KR20160001275A - Apparatus for manufacturing glass and method for manufacturing glass using the same - Google Patents

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KR20160001275A
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김영식
한종경
임정환
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Abstract

The present invention relates to an apparatus for manufacturing a glass, and a manufacturing method thereof. In the apparatus for manufacturing a glass of the present invention, when having a combustion space or a free volatilization glass surface in the manufacture of the glass, a surface glass is effectively removed before being used as a molding facility, wherein the surface glass is produced by volatilizing a low-density volatile molecule such as boric acid, and thus a highly homogeneous glass substrate for a display can be produced, wherein the glass substrate does not have an optical distortion defect and a mechanical winding surface.

Description

유리 제조 장치 및 이를 이용한 유리 제조 방법{Apparatus for manufacturing glass and method for manufacturing glass using the same} BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass manufacturing apparatus,

본 발명은 광학적 또는 기계적 목적에 의해 높은 표면 균질성이 요구되는 디스플레이용 유리 또는 기타의 유리를 제조하기 위한 유리 제조 장치 및 이를 이용한 유리 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a glass manufacturing apparatus for producing a glass for display or other glass requiring high surface uniformity for optical or mechanical purposes, and a glass manufacturing method using the same.

LCD용 기판유리로 대표되는 디스플레이용 유리기판은 특별히 고 표준의 사양을 필요로 한다. 유리기판의 제조공정에서 사용되는 각종 화학물에 대한 저항성이 높아야 하며 대형화에서의 중량을 줄이기 위해 저밀도가 되어야 한다. 또한 디스플레이 제조 공정에서의 고온처리에 대하여 열충격에 대한 높은 저항성과 저열팽창 특성을 가져야 하며 기판상에 형성되는 회로의 전기적 신호에 무관하기 위하여 알카리 성분이 실질적으로 없는 조성상의 요구도 필요하다. A glass substrate for a display typified by an LCD substrate glass requires a specially high standard. It should be highly resistant to various chemicals used in the glass substrate manufacturing process and should be low in density to reduce weight in large-scale production. In addition, for the high temperature treatment in the display manufacturing process, it is necessary to have a high resistance to thermal shock and low thermal expansion characteristics, and also to have a composition that is substantially free of alkaline components in order to be independent of the electrical signal of the circuit formed on the substrate.

따라서 이러한 요구에 대해 고함량의 실리카 및 붕산을 기반으로 하는 붕규산 유리의 적용이 필수적으로 요청되고 있는 실정이다. 그러나 붕규산 유리의 경우 더 높은 온도에서 용융되어야 하는 단점이 있다. 이는 단지 용융 구간에만 해당하는 것이 아니고 청징 구간, 교반 구간 및 성형 설비로의 유리 용융물 투입이전의 이송 구간 전체에 해당한다. Therefore, the application of borosilicate glass based on a high amount of silica and boric acid is indispensable to such a demand. However, borosilicate glass has a drawback that it must be melted at a higher temperature. This applies not only to the melting zone but also to the entire transfer zone before the glass melt is introduced into the cleaning zone, agitation zone and molding facility.

이때 이러한 용융된 유리물의 이송구간에 있어서 그 품질을 유지하기 위하여 유리와 접촉하는 부분은 백금 혹은 백금합금으로 이루어지거나 백금 혹은 백금합금으로 피복되어 있는 경우가 많다. 백금 혹은 백금합금의 경우 용해로를 이루는 내화재료와 비교하여 이음새가 적고 표면이 매끄러우며 재료의 부식정도가 현저히 낮다는 장점이 있다. 그러나 백금 혹은 백금 합금에 비해 내화재료는 내구수명이 길고 가격이 저렴하다는 점에서 이송구간의 재료로 사용되기도 하며 예컨대 독일 특허 공개 문헌 DE 10 2009 000 785 A1에 상세히 개시되어 있다.In this case, in order to maintain the quality of the molten glass in the transporting section, the portion contacting with the glass is often made of platinum or platinum alloy or platinum or platinum alloy. Platinum or platinum alloys have the advantage that they have fewer seams, a smooth surface, and a much lower degree of corrosion than the refractory materials that make up the melting furnace. However, compared to platinum or platinum alloys, refractory materials are also used as materials for transport sections in that they have a long service life and low cost, for example as disclosed in DE 10 2009 000 785 A1.

한편 상술한 바와 같이 디스플레이용 유리기판은 제조공정에서의 필요에 의한 고표준의 사양 외에도, 적용분야인 TV, 모니터와 같은 제품의 특성으로 인하여 광학적인 고표준을 요구한다. 광학적인 고표준이라 함은 일정크기 이상의 기포(bubble, blister, seed), 코드(cord), 노트(knot), 스크래치(scratch)가 없는 것은 물론이고 스트리에(striae), 림(ream), 표면굴곡(waviness)과 같은 광학적 왜곡결점이 없는 것을 의미한다. 이러한 광학적 왜곡결점은 이질유리의 혼합되어 불균질해진 유리의 경우 심하며 제품의 두께가 얇아짐에 따라 더욱 두드러진다. 2mm 이상의 두께를 갖는 건축용 또는 자동차용 평판유리 혹은 1mm 이상의 두께를 갖는 태양광용 유리의 경우 상기와 같은 광학적 왜곡결점은 육안으로 확인이 어려우며 또한 통상적 수준의 광학적 왜곡결점인 경우 그 기능에 있어서 결정적인 결함으로 보기가 어렵다. 그러나 디스플레이용 기판유리의 경우에는 치명적인 결함으로 간주된다.On the other hand, as described above, a glass substrate for a display requires an optical high standard due to the characteristics of products such as a TV and a monitor, which are applied fields, in addition to high standard specifications required by the manufacturing process. The optical high standard means that there are no bubbles, blisters, cords, knots, scratches of a certain size or more, but also striae, ream, It means that there are no optical distortion defects such as waviness. These optical distortion defects are severe in the case of heterogeneous glass mixed heterogeneous glasses and become more pronounced as the thickness of the product becomes thinner. In the case of a flat glass of construction or automobile having a thickness of 2 mm or more, or a glass for solar light having a thickness of 1 mm or more, such optical distortion defects are difficult to be visually confirmed, and are defects that are critical to the function It is difficult to see. However, in the case of substrate glass for display, it is regarded as a fatal defect.

디스플레이 유리의 조성으로 사용되는 붕규산 유리의 경우 용융 공정, 청징 공정, 교반 공정 및 이송 구간의 온도가 후판의 평판유리에 비해 높으며 이는 필수적으로 붕규산 유리 조성 내의 저분자(예를들면, 붕산)의 휘발을 더욱 촉진한다. 이러한 붕규산 유리 조성 내의 저분자의 휘발은 용융 유리물의 표면에서 주로 이루어지며, 그로 인해 표면 유리는 붕산이 적고 실리카와 알루미나가 풍부한 상태로 되어 내부의 유리물의 조성과는 차이가 생기게 된다. 조성이 다른 이러한 표면 유리의 두께는 유리 정체시간에 상관하며 대략적으로 수십 내지 수백 마이크론이고 이 정도 두께의 표면 유리라 하더라도 성형 완료된 제품에서는 광학적인 관점에서 보아 치명적인 결함으로 나타난다. 더욱이 상기의 표면 유리가 존재하는 경우 그 자체의 이질성에 의해 표면 장력이 왜곡되고 그로 인하여 유리 표면의 굴곡이 확대되어 비평탄성이 존재하게 되는 문제점이 발생하게 된다. 이는 유리 제품에 대하여 연마와 같은 추가적인 가공이 필요한 경우에 그 가공 시간이 길어지거나 혹은 완전히 해소되지 않는 경우가 있다. 이러한 기계적인 불균질 역시 붕규산 유리에 치명적인 결함으로 고려된다. In the case of borosilicate glass used as the composition of the display glass, the temperature of the melting process, the refining process, the stirring process and the transfer zone is higher than that of the plate glass of the thick plate, which is essential for the volatilization of low molecular weight (for example, boric acid) Further promote. The volatilization of small molecules in the borosilicate glass composition is mainly carried out on the surface of the molten glass, which causes the surface glass to be in a state rich in silica and alumina with little boric acid, resulting in a difference from the composition of the glass inside. The thickness of such a surface glass having a different composition depends on the glass stagnation time, and is approximately several tens to several hundreds of microns. Even a surface glass having such a thickness is a fatal defect in the molded product from the optical point of view. Furthermore, when the surface glass is present, the surface tension is distorted due to the heterogeneity of the surface glass, and thus the curvature of the glass surface is enlarged to cause non-flatness. This is because, in the case where additional processing such as polishing is required for the glass product, the processing time may be prolonged or not completely eliminated. This mechanical heterogeneity is also considered a fatal defect to borosilicate glass.

이러한 결점은 용융 공정, 청징 공정, 교반 공정 및 이송 구간이 연소 공간으로 구성되어 있거나 혹은 자연 휘발되는 유리면을 갖는 경우에는 유리의 조성을 이루는 저분자 휘발 성분이 용융 유리의 표면에서 상기 연소 공간 등으로 휘발되어 표면의 조성의 미세한 변화를 야기하므로 더욱 심해지게 된다. 교반 공정의 이전에 상기의 저분자 휘발 성분이 휘발되어 표면 유리의 조성이 미세하게 변하는 경우에는 이후의 교반 공정을 통해 표면 유리가 내부 유리와 일부 혼합하게 되어 그 정도가 완화되는 경향은 있으나 이를 완전히 제거하지는 못하게 된다. 더욱이 교반 공정 이후의 구간 (예를 들면 성형 설비로의 이송을 위한 공급 유로 혹은 워킹엔드)에 연소 공간 혹은 자연 휘발되는 유리면이 존재하는 경우에는 저분자 휘발성분이 휘발되어 표면 유리가 반드시 생기게 된다. 더욱이 붕규산 유리의 경우 교반 공정 이후에도 낮은 점도를 유지하기 위해 1200℃ 이상의 고온으로 유지하여야하며 연소 공간이 있는 경우 연소 가스의 배출을 위해 외부에서 배기를 수행하므로 연소 공간 내의 저분자 휘발성분의 분압이 더욱 낮아지게 되어 결과적으로 휘발이 더욱 촉진되고 더욱 두꺼운 수준의 표면 유리가 존재하게 된다. 이러한 용융 유리물은 높은 점도로 인하여 이송 구간에서는 층류의 흐름으로 이송되므로 표면 유리와 내부 유리와의 혼합 없이 성형 공정으로 배출되며 이에 의한 제품은 치명적인 광학적 왜곡결점을 갖게 되는 문제점이 발생하게 된다.
This drawback is that, when the melting process, the refining process, the stirring process, and the transfer section are composed of combustion spaces or have a glass surface which is naturally volatilized, a low molecular volatile component constituting the composition of the glass is volatilized from the surface of the molten glass into the combustion space or the like And the surface composition is further reduced. When the low-molecular volatile component is volatilized and the composition of the surface glass is slightly changed before the stirring step, the surface glass tends to be partially mixed with the inner glass through the subsequent stirring step, I can not. Furthermore, in the case where a combustion space or a glass surface which is naturally volatilized exists in a section after the stirring process (for example, a supply flow path for feeding to a molding facility or a working end), a low molecular volatile component is volatilized and a surface glass is necessarily generated. Furthermore, in the case of borosilicate glass, it is necessary to maintain a high temperature of 1200 ° C. or more to maintain a low viscosity even after the stirring process. In the case of the combustion space, since the exhaust gas is discharged from the outside for discharging the combustion gas, the partial pressure of the low molecular volatile component in the combustion space is lower Resulting in further volatilization and a much thicker surface glass. Since the molten glass is conveyed to the laminar flow in the conveying section due to the high viscosity, it is discharged into the molding process without mixing the surface glass and the inner glass, resulting in a problem that the product has a fatal optical distortion defect.

한국등록특허 KR1207674 B1Korea registered patent KR1207674 B1 한국등록특허 KR0496067 B1Korea registered patent KR0496067 B1

본 발명은 유리의 제조에 있어서 연소 공간 혹은 자유 휘발 유리면이 존재하는 경우, 붕산과 같은 저밀도 휘발분자가 휘발됨으로써 생성되는 표면 유리를 성형설비로의 투입 이전에 효과적으로 제거하여 제품에 광학적 왜곡결점 및 기계적 표면 굴곡이 존재하지 않는 매우 균질한 디스플레이용 유리 기판을 제조할 수 있는 유리 제조 장치 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
The present invention effectively removes the surface glass produced by the volatilization of low density volatiles such as boric acid prior to injection into a molding facility in the presence of a combustion space or a free volatile glass surface in the manufacture of glass to provide optical distortion defects and mechanical surfaces And an object of the present invention is to provide a glass manufacturing apparatus capable of manufacturing a very homogeneous glass substrate for display without bending and a manufacturing method thereof.

본 발명에 따른 유리 제조 장치는 용융 유리를 이송하는 이송로, 이송로의 표면 유리를 걷어내는 스키머 및 걷어낸 표면 유리가 오버플로우되어 배출되는 배출부로 이루어진다. 상기 이송로는 용융 유리가 이동함에 있어 용융 유리의 표면이 노출되는 통로라면 특별히 그 위치를 제한하지 않는다. 예를 들면 상기 이송로는 전로(forehearth), 공급부(feeder) 및 냉각부(cooling zone) 중 어느 하나에 위치 한 통로일 수 있다. The glass manufacturing apparatus according to the present invention comprises a transfer path for transferring the molten glass, a skimmer for skimming the surface glass of the transfer path, and a discharge section for discharging the overflow of the scraped surface glass. The transport path does not particularly limit the position of the molten glass when the molten glass is a passage through which the surface of the molten glass is exposed. For example, the feed path may be a passage located in either the forehearth, the feeder, or the cooling zone.

상기 이송로의 상부에는 스키머가 설치되며 측면에는 배출부가 설치된다. 상기 스키머는 이송로의 상부에 설치되며 이송로의 상부의 이질 유리층(즉, 표면 유리)을 걷어내는 목적으로 설치된다. 걷어낸다고 함은 용융 유리 표면의 이질 유리층의 흐름을 용융 유리 본체의 흐름과 분리하여 원하는 방향으로 흐르도록 하는 것을 포함함을 유의한다. A skimmer is installed on the upper part of the conveying path and a discharge part is provided on the side. The skimmer is installed on the upper part of the conveying path and is installed for the purpose of removing the heterogeneous glass layer (that is, the surface glass) on the conveying path. It should be noted that the term " kicking " includes separating the flow of the heterogeneous glass layer on the surface of the molten glass from the flow of the molten glass body so as to flow in a desired direction.

상기 스키머는 상기 이송로를 따라 이동하는 용융 유리의 표면 상부에서 바닥면으로의 방향으로 담가진다. 이때 담김 깊이는 용융 유리의 표면 상부에서 바닥면으로의 방향으로 전체 깊이를 기준으로 표면으로부터 5%의 내지 50%의 깊이까지 담가진다. 이때 스키머의 담김 깊이(즉 제공되는 깊이)는 용융 유리의 표면 이질층의 정도에 따라 결정되며 경우에 따라 그 담김 깊이가 조절될 수 있음을 유의한다. The skimmer is immersed in the direction from the upper surface to the bottom surface of the molten glass moving along the transfer path. Wherein the filling depth is immersed to a depth of 5% to 50% from the surface based on the total depth in the direction from the top surface to the bottom surface of the molten glass. It is to be noted that the depth of the skimmer (i.e., the depth of the skimmer) is determined by the degree of the surface heterogeneity of the molten glass, and the depth of the skimmer can be adjusted in some cases.

상기 스키머는 상기 이송로의 용융 유리의 이동 방향의 수직인 면에 대하여 일측 단부와 타측 단부를 있는 선이 일정한 각도를 이룰 수 있다. 혹은 상기 스키머는 일측이 경사지도록 구성될 수도 있다. The skimmer may be formed at a predetermined angle with respect to a plane perpendicular to the moving direction of the molten glass in the conveyance path, the line having one end and the other end. Alternatively, the skimmer may be configured such that one side is inclined.

배출부는 상기 이송로의 측면에 설치되어 상기 이송로를 따라 이동하는 용융 유리의 표면 상부에서 걷어지어 모아진 표면 유리를 외부로 배출하는 통로의 역할을 수행한다. 이러한 배출부는 걷어지어 모아진 표면 유리를 배출하는 외부 배출구, 상기 이송로의 측면에서 외부 배출구로 유리를 이송하는 오버플로우 입구 및 상기 오버플로우 입구와 외부 배출구를 연결하는 배출 도관으로 이루어질 수 있다. The discharge part is provided on a side surface of the conveyance path and serves as a passage for discharging the collected surface glass from the upper surface of the molten glass moving along the conveyance path to the outside. The discharge portion may include an external discharge port for discharging the collected surface glass, an overflow inlet for transferring the glass from the side of the transfer path to the external discharge port, and a discharge conduit for connecting the overflow inlet and the external discharge port.

이때 오버플로우 입구에서 외부 배출구의 구간은 필요에 따라 모듈화하여 제작할 수 있으며 이러한 경우 배출부의 위치 변경 및 설비의 교체 등의 필요에 따라 탈부착이 용이하다는 장점이 있음을 유의한다. At this time, it is noted that the section of the outer outlet at the overflow inlet can be manufactured by modularization as necessary, and in this case, it is advantageous that the detachment can be easily performed according to the necessity of changing the position of the discharge portion and replacing the facility.

바람직하게는, 추가적으로 상기 배출부는 역류 방지 부재, 가열 수단 및 오리피스를 포함할 수 있다. 오버플로우 입구는 직접적으로 상기 이송로의 측면에 형성되며 상기 스키머에 의해 걷어지고 한쪽으로 모아진 표면 유리가 유입되는 입구이다. 배출부의 오버플로우 입구를 통하여 배출 도관으로 유입된 유리가 역류하여 다시 이송로에 유입된다면 본 발명의 목적의 달성이 어려우므로 이를 방지하기 위하여 문턱과 같은 형태를 통해 유리의 역류를 방지하는 역류 방지 부재를 설치할 수 있다. Preferably, the outlet further comprises a backflow prevention member, a heating means and an orifice. The overflow inlet is directly formed on the side of the conveying path and is an inlet through which the surface glass that is gathered by the skimmer is gathered. It is difficult to achieve the object of the present invention if the glass flowed into the discharge conduit through the overflow inlet of the discharge portion flows back into the transfer path again. Therefore, in order to prevent this, it is necessary to prevent the backflow prevention member Can be installed.

한편 본 발명에 따른 유리 제조 장치는 배출 모듈을 더 포함할 수 있으며, 이러하 배출 모듈은 백금 혹은 백금 합금으로 이루어진 파이프 형태로 구성되거나 혹은 연소 장치가 부착된 연소 공간의 형태로 구성될 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다. 또한 배출 모듈에는 모아진 표면 유리가 외부로 배출되는 량을 조절하기 위하여 가열 수단이 부착될 수도 있다. Meanwhile, the glass manufacturing apparatus according to the present invention may further include a discharge module, and the discharge module may be constructed in the form of a pipe made of platinum or a platinum alloy, or in the form of a combustion space having a combustion device attached thereto, But is not limited thereto. In addition, a heating means may be attached to the discharge module to control the amount of collected surface glass to be discharged to the outside.

예를 들어, 이러한 배출 모듈이 백금 혹은 백금합금으로 이루어진 파이프 형태의 도관으로 제작이 된 경우에는 가열 수단으로서 전기적인 주울 (joule) 열로 가열하는 직접 가열장치가 가능하며 간접 가열장치 또한 가능하다. 또한 배출 모듈이 연소 공간의 형태인 경우에는 버너의 연소에 의한 복사열로 용융 유리를 가열하는 경우로 사용 가능하며 가열 장치의 형태가 이에 한정되는 것은 아님을 유의한다.For example, if the discharge module is made of a pipe-shaped conduit made of platinum or a platinum alloy, a direct heating device capable of heating with an electric joule heat is possible as a heating means, and an indirect heating device is also possible. Also, when the discharge module is in the form of a combustion space, it can be used for heating the molten glass by the radiant heat generated by the burning of the burner, and the shape of the heating device is not limited thereto.

오리피스는 외부 배출구의 끝단에 설치되며 모아진 표면 유리가 외부로 배출되는 량을 조절하기 위하여 가열 장치를 부착할 수 있다. 이러한 가열 장치는 용융 유리의 흐름 도관을 전기적인 줄열로 가열하는 직접 가열장치 또는 외부에 설치된 버너의 연소열로 가열하는 간접 가열장치 등 다양한 경우가 가능하며 반드시 이에 한정되는 것은 아님을 유의한다. The orifice is installed at the end of the outer outlet and a heating device can be attached to adjust the amount of collected glass to be discharged to the outside. It should be noted that this type of heating device is not limited to the direct heating device for heating the flow conduit of the molten glass by electric heating or indirect heating device for heating the flow conduit of the molten glass by the combustion heat of the burner installed in the outside.

상기 배출부를 이용하여 배출되는 유리의 양은 이송로를 흐르는 전체 용융 유리의 양과 상기 스키머의 담김 깊이에 따라 달라지며 그 상부 표면에 형성된 표면 유리의 정도에 따라서도 달라짐을 유의한다. Note that the amount of the glass discharged using the discharge portion varies depending on the amount of the entire molten glass flowing through the transfer path and the depth of the skimmer, and also depends on the degree of the surface glass formed on the upper surface thereof.

이때 바람직하게는 이송로를 흐르는 전체 용융 유리의 양의 약 1% 내지 10%의 배출이 가능하도록 설정되며 이러한 배출 유량의 정도를 조절할 수 있도록 가열수단이 선택됨을 유의한다. 상기 가열 수단은 배출부로 이동된 표면 유리가 용융된 상태로 이동 또는 배출될 수 있도록 가열할 수 있다면 그 설치 위치 등의 상세한 사항은 특별히 한정되지 않는다. It is to be noted here that the heating means is preferably selected so as to enable the discharge of about 1% to 10% of the total amount of molten glass flowing through the transfer path and to control the degree of such discharge flow rate. If the heating means can be heated so that the surface glass moved to the discharge portion can be moved or discharged in a molten state, details of the mounting position and the like are not particularly limited.

한편 본 발명에 따른 유리 제조 장치는 유리의 용융부터 유리 제품의 성형까지의 전체 공정 중에서 어느 한 장소에의 설치 및 여러 장소에의 설치가 가능하다. 이러한 설치 개수에 따라 표면 유리를 걷어내어 모아주고 배출하는 단계는 최소 1회에서 수회 반복할 수 있으며 이에 한정하지 않음을 유의한다. Meanwhile, the glass manufacturing apparatus according to the present invention can be installed at any place in the entire process from the melting of glass to the molding of glass product, and can be installed at various places. It should be noted that the step of removing and collecting the surface glass according to the number of installations may be repeated at least once to several times, but not limited thereto.

또한 본 발명에 따른 유리 제조 방법은 용융 유리가 이송로로 이동되는 단계; 상기 이송로의 상부에 설치된 스키머로 상기 용융 유리의 표면 유리가 걷어내지는 단계; 및 상기 스키머에 의해 걷어진 표면 유리가 오버플로우되어 배출부로 배출되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. Further, the method of manufacturing a glass according to the present invention includes the steps of moving molten glass to a transfer path; Removing the surface glass of the molten glass by a skimmer installed on the transfer path; And a step in which the surface glass rolled by the skimmer overflows and is discharged to the discharge portion.

또한 본 발명에 따른 유리 제조 장치를 사용하는 유리 제조 방법은 특별히 한정하지 않으나, 예를 들면 플로트법, 리드로법, 슬롯다운드로 및 오버플로우 다운드로법 중 어느 하나일 수 있음을 유의한다. It should be noted that the glass manufacturing method using the glass manufacturing apparatus according to the present invention is not particularly limited, but may be, for example, a float method, a lead-wire method, a slot-down draw, or an overflow down-draw method.

바람직하게는, 본 발명에 따른 유리 제조 방법은 상기 스키머에 의해 걷어지지 않은 용융 유리를 냉각시키는 단계를 더 포함할 수 있다. Preferably, the method of manufacturing a glass according to the present invention may further comprise cooling the molten glass not tilted by the skimmer.

바람직하게는, 본 발명에 따른 유리 제조 방법은 상기 배출부에 의해 배출되는 표면 유리를 가열하는 단계를 더 포함할 수 있다. Preferably, the method of manufacturing a glass according to the present invention may further comprise the step of heating the surface glass discharged by the discharge portion.

한편 본 발명에 따른 유리 제조 장치 및 방법을 이용하여 제작되는 유리의 형상은 특별히 한정하지 않으나 예를 들면 판상 혹은 판형일 수 있다. 본 발명에 따른 유리 제조 장치 및 방법을 사용하여 제작된 판형 유리의 경우 평탄도가 높은 장점이 있다. 또한 본 발명에 따른 유리 제조 장치 및 방법을 사용하여 제작된 판형 유리의 경우 광학적 외곡결점(ream)이 없거나 적어지는 장점이 있다. 이는 유리 제조 방법 중 표면 노출로 인해 물리적, 화학적 조성 및 성질이 변한 부분을 효율적으로 걷어내고 배출하여 제거하였기 때문이다. The shape of the glass produced by the apparatus and method for manufacturing a glass according to the present invention is not particularly limited, but may be, for example, a plate shape or a plate shape. The flat glass produced by the apparatus and method for manufacturing glass according to the present invention has a high flatness. Also, in the case of the plate-shaped glass manufactured by using the apparatus and method for manufacturing a glass according to the present invention, there is an advantage that there is no optical reverberation or there is no ream. This is because the physical, chemical composition and properties of the glass manufacturing process were effectively removed and discharged by surface exposure.

본 발명에 따른 유리는 표면 굴곡이 0.01 내지 0.07㎛ 일수 있다. 이 경우 표면 굴곡이 적어 유리의 평탄성이 좋아지는 장점이 있다. 구체적으로 유리의 표면굴곡이 0.01 내지 0.06㎛ 일수 있다. The glass according to the present invention may have a surface curvature of 0.01 to 0.07 mu m. In this case, there is an advantage that the flatness of the glass is improved because the surface curvature is small. Specifically, the surface curvature of the glass may be 0.01 to 0.06 탆.

이 경우 표면 굴곡이 적어 상기 기판 상에 미세한 회로 및 패턴을 적층하기에 적합하고 대형화된 디스플레이 장치의 유리 기판으로 사용이 적절하다. 이때 본 발영에 따른 유리는 붕규산 유리일 수 있으며 이 경우 유리 표면의 붕산 휘발로 인한 영향이 줄어들어 표면 굴곡이 줄어드는 효과가 있다. 상기 붕규산 유리는 붕산을 포함한 규소 유리로 규정되며 붕규산 유리 종 중량을 기준으로 붕산의 함량은 5% 내지 15%일 수 있으나 이에 한정되지는 않는다.In this case, it is suitable to laminate fine circuits and patterns on the substrate with less surface curvature, and is suitable for use as a glass substrate of a large-sized display device. In this case, the glass according to the present invention may be borosilicate glass, and in this case, the effect of boric acid volatilization on the glass surface is reduced, thereby reducing surface curvature. The borosilicate glass is defined as silicon glass including boric acid, and the content of boric acid based on borosilicate glass species weight may be 5% to 15%, but is not limited thereto.

한편 본 발명은 디스플레이 장치용 유리를 제공하나 이에 한정되지는 않는다. 상기 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 발광 다이오드(Light Emitting Diode,LED), 유기 발광소재(Organic Light Emitting Diode, OLED), 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD), 박막 트랜지스터 액정 표시 장치(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display, TFT-LCD) 및 음극선관(Cathode Ray Tube, CRT) 중 어느 하나일 수 있다.
Meanwhile, the present invention provides a glass for a display device, but is not limited thereto. The display device may be a plasma display panel (PDP), a light emitting diode (LED), an organic light emitting diode (OLED), a liquid crystal display (LCD) And may be any one of a liquid crystal display (TFT-LCD) and a cathode ray tube (CRT).

본 발명은 유리의 제조에 있어서 연소 공간 혹은 자유 휘발 유리면이 존재하는 경우에, 붕산과 같은 저밀도 휘발 분자가 휘발되어 생성된 표면 유리를 성형설비로의 투입 이전에 제거하여 제품에 광학적 왜곡결점 및 기계적 표면굴곡이 존재하지 않는 매우 균질한 디스플레이용 유리기판을 제조할 수 있게 된다. The present invention relates to a process for removing glass surface voids produced by volatilization of low density volatile molecules such as boric acid in the presence of combustion space or free volatile glass surface in the production of glass prior to introduction into a molding machine, It becomes possible to manufacture a glass substrate for a very homogeneous display in which surface curvature does not exist.

특히 본 발명에 따른 유리 제조 장치 및 방법을 사용하여 제작된 판형 유리의 경우 평탄도가 높은 장점이 있다. 또한 본 발명에 따른 유리 제조 장치 및 방법을 사용하여 제작된 판형 유리의 경우 광학적 외곡결점(ream)이 없거나 적어지는 장점이 있다.
In particular, the flat glass produced by the apparatus and method for manufacturing glass according to the present invention has a high flatness. Also, in the case of the plate-shaped glass manufactured by using the apparatus and method for manufacturing a glass according to the present invention, there is an advantage that there is no optical reverberation or there is no ream.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 제조 장치(100)의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 제조 장치(100)의 횡단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 제조 장치(100)의 평면도이다. 1 is a perspective view of a glass manufacturing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a glass manufacturing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention.
3 is a plan view of a glass manufacturing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention.

본 발명을 도면 및 실시예를 이용하여 상세하게 설명한다. 하기 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위는 하기의 특허청구범위에 기재된 범위 및 그 변경을 포함하며, 단지 실시예의 범위로 한정되지 않는다.
The present invention will be described in detail with reference to the drawings and embodiments. The following examples are intended to illustrate the invention and the scope of the invention is to be construed as limited only by the scope of the embodiments, including the scope of the following claims and their modifications.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 제조 장치(100)의 사시도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 제조 장치(100)의 횡단면도이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 제조 장치(100)의 평면도이다. 이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 제조 장치(100)를 설명하기로 한다.1 is a perspective view of a glass manufacturing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view of a glass manufacturing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention. 3 is a plan view of a glass manufacturing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, a glass manufacturing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. FIG.

용융 유리(1)은 이송로(10)를 따라 흐르며 이송로(10)의 상부에는 스키머(20)가 설치되며 측면에는 배출부(30)가 제공된다. 이송로(10)를 따라 흐르는 용융 유리(1)의 상부면은 휘발성 물질의 휘발에 의한 조성 불균질 구역으로 이 부분은 설치된 스키머(20)에 의해 배출부(30)로 유도된 후 배출 장치(40)에서 하부로 배출되게 된다. 이러한 구성으로 인하여, 배출부(30) 이후, 즉 스키머(20)의 이후의 이송로(10')에서의 용융 유리는 그 표면의 조성이 내부의 유리 조성과 동일하게 된다. The molten glass 1 flows along the conveying path 10 and the skimmer 20 is provided at the upper part of the conveying path 10 and the discharging part 30 is provided at the side surface. The upper surface of the molten glass 1 flowing along the transfer path 10 is a heterogeneous composition due to the volatilization of the volatile material. This portion is guided to the discharge portion 30 by the installed skimmer 20, 40). Due to such a constitution, the molten glass after the discharge portion 30, that is, the subsequent transfer path 10 'of the skimmer 20, has the same composition as that of the inner glass composition.

스키머(20)는 이송로(10)를 따라 이동하는 용융 유리의 표면 상부에서 바닥면으로의 방향으로 담가지게 된다. 도 2를 참조하면 스키머(20)의 담김 깊이(D1)는 용융 유리의 표면 상부에서 바닥면으로의 방향으로 전체 깊이(D2)를 기준으로 표면으로부터 5%의 내지 50%의 깊이까지 담가진다. 예를 들어, 5%의 깊이라고 함은이송로(10)의 용융 유리의 표면에서 수직의 바닥면까지의 깊이가 500mm라고 할 때 용융 유리의 표면에서 수직으로 25mm의 깊이를 의미한다. The skimmer 20 is immersed in the direction from the upper surface of the molten glass moving along the conveying path 10 to the bottom surface. Referring to FIG. 2, the filling depth D1 of the skimmer 20 is immersed to a depth of 5% to 50% from the surface based on the entire depth D2 in the direction from the top surface to the bottom surface of the molten glass. For example, a depth of 5% means a depth of 25 mm vertically on the surface of the molten glass, when the depth from the surface of the molten glass in the transfer path 10 to the vertical bottom surface is 500 mm.

즉 스키머(20)는 용융 유리의 전체 깊이를 기준으로 하여 표면으로부터 5% 내지 50%의 깊이 범위로 위치하도록 구성되는 것이 바람직하다. That is, the skimmer 20 is preferably configured to be positioned in a depth range of 5% to 50% from the surface based on the entire depth of the molten glass.

이러한 이유는 5% 미만의 담김 깊이인 경우는 표면의 이질 유리층이 비록 스키머(20)에 의해 흐름의 방해를 받더라도 일부가 그대로 후단 이송로(10')의 구역으로 배출되어 실제적으로 표면의 이질 유리층을 효과적으로 제거하는 기능을 수행하지 못한다. 또한 50% 이상의 담김 깊이인 경우에는 스키머(20)가 용융유리의 흐름으로부터 받는 압력에 의해 그 형태가 변형되어 스키머(20)의 사용연한이 짧아진다는 단점이 있기 때문이다. This is because in the case of a loading depth of less than 5%, even though the heterogeneous glass layer on the surface is disturbed by the flow of the skimmer 20, part of it is discharged directly to the region of the rear conveying path 10 ' It does not function to effectively remove the glass layer. In addition, in the case of a depth of 50% or more, there is a disadvantage that the shape of the skimmer 20 is deformed due to the pressure applied from the flow of the molten glass, and the lifetime of the skimmer 20 is shortened.

한편 담김 깊이는 용융 유리(1)의 표면 이질층의 정도에 따라 결정되며 경우에 따라 그 담김 깊이는 조절될 수 있음을 유의한다. On the other hand, the filling depth is determined according to the degree of the surface heterogeneous layer of the molten glass 1, and the filling depth can be controlled depending on the case.

또한, 도 1 및 도 2를 참조하면, 배출부(30)의 배출 도관(33)은 스키머(20)의 담김 깊이(D1)보다 높은 부분에 위치하도록 설정된다. 즉 스키머(20)와 배출 도관(33) 사이에는 일정한 높이의 단차가 존재하기 때문에, 이송로(10)를 따라 흐르는 용융 유리(1)의 상부면(표면 유리 부분) 설치된 스키머(20)에 의해 배출부(30)로 유도되어 효과적으로 배출될 수 있게 된다.
1 and 2, the discharge conduit 33 of the discharge portion 30 is set to be located at a portion higher than the carrying depth D1 of the skimmer 20. [ That is, since there is a step of a certain height between the skimmer 20 and the discharge conduit 33, the skimmer 20 installed on the upper surface (surface glass portion) of the molten glass 1 flowing along the conveying path 10 It is guided to the discharge portion 30 and can be effectively discharged.

스키머(20)는 이송로(10)의 용융 유리의 이동 방향의 수직인 가상의 면(3)에 대하여 일측 단부와 타측 단부를 있는 가상선(2)이 0° 초과 90° 미만의 각도를 이룰 수 있다. 구체적으로 용융 유리의 이동 방향의 수직인 가상의 면(3)과 상기 스키머(20)의 일측 단부와 타측 단부를 잇는 가상선(2)의 각도(R)는 30° 내지 60°인 경우가 보다 바람직하다. The skimmer 20 is configured such that the virtual line 2 having one end and the other end of the transfer path 10 has an angle of more than 0 DEG and less than 90 DEG with respect to a virtual surface 3 perpendicular to the moving direction of the molten glass . Concretely, the angle R between the imaginary plane 3 perpendicular to the moving direction of the molten glass and the virtual line 2 connecting one end and the other end of the skimmer 20 is in the range of 30 ° to 60 ° desirable.

왜냐하면, R이 30°미만의 경우에는 이동하는 용융 유리로 인해 받는 스키머(20)의 기계적인 부하가 증가하여 그 형태의 변형이 발생할 수 있으며 효과적으로 표면 유리를 배출하기가 어렵기 때문이며, R이 60°이상의 경우에는 불필요하게 스키머(20)의 길이가 증가하여 스키머(20)의 제작비용이 증가하기 때문이다. This is because when R is less than 30 DEG, the mechanical load of the skimmer 20 due to the moving molten glass is increased, so that deformation of the shape may occur, and it is difficult to effectively discharge the surface glass. °, the length of the skimmer 20 is unnecessarily increased and the manufacturing cost of the skimmer 20 is increased.

한편, 스키머(20)의 두께는 0.5mm 내지 10mm 일 수 있다. 두께가 두꺼울수록 이동하는 용융 유리로 인해 받는 기계적인 부하를 견딜 수 있는 장점이 있다. 구체적으로 스키머(20)의 두께는 0.7mm 내지 2mm일 수 있다. 이 경우에는 이동하는 용융 유리로 인해 받는 기계적인 부하를 견디면서 스키머(20)의 제작에 드는 비용을 절약할 수 있는 이득이 있다. On the other hand, the thickness of the skimmer 20 may be 0.5 mm to 10 mm. The thicker the thickness, the more advantageous it is to withstand the mechanical load it receives due to the moving molten glass. Specifically, the thickness of the skimmer 20 may be 0.7 mm to 2 mm. In this case, there is an advantage in that the manufacturing cost of the skimmer 20 can be saved while being able to withstand the mechanical load imposed by the moving molten glass.

스키머(20)의 재질은 스키머(20)가 설치되는 지점의 온도에 따라서 선택할 수 있으며 1,000℃ 이상, 구체적으로는 1,300℃ 내지 1,400℃에서 기계적인 강도를 갖는 금속 또는 내화물이라면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 용융점이 1,400℃ 이상인 금속, 메탈세라믹 및 세라믹스중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다. The material of the skimmer 20 can be selected according to the temperature at the point where the skimmer 20 is installed and is not particularly limited as long as it is a metal or a refractory material having mechanical strength at 1,000 ° C or higher, specifically, 1,300 ° C to 1,400 ° C. For example, a metal having a melting point of 1,400 ° C or higher, a metal ceramic, and ceramics.

상기 금속은 금, 은, 백금, 스칸듐, 티타늄, 바나듐, 크롬, 망간, 철, 코발트, 니켈, 구리, 아연, 알루미늄, 갈륨, 주석, 이리듐, 인듐 및 이들의 합금 중 어느 하나일 수 있으며 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 세라믹스는 자연에 존재하는 천연 원료 광물을 분쇄하여 그래도 사용하여 만든 세라믹스 또는 고순도로 정제한 원료를 사용하여 만든 세라믹스일 수 있으며 이에 한정되지 않는다. 예를 들면 질화규소, 탄화수소, 사이알론 및 지르코니아 중 어느 하나일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 메탈세라믹은 금속의 산화물, 탄화물, 규화물 및 붕화물등을 금속의 바탕재속에 분산시켜 열에 견디는 성질을 높인 단단한 성질의 재료이면 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로 스키머(20)의 재질은 백금, 백금합금 및 강화백금 중 어느 하나인금속계열 스키머 또는 지르콘 고함량 내화벽돌 스키머의 경우인 것이 바람직하다. The metal may be any one of gold, silver, platinum, scandium, titanium, vanadium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, aluminum, gallium, tin, iridium, indium, It is not. The ceramics may be ceramics prepared by pulverizing natural raw mineral present in nature, or using ceramics refined in high purity, but the present invention is not limited thereto. For example, silicon nitride, hydrocarbons, sialon, and zirconia, but is not limited thereto. The metal ceramic is not particularly limited as long as it is a material of a hard nature which is improved in heat resistance by dispersing oxides, carbides, silicides, borides and the like of metals in a metal matrix. Specifically, the material of the skimmer 20 is preferably a metal skimmer or a zircon high refractory brick skimmer which is one of platinum, platinum alloy and reinforced platinum.

또한 상기의 금속계열 및 내화벽돌을 조합하여 사용할 수 있으며 이러한 경우 백금, 백금합금 및 강화백금 중 어느 금속계열로 내화벽돌이 유리와 직접적으로 접촉되는 면을 라이닝하여 사용할 수 있다. 스키머(20)의 형태는 이동로의 상부에 설치되어 이동하는 용융 유리의 상부를 걷어낼 수 있다면 특별히 한정하지 않는다. 예를 들면 스키머(20)의 단면이 만곡형상, 직선형상 및 꺽인 직선형상 등이 있으며 이에 한정되는 것은 아님을 유의한다.
In addition, the above-mentioned metal series and refractory brick can be used in combination. In this case, the surface of the refractory brick which is in direct contact with the glass can be lined with any of the platinum, the platinum alloy and the reinforced platinum. The shape of the skimmer 20 is not particularly limited as long as it can be installed on the upper portion of the traveling path and can roll the upper portion of the molten glass moving. For example, it is noted that the cross section of the skimmer 20 is a curved shape, a straight shape, a bent straight shape, and the like.

배출부(30)는 스키머(20)에 의해 걷어내어진 표면 유리가 오버플로우되어 배출되는 역할을 수행한다. The discharging portion 30 serves to overflow the surface glass cut off by the skimmer 20 to be discharged.

구체적으로, 배출부(30)는 상기 표면 유리를 외부로 배출하는 외부 배출구(31), 상기 이송로(10)의 측면에 형성되며, 외부 배출구(31)로 표면 유리를 이송하는 오버플로우 입구(32) 및 외부 배출구(31)와 오버플로우 입구(32)를 연결하는 배출 도관(33)으로 구성될 수 있다. The discharge unit 30 includes an external discharge port 31 for discharging the surface glass to the outside and an overflow inlet 32 formed at a side surface of the transfer path 10 for transferring the surface glass to the external discharge port 31 32 and an outlet conduit 33 connecting the external outlet 31 and the overflow inlet 32.

이때, 배출부(30)로 일단 유입된 표면 유리가 역류하여 다시 이송로(10)으로 유입된다면 본 발명의 목적의 달성이 어려우므로 이를 방지하기 위하여 문턱과 같은 형태를 통해 표면 유리의 역류를 방지하는 역류 방지 부재(도시 안됨)가 배출 도관(33) 내에 제공될 수 있다. At this time, it is difficult to achieve the object of the present invention if the surface glass once introduced into the discharge portion 30 flows backward and then flows into the transfer path 10. Therefore, in order to prevent this, it is necessary to prevent the backflow of the surface glass (Not shown) may be provided in the exhaust conduit 33. The back-

한편, 배출부(30)는 외부 배출구(31)의 끝단에 설치되며 모아진 표면 유리를 외부로 배출시키는 오리피스를 더 포함할 수도 있음을 유의한다. 이러한 오리피스는 유체를 분출시키는 구멍으로서 공지된 기술 요소를 이용함으로 이에 대한 설명은 생략하기로 한다.
It is noted that the discharge portion 30 may further include an orifice installed at an end of the external discharge port 31 and discharging the collected surface glass to the outside. Such orifices utilize a known technical element as a hole for ejecting a fluid, and a description thereof will be omitted.

배출부(30)로 도입된 유리는 배출 모듈(40)을 통하여 외부로 배출된다. 배출 모듈(40)은 가열 수단(50)을 포함할 수 있다. The glass introduced into the discharge portion 30 is discharged to the outside through the discharge module 40. The exhaust module 40 may include a heating means 50.

배출 모듈(40)은 백금 혹은 백금합금으로 이루어진 파이프 형태로 제작하거나 혹은 버너류의 연소 장치가 부착된 연소 공간의 형태로 만들어질 수 있으며 이에 한정하는 것은 아니다. 배출 모듈(40)을 통과하는 용융 유리의 경우 온도가 낮아지면 점도가 급격히 높아져서 흐름성이 크게 나빠지며 경우에 따라서는 배출 모듈(40) 내에서 흐름성이 정지하여 배출되지 않을 우려가 있으므로 이를 방지하기 위하여 적절한 가열 수단(50)을 포함하는 것이다. 이러한 가열 수단(50)을 통하여 배출 모듈(40)을 통하여 외부로 배출되는 유리의 양을 조절할 수 있으며, 이는 배출부(30)를 통하여 배출되는 유리의 양을 조절하는 기능까지도 수행한다. The discharge module 40 may be formed in the form of a pipe made of platinum or a platinum alloy, or may be formed in the form of a combustion space having a burner-type combustion device, but is not limited thereto. In the case of the molten glass passing through the discharge module 40, when the temperature is lowered, the viscosity rapidly increases and the flowability is significantly deteriorated. In some cases, the flowability in the discharge module 40 may be stopped and the discharge may not be prevented. And suitable heating means (50) for heating. The amount of the glass discharged to the outside through the discharging module 40 can be controlled through the heating means 50. This also controls the amount of the glass discharged through the discharging portion 30. [

이러한 배출 모듈(40)은 필요에 따라 모듈화하여 제작할 수 있으며 이러한 경우 배출부(30)의 위치 변경 및 설비의 고장 등에 따른 교체 등의 필요에 따라 탈부착을 용이하게 할 수 있다는 장점이 있다.The discharging module 40 can be manufactured by modularization as required. In this case, the discharging module 40 is advantageous in that it can be easily detached and attached according to the necessity of replacing the discharge unit 30 due to a change in the position of the discharging unit 30,

상기 배출 모듈(40)을 이용하여 배출되는 유리의 양은 이송로(10)를 흐르는 전체 용융 유리의 양과 스키머(20)의 담김 깊이에 따라 달라지며 그 상부표면에 형성된 표면 유리의 정도에 따라서도 달라진다. 대체로 이송로(10)를 흐르는 전체 용융 유리의 양의 1% 내지 20%의 배출이 가능하도록 제작되는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 이송로(10)를 흐르는 전체 용융유리의 양의 1% 내지 10%의 배출이 가능하도록 제작되는 것이 바람직하며, 그 배출 유량의 정도를 조절할 수 있도록 가열 장치를 선택되는 것이 바람직하다. The amount of the glass discharged using the discharge module 40 depends on the amount of the entire molten glass flowing through the transfer path 10 and the depth of the skimmer 20 and also depends on the degree of surface glass formed on the upper surface thereof . It is preferable that it is generally designed to be capable of discharging 1% to 20% of the total amount of molten glass flowing through the conveying path 10. More preferably, it is preferable to be designed to discharge 1% to 10% of the total amount of molten glass flowing through the conveying path 10, and it is preferable to select a heating device so as to control the degree of the discharge flow rate .

이때 가열 수단(50)은 배출부(30)로 이동된 용융 유리가 용융된 상태로 이동 또는 배출될 수 있도록 가열할 수 있다면 그 설치 위치 등의 상세한 사항은 특별히 한정되지 않음을 유의한다.
It should be noted that details of the installation position and the like are not particularly limited as long as the heating means 50 can heat the molten glass moved to the discharge portion 30 to be moved or discharged in a molten state.

본 발명에 따른 유리 제조 방법은 용융 유리가 이송로로 이동되는 단계; 상기 이송로의 상부에 설치된 스키머로 상기 용융 유리의 표면 유리가 걷어내지는 단계; 및 상기 스키머에 의해 걷어진 표면 유리가 오버플로우되어 배출부로 배출되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. A method of manufacturing a glass according to the present invention includes the steps of moving molten glass to a transfer path; Removing the surface glass of the molten glass by a skimmer installed on the transfer path; And a step in which the surface glass rolled by the skimmer overflows and is discharged to the discharge portion.

여기서, 본 발명에 따른 유리 제조 장치를 사용하는 유리 제조 방법은 특별히 한정하지 않으나, 예를 들면 플로트법, 리드로법, 슬롯다운드로 및 오버플로우 다운드로법 중 어느 하나일 수 있음을 유의한다. Here, the glass manufacturing method using the glass manufacturing apparatus according to the present invention is not particularly limited, but it should be noted that it may be, for example, a float method, a lead-wire method, a slot down draw method, or an overflow down draw method.

바람직하게는, 본 발명에 따른 유리 제조 방법은 상기 스키머에 의해 걷어지지 않은 용융 유리를 냉각시키는 단계를 더 포함할 수 있다. Preferably, the method of manufacturing a glass according to the present invention may further comprise cooling the molten glass not tilted by the skimmer.

바람직하게는, 본 발명에 따른 유리 제조 방법은 상기 배출부에 의해 배출되는 표면 유리를 가열하는 단계를 더 포함할 수 있다. Preferably, the method of manufacturing a glass according to the present invention may further comprise the step of heating the surface glass discharged by the discharge portion.

이러한 배출되는 표면 유리의 가열 단계를 통하여 외부로 배출되는 유리의 양을 조절할 수 있으며, 이는 배출부를 통하여 배출되는 유리의 양을 조절하는 기능까지도 수행한다.
The amount of the glass discharged to the outside through the heating step of the discharged surface glass can be controlled, and it also functions to control the amount of the glass discharged through the discharge part.

한편 본 발명에 따른 유리 제조 장치 및 방법을 이용하여 제작되는 유리의 형상은 특별히 한정하지 않으나 예를 들면 판상 혹은 판형일 수 있다. 본 발명에 따른 유리 제조 장치 및 방법을 사용하여 제작된 판형 유리의 경우 평탄도가 높은 장점이 있다. 또한 본 발명에 따른 유리 제조 장치 및 방법을 사용하여 제작된 판형 유리의 경우 광학적 외곡결점(ream)이 없거나 적어지는 장점이 있다. 이는 유리 제조 방법 중 표면 노출로 인해 물리적, 화학적 조성 및 성질이 변한 부분을 효율적으로 걷어내고 배출하여 제거하였기 때문이다. The shape of the glass produced by the apparatus and method for manufacturing a glass according to the present invention is not particularly limited, but may be, for example, a plate shape or a plate shape. The flat glass produced by the apparatus and method for manufacturing glass according to the present invention has a high flatness. Also, in the case of the plate-shaped glass manufactured by using the apparatus and method for manufacturing a glass according to the present invention, there is an advantage that there is no optical reverberation or there is no ream. This is because the physical, chemical composition and properties of the glass manufacturing process were effectively removed and discharged by surface exposure.

본 발명에 따른 유리는 표면 굴곡이 0.01 내지 0.07㎛ 일수 있다. 이 경우 표면 굴곡이 적어 유리의 평탄성이 좋아지는 장점이 있다. 구체적으로 유리의 표면굴곡이 0.01 내지 0.06㎛ 일수 있다. The glass according to the present invention may have a surface curvature of 0.01 to 0.07 mu m. In this case, there is an advantage that the flatness of the glass is improved because the surface curvature is small. Specifically, the surface curvature of the glass may be 0.01 to 0.06 탆.

이 경우 표면 굴곡이 적어 상기 기판 상에 미세한 회로 및 패턴을 적층하기에 적합하고 대형화된 디스플레이 장치의 유리 기판으로 사용이 적절하다. 이때 본 발영에 따른 유리는 붕규산 유리일 수 있으며 이 경우 유리 표면의 붕산 휘발로 인한 영향이 줄어들어 표면 굴곡이 줄어드는 효과가 있다. 상기 붕규산 유리는 붕산을 포함한 규소 유리로 규정되며 붕규산 유리 종 중량을 기준으로 붕산의 함량은 5% 내지 15%일 수 있으나 이에 한정되지는 않는다.In this case, it is suitable to laminate fine circuits and patterns on the substrate with less surface curvature, and is suitable for use as a glass substrate of a large-sized display device. In this case, the glass according to the present invention may be borosilicate glass, and in this case, the effect of boric acid volatilization on the glass surface is reduced, thereby reducing surface curvature. The borosilicate glass is defined as silicon glass including boric acid, and the content of boric acid based on borosilicate glass species weight may be 5% to 15%, but is not limited thereto.

한편 본 발명은 디스플레이 장치용 유리를 제공하나 이에 한정되지는 않는다. 상기 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 발광 다이오드(Light Emitting Diode,LED), 유기 발광소재(Organic Light Emitting Diode, OLED), 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD), 박막 트랜지스터 액정 표시 장치(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display, TFT-LCD) 및 음극선관(Cathode Ray Tube, CRT) 중 어느 하나일 수 있다.
Meanwhile, the present invention provides a glass for a display device, but is not limited thereto. The display device may be a plasma display panel (PDP), a light emitting diode (LED), an organic light emitting diode (OLED), a liquid crystal display (LCD) And may be any one of a liquid crystal display (TFT-LCD) and a cathode ray tube (CRT).

<< 실험예Experimental Example > >

이상과 같은 구성을 갖는 유리 제조 장치(100) 및 유리 제조 방법을 이용하여 유리를 제조하는 방법과 그 효과는 다음의 실시예를 통해 구체적으로 알 수 있다. The method for manufacturing glass using the glass manufacturing apparatus 100 and the glass manufacturing method having the above-described structure and the effect thereof can be concretely understood through the following examples.

먼저 붕규산 유리물을 조합한다. 이는 SiO2-Al2O3-B2O3-RO계의 조성을 갖는 유리가 되도록 원료를 조합하는 것을 의미한다. 구체적으로는 질량백분율로 SiO2 58~65%, B2O3 6~10.5%, Al2O3 14~25%, MgO 0~3%, CaO 0~9%, BaO 3~8%, 여기서 MgO+CaO+BaO 8~18%, ZnO 0~2%로 이루어지며 실질적으로 알칼리는 포함하지 않는다.First, borosilicate glass is combined. This means that the raw materials are combined so as to be a glass having a composition of SiO 2 -Al 2 O 3 -B 2 O 3 -RO system. Specifically, as a percentage by mass, SiO 2 58 to 65%, B 2 O 3 6 to 10.5%, Al 2 O 3 14 to 25% of MgO, 0 to 3% of MgO, 0 to 9% of CaO, 3 to 8% of BaO, 8 to 18% of MgO + CaO + BaO and 0 to 2% of ZnO and substantially no alkali.

상기 조합한 유리 원료를 용융로에 투입하여 용융하며 완전히 용융된 유리를 이송로(10)로 도입한다. 이송로(10)에는 스키머(20)가 설치되어 있으며 담김깊이(D1)는 D2의 30%으로 하며 약 150mm의 깊이로 담기게 한다. 유리의 상부면(4)는 배출부(30)으로 유리가 배출되기에 충분히 높으므로 유리의 일부분, 특히 스키머(20)에 의해 걷어지는 유리 표면이 충분히 빠져나갈 수 있다. 스키머(20) 이후의 이송로(10')를 통해 흐르는 용융 유리는 플로트배스로(도시 안됨) 유입되며 적절한 온도와 방법으로 이를 디스플레이용 유리 기판으로 성형한다.The combined glass raw materials are put into a melting furnace and melted, and the completely melted glass is introduced into the conveying path 10. A skimmer 20 is installed in the conveying path 10, and the filling depth D1 is set to 30% of D2 and the depth D1 is about 150 mm. The upper surface 4 of the glass is sufficiently high for the glass to be discharged to the discharge portion 30, so that a portion of the glass, in particular the glass surface tilted by the skimmer 20, can escape sufficiently. The molten glass flowing through the transfer path 10 'after the skimmer 20 flows into the float bath (not shown) and forms it into a glass substrate for display at an appropriate temperature and method.

광학적 왜곡결점의 수준은 우선 검사자의 육안으로 확인하며 이를 림(ream)검사로 명명한다. 림검사를 위해 상기 성형된 유리 기판을 가로 세로 각각 600mm의 크기로 절단한 후 검사를 수행하였다. 검사를 위해 샘플은 20장을 측정하였으며 샘플의 채취 위치 및 채취 시간은 랜덤하게 하여 측정의 정확성을 높인다. 림은 유리기판 표면의 광학적 왜곡결점 검사의 정성적인 방법이다. 림은 유리 기판에 빛을 투사하여 보았을 때 나타나는 줄무늬의 존재 여부를 의미하며 통상적으로 디스플레이용 유리기판의 경우 림은 없어야 한다.The level of optical distortion defects is first identified by the inspector's eyes and is called a ream test. For the rim inspection, the molded glass substrate was cut into a size of 600 mm in length and 600 mm in length, and then the inspection was performed. For the test, 20 samples were measured and the sampling position and sampling time were randomized to increase the accuracy of the measurement. The rim is a qualitative method of optical distortion defect inspection on the glass substrate surface. The rim means the presence of stripes when light is projected onto the glass substrate. Normally, the glass substrate for display should have no rim.

광학적 왜곡결점의 정량적인 검사방법으로 표면 굴곡(waviness)의 측정을 또한 수행하였다. 표면 굴곡의 검사를 위해 상기 성형된 유리기판을 가로 세로 각각 100mm의 크기로 절단한 후 검사를 수행하였다. 검사의 정확성을 높이기 위해 샘플은 20장을 측정하였으며 샘플의 채취 위치 및 채취 시간은 랜덤하게 하여 측정의 정확성을 높인다. 측정은 서브콤(surfcom) 장비를 이용한다. 서브콤은 유리기판 표면 100mm의 구간에 대해 물리적인 스캔을 수행하여 표면의 굴곡을 측정하는 장비이다. 이러한 측정 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
Measurements of surface waviness were also performed by quantitative inspection of optical distortion defects. For inspection of the surface curvature, the molded glass substrate was cut into a size of 100 mm in length and 100 mm in length, and then the inspection was performed. In order to increase the accuracy of the test, 20 samples are measured and the sampling position and sampling time are randomized to improve the accuracy of the measurement. The measurement uses a surfcom device. Subcomm is a device that measures the surface curvature by performing a physical scan on a 100mm section of glass substrate surface. The results of these measurements are shown in Table 1 below.

<< 비교예Comparative Example >>

비교예를 통하여 본 발명의 효과를 검증한다. 붕규산 유리물의 조합은 상기 실시예와 동일하게 수행하며 용융이 완료된 후 유리를 이송로(10)로 도입한다. 이 때에는 스키머는 미리 제거하였다. 결과적으로 이송로(10)를 흐르는 용융유리의 상부 표면 유리는 배출부(30) 및 배출 모듈(40)를 통하여 밖으로 배출되지 않았다. 용융 유리는 플로트배스(도시 안됨)로 유입되며 실험예와 동일하게 적절한 온도와 방법으로 이를 디스플레이용 유리기판으로 성형한다.The effects of the present invention are verified through comparative examples. The combination of borosilicate glass is performed in the same manner as in the above embodiment, and the glass is introduced into the conveying path 10 after the melting is completed. At this time, the skimmer was removed in advance. As a result, the upper surface glass of the molten glass flowing through the conveying path 10 is not discharged through the discharge portion 30 and the discharge module 40. The molten glass is introduced into a float bath (not shown) and is molded into a glass substrate for display by the appropriate temperature and method as in the experimental example.

상기의 방법으로 제작 된 유리기판의 광학적 왜곡결점의 수준을 측정하기 위하여 림검사 및 표면 굴곡을 측정을 수행하였다. 이러한 측정 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
In order to measure the level of the optical distortion defect of the glass substrate manufactured by the above method, the rim inspection and the surface deflection were measured. The results of these measurements are shown in Table 1 below.

림(ream)검사Ream inspection 표면굴곡(waviness) 측정값Surface waviness measurements 실시예Example 발생 없음No occurrence 0.05um~0.08 um0.05 um ~ 0.08 um 비교예Comparative Example 75% 발생75% occur 0.10um~0.50 um0.10 μm to 0.50 μm

표 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 유리 제조 장치 및 유리 제조 방법을 이용하여 제조된 유리 기판의 경우 상부 표면 유리의 휘발에 의해 발생되는 광학적 왜곡 결점이 현저히 감소되는 것이 확인되었다. As shown in Table 1, it was confirmed that, in the case of the glass substrate manufactured using the glass manufacturing apparatus and the glass manufacturing method according to the present invention, the optical strain defects caused by the volatilization of the upper surface glass were remarkably reduced.

즉 본 발명에 따르면, 붕산과 같은 저밀도 휘발 분자가 휘발되어 생성된 표면 유리를 성형설비로의 투입 이전에 스키머로 제거함으로써, 제품에 광학적 왜곡결점 및 기계적 표면 굴곡이 존재하지 않는 매우 균질한 디스플레이용 유리기판을 제조할 수 있게 된다.
That is, according to the present invention, the surface glass produced by volatilizing low-density volatile molecules such as boric acid is removed with a skimmer before introduction into the molding equipment, so that the product is provided with an extremely homogeneous display with no optical strain defects and no mechanical surface defects A glass substrate can be manufactured.

1 : 용융 유리
2 : 가상선
3 : 가상의 면
4 : 유리 상부면
10 : 스키머 이전의 이송로
10' : 스키머 이후의 이송로
20 : 스키머
30 : 배출부
31 : 외부 배출구
32 : 오버플로우 입구
33 : 배출 도관
40 : 배출 모듈
50 : 가열 수단
D1 : 용융 유리의 상부표면에서 스키머 하부까지의 담김 깊이
D2 : 용융 유리의 상부표면에서 이송로 하부까지의 용융 유리 깊이1: molten glass
2: virtual line
3: virtual face
4: glass upper surface
10: Transport before skimmer
10 ': transport after skimmer
20: Skimmer
30:
31: Outside outlet
32: Overflow inlet
33: Exhaust conduit
40: Exhaust module
50: Heating means
D1: Loading depth from the upper surface of the molten glass to the lower part of the skimmer
D2: the depth of the molten glass from the upper surface of the molten glass to the lower part of the conveyance path

Claims (20)

용융 유리가 이송되는 이송로;
상기 이송로 내에 이송되는 융융 유리의 표면 유리를 걷어내는 스키머; 및
상기 스키머에 의해 걷어내어진 상기 표면 유리가 오버플로우되어 배출되는 배출부;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리 제조 장치.
A transfer path through which the molten glass is transferred;
A skimmer for removing the surface glass of the molten glass conveyed in the conveyance path; And
And a discharge portion for discharging the surface glass overflowed by the skimmer.
제1항에 있어서,
상기 이송로는 전로(forehearth), 공급부(feeder) 및 냉각부(cooling zone) 중 어느 하나에 위치 한 통로인 것을 특징으로 하는,
유리 제조 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the conveying path is a passage located in one of a forehearth, a feeder, and a cooling zone.
Glass manufacturing device.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 스키머는 상기 이송로의 상부에 제공되며, 그리고
상기 배출부는 상기 이송로의 측면에 제공되는 것을 특징으로 하는,
유리 제조 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
The skimmer is provided on top of the conveying path, and
Characterized in that the discharge portion is provided on a side surface of the conveyance path.
Glass manufacturing device.
제3항에 있어서,
상기 스키머는,
상기 용융 유리의 전체 깊이를 기준으로 하여 표면으로부터 5% 내지 50%의 깊이 범위로 위치하도록 구성되는 것을 특징으로 하는,
유리 제조 장치.
The method of claim 3,
The skimmer
And is positioned to be in a depth range of 5% to 50% from the surface based on the total depth of the molten glass.
Glass manufacturing device.
제3항에 있어서,
상기 스키머는,
일측이 경사지도록 구성되거나 혹은 상기 이송로 내에서 상기 용융 유리의 이동 방향의 수직인 면에 대하여 일측 단부와 타측 단부를 연결하는 선이 일정한 각도를 유지하도록 구성되는 것을 특징으로 하는,
유리 제조 장치.
The method of claim 3,
The skimmer
And a line connecting one side end and the other side end with respect to a plane perpendicular to the moving direction of the molten glass in the conveyance path is configured to maintain a constant angle.
Glass manufacturing device.
제5항에 있어서,
상기 일정한 각도는 30 ° 초과 60 ° 이하의 각도 범위 내에 위치하는 것을 특징으로 하는, 유리 제조 장치.
6. The method of claim 5,
Characterized in that said constant angle lies within an angular range of more than 30 DEG and less than 60 DEG.
제1항에 있어서,
상기 배출부는,
상기 표면 유리를 외부로 배출하는 외부 배출구;
상기 이송로의 측면에 형성되며, 상기 외부 배출구로 상기 표면 유리를 이송하는 오버플로우 입구; 및
상기 외부 배출구와 상기 오버플로우 입구를 연결하는 배출 도관;을 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리 제조 장치.
The method according to claim 1,
The discharge portion
An outer discharge port for discharging the surface glass to the outside;
An overflow inlet formed on a side surface of the conveyance path for conveying the surface glass to the external discharge port; And
And an outlet conduit connecting the external outlet and the overflow inlet.
제7항에 있어서,
상기 배출부는,
상기 배출 도관 내에 위치하며, 걷어내어진 상기 표면 유리가 역류하여 상기 이송로로 재유입되는 것을 방지하는 역류 방지 부재;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리 제조 장치.
8. The method of claim 7,
The discharge portion
Further comprising a backflow preventing member located in the discharge conduit and preventing the surface glass from being withdrawn from flowing back into the transfer path.
제7항에 있어서,
상기 유리 제조 장치는,
백금 혹은 백금 합금으로 이루어진 파이프 형태로 구성되거나 혹은 연소 장치가 부착된 연소 공간의 형태로 구성되는 배출 모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리 제조 장치.
8. The method of claim 7,
The glass manufacturing apparatus includes:
Characterized in that it further comprises an exhaust module constructed in the form of a pipe made of platinum or platinum alloy or in the form of a combustion space with a combustion device attached thereto.
제7항에 있어서,
상기 배출부는,
상기 외부 배출구의 끝단에 설치되며 모아진 표면 유리를 외부로 배출시키는 오리피스;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
유리 제조 장치.
8. The method of claim 7,
The discharge portion
And an orifice installed at an end of the external discharge port and discharging the collected surface glass to the outside.
Glass manufacturing device.
제9항 또는 제10항에 있어서,
상기 배출 모듈 및 상기 오리피스 중 어느 하나 이상에는,
그 내부에 위치하는 표면 유리를 가열하기 위한 가열 수단이 제공되는 것을 특징으로 하는, 유리 제조 장치.
11. The method according to claim 9 or 10,
Wherein at least one of the discharge module and the orifice comprises:
Characterized in that a heating means is provided for heating the surface glass located therein.
제1항에 있어서,
상기 배출부를 통하여 배출되는 표면 유리는 상기 이송로 내에서 이송되는 용융 유리의 1% 내지 10%인 것을 특징으로 하는,
유리 제조 장치.
The method according to claim 1,
And the surface glass discharged through the discharge portion is 1% to 10% of the molten glass to be transferred in the transfer path.
Glass manufacturing device.
용융 유리가 이송로로 이동되는 단계;
상기 이송로의 상부에 설치된 스키머로 상기 용융 유리의 표면 유리가 걷어내지는 단계; 및
상기 스키머에 의해 걷어진 표면 유리가 오버플로우되어 배출부로 배출되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리 제조 방법.
Moving the molten glass to the transfer path;
Removing the surface glass of the molten glass by a skimmer installed on the transfer path; And
Characterized in that the step of bringing the surface glass rolled by the skimmer overflows and is discharged to the outlet.
제13항에 있어서,
상기 이송로는 전로(forehearth), 공급부(feeder) 및 냉각부(cooling zone) 중 어느 하나에 위치 한 통로인 것을 특징으로 하는,
유리 제조 방법.
14. The method of claim 13,
Wherein the conveying path is a passage located in one of a forehearth, a feeder, and a cooling zone.
&Lt; / RTI &gt;
제13항에 있어서,
상기 스키머는, 상기 용융 유리의 전체 깊이를 기준으로 하여 표면으로부터 5% 내지 50%의 깊이 범위로 위치하도록 구성되는 것을 특징으로 하는,
유리 제조 방법.
14. The method of claim 13,
Characterized in that the skimmer is configured to be positioned in a depth range of 5% to 50% from the surface, based on the total depth of the molten glass.
&Lt; / RTI &gt;
제13항에 있어서,
상기 스키머에 의해 걷어지지 않은 용융 유리를 냉각시키는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
유리 제조 방법.
14. The method of claim 13,
Further comprising cooling the molten glass not tilted by the skimmer.
&Lt; / RTI &gt;
제13항에 있어서,
상기 배출부에 의해 배출되는 표면 유리를 가열하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
유리 제조 방법.
14. The method of claim 13,
And heating the surface glass discharged by the discharge portion.
&Lt; / RTI &gt;
제13항 내지 제18항 중 어느 한 항에 따른 유리 제조 방법에 의해 제조되고, 표면 굴곡이 0.01 내지 0.07㎛인 유리.
18. A glass produced by the glass manufacturing method according to any one of claims 13 to 18 and having a surface deflection of 0.01 to 0.07 占 퐉.
제18항에 있어서,
상기 유리의 재질은 붕규산 유리인 것을 특징으로 하는 유리.
19. The method of claim 18,
Wherein the material of the glass is borosilicate glass.
제18항에 따른 유리를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.A display device comprising a glass according to claim 18.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180111597A (en) * 2017-03-31 2018-10-11 에이지씨 가부시키가이샤 Non-alkali glass substrate

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100960671B1 (en) 2007-11-08 2010-05-31 한국전기연구원 Rotary optical delay line system
KR101076741B1 (en) 2010-03-04 2011-10-26 (주)에스엠솔루션즈 Vision system of test heander in socket and the method thereof

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1538215A (en) * 1924-04-07 1925-05-19 Libbey Owens Sheet Glass Co Glass furnace
US3630708A (en) * 1970-02-20 1971-12-28 Corning Glass Works Forehearth surface-glass separation and removal
US3666432A (en) * 1971-03-11 1972-05-30 Ppg Industries Inc Process and apparatus for separating foam from a molten body of glass
CN1028446C (en) * 1990-08-15 1995-05-17 李光 Projective type measuring instrument for measuring clearance of die set and working theory
FR2711982B1 (en) * 1993-11-02 1996-01-19 Saint Gobain Vitrage Transfer and conditioning channel for molten glass.
DE10105004A1 (en) * 2001-02-03 2002-08-22 Schott Glas Low pressure machine used for producing glass comprises a hollow chamber subjected to a low pressure and through which molten glass flows, and a barrier to retain foam and components floating on the molten glass
CN101092280B (en) * 2007-06-07 2012-01-18 河南安彩高科股份有限公司 Composition of aluminum boron silicate glass and application
US20100126225A1 (en) * 2008-11-25 2010-05-27 Josh Ding Method for homogenizing a glass melt
US8402787B2 (en) * 2009-10-21 2013-03-26 Ocv Intellectual Capital, Llc Molten glass delivery and refining system
CN202007184U (en) * 2011-07-05 2011-10-12 盐城晶钰玻璃有限公司 Separating device for upper molten glass layer on lamp tube glass feeding way

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100960671B1 (en) 2007-11-08 2010-05-31 한국전기연구원 Rotary optical delay line system
KR101076741B1 (en) 2010-03-04 2011-10-26 (주)에스엠솔루션즈 Vision system of test heander in socket and the method thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180111597A (en) * 2017-03-31 2018-10-11 에이지씨 가부시키가이샤 Non-alkali glass substrate

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