KR101139530B1 - Equipment for manufacturing liquid crystal display - Google Patents

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Abstract

액정표시장치 제조 설비가 제공된다. 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치 제조 설비는, 다수의 포토 리소그라피 장치, 다수의 포토 리소그라피 장치에 제공하기 위한 포토 레지스트 용액을 저장하는 저장 탱크, 포토 리소그라피 장치와 저장 탱크 사이를 연결하도록 형성되어 포토 레지스트 용액을 저장 탱크로부터 포토 리소그라피 장치로 공급하는 공급 배관 및 공급 배관 상에 형성되어 공급 배관을 통해 공급되는 포토 레지스트 용액의 유량(流量)을 조절하는 조절 밸브를 포함한다. A liquid crystal display manufacturing apparatus is provided. A liquid crystal display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, a plurality of photolithography apparatus, a storage tank for storing a photoresist solution for providing to the plurality of photolithography apparatus, formed to connect between the photolithography apparatus and the storage tank And a control valve which is formed on a supply pipe and a supply pipe for supplying the photoresist solution from the storage tank to the photolithography apparatus and controls the flow rate of the photoresist solution supplied through the supply pipe.

Description

액정표시장치 제조 설비{Equipment for manufacturing liquid crystal display}Equipment for manufacturing liquid crystal display

도 1은 종래의 기술에 따른 액정표시장치 제조 설비를 나타낸 구성 예시도이다.1 is an exemplary configuration diagram showing an LCD manufacturing apparatus according to the related art.

도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예 및 다른 실시예에 따른 액정표시장치 제조 설비를 나타낸 구성도이다. 2 and 3 are configuration diagrams illustrating a manufacturing apparatus for a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명>DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS

210 : 공정 챔버 220 : PR 탱크210: process chamber 220: PR tank

230 : 세정액 탱크 240, 245 : 공급 배관230: cleaning liquid tank 240, 245: supply piping

250, 255 : 조절 밸브250, 255: regulating valve

본 발명은 액정표시장치 제조 설비에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 공정시간 및 공정 비용을 절감할 수 있도록 개선된 액정표시장치 제조 설비에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid crystal display manufacturing apparatus, and more particularly, to an improved liquid crystal display manufacturing apparatus to reduce the process time and the process cost.

근래들어 액정표시장치가 디스플레이 수단으로 각광받고 있다. In recent years, liquid crystal displays are spotlighted as display means.

액정표시장치는 패널의 내부에 주입된 액정의 전기적, 광학적 성질을 이용하여 디스플레이 기능을 수행하는데, 소형, 경량 및 저소비 전력 등의 장점에 의해 컴퓨터 모니터나 이동 통신 단말기 등의 다양한 분야에 폭넓게 응용되고 있는 추세이다.The liquid crystal display performs display functions using the electrical and optical properties of the liquid crystal injected into the panel, and is widely applied to various fields such as computer monitors and mobile communication terminals due to the advantages of small size, light weight, and low power consumption. There is a trend.

이러한 액정표시장치는 구동방식의 차이에 따라, 스위칭 소자 및 TN(Twisted Nematic) 액정을 이용한 액티브 매트릭스(Active matrix) 표시방식과 STN(Super-Twisted Nematic) 액정을 이용한 패시브 매트릭스(passive matrix) 표시방식으로 크게 구분할 수 있다.The liquid crystal display device has an active matrix display method using a switching element and a twisted nematic liquid crystal and a passive matrix display method using a super-twisted nematic liquid crystal according to a difference in driving method. It can be divided into

상기 두 표시방식의 가장 큰 차이점은, 액티브 매트릭스 표시방식이 박막 트랜지스터(TFT)를 스위치로 이용하여 LCD를 구동하는 방식인데 반해, 패시브 매트릭스 표시방식은 트랜지스터를 사용하지 않기 때문에 이와 관련한 복잡한 회로를 필요로 하지 않는다는 것이다. 그러나 화질과 관련된 기술상 우위에 있는 액티브 매트릭스 표시방식의 액정표시장치가 널리 사용되고 있다.The biggest difference between the two display methods is that the active matrix display method uses a thin film transistor (TFT) as a switch to drive the LCD, whereas the passive matrix display method does not use a transistor, and thus requires a complicated circuit. It is not to be. However, the liquid crystal display of the active matrix display method, which is technically superior in terms of image quality, is widely used.

이와 같은 박막 트랜지스터가 구비되는 액정표시장치는 통상 세정, 증착, 포토, 식각 및 스트립 등의 공정의 반복에 의해 제조되는데, 이러한 공정이 4 마스크 제조 방식의 경우 4회, 5 마스크 방식의 경우 5회 반복되는 것이 보통이다.A liquid crystal display device having such a thin film transistor is usually manufactured by repetition of processes such as cleaning, deposition, photo, etching, and strip, which are performed four times for a four mask manufacturing method and five times for a five mask method. It is usually repeated.

도 1은 종래의 기술에 따른 액정표시장치 제조 설비를 나타낸 구성 예시도로써, 특히, 포토 리소그라피 장치의 개략적인 구성을 나타내고 있다.FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of a liquid crystal display manufacturing apparatus according to the related art, and in particular, shows a schematic configuration of a photolithography apparatus.

도 1을 참조하면, 종래의 기술에 따른 액정표시장치 제조용 포토 리소그라피 장치는 공정 챔버(110)와 공정 챔버(110)에 포토 레지스트 용액을 공급하는 2개의 PR 캐니스터(canister)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1, the photolithography apparatus for manufacturing a liquid crystal display according to the related art includes a process chamber 110 and two PR canisters supplying a photo resist solution to the process chamber 110.

즉, 각각의 공정 챔버(110)에 대해 포토 레지스트 용액이 보관되어 있는 하나 또는 두개의 PR(포토 레지스트) 캐니스터(120, 130)를 연결하여 사용하는 구조이다.That is, one or two PR (photoresist) canisters 120 and 130 in which photoresist solutions are stored are connected to each process chamber 110.

그런데, 이와 같은 종래의 포토 리소그라피 장치는 PR 캐시스터(120, 130)에 보관되는 PR 용액의 양이 많지 않은 관계로 PR 캐니스터(120, 130)의 교체 작업을 자주 수행해야만 한다는 문제점이 있다. However, such a conventional photolithography apparatus has a problem in that the replacement of the PR canisters 120 and 130 must be frequently performed since the amount of the PR solution stored in the PR cachers 120 and 130 is not large.

그리고 이 경우, PR 캐시스터(120, 130)를 교체하는 과정에서 유입됐을 수도 있는 에어(air)의 제거 등을 위해 일정량의 PR을 방출(discharge)해야만 한다는 문제점도 있다. 만일 유입된 에어의 제거가 원활히 이루어지지 않을 경우 기판 상에 얼룩 불량 등을 유발할 수 있기 때문이다.In this case, there is also a problem in that a certain amount of PR must be discharged in order to remove air, which may have flowed in while replacing the PR cachers 120 and 130. This is because if the inflow of air is not smoothly removed, defects on the substrate may be caused.

각각의 PR 캐니스터(120, 130)의 1회 교체에 소요되는 시간이나 방출되는 PR 의 양은 무시할 수 있을 정도일지 모르지만, 이를 공장 전체 또는 1년 단위로 계산하게 되면 막대한 양이 된다. 일반적으로 사용되는 포토 리소그라피 장비를 기준으로 이를 계산해보면 다음과 같다. The time required for one replacement of each PR canister (120, 130) or the amount of PR released may be negligible, but if this is calculated in the whole plant or on a yearly basis, it is a huge amount. Based on the commonly used photolithography equipment, this is calculated as follows.

가령, 임의의 액정표시장치 제조 라인이 13대의 포토 장비를 운용하며 각각의 장비에는 50갤런 PR 캐니스터가 하루 2.5개 사용되고, PR 캐니스터의 교체시 평균 0.46리터의 PR 용액이 버려진다고 가정하면, 이 라인에서 하루에 버려지는 PR 용액의 양은 14.95리터가 된다. PR 용액 20리터의 가격을 대략 50만원 정도라고 할 경우, 이 라인에서 PR 캐니스터의 교체를 위해 고의로 방출하는 PR 용액의 가격만 1년에 1억 3천만원이 넘는다는 결론이 나온다.For example, suppose an arbitrary LCD display line operates 13 photo equipment, each of which uses 50 gallon PR canisters per day, and an average of 0.46 liters of PR solution is discarded when the PR canister is replaced. The amount of PR solution thrown away per day is 14.95 liters. If the price of 20 liters of PR solution is about 500,000 won, the line concludes that the price of the deliberately released PR solution for the replacement of the PR canister is over 130 million won a year.

따라서, 불필요하게 낭비되는 비용 및 시간 등을 절감함으로써 결국 제품의 가격 경쟁력을 확보할 수 있도록 하기 위한 새로운 방안이 요구되고 있다.Therefore, there is a need for a new method for reducing cost and time, which is unnecessary waste, and thus ensuring price competitiveness of products.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 공정시간 및 공정 비용을 절감할 수 있도록 개선된 액정표시장치 제조 설비를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide an LCD manufacturing apparatus that is improved to reduce process time and process cost.

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해되어질 수 있을 것이다. The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치 제조 설비는, 다수의 포토 리소그라피 장치, 다수의 포토 리소그라피 장치에 제공하기 위한 포토 레지스트 용액을 저장하는 저장 탱크, 포토 리소그라피 장치와 저장 탱크 사이를 연결하도록 형성되어 포토 레지스트 용액을 저장 탱크로부터 포토 리소그라피 장치로 공급하는 공급 배관 및 공급 배관 상에 형성되어 공급 배관을 통해 공급되는 포토 레지스트 용액의 유량(流量)을 조절하는 조절 밸브를 포함한다.In order to achieve the above object, a liquid crystal display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, a plurality of photo lithography apparatus, a storage tank for storing a photo resist solution for providing to a plurality of photo lithography apparatus, a photo lithography apparatus and A control valve which is formed to be connected between the storage tanks to supply the photoresist solution from the storage tank to the photolithography device, and a control valve which is formed on the supply pipe and controls the flow rate of the photoresist solution supplied through the supply pipe. Include.

또한, 공급 배관을 세정하기 위한 세정액을 저장하는 세정액 탱크를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a cleaning liquid tank configured to store a cleaning liquid for cleaning the supply pipe.

여기서 저장 탱크는, 저장되는 포토 레지스트 용액의 종류에 따라 다수개 구비될 수 있으며, 공급 배관은, 메인(main) 배관, 다수의 저장 탱크 및 세정액 탱크 와 메인 배관 사이를 각각 연결하는 다수의 제 1 서브(sub) 배관, 그리고 메인 배관과 다수의 포토 리소그라피 장치 사이를 각각 연결하는 다수의 제 2 서브 배관을 구비할 수 있다.Here, a plurality of storage tanks may be provided according to the type of photoresist solution to be stored, and the supply pipe may include a plurality of first pipes connecting a main pipe, a plurality of storage tanks, and a cleaning liquid tank and a main pipe, respectively. Sub pipes and a plurality of second sub pipes each connecting between the main pipe and the plurality of photolithography devices may be provided.

이때 조절 밸브는, 시스템 관리자 등에 의해 원격 제어 가능하도록 구성되는 것이 좋다.At this time, the control valve is preferably configured to be remotely controlled by a system administrator or the like.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있을 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것으로, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be embodied in various forms, and the present embodiments are merely provided to make the disclosure of the present invention complete and the general knowledge in the art to which the present invention belongs. It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, the invention is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예 및 다른 실시예에 따른 액정표시장치 제조 설비를 나타낸 구성도로써, 특히, 포토 리소그라피 장치의 구성을 간략하게 나타내고 있다.2 and 3 are schematic diagrams illustrating a manufacturing apparatus of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention. In particular, the configuration of the photolithography apparatus is briefly shown.

먼저 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 포 토 리소그라피 설비는, 다수의 공정 챔버(210), PR 용액 저장 탱크(220), 세정액 탱크(230), 다수의 배관(240, 245) 및 다수의 밸브(250, 255)를 포함하여 구성된다.First, referring to FIG. 2, a photolithography apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a plurality of process chambers 210, a PR solution storage tank 220, a cleaning liquid tank 230, and a plurality of pipes. And a plurality of valves 250 and 255.

PR 탱크(220)에는 소정의 PR 용액이 대규모로 저장되어 있다. The PR tank 220 stores a predetermined PR solution on a large scale.

PR 탱크(220)에 저장되어 있는 PR 용액은 각각의 공정 챔버(210)와 연결된 공급 배관(240, 245)을 통해 공정 챔버(210)에 공급된다. 이때, 각각의 공정 챔버(210)에 따른 공급 PR 용액의 양을 조절할 수 있도록 하기 위한 조절 밸브(250, 255)가 구비될 수 있다.The PR solution stored in the PR tank 220 is supplied to the process chamber 210 through supply pipes 240 and 245 connected to each process chamber 210. In this case, control valves 250 and 255 may be provided to adjust the amount of the supply PR solution according to each process chamber 210.

또한, 정기적인 세정이나 공급되는 PR 물질의 교체 등을 위해 공급 배관(240)의 세정이 필요할 경우, 별도로 구비된 세정액 탱크(230)에 저장된 세정액을 공급함으로써 이러한 기능을 수행하도록 할 수 있다. 세정액 또한 조절 밸브(250, 255)에 의해 그 유량의 조절이 가능하도록 하는 것이 좋다.In addition, when the cleaning of the supply pipe 240 is necessary for regular cleaning or replacement of the supplied PR material, it is possible to perform this function by supplying the cleaning liquid stored in the cleaning liquid tank 230 provided separately. The cleaning liquid may also be adjusted to control the flow rate by the control valves 250 and 255.

이때, 각각의 조절 밸브(250, 255)는 시스템 관리자 등에 의해 원격으로 제어 가능하도록 구현될 수 있다.In this case, each of the control valves 250 and 255 may be implemented to be controlled remotely by a system administrator.

이에 따라, 외부로부터 구입한 PR 용액을 대용량의 PR 탱크(220)에 저장 보관함으로써, PR 캐니스터의 교체에 소요되던 인력의 낭비와 이때 버려지던 PR 용액 등을 절감할 수 있게 되었다.Accordingly, by storing and storing the PR solution purchased from the outside in the large-capacity PR tank 220, it is possible to reduce the waste of manpower required to replace the PR canister and the PR solution discarded at this time.

다음, 도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 포토 리소그라피 설비로써, 특히, 2종류 이상의 PR 용액이 수시로 교체 공급 요구되는 포토 리소그라피 장비를 나타낸다.Next, FIG. 3 is a photolithography apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention. In particular, FIG.

즉, 다수의 PR 탱크(320, 325)에는 각각 제 1 서브(sub) 배관(342)이 연결되어 있으며, 이들 서브 배관들(342)은 다시 메인(main) 배관(340)과 연결되어 있다. 그리고 메인 배관(340)은 또 다시 다수의 제 2 서브 배관(344)을 통해 각각의 포토 리소그라피 장비(310)로 연결된다.That is, a plurality of first sub pipes 342 are connected to the plurality of PR tanks 320 and 325, respectively, and these sub pipes 342 are connected to the main pipe 340 again. The main pipe 340 is again connected to the respective photolithography equipment 310 through the plurality of second sub pipes 344.

따라서, 도 3에 도시된 바와 같이, 4개의 대용량 PR 탱크(320, 325)가 구비된 경우라면, 최소 1종류의 PR 용액부터 최대 4종류의 PR 용액까지 교체 공급이 가능하게 된다.Therefore, as shown in FIG. 3, if four large-capacity PR tanks 320 and 325 are provided, replacement and supply of at least one type of PR solution to up to four types of PR solutions may be possible.

이때, 정기적인 세정 또는 PR 용액의 교체시 필요한 세정 공정의 수행을 위한 세정액이 저장되는 별도의 세정액 탱크(330)가 구비될 수 있음은 전술한 바 있다.In this case, it has been described above that a separate cleaning solution tank 330 may be provided to store the cleaning solution for performing a cleaning process necessary for periodic cleaning or replacement of the PR solution.

또한, 각각의 PR 탱크(320, 325)와 세정액 탱크(330) 및/또는 각각의 공정 챔버(310)와 연결된 공급 배관 상에는, 이를 통해 유통되는 PR 용액 또는 세정액의 유량을 조절하기 위한 밸브(350)가 구비될 수 있고, 이 경우 각각의 밸브들(350)은 시스템 관리자 등에 의해 외부로부터 원격 제어 가능하도록 구현되는 것이 바람직함 또한 전술한 바와 같다.In addition, on the supply pipe connected to each of the PR tanks 320 and 325 and the cleaning liquid tank 330 and / or the respective process chamber 310, a valve 350 for adjusting the flow rate of the PR solution or the cleaning liquid circulated therethrough. ) May be provided, and in this case, the respective valves 350 may be implemented to be remotely controlled from the outside by a system administrator.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해되어야만 한다.Although the embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. I can understand that. Therefore, the embodiments described above are to be understood in all respects as illustrative and not restrictive.

상기한 바와 같은 본 발명의 액정표시장치 제조 설비에 따르면, PR 용액의 교체에 소요되던 시간 및 불필요한 PR 용액의 낭비 등을 해결할 수 있게 되었다. 이에 따라, 보다 효율적인 액정표시장치의 제조가 가능하게 됨으로써, 액정표시장치의 가격 경쟁력을 향상시킬 수 있게 된다는 등의 장점이 있다.According to the liquid crystal display manufacturing apparatus of the present invention as described above, it is possible to solve the time required for the replacement of the PR solution, and waste of unnecessary PR solution. As a result, a more efficient liquid crystal display device can be manufactured, thereby improving the price competitiveness of the liquid crystal display device.

Claims (5)

다수의 포토 리소그라피 장치;Multiple photolithography devices; 상기 다수의 포토 리소그라피 장치에 제공하기 위한 포토 레지스트 용액을 저장하는 저장 탱크;A storage tank for storing a photoresist solution for providing to the plurality of photolithography devices; 상기 포토 리소그라피 장치와 상기 저장 탱크 사이를 연결하도록 형성되어, 상기 포토 레지스트 용액을 상기 저장 탱크로부터 상기 포토 리소그라피 장치로 공급하는 공급 배관;A supply pipe formed to connect between the photolithography device and the storage tank, and supplying the photoresist solution from the storage tank to the photolithography device; 상기 공급 배관을 세정하기 위한 세정액을 저장하는 세정액 탱크; 및A cleaning liquid tank for storing a cleaning liquid for cleaning the supply pipe; And 상기 공급 배관 상에 형성되어 상기 공급 배관을 통해 공급되는 상기 포토 레지스트 용액과 상기 세정액의 유량(流量)을 조절하는 조절 밸브를 포함하고,A control valve formed on the supply pipe and controlling a flow rate of the photoresist solution and the cleaning liquid supplied through the supply pipe, 상기 저장 탱크는 저장되는 포토 레지스트 용액의 종류에 따라 다수개 구비되며,The storage tank is provided in plurality depending on the type of photoresist solution to be stored, 상기 조절 밸브는 관리자에 의한 원격 제어가 가능한 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조 설비.The control valve is a liquid crystal display device manufacturing equipment characterized in that the remote control by the administrator is possible. 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 공급 배관은, 메인(main) 배관; The supply pipe is a main pipe; 상기 다수의 저장 탱크 및 세정액 탱크와 상기 메인 배관 사이를 각각 연결하는 다수의 제 1 서브(sub) 배관; 및A plurality of first sub pipes respectively connecting the plurality of storage tanks and the cleaning liquid tank with the main pipes; And 상기 메인 배관과 상기 다수의 포토 리소그라피 장치 사이를 각각 연결하는 다수의 제 2 서브 배관을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조 설비.And a plurality of second sub pipes connecting the main pipes and the plurality of photolithography devices, respectively. 삭제delete
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20010037383A (en) * 1999-10-16 2001-05-07 박종섭 Semiconductor chemical constant pressure spray device
KR20050039055A (en) * 2003-10-23 2005-04-29 삼성전자주식회사 Photo-resist suppling apparatus for semiconductor processing

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