infrared absorbing dyes, infrared absorbing metals, and infrared absorbing metal oxides, can be used. These photothermal conversion agents may be used in the form of mixed films with other components such as binders and additives.

このような光熱変換剤の例としては、酸性カーボンブラック、塩基性カーボンブラック、中性カーボンブラックなど各種カーボンブラック、分散性改良等のために表面修飾もしくは表面コートされた各種カーボンブラック、ニグロシン類、アニリンブラック、シアニンブラック等の黒色顔料、フタロシアニン、ナフタロシアニン系の緑色顔料、カーボングラファイト、アルミニウム、鉄粉、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯体、フェノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノール系金属錯体、アリールアルミニウム金属塩類、結晶水含有無機化合物、硫酸銅、硫化クロム、珪酸塩化合物や、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化タングステン、インジウムスズ
酸化物等の金属酸化物等、これらの金属の水酸化物、硫酸塩、更にビスマス、スズ、テルル、鉄、アルミニウムの金属粉等の添加剤を添加することが好ましい。
Examples of such photothermal conversion agents include various carbon blacks such as acidic carbon black, basic carbon black, and neutral carbon black, various carbon blacks that have been surface-modified or surface-coated for improving dispersibility, nigrosines, Black pigments such as aniline black and cyanine black, phthalocyanine, naphthalocyanine green pigment, carbon graphite, aluminum, iron powder, diamine metal complex, dithiol metal complex, phenolthiol metal complex, mercaptophenol metal complex, aryl Aluminum metal salts, crystal water-containing inorganic compounds, copper sulfate, chromium sulfide, silicate compounds, metal oxides such as titanium oxide, vanadium oxide, manganese oxide, iron oxide, cobalt oxide, tungsten oxide, indium tin oxide, etc. this Hydroxides of metals, sulfates, further bismuth, tin, tellurium, iron, adding an additive such as metal powder of aluminum preferred.

この他にも、有機色素として「赤外増感色素」(松岡著 Plenum Press ,New York,NY(1990))、米国特許第4833124号、欧州特許第321923号、米国特許第4772583号、米国特許第4942141号、米国特許第4948776号、米国特許第4948777号、米国特許第4948778号、米国特許第4950639号、米国特許第4912083号、米国特許第4952552号、米国特許第5023229号等の明細書に記載の各種化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。   In addition to these, "infrared sensitizing dye" (Matsuoka, Plenum Press, New York, NY (1990)), US Pat. No. 4,833,124, European Patent 321923, US Pat. No. 4,772,583, US Patent No. 4942141, US Pat. No. 4,948,776, US Pat. No. 4,948,777, US Pat. No. 4,948,778, US Pat. No. 4,950,639, US Pat. No. 4,912,083, US Pat. No. 4,952,552, US Pat. Examples include various compounds described above, but are not limited thereto.

これらの中でも、光熱変換率、経済性、及び取り扱い性の面からカーボンブラックが特に好ましい。カーボンブラックには、その製造方法から、ファーネスブラック、ランプブラック、チャンネルブラック、ロールブラック、ディスクブラック、サーマルブラック、アセチレンブラック等に分類されるが、ファーネスブラックは粒径その他の面で様々なタイプのものが市販されており、商業的にも安価であるため、好ましく使用される。カーボンブラックは、その1次粒子の凝集度合いが版材感度に影響を及ぼす。カーボンブラックの1次粒子の凝集度合いが高い(ハイストラクチャー構造を有する)と、同じ添加量で比較した場合、版材の黒色度が上がらず、そのためにレーザー光の吸収率が低下し結果的に感度が低下してしまう。また、その粒子凝集のために光熱変換層塗布液の粘度が高くなったりチキソトロピー性を帯びてきたりして、塗布液の取り扱いが困難になり、塗布膜が均一にならなくなる。一方、凝集度合いが低い場合にはカーボンブラックの分散性が低下し、やはり版材感度が低下しやすくなる。このカーボンブラックの1次粒子の凝集度合いは、吸油量という値で比較することができ、吸油量が高いほど凝集の度合いは高くなり、吸油量が低くなるにつれて凝集の度合いは低くなる。即ち、吸油量が20〜300ml/100gの範囲にあるカーボンブラックを用いることが好ましく、より好ましくは50〜200ml/100gである。   Among these, carbon black is particularly preferable from the viewpoints of photothermal conversion, economic efficiency, and handleability. Carbon black is classified into furnace black, lamp black, channel black, roll black, disk black, thermal black, acetylene black, etc., depending on its manufacturing method. Furnace black is a different type of particle size and other aspects. Since it is commercially available and is commercially inexpensive, it is preferably used. In carbon black, the degree of aggregation of primary particles affects the sensitivity of the plate material. When the degree of aggregation of the primary particles of carbon black is high (having a high structure structure), when compared with the same addition amount, the blackness of the plate material does not increase, resulting in a decrease in the absorption rate of the laser beam. Sensitivity will decrease. Moreover, the viscosity of the photothermal conversion layer coating solution becomes high or thixotropic due to the particle aggregation, making it difficult to handle the coating solution, and the coating film is not uniform. On the other hand, when the degree of aggregation is low, the dispersibility of the carbon black is lowered and the plate material sensitivity is likely to be lowered. The degree of aggregation of the primary particles of the carbon black can be compared by the value of the oil absorption amount. The higher the oil absorption amount, the higher the aggregation degree, and the lower the oil absorption amount, the lower the aggregation degree. That is, it is preferable to use carbon black having an oil absorption of 20 to 300 ml / 100 g, more preferably 50 to 200 ml / 100 g.

またカーボンブラックは、様々な粒径のものが市販されており、この1次粒子の粒径も版材感度に影響を及ぼす。1次粒子の平均粒子径が小さすぎる場合には、光熱変換層自体が透明性を帯びてきてレーザー光を効率よく吸収できなくなり版材感度が低下する。また大きすぎる場合には、粒子が高密度に分散されずに光熱変換層の黒色度が上がらずレーザー光を効率よく吸収できなくなり、やはり版材感度が低下する。即ち、1次粒子の平均粒子径で、10〜50nmの範囲にあるカーボンブラックを用いることが好ましく、より好ましくは15〜45nmである。   Carbon blacks having various particle sizes are commercially available, and the particle size of the primary particles also affects the plate material sensitivity. When the average particle diameter of the primary particles is too small, the photothermal conversion layer itself becomes transparent and cannot absorb the laser light efficiently, so that the plate material sensitivity is lowered. On the other hand, if the particle size is too large, the particles are not dispersed at a high density, the blackness of the photothermal conversion layer does not increase, and the laser beam cannot be absorbed efficiently, and the plate material sensitivity also decreases. That is, it is preferable to use carbon black having an average particle diameter of primary particles in the range of 10 to 50 nm, and more preferably 15 to 45 nm.

また、導電性カーボンブラックを使用することにより、版材感度を向上させることができる。このときの電気伝導度は、0.01〜100Ω-1cm-1の範囲にあることが好ましく、より好ましくは0.1〜10Ω-1cm-1である。具体的には、“CONDUCTEX”40−220、“CONDUCTEX”975BEADS、“CONDUCTEX”900BEADS、“CONDUCTEX”SC、“BATTERY BLACK”(コロンビヤンカーボン日本(株)製)、#3000(三菱化学(株)製)、“デンカブラック”(電気化学工業(株)製)、“VULCAN XC−72R”(キャボット社製)等がより好ましく使用される。 Further, by using conductive carbon black, it is possible to improve plate material sensitivity. Electrical conductivity of this time is preferably in the range of 0.01~100Ω -1 cm -1, more preferably 0.1~10Ω -1 cm -1. Specifically, “CONDUCTEX” 40-220, “CONDUCTEX” 975BEADS, “CONDUCTEX” 900BEADS, “CONDUCTEX” SC, “BATTERY BLACK” (manufactured by Colombian Carbon Japan Co., Ltd.), # 3000 (Mitsubishi Chemical Corporation) Manufactured by Denka Black) (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), VULCAN XC-72R (manufactured by Cabot Corporation), and the like are more preferably used.

これらカーボンブラックのうち、本発明においては特に酸化処理されたカーボンブラックが有効である。この酸化処理されたカーボンブラックとしては公知のものが使用できる。例えば、特開昭48−18186号公報、特公昭52−2874号公報、特開昭57−15856号公報、特公昭46−18368号公報、特公昭52−13807号公報、特公昭52−13808号公報、特開平3−124773号公報、特開平8−3498号公
報、特開平7−258578号公報、特開平10−195331号公報、特開平10−212425号公報、特開平10−212426号公報、特開平10−237349号公報、特開平10−330643号公報、特開平11−166131号公報、特開2000−7937号公報、特開2000−7938号公報、特開平5−171056号公報、特開平8−199086号公報、特開平9−304760号公報、特開平9−194775号公報等に記載の酸化処理されたカーボンブラックが挙げられる。
Of these carbon blacks, oxidized carbon black is particularly effective in the present invention. A well-known thing can be used as this oxidized carbon black. For example, JP-A-48-18186, JP-B-52-2874, JP-A-57-15856, JP-B-46-18368, JP-B-52-13807, JP-B-52-13808 JP-A-3-124773, JP-A-8-3498, JP-A-7-258578, JP-A-10-195331, JP-A-10-212425, JP-A-10-212426, JP-A-10-237349, JP-A-10-330634, JP-A-11-166131, JP-A 2000-7937, JP-A 2000-7938, JP-A-5-171056, JP-A-5-171056 The oxidation treatment described in JP-A-8-199086, JP-A-9-304760, JP-A-9-194775, etc. Over carbon black and the like.

酸化処理されたカーボンブラックは、種々の前記カーボンブラックに酸化処理を施すことによって得られる。酸化処理を施す方法としては、高温雰囲気下で、空気と接触・反応させる空気酸化処理法や、窒素酸化物、オゾン、酸化硫黄ガスやフッ素ガスと反応させる方法等の気相酸化法(プラズマ処理も含む)、並びに、硝酸、過マンガン酸カリ、亜塩素酸、次亜塩素酸ソーダ、臭素水溶液、オゾン水溶液、過酸化水素等を用いる液相酸化法等が挙げられ、これらを単独あるいは、2種以上組み合わせることにより、酸化処理が達成される。上記酸化処理を施すことにより、原料のカーボンブラックの表面に存在するカルボニル基、カルボキシル基、水酸基等の酸素官能基が増大する。   Oxidized carbon black can be obtained by subjecting various carbon blacks to oxidation treatment. As a method for performing the oxidation treatment, a gas phase oxidation method (plasma treatment) such as an air oxidation treatment method in which contact is made with air in a high temperature atmosphere and a reaction method with nitrogen oxide, ozone, sulfur oxide gas or fluorine gas. Liquid phase oxidation method using nitric acid, potassium permanganate, chlorous acid, sodium hypochlorite, bromine aqueous solution, ozone aqueous solution, hydrogen peroxide, etc. Oxidation treatment is achieved by combining more than one species. By performing the oxidation treatment, oxygen functional groups such as a carbonyl group, a carboxyl group, and a hydroxyl group existing on the surface of the raw material carbon black increase.

これらの酸化処理の程度はカーボンブラックのpH及び揮発分の値が指標となり、本発明の酸化処理されたカーボンブラックの場合、pHは、6.5以下であることが好ましく、より好ましくは、2〜4であり、揮発分は、1質量%以上が好ましく、より好ましくは、1.5〜15質量%である。ここで、pH値は、カーボンブラックと蒸留水の混合液をガラス電極メーターで測定することにより求められる。また、揮発分の値は、カーボンブラックを950℃で、7分間加熱した時の減少質量を、パーセント表示することにより求められる。これらの酸化されたカーボンブラックは、1種単独で用いても、2種以上を併用して用いても良い。本発明における効果は、光熱変換層における酸化処理されたカーボンブラックの含有量が多い領域において特に有効である。   The degree of these oxidation treatments is indicated by the pH and volatile value of carbon black. In the case of the carbon black subjected to oxidation treatment of the present invention, the pH is preferably 6.5 or less, more preferably 2 The volatile content is preferably 1% by mass or more, and more preferably 1.5 to 15% by mass. Here, pH value is calculated | required by measuring the liquid mixture of carbon black and distilled water with a glass electrode meter. Moreover, the value of volatile matter is calculated | required by displaying the reduced mass when carbon black is heated at 950 degreeC for 7 minute (s) as a percentage display. These oxidized carbon blacks may be used alone or in combination of two or more. The effect of the present invention is particularly effective in a region where the content of oxidized carbon black in the photothermal conversion layer is large.

本発明に用いられる酸化処理したカーボンブラックとしては、市販品を用いることもできる。
具体例として下記製品が挙げられる。
三菱化学(株)製カーボンブラック、#50、#2700B、#2650、#2450B、#2400B、#2350、#1000、#970、#3030B、#3230B、MA−11、MA−220、MA−230、MA−77、MA−7、MA−8、MA−100R、MA−200RB、MA−14。
CABOT社製MONARCH 1300、MOGUL L、REGAL 400R、VULCAN XC−72R。
DEGUSSA社製COLOR BLACK FW200、COLOR BLACK FW2、COLOR BLACK FW1、COLOR BLACK FW18、COLOR BLACK S170、COLOR BLACK S160、SPECIAL BLACK 550、SPECIAL BLACK 350、SPECIAL BLACK
250、SPECIAL BLACK 100、PRINTEX 150T、PRINTEX U、PRINTEX V、PRINTEX 140U、PRINTEX 140V。
Commercially available products can also be used as the oxidized carbon black used in the present invention.
Specific examples include the following products.
Carbon black manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, # 50, # 2700B, # 2650, # 2450B, # 2400B, # 2350, # 1000, # 970, # 3030B, # 3230B, MA-11, MA-220, MA-230 MA-77, MA-7, MA-8, MA-100R, MA-200RB, MA-14.
MONARCH 1300, MOGUL L, REGAL 400R, VULCAN XC-72R manufactured by CABOT.
COLOR BLACK FW200, COLOR BLACK FW2, COLOR BLACK FW1, COLOR BLACK FW18, COLOR BLACK S170, COLOR BLACK S160, SPECIAL BLACK 550, SPECIAL BLACK 350, SPECIAL BLACK ACK, manufactured by DEGUSSA
250, SPECIAL BLACK 100, PRINTEX 150T, PRINTEX U, PRINTEX V, PRINTEX 140U, PRINTEX 140V.

本発明に用いられる光熱変換剤の添加量は、光熱変換層の総固形分質量に対して好ましくは10質量%以上、特に好ましくは35質量%以上であり、範囲として好ましくは10〜70質量%、より好ましくは20〜60質量%、さらに好ましくは35質量%〜50質量%である。この範囲で、光熱変換層の膜強度が低下せず、隣接する層との密着性も低下せずに良好な感度が得られる。   The addition amount of the photothermal conversion agent used in the present invention is preferably 10% by mass or more, particularly preferably 35% by mass or more, and preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid mass of the photothermal conversion layer. More preferably, it is 20-60 mass%, More preferably, it is 35 mass%-50 mass%. Within this range, the film strength of the light-to-heat conversion layer does not decrease, and good sensitivity can be obtained without decreasing the adhesion with an adjacent layer.

光熱変換層が単独膜である場合には、アルミニウム、チタン、テルル、クロム、錫、イ
ンジウム、ビスマス、亜鉛、鉛等の金属、これらの合金、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物、金属ホウ化物、金属フッ化物及び有機色素等の少なくとも一種を含有する膜を蒸着法又はスパッタリング法等により支持体上に形成させることができる。
When the photothermal conversion layer is a single film, metals such as aluminum, titanium, tellurium, chromium, tin, indium, bismuth, zinc, lead, alloys thereof, metal oxides, metal carbides, metal nitrides, metal borons A film containing at least one of chemical compounds, metal fluorides, and organic dyes can be formed on the support by vapor deposition or sputtering.

また、光熱変換層が混合膜である場合には、光熱変換剤をバインダーに溶解又は分散して他の成分と共に塗布法により形成することができる。前記バインダーには光熱変換剤を溶解又は分散する公知のバインダーが使用され、その例としては、セルロース、ニトロセルロース及びエチルセルロース等のセルロース誘導体類、アクリル酸エステルの単独重合体及び共重合体、ポリメチルメタクリレート及びポリブチルメタクリレート等のメタクリル酸エステルの単独重合体及び共重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマーの単独重合体及び共重合体、ポリイソプレン及びスチレン−ブタジエン共重合体等の各種合成ゴム類、ポリ酢酸ビニル等のビニルエステル類の単独重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体等のビニルエステル含有の共重合体、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル及びポリカーボネート等の縮合系各種ポリマー、並びに「J.Imaging Sci.,P59−64,30(2),(1986)(Frechetら)」、「Polymers in Electronics(Symposium Series,P11,242,T.Davidson,Ed.,ACS Washington,DC(1984)(Ito,Willson))及び「Microelectronic Engineering,P3−10,13(1991)(E.Reichmanis,L.F.Thompson)」に記載のいわゆる「化学増幅系」に使用されるバインダー等が挙げられる。   When the photothermal conversion layer is a mixed film, the photothermal conversion agent can be dissolved or dispersed in a binder and formed together with other components by a coating method. Known binders that dissolve or disperse the photothermal conversion agent are used as the binder. Examples thereof include cellulose derivatives such as cellulose, nitrocellulose, and ethylcellulose, homopolymers and copolymers of acrylate esters, polymethyl, and the like. Homopolymers and copolymers of methacrylic esters such as methacrylate and polybutyl methacrylate, homopolymers and copolymers of styrene monomers such as acrylic ester-methacrylic ester copolymers, polystyrene, α-methylstyrene, Various synthetic rubbers such as polyisoprene and styrene-butadiene copolymer, homopolymers of vinyl esters such as polyvinyl acetate, vinyl ester-containing copolymers such as vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, polyurea, polyurethane , Polyester & polycar Various condensate polymers such as Nate, “J. Imaging Sci., P59-64, 30 (2), (1986) (Frechet et al.)”, “Polymers in Electronics (Symposium Series, P11, 242, T. Davidson, Ed., ACS Washington, DC (1984) (Ito, Willson)) and “Microelectronic Engineering, P3-10, 13 (1991) (E. Reichmanis, L. F. Thompson)”. And binders used in the above.

その中でも、後述のシリコーンゴム層との密着性の観点から、ポリウレタン樹脂が好ましい。光熱変換層に使用されるポリウレタン樹脂は、ジイソシアネート化合物とジオール化合物との重付加反応により得ることができる。ジイソシアネート化合物としては例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−(2,2−ジフェニルプロパン)ジイソシアネート、1、5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4(又は2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の如き脂環族ジイソシアネート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が挙げられる。   Among these, a polyurethane resin is preferable from the viewpoint of adhesion to the silicone rubber layer described later. The polyurethane resin used for the photothermal conversion layer can be obtained by a polyaddition reaction of a diisocyanate compound and a diol compound. Examples of the diisocyanate compound include 2,4-tolylene diisocyanate, dimer of 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4 ′. -Aromatic diisocyanate compounds such as diphenylmethane diisocyanate, 4,4 '-(2,2-diphenylpropane) diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate; Aliphatic diisocyanate compounds such as methylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, dimer acid diisocyanate; isophorone diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexane Silisocyanate), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6) diisocyanate, 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane, and the like; 1 mol of 1,3-butylene glycol and 2 mol of tolylene diisocyanate And a diisocyanate compound which is a reaction product of a diol and a diisocyanate such as an adduct of

また、ジオール化合物としては例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−ジプロピレングリコール、1,2−トリプロピレングリコール、1,2−テトラプロピレングリコール、1,3−ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,3−ジブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、ビスフェノールA、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、ビスフェノールS、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、2,2’−ジメチロールプロパン酸、ビス(2−ヒドロキシエチル)−2,4−トリレンジカルバメート、2,4−トリレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)
、ビス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカルバメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート等が挙げられる。更にこれらのジオール化合物の縮合反応で得られるポリエーテルや、アジピン酸やテレフタル酸のようなジカルボン酸化合物と上記ジオール化合物の縮合反応で得られるポリエステルジオールも挙げることができる。また、これらのポリウレタン樹脂はその合成時にジアミン化合物やヒドラジンもしくはヒドラジン誘導体のような鎖連結剤を用いてもよい。
Examples of the diol compound include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, 1,2-dipropylene glycol, 1,2-tripropylene glycol, 1,2-tetrapropylene glycol. 1,3-dipropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,3-dibutylene glycol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 2-butene-1,4-diol, 2, 2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,4-bis-β-hydroxyethoxycyclohexane, cyclohexanedimethanol, tricyclodecane dimethanol, bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, bisphenol S, hydroquinone dihydroxyethyl ether, p-xylylene glycol, dihydroxyethyl sulfone, 2,2′-dimethylolpropanoic acid, bis (2-hydroxyethyl) -2,4-tolylene dicarbamate 2,4-Tolylene-bis (2-hydroxyethylcarbamide)
Bis (2-hydroxyethyl) -m-xylylene dicarbamate, bis (2-hydroxyethyl) isophthalate, and the like. Furthermore, the polyether obtained by the condensation reaction of these diol compounds, and the polyester diol obtained by the condensation reaction of dicarboxylic acid compounds, such as adipic acid and terephthalic acid, and the said diol compound can also be mentioned. These polyurethane resins may use a chain linking agent such as a diamine compound, hydrazine, or a hydrazine derivative at the time of synthesis.

特に、特開2001−188339号公報や特開2002−144749号公報に開示されているポリウレタンが感度や感材の保存安定性の観点から極めて良好に使用される。   In particular, polyurethanes disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-188339 and 2002-144749 are used extremely well from the viewpoints of sensitivity and storage stability of the light-sensitive material.

本発明の光熱変換層に用いられる上記バインダーの添加量は、高熱変換剤全固形分の10〜95質量%が好ましく、より好ましくは40〜80質量%である。   The amount of the binder used in the photothermal conversion layer of the present invention is preferably 10 to 95% by mass, more preferably 40 to 80% by mass based on the total solid content of the high heat conversion agent.

光熱変換層を混合膜として形成する場合には、光熱変換層の機械的強度を向上させたり、レーザー記録感度を向上させたり、光熱変換層中の光熱変換剤等の分散性を向上させたり、光熱変換層に隣接する層に対する密着性を向上させる等種々の目的に応じて光熱変換層に各種の添加剤を添加することができる。
例えば、光熱変換層の機械的強度を向上させるために、光熱変換層を硬化させる各種の架橋剤を添加してもよい。この架橋剤としては、例えば、多官能イソシアネート化合物もしくは多官能エポキシ化合物等と、水酸基含有化合物、カルボン酸化合物、チオール系化合物、アミン系化合物、尿素系化合物等との組合せが挙げられるが、これに限定されるものではない。本発明に用いられる架橋剤の添加量は、全光熱変換層組成物に対して1〜50質量%であり、好ましくは、2〜20質量%である。添加量が1質量%以上とすることで架橋の効果が現れ、50質量%以下とすることにより光熱変換層の膜強度が強くなりすぎず、シリコーンゴム層に外圧がかかったときのショックアブソーバー効果が無くならず、耐傷性が低化しない。
When forming the photothermal conversion layer as a mixed film, improve the mechanical strength of the photothermal conversion layer, improve the laser recording sensitivity, improve the dispersibility of the photothermal conversion agent in the photothermal conversion layer, Various additives can be added to the photothermal conversion layer according to various purposes such as improving adhesion to a layer adjacent to the photothermal conversion layer.
For example, in order to improve the mechanical strength of the photothermal conversion layer, various crosslinking agents that cure the photothermal conversion layer may be added. Examples of the crosslinking agent include a combination of a polyfunctional isocyanate compound or a polyfunctional epoxy compound and a hydroxyl group-containing compound, a carboxylic acid compound, a thiol compound, an amine compound, a urea compound, and the like. It is not limited. The addition amount of the crosslinking agent used for this invention is 1-50 mass% with respect to the total photothermal conversion layer composition, Preferably, it is 2-20 mass%. When the addition amount is 1% by mass or more, the effect of crosslinking appears, and when it is 50% by mass or less, the film strength of the photothermal conversion layer does not become too strong, and the shock absorber effect when external pressure is applied to the silicone rubber layer Will not disappear and scratch resistance will not be reduced.

また、レーザー記録感度を向上させるために、加熱により分解しガスを発生する公知の化合物を添加することができる。この場合には光熱変換層の急激な体積膨張によりレーザー記録感度が向上でき、これらの添加剤の例としては、ジニチロペンタメチレンテトラミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジニトロソテレフタルアミド、p−トルエンスルホニルヒドラジド、4、4−オキシビス(ベンゼンスルホニルヒドラジド)、ジアミドベンゼン等を使用することができる。また、レーザー記録感度を向上させるために、各種のヨードニウム塩、スルフォニウム塩、フォスフォニウムトシレート、オキシムスルフォネート、ジカルボジイミドスルフォネート、トリアジン等、加熱により分解し酸性化合物を生成する熱酸発生剤の公知の化合物を添加剤として使用することができる。これらを化学増幅系バインダーと併用することにより、光熱変換層の構成物質となる化学増幅系バインダーの分解温度を大きく低下させ、結果としてレーザー記録感度を向上させることが可能である。光熱変換剤にカーボンブラック等の顔料を用いた場合には、顔料の分散度の向上のため、各種の顔料分散剤を添加剤として使用することができる。   In order to improve the laser recording sensitivity, a known compound that decomposes by heating to generate gas can be added. In this case, the laser recording sensitivity can be improved by rapid volume expansion of the light-to-heat conversion layer. Examples of these additives include dinityropentamethylenetetramine, N, N′-dimethyl-N, N′-dinitrosoterephthalate. Amides, p-toluenesulfonyl hydrazide, 4,4-oxybis (benzenesulfonyl hydrazide), diamidobenzene and the like can be used. In order to improve laser recording sensitivity, various iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium tosylate, oxime sulfonate, dicarbodiimide sulfonate, triazine, etc. Known compounds of generators can be used as additives. By using these together with the chemical amplification binder, it is possible to greatly reduce the decomposition temperature of the chemical amplification binder which is a constituent material of the photothermal conversion layer, and as a result, it is possible to improve the laser recording sensitivity. When a pigment such as carbon black is used as the photothermal conversion agent, various pigment dispersants can be used as additives in order to improve the degree of dispersion of the pigment.

本発明に用いられる顔料分散剤の添加量は、光熱変換剤に対して1〜70質量%であり、好ましくは、5〜50質量%である。添加量が1質量%以上であれば顔料分散度向上の効果があり版材感度が低くならず、70質量%以下であれば隣接する層との密着力が低下しない。隣接する層に対する密着性を向上させるために、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤等の公知の密着向上剤や、ビニル基含有アクリレート系樹脂、水酸基含有アクリレート系樹脂、アクリルアミド系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、セルロース誘導体、ゼラチン等、隣接する層に対する密着性の良好なバインダーを添加してもよい。本発明に用いられる前記の密着向上剤や密着向上バインダーの添加量は、全光熱変換層組成物に対して5〜70質量%であり、好ましく
は、10〜50質量%である。添加量が5質量%以上であれば隣接する層との密着性向上の効果があり、70質量%以下とすることで版材感度が低下しない。
The addition amount of the pigment dispersant used for this invention is 1-70 mass% with respect to a photothermal conversion agent, Preferably, it is 5-50 mass%. If the addition amount is 1% by mass or more, the effect of improving the pigment dispersion is obtained, and the plate material sensitivity is not lowered. In order to improve adhesion to adjacent layers, known adhesion improvers such as silane coupling agents and titanate coupling agents, vinyl group-containing acrylate resins, hydroxyl group-containing acrylate resins, acrylamide resins, ethylene-acetic acid You may add the binder with favorable adhesiveness with respect to an adjacent layer, such as a vinyl copolymer, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a cellulose derivative, and gelatin. The addition amount of the adhesion improver or adhesion improvement binder used in the present invention is 5 to 70% by mass, preferably 10 to 50% by mass, based on the total photothermal conversion layer composition. If the addition amount is 5% by mass or more, there is an effect of improving the adhesion with an adjacent layer, and if it is 70% by mass or less, the plate material sensitivity does not decrease.

塗布性を改良するために、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等の界面活性剤を添加剤として使用することができる。本発明に用いられる界面活性剤の添加量は、全光熱変換層組成物に対して0.01〜10質量%であり、好ましくは、0.05〜1質量%である。添加量が0.01質量%以上とすることで塗布性が良く均一な光熱変換層の形成が容易となり、10質量%以下とすることにより隣接する層との密着力が低下しない。この他にも必要に応じて、各種の添加剤を使用することができる。   In order to improve the coating property, a surfactant such as a fluorine-based surfactant or a nonionic surfactant can be used as an additive. The addition amount of the surfactant used for this invention is 0.01-10 mass% with respect to the total photothermal conversion layer composition, Preferably, it is 0.05-1 mass%. When the addition amount is 0.01% by mass or more, it is easy to form a uniform photothermal conversion layer with good coatability, and when the addition amount is 10% by mass or less, the adhesive force between adjacent layers does not decrease. In addition, various additives can be used as necessary.

本発明に用いられる光熱変換層の乾燥塗布量は、通常0.05〜10g/m2、好ましくは0.1〜5g/m2である。本発明に用いられる光熱変換層は、光熱変換層形成用塗布液を支持体上に、一般によく知られた塗布方法、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法などにより塗布し、乾燥することで形成することができる。 The dry coating amount of the photothermal conversion layer used in the present invention is usually 0.05 to 10 g / m 2 , preferably 0.1 to 5 g / m 2 . The photothermal conversion layer used in the present invention is a photothermal conversion layer forming coating solution on a support, and generally known coating methods such as dip coating, air knife coating, curtain coating, wire bar coating, It can be formed by applying and drying by a gravure coating method, an extrusion coating method or the like.

〔シリコーンゴム層〕
本発明において用いられるインキ反撥性のシリコーンゴム層は、光熱変換層上にシリコーンゴムの皮膜を反応形成させることによって形成される。具体的には、縮合型シリコーンを架橋剤を用いて硬化させるか、付加型シリコーンを触媒により付加重合させて形成することが好ましい。縮合型シリコーンを用いる場合には、(a)ジオルガノポリシロキサン100質量部に対して、(b)縮合型架橋剤を3〜70質量部、(c)触媒0.01〜40質量部を加えた組成物を用いるのが好適である。前記成分(a)のジオルガノポリシロキサンは、下記一般式で示されるような繰り返し単位を有するポリマーである。R1及びR2は炭素数1〜10のアルキル基、ビニル基、アリール基であり、更に置換基を有していてもよい。一般的にはR1及びR2の60%以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニル基、ハロゲン化フェニル基等であるものが好ましい。
(Silicone rubber layer)
The ink-repellent silicone rubber layer used in the present invention is formed by reacting a silicone rubber film on the photothermal conversion layer. Specifically, it is preferable to form by condensing condensation type silicone with a crosslinking agent or addition polymerization of addition type silicone with a catalyst. When using condensation type silicone, (b) 3 to 70 parts by weight of condensation type crosslinking agent and (c) 0.01 to 40 parts by weight of catalyst are added to 100 parts by weight of diorganopolysiloxane. It is preferred to use a different composition. The component (a) diorganopolysiloxane is a polymer having a repeating unit represented by the following general formula. R 1 and R 2 are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a vinyl group, or an aryl group, and may further have a substituent. In general, it is preferable that 60% or more of R 1 and R 2 is a methyl group, a halogenated vinyl group, a halogenated phenyl group or the like.

Figure 2006130911
Figure 2006130911

このようなジオルガノポリシロキサンは両末端に水酸基を有するものを用いるのが好ましい。また、前記成分(a)は、数平均分子量が3,000〜600,000であり、より好ましくは、5,000〜100,000である。成分(b)の架橋剤は縮合型のものであればいずれであってもよいが、次の一般式で示されるようなものが好ましい。   Such a diorganopolysiloxane is preferably one having hydroxyl groups at both ends. The component (a) has a number average molecular weight of 3,000 to 600,000, more preferably 5,000 to 100,000. The crosslinking agent of component (b) may be any as long as it is a condensation type, but is preferably one represented by the following general formula.

Figure 2006130911
Figure 2006130911

ここでR1は先に説明したR1と同じ意味であり、Xは、Cl、Br,I等のハロゲン原子、水素原子、水酸基、あるいは、以下に示す如き有機置換基を表す。 Here, R 1 has the same meaning as R 1 described above, and X represents a halogen atom such as Cl, Br, or I, a hydrogen atom, a hydroxyl group, or an organic substituent as shown below.

Figure 2006130911
Figure 2006130911

式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基及び炭素数6〜20のアリール基を、R4及びR5は炭素数1〜10のアルキル基を示す。 In the formula, R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R 4 and R 5 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

成分(c)としては、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガン等の金属カルボン酸塩、例えば、ラウリン酸ジブチル錫、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛等、あるいは塩化白金酸等のような公知の触媒が挙げられる。   Component (c) is a known catalyst such as a metal carboxylate such as tin, zinc, lead, calcium, manganese, such as dibutyltin laurate, lead octylate, lead naphthenate, or chloroplatinic acid. Is mentioned.

付加型シリコーンを用いる場合には、(d)付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキサン100質量部に対して、(e)オルガノハイドロジェンポリシロキサン0.1〜25質量部、及び(f)付加触媒0.00001〜1質量部を添加した組成物を用いることが好ましい。上記成分(d)の付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキサンとは、1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル基(より好ましくはビニル基)を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンで、アルケニル基は分子量末端、中間いずれにあってもよく、アルケニル基以外の有機基として、置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基、アリール基を有していてもよい。また、成分(d)には水酸基を微量有することも任意である。成分(d)は、数平均分子量が3,000〜600,000であり、より好ましくは、5,000〜150,000である。   When the addition type silicone is used, (d) 0.1 to 25 parts by mass of organohydrogenpolysiloxane with respect to 100 parts by mass of diorganopolysiloxane having an addition reactive functional group, and (f) It is preferable to use a composition to which 0.00001 to 1 part by mass of an addition catalyst is added. The above-mentioned diorganopolysiloxane having an addition-reactive functional group (d) is an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups (more preferably vinyl groups) directly bonded to silicon atoms in one molecule. The group may be either at the molecular weight end or in the middle, and may have a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group as an organic group other than the alkenyl group. Further, the component (d) optionally has a trace amount of hydroxyl groups. The component (d) has a number average molecular weight of 3,000 to 600,000, more preferably 5,000 to 150,000.

成分(e)としては、両末端に水素基を有するポリジメチルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシロキサン、両末端メチル基のメチルシロキサン/ジメチルシロキサン共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両末端トリメチルシリル基のポリメチルシロキサン、両末端トリメチルシリル基のジメチルシロキサン/メチルシロキサン共重合体等が例示される。成分(f)としては、公知の重合触媒の中から任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金等が例示される。   Component (e) includes polydimethylsiloxane having hydrogen groups at both ends, α, ω-dimethylpolysiloxane, methylsiloxane / dimethylsiloxane copolymer of both ends methyl groups, cyclic polymethylsiloxane, trimethylsilyl groups at both ends. Examples thereof include polymethylsiloxane and a dimethylsiloxane / methylsiloxane copolymer having trimethylsilyl groups at both terminals. The component (f) is arbitrarily selected from known polymerization catalysts, but platinum-based compounds are particularly desirable, and examples thereof include platinum alone, platinum chloride, chloroplatinic acid, and olefin coordinated platinum.

これらの組成物においてシリコーンゴム層の硬化速度を制御する目的で、テトラシクロ(メチルビニル)シロキサン等のビニル基含有のオルガノポリシロキサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の架橋抑制剤を添加することも可能である。本発明に用いられる(D)シリコーンゴム層は、前記したシリコーンを含む組成物を溶剤を用いて(C)光熱変換層上に塗布、乾燥することによりに形成しうる。このとき、シリコーンゴム層形成用塗布液の塗布後の溶剤乾燥時にシリコーンゴム層組成物が縮合反応もしくは付加反応することで皮膜を形成するので、乾燥温度が低いとシリコーンゴムの硬化性が低下し、硬化不良となるおそれがある。このため、シリコーンゴム層の塗布後の乾燥温度は80℃以上が好ましく、100℃以上がより好ましい。   In order to control the curing rate of the silicone rubber layer in these compositions, vinyl group-containing organopolysiloxanes such as tetracyclo (methylvinyl) siloxane, carbon-carbon triple bond-containing alcohols, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, It is also possible to add a crosslinking inhibitor such as propylene glycol monomethyl ether. The (D) silicone rubber layer used in the present invention can be formed by applying and drying the above-described silicone-containing composition on the (C) photothermal conversion layer using a solvent. At this time, the silicone rubber layer composition undergoes a condensation reaction or addition reaction when the solvent is dried after application of the coating solution for forming the silicone rubber layer, so that the curing property of the silicone rubber is lowered when the drying temperature is low. There is a risk of poor curing. For this reason, 80 degreeC or more is preferable and, as for the drying temperature after application | coating of a silicone rubber layer, 100 degreeC or more is more preferable.

なお、シリコーンゴム層には必要に応じて、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機物の微粉末、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤やアルミニウム系カップリング剤等の接着助剤や光重合開始剤を添加してもよい。本発明に用いられるシリコーンゴム層の膜厚は、乾燥膜厚として0.5〜5.0g/m2が好ましく、より好ましくは1.0〜3.0g/m2であり、更に好ましくは1.5〜2.0g/m2である。膜厚
が0.5g/m2以上とすることによりインキ反撥性が低下せず、キズが入りやすい等の問題点が解消し、5.0g/m2以下とすることで現像性が悪くならない。また、シリコーンゴム層の上に、耐刷性、耐傷性、画像再現性及び汚れ性等の向上の目的で、更に種々のシリコーンゴム層を塗工し、表面層を形成してもよい。
If necessary, the silicone rubber layer may be a fine powder of an inorganic material such as silica, calcium carbonate, titanium oxide, an adhesion aid such as a silane coupling agent, a titanate coupling agent or an aluminum coupling agent, or photopolymerization. An initiator may be added. The thickness of the silicone rubber layer used in the present invention is preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 , more preferably 1.0 to 3.0 g / m 2 , and even more preferably 1 as a dry film thickness. .5 to 2.0 g / m 2 . When the film thickness is 0.5 g / m 2 or more, the ink repellency is not lowered, and problems such as scratches are easily eliminated, and when the film thickness is 5.0 g / m 2 or less, developability does not deteriorate. . Further, various silicone rubber layers may be further coated on the silicone rubber layer for the purpose of improving printing durability, scratch resistance, image reproducibility, stain resistance and the like to form a surface layer.

〔バック層〕
本発明の水なし平版印刷版原版は、光熱変換層とシリコーンゴム層が設けられた面と反対側の支持体面側に少なくとも1層のバック層が望ましくは設けられる。
[Back layer]
In the waterless planographic printing plate precursor of the present invention, at least one back layer is desirably provided on the side of the support opposite to the surface on which the photothermal conversion layer and the silicone rubber layer are provided.

バック層は、特に限定されないが、結合剤中に導電性金属酸化物粒子が分散した層が好ましい。
また、本発明のバック層は、必要に応じて2層以上の層構成としても良い。バック層を2層以上の層構成とする場合、広義には、この2層以上の全ての層を総称してバック層と称し、狭義には、下側の層をバック層、その上の層をオーバーコート層とも称したり、下側の層からバック第1層、バック第2層等と称することもある。なお、本明細書の実施例ではバック第1層、バック第2層等と称した。
該バック層にはマット剤を含有してもよい。さらに、該バック層には界面活性剤や滑り剤、ワックスなども含有してもよい。
The back layer is not particularly limited, but a layer in which conductive metal oxide particles are dispersed in a binder is preferable.
Further, the back layer of the present invention may have a layer structure of two or more layers as necessary. When the back layer has a layer structure of two or more layers, in a broad sense, all the layers of the two or more layers are collectively referred to as a back layer, and in a narrow sense, the lower layer is a back layer and a layer above it. May be referred to as an overcoat layer, or may be referred to as a back first layer, a back second layer, or the like from the lower layer. In the examples of the present specification, they are referred to as a back first layer, a back second layer, and the like.
The back layer may contain a matting agent. Further, the back layer may contain a surfactant, a slip agent, a wax and the like.

マット剤としては、好ましくは平均粒径が0.5μm〜20μm、より好ましくは平均粒径が1.0μm〜15μmの粒径をもつ酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどの酸化物や、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン等の重合体あるいは共重合体等が挙げられる。特にこれらの重合体あるいは共重合体の架橋粒子が好ましい。   The matting agent is preferably an oxide such as silicon oxide, aluminum oxide or magnesium oxide having an average particle size of 0.5 μm to 20 μm, more preferably an average particle size of 1.0 μm to 15 μm, or polymethyl Examples thereof include polymers and copolymers such as methacrylate and polystyrene. In particular, crosslinked particles of these polymers or copolymers are preferred.

これらのマット剤をバック層側の少なくともいずれかの層に(バック及び/又はオーバーコート層)所定量含有させることによって、バック層側の表面のベック平滑度(秒)を50〜500秒、好ましくは60〜450秒、より好ましくは200〜400秒とすることができる。ここで、バック層側の表面のベック平滑度(秒)は、JIS−P8119−1998ならびにJ.TAPPI紙パルプ試験方法No.5に記載された方法で測定された値を意味する。バック層側の表面のベック平滑度(秒)が50秒以上にすることにより、バック側の表面の凹凸が大きすぎずマット剤が層から脱落し難くなり、原版の搬送性が経時的に低下しない。一方、バック層側の表面のベック平滑度(秒)が500秒以下であると、バック層側の平滑度が高すぎず原版の搬送性が低下せず、搬送不良に伴う種々の弊害が生じない。   By containing a predetermined amount of these matting agents in at least one layer on the back layer side (back and / or overcoat layer), the Beck smoothness (second) on the surface on the back layer side is preferably 50 to 500 seconds, preferably May be 60 to 450 seconds, more preferably 200 to 400 seconds. Here, the Beck smoothness (second) of the surface on the back layer side is JIS-P8119-1998 and J.P. TAPPI paper pulp test method no. 5 means the value measured by the method described in 5. By making the Beck smoothness (seconds) on the surface on the back layer side 50 seconds or more, the unevenness on the surface on the back side is not too large and the matting agent is difficult to fall off the layer, and the transportability of the original plate decreases with time. do not do. On the other hand, if the Beck smoothness (seconds) on the surface on the back layer side is 500 seconds or less, the smoothness on the back layer side is not too high and the transportability of the original plate does not deteriorate, and various adverse effects due to poor transport occur. Absent.

該バック層には、導電性金属酸化物粒子を含有させてもよい。導電性金属酸化物粒子の材料としては、ZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23、MgO、BaO及びMoO3及びこれらの複合酸化物、及び/該金属酸化物に更に異種原子を含む金属酸化物を挙げることができる。 The back layer may contain conductive metal oxide particles. Examples of the material of the conductive metal oxide particles include ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , MgO, BaO and MoO 3 and their composite oxides, and / or the metal oxide. Mention may be made of metal oxides containing different atoms.

金属酸化物としては、SnO2、ZnO、Al23、TiO2、In23、及びMgOが好ましく、さらにSnO2、ZnO、In23及びTiO2が好ましく、SnO2が特に好ましい。異種原子を少量含む例としては、ZnOに対してAlあるいはIn、TiO2に対してNbあるいはTa、In23に対してSn、及びSnO2に対してSb、Nbあるいはハロゲン元素などの異種元素を0.01〜30モル%(好ましくは0.1〜10モル%)ドープしたものを挙げることができる。異種元素の添加量が0.01モル%以上である場合は、酸化物又は複合酸化物に充分な導電性を付与することができ、30モル%以下とすることにより粒子の黒化度が増すことがなく、バック層が黒まず感材用として適する。従って、本発明では導電性金属酸化物粒子の材料としては、金属酸化物又は複合金属酸化物に対し異種元素を少量含むものが好ましい。また結晶構造中に酸素欠陥を含むものも
好ましい。
As the metal oxide, SnO 2 , ZnO, Al 2 O 3 , TiO 2 , In 2 O 3 and MgO are preferable, SnO 2 , ZnO, In 2 O 3 and TiO 2 are more preferable, and SnO 2 is particularly preferable. . Examples of containing a small amount of different atoms include Zn or Al, In, TiO 2 Nb or Ta, In 2 O 3 Sn, and SnO 2 Sb, Nb or halogen elements. An element doped with 0.01 to 30 mol% (preferably 0.1 to 10 mol%) of the element can be used. When the amount of the different element added is 0.01 mol% or more, sufficient conductivity can be imparted to the oxide or composite oxide, and the blackening degree of the particles is increased by setting it to 30 mol% or less. The back layer is not black and is suitable for a sensitive material. Therefore, in the present invention, the material for the conductive metal oxide particles is preferably a material containing a small amount of a different element with respect to the metal oxide or the composite metal oxide. Also preferred are those containing an oxygen defect in the crystal structure.

導電性金属酸化物粒子は、バック層中に、結合剤の合計質量に対して10〜1000質量%の範囲で含まれていることが好ましく、更に100〜800質量%の範囲が好ましい。10質量%以上である場合は、充分な帯電防止性が得られ、1000質量%以下である場合は導電性金属酸化物粒子の感材からの脱落を防止することができる。   The conductive metal oxide particles are preferably contained in the back layer in the range of 10 to 1000% by mass, and more preferably in the range of 100 to 800% by mass with respect to the total mass of the binder. When the content is 10% by mass or more, sufficient antistatic properties can be obtained, and when the content is 1000% by mass or less, dropping of the conductive metal oxide particles from the photosensitive material can be prevented.

導電性金属酸化物粒子の粒子径は、光散乱をできるだけ小さくするために小さい程好ましいが、粒子と結合剤の屈折率の比をパラメーターとして決定されるべきものであり、ミー(Mie)の理論を用いて求めることができる。
本発明の水なし平版印刷版原版のバック層中の金属酸化物粒子の平均粒径は、0.001〜0.5μmであることが好ましく、より好ましくは0.003〜0.2μmの範囲である。ここでいう、平均粒径とは、導電性金属酸化物粒子の一次粒子径だけでなく高次構造の粒子径も含んだ値である。
The particle diameter of the conductive metal oxide particles is preferably as small as possible in order to reduce light scattering as much as possible, but should be determined using the ratio of the refractive index of the particles to the binder as a parameter, and Mie's theory Can be obtained using
The average particle diameter of the metal oxide particles in the back layer of the waterless planographic printing plate precursor of the present invention is preferably 0.001 to 0.5 μm, more preferably 0.003 to 0.2 μm. is there. Here, the average particle size is a value including not only the primary particle size of the conductive metal oxide particles but also the particle size of the higher order structure.

上記金属酸化物の微粒子のバック層形成用塗布液への添加する際は、そのまま添加して分散しても良いが、水等の溶媒(必要に応じて分散剤、バインダーを含む)に分散させた分散液を添加することが好ましい。   When the fine particles of the metal oxide are added to the coating solution for forming the back layer, they may be added and dispersed as they are, but they are dispersed in a solvent such as water (including a dispersant and a binder as necessary). It is preferable to add a dispersion.

本発明において、バック層に上記した本発明の金属酸化物粒子を含有させることに原版のバック層側の10℃15%RHにおける表面電気抵抗値を、1×107〜1×1012Ω、好ましくは1×109〜1×1011Ωに調整することができ、また高温高湿下における表面電気抵抗値も所定の値に調整することができる。水なし平版印刷版原版のバック層側の10℃15%RHにおける表面電気抵抗値を1×107Ω以上とすることは、多量の導電性金属酸化物粒子が不要のため、この粒子が脱落し難くなり、脱落した粒子が塗布膜のハジキの核となるというような二次故障を引き起こすことがない。また、1×1012Ω以下であれば、高温高湿下においても所望の帯電防止性能を有し、高温高湿下における水なし平版印刷版原版の製造時の塗布欠陥を防止し、また、水なし平版印刷版原版へのゴミ等の付着による記録書き込み時にレーザー光の焦点のずれが防止し、画像記録の鮮鋭性(再現性)を向上させることができる。 In the present invention, by adding the above-described metal oxide particles of the present invention to the back layer, the surface electrical resistance value at 10 ° C. and 15% RH on the back layer side of the original is 1 × 10 7 to 1 × 10 12 Ω, Preferably, it can be adjusted to 1 × 10 9 to 1 × 10 11 Ω, and the surface electrical resistance value under high temperature and high humidity can also be adjusted to a predetermined value. When the surface electrical resistance value at 10 ° C. and 15% RH on the back layer side of the waterless planographic printing plate precursor is set to 1 × 10 7 Ω or more, a large amount of conductive metal oxide particles are unnecessary, so these particles fall off. It is difficult to cause a secondary failure such that the dropped particles become the core of the repellency of the coating film. Further, if it is 1 × 10 12 Ω or less, it has a desired antistatic property even under high temperature and high humidity, and prevents coating defects during the production of a waterless lithographic printing plate precursor under high temperature and high humidity, The focus shift of the laser beam can be prevented at the time of recording writing due to adhesion of dust or the like to the waterless lithographic printing plate precursor, and the sharpness (reproducibility) of image recording can be improved.

本発明の製版方法に用いる水なし平版印刷版原版のバック層に用いられる結合剤としては、特に限定されないが、アクリル樹脂とメラミン化合物との硬化物が望ましい。本発明では、良好な作業環境の維持、及び大気汚染防止の観点から、ポリマーもメラミン化合物も、水溶性のものを使用するか、あるいはエマルジョン等の水分散状態で使用することが好ましい。また、ポリマーは、メラミン化合物との架橋反応が可能なように、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びグリシジル基のいずれかの基を有することが好ましい。その中でも水酸基及びカルボキシル基が好ましく、特にカルボキシル基が好ましい。ポリマー中の水酸基又はカルボキシル基の含有量は、0.0001〜10当量/1kgが好ましく、特に0.01〜1当量/1kgが好ましい。   Although it does not specifically limit as a binder used for the back layer of the waterless planographic printing plate precursor used for the platemaking method of this invention, The hardened | cured material of an acrylic resin and a melamine compound is desirable. In the present invention, from the viewpoints of maintaining a good working environment and preventing air pollution, it is preferable to use either a water-soluble polymer or a melamine compound, or an aqueous dispersion such as an emulsion. Moreover, it is preferable that a polymer has any group of a methylol group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and a glycidyl group so that a crosslinking reaction with a melamine compound is possible. Among these, a hydroxyl group and a carboxyl group are preferable, and a carboxyl group is particularly preferable. The content of the hydroxyl group or carboxyl group in the polymer is preferably 0.0001 to 10 equivalent / 1 kg, and particularly preferably 0.01 to 1 equivalent / 1 kg.

アクリル樹脂としては、アクリル酸、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類、メタクリルアミド及びメタクリロニトリルのいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体を挙げることができる。これらの中では、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体が好ましい。例えば、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー2種以上の重合により得られる共重合体を挙げる
ことができる。
Acrylic resins include acrylic acid esters such as acrylic acid and alkyl acrylate, acrylamide, acrylonitrile, methacrylic acid esters such as methacrylic acid and alkyl methacrylate, and homopolymers of any monomer of methacrylamide and methacrylonitrile. Or the copolymer obtained by superposition | polymerization of 2 or more types of these monomers can be mentioned. Among these, homopolymers of monomers of acrylic acid esters such as alkyl acrylates and methacrylic acid esters such as alkyl methacrylates, or copolymers obtained by polymerization of two or more of these monomers preferable. For example, mention may be made of homopolymers of monomers of acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or copolymers obtained by polymerization of two or more of these monomers. it can.

上記アクリル樹脂は、上記組成を主成分とし、メラミン化合物との架橋反応が可能なように、例えば、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びグリシジル基のいずれかの基を有するモノマーを一部使用して得られるポリマーである。   The acrylic resin is mainly composed of a monomer having any one of a methylol group, a hydroxyl group, a carboxyl group and a glycidyl group so that a crosslinking reaction with the melamine compound is possible with the composition as a main component. The resulting polymer.

本発明で使用されるメラミン化合物としては、メラミン分子内に二個以上(好ましくは三個以上)のメチロール基又はアルコキシメチル基を含有する化合物及びそれらの縮重合体であるメラミン樹脂あるいはメラミン・ユリア樹脂などを挙げることができる。   The melamine compound used in the present invention includes a compound containing two or more (preferably three or more) methylol groups or alkoxymethyl groups in the melamine molecule, and a melamine resin or melamine urea that is a condensation polymer thereof. Examples thereof include resins.

メラミンとホルマリンの初期縮合物の例としては、ジメチロールメラミン、トリメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン、ペンタメチロールメラミン、ヘキサメチロールメラミンなどがあり、その具体的な市販品としては、例えばスミテックス・レジン(Sumitex Resin)M−3、同MW、同MK及び同MC(住友化学(株)製)などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the initial condensate of melamine and formalin include dimethylol melamine, trimethylol melamine, tetramethylol melamine, pentamethylol melamine, hexamethylol melamine and the like. Specific examples of commercially available products include, for example, SMITEX RESIN ( (Sumitex Resin) M-3, MW, MK and MC (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and the like, but are not limited thereto.

上記縮重合体の例としては、ヘキサメチロールメラミン樹脂、トリメチロールメラミン樹脂、トリメチロールトリメトキシメチルメラミン樹脂等を挙げることができる。市販品としては、MA−1及びMA−204(住友ベークライト(株製)、ベッカミン(BECKAMINE)MA−S、ベッカミンAPM及びベッカミンJ−101(大日本インキ化学工業(株)製)、ユーロイド344(三井東圧化学(株)製)、大鹿レジンM31及び大鹿レジンPWP−8(大鹿振興(株)製)等を挙げることができるが、これらの限定されるものではない。   Examples of the condensation polymer include hexamethylol melamine resin, trimethylol melamine resin, trimethylol trimethoxymethyl melamine resin, and the like. Commercially available products include MA-1 and MA-204 (Sumitomo Bakelite Co., Ltd.), Bekkamin MA-S, Bekkamin APM and Bekkamin J-101 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), Euroid 344 ( Examples include, but are not limited to, Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.), Oka Resin M31, and Oka Resin PWP-8 (Oshika Promotion Co., Ltd.).

上記メラミン化合物としては、分子量を1分子内の官能基数で割った値で示される官能基当量が50以上300以下であることが好ましい。ここで官能基とはメチロール基又はアルコキシメチル基を示す。この値が300以下とすることで硬化密度が適度となり高い強度が得らる。官能基当量が50以上であることにより硬化密度が適当であり透明性が損なわれなく、良化する。該水性メラミン化合物の添加量は、上記ポリマーに対して0.1〜100質量%、好ましくは10〜90%質量%である。   As said melamine compound, it is preferable that the functional group equivalent shown by the value which divided the molecular weight by the number of functional groups in 1 molecule is 50-300. Here, the functional group represents a methylol group or an alkoxymethyl group. When this value is 300 or less, the curing density becomes moderate and high strength is obtained. When the functional group equivalent is 50 or more, the curing density is appropriate, transparency is not impaired, and the quality is improved. The amount of the aqueous melamine compound added is 0.1 to 100% by mass, preferably 10 to 90% by mass, based on the polymer.

これらのメラミン化合物は単独で用いてもよいし、二種以上併用してもよい。また、他の化合物との併用も可能であり、例えばC.E.K.Meers 及びT.H.James著「The Theory of the Photographic Process」第3版(1966年)、米国特許第3316095号、同3232764号、同3288775号、同2732303号、同3635718号、同3232763号、同2732316号、同2586168号、同3103437号、同3017280号、同2983611号、同2725294号、同2725295号、同3100704号、同3091537号、同3321313号、同3543292号及び同3125449号、及び英国特許994869号及び同1167207号等に記載されている硬化剤などが挙げられる。   These melamine compounds may be used alone or in combination of two or more. Further, it can be used in combination with other compounds. E. K. Meers and T.W. H. "The Theory of the Photographic Process" by James, 3rd edition (1966), U.S. Patent Nos. 3316095, 3232264, 3288775, 27332303, 3635718, 3323716, 2732616, 258616 No. 3103437, No. 3017280, No. 2998611, No. 2725294, No. 2725295, No. 3100704, No. 3091537, No. 3321313, No. 3543292 and No. 312449, and British Patent Nos. 994869 and 1167207. The curing agent described in No. etc. is mentioned.

上記硬化剤の代表的な例としては、ムコクロル酸、ムコブロム酸、ムコフェノキシクロル酸、ムコフェノキシプロム酸、ホルムアルデヒド、グリオキザール、モノメチルギリオキザール、2,3−ジヒドロキシ−1,4ジオキサン、2,3−ジヒドロキシ−5−メチル−1,4−ジオキサンサクシンアルデヒド、2,5−ジメトキシテトラヒドロフラン及びグルタルアルデヒド等のアルデヒド系化合物及びその誘導体;ジビニルスルホン−N,N’−エチレンビス(ビニルスルホニルアセトアミド)、1,3−ビス(ビニルスルホニル)−2−プロパノール、メチレンビスマレイミド、5−アセチル−1,3−ジアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、1,3,5−トリアクリロイル−ヘサヒドロ−s
−トリアジン及び1,3,5−トリビニルスルホニル−ヘキサヒドロ−s−トリアジンなどの活性ビニル系化合物;2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジンナトリウム塩、2,4−ジクロロ−6−(4−スルホアニリノ)−s−トリアジンナトリウム塩、2,4−ジクロロ−6−(2−スルホエチルアミノ)−s−トリアジン及びN,N’−ビス(2−クロロエチルカルバミル)ピペラジン等の活性ハロゲン系化合物;ビス(2,3−エポキシプロピル)メチルプロピルアンモニウム・p−トルエンスルホン酸塩、1,4−ビス(2’,3’−エポキシプロピルオキシ)ブタン、1,3,5−トリグリシジルイソシアヌレート、1,3−ジクリシジル−5−(γ−アセトキシ−β−オキシプロピル)イソシアヌレート、ソルビト−ルポリグリシジルエーテル類、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル類、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル類、ジグリセロールポリグルシジルエーテル、1,3,5−トリグリシジル(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、グリセロールポリグリセロールエーテル類及びトリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル類等のエポキシ化合物;2,4,6−トリエチレン−s−トリアジン、1,6−ヘキサメチレン−N,N’−ビスエチレン尿素及びビス−β−エチレンイミノエチルチオエーテル等のエチレンイミン系化合物;1,2−ジ(メタンスルホンオキシ)エタン、1,4−ジ(メタンスルホンオキシ)ブタン及び1,5−ジ(メタンスルホンオキシ)ペンタン等のメタンスルホン酸エステル系化合物;ジシクロヘキシルカルボジイミド及び1−ジシクロヘキシル−3−(3−トリメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩等のカルボジイミド化合物;2,5−ジメチルイソオキサゾール等のイソオキサゾール系化合物;クロム明ばん及び酢酸クロム等の無機系化合物;N−カルボエトキシ−2−イソプロポキシ−1,2−ジヒドロキノリン及びN−(1−モルホリノカルボキシ)−4−メチルピリジウムクロリド等の脱水縮合型ペプチド試薬;N,N’−アジポイルジオキシジサクシンイミド及びN,N’−テレフタロイルジオキシジサクシンイミド等の活性エステル系化合物:トルエン−2,4−ジイソシアネート及び1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート類;及びポリアミド−ポリアミン−エピクロルヒドリン反応物等のエピクロルヒドリン系化合物を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
Representative examples of the curing agent include mucochloric acid, mucobromic acid, mucofenoxycyclolic acid, mucophenoxypromic acid, formaldehyde, glyoxal, monomethylglioxal, 2,3-dihydroxy-1,4 dioxane, 2,3 Aldehyde compounds such as dihydroxy-5-methyl-1,4-dioxanesuccinaldehyde, 2,5-dimethoxytetrahydrofuran and glutaraldehyde and derivatives thereof; divinylsulfone-N, N′-ethylenebis (vinylsulfonylacetamide), 1 , 3-bis (vinylsulfonyl) -2-propanol, methylene bismaleimide, 5-acetyl-1,3-diaacryloyl-hexahydro-s-triazine, 1,3,5-triacryloyl-hesahydro-s
Active vinyl compounds such as triazine and 1,3,5-trivinylsulfonyl-hexahydro-s-triazine; 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine sodium salt, 2,4-dichloro-6- ( Active halogens such as 4-sulfoanilino) -s-triazine sodium salt, 2,4-dichloro-6- (2-sulfoethylamino) -s-triazine and N, N′-bis (2-chloroethylcarbamyl) piperazine Compounds: bis (2,3-epoxypropyl) methylpropylammonium p-toluenesulfonate, 1,4-bis (2 ′, 3′-epoxypropyloxy) butane, 1,3,5-triglycidyl isocyanate Nurate, 1,3-diglycidyl-5- (γ-acetoxy-β-oxypropyl) isocyanurate, sorbitol Liglycidyl ethers, polyglycerol polyglycidyl ethers, pentaerythritol polyglycidyl ethers, diglycerol polyglycidyl ether, 1,3,5-triglycidyl (2-hydroxyethyl) isocyanurate, glycerol polyglycerol ethers and trimethylol Epoxy compounds such as propane polyglycidyl ethers; ethylene such as 2,4,6-triethylene-s-triazine, 1,6-hexamethylene-N, N′-bisethyleneurea and bis-β-ethyleneiminoethylthioether Imine compounds; methanesulfonic acid ester compounds such as 1,2-di (methanesulfoneoxy) ethane, 1,4-di (methanesulfoneoxy) butane and 1,5-di (methanesulfoneoxy) pentane; Carbodiimide compounds such as silcarbodiimide and 1-dicyclohexyl-3- (3-trimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride; isoxazole compounds such as 2,5-dimethylisoxazole; inorganic compounds such as chromium alum and chromium acetate; Dehydrated condensed peptide reagents such as N-carboethoxy-2-isopropoxy-1,2-dihydroquinoline and N- (1-morpholinocarboxy) -4-methylpyridinium chloride; N, N′-adipoyldioxydi Active ester compounds such as succinimide and N, N′-terephthaloyldioxydisuccinimide: isocyanates such as toluene-2,4-diisocyanate and 1,6-hexamethylene diisocyanate; and polyamide-polyamine-epichlorohydrin reactant Et Although a chlorohydrin type compound can be mentioned, it is not limited to this.

界面活性剤としては公知のアニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性系界面活性剤、非イオン系界面活性剤等が挙げられる。   Examples of the surfactant include known anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and nonionic surfactants.

滑り剤としては、炭素数8〜22の高級アルコールのリン酸エステルもしくはそのアミノ塩;パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸及びそのエステル類;及びシリコーン系化合物等を挙げることができる。   Examples of the slip agent include phosphate esters of higher alcohols having 8 to 22 carbon atoms or amino salts thereof; palmitic acid, stearic acid, behenic acid and esters thereof; and silicone compounds.

該バック層は、上記成分をそのままあるいは水等の溶媒(必要に応じて分散剤、バインダーを含む)に分散させた分散液を、結合剤及び適当な添加剤を含む水分散液あるいは水溶液に、添加、混合(必要に応じて分散)してバック層形成用塗布液を調製し、これを塗布乾燥することによって得られる。   The back layer is a dispersion obtained by dispersing the above components as they are or in a solvent such as water (including a dispersant and a binder as necessary) into an aqueous dispersion or aqueous solution containing a binder and appropriate additives. It is obtained by adding and mixing (dispersing if necessary) to prepare a coating solution for forming a back layer and coating and drying it.

該バック層は、上記バック層形成用塗布液を支持体の表面(光熱変換層及びシリコーンゴム層が設けられない側)に一般によく知られた塗布方法、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法等により塗布することができる。   The back layer is a coating method generally known on the surface of the support (the side where the photothermal conversion layer and the silicone rubber layer are not provided), such as dip coating, air knife coating, It can be applied by a curtain coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, an extrusion coating method or the like.

該バック層の層厚は、特に限定されないが、0.01〜1μmの範囲が好ましく、さらに0.1〜0.5μmの範囲が好ましい。0.01μm以上であることにより塗布剤を均一に塗布しやすく製品に塗布むらが生じ難く、1μm以下であることにより帯電防止性能や耐傷性が劣下しない。   The thickness of the back layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 to 1 μm, and more preferably in the range of 0.1 to 0.5 μm. When it is 0.01 μm or more, it is easy to apply the coating agent uniformly, and uneven application is unlikely to occur on the product.

[製版方法]
次に、本発明の水なし平版印刷版原版からの平版印刷版の製版方法について説明する。製版は、一般的な製版方法と同様に、画像様露光により露光部のシリコーンゴム層の隣接する層との密着性を低下させる露光工程と、密着性の低下したシリコーンゴム層を除去し、インキ受容性の領域を形成する現像工程とを含む。
[Plate making method]
Next, a method for making a lithographic printing plate from a waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described. In the same way as the general plate making method, the plate making is performed by removing the silicone rubber layer with reduced exposure and the exposure step for reducing the adhesion with the adjacent layer of the silicone rubber layer in the exposed portion by imagewise exposure, And a developing step for forming a receptive region.

(I)露光工程
本発明の水なし平版印刷版原版を露光するのに使用されるレーザーは、シリコーンゴム層が剥離除去されるのに十分な密着力の低下が起きるような露光量を与えるものでなくてはならない。前記条件を充たしていればレーザー種などの制限は特になく、Arレーザー、炭酸ガスレーザーのごときガスレーザー、YAGレーザーのような固体レーザー、そして半導体レーザー等が使用できる。通常出力が50mWクラス以上のレーザーが必要となる。保守性、価格等の実用的な面からは、半導体レーザー及び半導体励起の固体レーザー(YAGレーザー等)が好適に使用される。これらのレーザーの記録波長は赤外線の波長領域であり、800nmから1100nmの発振波長を利用することが多い。また、特開平6−186750号公報に記載されているイメージング装置やハイデルベルグ(Heidelberg)社製フルカラー印刷システム“Quickmaster DI46−4”(商品名)などを用いて露光することも可能である。
(I) Exposure Step The laser used to expose the waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention provides an exposure amount that causes a decrease in adhesion sufficient to peel and remove the silicone rubber layer. It must be. As long as the above conditions are satisfied, there are no particular limitations on the type of laser, and gas lasers such as Ar lasers and carbon dioxide lasers, solid lasers such as YAG lasers, and semiconductor lasers can be used. A laser with a normal output of 50 mW class or higher is required. From practical aspects such as maintainability and cost, a semiconductor laser and a semiconductor-excited solid laser (YAG laser or the like) are preferably used. The recording wavelength of these lasers is in the infrared wavelength region, and an oscillation wavelength of 800 nm to 1100 nm is often used. It is also possible to perform exposure using an imaging apparatus described in JP-A-6-186750, a full color printing system “Quickmaster DI46-4” (trade name) manufactured by Heidelberg, or the like.

(II)現像工程
本発明の水なし平版印刷版原版から平版印刷版を製版する際に用いられる現像液としては、水なし平版印刷版原版の現像液として公知のもの、例えば、炭化水素類、極性溶媒、水及びこれらの組合せ等、が使用できるが、安全性の観点から、水又は水を主成分とする有機溶剤の水溶液を用いることが好ましく、安全性及び引火性等を考慮すると有機溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。用い得る炭化水素類としては、脂肪族炭化水素類〔具体的には、例えば、ヘキサン、ヘプタン、ガソリン、灯油、市販の溶剤である“アイソパーE、H、G”(エッソ化学社製)等〕、芳香族炭化水素類(例えば、トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化水素(トリクレン等)等が挙げられる。また、極性溶媒としては、アルコール類(具体的には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール等)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル類(例えば、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート等)、その他、トリエチルホスフェート、トリクレジルホスフェート等が挙げられる。また、単に水道水、純水、蒸留水等の水そのものを用いることもできる。これらは単独で用いてもよく、2種以上、例えば、炭化水素類に水を添加したり、極性溶媒に水を添加したり、炭化水素類と極性溶媒を組み合わせて、用いることもできる。更に、上記炭化水素類や極性溶媒のうち水に対する親和性の低いものについては界面活性剤等を添加して水に対する溶解性を向上させてもよい。また、界面活性剤とともにアルカリ剤(例えば、炭酸ナトリウム、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム等)を添加することもできる。
(II) Development step The developer used for making a lithographic printing plate from the waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention is known as a developer for a waterless lithographic printing plate precursor, such as hydrocarbons, Polar solvents, water, and combinations thereof can be used, but from the viewpoint of safety, it is preferable to use water or an aqueous solution of an organic solvent containing water as a main component, and considering the safety and flammability, the organic solvent The concentration of is desirably less than 40% by mass. As hydrocarbons that can be used, aliphatic hydrocarbons (specifically, for example, hexane, heptane, gasoline, kerosene, commercially available solvents “Isopar E, H, G” (Esso Chemical Co., Ltd.), etc.) , Aromatic hydrocarbons (for example, toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (tricrene, etc.), and the like. Examples of polar solvents include alcohols (specifically, for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene Glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, etc.), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, etc.), esters (eg, ethyl acetate, lactic acid) Methyl, butyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethyl Glycol acetate, diethyl phthalate), other, triethyl phosphate, tricresyl phosphate and the like. Moreover, water itself, such as tap water, pure water, distilled water, can also be used. These may be used alone or in combination of two or more. For example, water may be added to hydrocarbons, water may be added to polar solvents, or hydrocarbons and polar solvents may be used in combination. Further, among the hydrocarbons and polar solvents having a low affinity for water, a surfactant or the like may be added to improve the solubility in water. Further, an alkali agent (for example, sodium carbonate, diethanolamine, sodium hydroxide, etc.) can be added together with the surfactant.

現像は、例えば、上記のような現像液を含む現像用パッドで版面をこする、または現像液を版面に注いだ後に水中にて現像ブラシでこする等、公知の方法で行うことができる。現像液温は任意の温度とすることができるが、好ましくは10℃〜50℃である。これにより画像部のインキ反撥層であるシリコーンゴム層が除かれ、その部分がインキ受容部となる。以上のような現像処理、又はそれに続く水洗、乾燥処理は、自動処理機で行うこと
もできる。このような自動処理機の好ましいものは、特開平2−220061号公報に記載されている。また、さらに先に述べたHeidelberg社製フルカラー印刷システム“Quickmaster DI46−4”を用いることにより、好適な条件での露光及び機上現像を連続的に行うことができる。
The development can be performed by a known method such as rubbing the plate surface with a developing pad containing the developer as described above, or rubbing with a developing brush in water after pouring the developer onto the plate surface. The developer temperature can be any temperature, but is preferably 10 ° C to 50 ° C. As a result, the silicone rubber layer which is the ink repellent layer in the image portion is removed, and that portion becomes the ink receiving portion. The development processing as described above, or the subsequent washing and drying processing can be performed by an automatic processor. A preferred example of such an automatic processor is described in JP-A-2-220061. Further, by using the above-described full color printing system “Quickmaster DI46-4” manufactured by Heidelberg, exposure and on-press development can be continuously performed under suitable conditions.

また、本発明の水なし平版印刷版原版は接着層をシリコーンゴム層表面に張り合わせた後に、接着層を剥離することにより現像することも可能である。接着層は、シリコーンゴム層の表面に密着できる公知のものがいずれも使用できる。これらの接着層を可撓性支持体に設けたものは、例えば、住友スリーエム社の「スコッチテープ#851A」の商品名で市販されている。   The waterless planographic printing plate precursor of the present invention can also be developed by peeling off the adhesive layer after the adhesive layer is bonded to the surface of the silicone rubber layer. Any known adhesive layer that can adhere to the surface of the silicone rubber layer can be used. A material in which these adhesive layers are provided on a flexible support is commercially available, for example, under the trade name “Scotch Tape # 851A” manufactured by Sumitomo 3M Limited.

このように処理され、製版された平版印刷版を積み重ねて保管する場合には、刷版を保護するために合紙を挿入し挟んでおくことが好ましい。該製版方法により得られた平版印刷版は印刷機に装着され、多数枚の、画像部のインキ着肉性に優れた良好な印刷物を得ることができる。   When lithographic printing plates that have been processed and made in this way are stacked and stored, it is preferable to insert and sandwich a slip sheet to protect the printing plate. The lithographic printing plate obtained by the plate making method is mounted on a printing machine, and a large number of excellent printed materials having excellent ink depositing properties in the image area can be obtained.

本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。ただし、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。   The invention is explained in more detail by means of examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

〔実施例1〜39、比較例1〜4〕
(バック第1層の形成)
厚さ180μmの表面に0.01kW/m2/分のコロナ放電処理を施した2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイルムのウェッブ状支持体の上に、下記の塗布液をワイヤーバーコート法により塗布し、180℃で30秒間乾燥して乾燥膜厚0.2μmのバック第1層を形成した。
[Examples 1-39, Comparative Examples 1-4]
(Formation of back first layer)
The following coating solution was applied by a wire bar coating method onto a biaxially stretched polyethylene terephthalate film web-like support having a surface of 180 μm thickness subjected to a corona discharge treatment of 0.01 kW / m 2 / min. A back first layer having a dry film thickness of 0.2 μm was formed by drying at 30 ° C. for 30 seconds.

<バック第1層塗布液>
・ジュリマーET−410
(日本純薬(株)製アクリル樹脂水分散物、固形分30質量%) 1.9質量部
・導電性粒子(酸化スズ−酸化アンチモン水分散物、
平均粒径0.05μm、17質量%) 9.1質量部
・デナコールEX−614B(ナガセケムテックス(株)製エポキシ化合物、
有効成分濃度:100質量%) 0.18質量部
・サンデッドBL(三洋化成工業(株)製
アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液、44質量%) 0.14質量部
・エマレックス710(日本エマルジョン(株)製
ポリオキシエチレンアルキルエーテル、100質量%) 0.06質量部
・蒸留水 89質量部
<Back first layer coating solution>
・ Julimar ET-410
(Nippon Pure Chemicals Co., Ltd. acrylic resin aqueous dispersion, solid content 30% by mass) 1.9 parts by mass Conductive particles (tin oxide-antimony oxide aqueous dispersion,
9.1 parts by mass Denacol EX-614B (epoxy compound manufactured by Nagase ChemteX Corporation),
Active ingredient concentration: 100% by mass) 0.18 parts by mass • Sanded BL (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., alkyl sulfonic acid sodium salt aqueous solution, 44% by mass) 0.14 parts by mass • Emarex 710 (Japan Emulsion Co., Ltd.) Manufactured polyoxyethylene alkyl ether, 100% by mass) 0.06 parts by mass • 89 parts by mass of distilled water

(バック第2層の形成)
下記の塗布液を上記バック第1層上に、ワイヤーバーコート法により塗布し、170℃で30秒間乾燥して乾燥膜厚0.07μmのバック第2層を形成した。
(Formation of back second layer)
The following coating solution was applied onto the back first layer by a wire bar coating method and dried at 170 ° C. for 30 seconds to form a back second layer having a dry film thickness of 0.07 μm.

<バック第2層塗布液>
・ケミパールS−120(三井化学(株)製
ポリオレフィン系ラテックス、固形分27質量%) 1.6質量部
・スノーテックスC(日産化学(株)製
コロイダルシリカ、固形分20質量%) 1.1質量部
・サンデッドBL(三洋化成工業(株)製
アルキルスルホン酸ナトリウム塩水溶液、44質量%) 0.12質量部
・エマレックス710(日本エマルジョン(株)製
ポリオキシエチレンアルキルエーテル、100質量%) 0.05質量部
・デナコールEX−614B(ナガセケムテックス(株)製
エポキシ化合物、有効成分濃度:100質量%) 0.15質量部
・ケミパールW−950(三井化学(株)製
ポリオレフィンマット剤、固形分40質量%) 0.04質量部
・蒸留水 97質量部
<Back second layer coating solution>
Chemipearl S-120 (Mitsui Chemicals Co., Ltd. polyolefin latex, solid content 27% by mass) 1.6 parts by mass Snowtex C (Nissan Chemical Co., Ltd. colloidal silica, solid content 20% by mass) 1.1 Part by weight ・ Sanded BL (Sanyo Chemical Industries, Ltd., alkylsulfonic acid sodium salt aqueous solution, 44 mass%) 0.12 parts by mass ・ Emalex 710 (Nihon Emulsion Co., Ltd. polyoxyethylene alkyl ether, 100 mass%) 0.05 parts by mass-Denacol EX-614B (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, epoxy compound, active ingredient concentration: 100% by mass) 0.15 parts by mass-Chemical Pearl W-950 (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., polyolefin matting agent, (Solid content 40% by mass) 0.04 parts by mass-97 parts by mass of distilled water

(コロナ放電処理)
上記のバック層を設けた支持体の反対側の表面に、雰囲気ガスに空気を用いてKNIパワーシステム社製コロナ表面処理機R8−8により、表1に記載の処理量でコロナ放電処理を施した。この支持体を一旦巻き取った後、25℃50%RHの条件下で表1に記載の期間経時させた。
(Corona discharge treatment)
The opposite surface of the support provided with the back layer was subjected to corona discharge treatment at a treatment amount shown in Table 1 using a corona surface treatment machine R8-8 manufactured by KNI Power Systems, using air as the atmospheric gas. did. After winding up this support body, it was made to age with the period of Table 1 on condition of 25 degreeC50% RH.

(光熱変換層の形成)
下記の混合液をガラスビーズとともにペイントシェーカーにて30分間攪拌しカーボンブラックを分散させ、ガラスビーズをろ別した後、界面活性剤KF333(大日本インキ化学工業(株)製)を0.005g添加、攪拌し、光熱変換層塗布液を作成した。
この塗布液を、上記のコロナ放電処理後に経時させた支持体のコロナ放電処理面に、ワイヤーバーコート法により乾燥膜厚1.0μmとなるように塗布した。これを150℃で1分、加熱乾燥して光熱変換層を形成した。
(Formation of photothermal conversion layer)
The following mixture is stirred with a glass bead for 30 minutes in a paint shaker to disperse the carbon black, and after filtering the glass beads, 0.005 g of a surfactant KF333 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) is added. The mixture was stirred to prepare a photothermal conversion layer coating solution.
This coating solution was applied to the corona discharge treated surface of the support aged after the corona discharge treatment by a wire bar coating method so as to have a dry film thickness of 1.0 μm. This was heat-dried at 150 ° C. for 1 minute to form a photothermal conversion layer.

<光熱変換層塗布液>
・ポリウレタン(ジフェニルメタンジイソシアネート:5モル、ポリプロピレン
グリコール:1モル、2,2’−ジメチロールプロパン酸:4モルの
反応生成物) 3.0質量部
・表1に記載のカーボンブラック 表1に記載の量
・ソルスパースS24000R(ICI社製) 0.15質量部
・ソルスパースS17000(ICI社製) 0.15質量部
・メチルエチルケトン 29質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 15質量部
<Photothermal conversion layer coating solution>
Polyurethane (diphenylmethane diisocyanate: 5 mol, polypropylene glycol: 1 mol, 2,2′-dimethylolpropanoic acid: 4 mol reaction product) 3.0 parts by mass Carbon black listed in Table 1 Amount ・ Solsperse S24000R (manufactured by ICI) 0.15 mass parts ・ Solsperse S17000 (manufactured by ICI) 0.15 mass parts ・ Methyl ethyl ketone 29 mass parts ・ Propylene glycol monomethyl ether 15 mass parts

(シリコーンゴム層の形成)
下記の塗布液を前記光熱交換層上に塗布し、150℃で1分、加熱乾燥することにより、乾燥塗布量1.5g/m2の付加型シリコーンゴム層を形成した。
(Formation of silicone rubber layer)
The following coating solution was applied onto the photothermal exchange layer and dried by heating at 150 ° C. for 1 minute to form an addition type silicone rubber layer having a dry coating amount of 1.5 g / m 2 .

<シリコーンゴム層塗布液>
・FS−42(信越化学工業(株)製、
α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン、平均重合度1300) 9.0質量部
・(CH33SiO(SiH(CH3)O)8−Si(CH33 0.2質量部
・オレフィン配位白金触媒 0.1質量部
・制御剤[HC≡C−C(CH32−O−Si(CH33] 0.2質量部
・アイソパーE(エクソン化学(株)製) 120.0質量部
<Silicone rubber layer coating solution>
・ FS-42 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.,
α, ω-Divinylpolydimethylsiloxane, average degree of polymerization 1300) 9.0 parts by mass (CH 3 ) 3 SiO (SiH (CH 3 ) O) 8 -Si (CH 3 ) 3 0.2 parts by mass Coordinate platinum catalyst 0.1 parts by mass Control agent [HC≡C—C (CH 3 ) 2 —O—Si (CH 3 ) 3 ] 0.2 part by mass • Isopar E (Exxon Chemical Co., Ltd.) 120. 0 parts by mass

上記のようにして、実施例1〜39及び比較例1〜4に用いる水なし平版印刷版原版を得た。   As described above, waterless planographic printing plate precursors used in Examples 1 to 39 and Comparative Examples 1 to 4 were obtained.

Figure 2006130911
Figure 2006130911

〔実施例40〜62、比較例5〜8〕
前記の実施例1と同様に、支持体上にバック第1層およびバック第2層を形成した。
(光熱変換層の形成)
下記の混合液をガラスビーズとともにペイントシェーカーにて30分間攪拌しカーボンブラックを分散させ、ガラスビーズをろ別した後、界面活性剤KF333(大日本インキ化学工業(株)製)を0.005g添加、攪拌し、光熱変換層塗布液を作製した。
この塗布液を、上記のバック層を設けた支持体の反対側の表面に、後述の方法で測定して求めたO/C元素比が表2に記載の値となるようにコロナ放電処理を施した後、ワイヤ
ーバーコート法により乾燥膜厚1.0μmとなるように塗布した。これを150℃で1分、加熱乾燥して光熱変換層を形成した。
[Examples 40 to 62, Comparative Examples 5 to 8]
In the same manner as in Example 1, the back first layer and the back second layer were formed on the support.
(Formation of photothermal conversion layer)
The following mixture is stirred with a glass bead for 30 minutes in a paint shaker to disperse the carbon black, and after filtering the glass beads, 0.005 g of a surfactant KF333 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) is added. The mixture was stirred to prepare a photothermal conversion layer coating solution.
Corona discharge treatment was performed so that the O / C element ratio obtained by measuring this coating solution on the opposite surface of the support provided with the above-mentioned back layer by the method described later has the values shown in Table 2. After the application, it was applied by a wire bar coating method so as to have a dry film thickness of 1.0 μm. This was heat-dried at 150 ° C. for 1 minute to form a photothermal conversion layer.

<光熱変換層塗布液>
・ポリウレタン(ジフェニルメタンジイソシアネート:5モル、ポリプロピレン
グリコール:1モル、2,2’−ジメチロールプロパン酸:4モルの
反応生成物) 3.0質量部
・表2に記載のカーボンブラック 表2に記載の量
・ソルスパースS24000R(ICI社製) 0.15質量部
・ソルスパースS17000(ICI社製) 0.15質量部
・メチルエチルケトン 29質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 15質量部
<Photothermal conversion layer coating solution>
Polyurethane (diphenylmethane diisocyanate: 5 mol, polypropylene glycol: 1 mol, 2,2′-dimethylolpropanoic acid: 4 mol reaction product) 3.0 parts by mass Carbon black listed in Table 2 Amount ・ Solsperse S24000R (manufactured by ICI) 0.15 mass parts ・ Solsperse S17000 (manufactured by ICI) 0.15 mass parts ・ Methyl ethyl ketone 29 mass parts ・ Propylene glycol monomethyl ether 15 mass parts

光熱変換層を形成した後は、実施例1と同様にしてシリコーンゴム層を形成し、実施例40〜62、比較例5〜8に用いる水なし平版印刷版原版を得た。   After the formation of the photothermal conversion layer, a silicone rubber layer was formed in the same manner as in Example 1, and waterless lithographic printing plate precursors used in Examples 40 to 62 and Comparative Examples 5 to 8 were obtained.

Figure 2006130911
Figure 2006130911

(ESCAによるコロナ放電処理後の支持体表面O/C元素比測定)
PHI−5400MCのESCA測定装置を用い、X線源:Mg−Kα(400W)、パスエネルギー:71.55eV/178.95eV、分析面積:1.1mmφ、測定モード:ナロースキャン(C1s、O1s、N1s)、光電子取り出し角度:20°の条件で測定し、その元素組成比からO/C元素比を計算した。各サンプルについて3回測定しその平均値を求めた。
(Measurement of O / C element ratio of support surface after corona discharge treatment by ESCA)
Using an ESCA measuring apparatus of PHI-5400MC, X-ray source: Mg-Kα (400 W), path energy: 71.55 eV / 178.95 eV, analysis area: 1.1 mmφ, measurement mode: narrow scan (C1s, O1s, N1s ), Photoelectron take-off angle: measured at 20 °, and O / C element ratio was calculated from the element composition ratio. Each sample was measured three times and the average value was obtained.

<カーボンブラック(1)>
原料カーボンブラックの#40(三菱化学(株)製)を、オゾン発生装置に接続した気相流動槽にカラム体積の1/10に相当する量を入れ、オゾン流量2.0Nm3/hr、オゾン濃度10g/Nm3、反応時間50分、室温の条件で酸化処理を施し、酸化処理を施したカーボンブラック(1)を得た。
<Carbon black (1)>
Raw material carbon black # 40 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was charged in an amount corresponding to 1/10 of the column volume in a gas phase fluidized tank connected to an ozone generator, ozone flow rate was 2.0 Nm 3 / hr, ozone Oxidation treatment was performed under conditions of a concentration of 10 g / Nm 3 , a reaction time of 50 minutes, and room temperature to obtain an oxidized carbon black (1).

<カーボンブラック(2)>
原料カーボンブラックの#40(三菱化学(株)製)を、耐熱性バットに厚さ2mm程度に敷き詰め、それを大気雰囲気の電気炉内に入れ、50℃/hrの昇温速度で350℃まで昇温し、5時間保持した後、自然冷却し、酸化処理されたカーボンブラック(2)を得た。
<Carbon black (2)>
Raw material carbon black # 40 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) is spread over a heat-resistant bat to a thickness of about 2 mm, placed in an electric furnace in an air atmosphere, and heated to 350 ° C. at a rate of 50 ° C./hr. The temperature was raised and held for 5 hours, and then naturally cooled to obtain oxidized carbon black (2).

<カーボンブラック(3)>
原料カーボンブラックの#40(三菱化学(株)製)10gを、30質量%過酸化水素水450gと混合し、硫酸を加えてpHを1に調製し、12時間室温にて静置した後、濾過、水洗、乾燥し、酸化処理されたカーボンブラック(3)を得た。
<Carbon black (3)>
After mixing 10 g of raw material carbon black # 40 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) with 450 g of 30% by mass hydrogen peroxide solution, sulfuric acid was added to adjust the pH to 1, and the mixture was allowed to stand at room temperature for 12 hours. Filtration, washing with water and drying yielded an oxidized carbon black (3).

<カーボンブラック(4)>
原料カーボンブラックの#40(三菱化学(株)製)10gを、60質量%硝酸水溶液30gと混合し、48時間室温にて静置した後、濾過、水洗、乾燥し、酸化処理されたカーボンブラック(4)を得た。
<Carbon black (4)>
Carbon black # 40 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) of raw material carbon black was mixed with 30 g of 60% by mass nitric acid aqueous solution and allowed to stand at room temperature for 48 hours, followed by filtration, washing with water, drying, and oxidation treatment. (4) was obtained.

<カーボンブラック(5)>
原料カーボンブラックの#40(三菱化学(株)製)10gを、過マンガン酸カリウムの4N硫酸溶液250gと混合し、2時間室温にて静置した後、濾過、水洗、乾燥し、酸化処理されたカーボンブラック(5)を得た。
<Carbon black (5)>
10g of raw material carbon black # 40 (Mitsubishi Chemical Corporation) was mixed with 250g of 4N sulfuric acid solution of potassium permanganate and allowed to stand at room temperature for 2 hours, then filtered, washed with water, dried and oxidized. Carbon black (5) was obtained.

〔水なし平版印刷版原版の評価〕
(耐傷性のモデル評価)
得られた本発明の水なし平版印刷版原版を、Presstek社製プレートセッターPEARLsetter(波長830nm、ビ−ム径28μm(1/e2)、最大出力750mWの半導体レーザー搭載)にて、175lpi(1270dpi)の網点画像形成を行った。その後、下記組成の処理液1を含ませた現像用パッドで版面をこすり、レーザー照射部のシリコーンゴム層を除去した。その結果、網点面積率2%から98%までが再現されたシャープなエッジのシリコーン画像を有する水なし平版印刷版が形成された。
[Evaluation of waterless planographic printing plate precursor]
(Scratch resistance model evaluation)
The obtained waterless lithographic printing plate precursor of the present invention was subjected to 175 lpi (1270 dpi) using a press setter PEARL setter (wavelength 830 nm, beam diameter 28 μm (1 / e 2 ), mounted with a semiconductor laser having a maximum output of 750 mW). ) Dot image formation was performed. Thereafter, the plate surface was rubbed with a developing pad containing the treatment liquid 1 having the following composition to remove the silicone rubber layer in the laser irradiation portion. As a result, a waterless lithographic printing plate having a sharp-edged silicone image in which a dot area ratio of 2% to 98% was reproduced was formed.

<処理液1>
・ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート
(花王(株)製レオドールTW−O106) 5g
・水垢防止剤BK2(富士写真フイルム(株)製) 2g
・水 993g
<Processing liquid 1>
・ Polyoxyethylene sorbitan monooleate (Reodol TW-O106 manufactured by Kao Corporation) 5g
-Anti-scale agent BK2 (Fuji Photo Film Co., Ltd.) 2g
・ 993g of water

これらの水なし平版印刷版の耐傷性を評価するため、得られた水なし平版印刷版の非画像部に、HEIDON−14(新東化学(株)製表面性試験機)を用い、0.5ミリφの
サファイア針に50〜500gまで50gおきに荷重を変えてスクラッチ試験を行った。このようにして形成された水なし平版印刷版を用いて印刷(印刷機:三菱重工業(株)製ダイヤ1F−2、インキ:東洋インキ製造(株)製アクアレスエコーニューM墨、インキ着けローラー冷却:20℃)を行い、500枚印刷後の印刷物で非画像部スクラッチ部の汚れ発生有無を観察し、インキ汚れが発生し始めるサファイア針荷重を読み取り本評価の指標とした。結果を表3および4に示す。
In order to evaluate the scratch resistance of these waterless lithographic printing plates, HEIDON-14 (surface property tester manufactured by Shinto Chemical Co., Ltd.) was used for the non-image part of the obtained waterless lithographic printing plate. A scratch test was conducted by changing the load on a 5-mmφ sapphire needle every 50 g from 50 to 500 g. Printing using the waterless planographic printing plate formed in this way (printing machine: Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Diamond 1F-2, ink: Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Aqualess Echo New M ink, ink form roller Cooling: 20 ° C.), the printed matter after printing 500 sheets was observed for the presence or absence of smudges in the non-image area scratch portion, and the sapphire needle load at which ink smear began to occur was read and used as an index for this evaluation. The results are shown in Tables 3 and 4.

Figure 2006130911
Figure 2006130911

Figure 2006130911
Figure 2006130911

表3および4から明らかなように、本発明に係る実施例の水なし平版印刷版原版は良好な耐傷性を有しており、中でも酸化処理したカーボンブラックを含有した光熱変換層と併用した実施例1〜実施例20、実施例25〜39、及び実施例46〜62は極めて良好な耐傷性を有しているが、比較例1〜8の水なし平版印刷版原版は不満足な結果であった。   As is apparent from Tables 3 and 4, the waterless lithographic printing plate precursors of the examples according to the present invention have good scratch resistance, and in particular, they were used in combination with a photothermal conversion layer containing oxidized carbon black. Examples 1 to 20, Examples 25 to 39, and Examples 46 to 62 have very good scratch resistance, but the waterless lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 to 8 had unsatisfactory results. It was.

(耐傷性の実技評価)
得られた本発明の実施例及び比較例に用いられる水なし平版印刷版原版をロール形態に加工し、Heidelberg社製フルカラー印刷システム機“QuickmasterDI46−4pro”に搭載した。続いてこの印刷機上で、露光、露光部のシリコーンカスの除去、印刷(インキ:東洋インキ製造(株)製アクアレスエコーニューM墨)を行い、2万枚印刷後の印刷物上に非画像部のキズによるインキ汚れがないか評価したところ、比較例の水なし平版印刷版では1版当たり平均2個のインキ汚れが発生したが、実施例の水なし平版印刷版では全くインキ汚れが発生せず、良好な印刷物が得られた。
(Scratch resistance practical evaluation)
The obtained waterless lithographic printing plate precursor used in Examples and Comparative Examples of the present invention was processed into a roll form and mounted on a full color printing system machine “QuickmasterDI46-4pro” manufactured by Heidelberg. Subsequently, on this printing machine, exposure, removal of silicone residue from the exposed area, and printing (ink: Aqualess Echo New M ink manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) are performed, and a non-image is printed on the printed material after printing 20,000 sheets. As a result of evaluation of ink stains due to scratches on the surface, an average of 2 ink stains were generated per plate in the waterless lithographic printing plate of the comparative example, but ink stains were completely generated in the waterless lithographic printing plate of the examples. No good printed matter was obtained.

Claims (6)

支持体上に、少なくとも光熱変換層及びシリコーンゴム層を順次積層してなる湿し水不要平版印刷版原版の製造方法であって、支持体上に0.01〜0.12kW/m2/分のコロナ放電処理を施してから10分以上1ヶ月以内の経時後に、該コロナ放電処理面上に光熱変換層を直接設けることを特徴とする湿し水不要平版印刷版原版の製造方法。 A method for producing a dampening water-free lithographic printing plate precursor comprising at least a light-to-heat conversion layer and a silicone rubber layer sequentially laminated on a support, comprising 0.01 to 0.12 kW / m 2 / min on the support A process for producing a lithographic printing plate precursor requiring no dampening water, wherein a photothermal conversion layer is directly provided on the corona discharge-treated surface after a lapse of 10 minutes to 1 month after the corona discharge treatment. 支持体が、二軸延伸処理したポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする請求項1に記載の湿し水不要平版印刷版原版の製造方法。   The method for producing a dampening-free lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the support is a biaxially stretched polyethylene terephthalate. コロナ放電処理量が、0.06〜0.09kW/m2/分であることを特徴とする請求項1又は2に記載の湿し水不要平版印刷版原版の製造方法。 The method for producing a dampening-free lithographic printing plate precursor according to claim 1 or 2, wherein the corona discharge treatment amount is 0.06 to 0.09 kW / m 2 / min. ポリエチレンテレフタレート支持体上に、少なくとも光熱変換層及びシリコーンゴム層を順次積層してなる湿し水不要平版印刷版原版であって、X線光電子分光法(ESCA)で測定した支持体表面の酸素/炭素元素比が0.41以上となるように支持体表面にコロナ放電処理を施した後に、該コロナ放電処理面上に光熱変換層を直接設けたことを特徴とする湿し水不要平版印刷版原版。   A dampening-free lithographic printing plate precursor in which at least a photothermal conversion layer and a silicone rubber layer are sequentially laminated on a polyethylene terephthalate support, and the surface oxygen of the support measured by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) A dampening-free lithographic printing plate comprising a photothermal conversion layer directly provided on the corona discharge-treated surface after the support surface is subjected to a corona discharge treatment so that the carbon element ratio is 0.41 or more. Original edition. 光熱変換層が、酸化処理されたカーボンブラックを含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の湿し水不要平版印刷版原版の製造方法。   The method for producing a dampening-free lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4, wherein the photothermal conversion layer contains oxidized carbon black. 光熱変換層中の酸化処理されたカーボンブラックの含有率が、光熱変換層全固形分に対して35質量%以上であることを特徴とする請求項5に記載の湿し水不要平版印刷版原版の製造方法。   The lithographic printing plate precursor requiring no fountain solution according to claim 5, wherein the content of oxidized carbon black in the photothermal conversion layer is 35% by mass or more based on the total solid content of the photothermal conversion layer. Manufacturing method.
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