KR20160058490A - 뷰 포트(view port)를 포함하는 플라즈마 공정 설비 - Google Patents

뷰 포트(view port)를 포함하는 플라즈마 공정 설비 Download PDF

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KR20160058490A
KR20160058490A KR1020140160035A KR20140160035A KR20160058490A KR 20160058490 A KR20160058490 A KR 20160058490A KR 1020140160035 A KR1020140160035 A KR 1020140160035A KR 20140160035 A KR20140160035 A KR 20140160035A KR 20160058490 A KR20160058490 A KR 20160058490A
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정경석
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삼성전자주식회사
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Abstract

플라즈마 공정 설비가 제공된다. 상기 플라즈마 공정 설비는 뷰 포트(view port)를 포함하는 공정 챔버; 상기 공정 챔버의 상기 뷰 포트 내에 위치하는 윈도우 플레이트; 및 상기 공정 챔버의 내측을 향한 상기 윈도우 플레이트의 표면 상에 위치하는 광 가이드를 포함한다. 상기 광 가이드는 일측 방향으로 평행하게 연장하는 개구부들을 포함한다.

Description

뷰 포트(view port)를 포함하는 플라즈마 공정 설비{Plasma process apparatus having a view port}
본 발명은 플라즈마에 의한 빛이 통과하는 뷰 포트를 포함하는 플라즈마 공정 설비에 관한 것이다.
플라즈마 식각 장치와 같은 플라즈마 공정 설비는 플라즈마에 의한 빛을 분석하여 플라즈마의 상태 및 공정을 모니터링할 수 있다. 플라즈마에 의힌 빛은 공정 챔버의 뷰 포트 내에 위치하는 투광 부재를 통해 분석 유닛으로 인가될 수 있다. 투광 부재의 윈도우 플레이트의 표면에는 플라즈마에 의해 생성된 공정 부산물이 증착될 수 있다. 플라즈마 공정 설비에서는 윈도우 플레이트의 진행성 막힘을 방지하고, 공정 초기부터 분석 유닛으로 인가되는 광량을 충분히 확보하기 위한 다양한 연구가 진행되고 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 공정 챔버의 내부에 생성된 플라즈마에 의한 빛을 이용하여 플라즈마의 상태 및 공정을 정밀하게 모니터링할 수 있는 플라즈마 공정 설비를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 다른 과제는 공정 챔버의 뷰 포트 내에 위치하는 투광 부재의 윈도우 플레이트의 진행성 막힘을 방지할 수 있는 플라즈마 공정 설비를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 공정 초기부터 투광 부재를 통해 분석 유닛으로 인가되는 빛을 충분히 확보할 수 있는 플라즈마 공정 설비를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 앞서 언급한 과제들로 한정되지 않는다. 여기서 언급되지 않은 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 것이다.
상기 해결하고자 하는 과제를 달성하기 위한 본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 공정 설비는 뷰 포트(view port)를 포함하는 공정 챔버; 상기 공정 챔버의 상기 뷰 포트 내에 위치하는 윈도우 플레이트; 및 상기 공정 챔버의 내측을 향한 상기 윈도우 플레이트의 표면 상에 위치하는 광 가이드를 포함한다. 상기 광 가이드는 일측 방향으로 평행하게 연장하는 개구부들을 포함한다.
상기 플라즈마 공정 설비는 상기 공정 챔버의 내측을 향한 상기 광 가이드의 표면 상에 위치하는 가이드 코팅막을 더 포함할 수 있다.
상기 가이드 코팅막은 이트리아(Y2O3)를 포함할 수 있다.
상기 가이드 코팅막은 상기 개구부들의 내측벽을 따라 연장할 수 있다.
상기 플라즈마 공정 설비는 상기 윈도우 플레이트와 상기 광 가이드 사이에 위치하는 밀폐 부재를 더 포함할 수 있다. 상기 밀폐 부재는 상기 개구부들을 둘러쌀 수 있다.
상기 광 가이드는 상기 밀폐 부재를 수용하는 플랜지 홈을 더 포함할 수 있다.
상기 해결하고자 하는 다른 과제를 달성하기 위한 본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 공정 설비는 공정 대상물을 지지하는 공정 척 및 플라즈마에 의한 빛이 통과하는 뷰 포트를 포함하는 공정 챔버; 상기 공정 챔버의 상기 뷰 포트 내에 위치하는 투광 부재; 및 상기 투광 부재를 통해 인가되는 빛을 분석하는 분석 유닛을 포함한다. 상기 투광 부재는 일측 방향으로 연장하는 가이드 립들을 포함하는 광 가이드 및 상기 분석 유닛을 향한 상기 가이드 립들의 표면 상에 위치하는 윈도우 플레이트를 포함한다.
상기 가이드 립들은 상기 공정 척의 표면과 평행한 방향으로 연장할 수 있다.
상기 광 가이드는 상기 공정 챔버의 내측을 향한 상기 가이드 립들의 끝단들을 감싸는 가이드 코팅막을 더 포함할 수 있다.
상기 광 가이드는 표면 상에 형성되는 가이드 산화물 막(guide oxidized layer)을 더 포함할 수 있다. 상기 가이드 코팅막은 상기 가이드 산화물 막 상에 위치할 수 있다.
상기 가이드 립들은 동일한 폭을 가질 수 있다.
인접한 가이드 립들 사이의 거리는 상기 가이드 립들 각각의 폭보다 클 수 있다.
상기 광 가이드는 상기 가이드 립들의 외측에 위치하는 가이드 플랜지를 더 포함할 수 있다. 상기 윈도우 플레이트와 상기 가이드 플랜지 사이의 거리는 상기 가이드 립들과 상기 윈도우 플레이트 사이의 거리보다 클 수 있다.
상기 가이드 립들은 상기 윈도우 플레이트와 직접 접촉할 수 있다.
상기 분석 유닛은 광학 방출 분광계(Optic Emission Spectrometer; OES)를 포함할 수 있다.
상기 해결하고자 하는 다른 과제를 달성하기 위한 본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 공정 설비는 뷰 포트를 포함하는 공정 챔버; 상기 공정 챔버의 상기 뷰 포트 내에 위치하고, 다수의 슬릿들을 포함하는 가이드 몸체 및 상기 가이드 몸체의 외측에 위치하는 가이드 플랜지를 포함하는 광 가이드; 상기 공정 챔버의 외측을 향한 상기 가이드 몸체의 표면 상에 위치하는 윈도우 플레이트; 및 상기 다수의 슬릿들과 상기 윈도우 플레이트를 통해 인가되는 빛을 분석하는 분석 유닛을 포함한다.
상기 가이드 플랜지의 대향하는 표면들은 상기 가이드 몸체의 대향하는 표면들 사이에 위치할 수 있다.
상기 광 가이드는 상기 가이드 플랜지로부터 상기 공정 챔버의 내측 방향으로 돌출된 상기 가이드 몸체의 표면 상에 위치하는 가이드 코팅막을 더 포함할 수 있다.
상기 플라즈마 공정 설비는 상기 윈도우 플레이트와 상기 광 가이드 사이에 위치하는 커버 플레이트를 더 포함할 수 있다. 상기 커버 플레이트의 플라즈마 내성은 상기 윈도우 플레이트의 플라즈마 내성보다 클 수 있다.
상기 커버 플레이트의 두께는 상기 윈도우 플레이트의 두께보다 작을 수 있다.
본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 공정 설비는 공정 챔버의 뷰 포트 내에 위치하는 투광 부재가 윈도우 플레이트 및 윈도우 플레이트의 진행성 막힘을 방지하는 광 가이드를 포함한다. 본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 공정 초기부터 광 가이드 및 윈도우 플레이트를 통해 분석 유닛으로 인가되는 빛이 충분히 확보될 수 있다. 따라서 본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 공정 챔버의 내부에 생성된 플라즈마의 상태 및 공정이 정밀하게 모니터링될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 투광 부재를 나타낸 도면이다.
도 3 및 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 광 가이드를 나타낸 도면들이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 광 가이드를 나타낸 정면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 광 가이드를 나타낸 정면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 광 가이드를 나타낸 단면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 투광 부재를 나타낸 단면도이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 투광 부재를 나타낸 도면이다.
본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 이에 따른 작용 효과에 관한 자세한 사항은 본 발명의 실시 예를 도시하고 있는 도면을 참조한 이하 상세한 설명에 의해 더욱 명확하게 이해될 것이다. 여기서, 본 발명의 실시 예들은 당업자에게 본 발명의 기술적 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위하여 제공되는 것이므로, 본 발명은 이하 설명되는 실시 예들에 한정되지 않도록 다른 형태로 구체화될 수 있다.
또한, 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조 번호로 표시된 부분들은 동일한 구성 요소들을 의미하며, 도면들에 있어서 층 또는 영역의 길이와 두께는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 덧붙여, 제 1 구성 요소가 제 2 구성 요소 "상"에 있다고 기재되는 경우, 상기 제 1 구성 요소가 상기 제 2 구성 요소와 직접 접촉하는 상측에 위치하는 것뿐만 아니라, 상기 제 1 구성 요소와 상기 제 2 구성 요소 사이에 제 3 구성 요소가 위치하는 경우도 포함한다.
여기서, 상기 제 1, 제 2 등의 용어는 다양한 구성 요소를 설명하기 위한 것으로, 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로 사용된다. 다만, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서는 제 1 구성 요소와 제 2 구성 요소는 당업자의 편의에 따라 임의로 명명될 수 있다.
본 발명의 명세서에서 사용하는 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용되는 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 예를 들어, 단수로 표현된 구성 요소는 문맥상 명백하게 단수만을 의미하지 않는다면 복수의 구성 요소를 포함한다. 또한, 본 발명의 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
덧붙여, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미가 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미가 있는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명의 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
　
(실시 예)
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비는 공정 챔버(100), 가스 공급부(200), 진공 펌프(300), 제 1 전원 공급부(400), 제 2 전원 공급부(500), 분석 유닛(600) 및 투광 부재(700)를 포함할 수 있다.
상기 공정 챔버(100)는 플라즈마를 이용하여 공정 대상물(W)을 가공하는 공간을 제공할 수 있다. 상기 공정 대상물(W)은 웨이퍼를 포함할 수 있다. 상기 공정 챔버(100)는 챔버 몸체(110), 공정 척(120), 상부 전극(130) 및 샤워 헤드(140)를 포함할 수 있다.
상기 챔버 몸체(110)는 플라즈마를 이용한 공정이 수행되는 공간을 둘러쌀 수 있다. 플라즈마에 의한 상기 공정 대상물(W)의 가공은 상기 챔버 몸체(110)의 내부에서 수행될 수 있다. 상기 챔버 몸체(110)는 유입구(inlet, 111), 배기구(outlet, 112) 및 뷰 포트(view port, 113)를 포함할 수 있다.
상기 유입구(111)는 상기 가스 공급부(200)와 연결될 수 있다. 상기 가스 공급부(200)는 상기 유입구(111)를 통해 상기 챔버 몸체(110)의 내부로 반응 가스를 공급할 수 있다. 예를 들어, 상기 유입구(111)는 상기 챔버 몸체(110)의 상면에 위치할 수 있다. 상기 배기구(112)는 상기 진공 펌프(300)와 연결될 수 있다. 상기 챔버 몸체(110)의 내부에 잔류하는 반응 가스 및 공정 부산물은 상기 배기구(112)를 통해 상기 챔버 몸체(110)의 외부로 배출될 수 있다. 예를 들어, 상기 배기구(112)는 상기 챔버 몸체(110)의 하면에 위치할 수 있다. 상기 챔버 몸체(110)의 내부에 생성된 플라즈마에 의한 빛은 상기 뷰 포트(113)를 통해 외부로 방출될 수 있다. 상기 뷰 포트(113)는 상기 챔버 몸체(110)의 측벽에 위치할 수 있다.
상기 공정 척(120)은 플라즈마를 이용한 공정이 수행되는 동안, 상기 공정 대상물(W)을 지지할 수 있다. 상기 공정 척(120)은 상기 챔버 몸체(110)의 내부에 위치할 수 있다. 상기 공정 척(120)은 상기 챔버 몸체(110)의 상기 유입구(111)에 대향하도록 위치할 수 있다. 예를 들어, 상기 공정 척(120)은 상기 챔버 몸체(110)의 하면 상에 위치할 수 있다.
상기 공정 척(120)은 상기 제 1 전원 공급부(400)와 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 상기 공정 척(120)은 정전 척(Electro-Static Chuck; ESC)을 포함할 수 있다.
상기 상부 전극(130)은 상기 제 2 전원 공급부(500)와 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 상기 공정 척(120)과 상기 상부 전극(130) 사이의 전압차에 의해 상기 챔버 몸체(110)의 내부에는 플라즈마가 생성될 수 있다.
상기 상부 전극(130)은 상기 공정 척(120)과 대향하도록 위치할 수 있다. 예를 들어, 상기 상부 전극(130)은 상기 챔버 몸체(110)의 상면에 위치할 수 있다. 상기 상부 전극(130)은 상기 챔버 몸체(110)의 상기 유입구(111)에 인접하게 위치할 수 있다. 예를 들어, 상기 챔버 몸체(110)의 상기 유입구(111)는 상기 상부 전극(130)을 관통할 수 있다.
상기 샤워 헤드(140)는 상기 가스 공급부(200)로부터 공급된 반응 가스를 상기 챔버 몸체(110)의 내부에 분사할 수 있다. 상기 샤워 헤드(140)는 상기 공정 척(120)과 대향하도록 위치할 수 있다. 상기 샤워 헤드(140)는 상기 챔버 몸체(110)의 상면 상에 위치할 수 있다. 예를 들어, 상기 샤워 헤드(140)는 상기 챔버 몸체(110)의 상기 유입구(111)의 하부에 위치할 수 있다. 상기 샤워 헤드(140)는 상기 상부 전극(130)의 하부에 위치할 수 있다. 예를 들어, 상기 샤워 헤드(140)는 상기 상부 전극(130)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 분석 유닛(600)은 상기 공정 챔버(100)의 상기 뷰 포트(113)를 통과한 빛을 이용하여 상기 공정 챔버(100)의 내부에 생성된 플라즈마의 변화를 모니터링할 수 있다. 상기 분석 유닛(600)은 상기 공정 챔버(100)의 외측에 위치할 수 있다. 상기 분석 유닛(600)은 광학 프로브(610), 광학 케이블(620) 및 플라즈마 분석부(630)를 포함할 수 있다.
상기 광학 프로브(610)는 상기 공정 챔버(100)의 상기 뷰 포트(113)에 가까이 위치할 수 있다. 상기 광학 케이블(620)은 상기 광학 프로브(610)를 상기 플라즈마 분석부(630)와 광학적으로 연결할 수 있다. 상기 플라즈마 분석부(630)는 상기 광학 프로브(610)와 상기 광학 케이블(620)을 통해 전달된 빛을 분석할 수 있다. 예를 들어, 상기 플라즈마 분석부(630)는 광학 방출 분광계(Optic Emission Spectrometer; OES)를 포함할 수 있다.
상기 분석 유닛(600)은 프로브 고정 덮개(640) 및 덮개 결합 부재(650)를 더 포함할 수 있다. 상기 프로브 고정 덮개(640)는 상기 광학 프로브(610)를 둘러쌀 수 있다. 상기 덮개 결합 부재(650)는 상기 프로브 고정 덮개(640)를 상기 공정 챔버(100)와 결합할 수 있다. 상기 광학 프로브(610)의 위치는 상기 프로브 고정 덮개(640) 및 상기 덮개 결합 부재(650)에 의해 고정될 수 있다.
상기 투광 부재(700)는 상기 공정 챔버(100)의 상기 뷰 포트(113) 내에 위치할 수 있다. 상기 공정 챔버(100)의 내부에 생성된 플라즈마에 의한 빛은 상기 투광 부재(700)를 통과할 수 있다. 상기 분석 유닛(600)은 상기 투광 부재(700)를 통해 인가된 빛을 분석할 수 있다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 투광 부재(700)를 나타낸 도면이다. 도 3은 도 2에 도시된 투광 부재(700)의 광 가이드를 나타낸 단면도이다. 도 4는 공정 챔버의 내측에서 바라본 도 2에 도시된 투광 부재(700)의 광 가이드를 나타낸 정면도이다.
도 2 내지 4를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 투광 부재(700)는 윈도우 플레이트(710), 광 가이드(720), 내측 밀폐 부재(730) 및 외측 밀폐 부재(740)를 포함할 수 있다.
상기 공정 챔버(100)의 내부에 생성된 플라즈마은 상기 윈도우 플레이트(710)를 통해 외부로 방출될 수 있다. 상기 윈도우 플레이트(710)는 투과율이 높은 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 윈도우 플레이트(710)는 석영을 포함할 수 있다.
상기 광 가이드(720)는 상기 윈도우 플레이트(710)의 진행성 막힘을 방지할 수 있다. 상기 공정 챔버(100)의 내부에 생성된 플라즈마에 의한 공정 부산물의 상기 윈도우 플레이트(710)를 향한 진행은 상기 광 가이드(720)에 의해 차단될 수 있다. 예를 들어, 플라즈마를 이용한 공정에 의해 생성된 공정 부산물은 상기 공정 챔버(100)의 내측을 향한 상기 광 가이드(720)의 표면 상에 증착될 수 있다.
상기 광 가이드(720)는 상기 공정 챔버(100)의 내측을 향한 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면 상에 위치할 수 있다. 상기 광 가이드(720)는 가이드 몸체(721), 가이드 플랜지(722) 및 가이드 코팅막(723)을 포함할 수 있다.
상기 가이드 몸체(721)는 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면을 부분적으로 가릴 수 있다. 상기 공정 챔버(100)의 내측을 향한 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면은 상기 가이드 몸체(721)에 의해 부분적으로 노출될 수 있다.
상기 가이드 몸체(721)는 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면 상에 위치할 수 있다. 상기 가이드 몸체(721)는 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면과 직접 접촉할 수 있다.
상기 가이드 몸체(721)는 상기 윈도우 플레이트(710)보다 물리적 강성이 큰 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 가이드 몸체(721)는 알루미늄을 포함할 수 있다.
상기 가이드 몸체(721) 내에는 개구부들(721s)이 위치할 수 있다. 상기 개구부들(721s)은 상기 가이드 몸체(721)를 관통할 수 있다. 상기 개구부들(721s)은 상기 공정 챔버(100)의 내측 방향으로 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면을 노출할 수 있다.
상기 개구부들(721s)은 일측 방향으로 연장할 수 있다. 예를 들어, 각각의 개구부(721s)는 슬릿 형상일 수 있다. 상기 개구부들(721s)은 서로 평행하게 연장할 수 있다. 예를 들어, 상기 개구부들(721s)은 Y축 방향으로 연장할 수 있다. 여기서, Y축 방향은 도 1에 도시된 공정 척(120)의 표면과 평행하게 상기 공정 챔버(100)의 뷰 포트(113)를 가로지르는 방향일 수 있다.
상기 가이드 몸체(721) 내에는 가이드 립들(721r)이 위치할 수 있다. 상기 가이드 립들(721r)은 상기 개구부들(721s) 사이에 위치할 수 있다. 상기 가이드 립들(721r)은 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면을 가로지를 수 있다. 상기 공정 챔버(100)의 내측 방향을 향한 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면은 상기 가이들 립들(721r)에 의해 가려질 수 있다.
상기 가이드 립들(721r)은 상기 개구부들(721s)에 의해 정의될 수 있다. 상기 가이드 립들(721r)은 일측 방향으로 연장할 수 있다. 상기 가이드 립들(721r)은 상기 개구부들(721s)과 동일한 방향으로 연장할 수 있다. 예를 들어, 상기 가이드 립들(721r)은 상기 Y축 방향으로 연장할 수 있다. 상기 가이드 립들(721r)은 서로 평행하게 연장할 수 있다.
상기 윈도우 플레이트(710)를 향한 상기 가이드 립들(721r)의 표면들은 상기 가이드 몸체(721)의 표면과 수직 정렬될 수 있다. 예를 들어, 상기 가이드 립들(721r)은 상기 윈도우 플레이트(710)와 직접 접촉할 수 있다. 상기 공정 챔버(100)의 내측을 향한 상기 가이드 립들(721r)의 표면들은 상기 공정 챔버(100)의 내측을 향한 상기 가이드 몸체(721)의 표면과 수직 정렬될 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 플라즈마에 의한 빛이 평행하게 배치된 슬릿 형상인 광 가이드(720)의 개구부들(721s)를 통해 윈도우 플레이트(710)로 진행할 수 있다. 즉, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비는 광 가이드(720)가 일측 방향으로 평행하게 연장하는 가이드 립들(721r)을 포함할 수 있다. 따라서 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 가이드 몸체(721)의 구조적 안정성을 유지하기 위하여 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면 상에 위치하는 영역을 최소화할 수 있다.
상기 가이드 립들(721r)은 동일한 폭을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 개구부들(721s) 각각의 폭은 상기 가이드 립들(721r) 각각의 폭보다 클 수 있다. 인접한 가이드 립들(721r) 사이의 거리는 상기 가이드 립들(721r) 각각의 폭보다 클 수 있다.
상기 가이드 플랜지(722)는 상기 공정 챔버(100)와 결합될 수 있다. 상기 광 가이드(720)는 상기 가이드 플랜지(722)를 통해 상기 공정 챔버(100)와 결합될 수 있다. 상기 가이드 몸체(721)의 위치는 상기 가이드 플랜지(722)에 의해 고정될 수 있다.
상기 가이드 플랜지(722)는 상기 가이드 몸체(721)의 외측에 위치할 수 있다. 상기 가이드 플랜지(722)는 상기 개구부들(721s)을 둘러쌀 수 있다. 상기 가이드 플랜지(722)는 상기 가이드 립들(721r)을 둘러쌀 수 있다.
상기 가이드 플랜지(722)는 상기 가이드 몸체(721)로부터 돌출된 형상일 수 있다. 상기 가이드 플랜지(722)는 상기 가이드 몸체(721)로부터 연장된 영역일 수 있다. 상기 가이드 플랜지(722)는 상기 가이드 몸체(721)와 동일 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 가이드 플랜지(722)는 알루미늄을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 가이드 플랜지(722)는 상기 가이드 몸체(721)와 일체형일 수 있다.
상기 가이드 플랜지(722)의 두께는 상기 가이드 몸체(721)의 두께보다 얇을 수 있다. 상기 윈도우 플레이트(710)를 향한 상기 가이드 플랜지(722)의 표면은 상기 윈도우 플레이트(710)를 향한 상기 가이드 몸체(721)의 표면보다 상기 공정 챔버(100)의 내측에 가까이 위치할 수 있다. 상기 가이드 플랜지(722)는 상기 윈도우 플레이트(710)와 이격될 수 있다. 상기 공정 챔버(710)의 내측을 향한 상기 가이드 플랜지(722)의 표면은 상기 공정 챔버(710)의 내측을 향한 상기 가이드 몸체(721)의 표면보다 상기 윈도우 플레이트(710)에 가까이 위치할 수 있다. 상기 가이드 플랜지(722)의 대향하는 표면들은 상기 가이드 몸체(721)의 대향하는 표면들 사이에 위치할 수 있다.
상기 공정 챔버(710)의 내측을 향한 상기 가이드 플랜지(722)의 표면은 상기 공정 챔버(100)의 측벽과 마주볼 수 있다. 예를 들어, 상기 가이드 플랜지(722)로부터 상기 공정 챔버(100)의 내측 방향으로 돌출된 상기 가이드 몸체(721)의 측면과 상기 공정 챔버(100) 사이의 거리는 상기 가이드 플랜지(722)의 측면과 상기 공정 챔버(100) 사이의 거리와 동일할 수 있다. 예를 들어, 상기 공정 챔버(100)의 상기 뷰 포트는 서로 다른 크기의 영역들을 포함하되, 상대적으로 작은 크기의 영역이 상기 공정 챔버(100)의 내측에 가까이 위치하는 형상일 수 있다.
상기 가이드 코팅막(723)은 상기 공정 챔버(100)의 내부에 생성된 플라즈마에 의한 상기 광 가이드(720)의 손상을 방지할 수 있다. 예를 들어, 플라즈마를 이용하여 공정 대상물(W)의 식각 공정이 수행되는 동안, 상기 광 가이드(723)는 상기 가이드 코팅막(723)에 의해 식각되지 않을 수 있다.
상기 가이드 코팅막(723)은 상기 공정 챔버(100)의 내측을 향한 상기 광 가이드(720)의 표면 상에 위치할 수 있다. 상기 공정 챔버(100)의 내측을 향한 상기 광 가이드(720)의 표면은 상기 가이드 코팅막(723)에 의해 덮힐 수 있다. 상기 가이드 코팅막(723)은 상기 가이드 플랜지(722)의 표면을 노출할 수 있다. 예를 들어, 상기 가이드 코팅막(723)은 상기 가이드 플랜지(722)로부터 상기 공정 챔버(100)의 내측 방향으로 돌출된 상기 가이드 몸체(721)의 표면 상에 위치할 수 있다.
상기 가이드 코팅막(723)은 상기 개구부들(721s)의 내측벽을 따라 연장할 수 있다. 예를 들어, 상기 가이드 코팅막(723)은 상기 공정 챔버(100)의 내측을 향한 상기 가이드 립들(721r)의 끝단들(end portions)을 감쌀 수 있다.
상기 가이드 코팅막(723)은 플라즈마와 반응성이 낮은 물질을 포함할 수 있다. 상기 가이드 코팅막(723)의 플라즈마 내성은 상기 가이드 몸체(721)의 플라즈마 내성이 클 수 있다. 예를 들어, 상기 가이드 코팅막(723)은 이트리아(Y2O3)를 포함할 수 있다.
상기 내측 밀폐 부재(730)는 상기 공정 챔버(100)의 내부에 생성된 플라즈마가 상기 광 가이드(720)의 표면을 따라 확산/진행되는 것을 방지할 수 있다.
상기 내측 밀폐 부재(730)는 상기 광 가이드(720)와 상기 공정 챔버(100) 사이에 위치할 수 있다. 예를 들어, 상기 내측 밀폐 부재(730)는 상기 공정 챔버(100)의 내측을 향한 상기 가이드 플랜지(722)의 표면 상에 위치할 수 있다.
상기 내측 밀폐 부재(730)는 상기 가이드 플랜지(722)를 따라 연장할 수 있다. 상기 내측 밀폐 부재(730)는 상기 개구부들(721s)을 둘러쌀 수 있다. 상기 내측 밀폐 부재(730)는 상기 가이드 립들(721r)을 둘러쌀 수 있다. 예를 들어, 상기 내측 밀폐 부재(730)는 오-링(Ooring)을 포함할 수 있다.
상기 가이드 플랜지(722)는 상기 내측 밀폐 부재(730)를 수용하는 내측 플랜지 홈(722a)을 포함할 수 있다. 상기 내측 밀폐 부재(730)의 위치는 상기 가이드 플랜지(722)의 상기 내측 플랜지 홈(722a)에 의해 고정될 수 있다.
상기 외측 밀폐 부재(740)는 상기 윈도우 플레이트(710)와 상기 광 가이드(720) 사이에 위치할 수 있다. 예를 들어, 상기 외측 밀폐 부재(740)는 상기 윈도우 플레이트(710)를 향한 상기 가이드 플랜지(722)의 표면 상에 위치할 수 있다. 상기 외측 밀폐 부재(740)는 상기 윈도우 플레이트(710)의 가장 자리 상에 위치할 수 있다.
상기 외측 밀폐 부재(740)는 상기 가이드 플랜지(722)를 따라 연장할 수 있다. 상기 외측 밀폐 부재(740)는 상기 윈도우 플레이트(710)의 가장 자리를 따라 연장할 수 있다. 상기 외측 밀폐 부재(740)는 상기 개구부들(721s)을 둘러쌀 수 있다. 상기 외측 밀폐 부재(740)는 상기 가이드 립들(721r)을 둘러쌀 수 있다. 상기 외측 밀폐 부재(740)는 상기 내측 밀폐 부재(730)와 동일한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 외측 밀폐 부재(740)는 오-링(Ooring)을 포함할 수 있다.
상기 가이드 플랜지(722)는 상기 외측 밀폐 부재(740)를 수용하는 외측 플랜지 홈(722b)을 더 포함할 수 있다. 상기 외측 밀폐 부재(740)의 위치는 상기 가이드 플랜지(722)의 상기 외측 플랜지 홈(722b)에 의해 고정될 수 있다.
상기 외측 플랜지 홈(722b)은 상기 가이드 플랜지(722)를 기준으로 상기 내측 플랜지 홈(722a)와 대칭될 수 있다. 상기 외측 밀폐 부재(740)는 상기 내측 밀폐 부재(730)와 다른 크기를 가질 수 있다. 상기 외측 플랜지 홈(722b)의 크기는 상기 내측 플랜지 홈(722b)의 크기와 다를 수 있다. 상기 외측 플랜지 홈(722b)의 깊이는 상기 내측 플랜지 홈(722b)의 깊이와 다를 수 있다.
상기 투광 부재(700)는 윈도우 고정 프레임(750), 프레임 결합 부재(760) 및 완충 부재(770)를 더 포함할 수 있다.
상기 윈도우 고정 프레임(750)은 상기 윈도우 플레이트(710)의 위치를 고정할 수 있다. 상기 윈도우 고정 프레임(750)은 상기 윈도우 플레이트(710)의 측면을 둘러쌀 수 있다. 상기 공정 챔버(100)의 외측을 향한 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면의 가장 자리는 상기 윈도우 고정 프레임(750)에 의해 덮힐 수 있다.
상기 프레임 결합 부재(760)는 상기 윈도우 고정 프레임(750)을 상기 공정 챔버(100)와 결합할 수 있다. 상기 프레임 결합 부재(760)는 상기 윈도우 플레이트(710)의 외측에 위치할 수 있다. 상기 프레임 결합 부재(760)는 상기 프레임 결합 부재(760)를 관통할 수 있다.
상기 프레임 결합 부재(760)는 상기 광 가이드(720)를 상기 공정 챔버(100)와 결합할 수 있다. 예를 들어, 상기 프레임 결합 부재(760)는 상기 광 가이드(720)를 관통할 수 있다. 상기 프레임 결합 부재(760)는 상기 내측 밀폐 부재(730) 및 상기 외측 밀폐 부재(740)의 외측에 위치할 수 있다.
상기 가이드 플랜지(722)는 상기 프레임 결합 부재(760)가 삽입되는 플랜지 결합 홀(722h)을 더 포함할 수 있다. 상기 플랜지 결합 홀(722h)는 상기 가이드 플랜지(722)를 관통할 수 있다. 상기 플랜지 결합 홀(722h)은 상기 내측 플랜지 홈(722a) 및 상기 외측 플랜지 홈(722b)의 외측에 위치할 수 있다.
상기 완충 부재(770)는 상기 윈도우 고정 프레임(750)에 의한 상기 윈도우 플레이트(710)의 손상을 방지할 수 있다. 상기 완충 부재(770)는 상기 공정 챔버(100)의 외측을 향한 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면 상에 위치할 수 있다. 상기 완충 부재(770)는 상기 윈도우 플레이트(710)의 가장 자리를 따라 연장할 수 있다. 예를 들어, 상기 완충 부재(770)는 오-링(O-ring)을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 공정 챔버(100)의 뷰 포트(113) 내에 위치하는 투광 부재가 상기 공정 챔버(100)의 내측을 향한 윈도우 플레이트(710)의 표면 상에 위치하며, 개구부들(721s)을 포함하는 광 가이드(720)를 포함할 수 있다. 이에 따라 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 윈도우 플레이트(710)의 진행성 막힘이 방지될 수 있다. 또한, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 광 가이드(720)의 개구부들(721s)이 일측 방향으로 평행하게 연장하는 슬릿 형상일 수 있다. 이에 따라 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 광 가이드의 개구부들(721s) 및 윈도우 플레이트(710)를 통해 분석 유닛(600)으로 진행되는 빛의 양을 최대화할 수 있다. 따라서 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 윈도우 플레이트(710)의 진행성 막힘을 방지하며, 공정 초기부터 투광 부재(700)를 통해 분석 유닛(600)으로 인가되는 빛을 충분히 확보할 수 있다. 결과적으로 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 공정 챔버(100)의 내부에 위치하는 플라즈마의 상태 및 공정이 정밀하게 모니터링 될 수 있다.
덧붙여, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 광 가이드(720)의 개구부들(721s) 및 가이드 립들(721r)이 Y축 방향으로 연장하는 것으로 설명되었으나, 도 5에 도시된 바와 같이, 광 가이드(720)의 개구부들(721s) 및 가이드 립들(721r)은 Z축 방향으로 연장할 수 있다. 여기서, Z축 방향은 도 1에 도시된 공정 척(120)의 표면과 수직한 방향일 수 있다. 또는 도 6에 도시된 바와 같이, 광 가이드(720)의 개구부들(721s) 및 가이드 립들(721r)은 상기 Y축 방향과 일정 경사를 갖는 대각선 방향으로 연장할 수 있다.
도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 광 가이드(720)를 나타낸 단면도이다.
도 7을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 투광 부재의 광 가이드(720)는 가이드 몸체(721), 가이드 플랜지(722), 가이드 코팅막(723) 및 가이드 산화물 막(guide oxidized layer, 724)을 포함할 수 있다.
상기 가이드 몸체(721) 내에는 개구부들(721s) 및 가이드 립들(721r)이 위치할 수 있다. 상기 가이드 플랜지(722)는 내측 플랜지 홈(722a), 외측 플랜지 홈(722b) 및 플랜지 결합 홀(722h)을 포함할 수 있다.
상기 가이드 산화물 막(724)은 상기 가이드 몸체(721)의 표면 상에 형성될 수 있다. 상기 가이드 산화물 막(724)은 상기 가이드 플랜지(722)의 표면 상에 형성될 수 있다. 상기 가이드 산화물 막(724)은 상기 가이드 립들(721r)의 표면 상에 형성될 수 있다. 상기 가이드 산화물 막(724)은 상기 가이드 몸체(721)와 상기 가이드 코팅막(724) 사이에 형성될 수 있다. 상기 가이드 코팅막(724)은 상기 가이드 산화물 막(724) 상에 위치할 수 있다.
상기 가이드 산화물 막(724)은 상기 가이드 몸체(721)와 동일 물질을 포함할 수 있다. 상기 가이드 산화물 막(724)은 상기 가이드 플랜지(722)와 동일 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 가이드 산화물 막(724)은 산화 알루미늄(Al2O3)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 가이드 산화물 막(724)은 양극 산화 공정(anodizing process)에 의해 형성될 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 광 가이드(720)의 표면 상에 가이드 산화물 막(724)이 형성될 수 있다. 이에 따라 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 플라즈마에 의한 광 가이드(720)의 손상 없이, 플라즈마를 이용한 플라즈마의 상태 및 공정이 정밀하게 모니터링될 수 있다.
도 8은 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 투광 부재(700)를 나타낸 도면이다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 투광 부재(700)는 윈도우 플레이트(710), 광 가이드(720), 내측 밀폐 부재(730), 외측 밀폐 부재(740), 윈도우 고정 프레임(750), 프레임 결합 부재(760) 및 완충 부재(770)를 포함할 수 있다.
상기 광 가이드(720)는 상기 윈도우 플레이트(710)와 이격될 수 있다. 상기 내측 밀폐 부재(730)는 상기 윈도우 플레이트(710) 및 상기 광 가이드(720)와 직접 접촉할 수 있다. 상기 윈도우 플레이트(710)와 상기 광 가이드(720) 사이의 공간은 상기 외측 밀폐 부재(740)에 의해 둘러싸일 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 투광 부재(700)를 공정 챔버(100)와 결합하는 동안, 윈도우 플레이트(710)의 손상이 방지될 수 있다. 이에 따라 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 윈도우 플레이트(710)의 손상 없이, 플라즈마를 이용한 플라즈마의 상태 및 공정이 정밀하게 모니터링될 수 있다.
도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 투광 부재(700)를 나타낸 도면이다.
도 9를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비의 투광 부재(700)는 윈도우 플레이트(710), 광 가이드(720), 내측 밀폐 부재(730), 외측 밀폐 부재(740), 윈도우 고정 프레임(750), 프레임 결합 부재(760), 완충 부재(770) 및 커버 플레이트(780)를 포함할 수 있다.
상기 커버 플레이트(780)는 상기 광 가이드(720)에 의해 노출된 상기 윈도우 플레이트(710)의 표면이 공정 챔버(100)의 내부에 생성된 플라즈마에 의해 손상되는 것을 방지할 있다.
상기 커버 플레이트(780)는 상기 윈도우 플레이트(710)와 상기 광 가이드(720) 사이에 위치할 수 있다. 상기 커버 플레이트(780)는 상기 윈도우 플레이트(710)와 직접 접촉할 수 있다. 상기 커버 플레이트(780)는 상기 광 가이드(720)의 일부 영역과 직접 접촉할 수 있다.
상기 외측 밀폐 부재(740)는 상기 광 가이드(720)와 상기 커버 플레이트(780) 사이에 위치할 수 있다. 상기 외측 밀폐 부재(740)는 상기 커버 플레이트(780)와 직접 접촉할 수 있다.
상기 커버 플레이트(780)의 플라즈마 내성은 상기 윈도우 플레이트(710)의 플라즈마 내성보다 클 수 있다. 예를 들어, 상기 커버 플레이트(780)는 사파이어를 포함할 수 있다.
상기 커버 플레이트(780)의 투과율은 상기 윈도우 플레이트(710)의 투과율보다 낮을 수 있다. 상기 커버 플레이트(780)의 두께는 상기 윈도우 플레이트(710)의 두께보다 작을 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 윈도우 플레이트(710)와 광 가이드(720) 사이에 커버 플레이트(780)가 위치할 수 있다. 이에 따라 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 커버 플레이트(780)에 의해 플라즈마에 의한 윈도우 플레이트(710)의 손상이 방지될 수 있다. 따라서 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 공정 설비에서는 공정 챔버(100)의 내부에 생성된 플라즈마에 의한 빛을 이용하여 플라즈마의 상태 및 공정이 정밀하게 모니터링될 수 있다.
100 : 공정 챔버 110 : 챔버 몸체
113 : 뷰 포트(view port) 700 : 투광 부재
710 : 윈도우 플레이트 720 : 광 가이드
721 : 가이드 몸체 722 : 가이드 플랜지
723 : 가이트 코팅막 730 : 내측 밀폐 부재
740 : 외측 밀폐 부재

Claims (20)

  1. 뷰 포트(view port)를 포함하는 공정 챔버;
    상기 공정 챔버의 상기 뷰 포트 내에 위치하는 윈도우 플레이트; 및
    상기 공정 챔버의 내측을 향한 상기 윈도우 플레이트의 표면 상에 위치하는 광 가이드를 포함하되,
    상기 광 가이드는 일측 방향으로 평행하게 연장하는 개구부들을 포함하는 플라즈마 공정 설비.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 공정 챔버의 내측을 향한 상기 광 가이드의 표면 상에 위치하는 가이드 코팅막을 더 포함하는 플라즈마 공정 설비.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 가이드 코팅막은 이트리아(Y2O3)를 포함하는 플라즈마 공정 설비.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 가이드 코팅막은 상기 개구부들의 내측벽을 따라 연장하는 플라즈마 공정 설비.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 윈도우 플레이트와 상기 광 가이드 사이에 위치하는 밀폐 부재를 더 포함하되,
    상기 밀폐 부재는 상기 개구부들을 둘러싸는 플라즈마 공정 설비.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 광 가이드는 상기 밀폐 부재를 수용하는 플랜지 홈을 더 포함하는 플라즈마 공정 설비.
  7. 공정 대상물을 지지하는 공정 척 및 플라즈마에 의한 빛이 통과하는 뷰 포트를 포함하는 공정 챔버;
    상기 공정 챔버의 상기 뷰 포트 내에 위치하는 투광 부재; 및
    상기 투광 부재를 통해 인가되는 빛을 분석하는 분석 유닛을 포함하되,
    상기 투광 부재는 일측 방향으로 연장하는 가이드 립들을 포함하는 광 가이드 및 상기 분석 유닛을 향한 상기 가이드 립들의 표면 상에 위치하는 윈도우 플레이트를 포함하는 플라즈마 공정 설비.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 가이드 립들은 상기 공정 척의 표면과 평행한 방향으로 연장하는 플라즈마 공정 설비.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 광 가이드는 상기 공정 챔버의 내측을 향한 상기 가이드 립들의 끝단들을 감싸는 가이드 코팅막을 더 포함하는 플라즈마 공정 설비.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 광 가이드는 표면 상에 형성되는 가이드 산화물 막(guide oxidized layer)을 더 포함하되, 상기 가이드 코팅막은 상기 가이드 산화물 막 상에 위치하는 플라즈마 공정 설비.
  11. 제 7 항에 있어서,
    상기 가이드 립들은 동일한 폭을 갖는 플라즈마 공정 설비.
  12. 제 7 항에 있어서,
    인접한 가이드 립들 사이의 거리는 상기 가이드 립들 각각의 폭보다 큰 플라즈마 공정 설비.
  13. 제 7 항에 있어서,
    상기 광 가이드는 상기 가이드 립들의 외측에 위치하는 가이드 플랜지를 더 포함하되,
    상기 윈도우 플레이트와 상기 가이드 플랜지 사이의 거리는 상기 가이드 립들과 상기 윈도우 플레이트 사이의 거리보다 큰 플라즈마 공정 설비.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 가이드 립들은 상기 윈도우 플레이트와 직접 접촉하는 플라즈마 공정 설비.
  15. 제 7 항에 있어서,
    상기 분석 유닛은 광학 방출 분광계(Optic Emission Spectrometer; OES)를 포함하는 플라즈마 공정 설비.
  16. 뷰 포트를 포함하는 공정 챔버;
    상기 공정 챔버의 상기 뷰 포트 내에 위치하고, 다수의 슬릿들을 포함하는 가이드 몸체 및 상기 가이드 몸체의 외측에 위치하는 가이드 플랜지를 포함하는 광 가이드;
    상기 공정 챔버의 외측을 향한 상기 가이드 몸체의 표면 상에 위치하는 윈도우 플레이트; 및
    상기 다수의 슬릿들과 상기 윈도우 플레이트를 통해 인가되는 빛을 분석하는 분석 유닛을 포함하는 플라즈마 공정 설비.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 가이드 플랜지의 대향하는 표면들은 상기 가이드 몸체의 대향하는 표면들 사이에 위치하는 플라즈마 공정 설비.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 광 가이드는 상기 가이드 플랜지로부터 상기 공정 챔버의 내측 방향으로 돌출된 상기 가이드 몸체의 표면 상에 위치하는 가이드 코팅막을 더 포함하는 플라즈마 공정 설비.
  19. 제 16 항에 있어서,
    상기 윈도우 플레이트와 상기 광 가이드 사이에 위치하는 커버 플레이트를 더 포함하되,
    상기 커버 플레이트의 플라즈마 내성은 상기 윈도우 플레이트의 플라즈마 내성보다 큰 플라즈마 공정 설비.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 커버 플레이트의 두께는 상기 윈도우 플레이트의 두께보다 작은 플라즈마 공정 설비.
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