KR20160056861A - digitizer flexible printed circuits board using light sintering and method for manufacturing thereof - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a digitizer flexible printed circuit board using light sintering and a method of fabricating the same. The digitizer flexible printed circuit can be produced by a printing process using conductive composite ink. Production costs can be reduced by the simplified process and improved work convenience, and the process is more environmentally-friendly in comparison with conventional photolithography. In addition, since surface tension and viscosity of the conductive composite ink can be effectively controlled with a solvent and a binder, various printing processes can be carried out and, especially, a high-speed roll-to-roll (R2R) process may be used in gravure or a flexography printing. Thus, a large-area digitizer flexible printed circuit board may be fabricated.

Description

광소결을 이용한 디지타이저 연성인쇄회로기판 및 이의 제조방법{digitizer flexible printed circuits board using light sintering and method for manufacturing thereof}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a digitizer flexible printed circuit board using photo-sintering and a method of manufacturing the same,

본 발명은 광소결을 이용한 디지타이저 연성인쇄회로기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a digitizer flexible printed circuit board using photo-sintering and a method of manufacturing the same.

최근 전자공학기술과 정보기술이 발전함에 따라 휴대용 전자기기의 이용이 꾸준히 증가하고 있다. 이에, 직관적 입력이 가능하고, 높은 내구성과, 멀티 터치 및 박형화가 용이한 터치스크린 패널이 입력 장치로서 널리 각광받고 있다. 터치스크린 패널은 디스플레이 장치에 설치되어 사용자가 접촉하는 화면상의 위치를 감지하고 입력된 정보를 바탕으로 한 디스플레이의 화면 제어를 포함한 전자기기의 제어를 수행하기 위한 장치로서 많은 전자기기와의 연동성이 용이하다는 장점이 있다.Recently, with the development of electronic engineering and information technology, the use of portable electronic devices has been steadily increasing. Thus, a touch screen panel capable of intuitive input, high durability, multi-touch, and thinness is widely popular as an input device. The touch screen panel is installed in the display device to sense the position on the screen that the user touches and controls the electronic device including the screen control of the display based on the input information. The touch screen panel facilitates interoperability with many electronic devices .

터치스크린 패널은 정전용량 방식에 의한 것과 전자기 유도방식이 있다. 정전용량 방식은 교류전압을 인가한 상태에서 커패시턴스 커플링(Capacitance Coupling)을 이용하여 감지하는 방식으로써 내구성이 높고 멀티 터치가 가능할 뿐만 아니라, 간단하게 별다른 도구없이 손가락 끝으로 동작이 가능하다는 장점이 있으나, 세밀한 터치를 감지하는데 무리가 있고, 멀티터치는 가능하나 정확한 지점을 선택할 수 없다는 단점이 있다.The touch screen panel has electrostatic capacity and electromagnetic induction. The capacitive method is a method of detecting capacitance by using capacitance coupling in the state that an AC voltage is applied. It has a high durability and is capable of multi-touch as well as being able to operate with fingertips without a simple tool , It is difficult to detect fine touches, and there is a disadvantage in that multi-touch is possible but it is not possible to select an accurate point.

한편, 전자기 유도방식은 터치센서와 전용펜(전자펜)에서 발생하는 전자기를 감지하는 방식으로서, 전용펜의 필압의 세기를 인식할 수 있고, 마우스처럼 오른쪽, 왼쪽 클릭 등의 작업이 가능하다는 장점이 있다. 이는 멀티터치 기능은 불가능하지만 붓 그림처럼 필압을 감안한 미세한 조작이 가능하기 때문에, 이러한 전자기 유도방식의 디지타이저가 선호되고 있다.On the other hand, the electromagnetic induction method is a method of sensing the electromagnetic force generated from the touch sensor and the exclusive pen (electronic pen), and it is possible to recognize the strength of the pressure of the exclusive pen and to perform operations such as right and left clicking . This is not possible with the multi-touch function, but since it is possible to perform fine manipulation considering the pressure like a brush, such an electromagnetic induction type digitizer is preferred.

디지타이저 방식의 터치스크린 패널은 특수하게 제작된 패널 상에 위치하는 전용펜과 같은 포인팅 디바이스(Pointing Device)의 위치를 디지털적으로 검출하고 좌표화하여 출력하는 장치로, 종래 사용되어 오던 마우스, 키보드보다 편리하고 정밀하게 입력할 수 있다.The digitizer type touch screen panel digitally detects and coordinates the position of a pointing device such as a dedicated pen located on a specially manufactured panel, Convenient and precise input is possible.

이러한, 전자기 유도방식의 디지타이저는 디지타이저 기판에 다수개의 코일을 장착하고, 펜의 접근에 의해 발생하는 전자기적 변화를 감지하여 펜의 위치를 파악하기 때문에 저항막 방식 등과 달리 디스플레이 모듈 전면 뿐만 아니라, 배면에도 배치될 수 있다.Such an electromagnetic induction type digitizer is equipped with a plurality of coils on a digitizer substrate and detects the electromagnetic change caused by the approach of the pen to grasp the position of the pen. Therefore, unlike the resistance film type, As shown in FIG.

상기 디지타이저를 구성하는 연성인쇄회로기판(Flexible printed circuits board; FPCB)은 일반적으로 포토리소그래피 공정으로 제조된다.A flexible printed circuit board (FPCB) constituting the digitizer is generally manufactured by a photolithography process.

포토리소그래피 공정은 열 두 단계이상으로 이루어져 있어 공정이 복잡하고, 단가가 높으며, 장시간 수행되며, 공정 중 다수의 유독성 화학물질들이 사용되기 때문에 환경오염을 유발할 수 있다. 또한, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리이미드(PI), 사진전용인화지(photopaper)와 같은 플렉서블 폴리머 기판은 포토리소그래피 공정에서 사용되는 에칭용액을 견딜 수 없고, 비활성 기체의 상태를 유지하기 위하여 고가의 챔버가 요구된다는 문제점이 있다(특허문헌 1).Since the photolithography process is composed of more than two stages, the process is complicated, the unit cost is high, the process is performed for a long time, and many toxic chemicals are used during the process, thereby causing environmental pollution. In addition, flexible polymer substrates such as polyethylene terephthalate (PET), polyimide (PI), and photopaper can not withstand the etching solution used in the photolithography process. In order to maintain the state of the inert gas, There is a problem that a chamber is required (Patent Document 1).

특허문헌 1. 한국공개특허공보 특1997-0028972호Patent Document 1: Korean Patent Laid-Open Publication No. 1997-0028972

본 발명은 상기와 같은 문제점을 감안하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 전도성 복합잉크를 직접인쇄방법;과 극단파 백색광, 근적외선 및 원자외선 중에서 선택되는 1종 이상으로 광소결;하여 플렉서블 기판상에 패턴이 형성된 디지타이저 기판 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a conductive composite ink which can be produced by a direct printing method, light sintering to at least one selected from extreme ultraviolet light, near infrared light and far ultraviolet light, And a method of manufacturing the same.

본 발명은 상기 목적을 이루기 위하여, 기판; 상기 기판의 상면 또는 배면에 형성된 전극 형태의 패턴;을 포함하고, 상기 패턴은 제1 금속입자 단독 또는 제1 금속입자;와 금속 마이크로입자, 금속 나노와이어 및 금속 전구체 중에서 선택되는 1종 이상의 제2 금속입자;를 포함하는 전도성 복합잉크를 상기 기판 상에 인쇄하고, 이를 극단파 백색광, 근적외선 및 원자외선 중에서 선택되는 1종 이상으로 광소결하여 제조된 디지타이저 연성인쇄회로기판을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor device comprising: a substrate; And a pattern of an electrode shape formed on an upper surface or a back surface of the substrate, wherein the pattern includes at least one first metal particle or at least one second metal particle selected from metal microparticles, metal nanowires, The present invention provides a digitized flexible printed circuit board manufactured by printing a conductive composite ink containing metal particles on a substrate and photo-sintering the conductive composite ink into at least one selected from extreme ultraviolet light, near-infrared light and far ultraviolet light.

상기 기판은 사진전용인화지(Photo Paper), 종이, 유리, 폴리뷰틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리술폰, 폴리에테르, 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 아크릴 수지, 내열성 에폭시, BT 에폭시/유리 섬유, 초산비닐수지(PVAC), 부틸 고무수지, 폴리아릴레이트(PAR), 폴리이미드(PI), 실리콘, 페라이트, 세라믹 및 FR-4 중에서 선택되는 1종일 수 있다. The substrate may be a photographic paper, a paper, a glass, a polybutylene terephthalate (PBT), a polyethylene terephthalate (PET), a polysulfone, a polyether, a polyetherimide (PEI), a polyethylene naphthalate (PEN) 1 selected from acrylic resin, heat resistant epoxy, BT epoxy / glass fiber, PVAC, butyl rubber resin, polyarylate (PAR), polyimide (PI), silicone, ferrite, It can be all day.

상기 인쇄는 직접 인쇄방식으로, 스크린 프린팅(screen printing), 잉크젯 프린팅(inkjet printing), 미세 접촉 프린팅 (micro-contact printing), 임프린팅 (imprinting), 그라비아 프린팅 (gravure printing), 그라비아-옵셋 프린팅(gravure-offset printing), 플렉소그래피 프린팅 (Flexography printing) 및 스핀 코팅(spin coating) 중에서 선택되는 1종일 수 있다. The printing can be carried out by a direct printing method, such as screen printing, inkjet printing, micro-contact printing, imprinting, gravure printing, gravure-offset printing gravure-offset printing, flexography printing, and spin coating.

상기 제1 금속입자 및 제2 금속입자는 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 백금(Pt), 코발트(Co), 철(Fe), 카드늄(Cd), 텅스텐(W), 몰리브데늄(Mo), 망간(Mn), 크롬(Cr), 아연(Zn) 및 알루미늄(Al) 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The first metal particles and the second metal particles may be at least one selected from the group consisting of Cu, Au, Ag, Ni, Pt, Co, Fe, , Tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mn), chromium (Cr), zinc (Zn) and aluminum (Al).

상기 금속 전구체는 Cu(NO3)2·3H2O일 수 있다.The metal precursor may be a Cu (NO 3) 2 · 3H 2 O.

상기 패턴은 메쉬패턴일 수 있다.The pattern may be a mesh pattern.

상기 제1 금속입자의 직경은 20-50 ㎚이고, 상기 금속 마이크로입자의 직경은 1-10 ㎛이며, 상기 금속 나노와이어의 직경은 10-500 ㎚, 길이는 1-100 ㎛일 수 있다.The first metal particles may have a diameter of 20-50 nm, the metal microparticles may have a diameter of 1-10 μm, and the metal nanowires may have a diameter of 10-500 nm and a length of 1-100 μm.

상기 전도성 복합잉크는 바인더 및 용매를 더 포함하고, 상기 바인더는 폴리비닐피롤리돈(PVP), 아조비스, 도데실벤젠황산나트륨 및 폴리에틸렌글리콜 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The conductive composite ink may further comprise a binder and a solvent, and the binder may be at least one selected from polyvinylpyrrolidone (PVP), azobis, sodium dodecylbenzene sulfate, and polyethylene glycol.

상기 제1, 제2 금속입자는 전기선 폭발법, 플라즈마 가열법, 전기분해법 및 화학적 합성법 중에서 선택되는 1종으로 제조될 수 있다.The first and second metal particles may be made of one kind selected from an electric wire explosion method, a plasma heating method, an electrolysis method, and a chemical synthetic method.

상기 디지타이저 연성인쇄회로기판의 면저항은 0.01-0.5 Ohm/sq일 수 있다.The sheet resistance of the digitizer flexible printed circuit board may be 0.01-0.5 Ohm / sq.

또한, 본 발명은 상기 목적을 이루기 위하여,In order to achieve the above object,

Ⅰ) 기판을 준비하는 단계;I) preparing a substrate;

Ⅱ) 상기 기판의 상면 또는 배면에 전도성 복합잉크로 프린팅하여 패턴을 형성하는 단계;II) forming a pattern by printing with a conductive composite ink on an upper surface or a back surface of the substrate;

Ⅲ) 상기 패턴을 적외선, 핫플레이트 및 오븐 중에서 선택되는 1종 이상의 방법으로 건조하는 단계;III) drying the pattern by one or more methods selected from infrared rays, hot plates and ovens;

Ⅳ) 상기 건조된 패턴을 극단파 백색광, 근적외선 및 원자외선 중에서 선택되는 1종 이상의 방법으로 광소결하는 단계;를 포함하는 디지타이저 연성인쇄회로기판의 제조방법을 제공한다.(Iv) photo-sintering the dried pattern by at least one method selected from extreme ultraviolet light, near-infrared light and deep ultraviolet light.

상기 기판은 사진전용인화지(Photo Paper), 종이, 유리, 폴리뷰틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리술폰, 폴리에테르, 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 아크릴 수지, 내열성 에폭시, BT 에폭시/유리 섬유, 초산비닐수지(PVAC), 부틸 고무수지, 폴리아릴레이트(PAR), 폴리이미드(PI), 실리콘, 페라이트, 세라믹 및 FR-4 중에서 선택되는 1종일 수 있다.The substrate may be a photographic paper, a paper, a glass, a polybutylene terephthalate (PBT), a polyethylene terephthalate (PET), a polysulfone, a polyether, a polyetherimide (PEI), a polyethylene naphthalate (PEN) 1 selected from acrylic resin, heat resistant epoxy, BT epoxy / glass fiber, PVAC, butyl rubber resin, polyarylate (PAR), polyimide (PI), silicone, ferrite, It can be all day.

상기 Ⅱ) 단계에서 전도성 복합잉크는 초음파 분산기, 교반기, 볼밀 및 3롤밀 중에서 선택되는 1종 이상으로 분산하는 단계; 및 탈포하는 단계;를 통해 제조된 것일 수 있다.In the step (II), dispersing the conductive composite ink into at least one selected from an ultrasonic dispersing machine, a stirrer, a ball mill, and a 3 roll mill; And a step of defoaming.

상기 전도성 복합잉크는 제1 금속입자 단독 또는 제1 금속입자;와 금속 마이크로입자, 금속 나노와이어 및 금속 전구체 중에서 선택되는 1종 이상의 제2 금속입자;를 포함할 수 있다.The conductive composite ink may include a first metal particle alone or a first metal particle and at least one second metal particle selected from a metal microparticle, a metal nanowire, and a metal precursor.

상기 제1 금속입자 및 제2 금속입자는 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 백금(Pt), 코발트(Co), 철(Fe), 카드늄(Cd), 텅스텐(W), 몰리브데늄(Mo), 망간(Mn), 크롬(Cr), 아연(Zn) 및 알루미늄(Al) 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The first metal particles and the second metal particles may be at least one selected from the group consisting of Cu, Au, Ag, Ni, Pt, Co, Fe, , Tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mn), chromium (Cr), zinc (Zn) and aluminum (Al).

상기 제1 금속입자의 직경은 20-50 ㎚이고, 상기 금속 마이크로입자의 직경은 1-10 ㎛이고, 상기 금속 나노와이어의 직경은 10-200 ㎚, 길이는 1-10 ㎛일 수 있다.The first metal particles may have a diameter of 20-50 nm, the metal microparticles may have a diameter of 1-10 μm, and the metal nanowires may have a diameter of 10-200 nm and a length of 1-10 μm.

상기 제2 금속입자가 금속 전구체이면, 상기 제1 금속입자 대 제2 금속입자의 중량비는 1 대 0.1 내지 0.5의 비율로 혼합될 수 있고,If the second metal particles are metal precursors, the weight ratio of the first metal particles to the second metal particles may be 1: 0.1 to 0.5,

상기 제2 금속입자가 금속 마이크로 입자이면, 제1 금속입자 대 제2 금속입자의 중량비는 1 대 0.01 내지 0.1의 비율로 혼합될 수 있으며,If the second metal particles are metal microparticles, the weight ratio of the first metal particles to the second metal particles may be 1: 0.01 to 0.1,

상기 제2 금속입자가 금속 나노와이어이면, 상기 제1 금속입자 대 제2 금속입자의 중량비는 1 대 1 내지 3의 비율로 혼합될 수 있다.If the second metal particles are metal nanowires, the weight ratio of the first metal particles to the second metal particles may be 1: 1 to 3: 1.

상기 Ⅳ) 단계에서 광소결은 극단파 백색광, 근적외선 및 원자외선 중에서 선택되는 1종 이상의 광원을 동시에 조사하거나, 단계별로 조사할 수 있다.In the step (IV), the light sintering may be performed by simultaneously irradiating one or more light sources selected from extreme ultraviolet light, near-infrared light and far ultraviolet light, or by stepwise irradiation.

상기 광소결 조건이 제논 플래쉬 램프의 펄스 수가 1 내지 20일 때, 상기 펄스 폭이 5-20 ms이고, 강도가 5-15 J/㎠일 수 있다.When the light sintering condition is the pulse number of the xenon flash lamp is 1 to 20, the pulse width may be 5-20 ms and the intensity may be 5-15 J / cm 2.

상기 원자외선의 세기는 10-50 ㎽/㎠일 수 있고, 상기 근적외선의 세기는 10-100 ㎽/㎠일 수 있다.The intensity of the far ultraviolet ray may be 10-50 mW / cm 2, and the intensity of the near-infrared ray may be 10-100 mW / cm 2.

상기 Ⅲ) 단계는 예열 또는 용매 건조를 위한 예비 광조사 단계를 더 포함할 수 있다.The step (III) may further include a preliminary light irradiation step for preheating or solvent drying.

본 발명의 디지타이저 연성인쇄회로기판(FPCB)은 도전성 복합잉크를 사용하며, 인쇄 공정에 의해 생산이 가능하여 공정의 단순화 및 작업 편의성이 향상됨으로써, 공정 비용을 절감할 수 있으며, 종래 포토리소그래피 공정보다 친환경적이다.The digitized flexible printed circuit board (FPCB) of the present invention uses a conductive composite ink and can be produced by a printing process, thereby simplifying the process and improving the convenience of operation, thereby reducing the cost of the process. In addition to the conventional photolithography process It is environmentally friendly.

또한, 본 발명은 전도성 복합잉크의 표면장력과 점성을 용매 및 바인더를 사용하여 효과적으로 제어할 수 있기 때문에, 다양한 인쇄 공정을 수행할 수 있으며, 특히, 그라뷰어링(Gravuring), 플렉소그라피(Flexography) 등과 같은 프린팅의 경우, 고속 롤투롤(R2R) 공정을 적용할 수 있어, 대면적의 디지타이저 연성인쇄회로기판을 제조할 수 있다는 장점이 있다.Further, since the present invention can effectively control the surface tension and viscosity of the conductive composite ink using a solvent and a binder, various printing processes can be performed, and in particular, gravuring, flexography ), It is possible to apply a high-speed roll-to-roll (R2R) process, and thus it is possible to manufacture a large-area digitizer flexible printed circuit board.

또한, 본 발명은 전도성 복합잉크와 이를 극단파 백색광, 근적외선 및 원자외선 중에서 선택되는 1종 이상의 광원을 사용한 광소결 시스템을 이용하여 상온/대기 조건에서 매우 짧은 소결시간에 환원 및 소결을 할 수 있으므로, 기판의 손상도가 낮고, 패턴의 전기 전도도 및 기계적 강도가 우수하기 때문에, 플렉서블 기판 상에 형성된 패턴은 접힘 또는 수축에 의한 패턴 파괴현상을 방지할 수 있다는 장점이 있다.Further, the present invention can reduce and sinter at a very short sintering time at room temperature / atmospheric conditions by using a conductive composite ink and a light sintering system using at least one light source selected from extreme ultraviolet light, near-infrared light and far ultraviolet light , The degree of damage of the substrate is low, and the electrical conductivity and the mechanical strength of the pattern are excellent. Therefore, the pattern formed on the flexible substrate has an advantage of preventing pattern breakage due to folding or shrinkage.

도 1은 본 발명에 따른 디지타이저 연성인쇄회로기판의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 2는 본 발명에 따른 디지타이저 연성인쇄회로기판의 예시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 디지타이저 연성인쇄회로기판을 제조하기 위한 방법 중 고속 롤투롤(R2R)을 적용한 경우에 대한 예시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 전도성 복합잉크를 극단파 백색광으로 광소결하는 장치를 나타낸 예시도이다. 이때, (1)은 소결되기 전 전도성 복합잉크의 결정구조를 나타낸 것이고, (2)는 소결된 후, 전도성 복합잉크의 결정구조를 나타낸 것이다.
도 5는 본 발명에 따른 극단파 백색광, 원자외선 및 근적외선을 동시에 조사할 수 있는 광소결 장치를 나타낸 예시도이다.
도 6은 본 발명에 따른 제논 램프의 단펄스 백색광에 대한 그래프이다.
도 7은 본 발명에 따른 디지타이저 연성인쇄회로기판을 제조하기 위해서, 다양한 조성의 전도성 복합잉크를 인쇄하고 도포하였을 때 측정된 면저항을 나타낸 그래프이다. 이때, 그래프 좌측부터 순서대로 실시예 5, 실시예 13, 실시예 14, 실시예 11, 실시예 12, 실시예 9 및 비교예 1, 2, 3이다.
도 8은 본 발명에 따른 플라즈마 가열법으로 제조된 구리나노입자를 포함하는 전도성 복합잉크(실시예 15)를 극단파 백색광으로 광소결하기 전(a)과 광소결 한 후(b)를 나타낸 SEM 사진이다.
도 9는 본 발명에 따른 전기선 폭발법으로 제조된 구리나노입자를 포함하는 전도성 복합잉크(실시예 16)를 극단파 백색광으로 광소결하기 전(a)과 광소결 한 후(b)를 나타낸 SEM 사진이다.
도 10은 본 발명에 따른 다양한 조성의 전도성 복합잉크를 기판 상에 인쇄하고 이를 다양한 조건으로 광소결하여 제조된 각각의 디지타이저 연성인쇄회로기판에 대한 면저항을 나타낸 그래프이다.
도 11은 다양한 플렉서블 기판 상에 전도성 복합잉크를 이용한 인쇄방식하고, 이를 광소결하기 전(a)과 후(b)의 본 발명에 따른 디지타이저 연성인쇄회로기판 모습을 나타낸 사진이다.
도 12는 광소결하기 전과 후의 본 발명에 따른 전도성 복합잉크의 X선 회절 분석 결과이다.
도 13은 제1 구리입자 및 제2 구리입자 조성비에 따른 실시예 1(◆), 실시예 17(●), 실시예 18(▲) 및 실시예 19(▼)로부터 제조된 디지타이저 연성인쇄회로기판을 반복 외측 굽힘 시험 1000회 실시 후의 저항 상승률을 나타낸 그래프이다(단, 제2 구리입자는 구리 나노와이어).
1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a digitizer flexible printed circuit board according to the present invention.
2 is an illustration of an example of a digitizer flexible printed circuit board according to the present invention.
FIG. 3 is an exemplary view showing a case where high-speed roll-to-roll (R2R) is applied in a method for manufacturing a digitizer flexible printed circuit board according to the present invention.
4 is an exemplary view showing an apparatus for photo-sintering a conductive composite ink according to the present invention into extreme ultraviolet and white light. Here, (1) shows the crystal structure of the conductive composite ink before sintering, and (2) shows the crystal structure of the conductive composite ink after sintering.
5 is an exemplary view showing a light sintering apparatus capable of irradiating extreme ultraviolet light, far ultraviolet light and near-infrared light simultaneously according to the present invention.
6 is a graph of a single pulse white light of a xenon lamp according to the present invention.
7 is a graph showing measured sheet resistances when printing and applying conductive composite inks of various compositions to produce a digitizer flexible printed circuit board according to the present invention. In this case, Examples 5, 13, 14, 11, 12, 9 and Comparative Examples 1, 2, 3 are shown in order from the left side of the graph.
Fig. 8 is a graph showing the results of the SEM (a) and the photo-sintering (b) of the conductive composite ink containing copper nanoparticles prepared by the plasma heating method according to the present invention (Example 15) before photo- It is a photograph.
FIG. 9 is a graph showing the results of a comparison between the SEM (a) and the photo-sintering (b) of the conductive composite ink containing copper nanoparticles prepared by the electric wire explosion method according to the present invention (Example 16) before photo- It is a photograph.
10 is a graph showing the sheet resistance of each of the digitizer flexible printed circuit boards manufactured by printing conductive composite inks of various compositions according to the present invention on a substrate and photo-sintering the same on various conditions.
11 is a photograph showing a printing method using a conductive composite ink on various flexible substrates and a method of a digitizer flexible printed circuit board according to the present invention (a) and (b) before photo-sintering.
12 shows X-ray diffraction analysis results of the conductive composite ink according to the present invention before and after photo-sintering.
Fig. 13 is a graph showing the results of measurement of the dielectric constant of the digitized flexible printed circuit board (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) manufactured from Example 1 (), Example 17 (), Example 18 (The second copper particles are copper nanowires) after 1000 times of repeated outer bending tests.

이하에서, 본 발명의 여러 측면 및 다양한 구현예에 대해 더욱 구체적으로 살펴보도록 한다.Hereinafter, various aspects and various embodiments of the present invention will be described in more detail.

본 발명에서의 디지타이저 기능은 터치스크린/디스플레이 패널의 하측에 디지타이저 연성인쇄회로기판이 구비되어 있고, 상기 디지타이저 연성인쇄회로기판은 얇은 금속배선이 형성되며, 여기에 전기를 흘리면 전자기장이 만들어진다. 디지타이저 전자펜의 단부에는 초소형 금속 코일이 내장되어 있어 사용시에 교류 자기장이 발생한다. 따라서 전자펜 끝이 터치스크린에 근접하면 전자기 유도현상이 일어나면서 터치스크린/디스플레이 패널 하측에 배치된 디지타이저 연성인쇄회로기판에 이미 형성되있는 전자기장에 변형이 발생하며 이를 일측 모서리에 배치된 센서를 통해 감지하여 실제 전자펜의 움직임을 해석하고 있다.In the digitizer function of the present invention, a digitizer flexible printed circuit board is provided on the lower side of the touch screen / display panel, and a thin metal wiring is formed on the digitizer flexible printed circuit board. At the end of the digitizer pen, an ultra-small metal coil is built in which an alternating magnetic field is generated. Therefore, when the tip of the electronic pen approaches the touch screen, electromagnetic induction phenomenon occurs, and the electromagnetic field already formed on the digitizer flexible printed circuit board disposed on the lower side of the touch screen / display panel is deformed and sensed through the sensor disposed at one corner And the motion of the actual electronic pen is analyzed.

이러한 디지타이저 인쇄회로기판은 현재까지 약 12 단계이상으로 이루어진 포토리소그래피 공정을 통해 제조되었다. Such a digitizer printed circuit board has been manufactured through a photolithography process which has been made up to about 12 steps to date.

상기 디지타이저는 대화면 태블릿, PC, TV와 같은 기술 분야뿐만 아니라, 기술개발에 의해 굽히고, 접을 수 있는 다양한 플랙서블 전자 제품(Flexible Electronics), 웨어러블 전자제품(Wearable Electronics) 및 대면적 디스플레이 등의 다양한 산업분야에 적용되고자 연성인쇄회로기판(FPCB)을 도입하고자 하였다The digitizer can be used not only in a technical field such as a large-format tablet, a PC, and a TV, but also in a variety of industrial fields such as flexible electronic products, flexible electronic products (Wearable Electronics) (FPCB) to be applied to the field

허나, 상기 포토리소그래피 공정은 에칭공정과 고온 소성공정을 포함하고 있기 때문에, 기판으로 사진전용인화지(Photo Paper), 종이, 폴리뷰틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리이미드(PI) 및 FR-4 등을 사용할 경우, 기판에 손상이 발생하고, 기판 상에 패턴 또한, 기계적 강도가 약하기 때문에, 굽힘 또는 열에 의한 수축으로 쉽게 파손된다는 문제가 존재한다.However, since the photolithography process includes an etching process and a high-temperature firing process, the substrate may be a photographic paper, a paper, a polybutylene terephthalate (PBT), a polyethylene terephthalate (PET), a polyetherimide (PEI), polyimide (PI) and FR-4 are used, there is a problem that the substrate is damaged and the pattern is also easily broken by bending or shrinkage due to heat since the pattern has a weak mechanical strength .

따라서, 상기와 같은 문제를 해결하기 위해, 본 발명은 전도성 복합잉크와 인쇄공정 및 광소결 단계를 통해 제조된 개선된 디지타이저 연성인쇄회로기판과 이의 제조방법을 완성하기에 이르렀다.Therefore, in order to solve the above problems, the present invention has completed an improved composite printed circuit board and a method of manufacturing the same, which is manufactured through a printing composite process and a light sintering process.

우선, 본 발명의 일 측면은 기판; 상기 기판의 상면 또는 배면에 형성된 전극 형태의 패턴;을 포함하고, 상기 패턴은 제1 금속입자 단독 또는 제1 금속입자;와 금속 마이크로입자, 금속 나노와이어 및 금속 전구체 중에서 선택되는 1종 이상의 제2 금속입자;를 포함하는 전도성 복합잉크를 상기 기판 상에 인쇄하고, 이를 극단파 백색광, 근적외선 및 원자외선 중에서 선택되는 1종 이상으로 광소결하여 제조된 것을 특징으로 하는 디지타이저 연성인쇄회로기판에 관한 것이다.First, one aspect of the present invention relates to a semiconductor device comprising: a substrate; And a pattern of an electrode shape formed on an upper surface or a back surface of the substrate, wherein the pattern includes at least one first metal particle or at least one second metal particle selected from metal microparticles, metal nanowires, Wherein the conductive composite ink is printed on the substrate and photo-sintered to at least one selected from extreme ultraviolet light, near-infrared light and far ultraviolet light, to a digitizer flexible printed circuit board .

상기 기판상에 형성된 패턴은 특별히 제한되지 않으나, 메쉬형태의 패턴인 것이 디지타이저의 기능을 수행하는데 가장 바람직한 형태이다.The pattern formed on the substrate is not particularly limited, but a mesh pattern is the most preferable form for performing the function of the digitizer.

상기 기판은 경성 또는 연성기판이 사용가능하나, 바람직하게는 사진전용인화지(Photo Paper), 종이, 유리, 폴리뷰틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리술폰, 폴리에테르, 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 아크릴 수지, 내열성 에폭시, BT 에폭시/유리 섬유, 초산비닐수지(PVAC), 부틸 고무수지, 폴리아릴레이트(PAR), 폴리이미드(PI), 실리콘, 페라이트, 세라믹 및 FR-4 중에서 선택되는 1종일 수 있고, 보다 더 바람직하게는 유연성이 우수한 디지타이저를 제조할 수 있는 연성기판을 사용할 수 있다. 일예로 폴리이미드(PI), 사진전용인화지(Photo Paper), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에테르이미드(PEI) 및 FR-4 중에서 선택되는 1종일 수 있다.The substrate may be a rigid or flexible substrate, but preferably a photo paper, paper, glass, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), polysulfone, (PE), polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resin, heat resistant epoxy, BT epoxy / glass fiber, PVAC, butyl rubber resin, polyarylate (PAR), polyimide , Ferrite, ceramic, and FR-4, and more preferably, a flexible substrate capable of producing a digitizer having excellent flexibility can be used. For example, it may be one selected from the group consisting of polyimide (PI), photographic paper (Photo Paper), polyethylene terephthalate (PET), polyetherimide (PEI) and FR-4.

상기 인쇄는 직접 인쇄방식으로, 스크린 프린팅(screen printing), 잉크젯 프린팅(inkjet printing), 미세 접촉 프린팅 (micro-contact printing), 임프린팅 (imprinting), 그라비아 프린팅 (gravure printing), 그라비아-옵셋 프린팅(gravure-offset printing), 플렉소그래피 프린팅 (Flexography printing) 및 스핀 코팅(spin coating) 중에서 선택되는 1종일 수 있는데, 고속 롤투롤(R2R)을 수행하기 위해서는 그라비아 프린팅 (gravure printing), 그라비아-옵셋 프린팅(gravure-offset printing) 및 플렉소그래피 프린팅 (Flexography printing) 중에서 선택되는 1종을 사용하는 것이 가장 바람직하다.The printing can be carried out by a direct printing method, such as screen printing, inkjet printing, micro-contact printing, imprinting, gravure printing, gravure-offset printing gravure printing, gravure-offset printing, flexography printing and spin coating. In order to perform the high-speed roll-to-roll (R2R), gravure printing, gravure- gravure-offset printing, and flexography printing are most preferably used.

상기 전도성 복합잉크에서 제1 금속입자 및 제2 금속입자는 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 백금(Pt), 코발트(Co), 철(Fe), 카드늄(Cd), 텅스텐(W), 몰리브데늄(Mo), 망간(Mn), 크롬(Cr), 아연(Zn) 및 알루미늄(Al) 중에서 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으나, 전도성이 가장 우수하면서, 가격이 저렴하면서, 연성기판에 패턴으로 형성되었을 때, 굽힘에 따른 저항 상승 및 전도성 저하가 가장 낮기 때문에 구리를 사용하는 것이 가장 바람직하다.In the conductive composite ink, the first metal particles and the second metal particles may be at least one selected from the group consisting of Cu, Au, Ag, Ni, Pt, Co, At least one selected from cadmium (Cd), tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mn), chromium (Cr), zinc (Zn) and aluminum It is most preferable to use copper because it is excellent, is inexpensive, and has a low resistance and a decrease in conductivity due to bending when formed in a pattern on a flexible substrate.

상기 제2 금속입자 중에서 금속 전구체는 구리 전구체를 사용하는 것이 바람직하고, 상기 구리 전구체로는 CuCl, CuCl2, Cu(acac)2, Cu(hfac)2 , Cu(tfac)2, Cu(dpm)2, Cu(ppm)2, Cu(fod)2, Cu(acim)2, Cu(nona-F)2, Cu(acen)2, Cu(NO3)2ㆍ3H2O, Cu(C3H4F3O2)2 및 CuSO4ㅇ5H2O 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있는데, 이는 사용되는 용매에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 일예로 본 발명의 전도성 복합잉크에 디에틸렌 글리콜(DEG)을 용매로 하는 경우, Cu(NO3)2ㆍ3H2O를 사용하는 것이 가장 바람직하다. 이는 다른 전구체에 비해 현저히 면저항이 우수하기 때문으로, 금속 전구체의 면저항 비교를 도 7에서 확인할 수 있다.Wherein it is preferable to use the metal precursor copper precursor from the second metal particles in the copper precursor is CuCl, CuCl 2, Cu (acac ) 2, Cu (hfac) 2, Cu (tfac) 2, Cu (dpm) 2, Cu (ppm) 2, Cu (fod) 2, Cu (acim) 2, Cu (nona-F) 2, Cu (acen) 2, Cu (NO 3) 2 and 3H 2 O, Cu (C 3 H 4 F 3 O 2 ) 2 and CuSO 4 ㅇ 5H 2 O, which may be appropriately selected depending on the solvent used. For example, when diethylene glycol (DEG) is used as a solvent in the conductive composite ink of the present invention, it is most preferable to use Cu (NO 3 ) 2 .3H 2 O. This is because the sheet resistance is significantly superior to the other precursors, and the sheet resistance comparison of the metal precursor can be seen in FIG.

상기 제1 금속입자의 직경은 20-50 ㎚일 수 있는데, 상기 제1 금속입자의 직경이 상기 범위 미만이면 분산성이 떨어지는 잉크가 제조되고, 상기 제1 금속입자가 상기 번위를 초과할 경우 광소결 과정에서 제1 금속입자와 제2 금속입자 간에 생성된 기공의 크기가 너무 커 면저항이 상승되고 전도성이 낮아져 전도성 잉크로 사용이 부적합하다.The diameter of the first metal particles may be 20-50 nm. If the diameter of the first metal particles is less than the above range, an ink having poor dispersibility is produced. If the first metal particles exceed the above- If the size of the pores generated between the first metal particles and the second metal particles during the sintering process is too large, the resistance is increased and the conductivity is lowered, so that it is not suitable for use as a conductive ink.

본 발명에 사용되는 상기 제2 금속입자는 금속 마이크로입자, 금속 나노와이어 및 금속전구체 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The second metal particles used in the present invention may be at least one selected from metal microparticles, metal nanowires, and metal precursors.

특히. 제1 금속입자와 제2 금속입자인 금속 마이크로 입자를 포함하는 전도성 복합잉크를 소결하는 경우, 크기가 큰 제2 금속입자와 나노크기의 제1 금속입자 간에 네킹(necking),이 형성되어 입자간에 생성되는 기공을 줄일 수 있으므로 면저항은 저하되고, 전도성은 향상되며, 내구성 또한 향상된다.Especially. When the conductive composite ink including the first metal particles and the metal microparticles as the second metal particles is sintered, a necking is formed between the second metal particles having a large size and the first metal particles having a size of nano- Since the generated pores can be reduced, the sheet resistance is lowered, the conductivity is improved, and the durability is also improved.

이러한, 상기 제2 금속입자가 금속 마이크로입자일 때, 이의 직경은 1-10 ㎛인 것이 바람직한데, 상기 금속 마이크로입자의 크기가 1 ㎛ 미만이면 전도성이 우수하지 못하고, 다른 구리입자와의 결합에 의해 발생되는 플라즈몬(Plasmonic; 빛 공명 현상) 현상이 발생하지 않아 전도성 및 소결 효율이 나빠지는 문제가 발생한다. 또한, 상기 금속 마이크로입자의 크기가 10 ㎛ 초과하게 되면 소결에 필요한 에너지가 커지므로, 생성된 패턴의 손상이 발생되어 전도성이 저하될 수 있다.When the second metal particles are metal microparticles, the diameter of the second metal particles is preferably 1-10 占 퐉. If the size of the metal microparticles is less than 1 占 퐉, the conductivity is not excellent, A plasmon (light resonance phenomenon) phenomenon is not generated and conductivity and sintering efficiency are deteriorated. In addition, when the size of the metal microparticles exceeds 10 탆, the energy required for sintering increases, so that the generated pattern may be damaged and the conductivity may be lowered.

상기 제2 금속입자가 금속 나노와이어인 경우, 제1 금속입자와 나노와이어가 서로 뭉쳐져 연결고리를 형성하므로 내구성이 향상되어 저항상승률을 낮출 수 있어 바람직하다.When the second metal particles are metal nanowires, the first metal particles and the nanowires are formed by forming a linking ring together with each other, so that durability is improved and the rate of increase in resistance can be lowered.

또한, 제2 금속입자로 상기 금속 마이크로입자와 금속 나노와이어의 혼합인 경우, 나노입자와 마이크로 입자를 사용함에 따른 기공 저하 특성과 동시에, 금속 나노와이어에 의해 각 입자간에 연결고리를 현성함으로써, 굽힘 또는 수축에 의한 패턴에 파손이 발생하여도 전도성을 유지할 수 있는 장점이 연계되므로, 유연성을 갖는 디지타이저 연성인쇄회로기판에 가장 적합하다.Further, when the metal microparticles and the metal nanowires are mixed with the second metal particles, the pores may be degraded due to the use of the nanoparticles and the microparticles, and at the same time, It is most suitable for a flexible digitizer flexible printed circuit board because it has the advantage of maintaining the conductivity even if breakage occurs in the pattern due to shrinkage.

상기 금속 나노와이어의 직경은 10-500 ㎚, 길이는 1-100 ㎛일 수 있는데, 직경 및 길이가 상기 번위 미만이면 전도성이 우수하지 못하며, 직경 및 길이가 상기 범위를 초과하게 되면 소결에 필요한 에너지가 커지게 되므로 기판에 손상이 발생할 수 있고, 전도성이 저하된 패턴이 생성될 수 있다.The diameter of the metal nanowire may be 10-500 nm and the length may be 1-100 mu m. If the diameter and length are less than the above range, the conductivity is not excellent. If the diameter and length exceed the above range, the energy required for sintering As a result, the substrate may be damaged and a pattern with reduced conductivity may be generated.

상기 전도성 복합잉크는 바인더 및 용매를 더 포함할 수 있는데, 상기 바인더는 전도성 복합잉크 제조시 잉크의 분산성 및 환원성을 향상시키기 위한 것으로, 바람직하게는 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐알콜, 폴리비닐부티랄, 폴리에틸렌글리콜, 폴리메틸메타크릴레이트, 덱스트란, 아조비스, 도데실벤젠황산나트륨 등의 고분자 바인더 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The conductive composite ink may further include a binder and a solvent. The binder is for improving the dispersibility and reducibility of the ink during the production of the conductive composite ink. Preferably, the binder is a polyvinyl pyrrolidone, a polyvinyl alcohol, a polyvinyl And polymeric binders such as butyral, polyethylene glycol, polymethyl methacrylate, dextran, azobis, sodium dodecylbenzenesulfate, and the like.

이러한, 바인더는 상기 전도성 복합잉크 100 중량부를 기준으로 1 내지 50 중량부 포함될 수 있는데, 상기 바인터의 함량이 1 미만이면 분산성 또는 환원성이 저하되어 인쇄공정시 불균일한 패턴이 형성되는 문제가 발생한다. 또한, 상기 바인더의 함량이 50 중량부를 초과하게 되면 응집체를 형성하기 때문에 상기 범위인 것이 바람직하다.The binder may be included in an amount of 1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the conductive composite ink. If the content of the binder is less than 1, the dispersibility or reducing property is lowered, do. When the content of the binder is more than 50 parts by weight, aggregates are preferably formed.

또한, 상기 전도성 복합잉크는 분산제를 더 포함하며, 상기 분산제로는 Disperbyk 180, Disperbyk 111, 스틸렌말레익언하이드라이드 코폴리머(SMA 1440flake) 등의 이온 그룹을 포함하는 코폴리머; 2-부톡시에틸 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 에틸렌 글리콜 부틸 에테르, 시클로헥사논, 시클로헥사놀, 2-에톡시에틸 아세테이트, 에틸렌 글리콜 디아세테이트, 테르피네올(terpineol), 이소부틸 알코올로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 들 수 있다. The conductive composite ink further includes a dispersing agent, and the dispersing agent may include a copolymer containing ionic groups such as Disperbyk 180, Disperbyk 111, and styrene maleic anhydride copolymer (SMA 1440 flake); Propylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol butyl ether, cyclohexanone, cyclohexanol, 2-ethoxyethyl acetate, ethylene glycol diacetate, terpineol (terpineol), and isobutyl alcohol.

*또한, 상기 용매를 적절히 조절하여 점도 및 표면장력을 제어할 수 있다. 상기 용매로는 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 헥실렌 글리콜, 글리세린, 이소프로필 알코올, 부틸알코올, 옥틸 알코올, 포름아미드, 메틸에틸케톤, 에틸알코올, 메틸알코올, 아세톤 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.In addition, the viscosity and surface tension can be controlled by suitably adjusting the solvent. Examples of the solvent include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, hexylene glycol, glycerin, isopropyl alcohol, butyl alcohol, octyl alcohol, formamide, methyl ethyl ketone, , Methyl alcohol, and acetone.

상기 제1, 제2 금속입자는 전기선 폭발법, 플라즈마 가열법, 전기분해법 및 화학적 합성법 중에서 선택되는 1종으로 제조된 것을 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable that the first and second metal particles are made of one kind selected from an electric wire explosion method, a plasma heating method, an electrolysis method and a chemical synthetic method.

상기 디지타이저 연성인쇄회로기판의 패턴은 극단파 백색광, 근적외선(NIR) 및 원자외선(Deep UV) 중에서 선택되는 1종 이상의 광원을 조사할 수 있는데, 이러한 국부적인 용융에 의해 제1 금속입자끼리 또는 제1 금속입자와 제2 금속입자간 및 금속입자와 기판을 광접합하여, 조직 치밀화를 용이하게 하므로 전도성 및 내구성이 우수한 디지타이저 연성인쇄회로기판을 제공할 수 있다.The pattern of the digitizer flexible printed circuit board may irradiate at least one light source selected from extreme ultraviolet light, near-infrared light (NIR), and deep ultraviolet light (Deep UV). By such local melting, The present invention can provide a digitizer flexible printed circuit board excellent in conductivity and durability because the first metal particles and the second metal particles and the metal particles and the substrate are optically bonded to each other to facilitate texture densification.

따라서, 단순 포토리소그래피 공정의 개선을 위해 인쇄방식을 적용하여 제조된 디지타이저 연성인쇄회로기판보다 본 발명의 전도성 복합잉크 및 광소결 단계를 거쳐야 기판의 손상을 최소화하면서도 우수한 전도성 및 내구성을 갖는 디지타이저 연성인쇄회로기판을 제공할 수 있다.Therefore, a digitizer flexible printed circuit board having excellent conductivity and durability while minimizing damage to the substrate through the conductive composite ink and the light sintering step of the present invention, rather than the digitizer flexible printed circuit board manufactured by applying the printing method for improving the simple photolithography process, A circuit board can be provided.

이때, 패턴이 형성된 기판에 따라 충분한 에너지가 조사되어야만 낮은 저항을 갖는 패턴의 소결이 가능하다.At this time, it is possible to sinter the pattern having low resistance only when sufficient energy is irradiated according to the substrate on which the pattern is formed.

보다 구체적으로, 상기 광소결 조건이 제논 플래쉬 램프의 펄스 수가 1 내지 20일 때, 상기 펄스 폭이 5-20 ms이고, 강도가 1-50 J/㎠인 것이 바람직한데, 기판의 종류에 따라 에너지 범위를 달리 할 수 있다.More specifically, it is preferable that the light sintering condition is such that the pulse width is 5-20 ms and the intensity is 1-50 J / cm 2 when the number of pulses of the xenon flash lamp is 1 to 20, The range may vary.

기판이 PET인 경우, 에너지 범위가 5-20 J/㎠이고, PI인 경우, 에너지 범위가 5-50 J/㎠이며, 사진전용인화지인 경우, 에너지 범위가 3-15 J/㎠이며, BT인 경우 에너지 범위가 10-20 J/㎠인 것이 바람직한데, 상기 에너지 범위 조건을 벗어나는 경우, 면저항이 현저히 증가하는 것을 확인할 수 있다.When the substrate is PET, the energy range is 5-20 J / cm 2. When the substrate is PI, the energy range is 5-50 J / cm 2. In the case of photographic paper, the energy range is 3-15 J / , It is preferable that the energy range is 10-20 J / cm < 2 >. When the energy range condition is exceeded, it can be confirmed that the sheet resistance is significantly increased.

이는 상기 에너지 범위 미만으로 조사하면 소결이 충분히 되지 않기 때문이고, 상기 에너지 범위를 초과하게 되면 기판이 손상되기 때문에 디지타이저의 기능이 저하되어 세밀한 터치가 불가능해진다. 특히, 에너지 범위를 초과한 경우, 기판의 손상에 의해 연성기판의 특성이 유연성 및 굽힘 특성이 현저히 저하되어, 이를 제품에 적용하게 되면 쉽게 파손되고, 오류가 발생한다.If the energy range is exceeded, the substrate is damaged. Therefore, the function of the digitizer deteriorates and detailed touch becomes impossible. In particular, when the energy range is exceeded, the flexibility and bending characteristics of the flexible substrate are remarkably deteriorated due to the damage of the substrate, and if it is applied to a product, it is easily broken and errors occur.

또한, 상기 원자외선의 세기는 1-5000 ㎽/㎠으로, 0 내지 300 초간 조사될 수 있으며, 상기 근적외선의 세기는 0.1-3000 W/㎠으로, 0 내지 1000초간 조사될 수 있다.The intensity of the far ultraviolet ray may be 1-5000 mW / cm 2 for 0-300 seconds, and the intensity of near infrared rays may be 0.1-3000 W / cm 2 for 0-1000 seconds.

상기 적외선 조사에너지가 상기 범위 미만으로 조사되는 경우에는 기판 및 코팅층의 온도를 향상시키는데 오랜 시간이 소요되고, 상기 범위를 초과하는 경우에는 단시간에 기판의 온도가 너무 높아져 기판의 손상을 야기할 수 있다.When the infrared irradiation energy is irradiated below the above range, it takes a long time to improve the temperature of the substrate and the coating layer. If the infrared irradiation energy is over the above range, the temperature of the substrate may become too high in a short time, .

이러한, 상기 연성기판에 전도성 복합잉크로 패턴을 인쇄하고, 이를 상기 조건으로 광소결하여 제조된 디지타이저 연성인쇄회로기판은 0.01-0.5 Ω/sq의 현저히 낮은 면저항뿐만 아니라, 100번 이상의 굽힘에도 우수한 강도 및 낮은 저항 상승률을 갖는다.The digitizer flexible printed circuit board manufactured by printing a pattern with the conductive composite ink on the flexible substrate and photo-sintering the pattern with the conductive composite ink has a remarkably low sheet resistance of 0.01-0.5? / Sq, And a low resistance increase rate.

또한, 본 발명의 다른 측면은 아래 단계를 포함하는 상기 디지타이저 연성인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것이다.Still another aspect of the present invention relates to a method of manufacturing the digitizer flexible printed circuit board including the steps of:

Ⅰ) 기판을 준비하는 단계,(I) preparing a substrate,

Ⅱ) 상기 기판의 상면 또는 배면에 전도성 복합잉크을 인쇄하여 패턴을 형성하는 단계,(II) printing a conductive composite ink on an upper surface or a back surface of the substrate to form a pattern,

Ⅲ) 상기 패턴을 적외선, 핫플레이트 및 오븐 중에서 선택되는 1종 이상의 방법으로 건조하는 단계,III) drying the pattern by at least one method selected from infrared rays, hot plates and ovens,

Ⅳ) 상기 건조된 패턴을 극단파 백색광, 근적외선 및 원자외선 중에서 선택되는 1종 이상의 방법으로 광소결하는 단계.IV) Photo-sintering the dried pattern by at least one method selected from extreme ultraviolet light, near-infrared light and far ultraviolet light.

상기 기판은 사진전용인화지(Photo Paper), 종이, 유리, 폴리뷰틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리술폰, 폴리에테르, 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 아크릴 수지, 내열성 에폭시, BT 에폭시/유리 섬유, 초산비닐수지(PVAC), 부틸 고무수지, 폴리아릴레이트(PAR), 폴리이미드(PI), 실리콘, 페라이트, 세라믹 및 FR-4 중에서 선택되는 1종일 수 있다.The substrate may be a photographic paper, a paper, a glass, a polybutylene terephthalate (PBT), a polyethylene terephthalate (PET), a polysulfone, a polyether, a polyetherimide (PEI), a polyethylene naphthalate (PEN) 1 selected from acrylic resin, heat resistant epoxy, BT epoxy / glass fiber, PVAC, butyl rubber resin, polyarylate (PAR), polyimide (PI), silicone, ferrite, It can be all day.

상기 인쇄는 직접 인쇄방식으로, 스크린 프린팅(screen printing), 잉크젯 프린팅(inkjet printing), 미세 접촉 프린팅 (micro-contact printing), 임프린팅 (imprinting), 그라비아 프린팅 (gravure printing), 그라비아-옵셋 프린팅(gravure-offset printing), 플렉소그래피 프린팅 (Flexography printing) 및 스핀 코팅(spin coating) 중에서 선택되는 1종일 수 있다.The printing can be carried out by a direct printing method, such as screen printing, inkjet printing, micro-contact printing, imprinting, gravure printing, gravure-offset printing gravure-offset printing, flexography printing, and spin coating.

상기 전도성 복합잉크는 초음파 분산기, 교반기, 볼밀 및 3롤밀 중에서 선택되는 1종 이상으로 분산하는 단계; 및 탈포하는 단계;를 통해 제조될 수 있다.Dispersing the conductive composite ink into at least one selected from an ultrasonic dispersing machine, a stirrer, a ball mill, and a 3 roll mill; And a defoaming step.

상기 제조된 전도성 복합잉크는 기판에 코팅되기 전에 70 내지 100 ℃의 물로 3 내지 5 시간동안 중탕되는 것이 바람직하다. 상기 전도성 복합잉크를 중탕시키지 않은 상태로 기판에 코팅하면 전도성 복합잉크에 포함된 금속 나노입자, 금속 마이크로입자, 금속 나노와이어 및 금속 전구체 들의 혼합물들이 곳곳에 뭉쳐있을 수 있다.The conductive composite ink is preferably soaked in water at 70 to 100 ° C for 3 to 5 hours before being coated on the substrate. When the conductive composite ink is coated on the substrate without being hot-watered, a mixture of metal nanoparticles, metal microparticles, metal nanowires, and metal precursors contained in the conductive composite ink may be clustered in various places.

상기 전도성 복합잉크는 바인더 및 용매를 더 포함할 수 있는데, 상기 바인더는 전도성 복합잉크 제조시 잉크의 분산성 및 환원성을 향상시키기 위한 것으로, 바람직하게는 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐알콜, 폴리비닐부티랄, 폴리에틸렌글리콜, 폴리메틸메타크릴레이트, 덱스트란, 아조비스, 도데실벤젠황산나트륨 등의 고분자 바인더 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The conductive composite ink may further include a binder and a solvent. The binder is for improving the dispersibility and reducibility of the ink during the production of the conductive composite ink. Preferably, the binder is a polyvinyl pyrrolidone, a polyvinyl alcohol, a polyvinyl And polymeric binders such as butyral, polyethylene glycol, polymethyl methacrylate, dextran, azobis, sodium dodecylbenzenesulfate, and the like.

이러한, 바인더는 상기 전도성 복합잉크 100 중량부를 기준으로 1 내지 50 중량부 포함될 수 있는데, 상기 바인터의 함량이 1 미만이면 분산성 또는 환원성이 저하되어 인쇄공정시 불균일한 패턴이 형성되는 문제가 발생한다. 또한, 상기 바인더의 함량이 50 중량부를 초과하게 되면 응집체를 형성하기 때문에 상기 범위인 것이 바람직하다. The binder may be included in an amount of 1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the conductive composite ink. If the content of the binder is less than 1, the dispersibility or reducing property is lowered, do. When the content of the binder is more than 50 parts by weight, aggregates are preferably formed.

또한, 상기 전도성 복합잉크는 분산제를 더 포함하며, 상기 분산제로는 Disperbyk 180, Disperbyk 111, 스틸렌말레익언하이드라이드 코폴리머(SMA 1440flake) 등의 이온 그룹을 포함하는 코폴리머; 2-부톡시에틸 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 에틸렌 글리콜 부틸 에테르, 시클로헥사논, 시클로헥사놀, 2-에톡시에틸 아세테이트, 에틸렌 글리콜 디아세테이트, 테르피네올(terpineol), 이소부틸 알코올로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 들 수 있다. The conductive composite ink further includes a dispersing agent, and the dispersing agent may include a copolymer containing ionic groups such as Disperbyk 180, Disperbyk 111, and styrene maleic anhydride copolymer (SMA 1440 flake); Propylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol butyl ether, cyclohexanone, cyclohexanol, 2-ethoxyethyl acetate, ethylene glycol diacetate, terpineol (terpineol), and isobutyl alcohol.

또한, 상기 용매를 적절히 조절하여 점도 및 표면장력을 제어할 수 있다. 상기 용매로는 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 헥실렌 글리콜, 글리세린, 이소프로필 알코올, 부틸알코올, 옥틸 알코올, 포름아미드, 메틸에틸케톤, 에틸알코올, 메틸알코올, 아세톤 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.Further, the viscosity and the surface tension can be controlled by appropriately adjusting the solvent. Examples of the solvent include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, hexylene glycol, glycerin, isopropyl alcohol, butyl alcohol, octyl alcohol, formamide, methyl ethyl ketone, , Methyl alcohol, and acetone.

또한, 상기 전도성 복합잉크는 제1 금속입자 단독 또는 제1 금속입자;와 금속 마이크로입자, 금속 나노와이어 및 금속 전구체 중에서 선택되는 1종 이상의 제2 금속입자;를 포함하는 것을 특징으로 한다.Also, the conductive composite ink may include at least one first metal particle or at least one second metal particle selected from the group consisting of metal microparticles, metal nanowires, and metal precursors.

상기 제1, 제2 금속입자는 전기선 폭발법, 플라즈마 가열법, 전기분해법 및 화학적 합성법 중에서 선택되는 1종으로 제조된 것을 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable that the first and second metal particles are made of one kind selected from an electric wire explosion method, a plasma heating method, an electrolysis method and a chemical synthetic method.

또한, 상기 전도성 복합잉크에서 제1 금속입자 및 제2 금속입자는 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 백금(Pt), 코발트(Co), 철(Fe), 카드늄(Cd), 텅스텐(W), 몰리브데늄(Mo), 망간(Mn), 크롬(Cr), 아연(Zn) 및 알루미늄(Al) 중에서 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으나, 전도성이 가장 우수하면서, 가격이 저렴하면서, 연성기판에 패턴으로 형성되었을 때, 굽힘에 따른 저항 상승 및 전도성 저하가 가장 낮기 때문에 구리를 사용하는 것이 가장 바람직하다.In the conductive composite ink, the first metal particles and the second metal particles may be at least one selected from the group consisting of copper (Cu), gold (Au), silver (Ag), nickel (Ni), platinum (Pt), cobalt ), Cadmium (Cd), tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mn), chromium (Cr), zinc (Zn) and aluminum It is most preferable to use copper because the increase in resistance due to bending and the decrease in conductivity are the lowest when the copper foil is the most excellent and has a low cost and is formed into a pattern on a flexible substrate.

상기 제2 금속입자 중에서 금속 전구체는 구리 전구체를 사용하는 것이 바람직하고, 상기 구리 전구체로는 CuCl, CuCl2, Cu(acac)2, Cu(hfac)2 , Cu(tfac)2, Cu(dpm)2, Cu(ppm)2, Cu(fod)2, Cu(acim)2, Cu(nona-F)2, Cu(acen)2, Cu(NO3)2ㆍ3H2O, Cu(C3H4F3O2)2 및 CuSO4ㅇ5H2O 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있는데, 이는 사용되는 용매에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 일예로 본 발명의 전도성 복합잉크에 디에틸렌 글리콜(DEG)을 용매로 하는 경우, Cu(NO3)2ㆍ3H2O를 사용하는 것이 가장 바람직하다. 이는 다른 전구체에 비해 현저히 면저항이 우수하기 때문으로, 금속 전구체에 따른 면저항 비교를 도 7에서 확인할 수 있다.Wherein it is preferable to use the metal precursor copper precursor from the second metal particles in the copper precursor is CuCl, CuCl 2, Cu (acac ) 2, Cu (hfac) 2, Cu (tfac) 2, Cu (dpm) 2, Cu (ppm) 2, Cu (fod) 2, Cu (acim) 2, Cu (nona-F) 2, Cu (acen) 2, Cu (NO 3) 2 and 3H 2 O, Cu (C 3 H 4 F 3 O 2 ) 2 and CuSO 4 ㅇ 5H 2 O, which may be appropriately selected depending on the solvent used. For example, when diethylene glycol (DEG) is used as a solvent in the conductive composite ink of the present invention, it is most preferable to use Cu (NO 3 ) 2 .3H 2 O. This is because the sheet resistance is remarkably superior to other precursors, and the sheet resistance comparison according to the metal precursor can be confirmed in FIG.

상기 제1 금속입자의 직경은 20-50 ㎚일 수 있는데, 상기 제1 금속입자의 직경이 상기 범위 미만이면 분산성이 떨어지는 잉크가 제조되고, 상기 제1 금속입자가 상기 번위를 초과할 경우 광소결 과정에서 제1 금속입자와 제2 금속입자 간에 생성된 기공의 크기가 너무 커 면저항이 상승되고 전도성이 낮아져 전도성 잉크로 사용이 부적합하다.The diameter of the first metal particles may be 20-50 nm. If the diameter of the first metal particles is less than the above range, an ink having poor dispersibility is produced. If the first metal particles exceed the above- If the size of the pores generated between the first metal particles and the second metal particles during the sintering process is too large, the resistance is increased and the conductivity is lowered, so that it is not suitable for use as a conductive ink.

본 발명에 사용되는 상기 제2 금속입자는 금속 마이크로입자, 금속 나노와이어 및 금속전구체 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The second metal particles used in the present invention may be at least one selected from metal microparticles, metal nanowires, and metal precursors.

특히. 제1 금속입자와 제2 금속입자인 금속 마이크로 입자를 포함하는 전도성 복합잉크를 소결하는 경우, 크기가 큰 제2 금속입자와 나노크기의 제1 금속입자 간에 네킹(necking),이 형성되어 입자간에 생성되는 기공을 줄일 수 있으므로 면저항은 저하되고, 전도성은 향상되며, 내구성 또한 향상된다.Especially. When the conductive composite ink including the first metal particles and the metal microparticles as the second metal particles is sintered, a necking is formed between the second metal particles having a large size and the first metal particles having a size of nano- Since the generated pores can be reduced, the sheet resistance is lowered, the conductivity is improved, and the durability is also improved.

이러한, 상기 제2 금속입자가 금속 마이크로입자일 때, 이의 직경은 1-10 ㎛인 것이 바람직한데, 상기 금속 마이크로입자의 크기가 1 ㎛ 미만이면 전도성이 우수하지 못하고, 다른 구리입자와의 결합에 의해 발생되는 플라즈몬(Plasmonic; 빛 공명 현상) 현상이 발생하지 않아 전도성 및 소결 효율이 나빠지는 문제가 발생한다. 또한, 상기 금속 마이크로입자의 크기가 10 ㎛ 초과하게 되면 소결에 필요한 에너지가 커지므로, 생성된 패턴의 손상이 발생되어 전도성이 저하될 수 있다.When the second metal particles are metal microparticles, the diameter of the second metal particles is preferably 1-10 占 퐉. If the size of the metal microparticles is less than 1 占 퐉, the conductivity is not excellent, A plasmon (light resonance phenomenon) phenomenon is not generated and conductivity and sintering efficiency are deteriorated. In addition, when the size of the metal microparticles exceeds 10 탆, the energy required for sintering increases, so that the generated pattern may be damaged and the conductivity may be lowered.

상기 제2 금속입자가 금속 나노와이어인 경우, 제1 금속입자와 나노와이어가 서로 뭉쳐져 연결고리를 형성하므로 내구성이 향상되어 저항상승률을 낮출 수 있어 바람직하다.When the second metal particles are metal nanowires, the first metal particles and the nanowires are formed by forming a linking ring together with each other, so that durability is improved and the rate of increase in resistance can be lowered.

또한, 제2 금속입자로 상기 금속 마이크로입자와 금속 나노와이어의 혼합인 경우, 나노입자와 마이크로 입자를 사용함에 따른 기공 저하 특성과 동시에, 금속 나노와이어에 의해 각 입자간에 연결고리를 현성함으로써, 굽힘 또는 수축에 의한 패턴에 파손이 발생하여도 전도성을 유지할 수 있는 장점이 연계되므로, 유연성을 갖는 디지타이저 연성인쇄회로기판에 가장 적합하다.Further, when the metal microparticles and the metal nanowires are mixed with the second metal particles, the pores may be degraded due to the use of the nanoparticles and the microparticles, and at the same time, It is most suitable for a flexible digitizer flexible printed circuit board because it has the advantage of maintaining the conductivity even if breakage occurs in the pattern due to shrinkage.

상기 금속 나노와이어의 직경은 10-500 ㎚, 길이는 1-100 ㎛일 수 있는데, 직경 및 길이가 상기 번위 미만이면 전도성이 우수하지 못하며, 직경 및 길이가 상기 범위를 초과하게 되면 소결에 필요한 에너지가 커지게 되므로 기판에 손상이 발생할 수 있고, 전도성이 저하된 패턴이 생성될 수 있다.The diameter of the metal nanowire may be 10-500 nm and the length may be 1-100 mu m. If the diameter and length are less than the above range, the conductivity is not excellent. If the diameter and length exceed the above range, the energy required for sintering As a result, the substrate may be damaged and a pattern with reduced conductivity may be generated.

또한, 상기 제2 금속입자가 금속 전구체이면, 상기 제1 금속입자 대 제2 금속입자의 중량비는 1 대 0.1 내지 0.5의 비율로 혼합될 수 있고,If the second metal particles are metal precursors, the weight ratio of the first metal particles to the second metal particles may be 1: 0.1 to 0.5,

상기 제2 금속입자가 금속 마이크로 입자이면, 제1 금속입자 대 제2 금속입자의 중량비는 1 대 0.01 내지 0.1의 비율로 혼합될 수 있으며,If the second metal particles are metal microparticles, the weight ratio of the first metal particles to the second metal particles may be 1: 0.01 to 0.1,

상기 제2 금속입자가 금속 나노와이어이면, 상기 제1 금속입자 대 제2 금속입자의 중량비는 1 대 1 내지 3의 비율로 혼합되는 것이 바람직한데, 제1 금속입자를 기준으로 제2 금속입자의 비율이 상기 범위 미만이면 전도성 복합잉크는 높은 비저항을 갖게되며, 인쇄 후, 표면상태가 고르지 못하며, 전도성이 저하된다. 또한, 제1 금속입자 대 제2 금속입자의 비율이 상기 범위를 초과하게 되면 소결 효율 및 내구성이 저하되어, 연성기판의 굽힘과 수축에 의해 패턴이 쉽게 파손된다.If the second metal particles are metal nanowires, the weight ratio of the first metal particles to the second metal particles is preferably 1: 1 to 3: When the ratio is less than the above range, the conductive composite ink has a high resistivity, and the surface state after printing is uneven and the conductivity is lowered. If the ratio of the first metal particles to the second metal particles exceeds the above range, the sintering efficiency and durability are lowered, and the pattern is easily broken due to bending and contraction of the flexible substrate.

이후, Ⅱ) 상기 기판의 상면 또는 배면에 전도성 복합잉크을 인쇄하여 패턴을 형성한다.Next, (II) a conductive composite ink is printed on the upper or rear surface of the substrate to form a pattern.

이때, 상기 인쇄는 직접 인쇄방식으로, 스크린 프린팅(screen printing), 잉크젯 프린팅(inkjet printing), 미세 접촉 프린팅 (micro-contact printing), 임프린팅 (imprinting), 그라비아 프린팅 (gravure printing), 그라비아-옵셋 프린팅(gravure-offset printing), 플렉소그래피 프린팅 (Flexography printing) 및 스핀 코팅(spin coating) 중에서 선택되는 1종일 수 있는데, 고속 롤투롤(R2R)을 수행하기 위해서는 그라비아 프린팅 (gravure printing), 그라비아-옵셋 프린팅(gravure-offset printing) 및 플렉소그래피 프린팅 (Flexography printing) 중에서 선택되는 1종을 사용하는 것이 가장 바람직하다.At this time, the printing may be a direct printing method, such as screen printing, inkjet printing, micro-contact printing, imprinting, gravure printing, gravure offset printing, Gravure printing, gravure-offset printing, flexography printing and spin coating. In order to perform the high-speed roll-to-roll (R2R), gravure printing, gravure- It is most preferable to use one kind selected from gravure-offset printing and flexography printing.

다음으로, Ⅲ) 상기 패턴을 적외선, 핫플레이트 및 오븐 중에서 선택되는 1종 이상의 방법으로 건조한다.Next, (III) the pattern is dried by at least one method selected from an infrared ray, a hot plate and an oven.

본 과정을 통해 패턴에 포함된 용매를 제대로 건조하지 않으면, 이후 수행되는 광소결시 잉크가 액상에서 고상으로 상변화하는데 에너지를 많이 소모하므로 소결이 제대로 이루어지지 않을 수 있다.If the solvent contained in the pattern is not properly dried through this process, sintering may not be performed properly since the ink is consumed a lot of energy in the phase change from the liquid phase to the solid phase at the subsequent light sintering.

이때, 연성기판 즉 폴리머 기판에 손상을 가하지 않기 위하여 60-150 ℃로 유지하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to maintain the soft substrate at 60-150 占 폚 so as not to damage the flexible substrate.

또한, 상기 Ⅲ) 단계는 예열 또는 용매 건조를 위한 예비 광조사 단계를 더 포함할 수 있다. 이는 이후, 수행되는 광소결 단계에서 기판에 도포된 전도성 잉크로 이루어진 패턴의 결정 및 배열 상태를 보다 더 치밀하게 하기 위해, 수행되는 예열 또는 예비 광조사 단계이다.In addition, the step (III) may further include a preliminary light irradiation step for preheating or solvent drying. This is a preheating or preliminary light irradiation step performed in order to further refine the crystal state and arrangement state of the pattern made of the conductive ink applied to the substrate in the light sintering step to be performed subsequently.

이러한 과정은 극단파 백색광 조사조건을 조절하여 수행하거나, 근적외선을 조사하여 수행될 수 있다. 상기 예열 또는 예비 광조사시, 상기 근적외선은 100 내지 5000 ㎽/㎠의 세기로 5 내지 300 초간 조사될 수 있다.This process can be performed by adjusting the extreme ultraviolet ray irradiation conditions or by irradiating near infrared rays. When the preheating or preliminary light irradiation is performed, the near-infrared light may be irradiated for 5 to 300 seconds at an intensity of 100 to 5000 mW / cm 2.

기판에 도포된 전도성 복합잉크의 건조가 제대로 이루어지지 않으면, 이후 광소결 단계에서 액상에서 고상으로 상변화하는데 에너지를 많이 소모하므로 제1 및 제2 금속입자 간의 접합이 용이하지 않을 수 있다. 또한, 이러한 접합에 의해 제1 및 제2 금속입자간의 배열 및 조직을 치밀화하여 기공의 크기를 저하시키므로 전도성과 내구성이 향상된 디지타이저 연성인쇄회로기판을 얻을 수 있어 바람직하다.If the conductive composite ink applied to the substrate is not properly dried, the first and second metal particles may not be easily joined because the energy is consumed to change the phase from the liquid phase to the solid phase in the subsequent light sintering step. In addition, since the arrangement and the structure between the first and second metal particles are densified by such bonding, the size of the pores is reduced, so that a digitizer flexible printed circuit board with improved conductivity and durability can be obtained.

다음으로, Ⅳ) 상기 건조된 패턴을 극단파 백색광, 근적외선 및 원자외선 중에서 선택되는 1종 이상의 방법으로 광소결한다.Next, (IV) the dried pattern is photo-sintered by at least one method selected from extreme ultraviolet light, near-infrared light and far ultraviolet light.

상기 광소결은 극단파 백색광, 근적외선 및 원자외선 중에서 선택되는 1종 이상의 광원을 동시에 조사하거나, 단계별로 조사할 수 있다.The light sintering may be performed by simultaneously irradiating one or more light sources selected from extreme ultraviolet light, near-infrared light and far ultraviolet light, or by stepwise irradiation.

본 발명에 의하면 약 1 내지 20 ms 정도의 매우 짧은 시간 동안 완전한 소결이 가능하다. 본 발명에 사용하는 제논 램프를 이용한 극단파 광소결 장치의 일반적인 구조를 도 4에 나타내었다.According to the present invention, complete sintering is possible for a very short time of about 1 to 20 ms. The general structure of the extreme ultraviolet light sintering apparatus using the xenon lamp used in the present invention is shown in Fig.

기판 위에 도포된 전도성 복합잉크는 제논 램프로부터 발산되는 극단파 백색광에 의해 빛 에너지를 받으면서 광소결되어 전도성을 띠게 된다. 이때, 제1 금속입자와 제2 금속입자 간에 네킹이 형성되어 전도성이 향상된다. 도 4의 하단에 삽입된 이비지는 제1 금속입자와 제2 금속입자로 금속 마이크로입자가 사용된 전도성 복합잉크의 소결 전과 후를 나타낸 것으로, 제1 및 제2 금속입자 간에 네킹이 형성된 모습을 확인할 수 있다.The conductive composite ink coated on the substrate is subjected to light sintering while being subjected to light energy by extreme ultraviolet white light emitted from the xenon lamp, and thus becomes conductive. At this time, the necking is formed between the first metal particles and the second metal particles to improve the conductivity. 4 shows the state before and after the sintering of the conductive composite ink in which metal microparticles were used as the first metal particles and the second metal particles, and confirmed that the necking was formed between the first and second metal particles .

광소결 단계에서 제논 플래쉬 램프의 펄스 수가 1 내지 20일 때, 상기 펄스 폭이 5-20 ms이고, 강도가 1-50 J/㎠일 수 있는데, 상기 펄스 폭이 15 ms 보다 클 경우에는 단위 시간당 입사 에너지가 줄어들어 소결의 효율이 저하될 수 있고, 펄스 수가 20 번을 초과하는 경우에는 강도가 0.01 J/㎠보다 작은 경우에도 너무 낮은 에너지로 인해 전도성 복합잉크가 제대로 소결되지 않아 균일한 패턴을 형성할 수 없고, 강도가 50 J/㎠보다 큰 경우에는 장비와 램프에 무리가 가해지기 때문에 장비와 램프의 수명이 급속하게 줄어든다.When the number of pulses of the xenon flash lamp in the light sintering step is 1 to 20, the pulse width may be 5-20 ms and the intensity may be 1-50 J / cm 2. If the pulse width is larger than 15 ms, When the number of pulses exceeds 20, the conductive composite ink does not sinter properly due to too low energy to form a uniform pattern even if the intensity is less than 0.01 J / cm 2. If the intensity is greater than 50 J / cm 2, equipment and lamps are burdened, and the service life of equipment and lamps is rapidly reduced.

상기 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광의 광소결 조건은 기판의 종류에 따라 조사되는 에너지 범위가 조절되어야 하며, 기판이 PET인 경우, 에너지 범위가 5-20 J/㎠이고, PI인 경우, 에너지 범위가 5-50 J/㎠이며, 사진전용인화지인 경우, 에너지 범위가 3-15 J/㎠이며, BT인 경우 에너지 범위가 10-20 J/㎠인 것이 바람직한데, 상기 에너지 범위 조건을 벗어나는 경우, 면저항이 현저히 증가하는 것을 확인할 수 있다.The light sintering conditions of the extreme ultraviolet light using the xenon flash lamp are such that the energy range to be irradiated is controlled according to the type of the substrate, the energy range is 5-20 J / cm 2 when the substrate is PET, It is preferable that the energy range is from 3 to 15 J / cm 2 in the case of photographic paper, and the energy range is from 10 to 20 J / cm 2 in case of BT. , It can be confirmed that the sheet resistance is significantly increased.

이는 상기 에너지 범위 미만으로 조사하면 소결이 충분히 되지 않기 때문이고, 상기 에너지 범위를 초과하게 되면 기판이 손상되기 때문에 디지타이저의 기능이 저하되어 세밀한 터치가 불가능해진다. 특히, 에너지 범위를 초과한 경우, 기판의 손상에 의해 연성기판의 특성이 유연성 및 굽힘 특성이 현저히 저하되어, 이를 제품에 적용하게 되면 쉽게 파손되고, 오류가 발생한다.If the energy range is exceeded, the substrate is damaged. Therefore, the function of the digitizer deteriorates and detailed touch becomes impossible. In particular, when the energy range is exceeded, the flexibility and bending characteristics of the flexible substrate are remarkably deteriorated due to the damage of the substrate, and if it is applied to a product, it is easily broken and errors occur.

또한, 상기 원자외선의 세기는 1-5000 ㎽/㎠으로, 0 내지 300 초간 조사될 수 있으며, 상기 근적외선의 세기는 0.1-3000 W/㎠으로, 0 내지 1000초간 조사될 수 있다.The intensity of the far ultraviolet ray may be 1-5000 mW / cm 2 for 0-300 seconds, and the intensity of near infrared rays may be 0.1-3000 W / cm 2 for 0-1000 seconds.

상기 적외선 조사에너지가 상기 범위 미만으로 조사되는 경우에는 기판 및 코팅층의 온도를 향상시키는데 오랜 시간이 소요되고, 상기 범위를 초과하는 경우에는 단시간에 기판의 온도가 너무 높아져 기판의 손상을 야기할 수 있다.When the infrared irradiation energy is irradiated below the above range, it takes a long time to improve the temperature of the substrate and the coating layer. If the infrared irradiation energy is over the above range, the temperature of the substrate may become too high in a short time, .

특히, 근적외선(NIR), 원자외선(Deep UV) 및 극단파 백색광의 복합광원을 함께 조사하면, 국부적인 용융에 의해 제1 금속입자끼리 또는 제1 금속입자와 제2 금속입자간 및 금속입자와 기판을 광접합하여, 조직 치밀화를 용이하게 하므로 전도성 및 내구성이 우수한 디지타이저 연성인쇄회로기판을 제조할 수 있다.Particularly, when a combined light source of near-infrared (NIR), deep ultraviolet (Deep UV) and extreme ultraviolet light is irradiated together, the first metal particles or the first metal particles and the second metal particles, The substrate is optically bonded to facilitate densification of the structure, so that a digitizer flexible printed circuit board having excellent conductivity and durability can be manufactured.

그러나 극단파 백색광, 적외선 및 자외선 에너지가 커질수록 무조건적으로 광접합 효율이 효과적으로 일어나는 것은 아니고, 상술한 조사 조건을 벗어나는 경우에는 단기간에 기판의 온도가 너무 높아져 기판의 손상이 발생할 수 있으므로, 상술한 광조사 조건 하에서만 수행될 수 있다.However, as the energy of extreme ultraviolet light, infrared light and ultraviolet light increases, the optical coupling efficiency does not occur unconditionally. If the above-mentioned irradiation conditions are exceeded, the temperature of the substrate may become too high in a short period of time and damage to the substrate may occur. Can be performed only under irradiation conditions.

이하에서 실시예 등을 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 하며, 다만 이하에 실시예 등에 의해 본 발명의 범위와 내용이 축소되거나 제한되어 해석될 수 없다. 또한, 이하의 실시예를 포함한 본 발명의 개시 내용에 기초한다면, 구체적으로 실험 결과가 제시되지 않은 본 발명을 통상의 기술자가 용이하게 실시할 수 있음은 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연하다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and the like, but the scope and content of the present invention can not be construed to be limited or limited by the following Examples. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the following claims. It is natural that it belongs to the claims.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

PVP(MW 40,000, Sigma Aldrich Co, Ltd.) 0.8 g과 에틸렌 글리콜(99%, Sigma Aldrich Co. Ltd) 9.5 g, 그리고 Disperbyk 180을 0.3 g 섞어 소니케이터를 이용하여 2시간 동안 분산시킨다. 여기에, 5.0 g의 구리 나노입자(직경 20 - 50 ㎚, Quantum Spehere Inc Co. Ltd)를 첨가한 후, 소니케이터와 교반기로 분산시키고, 혼합탈포기를 이용하여 재분산시켜 혼합용액을 제조한다. 상기 혼합용액 내에 뭉쳐있는 일부 구리 응집체를 여과기(기공 크기: 0.45 ㎛)를 이용하여 제거하고, 혼합탈포기로 재차 분산시켜 구리용액을 제조한다. 상기 구리용액 1 g에 실란 커플링제(KBE-603, Shin-Etsu silicones) 3 ㎖와 적정 점성을 갖도록 γ-부티로락톤(Wako Pure Chemical Ind., Ltd) 1 ㎖ 및 적정 표면장력을 갖도록 2-에톡시에탄올(Wako Pure Chemical Ind., Ltd) 1 ㎖을 첨가하여, 혼합탈포기 및 3-roll mill로 혼합하여 최종적으로 구리나노잉크를 완성한다. 상기 구리나노잉크를 폴리이미드 기판 위에 스크린 프린터를 이용하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄한다. 상기 패턴을 광소결하기 전에 60 ℃의 60 분 동안 오븐에서 건조한 후, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)이 제조된다. 이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭 10 ms, 펄스 수는 1 개이고, 펄스 에너지는 6 J/㎠이다. 0.8 g of PVP (MW 40,000, Sigma Aldrich Co, Ltd.), 9.5 g of ethylene glycol (99%, Sigma Aldrich Co. Ltd) and 0.3 g of Disperbyk 180 are mixed and dispersed for 2 hours using a sonicator. 5.0 g of copper nanoparticles (20-50 nm in diameter, Quantum Spehere Inc Co. Ltd) was added thereto, followed by dispersion using a sonicator and a stirrer, followed by re-dispersion using a mixed deaerator to prepare a mixed solution do. Some copper agglomerates clinging to the mixed solution are removed using a filter (pore size: 0.45 탆) and dispersed again with a mixed deaerator to prepare a copper solution. 3 ml of a silane coupling agent (KBE-603, Shin-Etsu silicones) was added to 1 g of the copper solution, 1 ml of γ-butyrolactone (Wako Pure Chemical Ind., Ltd) was added thereto to have an appropriate viscosity, 1 ml of ethoxyethanol (Wako Pure Chemical Ind., Ltd) was added, mixed with a mixed deaerator and a 3-roll mill to finally complete the copper nanoink. The copper nano ink was applied onto a polyimide substrate using a screen printer And printed in a mesh pattern which is an electrode form of a digitizer printed circuit board (FPCB). The pattern was dried in an oven at 60 ° C for 60 minutes before photo-sintering, and the digitizer printed circuit board (FPCB) was manufactured by irradiating extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp. At this time, the irradiation conditions of the extreme ultraviolet-white light are 10 ms width of pulse, 1 pulse number, and 6 J / cm 2 pulse energy.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

상기 실시예 1에서 제조된 구리나노잉크를 이용하여, PET 기판 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 적외선으로 100 ℃에서 30분 동안 건조한 후, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사함으로써, 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)이 제조된다.The copper nano ink prepared in Example 1 was screen printed on a PET substrate to print a mesh pattern as an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and the pattern was irradiated with infrared light at 100 ° C After drying for 30 minutes, the digitizer printed circuit board (FPCB) is produced by irradiating extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭 10 ms, 펄스 수는 20개이고, 펄스 에너지는 12 J/㎠이다. At this time, the irradiation conditions of the extreme ultraviolet-white light are 10 ms pulse width, 20 pulse number, and 12 J / cm 2 pulse energy.

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

상기 실시예 1에서 제조된 구리나노잉크를 이용하여, 사진전용인화지(Photo Paper) 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 적외선을 이용하여 100 ℃에서 30 분 동안 건조한 후, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.The copper nano ink prepared in Example 1 was screen-printed on a photo paper for printing on a digitized printed circuit board (FPCB) as a mesh pattern, and the pattern was printed After drying at 100 ° C for 30 minutes using infrared rays, a digitizer printed circuit board is manufactured by irradiating extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 5 ms, 펄스 수는 3 개, 펄스 간격은 5 ms이며 펄스 에너지는 8 J/㎠이다.At this time, the irradiation conditions of the extreme ultraviolet-white light are 5 ms width of pulse, 3 pulse number, 5 ms pulse interval and 8 J / cm 2 pulse energy.

실시예 1 내지 3은 앞의 조건에서는 예열을 이용한 단계(첫 번째 펄스)와 치밀화 단계(두세 번째 펄스)의 두 단계로 나누어 조사하는 단계적 광소결 기법을 사용하였으며 경우에 따라 조건에서는 예열 없이 하나의 펄스를 조사하는 단펄스 광소결 기법을 사용할 수 있다.In Examples 1 to 3, a stepwise optical sintering technique was used in which the preliminary heating step (first pulse) and the densification step (second pulse) were divided into two steps, A pulsed light sintering technique may be used.

<실시예 4><Example 4>

상기 실시예 1에서 제조된 구리나노잉크를 이용하여, 사진전용인화지(Photo Paper) 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 핫플레이트를 이용하여 100 ℃에서 40 분 동안 건조한 후, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.The copper nano ink prepared in Example 1 was screen-printed on a photo paper for printing on a digitized printed circuit board (FPCB) as a mesh pattern, and the pattern was printed Dried at 100 ° C for 40 minutes using a hot plate, and irradiated with extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp to produce a digitizer printed circuit board.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 5 ms이고, 펄스 수는 5 개이며, 펄스 에너지는 10 J/㎠이다.At this time, the irradiation conditions of the extreme ultraviolet-white light are such that the pulse width is 5 ms, the number of pulses is 5, and the pulse energy is 10 J / cm 2.

<실시예 5>&Lt; Example 5 >

상기 실시예 1에서 제조된 구리나노잉크를 이용하여, 폴리이미드 기판 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 적외선을 이용하여 100 ℃에서 60 분 동안 건조한 후, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.Using the copper nano ink prepared in Example 1, screen printing was performed on a polyimide substrate to print in a mesh pattern in the form of an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and the pattern was irradiated with infrared light After drying at 100 ° C for 60 minutes, a digitizer printed circuit board is manufactured by irradiating extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 12.5 J/㎠이다.At this time, the irradiation condition of the extreme-wave white light is such that the width of the pulse is 10 ms, the number of pulses is 1, and the pulse energy is 12.5 J / cm 2.

<실시예 6>&Lt; Example 6 >

상기 실시예 1에서 제조된 구리나노잉크를 이용하여, 폴리이미드 기판 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 적외선을 이용하여 100 ℃에서 60 분 동안 건조한 후, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광과 원자외선(Deep UV)을 동시에 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.Using the copper nano ink prepared in Example 1, screen printing was performed on a polyimide substrate to print in a mesh pattern in the form of an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and the pattern was irradiated with infrared light After drying at 100 ° C for 60 minutes, a digitizer printed circuit board is manufactured by simultaneously irradiating ultraviolet white light and deep UV light using a xenon flash lamp.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 12.5 J/㎠이고, 상기 원자외선의 세기(power)는 30 ㎽/㎠이다.At this time, the irradiation condition of the extreme-wave white light is such that the pulse width is 10 ms, the number of pulses is one, the pulse energy is 12.5 J / cm 2, and the intensity of the deep ultraviolet rays is 30 mW / cm 2.

<실시예 7>&Lt; Example 7 >

상기 실시예 1에서 제조된 구리나노잉크를 이용하여, 폴리이미드 기판 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 핫플레이트를 이용하여 80 ℃에서 60 분 동안 건조하고, 근적외선(NIR)을 조사하여 예열한 직후, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광과 원자외선(Deep UV)을 동시에 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.Using the copper nano ink prepared in Example 1, screen printing was performed on a polyimide substrate to print a mesh pattern, which is an electrode form of a digitizer printed circuit board (FPCB), and a hot plate was used , Dried at 80 ° C for 60 minutes, irradiated with near infrared rays (NIR), and preheated, a digitizer printed circuit board is manufactured by simultaneously irradiating extreme ultraviolet light and deep ultraviolet light using a xenon flash lamp.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 10 J/㎠이고, 상기 원자외선의 세기(power)는 100 ㎽/㎠이다.At this time, the irradiation condition of the extreme ultraviolet ray is 10 ms, the pulse width is 1, the pulse energy is 10 J / cm 2, and the intensity of the far ultraviolet ray is 100 mW / cm 2.

<실시예 8>&Lt; Example 8 >

PVP 0.6 g, 2-부톡시에틸 아세테이트 2 ml을 디에틸렌 글리콜(DEG) 9 g을 소니케이터를 이용하여 30분 동안 분산시키고, 이 혼합용액에 3.0 g의 구리나노입자(20-50 ㎚, Quantum sphere Inc. Co. Ltd)를 넣고, 2 시간 동안 교반기를 이용하여 구리용액을 제조한다. 에탄올 용매 20 ㎖에 1.0 g의 구리 전구체인 질산구리(Cu(NO3)2ㆍ5H2O, 99.9%)를 용해하여 구리 전구체 용액을 준비하고, 이를 상기 구리용액에 첨가하여 소니케이터와 교반기를 이용하여 분산한 다음, 한번 더 혼합탈포기를 이용하여 분산시켜 구리입자/전구체 혼합용액을 제조한다. 상기 혼합용액 내에 존재하는 일부 구리 응집체를 여과기(기공크기:0.45 ㎛)를 통해 제거한 다음, 혼합탈포기를 이용하여 분산시켜 여과된 구리입자/전구체 혼합용액를 제조하고, 상기 여과된 구리입자/전구체 혼합용액 1 g에 72 ㎎의 실란 커플링제(KBE-603, Shin-Etsu silicones), 적정 점성을 갖도록 2 ㎖의 뷰틸 에탄올 (DEG butyl ether), 적정 표면장력을 갖도록 1 ㎖의 2-에톡시에탄올(Wako Pure Chemical Ind., Ltd)을 첨가하여 혼합탈포기 및 3-roll mill을 이용하여 분산시켜 구리나노잉크를 제조한다. 상기 구리나노잉크를 PET 기판 상에 잉크젯 프린터로 10 번 인쇄하여 1 ㎛ 두께를 갖는 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴을 형성한다. 상기 패턴을 광소결하기 전에 오븐을 이용하여 100 ℃에서 90 분 동안 건조하고, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.0.6 g of PVP, 2 ml of 2-butoxyethyl acetate and 9 g of diethylene glycol (DEG) were dispersed for 30 minutes using a sonicator. To this mixed solution, 3.0 g of copper nanoparticles (20-50 nm, Quantum sphere Inc. Co. Ltd), and a copper solution is prepared using a stirrer for 2 hours. 1.0 g of copper precursor (Cu (NO 3 ) 2 .5H 2 O, 99.9%) as a copper precursor was dissolved in 20 ml of an ethanol solvent to prepare a copper precursor solution, which was added to the copper solution, , And then dispersed using a mixed deaerator to prepare a copper particle / precursor mixed solution. The copper particles / precursor mixture was filtered to remove some of the copper aggregate present in the mixed solution through a filter (pore size: 0.45 탆) and dispersed using a mixed deaerator to prepare a filtered copper particle / 72 mg of a silane coupling agent (KBE-603, Shin-Etsu silicones) was added to 1 g of the solution, 2 ml of butyl butyl ether was added to have an appropriate viscosity, and 1 ml of 2-ethoxyethanol Wako Pure Chemical Ind., Ltd) was added and dispersed using a mixed deaerator and a 3-roll mill to prepare a copper nanoink. The copper nano ink is printed 10 times on a PET substrate with an inkjet printer to form a mesh pattern of an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB) having a thickness of 1 mu m. The pattern was dried in an oven at 100 ° C for 90 minutes before photo-sintering, and irradiated with extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp to produce a digitizer printed circuit board.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사 조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 12.5 J/㎠이다. At this time, the irradiation condition of the extreme-wave white light is such that the width of the pulse is 10 ms, the number of pulses is 1, and the pulse energy is 12.5 J / cm 2.

<실시예 9>&Lt; Example 9 >

구리 전구체를 질산구리(Cu(NO3)2ㆍ5H2O, 99.9%)로 하는 것과 2.5 ml 에틸렌 글리콜 부틸 에테르를 추가하는 것을 제외하고는 상기 실시예 8과 모두 동일하게 제조된 구리나노잉크(구리 입자/구리 전구체)를 이용한다.Copper nanoinks prepared in the same manner as in Example 8 except that copper precursor was made of copper nitrate (Cu (NO 3 ) 2 .5H 2 O, 99.9%) and 2.5 ml of ethylene glycol butyl ether were added Copper particles / copper precursor).

상기 구리나노잉크를 이용하여 사진전용인화지(Photo Paper) 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 적외선을 이용하여 100 ℃에서 50 분 동안 건조하고, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.The copper nano ink was screen printed on a photo paper for printing on a photographic paper to print a mesh pattern in the form of an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and the pattern was irradiated with infrared rays at 100 ° C Dried for 50 minutes, and irradiated with extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp to produce a digitizer printed circuit board.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 10 J/㎠이다.At this time, the irradiation conditions of the extreme ultraviolet-white light are 10 ms in pulse width, 1 pulse number, and 10 J / cm 2 pulse energy.

<실시예 10>&Lt; Example 10 >

구리 전구체를 질산구리(Cu(NO3)2ㆍ5H2O, 99.9%)로 한다는 것을 제외하고는 상기 실시예 8과 모두 동일하게 제조된 구리나노잉크(구리 입자/구리 전구체)를 이용한다.(Copper particle / copper precursor) prepared in the same manner as in Example 8 except that the copper precursor is copper nitrate (Cu (NO 3 ) 2 .5H 2 O, 99.9%).

상기 구리나노잉크를 이용하여 폴리이미드 상에 스크린 프린팅 (스핀 코팅) 하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 적외선을 이용하여 100 ℃에서 120 분 동안 건조하고, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다. (Spin coating) on polyimide using the copper nano ink to print a mesh pattern that is an electrode form of a digitizer printed circuit board (FPCB). Before the photo-sintering of the pattern, Minute, and irradiated with extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp to produce a digitizer printed circuit board.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 10 J/㎠이다.At this time, the irradiation conditions of the extreme ultraviolet-white light are 10 ms in pulse width, 1 pulse number, and 10 J / cm 2 pulse energy.

<실시예 11>&Lt; Example 11 >

0.9 g PVP(MW 55,000, Sigma Aldrich Co, Ltd.) 및 0.1 g 도덴실벤젠황산나트륨을 5 g, 그리고 테르피네올(terpineol) 2 ml를 에틸렌 글리콜(DEG)에 첨가하여 소니케이터로 30 분동안 혼합하여 혼합용액을 제조한다. 이후, 구리나노입자(20-50 ㎚, Quantum Sphere Inc Co, Ltd.) 및 구리 나노와이어(직경 150 ㎚, 길이 5 ㎛, Skyspring Nanomaterials Inc Co, Ltd.)를 비율(중량%) 97 : 3으로 혼합하여 총 10.8 g제조하고, 상기 혼합용액에 첨가한 다음, 혼합탈포기를 이용하여 분산한 후, 응집체를 여과하여 볼밀과 3 롤밀을 이용하여 재분산시켜 구리나노잉크를 제조한다.5 g of 0.9 g PVP (MW 55,000, Sigma Aldrich Co, Ltd.) and 0.1 g of sodium cyanobenzene sulfate, and 2 ml of terpineol were added to ethylene glycol (DEG) And mixed to prepare a mixed solution. Thereafter, copper nanoparticles (20-50 nm, Quantum Sphere Inc Co., Ltd.) and copper nanowires (diameter 150 nm, length 5 μm, Skyspring Nanomaterials Inc Co., Ltd.) To prepare a total of 10.8 g. The mixture was added to the mixed solution, followed by dispersion using a mixed deaerator. The aggregate was filtered and redispersed using a ball mill and a 3-roll mill to prepare a copper nanoink ink.

상기 구리나노잉크를 이용하여 PET 기판 상에 잉크젯 프린터로 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 핫플레이트를 이용하여 100 ℃에서 60 분 동안 건조하고, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.The copper nano ink was printed on a PET substrate with an ink jet printer in the form of a mesh pattern in the form of an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and the pattern was dried using a hot plate at 100 DEG C for 60 minutes And digitally printed circuit boards are manufactured by irradiating extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 12.5 J/㎠이다.At this time, the irradiation condition of the extreme-wave white light is such that the width of the pulse is 10 ms, the number of pulses is 1, and the pulse energy is 12.5 J / cm 2.

<실시예 12>&Lt; Example 12 >

*구리나노입자와 구리나노와이어를 비율(중량%) 99:1로 혼합하여 구리나노잉크를 제조한다는 점을 제외하고는 상기 실시예 11과 모두 동일하게 제조된 구리나노잉크를 사용한다.Copper nano ink prepared in the same manner as in Example 11 was used except that copper nano-particles and copper nano-wires were mixed at a ratio (weight%) of 99: 1 to produce copper nano ink.

상기 구리나노잉크를 이용하여 FR-4 기판 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 적외선을 이용하여 100 ℃에서 90 분 동안 건조하고, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.Printed on a FR-4 substrate using the copper nano ink to print a mesh pattern in the form of an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and the pattern was irradiated with infrared rays at 100 DEG C for 90 minutes Dried, and irradiated with extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp to produce a digitizer printed circuit board.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 12.5 J/㎠이다.At this time, the irradiation condition of the extreme-wave white light is such that the width of the pulse is 10 ms, the number of pulses is 1, and the pulse energy is 12.5 J / cm 2.

<실시예 13>&Lt; Example 13 >

0.8 g 아조비스 및 8 g 에틸렌 글리콜(DEG)을 뷰틸 에탄올(butyl ether) 1 ㎖에 첨가하여 소니케이터로 30 분 동안 혼합하여 혼합용액을 제조한다. 다음, 구리 나노입자(20-50 ㎚, Quantum Sphere Inc Co, Ltd.) 및 구리 마이크로 입자(2-8 ㎛, JoinM)를 비율(중량%) 50:50로 혼합하여 총 13g을 제조한 후, 상기 혼합용액에 첨가하고, 교반기와 소니케이터로 분산한 다음, 혼합탈포기로 한번 더 분산하여 구리 나노/마이크로 용액을 제조한다. 상기 구리 나노/마이크로 용액에서 응집체를 여과기를 이용하여 제거하고, 볼밀과 3 롤밀(3-roll mill)로 분산하여 구리잉크를 제조한다.0.8 g of azobis and 8 g of ethylene glycol (DEG) were added to 1 ml of butyl ether and mixed with a sonicator for 30 minutes to prepare a mixed solution. Next, 13 g of copper nanoparticles (20-50 nm, Quantum Sphere Inc Co., Ltd.) and copper microparticles (2-8 μm, JoinM) were mixed at a ratio (weight%) of 50:50, The resulting solution is added to the mixed solution, dispersed with a stirrer and a sonicator, and further dispersed with a mixed deaerator to prepare a copper nano / micro solution. In the copper nano / micro solution, the agglomerates are removed by using a filter, and dispersed with a ball mill and a 3-roll mill to prepare a copper ink.

상기 구리잉크를 이용하여 FR-4 기판 상에 잉크젯 프린터로 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 핫플레이트를 이용하여 100 ℃에서 60 분 동안 건조하고, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.The copper ink was printed on a FR-4 substrate with an inkjet printer as a mesh pattern in the form of an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and the pattern was heated at 100 DEG C for 60 minutes Dried, and irradiated with extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp to produce a digitizer printed circuit board.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 12.5 J/㎠이다.At this time, the irradiation condition of the extreme-wave white light is such that the width of the pulse is 10 ms, the number of pulses is 1, and the pulse energy is 12.5 J / cm 2.

<실시예 14>&Lt; Example 14 >

상기 구리 나노입자와 상기 구리 마이크로입자를 비율(중량%) 25:75로 혼합하여 구리잉크를 제조한다는 점을 제외하고는 상기 실시예 13과 모두 동일하게 제조된 구리잉크를 사용한다.The copper ink prepared in the same manner as in Example 13 was used except that the copper nanoparticles and the copper microparticles were mixed at a ratio (weight%) of 25:75 to prepare a copper ink.

상기 구리잉크를 이용하여 FR-4 기판 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 적외선을 이용하여 100 ℃에서 90 분 동안 건조하고, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.Printed on a FR-4 substrate using the copper ink in a mesh pattern as an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and dried by infrared rays at 100 DEG C for 90 minutes before photo-sintering And digitally printed circuit boards are manufactured by irradiating extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 12.5 J/㎠이다.At this time, the irradiation condition of the extreme-wave white light is such that the width of the pulse is 10 ms, the number of pulses is 1, and the pulse energy is 12.5 J / cm 2.

<실시예 15>&Lt; Example 15 >

플라즈마 가열법으로 제조된 구리나노입자를 사용한다는 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 모두 동일하게 제조된 구리나노잉크를 사용한다.Copper nano ink prepared in the same manner as in Example 1 is used except that copper nanoparticles produced by the plasma heating method are used.

상기 구리나노잉크를 이용하여 FR-4 기판 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 적외선을 이용하여 100 ℃에서 30 분 동안 건조하고, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.Printed on a FR-4 substrate using the copper nano ink to print a mesh pattern in the form of an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and the pattern was irradiated with infrared rays at 100 DEG C for 30 minutes Dried, and irradiated with extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp to produce a digitizer printed circuit board.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 12.5 J/㎠이다.At this time, the irradiation condition of the extreme-wave white light is such that the width of the pulse is 10 ms, the number of pulses is 1, and the pulse energy is 12.5 J / cm 2.

<실시예 16>&Lt; Example 16 >

전기폭발법으로 제조된 구리나노입자를 사용한다는 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 모두 동일하게 제조된 구리나노잉크를 사용한다.Copper nano ink prepared in the same manner as in Example 1 was used except that copper nanoparticles prepared by an electric explosion method were used.

상기 구리나노잉크를 이용하여 FR-4 기판 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 적외선을 이용하여 100 ℃에서 80 분 동안 건조하고, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.Printed on a FR-4 substrate using the copper nano ink to form a mesh pattern as an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and the pattern was irradiated with infrared rays at 100 DEG C for 80 minutes Dried, and irradiated with extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp to produce a digitizer printed circuit board.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 12.5 J/㎠이다.At this time, the irradiation condition of the extreme-wave white light is such that the width of the pulse is 10 ms, the number of pulses is 1, and the pulse energy is 12.5 J / cm 2.

<실시예 17>&Lt; Example 17 >

구리나노입자와 구리나노와이어를 비율(중량%) 99:1로 혼합하여 구리나노잉크를 제조한다는 점을 제외하고는 상기 실시예 11과 모두 동일하게 제조된 구리나노잉크를 사용한다.Copper nano ink prepared in the same manner as in Example 11 was used except that copper nano-particles and copper nano-wires were mixed at a ratio (weight%) of 99: 1 to produce copper nano ink.

상기 구리나노잉크를 이용하여 폴리이미드 기판 상에 잉크젯 프린터로 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 핫플레이트를 이용하여 100 ℃에서 60 분 동안 건조하고, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.The copper nano ink was printed on a polyimide substrate with an inkjet printer as a mesh pattern in the form of an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and the pattern was heated at 100 ° C for 60 minutes Dried, and irradiated with extreme ultraviolet light using a xenon flash lamp to produce a digitizer printed circuit board.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 12.5 J/㎠이다.At this time, the irradiation condition of the extreme-wave white light is such that the width of the pulse is 10 ms, the number of pulses is 1, and the pulse energy is 12.5 J / cm 2.

<실시예 18>&Lt; Example 18 >

구리나노입자와 구리나노와이어를 비율(중량%) 99:2로 혼합하여 구리나노잉크를 제조한다는 점을 제외하고는 상기 실시예 17과 모두 동일하게 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.A digitizer printed circuit board was manufactured in the same manner as in Example 17 except that copper nano particles and copper nano wires were mixed at a ratio (weight%) of 99: 2 to produce copper nano ink.

<실시예 19>&Lt; Example 19 >

구리나노입자와 구리나노와이어를 비율(중량%) 99:3로 혼합하여 구리나노잉크를 제조한다는 점을 제외하고는 상기 실시예 17과 모두 동일하게 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.A digitizer printed circuit board was manufactured in the same manner as in Example 17 except that copper nano particles and copper nano wires were mixed at a ratio (weight%) of 99: 3 to produce copper nano ink.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

구리 전구체를 황산구리(CuSO4ㆍ5H2O)로 한다는 것을 제외하고는 상기 실시예 8과 모두 동일하게 제조된 구리나노잉크(구리 입자/구리 전구체)를 이용한다.Copper nano ink (copper particle / copper precursor) prepared in the same manner as in Example 8 was used, except that the copper precursor was copper sulfate (CuSO 4 .5H 2 O).

상기 구리나노잉크를 이용하여 폴리이미드 상에 스크린 프린팅하여 디지타이저 인쇄회로기판(FPCB)의 전극형태인 메쉬패턴으로 인쇄하고, 상기 패턴을 광소결하기 전에 적외선을 이용하여 100 ℃에서 20 분 동안 건조하고, 제논 플래쉬 램프를 이용한 극단파 백색광을 조사하여 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.The copper nano ink was screen printed on polyimide to print a mesh pattern as an electrode of a digitizer printed circuit board (FPCB), and the pattern was dried at 100 ° C for 20 minutes using infrared rays before photo-sintering , And a digitizer printed circuit board is manufactured by irradiating extreme white light using a xenon flash lamp.

이때, 상기 극단파 백색광의 조사조건은 펄스의 폭은 10 ms이고, 펄스 수는 1 개이며, 펄스 에너지는 12.5 J/㎠이다.At this time, the irradiation condition of the extreme-wave white light is such that the width of the pulse is 10 ms, the number of pulses is 1, and the pulse energy is 12.5 J / cm 2.

<비교예 2>&Lt; Comparative Example 2 &

구리나노잉크(구리 입자/구리 전구체)를 제조하기 위해, 구리 전구체를 Cu(C3H4F3O2)2로 한다는 것을 제외하고는 상기 비교예 1과 모두 동일하게 제조된 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.A digitizer printed circuit board manufactured in the same manner as in Comparative Example 1 except that Cu (C 3 H 4 F 3 O 2 ) 2 was used as a copper precursor to produce copper nano ink (copper particle / copper precursor) .

<비교예 3>&Lt; Comparative Example 3 &

구리나노잉크(구리 입자/구리 전구체)를 제조하기 위해, 구리 전구체를 CuCl(구리(I) 클로라이드, 9.995%)로 한다는 것을 제외하고는 상기 비교예 1과 모두 동일하게 제조된 디지타이저 인쇄회로기판을 제조한다.A digitizer printed circuit board manufactured in the same manner as in Comparative Example 1 except that the copper precursor was CuCl (copper (I) chloride, 9.995%) for producing copper nano ink (copper particle / copper precursor) .

도 7은 본 발명에 따른 디지타이저 연성인쇄회로기판을 제조하기 위해서, 다양한 조성의 전도성 복합잉크를 인쇄하고 도포하였을 때 측정된 면저항을 나타낸 그래프이다. 이때, 그래프 좌측부터 순서대로 실시예 5, 실시예 13, 실시예 14, 실시예 11, 실시예 12, 실시예 8 및 비교예 1, 2, 3이다.7 is a graph showing measured sheet resistances when printing and applying conductive composite inks of various compositions to produce a digitizer flexible printed circuit board according to the present invention. In this case, Example 5, Example 13, Example 14, Example 11, Example 12, Example 8, and Comparative Examples 1, 2 and 3 are shown in order from the left side of the graph.

도 7에 나타난 바와 같이, 구리 나노입자와 구리 전구체, 구리 나노와이어 및 구리 마이크로입자 중에서 선택되는 1종이 포함된 전도성 복합잉크의 조합에 따라서, 광소결 효과가 달라질 수 있음을 확인 할 수 있다. As shown in FIG. 7, it can be confirmed that the light sintering effect can be varied depending on the combination of the copper nanoparticles and the conductive composite ink containing one kind of copper precursor, copper nanowire and copper microparticles.

특히, 구리 전구체를 제2 금속입자로 하는 전도성 복합잉크의 경우, Cu(NO3)2■3H2O를 사용하는 경우가 가장 면저항이 낮게 확인되었으며, 이를 제외한 나머지 구리 전구체를 사용한 경우 저항이 현저히 상승되었음을 알 수 있다.Particularly, in the case of the conductive composite ink using the copper precursor as the second metal particle, the case where Cu (NO 3 ) 2 3H 2 O was used was found to have the lowest sheet resistance, and when the remaining copper precursor was used, As shown in Fig.

도 8은 본 발명에 따른 플라즈마 가열법으로 제조된 구리나노입자를 포함하는 전도성 복합잉크(실시예 15)를 극단파 백색광으로 광소결하기 전(a)과 광소결 한 후(b)를 나타낸 SEM 사진이고, 도 9는 본 발명에 따른 전기선 폭발법으로 제조된 구리나노입자를 포함하는 전도성 복합잉크(실시예 16)를 극단파 백색광으로 광소결하기 전(a)과 광소결 한 후(b)를 나타낸 SEM 사진이다.Fig. 8 is a graph showing the results of the SEM (a) and the photo-sintering (b) of the conductive composite ink containing copper nanoparticles prepared by the plasma heating method according to the present invention (Example 15) before photo- FIG. 9 is a graph showing the results of photolithography (a) and light sintering (b) before photo-sintering the conductive composite ink (Example 16) comprising copper nanoparticles prepared by the electric wire explosion method according to the present invention, Fig.

구리 나노입자의 경우 전기선 폭발법, 플라즈마 가열법, 전기분해법, 화학적 합성법 등으로 제조될 수 있는데, 이에 따라 구리 나노입자의 표면 성질 및 소결 효과가 다르다는 것을 도 8 및 도 9를 통해 확인할 수 있다.The copper nanoparticles can be produced by electrical wire explosion, plasma heating, electrolysis, chemical synthesis, etc., and the surface properties and sintering effect of the copper nanoparticles are different from those of FIGS. 8 and 9.

소결 전의 구리 나노잉크의 경우, 구리 나노입자들이 서로 떨어져 있는 반면 소결 후에는 상기 구리 나노잉크 내에 존재하는 구리 나노입자들이 서로 뭉쳐져 연결고리를 형성하고 있음을 확인할 수 있다.In the case of the copper nano ink before sintering, it can be seen that copper nanoparticles are separated from each other, while after the sintering, the copper nanoparticles existing in the copper nano ink aggregate to form a connection loop.

도 10은 본 발명에 따른 다양한 조성의 전도성 복합잉크를 기판 상에 인쇄하고 이를 다양한 조건으로 광소결하여 제조된 각각의 디지타이저 연성인쇄회로기판에 대한 면저항을 나타낸 그래프이다.10 is a graph showing the sheet resistance of each of the digitizer flexible printed circuit boards manufactured by printing conductive composite inks of various compositions according to the present invention on a substrate and photo-sintering the same on various conditions.

도 10에 나타난 바와 같이, 기판의 종류에 따라서도 광소결 효과가 달라짐을 알 수 있다.As shown in FIG. 10, the light sintering effect varies depending on the type of the substrate.

구체적으로, 실험에 사용된 연성기판의 종류는 PET, 사진전용인화지, PI, FR-4이고, 이들은 플렉서블 저온용 폴리머 기판이다. 상기 기판에 실시예 1로부터 제조된 전도성 복합잉크를 각기 다른 건조 및 광소결 조건으로 소결한 후, 제조된 디지타이저 연성인쇄회로기판의 면저항을 측정하였다.Specifically, the types of flexible substrates used in the experiments were PET, photographic paper, PI, and FR-4, which are polymer substrates for flexible low temperatures. After the conductive composite ink prepared in Example 1 was sintered under different drying and light sintering conditions, the sheet resistances of the fabricated digitizer flexible printed circuit boards were measured.

도 10의 그래프 내에 기재된 1 내지 10까지의 디지타이저 연성인쇄회로기판 시료에 대한 기판, 전도성 복합잉크, 건조 및 광소결 조건을 아래 [표 1]에 나타내었다.The substrate, conductive composite ink, drying and light sintering conditions for the digitizer flexible printed circuit board samples 1 through 10 described in the graph of FIG. 10 are shown in Table 1 below.

시료 번호Sample number 기판Board 건조 조건Drying conditions 광소결 조건Light sintering condition 1One 사진전용인화지(Photo Paper)Photographic paper 60 , 핫플레이트60, hot plate 제논 램프
5 ms, 1 번, 8 J/
Xenon lamp
5 ms, 1 time, 8 J /
22 100 , 핫플레이트100, hot plate 제논 램프
5 ms, 5 번, 10 J/
Xenon lamp
5 ms, 5 times, 10 J /
33 60 , 적외선60, Infrared 제논 램프
10 ms, 1 번, 8 J/
Xenon lamp
10 ms, 1 time, 8 J /
44 60 , 적외선60, Infrared 제논 램프
10 ms, 1 번, 8 J/
Xenon lamp
10 ms, 1 time, 8 J /
원자외선
30 /
Far-ultraviolet
30 /
55 60 , 핫플레이트60, hot plate 제논 램프
20 ms, 1 번, 6 J/
Xenon lamp
20 ms, 1 time, 6 J /
66 PETPET 60 , 핫플레이트60, hot plate 제논 램프
10 ms, 1 번, 6 J/
Xenon lamp
10 ms, 1, 6 J /
77 100 , 적외선100, infrared 제논 램프
10 ms, 20 번, 12 J/
Xenon lamp
10 ms, 20 times, 12 J /
88 100 , 적외선100, infrared 제논 램프
10 ms, 1 번, 6 J/
Xenon lamp
10 ms, 1, 6 J /
99 100 , 적외선100, infrared 제논 램프
10 ms, 1 번, 6 J/
Xenon lamp
10 ms, 1, 6 J /
원자외선
30 /
Far-ultraviolet
30 /
1010 FR-4FR-4 100 , 적외선100, infrared 제논 램프
10 ms, 1 번, 12.5 J/
Xenon lamp
10 ms, 1 time, 12.5 J /

다양한 기판에 패턴이 제조된 디지타이저 연성인쇄회로기판은 건조 및 광소결 조건에 따라, 면저항이 현저히 낮아 충분히 산업적으로 사용가능하다는 것을 확인할 수 있었다. It was confirmed that the digitizer flexible printed circuit board on which a pattern is formed on various substrates has remarkably low sheet resistance according to the drying and light sintering conditions and thus can be used industrially sufficiently.

즉, 본 발명과 같이 개선된 디지타이저 연성인쇄회로기판의 제조방법은 종래 사용되던 포토리소그래피와 같은 공정에 비해 훨씬 저렴하고, 간편함에도 불과하고, 현저히 우수한 전도성을 갖는다는 것을 확인할 수 있다.That is, it can be confirmed that the improved method of manufacturing the digitizer flexible printed circuit board according to the present invention is much cheaper and simpler than the conventional process such as photolithography, and has remarkably excellent conductivity.

도 11은 도 10에서 시료 1, 6, 10으로부터 제조된 디지타이저 연성인쇄회로기판의 광소결 되기 전(a)과 후(b)의 모습을 촬영한 것이다. FIG. 11 is a photograph of the digitized flexible printed circuit board fabricated from Samples 1, 6, and 10 (a) and (b) before being photo-sintered in FIG.

도 11에 나타난 바와 같이, 기판 또는 기판 상에 형성된 패턴은 균열 또는 파손없이 균일하게 형성되어 있음을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 11, it can be seen that the pattern formed on the substrate or substrate is uniformly formed without cracking or breakage.

도 12는 광소결하기 전과 후의 본 발명에 따른 전도성 복합잉크의 X선 회절 분석 결과로, 앞서 언급한 것과 같이 제1 금속입자인 구리 나노입자와 기판 표면에 코팅된 폴리머와의 반응에 의해서 산화 구리막 환원 반응이 발생하였고, 이로 인해, 순수구리로 환원되며 소결되었음을 확인할 수 있다. 상기 결과를 통해, 제논(Xenon) 램프의 광조사 조건에 따라 더 높은 전도성을 가진 구리잉크의 소결이 가능하다는 것을 알 수 있다.12 is a graph showing the results of X-ray diffraction analysis of the conductive composite ink according to the present invention before and after photo-sintering. As a result, the copper nanoparticles as the first metal particles and the polymer coated on the surface of the substrate, The reduction reaction occurred, and it was confirmed that it was reduced to pure copper and sintered. From the above results, it can be seen that sintering of the copper ink with higher conductivity is possible according to the light irradiation condition of the Xenon lamp.

도 13은 제1 구리입자 및 제2 구리입자 조성비에 따른 실시예 1(◆), 실시예 17(●), 실시예 18(▲) 및 실시예 19(▼)로부터 제조된 디지타이저 연성인쇄회로기판을 반복 외측 굽힘 시험 1000회 실시 후의 저항 상승률을 나타낸 그래프이다(단, 제2 구리입자는 구리 나노와이어).Fig. 13 is a graph showing the results of measurement of the dielectric constant of the digitized flexible printed circuit board (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) manufactured from Example 1 (), Example 17 (), Example 18 (The second copper particles are copper nanowires) after 1000 times of repeated outer bending tests.

본 발명의 실시예 1, 실시예 17 내지 19로부터 제조된 디지타이저 연성인쇄회로기판을 이용하여 반복 외측 굽힘 시험 1000회 실시하여 저항변화율을 측정하였다.Using the digitizer flexible printed circuit board manufactured from Example 1 and Examples 17 to 19 of the present invention, a repetitive outer bending test was conducted 1000 times, and the rate of change in resistance was measured.

도 13에 도시한 바와 같이, 디지타이저 연성인쇄회로기판을 제조함에 있어서, 전도성 복합잉크가 구리 나노입자와 구리 나노와이어의 조합일 때, 구리 나노와이어의 함량이 높아질수록 반복 외측 굽힘 시험 후 저항 상승률이 낮아진다는 것을 확인하였다. 이는 상기 구리 나노와이어가 나노 입자 사이에서 균열이 더 이상 진행되지 못하도록 막아주는 역할을 하기 때문인 것으로 여겨진다.As shown in FIG. 13, when the conductive composite ink is a combination of copper nano-particles and copper nano-wires, the resistance increase rate after repeating outward bending test increases as the content of copper nanowires increases in the digitizer flexible printed circuit board Respectively. It is believed that this is because the copper nanowires prevent the cracks from progressing further between the nanoparticles.

Claims (7)

Ⅰ) 폴리뷰틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리술폰, 폴리에테르, 폴리에테르이미드(PEI), 아크릴 수지, 초산비닐수지(PVAC), 부틸 고무수지, 폴리아릴레이트(PAR), 실리콘, 페라이트, 세라믹 및 FR-4 중에서 선택되는 1종의 기판을 준비하는 단계;
Ⅱ) 상기 기판의 상면 또는 배면에 제1 금속입자와, 금속 마이크로입자 및 금속 나노와이어 중에서 선택되는 1종 이상의 제2 금속입자를 포함하는 전도성 복합잉크를, 미세 접촉 프린팅 (micro-contact printing), 임프린팅 (imprinting), 그라비아-옵셋 프린팅(gravure-offset printing), 플렉소그래피 프린팅 (Flexography printing) 및 스핀 코팅(spin coating) 중에서 선택되는 1종의 인쇄방법으로 인쇄하여 메쉬 패턴을 형성하는 단계;
Ⅲ) 상기 패턴을 적외선, 핫플레이트 및 오븐 중에서 선택되는 1종 이상의 방법으로 건조하는 단계; 및
Ⅳ) 상기 건조된 패턴에 극단파 백색광, 0.1-3000 W/㎠ 세기의 근적외선 및 1-5000 ㎽/㎠ 세기의 원자외선 중에서 선택되는 2종 이상의 광원을 동시에 조사하거나, 단계별로 조사함으로써 광소결하는 단계;를 포함하는 디지타이저 연성인쇄회로기판의 제조방법.
Ⅰ) Polystyrene terephthalate (PBT), polysulfone, polyether, polyetherimide (PEI), acrylic resin, vinyl acetate resin (PVAC), butyl rubber resin, polyarylate (PAR) And FR-4;
(II) a conductive composite ink comprising first metal particles and at least one second metal particle selected from the group consisting of metal microparticles and metal nanowires on the upper or rear surface of the substrate is subjected to micro-contact printing, Printing with a printing method selected from among imprinting, gravure-offset printing, flexography printing, and spin coating to form a mesh pattern;
III) drying the pattern by one or more methods selected from infrared rays, hot plates and ovens; And
IV) Two or more kinds of light sources selected from extreme ultraviolet white light, near-infrared light of 0.1-3000 W / cm 2 intensity and far ultraviolet light of 1-5000 mW / cm 2 intensity are simultaneously irradiated to the dried pattern, or photo- The method comprising the steps of: providing a digitizer flexible printed circuit board;
제1항에 있어서,
상기 Ⅱ) 단계에서 전도성 복합잉크는 초음파 분산기, 교반기, 볼밀 및 3롤밀 중에서 선택되는 1종 이상으로 분산하는 단계; 및 탈포하는 단계;를 통해 제조된 디지타이저 연성인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
In the step (II), dispersing the conductive composite ink into at least one selected from an ultrasonic dispersing machine, a stirrer, a ball mill, and a 3 roll mill; And defoaming the digitizer flexible printed circuit board.
제1항에 있어서,
상기 전도성 복합잉크는 제1 금속입자;와 금속 마이크로입자, 금속 나노와이어 및 금속 전구체 중에서 선택되는 1종 이상의 제2 금속입자;를 포함하고,
상기 제1 금속입자 및 제2 금속입자는 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 백금(Pt), 코발트(Co), 철(Fe), 카드늄(Cd), 텅스텐(W), 몰리브데늄(Mo), 망간(Mn), 크롬(Cr), 아연(Zn) 및 알루미늄(Al) 중에서 선택되는 1종 이상인 디지타이저 연성인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive composite ink comprises a first metal particle and at least one second metal particle selected from metal microparticles, metal nanowires, and a metal precursor,
The first metal particles and the second metal particles may be at least one selected from the group consisting of Cu, Au, Ag, Ni, Pt, Co, Fe, , Tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mn), chromium (Cr), zinc (Zn) and aluminum (Al).
제3항에 있어서,
상기 제1 금속입자의 직경은 20-50 ㎚이고,
상기 금속 마이크로입자의 직경은 1-10 ㎛이고,
상기 금속 나노와이어의 직경은 10-200 ㎚, 길이는 1-10 ㎛인 디지타이저 연성인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 3,
The diameter of the first metal particles is 20-50 nm,
The diameter of the metal microparticles is 1-10 占 퐉,
Wherein the metal nanowires have a diameter of 10-200 nm and a length of 1-10 mu m.
제3항에 있어서,
상기 제2 금속입자가 금속 마이크로 입자이면,
제1 금속입자 대 제2 금속입자의 중량비는 1 대 0.01 내지 0.1의 비율로 혼합되고,
상기 제2 금속입자가 금속 나노와이어이면,
상기 제1 금속입자 대 제2 금속입자의 중량비는 1 대 1 내지 3의 비율로 혼합되는 것을 특징으로 하는 디지타이저 연성인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 3,
If the second metal particles are metal microparticles,
The weight ratio of the first metal particles to the second metal particles is mixed in a ratio of 1 to 0.01 to 0.1,
If the second metal particles are metal nanowires,
Wherein the weight ratio of the first metal particles to the second metal particles is 1: 1 to 3: 1.
제1항에 있어서,
상기 광소결 조건이 제논 플래쉬 램프의 펄스 수가 1 내지 20일 때, 상기 펄스 폭이 5-20 ms이고, 강도가 1-50 J/㎠인 디지타이저 연성인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the light sintering condition is a pulse width of 5-20 ms and an intensity of 1-50 J / cm 2 when the number of pulses of the xenon flash lamp is 1 to 20.
제1항에 있어서,
상기 Ⅲ) 단계는 예열 또는 용매 건조를 위한 예비 광조사 단계를 더 포함하는 디지타이저 연성인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step (III) further comprises a preliminary light irradiation step for preheating or solvent drying.
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