KR20140019048A - Apparatus for manufacturing integrated circuit device - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a device for manufacturing an integrated circuit device comprising two or more medicinal fluid storing units and two or more processing chambers which receive a medicinal fluid from the medicinal fluid storing units. The present invention comprises a first supply line, a second supply line, and a drain line. The first supply line is connected to the first medicinal fluid storing unit to supply the medicinal fluid to the medicinal fluid storing unit. The second supply line connects the first medicinal fluid storing unit and the second medicinal fluid storing unit to supply the medicinal fluid to the first medicinal fluid storing unit and the second medicinal fluid storing unit. The drain line is connected to the first medicinal fluid storing unit to drain the medicinal fluid supplied to the first medicinal fluid storing unit. The present invention continuously drains the medicinal fluid from the first medicinal fluid storing unit through a line until the medicinal fluid is under a predetermined level. When the medicinal fluid is under the predetermined level, the present invention supplies the medicinal fluid to the first medicinal fluid storing unit through the first supply line. [Reference numerals] (AA) Medicinal fluid drain; (BB) Medicinal fluid supply

Description

집적회로 소자의 제조 장치{Apparatus for manufacturing integrated circuit device}[0001] Apparatus for manufacturing integrated circuit devices [0002]

본 발명은 집적회로 소자의 제조 장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 적어도 두 개의 약액 저장부 및 적어도 두 개의 공정 챔버 각각을 구비하는 집적회로 소자의 제조 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for manufacturing an integrated circuit device, and more particularly, to an apparatus for manufacturing an integrated circuit device having at least two chemical liquid storage units and at least two process chambers.

일반적으로, 집적회로 소자의 제조에서는 약액을 사용한 단위 공정을 반복적으로 수행한다. 언급한 약액을 사용한 단위 공정의 예로서는 스트립 공정, 식각 공정, 세정 공정 등을 들 수 있다. 그리고 평판 디스플레이 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에서는 약액을 사용한 단위 공정을 연속적으로 수행할 수 있다. 즉, 적어도 두 개의 동일한 공정 챔버를 사용하여 연속적으로 단위 공정을 수행하는 것이다.In general, in the fabrication of integrated circuit devices, a unit process using a chemical liquid is repeatedly performed. As an example of the unit process using the chemical liquid mentioned above, a strip process, an etching process, a washing process, etc. are mentioned. In the manufacture of integrated circuit devices such as flat panel display devices, the unit process using a chemical liquid may be continuously performed. That is, the unit process is performed continuously using at least two identical process chambers.

언급한 연속적인 단위 공정에서는 주로 적어도 두 개의 공정 챔버 및 적어도 두 개의 공정 챔버 각각에 약액을 공급하는 적어도 두 개의 약액 저장부를 구비하는 집적회로 소자의 제조 장치를 사용한다. 그리고 언급한 적어도 두 개의 약액 저장부를 구비하는 집적회로 소자의 제조 장치를 사용한 단위 공정에서는 약액 수명에 따라 약액을 교체하는 상황이 발생한다. 특히, 약액 중 스트립 공정에 사용되는 약액의 경우에는 언급한 교체 상황이 보다 빈번하게 발생한다. 이때, 언급한 약액의 교체는 집적회로 소자의 제조 장치의 가동을 중단시킨 상태에서 이루어진다. 그리고 약액을 공급을 위해서는 별도의 약액 공급 탱크를 구비할 필요도 있다.The aforementioned continuous unit process mainly uses an apparatus for manufacturing an integrated circuit device having at least two chemical chambers and at least two chemical liquid reservoirs for supplying chemical liquids to each of the at least two process chambers. In the unit process using the apparatus for manufacturing an integrated circuit device having at least two chemical liquid storage units mentioned above, a situation in which chemical liquids are replaced according to chemical liquid life occurs. In particular, in the case of the chemical liquid used for the strip process of the chemical liquid, the replacement situation mentioned more frequently occurs. At this time, the replacement of the chemical liquid mentioned above is performed while the operation of the manufacturing apparatus of the integrated circuit element is stopped. And it is also necessary to provide a separate chemical liquid supply tank for supplying the chemical liquid.

이에, 종래의 집적회로 소자의 제조 장치는 언급한 약액의 교체를 위한 제조 장치 자체의 가동 중단으로 인하여 집적회로 소자의 제조에 따른 생산성이 저하되는 상황을 초래할 수 있고, 그리고 별도의 약액 공급 탱크를 구비해야 하는 문제점이 있다.Therefore, the conventional apparatus for manufacturing an integrated circuit device may cause a situation in which productivity is reduced due to the manufacture of the integrated circuit device due to the interruption of the manufacturing apparatus itself for the replacement of the chemical solution mentioned above, and a separate chemical solution supply tank may be used. There is a problem to be provided.

본 발명의 목적은 별도의 약액 공급 탱크를 생략할 수 있을 뿐만 아니라 약액 교체를 위한 제조 장치의 가동 중단 없이 계속적으로 새로운 약액을 공급할 수 있는 집적회로 소자의 제조 장치를 제공하는데 있다.It is an object of the present invention to provide an apparatus for manufacturing an integrated circuit device which can supply a new chemical liquid continuously without interruption of the manufacturing apparatus for chemical liquid replacement, as well as a separate chemical liquid supply tank.

언급한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자의 제조 장치는 적어도 두 개의 약액 저장부 및 상기 적어도 두 개의 약액 저장부 각각으로부터 약액을 제공받는 적어도 두 개의 공정 챔버를 구비하는 집적회로 소자의 제조 장치에 있어서, 상기 적어도 두 개의 약액 저장부 중 첫 번째 약액 저장부로 상기 약액을 공급하도록 상기 첫 번째 약액 저장부와 연결되는 제1 공급 라인; 상기 적어도 두 개의 약액 저장부 중 상기 첫 번째 약액 저장부로부터 두 번째 약액 저장부로 상기 약액이 공급되도록 상기 첫 번째 약액 저장부 및 상기 두 번째 약액 저장부 사이를 연결하는 제2 공급 라인; 및 상기 첫 번째 약액 저장부로 공급되는 약액을 계속적으로 드레인하도록 상기 첫 번째 약액 저장부와 연결되는 드레인 라인을 구비하고, 상기 첫 번째 약액 저장부 및 상기 두 번째 약액 저장부에 공급되는 약액이 일정 수위 이하가 될 때까지 상기 드레인을 라인을 통하여 상기 첫 번째 약액 저장부로부터 상기 약액을 계속적으로 드레인시키고, 상기 첫 번째 약액 저장부 및 상기 두 번째 약액 저장부에 공급되는 약액이 일정 수위 이하가 되면 상기 제1 공급 라인을 통하여 상기 첫 번째 약액 저장부로 상기 약액을 공급하도록 구비될 수 있다.An apparatus for manufacturing an integrated circuit device according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes at least two chemical liquid storage units and at least two process chambers receiving chemical liquids from each of the at least two chemical liquid storage units. An apparatus for manufacturing an integrated circuit device, comprising: a first supply line connected to the first chemical liquid storage part to supply the chemical liquid to a first chemical liquid storage part of the at least two chemical liquid storage parts; A second supply line connecting between the first chemical liquid storage unit and the second chemical liquid storage unit such that the chemical liquid is supplied from the first chemical liquid storage unit to the second chemical liquid storage unit among the at least two chemical liquid storage units; And a drain line connected to the first chemical liquid storage part to continuously drain the chemical liquid supplied to the first chemical liquid storage part, wherein the chemical liquid supplied to the first chemical liquid storage part and the second chemical liquid storage part has a predetermined level. The drain is continuously drained from the first chemical storage unit through the line until the drain is below, and when the chemicals supplied to the first chemical storage unit and the second chemical storage unit is below a certain level, the It may be provided to supply the chemical liquid to the first chemical liquid storage unit through a first supply line.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자의 제조 장치에서, 상기 제1 공급 라인에 구비되고, 상기 첫 번째 약액 저장부로 공급되는 약액이 설정 온도를 갖도록 조정할 수 있는 온도 조정부를 더 구비할 수 있다.In the apparatus for manufacturing an integrated circuit device according to an embodiment of the present invention mentioned above, the apparatus may further include a temperature adjusting unit provided in the first supply line and configured to adjust the chemical liquid supplied to the first chemical liquid storage unit to have a set temperature. Can be.

본 발명에 따르면, 집적회로 소자의 제조 장치는 적어도 두 개의 약액 저장부를 구비할 때 첫 번째 약액 저장부 및 두 번째 약액 저장부에 공급되는 약액이 일정 수위 이하가 될 때까지 드레인을 라인을 통하여 첫 번째 약액 저장부로부터 약액을 계속적으로 드레인시키고, 첫 번째 약액 저장부 및 두 번째 약액 저장부에 공급되는 약액이 일정 수위 이하가 되면 제1 공급 라인을 통하여 첫 번째 약액 저장부로 약액을 공급하도록 구비된다. 이에, 본 발명에서의 집적회로 소자의 제조 장치는 별도의 약액 공급 탱크가 없어도 첫 번째 약액 저장부 및 두 번째 약액 저장부에 계속적으로 새로운 약액을 공급할 수 있다.According to the present invention, an apparatus for manufacturing an integrated circuit device includes a drain through a line until the chemical liquid supplied to the first chemical liquid storage unit and the second chemical liquid storage unit has a predetermined level or less when the chemical liquid supply unit includes at least two chemical liquid storage units. The chemical liquid is continuously drained from the first chemical storage unit, and when the chemical liquid supplied to the first chemical storage unit and the second chemical storage unit is below a predetermined level, the chemical liquid is supplied to the first chemical storage unit through the first supply line. . Thus, the apparatus for manufacturing an integrated circuit device according to the present invention may continuously supply new chemical liquid to the first chemical liquid storage part and the second chemical liquid storage part even without a separate chemical liquid supply tank.

따라서 본 발명에 따른 집적회로 소자의 제조 장치는 별도의 약액 공급 탱크를 생략할 수 있을 뿐만 아니라 약액 교체를 위한 제조 장치의 가동 중단 없이 계속적으로 새로운 약액을 공급할 수 있기 때문에 집적회로 소자의 제조에 따른 생산성의 향상을 도모할 수 있을 뿐만 아니라 제조 공간의 효율성의 향상도 도모할 수 있다.Therefore, the apparatus for manufacturing an integrated circuit device according to the present invention can not only omit a separate chemical supply tank, but also can continuously supply new chemicals without interrupting operation of the manufacturing device for chemical replacement. Not only can the productivity be improved, but the efficiency of the manufacturing space can be improved.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자의 제조 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.FIG. 1 is a schematic diagram showing an apparatus for manufacturing an integrated circuit device according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.While the present invention has been described in connection with certain exemplary embodiments, it is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. In describing the drawings, similar reference numerals are used for similar components. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present application, the term "comprises" or "comprising ", etc. is intended to specify that there is a stated feature, figure, step, operation, component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.

실시예Example

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자의 제조 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.FIG. 1 is a schematic diagram showing an apparatus for manufacturing an integrated circuit device according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에서의 집적회로 소자의 제조 장치(100)는 3개의 공정 챔버(111, 113, 115) 및 3개의 약액 저장부(117, 119, 121)를 구비한다. 언급한 집적회로 소자의 제조 장치(100)의 경우 3개의 공정 챔버(111, 113, 115) 및 3개의 약액 저장부(117, 119, 121)를 구비하는 것에 대하여 한정하여 설명하고 있지만, 이에 한정되지는 않는다. 즉, 본 발명의 집적회로 소자의 제조 장치(100)는 n(n은 2 이상의 자연수)개의 공정 챔버 및 n개의 약액 저장부를 구비할 수 있다. 아울러, 본 발명의 집적회로 소자의 제조 장치(100)는 3개의 공정 챔버(111, 113, 115)를 구비하는 것으로써, 스트립 공정을 연속적으로 수행할 수 있다. 그리고 3개의 공정 챔버(111, 113, 115) 각각에는 스트립 공정을 수행하기 위한 약액을 기판(101) 상에 분사하는 노즐(131a, 131b, 131c)을 구비할 수 있다. 이때, 노즐(131a, 131b, 131c)은 언급한 3개의 약액 저장부(117, 119, 121) 각각과 연결되고, 3개의 약액 저장부(117, 119, 121) 각각으로부터 약액을 제공받아 기판(101)으로 분사할 수 있다. 즉, 3개의 공정 챔버(111, 113, 115) 각각 및 3개의 약액 저장부(117, 119, 121) 각각과 연결되는 것으로써, 3개의 약액 저장부(117, 119, 121) 각각이 3개의 공정 챔버(111, 113, 115) 각각에 구비되는 노즐(131a, 131b, 131c)과 연결되는 것이다. 이에, 언급한 3개의 공정 챔버(111, 113, 115) 각각 및 3개의 약액 저장부(117, 119, 121) 각각은 제공 라인(133a, 133b, 133c) 각각을 사용하여 연결하도록 구비할 수 있다. 즉, 제1 공정 챔버(111) 및 제1 약액 저장부(117)는 제1 제공 라인(133a)과 연결되도록 구비되고, 제2 공정 챔버(113) 및 제2 약액 저장부(119)는 제2 제공 라인(133b)과 연결되도록 구비되고, 제3 공정 챔버(115) 및 제3 약액 저장부(121)는 제3 제공 라인(133c)과 연결되도록 구비된다. 또한, 본 발명의 집적회로 소자의 제조 장치(100)는 제3 공정 챔버(115)로부터 제1 공정 챔버(111)로 기판(101)을 이송함에 의해 연속 공정이 이루어지는 것으로 이해할 수 있다.Referring to FIG. 1, the apparatus 100 for manufacturing an integrated circuit device according to the present invention includes three process chambers 111, 113, and 115 and three chemical storage units 117, 119, and 121. In the case of the integrated circuit device manufacturing apparatus 100 described above, it is limited to three process chambers 111, 113, and 115 and three chemical storage units 117, 119, and 121. It doesn't work. In other words, the apparatus 100 for manufacturing an integrated circuit device of the present invention may include n process chambers and n chemical liquid storage units. In addition, since the apparatus 100 for manufacturing an integrated circuit device of the present invention includes three process chambers 111, 113, and 115, the strip process may be continuously performed. Each of the three process chambers 111, 113, and 115 may be provided with nozzles 131a, 131b, and 131c for spraying a chemical liquid on the substrate 101 to perform a strip process. In this case, the nozzles 131a, 131b, and 131c are connected to each of the three chemical liquid storage units 117, 119, and 121 mentioned above, and receive the chemical liquid from each of the three chemical liquid storage units 117, 119, and 121. 101). That is, each of the three process chambers 111, 113, and 115 and each of the three chemical storage units 117, 119, and 121 are connected, respectively, so that each of the three chemical storage units 117, 119, and 121 is connected to three. It is connected to the nozzles 131a, 131b, and 131c provided in the process chambers 111, 113, and 115, respectively. Thus, each of the three process chambers 111, 113, and 115 and each of the three chemical storage units 117, 119, and 121 may be provided to be connected to each other using the provision lines 133a, 133b, and 133c, respectively. . That is, the first process chamber 111 and the first chemical liquid storage unit 117 are provided to be connected to the first providing line 133a, and the second process chamber 113 and the second chemical liquid storage unit 119 are made of 2 is provided to be connected to the supply line 133b, and the third process chamber 115 and the third chemical liquid storage unit 121 are provided to be connected to the third supply line 133c. In addition, the integrated circuit device manufacturing apparatus 100 of the present invention can be understood that the continuous process is performed by transferring the substrate 101 from the third process chamber 115 to the first process chamber 111.

그리고 본 발명의 집적회로 소자의 제조 장치(100)의 경우 3개의 약액 저장부(117, 119, 121)로의 약액의 공급은 외부에 구비되는 약액 공급 부재(도시되지 않음)로부터 달성될 수 있다. 이에, 3개의 약액 저장부(117, 119, 121) 중 제1 약액 저장부로(117)의 약액 공급은 언급한 약액 공급 부재 및 제1 약액 저장부(117)와 연결되는 제1 공급 라인(161)에 의해 달성될 수 있다. 아울러, 제2 약액 저장부(119)로의 약액 공급은 제1 약액 저장부(117) 및 제2 약액 저장부(119) 사이를 연결하는 제2 공급 라인(151)에 의해 달성될 수 있고, 제3 약액 저장부(121)로의 약액 공급은 제2 약액 저장부(119) 및 제3 약액 저장부(121) 사이를 연결하는 제3 공급 라인(153)에 의해 달성될 수 있다. 즉, 본 발명의 집적회로 소자의 제조 장치(100)에서 3개의 약액 저장부(117, 119, 121) 각각으로의 약액 공급은 언급한 제1 공급 라인(161)을 통하여 제1 약액 저장부(117)로 약액이 공급되고, 제2 공급 라인(151)을 통하여 제1 약액 저장부(117)로부터 제2 약액 저정부(119)로 약액이 공급되고, 제3 공급 라인(153)을 통하여 제2 약액 저장부(119)로부터 제3 약액 저장부(121)로 약액이 공급되는 것이다.In the case of the apparatus 100 for manufacturing an integrated circuit device of the present invention, the supply of chemical liquids to the three chemical liquid storage units 117, 119, and 121 may be achieved from a chemical liquid supply member (not shown) provided outside. Thus, the chemical liquid supply from the three chemical liquid storage units 117, 119, and 121 to the first chemical liquid storage unit 117 is connected to the first chemical liquid supply member and the first chemical liquid storage unit 117. Can be achieved by In addition, the supply of the chemical liquid to the second chemical liquid storage unit 119 may be achieved by the second supply line 151 connecting between the first chemical liquid storage unit 117 and the second chemical liquid storage unit 119. The chemical liquid supply to the chemical liquid storage unit 121 may be achieved by a third supply line 153 connecting the second chemical liquid storage unit 119 and the third chemical liquid storage unit 121. That is, the chemical liquid supply to each of the three chemical liquid storage units 117, 119, and 121 in the apparatus 100 for manufacturing the integrated circuit device of the present invention may be performed using the first chemical liquid storage unit through the aforementioned first supply line 161. The chemical liquid is supplied to 117, the chemical liquid is supplied from the first chemical liquid storage unit 117 to the second chemical liquid storage unit 119 through the second supply line 151, and the chemical liquid is supplied through the third supply line 153. 2 The chemical liquid is supplied from the chemical liquid storage unit 119 to the third chemical liquid storage unit 121.

여기서, 본 발명의 집적회로 소자의 제조 장치(100)에서 제1 약액 저장부(117)에는 제1 약액 저장부(117)로 공급되는 약액을 계속적으로 드레인시키는 드레인 라인(167)을 구비한다. 이때, 드레인 라인(167)은 제1 약액 저장부(117)의 약액을 제1 공급 라인(161)으로 드레인시키도록 제1 공급 라인(161)과 연결되는 구조를 가질 수 있다.Here, in the apparatus 100 for manufacturing an integrated circuit device of the present invention, the first chemical liquid storage unit 117 includes a drain line 167 for continuously draining the chemical liquid supplied to the first chemical liquid storage unit 117. In this case, the drain line 167 may have a structure connected to the first supply line 161 to drain the chemical liquid of the first chemical storage unit 117 to the first supply line 161.

또한, 제1 공급 라인(161) 및 드레인 라인(167) 각각에는 밸브(161a, 167a) 각각이 구비될 수 있고, 특히 드레인 라인(167)에 구비되는 밸브(167a)는 오토-밸브를 포함할 수 있다. 아울러, 제1 공급 라인(161)에는 제1 약액 저장부(117)로 공급되는 약액이 설정 온도를 갖도록 조정할 수 있는 온도 조정부(181)가 구비될 수 있다.In addition, each of the first supply line 161 and the drain line 167 may be provided with each of the valves 161a and 167a. In particular, the valve 167a provided in the drain line 167 may include an auto-valve. Can be. In addition, the first supply line 161 may be provided with a temperature adjusting unit 181 to adjust the chemical liquid supplied to the first chemical storage unit 117 to have a set temperature.

이에, 언급한 본 발명의 집적회로 소자의 제조 장치(100)를 사용한 연속 공정을 수행할 때 제1 약액 공급부(117), 제2 약액 공급부(119) 및 제3 약액 공급부(121)로 약액이 공급되고, 그리고 제1 약액 공급부(117), 제2 약액 공급부(119) 및 제3 약액 공급부(121)에 공급되는 약액이 일정 수위 이하가 될 때까지 드레인 라인(167)을 통하여 제1 약액 저장부(117)의 약액을 계속적으로 드레인시킨다. 이에, 언급한 바와 같이 드레인 라인(167)을 통하여 제1 약액 저장부(117)의 약액을 계속적으로 드레인시킴에 따라 제1 약액 공급부(117), 제2 약액 공급부(119) 및 제3 약액 공급부(121)의 약액이 일정 수위 이하가 되면 다시 제1 공급 라인(161)을 통하여 제1 약액 저장부(117)로 약액을 공급한다. 즉, 본 발명에서의 집적회로 소자의 제조 장치(100)를 사용한 연속 공정에서는 약액의 공급, 드레인 및 공급을 계속적으로 반복하는 것이다.Therefore, when performing the continuous process using the apparatus 100 for manufacturing an integrated circuit device of the present invention mentioned above, the chemical liquid is transferred to the first chemical liquid supply unit 117, the second chemical liquid supply unit 119, and the third chemical liquid supply unit 121. The first chemical liquid is stored through the drain line 167 until the chemical liquid supplied to the first chemical liquid supply unit 117, the second chemical liquid supply unit 119, and the third chemical liquid supply unit 121 is below a predetermined level. The chemical liquid in the portion 117 is continuously drained. As described above, as the chemical liquid of the first chemical storage unit 117 is continuously drained through the drain line 167, the first chemical supply unit 117, the second chemical supply unit 119, and the third chemical supply unit are provided. When the chemical liquid of 121 is below a predetermined level, the chemical liquid is again supplied to the first chemical storage unit 117 through the first supply line 161. That is, in the continuous process using the apparatus 100 for manufacturing an integrated circuit element in the present invention, the supply, the drain, and the supply of the chemical liquid are continuously repeated.

이에, 언급한 바와 같이 약액의 공급, 드레인 및 공급의 계속적인 반복이 이루어짐에 따라 계속적으로 제1 약액 공급부(117), 제2 약액 공급부(119) 및 제3 약액 공급부(121)로 새로운 약액의 공급이 가능하다. 따라서 본 발명에서는 계속적으로 새로운 약액의 공급이 가능하기 때문에 약액 수명에 따라 약액을 교체할 필요가 없다. 즉, 언급한 바와 같이 약액의 공급, 드레인 및 공급의 계속적인 반복을 통하여 계속적으로 새로운 약액의 공급이 가능하기 때문에 약액을 교체할 필요가 없는 것이다. 그러므로 본 발명의 집적회로 소자의 제조 장치(100)를 사용할 경우에는 약액의 교체를 위하여 제조 장치 자체의 가동을 중단시킬 필요가 없는 것이다. 또한, 약액의 교체를 위한 별도의 약액 공급 탱크도 필요가 없는 것이다.Accordingly, as mentioned above, as the supply, drain, and supply of the chemical liquid is continuously repeated, the first chemical liquid supply part 117, the second chemical liquid supply part 119, and the third chemical liquid supply part 121 continuously supply the new chemical liquid. Supply is possible. Therefore, in the present invention, since it is possible to continuously supply new chemicals, it is not necessary to replace the chemicals according to the chemical lifespan. That is, as mentioned, it is not necessary to replace the chemical liquid because the new chemical liquid can be continuously supplied through the continuous repetition of the supply, drain and supply of the chemical liquid. Therefore, in the case of using the apparatus 100 for manufacturing an integrated circuit device of the present invention, there is no need to stop the operation of the manufacturing apparatus itself in order to replace the chemical liquid. In addition, there is no need for a separate chemical liquid supply tank for chemical liquid replacement.

아울러, 제1 공급 라인(161)을 통하여 제1 약액 공급부(117)로 약액을 공급할 때 온도 조정부(181)를 사용하여 약액이 설정 온도를 갖도록 함으로써 보다 효율적으로 공정을 수행할 수 있다.In addition, when the chemical liquid is supplied to the first chemical liquid supply unit 117 through the first supply line 161, the chemical liquid may have a set temperature by using the temperature adjusting unit 181 to perform the process more efficiently.

이와 같이, 본 발명의 집적회로 소자의 제조 장치는 약액의 공급, 드레인 및 공급의 계속적인 반복을 통하여 계속적으로 새로운 약액을 공급함으로써 약액을 교체할 필요가 없기 때문에 약액의 교체를 위하여 제조 장치 자체의 가동을 중단시킬 필요가 없고, 그리고 약액의 교체를 위한 별도의 약액 공급 탱크도 필요가 없다.As described above, the apparatus for manufacturing an integrated circuit device of the present invention does not need to replace the chemical liquid by continuously supplying a new chemical liquid through continuous supply of the chemical liquid, the drain and the supply of the chemical liquid. There is no need to shut down, and there is no need for a separate chemical supply tank for chemical replacement.

이에, 본 발명의 집적회로 소자의 제조 장치는 별도의 약액 공급 탱크를 생략할 수 있을 뿐만 아니라 약액 교체를 위한 제조 장치의 가동 중단 없이 계속적으로 새로운 약액을 공급할 수 있기 때문에 집적회로 소자의 제조에 따른 생산성의 향상을 도모할 수 있을 뿐만 아니라 제조 공간의 효율성의 향상도 도모할 수 있고, 그 결과 비용 감소 및 제조 장치 제작에 따른 가격 절감까지도 기대할 수 있다.Therefore, the apparatus for manufacturing an integrated circuit device of the present invention can omit a separate chemical liquid supply tank and can continuously supply new chemical liquid without interrupting operation of the manufacturing apparatus for chemical liquid replacement. Not only can the productivity be improved, but the efficiency of the manufacturing space can be improved. As a result, the cost can be expected to be reduced and the cost can be reduced by manufacturing the manufacturing apparatus.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as defined by the following claims. It can be understood that it is possible.

100 : 집적회로 소자 제조 장치
101 : 기판 111 : 제1 공정 챔버
113 : 제2 공정 챔버 115 : 제3 공정 챔버
117 ; 제1 약액 저장부 119 : 제2 약액 저장부
121 : 제3 약액 저장부 151 : 제2 공급 라인
153 : 제3 공급 라인 161 : 제1 공급 라인
167 : 드레인 라인 181 : 온도 조정부100: Integrated Circuit Device Manufacturing Apparatus
101 substrate 111 first process chamber
113: second process chamber 115: third process chamber
117; First chemical storage unit 119: Second chemical storage unit
121: third chemical liquid storage unit 151: second supply line
153: third supply line 161: first supply line
167: drain line 181: temperature control unit

Claims (2)

적어도 두 개의 약액 저장부 및 상기 적어도 두 개의 약액 저장부 각각으로부터 약액을 제공받는 적어도 두 개의 공정 챔버를 구비하는 집적회로 소자의 제조 장치에 있어서,
상기 적어도 두 개의 약액 저장부 중 첫 번째 약액 저장부로 상기 약액을 공급하도록 상기 첫 번째 약액 저장부와 연결되는 제1 공급 라인;
상기 적어도 두 개의 약액 저장부 중 상기 첫 번째 약액 저장부로부터 두 번째 약액 저장부로 상기 약액이 공급되도록 상기 첫 번째 약액 저장부 및 상기 두 번째 약액 저장부 사이를 연결하는 제2 공급 라인; 및
상기 첫 번째 약액 저장부로 공급되는 약액을 계속적으로 드레인하도록 상기 첫 번째 약액 저장부와 연결되는 드레인 라인을 구비하고,
상기 첫 번째 약액 저장부 및 상기 두 번째 약액 저장부에 공급되는 약액이 일정 수위 이하가 될 때까지 상기 드레인을 라인을 통하여 상기 첫 번째 약액 저장부로부터 상기 약액을 계속적으로 드레인시키고, 상기 첫 번째 약액 저장부 및 상기 두 번째 약액 저장부에 공급되는 약액이 일정 수위 이하가 되면 상기 제1 공급 라인을 통하여 상기 첫 번째 약액 저장부로 상기 약액을 공급하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자의 제조 장치.An apparatus for manufacturing an integrated circuit device having at least two chemical liquid storage portions and at least two process chambers receiving chemical liquids from each of the at least two chemical liquid storage portions,
A first supply line connected to the first chemical liquid storage unit to supply the chemical liquid to the first chemical liquid storage unit among the at least two chemical liquid storage units;
A second supply line connecting between the first chemical liquid storage unit and the second chemical liquid storage unit such that the chemical liquid is supplied from the first chemical liquid storage unit to the second chemical liquid storage unit among the at least two chemical liquid storage units; And
A drain line connected to the first chemical liquid storage part to continuously drain the chemical liquid supplied to the first chemical liquid storage part,
Continuously draining the chemical liquid from the first chemical liquid storage part through the drain line until the chemical liquid supplied to the first chemical liquid storage part and the second chemical liquid storage part is below a predetermined level, and the first chemical liquid And supplying the chemical liquid to the first chemical liquid storage part through the first supply line when the chemical liquid supplied to the storage part and the second chemical liquid storage part is below a predetermined level. 제1 항에 있어서, 상기 제1 공급 라인에 구비되고, 상기 첫 번째 약액 저장부로 공급되는 약액이 설정 온도를 갖도록 조정할 수 있는 온도 조정부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자의 제조 장치.The apparatus of claim 1, further comprising a temperature adjusting unit provided in the first supply line and configured to adjust the chemical liquid supplied to the first chemical liquid storage unit to have a set temperature.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190119325A (en) * 2018-04-12 2019-10-22 세메스 주식회사 Assembly for Storing Chemical and Apparatus for Dispensing Chemical having the same
KR20210007606A (en) 2019-07-12 2021-01-20 경상대학교산학협력단 Pig Estrus Test Apparatus
KR20210007595A (en) 2019-07-12 2021-01-20 경상대학교산학협력단 Pig Estrus Test Apparatus

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11251282A (en) * 1998-03-05 1999-09-17 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing device
JP2004186208A (en) * 2002-11-29 2004-07-02 Se Techno Co Ltd Washing device, washing method, and semiconductor manufacturing apparatus
JP2018007013A (en) * 2016-07-01 2018-01-11 ブラザー工業株式会社 Image processing device

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4869965B2 (en) 2007-01-30 2012-02-08 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate processing method and substrate processing apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11251282A (en) * 1998-03-05 1999-09-17 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing device
JP2004186208A (en) * 2002-11-29 2004-07-02 Se Techno Co Ltd Washing device, washing method, and semiconductor manufacturing apparatus
JP2018007013A (en) * 2016-07-01 2018-01-11 ブラザー工業株式会社 Image processing device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190119325A (en) * 2018-04-12 2019-10-22 세메스 주식회사 Assembly for Storing Chemical and Apparatus for Dispensing Chemical having the same
KR20210007606A (en) 2019-07-12 2021-01-20 경상대학교산학협력단 Pig Estrus Test Apparatus
KR20210007595A (en) 2019-07-12 2021-01-20 경상대학교산학협력단 Pig Estrus Test Apparatus

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