KR20160010919A - Apparatus for controlling chemical and apparatus for controlling a substrate having the same - Google Patents

Apparatus for controlling chemical and apparatus for controlling a substrate having the same Download PDF

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Abstract

A substrate processing apparatus comprises a chuck for supporting each substrate and a chemical supplying device. The chemical supplying device comprises a chemical storing part, a chemical injecting part, and a chemical heating part. The chemical storing part stores a chemical injected toward the substrate. The chemical injecting part is connected to the chemical storing part in order to inject the chemical supplied from the chemical storing part toward the substrate. The chemical heating part can heat the chemical stored in the chemical storing part to have at least two temperature conditions.

Description

약액 처리 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{Apparatus for controlling chemical and apparatus for controlling a substrate having the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical liquid processing apparatus,

본 발명은 약액 처리 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 원하는 온도로 가열된 약액을 제조 공정에 적용하기 위한 약액 처리 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid processing apparatus and a substrate processing apparatus including the same, and more particularly, to a chemical liquid processing apparatus for applying a chemical liquid heated to a desired temperature to a manufacturing process and a substrate processing apparatus including the same.

반도체 소자, 디스플레이 소자 등의 제조에서는 기판 처리 장치를 사용하여 기판을 대상으로 식각 공정, 세정 공정 등을 수행한다. 그리고 상기 식각 공정, 세정 공정에서는 다양한 약액을 사용한다. 상기 다양한 약액의 예로서는 불산, 황산, 질산, 인산 등과 같은 산성 용액이나 수산화 칼륨, 수산화 나트륨, 암모늄 등과 같은 알칼리성 용액을 들 수 있다.In the manufacture of semiconductor devices, display devices, etc., a substrate processing apparatus is used to perform an etching process, a cleaning process, and the like on a substrate. In the etching process and the cleaning process, various chemical solutions are used. Examples of the various chemical solutions include acidic solutions such as hydrofluoric acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid, and alkaline solutions such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, and ammonium.

이에, 상기 기판 처리 장치는 상기 약액을 저장하는 약액 저장부로 이루어지는 약액 공급 장치와 연결되는 구조를 가질 수 있다. 그리고 상기 기판 처리 장치 및 상기 약액 공급 장치를 사용하는 공정에서는 다양한 약액을 이용하여 화학 반응을 일으켜 상기 기판 상의 불필요한 물질을 제거하거나 세정한다. 상기 화학 반응을 이용하는 공정에서는 약액의 농도 및 가열 온도 등이 공정의 주요 요인으로 작용하는데, 특히 상기 약액을 가열하여 사용할 경우에는 기판을 대상으로 하는 공정에서의 균일성에 효율적이다.The substrate processing apparatus may have a structure that is connected to a chemical liquid supply device including a chemical liquid storage portion for storing the chemical liquid. In the process using the substrate processing apparatus and the chemical liquid supply apparatus, a chemical reaction is caused by using various chemical solutions to remove or clean unnecessary substances on the substrate. In the process using the chemical reaction, the concentration of the chemical liquid, the heating temperature and the like are the main factors of the process. Especially, when the chemical liquid is heated and used, the uniformity in the process of the substrate is efficient.

그리고 종래에는 상기 약액 공급 장치를 사용한 공정이 주로 배치식 타입으로 이루어진다. 즉, 다수매의 기판들을 상기 약액 공급 장치의 약액 저장부에 딥핑시키는 방식으로 공정을 진행하는 것이다.Conventionally, the process using the above-described chemical liquid supply apparatus is mainly of a batch type. That is, the process is performed in such a manner that a plurality of substrates are dipped in the chemical solution reservoir of the chemical liquid supply device.

그러나 언급한 배치식 타입으로 상기 약액을 사용하는 공정을 수행할 경우에는 약액의 사용량을 많아지는 문제점이 발생할 수 있고, 특히 기판의 균일성에 나쁜 영향을 끼치는 문제점이 있다.However, in the case of performing the process using the above-mentioned chemical liquid in the above-mentioned batch type, there is a problem that the amount of the chemical liquid to be used is increased, and in particular, the uniformity of the substrate is adversely affected.

본 발명의 목적은 약액의 소모량을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 공정이 이루어지는 기판의 균일성까지도 향상시킬 수 있는 약액 처리 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a chemical liquid processing apparatus capable of reducing the consumption amount of a chemical liquid and improving the uniformity of the substrate on which the process is performed, and a substrate processing apparatus including the same.

언급한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 처리 장치는 낱장 단위로 척에 지지된 기판을 향하여 분사하기 위한 약액을 저장하는 약액 저장부; 상기 약액 저장부로부터 공급되는 상기 약액을 상기 기판을 향하여 분사하도록 상기 약액 저장부와 연결되는 약액 분사부; 및 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 적어도 2가지 온도를 갖도록 가열할 수 있는 약액 가열부를 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a chemical liquid processing apparatus comprising: a chemical liquid storage unit for storing a chemical liquid to be sprayed toward a substrate supported on a chuck in a sheet unit; A chemical liquid dispensing portion connected to the chemical liquid storing portion to spray the chemical liquid supplied from the chemical liquid storing portion toward the substrate; And a chemical solution heating unit capable of heating the chemical solution stored in the chemical solution storage unit to have at least two temperatures.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 처리 장치에서, 상기 약액 저장부는 상기 기판 상부에 구비되고, 상기 약액 분사부는 상기 약액 저장부로부터 상기 기판 상부를 향하도록 상기 약액 저장부에 연결되고, 상기 약액 가열부는 상기 기판의 제1 영역에 대응되는 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 제1 온도로 가열하기 위한 제1 약액 가열부 및 상기 기판의 제2 영역에 대응되는 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 제2 온도로 가열하기 위한 제2 약액 가열부로 이루어지도록 구비될 수 있다.The chemical liquid storage portion is provided on the substrate, the chemical liquid injection portion is connected to the chemical liquid storage portion from the chemical liquid storage portion toward the upper portion of the substrate, and the chemical liquid storage portion is connected to the chemical liquid storage portion, The chemical solution heating unit includes a first chemical solution heating unit for heating the chemical solution stored in the chemical solution storage unit corresponding to the first region of the substrate to a first temperature and a second chemical solution heating unit for heating the chemical solution stored in the chemical solution storage unit, And a second chemical solution heating unit for heating the chemical solution to a second temperature.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 처리 장치에서, 상기 약액 분사부는 상기 제1 온도로 가열된 상기 약액을 상기 기판의 제1 영역으로 분사하기 위한 제1 약액 분사부 및 상기 제2 온도로 가열된 상기 약액을 상기 기판의 제2 영역으로 분사하기 위한 제2 약액 분사부로 이루어지도록 구비될 수 있다.The chemical liquid injector may include a first chemical liquid injecting unit for injecting the chemical liquid heated to the first temperature into the first region of the substrate, And a second chemical liquid injecting part for injecting the heated chemical liquid into the second area of the substrate.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 처리 장치에서, 상기 약액 가열부는 상기 약액 저장부의 외부에서 상기 약액을 가열하도록 구비될 수 있다.In the aforementioned chemical liquid processing apparatus according to an embodiment of the present invention, the chemical liquid heating unit may be provided to heat the chemical liquid outside the chemical liquid storage unit.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 처리 장치에서, 상기 약액 가열부는 상기 약액 저장부의 내부에서 상기 약액을 가열하도록 구비될 수 있다.In the aforementioned chemical liquid processing apparatus according to an embodiment of the present invention, the chemical liquid heating unit may be provided to heat the chemical liquid inside the chemical liquid storage unit.

언급한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 낱장 단위로 기판을 지지할 수 있는 척; 상기 기판을 향하여 분사하기 위한 약액을 저장하는 약액 저장부; 상기 약액 저장부로부터 공급되는 상기 약액을 상기 기판을 향하여 분사하도록 상기 약액 저장부와 연결되는 약액 분사부; 및 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 적어도 2가지 온도를 갖도록 가열할 수 있는 약액 가열부를 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus comprising: a chuck capable of supporting a substrate on a sheet-by-sheet basis; A chemical solution storage part for storing a chemical solution for spraying toward the substrate; A chemical liquid dispensing portion connected to the chemical liquid storing portion to spray the chemical liquid supplied from the chemical liquid storing portion toward the substrate; And a chemical solution heating unit capable of heating the chemical solution stored in the chemical solution storage unit to have at least two temperatures.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에서, 상기 약액 저장부는 상기 기판 상부에 구비되고, 상기 약액 가열부는 상기 기판의 제1 영역에 대응되는 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 제1 온도로 가열하기 위한 제1 약액 가열부 및 상기 기판의 제2 영역에 대응되는 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 제2 온도로 가열하기 위한 제2 약액 가열부로 이루어지도록 구비되고, 상기 약액 분사부는 상기 약액 저장부로부터 상기 기판 상부를 향하도록 상기 약액 저장부에 연결됨과 아울러 상기 제1 온도로 가열된 상기 약액을 상기 기판의 제1 영역으로 분사하기 위한 제1 약액 분사부 및 상기 제2 온도로 가열된 상기 약액을 상기 기판의 제2 영역으로 분사하기 위한 제2 약액 분사부로 이루어지도록 구비될 수 있다.The chemical liquid storage unit may be provided on the substrate, and the chemical liquid heating unit may be configured to heat the chemical liquid stored in the chemical liquid storage unit corresponding to the first region of the substrate, And a second chemical solution heating section for heating the chemical solution stored in the chemical solution storage section corresponding to the second region of the substrate to a second temperature, wherein the chemical solution injection section is provided with a first chemical solution heating section A first chemical liquid injecting part connected to the chemical liquid storing part so as to face the upper portion of the substrate from the chemical liquid storing part and for injecting the chemical liquid heated to the first temperature into the first area of the substrate, And a second chemical liquid injecting part for injecting the heated chemical liquid into the second area of the substrate.

본 발명의 약액 처리 장치 및 기판 처리 장치는 낱장 단위의 기판을 공정 대상으로 함과 아울러 약액 공급부에 저장된 약액을 적어도 2가지 온도를 갖도록 가열할 수 있다. 이에, 본 발명이 약액 처리 장치 및 기판 처리 장치를 사용하는 공정에서는 낱장 단위의 기판의 제1 영역 및 제2 영역에 서로 다른 온도를 갖도록 가열된 약액을 공급할 수 있다.The chemical liquid processing apparatus and the substrate processing apparatus of the present invention can heat a chemical liquid stored in a chemical liquid supply unit to have at least two temperatures while processing a substrate of a sheet unit as a process target. Accordingly, in the process of using the chemical liquid processing apparatus and the substrate processing apparatus of the present invention, the chemical liquid heated to have different temperatures can be supplied to the first region and the second region of the sheet unit.

이와 같이, 본 발명에서는 낱장 단위의 기판을 대상으로 공정을 수행함으로써 필요한 양만큼의 약액을 사용할 수 있기 때문에 약액의 소모량을 줄일 수 있는 효과를 기대할 수 있고, 더불어 기판의 영역에 따라 서로 다른 온도로 가열된 약액을 공급하여 공정을 수행할 수 있기 때문에 공정이 이루어지는 기판의 균일성까지도 향상되는 효과를 기대할 수 있다.As described above, according to the present invention, since a required amount of chemical solution can be used by performing a process on a substrate of a unit of a unit, consumption of a chemical solution can be reduced, and at the same time, Since the process can be performed by supplying the heated chemical solution, the uniformity of the substrate on which the process is performed can be expected to be improved.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram showing a substrate processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
2 is a schematic configuration diagram showing a substrate processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.
3 is a schematic configuration diagram showing a substrate processing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.While the present invention has been described in connection with certain exemplary embodiments, it is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the term "comprises" or "comprising ", etc. is intended to specify that there is a stated feature, figure, step, operation, component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.

이하, 본 발명에 대한 약액 처리 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a chemical liquid processing apparatus and a substrate processing apparatus including the chemical liquid processing apparatus according to the present invention will be described.

먼저 본 발명의 약액 처리 장치는 약액 저장부, 약액 분사부 및 약액 가열부를 포함할 수 있다.First, the chemical liquid processing apparatus of the present invention may include a chemical liquid storing section, a chemical liquid injecting section, and a chemical liquid heating section.

상기 약액 저장부는 낱장 단위로 척에 지지된 기판을 향하여 분사하기 위한 약액을 저장할 수 있다. 그리고 상기 약액 저장부는 기판 상부에 배치되도록 구비될 수 있다.The chemical solution reservoir may store the chemical solution for spraying toward the substrate supported on the chuck in a sheet unit. The chemical solution reservoir may be disposed above the substrate.

상기 약액 분사부는 상기 약액 저장부로부터 공급되는 상기 약액을 상기 기판을 향하여 분사하도록 상기 약액 저장부와 연결되게 구비될 수 있다.The chemical liquid injector may be connected to the chemical liquid storage part to inject the chemical liquid supplied from the chemical liquid storage part toward the substrate.

상기 약액 가열부는 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 적어도 2가지 온도를 갖도록 가열할 수 있게 구비될 수 있다. 특히, 상기 약액 가열부는 상기 기판의 제1 영역에 대응되는 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 제1 온도로 가열하기 위한 제1 약액 가열부 및 상기 기판의 제2 영역에 대응되는 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 제2 온도로 가열하기 위한 제2 약액 가열부로 이루어지도록 구비될 수 있다. 여기서, 상기 약액 가열부는 상기 기판의 영역을 더욱 세분할 경우 더 많은 개수로 구비될 수 있다.The chemical solution heating unit may be provided to heat the chemical solution stored in the chemical solution storage unit to have at least two temperatures. Particularly, the chemical solution heating unit includes a first chemical solution heating unit for heating the chemical solution stored in the chemical solution storage unit corresponding to the first region of the substrate to a first temperature, and a second chemical solution heating unit for heating the chemical solution storage unit corresponding to the second region of the substrate, And a second chemical solution heating unit for heating the chemical solution stored in the second chemical solution storage tank to a second temperature. Here, the chemical liquid heating unit may be provided in a larger number when the area of the substrate is further subdivided.

이에, 상기 약액 분사부의 경우에도 상기 제1 온도로 가열된 상기 약액을 상기 기판의 제1 영역으로 분사하기 위한 제1 약액 분사부 및 상기 제2 온도로 가열된 상기 약액을 상기 기판의 제2 영역으로 분사하기 위한 제2 약액 분사부로 이루어지도록 구비될 수 있다. 마찬가지로, 상기 약액 분사부 또한 상기 기판의 영역을 더욱 세분할 경우 더 많은 개수로 구비될 수 있다.Therefore, even in the case of the chemical liquid injecting unit, the first chemical liquid injecting unit for injecting the chemical liquid heated to the first temperature into the first region of the substrate, and the second chemical liquid injecting unit injecting the chemical liquid heated to the second temperature into the second region And a second chemical liquid injecting portion for injecting the chemical liquid injected into the second chemical liquid injecting portion. Similarly, when the area of the substrate is further subdivided, the chemical liquid injecting part may be provided in a larger number.

또한, 상기 약액 가열부는 상기 약액 저장부의 외부에서 상기 약액을 가열하도록 구비되거나, 상기 약액 저장부의 내부에서 상기 약액을 가열하도록 구비될 수 있다. 아울러, 상기 약액 가열부는 상기 약액 저장부의 외부 및 내부 모두 또는 각각에 구비될 수도 있다. 특히, 상기 약액 가열부가 상기 약액 저장부의 내부에 구비될 경우 상기 약액 가열부가 상기 약액 저장부에 저장된 약액에 의해 열화될 수도 있기 때문에 상기 약액 가열부를 보호하기 위한 보호 부재가 더 구비될 수도 있다.The chemical solution heating unit may be provided to heat the chemical solution from the outside of the chemical solution storage unit or to heat the chemical solution inside the chemical solution storage unit. In addition, the chemical solution heating unit may be provided on the outside or inside of the chemical solution storage unit or on each of the inside or the inside of the chemical solution storage unit. In particular, when the chemical liquid heating unit is provided inside the chemical liquid storage unit, the chemical liquid heating unit may be deteriorated by the chemical liquid stored in the chemical liquid storage unit, so that a protective member for protecting the chemical liquid heating unit may be further provided.

그리고 본 발명의 기판 처리 장치는 상기 약액 처리 장치인 약액 저정부, 약액 분사부 및 약액 가열부와 더불어 척을 더 구비할 수 있다.Further, the substrate processing apparatus of the present invention may further comprise a chuck in addition to the chemical solution processing apparatus, the chemical solution dispensing section, and the chemical solution heating section.

상기 척의 경우에는 기판을 낱장 단위로 지지할 수 있는 매엽식 구조를 갖는다. 그리고 상기 척은 상기 기판의 지지하기 위한 지지핀을 구비할 수 있다. 또한, 상기 척은 상기 기판을 지지한 상태에서 회전 구동할 수 있도록 구비될 수 있다. 아울러, 상기 척은 상기 기판을 가열하기 위한 가열 부재를 더 구비할 수도 있고, 상기 약액을 순환시킬 수 있는 구조를 가질 수도 있다.In the case of the chuck, the substrate has a single-wafer structure capable of supporting the substrate by a single unit. And the chuck may include a support pin for supporting the substrate. The chuck may be rotatably driven in a state in which the substrate is supported. In addition, the chuck may further include a heating member for heating the substrate, and may have a structure capable of circulating the chemical liquid.

따라서 본 발명의 약액 처리 장치 및 기판 처리 장치는 낱장 단위의 기판을 대상으로 공정을 수행하여 필요한 양만큼의 약액을 사용할 수 있기 때문에 약액의 소모량을 줄일 수 있고, 그리고 기판의 영역에 따라 서로 다른 온도로 가열된 약액을 공급하여 공정을 수행할 수 있기 때문에 공정이 이루어지는 기판의 균일성을 향상시킬 수 있다.Therefore, the chemical liquid processing apparatus and the substrate processing apparatus of the present invention can reduce the consumption amount of the chemical liquid because the chemical liquid processing apparatus and the substrate processing apparatus can process the required number of chemical liquids by performing the process on the substrate of a single unit, It is possible to improve the uniformity of the substrate on which the process is performed.

이하, 첨부하는 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대하여 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제1 실시예First Embodiment

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram showing a substrate processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(100)는 척(20) 및 약액 공급 장치(10)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the substrate processing apparatus 100 may include a chuck 20 and a chemical liquid supply device 10.

상기 척(20)은 기판(21)을 낱장 단위로 지지할 수 있다. 특히, 상기 척(20)에 지지되는 기판(21)은 지지핀(23)에 의해 지지되는 구조를 가질 수 있다.The chuck 20 may support the substrate 21 on a sheet-by-sheet basis. In particular, the substrate 21 supported by the chuck 20 may have a structure supported by the support pins 23.

상기 약액 공급 장치(10)는 약액 저장부(13), 약액 분사부(15a, 15b) 및 약액 가열부(17a, 17b)를 포함할 수 있다.The chemical liquid supply device 10 may include a chemical liquid storage portion 13, chemical liquid injecting portions 15a and 15b and chemical liquid heating portions 17a and 17b.

상기 약액 저장부(13)는 상기 척(20)에 지지된 상기 기판(21)을 향하여 분사하기 위한 약액(11)을 저장한다. 그리고 상기 약액 저장부(13)는 상기 기판(21) 상부에 배치되게 구비될 수 있다. 이때, 상기 약액 저장부(13)는 외부에 설치되는 약액 탱크(도시되지 않음) 등으로부터 상기 약액(11)을 공급받을 수 있는 공급 라인과 연결될 수 있다. 그리고 상기 약액 저장부(13)는 상기 기판(21) 상부에 배치되게 구비하는 것은 상기 기판(21)으로 분사되는 상기 약액(11)의 온도 손실을 최소화하기 위함이다. 이는, 상기 약액 저장부(13)가 상기 기판(21) 상부에 배치되지 않고, 다른 장소에 배치될 경우 상기 약액 저장부(13)에 저장된 상기 약액(11)을 가열함에도 불구하고 열손실로 인하여 원하는 공정 특성을 얻지 못할 수 있기 때문이다.The chemical solution storage part 13 stores the chemical solution 11 for spraying toward the substrate 21 supported by the chuck 20. [ The chemical solution storage unit 13 may be disposed on the substrate 21. At this time, the chemical solution storage part 13 may be connected to a supply line that can receive the chemical solution 11 from a chemical solution tank (not shown) provided outside. The chemical solution storage part 13 is disposed on the substrate 21 in order to minimize the temperature loss of the chemical solution 11 injected onto the substrate 21. [ This is because when the chemical solution storage part 13 is not disposed on the substrate 21 but is disposed at another place, the chemical solution stored in the chemical solution storage part 13 is heated, The desired process characteristics may not be obtained.

상기 약액 분사부(15a, 15b)는 상기 약액(11)을 상기 기판(21)을 향하여 분사하도록 상기 약액 저장부(13)와 연결되게 구비될 수 있다. 여기서, 상기 약액 저장부(13)가 상기 기판(21) 상부에 배치되는 구조를 갖기 때문에 상기 약액 분사부(15a, 15b) 또한 상기 기판(21) 상부에 배치되는 구조를 가질 수 있다.The chemical liquid injecting units 15a and 15b may be connected to the chemical liquid storing unit 13 to inject the chemical liquid 11 toward the substrate 21. [ Since the chemical solution storage part 13 is disposed on the substrate 21, the chemical solution spraying parts 15a and 15b may be disposed on the substrate 21.

그리고 상기 약액 분사부(15a, 15b)는 상기 기판(21)의 제1 영역으로 상기 약액(11)을 분사할 수 있는 제1 약액 분사부(15a) 및 상기 기판(21)의 제2 영역으로 상기 약액(11)을 분사할 수 있는 제2 약액 분사부(15b)로 구비될 수 있다. 이때, 상기 기판(21)의 제1 영역은 상기 기판(21)의 중심 영역에 해당할 수 있고, 상기 기판(21)의 제2 영역은 상기 기판(21)의 외곽 영역인 주변 영역에 해당할 수 있다.The chemical liquid injecting portions 15a and 15b are provided with a first chemical liquid injecting portion 15a capable of injecting the chemical liquid 11 into the first region of the substrate 21 and a second chemical liquid injecting portion And a second chemical liquid injecting portion 15b capable of injecting the chemical liquid 11. [ The first region of the substrate 21 may correspond to a central region of the substrate 21 and the second region of the substrate 21 may correspond to a peripheral region of the substrate 21 .

또한, 도시하지는 않았지만 상기 기판(21)의 제1 영역과 제2 영역 사이를 제3 영역으로 정의할 경우 상기 기판(21)의 제3 영역으로 상기 약액(11)을 분사할 수 있는 제3 약액 분사부를 더 구비할 수도 있다.In addition, although not shown, when a region between the first region and the second region of the substrate 21 is defined as a third region, a third chemical liquid capable of jetting the chemical liquid 11 into a third region of the substrate 21 And may further include a jetting section.

상기 약액 가열부(17a, 17b)는 상기 약액(11)을 적어도 2가지 온도를 갖도록 가열할 수 있는 것으로써, 상기 기판(21)을 기준으로 상기 기판(21)의 제1 영역에 대응되는 상기 약액 저장부(13)에 저장된 상기 약액(11)을 제1 온도로 가열하기 위한 제1 약액 가열부(17a) 및 상기 기판(21)의 제2 영역에 대응되는 상기 약액 저장부(13)에 저장된 상기 약액(11)을 제2 온도로 가열하기 위한 제2 약액 가열부(17b)로 구비될 수 있다. 이에, 상기 제1 약액 가열부(17a)는 상기 기판(21)의 중심 영역에 대응되는 상기 약액 저장부(13)의 중심 영역에 저장된 상기 약액(11)을 제1 온도로 가열하도록 구비되고, 상기 제2 약액 가열부(17b)는 상기 기판(21)의 주변 영역에 대응되는 상기 약액 저장부(13)의 주변 영역에 저장된 상기 약액(11)을 제2 온도로 가열하도록 구비될 수 있다.The chemical liquid heating units 17a and 17b are capable of heating the chemical liquid 11 to have at least two temperatures so that the chemical liquid heating units 17a and 17b can heat the chemical liquid 11 to a predetermined temperature, A first chemical solution heating part 17a for heating the chemical solution 11 stored in the chemical solution storage part 13 to a first temperature and a second chemical solution heating part 17b for heating the chemical solution storage part 13 corresponding to the second area of the substrate 21 And a second chemical solution heating unit 17b for heating the stored chemical solution 11 to a second temperature. The first chemical solution heating unit 17a is provided to heat the chemical solution 11 stored in the central region of the chemical solution storage unit 13 corresponding to the central region of the substrate 21 to a first temperature, The second chemical solution heating unit 17b may be configured to heat the chemical solution 11 stored in the peripheral region of the chemical solution storage unit 13 corresponding to the peripheral region of the substrate 21 to a second temperature.

마찬가지로, 도시하지는 않았지만 상기 기판(21)의 제1 영역과 제2 영역 사이를 제3 영역으로 정의할 경우 상기 기판(21)의 제3 영역에 대응되는 상기 약액 저장부(13)에 저장된 상기 약액(11)을 제3 온도로 가열하기 위한 제3 약액 가열부를 더 구비할 수도 있다.Similarly, although not shown, when a region between the first region and the second region of the substrate 21 is defined as a third region, the chemical solution stored in the chemical solution storage portion 13 corresponding to the third region of the substrate 21 And a third chemical solution heating unit for heating the substrate 11 to a third temperature.

그리고 상기 약액 가열부(17a, 17b)는 상기 약액 저장부(13)의 외부에 배치되도록 구비될 수 있다. 즉, 상기 약액 가열부(17a, 17b)는 상기 약액 저장부(13)의 근방에서 상기 약액 저장부(13)에 저장된 상기 약액(11)을 가열할 수 있도록 구비될 수 있는 것이다.The chemical solution heating units 17a and 17b may be disposed outside the chemical solution storage unit 13. That is, the chemical solution heating units 17a and 17b may be provided to heat the chemical solution 11 stored in the chemical solution storage unit 13 in the vicinity of the chemical solution storage unit 13. [

아울러, 상기 제1 약액 분사부(15a) 및 상기 제1 약액 가열부(17a) 그리고 상기 제2 약액 분사부(15b) 및 상기 제2 약액 가열부(17b)는 서로 근방에 배치되도록 구비될 수 있다. 이는, 상기 제1 약액 분사부(15a)를 통하여 상기 기판(21)의 제1 영역인 중심 영역에 상기 제1 온도로 가열된 상기 약액(11)을 분사하기 때문이고, 상기 제2 약액 분사부(15b)를 통하여 상기 기판(21)의 제2 영역인 주변 영역에 상기 제2 온도로 가열된 상기 약액(11)을 분사하기 때문이다.The first chemical solution injecting unit 15a and the first chemical solution heating unit 17a and the second chemical solution injecting unit 15b and the second chemical solution heating unit 17b may be disposed in the vicinity of each other. have. This is because the chemical liquid 11 heated at the first temperature is injected into the center region which is the first region of the substrate 21 through the first chemical liquid injecting section 15a, (11) heated to the second temperature is sprayed to the peripheral region, which is the second region of the substrate (21), through the second region (15b).

이에, 상기 기판 처리 장치(100)를 사용하는 공정에서는 낱장 단위의 기판(21)을 대상으로 상기 약액 공급 장치(10)의 상기 제1 약액 가열부(17a) 및 상기 제1 약액 분사부(15a)를 사용하여 상기 기판(21)의 제1 영역에 상기 제1 온도로 가열된 상기 약액(11)을 분사할 수 있고, 상기 약액 공급 장치(10)의 상기 제2 약액 가열부(17b) 및 상기 제2 약액 분사부(15b)를 사용하여 상기 기판(21)의 제2 영역에 상기 제2 온도로 가열된 상기 약액(11)을 분사할 수 있다.In the step of using the substrate processing apparatus 100, the first chemical solution heating unit 17a and the first chemical solution injection unit 15a of the chemical liquid supply device 10 ) Can be used to spray the chemical solution (11) heated to the first temperature to the first region of the substrate (21), and the second chemical solution heating portion (17b) and the second chemical solution heating portion The chemical solution 11 heated to the second temperature can be injected into the second region of the substrate 21 using the second chemical solution injecting portion 15b.

그리고 상기 약액 공급 장치(10)에서 상기 제1 약액 가열부(17a) 및 상기 제2 약액 가열부(17b) 모두가 상기 약액 저장부(13)의 외부에 구비되는 것으로 한정하고 있지만, 이와 달리 상기 제1 약액 가열부(17a)는 상기 약액 저장부(13)의 외부에 구비되고, 상기 제2 약액 가열부(17b)는 상기 약액 저장부(13)의 내부에 구비되거나 또는 상기 제1 약액 가열부(17a)가 상기 약액 저장부(13)의 내부에 구비되고, 상기 제2 약액 가열부(17b(가 상기 약액 저장부(13)의 외부에 구비될 수도 있다.In the chemical liquid supply apparatus 10, both the first chemical liquid heating unit 17a and the second chemical liquid heating unit 17b are provided outside the chemical liquid storage unit 13. Alternatively, The first chemical solution heating part 17a is provided outside the chemical solution storage part 13 and the second chemical solution heating part 17b is provided inside the chemical solution storage part 13, And the second chemical solution heating part 17b may be provided outside the chemical solution storage part 13. The second chemical solution heating part 17b may be provided inside the chemical solution storage part 13,

이와 같이, 제1 실시예에서의 상기 기판 처리 장치(100)는 상기 척(20)과 함께 상기 약액 처리 장치(10)를 구비함으로서 낱장 단위의 기판(21)을 대상으로 공정을 수행할 수 있고, 더불어 상기 기판(21)의 중심 영역 및 상기 기판(21)의 주변 영역에 서로 다른 온도로 가열된 상기 약액(11)을 분사할 수 있다.As described above, the substrate processing apparatus 100 according to the first embodiment can process the substrate 21 on a sheet-by-unit basis by providing the chemical liquid processing apparatus 10 together with the chuck 20 The chemical liquid 11 heated at different temperatures can be injected into the center region of the substrate 21 and the peripheral region of the substrate 21. [

제2 실시예Second Embodiment

도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.2 is a schematic configuration diagram showing a substrate processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 도 2에서의 기판 처리 장치(200)는 약액 가열부(27a, 27b)가 배치되는 위치를 제외하고는 도 1에서의 기판 처리 장치(100)와 거의 유사한 구조를 가지기 때문에 동일 부재에 대해서는 동일 부호를 사용하고, 그 상세한 설명은 생략하기로 한다.2, the substrate processing apparatus 200 in FIG. 2 has a structure similar to that of the substrate processing apparatus 100 in FIG. 1 except for the positions where the chemical liquid heating sections 27a and 27b are disposed The same reference numerals are used for the same members, and a detailed description thereof will be omitted.

상기 약액 가열부(27a, 27b)는 상기 약액 저장부(13) 내부에 배치되게 구비될 수 있다. 그리고 상기 약액 가열부(27a, 27b)는 제1 약액 가열부(27a) 및 제2 약액 가열부(27b)를 구비할 수 있다. 이에, 상기 기판(21)의 중심 영역에 대응되는 상기 약액 저장부(13)의 내부 중심 영역에 상기 제1 약액 가열부(27a)가 배치되게 구비될 수 있고, 상기 기판(21)의 주변 영역에 대응되는 상기 약액 저장부(13)의 내부 주변 영역에 상기 제2 약액 가열부(27b)가 배치되게 구비될 수 있다.The chemical solution heating units 27a and 27b may be disposed inside the chemical solution storage unit 13. [ The chemical liquid heating units 27a and 27b may include a first chemical liquid heating unit 27a and a second chemical liquid heating unit 27b. The first chemical solution heating part 27a may be disposed in an inner central area of the chemical solution storage part 13 corresponding to the center area of the substrate 21, The second chemical solution heating part 27b may be disposed in an inner peripheral area of the chemical solution storage part 13 corresponding to the first chemical solution heating part 27b.

여기서, 상기 약액 가열부(27a, 27b)는 상기 약액 저장부(13)의 내부에 배치되게 구비되기 때문에 상기 약액(11)과의 접촉으로 인하여 열화되는 상황이 발생할 수도 있다. 이에, 상기 약액 가열부(27a, 27b)가 상기 약액 저장부(13)의 내부에 배치되게 구비될 경우에는 상기 약액 가열부(27a, 27b)를 상기 약액(11)으로부터 보호하기 위한 보호 부재를 더 사용할 수 있다.Since the chemical solution heating units 27a and 27b are disposed inside the chemical solution storage unit 13, the chemical solution heating units 27a and 27b may be deteriorated due to contact with the chemical solution 11. [ When the chemical solution heating units 27a and 27b are disposed inside the chemical solution storage unit 13, a protective member for protecting the chemical solution heating units 27a and 27b from the chemical solution 11 You can use more.

이에, 상기 기판 처리 장치(200)를 사용하는 공정에서는 낱장 단위의 기판(21)을 대상으로 상기 약액 공급 장치(10)의 상기 제1 약액 가열부(27a) 및 상기 제1 약액 분사부(25a)를 사용하여 상기 기판(21)의 제1 영역에 상기 제1 온도로 가열된 상기 약액(11)을 분사할 수 있고, 상기 약액 공급 장치(10)의 상기 제2 약액 가열부(27b) 및 상기 제2 약액 분사부(25b)를 사용하여 상기 기판(21)의 제2 영역에 상기 제2 온도로 가열된 상기 약액(11)을 분사할 수 있다.In the process using the substrate processing apparatus 200, the first chemical solution heating unit 27a and the first chemical solution injection unit 25a The first chemical liquid heating unit 27b and the second chemical liquid heating unit 27b of the chemical liquid supply device 10 can be configured to inject the chemical liquid 11 heated at the first temperature to the first region of the substrate 21, The chemical solution 11 heated to the second temperature can be injected into the second region of the substrate 21 by using the second chemical solution injecting portion 25b.

이와 같이, 제2 실시예에서의 상기 기판 처리 장치(100)는 상기 척(20)과 함께 상기 약액 처리 장치(10)를 구비함으로서 낱장 단위의 기판(21)을 대상으로 공정을 수행할 수 있고, 더불어 상기 기판(21)의 중심 영역 및 상기 기판의 주변 영역에 서로 다른 온도로 가열된 상기 약액(11)을 분사할 수 있다.As described above, the substrate processing apparatus 100 according to the second embodiment can process the substrate 21 on a sheet-by-unit basis by providing the chemical liquid processing apparatus 10 together with the chuck 20 , And the chemical liquid (11) heated at different temperatures can be injected into the central region of the substrate (21) and the peripheral region of the substrate.

제3 실시예Third Embodiment

도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.3 is a schematic configuration diagram showing a substrate processing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 도 3에서의 기판 처리 장치(300)는 약액 가열부(37a)가 구비되는 개수를 제외하고는 도 1에서의 기판 처리 장치(100)와 거의 유사한 구조를 가지기 때문에 동일 부재에 대해서는 동일 부호를 사용하고, 그 상세한 설명은 생략하기로 한다.3, the substrate processing apparatus 300 of FIG. 3 has a structure similar to that of the substrate processing apparatus 100 of FIG. 1 except for the number of the chemical liquid heating units 37a. Therefore, Are denoted by the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

상기 약액 가열부(37a)는 제1 약액 가열부(37a)로부만 구비될 수 있다. 이 경우, 상기 약액 가열부(37a)는 상기 약액 저장부(13)에 저장된 상기 약액(11)을 제1 온도로 가열하거나 또는 제2 온도로 가열할 수 있도록 구비될 수 있다. 즉, 상기 약액 가열부(37a) 자체에 대한 가열 온도를 조정함에 의해 상기 약액(11)을 제1 온도로 가열하거나 또는 제2 온도로 가열할 수 있도록 구비될 수 있는 것이다.The chemical solution heating unit 37a may be provided only by the first chemical solution heating unit 37a. In this case, the chemical solution heating unit 37a may be provided to heat the chemical solution 11 stored in the chemical solution storage unit 13 to a first temperature or to a second temperature. That is, the chemical solution heating unit 37a may be provided to heat the chemical solution 11 to the first temperature or to the second temperature by adjusting the heating temperature of the chemical solution heating unit 37a itself.

이에, 제1 온도로 가열된 상기 약액(11)이 필요할 경우에는 상기 약액 가열부(37a)를 사용하여 상기 약액(11)을 제1 온도로 가열하고, 제2 온도로 가열된 상기 약액(11)이 필요할 경우에는 상기 약액 가열부(37a)를 사용하여 상기 약액(11)을 제2 온도로 가열하는 것이다.If the chemical liquid 11 heated to the first temperature is required, the chemical liquid 11 is heated to the first temperature by using the chemical liquid heating unit 37a, and the chemical liquid 11 ), The chemical solution heating unit 37a is used to heat the chemical solution 11 to the second temperature.

또한, 상기 제1 온도로 가열된 상기 약액(11)을 사용할 경우에는 제1 약액 분사부(35a)를 통하여 상기 기판(21)의 중심 영역에만 상기 약액(11)을 분사하도록 조정하고, 상기 제2 온도로 가열된 상기 약액(11)을 사용할 경우에는 상기 제2 약액 분사부(35b)를 통하여 상기 기판(21)의 주변 영역에만 상기 약액(11)을 분사하도록 조정할 수도 있다.When the chemical solution 11 heated to the first temperature is used, the chemical solution 11 is injected through only the central region of the substrate 21 through the first chemical solution injecting portion 35a, When the chemical liquid 11 heated to the second temperature is used, the chemical liquid 11 may be injected only to the peripheral region of the substrate 21 through the second chemical liquid injecting section 35b.

그리고 상기 약액 가열부(37a)의 경우에는 상기 약액 저장부(13)의 외부에 구비되는 것에 대하여 설명하고 있지만, 이와 달리 상기 약액 가열부(37a)가 상기 약액 저장부(13)의 내부에도 구비될 수 있다. 마찬가지로, 상기 약액 가열부(37a)가 상기 약액 저장부(13)의 내부에 구비될 경우에는 상기 약액 가열부(37a)를 상기 약dor(11)으로부터 보호하기 위한 보호 부재를 더 구비할 수도 있다.And the chemical liquid heating unit 37a is provided outside the chemical liquid storage unit 13. Alternatively, the chemical liquid heating unit 37a may be provided inside the chemical liquid storage unit 13 . Similarly, when the chemical liquid heating unit 37a is provided inside the chemical liquid storage unit 13, the chemical liquid heating unit 37a may further include a protection member for protecting the chemical liquid heating unit 37a from the weak dor (11) .

이에, 상기 기판 처리 장치(100)를 사용하는 공정에서는 낱장 단위의 기판(21)을 대상으로 상기 약액 공급 장치(10)의 상기 약액 가열부(37a) 및 상기 제1 약액 분사부(35a)를 사용하여 상기 기판(21)의 제1 영역에 상기 제1 온도로 가열된 상기 약액(11)을 분사할 수 있고, 상기 약액 공급 장치(10)의 상기 약액 가열부(37a) 및 상기 제2 약액 분사부(35b)를 사용하여 상기 기판(21)의 제2 영역에 상기 제2 온도로 가열된 상기 약액(11)을 분사할 수 있다.Therefore, in the step of using the substrate processing apparatus 100, the chemical liquid heating unit 37a and the first chemical liquid injecting unit 35a of the chemical liquid supply device 10 are mounted on the substrate 21, , The chemical liquid (11) heated to the first temperature can be injected into the first region of the substrate (21), and the chemical liquid heating unit (37a) of the chemical liquid supply device (10) The chemical liquid 11 heated to the second temperature can be injected into the second region of the substrate 21 by using the ejection portion 35b.

이와 같이, 제3 실시예에서의 상기 기판 처리 장치(100)는 상기 척(20)과 함께 상기 약액 처리 장치(10)를 구비함으로서 낱장 단위의 기판(21)을 대상으로 공정을 수행할 수 있고, 더불어 상기 기판(21)의 중심 영역 및 상기 기판(21)의 주변 영역에 서로 다른 온도로 가열된 상기 약액(11)을 분사할 수 있다.As described above, the substrate processing apparatus 100 according to the third embodiment can process the substrate 21 on a sheet-by-sheet basis by providing the chemical liquid processing apparatus 10 together with the chuck 20 The chemical liquid 11 heated at different temperatures can be injected into the center region of the substrate 21 and the peripheral region of the substrate 21. [

따라서 본 발명에서는 낱장 단위의 기판을 대상으로 공정을 수행함으로써 필요한 양만큼의 약액을 사용할 수 있기 때문에 약액의 소모량을 줄일 수 있고, 그 결과 제조에 따른 가격 경쟁력을 확보할 수 있고, 그리고 기판의 영역에 따라 서로 다른 온도로 가열된 약액을 공급하여 공정을 수행할 수 있기 때문에 공정이 이루어지는 기판의 균일성을 향상시킬 수 있고, 그 결과 제조에 따른 품질 경쟁력을 확보할 수 있다.Therefore, according to the present invention, since a required amount of chemical solution can be used by performing a process on a substrate of a unit of a unit, the consumed amount of the chemical solution can be reduced. As a result, It is possible to improve the uniformity of the substrate on which the process is performed, and as a result, it is possible to secure the quality competitiveness according to the manufacture.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as defined by the following claims. It can be understood that it is possible.

10 : 약액 공급 장치 11 : 약액
13 : 약액 저장부
15a, 15b, 25a, 25b, 35a, 35b : 약액 분사부
17a, 17b, 27a, 27b, 37a : 약액 가열부
20 : 척 21 : 기판
23 : 지지핀 100 : 기판 처리 장치10: Chemical liquid supply device 11: Chemical solution
13:
15a, 15b, 25a, 25b, 35a, and 35b:
17a, 17b, 27a, 27b, and 37a:
20: Chuck 21: Substrate
23: support pin 100: substrate processing apparatus

Claims (7)

낱장 단위로 척에 지지된 기판을 향하여 분사하기 위한 약액을 저장하는 약액 저장부;
상기 약액 저장부로부터 공급되는 상기 약액을 상기 기판을 향하여 분사하도록 상기 약액 저장부와 연결되는 약액 분사부; 및
상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 적어도 2가지 온도를 갖도록 가열할 수 있는 약액 가열부를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 처리 장치.A chemical solution storage part for storing a chemical solution for spraying toward a substrate supported on the chuck in a sheet unit;
A chemical liquid dispensing portion connected to the chemical liquid storing portion to spray the chemical liquid supplied from the chemical liquid storing portion toward the substrate; And
And a chemical liquid heating unit capable of heating the chemical liquid stored in the chemical liquid storage unit to have at least two temperatures. 제1 항에 있어서, 상기 약액 저장부는 상기 기판 상부에 구비되고, 상기 약액 분사부는 상기 약액 저장부로부터 상기 기판 상부를 향하도록 상기 약액 저장부에 연결되고, 상기 약액 가열부는 상기 기판의 제1 영역에 대응되는 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 제1 온도로 가열하기 위한 제1 약액 가열부 및 상기 기판의 제2 영역에 대응되는 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 제2 온도로 가열하기 위한 제2 약액 가열부로 이루어지도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 처리 장치.2. The apparatus according to claim 1, wherein the chemical solution storage portion is provided on the substrate, the chemical solution injection portion is connected to the chemical solution storage portion from the chemical solution storage portion toward the upper portion of the substrate, A first chemical solution heating unit for heating the chemical solution stored in the chemical solution storage unit corresponding to the first region to a first temperature and a second chemical solution heating unit for heating the chemical solution stored in the chemical solution storage unit corresponding to the second region of the substrate to a second temperature And a second chemical solution heating unit. 제2 항에 있어서, 상기 약액 분사부는 상기 제1 온도로 가열된 상기 약액을 상기 기판의 제1 영역으로 분사하기 위한 제1 약액 분사부 및 상기 제2 온도로 가열된 상기 약액을 상기 기판의 제2 영역으로 분사하기 위한 제2 약액 분사부로 이루어지도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 처리 장치.3. The apparatus according to claim 2, wherein the chemical liquid injecting portion includes a first chemical liquid injecting portion for injecting the chemical liquid heated to the first temperature into the first region of the substrate, and a second chemical liquid injecting portion for injecting the chemical liquid heated to the second temperature into the substrate And a second chemical liquid injecting part for injecting the chemical liquid into the second area. 제1 항에 있어서, 상기 약액 가열부는 상기 약액 저장부의 외부에서 상기 약액을 가열하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 처리 장치.2. The chemical liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the chemical liquid heating unit is provided to heat the chemical liquid outside the chemical liquid storage unit. 제1 항에 있어서, 상기 약액 가열부는 상기 약액 저장부의 내부에서 상기 약액을 가열하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 처리 장치.2. The chemical liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the chemical liquid heating unit is provided to heat the chemical liquid inside the chemical liquid storage unit. 낱장 단위로 기판을 지지할 수 있는 척;
상기 기판을 향하여 분사하기 위한 약액을 저장하는 약액 저장부;
상기 약액 저장부로부터 공급되는 상기 약액을 상기 기판을 향하여 분사하도록 상기 약액 저장부와 연결되는 약액 분사부; 및
상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 적어도 2가지 온도를 갖도록 가열할 수 있는 약액 가열부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.A chuck capable of supporting the substrate on a sheet-by-sheet basis;
A chemical solution storage part for storing a chemical solution for spraying toward the substrate;
A chemical liquid dispensing portion connected to the chemical liquid storing portion to spray the chemical liquid supplied from the chemical liquid storing portion toward the substrate; And
And a chemical liquid heating unit capable of heating the chemical liquid stored in the chemical liquid storage unit to have at least two temperatures. 제6 항에 있어서, 상기 약액 저장부는 상기 기판 상부에 구비되고, 상기 약액 가열부는 상기 기판의 제1 영역에 대응되는 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 제1 온도로 가열하기 위한 제1 약액 가열부 및 상기 기판의 제2 영역에 대응되는 상기 약액 저장부에 저장된 상기 약액을 제2 온도로 가열하기 위한 제2 약액 가열부로 이루어지도록 구비되고, 상기 약액 분사부는 상기 약액 저장부로부터 상기 기판 상부를 향하도록 상기 약액 저장부에 연결됨과 아울러 상기 제1 온도로 가열된 상기 약액을 상기 기판의 제1 영역으로 분사하기 위한 제1 약액 분사부 및 상기 제2 온도로 가열된 상기 약액을 상기 기판의 제2 영역으로 분사하기 위한 제2 약액 분사부로 이루어지도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.7. The apparatus according to claim 6, wherein the chemical solution storage portion is provided on the substrate, and the chemical solution heating portion includes a first chemical solution heating portion for heating the chemical solution stored in the chemical solution storage portion corresponding to the first region of the substrate to a first temperature And a second chemical solution heating part for heating the chemical solution stored in the chemical solution storage part corresponding to the second area of the substrate to a second temperature, A first chemical solution spraying part connected to the chemical solution storage part for spraying the chemical solution heated to the first temperature to the first region of the substrate and a second chemical solution spraying part for spraying the chemical solution heated to the second temperature to the substrate, And a second chemical liquid injecting part for injecting the chemical liquid into the second area.
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