KR20160014391A - Rotating contact support of substrate spinning apparatus - Google Patents

Rotating contact support of substrate spinning apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR20160014391A
KR20160014391A KR1020140096563A KR20140096563A KR20160014391A KR 20160014391 A KR20160014391 A KR 20160014391A KR 1020140096563 A KR1020140096563 A KR 1020140096563A KR 20140096563 A KR20140096563 A KR 20140096563A KR 20160014391 A KR20160014391 A KR 20160014391A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
support
support body
contact
edge
Prior art date
Application number
KR1020140096563A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101624843B1 (en
Inventor
조문기
서강국
이승환
권영규
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Priority to KR1020140096563A priority Critical patent/KR101624843B1/en
Priority to CN201520277193.5U priority patent/CN204706549U/en
Publication of KR20160014391A publication Critical patent/KR20160014391A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101624843B1 publication Critical patent/KR101624843B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/6875—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a plurality of individual support members, e.g. support posts or protrusions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Spinning Or Twisting Of Yarns (AREA)

Abstract

The present invention relates to a contact support body of a substrate spinning apparatus, comprising: an inner support body arranged on an upper side of a rotary shaft extended vertically and rotating, and in which a penetration hole, where a fastening screw penetrates, is formed in a center portion and couples to the rotary shaft integrally by a fastening screw and is made of one or more materials between plastic and resin; and an outer support body which is formed to surround an outer circumferential perimeter of the inner support body, is formed of a flexible material having a low hardness compared to the inner support body, and has a groove for receiving an edge of a substrate formed on a circumferential surface thereon and a downward inclined surface formed at a lower side of the groove. Therefore, a contact support body of a substrate spinning apparatus to enable the substrate to rotate without slipping and the contact support body in which the substrate is rotated are provided by maintaining a high frictional characteristic with edges of the substrate.

Description

기판 스피닝 장치의 접촉 지지체 및 이를 구비한 기판 스피닝 장치{ROTATING CONTACT SUPPORT OF SUBSTRATE SPINNING APPARATUS}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a contact support of a substrate spinning apparatus,

본 발명은 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체 및 이를 구비한 기판 스피닝 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 기판을 스핀 회전하면서 세정하는 데 있어서 기판 접촉부와 기판의 미끄럼에 의하여 기판을 원활히 회전시키지 못하는 문제점을 해결하는 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체에 관한 것이다.
The present invention relates to a contact support of a substrate spinning apparatus and a substrate spinning apparatus having the same, and more particularly, to solve the problem that a substrate can not be smoothly rotated by sliding a substrate contact portion and a substrate in cleaning the substrate while spin- To a contact support of a substrate spinning apparatus.

웨이퍼 등의 기판에 증착 공정, 사진 공정, 식각 공정 등의 많은 공정을 통해 반도체 소자가 제조된다. 그리고, 상기 공정을 행한 이후에는 기판 상에 잔류하는 불필요한 박막, 입자 등의 이물질을 제거하는 세정 공정이 수행된다.A semiconductor device is manufactured on a substrate such as a wafer through a number of processes including a deposition process, a photolithography process, and an etching process. After the above-described process, a cleaning process for removing foreign substances such as unnecessary thin film and particles remaining on the substrate is performed.

특히, 화학 기계적 연마 공정을 마친 기판은 표면에 많은 이물질이 잔류하므로 이물질을 제거하기 위하여 여러 단계의 세정 공정이 행해진다. 이 가운데 하나의 공정으로 도1 내지 도5에 도시된 바와 같이 기판 스피닝 장치(1)에 기판(W)을 거치시킨 상태로 수평 회전시키면서, 기판(W)의 표면에 세정액, 약액 등을 공급하면서 기판(W)의 표면에 잔류하는 이물질을 제거한다. In particular, since the substrate subjected to the chemical mechanical polishing process has many foreign substances on the surface thereof, various stages of cleaning process are performed in order to remove foreign substances. 1 to 5, a cleaning liquid, a chemical liquid, or the like is supplied to the surface of the substrate W while horizontally rotating the substrate W in a state where the substrate W is placed on the substrate spinning apparatus 1 Foreign substances remaining on the surface of the substrate W are removed.

여기서, 기판 스피닝 장치(1)는 원형 형상의 기판(W)의 가장자리 끝단을 구동 접촉 지지체(111)에 접촉한 상태로, 구동 접촉 지지체(111)가 회전(110d) 구동됨에 따라 구동 접촉 지지체(111)에 가장자리 끝단이 접촉하고 있는 기판(W)이 수평 상태로 회전 구동된다. 도2에 도시된 바와 같이 기판 스피닝 장치(1)에는 기판(W)을 회전 구동하는 구동 접촉 지지체(111)가 3개 이상 배치되며, 회전 구동되는 기판(W)의 회전수를 감지하는 감지 접촉 지지체(121)가 1개 배치되어, 기판(W)을 회전 구동하면서 기판(W)의 회전수를 감지하여 기판(W)의 세정 상태를 간접적으로 산출하여 세정 종료 시점을 정한다.Herein, the substrate spinning apparatus 1 is configured such that the driving contact support 111 is rotated (110d) while the edge of the circular substrate W is in contact with the driving contact support 111, 111 is in contact with the edge of the substrate W is rotationally driven in a horizontal state. 2, the substrate spinning apparatus 1 is provided with three or more drive contact supports 111 for rotationally driving the substrate W, and a sensing contact (not shown) for sensing the rotational speed of the substrate W to be rotationally driven One support 121 is disposed to indirectly calculate the cleaning state of the substrate W by sensing the rotation number of the substrate W while rotationally driving the substrate W to determine the cleaning end point.

구동 접촉 지지체(111)와 감지 접촉 지지체(121)는 연직 방향으로 연장된 회전축(114, 124))의 상단부에 고정되며, 구동 접촉 지지체(111)가 결합된 회전축(114)은 구동 모터(115)에 의하여 회전 구동된다.The driving contact support 111 and the sensing contact support 121 are fixed to the upper ends of the vertically extending rotary shafts 114 and 124. The rotary shaft 114 to which the driving contact support 111 is coupled is fixed to the driving motor 115 .

도1에 도시된 바와 같이 한 쌍씩의 회전축(114, 124)은 이동부(10)에 각각 고정되어, 이동부(10)가 이동(20d')하는 것에 의하여 2개씩의 회전축이 서로 가까워져 접촉 지지체(111, 121)의 사이에 기판(W)의 가장자리가 접촉 지지체(111, 121)의 외주면(111x, 121x)에 접촉한 상태로 위치시키게 된다. 그리고, 구동 모터(115)의 회전에 의하여 기판(W)도 회전 구동된다.
As shown in FIG. 1, the pair of rotary shafts 114 and 124 are respectively fixed to the moving unit 10, and the two rotary shafts are brought close to each other as the moving unit 10 moves (20d '), The edge of the substrate W is positioned between the outer circumferential surfaces 111 and 121 in contact with the outer circumferential surfaces 111x and 121x of the contact supporting bodies 111 and 121. Then, the substrate W is rotationally driven by the rotation of the driving motor 115.

상기와 같이 구성된 종래의 기판 스피닝 장치(1)는 도4 및 도5에 도시된 바와 같이 회전축(114)의 상단부에 접촉 지지체(111, 121)를 체결 볼트(119)를 이용하여 고정시키는 데, 기판(W)의 가장자리와의 마찰을 확보하기 위하여 접촉 지지체(111, 121)를 우레탄 등의 재질로 형성한다. 그러나, 우레탄 등의 재질로 이루어진 접촉 지지체(111, 121)는 회전축(114, 124)에 예정된 자세로 조립하는 것이 매우 곤란할 뿐만 아니라, 정확한 자세로 접촉 지지체(111, 121)가 회전축(114, 124) 상단부에 결합되더라도, 장시간 사용에 의하여 쉽게 변형된다. 따라서, 접촉 지지체(111, 121)는 회전축(114, 124)으로부터 연장되는 연직 가상선(55)에 비하여 도면부호 89로 표시된 각도만큼 틀어진 상태로 틀어지게 되어, 접촉 지지체(111, 121)와 기판 가장자리의 접촉부(111a)에서의 접촉 상태가 일정하지 않게 되는 문제가 생기며, 이에 따라 도면부호 88로 표시된 각도만큼 기판(W)이 수평 자세로 유지되지 않아 상하 방향(88')으로 요동이 발생되는 문제점이 있었다. 4 and 5, the conventional substrate spinning apparatus 1 configured as described above fixes the contact supports 111 and 121 at the upper end of the rotary shaft 114 using the fastening bolts 119, The contact supports 111 and 121 are formed of urethane or the like in order to secure friction with the edge of the substrate W. However, it is very difficult to assemble the contact supporting bodies 111, 121 made of urethane or the like in a predetermined posture to the rotating shafts 114, 124, ), It is easily deformed by use for a long time. Therefore, the contact supports 111 and 121 are twisted by an angle indicated by reference numeral 89 with respect to the vertical imaginary line 55 extending from the rotation axes 114 and 124 so that the contact supports 111 and 121, There is a problem in that the contact state at the contact portion 111a of the edge becomes uneven. Accordingly, the substrate W is not held in the horizontal posture by the angle indicated by the reference numeral 88, and the vertical motion 88 ' There was a problem.

한편, 이와 같은 문제점을 해소하기 위하여 접촉 지지체(111, 121)의 경도를 보다 높게 조정할 경우에는, 기판 가장자리와 접촉 지지체(111, 121)와의 마찰이 충분히 확보되지 않아, 접촉 지지체(111, 121)의 회전과 기판(W)의 회전이 서로 차이가 커지는 문제가 야기된다. 특히, 기판 스피닝 장치(1)에 의하여 기판(W)이 수평 회전하는 동안에, 스폰지 등의 브러쉬를 회전시키면서 브러쉬에 의해 기판(W)의 표면을 접촉 방식으로 세정할 경우에, 기판(W)의 수평 회전이 원활히 이루어지지 않는 경우에는, 기판(W)의 세정 효율이 매우 저하되는 심각한 문제가 있었다.
When the hardness of the contact supports 111 and 121 is adjusted to a high degree in order to solve such a problem, friction between the substrate edges and the contact supports 111 and 121 is insufficient, The rotation of the substrate W and the rotation of the substrate W become large. Particularly, when the surface of the substrate W is cleaned by the brush while rotating the brush such as a sponge while the substrate W is horizontally rotated by the substrate spinning apparatus 1, There is a serious problem that the cleaning efficiency of the substrate W is extremely lowered when the horizontal rotation is not smoothly performed.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기판의 가장자리와 높은 마찰 특성을 유지하는 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a contact support for a substrate spinning apparatus which maintains high friction characteristics with the edge of a substrate.

이에 따라, 본 발명은 기판이 회전 구동되는 접촉 지지체와 미끄럼없이 정확하게 힘이 전달되어, 브러쉬에 의한 접촉 방식의 세정이 행해지더라도, 원형 기판이 예정된 회전 속도로 정확하게 회전 구동되도록 하는 것을 목적으로 한다. Accordingly, it is an object of the present invention to ensure that the circular substrate is accurately rotated at a predetermined rotational speed even if a force is accurately transmitted to the contact supporting body on which the substrate is rotationally driven and the contact type cleaning by the brush is performed.

그리고, 본 발명은 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체를 조립하는 공정이 보다 용이해지고 작업자의 숙련도에 무관하게 일정한 품질의 접촉 지지체를 생산할 수 있게 하는 구조를 제공하는 것을 목적으로 한다.
It is another object of the present invention to provide a structure for manufacturing a contact support of a substrate spinning apparatus that is easier to assemble and capable of producing a constant quality contact support irrespective of the skill of the operator.

상술한 바와 같은 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은, 원형 디스크 형상의 기판을 수평 회전시키는 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체로서, 연직 방향으로 뻗어 회전 구동되는 회전축의 상측에 배치되고, 중앙부에 체결 나사가 관통하는 관통공이 형성되어 체결 나사에 의해 상기 회전축과 일체로 결합되며, 플라스틱과 수지 중 어느 하나 이상의 재료로 형성된 내측 지지체와; 상기 내측 지지체의 원주 바깥 둘레를 감싸면서 형성되고, 상기 내측 지지체에 비하여 경도가 낮은 가요성 재질로 형성되며, 상기 기판의 가장자리를 수용하는 요홈이 원주면에 형성되고, 상기 요홈의 하측에는 하방 경사면이 형성된 외측 지지체를; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate support for a substrate spinning apparatus for horizontally rotating a substrate having a circular disc shape, the substrate support apparatus comprising: a support shaft extending in a vertical direction, An inner support formed integrally with the rotary shaft by a fastening screw and formed of at least one of plastic and resin; A groove formed on a circumferential surface of the inner support for receiving an edge of the substrate and formed of a flexible material having a hardness lower than that of the inner support and surrounding the outer circumference of the inner support, An outer support formed with the support; And a contact support for the substrate spinning apparatus.

이는, 기판 가장자리와 접촉하는 외측 지지체는 마찰이 높은 가요성 재질로 이루어지고, 회전축과 결합하는 내측 지지체는 플라스틱이나 수지 등으로 경도 및 강도가 높은 단단한 재질로 이루어짐에 따라, 내측 지지체에 의하여 회전축에 대하여 정확한 자세로 조립하여 장시간 동안 사용하더라도 그 자세가 틀어지지 않게 되면서도, 외측 지지체에 의하여 기판의 가장자리와 높은 마찰 상태를 유지하면서 접촉하여 기판의 가장자리의 슬립(slip) 현상을 최소화하면서 확실하게 기판을 수평 회전시킬 수 있도록 하기 위함이다. This is because the outer support contacting the edge of the substrate is made of a highly flexible material and the inner support coupled to the rotary shaft is made of a hard material having high hardness and strength such as plastic or resin, The posture of the substrate is not changed even if it is used for a long period of time and the substrate is held in contact with the edge of the substrate while maintaining a high friction state with the edge of the substrate by using the outer support to minimize the slip of the edge of the substrate, So that it can be horizontally rotated.

이 때, 외측 지지체에는 기판 가장자리를 수용하는 요홈이 링 형태로 형성되어, 기판의 가장자리가 항상 요홈에 수용된 상태로 회전 구동됨으로써, 수평 회전하는 기판의 자세를 일정하게 유지할 수 있게 한다. 그리고, 요홈의 하측(회전축을 향하는 방향)에는 하방 경사면이 형성되어, 기판이 기판 스피닝 장치로 공급되어 회전축이 서로 가까워지면서 기판을 요홈에 자리잡게 하는 과정에서, 기판 가장자리가 하방 경사면을 타고 올라가면서 기판을 요홈에 신뢰성있게 안착시킬 수 있게 한다.
At this time, a groove for receiving the edge of the substrate is formed in a ring shape on the outer support so that the edge of the substrate is always rotated in a state of being accommodated in the groove, thereby keeping the posture of the substrate rotating horizontally constant. In the process of positioning the substrate in the groove with the rotation axis being brought close to each other as the substrate is supplied to the substrate spinning apparatus, the substrate edge rises up the downward inclined surface So that the substrate can be reliably placed in the groove.

무엇보다도, 본 발명은, 상기 외측 지지체와 상기 내측 지지체가 서로 맞닿는 면 중 상기 요홈의 내측에 위치하는 부분에 상기 외측 지지체와 상기 내측 지지체 중 어느 하나 이상에 요입부가 형성되어, 상기 내측 지지체와 상기 외측 지지체의 사이에 공간부가 마련된다. Above all, the present invention is characterized in that a recessed portion is formed in at least one of the outer supporter and the inner supporter at a portion of the inner abutment of the outer supporter and the inner supporter which are in contact with each other, A space is provided between the outer supports.

이를 통해, 기판을 수평 회전시키는 과정에서 기판 가장자리가 외측 지지체의 요홈의 내부로 밀어내는 힘이 작용하게 되면, 기판 가장자리의 미는 힘에 따라 요홈 주변의 외측 지지체가 공간부 내부 공간으로 침투하는 형태로 국부적으로 변형하면서 기판 가장자리에 의해 눌리는 힘을 완충시키고 동시에 기판 기판 가장자리를 보다 안정되게 수용할 수 있게 된다. 동시에 외측 지지체가 변형으로부터 원래의 형상으로 복귀하려는 탄성 복원력에 의하여 기판 가장자리를 누르는 힘이 작용함에 따라 외측 지지체와 기판과의 마찰 접촉 상태를 보다 확실하게 유지할 수 있다. 따라서, 기판의 수평 회전 시에 기판 가장자리와 접촉 지지체 사이에서 발생되는 슬립 현상을 억제할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다. As a result, when the substrate edge is pushed to the inside of the groove of the outer support during the horizontal rotation of the substrate, the outer support around the groove penetrates into the inner space of the space according to the pressing force of the edge of the substrate It becomes possible to buffer the pressing force by the substrate edge while locally deforming and at the same time to more stably accommodate the substrate substrate edge. At the same time, the pressing force of the outer edge of the substrate against the edge of the outer support due to the elastic restoring force for returning to the original shape from the deformation acts to more reliably maintain the frictional contact state between the outer support and the substrate. Therefore, it is possible to obtain an advantageous effect that the slip phenomenon occurring between the substrate edge and the contact support during the horizontal rotation of the substrate can be suppressed.

부수적으로, 내측 지지체의 외면과 외측 지지체의 내면이 끼워져 결합될 때에 그 사이에 접착제를 도포하여 접착력에 의해서도 결합력을 향상시킬 수 있는데, 요홈의 내측에서 내측 지지체와 외측 지지체의 사이에 마련된 공간부에 도포된 접착제가 수용되게 함으로써, 내측 지지체와 외측 지지체를 보다 견고하게 결합시키면서 접착제가 바깥으로 새어나오는 것을 방지하는 효과를 얻을 수 있다. Incidentally, when the outer surface of the inner support and the inner surface of the outer support are fitted together, an adhesive can be applied therebetween to improve the bonding force by the adhesive force. In the space portion provided between the inner support and the outer support, By allowing the coated adhesive to be accommodated, it is possible to obtain an effect of preventing the adhesive from leaking out while firmly bonding the inner support and the outer support.

이 때, 기판 스피닝 공정 중에 작용하는 힘에도 불구하고 내측 지지체와 외측 지지체 사이에 상기 공간부를 유지시킬 수 있게 된다는 점에서, 상기 공간부를 마련하기 위한 요입부는 높은 강성 및 경도를 갖는 재질로 이루어진 내측 지지체에 형성되는 것이 바람직하다. 이 때, 공간부는 외측 지지체의 국부적인 변형을 허용할 수 있도록 내측 지지체의 외주면을 따라 링 형태로 형성되되, 링의 높이는 요홈의 높이보다 더 크게 형성되는 것이 효과적이다.
In this case, the recessed portion for providing the space portion is formed of an inner support member made of a material having high rigidity and hardness, in that the space portion can be maintained between the inner support member and the outer support member, As shown in Fig. At this time, the space portion is formed in the shape of a ring along the outer peripheral surface of the inner support so as to allow local deformation of the outer support, and it is effective that the height of the ring is formed larger than the height of the groove.

한편, 상기 외측 지지체의 저면에는 사각형 형태의 사각 요입홈이 형성되고, 상기 내측 지지체는 상기 사각 요입홈에 끼워지는 사각 단면부를 구비할 수 있다. 이에 의하여, 내측 지지체와 외측 지지체가 서로 끼워진 상태에서, 회전축으로부터 전달되는 회전 토크가 내측 지지체를 통해 외측 지지체로 확실하게 전달된다. Meanwhile, a quadrangular rectangular recess may be formed on the bottom surface of the outer support, and the inner supporter may have a rectangular section which is inserted into the rectangular recess. Thus, in a state in which the inner support and the outer support are fitted to each other, the rotation torque transmitted from the rotation shaft is surely transmitted to the outer support through the inner support.

상기 내측 지지체는 외측 지지체에 비하여 강성 및 경도가 높은 다양한 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, PEEK(Polyether ether ketone), POM(Polyacetal, Polyoxymethylene), PA(폴리아미드), PVC(폴리염화비닐), PP(Polypropylene), ABS(Acrylonitrile-butadiene styrene Resin), PVDF(폴리플루오린화비닐리덴), UPE(Unsatureated Polyester) 중 어느 하나 이상의 재질로 형성될 수 있다.The inner support may be formed of various materials having higher rigidity and hardness than the outer support. For example, polyetheretherketone (PEEK), polyacetal, polyoxymethylene (POM), polyamide (PA), polypropylene (PVC), acrylonitrile-butadiene styrene resin (ABS), polyvinylidene fluoride Vinylidene), and UPE (Unsatured Polyester).

그리고, 상기 외측 지지체는 기판의 가장자리와 접촉하여 기판이 슬립없이 회전할 수 있는 가요성 재질로 형성된다. 예를 들어, NR(천연고무), NBR(Acrylonitrile-butadiene rubber), FKM(불소고무), BR(폴리부타디엔 고무), 우레탄 중 어느 하나 이상의 재질로 형성될 수 있다.The outer support is formed of a flexible material that can contact the edge of the substrate and rotate without slip. For example, it may be formed of one or more materials selected from NR (natural rubber), NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), FKM (fluorine rubber), BR (polybutadiene rubber) and urethane.

한편, 외측 지지체는 내측 지지체의 두께에 비하여 0.2~3배의 두께로 형성되는 것이 바람직하다. 다만, 내측 지지체의 두께에 비하여 1/5이하의 두께로 형성되면, 외측 지지체의 가요성 특성에 의하여 기판 가장자리와 높은 마찰 특성을 구현하는 성질을 가지지 못하며, 내측 지지체의 두께에 비하여 3배 이상의 두께로 형성되면 기판에 의해 미는 힘으로 요홈이 국부적으로 변형되지 못하여 바람직하지 않다. 이 때, 상기 외측 지지체는 경도 80 내지 100의 쇼어 경도를 갖는 것이 좋다. On the other hand, the outer support is preferably formed to a thickness of 0.2 to 3 times the thickness of the inner support. However, if the thickness of the inner support is less than 1/5 of the thickness of the inner support, it does not have the property of realizing high frictional characteristics with the edge of the substrate due to the flexibility of the outer support, The groove may not be locally deformed by the pushing force of the substrate, which is not preferable. At this time, it is preferable that the outer support has a Shore hardness of 80 to 100 in hardness.

한편, 본 발명은, 연직 방향으로 뻗어 회전하는 회전축과; 상기 회전축의 상단부에 상기 연결 볼트로 체결되어 고정된 전술한 접촉 지지체를; 포함하여 구성되어, 상기 요홈에 의하여 상기 기판의 가장자리를 지지하면서 상기 기판을 회전시키는 것을 특징으로 하는 기판 스피닝 장치의 지지대를 제공한다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a motorcycle comprising: a rotating shaft that extends and rotates in a vertical direction; The above-mentioned contact support being fastened and fixed to the upper end of the rotary shaft by the connection bolt; Wherein the substrate is rotated while supporting the edge of the substrate by the groove.

상술한 바와 같이 본 발명은, 기판 스피닝 장치에서 기판의 가장자리에 접촉하여 마찰력에 의하여 수평 회전시키는 또는 수평 회전하는 접촉 지지체를 구성함에 있어서, 기판 가장자리와 접촉하는 외측 지지체는 마찰이 높은 가요성 재질로 이루어지고, 회전축과 결합하는 내측 지지체는 플라스틱이나 수지 등으로 경도 및 강도가 높은 단단한 재질로 이루어짐에 따라, 내측 지지체에 의하여 회전축에 대하여 정확한 자세로 조립하여 장시간 동안 사용하더라도 그 자세가 틀어지지 않게 되면서도, 외측 지지체에 의하여 기판의 가장자리와 높은 마찰 상태를 유지하면서 접촉하여 기판의 가장자리의 슬립(slip) 현상을 최소화하면서 확실하게 기판을 수평 회전시킬 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다. As described above, according to the present invention, in the substrate spinning apparatus, when constituting the contact support body that is horizontally rotated or horizontally rotated by the frictional force in contact with the edge of the substrate, the outer support body in contact with the substrate edge is made of a highly flexible material And the inner support body engaged with the rotary shaft is made of a hard material having high hardness and strength such as plastic or resin so that the inner support body can be assembled in an accurate posture with respect to the rotary shaft, , It is possible to obtain an advantageous effect that the substrate can be surely rotated horizontally while minimizing a slip phenomenon of the edge of the substrate while maintaining a high friction state with the edge of the substrate by the outer support.

또한, 본 발명은, 기판 가장자리를 수용하는 요홈이 외측 지지체에 링 형태로 형성되어, 기판의 가장자리가 항상 요홈에 수용된 상태로 회전 구동됨으로써, 수평 회전하는 기판의 자세를 일정하게 유지할 수 있게 하는 효과도 얻을 수 있다.In addition, the present invention is effective in that the groove for receiving the edge of the substrate is formed in the form of a ring on the outer support, and the edge of the substrate is always driven in a state of being accommodated in the groove, Can be obtained.

무엇보다도, 본 발명은, 상기 외측 지지체와 상기 내측 지지체가 서로 맞닿는 면 중 상기 요홈의 내측에 위치하는 부분에 상기 외측 지지체와 상기 내측 지지체 중 어느 하나 이상에 요입부를 링 형태로 형성하여, 상기 내측 지지체와 상기 외측 지지체의 사이에 공간부가 마련됨으로써, 기판을 수평 회전시키는 과정에서 기판 가장자리가 외측 지지체의 요홈의 내부로 밀어내는 힘이 작용하게 되면, 기판 가장자리의 미는 힘에 따라 요홈 주변의 외측 지지체가 공간부를 침투하는 형태로 국부적으로 내측으로 변형하면서 기판 가장자리를 보다 안정되게 수용하면서도, 동시에 외측 지지체의 탄성 복원력에 의하여 외측 지지체와 기판과의 마찰 접촉 상태를 보다 확실하게 유지함으로써, 기판의 수평 회전 시에 기판 가장자리와 접촉 지지체 사이에서 발생되는 슬립 현상을 확실하게 억제할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다. Above all, the present invention is characterized in that a recessed portion is formed in a ring shape in at least one of the outer support and the inner supporter at a portion located on the inner side of the groove among the surfaces where the outer supporter and the inner supporter abut against each other, When a force is exerted to push the edge of the substrate toward the inside of the groove of the outer support in the process of horizontally rotating the substrate by the provision of the space between the supporter and the outer supporter, At the same time, the state of frictional contact between the outer support and the substrate is more reliably maintained by the elastic restoring force of the outer support, so that the horizontal rotation of the substrate Occurs between the substrate edge and the contact support at It is possible to obtain an advantageous effect that the slip phenomenon can be surely suppressed.

그리고, 본 발명은, 내측 지지체와 외측 지지체의 사이에 상기 공간부를 링 형태로 형성함에 따라, 내측 지지체의 외면과 외측 지지체의 내면이 끼워져 결합될 때에 그 사이에 접착제를 도포하더라도, 상기 공간부에 도포된 접착제가 수용되게 함으로써, 내측 지지체와 외측 지지체를 보다 견고하게 결합시키면서 접착제가 바깥으로 새어나오는 것을 방지하는 효과를 얻을 수 있다. In the present invention, since the space portion is formed in a ring shape between the inner support body and the outer support body, even when the outer surface of the inner support body and the inner surface of the outer support body are fitted and bonded with an adhesive therebetween, By allowing the coated adhesive to be accommodated, it is possible to obtain an effect of preventing the adhesive from leaking out while firmly bonding the inner support and the outer support.

한편, 본 발명은, 상기 외측 지지체의 저면에는 사각형 형태의 사각 요입홈이 형성되고, 상기 내측 지지체는 상기 사각 요입홈에 끼워지는 사각 단면부를 구비하여, 내측 지지체와 외측 지지체가 서로 끼워진 상태에서, 회전축으로부터 전달되는 회전 토크가 내측 지지체를 통해 외측 지지체로 확실하게 전달하는 잇점을 얻을 수 있다.
In the meantime, the present invention is characterized in that a quadrangular rectangular recess is formed on the bottom surface of the outer support, and the inner support has a rectangular cross section which is fitted in the quadrangular recess, and the inner support and the outer support, The rotation torque transmitted from the rotary shaft is reliably transmitted to the outer support via the inner support.

도1은 일반적인 기판 스피닝 장치의 구성을 도시한 사시도,
도2는 도1에 기판이 안착된 상태를 도시한 평면도,
도3은 도1의 정면도,
도4는 도3의 A-A에 따른 종단면도,
도5는 도4의 'B'의 확대도,
도6은 본 발명의 일 실시예에 따른 접촉 지지체가 장착된 기판 스피닝 장치의 지지대의 종단면도,
도7은 도6의 'C'의 확대도,
도8은 도6의 지지체의 분해 사시도,
도9는 도8의 외측 지지체의 사시도,
도10a는 내측 지지체와 외측 지지체의 결합 상태를 도시한 단면도,
도10b는 본 발명의 다른 실시 형태에 따라 내측 지지체와 외측 지지체의 결합 상태를 도시한 단면도,
도11은 도7의 'E'부분을 확대하여 본 발명의 접촉 지지체의 작용을 도시한 도면이다.1 is a perspective view showing a configuration of a general substrate spinning apparatus,
Fig. 2 is a plan view showing a state in which a substrate is seated in Fig. 1,
Fig. 3 is a front view of Fig. 1,
4 is a longitudinal sectional view taken along line AA of FIG. 3,
5 is an enlarged view of 'B' in FIG. 4,
6 is a longitudinal sectional view of a support of a substrate spinning apparatus equipped with a contact support according to an embodiment of the present invention,
FIG. 7 is an enlarged view of 'C' in FIG. 6,
Figure 8 is an exploded perspective view of the support of Figure 6,
Figure 9 is a perspective view of the outer support of Figure 8,
10A is a cross-sectional view showing a state of engagement between an inner support and an outer support,
FIG. 10B is a cross-sectional view showing the combined state of the inner support and the outer support according to another embodiment of the present invention,
11 is a view showing the action of the contact support of the present invention by enlarging the portion 'E' in FIG.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체(933)가 장착된 지지대(9)에 대하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해서는 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하며, 동일하거나 유사한 기능 혹은 구성에 대해서는 동일하거나 유사한 도면 부호를 부여하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a supporting base 9 on which a contact support body 933 of a substrate spinning apparatus according to an embodiment of the present invention is mounted will be described in detail. In describing the present invention, well-known functions or constructions will be omitted for the sake of clarity of the present invention, and the same or similar function or configuration will be given the same or similar reference numerals.

도6에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 접촉 지지체(933)가 장착된 기판 스피닝 장치의 지지대(9)는 모터(M)에 의하여 회전(91r)하는 회전축(91)과, 회전축(91)의 둘레를 감싸는 하우징(92)과, 회전축(91)의 상단부에 결합되어 기판(W)을 수평 회전시키는 지지부(93)로 구성되어, 도1에 도시된 종래의 기판 스피닝 장치(1)의 이동부(10)에 결합되어 직선 왕복 운동(20d')을 하게 설치된다. 6, the support base 9 of the substrate spinning apparatus to which the contact support body 933 according to the present invention is mounted is provided with a rotary shaft 91 which rotates 91r by a motor M, And a supporting portion 93 coupled to the upper end of the rotary shaft 91 for horizontally rotating the substrate W. The supporting portion 93 is provided with a moving portion (10) so as to make a linear reciprocating motion (20d ').

여기서, 하우징(92)은 회전하는 회전축(91)을 밀폐시켜 외부의 이물질에 의하여 회전축(91)이 오염되는 것을 방지하기 위하여 설치되며, 회전축(91)의 하측부를 감싸는 회전축 하측커버(921)와, 회전축(91)의 중앙부를 감싸는 중앙부 커버(922)와, 회전축(91)의 상측부를 감싸는 회전축 상측커버(923)로 이루어진다. Here, the housing 92 is provided to seal the rotating rotary shaft 91 to prevent the rotary shaft 91 from being contaminated by foreign substances, and includes a rotary shaft lower cover 921 surrounding the lower portion of the rotary shaft 91, A center cover 922 surrounding the central portion of the rotary shaft 91 and a rotary shaft upper cover 923 surrounding the upper portion of the rotary shaft 91. [

도8에 도시된 바와 같이 상기 지지부(93)는 회전축(91)과 중심부에서 제1체결나사(931x)로 고정되는 제1지지체(931)와, 제1지지체(931)의 둘레에서 제2체결나사(932x)로 고정되는 제2지지체(932)와, 제2지지체(932)의 중심부에서 제3체결나사(933x)로 고정되는 접촉 지지체(933)로 구성된다. 8, the support portion 93 includes a first support body 931 fixed to the rotary shaft 91 by a first fastening screw 931x at a central portion thereof and a second support body 931 fastened around the first support body 931, A second support body 932 fixed by a screw 932x and a contact support body 933 fixed by a third fastening screw 933x at the center of the second support body 932. [

도면 중 미설명 부호인 931z는 제1체결나사(931x)가 체결되는 회전축(91) 상단의 나사홈이고, 도면 중 미설명 부호인 931y는 제1체결나사(931x)가 관통하는 제1지지체(931)의 관통공이다. 도면 중 미설명 부호인 932z는 제2체결나사(932x)가 체결되는 제1지지체(931)의 나사홈이고, 도면 중 미설명 부호인 932y는 제2체결나사(932x)가 관통하는 제2지지체(932)의 관통공이다. 도면 중 미설명 부호인 933z는 제3체결나사(933x)가 체결되는 제2지지체(932)의 나사홈이고, 도면 중 미설명 부호인 933y는 제3체결나사(933x)가 관통하는 제3지지체(933)의 관통공이다. 그리고 도면부호 931d는 제1체결나사(931x)가 체결 고정될 때에 제1지지체(931)와 제2지지체(932)의 사이에 개재되는 오링이고, 도면부호 933d는 제3체결나사(933x)가 체결 고정될 때에 접촉 지지체(933)와의 사이에 개재되는 오링이다. 9, reference numeral 931z denotes a screw groove on the upper end of the rotary shaft 91 to which the first fastening screw 931x is fastened. In the figure, reference numeral 931y denotes a first support member 931x through which the first fastening screw 931x passes, 931). 9, reference numeral 932z denotes a screw groove of a first support body 931 to which the second fastening screw 932x is fastened. In the figure, reference numeral 932y denotes a second support screw 932x, (932). In the drawing, reference numerals 933z denote screw grooves of a second support body 932 to which a third fastening screw 933x is fastened. In the figure, reference numeral 933y denotes a third support screw 933x through which the third fastening screw 933x passes, (933). Reference numeral 931d denotes an O-ring interposed between the first support body 931 and the second support body 932 when the first fastening screw 931x is fastened and fixed. Reference numeral 933d denotes a third fastening screw 933x And is an O-ring interposed between itself and the contact support body 933 when fastened and fixed.

여기서, 도면에 도시된 실시예에서는 제1지지체(931)와 제2지지체(932)를 매개로 접촉 지지체(933)가 회전축(91)에 일체로 고정되는 구성이 예시되어 있지만, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면 접촉 지지체(933)를 고정하는 제3체결나사(933x)로 직접 회전축(91)에 결합될 수도 있다.
Here, in the embodiment shown in the drawings, the contact support body 933 is integrally fixed to the rotation shaft 91 via the first support body 931 and the second support body 932. However, But may be directly coupled to the rotary shaft 91 by a third fastening screw 933x for fixing the contact support 933 according to the embodiment.

상기 접촉 지지체(933)는 상대적으로 높은 경도와 높은 강도를 갖는 플라스틱 또는 수지 재질로 형성된 내측 지지체(9331)과, 내측 지지체(9332)의 둘레를 감싸면서 보다 낮은 경도와 낮은 강도의 가요성 재질로 형성된 외측 지지체(9332)로 이루어진다. The contact support body 933 includes an inner support body 9331 formed of a plastic or a resin material having a relatively high hardness and a high strength and an inner support body 9331 surrounding the inner support body 9332 and having a lower hardness and a lower strength, And an outer support 9332 formed thereon.

여기서, 내측 지지체(9331)는 연직 방향으로 뻗어 회전 구동되는 회전축(91)의 상측에서, 중심부에 제3체결 나사(933x)가 관통하는 관통공(933y)이 형성되어 제3체결 나사(933x)에 의해 제1지지체(931) 및 제2지지체(932)를 매개로 회전축(91)과 일체로 결합된다. 도면에 도시되지 않았지만, 내측 지지체(9331)는 제1지지체(931) 및 제2지지체(932)를 매개로 하지 않고 직접 회전축(91)과 체결 나사(933x)로 결합될 수도 있다. The inner supporting body 9331 is provided with a through hole 933y through which the third fastening screw 933x passes through at the center of the rotation shaft 91 extending in the vertical direction and driven to rotate, The first support body 931 and the second support body 932 by the first support body 932 and the second support body 932. [ Although not shown in the figure, the inner support 9331 may be directly coupled to the rotary shaft 91 with a fastening screw 933x without interposing the first support 931 and the second support 932. [

그리고, 내측 지지체(9331)는 플라스틱 또는 수지재와 같이 단단한 재질로 형성됨에 따라, 회전축(91)에 대하여 예정된 자세가 되게 조립하는 것이 용이하며, 장시간 동안 사용되더라도 자세가 틀어지지 않으므로, 그 둘레를 감싸는 외측 지지체(9332)의 요홈(933a) 위치를 정확하게 유지하는 역할을 한다. 예를 들어, 내측 지지체(9331)는 PEEK(Polyether ether ketone), POM(Polyacetal, Polyoxymethylene), PA(폴리아미드), PVC(폴리염화비닐), PP(Polypropylene), ABS(Acrylonitrile-butadiene styrene Resin), PVDF(폴리플루오린화비닐리덴), UPE(Unsatureated Polyester) 중 어느 하나 이상의 재질로 형성될 수 있다. Since the inner support 9331 is made of a rigid material such as plastic or resin, it is easy to assemble the inner support 9331 in a predetermined posture with respect to the rotary shaft 91. Even if the inner support 9331 is used for a long period of time, And serves to accurately maintain the position of the grooves 933a of the outer supporting body 9332. For example, the inner support 9331 may be made of a material selected from the group consisting of polyetheretherketone (PEEK), polyacetal, polyoxymethylene (PA), polyamide (PVC), polypropylene (PP), acrylonitrile-butadiene styrene resin , PVDF (polyfluorinated vinylidene), and UPE (Unsatured Polyester).

내측 지지체(9331)는 제3체결나사(933x)가 관통할 수 있도록 중앙부가 관통하는 형태로 형성되며, 외주면은 대체로 원형 단면으로 형성되지만, 외주면의 하측에는 사각 단면부(9331x)가 형성된다. 내측 지지체(9331)는 제3체결나사(933x)에 의하여 회전축(91)과 일체로 고정되어, 회전축(91)의 회전에 따라 함께 일체로 회전한다.
The inner supporting body 9331 is formed in such a manner that a central portion thereof penetrates through the third fastening screw 933x so that the third fastening screw 933x can penetrate through the inner supporting body 9331. The outer circumferential surface of the inner supporting body 9331 is formed into a generally circular cross section, but a rectangular cross section 9331x is formed below the outer circumferential surface. The inner support body 9331 is integrally fixed to the rotary shaft 91 by the third fastening screw 933x and rotates together with the rotation of the rotary shaft 91. [

상기 외측 지지체(9332)는 내측 지지체(9331)의 원주 바깥 둘레를 감싸는 형태로 형성되며, 고무 등과 같은 가요성 재질로 이루어진다. 예를 들어, NR(천연고무), NBR(Acrylonitrile-butadiene rubber), FKM(불소고무), BR(폴리부타디엔 고무), 우레탄 중 어느 하나 이상의 재질로 형성될 수 있다. 따라서, 외측 지지체(9332)는 외력에 대하여 쉽게 변형되지만, 내측 지지체(9331)가 외측 지지체(9332)를 관통하며 외측 지지체(9332)의 뼈대 역할을 하므로, 내측 지지체(9331)에 의하여 외측 지지체(9332)는 장시간 동안 사용되더라도 설치 당시의 자세 그대로 유지된다.The outer support 9332 is formed to surround the outer circumference of the inner circumference of the inner support body 9331 and is made of a flexible material such as rubber. For example, it may be formed of one or more materials selected from NR (natural rubber), NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), FKM (fluorine rubber), BR (polybutadiene rubber) and urethane. Since the inner support body 9331 penetrates the outer support body 9332 and serves as a skeleton of the outer support body 9332, the inner support body 9331 can easily be deformed by the inner support body 9331, 9332 remain in the same posture as the time of installation even if they are used for a long time.

도9에 도시된 바와 같이 외측 지지체(9332)의 저면에는 사각형 형태의 사각 요입홈(9332x)이 형성되어, 내측 지지체(9332)의 사각 단면부(9331x)를 수용한다. 이에 따라, 외측 지지체(9332)는 내측 지지체(9332)에 대하여 미끄럼이 발생되지 않고 내측 지지체(9332)와 함께 일체로 회전된다. As shown in FIG. 9, a rectangular rectangular recess 9332x is formed in the bottom surface of the outer support 9332 to receive the rectangular section 9331x of the inner support 9332. Thus, the outer support 9332 is rotated integrally with the inner support 9332 without causing any slippage with respect to the inner support 9332.

일반적으로 원형 기판(W)을 기판 스피닝 장치의 사이에 핀에 의하여 지지된 상태로 공급되며, 기판 스피닝 장치의 지지대(9)가 서로 근접하게 이동하면서 기판(W)이 지지대(9)의 접촉 지지체에 지지된다. 이 때, 외측 지지체(9332)의 하측에는 하방 경사면(933s)이 원추 형상과 유사하게 형성됨으로써, 기판(W)이 기판 스피닝 장치로 공급되어 회전축(91)이 서로 가까워지게 이동(20d')하여 기판(W)의 가장자리가 외측 지지체에 거치된 상태가 되며, 그리고 추가적으로 지지대(9)가 이동(20d')하면, 도11에 도시된 바와 같이 기판(W)의 가장자리가 하방 경사면(933s)의 상측으로 이동(77)하여, 기판 가장자리가 정해진 높이에 위치한 요홈(933a) 내에 항상 일정하게 안착하게 된다. 이 때, 기판 가장자리가 하방 경사면(933s)을 따라 경사지게 이동(77)함에 따라 기판 가장자리에도 과도한 국부적인 힘이 작용하지 않게 된다. The substrate W is generally supported by pins between the substrate spinning apparatuses so that the substrate W moves in close proximity to the support supports 9 of the substrate spinning apparatus, . At this time, the downward inclined face 933s is formed on the lower side of the outer support 9332 in a similar manner to the conical shape, so that the substrate W is supplied to the substrate spinning apparatus, and the rotary shaft 91 is moved The edge of the substrate W is placed on the outer support and the substrate 9 is further moved (20d ') so that the edge of the substrate W contacts the lower surface of the downward slope 933s (77) so that the edge of the substrate is constantly rested in the groove (933a) located at a predetermined height at all times. At this time, as the substrate edge moves obliquely along the downward slope 933s (77), an excessive local force does not act on the edge of the substrate.

따라서, 외측 지지체(9332)의 하방 경사면(933s)의 상측에는 요홈(933a)이 배치된다. 요홈(933a)은 뾰족하게 내향 형성될 수도 있지만 도면에 도시된 바와 같이 원호와 유사한 곡면으로 형성되어, 기판 가장자리가 하방 경사면(933s)을 타고 상측으로 이동(77)한 후에 기판 가장자리가 자연스럽고 요홈(933a)의 내부에 자리잡게 된다. Therefore, a groove 933a is disposed on the upper side of the downward inclined face 933s of the outer support body 9332. [ The groove 933a may be formed to be pointed inward but may be formed as a curved surface similar to an arc as shown in the figure so that the edge of the substrate is moved upward 77 on the downward inclined surface 933s, (933a).

상기와 같이, 기판 가장자리와 접촉하는 외측 지지체(9332)는 마찰이 높은 가요성 재질로 이루어지고, 제3체결나사(933x)로 회전축(91)에 일체로 고정되는 내측 지지체(9331)는 플라스틱이나 수지 등으로 경도 및 강도가 높은 단단한 재질로 이루어짐에 따라, 내측 지지체(9331)에 의하여 회전축(91)에 대하여 정확한 자세로 조립하여 장시간 동안 사용하더라도 그 자세가 틀어지지 않게 되므로 도5에 도시된 종래의 문제점을 해소할 수 있으며, 동시에 외측 지지체(9332)에 의하여 기판의 가장자리와 높은 마찰 상태를 유지하면서 접촉하므로, 기판(W)을 수평 회전되게 구동하면서 기판 가장자리에서 슬립(slip) 현상이 발생되는 것을 최소화하여, 기판(W)을 정해진 시간 동안 정해진 회전수만큼 정확하게 회전 구동할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
The inner support body 9331 which is integrally fixed to the rotary shaft 91 by the third fastening screw 933x is made of plastic or the like Since the inner support 9331 is assembled in a correct posture with respect to the rotary shaft 91 and is used for a long period of time, the posture is not changed, And at the same time the substrate W contacts the substrate while maintaining a high friction state with the edge of the substrate by the outer supporting body 9332 so that a slip phenomenon is generated at the substrate edge while driving the substrate W to rotate horizontally It is possible to obtain an effect that the substrate W can be rotationally driven accurately by a predetermined number of revolutions for a predetermined period of time.

무엇보다도, 요홈(933a)이 형성된 높이 근방에는 내측 지지체(9331)와 외측 지지체(9332)의 접촉면에는 링 형태의 공간(933v)이 마련된다. 이를 위하여, 본 발명은, 도10a에 도시된 바와 같이 내측 지지체(9331)의 외주면에 링 형태의 요입부(9331c)가 형성될 수도 있고, 도10b에 도시된 바와 같이 외측 지지체(9332)의 내주면에 링 형태의 요입부(9332c)가 형성될 수도 있으며, 내측 지지체(9331)의 외주면과 외측 지지체(9332)의 내주면에 함께 요입부가 형성되는 것에 의하여 내측 지지체(9331)과 외측 지지체(9332)의 사이에 공간부(933v)가 마련된다.Above all, ring-shaped space 933v is provided on the contact surface between the inner support body 9331 and the outer support body 9332 in the vicinity of the height where the recess 933a is formed. 10A, a ring-shaped recess 9331c may be formed on the outer circumferential surface of the inner support body 9331, and an inner circumferential surface 9321c of the outer support body 9321 may be formed as shown in FIG. 10B, The inner supporting body 9331 and the outer supporting body 9332 can be formed with a recessed portion formed on the outer peripheral surface of the inner supporting body 9331 and the inner peripheral surface of the outer supporting body 9332, A space portion 933v is provided.

이 때, 기판 스피닝 공정 중에 외측 지지체(9332)에 작용하는 힘에도 공간부(933v)를 확실하게 유지할 수 있게 하기 위해서는, 요입부(9332c)가 단단한 재질인 내측 지지체(9331)에 형성된 것이 바람직하다. At this time, in order to reliably hold the space portion 933v even in the force acting on the outer support body 9332 during the substrate spinning process, the recessed portion 9332c is preferably formed on the inner support body 9331 which is made of a hard material .

이를 통해, 도11에 도시된 바와 같이, 기판(W)을 수평 회전시키는 과정에서 기판 가장자리가 외측 지지체(9332)의 요홈(933a)의 내부로 밀어내는 힘(F)이 작용하면, 요홈(933a)의 내측에는 공간부(933v)가 마련되어 있으므로, 기판 가장자리를 통해 미는 힘(F)에 의하여 요홈(933a) 주변의 외측 지지체(9332)가 국부적으로 내측으로 밀려 공간부(933v)를 침투하는 형태로 변형(9332d)하면서 눌리는 힘(F)을 완충시키고 동시에 기판 가장자리를 보다 안정되게 수용할 수 있게 된다. 따라서, 기판의 수평 회전을 하는 동안에 기판(W)의 자세를 안정되게 유지할 수 있다. 11, when a force F pushing the substrate edge into the recess 933a of the outer support 9332 acts in the horizontal rotation of the substrate W, the recess 933a The outer support member 9332 around the groove 933a is locally pushed inward by the pushing force F through the edge of the substrate to penetrate the space portion 933v So that the pressing force F can be buffered and the substrate edge can be accommodated more stably. Therefore, the posture of the substrate W can be stably maintained during the horizontal rotation of the substrate.

더욱이, 기판 가장자리에 의하여 눌려 공간부(933v)를 향하여 내측으로 변형되어 있던 요홈(933a) 주변의 외측 지지체(9332)는 변형(9332d)으로부터 원래의 형상으로 복귀하려는 성질을 갖게 되며, 외측 지지체(9332)의 탄성 복원력(Fk)에 의하여 기판(W) 가장자리를 외측으로 누르는 힘으로 작용하므로, 외측 지지체(9332)의 요홈(933a)과 기판 가장자리 사이의 마찰 접촉 상태를 보다 안정적이면서 보다 큰 힘으로 유지시킬 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다. 이에 의하여, 기판(W)의 수평 회전 시에 지지대(9)의 접촉 지지체(933)와 기판(W) 사이에 마찰력 부족에 따른 슬립(slip) 현상이 억제되어, 회전축(91) 및 접촉 지지체(933)의 회전에 따라 기판(W)도 정확히 회전하게 된다.Further, the outer support 9332 around the groove 933a which has been deformed inward toward the space portion 933v by the edge of the substrate has a property of returning to the original shape from the deformation 9332d, 93b of the outer support 9332 and the outer peripheral edge of the substrate W by the elastic restoring force Fk of the outer support 9332 It is possible to obtain an advantageous effect that can be maintained. Thereby, during the horizontal rotation of the substrate W, a slip phenomenon due to insufficient frictional force is suppressed between the contact supporter 933 of the supporter 9 and the substrate W, and the rotation of the rotary shaft 91 and the contact supporter 933, the substrate W is also rotated accurately.

여기서, 공간부(933v)를 형성하는 요입부(9331c, 9332c)의 높이는 요홈(933a)의 높이와 약간 작거나 더 크게 형성되어, 외측 지지체(9332)의 변형(9332d)이 작게라도 발생될 수 있도록 한다. 한편, 외측 지지체(9332)는 내측 지지체(9331)의 두께에 비하여 0.2~3배의 두께로 형성되며, 바람직하게는 약 1.0~1.5배의 두께로 형성된다. 이는, 내측 지지체(9331)의 두께에 비하여 1/5이하의 두께로 형성되면, 외측 지지체(9332)의 가요성 특성에 의하여 기판 가장자리와 높은 마찰 특성을 구현하는 성질이 낮아지고, 내측 지지체(9331)의 두께에 비하여 3배 이상의 두께로 형성되면 기판에 의해 미는 힘으로 요홈(933a) 내측에서 공간부(933v)를 침투하는 형태로 국부적으로 변형(9332d)되는 부분이 생기기 어려워지기 때문이다. 한편, 기판 가장자리와 요홈(933a) 사이에 충분한 마찰력이 확보될 수 있도록 외측 지지체(9332)의 경도는 80 내지 100의 쇼어 경도를 갖는 것이 좋다. The height of the recessed portions 9331c and 9332c forming the space portion 933v may be formed to be slightly smaller or larger than the height of the recessed portion 933a so that the deformation 9332d of the outer supporting body 9332 may be generated . On the other hand, the outer support 9332 is formed to have a thickness of 0.2 to 3 times the thickness of the inner support 9331, preferably about 1.0 to 1.5 times the thickness of the inner support 9331. If the thickness of the inner supporting body 9331 is less than 1/5 of the thickness of the inner supporting body 9331, the flexibility of the outer supporting body 9332 lowers the property of realizing high frictional characteristics with the substrate edge, It is difficult to form a portion that is locally deformed 9332d in such a manner as to penetrate the space portion 933v inside the groove 933a by a pushing force by the substrate. On the other hand, the hardness of the outer support body 9332 is preferably 80 to 100 so that sufficient frictional force can be secured between the substrate edge and the recess 933a.

내측 지지체(9331)와 외측 지지체(9332) 중 어느 하나 이상에 형성되는 요입부(9331c, 9332c)에 의해 공간부(933v)가 마련됨에 따라, 내측 지지체(9331)와 외측 지지체(9332)를 접착제를 도포하여 상호 결합할 때에 접착제를 수용하는 공간으로 활용될 수 있다. 이를 통해, 내측 지지체(9331)와 외측 지지체(9332)가 보다 견고하게 결합될 수 있으면서, 내측 지지체(9331)에 외측 지지체(9332)를 끼우는 과정에서 접착제가 바깥으로 새어나와 접착제의 양이 불일정하게 투입되는 것을 방지할 수 있다.
The space portion 933v is provided by the recessed portions 9331c and 9332c formed on at least one of the inner support body 9331 and the outer support body 9332 so that the inner support body 9331 and the outer support body 9332 are bonded to each other with adhesive It can be utilized as a space for accommodating the adhesive when they are bonded to each other. This allows the inner support 9331 and the outer support 9332 to be more firmly engaged while the outer support 9332 is being inserted into the inner support 9331. In this case, Can be prevented.

상기와 같이 구성된 본 발명에 따른 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체(933)는 기판 가장자리와 접촉하는 외측 지지체(9332)는 마찰이 높은 가요성 재질로 이루어지고, 회전축(91)과 결합하는 내측 지지체(9331)는 플라스틱이나 수지 등으로 경도 및 강도가 높은 단단한 재질로 이루어짐에 따라, 기판 가장자리와 외측 지지체(9332)의 요홈(933a) 사이에 높은 마찰 상태를 유지할 수 있으며, 동시에 외부의 충격이 작용하더라도 요홈(933a)의 위치 및 자세가 틀어지지 않아 기판 가장자리에서의 슬립 현상을 효과적으로 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.The contact support body 933 of the substrate spinning apparatus according to the present invention constructed as described above has the outer support 9332 which is in contact with the edge of the substrate and is made of a highly flexible material and has an inner support body 9331 Is made of a hard material having high hardness and high strength, such as plastic or resin, it is possible to maintain a high friction state between the edge of the substrate and the groove 933a of the outer support 9332, and at the same time, It is possible to effectively prevent the slip phenomenon at the substrate edge since the position and posture of the substrate 933a are not changed.

더욱이, 본 발명은 외측 지지체(9332)와 내측 지지체(9331)가 서로 맞닿는 면에 요입부(9331c, 9332c)에 의하여 링 형태의 공간부(933v)가 마련됨에 따라, 기판(W)을 수평 회전하는 동안에 기판 가장자리로부터 밀리는 힘(F)에 따라 변형(9332d)이 허용되면서 보다 확실하게 기판 가장자리를 수용할 수 있으면서, 외측 지지체(9332)의 변형된 부분의 탄성 복원력에 의하여 기판을 보다 높은 마찰력으로 접촉할 수 있게 되므로, 기판의 수평 회전 중에 발생되는 미끄럼 현상을 확실하게 억제할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다. Furthermore, since the ring-shaped space portion 933v is provided by the concave portions 9331c and 9332c on the surface where the outer supporting body 9332 and the inner supporting body 9331 are in contact with each other, It is possible to more reliably accommodate the substrate edge while permitting deformation 9332d in accordance with the force F being pushed from the edge of the substrate during the operation of the substrate 9332. The elastic restoring force of the deformed portion of the outer support 9332 allows the substrate to be moved with higher frictional force It is possible to obtain an advantageous effect of reliably suppressing a sliding phenomenon that occurs during the horizontal rotation of the substrate.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 상기와 같은 특정 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 본 발명의 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, And can be appropriately changed within the scope of the claims.

1: 기판 스피닝 장치 9: 지지대
91: 회전축 92: 하우징
93: 지지부 933: 접촉 지지체
933a: 요홈 933s: 하방 경사면
933v: 공간부 9331: 내측 지지체
9332: 외측 지지체 9331c, 9332: 요입부1: substrate spinning device 9: support
91: rotating shaft 92: housing
93: Support portion 933:
933a: groove 933s: downward slope
933v: Space portion 9331: Inner support
9332: Outer support 9331c, 9332:

Claims (5)

원형 디스크 형상의 기판을 수평 회전시키는 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체로서,
회전축의 상측에 배치되고, 체결 나사에 의해 상기 회전축과 일체로 결합되는 내측 지지체와;
상기 내측 지지체의 원주 바깥 둘레를 감싸면서 형성되고, 상기 내측 지지체에 비하여 경도가 낮은 가요성 재질로 형성되며, 상기 기판의 가장자리를 수용하는 요홈이 원주면에 형성된 외측 지지체를;
포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체.
1. A contact support for a substrate spinning apparatus for horizontally rotating a substrate in a circular disk shape,
An inner support disposed on the upper side of the rotary shaft and integrally coupled to the rotary shaft by a fastening screw;
An outer support formed to surround the outer circumference of the inner circumference of the inner support and formed of a flexible material having a hardness lower than that of the inner support and having a groove receiving the edge of the substrate formed on the circumference;
Wherein the substrate support member is configured to support the substrate.
제 1항에 있어서,
상기 외측 지지체와 상기 내측 지지체가 서로 맞닿는 면 중 상기 요홈의 내측에 위치하는 부분에 상기 외측 지지체와 상기 내측 지지체 중 어느 하나 이상에 요입부가 형성되어, 상기 내측 지지체와 상기 외측 지지체의 사이에 공간부가 마련된 것을 특징으로 하는 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체.
The method according to claim 1,
A recessed portion is formed in at least one of the outer support and the inner supporter at a portion of the surface of the outer support and the inner supporter which are in contact with each other on the inner side of the recess so that a space is formed between the inner supporter and the outer supporter, Wherein the substrate support member is provided with a plurality of projections.
제 2항에 있어서,
상기 공간부는 링 형상으로 형성되어, 상기 요홈에 의해 눌리는 변형을 수용하는 것을 특징으로 하는 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체.

3. The method of claim 2,
Wherein the space portion is formed in a ring shape to receive a deformation which is pressed by the groove.

제 2항에 있어서,
상기 공간부는 링 형상으로 형성되어, 상기 외측 지지체와 상기 내측 지지체의 결합에 사용되는 접착제를 수용하는 것을 특징으로 하는 기판 스피닝 장치의 접촉 지지체.
3. The method of claim 2,
Wherein the space portion is formed in a ring shape to receive an adhesive used for coupling the outer support and the inner support.
연직 방향으로 뻗어 회전하는 회전축과;
상기 회전축의 상단부에 상기 연결 볼트로 체결되어 고정된 제 1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 접촉 지지체를;
포함하고 상기 요홈에 의하여 상기 기판의 가장자리를 지지하면서 상기 기판을 회전시키는 지지대를 구비한 것을 특징으로 하는 기판 스피닝 장치.
A rotating shaft that extends and rotates in a vertical direction;
The contact support according to any one of claims 1 to 4, which is fastened and fixed to the upper end of the rotary shaft by the connection bolts;
And a support for supporting the edge of the substrate by the groove and rotating the substrate.
KR1020140096563A 2014-07-29 2014-07-29 Rotating contact support of substrate spinning apparatus KR101624843B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140096563A KR101624843B1 (en) 2014-07-29 2014-07-29 Rotating contact support of substrate spinning apparatus
CN201520277193.5U CN204706549U (en) 2014-07-29 2015-04-30 The contact supporter of substrate rotating device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140096563A KR101624843B1 (en) 2014-07-29 2014-07-29 Rotating contact support of substrate spinning apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160014391A true KR20160014391A (en) 2016-02-11
KR101624843B1 KR101624843B1 (en) 2016-05-27

Family

ID=55351611

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140096563A KR101624843B1 (en) 2014-07-29 2014-07-29 Rotating contact support of substrate spinning apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101624843B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200129766A (en) * 2019-05-10 2020-11-18 주식회사 케이씨텍 Substrate receiver of substrate spinning apparatus
KR20200143020A (en) * 2019-06-14 2020-12-23 주식회사 케이씨텍 Substrate holder and subastrate support device comprising the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3854085B2 (en) * 2001-03-16 2006-12-06 株式会社荏原製作所 Substrate processing equipment
JP2005019701A (en) * 2003-06-26 2005-01-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate treatment equipment
KR101312159B1 (en) * 2012-03-23 2013-09-26 주식회사 케이씨텍 Substrate spinning apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200129766A (en) * 2019-05-10 2020-11-18 주식회사 케이씨텍 Substrate receiver of substrate spinning apparatus
KR20200143020A (en) * 2019-06-14 2020-12-23 주식회사 케이씨텍 Substrate holder and subastrate support device comprising the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR101624843B1 (en) 2016-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101459271B1 (en) Rotating contact support of substrate spinning apparatus
US8250695B2 (en) Roller assembly for a brush cleaning device in a cleaning module
TWI480124B (en) Membrane assembly and carrier head having the membrane assembly
TW201637773A (en) Coupling mechanism, substrate polishing apparatus, method of determining position of rotational center of coupling mechanism, program of determining position of rotational center of coupling mechanism, method of determining maximum pressing load of rotat
US20060189465A1 (en) Roller that avoids substrate slippage
US5291692A (en) Polishing work holder
JP2008260126A (en) Polishing pad
KR101624843B1 (en) Rotating contact support of substrate spinning apparatus
JP2007273610A (en) Apparatus and method for processing substrate
JP4091187B2 (en) Cleaning tool, substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method
KR102698836B1 (en) Polishing system with local area velocity control and vibration mode
CN212062414U (en) Substrate support and substrate supporting device comprising same
US20140150815A1 (en) Disc-brush holder apparatus, disc-brush assembly, and substrate processing methods
JP2016107965A (en) Running device
US10299653B2 (en) Disk with engagement system for surface cleaning machine
KR102473170B1 (en) Substrate spinning apparatus
KR102063464B1 (en) Substrate cleaning apparatus
KR102232985B1 (en) Rotation support for substrate spinning apparatus
JP2016101812A (en) Travel device
KR102666494B1 (en) Polishing pad assemblies for local area polishing systems and polishing systems
US20190283215A1 (en) Gimbal for cmp tool conditioning disk having flexible metal diaphragm
KR102639924B1 (en) Substrate receiver of substrate spinning apparatus
JP4682236B2 (en) Shaft motion detection mechanism and conditioner head
US20090217953A1 (en) Drive roller for a cleaning system
KR20160143212A (en) Brush cleaning apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190328

Year of fee payment: 4