KR20150137703A - Preparing method for the optical film, optical member and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a manufacturing method of an optical film comprising: a step of forming a layered body by bonding a heat constructing film on one or more areas of a birefringence film by a medium of an active energy way hardening resin layer; and a step of thermally constructing the layered body to satisfy the equation (1) (n_x > n_z > n_y) and the equation (2) (0% <= S_2 - S_1 <= 5%), an optical member and an optical film manufactured thereby, and a polarizing plate and a liquid crystal display device including the same. In the equation (1) (n_x > n_z > n_y), n_x is the refractive index in the direction in which a plane direction refractive index of the birefringence film becomes the biggest value. The n_y is the refractive index in a direction which is perpendicular to the n_x direction. The n_z is the refractive index of the thickness direction of the birefringence film. In the equation (2) (0% <= S_2 - S_1 <= 5%), S_1 is the construction rate of the direction which is perpendicular to the elongation direction of the birefringence film in a layered body state. The S_2 is the construction rate of the direction which is perpendicular to the elongation direction of the heat constructing film in a layered body state.

Description

광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치{PREPARING METHOD FOR THE OPTICAL FILM, OPTICAL MEMBER AND OPTICAL FILM BY THE SAME METHOD, POLARIZING PLATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY COMPRISING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a method of manufacturing an optical film, an optical member and an optical film manufactured using the same, a polarizing plate and a liquid crystal display including the polarizing plate and the liquid crystal display device, THE SAME}

본 발명은 광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 IPS 모드 액정표시장치 등에 위상차 필름으로 유용하게 적용될 수 있는 광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a method for producing an optical film, an optical member and an optical film manufactured using the optical film, a polarizing plate and a liquid crystal display including the optical member, and more particularly to an IPS mode liquid crystal display An optical member and an optical film manufactured using the same, a polarizing plate including the same, and a liquid crystal display device.

액정표시장치는 음극선관 디스플레이에 비해 소비 전력이 낮고, 부피가 작고, 가벼워 휴대가 용이하기 때문에 광학 디스플레이 소자로서 보급이 확산되고 있다. 일반적으로 액정표시장치는 액정 셀의 양측에 편광판을 설치한 기본 구성을 가지며, 구동회로의 전계 인가 여부에 따라 액정 셀의 배향이 변하게 되고, 그에 따라 편광판을 통해 나온 투과광의 특성이 달라지게 됨으로써 빛의 가시화가 이루어진다. 이때 입사광의 입사 각도에 따라 빛의 경로와 복굴절성이 변화하게 되는데, 이는 액정이 두 개의 상이한 굴절률을 가지는 이방성 물질이기 때문이다.
The liquid crystal display device is spreading as an optical display device because its power consumption is lower than that of a cathode ray tube display, its volume is small, its weight is light and it is easy to carry. In general, a liquid crystal display device has a basic structure in which a polarizing plate is provided on both sides of a liquid crystal cell, and the orientation of the liquid crystal cell changes depending on whether an electric field is applied to the driving circuit, and the characteristics of light transmitted through the polarizing plate are changed, Is visualized. At this time, the path of light and the birefringence change depending on the incident angle of the incident light because the liquid crystal is an anisotropic material having two different refractive indices.

이와 같은 특성으로 인해, 액정표시장치는 시야각(viewing angle)에 따라 상이 얼마나 뚜렷하게 보이는지를 가늠하는 척도인 콘트라스트 비(contrast ratio)가 달라지고 계조 반전(gray scale inversion) 현상이 발생하여 시인성이 떨어진다는 단점을 지닌다. 상기와 같은 단점을 극복하기 위하여 액정표시장치 장치에는 액정 셀에서 발생하는 광학 위상차를 발현시켜 주는 광학 위상차 필름(compensation film)이 사용되고 있다.
Due to such characteristics, the liquid crystal display device has a problem that the contrast ratio, which is a measure for how much the image is seen clearly according to the viewing angle, is changed and the gray scale inversion phenomenon occurs, It has disadvantages. In order to overcome such disadvantages, an optical compensation film for developing an optical retardation generated in a liquid crystal cell is used for a liquid crystal display device.

상기와 같은 위상차 필름으로는, 예를 들면, nx > nz > ny 의 굴절률 분포를 가지는 광학 필름이 사용되고 있다. 이때, 상기와 같은 굴절률 분포를 가지는 광학 필름은 한 장의 필름으로 구현이 어려워, 종래에는 두 층 이상의 다층 필름으로 구성되는 구조가 현실적으로 제시되었다. 그러나, 다층 필름으로 제조하는 경우, 필름의 박형화가 어려우며, 또한 적층되는 두 층 이상의 필름의 광축을 정확하게 배치되지 않으면 원하는 위상차 특성을 나타내지 않는 등 제조가 매우 까다롭다는 문제점이 있었다.
As such a retardation film, for example, an optical film having a refractive index distribution of n x > n z > n y is used. At this time, the optical film having the refractive index distribution as described above is difficult to be realized as a single film, and conventionally, a structure composed of two or more layers of multilayer films has been presented. However, in the case of a multilayer film, it is difficult to make the film thinner, and if the optical axis of two or more laminated films is not precisely aligned, the desired retardation characteristics are not exhibited.

따라서 한 장의 필름으로 위와 같은 굴절률 분포를 가지는 광학 필름을 제조하기 위한 연구가 계속하여 진행되고 있으며, 예를 들면, 수지 필름의 편면 또는 양면에 공지의 점착제를 개재하여 수축성 필름을 부착하여 적층체를 형성하고, 상기 적층체를 연신 처리하여, 상기 연신 방향과 직교하는 방향으로 수축력을 부여하는 방법이 제안된바 있다. 그러나, 점착제, 예를 들면 아크릴계 점착제를 이용하는 상기 방법은 점착제에 의한 점착 잔류물이 발생하여 생산성이 저하될 뿐만 아니라, 접착된 두 층의 필름이 열 수축을 위한 고온 연신 과정에서 박리되기 쉬워 광학 필름의 전구체 필름인 수지 필름이 원하는 만큼 수축되지 못하는 문제점이 있으며, 그 결과 고분자의 배향성이 불량하여 광학 필름의 품질이 현저히 저하되는 문제점이 있다.
Therefore, research for producing an optical film having a refractive index profile as described above has been continuously carried out. For example, a shrinkable film is attached to one side or both sides of a resin film through a known adhesive, And stretching the laminate to give a contracting force in a direction orthogonal to the stretching direction. However, the above-mentioned method using a pressure-sensitive adhesive, for example, an acrylic pressure-sensitive adhesive not only deteriorates the productivity due to the occurrence of adhesive residues by the pressure-sensitive adhesive, but also causes the two layers of the film to be easily peeled off during high temperature stretching for heat shrinkage, The resin film as a precursor film of the polymer can not be shrunk as desired. As a result, there is a problem that the quality of the optical film is significantly deteriorated due to poor orientation of the polymer.

한편, 위와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 아크릴계 점착제를 사용하지 않고 수축 필름 위에 위상차를 발현할 수 있는 코팅층을 도포한 후 연신 방향과 직교하는 방향으로 수축시키는 방법으로 위와 같은 광학 필름을 제조하는 방법이 제안된바 있다. 그러나, 코팅층을 형성하는 경우 액상에서 고상으로 상전이가 일어나는 과정에서 고분자의 배향이 원하는 대로 되지 않을 수 있으며, 따라서 열 수축에 의한 배향성을 제어하기 어렵다는 단점이 있으며, 또한 대면적으로 제조하기에는 한계가 있다.
In order to solve the above problems, there is a method for producing the above optical film by coating a coating layer capable of developing a retardation on a shrinkable film without using an acrylic pressure-sensitive adhesive, and then shrinking the film in a direction perpendicular to the stretching direction It has been proposed. However, when the coating layer is formed, the orientation of the polymer may not be desired in the process of phase transition from a liquid phase to a solid phase, and thus it is difficult to control the orientation property due to heat shrinkage, .

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 고온 연신 과정에서 박리가 쉽게 일어나지 않는바 복굴절성 필름을 열 수축성 필름 만큼 충분히 수축 시킬 수 있으며, 나아가 대면적으로도 제조 가능한, 새로운 nx > nz > ny 의 굴절률 분포를 가지는 단일의 광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치를 제공하고자 한다.
Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a novel n x &gt; n z > n y , an optical member and an optical film manufactured using the same, a polarizing plate including the same, and a liquid crystal display device.

일 측면에서, 본 발명은 복굴절성 필름의 적어도 일면에 열 수축성 필름을 활성 에너지선 경화형 수지층을 매개로 합지하여 적층체를 형성하는 단계; 및 하기 식 (1) 및 (2)를 만족하도록 상기 적층체를 열 수축하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a birefringent film, comprising: forming a laminate by laminating a heat shrinkable film on at least one side of a birefringent film through an active energy ray-curable resin layer; And heat-shrinking the laminate so as to satisfy the following expressions (1) and (2).

식 (1): nx > nz > ny Equation (1): n x > n z > n y

식 (2): 0% ≤ S2 - S1 ≤ 5%(2): 0%? S 2 - S 1 ? 5%

상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율이고,In the formula (1), n x is the birefringence, and the plane direction refractive index is the refractive index of the direction in which the maximum of the film, n y is a refractive index in a direction perpendicular to a direction to the n x direction in the birefringent film, n z Is the refractive index in the thickness direction of the birefringent film,

상기 식 (2)에 있어서, S1은 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이며, S2는 적층체 상태에서의 열 수축성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률임.
In the formula (2), S 1 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent film in the laminated state, S 2 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the heat shrinkable film in the laminated state being.

이때, 상기 적층체를 열 수축하는 단계는 하기 식 (3) 및 (4)를 더 만족하는 것이 보다 바람직하다.At this time, it is more preferable that the step of heat shrinking the laminate further satisfies the following formulas (3) and (4).

식 (3): 0.10 N/2cm ≤ Pa ≤ 1.0 N/2cm(3): 0.10 N / 2 cm? P a ? 1.0 N / 2 cm

식 (4): 0.01 N/2cm ≤ Pb ≤ 0.50 N/2cm(4): 0.01 N / 2 cm? P b ? 0.50 N / 2 cm

상기 식 (3) 및 (4)에 있어서, Pa는 열 수축 전 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력이며, Pb는 열 수축 후 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력임.
In the above formulas (3) and (4), P a is the adhesive strength between the birefringent film and the heat shrinkable film before heat shrinkage, and P b is the adhesive strength between the birefringent film and the heat shrinkable film after heat shrinkage.

한편, 상기 적층체를 형성하는 단계는 상기 복굴절성 필름과 열 수축성 필름 사이에 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포한 후, 두 필름을 합지하고, 활성 에너지선 경화형 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 경화시키는 방법으로 수행되는 것이 바람직하다.
Meanwhile, in the step of forming the laminate, the active energy ray-curable composition is applied between the birefringent film and the heat-shrinkable film, followed by laminating the two films, and curing the active energy ray-curable composition by irradiating active energy rays It is preferable to carry out the method.

한편, 상기 활성 에너지선 경화형 조성물은 하기 [화학식 1]로 표시되는 제1화합물, 적어도 하나 이상의 카르복시기를 포함하는 제2화합물, 및 라디칼 개시제를 포함하는 것일 수 있다.On the other hand, the active energy ray-curable composition may include a first compound represented by the following formula (1), a second compound containing at least one carboxyl group, and a radical initiator.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 [화학식 1]에서, R1은 에스테르기 또는 에테르기고; R2는 C1 ~10 알킬기, C4~10 시클로알킬기, 또는 이들의 조합이고, 이때 R2는 분자 내에 적어도 하나 이상의 히드록시 치환기를 가지며; R3는 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 ~10 알킬기임.
In the above formula (1), R 1 represents an ester group or an ether group; R 2 is C 1 ~ 10 alkyl group, a C 4-10 cycloalkyl group, or a combination thereof, wherein R 2 has at least one hydroxy substituent in the molecule; R 3 is hydrogen, or a substituted or unsubstituted C 1 ~ 10 alkyl group;

또는, 상기 활성 에너지선 경화형 조성물은 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 제1에폭시 화합물, 호모폴리머의 유리전이온도가 60℃ 이하인 제2에폭시 화합물 및 광 양이온 중합 개시제를 포함하는 것일 수 있다.
Alternatively, the active energy ray-curable composition may include a first epoxy compound having a glass transition temperature of 120 ° C or higher of the homopolymer, a second epoxy compound having a glass transition temperature of 60 ° C or lower of the homopolymer, and a photo cationic polymerization initiator.

한편, 상기 복굴절성 필름은 정의 복굴절성 필름인 것이 바람직하다.
On the other hand, the birefringent film is preferably a positive birefringent film.

또한, 상기 복굴절성 필름은 미연신 필름인 것이 바람직하다.
The birefringent film is preferably an unstretched film.

한편, 상기 열 수축성 필름은 폭 방향(TD)으로 1축 연신 처리된 필름인 것이 바람직하다.
On the other hand, it is preferable that the heat shrinkable film is a film uniaxially stretched in the width direction (TD).

한편, 상기 복굴절성 필름의 유리전이온도는 상기 열 수축성 필름의 유리전이온도보다 20℃ 이상 큰 것이 바람직하다.
On the other hand, the glass transition temperature of the birefringent film is preferably 20 ° C or more higher than the glass transition temperature of the heat shrinkable film.

한편, 상기 활성 에너지선 경화형 수지층은 유리전이온도가 70℃ 이상인 것이 바람직하다.
On the other hand, the active energy ray-curable resin layer preferably has a glass transition temperature of 70 캜 or higher.

한편, 상기 적층체는 폭(W) 대비 길이(L)가 1.5 배 이상인 것이 바람직하다.
On the other hand, it is preferable that the length (L) of the laminate is 1.5 times or more as large as the width (W).

한편, 상기 열 수축하는 단계는 적층체를 길이 방향(MD)으로 1축 연신하는 것이 바람직하다.
On the other hand, in the heat shrinking step, it is preferable to uniaxially stretch the laminate in the longitudinal direction (MD).

이때, 상기 연신은 열 수축성 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg) 내지 (Tg + 100℃)의 온도에서 수행되는 것이 바람직하다.
At this time, it is preferable that the stretching is performed at a temperature of (Tg) to (Tg + 100 deg. C), where Tg is the glass transition temperature of the heat shrinkable film.

또한, 상기 연신은 1.1 내지 3.0 배의 연신 배율로 수행되는 것이 바람직하다.
The stretching is preferably performed at a draw ratio of 1.1 to 3.0 times.

다른 측면에서, 본 발명은 복굴절성 필름; 및 상기 복굴절성 필름의 적어도 일면에 활성 에너지선 경화형 수지층을 매개로 합지되어 있는 열 수축성 필름을 포함하며, 하기 식 (1) 및 (2)를 만족하는 광학 부재를 제공한다.In another aspect, the invention relates to a birefringent film; And a heat shrinkable film laminated on at least one surface of the birefringent film through an active energy ray-curable resin layer, wherein the optical member satisfies the following expressions (1) and (2).

식 (1): nx > nz > ny Equation (1): n x > n z > n y

식 (2): 0% ≤ S2 - S1 ≤ 5%(2): 0%? S 2 - S 1 ? 5%

상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율이고,In the formula (1), n x is the birefringence, and the plane direction refractive index is the refractive index of the direction in which the maximum of the film, n y is a refractive index in a direction perpendicular to a direction to the n x direction in the birefringent film, n z Is the refractive index in the thickness direction of the birefringent film,

상기 식 (2)에 있어서, S1은 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이며, S2는 적층체 상태에서의 열 수축성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률임.
In the formula (2), S 1 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent film in the laminated state, S 2 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the heat shrinkable film in the laminated state being.

또 다른 측면에서, 본 발명은 상기 제조 방법으로 제조되며, 하기 식 (5) 내지 (7)을 만족하는 광학 필름을 제공한다.In another aspect, the present invention provides an optical film produced by the above production method and satisfying the following formulas (5) to (7).

식 (5): 150nm ≤ Rin ≤ 350nmFormula (5): 150 nm? R in ? 350 nm

식 (6): 50nm ≤ Rth ≤ 250nm(6): 50nm? Rth ? 250nm

식 (7): 0.1 ≤ Nz ≤ 1.0Equation (7): 0.1? Nz? 1.0

상기 식 (5) 내지 (7)에 있어서, Rin는 파장 550nm에서 측정한 필름의 면 방향 위상차 값이고, Rth는 파장 550nm에서 측정한 필름의 두께 방향 위상차 값이며, Nz는 파장 550nm에서 측정한 면 방향 위상차 값에 대한 두께 방향 위상차 값의 비(Rth/Rin)임.
In the formulas (5) to (7), R in is the retardation value in the plane direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, R th is the retardation value in the thickness direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, (R th / R in ) of the retardation value in the thickness direction to the retardation value in one direction.

한편, 본 발명은 상기 광학 필름을 포함하는 편광판 및 액정표시장치 역시 제공한다.
The present invention also provides a polarizing plate and a liquid crystal display device including the optical film.

본 발명의 제조 방법으로 제조되는 광학 필름은 한 장의 필름으로도 효과적으로 nx > nz > ny 굴절률 분포를 가지는 위상차 특성을 구현할 수 있으며, 박형으로 제조가 가능하고, 그 제조 역시 용이하며, 기존의 두 층 이상의 적층 필름보다 색상 및 시감의 변화가 적다.
The optical film produced by the production method of the present invention can realize a retardation property effectively having a refractive index distribution of n x > n z > n y even in a single film, and can be manufactured in a thin shape, The color and the change of the sensation are less than those of the laminated film of two or more layers.

또한, 본 발명의 제조 방법은 고온 연신 과정에서도 박리가 쉽게 일어나지 않으며, 따라서 열 수축성 필름에 의한 복굴절성 필름의 수축이 효과적으로 일어날 수 있는바, 최종적으로 제조되는 광학 필름의 품질이 우수하다는 장점이 있다.
In addition, the production method of the present invention has an advantage in that the peeling is not easily caused even in the high-temperature stretching process, and therefore, the shrinkage of the birefringent film by the heat shrinkable film can be effectively performed, and the quality of the finally produced optical film is excellent .

또한, 본 발명의 제조 방법은 별도의 두 필름을 합지하는 것인바, 코팅층을 형성하는 경우에 비하여 고분자의 배향이 보다 용이하며, 또한 광학 필름을 대면적으로 제조할 수 있다는 장점이 있다.
In addition, the manufacturing method of the present invention is advantageous in that the orientation of the polymer is easier and the optical film can be manufactured in a large area, as compared with the case of forming the coating layer.

도 1 (a)는 실시예 1 내지 3에 따른 적층체의 열 수축 결과를 예시적으로 보여주는 도면이며, 도 2 (b)는 비교예 3에 따른 적층체의 열 수축 결과를 예시적으로 보여주는 도면이다.
도 2는 실시예 1 및 비교예 4에 따라 제조된 광학 필름의 외관을 비교하여 보여주는 사진이다.
Fig. 1 (a) is a view showing an example of the result of heat shrinkage of the laminate according to Examples 1 to 3, Fig. 2 (b) is a view showing an example of a result of heat shrinkage of the laminate according to Comparative Example 3 to be.
Fig. 2 is a photograph showing the appearance of optical films prepared according to Example 1 and Comparative Example 4 in comparison.

먼저 본 명세서에 사용되는 용어를 정의한다.
First, terms used in this specification are defined.

(1) nx는 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절율이며, ny는 면 방향에 있어서 지상축에 수직인 방향인 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절율이며, nz는 두께 방향의 굴절율을 의미한다. 상기 nx, ny, nz는 550nm 파장의 광에서 측정한다. 한편, 상기 nx , ny , nz은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, 프리즘 커플러 장비(SAIRON TECHNOLOGY社 SPA-3DR) 등을 이용하여 측정이 가능하다.
(1) where n x is the refractive index in the direction in which the refractive index in the plane direction is the maximum (that is, the slow axis direction), and n y is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane direction , and n z means the refractive index in the thickness direction. The n x , n y , and n z are measured in light having a wavelength of 550 nm. Meanwhile, n x , n y , and n z can be measured by a well-known method well known in the art. For example, measurement can be performed using prism coupler equipment (SPA-3DR manufactured by SAIRON TECHNOLOGY) Do.

(2) Rin은 550nm 파장의 광에서의 면 방향 위상차값을 의미하는 것으로, 면 방향 위상차값 Rin=(nx-ny)×d에 의해 구해진다. 이때, 상기 nx 및 ny는 상기한 바와 동일하며, d는 필름의 두께를 의미한다. 한편, 상기 Rin은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Axomatrics社의 Axoscan 장비를 이용하여 측정할 수 있다.
(2) R in means a retardation value in the plane direction in the light having a wavelength of 550 nm, and is obtained by the retardation value R in = (n x -n y ) x d. Here, n x and n y are the same as described above, and d represents the thickness of the film. On the other hand, in the R it can be measured by a known method known in the art and, for example, can be measured using the equipment of Axoscan Axomatrics社.

(3) Rth은 550nm 파장의 광에서의 두께 방향 위상차값을 의미하는 것으로, 두께 방향 위상차값 Rth=(nz-ny)×d에 의해 구해진다. 이때, 상기 ny 및 nz는 상기한 바와 동일하며, d는 필름의 두께를 의미한다. 한편, 상기 Rth은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Axomatrics社의 Axoscan 장비를 이용하여 측정할 수 있다.
(3) R th means the retardation value in the thickness direction in the light having the wavelength of 550 nm, and is obtained by the thickness direction retardation value R th = (n z -n y ) x d. Here, n y and n z are the same as described above, and d represents the thickness of the film. On the other hand, the R th can be determined by well-known methods known in the art and, for example, can be measured using the equipment of Axoscan Axomatrics社.

(4) 복굴절성 필름이란 연신에 의하여 특정 방향으로 굴절율이 발현되는 필름을 의미하며, 이때 연신 방향으로 최대 굴절율이 발현되는 것을 구체적으로 정의 복굴절성 필름이라 하고, 연신 방향에 수직한 방향으로 최대 굴절율이 발현되는 필름을 구체적으로 부의 복굴절성 필름이라 한다.
(4) A birefringent film refers to a film that exhibits a refractive index in a specific direction by stretching. At this time, when the maximum refractive index is expressed in the stretching direction, the birefringent film is specifically defined as a film having a maximum refractive index Is specifically referred to as a negative birefringent film.

(5) 열 수축성 필름이란 상기 복굴절성 필름보다 큰 열 수축성을 갖는 필름을 의미하며, 구체적으로는 동일한 열 수축 조건에서 단일 필름 상태로 측정한 연신 방향에 대하여 수직한 방향의 수축률이 상기 복굴절성 필름보다 약 10% 이상 큰 필름을 의미한다. 한편, 상기 수축률은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하다. 예를 들면, 필름에 1cm 간격으로 점을 찍은 후, Zwick社의 UTM(Universe Testing Machine) 장비를 이용하여 필름을 수축시키고, 수축시킨 후의 점의 거리를 재는 방법으로 측정할 수 있다.
(5) A heat shrinkable film means a film having greater heat shrinkability than the above-mentioned birefringent film, and more specifically, a shrinkage ratio in a direction perpendicular to the stretching direction measured in a single film state under the same heat shrinking condition, Or more than about 10%. On the other hand, the shrinkage percentage can be measured by a well-known method well known in the art. For example, the film may be spotted at 1 cm intervals, then shrink the film using Zwick Universe Testing Machine (UTM) equipment and measure the distance of the point after shrinkage.

(6) 본 명세서에 있어서 점착제란 다음과 같은 성질을 가지는 것을 의미한다.(6) In the present specification, the pressure-sensitive adhesive means the following properties.

- 고점도 저탄성률의 반고체상의 물질이다.- It is a semi-solid substance with high viscosity and low elasticity.

- 압력을 가함으로써 피착제와 결합한다.- Combine with the adherend by applying pressure.

- 결합 과정에서 상태가 변하지 않는다.- The state does not change during the coupling process.

- 광의의 접착제의 일종이며, 피착제 사이에 개재한 후 압력에 의하여 접착력을 발현하기 때문에, 감압형 접착제(PSA)라고도 불린다.
- It is a type of wide adhesive, which is called a pressure-sensitive adhesive (PSA) because it exhibits an adhesive force after being interposed between adherends.

(7) 본 명세서에 있어서 활성 에너지선 경화형 수지층이란 상술한 점착제와는 구별되는 개념으로 다음과 같은 성질을 가지는 것을 의미한다.(7) In this specification, the active energy ray-curable resin layer means that the following properties are distinguished from the above-mentioned pressure-sensitive adhesives.

- 조성물 상태에서는 유동성이 있는 저점도의 액체 상태이며, 피착체에 도포되었을 때, 피착제에 충분히 젖는 것에 의하여 접착 면적을 크게하고, 활성 에너지선 조사에 의하여 경화함으로써 피착제와 결합한다.- When the composition is in a liquid state and has a low viscosity with fluidity, when it is applied to an adherend, the adhesion area is increased by wetting the adherend and cured by irradiation of active energy ray to bond with the adherend.

- 활성 에너지선 조사량의 증가에 의하여 점착 상태를 거쳐 경화에 이른다.- Increase in active energy beam irradiation leads to curing through adhesive state.

- 결합 과정에서 상태가 액체상에서 고체상으로 비가역적으로 변한다.
- In the bonding process, the state irreversibly changes from a liquid phase to a solid phase.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. Further, the embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. The shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for clarity.

< 광학 필름 제조 방법 >&Lt; Optical Film Manufacturing Method >

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 복굴절성 필름의 적어도 일면에 열 수축성 필름을 활성 에너지선 경화형 수지층을 매개로 합지하여 적층체를 형성하는 단계 및 상기 적층체를 고온 연신 과정에서 열 수축 시키는 단계를 포함한다.
The method for producing an optical film of the present invention includes the steps of forming a laminate by laminating a heat shrinkable film on at least one surface of a birefringent film through an active energy ray curable resin layer and heat shrinking the laminate in a high temperature stretching process .

이때, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 열 수축 단계에 의하여 복굴절성 필름이 하기 식 (1)을 만족한다. 즉, 활성 에너지선 경화형 수지층에 의하여 열 수축성 필름과 합지된 복굴절성 필름은 열 수축성 필름에 의하여 고온 연신 과정에서 연신 방향의 수직한 방향으로 강제적으로 수축이 되며, 그 결과 연신 방향에 수직한 방향의 굴절률이 두께 방향의 굴절률보다 작게 발현이 되어, 최종적으로 nx > nz > ny를 만족하게 된다. 이와 같이 복굴절성 필름이 최종적으로 nx > nz > ny를 만족하는 경우, IPS 모드 위상차 필름으로 매우 유용하게 사용할 수 있다.At this time, in the production method of the optical film of the present invention, the birefringent film satisfies the following formula (1) by the heat shrinkage step. That is, the birefringent film laminated with the heat shrinkable film by the active energy ray-curable resin layer shrinks forcefully in the direction perpendicular to the stretching direction during the high temperature stretching process due to the heat shrinkable film, Is expressed to be smaller than the refractive index in the thickness direction, and finally n x > n z > n y is satisfied. When the birefringent film finally satisfies n x > n z > n y , it can be very useful as an IPS mode retardation film.

식 (1): nx > nz > ny Equation (1): n x > n z > n y

상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율이다.
In the formula (1), n x is the birefringence, and the plane direction refractive index is the refractive index of the direction in which the maximum of the film, n y is a refractive index in a direction perpendicular to a direction to the n x direction in the birefringent film, n z Is the refractive index in the thickness direction of the birefringent film.

또한, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 열 수축 단계에 의하여 복굴절성 필름과 열 수축성 필름이 하기 식 (2)를 만족한다. 이와 같이 적층체 상태에서 복굴절성 필름과 열 수축성 필름이 실질적으로 동일한 배율로 수축을 하는 경우, 최종적으로 제조되는 광학 필름의 전구체 필름인 복굴절성 필름이 충분히 수축될 수 있는바, 매우 우수한 품질의 광학 필름 제조가 가능해진다. 보다 바람직하게는, 적층체 상태에서의 열 수축성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률과 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률의 차는 0% 내지 3% 정도 또는 0 내지 2% 정도일 수 있다. 한편, 하기 적층체 상태에서의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, 적층체의 양면, 즉 복굴절성 필름과 열 수축성 필름 각각에 점을 1cm 간격으로 찍은 후, 열 수축 후 박리한 다음, 각각의 필름의 점 간격을 재는 방법으로 측정할 수 있다.In the method for producing an optical film of the present invention, the birefringent film and the heat shrinkable film satisfy the following formula (2) by the heat shrinkage step. When the birefringent film and the heat shrinkable film shrink at substantially the same magnification in the laminated state, the birefringent film as the precursor film of the finally produced optical film can be sufficiently shrunk, Film production becomes possible. More preferably, the difference between the shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the heat shrinkable film in the laminated state and the shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent film in the laminated state is about 0% to 3% or 0 To about 2%. On the other hand, the shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction in the following laminate state can be measured by a well-known method well known in the technical field. For example, both sides of the laminate, that is, the birefringent film and the heat shrinkable film Measurements can be made by spotting the points at 1 cm intervals, peeling after heat shrinkage, and then measuring the dot spacing of each film.

식 (2): 0% ≤ S2 - S1 ≤ 5%(2): 0%? S 2 - S 1 ? 5%

상기 식 (2)에 있어서, S1은 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이며, S2는 적층체 상태에서의 열 수축성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이다.
In the formula (2), S 1 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent film in the laminated state, S 2 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the heat shrinkable film in the laminated state to be.

한편, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 열 수축 단계에 의하여 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력이 하기 식 (3) 및 (4)를 만족하는 것이 더욱 바람직하다. 이와 같이, 열 수축 전 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력이 하기 범위 정도의 접착력을 가지는 경우 열 수축 단계에서 박리가 쉽게 일어나지 않는 장점이 있으며, 이와 동시에 열 수축 후 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력이 하기 범위 정도의 접착력을 가지는 경우 열 수축 후 박리하는 과정에서 필름에 손상 없이 용이하게 박리가 가능하다는 장점이 있다. 보다 바람직하게는, 열 수축 전 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력은 0.10 N/2cm 내지 0.50 N/2cm 정도 또는 0.15 N/2cm 내지 0.30 N/2cm 정도일 수 있으며, 열 수축 후 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력은 0.05 N/2cm 내지 0.30 N/2cm 정도 또는 0.10 N/2cm 내지 0.15 N/2cm 정도일 수 있다. 하기 접착력은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Stable Micro Systems社의 Texture Analyzer(모델명: TA-XT Plus) 장비를 이용하여 측정할 수 있다.On the other hand, it is more preferable that the adhesive force between the birefringent film and the heat shrinkable film satisfies the following formulas (3) and (4) by the heat shrinkage step of the production method of the optical film of the present invention. As described above, when the adhesive force between the birefringent film and the heat shrinkable film before heat shrinkage has an adhesive force of about the following range, there is an advantage that peeling is not easily caused in the heat shrinking stage. At the same time, When the adhesive force has an adhesive strength of about the following range, there is an advantage that it can be easily peeled off without damaging the film during peeling after heat shrinkage. More preferably, the adhesive strength between the birefringent film and the heat shrinkable film before heat shrinkage may be about 0.10 N / 2 cm to 0.50 N / 2 cm or 0.15 N / 2 cm to 0.30 N / 2 cm, The adhesive force of the shrinkable film may be about 0.05 N / 2 cm to about 0.30 N / 2 cm or about 0.10 N / 2 cm to about 0.15 N / 2 cm. The following adhesive strength can be measured by a well-known method well known in the art. For example, it can be measured using a Texture Analyzer (Model: TA-XT Plus) equipment of Stable Micro Systems.

식 (3): 0.10 N/2cm ≤ Pa ≤ 1.0 N/2cm(3): 0.10 N / 2 cm? P a ? 1.0 N / 2 cm

식 (4): 0.01 N/2cm ≤ Pb ≤ 0.50 N/2cm(4): 0.01 N / 2 cm? P b ? 0.50 N / 2 cm

상기 식 (3) 및 (4)에 있어서, Pa는 열 수축 전 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력이며, Pb는 열 수축 후 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력이다.
In the formula (3) and (4), P a is the adhesive strength of the heat shrink around the birefringent film and a heat shrinkable film, P b is the adhesive force of the birefringent film and a heat shrinkable film after heat shrinkage.

한편, 열 수축 단계에 의하여 상기 식 (1) 및 (2)를 만족하며, 바람직하게는 상기 식 (3) 및 (4)를 만족하는 본원발명의 광학 필름의 제조 방법은, 복굴절성 필름, 열 수축성 필름 및 활성 에너지선 경화형 수지층의 원료 물질과, 두 필름의 합지 방법, 열 수축 조건 등을 적절하게 제어함으로써 구현할 수 있다.
On the other hand, the method for producing an optical film of the present invention satisfying the above-mentioned expressions (1) and (2) by the heat shrinkage step and preferably satisfying the expressions (3) and (4) The shrinkable film and the active energy ray-curable resin layer, the method of joining the two films, the heat shrinkage condition, and the like.

[복굴절성 필름][Birefringent Film]

본 발명에 이용되는 상기 복굴절성 필름은, 최종적으로 제조되는 광학 필름의 전구체 필름으로써, 당해 기술분야에 일반적으로 사용되는 정의 복굴절성 필름 또는 부의 복굴절성 필름이 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 정의 복굴절성 필름으로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리아마이드, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리프로필렌, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리아미드이미드, 폴리비닐알코올, 폴리비닐클로라이드, 폴리페닐렌에테르, 폴리아릴레이트, 폴리아릴에테르케톤, 폴리에테르케톤, 폴리에스테르이미드, 폴리푸마르산에스테르, 폴리에테르설폰, 폴리올레핀 등을 포함하는 것이 사용될 수 있다. 또한, 상기 부의 복굴절성 필름으로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스타이렌 등을 포함하는 것이 사용될 수 있다.
The birefringent film used in the present invention may be a positive birefringent film or a negative birefringent film which is generally used in the art as a precursor film of an optical film finally produced. For example, the above-mentioned birefringent film includes, but is not limited to, polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, polycarbonate, polyester, polyurethane, polypropylene, triacetylcellulose, polyamideimide, polyvinyl Those containing an alcohol, polyvinyl chloride, polyphenylene ether, polyarylate, polyaryl ether ketone, polyether ketone, polyester imide, polyfumaric acid ester, polyethersulfone, polyolefin and the like can be used. The negative birefringent film may include, but is not limited to, polymethyl methacrylate, polystyrene, and the like.

한편, 상기 복굴절성 필름은 정의 복굴절성 필름인 것이 보다 바람직하다. 정의 복굴절성 필름은 연신 방향으로 최대 굴절율이 발현이 되는바, 고온 연신 과정에서 열 수축성 필름을 이용하여 연신 방향에 수직한 방향으로 강제적으로 열 수축을 시키는 경우, nx > nz > ny를 보다 용이하게 구현할 수 있다는 장점이 있다.
On the other hand, the birefringent film is more preferably a positive birefringent film. Definition In a birefringent film, a maximum refractive index is expressed in a stretching direction. When heat shrinkage is forced in a direction perpendicular to a stretching direction by using a heat shrinkable film in a high temperature stretching process, n x > n z > n y There is an advantage that it can be implemented more easily.

이때, 상기 정의 복굴절성 필름은, 그 중에서도 특히 주쇄에 벤젠 고리 또는 지환족 고리를 포함하는, 폴리카보네이트, 폴리아미이드, 폴리이미드 또는 폴리아미드이미드를 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우 위상차 발현성이 우수하기 때문에 얇은 필름 두께에서도 높은 위상차 값을 효과적으로 구현할 수 있는 장점이 있다.
The positive birefringent film preferably comprises a polycarbonate, a polyamide, a polyimide, or a polyamideimide including a benzene ring or an alicyclic ring in the main chain. In this case, since the retardation manifestation is excellent, it is possible to effectively realize a high retardation value even in a thin film thickness.

한편, 상기 복굴절성 필름은 최종적인 열 수축 처리에 의하여 nx > nz > ny의 관계를 충족할 수 있는 경우라면, 1축 연신 또는 2축 연신 처리된 필름을 사용하여도 무관하나, 미연신 필름인 것이 최종적으로 제조되는 광학 필름이 nx > nz > ny를 만족하기 더욱 용이하다는 점에서 바람직하다.On the other hand, if the birefringent film can satisfy the relationship of n x > n z > n y by the ultimate heat shrinkage treatment, it is possible to use a uniaxially or biaxially stretched film, It is preferable that the new film is the one in which the finally produced optical film satisfies n x > n z > n y .

한편, 상기 복굴절성 필름은 두께가 10㎛ 내지 60㎛ 인 것이 바람직하며, 예를 들면, 10㎛ 내지 40㎛ 또는 10㎛ 내지 30㎛ 정도일 수 있다. 이와 같은 두께 범위를 가지는 경우, 추후 열 수축을 위한 연신에 의하여 박형화가 가능하며, 또한 본 발명이 추가하는 위상차 값의 범위를 효과적으로 구현할 수 있다.
On the other hand, the thickness of the birefringent film is preferably 10 탆 to 60 탆, for example, 10 탆 to 40 탆 or 10 탆 to 30 탆. In the case of having such a thickness range, thinning can be achieved by drawing for later heat shrinkage, and the range of the retardation value added by the present invention can be effectively implemented.

[열 수축성 필름][Heat shrinkable film]

본 발명에 이용되는 상기 열 수축성 필름은, 상기 복굴절성 필름이 nx > nz > ny의 관계를 충족할 수 있도록 복굴절성 필름을 연신 방향에 대하여 수직한 방향으로 강제로 수축시키기 위한 필름으로, 본 발명에서 사용 가능한 열 수축성 필름은 상기 복굴절성 필름보다 큰 열 수축성을 갖는 것이면 공지의 수지 필름을 특별한 제한 없이 사용이 가능하다. 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리아마이드, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리프로필렌, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리스타이렌, 폴리아미드이미드, 폴리비닐알코올, 폴리비닐클로라이드, 폴리페닐렌에테르 등의 고분자 물질을 포함하는 것을 사용할 수 있으며, 다만, 상기한 바와 같이 동일한 열 수축 조건에서 단일 필름 상태로 측정한 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이 상기 복굴절성 필름보다 적어도 약 10 % 이상은 커야 한다.
The heat shrinkable film used in the present invention is a film for forcibly shrinking the birefringent film in a direction perpendicular to the stretching direction so that the birefringent film can satisfy the relationship of n x > n z > n y , And the heat shrinkable film usable in the present invention is not particularly limited as long as it has heat shrinkability greater than that of the birefringent film. For example, but not limited to, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, polycarbonate, polyester, polyurethane, polypropylene, triacetylcellulose, polystyrene, polyamideimide, polyvinyl But it is preferable that the shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction measured in a single film state under the same heat shrinkage condition as described above is higher than the shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction, At least about 10% greater than the sex film.

한편, 상기 열 수축성 필름은, 이에 한정되는 것은 아니나, 그 중에서도 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 것이 바람직하다. 폴리에틸렌테레프탈레이트의 경우 가격 경쟁력이 우수할 뿐만 아니라, 유리전이온도가 낮아 고온 연신 과정에서 열 수축성이 우수하기 때문이다.
On the other hand, the heat shrinkable film is not limited thereto, but it preferably contains polyethylene terephthalate. Polyethylene terephthalate is not only excellent in price competitiveness but also has excellent heat shrinkability during high temperature stretching due to its low glass transition temperature.

한편, 상기 열 수축성 필름은 폭 방향(TD)으로 1축 연신 처리된 필름인 것이 상기 복굴절성 필름을 효과적으로 수축시키기 위하여 바람직하다. 이때, 본 발명은 시판되는 열 수축성 필름으로써 폭 방향(TD)으로 1축 연신 처리된 필름을 사용할 수 있으며, 또는 시판되는 수축 특성을 가지는 미연신 고분자 필름을 후술하는 방법에 의하여 폭 방향(TD)으로 1축 연신 처리하여 사용할 수도 있다.
On the other hand, the heat shrinkable film is preferably a film which has been uniaxially stretched in the width direction (TD) in order to effectively shrink the birefringent film. At this time, the present invention can use a film that is uniaxially stretched in the width direction (TD) as a commercially available heat shrinkable film, or a non-stretched polymer film having a shrinkage property on the market, Can be used for uniaxial stretching.

한편, 상기 열 수축성 필름은 두께가 10㎛ 내지 100㎛ 인 것이 바람직하며, 20㎛ 내지 80㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 이 경우 복굴절성 필름을 보다 효과적으로 수축시킬 수 있다.
On the other hand, the thickness of the heat shrinkable film is preferably 10 to 100 탆, more preferably 20 to 80 탆. In this case, the birefringent film can be more effectively shrunk.

한편, 상기 복굴절성 필름의 유리전이온도는 상기 열 수축성 필름의 유리전이온도보다 20℃ 이상 큰 것이 바람직하며, 예를 들면, 20℃ 내지 100℃ 또는 30℃ 내지 80℃ 정도 차이가 날 수 있다. 이와 같이 두 고분자 필름의 유리전이온도가 차이가 나는 경우, 고온 연신 과정에서 상대적으로 열 수축성 필름은 강하게 수축하게 되고, 복굴절성 필름은 비교적 고분자의 상태가 단단하여 그 자체로는 수축이 강하게 일어나지 않게 된다. 이때, 강하게 수축되는 열 수축성 필름에 의하여 복굴절성 필름이 강제로 더욱 수축하게 되며, 그 결과 고분자가 강하게 배향되므로 높은 위상차를 발현할 수 있다. 유리전이온도의 측정 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 유리전이온도는 시차주사형 열량계(DSC)에 의해 측정될 수 있다. 예컨대, 시차주사형 열량계(DSC)를 이용하는 경우, 약 10mg의 시료를 전용 팬(pan)에 밀봉하고 일정 승온 조건으로 가열할 때 상변이가 일어남에 따른 물질의 흡열 및 발열량을 온도에 따라 그려 유리전이온도를 측정할 수 있다.
The glass transition temperature of the birefringent film is preferably 20 ° C or more, more preferably 20 ° C to 100 ° C or 30 ° C to 80 ° C, more than the glass transition temperature of the heat shrinkable film. When the glass transition temperature of the two polymer films is different, the heat shrinkable film relatively shrinks in the high temperature stretching process, and the birefringent film has a relatively high state of the polymer, do. At this time, the birefringent film is forced to shrink more strongly due to the heat shrinkable film which is strongly contracted, and as a result, the polymer is strongly oriented, so that a high retardation can be exhibited. The method of measuring the glass transition temperature is not particularly limited, and for example, the glass transition temperature can be measured by a differential scanning calorimeter (DSC). For example, in the case of using a differential scanning calorimeter (DSC), when a sample of about 10 mg is sealed in a dedicated pan and heated at a constant temperature, the amount of endothermic heat The transition temperature can be measured.

[활성 에너지선 경화형 수지층][Active Energy ray curable resin layer]

본 발명은 적층체 형성을 위한 수단으로 활성 에너지선 경화형 수지층을 사용한다. 본 발명의 발명자들의 연구에 의하면, 종래와 같이 점착제, 예를 들면 아크릴계 점착제를 이용하는 경우에는 점착제에 의한 점착 잔류물이 발생하여 생산성이 저하될 뿐만 아니라, 점착제에 의해 접착된 두 층의 필름이 고온 연신 과정에서 박리되기 쉬워 복굴절성 필름이 충분히 수축되지 못하는 문제점이 있었다. 또한 접착제 중에서도 수계 접착제, 예를 들면 폴리비닐알코올계 수계 접착제를 사용하는 경우에는 수분에 의하여 박리 후 필름에 기포가 발생하는 문제가 있었다. 그러나, 이와 달리 활성 에너지선 경화형 수지층을 이용하는 경우, 상기와 같은 문제가 발생하지 않았다.
The present invention uses an active energy ray-curable resin layer as a means for forming a laminate. According to the studies made by the inventors of the present invention, when a pressure-sensitive adhesive such as an acrylic pressure-sensitive adhesive is used as in the prior art, adhesive residue due to the pressure-sensitive adhesive is generated to deteriorate the productivity and the two layers of the pressure- There is a problem in that the birefringent film can not be sufficiently shrunk because of being easily peeled off during the stretching process. Further, in the case of using an aqueous adhesive, for example, a polyvinyl alcohol-based water-based adhesive, among the adhesives, bubbles are generated in the film after peeling off by moisture. In contrast, when the active energy ray-curable resin layer is used, the above-mentioned problems do not occur.

한편, 본 발명에 사용 가능한 활성 에너지선 경화형 수지층은 특별히 한정되지 않으며, 선택하는 복굴절성 필름 및 열 수축성 필름에 대하여 상기한 바와 같은 특징을 가질 수 있는 다양한 활성 에너지선 경화형 조성물을 선택하여 이를 경화함으로써 사용할 수 있다. 즉, 후술할 열 수축 단계에서도 충분한 접착력을 가짐으로써, 상술한 식 (1) 및 (2)를 만족하며, 바람직하게는 식 (3) 및 (4)를 만족할 수 있는 활성 에너지선 경화형 조성물을 선택하여 이를 경화함으로써 사용한다.
On the other hand, the active energy ray-curable resin layer usable in the present invention is not particularly limited, and various active energy ray-curable compositions capable of having the above-mentioned characteristics can be selected for the birefringent film and the heat shrinkable film to be selected, . That is, the active energy ray-curable composition satisfying the above-mentioned expressions (1) and (2) and preferably satisfying the expressions (3) and (4) can be selected And then curing it.

당해 기술 분야에서 일반적으로 사용되는 활성 에너지선 경화형 조성물로는, 예를 들면, (메타)아크릴레이트계 라디칼 경화형 조성물, 엔/티올계 라디칼 경화형 조성물, 불포화 폴리에스테르계 라디칼 경화형 조성물 등의 광 라디칼 중합반응을 이용하는 조성물이나, 에폭시계 양이온 경화형 조성물, 옥세탄계 양이온 경화형 조성물, 에폭시/옥세탄계 양이온 경화형 조성물, 비닐에테르계 양이온 경화형 조성물 등의 광 양이온 중합반응을 이용하는 조성물 등을 들 수 있다.
Examples of the active energy ray curable composition generally used in this technical field include photo radical polymerization such as a (meth) acrylate radical curable composition, an en / thiol radical curable composition, and an unsaturated polyester radical curable composition , A composition using a cationic photopolymerization reaction such as an epoxy-based cationic curable composition, an oxetane-based cationic curable composition, an epoxy / oxetane-based cationic curable composition, and a vinyl ether-based cationic curable composition.

보다 구체적으로 예를 들면, 상기 광 라디칼 중합반응을 이용하는 조성물로는 이에 한정되는 것은 아니나, 하기 [화학식 1]로 표시되는 제1화합물, 적어도 하나 이상의 카르복시기를 포함하는 제2화합물, 및 라디칼 개시제를 포함하는 라디칼 경화형 조성물을 들 수 있다.More specifically, for example, the composition using the photo radical polymerization reaction is not limited thereto, but it is possible to use a first compound represented by the following formula (1), a second compound comprising at least one carboxyl group, and a radical initiator Based on the total weight of the composition.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

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상기 [화학식 1]에서, R1은 에스테르기 또는 에테르기고; R2는 C1 ~10 알킬기, C4~10 시클로알킬기, 또는 이들의 조합이고, 이때 R2는 분자 내에 적어도 하나 이상의 히드록시 치환기를 가지며; R3는 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 ~10 알킬기이다. 한편, 상기 히드록시기는 알킬기 또는 시클로알킬기 내의 임의의 위치에 치환될 수 있다. 예를 들면, 상기 히드록시기는 알킬기의 말단에 올 수도 있고, 알킬기의 중간에 올 수도 있다. 한편, 상기 알킬기 또는 시클로알킬기에 포함되어 있는 나머지 수소 원자는 임의의 치환기로 치환될 수 있다.
In the above formula (1), R 1 represents an ester group or an ether group; R 2 is C 1 ~ 10 alkyl group, a C 4-10 cycloalkyl group, or a combination thereof, wherein R 2 has at least one hydroxy substituent in the molecule; R 3 is hydrogen, or a substituted or unsubstituted C 1 ~ 10 alkyl group; On the other hand, the hydroxy group may be substituted at any position in the alkyl group or the cycloalkyl group. For example, the hydroxy group may be at the terminal of the alkyl group or may be in the middle of the alkyl group. Meanwhile, the remaining hydrogen atoms contained in the alkyl group or the cycloalkyl group may be substituted with any substituent.

이때, 상기 제1화합물은, 접착력을 구현하기 위한 성분으로, [화학식 1]로 표시되는 다양한 화합물들이 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 제1화합물은, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 하기 [화학식 2] 내지 [화학식 11]로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물일 수 있다. At this time, the first compound is a component for realizing an adhesive force, and various compounds represented by Formula 1 may be used. For example, the first compound may be at least one compound selected from compounds represented by the following formulas (2) to (11), though not limited thereto.

[화학식 2](2)

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[화학식 3](3)

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[화학식 4][Chemical Formula 4]

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[화학식 5][Chemical Formula 5]

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[화학식 6][Chemical Formula 6]

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[화학식 7](7)

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[화학식 8][Chemical Formula 8]

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[화학식 9][Chemical Formula 9]

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[화학식 10][Chemical formula 10]

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[화학식 11](11)

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또한, 상기 제2화합물은 조성물의 내열성 및 점도 특성을 향상시키기 위한 것으로, 적어도 하나 이상의 카르복시기를 포함한다. 보다 구체적으로, 상기 제2화합물은 예를 들면, 하기 [화학식 12] 내지 [화학식 26]로 표시되는 화합물들로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.In addition, the second compound is for improving the heat resistance and the viscosity property of the composition, and includes at least one carboxyl group. More specifically, the second compound may be at least one selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (12) to (26).

[화학식 12][Chemical Formula 12]

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[화학식 13][Chemical Formula 13]

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[화학식 14][Chemical Formula 14]

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(여기서, 상기 R'은

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또는
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이고, p는 1 내지 5의 정수임)(Wherein R 'is
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or
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And p is an integer of 1 to 5)

[화학식 15][Chemical Formula 15]

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[화학식 16][Chemical Formula 16]

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[화학식 17][Chemical Formula 17]

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[화학식 18][Chemical Formula 18]

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[화학식 19][Chemical Formula 19]

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[화학식 20][Chemical Formula 20]

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[화학식 21][Chemical Formula 21]

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[화학식 22][Chemical Formula 22]

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[화학식 23](23)

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[화학식 24]&Lt; EMI ID =

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[화학식 25](25)

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[화학식 26](26)

Figure pat00029

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또한, 상기 라디칼 경화형 조성물에 포함되는 상기 라디칼 개시제는, 라디칼 중합성을 촉진하여 경화 속도를 향상시키기 위한 것으로, 상기 라디칼 개시제로는 당해 기술 분야에서 일반적으로 사용되는 라디칼 개시제들이 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 포스핀 옥사이드(Phosphine oxide), 페닐 비스 (2,4,6-트리메틸벤조일)(phenyl bis (2,4,6-trimethyl benzoyl) 등이 바람직하게 사용될 수 있다.
In addition, the radical initiator contained in the radical curable composition is used for promoting radical polymerization to improve the curing rate. As the radical initiator, radical initiators generally used in the art can be used without particular limitation . For example, phosphine oxide, phenyl bis (2,4,6-trimethyl benzoyl), and the like can be preferably used, though not limited thereto .

한편, 상기 라디칼 경화형 조성물은, 점도 조절을 위해, 제3화합물로 탄소수 7 내지 20개, 바람직하게는 탄소수 7 내지 15개의 고리 구조를 포함하는 아크릴 모노머를 추가로 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제3화합물은, 예를 들면 이소보닐 (메트)아크릴레이트(Isobornyl (meth)acrylate), 노보닐 (메트)아크릴레이트(Norbornyl (meth)acrylate), 디시클로펜타닐 (메트)아크릴레이트(Dicyclopentanyl (meth)acrylate), 디시클로펜테닐 (메트)아크릴레이트(Dicyclopentenyl (meth)acrylate) 및 1-아다만틸-(메트)아크릴레이트(1-adamantyl-(meth)acrylate)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Meanwhile, the radically curable composition may further contain an acrylic monomer containing a cyclic structure having 7 to 20 carbon atoms, preferably 7 to 15 carbon atoms, as a third compound for viscosity control. More specifically, the third compound is selected from, for example, isobornyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) A group consisting of dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate and 1-adamantyl- (meth) acrylate , But the present invention is not limited thereto.

보다 구체적으로는, 상기 라디칼 경화형 조성물은, 전체 조성물 100 중량부에 대하여, 40 내지 80 중량부의 제1화합물, 15 내지 50 중량부의 제2화합물 및 0.5 내지 10 중량부의 라디칼 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.
More preferably, the radical curable composition comprises 40 to 80 parts by weight of the first compound, 15 to 50 parts by weight of the second compound, and 0.5 to 10 parts by weight of the radical initiator based on 100 parts by weight of the total composition .

또한, 상기 광 양이온 중합반응을 이용하는 조성물에 대하여 보다 구체적으로 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 제1에폭시 화합물, 호모폴리머의 유리전이온도가 60℃ 이하인 제2에폭시 화합물 및 광 양이온 중합 개시제를 포함하는 양이온 경화형 조성물을 들 수 있다. 상기 에폭시 화합물은 분자 내에 1개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물을 의미하는 것으로, 바람직하게는 분자 내에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물이며, 단량체(monomer), 중합체(polymer) 또는 수지(resin)의 형태의 화합물들을 모두 포함하는 개념이다. 바람직하게는 본 발명의 에폭시 화합물은 수지 형태일 수 있다.
More specifically, for example, but not limited to, the composition using the photo cationic polymerization, the first epoxy compound or homopolymer having a glass transition temperature of 120 캜 or higher of the homopolymer may have a glass transition temperature of 60 캜 or lower A second epoxy compound and a photo cationic polymerization initiator. The epoxy compound means a compound having at least one epoxy group in the molecule, preferably a compound having at least two epoxy groups in the molecule, and a compound in the form of a monomer, a polymer or a resin . Preferably, the epoxy compound of the present invention may be in the form of a resin.

이때, 상기 제1에폭시 화합물은, 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 에폭시 화합물이면 특별한 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면, 호모 폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 지환족 에폭시 화합물 및/또는 방향족 에폭시가 본 발명의 제1에폭시 화합물로 사용될 수 있다. 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 에폭시 화합물의 구체적인 예로는, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 비닐사이클로헥센디옥사이드 디시클로펜타디엔디옥사이드, 비스에폭시사이클로펜틸에테르, 비스페놀 A 계 에폭시 화합물, 비스페놀 F 계 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 한편, 상기 제1에폭시 화합물은 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 내지 200℃ 정도인 것이 보다 바람직하다.
The first epoxy compound may be an epoxy compound having a glass transition temperature of not lower than 120 ° C. and may be used without any particular limitation. For example, the first epoxy compound may be an alicyclic epoxy compound having a glass transition temperature of 120 ° C. or higher and / An aromatic epoxy may be used as the first epoxy compound of the present invention. Specific examples of the epoxy compound having a glass transition temperature of 120 캜 or higher of the homopolymer include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide dicyclopentadiene dioxide, bis-epoxycyclo Pentyl ether, bisphenol A-based epoxy compounds, and bisphenol F-based epoxy compounds. It is more preferable that the glass transition temperature of the homopolymer of the first epoxy compound is about 120 ° C to 200 ° C.

또한, 상기 제2에폭시 화합물은, 호모폴리머의 유리전이온도가 60℃ 이하인 에폭시 화합물이면 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 제2에폭시 화합물로 지환족 에폭시 화합물, 지방족 에폭시 화합물 등이 사용될 수 있다. 이때, 상기 지환식 에폭시 화합물로는, 2관능형 에폭시 화합물, 즉 2개의 에폭시를 가지는 화합물을 사용하는 것이 바람직하고, 상기 2개의 에폭시기가 모두 지환식 에폭시기인 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 지방족 에폭시 화합물로는, 지환식 에폭시기가 아닌 지방족 에폭시기를 가지는 에폭시 화합물이 예시될 수 있다. 예를 들면, 지방족 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 알코올의 알킬렌옥시드 부가물의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 알코올과 지방족 다가 카복실산의 폴리에스테르 폴리올의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 카복실산의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 알코올과 지방족 다가 카복실산의 폴리에스테르 폴리카복실산의 폴리글리시딜에테르; 글리시딜 아크릴레이트 또는 글리시딜 메타크릴레이트의 비닐 중합에 의해 얻어지는 다이머, 올리고머 또는 폴리머; 또는 글리시딜 아크릴레이트 또는 글리시딜 메타크릴레이트와 다른 비닐계 단량체의 비닐 중합에 의해 얻어지는 올리고머 또는 폴리머가 예시될 수 있고, 바람직하게는 지방족 다가 알코올 또는 그 알킬렌옥시드 부가물의 폴리글리시딜에테르가 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
The second epoxy compound can be used without any particular limitation as long as it is an epoxy compound having a glass transition temperature of 60 占 폚 or less of the homopolymer. For example, the second epoxy compound may be an alicyclic epoxy compound, an aliphatic epoxy compound, or the like. At this time, as the alicyclic epoxy compound, a bifunctional epoxy compound, that is, a compound having two epoxy groups is preferably used, and it is more preferable to use a compound in which the two epoxy groups are alicyclic epoxy groups. But is not limited to. As the aliphatic epoxy compound, an epoxy compound having an aliphatic epoxy group rather than an alicyclic epoxy group can be exemplified. For example, polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols; Polyglycidyl ethers of alkylene oxide adducts of aliphatic polyhydric alcohols; Polyglycidyl ethers of polyester polyols of aliphatic polyhydric alcohols and aliphatic polyvalent carboxylic acids; Polyglycidyl ethers of aliphatic polyvalent carboxylic acids; Polyglycidyl ethers of polyester polycarboxylic acids of aliphatic polyhydric alcohols and aliphatic polyvalent carboxylic acids; Dimers, oligomers or polymers obtained by vinyl polymerization of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate; Or an oligomer or polymer obtained by vinyl polymerization of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate and other vinyl monomers, and preferably an aliphatic polyhydric alcohol or an alkylene oxide adduct thereof polyglycidyl Ethers may be used, but are not limited thereto.

바람직하게는, 본 발명의 상기 제2에폭시 화합물은 글리시딜 에테르기를 하나 이상 포함하는 것일 수 있으며, 예를 들면, 1,4-시클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르, 1,4-부탄디올디글시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸디글시딜에테르, 레조시놀디글리시딜에테르, 디에틸렌글라이콜디글리시딜에테르, 에틸렌글라이콜디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, n-부틸 글리시딜 에테르, 2-에틸헥실 글리시딜 에테르, 페닐 글리시딜 에테르, 및 o-크레실(Cresyl) 글리시딜 에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 본 발명의 제2에폭시 화합물로 사용될 수 있다.
Preferably, the second epoxy compound of the present invention may contain at least one glycidyl ether group, and examples thereof include 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, 1,4-butanediol di Hexyldiol diglycidyl ether, neopentyldiglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, diethylene glycol di glycidyl ether, ethylene glycol di glycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, One selected from the group consisting of trimethylolpropane triglycidyl ether, n-butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, and o-cresyl glycidyl ether. Or more can be used as the second epoxy compound of the present invention.

한편, 상기 제2에폭시 화합물은 호모폴리머의 유리전이온도가 0℃ 내지 60℃ 정도인 것이 보다 바람직하다
On the other hand, the second epoxy compound preferably has a glass transition temperature of the homopolymer of about 0 캜 to 60 캜

한편, 이로써 한정되는 것은 아니나, 상기 에폭시 화합물로 에폭시화 지방족 고리기를 하나 이상 포함하는 제 1 에폭시 화합물 및 글리시딜에테르기를 하나 이상 포함하는 제 2 에폭시 화합물의 조합을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 상기와 같은 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물의 조합을 사용하는 경우, 저점도와 접착력을 만족할 뿐만 아니라, 편광판의 열 충격 물성이 향상되는 것으로 나타났다.
It is particularly preferable to use a combination of a first epoxy compound containing at least one epoxidized aliphatic ring group and a second epoxy compound containing at least one glycidyl ether group as the epoxy compound. When such a combination of the first epoxy compound and the second epoxy compound is used, it has been found that not only the low viscosity and the adhesive strength are satisfied but also the thermal shock property of the polarizing plate is improved.

한편, 상기 제2에폭시 화합물은 제1에폭시 화합물 100 중량부에 대하여, 30 내지 100 중량부의 함량으로 포함되는 것이 바람직하다. 제2에폭시 화합물의 함량이 100 중량부를 초과할 경우, 전체 조성물의 유리전이온도가 낮아져 내열성이 저하되고, 30 중량부 미만인 경우에는 접착력이 저하될 수 있기 때문이다.
Meanwhile, the second epoxy compound is preferably contained in an amount of 30 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the first epoxy compound. When the content of the second epoxy compound is more than 100 parts by weight, the glass transition temperature of the whole composition is lowered to lower the heat resistance. If the content is less than 30 parts by weight, the adhesive strength may be lowered.

보다 바람직하게는, 상기 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물의 중량비가 1:1 내지 3:1정도이며, 보다 바람직하게는, 1:1 내지 2:1의 중량비, 가장 바람직하게는 상기 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물이 1:1의 중량비로 혼합되어 사용될 수 있다. 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물의 중량비율이 상기 범위를 만족할 때, 유리전이온도 및 접착력 면에서 가장 바람직한 물성을 얻을 수 있다.
More preferably, the weight ratio of the first epoxy compound to the second epoxy compound is about 1: 1 to 3: 1, more preferably 1: 1 to 2: 1, An epoxy compound and a second epoxy compound may be mixed and used in a weight ratio of 1: 1. When the weight ratio of the first epoxy compound and the second epoxy compound is in the above range, the most preferable physical properties in terms of the glass transition temperature and the adhesion can be obtained.

한편, 상기 양이온성 광 중합 개시제는 활성 에너지 선의 조사에 의해 양이온(cation) 종이나 루이스산을 만들어내는 화합물로서, 예를 들면 방향족 디아조늄염, 방향족 요오드 알루미늄염이나 방향족 설포늄염과 같은 오늄염, 철-아렌 착제 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 한편, 상기 양이온성 광 중합 개시제의 함량은 제1에폭시 화합물 100 중량부에 대하여, 0.5 내지 20 중량부 정도이며, 바람직하게는 0.5 내지 15 중량부 정도, 더 바람직하게는 0.5 내지 10 중량부 정도이다.
On the other hand, the cationic photopolymerization initiator is a compound which produces a cationic species or Lewis acid by irradiation with an active energy ray. Examples of the cationic photopolymerization initiator include onium salts such as aromatic diazonium salts, aromatic iodine aluminum salts and aromatic sulfonium salts, Iron-arene complex, and the like, but the present invention is not limited thereto. On the other hand, the content of the cationic photopolymerization initiator is about 0.5 to 20 parts by weight, preferably about 0.5 to 15 parts by weight, more preferably about 0.5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the first epoxy compound .

한편, 상기 양이온 경화형 조성물은 필요에 따라, 분자 내에 적어도 1개의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄 화합물 100 내지 400 중량부를 더 포함할 수 있다. 옥세탄 화합물을 사용할 경우, 조성물의 점도를 낮추어 경화 후 수지층의 박막화를 도모 할 수 있다.
The cationically curable composition may further contain 100 to 400 parts by weight of an oxetane compound having at least one oxetanyl group in the molecule, if necessary. When an oxetane compound is used, the viscosity of the composition can be lowered to make the resin layer thinner after curing.

한편, 옥세탄 화합물은 분자 내에 적어도 1개의 옥세타닐기를 갖는 것이면, 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술 분야에 잘 알려진 다양한 옥세탄 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 상기 옥세탄 화합물로는, 3-에틸-3-〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕옥세탄, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕벤젠, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,2-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,2'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,7-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕나프탈렌, 비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 비스〔2-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 2,2-비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕프로판, 노볼락형페놀-포름알데히드 수지의 3-클로로메틸-3-에틸옥세탄에 의한 에테르화 변성물, 3(4),8(9)-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕-트리시클로[5.2.1.0 2,6]데칸, 2,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕노르보르난, 1,1,1-트리스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕프로판, 1-부톡시-2,2-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕부탄, 1,2-비스〔{2-(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}에틸티오〕에탄, 비스〔{4-(3-에틸옥세탄-3-일)메틸티오}페닐〕술피드, 1,6-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕-2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로헥산 등을 들 수 있다. 한편, 상기 옥세탄 화합물의 함량은 제1에폭시 화합물 100중량부에 대하여, 100 내지 400 중량부, 보다 바람직하게는 150 내지 300중량부 정도인 것이 바람직하다.
On the other hand, the oxetane compound is not particularly limited as long as it has at least one oxetanyl group in the molecule, and various oxetane compounds well known in the art can be used. Examples of the oxetane compound of the present invention include 3-ethyl-3 - [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] oxetane, 1,4-bis [ 3-yl) methoxymethyl] benzene, 1,4-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] benzene, 1,3- ) Methoxy] benzene, 1,2-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] benzene, 4,4'- Phenyl, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-bis [3-ethyloxetane-3-yl] 3-yl) methoxy] naphthalene, bis [4 - {(3-ethyloxetan-3-yl) ) Methoxy} phenyl] methane, bis [2 - {(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy} phenyl] methane, 2,2- ) Methoxy} phenyl] propane, an etherified product of 3-chloromethyl-3-ethyloxetane of novolak type phenol-formaldehyde resin, 3 (4) Oxetane- (3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] norbornane, 1,1,1,3,3-tetramethyl- Methoxy methyl] propane, 1-butoxy-2,2-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] , [2- (3-ethyloxetan-3-yl) methoxy} ethylthio] ethane, bis [{4- , And 1,6-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] -2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane. On the other hand, the content of the oxetane compound is preferably 100 to 400 parts by weight, more preferably 150 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the first epoxy compound.

한편, 옥세탄화합물로 옥세타닐기를 2개 갖는 경우 경화 후 수지층의 유리전이온도를 높이는데 효과적이며 옥세타닐기를 1개 갖는 경우 접착력에 유리하다.
On the other hand, when two oxetanyl groups are used as the oxetane compound, it is effective to increase the glass transition temperature of the resin layer after curing, and it is advantageous in the case of having one oxetanyl group.

한편, 본 발명에서 사용하는 상기 활성 에너지선 경화형 수지층은 유리전이온도가 70℃ 이상인 것이 바람직하며, 예를 들면 70 내지 150℃ 정도, 또는 80 내지 120℃ 정도일 수 있다. 이 경우, 충분한 내열성을 가질 수 있는바, 열 수축을 위한 고온 연신 과정에서 충분한 접착력을 가질 수 있다.
Meanwhile, the active energy ray-curable resin layer used in the present invention preferably has a glass transition temperature of 70 ° C or higher, for example, about 70 to 150 ° C or about 80 to 120 ° C. In this case, since it can have sufficient heat resistance, it can have a sufficient adhesive force in the high temperature stretching process for heat shrinkage.

[적층체 형성 공정][Layered body forming step]

본 발명은 상술한 복굴절성 필름과 열 수축성 필름을 활성 에너지선 경화형 수지층을 매개로 하여 합지하여 적층체를 형성한다. 이때, 적층체를 형성하는 방법은, 이에 한정되는 것은 아니나, 상기 복굴절성 필름과 열 수축성 필름 사이에 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포한 후, 두 필름을 합지하고, 활성 에너지선 경화형 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 경화시키는 방법으로 수행되는 것이 바람직하다.
In the present invention, the above birefringent film and heat shrinkable film are laminated via an active energy ray-curable resin layer to form a laminate. The method for forming the laminate may include, but is not limited to, applying the active energy ray curable composition between the birefringent film and the heat shrinkable film, then laminating the two films, and applying an active energy ray- Ray is irradiated and cured.

이때, 복굴절성 필름과 열 수축성 필름 사이에 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 복굴절성 필름 또는 열 수축성 필름 상에 활성 에너지선 경화형 조성물을 점적 방식으로 흘려 넣음으로써, 두 장의 고분자 필름 사이에 충분한 양의 뱅크(BANK)를 형성하는 방식을 이용할 수 있다.
At this time, the method of applying the active energy ray curable composition between the birefringent film and the heat shrinkable film is not particularly limited. For example, the active energy ray curable composition is flowed in a dripping manner on the birefringent film or heat shrinkable film , A method of forming a sufficient amount of the bank (BANK) between the two polymer films can be used.

또한, 상기 두 필름을 합지하는 방법 역시 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 두 장의 필름을 활성 에너지선 경화형 조성물을 사용하여 접착시키면서, 서로 반대 방향으로 회전하는 두 개의 롤 사이를 통과하는 라미네이트 공정 등을 이용할 수 있다.
The method of laminating the two films is also not particularly limited. For example, a lamination process or the like in which two films are passed between two rolls rotating in mutually opposite directions while bonding the two films using an active energy ray curable composition Can be used.

또한, 상기 활성 에너지선 경화형 조성물을 경화시키는 방법 역시 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 자외선, 가시광선, 전자선, X선 등의 활성 에너지선 조사를 통해 경화시키는 방법으로 수행될 수 있다. 이때, 조사 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 자외선 조사장치(LH10 Fusion D bulb)를 이용하여 광량 500mJ/cm2 정도의 자외선을 세기 2000mW/cm2 정도, 속도 20m/min 정도의 조건에서 조사하는 방법으로 수행할 수 있다.
Also, the method of curing the active energy ray curable composition is not particularly limited, and can be performed by, for example, curing the active energy rays such as ultraviolet rays, visible rays, electron beams, and X rays. At this time, the method of irradiation is not particularly limited. For example, ultraviolet light having a light intensity of about 500 mJ / cm 2 is irradiated using an ultraviolet irradiator (LH10 Fusion D bulb) under conditions of about 2000 mW / cm 2 and a speed of about 20 m / min And the like.

한편, 상기와 같은 방법으로 형성되는 본원발명의 적층체는 폭(width) 대비 길이(length)가 1.5 배 이상, 바람직하게는 2 내지 8배 정도, 더욱 바람직하게는 2 내지 5배 정도일 수 있다. 이와 같이, 복굴절성 필름과 열 수축성 필름이 합지된 상태의 적층체의 길이(length)가 폭(width) 대비 길수록, 적층체의 중앙 부분에 전달되는 힘이 약하기 때문에, 수축이 보다 자유롭게 잘 일어날 수 있다는 장점이 있다.
Meanwhile, the laminate of the present invention formed by the above-described method may have a length to width ratio of 1.5 times or more, preferably about 2 to 8 times, more preferably about 2 to 5 times. As the length of the laminated body in which the birefringent film and the heat shrinkable film are laminated is longer than the width, the force transmitted to the central portion of the laminated body is weak, so that the shrinkage can be more freely generated .

[열 수축 공정][Heat shrinkage process]

상기와 같은 방법으로 적층체가 형성이 되면, 적층체를 상기한 바와 같이 식 (1) 및 (2)를 만족하며, 바람직하게는 식 (3) 및 (4)를 만족하도록 열 수축 시킨다. 이때, 상기 열 수축하는 단계는 적층체를 공지의 연신 장비 등을 이용하여 길이 방향(MD)으로 1축 연신하는 방법으로 수행되는 것이 바람직하다. 예를 들면, 고온 조건의 오븐 안에서 적층체의 길이 방향(MD)의 양 끝을 잡아준 상태에서 UTM 장비를 이용하여 적층체를 길이 방향(MD)으로 당기는 방법으로 1축 연신할 수 있다. 본 발명에 사용한 상기 복굴절성 필름은 연신 방향을 따라 최대 굴절율이 발현이 되는 정의 복굴절성 필름인 것이 바람직하며, 이 경우 길이 방향(MD)이 x 방향(굴절율이 최대가 되는 방향)이 되고, 폭 방향(TD)이 y 방향(굴절율이 최대가 되는 방향에 수직한 방향)이 된다. 이때, 두 필름은 상기 고온 연신에 의하여 y 방향으로 적층체가 수축하게 되는데, 특히 복굴절성 필름은 상대적으로 수축이 더 잘 일어나는 열 수축성 필름과 합지되어 있는바 급격하게 수축하게 되며, 그 결과 ny 가 nz 보다 더 작아지므로, nx > nz > ny 의 위상차 특성을 효과적으로 구현할 수 있게 된다.
When the laminate is formed in the same manner as described above, the laminate satisfies the expressions (1) and (2) as described above, and is preferably thermally shrunk to satisfy the expressions (3) and (4). At this time, the heat shrinking step is preferably performed by a method of uniaxially stretching the laminate in the longitudinal direction (MD) using a known drawing machine or the like. For example, uniaxial stretching can be performed by pulling the laminate in the longitudinal direction (MD) using UTM equipment while holding both ends of the laminate in the longitudinal direction (MD) in an oven at high temperature. The birefringent film used in the present invention is preferably a positive birefringent film exhibiting a maximum refractive index along the stretching direction. In this case, the longitudinal direction MD becomes the x direction (the direction in which the refractive index becomes maximum) The direction TD becomes the y direction (direction perpendicular to the direction in which the refractive index becomes the maximum). At this time, the two films there is shrink laminated body in the y direction by the high-temperature stretching, in particular birefringent film is abruptly contracted bar which is laminated with a relatively heat shrinkable film better the shrinkage that occurs, as a result, n y is n z , so that n x > n z & gt ; n &lt; y & gt ; can be effectively implemented.

이때, 상기 연신은 열 수축성 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg) 내지 (Tg + 100℃)의 온도에서 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, (Tg + 20℃) 내지 (Tg + 80℃)의 온도에서 수행될 수 있다. 연신 온도가 이와 같은 범위를 만족해야지만 높은 위상차 구현이 가능하다. 구체적으로, 이와 같은 연신 온도에서 복굴절성 필름은 수축을 잘 안 하려고 하나, 열 수축성 필름은 매우 강하게 수축을 하려고 하며, 이때 이들은 활성 에너지선 경화형 수지층에 의하여 부착되어 있는바, 복굴절성 필름은 연신 과정에서 강한 폭 수축이 일어나게 되며, 그 결과 높은 위상차를 가질 수 있다.
The stretching is preferably performed at a temperature of (Tg) to (Tg + 100 ° C), for example, from (Tg + 20 ° C) to (Tg + 80 &lt; 0 &gt; C). A high retardation can be realized only when the stretching temperature satisfies the above range. Specifically, the birefringent film tends to shrink sharply at such a stretching temperature, but the heat shrinkable film tends to shrink very strongly. At this time, the birefringent film adheres to the active energy ray-curable resin layer, A strong width shrinkage occurs in the process, and as a result, a high phase difference can be obtained.

또한, 상기 연신은 1.1 내지 3.0 배의 연신 배율로 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, 1.1 내지 2.5 배 또는 1.1 내지 2.0 배의 연신 배율로 수행될 수 있다. 이와 같은 연신 배율로 연신이 수행되는 경우, 복굴절성 필름을 본 발명이 원하는 만큼 폭 방향으로 수축시킬 수 있으며, 본 발명이 원하는 만큼의 높은 위상차를 구현시킬 수 있다.
In addition, the stretching is preferably performed at a draw magnification of 1.1 to 3.0 times, for example, at a draw magnification of 1.1 to 2.5 times or 1.1 to 2.0 times. When stretching is performed at such a stretching magnification, the birefringent film can be shrunk in the width direction as much as desired by the present invention, and the present invention can realize a phase difference as high as desired.

또한, 상기 연신은 상기 복굴절성 필름의 두께가 연신에 의하여 5㎛ 내지 65㎛가 되도록 수행하는 것이 바람직하며, 예를 들면, 5㎛ 내지 45㎛ 또는 10㎛ 내지 30㎛ 정도일 수 있다. 연신 후 복굴절성 필름의 두께가 이보다 두꺼운 경우에는 이를 포함하는 편광판이나 디스플레이 장치의 박형 경량화 추세에 부흥할 수 없을 뿐만 아니라, 본 발명이 추구하는 위상차 값의 범위를 벗어날 수 있기 때문이다.
The stretching may be performed such that the thickness of the birefringent film is 5 to 65 占 퐉 by stretching, and may be, for example, 5 占 퐉 to 45 占 퐉 or 10 占 퐉 to 30 占 퐉. If the thickness of the birefringent film after stretching is larger than the above range, it may not be possible to achieve a thin and lightweight polarizer or a display device including the polarizing plate or the display device, and it may deviate from the range of the retardation value pursued by the present invention.

[기타 공정][Other Process]

한편, 본 발명의 제조 방법은 상기 적층체를 형성하는 단계 전에 열 수축성 필름을 텐터 연신기 등을 이용하여 폭 방향(TD)으로 1축 연신하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이는 상기 열 수축성 필름을 폭 방향(TD)으로 1축 연신 된 상태로 사용하기 위한 것으로, 상기한 바와 같이, 상기 열 수축성 필름이 폭 방향(TD)으로 1축 연신 처리된 필름인 경우 상기 복굴절성 필름을 효과적으로 수축시키기 위하여 바람직하다. 이때, 상기 연신은 열 수축성 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg-20)℃ 내지 (Tg+50)℃의 온도에서, 1.5 내지 5.0 배의 연신 배율로 수행될 수 있다.
Meanwhile, the manufacturing method of the present invention may further include a step of uniaxially stretching the heat shrinkable film in the transverse direction (TD) using a tenter stretcher or the like before the step of forming the laminate. This is for using the heat shrinkable film in the uniaxially stretched state in the transverse direction (TD). When the thermally shrinkable film is a film uniaxially stretched in the transverse direction (TD) as described above, Which is preferable for effectively shrinking the film. The stretching may be performed at a stretching magnification of 1.5 to 5.0 times at a temperature of (Tg-20) DEG C to (Tg + 50) DEG C, where Tg is the glass transition temperature of the heat shrinkable film.

한편, 본 발명의 제조 방법은 상기 수축하는 단계 후에 열 수축성 필름을 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다. 즉, 본 발명의 열 수축성 필름은 복굴절성 필름에 접착된 상태로 보호 필름으로서의 기능을 수행해도 되나, 복굴절성 필름을 단일의 위상차 필름으로 사용하기 위해서는 박리하는 것이 바람직하다. 이때, 활성 에너지선 경화형 수지층 역시 이러한 박리 공정에 의하여 열 수축성 필름과 함께 박리되는 것이 바람직하다. 한편, 상기 박리하는 단계는 상온에서 진행될 수 있으며, 박리 방법은 특별히 한정되지 않는다.
Meanwhile, the manufacturing method of the present invention may further include peeling off the heat shrinkable film after the shrinking step. That is, the heat shrinkable film of the present invention may function as a protective film while being adhered to the birefringent film, but it is preferable to peel the birefringent film to use as a single retardation film. At this time, it is also preferable that the active energy ray-curable resin layer is peeled together with the heat shrinkable film by the peeling process. On the other hand, the peeling step may proceed at room temperature, and the peeling method is not particularly limited.

< 광학 부재, 위상차 필름, 편광판 및 액정표시장치 ><Optical member, retardation film, polarizing plate and liquid crystal display device>

한편, 본 발명은 상기한 제조 방법에 의하여 제조되는 광학 부재 역시 제공한다. 구체적으로, 본 발명은 복굴절성 필름; 및 상기 복굴절성 필름의 적어도 일면에 활성 에너지선 경화형 수지층을 매개로 합지되어 있는 열 수축성 필름을 포함하며, 상기 식 (1) 및 (2)를 만족하는 광학 부재 또한 제공한다. 이때, 광학 부재를 형성하기 위하여 사용되는 재료 및 방법은 상기한 바와 동일하며, 또한 상기 광학 부재 역시 바람직하게는 상기 식 (3) 및 (4)를 만족한다.
The present invention also provides an optical member manufactured by the above manufacturing method. Specifically, the present invention relates to a birefringent film; And a heat shrinkable film laminated on at least one surface of the birefringent film through an active energy ray-curable resin layer, wherein optical members satisfying the above-mentioned expressions (1) and (2) are also provided. At this time, the material and method used for forming the optical member are the same as described above, and the optical member also preferably satisfies the above-mentioned expressions (3) and (4).

또한, 본 발명은 상기한 제조 방법에 의하여 제조되는 광학 필름 역시 제공한다. 이때, 본 발명의 광학 필름은 하기 식 (5) 내지 (7) 중 적어도 하나 이상을 만족하는 것이 바람직하다. 이 경우 IPS 모드용 위상차 필름으로 매우 유용하게 사용될 수 있다. 보다 바람직하게는, 상기 광학 필름은 Rin의 범위가 200nm 내지 300nm 정도 이고, Rth의 범위가 100nm 내지 200nm 정도이며, Nz 값이 0.2 내지 0.9 또는 0.3 내지 0.7 정도일 수 있다.The present invention also provides an optical film produced by the above-mentioned production method. At this time, the optical film of the present invention preferably satisfies at least one of the following formulas (5) to (7). In this case, it can be very useful as a retardation film for IPS mode. More preferably, wherein the optical film is in the range of 200nm to 300nm in R extent, the range of R th is about 100nm to about 200nm, the Nz value can be on the order of 0.2 to 0.9 or 0.3 to 0.7.

식 (5): 150nm ≤ Rin ≤ 350nmFormula (5): 150 nm? R in ? 350 nm

식 (6): 50nm ≤ Rth ≤ 250nm(6): 50nm? Rth ? 250nm

식 (7): 0.1 ≤ Nz ≤ 1Equation (7): 0.1? Nz? 1

상기 식 (5) 내지 (7)에 있어서, Rin는 파장 550nm에서 측정한 필름의 면 방향 위상차 값이고, Rth는 파장 550nm에서 측정한 필름의 두께 방향 위상차 값이며, Nz는 파장 550nm에서 측정한 면 방향 위상차 값에 대한 두께 방향 위상차 값의 비(Rth/Rin)이다.
In the formulas (5) to (7), R in is the retardation value in the plane direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, R th is the retardation value in the thickness direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, (R th / R in ) of the retardation value in the thickness direction to the retardation value in one direction.

또한, 본 발명은 상기 광학 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 편광판을 제공한다. 이 경우, 본 발명에 따른 상기 광학 필름은 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착되거나, 편광자의 양면에 보호 필름이 부착된 편광판의 보호 필름 상에 부착되어, 위상차 필름으로 유용하게 사용될 수 있다.
The present invention also provides a polarizing plate comprising at least one or more optical films. In this case, the optical film according to the present invention may be directly attached to one side or both sides of the polarizer, or may be attached to a protective film of a polarizer having a protective film on both sides of the polarizer, and thus may be usefully used as a retardation film.

상기 광학 필름을 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착시키는 경우, 예를 들어, 그 구조는 상 보호필름/편광자/광학 필름, 광학 필름/편광자/하 보호필름, 광학 필름/상 보호필름/편광자/하 보호필름 또는 상 보호필름/편광자/하 보호필름/광학 필름 일 수 있다.
When the optical film is directly adhered to one surface or both surfaces of the polarizer, for example, the structure may be an upper protective film / a polarizer / an optical film, an optical film / a polarizer / a lower protective film, an optical film / an upper protective film / Protective film or an upper protective film / polarizer / lower protective film / optical film.

한편, 본 발명은 상기 광학 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 액정표시장치를 제공한다. 예컨대 본 발명은 상기 광학 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 IPS 모드 액정표시장치를 제공한다.
Meanwhile, the present invention provides a liquid crystal display device including at least one optical film. For example, the present invention provides an IPS mode liquid crystal display including at least one optical film.

이때, 상기 액정표시장치는 액정 셀 및 상기 액정 셀의 양면에 각각 구비된 제 1 편광판 및 제 2 편광판을 포함하는 것일 수 있으며, 상기 광학 필름은 상기 액정 셀과 상기 제 1 편광판 및/또는 제 2 편광판 사이에 위상차 필름으로써 구비될 수 있다. 즉, 제 1 편광판과 액정 셀 사이에 광학 필름이 구비될 수 있고, 제 2 편광판과 액정 셀 사이에, 또는 제 1 편광판과 액정 셀 사이와 제 2 편광판과 액정 셀 사이 모두에 광학 필름이 하나 또는 2 이상 구비될 수 있다.
The liquid crystal display may include a liquid crystal cell and a first polarizing plate and a second polarizing plate disposed on both surfaces of the liquid crystal cell, and the optical film may include the liquid crystal cell, the first polarizing plate and / And may be provided as a retardation film between the polarizing plates. That is, an optical film may be provided between the first polarizing plate and the liquid crystal cell, and one optical film may be provided between the second polarizing plate and the liquid crystal cell, or between the first polarizing plate and the liquid crystal cell, 2 or more .

이하에서는 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

제조예Manufacturing example 1 -  One - 복굴절성Birefringence 필름 film

폴리카보네이트 수지(LG Chem, DVD 1080, Tg=148℃)를 사용하여 250℃ 조건 하에서 30φ L/D 40 Vent-type Co-rotating Twin Extruder 에서 펠렛(pellet)을 제조하였다. 상기 제조한 원료 펠렛을 250℃에서 같은 압출기에서 압출기로 용융한 뒤, 코트 행거 타입의 티-다이(T-die)에 통과시키는 방법으로, 두께 20㎛의 미연신 필름을 제조하였다. 한편, 상기 미연신 필름은 155℃ 오븐에서 UTM 장비를 이용하여 길이 방향(MD)으로 30% 일축 연신 하였을 때의 폭 방향(TD) 수축률이 15%이었다.
A pellet was prepared from a 30φ L / D 40 Vent-type Co-rotating Twin Extruder at 250 ° C. using a polycarbonate resin (LG Chem, DVD 1080, Tg = 148 ° C.). An unoriented film having a thickness of 20 탆 was prepared by melting the raw material pellets prepared in the same extruder at 250 캜 with an extruder and then passing them through a coat hanger type T-die. On the other hand, the unstretched film had a shrinkage in the transverse direction (TD) of 15% when uniaxially stretched by 30% in the longitudinal direction (MD) using a UTM equipment in an oven at 155 ° C.

제조예Manufacturing example 2 -  2 - 복굴절성Birefringence 필름 film

폴리아마이드(Evonik Industries, CX9704, Tg=129℃)를 사용하여 250℃ 조건 하에서 30φ L/D 40 Vent-type Co-rotating Twin Extruder 에서 펠렛(pellet)을 제조하였다. 상기 제조한 원료 펠렛을 250℃에서 같은 압출기에서 압출기로 용융한 뒤, 코트 행거 타입의 티-다이(T-die)에 통과시키는 방법으로, 두께 60㎛의 미연신 필름을 제조하였다. 한편, 상기 미연신 필름은 155℃ 오븐에서 UTM 장비를 이용하여 길이 방향(MD)으로 30% 일축 연신 하였을 때의 폭 방향(TD) 수축률이 20%이었다.
A pellet was prepared from a 30φ L / D 40 Vent-type Co-rotating Twin Extruder at 250 ° C using polyamide (Evonik Industries, CX9704, Tg = 129 ° C) An unoriented film having a thickness of 60 占 퐉 was prepared by melting the raw material pellets prepared above at 250 占 폚 with an extruder in the same extruder and then passing them through a coat hanger type T-die. On the other hand, the unstretched film had a shrinkage in the width direction (TD) of 20% when uniaxially stretched by 30% in the longitudinal direction (MD) using UTM equipment in an oven at 155 ° C.

제조예Manufacturing example 3 - 열 수축성 필름 3 - Heat shrinkable film

열 수축성 필름으로 시판되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름(SKC社 SP19H, TD 1축 연신, Tg=76℃)를 사용하였다. 한편, 상기 연신 필름은 155℃ 오븐에서 UTM 장비를 이용하여 길이 방향(MD)으로 30% 일축 연신 하였을 때의 폭 방향(TD) 수축률이 78%이었다.
A polyethylene terephthalate stretched film (SK19 SP19H, TD uniaxially stretched, Tg = 76 deg. C) commercially available as a heat shrinkable film was used. On the other hand, the stretched film had a shrinkage in the transverse direction (TD) of 78% when uniaxially stretched by 30% in the machine direction (MD) using UTM equipment in an oven at 155 ° C.

제조예Manufacturing example 4 - 4 - 라디칼Radical 경화형 조성물 Curable composition

활성 에너지선 경화형 수지층으로 사용하기 위하여 라디칼 경화형 조성물을 제조하였다. 구체적으로, 상기 라디칼 경화형 조성물은 2-히드록시에틸아크릴릴레이트 70 중량%, 이타콘산 10 중량%, 및 4,4'-((((프로판-2,2-디일비스(4,1-페닐렌))비스(옥시))비스(1-(메타크릴로일옥시)프로판-3,2-디일))비스(옥시))비스(4-옥소부탄 산) 20 중량%를 포함하는 조성물 100 중량부에, 라디칼 개시제 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀옥사이드 3 중량부 및 광산 발생제 디페닐(4-페닐티오)페닐설포늄헥사플루오로포스페이트 5 중량부를 첨가하여 제조하였다. 시차주사열량계(DSC Mettler 社)를 이용하여 측정한 조성물의 유리전이온도는 82℃ 이었다.
Radical curable compositions were prepared for use as active energy ray curable resin layers. Specifically, the radical curable composition is prepared by dissolving 70% by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 10% by weight of itaconic acid, and 4,4 '- ((((propane-2,2-diylbis Bis (oxy)) bis (1- (methacryloyloxy) propane-3,2-diyl)) bis (oxy)) bis (4-oxobutanoic acid) , 3 parts by weight of a radical initiator phenyl bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phosphine oxide and 5 parts by weight of a photo-acid generator, diphenyl (4-phenylthio) phenylsulfonium hexafluorophosphate . The glass transition temperature of the composition measured using a differential scanning calorimeter (DSC Mettler) was 82 ° C.

제조예Manufacturing example 5 - 양이온 경화형 조성물 5-cationic curable composition

활성 에너지선 경화형 수지층으로 사용하기 위하여 양이온 경화형 조성물을 제조하였다. 구체적으로, 상기 양이온 경화형 조성물은 호모폴리머의 유리전이온도가 190도인 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카복실레이트 25중량% (Dicel사의 Celloxide 2021P), 호모폴리머의 유리전이온도가 25도인 1,4-시클로헥산 디메탄올 디글리시딜에테르 25중량%, 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]옥세탄(도아 고세이 아론 옥세탄 DOX221) 50중량%를 넣어 제조한 수지 조성물 100중량부에 양이온 개시제인 CPI 100P(Sanapro사) 5 중량부를 첨가하여 제조하였다. 시차주사열량계(DSC Mettler 社)를 이용하여 측정한 조성물의 유리전이온도는 102℃ 이었다.
Cationically curable compositions were prepared for use as active energy ray curable resin layers. Specifically, the cationic curable composition was prepared by mixing 25 wt% of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Celloxide 2021P from Dicel) having a glass transition temperature of 190 ° C of the homopolymer, 25% by weight of 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether having a temperature of 25 ° C, 25% by weight of 3-ethyl-3 - [(3-ethyloxetan- Cetane DOX221), and 5 parts by weight of CPI 100P (Sanapro) as a cationic initiator was added to 100 parts by weight of the resin composition. The glass transition temperature of the composition measured using a differential scanning calorimeter (DSC Mettler) was 102 ° C.

제조예Manufacturing example 6 -아크릴계 점착제 6 - Acrylic adhesive

아크릴계 점착제로는 시판되는 New Tac Kasei社의 NSS-4를 사용하였다.
As the acrylic pressure-sensitive adhesive, commercially available NSS-4 manufactured by New Tac Kasei was used.

제조예Manufacturing example 7 - 수계 접착제 7 - Waterborne Adhesive

수계 접착제로는 시판되는 일본합성화학社의 Gohsefiner Z-200H 3.3%를 물에 녹여 사용하였다.
As a water-based adhesive, 3.3% of Gohsefiner Z-200H available from Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. was dissolved in water and used.

실시예Example 1 One

상기 제조예 1의 폴리카보네이트 미연신 필름과 상기 제조예 3의 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름을 상기 제조예 4의 라디칼 경화형 조성물을 이용하여 부착하여 적층체를 제조하였다. 구체적으로, 상기 폴리카보네이트 미연신 필름과 상기 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름을 상기 조성물을 점적 방식으로 도포한 후, 두 필름을 합지하였다. 그 후, UV 경화기(Light Hammer社, Fusion UV)에서 광량 500mJ/cm2, 세기 2000mW/cm2, 속도 20m/min의 조건으로 경화하여, 적층체를 형성하였다. 한편, 상기 UV 경화기에 사용된 램프는 LH10 Fusion D bulb 이였으며, 램프와 샘플간의 거리는 5.7cm 이었다. 한편, 상기 적층체의 길이(length)는 10cm이고, 폭(width)는 5cm이었으며, 따라서 폭(width) 대비 길이(length)의 비는 2배 정도이었다. 상기 적층체를 147℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 길이 방향(MD)으로 25% 일축 연신 한 후, 적층체를 상온으로 꺼내어 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름을 상온에서 박리하여, 최종적으로 두께 22㎛의 폴리카보네이트 연신 필름(광학 필름)을 제조하였다.
The polycarbonate undrawn film of Production Example 1 and the polyethylene terephthalate stretched film of Production Example 3 were adhered using the radical curable composition of Production Example 4 to produce a laminate. Specifically, the polycarbonate undrawn film and the polyethylene terephthalate stretched film were applied in a dripping manner to the composition, and then the two films were laminated. Thereafter, the laminate was cured under conditions of light quantity of 500 mJ / cm 2 , intensity of 2000 mW / cm 2 and speed of 20 m / min in a UV curing machine (Light Hammer, Fusion UV). Meanwhile, the lamp used for the UV curing machine was LH10 Fusion D bulb, and the distance between the lamp and the sample was 5.7 cm. On the other hand, the length of the laminate was 10 cm and the width was 5 cm, so that the ratio of the length to the width was about 2 times. The laminate was uniaxially stretched by 25% in a longitudinal direction (MD) in a 147 ° C oven using UTM equipment. The laminate was taken out at room temperature, and the polyethylene terephthalate stretched film was peeled off at room temperature to finally obtain a A polycarbonate stretched film (optical film) was produced.

실시예Example 2 2

상기 실시예 1에 있어서, 제조예 1의 폴리카보네이트 미연신 필름 대신에 제조예 2의 폴리아마이드 미연신 필름을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 적층체를 제조하였다. 상기 적층체를 132℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 길이 방향(MD)으로 55% 일축 연신한 후, 적층체를 상온으로 꺼내어 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름을 상온에서 박리하여, 최종적으로 두께 25㎛의 폴리아마이드 연신 필름(광학 필름)을 제조하였다.
A laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polyamide-unstretched film of Production Example 2 was used in place of the polycarbonate undrawn film of Production Example 1. [ The laminate was uniaxially stretched by 55% in the machine direction (MD) in a longitudinal direction (MD) in a 132 ° C oven using UTM equipment. The laminate was taken out at room temperature and the polyethylene terephthalate stretched film was peeled off at room temperature, A polyamide stretched film (optical film) was produced.

실시예Example 3 3

상기 실시예 1에 있어서, 조성물로 상기 제조예 5의 양이온 경화형 조성물을 이용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 적층체를 제조하였다. 상기 적층체를 147℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 길이 방향(MD)으로 25% 일축 연신 한 후, 적층체를 상온으로 꺼내어 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름을 상온에서 박리하여, 최종적으로 두께 22㎛의 폴리카보네이트 연신 필름(광학 필름)을 제조하였다.
A laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the cationically curable composition of Preparation Example 5 was used as the composition. The laminate was uniaxially stretched by 25% in a longitudinal direction (MD) in a 147 ° C oven using UTM equipment. The laminate was taken out at room temperature, and the polyethylene terephthalate stretched film was peeled off at room temperature to finally obtain a A polycarbonate stretched film (optical film) was produced.

비교예Comparative Example 1 One

상기 제조예 1의 폴리카보네이트 미연신 필름을 비교예 1로 사용하였다.
The polycarbonate undrawn film of Preparation Example 1 was used as Comparative Example 1.

비교예Comparative Example 2 2

상기 제조예 2의 폴리아마이드 미연신 필름을 비교예 2로 사용하였다.
The polyamide undrawn film of Preparation Example 2 was used as Comparative Example 2.

비교예Comparative Example 3 3

상기 제조예 1의 폴리카보네이트 미연신 필름과 상기 제조예 3의 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름을 상기 제조예 6의 아크릴계 점착제를 이용하여 부착하여 적층체를 제조하였다. 상기 적층체를 145℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 길이 방향(MD)으로 25% 일축 연신 한 후, 적층체를 상온으로 꺼내어 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름을 상온에서 박리하여, 최종적으로 두께 25㎛의 폴리카보네이트 연신 필름(광학 필름)을 제조하였다.
The polycarbonate undrawn film of Production Example 1 and the polyethylene terephthalate stretched film of Production Example 3 were adhered using the acrylic pressure-sensitive adhesive of Production Example 6 to produce a laminate. The laminate was uniaxially stretched by 25% in the machine direction (MD) in a longitudinal direction (MD) at 145 ° C in an oven, and then the laminate was taken out at room temperature and the polyethylene terephthalate stretched film was peeled off at room temperature. Finally, A polycarbonate stretched film (optical film) was produced.

실험예Experimental Example 1 - 폭 수축률( 1 - Width Shrinkage ( SS 1One , , SS 22 ) 및 접착력() And adhesive strength PP aa , , PP bb ) 측정) Measure

상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 3에 있어서, 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 폭 수축률(S1) 및 열 수축성 필름의 폭 수축률(S2)을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다. 이때, 상기 폭 수축률(S1, S2)는 열 수축 전 적층체의 양면, 즉 복굴절성 필름과 열 수축성 필름 각각에 점을 1cm 간격으로 찍은 후, 열 수축 후 박리한 다음, 각각의 필름의 점 간격을 재는 방법으로 측정하였다.
The width shrinkage ratio (S 1 ) of the birefringent film in the laminated state and the width shrinkage ratio (S 2 ) of the heat shrinkable film in Examples 1 to 3 and Comparative Example 3 were measured and shown in Table 1 below. At this time, the width shrinkage rates (S 1 , S 2 ) are measured on both sides of the laminate before heat shrinkage, that is, on the birefringent film and the heat shrinkable film at intervals of 1 cm and then peeled off after heat shrinkage, The measurement was made by measuring the distance between points.

또한, 상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 3에 있어서, 수축 전 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력(Pa) 및 수축 후 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력(Pb)을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다. 이때, 상기 접착력(Pa, Pb)은 Stable Micro Systems社의 Texture Analyzer(모델명: TA-XT Plus) 장비를 이용하여 측정하였다.
Further, to measure the above Examples 1 to 3 and comparison as in Example 3, the adhesive force of contraction around the birefringent film and a heat shrinkable film (P a) and the adhesive force (P b) of the birefringent film and a heat shrinkable film after shrinkage Table 1 shows the results. In this case, the adhesive force (P a, P b) is the Texture Analyzer Stable Micro Systems社: was measured using a (model TA-XT Plus) equipment.

구 분division S1 (%)S 1 (%) S2 (%)S 2 (%) Pa (N/2cm)P a (N / 2 cm) Pb (N/2cm)P b (N / 2 cm) 실시예 1Example 1 3030 3030 0.180.18 0.140.14 실시예 2Example 2 5050 5050 0.170.17 0.130.13 실시예 3Example 3 3030 3030 0.170.17 0.140.14 비교예 3Comparative Example 3 2020 3030 0.010.01 0.000.00

상기 표 1에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 실시예 1 내지 3에서 제조된 적층체의 경우, 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 폭 수축률(S1, S2)이 상기 식 (2)를 만족하며, 또한 수축 전 접착력(Pa)과 수축 후 접착력(Pb)이 상기 식 (3) 및 (4)를 만족한다. 이를 통하여, 본 발명의 실시예 1 내지 3에서 제조된 적층체의 경우, 열 수축 과정에서 박리가 쉽게 일어나지 않았으며, 그 결과 하기 도 1 (a)에 예시적으로 도시(수지층 생략)한 바와 같이 복굴절성 필름(1)이 열 수축성 필름(2)과 실질적으로 동일하게 수축되었다는 것을 알 수 있다. 또한, 열 수축 후 박리가 용이하다는 것을 알 수 있다.
As can be seen from Table 1, in the case of the laminate produced in Examples 1 to 3 of the present invention, the width shrinkage ratio (S 1 , S 2 ) of the birefringent film and the heat shrinkable film satisfies the formula (2) , And the adhesive force (P a ) before shrinkage and the adhesive force (P b ) after shrinkage satisfy the above-mentioned expressions (3) and (4). As a result, in the case of the laminate produced in Examples 1 to 3 of the present invention, peeling was not easily caused in the heat shrinking process. As a result, as shown in Fig. 1 (a) It can be seen that the birefringent film 1 has contracted substantially like the heat shrinkable film 2. Further, it can be seen that peeling after heat shrinking is easy.

그러나, 비교예 3에서 제조된 적층체의 경우, 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 폭 수축률(S1, S2)이 상기 식 (2)를 벗어나며, 또한 수축 전 접착력(Pa)과 수축 후 접착력(Pb)이 역시 상기 식 (3) 및 (4)를 벗어난다. 이를 통하여, 비교예 1에서 제조된 적층체의 경우 열 수축 과정에서 박리가 일어났으며, 그 결과 하기 도 1 (b)에 예시적으로 도시(점착제 생략)한 바와 같이 열 수축성 필름(2)만이 수축을 하고, 복굴절성 필름(1)은 충분히 수축되지 못하였다는 것을 알 수 있다.
However, Comparative Example For the laminate prepared in the third, birefringent transverse shrinkage (S 1, S 2) of the film and a heat shrinkable film is beyond the above formula (2), and shrink around the adhesive force (P a) and after shrinkage The adhesive force (P b ) also deviates from the above-mentioned formulas (3) and (4). As a result, in the case of the laminate produced in Comparative Example 1, peeling occurred in the heat shrinking process. As a result, as shown in the following FIG. 1 (b), only the heat shrinkable film 2 Shrinkage, and the birefringent film (1) was not sufficiently shrunk.

실험예Experimental Example 2 -  2 - 위상차Phase difference 특성 측정 Characterization

상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3에서 제조한 광학 필름의 위상차 특성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다. nx, ny, nz는 프리즘 커플러 장비(SAIRON TECHNOLOGY社 SPA-3DR)를 이용하여 측정하였으며, 위상차 값은 Axometrics社의 Axoscan 측정장비를 이용하여 측정하였다.
The retardation characteristics of the optical films prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were measured and are shown in Table 2 below. n x , n y , and n z were measured using prism coupler equipment (SPA-3DR, SAIRON TECHNOLOGY), and the retardation values were measured using Axoscan's Axoscan measuring equipment.

구 분division 두께(㎛)Thickness (㎛) nx/ny/nz n x / n y / n z Rin(㎚)R in (nm) Rth(㎚)R th (nm) NzNz 실시예 1Example 1 2222 1.5896/1.5785/1.58441.5896 / 1.5785 / 1.5844 243243 129129 0.530.53 실시예 2Example 2 2525 1.5326/1.5276/1.52981.5326 / 1.5276 / 1.5298 309309 138138 0.450.45 실시예 3Example 3 2222 1.5904/1.5784/1.58381.5904 / 1.5784 / 1.5838 252252 113113 0.450.45 비교예 1Comparative Example 1 2020 1.5847/1.5842/1.58371.5847 / 1.5842 / 1.5837 99 -10-10 -1.11-1.11 비교예 2Comparative Example 2 2020 1.5301/1.5300/1.52991.5301 / 1.5300 / 1.5299 1One -4-4 -6.13-6.13 비교예 3Comparative Example 3 1212 1.6002/1.5764/1.57601.6002 / 1.5764 / 1.5760 281281 -6-6 -0.02-0.02

상기 표 2에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 실시예 1 내지 3에서 제조된 광학 필름은 IPS 모드용 액정표시장치에 위상차 필름으로 사용하기에 매우 적합한 위상차 값을 가지는 것을 알 수 있다.
As can be seen from Table 2, the optical films prepared in Examples 1 to 3 of the present invention have a phase difference value which is very suitable for use as a retardation film in an IPS mode liquid crystal display device.

그러나, 본 발명의 열 수축 단계를 거치지 않은 비교예 1 및 2의 경우 IPS 모드용 액정표시장치에 위상차 필름으로 적용하기에 어려운 위상차 값을 가지는 것을 알 수 있다.
However, in Comparative Examples 1 and 2 in which the heat shrinkage step of the present invention is not performed, it is found that the liquid crystal display for IPS mode has a retardation value which is difficult to apply as a retardation film.

또한, 아크릴계 점착제를 사용한 비교예 3에서 제조된 광학 필름은 상기한 바와 같이 열 수축 과정에서 박리가 일어나 복굴절성 필름이 충분히 수축되지 못하였는바, 폴리카보네이트 필름이 열 수축 필름 없이 단순히 일축 연신 된 것과 동일한 결과를 가지는 것을 알 수 있다.
In addition, the optical film prepared in Comparative Example 3 using the acrylic pressure-sensitive adhesive had peeling in the heat shrinkage process and the birefringent film was not sufficiently shrunk as described above. As a result, the polycarbonate film was simply uniaxially stretched without a heat shrink film The same result can be obtained.

비교예Comparative Example 4 4

상기 제조예 1의 폴리카보네이트 미연신 필름과 상기 제조예 3의 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름을 상기 제조예 7의 수계 접착제를 이용하여 부착하여 적층체를 제조하였다. 상기 적층체를 145℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 MD 방향으로 25% 1축 연신 한 후, 적층체를 상온으로 꺼내어 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름을 박리하여, 폴리카보네이트 연신 필름을 제조하였다.
The polycarbonate undrawn film of Production Example 1 and the polyethylene terephthalate stretched film of Production Example 3 were adhered using the aqueous adhesive of Production Example 7 to produce a laminate. The laminate was uniaxially stretched by 25% in the MD direction in a 145 ° C oven using UTM equipment, and the laminate was taken out at room temperature and the polyethylene terephthalate stretched film was peeled off to produce a polycarbonate stretched film.

실험예Experimental Example 3 - 필름의 외관 측정 3 - Appearance measurement of film

상기 실시예 1에 따라 제조된 광학 필름과 비교예 4에 따라 제조된 광학 필름의 외관을 사진으로 촬영하여 하기 도 2에 나타내었다. 하기 도 2에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 실시예 1에 따라 제조된 광학 필름(왼쪽)에 비하여 비교예 4에 따라 제조된 광학 필름(오른쪽)의 경우 필름의 표면에 돌기가 많은 등 외관이 불량한 것을 알 수 있다.
The appearance of the optical film prepared according to Example 1 and the optical film prepared according to Comparative Example 4 were photographed and shown in FIG. 2, in the case of the optical film (right side) produced according to Comparative Example 4 in comparison with the optical film (left) manufactured according to Embodiment 1 of the present invention, the appearance of the optical film .

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It will be obvious to those of ordinary skill in the art.

1: 복굴절성 필름
2: 열 수축성 필름
W: 폭
L: 길이
1: birefringent film
2: Heat shrinkable film
W: Width
L: Length

Claims (18)

복굴절성 필름의 적어도 일면에 열 수축성 필름을 활성 에너지선 경화형 수지층을 매개로 합지하여 적층체를 형성하는 단계; 및
하기 식 (1) 및 (2)를 만족하도록 상기 적층체를 열 수축하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법.
식 (1): nx > nz > ny
식 (2): 0% ≤ S2 - S1 ≤ 5%
상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율이고,
상기 식 (2)에 있어서, S1은 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이며, S2는 적층체 상태에서의 열 수축성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률임.
Forming a laminate by laminating a heat shrinkable film on at least one side of the birefringent film through an active energy ray-curable resin layer; And
And thermally shrinking the laminate so as to satisfy the following expressions (1) and (2).
Equation (1): n x > n z > n y
(2): 0%? S 2 - S 1 ? 5%
In the formula (1), n x is the birefringence, and the plane direction refractive index is the refractive index of the direction in which the maximum of the film, n y is a refractive index in a direction perpendicular to a direction to the n x direction in the birefringent film, n z Is the refractive index in the thickness direction of the birefringent film,
In the formula (2), S 1 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent film in the laminated state, S 2 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the heat shrinkable film in the laminated state being.
제 1 항에 있어서,
상기 적층체를 열 수축하는 단계는 하기 식 (3) 및 (4)를 더 만족하는 것인 광학 필름의 제조 방법.
식 (3): 0.10 N/2cm ≤ Pa ≤ 1.0 N/2cm
식 (4): 0.01 N/2cm ≤ Pb ≤ 0.5 N/2cm
상기 식 (3) 및 (4)에 있어서, Pa는 열 수축 전 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력이며, Pb는 열 수축 후 복굴절성 필름과 열 수축성 필름의 접착력임.
The method according to claim 1,
Wherein the step of heat shrinking the laminate further satisfies the following formulas (3) and (4).
(3): 0.10 N / 2 cm? P a ? 1.0 N / 2 cm
(4): 0.01 N / 2 cm? P b ? 0.5 N / 2 cm
In the above formulas (3) and (4), P a is the adhesive strength between the birefringent film and the heat shrinkable film before heat shrinkage, and P b is the adhesive strength between the birefringent film and the heat shrinkable film after heat shrinkage.
제 1 항에 있어서,
상기 적층체를 형성하는 단계는, 상기 복굴절성 필름과 열 수축성 필름 사이에 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포한 후, 두 필름을 합지하고, 활성 에너지선 경화형 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 경화시키는 방법으로 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The step of forming the laminate may include a method of applying an active energy ray curable composition between the birefringent film and the heat shrinkable film, followed by laminating the two films, and curing the active energy ray curable composition by irradiating active energy rays . &Lt; / RTI &gt;
제 3 항에 있어서,
상기 활성 에너지선 경화형 조성물은 하기 [화학식 1]로 표시되는 제1화합물, 적어도 하나 이상의 카르복시기를 포함하는 제2화합물, 및 라디칼 개시제를 포함하는 것인 광학 필름의 제조 방법.
[화학식 1]
Figure pat00030

상기 [화학식 1]에서, R1은 에스테르기 또는 에테르기고; R2는 C1 ~10 알킬기, C4~10 시클로알킬기, 또는 이들의 조합이고, 이때 R2는 분자 내에 적어도 하나 이상의 히드록시 치환기를 가지며; R3는 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 ~10 알킬기임.
The method of claim 3,
Wherein the active energy ray curable composition comprises a first compound represented by Formula 1, a second compound comprising at least one carboxyl group, and a radical initiator.
[Chemical Formula 1]
Figure pat00030

In the above formula (1), R 1 represents an ester group or an ether group; R 2 is C 1 ~ 10 alkyl group, a C 4-10 cycloalkyl group, or a combination thereof, wherein R 2 has at least one hydroxy substituent in the molecule; R 3 is hydrogen, or a substituted or unsubstituted C 1 ~ 10 alkyl group;
제 3 항에 있어서,
상기 활성 에너지선 경화형 조성물은 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 제1에폭시 화합물, 호모폴리머의 유리전이온도가 60℃ 이하인 제2에폭시 화합물 및 광 양이온 중합 개시제를 포함하는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method of claim 3,
Wherein the active energy ray-curable composition comprises a first epoxy compound having a glass transition temperature of not lower than 120 DEG C of a homopolymer, a second epoxy compound having a glass transition temperature of not higher than 60 DEG C of a homopolymer and a photo cationic polymerization initiator Way.
제 1 항에 있어서,
상기 복굴절성 필름은 정의 복굴절성 필름인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the birefringent film is a positive birefringent film.
제 1 항에 있어서,
상기 복굴절성 필름은 미연신 필름인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the birefringent film is an unstretched film.
제 1 항에 있어서,
상기 열 수축성 필름은 폭 방향(TD)으로 1축 연신 처리된 필름인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the heat shrinkable film is a uniaxially stretched film in the width direction (TD).
제 1 항에 있어서,
상기 복굴절성 필름의 유리전이온도는 상기 열 수축성 필름의 유리전이온도보다 20℃ 이상 큰 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the glass transition temperature of the birefringent film is 20 占 폚 or more higher than the glass transition temperature of the heat shrinkable film.
제 1 항에 있어서,
상기 활성 에너지선 경화형 수지층은 유리전이온도가 70℃ 이상인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the active energy ray-curable resin layer has a glass transition temperature of 70 ° C or higher.
제 1 항에 있어서,
상기 적층체는 폭(width) 대비 길이(length)가 1.5 배 이상인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the laminate has a length to width ratio of 1.5 or more.
제 1 항에 있어서,
상기 열 수축하는 단계는 적층체를 길이 방향(MD)으로 1축 연신하는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the heat shrinking step uniaxially stretches the laminate in the longitudinal direction (MD).
제 10 항에 있어서,
상기 연신은 열 수축성 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg) 내지 (Tg + 100℃의 온도에서 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the stretching is performed at a temperature of (Tg) to (Tg + 100 deg. C), where Tg is the glass transition temperature of the heat shrinkable film.
제 10 항에 있어서,
상기 연신은 1.1 내지 3.0 배의 연신 배율로 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the stretching is performed at a draw magnification of 1.1 to 3.0 times.
복굴절성 필름; 및 상기 복굴절성 필름의 적어도 일면에 활성 에너지선 경화형 수지층을 매개로 합지되어 있는 열 수축성 필름을 포함하며, 하기 식 (1) 및 (2)를 만족하는 광학 부재.
식 (1): nx > nz > ny
식 (2): 0% ≤ S2 - S1 ≤ 5%
상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율이고,
상기 식 (2)에 있어서, S1은 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이며, S2는 적층체 상태에서의 열 수축성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률임.
Birefringent film; And a heat shrinkable film laminated on at least one surface of the birefringent film through an active energy ray-curable resin layer, the optical member satisfying the following expressions (1) and (2).
Equation (1): n x > n z > n y
(2): 0%? S 2 - S 1 ? 5%
In the formula (1), n x is the birefringence, and the plane direction refractive index is the refractive index of the direction in which the maximum of the film, n y is a refractive index in a direction perpendicular to a direction to the n x direction in the birefringent film, n z Is the refractive index in the thickness direction of the birefringent film,
In the formula (2), S 1 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent film in the laminated state, S 2 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the heat shrinkable film in the laminated state being.
제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항의 제조 방법으로 제조되며,
하기 식 (5) 내지 (7)을 만족하는 광학 필름.
식 (5): 150nm ≤ Rin ≤ 350nm
식 (6): 50nm ≤ Rth ≤ 250nm
식 (7): 0.1 ≤ Nz ≤ 1
상기 식 (5) 내지 (7)에 있어서, Rin는 파장 550nm에서 측정한 필름의 면 방향 위상차 값이고, Rth는 파장 550nm에서 측정한 필름의 두께 방향 위상차 값이며, Nz는 파장 550nm에서 측정한 면 방향 위상차 값에 대한 두께 방향 위상차 값의 비(Rth/Rin)임.
A process for producing a polyurethane foam, which is produced by the process of any one of claims 1 to 14,
The optical film satisfies the following formulas (5) to (7).
Formula (5): 150 nm? R in ? 350 nm
(6): 50nm? Rth ? 250nm
Equation (7): 0.1? Nz? 1
In the formulas (5) to (7), R in is the retardation value in the plane direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, R th is the retardation value in the thickness direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, (R th / R in ) of the retardation value in the thickness direction to the retardation value in one direction.
제 16 항의 광학 필름을 포함하는 편광판.
17. A polarizing plate comprising the optical film of claim 16.
제 16 항의 광학 필름을 포함하는 액정표시장치.17. A liquid crystal display device comprising the optical film of claim 16.
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