KR101732226B1 - Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same - Google Patents

Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same Download PDF

Info

Publication number
KR101732226B1
KR101732226B1 KR1020140093876A KR20140093876A KR101732226B1 KR 101732226 B1 KR101732226 B1 KR 101732226B1 KR 1020140093876 A KR1020140093876 A KR 1020140093876A KR 20140093876 A KR20140093876 A KR 20140093876A KR 101732226 B1 KR101732226 B1 KR 101732226B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
stretching
birefringent
birefringent film
laminate
Prior art date
Application number
KR1020140093876A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160012441A (en
Inventor
윤석일
곽상민
이남정
권경재
오혜미
임승준
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020140093876A priority Critical patent/KR101732226B1/en
Publication of KR20160012441A publication Critical patent/KR20160012441A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101732226B1 publication Critical patent/KR101732226B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C55/00Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
    • B29C55/02Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C55/00Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
    • B29C55/02Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
    • B29C55/04Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets uniaxial, e.g. oblique
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00634Production of filters
    • B29D11/00644Production of filters polarizing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J129/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Adhesives based on hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J129/02Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C09J129/04Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528Polarisers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

본 발명은 미연신 복굴절성 필름을 폭 방향(TD)으로 일축 연신하는 단계; 상기 연신 처리한 복굴절성 필름을 수축성 필름과 부착하여 적층체를 형성하는 단계; 및 상기 연신 처리한 복굴절성 필름이 하기 식 (1)을 만족하도록 적층체를 폭 방향(TD)으로 열 수축하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치에 관한 것이다.
식 (1): nx > nz > ny
상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율임.
The present invention relates to a method for producing a birefringent film, comprising: uniaxially stretching an unstretched birefringent film in a transverse direction (TD); Attaching the stretched birefringent film to a shrinkable film to form a laminate; And heat-shrinking the laminate in the transverse direction (TD) such that the stretched birefringent film satisfies the following formula (1), an optical member and an optical film produced using the same, And a polarizing plate and a liquid crystal display including the same.
Equation (1): n x > n z > n y
Ny is a refractive index in a direction perpendicular to the nx direction of the birefringent film, nz is a thickness of the birefringent film in the direction perpendicular to the nx direction, nz is a thickness of the birefringent film, Direction.

Description

광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치{PREPARING METHOD FOR THE OPTICAL FILM, OPTICAL MAMBER AND OPTICAL FILM BY THE SAME METHOD, POLARIZING PLATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY COMPRISING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a method of manufacturing an optical film, an optical member and an optical film manufactured using the same, a polarizing plate and a liquid crystal display including the polarizing plate and the liquid crystal display, THE SAME}

본 발명은 광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 IPS 모드 액정표시장치 등에 위상차 필름으로 유용하게 적용될 수 있는 광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a method for producing an optical film, an optical member and an optical film manufactured using the optical film, a polarizing plate and a liquid crystal display including the optical member, and more particularly to an IPS mode liquid crystal display An optical member and an optical film manufactured using the same, a polarizing plate including the same, and a liquid crystal display device.

액정표시장치는 음극선관 디스플레이에 비해 소비 전력이 낮고, 부피가 작고, 가벼워 휴대가 용이하기 때문에 광학 디스플레이 소자로서 보급이 확산되고 있다. 일반적으로 액정표시장치는 액정 셀의 양측에 편광판을 설치한 기본 구성을 가지며, 구동회로의 전계 인가 여부에 따라 액정 셀의 배향이 변하게 되고, 그에 따라 편광판을 통해 나온 투과광의 특성이 달라지게 됨으로써 빛의 가시화가 이루어진다. 이 때 입사광의 입사 각도에 따라 빛의 경로와 복굴절성이 변화하게 되는데, 이는 액정이 두 개의 상이한 굴절률을 가지는 이방성 물질이기 때문이다.
The liquid crystal display device is spreading as an optical display device because its power consumption is lower than that of a cathode ray tube display, its volume is small, its weight is light and it is easy to carry. In general, a liquid crystal display device has a basic structure in which a polarizing plate is provided on both sides of a liquid crystal cell, and the orientation of the liquid crystal cell changes depending on whether an electric field is applied to the driving circuit, and the characteristics of light transmitted through the polarizing plate are changed, Is visualized. At this time, the path of light and the birefringence change depending on the incident angle of the incident light because the liquid crystal is an anisotropic material having two different refractive indices.

이와 같은 특성으로 인해, 액정표시장치는 시야각(viewing angle)에 따라 상이 얼마나 뚜렷하게 보이는지를 가늠하는 척도인 콘트라스트 비(contrast ratio)가 달라지고 계조 반전(gray scale inversion) 현상이 발생하여 시인성이 떨어진다는 단점을 지닌다. 상기와 같은 단점을 극복하기 위하여 액정표시장치 장치에는 액정 셀에서 발생하는 광학 위상차를 발현시켜 주는 광학 위상차 필름(compensation film)이 사용되고 있다.
Due to such characteristics, the liquid crystal display device has a problem that the contrast ratio, which is a measure for how much the image is seen clearly according to the viewing angle, is changed and the gray scale inversion phenomenon occurs, It has disadvantages. In order to overcome such disadvantages, an optical compensation film for developing an optical retardation generated in a liquid crystal cell is used for a liquid crystal display device.

상기와 같은 위상차 필름으로는, 예를 들면, nx > nz > ny 의 굴절률 분포를 가지는 광학 필름이 사용되고 있다. 이때, 상기와 같은 굴절률 분포를 가지는 광학 필름은 한 장의 필름으로 구현이 어려워, 종래에는 두 층 이상의 다층 필름으로 구성되는 구조가 현실적으로 제시되었다. 그러나, 다층 필름으로 제조하는 경우, 필름의 박형화가 어려우며, 또한 적층되는 두 층 이상의 필름의 광축을 정확하게 배치되지 않으면 원하는 위상차 특성을 나타내지 않는 등 제조가 매우 까다롭다는 문제점이 있었다.
As such a retardation film, for example, an optical film having a refractive index distribution of n x > n z > n y is used. At this time, the optical film having the refractive index distribution as described above is difficult to be realized as a single film, and conventionally, a structure composed of two or more layers of multilayer films has been presented. However, in the case of a multilayer film, it is difficult to make the film thinner, and if the optical axis of two or more laminated films is not precisely aligned, the desired retardation characteristics are not exhibited.

따라서, 한 장의 필름으로 위와 같은 굴절률 분포를 가지는 광학 필름을 제조하기 위한 연구가 계속하여 진행되고 있으며, 예를 들면, 수지 필름의 편면 또는 양면에 아크릴계 점착제 등을 개재하여 수축성 필름을 부착하여 적층체를 형성하고, 상기 적층체를 고온에서 연신 처리하여, 상기 연신 방향과 직교하는 방향으로 수축력을 부여하는 방법이 제안된바 있다.
Therefore, studies for producing an optical film having the refractive index distribution as described above are progressing continuously. For example, a shrinkable film is attached to one side or both sides of a resin film via an acrylic adhesive, A method of stretching the laminate at a high temperature and imparting a contracting force in a direction perpendicular to the stretching direction has been proposed.

이때, 상기 수지 필름으로는 일반적으로 무연신 상태의 필름을 사용하고 있다. 그러나, 상기와 같은 무연신 필름은 제조되는 위상차 필름의 박형화를 위하여 얇은 두께로 압출하는 경우, 충분히 넓은 폭을 가지는 상태로 제조하기 매우 어려우며, 따라서 이를 수축성 필름에 부착하여 수축시키는 경우, 수축 후 폭이 너무 좁아 생산성이 매우 낮고 양산 가능성이 떨어지는 문제점이 있다.
At this time, a film which is generally in a non-drawn state is used as the resin film. However, when the thin film is extruded in order to thin the retardation film to be produced, it is very difficult to produce the retardation film having a sufficiently wide width. Therefore, when the retardation film is attached to a shrinkable film to shrink it, Is too narrow to produce a very low productivity and the possibility of mass production is low.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 얇은 두께와 넓은 폭을 가지는 새로운 nx>nz>ny 의 굴절률 분포를 가지는 단일의 광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치를 제공하고자 한다.
The present invention is an optical member to be produced by that for solving the above problems, a new n x> n z> n y the method of producing a single optical film having a refractive index profile having a thin thickness and a large width, and using this and An optical film, a polarizing plate including the same, and a liquid crystal display device.

한편, 본 발명의 과제는 상술한 내용에 한정하지 않는다. 본 발명의 과제는 본 명세서의 내용 전반으로부터 이해될 수 있을 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자라면 본 발명의 부가적인 과제를 이해하는데 아무런 어려움이 없을 것이다.
On the other hand, the object of the present invention is not limited to the above description. It will be understood by those of ordinary skill in the art that there is no difficulty in understanding the additional problems of the present invention.

일 측면에서, 본 발명은 미연신 복굴절성 필름을 폭 방향(TD)으로 일축 연신하는 단계; 상기 연신 처리한 복굴절성 필름을 수축성 필름과 부착하여 적층체를 형성하는 단계; 및 상기 연신 처리한 복굴절성 필름이 하기 식 (1)을 만족하도록 적층체를 폭 방향(TD)으로 열 수축하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법을 제공한다.In one aspect, the present invention provides a method of producing a birefringent film, comprising: uniaxially stretching an unstretched birefringent film in the transverse direction (TD); Attaching the stretched birefringent film to a shrinkable film to form a laminate; And heat-shrinking the laminate in the width direction (TD) such that the stretched birefringent film satisfies the following formula (1).

식 (1): nx > nz > ny Equation (1): n x > n z > n y

상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율임.
Ny is a refractive index in a direction perpendicular to the nx direction of the birefringent film, nz is a thickness of the birefringent film in the direction perpendicular to the nx direction, nz is a thickness of the birefringent film, Direction.

이때, 상기 연신하는 단계는 연신 후 복굴절성 필름의 폭이 1400mm 내지 6000mm가 되도록 수행되는 것이 바람직하다.
At this time, it is preferable that the stretching is performed so that the width of the birefringent film after stretching becomes 1400 mm to 6000 mm.

또한, 상기 연신하는 단계는 연신 후 복굴절성 필름의 두께가 5㎛ 내지 40㎛이 되도록 수행되는 것이 바람직하다.
The stretching step may be performed such that the thickness of the birefringent film after stretching is 5 占 퐉 to 40 占 퐉.

또한, 상기 연신하는 단계는 연신 후 복굴절성 필름이 하기 식 (2)를 만족하도록 수행되는 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the stretching step is performed so that the birefringent film after stretching satisfies the following formula (2).

식 (2): 0nm ≤ Rin (a) ≤ 100nm(2): 0 nm? R in (a) ? 100 nm

상기 식 (2)에 있어서, Rin (a)는 파장 550nm에서 측정한 복굴절성 필름의 면 방향 위상차값임.
In the above formula (2), R in (a) is the retardation value of the birefringent film measured at a wavelength of 550 nm.

또한, 상기 연신하는 단계는 연신 후 복굴절성 필름이 하기 식 (3)을 만족하도록 수행되는 것이 바람직하다.It is preferable that the stretching step is performed so that the birefringent film after stretching satisfies the following formula (3).

식 (3): -100nm ≤ Rth (a) ≤ 100nmFormula (3): -100 nm? R th (a) ? 100 nm

상기 식 (3)에 있어서, Rth (a)는 파장 550nm에서 측정한 복굴절성 필름의 두께 방향 위상차값임.
In the above formula (3), R th (a) is the thickness direction retardation value of the birefringent film measured at a wavelength of 550 nm.

또한, 상기 연신하는 단계는 복굴절성 필름의 유리전이온도를 Tg 라 할 때, (Tg) 내지 (Tg + 50℃)의 온도에서 수행되는 것이 바람직하다.
Further, the stretching step is preferably performed at a temperature of (Tg) to (Tg + 50 deg. C), where Tg is the glass transition temperature of the birefringent film.

또한, 상기 연신하는 단계는 1.5배 내지 6.0배의 연신 배율로 수행되는 것이 바람직하다.
It is preferable that the stretching step is performed at a stretching magnification of 1.5 to 6.0 times.

한편, 상기 적층체를 형성하는 단계는 연신 처리한 복굴절성 필름의 편면 또는 양면에 수축성 필름을 부착하는 것일 수 있다.
On the other hand, in the step of forming the laminate, the shrinkable film may be attached to one side or both sides of the stretched birefringent film.

또는, 상기 적층체를 형성하는 단계는 수축성 필름의 양면에 연신 처리한 복굴절성 필름을 부착하는 것일 수 있다.
Alternatively, the step of forming the laminate may include attaching a stretched birefringent film to both sides of the shrinkable film.

한편, 상기 적층체를 형성하는 단계는 활성 에너지선 경화형 수지층을 매개로 연신 처리한 복굴절성 필름을 수축성 필름과 부착하는 방법으로 수행되는 것이 바람직하다.
On the other hand, it is preferable that the step of forming the laminate is performed by a method of attaching a birefringent film obtained by stretching through an active energy ray-curable resin layer to a shrinkable film.

한편, 상기 적층체를 열 수축하는 단계는 하기 식 (4)를 만족하도록 수행되는 것이 바람직하다.On the other hand, it is preferable that the step of heat shrinking the laminate is performed so as to satisfy the following formula (4).

식 (4): 0% ≤ S2 - S1 ≤ 5%(4): 0%? S 2 - S 1 ? 5%

상기 식 (4)에 있어서, S1은 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이며, S2는 적층체 상태에서의 수축성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률임.
In the formula (4), S 1 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent film in the laminated state, and S 2 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the shrinkable film in the laminated state .

또한, 상기 적층체를 열 수축하는 단계는 하기 식 (5) 및 (6)을 만족하도록 수행되는 것이 바람직하다.It is preferable that the step of heat shrinking the laminate is performed so as to satisfy the following formulas (5) and (6).

식 (5): 0.10 N/2cm ≤ Pa ≤ 1.0 N/2cm(5): 0.10 N / 2 cm? P a ? 1.0 N / 2 cm

식 (6): 0.01 N/2cm ≤ Pb ≤ 0.5 N/2cmEquation (6): 0.01 N / 2 cm? P b ? 0.5 N / 2 cm

상기 식 (5) 및 (6)에 있어서, Pa는 열 수축 전 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력이며, Pb는 열 수축 후 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력임.
In the formulas (5) and (6), P a is the adhesive strength between the birefringent film and the shrinkable film before heat shrinkage, and P b is the adhesive strength between the birefringent film and the shrinkable film after heat shrinkage.

한편, 상기 적층체를 열 수축하는 단계는 적층체를 길이 방향(MD)으로 일축 연신하는 방법으로 수행되는 것이 바람직하다.
On the other hand, it is preferable that the step of heat shrinking the laminate is performed by a method of uniaxially stretching the laminate in the longitudinal direction (MD).

이때, 상기 연신은 수축성 필름의 유리전이온도를 Tg'할 때, (Tg') 내지 (Tg'+ 100℃)의 온도에서 수행되는 것이 바람직하다.
At this time, it is preferable that the stretching is performed at a temperature of (Tg ') to (Tg' + 100 ° C) when the glass transition temperature of the shrinkable film is Tg '.

또한, 상기 연신은 1.1 내지 3.0 배의 연신 배율로 수행되는 것이 바람직하다.
The stretching is preferably performed at a draw ratio of 1.1 to 3.0 times.

다른 측면에서, 본 발명은 폭 방향(TD)으로 일축 연신된 복굴절성 필름 및 수축성 필름을 포함하며, 상기 복굴절성 필름이 하기 식 (1)을 만족하는 광학 부재를 제공한다.In another aspect, the present invention provides an optical member comprising a birefringent film uniaxially stretched in the transverse direction (TD) and a shrinkable film, wherein the birefringent film satisfies the following formula (1).

식 (1): nx > nz > ny Equation (1): n x > n z > n y

상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율임.
Ny is a refractive index in a direction perpendicular to the nx direction of the birefringent film, nz is a thickness of the birefringent film in the direction perpendicular to the nx direction, nz is a thickness of the birefringent film, Direction.

또한, 본 발명은 상기 제조 방법으로 제조되며, 하기 식 (7) 내지 (9)을 만족하는 광학 필름을 제공한다.Further, the present invention provides an optical film which is produced by the above production method and satisfies the following formulas (7) to (9).

식 (7): 150nm ≤ Rin (b) ≤ 350nm(7): 150 nm? R in (b) ? 350 nm

식 (8): 50nm ≤ Rth (b) ≤ 250nm(8): 50 nm? R th (b) ? 250 nm

식 (9): 0.1 ≤ Nz(b) ≤ 1Equation (9): 0.1? Nz (b) ? 1

상기 식 (7) 내지 (9)에 있어서, Rin (b)는 파장 550nm에서 측정한 광학 필름의 면 방향 위상차값이고, Rth (b)는 파장 550nm에서 측정한 광학 필름의 두께 방향 위상차값이며, Nz(b)는 광학 필름의 파장 550nm에서 측정한 면 방향 위상차값에 대한 두께 방향 위상차값의 비(Rth/Rin)임.
In the above formulas (7) to (9), R in (b) is a retardation value of the optical film measured at a wavelength of 550 nm, R th (b) and, Nz (b) being the ratio (R th / R in) of the thickness retardation value on a plane direction retardation value measured at a wavelength of 550nm of the optical film.

이때, 상기 광학 필름은 폭이 1300mm 내지 3500mm이고, 두께가 10㎛ 내지 40㎛인 것이 바람직하다.
At this time, the optical film preferably has a width of 1300 mm to 3500 mm and a thickness of 10 μm to 40 μm.

한편, 본 발명은 상기 광학 필름을 제공하는 편광판 및 액정표시장치 역시 제공한다.
The present invention also provides a polarizing plate and a liquid crystal display providing the optical film.

본 발명의 제조 방법으로 제조되는 광학 필름은 한 장의 필름으로도 효과적으로 nx > nz > ny 굴절률 분포를 가지는 위상차 특성을 구현할 수 있으며, 박형으로 제조가 가능하고, 그 제조 역시 용이하며, 기존의 두 층 이상의 적층 필름보다 색상 및 시감의 변화가 적다.
The optical film produced by the production method of the present invention can realize a retardation property effectively having a refractive index distribution of n x > n z > n y even in a single film, and can be manufactured in a thin shape, The color and the change of the sensation are less than those of the laminated film of two or more layers.

특히, 본 발명의 제조 방법은 열 수축 전에 복굴절성 필름을 폭 방향(TD)으로 사전에 일축 연신 한 후, 연신 처리된 복굴절성 필름을 수축성 필름을 이용하여 폭 방향(TD)으로 수축하는 것인바, 제조되는 광학 필름이 충분히 넓은 폭과 얇은 두께를 가질 수 있으며, 따라서 생산성이 높고, 양산 가능성이 높다는 장점이 있다.
In particular, in the manufacturing method of the present invention, the birefringent film is uniaxially stretched in the width direction (TD) before heat shrinkage, and the stretched birefringent film is shrunk in the width direction (TD) by using the shrinkable film , The optical film to be produced can have a sufficiently wide width and a thin thickness, and therefore, it has a high productivity and a high possibility of mass production.

도 1은 본 발명에 따라 제조되는 적층체의 열 수축 결과를 예시적으로 보여주는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view showing an exemplary result of heat shrinkage of a laminate manufactured according to the present invention. FIG.

먼저 본 명세서에 사용되는 용어를 정의한다.
First, terms used in this specification are defined.

(1) nx는 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절율이며, ny는 면 방향에 있어서 지상축에 수직인 방향인 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절율이며, nz는 두께 방향의 굴절율을 의미한다. 상기 nx, ny, nz는 550nm 파장의 광에서 측정한다. 한편, 상기 nx , ny , nz은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, 프리즘 커플러 장비(SAIRON TECHNOLOGY社 SPA-3DR) 등을 이용하여 측정이 가능하다.
(1) where n x is the refractive index in the direction in which the refractive index in the plane direction is the maximum (that is, the slow axis direction), and n y is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane direction , and n z means the refractive index in the thickness direction. The n x , n y , and n z are measured in light having a wavelength of 550 nm. Meanwhile, n x , n y , and n z can be measured by a well-known method well known in the art. For example, measurement can be performed using prism coupler equipment (SPA-3DR manufactured by SAIRON TECHNOLOGY) Do.

(2) Rin은 550nm 파장의 광에서의 면 방향 위상차값을 의미하는 것으로, 면 방향 위상차값 Rin=(nx-ny)×d 에 의해 구해진다. 이때, 상기 nx 및 ny는 상기한 바와 동일하며, d는 필름의 두께를 의미한다. 한편, Rin (a)는 복굴절성 필름의 면 방향 위상차값을 의미하며, Rin (b)는 광학 필름의 면 방향 위상차값을 의미한다. 한편, 상기 Rin은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Axomatrics社의 Axoscan 장비를 이용하여 측정할 수 있다.
(2) R in means a retardation value in the plane direction in the light having a wavelength of 550 nm, and is obtained by the retardation value R in = (n x -n y ) x d. Here, n x and n y are the same as described above, and d represents the thickness of the film. On the other hand, R in (a) means the retardation value in the plane direction of the birefringent film, and R in (b) means the retardation value in the plane direction of the optical film. On the other hand, in the R it can be measured by a known method known in the art and, for example, can be measured using the equipment of Axoscan Axomatrics社.

(3) Rth은 550nm 파장의 광에서의 두께 방향 위상차값을 의미하는 것으로, 두께 방향 위상차값 Rth=(nz-ny)×d 에 의해 구해진다. 이때, 상기 ny 및 nz는 상기한 바와 동일하며, d는 필름의 두께를 의미한다. 한편, Rth (a)는 복굴절성 필름의 두께 방향 위상차값을 의미하며, Rth (b)는 광학 필름의 두께 방향 위상차값을 의미한다. 한편, 상기 Rth은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Axomatrics社의 Axoscan 장비를 이용하여 측정할 수 있다.
(3) R th means the retardation value in the thickness direction in the light having the wavelength of 550 nm, and is obtained by the thickness direction retardation value R th = (n z -n y ) x d. Here, n y and n z are the same as described above, and d represents the thickness of the film. On the other hand, R th (a) means the thickness direction retardation value of the birefringent film, and R th (b) means the thickness direction retardation value of the optical film. On the other hand, the R th can be determined by well-known methods known in the art and, for example, can be measured using the equipment of Axoscan Axomatrics社.

(4) 복굴절성 필름이란 연신에 의하여 특정 방향으로 굴절율이 발현되는 필름을 의미하며, 이때 연신 방향으로 최대 굴절율이 발현되는 것을 구체적으로 정의 복굴절성 필름이라 하고, 연신 방향에 수직한 방향으로 최대 굴절율이 발현되는 필름을 구체적으로 부의 복굴절성 필름이라 한다.
(4) A birefringent film refers to a film that exhibits a refractive index in a specific direction by stretching. At this time, when the maximum refractive index is expressed in the stretching direction, the birefringent film is specifically defined as a film having a maximum refractive index Is specifically referred to as a negative birefringent film.

(5) 수축성 필름이란 상기 복굴절성 필름보다 큰 열 수축성을 갖는 필름을 의미하며, 구체적으로는 동일한 열 수축 조건에서 단일 필름 상태로 측정한 폭 수축률이 상기 복굴절성 필름보다 약 10% 이상 큰 필름을 의미한다. 한편, 상기 폭 수축률은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하다. 예를 들면, 필름에 1cm 간격으로 점을 찍은 후, Zwick社의 UTM(Universe Testing Machine) 장비를 이용하여 필름을 수축시키고, 수축시킨 후의 점의 거리를 재는 방법으로 측정할 수 있다.
(5) A shrinkable film means a film having greater heat shrinkage than the above-mentioned birefringent film. More specifically, the shrinkable film has a width shrinkage of about 10% or more as measured in a single film state under the same heat shrinkage condition it means. On the other hand, the width shrinkage ratio can be measured by a well-known method well known in the art. For example, the film may be spotted at 1 cm intervals, then shrink the film using Zwick Universe Testing Machine (UTM) equipment and measure the distance of the point after shrinkage.

(6) 본 명세서에 있어서 점착제란 다음과 같은 성질을 가지는 것을 의미한다.(6) In the present specification, the pressure-sensitive adhesive means the following properties.

- 고점도 저탄성률의 반고체상의 물질이다.- It is a semi-solid substance with high viscosity and low elasticity.

- 압력을 가함으로써 피착제와 결합한다.- Combine with the adherend by applying pressure.

- 결합 과정에서 상태가 변하지 않는다.- The state does not change during the coupling process.

- 광의의 접착제의 일종이며, 피착제 사이에 개재한 후 압력에 의하여 접착력을 발현하기 때문에, 감압형 접착제(PSA)라고도 불린다.
- It is a type of wide adhesive, which is called a pressure-sensitive adhesive (PSA) because it exhibits an adhesive force after being interposed between adherends.

(7) 본 명세서에 있어서 활성 에너지선 경화형 수지층이란 상술한 점착제와는 구별되는 개념으로 다음과 같은 성질을 가지는 것을 의미한다.(7) In this specification, the active energy ray-curable resin layer means that the following properties are distinguished from the above-mentioned pressure-sensitive adhesives.

- 조성물 상태에서는 유동성이 있는 저점도의 액체 상태이며, 피착체에 도포되었을 때, 피착제에 충분히 젖는 것에 의하여 접착 면적을 크게하고, 활성 에너지선 조사에 의하여 경화함으로써 피착제와 결합한다.- When the composition is in a liquid state and has a low viscosity with fluidity, when it is applied to an adherend, the adhesion area is increased by wetting the adherend and cured by irradiation of active energy ray to bond with the adherend.

- 활성 에너지선 조사량의 증가에 의하여 점착 상태를 거쳐 경화에 이른다.- Increase in active energy radiation dose leads to cure through adhesive state.

- 결합 과정에서 상태가 액체상에서 고체상으로 비가역적으로 변한다.
- In the bonding process, the state irreversibly changes from a liquid phase to a solid phase.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. Further, the embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. The shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for clarity.

1. 광학 필름 제조 방법1. Optical film manufacturing method

본 발명의 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여 연구를 거듭한 결과, 복굴절성 필름을 사전에 폭 방향(TD)로 일축 연신 한 후 수축성 필름과 부착하여 적층체를 형성하고, 이들을 동시에 고온 연신하여 열 수축하는 경우, 제조되는 광학 필름이 충분히 넓은 폭과 얇은 두께를 가질 수 있으며, 생산성이 높고, 양산 가능성이 높다는 것을 알아내고 본 발명을 완성하였다.
The inventors of the present invention have conducted extensive research to solve the above problems. As a result, they have found that a birefringent film is uniaxially stretched in the transverse direction (TD) in advance and adhered to a shrinkable film to form a laminate, It has been found out that the optical film to be produced can have a sufficiently wide width and a thin thickness when shrinking, and that the productivity is high and the mass production possibility is high, and the present invention has been completed.

보다 구체적으로, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 미연신 복굴절성 필름을 폭 방향(TD)으로 일축 연신하는 단계; 상기 연신 처리한 복굴절성 필름을 수축성 필름과 부착하여 적층체를 형성하는 단계; 및 상기 연신 처리한 복굴절성 필름이 하기 식 (1)을 만족하도록 적층체를 폭 방향(TD)으로 열 수축하는 단계를 포함한다.More specifically, the method for producing an optical film of the present invention comprises: uniaxially stretching an unstretched birefringent film in a transverse direction (TD); Attaching the stretched birefringent film to a shrinkable film to form a laminate; And heat-shrinking the laminate in the transverse direction (TD) so that the stretched birefringent film satisfies the following formula (1).

식 (1): nx > nz > ny Equation (1): n x > n z > n y

상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율임.
Ny is a refractive index in a direction perpendicular to the nx direction of the birefringent film, nz is a thickness of the birefringent film in the direction perpendicular to the nx direction, nz is a thickness of the birefringent film, Direction.

가. end. 미연신Unfinished 복굴절성Birefringence 필름  film 연신Stretching 단계 step

먼저, 본 발명에 이용되는 미연신 복굴절성 필름은, 최종적으로 제조되는 광학 필름의 전구체 필름으로써, 당해 기술분야에 일반적으로 사용되는 정의 복굴절성 필름 또는 부의 복굴절성 필름이 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 정의 복굴절성 필름으로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리아마이드, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리프로필렌, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리아미드이미드, 폴리비닐알코올, 폴리비닐클로라이드, 폴리페닐렌에테르, 폴리아릴레이트, 폴리아릴에테르케톤, 폴리에테르케톤, 폴리에스테르이미드, 폴리푸마르산에스테르, 폴리에테르설폰, 폴리올레핀 등을 포함하는 것이 사용될 수 있다. 또한, 상기 부의 복굴절성 필름으로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스타이렌 등을 포함하는 것이 사용될 수 있다.
First, the unoriented birefringent film used in the present invention may be a positive birefringent film or a negative birefringent film which is generally used in the art as a precursor film of an optical film finally produced, without any particular limitation. For example, the above-mentioned birefringent film includes, but is not limited to, polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, polycarbonate, polyester, polyurethane, polypropylene, triacetylcellulose, polyamideimide, polyvinyl Those containing an alcohol, polyvinyl chloride, polyphenylene ether, polyarylate, polyaryl ether ketone, polyether ketone, polyester imide, polyfumaric acid ester, polyethersulfone, polyolefin and the like can be used. The negative birefringent film may include, but is not limited to, polymethyl methacrylate, polystyrene, and the like.

한편, 상기 미연신 복굴절성 필름은 정의 복굴절성 필름인 것이 보다 바람직하다. 정의 복굴절성 필름은 연신 방향으로 최대 굴절율이 발현이 되는바, 고온 연신 과정에서 수축성 필름을 이용하여 연신 방향에 수직한 방향으로 강제적으로 열 수축을 시키는 경우, nx > nz > ny를 보다 용이하게 구현할 수 있다는 장점이 있다. 이때, 상기 정의 복굴절성 필름은, 그 중에서도 특히 주쇄에 벤젠 고리 또는 지환족 고리를 포함하는, 폴리카보네이트, 폴리아미이드, 폴리이미드 또는 폴리아미드이미드를 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우 위상차 발현성이 우수하기 때문에 얇은 필름 두께에서도 높은 위상차값을 효과적으로 구현할 수 있는 장점이 있다.
On the other hand, the unoriented birefringent film is more preferably a positive birefringent film. Definition The birefringent film exhibits the maximum refractive index in the stretching direction. When the film is forced to shrink in a direction perpendicular to the stretching direction by using a shrinkable film in the high-temperature stretching process, n x > n z > n y There is an advantage that it can be easily implemented. The positive birefringent film preferably comprises a polycarbonate, a polyamide, a polyimide, or a polyamideimide including a benzene ring or an alicyclic ring in the main chain. In this case, since the retardation manifestation is excellent, it is possible to effectively realize a high retardation value even in a thin film thickness.

한편, 상기 미연신 복굴절성 필름은 두께가 10㎛ 내지 100㎛ 인 것이 바람직하며, 예를 들면, 10㎛ 내지 80㎛ 또는 10㎛ 내지 75㎛ 정도일 수 있다. 이와 같은 두께 범위를 가지는 경우, 연신에 의하여 박형화가 가능하며, 또한 본 발명이 추가하는 위상차값의 범위를 효과적으로 구현할 수 있다.
On the other hand, the thickness of the unoriented birefringent film is preferably 10 탆 to 100 탆, for example, 10 탆 to 80 탆 or 10 탆 to 75 탆. In the case of having such a thickness range, thinning can be achieved by stretching, and the range of the retardation value added by the present invention can be implemented effectively.

한편, 상기 미연신 복굴절성 필름은 290nm 이상의 파장에서의 광 투과도가 80% 이상인 것이 바람직하며, 예를 들면, 290nm 내지 800nm의 파장 또는 290nm 내지 500nm의 파장에서의 광 투과도가 80% 내지 95% 정도 또는 80% 내지 90% 정도일 수 있다. 본 발명의 경우 후술하는 바와 같이 복굴절성 필름과 수축성 필름을 활성 에너지선 경화형 수지층을 매개로 부착하는 것이 바람직하며, 이때 활성 에너지선 경화형 수지층 중 양이온 경화형 수지층의 경우 일반적으로 295nm 파장의 광을 주로 사용하는 광 개시제를 사용하는바, 그 근방에서의 광 투과도가 80% 미만인 복굴절성 필름을 사용하는 경우에는 자외선의 통과가 어려워 수지층의 경화가 어려울 수 있다. 한편, 상기 광 투과도는 공징의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면 Hitachi사의 U-3310 spectrometer 를 이용하여 측정할 수 있다.
On the other hand, the unoriented birefringent film preferably has a light transmittance at a wavelength of 290 nm or more of 80% or more, for example, a light transmittance at a wavelength of 290 to 800 nm or a wavelength of 290 to 500 nm of 80% to 95% Or 80% to 90%. In the case of the present invention, it is preferable to adhere the birefringent film and the shrinkable film via an active energy ray-curable resin layer. In the case of the cationically curable resin layer of the active energy ray curable resin layer, When a birefringent film having a light transmittance of 80% or less in the vicinity thereof is used, it is difficult to pass ultraviolet rays, so that hardening of the resin layer may be difficult. On the other hand, the light transmittance can be measured by a publicly known method, for example, using a U-3310 spectrometer manufactured by Hitachi.

한편, 상기 미연신 복굴절성 필름의 유리전이온도는 후술할 수축성 필름의 유리전이온도 보다 20℃ 이상 큰 것이 바람직하며, 예를 들면, 20℃ 내지 100℃ 또는 30℃ 내지 80℃ 정도 차이가 날 수 있다. 이와 같이 유리전이온도가 차이가 나는 경우, 고온 연신 과정에서 상대적으로 수축성 필름은 강하게 수축하게 되고, 복굴절성 필름은 비교적 고분자의 상태가 단단하여 그 자체로는 수축이 강하게 일어나지 않게 된다. 이때, 강하게 수축되는 수축성 필름에 의하여 복굴절성 필름이 강제로 더욱 수축하게 되며, 그 결과 고분자가 강하게 배향되므로 높은 위상차를 발현할 수 있다. 유리전이온도의 측정 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 유리전이온도는 시차주사형 열량계(DSC)에 의해 측정될 수 있다. 예컨대, 시차주사형 열량계(DSC)를 이용하는 경우, 약 10mg의 시료를 전용 팬(pan)에 밀봉하고 일정 승온 조건으로 가열할 때 상변이가 일어남에 따른 물질의 흡열 및 발열량을 온도에 따라 그려 유리전이온도를 측정할 수 있다.
On the other hand, the glass transition temperature of the unoriented birefringent film is preferably 20 ° C or more, more preferably 20 ° C to 100 ° C or 30 ° C to 80 ° C, more preferably 20 ° C or more higher than the glass transition temperature of the shrinkable film have. When the glass transition temperature is different, the shrinkable film is strongly shrunk in the high temperature stretching process, and the birefringent film is relatively hard in the state of the polymer, so that the shrinkage is not strong in itself. At this time, the birefringent film is further shrunk by forcibly shrinking due to the strong shrinkable film, and as a result, the polymer is strongly oriented, so that a high retardation can be exhibited. The method of measuring the glass transition temperature is not particularly limited, and for example, the glass transition temperature can be measured by a differential scanning calorimeter (DSC). For example, in the case of using a differential scanning calorimeter (DSC), when a sample of about 10 mg is sealed in a dedicated pan and heated at a constant temperature, the amount of endothermic heat The transition temperature can be measured.

다음으로, 상기와 같은 미연신 복굴절성 필름이 준비가 되면, 상기 복굴절성 필름을 폭 방향(TD)으로 일축 연신한다. 이 경우 복굴절성 필름이 열 수축 후에도 충분히 넓은 폭과 얇은 두께를 가질 수 있으며, 그 결과 광학 필름의 생산성 및 양산 가능성이 높다는 장점이 있다.
Next, when the unoriented birefringent film as described above is prepared, the birefringent film is uniaxially stretched in the transverse direction (TD). In this case, the birefringent film can have a sufficiently wide width and a thin thickness even after heat shrinkage, and as a result, there is an advantage that productivity and mass production possibility of the optical film are high.

이때, 상기 연신은 연신 후 복굴절성 필름의 폭이 1400mm 내지 6000mm가 되도록 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, 연신 후 복굴절성 필름의 폭이 1500mm 내지 6000mm 또는 1550mm 내지 4000mm 정도가 되도록 수행되는 것이 바람직하다. 연신 후 복굴절성 필름의 폭이 상기 범위를 만족하는 경우, 열 수축 후 얇은 두께에서도 충분한 폭을 가질 수 있는바, 상기한 바와 같은 우수한 생산성 및 양산 가능성을 가질 수 있다.
In this case, the stretching is preferably performed so that the width of the birefringent film after stretching is 1400 mm to 6000 mm. For example, it is preferable that the width of the birefringent film after stretching is 1500 to 6000 mm or 1550 to 4000 mm Do. When the width of the birefringent film after stretching satisfies the above range, it can have a sufficient width at a thin thickness after the heat shrinkage, so that it can have excellent productivity and mass productivity as described above.

또한, 상기 연신은 연신 후 복굴절성 필름의 두께가 5㎛ 내지 40㎛이 되도록 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, 연신 후 복굴절성 필름의 두께가 10㎛ 내지 30㎛ 또는 18㎛ 내지 25㎛ 정도가 되도록 수행 되는 것이 바람직하다. 연신 후 복굴절성 필름의 두께가 상기 범위를 만족하는 경우, 파단 발생 등의 문제 없이 박형의 광학 필름의 제조가 가능하며, 나아가 원하는 위상차값을 구현하기에 용이하다.
It is preferable that the stretching is performed so that the thickness of the birefringent film after stretching becomes 5 占 퐉 to 40 占 퐉. For example, the thickness of the birefringent film after stretching is 10 占 퐉 to 30 占 퐉 or 18 占 퐉 to 25 占 퐉 . ≪ / RTI > When the thickness of the birefringent film after stretching satisfies the above range, it is possible to produce a thin optical film without problems such as breakage, and it is easy to realize a desired retardation value.

또한, 상기 연신은 연신 후 복굴절성 필름이 하기 식 (2)를 만족하도록 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, 연신 후 복굴절성 필름의 면 방향 위상차값이 0nm 내지 50nm 또는 0nm 내지 30nm 정도가 되도록 수행되는 것일 수 있다. 이와 같이 연신 후 복굴절성 필름의 면 방향 위상차가 제로 위상차에 가까울수록, 후술할 열 수축 단계 후에 복굴절성 필름이 IPS 모드 등에 적용하기에 적절한 위상차 특성을 구현하기가 용이하다.The stretching is preferably performed so that the birefringent film after stretching satisfies the following formula (2). For example, after the stretching, the birefringent film may have a retardation value of 0 to 50 nm or 0 to 30 nm It can be done. As the retardation in the plane direction of the birefringent film after stretching becomes closer to zero phase difference, it is easy for the birefringent film to realize a retardation characteristic suitable for application to the IPS mode or the like after the heat shrinking step to be described later.

식 (2): 0nm ≤ Rin (a) ≤ 100nm(2): 0 nm? R in (a) ? 100 nm

상기 식 (2)에 있어서, Rin (a)는 파장 550nm에서 측정한 복굴절성 필름의 면 방향 위상차값임.
In the above formula (2), R in (a) is the retardation value of the birefringent film measured at a wavelength of 550 nm.

또한, 상기 연신은 연신 후 복굴절성 필름이 하기 식 (3)을 만족하도록 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, 연신 후 복굴절성 필름의 두께 방향 위상차값이 -50nm 내지 50nm 또는 -35nm 내지 35nm 정도가 되도록 수행되는 것일 수 있다. 마찬가지로, 연신 후 복굴절성 필름의 두께 방향 위상차가 제로 위상차에 가까울수록, 후술할 열 수축 단계 후에 복굴절성 필름이 IPS 모드 등에 적용하기에 적절한 위상차 특성을 구현하기가 용이하다.The stretching is preferably performed so that the birefringent film after stretching satisfies the following formula (3). For example, after the stretching, the retardation value in the thickness direction of the birefringent film is in the range of -50 nm to 50 nm or -35 nm to 35 nm . ≪ / RTI > Similarly, as the retardation in the thickness direction of the birefringent film after stretching approaches zero phase difference, it is easy for the birefringent film to realize a retardation characteristic suitable for application to the IPS mode or the like, after the heat shrinking step to be described later.

식 (3): -100nm ≤ Rth (a) ≤ 100nmFormula (3): -100 nm? R th (a) ? 100 nm

상기 식 (3)에 있어서, Rth (a)는 파장 550nm에서 측정한 복굴절성 필름의 두께 방향 위상차값임.
In the above formula (3), R th (a) is the thickness direction retardation value of the birefringent film measured at a wavelength of 550 nm.

한편, 상기 연신은 복굴절성 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg) 내지 (Tg + 50℃)의 온도에서 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, (Tg + 10℃) 내지 (Tg + 30℃)의 온도 또는 (Tg + 20℃) 내지 (Tg + 30℃)의 온도에서 수행될 수 있다. 연신 온도가 이와 같은 범위를 만족해야지만 연신 후 복굴절성 필름이 상기한 바와 같은 폭, 두께, 위상차값을 가지기에 용이하다.
When the glass transition temperature of the birefringent film is Tg, the stretching is preferably performed at a temperature of (Tg) to (Tg + 50 deg. C), for example, (Tg + 10 deg. + 30 ° C) or at a temperature of (Tg + 20 ° C) to (Tg + 30 ° C). If the stretching temperature is within such a range, it is easy for the birefringent film after stretching to have the width, thickness, and retardation value as described above.

또한, 상기 연신은 1.5배 내지 6.0배의 연신 배율로 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, 1.5배 내지 3.5배 또는 2.0배 내지 3.0배의 연신 배율로 수행될 수 있다. 연신 배율이 이와 같은 범위를 만족해야지만 마찬가지로 연신 후 복굴절성 필름이 상기한 바와 같은 폭, 두께, 위상차값을 가지기에 용이하다.
In addition, the stretching is preferably performed at a stretching magnification of 1.5 to 6.0 times, for example, at a stretching magnification of 1.5 to 3.5 times or 2.0 to 3.0 times. When the stretching magnification satisfies the above range, it is also easy for the birefringent film after stretching to have the width, thickness, and retardation value as described above.

한편, 연신 방법은 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술분야에서 널리 알려진 연신 방법으로 수행될 수 있다. 예컨대, 상기 폭 방향(TD)으로의 연신은 텐터를 이용할 수 있다.
On the other hand, the stretching method is not particularly limited and may be carried out by a stretching method well known in the art. For example, a tenter may be used for drawing in the width direction (TD).

나. I. 적층체The laminate 형성 단계 Forming step

먼저, 상기 연신 처리한 복굴절성 필름과 부착되는 수축성 필름은, 복굴절성 필름이 nx > nz > ny의 관계를 충족할 수 있도록 복굴절성 필름을 폭 방향(TD)으로 강제로 수축시키기 위한 필름으로, 본 발명에서 사용 가능한 수축성 필름은 복굴절성 필름보다 큰 열 수축성을 갖는 것이면 공지의 수지 필름을 특별한 제한 없이 사용이 가능하다. 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리아마이드, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리프로필렌, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리스타이렌, 폴리아미드이미드, 폴리비닐알코올, 폴리비닐클로라이드, 폴리페닐렌에테르 등의 고분자 물질을 포함하는 것을 사용할 수 있으며, 다만, 상기한 바와 같이 동일한 열 수축 조건에서 단일 필름 상태로 측정한 폭 수축률이 상기 복굴절성 필름보다 적어도 대략 10 % 이상은 커야 한다.
First, the stretched film and the shrinkable film adhered to the birefringent film are stretched so as to forcibly shrink the birefringent film in the width direction (TD) so that the birefringent film can satisfy the relationship of n x > n z > n y As the film, if the shrinkable film usable in the present invention has greater heat shrinkability than the birefringent film, a known resin film can be used without any particular limitation. For example, but not limited to, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, polycarbonate, polyester, polyurethane, polypropylene, triacetylcellulose, polystyrene, polyamideimide, polyvinyl Alcohol, polyvinyl chloride, polyphenylene ether, and the like can be used. However, as described above, the width shrinkage measured in a single film state under the same heat shrinkage condition is at least about 10 % Should be larger.

한편, 상기 수축성 필름은, 이에 한정되는 것은 아니나, 그 중에서도 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 것이 바람직하다. 폴리에틸렌테레프탈레이트의 경우 가격 경쟁력이 우수할 뿐만 아니라, 유리전이온도가 낮아 고온 연신 과정에서 열 수축성이 우수하기 때문이다.
On the other hand, the shrinkable film is preferably, but not particularly limited to, polyethylene terephthalate. Polyethylene terephthalate is not only excellent in price competitiveness but also has excellent heat shrinkability during high temperature stretching due to its low glass transition temperature.

한편, 상기 수축성 필름은 일축 연신 또는 이축 연신 처리된 필름일 수 있으며, 예를 들면, 폭 방향(TD)으로 일축 연신 또는 길이 방향(MD) 및 폭 방항(TD)으로 이축 연신 처리된 필름일 수 있다. 이때, 본 발명은 시판되는 수축성 필름으로써 일축 또는 이축 연신 처리된 필름을 사용할 수 있으며, 또는 시판되는 수축 특성을 가지는 미연신 고분자 필름을 일축 또는 이축 연신 처리하여 사용할 수도 있다.
On the other hand, the shrinkable film may be a uniaxially or biaxially stretched film. For example, the shrinkable film may be uniaxially stretched in the width direction (TD), or biaxially stretched in the longitudinal direction (MD) and the width direction have. At this time, the present invention can be used as a commercially available shrinkable film, which is uniaxially or biaxially stretched, or can be used by uniaxially or biaxially stretching a commercially available shrinkable unoriented polymer film.

다음으로, 상기 연신 처리한 복굴절성 필름과 수축성 필름의 부착 형태는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 연신 처리한 복굴절성 필름의 편면 또는 양면에 수축성 필름을 부착하는 것이거나, 또는 수축성 필름의 양면에 연신 처리한 복굴절성 필름을 부착하는 것일 수 있다.
Next, the form of attachment of the stretched birefringent film and the shrinkable film is not particularly limited. For example, the birefringent film may be attached to one side or both sides of the stretched birefringent film, or both sides of the shrinkable film To which a stretched birefringent film is adhered.

다만, 그 중에서도 연신 처리한 복굴절성 필름 양면에 수축성 필름을 부착하거나, 또는 수축성 필름의 양면에 연신 처리한 복굴절성 필름을 부착하는 방법으로 적층체를 형성하는 것이 보다 바람직하다. 이 경우 열 수축 과정에서 발생할 수 있는 복굴절성 필름의 말림 현상, 주름 발생 현상 등을 방지할 수 있으며, 적절한 수축력 부여가 가능하므로 원하는 위상차를 용이하게 구현할 수 있다. 한편, 수축성 필름의 양면에 연신 처리한 복굴절성 필름을 부착하는 방법으로 적층체를 형성하는 경우, 나아가 한 번의 공정으로 두 장의 광학 필름을 제조할 수 있는바, 생산성이 매우 우수하다는 장점 역시 가질 수 있다.
Among them, it is more preferable to form a laminate by attaching a shrinkable film to both surfaces of a stretched birefringent film, or by attaching a stretched birefringent film to both surfaces of a shrinkable film. In this case, it is possible to prevent curling and wrinkling of the birefringent film that may occur during the heat shrinkage process, and to provide appropriate shrinkage force, so that a desired retardation can be easily realized. On the other hand, in the case of forming a laminate by a method of attaching a stretched birefringent film to both sides of a shrinkable film, two optical films can be manufactured by one step, and the advantage of being very excellent in productivity can also be obtained have.

다음으로, 상기 적층체 형성을 위한 부착 수단으로는 공지의 점착제, 접착제 등의 이용이 가능하나, 그 중에서도 특히 활성 에너지선 경화형 수지층을 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 발명자들의 연구에 의하면, 점착제, 예를 들면 아크릴계 점착제를 이용하는 경우에는 점착제에 의한 점착 잔류물이 발생하여 생산성이 저하될 뿐만 아니라, 점착제에 의해 접착된 두 층의 필름이 고온 연신 과정에서 박리되기 쉬워 복굴절성 필름이 충분히 수축되지 못하는 문제점이 있었다. 또한 접착제 중에서도 수계 접착제, 예를 들면 폴리비닐알코올계 수계 접착제를 사용하는 경우에는 수분에 의하여 박리 후 필름에 기포가 발생하는 문제가 있었다. 그러나, 이와 달리 활성 에너지선 경화형 수지층을 이용하는 경우, 상기와 같은 문제가 발생하지 않았다.
Next, a known pressure-sensitive adhesive, an adhesive, or the like can be used as the attachment means for forming the laminate, and it is particularly preferable to use an active energy radiation curable resin layer. According to the study of the inventors of the present invention, when a pressure-sensitive adhesive such as an acrylic pressure-sensitive adhesive is used, adhesive residue by a pressure-sensitive adhesive is generated and not only the productivity is lowered but also the two layers of the film adhered by the pressure- There is a problem that the birefringent film can not be sufficiently shrunk. Further, in the case of using an aqueous adhesive, for example, a polyvinyl alcohol-based water-based adhesive, among the adhesives, bubbles are generated in the film after peeling off by moisture. In contrast, when the active energy ray-curable resin layer is used, the above-mentioned problems do not occur.

한편, 본 발명에 사용 가능한 활성 에너지선 경화형 수지층은 특별히 한정되지 않으며, 선택하는 복굴절성 필름 및 수축성 필름에 대하여 상기한 바와 같은 특징을 가질 수 있는 다양한 활성 에너지선 경화형 조성물을 선택하여 이를 경화함으로써 사용할 수 있다. 즉, 후술할 열 수축 단계에서도 충분한 접착력을 가짐으로써, 후술할 식 (1)뿐만 아니라, 바람직하게는 후술할 식 (2) 역시 만족하며, 더욱 바람직하게는 식 (3) 및 (4) 역시 만족할 수 있는 활성 에너지선 경화형 조성물을 선택하여 이를 경화함으로써 사용한다.
On the other hand, the active energy ray-curable resin layer usable in the present invention is not particularly limited, and various active energy ray-curable compositions having the above-described characteristics can be selected for the birefringent film and the shrinkable film to be selected and cured Can be used. That is, not only the formula (1) to be described later but also the formula (2) to be described later are also satisfied, more preferably the formulas (3) and (4) are also satisfactory By selecting an active energy ray curable composition and curing it.

당해 기술 분야에서 일반적으로 사용되는 활성 에너지선 경화형 조성물로는, 예를 들면, (메타)아크릴레이트계 라디칼 경화형 조성물, 엔/티올계 라디칼 경화형 조성물, 불포화 폴리에스테르계 라디칼 경화형 조성물 등의 광 라디칼 중합반응을 이용하는 조성물이나, 에폭시계 양이온 경화형 조성물, 옥세탄계 양이온 경화형 조성물, 에폭시/옥세탄계 양이온 경화형 조성물, 비닐에테르계 양이온 경화형 조성물 등의 광 양이온 중합반응을 이용하는 조성물 등을 들 수 있다.
Examples of the active energy ray curable composition generally used in this technical field include photo radical polymerization such as a (meth) acrylate radical curable composition, an en / thiol radical curable composition, and an unsaturated polyester radical curable composition , A composition using a cationic photopolymerization reaction such as an epoxy-based cationic curable composition, an oxetane-based cationic curable composition, an epoxy / oxetane-based cationic curable composition, and a vinyl ether-based cationic curable composition.

보다 구체적으로 예를 들면, 상기 광 라디칼 중합반응을 이용하는 조성물로는 이에 한정되는 것은 아니나, 하기 [화학식 1]로 표시되는 제1화합물, 적어도 하나 이상의 카르복시기를 포함하는 제2화합물, 및 라디칼 개시제를 포함하는 라디칼 경화형 조성물을 들 수 있다.More specifically, for example, the composition using the photo radical polymerization reaction is not limited thereto, but it is possible to use a first compound represented by the following formula (1), a second compound comprising at least one carboxyl group, and a radical initiator Based on the total weight of the composition.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112014069784823-pat00001
Figure 112014069784823-pat00001

상기 [화학식 1]에서, R1은 에스테르기 또는 에테르기고; R2는 C1 ~10 알킬기, C4~10 시클로알킬기, 또는 이들의 조합이고, 이때 R2는 분자 내에 적어도 하나 이상의 히드록시 치환기를 가지며; R3는 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 ~10 알킬기이다. 한편, 상기 히드록시기는 알킬기 또는 시클로알킬기 내의 임의의 위치에 치환될 수 있다. 예를 들면, 상기 히드록시기는 알킬기의 말단에 올 수도 있고, 알킬기의 중간에 올 수도 있다. 한편, 상기 알킬기 또는 시클로알킬기에 포함되어 있는 나머지 수소 원자는 임의의 치환기로 치환될 수 있다.
In the above formula (1), R 1 represents an ester group or an ether group; R 2 is C 1 ~ 10 alkyl group, a C 4-10 cycloalkyl group, or a combination thereof, wherein R 2 has at least one hydroxy substituent in the molecule; R 3 is hydrogen, or a substituted or unsubstituted C 1 ~ 10 alkyl group; On the other hand, the hydroxy group may be substituted at any position in the alkyl group or the cycloalkyl group. For example, the hydroxy group may be at the terminal of the alkyl group or may be in the middle of the alkyl group. Meanwhile, the remaining hydrogen atoms contained in the alkyl group or the cycloalkyl group may be substituted with any substituent.

이때, 상기 제1화합물은, 접착력을 구현하기 위한 성분으로, [화학식 1]로 표시되는 다양한 화합물들이 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 제1화합물은, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 하기 [화학식 2] 내지 [화학식 11]로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물일 수 있다. At this time, the first compound is a component for realizing an adhesive force, and various compounds represented by Formula 1 may be used. For example, the first compound may be at least one compound selected from compounds represented by the following formulas (2) to (11), though not limited thereto.

[화학식 2](2)

Figure 112014069784823-pat00002

Figure 112014069784823-pat00002

[화학식 3](3)

Figure 112014069784823-pat00003
Figure 112014069784823-pat00003

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure 112014069784823-pat00004

Figure 112014069784823-pat00004

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112014069784823-pat00005

Figure 112014069784823-pat00005

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure 112014069784823-pat00006

Figure 112014069784823-pat00006

[화학식 7](7)

Figure 112014069784823-pat00007

Figure 112014069784823-pat00007

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure 112014069784823-pat00008

Figure 112014069784823-pat00008

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure 112014069784823-pat00009

Figure 112014069784823-pat00009

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure 112014069784823-pat00010
Figure 112014069784823-pat00010

[화학식 11](11)

Figure 112014069784823-pat00011

Figure 112014069784823-pat00011

또한, 상기 제2화합물은 조성물의 내열성 및 점도 특성을 향상시키기 위한 것으로, 적어도 하나 이상의 카르복시기를 포함한다. 보다 구체적으로, 상기 제2화합물은 예를 들면, 하기 [화학식 12] 내지 [화학식 26]로 표시되는 화합물들로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.In addition, the second compound is for improving the heat resistance and the viscosity property of the composition, and includes at least one carboxyl group. More specifically, the second compound may be at least one selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (12) to (26).

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure 112014069784823-pat00012

Figure 112014069784823-pat00012

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure 112014069784823-pat00013

Figure 112014069784823-pat00013

[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure 112014069784823-pat00014
Figure 112014069784823-pat00014

(여기서, 상기 R'은

Figure 112014069784823-pat00015
또는
Figure 112014069784823-pat00016
이고, p는 1 내지 5의 정수임)(Wherein R 'is
Figure 112014069784823-pat00015
or
Figure 112014069784823-pat00016
And p is an integer of 1 to 5)

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure 112014069784823-pat00017

Figure 112014069784823-pat00017

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure 112014069784823-pat00018

Figure 112014069784823-pat00018

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure 112014069784823-pat00019

Figure 112014069784823-pat00019

[화학식 18][Chemical Formula 18]

Figure 112014069784823-pat00020

Figure 112014069784823-pat00020

[화학식 19][Chemical Formula 19]

Figure 112014069784823-pat00021

Figure 112014069784823-pat00021

[화학식 20][Chemical Formula 20]

Figure 112014069784823-pat00022

Figure 112014069784823-pat00022

[화학식 21][Chemical Formula 21]

Figure 112014069784823-pat00023

Figure 112014069784823-pat00023

[화학식 22][Chemical Formula 22]

Figure 112014069784823-pat00024

Figure 112014069784823-pat00024

[화학식 23](23)

Figure 112014069784823-pat00025

Figure 112014069784823-pat00025

[화학식 24]≪ EMI ID =

Figure 112014069784823-pat00026

Figure 112014069784823-pat00026

[화학식 25](25)

Figure 112014069784823-pat00027
Figure 112014069784823-pat00027

[화학식 26](26)

Figure 112014069784823-pat00028

Figure 112014069784823-pat00028

또한, 상기 라디칼 경화형 조성물에 포함되는 상기 라디칼 개시제는, 라디칼 중합성을 촉진하여 경화 속도를 향상시키기 위한 것으로, 상기 라디칼 개시제로는 당해 기술 분야에서 일반적으로 사용되는 라디칼 개시제들이 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 포스핀 옥사이드(Phosphine oxide), 페닐 비스 (2,4,6-트리메틸벤조일)(phenyl bis (2,4,6-trimethyl benzoyl) 등이 바람직하게 사용될 수 있다.
In addition, the radical initiator contained in the radical curable composition is used for promoting radical polymerization to improve the curing rate. As the radical initiator, radical initiators generally used in the art can be used without particular limitation . For example, phosphine oxide, phenyl bis (2,4,6-trimethyl benzoyl), and the like can be preferably used, though not limited thereto .

한편, 상기 라디칼 경화형 조성물은, 점도 조절을 위해, 제3화합물로 탄소수 7 내지 20개, 바람직하게는 탄소수 7 내지 15개의 고리 구조를 포함하는 아크릴 모노머를 추가로 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제3화합물은, 예를 들면 이소보닐 (메트)아크릴레이트(Isobornyl (meth)acrylate), 노보닐 (메트)아크릴레이트(Norbornyl (meth)acrylate), 디시클로펜타닐 (메트)아크릴레이트(Dicyclopentanyl (meth)acrylate), 디시클로펜테닐 (메트)아크릴레이트(Dicyclopentenyl (meth)acrylate) 및 1-아다만틸-(메트)아크릴레이트(1-adamantyl-(meth)acrylate)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Meanwhile, the radically curable composition may further contain an acrylic monomer containing a cyclic structure having 7 to 20 carbon atoms, preferably 7 to 15 carbon atoms, as a third compound for viscosity control. More specifically, the third compound is selected from, for example, isobornyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) A group consisting of dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate and 1-adamantyl- (meth) acrylate , But the present invention is not limited thereto.

보다 구체적으로는, 상기 라디칼 경화형 조성물은, 전체 조성물 100 중량부에 대하여, 40 내지 80 중량부의 제1화합물, 15 내지 50 중량부의 제2화합물 및 0.5 내지 10 중량부의 라디칼 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.
More preferably, the radical curable composition comprises 40 to 80 parts by weight of the first compound, 15 to 50 parts by weight of the second compound, and 0.5 to 10 parts by weight of the radical initiator based on 100 parts by weight of the total composition .

또한, 상기 광 양이온 중합반응을 이용하는 조성물에 대하여 보다 구체적으로 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 제1에폭시 화합물, 호모폴리머의 유리전이온도가 60℃ 이하인 제2에폭시 화합물 및 광 양이온 중합 개시제를 포함하는 양이온 경화형 조성물을 들 수 있다. 상기 에폭시 화합물은 분자 내에 1개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물을 의미하는 것으로, 바람직하게는 분자 내에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물이며, 단량체(monomer), 중합체(polymer) 또는 수지(resin)의 형태의 화합물들을 모두 포함하는 개념이다. 바람직하게는 본 발명의 에폭시 화합물은 수지 형태일 수 있다.
More specifically, for example, but not limited to, the composition using the photo cationic polymerization, the first epoxy compound or homopolymer having a glass transition temperature of 120 캜 or higher of the homopolymer may have a glass transition temperature of 60 캜 or lower A second epoxy compound and a photo cationic polymerization initiator. The epoxy compound means a compound having at least one epoxy group in the molecule, preferably a compound having at least two epoxy groups in the molecule, and a compound in the form of a monomer, a polymer or a resin . Preferably, the epoxy compound of the present invention may be in the form of a resin.

이때, 상기 제1에폭시 화합물은, 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 에폭시 화합물이면 특별한 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면, 호모 폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 지환족 에폭시 화합물 및/또는 방향족 에폭시가 본 발명의 제1에폭시 화합물로 사용될 수 있다. 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 에폭시 화합물의 구체적인 예로는, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 비닐사이클로헥센디옥사이드 디시클로펜타디엔디옥사이드, 비스에폭시사이클로펜틸에테르, 비스페놀 A 계 에폭시 화합물, 비스페놀 F 계 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 한편, 상기 제1에폭시 화합물은 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 내지 200℃ 정도인 것이 보다 바람직하다.
The first epoxy compound may be an epoxy compound having a glass transition temperature of not lower than 120 ° C. and may be used without any particular limitation. For example, the first epoxy compound may be an alicyclic epoxy compound having a glass transition temperature of 120 ° C. or higher and / An aromatic epoxy may be used as the first epoxy compound of the present invention. Specific examples of the epoxy compound having a glass transition temperature of 120 ° C or higher of the homopolymer include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide dicyclopentadiene dioxide, bis epoxycyclo Pentyl ether, bisphenol A-based epoxy compounds, and bisphenol F-based epoxy compounds. It is more preferable that the glass transition temperature of the homopolymer of the first epoxy compound is about 120 ° C to 200 ° C.

또한, 상기 제2에폭시 화합물은, 호모폴리머의 유리전이온도가 60℃ 이하인 에폭시 화합물이면 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 제2에폭시 화합물로 지환족 에폭시 화합물, 지방족 에폭시 화합물 등이 사용될 수 있다. 이때, 상기 지환식 에폭시 화합물로는, 2관능형 에폭시 화합물, 즉 2개의 에폭시를 가지는 화합물을 사용하는 것이 바람직하고, 상기 2개의 에폭시기가 모두 지환식 에폭시기인 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 지방족 에폭시 화합물로는, 지환식 에폭시기가 아닌 지방족 에폭시기를 가지는 에폭시 화합물이 예시될 수 있다. 예를 들면, 지방족 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 알코올의 알킬렌옥시드 부가물의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 알코올과 지방족 다가 카복실산의 폴리에스테르 폴리올의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 카복실산의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 알코올과 지방족 다가 카복실산의 폴리에스테르 폴리카복실산의 폴리글리시딜에테르; 글리시딜 아크릴레이트 또는 글리시딜 메타크릴레이트의 비닐 중합에 의해 얻어지는 다이머, 올리고머 또는 폴리머; 또는 글리시딜 아크릴레이트 또는 글리시딜 메타크릴레이트와 다른 비닐계 단량체의 비닐 중합에 의해 얻어지는 올리고머 또는 폴리머가 예시될 수 있고, 바람직하게는 지방족 다가 알코올 또는 그 알킬렌옥시드 부가물의 폴리글리시딜에테르가 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
The second epoxy compound can be used without any particular limitation as long as it is an epoxy compound having a glass transition temperature of 60 占 폚 or less of the homopolymer. For example, the second epoxy compound may be an alicyclic epoxy compound, an aliphatic epoxy compound, or the like. At this time, as the alicyclic epoxy compound, a bifunctional epoxy compound, that is, a compound having two epoxy groups is preferably used, and it is more preferable to use a compound in which the two epoxy groups are alicyclic epoxy groups. But is not limited to. As the aliphatic epoxy compound, an epoxy compound having an aliphatic epoxy group rather than an alicyclic epoxy group can be exemplified. For example, polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols; Polyglycidyl ethers of alkylene oxide adducts of aliphatic polyhydric alcohols; Polyglycidyl ethers of polyester polyols of aliphatic polyhydric alcohols and aliphatic polyvalent carboxylic acids; Polyglycidyl ethers of aliphatic polyvalent carboxylic acids; Polyglycidyl ethers of polyester polycarboxylic acids of aliphatic polyhydric alcohols and aliphatic polyvalent carboxylic acids; Dimers, oligomers or polymers obtained by vinyl polymerization of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate; Or an oligomer or polymer obtained by vinyl polymerization of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate and other vinyl monomers, and preferably an aliphatic polyhydric alcohol or an alkylene oxide adduct thereof polyglycidyl Ethers may be used, but are not limited thereto.

바람직하게는, 본 발명의 상기 제2에폭시 화합물은 글리시딜 에테르기를 하나 이상 포함하는 것일 수 있으며, 예를 들면, 1,4-시클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르, 1,4-부탄디올디글시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸디글시딜에테르, 레조시놀디글리시딜에테르, 디에틸렌글라이콜디글리시딜에테르, 에틸렌글라이콜디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, n-부틸 글리시딜 에테르, 2-에틸헥실 글리시딜 에테르, 페닐 글리시딜 에테르, 및 o-크레실(Cresyl) 글리시딜 에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 본 발명의 제2에폭시 화합물로 사용될 수 있다.
Preferably, the second epoxy compound of the present invention may contain at least one glycidyl ether group, and examples thereof include 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, 1,4-butanediol di Hexyldiol diglycidyl ether, neopentyldiglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, diethylene glycol di glycidyl ether, ethylene glycol di glycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, One selected from the group consisting of trimethylolpropane triglycidyl ether, n-butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, and o-cresyl glycidyl ether. Or more can be used as the second epoxy compound of the present invention.

한편, 상기 제2에폭시 화합물은 호모폴리머의 유리전이온도가 0℃ 내지 60℃ 정도인 것이 보다 바람직하다
On the other hand, the second epoxy compound preferably has a glass transition temperature of the homopolymer of about 0 캜 to 60 캜

한편, 이로써 한정되는 것은 아니나, 상기 에폭시 화합물로 에폭시화 지방족 고리기를 하나 이상 포함하는 제 1 에폭시 화합물 및 글리시딜에테르기를 하나 이상 포함하는 제 2 에폭시 화합물의 조합을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 상기와 같은 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물의 조합을 사용하는 경우, 저점도와 접착력을 만족할 뿐만 아니라, 편광판의 열 충격 물성이 향상되는 것으로 나타났다.
It is particularly preferable to use a combination of a first epoxy compound containing at least one epoxidized aliphatic ring group and a second epoxy compound containing at least one glycidyl ether group as the epoxy compound. When such a combination of the first epoxy compound and the second epoxy compound is used, it has been found that not only the low viscosity and the adhesive strength are satisfied but also the thermal shock property of the polarizing plate is improved.

한편, 상기 제2에폭시 화합물은 제1에폭시 화합물 100 중량부에 대하여, 30 내지 100 중량부의 함량으로 포함되는 것이 바람직하다. 제2에폭시 화합물의 함량이 100 중량부를 초과할 경우, 전체 조성물의 유리전이온도가 낮아져 내열성이 저하되고, 30 중량부 미만인 경우에는 접착력이 저하될 수 있기 때문이다.
Meanwhile, the second epoxy compound is preferably contained in an amount of 30 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the first epoxy compound. When the content of the second epoxy compound is more than 100 parts by weight, the glass transition temperature of the whole composition is lowered to lower the heat resistance. If the content is less than 30 parts by weight, the adhesive strength may be lowered.

보다 바람직하게는, 상기 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물의 중량비가 1:1 내지 3:1정도이며, 보다 바람직하게는, 1:1 내지 2:1의 중량비, 가장 바람직하게는 상기 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물이 1:1의 중량비로 혼합되어 사용될 수 있다. 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물의 중량비율이 상기 범위를 만족할 때, 유리전이온도 및 접착력 면에서 가장 바람직한 물성을 얻을 수 있다.
More preferably, the weight ratio of the first epoxy compound to the second epoxy compound is about 1: 1 to 3: 1, more preferably 1: 1 to 2: 1, An epoxy compound and a second epoxy compound may be mixed and used in a weight ratio of 1: 1. When the weight ratio of the first epoxy compound and the second epoxy compound is in the above range, the most preferable physical properties in terms of the glass transition temperature and the adhesion can be obtained.

한편, 상기 양이온성 광 중합 개시제는 활성 에너지 선의 조사에 의해 양이온(cation) 종이나 루이스산을 만들어내는 화합물로서, 예를 들면 방향족 디아조늄염, 방향족 요오드 알루미늄염이나 방향족 설포늄염과 같은 오늄염, 철-아렌 착제 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 한편, 상기 양이온성 광 중합 개시제의 함량은 제1에폭시 화합물 100 중량부에 대하여, 0.5 내지 20 중량부 정도이며, 바람직하게는 0.5 내지 15 중량부 정도, 더 바람직하게는 0.5 내지 10 중량부 정도이다.
On the other hand, the cationic photopolymerization initiator is a compound which produces a cationic species or Lewis acid by irradiation with an active energy ray. Examples of the cationic photopolymerization initiator include onium salts such as aromatic diazonium salts, aromatic iodine aluminum salts and aromatic sulfonium salts, Iron-arene complex, and the like, but the present invention is not limited thereto. On the other hand, the content of the cationic photopolymerization initiator is about 0.5 to 20 parts by weight, preferably about 0.5 to 15 parts by weight, more preferably about 0.5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the first epoxy compound .

한편, 상기 양이온 경화형 조성물은 필요에 따라, 분자 내에 적어도 1개의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄 화합물 100 내지 400 중량부를 더 포함할 수 있다. 옥세탄 화합물을 사용할 경우, 조성물의 점도를 낮추어 경화 후 수지층의 박막화를 도모 할 수 있다.
The cationically curable composition may further contain 100 to 400 parts by weight of an oxetane compound having at least one oxetanyl group in the molecule, if necessary. When an oxetane compound is used, the viscosity of the composition can be lowered to make the resin layer thinner after curing.

한편, 옥세탄 화합물은 분자 내에 적어도 1개의 옥세타닐기를 갖는 것이면, 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술 분야에 잘 알려진 다양한 옥세탄 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 상기 옥세탄 화합물로는, 3-에틸-3-〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕옥세탄, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕벤젠, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,2-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,2'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,7-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕나프탈렌, 비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 비스〔2-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 2,2-비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕프로판, 노볼락형페놀-포름알데히드 수지의 3-클로로메틸-3-에틸옥세탄에 의한 에테르화 변성물, 3(4),8(9)-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕-트리시클로[5.2.1.0 2,6]데칸, 2,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕노르보르난, 1,1,1-트리스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕프로판, 1-부톡시-2,2-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕부탄, 1,2-비스〔{2-(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}에틸티오〕에탄, 비스〔{4-(3-에틸옥세탄-3-일)메틸티오}페닐〕술피드, 1,6-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕-2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로헥산 등을 들 수 있다. 한편, 상기 옥세탄 화합물의 함량은 제1에폭시 화합물 100중량부에 대하여, 100 내지 400 중량부, 보다 바람직하게는 150 내지 300중량부 정도인 것이 바람직하다.
On the other hand, the oxetane compound is not particularly limited as long as it has at least one oxetanyl group in the molecule, and various oxetane compounds well known in the art can be used. Examples of the oxetane compound of the present invention include 3-ethyl-3 - [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] oxetane, 1,4-bis [ 3-yl) methoxymethyl] benzene, 1,4-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] benzene, 1,3- ) Methoxy] benzene, 1,2-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] benzene, 4,4'- Phenyl, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-bis [3-ethyloxetane-3-yl] 3-yl) methoxy] naphthalene, bis [4 - {(3-ethyloxetan-3-yl) ) Methoxy} phenyl] methane, bis [2 - {(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy} phenyl] methane, 2,2- ) Methoxy} phenyl] propane, an etherified product of 3-chloromethyl-3-ethyloxetane of novolak type phenol-formaldehyde resin, 3 (4) Oxetane- (3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] norbornane, 1,1,1,3,3-tetramethyl- Methoxy methyl] propane, 1-butoxy-2,2-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] , [2- (3-ethyloxetan-3-yl) methoxy} ethylthio] ethane, bis [{4- , And 1,6-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] -2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane. On the other hand, the content of the oxetane compound is preferably 100 to 400 parts by weight, more preferably 150 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the first epoxy compound.

한편, 옥세탄화합물로 옥세타닐기를 2개 갖는 경우 경화 후 수지층의 유리전이온도를 높이는데 효과적이며 옥세타닐기를 1개 갖는 경우 접착력에 유리하다.
On the other hand, when two oxetanyl groups are used as the oxetane compound, it is effective to increase the glass transition temperature of the resin layer after curing, and it is advantageous in the case of having one oxetanyl group.

한편, 본 발명에서 사용되는 상기 활성 에너지선 경화형 조성물은 파장 320nm 이상의 자외선에 의하여 경화되는 것이 바람직하다. 일반적으로 수축성 필름으로 사용되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등의 경우 낮은 영역의 파장, 예를 들면 310nm 이하의 광은 투과시키지 않기 때문에, 이러한 낮은 영역의 파장의 자외선에 의하여 경화되는 활성 에너지선 경화형 조성물을 사용하는 경우에는 경화를 위하여 자외선을 적층체의 양면에 모두 조사해야 하는 번거로움이 있다. 그러나, 이보다 상대적으로 높은 파장, 예를 들면 320nm 이상의 자외선에 의하여도 경화가 가능한 활성 에너지선 경화형 조성물을 사용하는 경우에는, 적층체의 일면에만 자외선을 조사하여도 양쪽 모두 접착체의 경화가 가능하므로, 제조 공정이 더욱 간소해지며, 생산성이 향상되는 효과가 있다.
Meanwhile, the active energy ray curable composition used in the present invention is preferably cured by ultraviolet rays having a wavelength of 320 nm or more. In general, a polyethylene terephthalate film used as a shrinkable film does not transmit light of a low region, for example, light of 310 nm or less. Therefore, an active energy ray curable composition which is cured by ultraviolet rays of such a low region wavelength is used It is troublesome to irradiate ultraviolet rays to both sides of the laminate for curing. However, in the case of using an active energy ray-curable composition which can be cured even by a relatively high wavelength, for example, ultraviolet rays of 320 nm or more, curing of the adhesive body can be performed even if ultraviolet rays are irradiated on only one side of the laminate , The manufacturing process is further simplified, and the productivity is improved.

이러한 관점에서, 본 발명의 경우 활성 에너지선 경화형 조성물 중에서도 특히 광 라디칼 중합 반응을 이용하는 조성물을 사용하는 것이 바람직하다. 광 라디칼 중합 반응을 이용하는 조성물은 주로 390nm 정도의 영역을 흡수하는 라디칼 개시제를 사용하기 때문에, 양쪽 모두 경화시키기 위해서 자외선을 한 면에만 조사해도 무방하기 때문이다. 이와 달리, 광 양이온 중합 반응을 이용하는 조성물은 주로 295nm 정도의 영역을 흡수하는 양이온 개시제를 사용하는바, 양쪽 모두 경화시키기 위해서는 자외선을 양면에 모두 조사해야 하는 번거로움이 있다.
From this point of view, in the case of the present invention, it is preferable to use, among the active energy ray curable composition, a composition which uses a photo radical polymerization reaction. Since a composition using a photo radical polymerization reaction mainly uses a radical initiator that absorbs a region of about 390 nm, it is possible to irradiate ultraviolet rays on only one surface in order to cure both of them. On the other hand, a composition using a photo cationic polymerization reaction mainly uses a cationic initiator that absorbs a region of about 295 nm. In order to cure both of them, there is a need to irradiate ultraviolet rays on both sides.

한편, 본 발명에서 사용하는 상기 활성 에너지선 경화형 수지층은 유리전이온도가 70℃ 이상인 것이 바람직하며, 예를 들면 70℃ 내지 150℃ 정도, 또는 80℃ 내지 120℃ 정도일 수 있다. 이 경우, 충분한 내열성을 가질 수 있는바, 열 수축을 위한 고온 연신 과정에서 충분한 접착력을 가질 수 있다.
Meanwhile, the active energy ray-curable resin layer used in the present invention preferably has a glass transition temperature of 70 ° C or higher, for example, about 70 ° C to 150 ° C or about 80 ° C to 120 ° C. In this case, since it can have sufficient heat resistance, it can have a sufficient adhesive force in the high temperature stretching process for heat shrinkage.

한편, 이와 같은 활성 에너지선 경화형 수지층을 매개로 적층체를 형성하는 경우, 적층체 형성 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 복굴절성 필름과 수축성 필름 사이에 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포한 후, 이들을 합지하고, 활성 에너지선 경화형 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 경화시키는 방법으로 수행되는 것일 수 있다,
On the other hand, in the case of forming a laminate through such an active energy ray-curable resin layer, the method of forming the laminate is not particularly limited, and for example, a method of applying an active energy ray curable composition between a birefringent film and a shrinkable film And then curing them by laminating them and irradiating the active energy ray-curable composition with active energy rays.

이때, 복굴절성 필름과 수축성 필름 사이에 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 복굴절성 필름 또는 수축성 필름 상에 활성 에너지선 경화형 조성물을 점적 방식으로 흘려 넣음으로써, 충분한 양의 뱅크(BANK)를 형성하는 방식을 이용할 수 있다.
At this time, the method of applying the active energy ray-curable composition between the birefringent film and the shrinkable film is not particularly limited. For example, by flowing the active energy ray-curable composition on the birefringent film or the shrinkable film in a dripping manner, A method of forming a sufficient amount of banks (BANK) can be used.

또한, 합지하는 방법 역시 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 상기 필름들을 조성물을 사용하여 접착시키면서, 서로 반대 방향으로 회전하는 두 개의 롤 사이를 통과하는 라미네이트 공정 등을 이용할 수 있다.
Also, the method of laminating is not particularly limited, and for example, a lamination process or the like may be used in which the films are passed between two rolls rotating in opposite directions while adhering them using a composition.

또한, 활성 에너지선 경화형 조성물을 경화시키는 방법 역시 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 자외선, 가시광선, 전자선, X선 등의 활성 에너지선 조사를 통해 경화시키는 방법으로 수행될 수 있다. 이때, 조사 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 자외선 조사장치(LH10 Fusion D bulb)를 이용하여 광량 500mJ/cm2 정도의 자외선을 세기 2000mW/cm2 정도, 속도 20m/min 정도의 조건에서 조사하는 방법으로 수행할 수 있다.
The method of curing the active energy ray curable composition is also not particularly limited, and may be performed by, for example, curing by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, visible rays, electron rays, and X rays. At this time, the method of irradiation is not particularly limited. For example, ultraviolet light having a light intensity of about 500 mJ / cm 2 is irradiated using an ultraviolet irradiator (LH10 Fusion D bulb) under conditions of about 2000 mW / cm 2 and a speed of about 20 m / min And the like.

한편, 상기와 같은 방법으로 형성되는 본원발명의 적층체는 폭(width) 대비 길이(length)가 1.5 배 이상, 바람직하게는 2 내지 8배 정도, 더욱 바람직하게는 2 내지 5배 정도일 수 있다. 이와 같이, 적층체의 길이(length)가 폭(width) 대비 길수록, 적층체의 중앙 부분에 전달되는 힘이 약하기 때문에, 수축이 보다 자유롭게 잘 일어날 수 있다는 장점이 있다.
Meanwhile, the laminate of the present invention formed by the above-described method may have a length to width ratio of 1.5 times or more, preferably about 2 to 8 times, more preferably about 2 to 5 times. As described above, the longer the length of the laminate is, the weaker the force transmitted to the central portion of the laminate is, so that the shrinkage can be more freely generated.

다. All. 적층체The laminate 열 수축 단계 Heat shrinkage step

상기와 같은 방법으로 적층체가 형성이 되면, 적층체를 열 수축한다. 이때, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 열 수축 단계에 의하여 하기 식 (1)을 만족한다. 즉, 수축성 필름과 부착되어 있는 복굴절성 필름은 수축성 필름에 의하여 폭 방향(TD)으로 강제적으로 수축이 되며, 그 결과 폭 방향(TD)의 굴절률이 두께 방향의 굴절률보다 작게 발현이 되어, 최종적으로 nx > nz > ny를 만족하게 된다. 이와 같이 복굴절성 필름이 최종적으로 nx > nz > ny를 만족하는 경우, IPS 모드 위상차 필름으로 매우 유용하게 사용할 수 있다.When the laminate is formed in the same manner as described above, the laminate is thermally shrunk. At this time, the production method of the optical film of the present invention satisfies the following formula (1) by the heat shrinkage step. That is, the birefringent film attached to the shrinkable film is forced to shrink in the width direction (TD) by the shrinkable film, and as a result, the refractive index in the width direction (TD) becomes smaller than the refractive index in the thickness direction, n x > n z > n y . When the birefringent film finally satisfies n x > n z > n y , it can be very useful as an IPS mode retardation film.

식 (1): nx > nz > ny Equation (1): n x > n z > n y

상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율이다.
In the formula (1), n x is birefringent, and the plane direction refractive index is the maximum refractive index in the direction of the film, n y is a refractive index in the direction perpendicular to the n x direction in the birefringent film, n z is the birefringence Is the refractive index in the thickness direction of the film.

한편, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 열 수축 단계에 의하여 하기 식 (2) 역시 만족하는 것이 바람직하다. 이와 같이, 적층체 상태에서 복굴절성 필름과 수축성 필름이 실질적으로 동일한 배율로 수축을 하는 경우, 복굴절성 필름이 충분히 수축될 수 있는바, 매우 우수한 품질의 광학 필름 제조가 가능해진다. 보다 바람직하게는 적층체 상태에서의 수축성 필름의 폭 수축률과 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 폭 수축률의 차는 0% 내지 3% 정도, 0% 내지 2%, 또는 0 내지 1% 정도일 수 있다. 한편, 폭 수축률은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, 적층체를 형성하기 전 복굴절성 필름과 수축성 필름 모두 일면에 점을 1cm 간격으로 찍은 후, 이들을 부착하고, 열 수축 후 박리한 다음, 각각의 필름의 점 간격을 재는 방법으로 측정할 수 있다.On the other hand, it is preferable that the production method of the optical film of the present invention satisfies the following formula (2) by the heat shrinkage step. As described above, when the birefringent film and the shrinkable film shrink at substantially the same magnification in the laminated state, the birefringent film can be sufficiently shrunk, so that it is possible to manufacture an optical film of very high quality. More preferably, the difference between the width shrinkage percentage of the shrinkable film in the laminated state and the width shrinkage percentage of the birefringent film in the laminated state may be about 0% to 3%, 0% to 2%, or 0% to 1%. On the other hand, the width shrinkage ratio can be measured by a well-known method well known in the art. For example, before the laminate is formed, dots are taken at intervals of 1 cm on one side of both the birefringent film and the shrinkable film, , Peeling off the film after heat shrinkage, and measuring the distance between the respective films.

식 (2): 0% ≤ S2 - S1 ≤ 5%(2): 0%? S 2 - S 1 ? 5%

상기 식 (2)에 있어서, S1은 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이며, S2는 적층체 상태에서의 열 수축 성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이다.
In the formula (2), S 1 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent film in the laminated state, S 2 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the heat shrinkable film in the laminated state Shrinkage ratio.

또한, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 열 수축 단계에 의하여 하기 식 (3) 및 (4)를 역시 만족하는 것이 바람직하다. 이와 같이, 열 수축 전 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력이 하기 범위 정도의 접착력을 가지는 경우 열 수축 단계에서 박리가 쉽게 일어나지 않는 장점이 있으며, 이와 동시에 열 수축 후 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력이 하기 범위 정도의 접착력을 가지는 경우 열 수축 후 박리하는 과정에서 필름에 손상 없이 용이하게 박리가 가능하다는 장점이 있다. 보다 바람직하게는 열 수축 전 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력은 0.10 N/2cm 내지 0.50 N/2cm 정도 또는 0.15 N/2cm 내지 0.30 N/2cm 정도일 수 있으며, 열 수축 후 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력은 0.05 N/2cm 내지 0.30 N/2cm 정도 또는 0.10 N/2cm 내지 0.15 N/2cm 정도일 수 있다. 하기 접착력은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Stable Micro Systems社의 Texture Analyzer(모델명: TA-XT Plus) 장비를 이용하여 측정할 수 있다.Further, it is preferable that the production method of the optical film of the present invention satisfies the following formulas (3) and (4) by the heat shrinkage step. As described above, when the adhesive force between the birefringent film and the shrinkable film before heat shrinkage has an adhesive force of about the following range, there is an advantage that peeling can not easily occur in the heat shrinkage stage. At the same time, If it has an adhesive strength of about the following range, there is an advantage that it can be easily peeled off without damaging the film during peeling after heat shrinkage. More preferably, the adhesive strength between the birefringent film and the shrinkable film before heat shrinkage may be about 0.10 N / 2 cm to 0.50 N / 2 cm or about 0.15 N / 2 cm to 0.30 N / 2 cm, and the adhesive force between the birefringent film and the shrinkable film The adhesive force may be about 0.05 N / 2 cm to about 0.30 N / 2 cm or about 0.10 N / 2 cm to about 0.15 N / 2 cm. The following adhesive strength can be measured by a well-known method well known in the art. For example, it can be measured using a Texture Analyzer (Model: TA-XT Plus) equipment of Stable Micro Systems.

식 (3): 0.10 N/2cm ≤ Pa ≤ 1.0 N/2cm(3): 0.10 N / 2 cm? P a ? 1.0 N / 2 cm

식 (4): 0.01 N/2cm ≤ Pb ≤ 0.50 N/2cm(4): 0.01 N / 2 cm? P b ? 0.50 N / 2 cm

상기 식 (3) 및 (4)에 있어서, Pa는 열 수축 전 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력이며, Pb는 열 수축 후 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력이다.
In the above formulas (3) and (4), P a is the adhesive strength between the birefringent film and the shrinkable film before heat shrinkage, and P b is the adhesion strength between the birefringent film and the shrinkable film after heat shrinkage.

한편, 상기 열 수축하는 단계는 적층체를 공지의 연신 장비 등을 이용하여 길이 방향(MD)으로 일축 연신하는 방법으로 수행되는 것이 바람직하다. 예를 들면, 고온 조건의 오븐 안에서 적층체의 길이 방향(MD)의 양 끝을 잡아준 상태에서 UTM 장비를 이용하여 적층체를 길이 방향(MD)으로 당기는 방법으로 일축 연신할 수 있다. 본 발명에 사용한 상기 복굴절성 필름은 연신 방향을 따라 최대 굴절율이 발현이 되는 정의 복굴절성 필름인 것이 바람직하며, 이 경우 길이 방향(MD)이 x 방향(굴절율이 최대가 되는 방향)이 되고, 폭 방향(TD)이 y 방향(굴절율이 최대가 되는 방향에 수직한 방향)이 된다. 이때, 상기 고온 연신에 의하여 폭 방향(Td)인 y 방향으로 적층체가 수축하게 되는데, 특히 복굴절성 필름은 상대적으로 수축이 더 잘 일어나는 수축성 필름과 합지되어 있는바 급격하게 수축하게 되며, 그 결과 ny 가 nz 보다 더 작아지므로, nx > nz > ny 의 위상차 특성을 효과적으로 구현할 수 있게 된다.
On the other hand, the heat shrinking step is preferably performed by a method of uniaxially stretching the laminate in the longitudinal direction (MD) by using a known drawing machine or the like. For example, uniaxial stretching can be performed by pulling the laminate in the longitudinal direction (MD) using UTM equipment while holding both ends of the laminate in the longitudinal direction (MD) in an oven at high temperature. The birefringent film used in the present invention is preferably a positive birefringent film exhibiting a maximum refractive index along the stretching direction. In this case, the longitudinal direction MD becomes the x direction (the direction in which the refractive index becomes maximum) The direction TD becomes the y direction (direction perpendicular to the direction in which the refractive index becomes the maximum). At this time, the laminate shrinks in the y direction which is the width direction (Td) due to the high temperature stretching. In particular, the birefringent film shrinks sharply when it is laminated with the shrinkable film which relatively shrinks more easily, Since y is smaller than n z , n x > n z & gt ; n < y & gt ; can be effectively implemented.

이때, 상기 연신은 수축성 필름의 유리전이온도를 Tg'라 할 때, (Tg') 내지 (Tg'+ 100℃)의 온도에서 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, (Tg'+ 20℃) 내지 (Tg'+ 80℃)의 온도에서 수행될 수 있다. 연신 온도가 이와 같은 범위를 만족해야지만 높은 위상차 구현이 가능하다. 구체적으로, 이와 같은 연신 온도에서 복굴절성 필름은 수축을 잘 안 하려고 하나, 수축성 필름은 매우 강하게 수축을 하려고 하며, 이때 이들은 수지층에 의하여 부착되어 있는바, 복굴절성 필름은 연신 과정에서 강한 폭 수축이 일어나게 되며, 그 결과 높은 위상차를 가질 수 있다.
The stretching is preferably performed at a temperature of (Tg ') to (Tg' + 100 ° C), for example, (Tg '+ 20 ° C) when the glass transition temperature of the shrinkable film is Tg' To (Tg ' + 80 < 0 > C). A high retardation can be realized only when the stretching temperature satisfies the above range. Specifically, at such a stretching temperature, the birefringent film tends to shrink sharply, but the shrinkable film tends to shrink very strongly. Since these are adhered by the resin layer, the birefringent film has strong shrinkage And, as a result, can have a high phase difference.

또한, 상기 연신은 1.1 내지 3.0 배의 연신 배율로 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, 1.1 내지 2.5 배 또는 1.1 내지 2.0 배의 연신 배율로 수행될 수 있다. 이와 같은 연신 배율로 연신이 수행되는 경우, 복굴절성 필름을 본 발명이 원하는 만큼 폭 방향으로 수축시킬 수 있으며, 본 발명이 원하는 만큼의 높은 위상차를 구현시킬 수 있다.
In addition, the stretching is preferably performed at a draw magnification of 1.1 to 3.0 times, for example, at a draw magnification of 1.1 to 2.5 times or 1.1 to 2.0 times. When the stretching at such a stretching magnification is performed, the birefringent film can be shrunk in the width direction as much as desired by the present invention, and the present invention can realize a phase difference as high as desired.

라. la. 복굴절성Birefringence 필름 박리 단계 Film peeling step

한편, 본 발명의 제조 방법은 상기 열 수축하는 단계 후에 복굴절성 필름을 수축성 필름으로부터 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다. 즉, 복굴절성 필름을 단일의 위상차 필름으로 사용하기 위해서는 박리하는 것이 바람직하다. 한편, 상기 박리하는 단계는 상온에서 진행될 수 있으며, 박리 방법은 특별히 한정되지 않는다.
Meanwhile, the manufacturing method of the present invention may further include peeling the birefringent film from the shrinkable film after the heat shrinking step. That is, in order to use the birefringent film as a single retardation film, peeling is preferable. On the other hand, the peeling step may proceed at room temperature, and the peeling method is not particularly limited.

2. 광학 부재 및 광학 필름2. Optical element and optical film

한편, 본 발명은 상기한 제조 방법에 의하여 제조되는 광학 부재 역시 제공한다. 구체적으로, 본 발명은 폭 방향(TD)으로 일축 연신된 복굴절성 필름, 및 수축성 필름을 포함하며, 상기 복굴절성 필름이 상술한 식 (1)을 만족하는 광학 부재를 또한 제공한다. 이때, 상기 수축성 필름 및 복굴절성 필름의 재료 및 적층 방법 등은 상기한 바와 동일하며, 또한 상기 광학 부재 역시 바람직하게는 상술한 식 (2)를 더 만족하고, 보다 바람직하게는 상술한 식 (3) 및 (4)를 더 만족한다.
The present invention also provides an optical member manufactured by the above manufacturing method. Specifically, the present invention provides a birefringent film uniaxially stretched in the transverse direction (TD) and a shrinkable film, wherein the birefringent film satisfies the above-mentioned formula (1). In this case, the material and the lamination method of the shrinkable film and the birefringent film are the same as described above, and the optical member is also more preferably satisfying the above-described formula (2), and more preferably, ) And (4).

또한, 본 발명은 상기한 제조 방법에 의하여 제조되는 광학 필름 역시 제공한다. 이때, 본 발명의 광학 필름은 하기 식 (7) 내지 (9) 중 적어도 하나 이상을 만족하는 것이 바람직하다. 이 경우 IPS 모드용 위상차 필름으로 매우 유용하게 사용될 수 있다. 보다 바람직하게는, 본 발명에 따른 광학 필름은 면 방향 위상차값의 범위가 200nm 내지 300nm 정도 이고, 두게 방향 위상차 값의 범위가 100nm 내지 200nm 정도이며, Nz 값이 0.2 내지 0.9 또는 0.3 내지 0.7 정도일 수 있다.The present invention also provides an optical film produced by the above-mentioned production method. At this time, the optical film of the present invention preferably satisfies at least one of the following formulas (7) to (9). In this case, it can be very useful as a retardation film for IPS mode. More preferably, the optical film according to the present invention has a retardation value in the range of about 200 nm to about 300 nm, a retardation value in the range of about 100 nm to about 200 nm, and an Nz value in the range of about 0.2 to about 0.9 or about 0.3 to about 0.7 have.

식 (7): 150nm ≤ Rin (b) ≤ 350nm(7): 150 nm? R in (b) ? 350 nm

식 (8): 50nm ≤ Rth (b) ≤ 250nm(8): 50 nm? R th (b) ? 250 nm

식 (9): 0.1 ≤ Nz(b) ≤ 1Equation (9): 0.1? Nz (b) ? 1

상기 식 (7) 내지 (9)에 있어서, Rin (b)는 파장 550nm에서 측정한 광학 필름의 면 방향 위상차값이고, Rth (b)는 파장 550nm에서 측정한 광학 필름의 두께 방향 위상차값이며, Nz(b)는 광학 필름의 파장 550nm에서 측정한 면 방향 위상차값에 대한 두께 방향 위상차값의 비(Rth/Rin)임.
In the above formulas (7) to (9), R in (b) is a retardation value of the optical film measured at a wavelength of 550 nm, R th (b) and, Nz (b) being the ratio (R th / R in) of the thickness retardation value on a plane direction retardation value measured at a wavelength of 550nm of the optical film.

이때, 상기 광학 필름은 폭이 1300mm 내지 3500mm 정도인 것이 바람직하며, 1400mm 내지 3000mm 정도인 것이 보다 바람직하다. 현재 제조되는 편광판의 폭과 일치하기 위해서는 제조되는 광학 필름의 폭이 이와 같이 유의미한 범위를 만족해야 하며, 이 경우 실제 산업에 적용이 가능하다.
At this time, the width of the optical film is preferably about 1300 mm to 3500 mm, and more preferably about 1400 mm to 3000 mm. In order to match the width of the currently produced polarizing plate, the width of the optical film to be manufactured must satisfy the above-mentioned range, and this case is applicable to the actual industry.

또한, 상기 광학 필름은 두께가 10㎛ 내지 40㎛ 정도인 것이 바람직하며, 10㎛ 내지 35㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 제조되는 광학 필름의 두께가 이와 같은 얇아야만 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치의 박형 경량화가 가능하다.
Further, the thickness of the optical film is preferably about 10 탆 to 40 탆, and more preferably about 10 탆 to 35 탆. If the thickness of the optical film to be manufactured is as thin as that, the polarizing plate and the liquid crystal display including the polarizing plate and the liquid crystal display device can be made thin and light.

3. 편광판 및 액정표시장치3. Polarizer and liquid crystal display

한편, 본 발명은 상기 광학 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 편광판 역시 제공한다. 이 경우, 본 발명에 따른 상기 광학 필름은 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착되거나, 편광자의 양면에 보호 필름이 부착된 편광판의 보호 필름 상에 부착되어, 위상차 필름으로 유용하게 사용될 수 있다. 상기 광학 필름을 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착시키는 경우, 예를 들어, 그 구조는 상 보호필름/편광자/광학 필름, 광학 필름/편광자/하 보호필름, 광학 필름/상 보호필름/편광자/하 보호필름 또는 상 보호필름/편광자/하 보호필름/광학 필름 일 수 있다.
The present invention also provides a polarizing plate comprising at least one optical film. In this case, the optical film according to the present invention may be directly attached to one side or both sides of the polarizer, or may be attached to a protective film of a polarizer having a protective film on both sides of the polarizer, and thus may be usefully used as a retardation film. When the optical film is directly adhered to one surface or both surfaces of the polarizer, for example, the structure may be an upper protective film / a polarizer / an optical film, an optical film / a polarizer / a lower protective film, an optical film / an upper protective film / Protective film or an upper protective film / polarizer / lower protective film / optical film.

또한, 본 발명은 상기 광학 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 액정표시장치 역시 제공한다. 예컨대 본 발명은 상기 광학 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 IPS 모드 액정표시장치를 제공한다. 이때, 상기 액정표시장치는 액정 셀 및 상기 액정 셀의 양면에 각각 구비된 제 1 편광판 및 제 2 편광판을 포함하는 것일 수 있으며, 상기 광학 필름은 상기 액정 셀과 상기 제 1 편광판 및/또는 제 2 편광판 사이에 위상차 필름으로써 구비될 수 있다. 즉, 제 1 편광판과 액정 셀 사이에 광학 필름이 구비될 수 있고, 제 2 편광판과 액정 셀 사이에, 또는 제 1 편광판과 액정 셀 사이와 제 2 편광판과 액정 셀 사이 모두에 광학 필름이 하나 또는 2 이상 구비될 수 있다.
The present invention also provides a liquid crystal display device including at least one optical film. For example, the present invention provides an IPS mode liquid crystal display including at least one optical film. The liquid crystal display may include a liquid crystal cell and a first polarizing plate and a second polarizing plate disposed on both surfaces of the liquid crystal cell, and the optical film may include the liquid crystal cell, the first polarizing plate and / And may be provided as a retardation film between the polarizing plates. That is, an optical film may be provided between the first polarizing plate and the liquid crystal cell, and one optical film may be provided between the second polarizing plate and the liquid crystal cell, or between the first polarizing plate and the liquid crystal cell, 2 or more .

이하에서는 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

제조예Manufacturing example 1 -  One - 복굴절성Birefringence 필름 film

(1) 복굴절성 필름 A(1) Birefringent film A

폴리카보네이트 수지(LG Chem, DVD 1080, Tg=148℃)를 사용하여 250℃ 조건 하에서 30φ L/D 40 Vent-type Co-rotating Twin Extruder 에서 펠렛(pellet)을 제조하였다. 상기 제조한 원료 펠렛을 250℃에서 같은 압출기에서 압출기로 용융한 뒤, 코트 행거 타입의 티-다이(T-die)에 통과시키는 방법으로, 폭 1200mm, 두께 47.3㎛의 미연신 필름을 제조하였다. 이때, 상기 폴라카보네이트 수지는 290nm 파장에서의 광 투과도가 80% 이상이었다. 상기 미연신 필름을 텐터 장비를 사용하여 166℃에서 TD 방향으로 2배의 비율로 일축 연신하여 폭 2400mm, 두께 23.1㎛의 일축 연신 상태의 복굴절성 필름 A를 제조하였다. 한편, 상기 연신 필름은 152℃ 오븐에서 UTM 장비를 이용하여 길이 방향(MD)으로 20% 일축 연신 하였을 때의 폭 수축률이 12%이었다.
A pellet was prepared from a 30φ L / D 40 Vent-type Co-rotating Twin Extruder at 250 ° C. using a polycarbonate resin (LG Chem, DVD 1080, Tg = 148 ° C.). An unoriented film having a width of 1200 mm and a thickness of 47.3 탆 was prepared by melting the raw pellets prepared above at 250 캜 in an extruder with an extruder and then passing them through a coat hanger type T-die. At this time, the light transmittance of the polycarbonate resin at a wavelength of 290 nm was 80% or more. The unoriented film was uniaxially stretched at 166 DEG C in the TD direction at a ratio of 2 times using a tenter machine to produce a uniaxially stretched birefringent film A having a width of 2400 mm and a thickness of 23.1 mu m. On the other hand, the stretched film had a width shrinkage of 12% when unidirectionally stretched by 20% in the longitudinal direction (MD) using UTM equipment in a 152 ° C oven.

(2) 복굴절성 필름 B(2) Birefringent film B

폴리카보네이트 수지(LG Chem, DVD 1080, Tg=148℃)를 사용하여 250℃ 조건 하에서 30φ L/D 40 Vent-type Co-rotating Twin Extruder 에서 펠렛(pellet)을 제조하였다. 상기 제조한 원료 펠렛을 250℃에서 같은 압출기에서 압출기로 용융한 뒤, 코트 행거 타입의 티-다이(T-die)에 통과시키는 방법으로, 폭 1200mm, 두께 20.8㎛의 미연신 상태의 복굴절성 필름 B를 제조하였다. 이때, 상기 폴라카보네이트 수지는 290nm 파장에서의 광 투과도가 80% 이상이었다. 한편, 상기 미연신 필름 역시 152℃ 오븐에서 UTM 장비를 이용하여 길이 방향(MD)으로 20% 일축 연신 하였을 때의 폭 수축률이 12%이었다.
A pellet was prepared from a 30φ L / D 40 Vent-type Co-rotating Twin Extruder at 250 ° C. using a polycarbonate resin (LG Chem, DVD 1080, Tg = 148 ° C.). The raw pellets thus prepared were melted in an extruder at 250 캜 by an extruder and then passed through a T-die of a coat hanger type to obtain an unstretched birefringent film having a width of 1200 mm and a thickness of 20.8 탆 B was prepared. At this time, the light transmittance of the polycarbonate resin at a wavelength of 290 nm was 80% or more. On the other hand, the unstretched film also had a width shrinkage of 12% when it was uniaxially stretched by 20% in a longitudinal direction (MD) using UTM equipment in a 152 ° C oven.

제조예Manufacturing example 2 - 수축성 필름 2 - shrink film

수축성 필름으로 시판되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름(SKC社 TP69C, 이축 연신, Tg=76℃)를 사용하였다. 한편, 상기 연신 필름은 152℃ 오븐에서 UTM 장비를 이용하여 길이 방향(MD)으로 20% 일축 연신 하였을 때의 폭 방향(TD) 수축률이 58%이었다.
A polyethylene terephthalate stretched film (TP69C, biaxially stretched by SKC, Tg = 76 ° C) commercially available as a shrinkable film was used. On the other hand, the stretched film had a shrinkage in the transverse direction (TD) of 58% when unidirectionally stretched by 20% in the longitudinal direction (MD) using a UTM machine in an oven at 152 ° C.

제조예Manufacturing example 3 -  3 - 라디칼Radical 경화형 조성물 Curable composition

활성 에너지선 경화형 수지층으로 사용하기 위하여 라디칼 경화형 조성물을 제조하였다. 구체적으로, 상기 라디칼 경화형 조성물은 2-히드록시에틸아크릴릴레이트 70 중량%, 이타콘산 10 중량%, 및 4,4'-((((프로판-2,2-디일비스(4,1-페닐렌))비스(옥시))비스(1-(메타크릴로일옥시)프로판-3,2-디일))비스(옥시))비스(4-옥소부탄 산) 20 중량%를 포함하는 조성물 100 중량부에, 라디칼 개시제 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀옥사이드 3 중량부 및 광산 발생제 디페닐(4-페닐티오)페닐설포늄헥사플루오로포스페이트 5 중량부를 첨가하여 제조하였다. 시차주사열량계(DSC Mettler 社)를 이용하여 측정한 조성물의 유리전이온도는 82℃ 이었다.
Radical curable compositions were prepared for use as active energy ray curable resin layers. Specifically, the radical curable composition is prepared by dissolving 70% by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 10% by weight of itaconic acid, and 4,4 '- ((((propane-2,2-diylbis Bis (oxy)) bis (1- (methacryloyloxy) propane-3,2-diyl)) bis (oxy)) bis (4-oxobutanoic acid) , 3 parts by weight of a radical initiator phenyl bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phosphine oxide and 5 parts by weight of a photo-acid generator, diphenyl (4-phenylthio) phenylsulfonium hexafluorophosphate . The glass transition temperature of the composition measured using a differential scanning calorimeter (DSC Mettler) was 82 ° C.

실시예Example 1 One

상기 제조예 2의 수축성 필름 양면에 상기 제조예 1의 일축 연신 상태의 복굴절성 필름 A를 부착하여 적층체를 형성하였다. 구체적으로, 상기 수축성 필름과 복굴절성 필름 사이에 상기 제조예 3의 라디칼 경화형 조성물을 점적 방식으로 도포한 후, 이들을 라미네이션한 후, 일면에 UV 경화기(Light Hammer社, Fusion UV)를 이용하여 광량 500mJ/cm2, 세기 2000mW/cm2, 속도 20m/min의 조건으로 경화하여 적층체를 형성하였다. 한편, 상기 UV 경화기에 사용된 램프는 LH10 Fusion D bulb 이였으며, 램프와 샘플간의 거리는 5.7cm 이었다. 한편, 상기 적층체의 길이(length)는 10cm이고, 폭(width)는 5cm이었으며, 따라서 폭(width) 대비 길이(length)의 비는 2배 정도이었다. 상기 적층체를 152℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 MD 방향으로 25% 일축 연신 한 후, 적층체를 꺼내어 수축성 필름 양면에 부착되어 있는 복굴절성 필름을 상온에서 박리하여 두 장의 광학 필름을 제조하였다.
A birefringent film A in the uniaxially stretched state of Preparation Example 1 was attached to both surfaces of the shrinkable film of Production Example 2 to form a laminate. Specifically, the radical curable composition of Preparation Example 3 was applied between the shrinkable film and the birefringent film by a dripping method, and after lamination, the laminate was laminated on one side with a UV curing machine (Light Hammer, Fusion UV) / cm 2 , a speed of 2000 mW / cm 2 and a speed of 20 m / min to form a laminate. Meanwhile, the lamp used for the UV curing machine was LH10 Fusion D bulb, and the distance between the lamp and the sample was 5.7 cm. On the other hand, the length of the laminate was 10 cm and the width was 5 cm, so that the ratio of the length to the width was about 2 times. The laminate was uniaxially stretched by 25% in an MD direction in a 152 ° C oven using UTM equipment. The laminate was taken out and the birefringent film attached to both sides of the shrinkable film was peeled off at room temperature to produce two optical films .

실시예Example 2 2

상기 실시예 1에 있어서, 상기 적층체를 적층체를 152℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 MD 방향으로 30% 일축 연신 한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 두 장의 광학 필름을 제조하였다.
In the same manner as in Example 1, except that the laminate was uniaxially stretched by 30% in the MD direction using a UTM machine in an oven at 152 ° C, two optical films were produced in the same manner.

실시예Example 3 3

상기 실시예 1에 있어서, 상기 적층체를 적층체를 152℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 MD 방향으로 35% 일축 연신 한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 두 장의 광학 필름을 제조하였다.
In the same manner as in Example 1, except that the laminate was uniaxially stretched by 35% in the MD direction in a 152 ° C oven using UTM equipment, two optical films were produced in the same manner.

실시예Example 4 4

상기 실시예 1에 있어서, 상기 적층체를 적층체를 153℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 MD 방향으로 30% 일축 연신 한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 두 장의 광학 필름을 제조하였다.
The two sheets of optical films were prepared in the same manner as in Example 1 except that the laminate was uniaxially stretched by 30% in the MD direction using a UTM equipment in a 153 ° C oven.

비교예Comparative Example

상기 실시예 1에 있어서, 상기 제조예 1의 미연신 상태의 복굴절성 필름 B를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 두 장의 광학 필름을 제조하였다.
Two optical films were produced in the same manner as in Example 1, except that the birefringent film B in the unstretched state of Production Example 1 was used.

실험예Experimental Example 1 - 수축 전  1 - Before contraction 복굴절성Birefringence 필름의 물성 측정 Measurement of film properties

상기 실시예 및 비교예에서 사용된 복굴절성 필름 A 및 B의 열 수축 전의 폭, 두께 및 위상차 특성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다. 한편, 폭은 일반적인 자를 이용하여 측정하였고, 두께는 TESA社 Tesa u-hite 두께측정기를 이용하여 측정하였으며, 위상차값은 Axometrics社의 Axoscan 측정장비를 이용하여 측정하였다.The width, thickness and retardation characteristics of the birefringent films A and B before heat shrinkage as used in the above Examples and Comparative Examples were measured and shown in Table 1 below. Meanwhile, the width was measured using a general ruler, the thickness was measured using a Tesa u-hite thickness meter, and the phase difference value was measured using an Axoscan's Axoscan measuring apparatus.

구분division 필름film 연신 조건Stretching condition 폭(mm)Width (mm) 두께(㎛)Thickness (㎛) Rin(㎚)R in (nm) Rth(㎚)R th (nm) 실시예Example 복굴절성 필름 ABirefringent Film A 166℃/TD/1축/2배166 占 폚 / TD / 1 axis / 2 times 24002400 23.123.1 9.29.2 -31.9-31.9 비교예Comparative Example 복굴절성 필름 BBirefringent film B 미연신Unfinished 12001200 20.820.8 99 -10-10

상기 표 1에서 볼 수 있듯이, 비교예에서 사용한 미연신 복굴절성 필름과는 달리, 실시예에서 사용한 TD 일축 연신 복굴절성 필름은 23.1㎛ 정도의 얇은 두께에도 불구하고, 2400mm 정도의 충분한 폭을 가질 수 있으며, 나아가 위상차 특성 역시 제로위상차에 가까운 것을 알 수 있다.
As can be seen from the above Table 1, unlike the unoriented birefringent film used in the comparative example, the TD uniaxially stretched birefringent film used in the examples had a sufficient width of about 2400 mm despite the thin thickness of about 23.1 탆 And further, the retardation characteristic is also close to zero phase difference.

실험예Experimental Example 2 - 폭 수축률( 2 - Width Shrinkage ( SS 1One , , SS 22 ) 및 접착력() And adhesive strength PP aa , , PP bb ) 측정) Measure

상기 실시예 및 비교예에 있어서, 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 폭 수축률(S1) 및 수축성 필름의 폭 수축률(S2)을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다. 이때, 상기 폭 수축률(S1, S2)는 적층체를 형성하기 전 두 장의 복굴절성 필름과 수축성 필름 모두 일면에 점을 1cm 간격으로 찍은 후, 이들을 적층하고, 열 수축 후 박리한 다음, 각각의 필름의 점 간격을 재는 방법으로 측정하였다.
In the above Examples and Comparative Examples, the width shrinkage ratio (S 1 ) of the birefringent film in the laminated state and the shrinkage ratio (S 2 ) of the shrinkable film were measured and shown in Table 2 below. At this time, the width shrinkage rates (S 1 and S 2 ) are obtained by taking two pieces of the birefringent film and the shrinkable film on one surface at intervals of 1 cm before lamination, laminating them, Was measured by a method of determining the point spacing of the film.

또한, 상기 실시예 및 비교예에 있어서, 수축 전 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력(Pa) 및 열 수축 후 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력(Pb)을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다. 이때, 상기 접착력(Pa, Pb)은 Stable Micro Systems社의 Texture Analyzer(모델명: TA-XT Plus) 장비를 이용하여 측정하였다.
In the above Examples and Comparative Examples, the shrinkage around the birefringent adhesive force between the film and the shrinkable film (P a), and then shrinked to measure the adhesive force (P b) of the birefringent film and the shrinkable film are shown in Table 2 . In this case, the adhesive force (P a, P b) is the Texture Analyzer Stable Micro Systems社: was measured using a (model TA-XT Plus) equipment.

구 분division S1 S 1 S2 S 2 Pa P a Pb P b 실시예 1Example 1 광학 필름 1Optical film 1 40%40% 40%40% 0.180.18 0.140.14 광학 필름 2Optical film 2 40%40% 0.170.17 0.130.13 실시예 2Example 2 광학 필름 3Optical film 3 40%40% 40%40% 0.180.18 0.140.14 광학 필름 4Optical film 4 40%40% 0.170.17 0.130.13 실시예 3Example 3 광학 필름 5Optical film 5 40%40% 40%40% 0.180.18 0.140.14 광학 필름 6Optical film 6 40%40% 0.170.17 0.130.13 실시예 4Example 4 광학 필름 7Optical film 7 40%40% 40%40% 0.180.18 0.140.14 광학 필름 8Optical film 8 40%40% 0.170.17 0.130.13 비교예Comparative Example 광학 필름 9Optical film 9 40%40% 40%40% 0.180.18 0.140.14 광학 필름 10Optical film 10 40%40% 0.170.17 0.130.13

상기 표 2에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 실시예에서 제조된 적층체들의 경우, 두 장의 복굴절성 필름 모두 상기 식 (2)를 만족하며, 나아가 상기 식 (3) 및 (4) 역시 만족한다. 이를 통하여, 본 발명의 실시예에서 제조된 적층체들의 경우, 열 수축 과정에서 박리가 쉽게 일어나지 않았으며, 그 결과 하기 도 1에 예시적으로 도시(수지층 생략)한 바와 같이 두 장의 복굴절성 필름(1, 2) 모두 수축성 필름(3)과 실질적으로 동일하게 수축되었다는 것을 알 수 있다.
As can be seen from the above Table 2, in the case of the laminate produced in the embodiment of the present invention, both of the birefringent films satisfies the formula (2), and further satisfies the formulas (3) and (4). As a result, in the case of the laminate produced in the example of the present invention, peeling was not easily caused in the heat shrinkage process, and as a result, as shown in FIG. 1 as an example (resin layer omitted), two sheets of the birefringent film (1) and (2) contracted substantially in the same manner as the shrinkable film (3).

한편, 비교예의 경우 역시 본 발명의 실시예에서와 마찬가지로 활성 에너지선 경화형 수지층을 이용하여 적층체를 형성하였는바, 복굴절성 필름 모두 상기 식 (2)를 만족하며, 나아가 상기 식 (3) 및 (4)를 만족하는 것을 알 수 있다.
On the other hand, in the case of the comparative example, as in the embodiment of the present invention, the laminate was formed using the active energy ray-curable resin layer. As a result, all of the birefringent films satisfied the formula (2) (4) is satisfied.

실험예Experimental Example 3 - 수축 후 광학 필름의 물성 측정 3 - Measurement of physical properties of optical film after shrinkage

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광학 필름의 폭, 두께 및 위상차 특성을 측정하여 하기 표 3에 나타내었다. 한편, 폭은 일반적인 자를 이용하여 측정하였고, 두께는 TESA社 Tesa u-hite 두께측정기를 이용하여 측정하였으며, nx, ny, nz는 프리즘 커플러 장비(SAIRON TECHNOLOGY社 SPA-3DR)를 이용하여 측정하였고, 위상차값은 Axometrics社의 Axoscan 측정장비를 이용하여 측정하였다.
The width, thickness, and retardation characteristics of the optical films prepared in the above Examples and Comparative Examples were measured and shown in Table 3 below. The thicknesses were measured using a TESA Tesla u-hite thickness gauge. The n x , n y , and n z values were measured using a prism coupler (SPA-3DR, SAIRON TECHNOLOGY) And the phase difference value was measured using Axoscan's Axoscan measuring instrument.

구 분division 폭(mm)Width (mm) 두께(㎛)Thickness (㎛) nx/ny/nz n x / n y / n z Rin(㎚)R in (nm) Rth(㎚)R th (nm) NzNz 실시예 1Example 1 광학 필름 1Optical film 1 14401440 31.331.3 1.5883/1.5802/1.58411.5883 / 1.5802 / 1.5841 258258 124124 0.480.48 광학 필름 2Optical film 2 14401440 28.628.6 1.5885/1.5800/1.58411.5885 / 1.5800 / 1.5841 258258 124124 0.480.48 실시예 2Example 2 광학 필름 3Optical film 3 14401440 30.830.8 1.5891/1.5795/1.58391.5891 / 1.5795 / 1.5839 305305 147147 0.480.48 광학 필름 4Optical film 4 14401440 30.930.9 1.5891/1.5794/1.58411.5891 / 1.5794 / 1.5841 305305 147147 0.480.48 실시예 3Example 3 광학 필름 5Optical film 5 14401440 30.230.2 1.5897/1.5789/1.58401.5897 / 1.5789 / 1.5840 334334 161161 0.480.48 광학 필름 6Optical film 6 14401440 28.728.7 1.5897/1.5790/1.58391.5897 / 1.5790 / 1.5839 334334 161161 0.480.48 실시예 4Example 4 광학 필름 7Optical film 7 14401440 30.330.3 1.5881/1.5799/1.58461.5881 / 1.5799 / 1.5846 252252 140140 0.550.55 광학 필름 8Optical film 8 14401440 28.528.5 1.5884/1.5796/1.58461.5884 / 1.5796 / 1.5846 252252 140140 0.550.55 비교예Comparative Example 광학 필름 9Optical film 9 720720 31.031.0 1.5892/1.5788/1.58461.5892 / 1.5788 / 1.5846 265265 141141 0.530.53 광학 필름 10Optical film 10 720720 30.530.5 1.5883/1.5799/1.58441.5883 / 1.5799 / 1.5844 251251 128128 0.510.51

상기 표 3에서 알 수 있듯이, 본 발명의 실시예에 의하면 두께가 30㎛ 정도로 박형이고, 폭이 1440mm 정도로 충분히 넓으며, IPS 모드용 액정표시장치에 위상차 필름으로 사용하기에 매우 적합한 위상차값을 가지는 단일의 광학 필름 두 장을 제조할 수 있는 것을 알 수 있다.
As shown in Table 3, according to the embodiment of the present invention, the IPS mode liquid crystal display device has a thin thickness of about 30 占 퐉, a width of about 1440 mm, and is sufficiently wide to have a phase difference value It can be seen that two single optical films can be produced.

반면, 비교예의 경우 얇은 두께의 nx > nz > ny의 관계를 만족하는 광학 필름을 제조할 수 있기는 하나, 제조되는 광학 필름의 폭이 매우 좁아 양산 가능성이 떨어지며, 실제 산업에 적용하기에 무리가 있다는 것을 알 수 있다.
On the other hand, in the comparative example, it is possible to produce an optical film satisfying the relationship of n x > n z > n y of a thin thickness, but the width of the produced optical film is very narrow, It can be understood that there is a difficulty in this.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It will be obvious to those of ordinary skill in the art.

1, 2: 복굴절성 필름
3: 수축성 필름
W: 폭
L: 길이
1, 2: birefringent film
3: shrinkable film
W: Width
L: Length

Claims (20)

미연신 복굴절성 필름을 폭 방향(TD)으로 일축 연신하는 단계;
활성 에너지선 경화형 조성물을 매개로 상기 연신 처리한 복굴절성 필름을 수축성 필름과 부착하여 적층체를 형성하는 단계; 및
상기 연신 처리한 복굴절성 필름이 하기 식 (1)을 만족하도록 적층체를 폭 방향(TD)으로 열 수축하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법으로서,
상기 활성 에너지선 경화형 조성물은 하기 [화학식 1]로 표시되는 제1화합물, 적어도 하나 이상의 카르복시기를 포함하는 제2화합물, 및 라디칼 개시제를 포함하는 라디칼 경화형 조성물인 것인 광학 필름의 제조 방법.
[화학식 1]
Figure 112016120996312-pat00030

상기 [화학식 1]에서, R1은 에스테르기 또는 에테르기고; R2는 C1~10 알킬기, C4~10 시클로알킬기, 또는 이들의 조합이고, 이때 R2는 분자 내에 적어도 하나 이상의 히드록시 치환기를 가지며; R3는 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1~10 알킬기이다.
식 (1): nx > nz > ny
상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율임.
Uniaxially stretching the unoriented birefringent film in the transverse direction (TD);
Attaching the stretched birefringent film to a shrinkable film through an active energy ray curable composition to form a laminate; And
And thermally shrinking the laminate in the transverse direction (TD) so that the stretched birefringent film satisfies the following formula (1): " (1) "
Wherein the active energy ray curable composition is a radical curable composition comprising a first compound represented by Formula 1, a second compound comprising at least one carboxyl group, and a radical initiator.
[Chemical Formula 1]
Figure 112016120996312-pat00030

In the above formula (1), R 1 represents an ester group or an ether group; R 2 is a C 1-10 alkyl group, a C 4-10 cycloalkyl group, or a combination thereof, wherein R 2 has at least one hydroxy substituent in the molecule; R 3 is hydrogen, or a substituted or unsubstituted C 1-10 alkyl group.
Equation (1): n x > n z > n y
In the formula (1), n x is birefringent, and the plane direction refractive index is the maximum refractive index in the direction of the film, n y is a refractive index in the direction perpendicular to the n x direction in the birefringent film, n z is the birefringence Refractive index in the thickness direction of the film.
제 1 항에 있어서,
상기 연신하는 단계는 연신 후 복굴절성 필름의 폭이 1400mm 내지 6000mm가 되도록 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the stretching is performed so that the width of the birefringent film after stretching becomes 1400 mm to 6000 mm.
제 1 항에 있어서,
상기 연신하는 단계는 연신 후 복굴절성 필름의 두께가 5㎛ 내지 40㎛이 되도록 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the stretching is performed such that the thickness of the birefringent film after stretching is 5 占 퐉 to 40 占 퐉.
제 1 항에 있어서,
상기 연신하는 단계는 연신 후 복굴절성 필름이 하기 식 (2)를 만족하도록 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
식 (2): 0nm ≤ Rin (a) ≤ 100nm
상기 식 (2)에 있어서, Rin (a)는 파장 550nm에서 측정한 복굴절성 필름의 면 방향 위상차값임.
The method according to claim 1,
Wherein the stretching is performed so that the birefringent film after stretching satisfies the following formula (2).
(2): 0 nm? R in (a) ? 100 nm
In the above formula (2), R in (a) is the retardation value of the birefringent film measured at a wavelength of 550 nm.
제 1 항에 있어서,
상기 연신하는 단계는 연신 후 복굴절성 필름이 하기 식 (3)을 만족하도록 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
식 (3): -100nm ≤ Rth (a) ≤ 100nm
상기 식 (3)에 있어서, Rth (a)는 파장 550nm에서 측정한 복굴절성 필름의 두께 방향 위상차값임.
The method according to claim 1,
And the stretching step is performed so that the birefringent film after stretching satisfies the following formula (3).
Formula (3): -100 nm? R th (a) ? 100 nm
In the above formula (3), R th (a) is the thickness direction retardation value of the birefringent film measured at a wavelength of 550 nm.
제 1 항에 있어서,
상기 연신하는 단계는 복굴절성 필름의 유리전이온도를 Tg 라 할 때, (Tg) 내지 (Tg + 50℃)의 온도에서 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the stretching is performed at a temperature of (Tg) to (Tg + 50 deg. C), where Tg is the glass transition temperature of the birefringent film.
제 1 항에 있어서,
상기 연신하는 단계는 1.5배 내지 6.0배의 연신 배율로 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the stretching step is performed at a stretching magnification of 1.5 to 6.0 times.
제 1 항에 있어서,
상기 적층체를 형성하는 단계는 연신 처리한 복굴절성 필름의 편면 또는 양면에 수축성 필름을 부착하는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of forming the laminate comprises attaching a shrinkable film to one side or both sides of the stretched birefringent film.
제 1 항에 있어서,
상기 적층체를 형성하는 단계는 수축성 필름의 양면에 연신 처리한 복굴절성 필름을 부착하는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of forming the laminate comprises attaching a stretched birefringent film on both sides of the shrinkable film.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 적층체를 열 수축하는 단계는 하기 식 (4)를 만족하도록 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
식 (4): 0% ≤ S2 - S1 ≤ 5%
상기 식 (4)에 있어서, S1은 적층체 상태에서의 복굴절성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이며, S2는 적층체 상태에서의 수축성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률임.
The method according to claim 1,
Wherein the step of heat shrinking the laminate is carried out so as to satisfy the following formula (4).
(4): 0%? S 2 - S 1 ? 5%
In the formula (4), S 1 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent film in the laminated state, and S 2 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the shrinkable film in the laminated state .
제 1 항에 있어서,
상기 적층체를 열 수축하는 단계는 하기 식 (5) 및 (6)을 만족하도록 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
식 (5): 0.10 N/2cm ≤ Pa ≤ 1.0 N/2cm
식 (6): 0.01 N/2cm ≤ Pb ≤ 0.5 N/2cm
상기 식 (5) 및 (6)에 있어서, Pa는 열 수축 전 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력이며, Pb는 열 수축 후 복굴절성 필름과 수축성 필름의 접착력임.
The method according to claim 1,
Wherein the step of heat shrinking the laminate is carried out so as to satisfy the following formulas (5) and (6).
(5): 0.10 N / 2 cm? P a ? 1.0 N / 2 cm
Equation (6): 0.01 N / 2 cm? P b ? 0.5 N / 2 cm
In the formulas (5) and (6), P a is the adhesive strength between the birefringent film and the shrinkable film before heat shrinkage, and P b is the adhesive strength between the birefringent film and the shrinkable film after heat shrinkage.
제 1 항에 있어서,
상기 적층체를 열 수축하는 단계는 적층체를 길이 방향(MD)으로 일축 연신하는 방법으로 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of heat shrinking the laminate is performed by a method of uniaxially stretching the laminate in the longitudinal direction (MD).
제 13 항에 있어서,
상기 연신은 수축성 필름의 유리전이온도를 Tg'할 때, (Tg') 내지 (Tg'+ 100℃)의 온도에서 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
14. The method of claim 13,
Wherein the stretching is performed at a temperature of (Tg ') to (Tg' + 100 ° C) when the glass transition temperature of the shrinkable film is Tg '.
제 13 항에 있어서,
상기 연신은 1.1배 내지 3.0 배의 연신 배율로 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
14. The method of claim 13,
Wherein the stretching is performed at a draw magnification of 1.1 to 3.0 times.
폭 방향(TD)으로 일축 연신된 복굴절성 필름, 및
활성 에너지선 경화형 조성물을 매개로 상기 연신 처리한 복굴절성 필름에 부착된 수축성 필름을 포함하며,
상기 복굴절성 필름이 하기 식 (1)을 만족하는 광학 부재로서,
상기 활성 에너지선 경화형 조성물은 하기 [화학식 1]로 표시되는 제1화합물, 적어도 하나 이상의 카르복시기를 포함하는 제2화합물, 및 라디칼 개시제를 포함하는 라디칼 경화형 조성물인 것인 광학 부재.
[화학식 1]
Figure 112016120996312-pat00031

상기 [화학식 1]에서, R1은 에스테르기 또는 에테르기고; R2는 C1~10 알킬기, C4~10 시클로알킬기, 또는 이들의 조합이고, 이때 R2는 분자 내에 적어도 하나 이상의 히드록시 치환기를 가지며; R3는 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1~10 알킬기이다.
식 (1): nx > nz > ny
상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절성 필름의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절성 필름의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절성 필름의 두께 방향의 굴절율임.
A birefringent film uniaxially stretched in the transverse direction (TD), and
And a shrinkable film attached to the stretched birefringent film through an active energy ray curable composition,
Wherein the birefringent film satisfies the following formula (1)
Wherein the active energy ray curable composition is a radical curable composition comprising a first compound represented by the following Chemical Formula 1, a second compound comprising at least one carboxyl group, and a radical initiator.
[Chemical Formula 1]
Figure 112016120996312-pat00031

In the above formula (1), R 1 represents an ester group or an ether group; R 2 is a C 1-10 alkyl group, a C 4-10 cycloalkyl group, or a combination thereof, wherein R 2 has at least one hydroxy substituent in the molecule; R 3 is hydrogen, or a substituted or unsubstituted C 1-10 alkyl group.
Equation (1): n x > n z > n y
In the formula (1), n x is birefringent, and the plane direction refractive index is the maximum refractive index in the direction of the film, n y is a refractive index in the direction perpendicular to the n x direction in the birefringent film, n z is the birefringence Refractive index in the thickness direction of the film.
제 1 항 내지 제 9 항 및 제 11 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항의 제조 방법으로 제조되며,
하기 식 (7) 내지 (9)을 만족하는 광학 필름.
식 (7): 150nm ≤ Rin(b) ≤ 350nm
식 (8): 50nm ≤ Rth(b) ≤ 250nm
식 (9): 0.1 ≤ Nz(b) ≤ 1
상기 식 (7) 내지 (9)에 있어서, Rin(b)는 파장 550nm에서 측정한 광학 필름의 면 방향 위상차값이고, Rth(b)는 파장 550nm에서 측정한 광학 필름의 두께 방향 위상차값이며, Nz(b)는 광학 필름의 파장 550nm에서 측정한 면 방향 위상차값에 대한 두께 방향 위상차값의 비(Rth/Rin)임.
14. A process for producing a polyurethane foam, which is produced by the process of any one of claims 1 to 9 and 11 to 15,
The optical film satisfies the following formulas (7) to (9).
(7): 150 nm? R in (b) ? 350 nm
(8): 50 nm? R th (b) ? 250 nm
Equation (9): 0.1? Nz (b) ? 1
In the above formulas (7) to (9), R in (b) is a retardation value of the optical film measured at a wavelength of 550 nm, R th (b) and, Nz (b) being the ratio (R th / R in) of the thickness retardation value on a plane direction retardation value measured at a wavelength of 550nm of the optical film.
제 17 항에 있어서,
상기 광학 필름은 폭이 1300mm 내지 3500mm이고, 두께가 10㎛ 내지 40㎛인 광학 필름.
18. The method of claim 17,
Wherein the optical film has a width of from 1300 mm to 3500 mm and a thickness of from 10 탆 to 40 탆.
제 17 항의 광학 필름을 포함하는 편광판.
A polarizing plate comprising the optical film of claim 17.
제 17 항의 광학 필름을 포함하는 액정표시장치.
A liquid crystal display device comprising the optical film of claim 17.
KR1020140093876A 2014-07-24 2014-07-24 Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same KR101732226B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140093876A KR101732226B1 (en) 2014-07-24 2014-07-24 Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140093876A KR101732226B1 (en) 2014-07-24 2014-07-24 Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160012441A KR20160012441A (en) 2016-02-03
KR101732226B1 true KR101732226B1 (en) 2017-05-02

Family

ID=55355478

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140093876A KR101732226B1 (en) 2014-07-24 2014-07-24 Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101732226B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI829445B (en) * 2021-11-25 2024-01-11 南韓商Lg化學股份有限公司 Back plate film, organic light emitting display and mobile phone

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007241151A (en) * 2006-03-10 2007-09-20 Kaneka Corp Method for manufacturing retardation film, and optical compensation polarizing plate
JP2009008998A (en) * 2007-06-29 2009-01-15 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for manufacturing retardation film precursor and method for manufacturing retardation film
JP2009072939A (en) * 2007-09-19 2009-04-09 Toyobo Co Ltd Releasing polyester film for polarizing plate protection or retardation plate protection, releasing film, and its manufacturing method
JP2010102288A (en) * 2008-09-29 2010-05-06 Sumitomo Chemical Co Ltd Member for manufacturing retardation film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007241151A (en) * 2006-03-10 2007-09-20 Kaneka Corp Method for manufacturing retardation film, and optical compensation polarizing plate
JP2009008998A (en) * 2007-06-29 2009-01-15 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for manufacturing retardation film precursor and method for manufacturing retardation film
JP2009072939A (en) * 2007-09-19 2009-04-09 Toyobo Co Ltd Releasing polyester film for polarizing plate protection or retardation plate protection, releasing film, and its manufacturing method
JP2010102288A (en) * 2008-09-29 2010-05-06 Sumitomo Chemical Co Ltd Member for manufacturing retardation film

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160012441A (en) 2016-02-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6371031B2 (en) Polarizing plate manufacturing method and manufacturing apparatus
KR101752584B1 (en) Phase difference film, polarizing plate using such phase difference film, and image display device
TWI548522B (en) Polarizing plate
KR20160001501A (en) Polarizing plate and image display apparatus comprising the same
JP2014182283A (en) Multi-layered film, manufacturing method therefor, manufacturing method for phase difference film laminate, phase difference film, polarizing plate, and ips liquid crystal panel
WO2017047408A1 (en) Composite polarizing plate and liquid crystal panel using same
CN110072963B (en) Adhesive composition for polarizing plate, polarizing plate and optical display
US9442223B2 (en) Polarizing plate and image display device comprising same
KR101737170B1 (en) Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
JP2018077522A (en) Polarizing plate, image display unit, and liquid crystal display
US20160238742A1 (en) Polarizing plate and image display apparatus comprising same
KR102172568B1 (en) Adhesive composition and polarizing plate comprising adhesive layer formed by using the same
JP2018022026A (en) Laminate film
WO2018025716A1 (en) Laminate film
JP2021036328A (en) Polarizing plate set and liquid crystal panel
KR101732226B1 (en) Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
KR101737177B1 (en) Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
KR101757025B1 (en) Preparing method for the optical film, optical member and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
KR101732223B1 (en) Preparing method for the optical film, optical member and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
TWI706176B (en) Polarizing plate, method for manufacturing the same and image display device comprising the same
WO2018025714A1 (en) Laminate film
KR20190033797A (en) Adhesive composition and polarizing plate comprising adhesive layer formed by using the same
KR101724799B1 (en) Preparing method for thin polarizing plate and polarizing plate using the same
TW201921005A (en) Polarizing plate and image display apparatus comprising the same
JP6909270B2 (en) Polarizing plate manufacturing method and manufacturing equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant