KR20160053177A - Display device - Google Patents

Display device Download PDF

Info

Publication number
KR20160053177A
KR20160053177A KR1020140150185A KR20140150185A KR20160053177A KR 20160053177 A KR20160053177 A KR 20160053177A KR 1020140150185 A KR1020140150185 A KR 1020140150185A KR 20140150185 A KR20140150185 A KR 20140150185A KR 20160053177 A KR20160053177 A KR 20160053177A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gate line
gate
line
data
horizontal
Prior art date
Application number
KR1020140150185A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102222144B1 (en
Inventor
이종범
이세응
최한나
박찬수
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020140150185A priority Critical patent/KR102222144B1/en
Publication of KR20160053177A publication Critical patent/KR20160053177A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102222144B1 publication Critical patent/KR102222144B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G2320/00Control of display operating conditions
    • G09G2320/02Improving the quality of display appearance
    • G09G2320/0233Improving the luminance or brightness uniformity across the screen

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)

Abstract

According to the present invention, a display device comprises a display panel, a data driving unit, and a gate driving unit. The display panel comprises a data line and a gate line. The data driving unit provides a data voltage to the data line. The gate driving unit provides a gate pulse to the gate line. The gate line comprises: a vertical gate line which receives the gate pulse from the gate driving unit and vertically crosses a pixel region while the vertical gate line is separated from the data line; and a horizontal gate line which receives the gate pulse from the vertical gate line and provides the gate pulse to pixels arranged along a horizontal line. Therefore, the display device can reduce a bezel width.

Description

표시장치{DISPLAY DEVICE}Display device {DISPLAY DEVICE}

본 발명은 표시장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a display device.

표시장치 분야는 부피가 큰 음극선관(Cathode Ray Tube: CRT)을 대체하는, 얇고 가벼우며 대면적이 가능한 평판 표시장치(Flat Panel Display Device: FPD)로 급속히 변화해 왔다. 평판 표시장치에는 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device: LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP), 유기발광 표시장치(Organic Light Emitting Display Device: OLED), 그리고 전기영동 표시장치(Electrophoretic Display Device: EPD) 등이 있다. 이 중에서 액정표시장치는 액정 분자에 인가되는 전계를 데이터 전압에 따라 제어하여 화상을 표시한다. 액티브 매트릭스 타입의 액정표시장치는 공정 기술과 구동 기술의 발달에 힘입어 가격이 낮아지고 성능이 높아져 소형 모바일 기기부터 대형 텔레비젼까지 거의 모든 표시장치에 적용되어 가장 널리 이용되고 있다. The display field has rapidly changed to a thin, light, and large-area flat panel display device (FPD) that replaces bulky cathode ray tubes (CRTs). The flat panel display includes a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an organic light emitting display (OLED), and an electrophoretic display device : EPD). Among them, the liquid crystal display device displays an image by controlling the electric field applied to the liquid crystal molecules in accordance with the data voltage. The active matrix type liquid crystal display device has been widely used because it is applied to almost all display devices from small mobile devices to large-sized televisions due to its low price and high performance due to development of process technology and driving technology.

액정표시장치의 제조사들은 네로우 베젤(Narrow bezel)을 구현하기 위한 다양한 시도를 하고 있다.Manufacturers of liquid crystal display devices have made various attempts to implement a narrow bezel.

본 발명은 베젤 폭을 줄일 수 있는 표시장치를 제공한다.
The present invention provides a display device capable of reducing a bezel width.

본 발명의 표시장치는 표시패널, 데이터 구동부 및 게이트 구동부를 포함한다. 표시패널은 데이터라인 및 게이트라인을 포함한다. 데이터 구동부는 데이터라인에 데이터전압을 제공한다. 게이트 구동부는 게이트라인에 게이트펄스를 제공한다. 게이트라인은 게이트 구동부로부터 게이트펄스를 제공받으며 데이터라인과 이격된 상태에서 화소 영역을 수직으로 가로지르는 수직 게이트라인 및 수직 게이트라인으로부터 게이트펄스를 제공받으며 수평라인을 따라서 배열되는 화소들에 상기 게이트펄스를 제공하는 수평 게이트라인을 포함한다.
A display device of the present invention includes a display panel, a data driver, and a gate driver. The display panel includes a data line and a gate line. The data driver provides the data voltage to the data line. The gate driver supplies a gate pulse to the gate line. The gate line is supplied with gate pulses from the gate driver and is supplied with gate pulses from the vertical gate lines and vertical gate lines vertically crossing the pixel region while being spaced apart from the data lines. Lt; / RTI >

본 발명의 표시장치는 베젤 영역을 경유하지 않는 수직 게이트라인을 이용하기 때문에 베젤의 크기를 줄일 수 있다. Since the display device of the present invention uses a vertical gate line not passing through the bezel area, the size of the bezel can be reduced.

또한, 본 발명의 수직 게이트라인은 데이터라인과 이격된 상태에서 화소 영역을 통과하기 때문에, 수직 게이트라인을 덮는 블랙매트릭스의 영역을 줄일 수 있다. 따라서 본 발명은 블랙매트릭스의 크기가 줄어들기 때문에 휘도의 감소를 개선할 수 있다.Further, since the vertical gate line of the present invention passes through the pixel region in a state of being separated from the data line, the area of the black matrix covering the vertical gate line can be reduced. Therefore, the present invention can improve the reduction of brightness because the size of the black matrix is reduced.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 표시장치를 나타내는 도면.
도 4는 표시패널의 화소 어레이 구조를 나타내는 도면.
도 5는 화소 어레이의 실시 예를 나타내는 평면도.
도 6a 내지 도 6f는 화소 어레이 기판의 형성과정을 나타내는 평면도 및 단면도.
1 to 3 are views showing a display device of the present invention.
4 is a view showing a pixel array structure of a display panel;
5 is a plan view showing an embodiment of a pixel array;
6A to 6F are a plan view and a sectional view showing a process of forming a pixel array substrate.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 실질적으로 동일한 구성요소들을 의미한다. 이하의 설명에서, 본 발명과 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the preferred embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings. Like reference numerals throughout the specification denote substantially identical components. In the following description, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

도 1은 본 발명에 의한 표시장치를 나타내는 도면이다. 1 is a view showing a display device according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 표시장치는 표시패널(PNL), 드라이브 IC(Integrated Circuit: DIC)(10), 타이밍 콘트롤러(Timing Controller: TCON)(12) 등을 포함한다. Referring to FIG. 1, a display device of the present invention includes a display panel (PNL), a drive IC (Integrated Circuit: DIC) 10, a timing controller (TCON) 12, and the like.

호스트 시스템(Host System, SYSTEM)(10)은 텔레비젼 시스템, 셋톱박스, 네비게이션 시스템, DVD 플레이어, 블루레이 플레이어, 개인용 컴퓨터(PC), 홈 시어터 시스템, 폰 시스템(Phone system) 중 어느 하나로 구현될 수 있다. 호스트 시스템(10)은 입력 영상의 디지털 비디오 데이터(RGB)를 표시패널(PNL)에 적합한 포맷으로 변환한다. 호스트 시스템(10)은 입력 영상의 디지털 비디오 데이터와 함께 타이밍 신호들(Vsync, Hsync, DE, MCLK)을 타이밍 콘트롤러(12)로 전송한다.The host system 10 may be implemented in any one of a television system, a set-top box, a navigation system, a DVD player, a Blu-ray player, a personal computer (PC), a home theater system, have. The host system 10 converts the digital video data RGB of the input image into a format suitable for the display panel PNL. The host system 10 transmits timing signals (Vsync, Hsync, DE, MCLK) to the timing controller 12 together with the digital video data of the input video.

타이밍 콘트롤러(12)는 호스트 시스템(10)으로부터 수신한 입력 영상의 디지털 비디오 데이터를 소스 드라이브 IC들(SIC)에 전송한다. 타이밍 콘트롤러(12)는 호스트 시스템(10)으로부터 수직 동기신호(Vsync), 수평 동기신호(Hsync), 데이터 인에이블 신호(Data Enable, DE), 메인 클럭(CLK) 등의 타이밍 신호들은 입력받는다. 이러한 타이밍 신호들은 입력 영상의 디지털 비디오 데이터와 동기된다. 타이밍 콘트롤러(12)는 타이밍 신호(Vsync, Hsync, DE, CLK)를 이용하여 소스 드라이브 IC들(SIC)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 소스 타이밍 제어신호와, 게이트 드라이브 IC들(GIC)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 게이트 타이밍 제어신호를 발생한다.The timing controller 12 transmits the digital video data of the input image received from the host system 10 to the source drive ICs SIC. The timing controller 12 receives timing signals such as a vertical synchronization signal Vsync, a horizontal synchronization signal Hsync, a data enable signal DE and a main clock CLK from the host system 10. These timing signals are synchronized with the digital video data of the input image. The timing controller 12 generates a timing control signal for controlling the operation timing of the source drive ICs SIC using the timing signals Vsync, Hsync, DE, and CLK and a timing control signal for controlling the operation timings of the gate drive ICs (GIC) Lt; RTI ID = 0.0 > timing control < / RTI >

타이밍 콘트롤러(12)에 의해 생성되는 게이트 타이밍 제어신호는 게이트 스타트 펄스(GSP), 게이트 쉬프트 클럭(Gate Shift Clock, GSC) 및 게이트 출력 인에이블신호(Gate Output Enable, GOE)를 포함한다. 그리고 타이밍 콘트롤러(12)에 의해 생성되는 데이터 타이밍 제어신호는 소스 스타트 펄스(Source Start Pulse, SSP), 소스 샘플링 클럭(Source Sampling Clock, SSC) 및 소스 출력 인에이블신호(Source Output Enable, SOE) 등을 포함한다. 소스 스타트 펄스(SSP)는 데이터가 표시될 라인에서 시작 화소를 지시한다. 소스 샘플링 클럭(SSC)은 라이징 또는 폴링 에지에 기준하여 데이터 구동부(SIC) 내에서 데이터의 래치동작을 지시한다. The gate timing control signal generated by the timing controller 12 includes a gate start pulse GSP, a gate shift clock GSC and a gate output enable signal GOE. The data timing control signal generated by the timing controller 12 includes a source start pulse SSP, a source sampling clock SSC and a source output enable signal SOE . The source start pulse (SSP) indicates the starting pixel on the line where data is to be displayed. The source sampling clock SSC indicates the latch operation of data in the data driver SIC based on the rising or falling edge.

구동부(14)는 데이터 구동부(SIC) 및 게이트 구동부(GIC)를 포함한다. 데이터 구동부(SIC)는 타이밍 콘트롤러(12)의 제어 하에 입력 영상의 디지털 비디오 데이터들을 샘플링한 후에 래치(Latch)하여 병렬 데이터 체계의 데이터로 변환한다. 데이터 구동부(SIC)는 타이밍 콘트롤러(12)의 제어 하에 디지털-아날로그 변환기(Digital to Analog converter, ADC)를 이용하여 디지털 비디오 데이터들을 아날로그 감마보상전압으로 변환하여 데이터 전압을 발생하고 그 데이터 전압을 수직 데이터라인들(DL)에 공급한다. 게이트 구동부(GIC)는 타이밍 콘트롤러(12)의 제어 하에 데이터 전압에 동기되는 게이트 펄스(또는 스캔펄스)를 제1 수직 게이트라인으로부터 제n 수직 게이트라인까지 순차적으로 공급한다. The driving unit 14 includes a data driver SIC and a gate driver GIC. The data driver SIC latches the digital video data of the input image under the control of the timing controller 12 and converts the digital video data into data of a parallel data structure. The data driver SIC generates a data voltage by converting the digital video data into an analog gamma compensation voltage using a digital-to-analog converter (ADC) under the control of the timing controller 12, To the data lines DL. The gate driver GIC sequentially supplies gate pulses (or scan pulses) synchronized with the data voltage from the first vertical gate line to the nth vertical gate line under the control of the timing controller 12. [

도 2 및 도 3은 각각 구동부(DIC)의 구현 예를 나타내는 도면들이다.FIG. 2 and FIG. 3 are views showing an embodiment of a driving unit (DIC), respectively.

도 2에서와 같이, 데이터 구동부(SIC)는 COF(Chip on film)와 같은 연성회로기판 상에 실장되거나 COG(Chip on glass) 공정으로 하부 기판 상에 직접 접합될 수 있다. 게이트 구동부(GIC)는 GIP(Gate In Panel) 공정으로 TFT 어레이와 동시에 하부 기판의 하단에 직접 형성될 수 있다.As shown in FIG. 2, the data driver SIC may be mounted on a flexible circuit board such as a COF (Chip on Film) or directly bonded on a lower substrate by a COG (Chip on Glass) process. The gate driver (GIC) can be formed directly on the lower side of the lower substrate simultaneously with the TFT array by a GIP (Gate In Panel) process.

또는, 도 3에서와 같이, 데이터 구동부(SIC) 및 게이트 구동부(GIC)는 COF 상에 함께 실장될 수 있다. COF의 입력단은 PCB(Printed Circuit Board)에 접합되고, COF의 출력단은 표시패널(PNL)의 하부 기판의 상단에 접합된다.Alternatively, as shown in FIG. 3, the data driver SIC and the gate driver GIC may be mounted together on the COF. An input terminal of the COF is connected to a PCB (Printed Circuit Board), and an output terminal of the COF is connected to an upper end of the lower substrate of the display panel (PNL).

표시패널(PNL)은 복수 개의 화소(P)를 포함하고, 각각의 화소(P)들이 표시하는 계조를 기반으로 영상을 표시한다. 화소(P)들은 데이터라인(DL) 및 게이트라인(GL)이 교차하는 영역에 형성된다. 각 화소(P)는 게이트라인(GL)과 데이터라인(DL)에 연결된 스위치 소자(SW)를 통해 공급된 스캔신호에 대응하여 공급된 데이터신호(DATA)에 대응하여 동작하는 픽셀회로(PC)를 포함한다. 픽셀회로(PC) 및 스위치 소자(SW)는 표시패널의 종류에 따라서 다른 형태로 구현될 수 있고, 예컨대 게이트펄스에 응답하여 턴-온되는 트랜지스터를 이용할 수 있다. The display panel (PNL) includes a plurality of pixels (P), and displays an image based on the gradation displayed by each of the pixels (P). The pixels P are formed in the region where the data line DL and the gate line GL intersect. Each pixel P includes a pixel circuit PC that operates in response to a supplied data signal DATA corresponding to a scan signal supplied through a switch element SW connected to a gate line GL and a data line DL, . The pixel circuit PC and the switch element SW may be implemented in different forms according to the type of the display panel, and for example, a transistor which is turned on in response to a gate pulse may be used.

도 4는 본 발명에 의한 표시패널의 화소 어레이를 나타내는 도면이고, 도 5는 도 4에 도시된 제1 단위화소의 구현 예를 나타내는 도면이다. FIG. 4 is a view showing a pixel array of a display panel according to the present invention, and FIG. 5 is a view showing an embodiment of a first unit pixel shown in FIG.

도 4 및 도 5를 참조하면, 임의의 색상을 표시하는 단위 화소(GP)는 제1 내지 제3 화소(R,G,B)를 포함한다. 제1 내지 제3 화소(R,G,B)는 각각 적색, 녹색 및 청색를 표시하는 화소일 수 있다. 제1 내지 제3 화소(R,G,B)들은 데이터라인(DL)과 나란하게 배열된다. Referring to FIGS. 4 and 5, a unit pixel GP for displaying an arbitrary color includes first to third pixels R, G and B. The first through third pixels R, G, and B may be pixels displaying red, green, and blue, respectively. The first to third pixels R, G, and B are arranged in parallel with the data lines DL.

데이터라인(DL) 및 수직 게이트라인(VGL)은 표시패널(PNL)의 수직 방향(도 1에서 y축 방향)을 따라 형성된다. The data line DL and the vertical gate line VGL are formed along the vertical direction (y-axis direction in Fig. 1) of the display panel PNL.

제1 데이터라인(DL1)은 1 수평주기(1H) 동안에 제1 내지 제3 화소(R,G,B)들에 제공하는 데이터전압을 순차적으로 출력한다. 즉, 하나의 데이터라인(DL)은 단위 화소(GP)에 포함되는 제1 내지 제3 화소(R,G,B)들에 데이터전압을 제공하기 때문에, 제1 내지 제3 화소(R,G,B)들이 수평라인 방향을 형성된 구조에 비해서 데이터라인의 개수를 1/3로 줄일 수 있다. The first data line DL1 sequentially outputs the data voltages to the first to third pixels R, G, and B during one horizontal period 1H. That is, since one data line DL provides the data voltages to the first to third pixels R, G, and B included in the unit pixel GP, the first to third pixels R, G, , B) can be reduced to 1/3 of the number of data lines in the structure in which the horizontal line direction is formed.

수직 게이트라인(VGL)은 데이터라인(DL)과 평행하게 형성된다. 수직 게이트라인(VGL)은 수평라인(HL)의 개수에 대응하는 개수로 형성되며, 각각의 수직 게이트라인은 게이트 구동부(GIC)로부터 게이트펄스를 제공받는다. 또한 수직 게이트라인(VGL)은 화소들의 경계면에 배치되지 않고 제1 내지 제3 화소(R,G,B)의 영역을 수직으로 관통한다. 따라서, 수직 게이트라인(VGL)의 상부에는 화소들의 경계를 구분하기 위한 블랙매트릭스를 형성할 필요가 없다. The vertical gate line VGL is formed in parallel with the data line DL. The vertical gate lines VGL are formed in a number corresponding to the number of the horizontal lines HL, and each vertical gate line is supplied with a gate pulse from the gate driver GIC. Also, the vertical gate line VGL is not disposed at the boundary surface of the pixels but vertically penetrates the regions of the first to third pixels R, G and B. Therefore, it is not necessary to form a black matrix for distinguishing the boundaries of the pixels on the vertical gate line (VGL).

수직 게이트라인(VGL)이 화소들의 경계에서 데이터라인(DL)과 인접하게 형성되면 데이터라인(DL) 및 수직 게이트라인(VGL)을 모두 덮도록 블랙매트릭스가 형성되어야 하기 때문에 블랙매트릭스의 폭이 커진다. 블랙매트릭스의 폭이 커지면 투과율이 저하되어 휘도가 낮아지는 단점이 발생하지만, 본 발명은 수직 게이트라인(VGL)의 상부 영역에 블랙매트릭스가 필요하지 않기 때문에 휘도가 저하되는 것을 개선할 수 있다.If the vertical gate line VGL is formed adjacent to the data line DL at the boundary of the pixels, the width of the black matrix becomes large because a black matrix must be formed to cover both the data line DL and the vertical gate line VGL . However, when the width of the black matrix is increased, the transmissivity is lowered and the luminance is lowered. However, since the black matrix is not required in the upper region of the vertical gate line (VGL), the luminance can be reduced.

수평 게이트라인(HGL)은 수평라인(HL) 방향으로 배열되며, 수직 게이트라인(VGL)과는 다른 금속층에 형성된다. 제i(i는 m 이하의 자연수) 수평 게이트라인(HGL)은 절연층을 관통하는 제i 컨택홀(CONTi)을 통해서 제i 수직 게이트라인(VGL)과 접속된다. 예컨대, 제1 수평 게이트라인(HGL)은 제1 수직 게이트라인(VGL)과 제1 컨택홀(CONT1)을 통해서 접속되고, 제2 수평 게이트라인(HGL2)은 제2 수직 게이트라인(VGL)과 제2 컨택홀(CONT2)을 통해서 접속된다. 제i 수평 게이트라인(HGL)은 제i 수평라인(HLi)에 배열되는 화소들에 제i 게이트펄스를 제공한다. The horizontal gate line HGL is arranged in the horizontal line HL direction and is formed in a metal layer different from the vertical gate line VGL. The horizontal gate line HGL is connected to the i-th vertical gate line VGL through the i-th contact hole CONTi passing through the insulating layer. For example, the first horizontal gate line HGL is connected to the first vertical gate line VGL through the first contact hole CONT1, the second horizontal gate line HGL2 is connected to the second vertical gate line VGL, And is connected through the second contact hole CONT2. The ith horizontal gate line HGL provides the ith gate pulse to the pixels arranged in the ith horizontal line HLi.

도 4에는 도시되지 않았지만 수평라인 방향으로 공통전압을 공급하기 위한 공통전압라인이 형성될 수도 있다.Although not shown in FIG. 4, a common voltage line for supplying a common voltage in the horizontal line direction may be formed.

도 6a 내지 도 6f는 본 발명의 화소 어레이 기판 형성과정을 나타내는 도면들이다. 도 6a 내지 도 6f에서 단면도는 도 5에 도시된 Ⅰ-Ⅰ', Ⅱ-Ⅱ' 및 Ⅲ-Ⅲ'를 따라서 절단한 단면을 나타내는 도면들이다. 6A to 6F are views illustrating a pixel array substrate forming process of the present invention. 6A to 6F are cross-sectional views taken along the line I-I ', II-II' and III-III 'shown in FIG.

도 6a를 참조하면, 제1 및 제2 수평 게이트라인(HGL) 및 공통라인(VCL)을 포함하는 제1 금속패턴은 기판(SUB) 상에 형성된다. 제1 금속패턴은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 알루미늄 네오듐(AlNd), 몰리브덴(Mo) 중 어느 하나의 단일 금속 또는 Cu/MoTi의 이중 금속층으로 선택되는 금속물질을 이용하여 형성된다. Referring to FIG. 6A, a first metal pattern including first and second horizontal gate lines HGL and a common line VCL is formed on a substrate SUB. The first metal pattern is formed using a metal material selected from a single metal of any one of copper (Cu), aluminum (Al), aluminum neodymium (AlNd) and molybdenum (Mo) or a double metal layer of Cu / MoTi.

도 6b를 참조하면, 게이트 절연막(GI)은 제1 금속패턴들을 덮도록 기판(SUBS) 상에 형성된다. 게이트 절연막(GI)은 질화 실리콘(SiNx)과 같은 무기 절연물질로 형성될 수 있다. 소스/드레인전극(S,D) 및 제1 수직 게이트라인(VGL)은 게이트 절연층(GI) 상에 형성된다. Referring to FIG. 6B, a gate insulating film GI is formed on the substrate SUBS to cover the first metal patterns. The gate insulating film GI may be formed of an inorganic insulating material such as silicon nitride (SiNx). The source / drain electrodes S and D and the first vertical gate line VGL are formed on the gate insulating layer GI.

제1 및 제2 데이터라인(DL), 제1 수직 게이트라인(VGL)을 포함하는 제2 금속패턴은 게이트 절연막(GI) 상에 형성된다. TFT의 드레인전극(D)은 제1 수직 게이트라인(VGL)에서 분기되는 형태로 형성되고 소스전극(S)은 드레인전극(D)에 인접하여 형성된다. 제2 금속패턴은 몰리브덴(Mo), 알루미늄 네오듐(AlNd), 크롬(Cr), 구리(Cu) 중 어느 하나로 선택될 수 있다. A second metal pattern including the first and second data lines DL and the first vertical gate line VGL is formed on the gate insulating film GI. The drain electrode D of the TFT is formed to be branched from the first vertical gate line VGL and the source electrode S is formed adjacent to the drain electrode D. [ The second metal pattern may be selected from any one of molybdenum (Mo), aluminum neodymium (AlNd), chromium (Cr), and copper (Cu).

도 6c를 참조하면, 제2 금속패턴들은 유기 절연막(PAC)에 의해 덮여진다. 제1 내지 제3 컨택홀(CONT1~CONT3)은 유기 절연막(PAC)을 관통하도록 형성된다. 제1 컨택홀(CONT1)은 제1 수평 게이트라인(HGL) 및 제1 수직 게이트라인(VGL)의 일부를 노출시키도록 형성된다. 제2 컨택홀(CONT2)은 소스전극(S)의 일부를 노출시키도록 형성된다. 제3 컨택홀(CONT3)은 공통전압라인(Vcoml)을 노출시키도록 형성된다. Referring to FIG. 6C, the second metal patterns are covered with an organic insulating film (PAC). The first through third contact holes CONT1 through CONT3 are formed to penetrate the organic insulating film PAC. The first contact hole CONT1 is formed to expose a part of the first horizontal gate line HGL and the first vertical gate line VGL. And the second contact hole CONT2 is formed so as to expose a part of the source electrode S. [ And the third contact hole CONT3 is formed to expose the common voltage line Vcoml.

도 6d를 참조하면, TFT 영역 및 제1 컨택홀(CONT1) 영역을 노출시키면서 화소 어레이 기판 전면에 걸쳐서 제3 금속패턴을 형성한다. 제3 금속패턴은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide) 등의 투명 도전 물질을 이용한다. 화소 어레이 기판 전면에 형성되는 제3 금속패턴은 공통전극(Vcom)이 된다. 제1 컨택홀(CONT1)을 덮는 제3 금속패턴은 제1 수평 게이트라인(HGL) 및 제1 수직 게이트라인(VGL)을 연결한다. 제3 컨택홀(CONT3)을 덮는 제3 금속패턴은 공통전압라인(VCL) 및 공통전극(Vcom)을 연결한다. Referring to FIG. 6D, a third metal pattern is formed over the entire surface of the pixel array substrate while exposing the TFT region and the first contact hole CONT1 region. The third metal pattern uses a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). And the third metal pattern formed on the entire surface of the pixel array substrate becomes the common electrode Vcom. The third metal pattern covering the first contact hole CONT1 connects the first horizontal gate line HGL and the first vertical gate line VGL. The third metal pattern covering the third contact hole CONT3 connects the common voltage line VCL and the common electrode Vcom.

도 6e를 참조하면, 제3 금속패턴은 보호막(passivation, PAS)에 의해 덮여진다. 보호막(PAS)은 질화 실리콘(SiNx)과 같은 무기 절연물질로 형성될 수 있다. Referring to FIG. 6E, the third metal pattern is covered with a passivation (PAS). The protective film PAS may be formed of an inorganic insulating material such as silicon nitride (SiNx).

도 6f를 참조하면, 보호막(PAS) 상에는 화소전극(120)과 공통전극(Vcom)이 형성된다. 화소전극(120)과 공통전극(Vcom)은 ITO(Indium Tin Oxide) 혹은 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명 도전 물질로 형성될 수 있다. 공통전극(Vcom)은 화소 영역의 전반에 걸쳐서 형성되기 때문에, 수직 게이트라인(VGL)이 화소 영역을 가로지르도록 형성될지라도 수직 게이트라인(VGL)에 인가되는 게이트펄스에 의한 자기장을 차폐할 수 있다. 즉, 공통전극(Vcom)의 상부에서 배향되는 액정층(미도시)은 수직 게이트라인(VGL)에 제공되는 게이트펄스에 의해 유도되는 자기장의 영향을 받지 않는다. Referring to FIG. 6F, the pixel electrode 120 and the common electrode Vcom are formed on the passivation layer PAS. The pixel electrode 120 and the common electrode Vcom may be formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). Since the common electrode Vcom is formed across the pixel region, even if the vertical gate line VGL is formed to cross the pixel region, it is possible to shield the magnetic field caused by the gate pulse applied to the vertical gate line VGL have. That is, the liquid crystal layer (not shown) oriented at the upper portion of the common electrode Vcom is not influenced by the magnetic field induced by the gate pulse supplied to the vertical gate line VGL.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 일탈하지 아니하는 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명은 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구 범위에 의해 정해져야만 할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Therefore, the present invention should not be limited to the details described in the detailed description, but should be defined by the claims.

PNL : 표시패널 10 : 드라이브 IC
14 : 타이밍 콘트롤러 12 : 호스트 시스템
DL : 데이터라인 VGL : 수직 게이트라인
HGL : 수평 게이트라인
PNL: Display panel 10: Drive IC
14: Timing controller 12: Host system
DL: Data line VGL: Vertical gate line
HGL: horizontal gate line

Claims (5)

데이터라인 및 게이트라인을 포함하는 표시패널;
상기 데이터라인에 데이터전압을 제공하는 데이터 구동부; 및
상기 게이트라인에 게이트펄스를 제공하는 게이트 구동부를 포함하고,
상기 게이트라인은
상기 게이트 구동부로부터 상기 게이트펄스를 제공받으며 상기 데이터라인과 이격된 상태에서 화소 영역을 수직으로 가로지르는 수직 게이트라인; 및
상기 수직 게이트라인으로부터 상기 게이트펄스를 제공받으며, 수평라인을 따라서 배열되는 화소들에 상기 게이트펄스를 제공하는 수평 게이트라인을 포함하는 표시장치.
A display panel including a data line and a gate line;
A data driver for providing a data voltage to the data line; And
And a gate driver for supplying a gate pulse to the gate line,
The gate line
A vertical gate line vertically crossing the pixel region in a state in which the gate pulse is received from the gate driver and is spaced apart from the data line; And
And a horizontal gate line that receives the gate pulse from the vertical gate line and provides the gate pulse to pixels arranged along a horizontal line.
제 1 항에 있어서,
상기 수직 게이트라인은 제1 내지 제m(m은 상기 수평라인 개수에 해당하는 자연수) 수직 게이트라인을 포함하고,
상기 수평 게이트라인은 제1 내지 제m 수평 게이트라인을 포함하며,
상기 제i(i는 m 이하의 자연수) 수직 게이트라인은 상기 제i 수평 게이트라인과 연결되는 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the vertical gate line includes first to m-th (m is a natural number corresponding to the number of horizontal lines) vertical gate lines,
The horizontal gate line includes first through m-th horizontal gate lines,
Wherein the i-th vertical gate line (i is a natural number of m or less) is connected to the i-th horizontal gate line.
제 1 항에 있어서,
상기 수평 게이트라인 및 상기 수직 게이트라인은 서로 다른 금속층에 배치되며,
상기 수평 게이트라인 및 상기 수직 게이트라인은 컨택홀을 통해서 연결되는 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the horizontal gate line and the vertical gate line are disposed in different metal layers,
Wherein the horizontal gate line and the vertical gate line are connected through a contact hole.
제 3 항에 있어서,
상기 수평 게이트라인은 제1 금속층에 배치되고,
상기 수직 게이트라인은 제2 금속층에 배치되고,
상기 제2 금속층 상부에는 보호막을 사이에 두고 화소 영역 전반에 걸쳐서 배치되는 공통전극을 더 포함하는 표시장치.
The method of claim 3,
The horizontal gate line is disposed in the first metal layer,
The vertical gate line is disposed in a second metal layer,
And a common electrode disposed over the second metal layer over the entire pixel region with a protective film interposed therebetween.
제 1 항에 있어서,
상기 표시패널은
상기 수직 게이트라인 및 데이터라인 방향을 따라서 나란히 배치되는 제1 내지 제3 화소를 포함하고,
상기 데이터라인은 시분할 방식으로 상기 제1 내지 제3 화소의 데이터를 순차적으로 제공하는 표시장치.
The method according to claim 1,
The display panel
And first to third pixels arranged side by side along the vertical gate line and the data line direction,
Wherein the data lines sequentially provide the data of the first through third pixels in a time division manner.
KR1020140150185A 2014-10-31 2014-10-31 Display device KR102222144B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140150185A KR102222144B1 (en) 2014-10-31 2014-10-31 Display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140150185A KR102222144B1 (en) 2014-10-31 2014-10-31 Display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160053177A true KR20160053177A (en) 2016-05-13
KR102222144B1 KR102222144B1 (en) 2021-03-03

Family

ID=56023078

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140150185A KR102222144B1 (en) 2014-10-31 2014-10-31 Display device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102222144B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230151584A (en) * 2022-04-25 2023-11-02 삼성디스플레이 주식회사 Display device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006285118A (en) * 2005-04-05 2006-10-19 Hitachi Displays Ltd Display device
JP2010072363A (en) * 2008-09-18 2010-04-02 Toshiba Mobile Display Co Ltd Liquid crystal display device
KR20140071042A (en) * 2012-12-03 2014-06-11 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006285118A (en) * 2005-04-05 2006-10-19 Hitachi Displays Ltd Display device
JP2010072363A (en) * 2008-09-18 2010-04-02 Toshiba Mobile Display Co Ltd Liquid crystal display device
KR20140071042A (en) * 2012-12-03 2014-06-11 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display

Also Published As

Publication number Publication date
KR102222144B1 (en) 2021-03-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10354605B2 (en) Liquid crystal display and method for manufacturing the same
KR101634744B1 (en) Display apparatus
KR101998769B1 (en) Flat Display Panel Having Narrow Bezel
KR102020938B1 (en) Liquid crystal display
KR102332089B1 (en) Display device having touch sensor
KR20140080671A (en) Liquid crystal display device
US11402936B2 (en) Touch display device and display panel
US10026369B2 (en) Liquid crystal display and driving method thereof
KR101654324B1 (en) Liquid Crystal Display device and Fabricating Method thereof
KR20150001430A (en) Display device having narrow bezel and fabricating method thereof
KR101615767B1 (en) Display Device and Flexible Printed Circuits Board
KR102210677B1 (en) Display device
KR102222144B1 (en) Display device
KR102180914B1 (en) Display device
KR20140080672A (en) Liquid crystal display device
KR101712204B1 (en) Display device and fabricating method thereof
KR102043849B1 (en) Liquid crystal display device
KR102075355B1 (en) Liquid crystal display device
KR101720337B1 (en) Display device including pad for measuring gate pulse, and gate pulse measure method using the pad
KR102016566B1 (en) Liquid crystal display device
KR102605294B1 (en) Display device
KR102528091B1 (en) Display device
KR20120002048A (en) Liquid crystal display device and manufacturing method of the same
KR20130110579A (en) Thin film transistor substrate having metal oxide semiconductor and manufacturing method thereof
KR20120002190A (en) Liquid crystal display device and driving method of the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant