KR20160051472A - 스페클을 이용한 인증 장치, 이를 포함하는 인증 시스템 및 스페클을 이용한 인증 방법 - Google Patents

스페클을 이용한 인증 장치, 이를 포함하는 인증 시스템 및 스페클을 이용한 인증 방법 Download PDF

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Abstract

스페클을 이용한 인증 장치, 이를 포함하는 인증 시스템 및 스페클을 이용한 인증 방법이 개시된다. 개시된 인증 장치는 대상체에 광을 조사하는 광 소스와 상기 광 소스로부터 이격되어 형성된 디텍터를 포함할 수 있으며, 상기 광 소스로부터 조사된 광에 의하여 상기 대상체로부터 발생되는 스페클 정보와 상기 대상체의 위치 정보를 측정하여 미리 저장된 스페클 패턴과 비교하여 대상체를 인증할 수 있다.

Description

스페클을 이용한 인증 장치, 이를 포함하는 인증 시스템 및 스페클을 이용한 인증 방법{Authentication apparatus of using speckle, authentication system comprising the same and authentication mathod using speckle}
본 개시는 대상체 인증에 관한 것으로, 스페클을 이용한 인증 장치, 이를 포함하는 지문 인증 시스템 및 인증 방법에 관한 것이다.
경제 및 사회가 발전함에 따라 대금 결제 방식이 점차 발달하여, 신용 카드 결제나 오프 라인 상에서의 e-money 등의 전자 화폐 결제 등의 새로운 거래 방식이 등장하였다. 이와 함께, 개인 정보 관리 문제가 사회적 이슈로 떠오르고 있으며, 아이디와 비밀 번호를 입력하는 통상적인 보안 방식으로는 개인 정보를 확인 및 보완을 유지하는데 불충분하다.
따라서, 개인 정보가 필요한 상황에서 보안을 유지하면서 개인의 신원의 확인할 수 있도록 특정 신호를 감지하고, 이를 해독하는 인증 시스템이 요구된다. 인증 시스템으로는 생체 인식을 이용한 개인 인증 방법이 주로 사용되고 있으며, 그 중에서 지문이나 홍체 등의 특정 부위의 패턴을 인식하는 개인 인증 방법이 보편적으로 사용되고 있다.
예를 들어, 지문 인증 시스템은 지문 인식 센서 및 신호 처리 알고리즘을 포함하여 이루어져 있다. 높은 인식률과 낮은 에러율을 갖는 신뢰성 있는 지문 인식 시스템을 구성하기 위해서는 지문에 대한 고품질의 이미지의 획득이 필수적이며, 이러한 요구에 따라 지문 인식 장치는 많은 부품들을 포함하여 점차 복잡한 구성을 지니게 되었다.
대상체의 스페클 패턴을 이용하며, 비교적 간단한 구성을 지니며 신뢰성이 있는 인증 장치를 제공한다.
상기 스페클을 이용한 인증 장치를 포함하는 인증 시스템을 제공한다.
대상체의 스페클 패턴 및 대상체의 위치를 고려한 스페클을 이용한 인증 방법을 제공한다.
본 개시에서는,
인증 장치에 있어서,
대상체에 광을 조사하는 광 소스; 및 상기 광 소스로부터 이격되어 형성된 디텍터;를 포함하며,
상기 디텍터는 상기 광 소스로부터 조사된 광에 의하여 상기 대상체로부터 발생되는 스페클 정보 및 상기 대상체의 위치 정보를 측정하는 스페클을 이용한 인증 장치를 제공한다.
상기 광 소스로부터 상기 대상체에 조사되는 광의 조사 각도가 조절될 수 있다.
상기 광 소스는 다수의 광 소스들을 포함할 수 있다.
상기 광 소스는 상기 대상체에 각각 서로 다른 파장을 지닌 광을 각각 조사하는 제 1광소스 및 제 2광소스를 포함할 수 있다.
상기 디텍터는 다수의 디텍터들을 포함할 수 있다.
상기 광 소스는 제 1광소스 및 제 2광 소스를 포함하고, 상기 디텍터는 제 1디텍터 및 제 2디텍터를 포함하며,
상기 제 1디텍터는 제 1광소스로부터 조사되는 광에 의해 상기 대상체에서 발생되는 제 1스페클 패턴을 측정하며, 상기 제 2디텍터는 제 2광소스로부터 조사되는 광에 의해 상기 대상체에서 발생되는 제 2스페클 패턴을 측정할 수 있다.
상기 디텍터 상에 형성된 렌즈;를 더 포함할 수 있다.
상기 대상체가 안착될 수 있는 거치대;를 더 포함할 수 있다.
상기 거치대는 상기 광 소스 또는 상기 디텍터로부터의 이격을 조절할 수 있는 높이 조절부; 및
상기 대상체가 위치하는 안착부;를 포함할 수 있다.
상기 거치대는 상기 인증 장치로부터 탈착 가능할 수 있다.
상기 광원은 간섭성 광(coherent wave)을 조사할 수 있다.
상기 디텍터는 포토 다이오드(phorodiode), CCD(Charge Coupled Device) 또는 CIS(CMOS Image Sensor)를 포함할 수 있다.
또한, 본 개시에서는 상기 인증 장치를 포함하는 스페클을 이용한 인증 시스템을 제공할 수 있다.
상기 광 소스 및 상기 디텍터를 제어하는 제어부; 및
상기 디텍터에 의해 측정된 스페클 패턴을 기억하거나, 측정된 스페클 패턴과 이전에 얻어진 스페클 패턴의 비교 결과 값을 저장할 수 있는 저장부;를 포함할 수 있다.
상기 디텍터에 의해 측정된 스페클 패턴을 시각적으로 나타내거나, 측정된 스페클 패턴과 이전에 얻어진 스페클 패턴을 비교한 결과를 출력할 수 있는 디스플레이부;를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 개시에서는 인증 방법에 있어서,
광 소스로부터 대상체에 광을 조사하여 상기 대상체로부터 발생되는 스페클 패턴 및 상기 대상체의 위치 정보를 디텍터에 의해 측정하고,
상기 디텍터에 의해 측정된 스페클 패턴 및 상기 대상체의 위치 정보를 저장된 스페클 패턴과 비교하는 스페클을 이용한 인증 방법을 제공한다.
상기 대상체의 위치 정보는 상기 대상체에 조사된 광에 의해 상기 대상체로부터 발생되는 스페클 패턴에 의해 측정될 수 있다.
상기 디텍터에 의해 측정된 스페클 패턴의 위치 정보와 상기 저장된 스페클 패턴의 위치 정보가 실질적으로 동일한 경우 상기 측정된 스페클 패턴 및 상기 저장된 스페클 패턴을 비교할 수 있다.
본 개시에 의한 인증 장치에 따르면, 비교적 간단한 구성을 지니면서 대상체와의 거리를 고려하여 스페클 패턴을 미리 저장된 스페클 패턴과 비교함으로써 신뢰성이 높은 인증 장치, 인증 시스템 및 인증 방법을 제공할 수 있다. 다양한 종류의 기기 및 장치에 적용될 수 있는 인증 장치 및 시스템을 제공할 수 있다. 대상체의 지문 등의 생체 정보를 직접적으로 이용하지 않고 스페클 패턴을 이용함으로써 개인 정보 유출의 가능성을 낮출 수 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 스페클을 이용한 인증 장치 및 이를 포함하는 인증 시스템을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2a는 일 실시예에 따른 스페클을 이용한 인증 장치로 지문의 스페클 패턴을 얻는 것을 나타낸 도면이다.
도 2b는 일 실시예에 따른 스페클을 이용한 인증 방법을 나타낸 블럭도이다.
도 3a는 일 실시예에 따른 스페클을 이용한 인증 장치로 대상체의 위치에 따른 스페클 패턴을 얻는 것을 나타낸 도면이다.
도 3b는 일 실시예에 따른 인증 장치에 대한 대상체의 위치 측정 방법을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4 내지 도 7은 다른 실시예에 따른 스페클을 이용한 인증 장치를 나타낸 도면이다.
도 8은 일 실시예에 따른 스페클을 이용한 인증 장치, 인증 시스템을 포함하는 웨어러블 디바이스(wearable device)를 개략적으로 나타낸 도면이다.
이하, 실시예에 의한 스페클을 이용한 인증 장치, 이를 포함하는 인증 시스템 및 스페클을 이용한 인증 방법을 첨부된 도면들을 참조하여 상세하게 설명한다. 이하의 도면들에서 동일한 참조 부호는 동일한 구성 요소를 지칭한다. 도면 상에서 각 영역들의 크기는 설명의 명료성과 편의상 다소 과장되게 표현되어 있을 수 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 스페클을 이용한 인증 장치 및 이를 포함하는 인증 시스템을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 스페클을 이용한 인증 장치(10)는 대상체(object)의 적어도 일 영역에 광을 조사하는 광 소스(optical source)(110)와 대상체에 조사된 광에 의해 대상체로부터 발생하는 스페클 패턴(speckle pattern)을 검출 또는 측정하는 디텍터(detector)(120)를 포함할 수 있다. 그리고, 본 개시에 따른 인증 시스템(authentication system)(100)은 광 소스(optical source)(110)와 디텍터(detector)(120)를 포함하며, 광 소스(110)와 디텍터(120)를 제어하면서, 디텍터(120)로부터 받아들인 스페클 패턴을 이용하여 스페클 패턴의 분류, 측정된 스페클 패턴과 이전에 얻어진 스페클 패턴과의 비교 및 영상처리 등을 실시하는 제어부(controller)(130)를 포함할 수 있다. 그리고, 측정된 스페클 패턴을 시각적으로 나타내거나, 측정된 스페클 패턴과 이전에 얻어진 스페클 패턴을 비교한 결과를 출력할 수 있는 디스플레이부(display)(140)를 포함할 수 있다. 또한, 인증 시스템(100)은 측정된 스페클 패턴을 기억하거나, 측정된 스페클 패턴과 이전에 얻어진 스페클 패턴의 비교 결과 값을 저장할 수 있는 저장부(150)를 더 포함할 수 있다.
대상체는 본 개시에 따른 인증 장치의 광 소스(110)로부터 입사한 광이 산란되는 표면을 지닌 것으로, 사람이나 동물일 수 있으며, 사람이나 동물의 일부를 포함할 수 있다. 다만, 대상체는 이에 한정되지 않으며 광이 조사되어 스페클 패턴이 발생되는 것이면 제한되지 않는다. 대상체는 시간에 따른 표면 형상의 변화가 비교적 없는 것일 수 있으며, 사람의 지문과 같이 시간에 따른 변화가 비교적 덜하여 다른 사람들과 구별되는 부위일 수 있다. 대상체는 본 개시에 따른 인증 장치와 이격하여 위치한 상태로 광 소스(110)로부터 광이 조사될 수 있다. 이하, 본 명세서에서는 대상체로 신체의 일부인 손가락을 예로 들며, 지문 부위의 스페클을 이용한 인증 장치, 인증 시스템 및 인증 방법에 대해 설명하고자 한다.
광 소스(110)는 대상체에 대해 간섭성 광(coherent wave)를 조사할 수 있는 것이면 제한없이 이용될 수 있다. 예를 들어 광 소스(110)는 레이저 다이오드(laser diode: LD)를 포함할 수 있다. 광 소스(110)는 광 출사부에 배치된 빔쉐이퍼를 더 포함할 수 있으며, 광 소스(110)로부터 출사되는 광은 빔쉐이퍼를 거쳐 대상체에 조사될 수 있다. 대상체의 표면 형상에 따라 광 소스(110)로부터 출사되는 광의 파장이 결정될 수 있으며, 예를 들어 대상체의 표면 굴곡의 크기가 작은 경우 광 소스(110)는 가시광 중 비교적 파장이 짧은 광, 예를 들어 청색 레이저 광을 방출하도록 선택될 수 있다. 또한, 광 소스(110)에서 방출되는 광은 적외선 또는 근적외선을 방출할 수 있으며 제한은 없다.
디텍터(120)는 대상체로부터 발생되는 스페클 신호를 감지할 수 있는 것으로 이미지 센서를 포함할 수 있다. 예를 들어 디텍터(120)는 포토 다이오드(phorodiode), CCD(Charge Coupled Device) 또는 CIS(CMOS Image Sensor)일 수 있다. 디텍터(120)는 1D 또는 2D 어레이 구조로 형성된 다수의 이미지 센서들을 구비할 수 있다. 디텍터(120)는 대상체(200)로부터 스페클 정보와 함께 대상체(200)의 위치 정보도 측정할 수 있다. 즉, 디텍터(120)는 대상체(200)로부터 발생하는 스페클 패턴을 측정할 수 있으며, 또한 디텍터(120)로부터의 대상체(200)의 위치 정보, 즉 디텍터(120)와 대상체 사이의 거리 및 각도 등을 측정할 수 있다.
본 개시에 따른 스페클을 이용한 인증 장치(10)는 광 소스(110) 및 디텍터(120)를 포함할 수 있으며, 광 소스(110) 및 디텍터(120) 사이의 거리는 선택적으로 조절될 수 있다. 인증 장치(10)는 광 소스(110) 및 디텍터(120)를 포함하며 절연 물질, 플라스틱, 러버, 폴리머, 금속 등으로 형성된 하우징을 포함하는 형태로 형성될 수 있으나, 다른 기기, 제품 등에 채용되어 사용될 수 있다. 예를 들어, 웨어러블 디바이스에 채용되거나 휴대폰 등을 포함하는 모바일 기기에 장착되거나, 출입문, 금전 출납기 등에 장착될 수 있다.
도 2a는 일 실시예에 따른 스페클을 이용한 인증 장치로 지문의 스페클 패턴을 얻는 것을 나타낸 도면이다. 도 2b는 일 실시예에 따른 스페클을 이용한 인증 방법을 나타낸 블럭도이다.
도 2a 및 2b를 참조하면, 본 개시에 따른 스페클을 이용한 인증 장치(20)는 광 소스(22) 및 디텍터(24)를 포함할 수 있으며, 광 소스(22)로부터 대상체(200)의 지문(210) 부위에 대해 광(L)을 조사한다. 광 소스(22)로부터 조사되는 광은 간섭성 광일 수 있다. 광(L)이 조사된 대상체(200)의 지문(210) 부위에 입사된 광(L)은 지문(210) 부위에서 산란되어 스패클 패턴(S)이 발생될 수 있다. 스페클 패턴(S)은 간섭성(coherence)을 지닌 전자기파일 수 있으며, 대상체(200)의 굴곡 형상을 지닌 지문(210) 부위에서 산란된 것일 수 있다. 스페클 패턴(S)은 광 소스(22)에 의해 대상체(200)의 지문(210) 부위로부터 산란되면서, 보강 간섭 및 상쇄 간섭을 거쳐 인증 장치(20)의 디텍터(120)에 의해 감지되어 측정될 수 있다.
본 개시에 따른 인증 장치에 의하면 대상체(200)의 스페클 패턴 뿐만 아니라 대상체(200)의 위치 정보도 함께 측정될 수 있다. 디텍터(24)에 의해 대상체(200)의 표면 형상에 따라 발생하는 간섭성 전자기파 특성을 지닌 스페클 패턴이 측정될 수 있으며, 대상체(200)의 위치에 따라 스페클 패턴의 간섭 무늬가 달라질 수 있다. 즉, 디텍터(24)에 대한 대상체(200)의 위치가 변함에 따라서 서로 다른 스페클 패턴들이 얻어질 수 있다. 본 개시에 따른 스페클을 이용한 인증 장치(20)는 대상체(200)의 스페클 패턴뿐만 아니라 대상체(200)의 위치 정보도 스페클 패턴과 함께 측정할 수 있다. 이에 대해서는 도 3a 및 도 3b를 참조하여 설명하고자 한다.
도 3a는 일 실시예에 따른 스페클을 이용한 인증 장치로 대상체의 위치에 따른 스페클 패턴을 얻는 것을 나타낸 도면이다.
도 2a 및 도 3a를 참조하면, 대상체(200)는 인증 장치(30)로부터 다양한 거리 및 각도를 지니며 위치할 수 있다. 예를 들어 대사체(200)는 제 1위치(P11), 제 2위치(P12) 및 제 3위치(P13)에 각각 존재할 수 있다. 여기서는 대상체(200)의 위치가 광 소스(32) 및 디텍터(34) 사이에 존재하는 것을 예시하다. 그러나, 이는 예시적인 것으로 대상체(200)의 위치는 제 1위치(P11) 내지 제 3위치(P13)에 한정되지 않으며, 광 소스(32)의 좌측 상방에 위치할 수 있으며, 디텍터(34)의 우측 상방에 위치할 수 있다. 대상체(200)가 제 1위치(P11)에 위치하는 경우, 광 소스(32)로부터 조사된 제 1광(L11)으로부터 제 1스페클 패턴(S11)이 디텍터(34)에 의해 측정될 수 있으며, 대상체(200)가 제 2위치(P12)에 위치하는 경우, 광 소스(32)로부터 조사된 제 2광(L12)으로부터 제 2스페클 패턴(S11)이 디텍터(34)에 의해 측정될 수 있다. 그리고, 대상체(200)가 제 3위치(P13)에 위치하는 경우, 광 소스(32)로부터 조사된 제 3광(L13)으로부터 제 3스페클 패턴(S13)이 디텍터(34)에 의해 측정될 수 있다.
제 1위치(P11), 제 2위치(P12) 및 제 3위치(13)는 공간 상에서 서로 다른 위치이며, 인증 장치(30)의 디텍터(34)와의 거리도 서로 다를 수 있다.따라서, 제 1위치(P11), 제 2위치(P12) 및 제 3위치(P13)로부터 얻어지는 스페클 패턴(S11, S12, S13)들은 모두 서로 다른 정보를 지닐 수 있으며, 대상체(200)의 인증 시 각각 서로 다른 결과를 나타낼 수 있다. 따라서, 본 개시에 따른 인증 장치(30)는 대상체(200)를 인증함에 있어, 대상체(200)의 스페클 패턴을 측정하면서 대상체(200)의 위치에 관한 정보도 얻을 수 있다. 이에 대해서는 후술하고자 한다.
도 3b는 일 실시예에 따른 인증 장치와 대상체와의 거리 측정 방법을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2a 및 도 3b를 참조하면, 대상체(200)는 인증 장치(30)와 이격되어 공간 상의 소정의 위치(P)에 위치할 수 있으며, 대상체(200)와 디텍터(34) 사이의 거리를 R이라 한다. 광 소스(32)로부터 대상체(200)의 위치(P)에 대해 광(L)을 조사하면, 대상체(200)로부터 스페클 패턴(S)이 발생되어 디텍터(34)에서 감지 또는 측정을 할 수 있다. 광 소스(32) 및 디텍터(34)를 잇는 선을 기준선으로 설정한다. 광 소스(32)와 디텍터(34) 사이의 거리를 D라 한다. 광 소스(32)와 디텍터(34)를 잇는 기준선을 기준으로 하여 광 소스(32)와 대상체(200)의 위치 사이를 잇는 선 또는 광 소스(32)로부터 대상체(200)의 위치(P)로 조사하는 광(L)이 이루는 각도를 θ라 한다. 그리고, 기준선과 대상체(200)와 디텍터(34)를 잇는 선 또는 스페클 패턴(S)이 디텍터(34)로 입사하는 방향과 디텍터(34)가 이루는 각도를 α라 한다. 대상체(200)의 위치(P)로부터 디텍터(34) 사이의 거리(R)는 하기 수학식 1에 의하여 계산될 수 있다.
Figure pat00001
광 소스(32)와 디텍터(34) 사이의 거리를 D, 기준선과 광 소스(32)로부터 대상체(200)의 위치(P)로 조사하는 광(L)이 이루는 각도 θ 및 대상체(200)의 위치(P)와 디텍터(34)를 잇는 선과 기준선이 이루는 각도 α를 측정하고, 대상체(200)와 디텍터(34) 사이의 거리 R를 구할 수 있으며, 결과적으로 대상체(200)의 위치(P)에 관한 정보를 얻을 수 있다. 대상체(200)의 위치(P)의 위치 정보를 얻기 위하여, 광 소스(32)에 대상체(200)의 스페클 패턴(S)을 얻기 위해 사용되는 광(L)을 그대로 이용할 수 있으며, 선택적으로 광 소스(32)로부터 추가적인 광을 대상체(200)에 조사하여 대상체(200)로부터 반사되는 반사광을 이용할 수 있다.
다시 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 대상체(200)의 지문(210) 부위로부터 발생된 스페클 패턴(S)은 디텍터(24)에 의해 검출 또는 측정될 수 있다. 이렇게 측정된 스페클 패턴(S)은 상술한 바와 같이 대상체(200)의 표면의 형상과 디텍터(24)에 대한 대상체(200)의 위치에 따라 결정되는 간섭 패턴일 수 있다. 디텍터(24)에 의해 측정된 스페클 패턴(S)을 도 1의 저장부(150) 미리 저장된 스페클 패턴과 비교하여 스페클 패턴들 사이의 유사 여부를 확인할 수 있다.
디텍터(24)에 의해 측정된 스페클 패턴(S)과 저장부(150)에 저장된 스페클 패턴과 비교를 하기 위해서는 각 스페클 패턴들의 대상체(200)의 위치 정보가 동일한 것을 전제로 할 수 있다. 디텍터(24)에 의해 측정된 스페클 패턴(S)을 측정 스페클 패턴이라 하고, 저장부(150)에 저장된 스페클 패턴을 저장 스페클 패턴이라고 하면, 측정 스페클 패턴과 저장 스페클 패턴을 비교하는 경우 측정 스페클 패턴의 대상체의 위치 정보와 저장 스페클 패턴의 대상체의 위치 정보가 실질적으로 동일한 경우에만 측정 스페클 패턴 및 저장 스페클 패턴의 유사성 여부를 판단할 수 있다. 측정 스페클 패턴 및 저장 스페클 패턴의 위치 정보를 비교함에 있어서, 대상체(200)와 디텍터(34) 사이의 거리 R과 함께 광 소스(32)와 디텍터(34)를 잇는 기준선과 광 소스(32)와 대상체(200)의 위치(P) 사이를 잇는 선이 이루는 각도 θ 또는 기준선과 대상체(200)와 디텍터(34)를 잇는 선이 이루는 각도 α를 서로 비교할 수 있다. 측정 스페클 패턴과 저장 스페클 패턴의 대상체(200)와 디텍터(34) 사이의 거리 R, 각도 θ 또는 α을 비교하여 실질적으로 동일한 경우 스페클 패턴들의 비교를 할 수 있다. 측정 스페클 패턴과 저장 스페클 패턴의 위치 정보인 거리 R, 각도 θ 및 α 값들을 서로 비교하는 경우, 그 값들이 완전히 동일한 경우 뿐만 아니라 그 값들의 차이가 소정의 편차 범위, 예를 들어 5% 또는 10% 범위 내에 들어가는 경우 실질적으로 동일한 것으로 판단될 수 있다. 측정 스페클 패턴 및 저장 스페클 패턴을 비교하여 실질적으로 동일한 특성을 지닌 스페클 패턴들인 것으로 판단된 경우, 측정 스페클 패턴 및 저장 스페클 패턴은 동일한 대상체(200)로부터 기인한 것으로 인증할 수 있다.
여기서는 스페클 패턴(S)의 위치 정보로서, 대상체(200)와 디텍터(34) 사이의 거리 R과 함께 광 소스(32)와 디텍터(34)를 잇는 기준선과 광 소스(32)와 대상체(200)의 위치(P) 사이를 잇는 선이 이루는 각도 θ 또는 기준선과 대상체(200)와 디텍터(34)를 잇는 선이 이루는 각도 α를 예를 들었지만, 대상체(200)의 위치 정보는 이에 한정되지 않는다. 대상체(200) 인증 기준을 선택적으로 설정할 수 있으며 그 인증 기준에 따라 스페클 패턴들의 비교 시 고려하는 위치 정보의 종류 및 위치 정보들 사이의 차이 값을 조정할 수 있다. 예를 들어 인증 기준을 낮게 설정하는 경우, 측정 스페클 패턴 및 저장 스페클 패턴 비교 시 위치 정보를 대상체(200)와 디텍터(34) 사이의 거리 R만을 사용할 수 있으며, 그 차이 값이 10% 이내인 경우 실질적으로 동일한 위치 정보인 것으로 판단할 수 있다. 그리고, 상대적으로 인증 기준을 높게 설정하는 경우, 측정 스페클 패턴 및 저장 스페클 패턴 비교 시 사용하는 위치 정보를 대상체(200)와 디텍터(34) 사이의 거리 R뿐만아니라 각도 θ 또는 α까지 추가적으로 고려될 수 있으며, 위치 정보들 차이 값이 5% 이내인 경우에만 실질적으로 동일한 위치 정보인 것으로 판단할 수 있다. 여기서 나타낸 위치 정보들의 차이 값은 예시적으로 나타낸 것으로 한정된 것은 아니다. 스페클 패턴 비교 시, 사용되는 위치 정보, 위치 정보 값들을 실질적으로 동이한 것으로 판단하는 편차 범위는 사용자가 선택적으로 조정할 수 있다.
저장부(150)는 측정 스페클 패턴 및 저장 스페클 패턴들의 측정 시간 및 스페클 패턴들의 비교 결과까지 함께 저장할 수 있다. 만일 대상체(200)의 스페클 패턴 정보가 저장부(150)에 미리 저장되지 않은 상태라면 스페클 패턴 비교 과정없이 대상체(200)의 스페클 정보를 저장부(150)에 등록시키는 과정이 진행될 수 있다. 대상체(200)에 대한 스페클 패턴을 도 1에 나타낸 저장부(150)에 미리 저장 또는 등록하는 경우 대상체(200)의 스페클 패턴과 함께, 위치 정보로서 대상체(200)와 디텍터(34) 사이의 거리 R, 광 소스(32)와 디텍터(34)를 서로 잇는 기준선과 광 소스(32)와 대상체(200)의 위치(P) 사이를 잇는 선이 이루는 각도 θ 또는 기준선과 대상체(200)와 디텍터(34)를 잇는 선이 이루는 각도 α도 저장부((150)에 등록될 수 있다.
일반적인 인증 방식으로 사용되는 지문 인증 방식의 경우 개인별로 고유한 지문 패턴이 인증 시스템의 저장 장치 내에 등록되므로 개인 정보 유출 우려가 있어 거부감이 있을 수 있다. 그러나, 본 개시와 같이 스페클을 이용한 인증 방식을 이용하는 경우 지문 패턴이 그대로 저장되지 않고, 지문과 디텍터 사이의 거리 또는 각도 등의 위치 정보에 따라 다양한 간섭 무늬를 지닌 스페클 패턴이 저장되기 때문에 지문 인증 방식에 비해 거부감이 상대적으로 적을 수 있다.
도 4 내지 도 7은 다른 실시예에 따른 스페클을 이용한 인증 장치를 나타낸 도면이다.
도 4는 광 소스(42)로부터 대상체(200)에 조사하는 광(L2)의 각도를 변경하면서 디텍터(44)에 의해 스페클 신호를 검출하는 예를 나타낸다.
도 4를 참조하면, 스페클을 이용한 인증 장치(40)는 대상체(200)에 광(L2)을 조사하는 광 소스(42) 및 대상체(200)로부터 발생되는 스페클 패턴(S2)을 감지하거나 측정할 수 있는 디텍터(24)를 포함할 수 있다. 광 소스(42)의 발광 방향은 θ2의 각도만큼 조절되면서 광(L2)을 대상체(200)에 대해 조사될 수 있다. 광 소스(42)는 광의 폭이 좁은 레이저를 방출할 수 있는 레이저 다이오드가 선택될 수 있으며, 광 소스(42)는 방출되는 광의 조사 각도를 조절할 수 있도록 각도 조절부를 포함할 수 있다. 광 소스(42)로부터 대상체(200)에 조사되는 광(L2)의 각도를 변경함으로써 다양한 각도에 따른 대상체(200)의 스페클 패턴(S2)을 얻을 수 있다. 대상체(200)와 디텍터(44) 사이의 거리가 동일한 경우에도 다양한 스페클 패턴을 나타낼 수 있으며 대상체(200)에 대한 인증 시 그 신뢰도를 향상시킬 수 있다.
도 5는 광 소스(52) 또는 디텍터(54)를 적어도 두 개 이상으로 형성한 인증 장치(50)의 예를 나타낸 도면이다.
도 5를 참조하면, 인증 장치(50)는 대상체(200)에 광(L31, L32)을 조사하는 복수개의 광 소스(52a, 52b)를 포함할 수 있으며, 또한 대상체(200)로부터 발생되는 스페클 패턴(S31, S32)들을 검출 또는 측정할 수 있는 복수개의 디텍터(54a, 54b)를 포함할 수 있다. 제 1광소스(52a)는 대상체(200)에 대해 제 1광(L31)을 조사할 수 있으며, 대상체(200)로부터 발생되는 제 1스페클 패턴(S31)은 제 1디텍터(54a)에서 측정할 수 있다. 그리고, 제 2광소스(52b)는 대상체(200)에 대해 제 2광(L32)을 조사할 수 있으며, 대상체(200)로부터 발생되는 제 2스페클 패턴(S32)은 제 2디텍터(54b)에서 측정할 수 있다. 본 개시는 이에 한정되지 않으며, 광 소스(52)는 두 개 이상으로 형성할 수 있으며, 디텍터(54)도 두 개 이상으로 형성될 수 있다. 또한, 하나의 광 소스(52)를 형성하고 디텍터(54)를 두 개 이상으로 형성할 수 있으며, 광 소스(52)는 두 개 이상으로 형성하며, 하나의 디텍터(54)를 형성할 수 있다.
제 1광소스(52a) 및 제 2광소스(52b)는 동시에 대상체(200)에 대해 광(L31, L32)을 조사할 수 있으며, 이 경우 제 1디텍터(54a) 및 제 2디텍터(54b)에서 동시에 제 1스페클 패턴(S31) 및 제 2스페클 패턴(S32)을 측정할 수 있다. 또한, 제 1광소스(52a) 및 제 2광소스(52b)는 순차적으로 대상체(200)에 대해 광(L31, L32)을 조사할 수 있으며, 제 1디텍터(54a) 및 제 2디텍터(54b)에서 순차적으로 제 1스페클 패턴(S31) 및 제 2스페클 패턴(S32)을 각각 측정할 수 있다.
광 소스(52)는 대상체(200)에 따라서 그 파장 범위 등을 선택적으로 조절하여 선택될 수 있으며, 광 소스(52)를 다수개로 형성하는 경우 서로 다른 발광 파장들을 지닌 광 소스들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1광 소스(52a)는 청색 레이저를 발광하는 소자이며, 제 2광 소스(52b)는 적색 레이저를 발광하는 소자일 수 있다. 디텍터(54)를 두 개 이상으로 형성하는 경우, 디텍터(54)들이 측정하는 스페클 신호는 서로 다른 것일 수 있으며, 제 1디텍터(54a) 및 제 2디텍터(54b)들이 측정한 스페클 패턴들은 다양한 형태를 지닐 수 있다.
도 6은 디텍터(64) 상에 렌즈(66)를 형성한 인증 장치(60)의 예를 나타낸 도면이다.
도 6을 참조하면, 인증 장치(60)는 대상체(200)에 광(L4)을 조사하는 광 소스(62)와 대상체(200)로부터 발생되는 스페클 패턴(S4)을 검출 또는 측정할 수 있는 디텍터(64)를 포함할 수 있다. 그리고, 스페클 패턴(S4)을 검출하는 디텍터(64)의 표면 상에는 렌즈(66)가 마련될 수 있다. 광 소스(62)로부터 대상체(200)에 광(L4)이 조사되면, 대상체(200)로부터 스페클 패턴(S4)이 발생될 수 있으며, 스페클 패턴(S4)은 디텍터(64) 상에 형성된 렌즈(66)를 통하여 포커싱(focusing)되어 디텍터(64)에 의하여 검출 또는 측정될 수 있다. 디텍터(64) 상에 렌즈(66)를 형성함으로써 스페클 패턴의 보다 정확한 측정이 가능하다.
도 7은 대상체(200)의 거치대(76)를 포함하는 인증 장치(70)의 예를 나타낸 도면이다.
도 7을 참조하면, 본 개시에 따른 스페클을 이용한 인증 장치(70)는 대상체(200)에 광을 조사하는 광 소스(72)와 대상체(200)로부터 발생되는 스페클 패턴을 검출 또는 측정할 수 있는 디텍터(74)를 포함할 수 있다. 그리고, 인증 장치(70) 상에는 대상체(200)가 안착될 수 있는 거치대(76)가 형성될 수 있다. 거치대(76)는 높이 조절부(76a) 및 안착부(76b)를 포함할 수 있다. 높이 조절부(76a)는 광 소스(72) 또는 디텍터(74)로부터 또는 인증 장치(70)의 표면으로부터 대상체(200)가 안착되는 안착부(76b)의 높이를 조절할 수 있는 것으로, 각 높이에 따른 대상체(200)의 적어도 일 영역, 즉 지문(210) 영역과 디텍터(74) 사이의 거리는 미리 정해져 있거나 계산되어진 상태일 수 있다.
안착부(76b)는 대상체(200)가 그 상부 또는 측부 표면에 부착될 수 있으며, 대상체(200)의 지문(210)은 인증 장치(70)의 광 소스(72) 및 디텍터(74)와 대향될 수 있도록 형성될 수 있다. 안착부(76b)에는 대상체(200)의 일 영역, 예를 들어 지문(210) 부위를 하방의 광 소스(72) 및 디텍터(74)에 노출시킬 수 있도록 홀이 형성될 수 있으며, 대상체(200)의 지문(210) 부위를 안착부(76b)의 홀 영역에 부착시킬 수 있다. 또한, 안착부(76b)를 바(bar) 형태로 형성하여, 대상체(200)의 인증을 위한 스페클 패턴 측정 시, 대상체(200)를 안착부(76b) 측부에 접촉시킨 상태로 대상체(200)의 인증을 위한 스페클 패턴을 측정할 수 있다. 거치대는 인증 장치(70) 표면 상에 고정되도록 형성될 수 있으며, 선택적으로 인증 장치(70)에 탈착 가능하도록 형성될 수 있다.
본 개시에 따른 스페클 패턴을 이용한 인증 장치, 인증 장치를 포함하는 인증 시스템 및 인증 방법은 다양한 기기, 제품 및 시설 등에 채용될 수 있다. 예를 들어, 신체에 착용되는 웨이러블 디바이스(wearable device), 휴대폰, 테블릿 등을 비롯한 모바일 기기, 스마트 카드(smart card), 저장 장치(storage), RFID(radio-frequency identification) 장치, 홈 네트워크 시스템(home networking system), 출입문, 금전출납기, 등에도 본 개시에 따른 인증 장치, 인증 시스템 및 인증 방법이 적용될 수 있다. 본 개시에 따른 인증 장치 등은 상기 예시된 장치들 외에 다양한 분야에서 적용될 수 있다.
도 8은 본 개시에 따른 스페클을 이용한 인증 장치 및 인증 시스템을 포함하는 웨어러블 디바이스(wearable device)를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 8을 참조하면, 웨어러블 디바이스(80)는 대상체(200)에 레이저 광(L)을 조사할 수 있는 광 소스(22)와 대상체(200)로부터 발생되는 스페클 패턴을 검출 또는 측정하는 디텍터(24)를 포함할 수 있다. 디텍터(24)는 대상체(200)의 스페클 패턴 뿐만 아니라, 디텍터(24)로부터 대상체(200)의 거리 정보도 얻을 수 있다. 웨어러블 디바이스(80) 내에는 도 1에 나타낸 본 개시에 따른 인증 시스템의 제어부, 저장부가 포함될 수 있다. 디텍터(24)를 통하여 측정된 대상체(200)의 스페클 패턴 및 디텍터(24)로부터 대상체(200)의 거리 정보를 저장부에 저장된 대상체(200)의 스페클 패턴과 비교할 수 있다. 대상체(200)로부터 측정된 스페클 패턴과 웨어러블 디바이스(80)에 저장된 스페클 패턴을 서로 비교하여 그 결과 값을 디스플레이(82)에 나타낼 수 있으며, 인증 여부에 대한 정보를 사용자에게 시각, 청각 또는 촉각으로 제공할 수 있다.
상기한 설명에서 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나, 그들은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다, 구체적인 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 예들 들어, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 본 개시에 따른 실시예를 다양하게 변화될 수 있음을 알 수 있을 것이다. 본 개시에 따른 스페클을 이용한 인증 장치, 인증 시스템 및 인증 방법은 다양한 기기, 장치 또는 제품들에도 적용될 수 있음을 알 수 있을 것이다. 때문에 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 의하여 정하여 질 것이 아니고 특허 청구범위에 기재된 기술적 사상에 의해 정하여져야 한다.
10, 20, 30, 40, 50, 60, 70: 인증 장치,
100: 인증 시스템
22, 32, 42, 52, 62, 72, 82, 110: 광 소스,
24, 34, 44, 54, 64, 74, 84, 120: 디텍터
66: 렌즈, 80: 웨어러블 디바이스
130: 제어부, 82, 140: 디스플레이부
150: 저장부, 200: 대상체,
L, L11, L12, L13, L2, L31, L32, L4: 광
S, S11, S12, S13, S2, S31, S32, S4: 스페클 패턴

Claims (20)

  1. 인증 장치에 있어서,
    대상체에 광을 조사하는 광 소스; 및 상기 광 소스로부터 이격되어 형성된 디텍터;를 포함하며,
    상기 디텍터는 상기 광 소스로부터 조사된 광에 의하여 상기 대상체로부터 발생되는 스페클 정보 및 상기 대상체의 위치 정보를 측정하는 스페클을 이용한 인증 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 광 소스로부터 상기 대상체에 조사되는 광의 조사 각도가 조절되는 스페클을 이용한 인증 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 광 소스는 다수의 광 소스들을 포함하는 스페클을 이용한 인증 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 광 소스는 상기 대상체에 각각 서로 다른 파장을 지닌 광을 각각 조사하는 제 1광소스 및 제 2광소스를 포함하는 스페클을 이용한 인증 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 디텍터는 다수의 디텍터들을 포함하는 스페클을 이용한 인증 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 광 소스는 제 1광소스 및 제 2광 소스를 포함하고, 상기 디텍터는 제 1디텍터 및 제 2디텍터를 포함하며,
    상기 제 1디텍터는 제 1광소스로부터 조사되는 광에 의해 상기 대상체에서 발생되는 제 1스페클 패턴을 측정하며, 상기 제 2디텍터는 제 2광소스로부터 조사되는 광에 의해 상기 대상체에서 발생되는 제 2스페클 패턴을 측정하는 스페클을 이용한 인증 장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 디텍터 상에 형성된 렌즈;를 더 포함하는 스페클을 이용한 인증 장치.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 대상체가 안착될 수 있는 거치대;를 더 포함하는 스페클을 이용한 인증 장치.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 거치대는 상기 광 소스 또는 상기 디텍터로부터의 이격을 조절할 수 있는 높이 조절부; 및
    상기 대상체가 위치하는 안착부;를 포함하는 스페클을 이용한 인증 장치.
  10. 제 8항에 있어서,
    상기 거치대는 상기 인증 장치로부터 탈착 가능한 스페클을 이용한 인증 장치.
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 광원은 간섭성 광(coherent wave)을 조사하는 스페클을 이용한 인증 장치.
  12. 제 1항에 있어서,
    상기 디텍터는 포토 다이오드(phorodiode), CCD(Charge Coupled Device) 또는 CIS(CMOS Image Sensor)를 포함하는 스페클을 이용한 인증 장치.
  13. 제 1항의 인증 장치를 포함하는 스페클을 이용한 인증 시스템.
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 광 소스 및 상기 디텍터를 제어하는 제어부; 및
    상기 디텍터에 의해 측정된 스페클 패턴을 기억하거나, 측정된 스페클 패턴과 이전에 얻어진 스페클 패턴의 비교 결과 값을 저장할 수 있는 저장부;를 포함하는 스페클을 이용한 인증 시스템.
  15. 제 14항에 있어서,
    상기 디텍터에 의해 측정된 스페클 패턴을 시각적으로 나타내거나, 측정된 스페클 패턴과 이전에 얻어진 스페클 패턴을 비교한 결과를 출력할 수 있는 디스플레이부;를 더 포함하는 스페클을 이용한 인증 시스템.
  16. 인증 방법에 있어서,
    광 소스로부터 대상체에 광을 조사하여 상기 대상체로부터 발생되는 스페클 패턴 및 상기 대상체의 위치 정보를 디텍터에 의해 측정하고,
    상기 디텍터에 의해 측정된 스페클 패턴 및 상기 대상체의 위치 정보를 저장된 스페클 패턴과 비교하는 스페클을 이용한 인증 방법.
  17. 제 16항에 있어서,
    상기 대상체의 위치 정보는 상기 대상체에 조사된 광에 의해 상기 대상체로부터 발생되는 스페클 패턴에 의해 측정되는 스페클을 이용한 인증 방법.
  18. 제 16항에 있어서,
    상기 디텍터에 의해 측정된 스페클 패턴의 위치 정보와 상기 저장된 스페클 패턴의 위치 정보가 실질적으로 동일한 경우 상기 측정된 스페클 패턴 및 상기 저장된 스페클 패턴을 비교하는 스페클을 이용한 인증 방법.
  19. 제 16항에 있어서,
    상기 광 소스의 조사 각도를 변경하면서 상기 대상체에 광을 조사하는 스페클을 이용한 인증 방법.
  20. 제 16항에 있어서,
    상기 광 소스는 제 1광소스 및 제 2광 소스를 포함하고, 상기 디텍터는 제 1디텍터 및 제 2디텍터를 포함하며,
    상기 제 1디텍터는 제 1광소스로부터 조사되는 광에 의해 상기 대상체에서 발생되는 제 1스페클 패턴을 측정하며, 상기 제 2디텍터는 제 2광소스로부터 조사되는 광에 의해 상기 대상체에서 발생되는 제 2스페클 패턴을 측정하는 스페클을 이용한 인증 방법.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102299361B1 (ko) * 2014-09-03 2021-09-07 삼성전자주식회사 혈압을 모니터링하는 장치 및 방법, 혈압 모니터링 기능을 갖는 웨어러블 디바이스
KR102411658B1 (ko) 2015-01-15 2022-06-21 삼성전자주식회사 생체 정보 검출 장치
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KR102434701B1 (ko) 2015-09-01 2022-08-22 삼성전자주식회사 생체 정보 획득 장치 및 생체 정보 획득 방법과 생체 정보 검사 장치
US10311219B2 (en) * 2016-06-07 2019-06-04 Vocalzoom Systems Ltd. Device, system, and method of user authentication utilizing an optical microphone
KR102560710B1 (ko) * 2016-08-24 2023-07-27 삼성전자주식회사 광학적 스펙클을 이용하는 장치 및 방법
KR102655671B1 (ko) 2016-10-12 2024-04-05 삼성전자주식회사 생체정보 추정 장치 및 방법
EP3662406B1 (en) * 2017-08-01 2023-11-22 Apple Inc. Determining sparse versus dense pattern illumination
CN109446937B (zh) * 2018-10-12 2022-03-01 贵州民族大学 屏下指纹识别仪
CN111710000B (zh) * 2020-05-25 2023-09-05 合肥的卢深视科技有限公司 一种相机行偏差自检方法及系统

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006318485A (ja) * 2006-05-25 2006-11-24 Ntt Electornics Corp 指紋データ生成装置、プログラム
US8660324B2 (en) * 2010-03-29 2014-02-25 Raytheon Company Textured pattern sensing using partial-coherence speckle interferometry

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3668633A (en) * 1970-01-29 1972-06-06 Dactylog Co Orientation and linear scan device for use in an apparatus for individual recognition
US6744909B1 (en) * 1999-08-19 2004-06-01 Physical Optics Corporation Authentication system and method
US7351374B2 (en) 2000-10-17 2008-04-01 President And Fellows Of Harvard College Surface plasmon enhanced illumination apparatus having non-periodic resonance configurations
JP3617476B2 (ja) * 2001-07-19 2005-02-02 株式会社日立製作所 指認証装置
KR100607579B1 (ko) 2004-11-05 2006-08-02 (주)니트 젠 레이저를 이용한 모조지문 판별방법 및 장치
CN101116087B (zh) 2005-02-08 2011-08-31 皇家飞利浦电子股份有限公司 光散斑样式勘查
US7817256B2 (en) * 2006-02-22 2010-10-19 Kyushu Institute Of Technology Personal authentication method and personal authentication device utilizing finger-tip blood flow measurement by laser light
JP2008020942A (ja) 2006-07-10 2008-01-31 Rohm Co Ltd 個人識別装置及びこれを用いた電子機器
JP4833115B2 (ja) 2007-03-02 2011-12-07 Ｋｄｄｉ株式会社 掌紋認証装置、携帯電話端末、プログラム、および掌紋認証方法
US8600120B2 (en) 2008-01-03 2013-12-03 Apple Inc. Personal computing device control using face detection and recognition
JP5340262B2 (ja) 2008-04-03 2013-11-13 国立大学法人九州工業大学 皮下血流測定を利用した個人認証方法及び個人認証装置
KR100993139B1 (ko) 2008-10-27 2010-11-09 서울대학교산학협력단 생체인식장치
US7898283B1 (en) 2009-08-31 2011-03-01 Farinaz Koushanfar Lightweight secure physically unclonable functions
US9557846B2 (en) * 2012-10-04 2017-01-31 Corning Incorporated Pressure-sensing touch system utilizing optical and capacitive systems
US9582117B2 (en) * 2014-04-28 2017-02-28 Qualcomm Incorporated Pressure, rotation and stylus functionality for interactive display screens
US10116868B2 (en) * 2014-04-28 2018-10-30 Qualcomm Incorporated Display-integrated user-classification, security and fingerprint system

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006318485A (ja) * 2006-05-25 2006-11-24 Ntt Electornics Corp 指紋データ生成装置、プログラム
US8660324B2 (en) * 2010-03-29 2014-02-25 Raytheon Company Textured pattern sensing using partial-coherence speckle interferometry

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