KR20150079330A - a metal mesh including a metal nanorod, and a method of fabricating a metal mesh using metal nanorod ink - Google Patents

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KR20150079330A
KR20150079330A KR1020130169520A KR20130169520A KR20150079330A KR 20150079330 A KR20150079330 A KR 20150079330A KR 1020130169520 A KR1020130169520 A KR 1020130169520A KR 20130169520 A KR20130169520 A KR 20130169520A KR 20150079330 A KR20150079330 A KR 20150079330A
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김미영
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삼성정밀화학 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a method of fabricating a metal mesh for a touch panel using metal nanorod ink and a metal mesh including a metal nanorod. The metal mesh is fabricated by a printing process using metal nanorod ink. According to the present invention, in comparison with a metal mesh using existing metal nanoparticle ink, the present invention can realize a metal mesh with superior transmittance and electric conductivity even though it is used at a lower temperature or ink of a lower concentration than the existing ink is used. It can be used for coating, contact type printing or non-contact type printing.

Description

메탈 나노로드를 포함하는 메탈 메쉬 및 메탈 나노로드 잉크를 이용한 메탈 메쉬의 제조방법{a metal mesh including a metal nanorod, and a method of fabricating a metal mesh using metal nanorod ink}METHOD FOR MANUFACTURING METAL MESH USING METAL NANO LOD AND METAL NANO-LORD INK United States Patent Application 20100264761 Kind Code: A1 A metal mesh including a metal nano-rod and a method for fabricating a metal nano-

본 발명은 메탈 나노로드를 포함하는 메탈 메쉬 및 일반적인 금속페이스트보다 낮은 농도의 금속잉크를 사용하여 패터을 구현하고 구현된 패턴을 일반적인 금속잉크보다 낮은 저온소성을 통해 우수한 전기적 및 광학적 특성을 가진 메탈 메쉬를 제조하는 방법에 관한 것이다.
The present invention provides a metal mesh having metal nano-rods and a metal ink having a lower concentration than that of a general metal paste. The pattern is realized by a metal mesh having excellent electrical and optical characteristics And a method for producing the same.

최근 평판디스플레이나 태양전지의 발달로 인해서 투명한 전극소재에 대한 사용량이 비약적으로 증가하였다. 하지만 기존의 ITO(indium tin oxide)을 기반으로 하는 투명전극(Transparent electrode)소재는 인듐의 고갈이나, 재료의 낮은 전도도 등으로 인해서 새로운 투명전극용 소재의 개발에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. ITO 박막 제조시 사용되는 고가의 진공장비로 인해 단가가 상승하고 ITO 전극 특성상 외부 충격에 쉽게 부서지기 쉽고, 박막을 휘어지거나 접을 시 기계적인 안정성이 취약하다는 문제가 있다. 특히 최근에는 인쇄기술을 바탕으로 제조된 유연전자소자가 차세대 핵심소자로 떠오르면서 이러한 소자에 적용할 수 있는 투명전극소재 및 공정에 대한 연구도 주목을 받고 있다. Recent developments in flat panel displays and solar cells have dramatically increased the use of transparent electrode materials. However, the transparent electrode material based on the conventional ITO (indium tin oxide) has been actively studied for the development of a new transparent electrode material due to the depletion of indium and the low conductivity of the material. There is a problem that the unit price rises due to the expensive vacuum equipment used in the manufacture of the ITO thin film, the ITO electrode tends to be easily broken by the external impact, and the thin film is bent or the mechanical stability is weak when folded. In recent years, flexible electronic devices manufactured based on printing technology have emerged as core devices of the next generation, and studies on transparent electrode materials and processes that can be applied to these devices are also receiving attention.

투명전극이란 가시광선 영역의 빛을 투과하면서도 전기 전도성을 가지는 기능성 박막전극으로 평판 디스플레이, 터치패널, 태양전지 등의 전극기판으로 널리 사용되고 있다. 우수한 투명전극이 되기 위해서는 면저항이 200Ω/cm2 이하로서 380 ~ 780 ㎚ 의 가시광선 영역에서의 투과율이 85% 이상이라는 두 가지 조건을 만족시켜야 한다. 이에 새롭게 부각되고 있는 전극은 금속전극에 패턴을 주어 투과도를 증가시키는 금속 그리드 형태의 투명 전극이다. 금속전극이 미세하게 패터닝 되어서 나노 메쉬(Nano-Mesh) 형태가 되면 투과도가 증가하면서 금속자체의 높은 전도도를 그대로 유지되기 때문에 투명전극의 필수 요소인 높은 투과도와 낮은 면저항을 동시에 구현할 수 있다. Transparent electrodes are functional thin film electrodes that transmit light in the visible light region and have electrical conductivity and are widely used as electrode substrates for flat panel displays, touch panels, and solar cells. In order to obtain a transparent electrode having excellent surface resistance, it is required to satisfy two conditions that the sheet resistance is not more than 200? / Cm 2 and the transmittance in the visible light region of 380 to 780 nm is not less than 85%. The newly emerging electrode is a transparent electrode in the form of a metal grid that increases the transmittance by giving a pattern to the metal electrode. When the metal electrode is finely patterned to form a nano-mesh, the transmittance increases and the high conductivity of the metal itself is maintained. Therefore, high transmittance and low sheet resistance, which are indispensable elements of the transparent electrode, can be realized at the same time.

이전에는 주로 증착 및 식각 과정을 거치는 전통적인 공정을 통해서 구현하였지만, 최근에는 다양한 인쇄방법으로 구현하고자 하는 노력들이 이루어지고 있다. 유연한 디스플레이, RFID, 태양전지 등 차세대 전자 제품들은 기존의 실리콘 반도체를 기반으로 하는 전자제품보다 공정 비용이 저렴한 프린팅 공정으로 제조함으로써 대면적, 경량, 저가를 실현할 수 있다.In the past, it was implemented through a conventional process mainly through deposition and etching processes, but in recent years efforts to realize various printing methods have been made. Next-generation electronic products such as flexible displays, RFID, and solar cells can be manufactured in a printing process that is less expensive than electronic products based on conventional silicon semiconductors, thereby realizing large-area, lightweight, and low-cost products.

잉크젯 프린팅은 매우 작은 잉크방울이 기판에 충돌하여 화상이 형성되는 비접촉 인쇄(non impact printing) 방식으로 패턴 형성은 규칙적으로 배열하는 점으로 표현된다. 잉크젯은 잉크 노즐이 막히기 쉽고 패턴의 농도가 낮으며, throughput이 낮아 생산성을 개선해야 하는 단점이 있다.Inkjet printing is expressed as a point in which pattern formation is regularly arranged in a non-impact printing method in which very small ink droplets collide with a substrate to form an image. Inkjet is disadvantageous in that the ink nozzle is likely to be clogged, the density of the pattern is low, and the throughput is low, thereby improving the productivity.

은 나노와이어 잉크를 사용하는 경우에는 마이크로미터 길이를 가진 나노와이어 자체의 특성상 노즐이 쉽게 막힐 수 있어 인쇄 공정을 사용하여 메탈 메쉬를 형성하는데 있어 어려움이 있다. 또한 은 나노입자 잉크를 사용하는 경우에는 나노입자간 접촉이 일어나야 하기 때문에 전도도를 높이려면 고농도의 은(Ag) 나노입자를 고온에서 충분히 소성시켜야 한다는 문제점이 있다.
In the case of using nanowire ink, it is difficult to form a metal mesh by using a printing process because a nozzle can easily clog due to the nature of a nanowire having a micrometer length itself. In addition, when silver nanoparticle inks are used, contact between nanoparticles must occur. Therefore, in order to increase conductivity, silver (Ag) nanoparticles having a high concentration must be sufficiently fired at a high temperature.

대한민국공개특허 10-2011-0108315Korean Patent Publication No. 10-2011-0108315

본 발명은, 메탈 나노입자 잉크를 이용하여 메탈 메쉬를 제조하는 경우와 비교하여, 더 낮은 농도의 잉크를 사용하더라도 또한 더 낮은 온도에서 소성하더라도 우수한 투과도 및 전기 전도성을 가지는 메탈 메쉬를 구현할 수 있고, 또한 접촉식 인쇄 또는 비접촉식 인쇄에 모두 적용이 가능한 메탈 나노로드 잉크를 이용한 메탈 메쉬형 투명전극의 제조방법을 제공하고자 한다.
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can realize a metal mesh having excellent transparency and electrical conductivity even when a lower concentration ink is used and also at a lower temperature as compared with the case of producing a metal mesh using the metal nanoparticle ink, It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a metal mesh type transparent electrode using a metal nano-rod ink which can be applied to contact printing or non-contact printing.

본 발명의 일 측면은 메탈 나노로드를 포함하는 메탈 메쉬일 수 있다.One aspect of the present invention may be a metal mesh including a metal nano-rod.

메탈 나노로드는 종횡비(aspect ratio)가 5 내지 100 일 수 있으며, 메탈 나노로드는 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co), 아연(Zn), 크롬(Cr), 망간(Mn)의 나노로드 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The metal nano-rod may have an aspect ratio of 5 to 100, and the metal nano-rod may be at least one selected from the group consisting of Au, Ag, Cu, Ni, Fe, , Zinc (Zn), chromium (Cr), manganese (Mn), or combinations thereof.

본 발명의 다른 측면은 기판 상에 메탈 나노로드 잉크를 인쇄한 후 소성하는 것을 특징으로 하는 메탈 메쉬의 제조 방법일 수 있다.Another aspect of the present invention is a method of manufacturing a metal mesh, which comprises printing a metal nano-rod ink on a substrate and then firing the metal nano-rod ink.

메탈 나노로드 잉크에 포함된 메탈 나노로드의 평균 종횡비(aspect ratio) 5 내지 100 일 수 있다.The average aspect ratio of the metal nano-rods contained in the metal nano-rod ink may be 5 to 100.

잉크 중 메탈 나노로드의 농도는 1 내지 60 wt% 일 수 있다. The concentration of the metal nanorods in the ink may be 1 to 60 wt%.

메탈 나노로드는 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co), 아연(Zn), 크롬(Cr), 망간(Mn)의 나노로드 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. The metal nano-rods are made of a metal such as Au, Ag, Cu, Ni, Fe, Co, Zn, Cr, A rod, or a combination thereof.

인쇄는 코팅, 접촉식 인쇄 또는 비접촉식 인쇄에 의하여 이루어질 수 있으며, 코팅에는 슬릿다이 코팅 (slit-die coating), 바코팅(bar coating) 등이 있고, 접촉식 인쇄는 그라비아(gravure) 인쇄, 오프셋(offset) 인쇄, 리버스 그라비아 인쇄, 리버스 오프셋 인쇄, 스크린 프린팅(screen printing) 또는 나노 임프린트 리소그래피(nano-imprint lithography)를 포함하고 있으며, 비접촉식 인쇄는 스프레이 프린팅(spray printing), 마이크로어레이 프린팅(microarray printing), 직접 레이저 이미징(direct laser imaging), 또는 잉크젯 프린팅(inkjet printing)을 포함할 수 있다. The printing can be carried out by coating, contact printing or non-contact printing. Slit-die coating, bar coating and the like are available for the coating. The contact printing includes gravure printing, offset printing offset printing, reverse offset printing, screen printing or nano-imprint lithography. Non-contact printing includes spray printing, microarray printing, , Direct laser imaging, or inkjet printing.

소성은 100~250℃ 에서 수행할 수 있다.
The firing can be carried out at 100 to 250 ° C.

본 발명에 의하면, 기존의 메탈 나노입자 잉크를 이용하여 메탈 메쉬를 제조하는 경우와 비교하여, 보다 낮은 농도의 잉크와 또한 보다 낮은 온도에서 소성하더라도 우수한 투과도 및 전기 전도성을 가지는 메탈 메쉬를 구현할 수 있으며, 코팅, 접촉식 인쇄 또는 비접촉식 인쇄를 모두 사용할 수 있다는 장점이 있다.
According to the present invention, as compared with the case of producing a metal mesh using the conventional metal nano-particle ink, it is possible to realize a metal mesh having lower transparency and electrical conductivity even when firing at a lower temperature and at a lower temperature , Coating, contact printing, or non-contact printing.

도 1은 본 발명에 따라 제조된 메탈 메쉬의 모식도 및 메탈 부분의 미세 구조를 확대 사진이다.
도 2는 본 발명에 사용하는 은(Ag) 나노와이어 및 은(Ag) 나노로드를 나타내는 주사전자현미경 사진이다(A: 은(Ag) 나노로드 제조에 사용된 은(Ag) 나노와이어, B: 은(Ag) 나노로드).
도 3은 비교예 및 실시예에 따른 메탈 메쉬의 메탈 부분의 미세 조직을 나타내는 주사전자현미경 사진이다(A: 비교예 1, B: 실시예 1).
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an enlarged photograph of a metal mesh produced according to the present invention and a microstructure of a metal part. FIG.
2 is a scanning electron micrograph showing silver (Ag) nanowires and silver nano rods used in the present invention (A: silver (Ag) nanowire used for manufacturing silver (Ag) Silver (Ag) nanorod).
3 is a scanning electron micrograph (A: Comparative Example 1, B: Example 1) showing the microstructure of the metal portion of the metal mesh according to Comparative Examples and Examples.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 설명한다. 본 발명의 실시 형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시 형태는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. Furthermore, embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shapes and sizes of the elements in the drawings may be exaggerated for clarity of description, and the elements denoted by the same reference numerals in the drawings are the same elements.

도 1은 본 발명에 따라 제조된 메탈 메쉬의 모식도 및 메탈 부분의 미세 구조를 확대 사진이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an enlarged photograph of a metal mesh produced according to the present invention and a microstructure of a metal part. FIG.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 측면은, 메탈 나노로드를 포함하는 메탈 메쉬일 수 있다. 메탈 나노로드는 평균 종횡비(aspect ratio)가 5 내지 100 일 수 있으며, 메탈 나노로드는 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co), 아연(Zn), 크롬(Cr), 망간(Mn)의 나노로드 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, one aspect of the present invention may be a metal mesh including metal nano-rods. The metal nano-rods may have an aspect ratio of 5 to 100 and the metal nano-rods may be selected from the group consisting of gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), nickel (Ni), iron (Fe), cobalt ), Zinc (Zn), chromium (Cr), manganese (Mn), or combinations thereof.

본 발명의 다른 측면은, 기판 상에 메탈 나노로드 잉크를 인쇄한 후 소성하는 것을 특징으로 하는 메탈 메쉬의 제조 방법일 수 있다. 즉 본 측면은 인쇄 공정을 이용하여 터치 패널용 메탈 메쉬를 제조함에 있어서 메탈 나노로드 잉크를 사용하는 것을 특징으로 한다. Another aspect of the present invention is a method of manufacturing a metal mesh, which comprises printing a metal nano-rod ink on a substrate and then firing the metal nano-rod ink. That is, this aspect is characterized in that a metal nano-rod ink is used in manufacturing a metal mesh for a touch panel using a printing process.

본 측면에 의하면 메탈 나노와이어 잉크나 메탈 나노입자 잉크를 사용하는 대신 메탈 나노로드 잉크를 사용함으로써 메탈 나노와이어 잉크를 사용하는 경우 노즐이 막히는 등의 문제를 해결하고, 또한 메탈 나노입자 잉크를 사용하는 경우에 우수한 전기적인 물성을 얻기 위해 높은 충진율과 고온소성을 하여야 하는 문제를 해결할 수 있다. According to this aspect, by using the metal nano-wire ink instead of using the metal nano-wire ink or the metal nano-particle ink, the problems such as clogging of the nozzle are solved when the metal nano wire ink is used, It is possible to solve the problem of having high filling rate and high temperature firing in order to obtain excellent electrical properties.

기판으로는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드 등의 플라스틱 기판 또는 유리 등의 기판 등 이 분야에서 일반적인 기판을 사용할 수 있다.As the substrate, a plastic substrate such as polyethylene terephthalate, polyimide, or a glass substrate can be used.

잉크에는 용매에 메탈 나노로드, 분산제 및 기타 첨가제를 포함될 수 있다. The ink may include metal nano-rods, dispersants, and other additives in the solvent.

메탈 나노로드는 합성하여 준비할 수도 있지만, 메탈 나노와이어를 분쇄하여 준비하는 것이 바람직하다. 합성된 메탈 나노로드는 합성시 각 나노로드의 성장 속도가 다를 수 있어 균일한 길이의 나노로드를 얻기 힘든 반면, 나노와이어를 분쇄하여 마련된 메탈 나노로드는 그 길이가 상대적으로 균일하기 때문이다. The metal nano-rods can be synthesized and prepared, but it is preferable to prepare the metal nanowires by grinding. The synthesized metal nanorods may have different growth rates of the nanorods during synthesis, so that it is difficult to obtain nanorods having a uniform length, while the metal nanorods obtained by grinding the nanorods are relatively uniform in length.

메탈 나노로드로는 평균 종횡비(aspect ratio)가 5 내지 100 인 것을 사용할 수 있다. 예를 들어 나노로드의 직경이 45㎚ 이고 길이가 900㎚ 인 경우 종횡비는 20 이다. 메탈 나노로드의 종횡비가 상기 범위를 벗어나는 경우에는 메탈 나노와이어나 메탈 나노입자를 사용하는 경우와 비교하여 그 차이점이 미미하기 때문이다. As the metal nano-rod, an average aspect ratio of 5 to 100 can be used. For example, if the diameter of the nanorod is 45 nm and the length is 900 nm, the aspect ratio is 20. When the aspect ratio of the metal nano-rod is out of the above range, the difference is small as compared with the case of using the metal nanowire or the metal nanoparticle.

잉크 중 메탈 나노로드의 농도는 1 내지 60wt% 일 수 있다. 메탈 나노로드의 농도가 1wt% 미만인 경우에는 나노로드 간의 접촉이 제대로 이루어지지 않아 소성 후 전기 전도도가 저하될 수 있고, 60wt% 초과인 경우에는 인쇄성의 확보 및 인쇄후 표면물성의 확보에 어려움이 있으며 또한 은(Ag) 나노로드가 다량 소요되어 생산 비용이 증가할 수 있다.The concentration of the metal nano-rods in the ink may be 1 to 60 wt%. When the concentration of the metal nano-rod is less than 1 wt%, the contact between the nano-rods is not properly performed, and the electrical conductivity may decrease after firing. When the concentration is more than 60 wt%, it is difficult to ensure printability and to secure surface properties after printing In addition, a large amount of silver (Ag) nanorods may be required, which may increase the production cost.

메탈 나노로드로는 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co), 아연(Zn), 크롬(Cr), 망간(Mn)의 나노로드 또는 이들을 조합하여 사용할 수 있으나, 구리 나노로드 등은 산화되기 쉽다는 문제가 있으며 또한 전기 전도성을 고려하면 은(Ag) 나노로드를 사용하는 것이 바람직하다.As the metal nano-rods, a metal such as Au, Ag, Cu, Ni, Fe, Co, Zn, Cr, Nano rod, or a combination thereof. However, there is a problem that copper nano-rods and the like are liable to be oxidized. In consideration of electric conductivity, it is preferable to use silver (Ag) nano-rods.

용매로는 에테르 계열 (테트라하이드로퓨란, 에틸에테르, 프로필에테르, 메틸에틸케톤), 벤젠계열(크실렌, 톨루엔, 에틸벤젠, 벤젠), 알코올 계열 (메탄올, 에탄올, 부탄올, 프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜), 염화물 계열 (염화메틸렌, 클로로포름), 황화물 계열 (디메틸설폭사이드), 질화물 계열 (디메틸포름아미드, 디페로아민, 에틸아민, 암모니아, 에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 트리에틸아민), 알킬 계열 (헥산, 펜탄, 부탄), 물 또는 이들을 조합하여 사용할 수 있다. Examples of the solvent include ethers (tetrahydrofuran, ethyl ether, propyl ether, methyl ethyl ketone), benzene series (xylene, toluene, ethylbenzene, benzene), alcohols (methanol, ethanol, butanol, propanol, ethylene glycol, propylene glycol (Dimethylformamide, dipropamine, ethylamine, ammonia, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, triethylamine), and the like, Alkyl-based (hexane, pentane, butane), water or a combination thereof.

분산제, 기타 첨가제는 메탈 잉크 제조시 사용되는 공지의 물질을 사용 할 수 있다. 구체적으로, 분산제로서 폴리비닐피롤리돈(PVP), 폴리아크릴산(PAA), 소듐도데실설포네이트(SDS), 폴리에틸렌(20) 소르비탄모노라우레이트 (Polyoxyethylene(20) sorbitan monolaurate (Tween 20)), 알킬디페닐옥사이드 디설포네이트 (Alkyldiphenyloxide Disulfonate(DOWUFAX))등의 계면활성제를 전체 중량대비 0.01% 내지 5%, 바인더로서 셀룰로오스 계열 및 에폭시 계열의 레진 등의 고분자 레진을 전체 잉크의 중량 대비 0.1% 내지 10%를 포함할 수 있다. 또한 첨가제로서 증점제를 전체 중량대비 0.1 내지 5%, 촉매로서 아민류, 구체적으로, 암모니아(NH3), 디메틸아민(NH(CH3)2), 트리메틸아민(N(CH3)3), 에틸아민(NH2Et), 다이에틸아민(NH(Et)2) 또는 트리에틸아민(NEt3)을 전체 중량대비 10 내지 50 % 를 더 포함할 수 있다.Dispersants and other additives may be selected from known materials used in the production of metal inks. Specifically, polyvinylpyrrolidone (PVP), polyacrylic acid (PAA), sodium dodecyl sulfonate (SDS), polyethylene (20) sorbitan monolaurate (Polyoxyethylene (20) sorbitan monolaurate (Tween 20 ㄾ) as a dispersing agent ), alkyl diphenyl oxide di-sulfonate (Alkyldiphenyloxide Disulfonate (DOWUFAX ㄾ)), based on the weight of the cellulose-based and the total ink polymer resins of the resin such as epoxy series as an interface binder to the total from 0.01% to 5% by weight, surfactants such as 0.1% to 10%. (NH 3 ), dimethylamine (NH (CH 3 ) 2 ), trimethylamine (N (CH 3 ) 3 ), ethylamine (NH 2 Et), diethylamine (NH (Et) 2 ) or triethylamine (NEt 3 ) in an amount of 10 to 50% based on the total weight.

분산성을 향상시키기 위하여 초음파, 와류식 교반, 기계적 교반 또는 볼밀, 롤밀 등의 처리를 할 수도 있다. 예를 들면, 초음파 교반의 경우, 5 내지 50 Hz에서 5 분 내지 2 시간 정도가 바람직하고, 와류식 교반의 경우 50 내지 1000 rpm 에서 10 분 내지 4 시간이 정도가 바람직하고, 볼밀의 경우 볼과 용액의 중량비는 1:1의 비율로 투입하여 4 시간 내지 24 시간 정도 교반하는 것이 바람직하다.In order to improve the dispersibility, ultrasonic waves, eddy current stirring, mechanical stirring, or ball mill or roll mill may be used. For example, in the case of ultrasonic agitation, it is preferably about 5 minutes to about 2 hours at 5 to 50 Hz, and about 10 minutes to about 4 hours at 50 to 1000 rpm for swirling agitation. In the case of a ball mill, Solution at a weight ratio of 1: 1 and stirring for 4 to 24 hours is preferable.

인쇄 방법에는 코팅에 의한 방법과 잉크 및 제판과 인쇄물이 직접 접촉을 통해서 인쇄가 이루어지는지에 따라 접촉식(contact) 인쇄와 비접촉식(non-contact) 인쇄로 나뉠 수 있는데, 코팅에 의한 방법에는 slit-die coating, bar coating, spin coating을 들 수 있으며, 접촉식 인쇄의 대표적인 예로 gravure, offset, screen printing, nano-imprint lithography 등이 있으며, 비접촉식 인쇄의 대표적 예로 microarray printing, direct laser imaging, inkjet printing 등이 있다. 메탈 나노와이어 잉크를 사용하는 경우에는 와이어의 특성상 노즐이 막히는 등의 문제가 있어 비접촉식 인쇄에 사용하기에는 한계가 있지만, 본 측면에서는 나노와이어가 아닌 나노로드를 사용하기 때문에 이러한 문제는 발생하지 않는다. 따라서 본 측면은 접촉식 인쇄는 물론 비접촉식 인쇄도 사용할 수 있다는 장점이 있다.  The printing method can be divided into contact printing and non-contact printing, depending on the method of coating and whether the printing is performed through direct contact between the ink, the plate, and the print. The coating method includes a slit-die coating, bar coating, and spin coating. Examples of contact printing include gravure, offset, screen printing, and nano-imprint lithography. Typical examples of noncontact printing include microarray printing, direct laser imaging, and inkjet printing . In the case of using the metal nanowire ink, there is a problem that the nozzle is clogged due to the characteristics of the wire, so that it is not used for the non-contact type printing. However, this problem does not occur because the nanorod is used instead of the nanowire. Therefore, this aspect has the advantage that not only contact printing but also non-contact printing can be used.

인쇄된 메탈 메쉬를 소성하여 용매 등의 휘발물질을 제거하고, 유기화합물 첨가제 등을 분해시켜 제거할 수 있다. 소성 온도는 잉크에 첨가하는 용매 및 기타 첨가제를 제거할 수 있는 정도의 온도라면 충분하며, 100~250℃ 가 바람직하다. 소성 온도가 100℃ 보다 낮으면 유기화합물 첨가제가 완전하게 제거되지 않아 이로 인하여 메탈 메쉬의 저항이 증가할 수 있다. 소성 온도가 250℃ 보다 높으면 나노로드의 단선 및 고분자 필름에 적용하기 힘들다는 문제가 있을 수 있다.
The printed metal mesh can be fired to remove volatile substances such as solvents, and the organic compound additive and the like can be decomposed and removed. The firing temperature is sufficient at a temperature sufficient to remove the solvent and other additives to be added to the ink, and is preferably 100 to 250 ° C. If the firing temperature is lower than 100 ° C, the organic compound additive is not completely removed, which may increase the resistance of the metal mesh. If the sintering temperature is higher than 250 ° C, there may be a problem that it is difficult to apply to the disconnection of the nanorod and the polymer film.

이하에서는 실시예 및 비교예를 들어 본 발명에 대하여 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

실시예 1~3Examples 1 to 3

1.03g의 AgNO3를 3.72g 의 프로필렌글리콜에 용해시켜 은(Ag) 전구체 용액을 준비하였다. 250㎖의 반응용기에 131.67g의 프로필렌글리콜을 투입하고, 여기에 0.83g의 폴리비닐피롤리돈, 0.017g의 테트라뷰틸암모늄클로라이드를 투입하고, 100℃로 가열하면서 1시간 동안 교반하였다. 여기에 은(Ag) 전구체 용액을 시린지 펌프(syringe pump)를 이용하여 0.25 ㎖/min 의 속도로 적가하였다. 적가 완료 후 4 시간 동안 유지하여 반응시킨 후, 물을 투입하여 quenching하고, 원심분리 및 세척을 통하여 은(Ag) 나노와이어를 제조하였다. 1.03 g of AgNO 3 was dissolved in 3.72 g of propylene glycol to prepare a silver (Ag) precursor solution. 131.67 g of propylene glycol was charged into a reaction vessel of 250 ml, to which 0.83 g of polyvinylpyrrolidone and 0.017 g of tetrabutylammonium chloride were added, and the mixture was stirred for 1 hour while heating to 100 占 폚. The silver (Ag) precursor solution was added dropwise at a rate of 0.25 ml / min using a syringe pump. After completion of the dropwise addition, the reaction was maintained for 4 hours, followed by quenching with water, and centrifugation and washing to prepare silver (Ag) nanowires.

물에 0.003g의 HPMC(Hydroxypropyl methylcellulose), 0.002g의 분산제(TX-100®(p-tertiary-octylphenoxypolyethylalcohol)) 및 1g의 은(Ag) 나노와이어를 투입하여 총 10g의 분산액을 준비하고, 1 시간 동안 초음파 분쇄(sonication)하여 10wt% 농도의 은(Ag) 나노로드 잉크를 제조하였다.A total of 10 g of a dispersion was prepared by adding 0.003 g of HPMC (Hydroxypropyl methylcellulose), 0.002 g of a dispersant (TX-100 ® (p-tertiary-octylphenoxypolyethylalcohol)) and 1 g of silver (Ag) Was sonicated to produce a silver (Ag) nano-rod ink having a concentration of 10 wt%.

은(Ag) 나노로드 잉크를 사용하여 유리기판(삼성코닝정밀소재(주) eagle glass®) 위에 잉크젯 프린터(유니젯(社), 옴니젯 100)로 메탈 메쉬를 인쇄하고 60℃에서 1분 동안 건조한 후, 160℃에서 10분 동안(실시예 1), 250℃에서 5분 동안(실시예 2), 250℃에서 10분 동안(실시예 3) 소성하여 메탈 메쉬를 제조하였다.
Silver (Ag) using nanorods ink glass substrate (Samsung Corning Precision Materials (Note) eagle glass ®) on the ink jet printer (uni-jet (社), omni-jet 100) for 1 minute in printing a metal mesh and 60 ℃ in After drying, the metal mesh was produced by baking at 160 ° C for 10 minutes (Example 1), 250 ° C for 5 minutes (Example 2) and 250 ° C for 10 minutes (Example 3).

비교예 1~3Comparative Examples 1 to 3

1.03g의 AgNO3를 3.72g의 프로필렌글리콜에 용해시켜 은(Ag) 전구체 용액을 준비하였다. 250㎖의 반응용기에 131.67g의 프로필렌글리콜을 넣고, 여기에 0.83g의 폴리비닐피롤리돈을 투입하고, 100℃로 가열하면서 교반하였다. 여기에 은(Ag) 전구체 용액을 시린지 펌프(syringe pump)를 이용하여 5㎖/min 의 속도로 적가하였다. 적가 완료 후 20 시간 동안 유지한 후, 물을 투입하여 quenching 시키고, 원심분리 및 세척을 통하여 은(Ag) 나노입자를 얻었다.1.03 g of AgNO 3 was dissolved in 3.72 g of propylene glycol to prepare a silver (Ag) precursor solution. 131.67 g of propylene glycol was placed in a 250 ml reaction vessel, and 0.83 g of polyvinylpyrrolidone was added thereto, followed by stirring while heating to 100 占 폚. The silver (Ag) precursor solution was added dropwise at a rate of 5 ml / min using a syringe pump. After the dropwise addition, the mixture was maintained for 20 hours, quenching with water, and centrifugation and washing to obtain silver (Ag) nanoparticles.

물에 0.003g의 HPMC(Hydroxypropyl methylcellulose), 0.002g의 분산제(TX-100®(p-tertiary-octylphenoxypolyethylalcohol)) 및 2.5g의 은(Ag) 나노입자를 투입하여 총 10g의 분산액을 준비하고, 1시간 동안 초음파 교반하여 은(Ag) 나노입자가 균일하게 분산된 25wt% 농도의 은(Ag) 나노입자 잉크를 제조하였다.A dispersion of 10 g in total was prepared by adding 0.003 g of HPMC (Hydroxypropyl methylcellulose), 0.002 g of a dispersant (TX-100 ® (p-tertiary-octylphenoxypolyethylalcohol)) and 2.5 g of silver (Ag) (Ag) nanoparticles were uniformly dispersed to prepare a 25 wt% silver (Ag) nanoparticle ink.

은(Ag) 나노입자 잉크를 사용하여 유리 기판 위에 잉크젯 프린터(유니젯, 옴니젯 100)로 메탈 메쉬를 인쇄한 후, 60℃에서 1분 동안 건조하고 160℃에서 10분 동안(비교예 1), 250℃에서 5분 동안(비교예 2), 250℃에서 10분 동안(비교예 3) 소성하여 메탈 메쉬를 제조하였다.
A metal mesh was printed on a glass substrate with an inkjet printer (UniJet, OmniJet 100) using silver (Ag) nano-particle ink, dried at 60 ° C for 1 minute, and dried at 160 ° C for 10 minutes (Comparative Example 1) , And calcined at 250 캜 for 5 minutes (Comparative Example 2) and at 250 캜 for 10 minutes (Comparative Example 3) to produce a metal mesh.

실시예 4Example 4

은(Ag) 나노로드의 농도가 10wt%인 은(Ag) 나노로드 잉크를 사용한 점, 150℃에서 10분 동안 소성한 점을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 메탈 메쉬를 제조하였다.
A metal mesh was prepared in the same manner as in Example 1, except that a silver (Ag) nano-rod ink having a silver (Ag) nano-rod concentration of 10 wt% was used and that the ink was fired at 150 캜 for 10 minutes.

비교예 4Comparative Example 4

은(Ag) 나노입자의 농도가 30wt%인 은(Ag) 나노입자 잉크를 사용한 점, 250℃ 에서 10분 동안 소성한 점을 제외하고, 비교예 1과 동일한 방법에 따라 메탈 메쉬를 제조하였다.
A metal mesh was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that silver (Ag) nanoparticle inks having a concentration of silver (Ag) nanoparticles of 30 wt% were used and those were fired at 250 DEG C for 10 minutes.

평가evaluation

은 나노로드의 종횡비The aspect ratio of the nanorod

은(Ag) 나노와이어와 이를 분쇄한 후의 은(Ag) 나노로드를 주사전자현미경(SEM)(Jeol, JSM-7400F)으로 관찰하였으며, 그 결과를 각각 도 2(A) 및 2(B)에 나타내었다. 은(Ag) 나노로드의 평균 직경은 약 50nm 이고, 평균 길이는 약 1000nm 이었으며, 종횡비(aspect ratio)는 20 이었다.
The silver nanowires and the silver nanorods after they were pulverized were observed with a scanning electron microscope (SEM) (Jeol, JSM-7400F), and the results are shown in FIGS. 2 (A) and 2 Respectively. The silver (Ag) nanorods had an average diameter of about 50 nm, an average length of about 1000 nm, and an aspect ratio of 20.

소성 온도와 면저항Firing temperature and sheet resistance

메탈 메쉬의 메탈 부분의 면저항 측정용 시편을 다음과 같은 방법으로 제조하였다. 즉 3 개의 3cm ⅹ 3cm 의 유리기판 각각에 실시예의 은(Ag) 나노로드 잉크를 스핀 코팅한 후 60℃ 에서 1 분 동안 건조하고 160℃ 에서 10분(실시예 1에 대응), 250℃ 에서 5분(실시예 2에 대응), 250℃ 에서 10분(실시예 3에 대응) 동안 소성하여 시편을 제조하였다. 비교예의 경우도 마찬가지의 방법으로 시편을 제조하였다. 4 point probe 방법으로 면저항을 5회 측정하였으며(Mitsubishi사, MCP-T370) 그 평균 면저항을 표 1에 나타내었다.
Specimens for measuring the sheet resistance of the metal part of the metal mesh were prepared by the following method. That is, the silver (Ag) nano-rod ink of Example was spin-coated on each of three 3 cm x 3 cm glass substrates, and then dried at 60 ° C for 1 minute and then heated at 160 ° C for 10 minutes (corresponding to Example 1) Minute (corresponding to Example 2) and 250 占 폚 for 10 minutes (corresponding to Example 3). In the case of the comparative example, the test piece was prepared in the same manner. The sheet resistance was measured 5 times by 4 point probe method (Mitsubishi, MCP-T370), and the average sheet resistance is shown in Table 1.

소성온도(℃)Firing temperature (캜) 소성시간(분)Firing time (minutes) 면저항(Ω/□)Sheet resistance (Ω / □) 실시예 1Example 1 160160 1010 9595 실시예 2Example 2 250250 55 9292 실시예 3Example 3 250250 1010 8181 비교예 1Comparative Example 1 160160 1010 측정불가Not measurable 비교예 2Comparative Example 2 250250 55 580580 비교예 3Comparative Example 3 250250 1010 110110

표 1에서 '측정불가'는 소성 후에도 유기물질 등이 잔류하여 전류가 흐르지 않아 측정할 수 없었음을 의미한다. 상기 결과로부터, 본 발명의 은(Ag) 나노로드 잉크를 사용하여 메탈 메쉬를 제조하는 경우, 은(Ag) 나노입자 잉크를 사용하여 메탈 메쉬를 제조하는 경우에 비하여, 더 낮은 온도에서 소성하더라도 면저항이 더 낮은 메탈 메쉬를 제조할 수 있음을 확인할 수 있다.
In Table 1, 'non-measurable' means that organic materials remained after firing and the current could not flow and thus the measurement could not be performed. From the above results, it can be seen that, in the case of producing the metal mesh using the silver (Ag) nano-rod ink of the present invention, compared with the case of producing the metal mesh using the silver (Ag) It is possible to fabricate a lower metal mesh.

잉크의 농도와 투광도Ink concentration and transmittance

실시예 4 및 비교예 4를 통하여, 동일한 면저항을 구현하기 위한 각 잉크의 농도를 비교하고, 그 경우 메탈 메쉬의 메탈 부분의 투광도를 확인하고자 하였다. The concentration of each ink for realizing the same sheet resistance was compared through Example 4 and Comparative Example 4, and in this case, the light transmittance of the metal portion of the metal mesh was examined.

비교예 4 및 실시예 4에 따라 제조된 메탈 메쉬의 메탈 부분에 대한 주사전자현미경 사진을 도 3에 나타내었다(A: 비교예 4, B: 실시예 4). 도 3을 참조하면 비교예 4의 경우 나노입자가 빽빽하게 채워져 입자 사이에 공극이 거의 없으나, 실시예 4의 경우에는 나노로드가 성글게 채워져 있고 나노로드 사이에는 공극이 형성되어 있음을 확인할 수 있다.FIG. 3 shows scanning electron microscope photographs of the metal portions of the metal mesh prepared according to Comparative Examples 4 and 4 (A: Comparative Example 4, B: Example 4). Referring to FIG. 3, in the case of Comparative Example 4, the nanoparticles are densely packed so that there is almost no gap between the particles. In the case of Example 4, however, it can be seen that the nanorods are gently filled and voids are formed between the nanorods.

투광도는 가시광선 투과율 측정기(JASCO, V-660)을 사용하여 가시광선 파장영역인 400㎚ 내지 700㎚ 에서 측정하였으며, 그 결과를 표 2에 나타내었다.
The transmittance was measured at a visible light wavelength range of 400 nm to 700 nm using a visible light transmittance meter (JASCO, V-660), and the results are shown in Table 2.

잉크 농도(wt%)Ink concentration (wt%) 소성Plasticity 투광도(%)Transmittance (%) 면저항(Ω/□)Sheet resistance (Ω / □) 실시예 4Example 4 3030 150℃, 10분 150 ° C, 10 minutes 2.52.5 2828 비교예 4Comparative Example 4 3030 250℃, 10분 250 ° C, 10 minutes 00 9898

표 2를 참조하면, 실시예 4는 은(Ag) 나노로드 잉크를 사용한 경우로서 비교예 4의 은(Ag) 나노입자 잉크의 경우보다 농도가 낮음에도 불구하고 면저항 측면에서는 동일한 성능을 나타내고 투광도 측면에서는 오히려 더 우수한 성능을 나타냄을 확인할 수 있다. 이처럼 실시예 4의 경우가 비교예 4의 경우보다 투광도가 높게 측정된 것은, 도 3에서 확인할 수 있는 바와 같이, 실시예 4의 경우에는 공극이 많이 존재함에 기인한다고 볼 수 있다.Referring to Table 2, Example 4 shows the same performance in terms of sheet resistance despite the lower concentration than in the case of the silver (Ag) nano-particle ink of Comparative Example 4 in the case of using silver (Ag) It can be confirmed that the performance is better. As can be seen from FIG. 3, the fact that the transmittance of the fourth embodiment is higher than that of the fourth comparative example can be attributed to the existence of a lot of voids in the case of the fourth embodiment.

본 발명에서 사용한 용어는 특정한 실시예를 설명하기 위한 것으로, 본 발명을 한정하고자 하는 것이 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하지 않는 한, 복수의 의미를 포함한다고 보아야 할 것이다. "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소 또는 이들을 조합한 것이 존재한다는 것을 의미하는 것이지, 이를 배제하기 위한 것이 아니다. 본 발명은 상술한 실시 형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며, 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.The terms used in the present invention are intended to illustrate specific embodiments and are not intended to limit the invention. The singular presentation should be understood to include plural meanings, unless the context clearly indicates otherwise. The word "comprises" or "having" means that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, or a combination thereof described in the specification. The present invention is not limited by the above-described embodiments and the accompanying drawings, but is intended to be limited only by the appended claims. It will be apparent to those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. something to do.

Claims (10)

메탈 나노로드를 포함하는 메탈 메쉬.Metal mesh containing metal nano-rod. 제1항에 있어서,
상기 메탈 나노로드는 종횡비(aspect ratio)가 5 내지 100 인 메탈 메쉬.
The method according to claim 1,
Wherein the metal nano-rod has an aspect ratio of 5 to 100.
제1항에 있어서,
상기 메탈 나노로드는 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co), 아연(Zn), 크롬(Cr), 망간(Mn)의 나노로드 또는 이들의 조합을 포함하는 메탈 메쉬.
The method according to claim 1,
The metal nano-rod may be formed of a metal such as gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), nickel (Ni), iron (Fe), cobalt (Co), zinc (Zn), chromium (Cr) Nanorods, or combinations thereof.
기판 상에 메탈 나노로드 잉크를 인쇄한 후 소성하는 단계를 포함하는 메탈 메쉬의 제조 방법.A method for manufacturing a metal mesh, comprising: printing a metal nano-rod ink on a substrate and then firing the metal nano-rod ink. 제4항에 있어서,
상기 메탈 나노로드 잉크에 포함된 메탈 나노로드의 종횡비(aspect ratio)는 5 내지 100 인 메탈 메쉬의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the aspect ratio of the metal nano-rods included in the metal nano-rod ink is 5 to 100. 5. The method of claim 1,
제4항 또는 제5항에 있어서,
상기 메탈 나노로드는 메탈나노와이어를 분쇄하여 제조하는 것인 메탈 메쉬의 제조 방법.
The method according to claim 4 or 5,
Wherein the metal nanorods are produced by grinding metal nanowires.
제4항에 있어서,
상기 잉크 중 메탈 나노로드의 농도는 1 내지 60 wt% 인 메탈 메쉬의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the concentration of the metal nano-rods in the ink is 1 to 60 wt%.
제4항에 있어서,
상기 메탈 나노로드는 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co), 아연(Zn), 크롬(Cr), 망간(Mn)의 나노로드 또는 이들의 조합을 포함하는 메탈 메쉬의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The metal nano-rod may be formed of a metal such as gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), nickel (Ni), iron (Fe), cobalt (Co), zinc (Zn), chromium (Cr) Nanorods, or combinations thereof.
제4항에 있어서,
상기 인쇄는 잉크젯(inkjet) 프린팅, 그라비아(gravure) 인쇄, 오프셋(offset) 인쇄, 스크린 인쇄(screen printing) 또는 나노임프린트리소그래피(nano-imprint lithography) 마이크로어레이 프린팅(microarray printing) 및 직접 레이저 이미징(direct laser imaging)에서 선택되는 것인 메탈 메쉬의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The printing may be performed by any suitable technique, such as inkjet printing, gravure printing, offset printing, screen printing or nano-imprint lithography, microarray printing and direct laser imaging laser imaging. < / RTI >
제4항에 있어서,
상기 소성은 100~250℃ 에서 수행되는 메탈 메쉬의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the firing is performed at 100 to 250 < 0 > C.
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