KR101737177B1 - Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same - Google Patents

Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same Download PDF

Info

Publication number
KR101737177B1
KR101737177B1 KR1020140122731A KR20140122731A KR101737177B1 KR 101737177 B1 KR101737177 B1 KR 101737177B1 KR 1020140122731 A KR1020140122731 A KR 1020140122731A KR 20140122731 A KR20140122731 A KR 20140122731A KR 101737177 B1 KR101737177 B1 KR 101737177B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
birefringent layer
film
heat shrinkable
birefringent
shrinkable film
Prior art date
Application number
KR1020140122731A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160032507A (en
Inventor
오혜미
곽상민
이남정
윤석일
권경재
임승준
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020140122731A priority Critical patent/KR101737177B1/en
Publication of KR20160032507A publication Critical patent/KR20160032507A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101737177B1 publication Critical patent/KR101737177B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/302Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising aromatic vinyl (co)polymers, e.g. styrenic (co)polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/34Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B32B27/365Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters comprising polycarbonates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J129/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Adhesives based on hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J129/02Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C09J129/04Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528Polarisers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

본 발명은 이형 필름 상에 복굴절성 물질을 도포하여 복굴절층을 형성하는 단계; 상기 복굴절층을 열 수축성 필름 상에 전사하여 적층체를 형성하는 단계; 및 상기 복굴절층이 하기 식 (1)을 만족하도록 상기 적층체를 열 수축하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치에 관한 것이다.
식 (1): nx > nz > ny
상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절층의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절층의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz는 복굴절층의 두께 방향의 굴절율임.
The present invention relates to a method of manufacturing a birefringent film, comprising: forming a birefringent layer by applying a birefringent material on a release film; Transferring the birefringent layer onto a heat shrinkable film to form a laminate; And a step of heat-shrinking the laminate so that the birefringent layer satisfies the following formula (1), an optical film produced using the same, and a polarizing plate and a liquid crystal display device comprising the same.
Equation (1): n x > n z > n y
In the formula (1), n x is the plane direction refractive index is the refractive index of the direction in which the maximum of the birefringent layer, n y is a refractive index in the direction perpendicular to the n x direction in the birefringent layer, n z is a birefringent layer Refractive index in the thickness direction.

Description

광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치{PREPARING METHOD FOR THE OPTICAL FILM, OPTICAL MAMBER AND OPTICAL FILM BY THE SAME METHOD, POLARIZING PLATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY COMPRISING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a method of manufacturing an optical film, an optical member and an optical film manufactured using the same, a polarizing plate and a liquid crystal display including the polarizing plate and the liquid crystal display, THE SAME}

본 발명은 광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 IPS 모드 액정표시장치 등에 위상차 필름으로 유용하게 적용될 수 있는 광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a method for producing an optical film, an optical member and an optical film manufactured using the optical film, a polarizing plate and a liquid crystal display including the optical member, and more particularly to an IPS mode liquid crystal display An optical member and an optical film manufactured using the same, a polarizing plate including the same, and a liquid crystal display device.

액정표시장치는 음극선관 디스플레이에 비해 소비 전력이 낮고, 부피가 작고, 가벼워 휴대가 용이하기 때문에 광학 디스플레이 소자로서 보급이 확산되고 있다. 일반적으로 액정표시장치는 액정 셀의 양측에 편광판을 설치한 기본 구성을 가지며, 구동회로의 전계 인가 여부에 따라 액정 셀의 배향이 변하게 되고, 그에 따라 편광판을 통해 나온 투과광의 특성이 달라지게 됨으로써 빛의 가시화가 이루어진다. 이 때 입사광의 입사 각도에 따라 빛의 경로와 복굴절성이 변화하게 되는데, 이는 액정이 두 개의 상이한 굴절률을 가지는 이방성 물질이기 때문이다.
The liquid crystal display device is spreading as an optical display device because its power consumption is lower than that of a cathode ray tube display, its volume is small, its weight is light and it is easy to carry. In general, a liquid crystal display device has a basic structure in which a polarizing plate is provided on both sides of a liquid crystal cell, and the orientation of the liquid crystal cell changes depending on whether an electric field is applied to the driving circuit, and the characteristics of light transmitted through the polarizing plate are changed, Is visualized. At this time, the path of light and the birefringence change depending on the incident angle of the incident light because the liquid crystal is an anisotropic material having two different refractive indices.

이와 같은 특성으로 인해, 액정표시장치는 시야각(viewing angle)에 따라 상이 얼마나 뚜렷하게 보이는지를 가늠하는 척도인 콘트라스트 비(contrast ratio)가 달라지고 계조 반전(gray scale inversion) 현상이 발생하여 시인성이 떨어진다는 단점을 지닌다. 상기와 같은 단점을 극복하기 위하여 액정표시장치 장치에는 액정 셀에서 발생하는 광학 위상차를 발현시켜 주는 광학 위상차 필름(compensation film)이 사용되고 있다.
Due to such characteristics, the liquid crystal display device has a problem that the contrast ratio, which is a measure for how much the image is seen clearly according to the viewing angle, is changed and the gray scale inversion phenomenon occurs, It has disadvantages. In order to overcome such disadvantages, an optical compensation film for developing an optical retardation generated in a liquid crystal cell is used for a liquid crystal display device.

상기와 같은 위상차 필름으로는, 예를 들면, nx > nz > ny 의 굴절률 분포를 가지는 광학 필름이 사용되고 있다. 이때, 상기와 같은 굴절률 분포를 가지는 광학 필름은 한 장의 필름으로 구현이 어려워, 종래에는 두 층 이상의 다층 필름으로 구성되는 구조가 현실적으로 제시되었다. 그러나, 다층 필름으로 제조하는 경우, 필름의 박형화가 어려우며, 또한 적층되는 두 층 이상의 필름의 광축을 정확하게 배치되지 않으면 원하는 위상차 특성을 나타내지 않는 등 제조가 매우 까다롭다는 문제점이 있었다.
As such a retardation film, for example, an optical film having a refractive index distribution of n x > n z > n y is used. At this time, the optical film having the refractive index distribution as described above is difficult to be realized as a single film, and conventionally, a structure composed of two or more layers of multilayer films has been presented. However, in the case of a multilayer film, it is difficult to make the film thinner, and if the optical axis of two or more laminated films is not precisely aligned, the desired retardation characteristics are not exhibited.

따라서 한 장의 필름으로 위와 같은 굴절률 분포를 가지는 광학 필름을 제조하기 위한 연구가 계속하여 진행되고 있으며, 예를 들면, 수지 필름의 편면 또는 양면에 아크릴계 점착제 등을 개재하여 수축성 필름을 부착하여 적층체를 형성하고, 상기 적층체를 연신 처리하여, 상기 연신 방향과 직교하는 방향으로 수축력을 부여하는 방법이 제안된바 있다.
Therefore, research for producing an optical film having a refractive index profile as described above has been progressing. For example, a shrinkable film is attached to one side or both sides of a resin film via an acrylic adhesive, And stretching the laminate to give a contracting force in a direction orthogonal to the stretching direction.

그러나, 상기와 같이 수지 필름 형태로 열 수축성 필름 상에 부착하여 광학 필름을 제조하는 경우, 각층의 필름을 각각 제조해야 하고, 그 후 접착, 건조 등 여러 공정을 거쳐야 하기 때문에 제조단가가 높으며, 제조되는 광학 필름의 두께가 두꺼운바, 이를 포함하는 디스플레이 장치의 박형 경량화 추세에 부응하지 못하는 단점이 있다.
However, when an optical film is produced by attaching it on a heat-shrinkable film in the form of a resin film as described above, it is necessary to manufacture each film of each layer, and then various steps such as adhesion and drying are required, The thickness of the optical film is too large, and the display device including the optical film has a drawback in that it can not meet the trend of being thinner and lighter.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 비교적 간단한 방법으로 제조가 가능하며, 박형으로 제조가 가능한, 새로운 nx > nz > ny 의 굴절률 분포를 가지는 단일의 광학 필름의 제조 방법, 이를 이용하여 제조되는 광학 부재 및 광학 필름, 이를 포함하는 편광판 및 액정표시장치를 제공하고자 한다.
The present invention for solving the above problems, a relatively simple way can be manufactured by, and available are made of thin, new n x> n z> n y the method of producing a single optical film having a refractive index profile, And a polarizing plate and a liquid crystal display device using the optical member and the optical film.

한편, 본 발명의 과제는 상술한 내용에 한정하지 않는다. 본 발명의 과제는 본 명세서의 내용 전반으로부터 이해될 수 있을 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자라면 본 발명의 부가적인 과제를 이해하는데 아무런 어려움이 없을 것이다.
On the other hand, the object of the present invention is not limited to the above description. It will be understood by those of ordinary skill in the art that there is no difficulty in understanding the additional problems of the present invention.

일 측면에서, 본 발명은 이형 필름 상에 복굴절성 물질을 도포하여 복굴절층을 형성하는 단계; 상기 복굴절층을 열 수축성 필름 상에 전사하여 적층체를 형성하는 단계; 및 상기 복굴절층이 하기 식 (1)을 만족하도록 상기 적층체를 열 수축하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법을 제공한다.In one aspect, the present invention provides a method of manufacturing a light emitting device, comprising: forming a birefringent layer by applying a birefringent material on a release film; Transferring the birefringent layer onto a heat shrinkable film to form a laminate; And heat-shrinking the laminate so that the birefringent layer satisfies the following formula (1).

식 (1): nx > nz > ny Equation (1): n x > n z > n y

상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절층의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절층의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz는 복굴절층의 두께 방향의 굴절율임.
In the formula (1), n x is the plane direction refractive index is the refractive index of the direction in which the maximum of the birefringent layer, n y is a refractive index in the direction perpendicular to the n x direction in the birefringent layer, n z is a birefringent layer Refractive index in the thickness direction.

한편, 상기 적층체를 열 수축하는 단계 후 복굴절층의 두께는 30㎛ 이하인 것이 바람직하다.
On the other hand, it is preferable that the thickness of the birefringent layer after the step of heat shrinking the laminate is 30 탆 or less.

한편, 상기 적층체를 형성하는 단계는 점착제 또는 접착제를 매개로 복굴절층을 열 수축성 필름 상에 전사하는 방법으로 수행되는 것일 수 있다.
Meanwhile, the step of forming the laminate may be performed by a method of transferring the birefringent layer onto a heat shrinkable film through an adhesive or an adhesive.

한편, 상기 적층체를 형성하는 단계는 활성 에너지선 경화형 접착제를 매개로 복굴절층을 열 수축성 필름 상에 전사하는 방법으로 수행되는 것이 바람직하다.
Meanwhile, it is preferable that the step of forming the laminate is carried out by a method of transferring the birefringent layer onto a heat shrinkable film via an active energy ray curable adhesive.

한편, 상기 적층체를 열 수축하는 단계는 하기 식 (2)를 만족하는 것이 보다 바람직하다.On the other hand, it is more preferable that the step of heat shrinking the laminate satisfies the following formula (2).

식 (2): 0% ≤ S2 - S1 ≤ 5%(2): 0%? S 2 - S 1 ? 5%

상기 식 (2)에 있어서, S1은 적층체 상태에서의 복굴절층의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이며, S2는 적층체 상태에서의 열 수축성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률임.
In the formula (2), S 1 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent layer in the laminated state, and S 2 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the heat shrinkable film in the laminated state .

한편, 상기 적층체를 열 수축하는 단계는 하기 식 (3) 및 (4)를 만족하는 것이 더욱 바람직하다.On the other hand, it is more preferable that the step of heat shrinking the laminate satisfies the following formulas (3) and (4).

식 (3): 0.10 N/2cm ≤ Pa ≤ 1.0 N/2cm(3): 0.10 N / 2 cm? P a ? 1.0 N / 2 cm

식 (4): 0.01 N/2cm ≤ Pb ≤ 0.5 N/2cm(4): 0.01 N / 2 cm? P b ? 0.5 N / 2 cm

상기 식 (3) 및 (4)에 있어서, Pa는 열 수축 전 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력이며, Pb는 열 수축 후 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력임.
In the above formulas (3) and (4), P a is the adhesive strength between the birefringent layer and the heat shrinkable film before heat shrinkage, and P b is the adhesive strength between the birefringent layer and the heat shrinkable film after heat shrinkage.

한편, 상기 복굴절성 물질은 폴리아마이드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 및 환상올레핀계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 정의 복굴절성 물질, 또는 폴리비닐바카졸, 폴리비닐나프탈렌, 및 스티렌계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 부의 복굴절성 물질일 수 있다.
On the other hand, the birefringent material may be at least one positive birefringent material selected from the group consisting of a polyamide resin, a polyimide resin, a polycarbonate resin, a polyarylate resin, and a cyclic olefin resin, And at least one negative birefringent material selected from the group consisting of a sol, a polyvinyl naphthalene, and a styrenic resin.

한편, 상기 열 수축하는 단계는 적층체를 길이 방향(MD)으로 1축 연신하는 것이 바람직하다.
On the other hand, in the heat shrinking step, it is preferable to uniaxially stretch the laminate in the longitudinal direction (MD).

이때, 상기 연신은 열 수축성 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg) 내지 (Tg + 100℃)의 온도에서 수행되는 것이 보다 바람직하며, 1.1 내지 3.0 배의 연신 배율로 수행되는 것이 더욱 바람직하다.
More preferably, the stretching is performed at a temperature of (Tg) to (Tg + 100 deg. C), more preferably at a stretching magnification of 1.1 to 3.0 times, when the glass transition temperature of the heat shrinkable film is Tg desirable.

한편, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 상기 열 수축하는 단계 후에 복굴절층을 열 수축성 필름으로부터 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다.
In the meantime, the method of manufacturing an optical film of the present invention may further comprise peeling the birefringent layer from the heat shrinkable film after the heat shrinking step.

다른 측면에서, 본 발명은 열 수축성 필름; 및 상기 열 수축성 필름의 적어도 일면에 형성되는, 하기 식 (1)을 만족하는 복굴절층을 포함하며, 상기 복굴절층은 이형 필름 상에 복굴절성 물질을 직접 도포하여 복굴절층을 형성한 후, 열 수축성 필름 상에 복굴절층을 전사하여 형성되는 것인 광학 부재를 제공한다.In another aspect, the present invention provides a heat shrinkable film; And a birefringent layer formed on at least one surface of the heat shrinkable film and satisfying the following formula (1), wherein the birefringent layer is formed by directly applying a birefringent material on a release film to form a birefringent layer, And the birefringent layer is transferred onto the film.

식 (1): nx > nz > ny Equation (1): n x > n z > n y

상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절층의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절층의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz는 복굴절층의 두께 방향의 굴절율임.
In the formula (1), n x is the plane direction refractive index is the refractive index of the direction in which the maximum of the birefringent layer, n y is a refractive index in the direction perpendicular to the n x direction in the birefringent layer, n z is a birefringent layer Refractive index in the thickness direction.

또 다른 측면에서, 본 발명은 상기 제조 방법으로 제조되며, 하기 식 (5) 내지 (7)을 만족하는 광학 필름을 제공한다.In another aspect, the present invention provides an optical film produced by the above production method and satisfying the following formulas (5) to (7).

식 (5): 150nm ≤ Rin ≤ 350nmFormula (5): 150 nm? R in ? 350 nm

식 (6): 50nm ≤ Rth ≤ 250nm(6): 50nm? Rth ? 250nm

식 (7): 0.1 ≤ Nz ≤ 1Equation (7): 0.1? Nz? 1

상기 식 (5) 내지 (7)에 있어서, Rin는 파장 550nm에서 측정한 필름의 면 방향 위상차 값이고, Rth는 파장 550nm에서 측정한 필름의 두께 방향 위상차 값이며, Nz는 파장 550nm에서 측정한 면 방향 위상차 값에 대한 두께 방향 위상차 값의 비(Rth/Rin)임.
In the formulas (5) to (7), R in is the retardation value in the plane direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, R th is the retardation value in the thickness direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, (R th / R in ) of the retardation value in the thickness direction to the retardation value in one direction.

한편, 본 발명은 상기 광학 필름을 포함하는 편광판 및 액정표시장치 역시 제공한다.
The present invention also provides a polarizing plate and a liquid crystal display device including the optical film.

덧붙여, 상기한 과제의 해결수단은, 본 발명의 특징을 모두 열거한 것은 아니다. 본 발명의 다양한 특징과 그에 따른 장점과 효과는 아래의 구체적인 실시형태를 참조하여 보다 상세하게 이해될 수 있을 것이다.
In addition, the solution of the above-mentioned problems does not list all the features of the present invention. The various features of the present invention and the advantages and effects thereof will be more fully understood by reference to the following specific embodiments.

본 발명의 제조 방법으로 제조되는 광학 필름은 한 장의 필름으로도 효과적으로 nx > nz > ny 굴절률 분포를 가지는 위상차 특성을 구현할 수 있으며, 박형으로 제조가 가능하고, 제조 방법이 종래에 비하여 비교적 간단하다.
The optical film produced by the production method of the present invention can realize a retardation property effectively having a refractive index distribution of n x > n z > n y even in a single film, and can be manufactured in a thin shape, Simple.

한편, 본 발명의 제조 방법은 이형 필름 상에 복굴절성 물질을 도포하여 복굴절층을 형성한 후, 이를 다시 열 수축성 필름에 전사하는 방법으로 열 수축성 필름 상에 복굴절층을 형성하고 있는바, 용매에 의한 열 수축성 필름의 변형을 방지할 수 있으며, 그 결과 열 수축성 필름 상에 직접 복굴절성 물질을 도포하여 복굴절층을 형성하는 경우 대비, 제조되는 필름의 광학 물성, 외관 등이 우수하다는 장점이 있다.
Meanwhile, the method of the present invention forms a birefringent layer on a heat shrinkable film by applying a birefringent material on a release film to form a birefringent layer, and then transferring the birefringent layer to a heat shrinkable film. It is possible to prevent the deformation of the heat shrinkable film due to the heat shrinkable film, and as a result, the optical properties and appearance of the produced film are excellent compared with the case of forming the birefringent layer by applying the birefringent material directly on the heat shrinkable film.

도 1은 본 발명의 제조 방법을 예시적으로 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명의 적층체의 열 수축 결과를 예시적으로 보여주는 도면이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view showing an exemplary manufacturing method of the present invention. FIG.
Fig. 2 is a view showing an exemplary result of heat shrinkage of the laminate of the present invention. Fig.

먼저 본 명세서에 사용되는 용어를 정의한다.
First, terms used in this specification are defined.

(1) nx는 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절율이며, ny는 면 방향에 있어서 지상축에 수직인 방향인 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절율이며, nz는 두께 방향의 굴절율을 의미한다. 상기 nx, ny, nz는 550nm 파장의 광에서 측정한다. 한편, 상기 nx , ny , nz은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, 프리즘 커플러 장비(SAIRON TECHNOLOGY社 SPA-3DR) 등을 이용하여 측정이 가능하다.
(1) where n x is the refractive index in the direction in which the refractive index in the plane direction is the maximum (that is, the slow axis direction), and n y is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane direction , and n z means the refractive index in the thickness direction. The n x , n y , and n z are measured in light having a wavelength of 550 nm. Meanwhile, n x , n y , and n z can be measured by a well-known method well known in the art. For example, measurement can be performed using prism coupler equipment (SPA-3DR manufactured by SAIRON TECHNOLOGY) Do.

(2) Rin은 550nm 파장의 광에서의 면 방향 위상차값을 의미하는 것으로, 면 방향 위상차값 Rin=(nx-ny)xd 에 의해 구해진다. 이때, 상기 nx 및 ny는 상기한 바와 동일하며, d는 두께를 의미한다. 한편, 상기 Rin은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Axomatrics社의 Axoscan 장비를 이용하여 측정할 수 있다.
(2) R in means a retardation value in the plane direction in the light having a wavelength of 550 nm, and is obtained by the retardation value R in = (n x -n y ) xd. In this case, n x and n y are the same as described above, and d represents the thickness. On the other hand, in the R it can be measured by a known method known in the art and, for example, can be measured using the equipment of Axoscan Axomatrics社.

(3) Rth은 550nm 파장의 광에서의 두께 방향 위상차값을 의미하는 것으로, 두께 방향 위상차값 Rth=(nz-ny)xd 에 의해 구해진다. 이때, 상기 ny 및 nz는 상기한 바와 동일하며, d는 두께를 의미한다. 한편, 상기 Rth은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Axomatrics社의 Axoscan 장비를 이용하여 측정할 수 있다.
(3) R th means the retardation value in the thickness direction in the light having the wavelength of 550 nm, and is obtained by the thickness direction retardation value R th = (n z -n y ) xd. In this case, n y and n z are the same as described above, and d represents the thickness. On the other hand, the R th can be determined by well-known methods known in the art and, for example, can be measured using the equipment of Axoscan Axomatrics社.

(4) 본 명세서에 있어서 점착제란 다음과 같은 성질을 가지는 것을 의미한다.(4) In the present specification, the pressure-sensitive adhesive means the following properties.

- 고점도 저탄성률의 반고체상의 물질이다.- It is a semi-solid substance with high viscosity and low elasticity.

- 압력을 가함으로써 피착제와 결합한다.- Combine with the adherend by applying pressure.

- 결합 과정에서 상태가 변하지 않는다.- The state does not change during the coupling process.

- 광의의 접착제의 일종이며, 피착제 사이에 개재한 후 압력에 의하여 접착력을 발현하기 때문에, 감압형 접착제(PSA)라고도 불린다.
- It is a type of wide adhesive, which is called a pressure-sensitive adhesive (PSA) because it exhibits an adhesive force after being interposed between adherends.

(5) 본 명세서에 있어서 접착제란 상술한 점착제와는 구별되는 개념으로 다음과 같은 성질을 가지는 것을 의미한다.(5) In the present specification, an adhesive is a concept distinct from the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, meaning that it has the following properties.

- 조성물 상태에서는 유동성이 있는 저점도의 액체 상태이며, 피착체에 도포되었을 때, 피착제에 충분히 젖는 것에 의하여 접착 면적을 크게하고, 활성 에너지선 조사 등에 의한 경화, 또는 건조에 의하여 피착제와 결합한다.- When the composition is applied to an adherend, it is sufficiently wetted by the adherend to increase the area of adhesion, and it is cured by irradiation with active energy ray or the like or is dried do.

- 결합 과정에서 상태가 액체상에서 고체상으로 비가역적으로 변한다.
- In the bonding process, the state irreversibly changes from a liquid phase to a solid phase.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. Further, the embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. The shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for clarity.

1. 광학 필름의 제조 방법1. Manufacturing method of optical film

본 발명의 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여 연구를 거듭한 결과, 열 수축성 필름 상에 복굴절층을 형성한 후 동시에 고온 연신하는 경우, 비교적 간단한 방법으로 nx > nz > ny 굴절률 분포를 가질 수 있을 뿐만 아니라, 두께가 매우 얇은 광학 필름을 제조할 수 있음을 알아내었다.
The inventors of the present invention have a case in which a result of extensive studies to achieve the foregoing object, after forming the birefringent layer on a heat shrinkable film high-temperature stretching at the same time, n x> n z> n y refractive index distribution in a relatively simple way And it is possible to produce an optical film having a very thin thickness.

다만, 본 발명의 발명자들은 열 수축성 필름 상에 복굴절성 물질을 직접 도포하여 복굴절층을 형성하는 경우, 용매에 의한 열 수축성 필름의 침식, 용매 건조 과정에서 발생하는 열 수축성 필름의 변형 등에 의하여 제조되는 광학 필름의 광학 물성이나 외관 등이 불량해지는 것 역시 알아내었으며, 이를 해결하기 위해서 연구를 거듭한 결과, 이형 필름 상에 복굴절성 물질을 도포하여 복굴절층을 형성한 후, 이러한 복굴절층을 열 수축성 필름 상에 전사하는 경우, 위와 같은 문제점들 역시 해결할 수 있음을 알아내었다.
However, the inventors of the present invention have found that when a birefringent material is directly applied on a heat shrinkable film to form a birefringent layer, it is produced by erosion of a heat shrinkable film by a solvent and deformation of a heat shrinkable film generated in a solvent drying process It has been found out that the optical properties and appearance of the optical film become poor. As a result of repeated studies to solve this problem, after a birefringent material is applied on the release film to form a birefringent layer, the birefringent layer is thermally shrinkable It has been found that when transferring onto a film, the above problems can also be solved.

보다 구체적으로, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 하기 도 1에 예시적으로 도시한 바와 같이, (a) 이형 필름 상에 복굴절성 물질을 직접 도포하여 복굴절층을 형성하는 단계; (b) 상기 복굴절층을 열 수축성 필름 상에 전사하여 적층체를 형성하는 단계; 및 (c) 상기 적층체를 열 수축하는 단계를 포함한다.
More specifically, the method for producing an optical film of the present invention comprises: (a) directly applying a birefringent material on a release film to form a birefringent layer; (b) transferring the birefringent layer onto a heat shrinkable film to form a laminate; And (c) heat shrinking the laminate.

이때, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 열 수축 단계에 의하여 복굴절층이 하기 식 (1)을 만족한다. 즉, 열 수축성 필름과 합지된 복굴절층은 열 수축성 필름에 의하여 고온 연신 과정에서 연신 방향의 수직한 방향으로 강제적으로 수축이 되며, 그 결과 연신 방향에 수직한 방향의 굴절률이 두께 방향의 굴절률보다 작게 발현이 되어, 최종적으로 nx > nz > ny를 만족하게 된다. 이와 같이 복굴절층이 최종적으로 nx > nz > ny를 만족하는 경우, IPS 모드 위상차 필름으로 매우 유용하게 사용할 수 있다.At this time, in the method for producing an optical film of the present invention, the birefringent layer satisfies the following formula (1) by the heat shrinkage step. That is, the birefringent layer laminated with the heat shrinkable film shrinks forcefully in the direction perpendicular to the stretching direction during the hot stretching process due to the heat shrinkable film, and as a result, the refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction is smaller than the refractive index in the thickness direction is the expression, is finally satisfies n x> n z> n y . When the birefringent layer finally satisfies n x > n z > n y , it can be very useful as an IPS mode retardation film.

식 (1): nx > nz > ny Equation (1): n x > n z > n y

상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절층의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절층의 상기 nx 방향에 수직인 방향인 방향의 굴절율이며, nz 는 복굴절층의 두께 방향의 굴절율이다.
In the formula (1), n x is the plane direction refractive index is the maximum refractive index in the direction of the birefringent layer, n y is a refractive index in a direction perpendicular to a direction to the n x direction in the birefringent layer, n z is the birefringence Refractive index in the thickness direction of the layer.

한편, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 열 수축 단계에 의하여 하기 식 (2)를 만족하는 것이 보다 바람직하다. 이와 같이, 적층체 상태에서 복굴절층이 열 수축성 필름과 실질적으로 동일한 배율로 수축을 하는 경우, 하기 도 2 (a)에 예시적으로 도시한 바와 같이, 최종적으로 제조되는 광학 필름의 전구체인 복굴절층이 모두 충분히 수축될 수 있는바, 매우 우수한 품질의 광학 필름 제조가 가능해진다. 이와 달리, 적층체 상태에서의 복굴절층의 수축률과 열 수축성 필름의 수축률의 차이가 큰 경우, 하기 도 2 (b)에 예시적으로 도시한 바와 같이, 최종적으로 제조되는 광학 필름의 전구체인 복굴절층이 충분하 수축될 수 없는바, 위와 같은 우수한 품질의 광학 필름 제조가 어렵다. 보다 바람직하게는 적층체 상태에서의 열 수축성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률과 적층체 상태에서의 복굴절층의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률의 차는 0% 내지 3% 정도, 0% 내지 2%, 또는 0 내지 1% 정도일 수 있다. 한편, 하기 적층체 상태에서의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, 적층체를 형성하기 전 복굴절층과 열 수축성 필름 모두 일면에 점을 1cm 간격으로 찍은 후, 이들을 적층하고, 열 수축 후 박리한 다음, 각각의 점 간격을 재는 방법으로 측정할 수 있다.On the other hand, it is more preferable that the production method of the optical film of the present invention satisfies the following formula (2) by the heat shrinkage step. In this way, when the birefringent layer shrinks at a substantially same magnification as the heat shrinkable film in the laminated state, as shown in the following example of FIG. 2 (a), the birefringent layer, which is a precursor of the finally produced optical film, Can be sufficiently shrunk, and it becomes possible to manufacture an optical film of very high quality. Alternatively, when the difference between the shrinkage ratio of the birefringent layer and the shrinkage percentage of the heat shrinkable film in the laminated state is large, as shown in the following FIG. 2 (b), the birefringence layer Can not be sufficiently shrunk, it is difficult to manufacture such an optical film having excellent quality. More preferably, the difference between the shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the heat shrinkable film in the laminated state and the shrinkage rate in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent layer in the laminated state is 0% to 3%, 0% 2%, or 0 to 1%. On the other hand, the shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction in the following laminate state can be measured by a well-known method well known in the art. For example, before the laminate is formed, both the birefringent layer and the heat shrinkable film It is possible to measure by spotting the points on the one surface at intervals of 1 cm, laminating them, peeling after heat shrinkage, and then measuring the distance between the points.

식 (2): 0% ≤ S2 - S1 ≤ 5%(2): 0%? S 2 - S 1 ? 5%

상기 식 (2)에 있어서, S1은 적층체 상태에서의 복굴절층의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이며, S2는 적층체 상태에서의 열 수축 성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이다.
In the formula (2), S 1 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent layer in the laminated state, S 2 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the heat shrinkable film in the laminated state to be.

한편, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 열 수축 단계에 의하여 하기 식 (3) 및 (4)를 만족하는 것이 더욱 바람직하다. 이와 같이, 열 수축 전 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력이 하기 범위 정도의 접착력을 가지는 경우 열 수축 단계에서 박리가 쉽게 일어나지 않는 장점이 있으며, 이와 동시에 열 수축 후 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력이 하기 범위 정도의 접착력을 가지는 경우 열 수축 후 박리하는 과정에서 필름에 손상 없이 용이하게 박리가 가능하다는 장점이 있다. 보다 바람직하게는 열 수축 전 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력은 0.10 N/2cm 내지 0.50 N/2cm 정도 또는 0.15 N/2cm 내지 0.30 N/2cm 정도일 수 있으며, 열 수축 후 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력은 0.05 N/2cm 내지 0.30 N/2cm 정도 또는 0.10 N/2cm 내지 0.15 N/2cm 정도일 수 있다. 하기 접착력은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하며, 예를 들면, Stable Micro Systems社의 Texture Analyzer(모델명: TA-XT Plus) 장비를 이용하여 측정할 수 있다.On the other hand, it is more preferable that the production method of the optical film of the present invention satisfies the following formulas (3) and (4) by the heat shrinkage step. When the adhesive force between the birefringent layer and the heat shrinkable film before heat shrinking has an adhesive force of about the following range, there is an advantage that peeling can not easily occur in the heat shrinking step. At the same time, If it has an adhesive strength of about the following range, there is an advantage that it can be easily peeled off without damaging the film during peeling after heat shrinkage. More preferably, the adhesive force between the birefringent layer and the heat shrinkable film before heat shrinkage may be about 0.10 N / 2 cm to 0.50 N / 2 cm or about 0.15 N / 2 cm to 0.30 N / 2 cm, The adhesive force may be about 0.05 N / 2 cm to about 0.30 N / 2 cm or about 0.10 N / 2 cm to about 0.15 N / 2 cm. The following adhesive strength can be measured by a well-known method well known in the art. For example, it can be measured using a Texture Analyzer (Model: TA-XT Plus) equipment of Stable Micro Systems.

식 (3): 0.10 N/2cm ≤ Pa ≤ 1.0 N/2cm(3): 0.10 N / 2 cm? P a ? 1.0 N / 2 cm

식 (4): 0.01 N/2cm ≤ Pb ≤ 0.50 N/2cm(4): 0.01 N / 2 cm? P b ? 0.50 N / 2 cm

상기 식 (3) 및 (4)에 있어서, Pa는 열 수축 전 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력이며, Pb는 열 수축 후 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력이다.
In the formula (3) and (4), P a is the adhesive strength of the heat shrink around the birefringent layer and a heat shrinkable film, P b is the adhesive strength of the double refraction layer and a heat shrinkable film after heat shrinkage.

(a) (a) 복굴절층Birefringent layer 형성 단계 Forming step

먼저, 이형 필름 상에 복굴절성 물질을 직접 도포하여 복굴절층을 형성한다. 이때 복굴절성 물질의 도포 방법 등은 특별히 제한되지 않으며, 당해 기술분야에 잘 알려진 방법에 의하여 수행될 수 있다. 예를 들면, 복굴절성 물질과 용매를 포함하는 복굴절층 형성 조성물을 마이크로 그라비아 코팅법, 콤마 코팅법, 바 코팅법, 롤러 코팅법, 스핀 코팅법, 프린트법, 딥 코팅법, 유연 성막법, 다이 코팅법, 블레이드 코팅법, 그라비아 인쇄 법 등의 방법을 이용하여 이형 필름 상에 도포하고 건조하는 방법으로 수행될 수 있다.
First, a birefringent material is directly applied on a release film to form a birefringent layer. The method of applying the birefringent material is not particularly limited and may be performed by a method well known in the art. For example, a composition for forming a birefringent layer containing a birefringent material and a solvent may be formed by a microgravure coating method, a comma coating method, a bar coating method, a roller coating method, a spin coating method, a printing method, a dip coating method, Coating method, blade coating method, gravure printing method, and the like, and then drying it.

이때, 상기 이형 필름은 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술분야에 있어서 일반적으로 사용되는 이형 필름이 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 이형 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리이미드 필름 등일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 한편, 상기 이형 필름은 적어도 일면에 우수한 슬립성을 부여하기 위하여 실리카를 포함하는 코팅층이 형성될 수 있으며, 코팅층의 조성 등은 당해 기술분야에서 일반적으로 사용되는 것이면 특별한 제한 없이 적용이 가능하다.
At this time, the release film is not particularly limited, and a release film generally used in the art can be used. For example, the release film may be a polyethylene terephthalate film, a polypropylene film, a polyethylene film, a polyimide film, or the like, but is not limited thereto. On the other hand, the release film may be formed with a coating layer containing silica in order to impart excellent slipperiness to at least one side of the release film, and the composition of the coating layer and the like can be applied without any particular limitations as long as they are generally used in the related art.

다음으로, 상기 복굴절성 물질로는 당해 기술분야에 일반적으로 사용되는 정의 복굴절성 물질 또는 부의 복굴절성 물질을 특별한 제한 없이 사용할 수 있으며, 이때 정의 복굴절성 물질이란 연신 방향으로 최대 굴절율이 발현되는 물질을 의미하고, 부의 복굴절성 물질이란 연신 방향에 수직한 방향으로 최대 굴절율이 발현되는 물질을 의미한다.
Next, as the birefringent material, a positive birefringent material or a negative birefringent material commonly used in the related art can be used without any particular limitation. In this case, the positive birefringent material is a material that exhibits a maximum refractive index in the stretching direction And the negative birefringent material means a material exhibiting a maximum refractive index in a direction perpendicular to the stretching direction.

보다 구체적으로, 상기 복굴절성 물질로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 예를 들면, 폴리아마이드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 환상올레핀계 수지 등의 정의 복굴절성 물질이나, 폴리비닐카바졸, 폴리비닐나프탈렌, 스티렌계 수지 등의 부의 복굴절성 물질 등을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 혼합하여 사용될 수 있다.
More specifically, the birefringent materials include, but are not limited to, for example, birefringent materials such as polyamide based resins, polyimide based resins, polycarbonate based resins, polyarylate based resins, and cyclic olefin based resins Materials, and negative birefringent materials such as polyvinylcarbazole, polyvinylnaphthalene, and styrenic resins. These materials may be used singly or in combination.

이때, 상기 폴리아마이드계 수지 역시 당해 기술분야에 잘 알려진 폴리아마이드계 수지이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 그 중에서도 특히 높은 정의 복굴절 특성을 가지는 관점에서, 주쇄에 적어도 하나의 방향족 고리 또는 지방족 고리를 포함하는 것이 바람직하게 사용될 수 있다. 이때, 상기 방향족 고리로는 벤젠 고리가 바람직하며, 상기 지방족 고리로는 시클로 헥산 고리가 바람직하다. 보다 구체적으로 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 상기 폴라아마이드계 수지로는 Evonik社 CX9704, Arkema社 G350, G830 등을 사용할 수 있다.
At this time, the polyamide-based resin is also a polyamide-based resin well-known in the art, and can be used without any particular limitation. Among them, from the viewpoint of having particularly high birefringence characteristics, Aromatic rings or aliphatic rings can be preferably used. At this time, the aromatic ring is preferably a benzene ring, and the aliphatic ring is preferably a cyclohexane ring. More specifically, for example, although not limited thereto, Evolik CX9704, Arkema G350, G830 and the like can be used as the above-mentioned polyamide resin.

또한, 상기 폴리이미드계 수지 역시 당해 기술분야에 잘 알려진 폴리이미드계 수지이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하며, 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르이미드(polyetherimide) 등이 바람직하게 사용될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니나, 그 중에서도 특히 높은 정의 복굴절 특성을 가지는 관점에서, 주쇄에 적어도 하나의 방향족 고리 또는 지방족 고리를 포함하는 것이 바람직하게 사용될 수 있다. 보다 구체적으로 예를 들면, 상기 폴리이미드계 수지로는 Sabic社 Ultem1000, XTEM VH1003 등을 사용할 수 있다.
The polyimide resin may be a polyimide resin well known in the art without any particular limitation. For example, the polyimide resin may be polyimide, polyetherimide, etc. Can be preferably used. However, it is not particularly limited. Among them, those having at least one aromatic ring or aliphatic ring in the main chain can be preferably used, particularly in view of having high positive birefringence characteristics. More specifically, examples of the polyimide-based resin include Sabic Ultem 1000 and XTEM VH1003.

또한, 상기 폴리카보네이트계 수지는 당해 기술분야에 잘 알려진 폴리카보네이트계 수지이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 그 중에서도 특히 높은 정의 위상차 특성을 가지는 관점에서, 주쇄에 적어도 하나의 방향족 고리 또는 지방족 고리를 포함하는 것이 바람직하게 사용될 수 있다. 이때, 상기 방향족 고리로는 벤젠 고리가 바람직하며, 상기 지방족 고리로는 4 내지 14개, 또는 4 내지 10개, 또는 4 내지 8개의 고리 원자를 가지는 비방향족 모노시클릭, 바이시클릭 또는 트리시클릭 탄화수소 부위가 바람직하다. 한편, 상기 고리 원자는 탄소뿐만 아니라 산소 원자가 포함되어 있을 수도 있다. 보다 구체적으로 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 상기 폴리카보네이트계 수지로는 ㈜LG 화학社 LUPOY DVD1080, LUPOY PC1300 등을 사용할 수 있다.
The polycarbonate resin is not particularly limited as long as it is a polycarbonate resin well-known in the art. Among them, from the viewpoint of having a particularly high positive retardation, it is preferable that at least one Aromatic rings or aliphatic rings can be preferably used. The aromatic ring may be a benzene ring, and the aliphatic ring may be a non-aromatic monocyclic, bicyclic or tricyclic ring having 4 to 14, 4 to 10, or 4 to 8 ring atoms Hydrocarbon sites are preferred. The ring atoms may contain oxygen as well as carbon atoms. More specifically, for example, but not limited to, LUPOY DVD 1080, LUPOY PC 1300, etc., available from LG Chemical Co., Ltd. can be used as the polycarbonate resin.

또한, 상기 환상올레핀계 수지 역시 당해 기술분야에 잘 알려진 환상올레핀계 수지이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하며, 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 시클로올레핀폴리머(COP), 시클로올레핀코폴리머(COC) 등이 바람직하게 사용될 수 있다. 보다 구체적으로 예를 들면, 상기 환상올레핀계 수지로는 Zeon社 zeonor, TOPAS社 6013F04, 미쓰이社 Apel 등을 사용할 수 있다.
The cyclic olefin-based resin may also be a cyclic olefin polymer (COC), a cycloolefin copolymer (COC), a cycloolefin copolymer ) Can be preferably used. More specifically, for example, the cyclic olefin-based resin may be Zeon zeonor, TOPAS 6013F04, Mitsui's Apel, or the like.

또한, 상기 폴리아릴레이트계 수지 역시 당해 기술분야에 잘 알려진 폴리아릴레이트계 수지이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하며, 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 분자 내에 비스페놀 A의 유도체와 테레프탈 산 유도체를 포함하는 폴리아릴레이트 등이 바람직하게 사용될 수 있다. 보다 구체적으로 예를 들면, 상기 폴리아릴레이트계 수지로는 UNITIKA社 U-polymer AX-1500W, U-100 등을 사용할 수 있다.
In addition, the polyarylate-based resin may be a polyarylate-based resin well-known in the art without any particular limitation. For example, the polyarylate-based resin may include a bisphenol A derivative and a terephthalic acid derivative Polyarylate and the like can be preferably used. More specifically, U-polymer AX-1500W or U-100 manufactured by UNITIKA, Inc. may be used as the polyarylate resin.

또한, 상기 폴리비닐카보졸은, 폴리(9-비닐카바졸)과 같이 분자 내에 카바졸 골격을 가지는 것으로, 당해 기술분야에서 일반적으로 사용되는 폴리비닐카바졸이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하다.
In addition, the polyvinylcarbazole has a carbazole skeleton in the molecule such as poly (9-vinylcarbazole), and polyvinylcarbazole generally used in the art can be used without any particular limitation.

또한, 상기 폴리비닐나프탈렌은, 폴리(2-비닐나프탈렌)과 같이 분자 내에 나프탈렌 골격을 가지는 것으로, 당해 기술분야에서 일반적으로 사용되는 폴리비닐나프탈렌이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하다.
The polyvinylnaphthalene has a naphthalene skeleton in the molecule such as poly (2-vinylnaphthalene), and polyvinylnaphthalene generally used in the art can be used without particular limitation.

또한, 상기 스티렌계 수지는 스티렌계 단량체를 주 성분으로 포함하는 것이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하며, 이때 상기 스티렌계 단량체의 예로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 스티렌, α-메틸스티렌인 등을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 혼합하여 사용될 수 있다. 한편, 상기 스티렌계 수지에는 필요에 따라 상기한 스티렌계 단량체 외에 아크릴계 단량체, 말레산 무수물계 단량체, 말레이미드계 단량체, 아크릴로니트릴계 단량체 등이 스티렌계 단량체와 함께 사용될 수도 있다. 또한, 상기 스티렌계 수지는 이러한 스티렌계 수지가 아크릴계 수지 등의 별도의 수지와 블렌딩 되어 사용되는 것일 수도 있다.
The styrenic resin may be used without particular limitation as long as it contains a styrenic monomer as a main component. Examples of the styrenic monomer include, but are not limited to, styrene,? -Methylstyrene, etc. These may be used alone or in combination. If necessary, an acrylic monomer, a maleic anhydride monomer, a maleimide monomer, an acrylonitrile monomer, or the like may be used together with the styrene monomer, in addition to the styrene monomer, if necessary. Further, the styrene type resin may be such that the styrene type resin is blended with another resin such as an acrylic resin.

한편, 상기 복굴절성 물질은 정의 복굴절성 물질인 것이 보다 바람직하다. 정의 복굴절성 물질은 연신 방향으로 최대 굴절율이 발현이 되는바, 고온 연신 과정에서 열 수축성 필름을 이용하여 연신 방향에 수직한 방향으로 강제적으로 열 수축을 시키는 경우, nx > nz > ny를 보다 용이하게 구현할 수 있다는 장점이 있다.
It is more preferable that the birefringent material is a positive birefringent material. Definition In a birefringent material, a maximum refractive index is expressed in a stretching direction. When a heat shrinkable film is used in a high temperature stretching process to forcibly heat shrink in a direction perpendicular to the stretching direction, n x > n z > n y There is an advantage that it can be implemented more easily.

다음으로, 상기 용매는 복굴절성 물질을 용해할 수 있는 것이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하며, 사용하는 복굴절성 물질에 따라 적절하게 결정할 수 있다. 예를 들면, 상기 용매로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 메틸렌클로라이드, 클로로포름, 테트라하이드로퓨란(THF), 1,3-디옥살레인, 시클로펜타논, N-메틸 피롤리돈(NMP), 디메틸폼아마이드(DMF), 디메틸아세트아마이드(DMAc), 에탄올, 메탄올 등의 알코올류, 물 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 이용해도 되고 2종 이상을 병행해도 된다. 또한, 용매의 건조 조건 등도 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 열풍이나 IR 히터 등을 이용하여 온도 및 시간을 조절하여 건조할 수 있다.
Next, the solvent can be used without particular limitation as long as it can dissolve the birefringent material, and can be appropriately determined according to the birefringent material to be used. Examples of the solvent include, but are not limited to, methylene chloride, chloroform, tetrahydrofuran (THF), 1,3-dioxane, cyclopentanone, N-methylpyrrolidone (NMP) Alcohols such as formamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), ethanol and methanol, and water. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The drying conditions of the solvent and the like are not particularly limited. For example, the drying can be carried out by adjusting the temperature and time using hot air or an IR heater.

한편, 상기 복굴절층 형성 조성물에 포함되는 복굴절성 물질의 농도는 5 내지 50wt%인 것이 바람직하며, 예를 들면, 10 내지 30wt% 정도일 수 있다. 농도가 너무 낮은 경우에는 균일한 두께로 코팅은 용이하나 코팅층을 충분한 두께로 형성하기 어려울 수 있으며, 너무 높은 경우에는 충분한 두께로 형성은 가능하나, 점도가 높아져 균일한 두께로 코팅하기 어려울 수 있고, 또한 건조시간이 지나치게 길어질 수 있다.On the other hand, the concentration of the birefringent material contained in the birefringent layer forming composition is preferably 5 to 50 wt%, and may be, for example, 10 to 30 wt%. When the concentration is too low, coating with a uniform thickness is easy, but it may be difficult to form the coating layer with sufficient thickness. When the concentration is too high, it may be formed with sufficient thickness when it is too high, Also, the drying time may be too long.

한편, 상기 복굴절층의 유리전이온도는 후술할 열 수축성 필름의 유리전이온도 보다 20℃ 이상 큰 것이 바람직하며, 예를 들면, 20℃ 내지 100℃ 또는 30℃ 내지 80℃ 정도 차이가 날 수 있다. 이와 같이 유리전이온도가 차이가 나는 경우, 고온 연신 과정에서 상대적으로 열 수축성 필름은 강하게 수축하게 되고, 복굴절층은 비교적 고분자의 상태가 단단하여 그 자체로는 수축이 강하게 일어나지 않게 된다. 이때, 강하게 수축되는 열 수축성 필름에 의하여 복굴절층이 강제로 더욱 수축하게 되며, 그 결과 고분자가 강하게 배향되므로 높은 위상차를 발현할 수 있다. 유리전이온도의 측정 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 유리전이온도는 시차주사형 열량계(DSC)에 의해 측정될 수 있다. 예컨대, 시차주사형 열량계(DSC)를 이용하는 경우, 약 10mg의 시료를 전용 팬(pan)에 밀봉하고 일정 승온 조건으로 가열할 때 상변이가 일어남에 따른 물질의 흡열 및 발열량을 온도에 따라 그려 유리전이온도를 측정할 수 있다.
On the other hand, the glass transition temperature of the birefringent layer is preferably 20 ° C or higher, more preferably 20 ° C to 100 ° C or 30 ° C to 80 ° C, more than the glass transition temperature of the heat shrinkable film described later. When the glass transition temperature is different, the heat shrinkable film is strongly shrunk in the high temperature stretching process, and the birefringent layer is relatively hard in the state of the polymer, so that the shrinkage is not strong in itself. At this time, the birefringent layer is forcibly contracted by the heat shrinkable film which is strongly contracted, and as a result, the polymer is strongly oriented, and thus a high retardation can be exhibited. The method of measuring the glass transition temperature is not particularly limited, and for example, the glass transition temperature can be measured by a differential scanning calorimeter (DSC). For example, in the case of using a differential scanning calorimeter (DSC), when a sample of about 10 mg is sealed in a dedicated pan and heated at a constant temperature, the amount of endothermic heat The transition temperature can be measured.

(b) (b) 복굴절층Birefringent layer 전사 단계( Transfer stage ( 적층체The laminate 형성 단계) Forming step)

다음으로, 이형 필름 상에 복굴절층이 형성되면, 상기 복굴절층을 열 수축성 필름에 전사하여 적층체를 형성한다. 이때, 상기 복굴절층의 전사 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 점착제 또는 접착제를 이용하여 복굴절층을 열 수축성 필름 상에 전사할 수 있다. 보다 구체적으로, 열 수축성 필름 상에 점착제 또는 접착제 층을 형성한 후, 복굴절층을 상기 점착제 또는 접착제 층을 매개로 합지하고, 이형 필름을 박리하는 방법으로 전사할 수 있다.
Next, when a birefringent layer is formed on the release film, the birefringent layer is transferred to a heat shrinkable film to form a laminate. At this time, the method of transferring the birefringent layer is not particularly limited, and for example, the birefringent layer can be transferred onto the heat shrinkable film using a pressure-sensitive adhesive or an adhesive. More specifically, after forming a pressure-sensitive adhesive or an adhesive layer on a heat shrinkable film, the birefringent layer may be laminated via the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer, and the release film may be peeled off.

이때, 본 발명에서 사용 가능한 열 수축성 필름은 상기 복굴절층 보다 큰 열 수축성을 갖는 것이면 공지의 수지 필름을 특별한 제한 없이 사용이 가능하다. 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 아크릴계 수지, 노르보르넨계 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아마이드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리아세테이트계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리비닐알코올계 수지 등을 포함하는 것을 사용할 수 있다. 다만, 동일한 열 수축 조건에서 단일 필름 상태로 측정한 연신 방향에 대하여 수직한 방향의 수축률이 복굴절층보다는 커야 하며, 예를 들면 약 10% 이상 커야 한다. 한편, 상기 수축률은 당해 기술분야에 있어서 잘 알려진 공지의 방법으로 측정이 가능하다. 예를 들면, 필름에 1cm 간격으로 점을 찍은 후, Zwick社의 UTM(Universe Testing Machine) 장비를 이용하여 필름을 수축시키고, 수축시킨 후의 점의 거리를 재는 방법으로 측정할 수 있다.
At this time, if the heat shrinkable film usable in the present invention has heat shrinkability greater than that of the birefringent layer, a known resin film can be used without any particular limitation. For example, but not limited to, acrylic resins, norbornene resins, polyolefin resins, polyester resins, polyamide resins, polyimide resins, polycarbonate resins, polystyrene resins, polyvinyl chloride resins Polyvinyl chloride resins, polyvinyl chloride resins, polyvinyl chloride resins, cellulose resins, polyether sulfone resins, polysulfone resins, polyacetate resins, polyarylate resins, and polyvinyl alcohol resins. However, the shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction measured in the single film state under the same heat shrinkage condition must be larger than that of the birefringent layer, for example, about 10% or more. On the other hand, the shrinkage percentage can be measured by a well-known method well known in the art. For example, the film may be spotted at 1 cm intervals, then shrink the film using Zwick Universe Testing Machine (UTM) equipment and measure the distance of the point after shrinkage.

한편, 상기 열 수축성 필름은, 이에 한정되는 것은 아니나, 그 중에서도 폴리에스테르계 수지, 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 것이 바람직하다. 폴리에틸렌테레프탈레이트의 경우 가격 경쟁력이 우수할 뿐만 아니라, 유리전이온도가 낮아 고온 연신 과정에서 열 수축성이 우수하기 때문이다.
On the other hand, the heat shrinkable film is preferably, but not limited to, a polyester resin, particularly polyethylene terephthalate. Polyethylene terephthalate is not only excellent in price competitiveness but also has excellent heat shrinkability during high temperature stretching due to its low glass transition temperature.

한편, 상기 열 수축성 필름은 폭 방향(TD)으로 1축 연신 처리된 필름인 것이 상기 복굴절층을 효과적으로 수축시키기 위하여 바람직하다. 이때, 본 발명은 시판되는 열 수축성 필름으로써 폭 방향(TD)으로 1축 연신 처리된 필름을 사용할 수 있으며, 또는 시판되는 수축 특성을 가지는 미연신 고분자 필름을 후술하는 방법에 의하여 폭 방향(TD)으로 1축 연신 처리하여 사용할 수도 있다.
On the other hand, the heat shrinkable film is preferably a film which is uniaxially stretched in the width direction (TD) in order to effectively shrink the birefringent layer. At this time, the present invention can use a film that is uniaxially stretched in the width direction (TD) as a commercially available heat shrinkable film, or a non-stretched polymer film having a shrinkage property on the market, Can be used for uniaxial stretching.

한편, 상기 열 수축성 필름은 두께가 10㎛ 내지 100㎛ 인 것이 바람직하며, 20㎛ 내지 80㎛ 정도인 것이 보다 바람직하다. 이 경우 복굴절층을 보다 효과적으로 수축시킬 수 있다.
On the other hand, the thickness of the heat shrinkable film is preferably 10 to 100 탆, more preferably 20 to 80 탆. In this case, the birefringent layer can be more effectively shrunk.

다음으로, 복굴절층을 열 수축성 필름 상에 전사하기 위한 점착제 또는 접착제는 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술분야에 잘 알려진 점착제 또는 접착제를 사용할 수 있다. 다만, 본 발명의 발명자들의 연구에 의하면, 점착제, 예를 들면 아크릴계 점착제를 이용하는 경우에는 점착제에 의한 점착 잔류물이 발생하여 생산성이 저하되고, 점착제에 의해 접착된 두 층이 고온 연신 과정에서 박리되기 쉬워 복굴절층이 충분히 수축되지 못하는 문제점이 있었다. 또한 접착제 중에서도 수계 접착제, 예를 들면 폴리비닐알코올계 수계 접착제를 사용하는 경우에는 수분에 의하여 박리 후 필름에 기포가 발생하는 문제가 있었다. 그러나, 이와 달리 활성 에너지선 경화형 접착제을 이용하는 경우, 상기와 같은 문제가 발생하지 않았다.
Next, the pressure-sensitive adhesive or adhesive for transferring the birefringent layer onto the heat shrinkable film is not particularly limited, and a pressure-sensitive adhesive or an adhesive well-known in the art can be used. However, according to the study of the inventors of the present invention, when a pressure-sensitive adhesive such as an acrylic pressure-sensitive adhesive is used, the pressure-sensitive adhesive residue caused by the pressure-sensitive adhesive causes the productivity to be lowered, and the two layers adhered by the pressure- So that the birefringent layer can not be sufficiently shrunk. Further, in the case of using an aqueous adhesive, for example, a polyvinyl alcohol-based water-based adhesive, among the adhesives, bubbles are generated in the film after peeling off by moisture. In contrast, when the active energy ray-curable adhesive is used, the above-mentioned problems do not occur.

한편, 본 발명에 사용 가능한 활성 에너지선 경화형 접착제는 특별히 한정되지 않으며, 선택하는 복굴절층 및 열 수축성 필름에 대하여 상기한 바와 같은 특징을 가질 수 있는 다양한 활성 에너지선 경화형 접착제를 선택하여 사용할 수 있다. 즉, 후술할 열 수축 단계에서도 충분한 접착력을 가짐으로써, 상술한 식 (1)뿐 아니라, 바람직하게는 상술한 식 (2) 역시 만족하며, 더욱 바람직하게는 식 (3) 및 (4) 역시 만족할 수 있는 활성 에너지선 경화형 접착제를 선택하여 사용할 수 있다.
On the other hand, the active energy ray curable adhesive that can be used in the present invention is not particularly limited, and various active energy ray curable adhesives having the above-described characteristics can be selected for the birefringent layer and the heat shrinkable film to be selected. That is, not only the above-mentioned formula (1) but also preferably the above-described formula (2) is also satisfied, and more preferably, the formulas (3) and (4) An active energy ray-curable adhesive can be selected and used.

당해 기술 분야에서 일반적으로 사용되는 활성 에너지선 경화형 접착제로는, 예를 들면, (메타)아크릴레이트계 라디칼 경화형 조성물, 엔/티올계 라디칼 경화형 조성물, 불포화 폴리에스테르계 라디칼 경화형 조성물 등의 광 라디칼 중합반응을 이용하는 조성물이나, 에폭시계 양이온 경화형 조성물, 옥세탄계 양이온 경화형 조성물, 에폭시/옥세탄계 양이온 경화형 조성물, 비닐에테르계 양이온 경화형 조성물 등의 광 양이온 중합반응을 이용하는 조성물 등을 포함하는 것을 들 수 있다.
Examples of the active energy ray-curable adhesive generally used in the art include optical radical polymerization such as (meth) acrylate radical curing composition, ene / thiol radical curing composition, and unsaturated polyester radical curing composition , A composition using a cationic photopolymerization reaction such as an epoxy-based cationic curable composition, an oxetane-based cationic curable composition, an epoxy / oxetane-based cationic curable composition, and a vinyl ether-based cationic curable composition.

보다 구체적으로 예를 들면, 상기 광 라디칼 중합반응을 이용하는 조성물로는 이에 한정되는 것은 아니나, 하기 [화학식 1]로 표시되는 제1화합물, 적어도 하나의 카르복시기를 포함하는 제2화합물, 및 라디칼 개시제를 포함하는 라디칼 경화형 조성물을 들 수 있다.More specifically, for example, the composition using the photo-radical polymerization reaction may include, but is not limited to, a first compound represented by the following formula (1), a second compound comprising at least one carboxyl group, and a radical initiator Based on the total weight of the composition.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112014087626660-pat00001
Figure 112014087626660-pat00001

상기 [화학식 1]에서, R1은 에스테르기 또는 에테르기고; R2는 C1 ~10 알킬기, C4~10 시클로알킬기, 또는 이들의 조합이고, 이때 R2는 분자 내에 적어도 하나의 히드록시 치환기를 가지며; R3는 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 ~10 알킬기이다. 한편, 상기 히드록시기는 알킬기 또는 시클로알킬기 내의 임의의 위치에 치환될 수 있다. 예를 들면, 상기 히드록시기는 알킬기의 말단에 올 수도 있고, 알킬기의 중간에 올 수도 있다. 한편, 상기 알킬기 또는 시클로알킬기에 포함되어 있는 나머지 수소 원자는 임의의 치환기로 치환될 수 있다.
In the above formula (1), R 1 represents an ester group or an ether group; R 2 is C 1 ~ 10 alkyl group, a C 4 ~ 10, and a cycloalkyl group, or a combination thereof, wherein R 2 has at least one hydroxy substituent in the molecule; R 3 is hydrogen, or a substituted or unsubstituted C 1 ~ 10 alkyl group; On the other hand, the hydroxy group may be substituted at any position in the alkyl group or the cycloalkyl group. For example, the hydroxy group may be at the terminal of the alkyl group or may be in the middle of the alkyl group. Meanwhile, the remaining hydrogen atoms contained in the alkyl group or the cycloalkyl group may be substituted with any substituent.

이때, 상기 제1화합물은, 접착력을 구현하기 위한 성분으로, [화학식 1]로 표시되는 다양한 화합물들이 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 제1화합물은, 이로써 제한되는 것은 아니지만, 하기 [화학식 2] 내지 [화학식 11]로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물일 수 있다. At this time, the first compound is a component for realizing an adhesive force, and various compounds represented by Formula 1 may be used. For example, the first compound may be at least one compound selected from compounds represented by the following formulas (2) to (11), though not limited thereto.

[화학식 2](2)



[화학식 3](3)

Figure 112014087626660-pat00003
Figure 112014087626660-pat00003

[화학식 4][Chemical Formula 4]



[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112014087626660-pat00005

Figure 112014087626660-pat00005

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure 112014087626660-pat00006

Figure 112014087626660-pat00006

[화학식 7](7)

Figure 112014087626660-pat00007

Figure 112014087626660-pat00007

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure 112014087626660-pat00008

Figure 112014087626660-pat00008

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure 112014087626660-pat00009

Figure 112014087626660-pat00009

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure 112014087626660-pat00010
Figure 112014087626660-pat00010

[화학식 11](11)

Figure 112014087626660-pat00011

Figure 112014087626660-pat00011

또한, 상기 제2화합물은 조성물의 내열성 및 점도 특성을 향상시키기 위한 것으로, 적어도 하나의 카르복시기를 포함한다. 보다 구체적으로, 상기 제2화합물은 예를 들면, 하기 [화학식 12] 내지 [화학식 26]로 표시되는 화합물들로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.Further, the second compound is for improving the heat resistance and the viscosity property of the composition, and includes at least one carboxyl group. More specifically, the second compound may be at least one selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (12) to (26).

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure 112014087626660-pat00012

Figure 112014087626660-pat00012

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure 112014087626660-pat00013

Figure 112014087626660-pat00013

[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure 112014087626660-pat00014
Figure 112014087626660-pat00014

(여기서, 상기 R'은

Figure 112014087626660-pat00015
또는
Figure 112014087626660-pat00016
이고, p는 1 내지 5의 정수임)(Wherein R 'is
Figure 112014087626660-pat00015
or
Figure 112014087626660-pat00016
And p is an integer of 1 to 5)

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure 112014087626660-pat00017

Figure 112014087626660-pat00017

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure 112014087626660-pat00018

Figure 112014087626660-pat00018

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure 112014087626660-pat00019

Figure 112014087626660-pat00019

[화학식 18][Chemical Formula 18]

Figure 112014087626660-pat00020

Figure 112014087626660-pat00020

[화학식 19][Chemical Formula 19]

Figure 112014087626660-pat00021

Figure 112014087626660-pat00021

[화학식 20][Chemical Formula 20]

Figure 112014087626660-pat00022

Figure 112014087626660-pat00022

[화학식 21][Chemical Formula 21]

Figure 112014087626660-pat00023

Figure 112014087626660-pat00023

[화학식 22][Chemical Formula 22]

Figure 112014087626660-pat00024

Figure 112014087626660-pat00024

[화학식 23](23)

Figure 112014087626660-pat00025

Figure 112014087626660-pat00025

[화학식 24]≪ EMI ID =

Figure 112014087626660-pat00026

Figure 112014087626660-pat00026

[화학식 25](25)

Figure 112014087626660-pat00027
Figure 112014087626660-pat00027

[화학식 26](26)

Figure 112014087626660-pat00028

Figure 112014087626660-pat00028

또한, 상기 라디칼 경화형 조성물에 포함되는 상기 라디칼 개시제는, 라디칼 중합성을 촉진하여 경화 속도를 향상시키기 위한 것으로, 상기 라디칼 개시제로는 당해 기술 분야에서 일반적으로 사용되는 라디칼 개시제들이 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 포스핀 옥사이드(Phosphine oxide), 페닐 비스 (2,4,6-트리메틸벤조일)(phenyl bis (2,4,6-trimethyl benzoyl) 등이 바람직하게 사용될 수 있다.
In addition, the radical initiator contained in the radical curable composition is used for promoting radical polymerization to improve the curing rate. As the radical initiator, radical initiators generally used in the art can be used without particular limitation . For example, phosphine oxide, phenyl bis (2,4,6-trimethyl benzoyl), and the like can be preferably used, though not limited thereto .

한편, 상기 라디칼 경화형 조성물은, 점도 조절을 위해, 제3화합물로 탄소수 7 내지 20개, 바람직하게는 탄소수 7 내지 15개의 고리 구조를 포함하는 아크릴 모노머를 추가로 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제3화합물은, 예를 들면 이소보닐 (메트)아크릴레이트(Isobornyl (meth)acrylate), 노보닐 (메트)아크릴레이트(Norbornyl (meth)acrylate), 디시클로펜타닐 (메트)아크릴레이트(Dicyclopentanyl (meth)acrylate), 디시클로펜테닐 (메트)아크릴레이트(Dicyclopentenyl (meth)acrylate) 및 1-아다만틸-(메트)아크릴레이트(1-adamantyl-(meth)acrylate)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Meanwhile, the radically curable composition may further contain an acrylic monomer containing a cyclic structure having 7 to 20 carbon atoms, preferably 7 to 15 carbon atoms, as a third compound for viscosity control. More specifically, the third compound is selected from, for example, isobornyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) A group consisting of dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate and 1-adamantyl- (meth) acrylate , But the present invention is not limited thereto.

보다 구체적으로는, 상기 라디칼 경화형 조성물은, 전체 조성물 100 중량부에 대하여, 40 내지 80 중량부의 제1화합물, 15 내지 50 중량부의 제2화합물 및 0.5 내지 10 중량부의 라디칼 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.
More preferably, the radical curable composition comprises 40 to 80 parts by weight of the first compound, 15 to 50 parts by weight of the second compound, and 0.5 to 10 parts by weight of the radical initiator based on 100 parts by weight of the total composition .

또한, 상기 광 양이온 중합반응을 이용하는 조성물에 대하여 보다 구체적으로 예를 들면, 이에 한정되는 것은 아니나, 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 제1에폭시 화합물, 호모폴리머의 유리전이온도가 60℃ 이하인 제2에폭시 화합물 및 광 양이온 중합 개시제를 포함하는 양이온 경화형 조성물을 들 수 있다. 상기 에폭시 화합물은 분자 내에 1개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물을 의미하는 것으로, 바람직하게는 분자 내에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물이며, 단량체(monomer), 중합체(polymer) 또는 수지(resin)의 형태의 화합물들을 모두 포함하는 개념이다. 바람직하게는 본 발명의 에폭시 화합물은 수지 형태일 수 있다.
More specifically, for example, but not limited to, the composition using the photo cationic polymerization, the first epoxy compound or homopolymer having a glass transition temperature of 120 캜 or higher of the homopolymer may have a glass transition temperature of 60 캜 or lower A second epoxy compound and a photo cationic polymerization initiator. The epoxy compound means a compound having at least one epoxy group in the molecule, preferably a compound having at least two epoxy groups in the molecule, and a compound in the form of a monomer, a polymer or a resin . Preferably, the epoxy compound of the present invention may be in the form of a resin.

이때, 상기 제1에폭시 화합물은, 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 에폭시 화합물이면 특별한 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면, 호모 폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 지환족 에폭시 화합물 및/또는 방향족 에폭시가 본 발명의 제1에폭시 화합물로 사용될 수 있다. 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 이상인 에폭시 화합물의 구체적인 예로는, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 비닐사이클로헥센디옥사이드 디시클로펜타디엔디옥사이드, 비스에폭시사이클로펜틸에테르, 비스페놀 A 계 에폭시 화합물, 비스페놀 F 계 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 한편, 상기 제1에폭시 화합물은 호모폴리머의 유리전이온도가 120℃ 내지 200℃ 정도인 것이 보다 바람직하다.
The first epoxy compound may be an epoxy compound having a glass transition temperature of not lower than 120 ° C. and may be used without any particular limitation. For example, the first epoxy compound may be an alicyclic epoxy compound having a glass transition temperature of 120 ° C. or higher and / An aromatic epoxy may be used as the first epoxy compound of the present invention. Specific examples of the epoxy compound having a glass transition temperature of 120 ° C or higher of the homopolymer include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide dicyclopentadiene dioxide, bis epoxycyclo Pentyl ether, bisphenol A-based epoxy compounds, and bisphenol F-based epoxy compounds. It is more preferable that the glass transition temperature of the homopolymer of the first epoxy compound is about 120 ° C to 200 ° C.

또한, 상기 제2에폭시 화합물은, 호모폴리머의 유리전이온도가 60℃ 이하인 에폭시 화합물이면 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 제2에폭시 화합물로 지환족 에폭시 화합물, 지방족 에폭시 화합물 등이 사용될 수 있다. 이때, 상기 지환식 에폭시 화합물로는, 2관능형 에폭시 화합물, 즉 2개의 에폭시를 가지는 화합물을 사용하는 것이 바람직하고, 상기 2개의 에폭시기가 모두 지환식 에폭시기인 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 지방족 에폭시 화합물로는, 지환식 에폭시기가 아닌 지방족 에폭시기를 가지는 에폭시 화합물이 예시될 수 있다. 예를 들면, 지방족 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 알코올의 알킬렌옥시드 부가물의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 알코올과 지방족 다가 카복실산의 폴리에스테르 폴리올의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 카복실산의 폴리글리시딜에테르; 지방족 다가 알코올과 지방족 다가 카복실산의 폴리에스테르 폴리카복실산의 폴리글리시딜에테르; 글리시딜 아크릴레이트 또는 글리시딜 메타크릴레이트의 비닐 중합에 의해 얻어지는 다이머, 올리고머 또는 폴리머; 또는 글리시딜 아크릴레이트 또는 글리시딜 메타크릴레이트와 다른 비닐계 단량체의 비닐 중합에 의해 얻어지는 올리고머 또는 폴리머가 예시될 수 있고, 바람직하게는 지방족 다가 알코올 또는 그 알킬렌옥시드 부가물의 폴리글리시딜에테르가 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
The second epoxy compound can be used without any particular limitation as long as it is an epoxy compound having a glass transition temperature of 60 占 폚 or less of the homopolymer. For example, the second epoxy compound may be an alicyclic epoxy compound, an aliphatic epoxy compound, or the like. At this time, as the alicyclic epoxy compound, a bifunctional epoxy compound, that is, a compound having two epoxy groups is preferably used, and it is more preferable to use a compound in which the two epoxy groups are alicyclic epoxy groups. But is not limited to. As the aliphatic epoxy compound, an epoxy compound having an aliphatic epoxy group rather than an alicyclic epoxy group can be exemplified. For example, polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols; Polyglycidyl ethers of alkylene oxide adducts of aliphatic polyhydric alcohols; Polyglycidyl ethers of polyester polyols of aliphatic polyhydric alcohols and aliphatic polyvalent carboxylic acids; Polyglycidyl ethers of aliphatic polyvalent carboxylic acids; Polyglycidyl ethers of polyester polycarboxylic acids of aliphatic polyhydric alcohols and aliphatic polyvalent carboxylic acids; Dimers, oligomers or polymers obtained by vinyl polymerization of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate; Or an oligomer or polymer obtained by vinyl polymerization of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate and other vinyl monomers, and preferably an aliphatic polyhydric alcohol or an alkylene oxide adduct thereof polyglycidyl Ethers may be used, but are not limited thereto.

바람직하게는, 본 발명의 상기 제2에폭시 화합물은 글리시딜 에테르기를 하나 이상 포함하는 것일 수 있으며, 예를 들면, 1,4-시클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르, 1,4-부탄디올디글시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸디글시딜에테르, 레조시놀디글리시딜에테르, 디에틸렌글라이콜디글리시딜에테르, 에틸렌글라이콜디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, n-부틸 글리시딜 에테르, 2-에틸헥실 글리시딜 에테르, 페닐 글리시딜 에테르, 및 o-크레실(Cresyl) 글리시딜 에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 본 발명의 제2에폭시 화합물로 사용될 수 있다.
Preferably, the second epoxy compound of the present invention may contain at least one glycidyl ether group, and examples thereof include 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, 1,4-butanediol di Hexyldiol diglycidyl ether, neopentyldiglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, diethylene glycol di glycidyl ether, ethylene glycol di glycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, One selected from the group consisting of trimethylolpropane triglycidyl ether, n-butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, and o-cresyl glycidyl ether. Or more can be used as the second epoxy compound of the present invention.

한편, 상기 제2에폭시 화합물은 호모폴리머의 유리전이온도가 0℃ 내지 60℃ 정도인 것이 보다 바람직하다
On the other hand, the second epoxy compound preferably has a glass transition temperature of the homopolymer of about 0 캜 to 60 캜

한편, 이로써 한정되는 것은 아니나, 상기 에폭시 화합물로 에폭시화 지방족 고리기를 하나 이상 포함하는 제 1 에폭시 화합물 및 글리시딜에테르기를 하나 이상 포함하는 제 2 에폭시 화합물의 조합을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 상기와 같은 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물의 조합을 사용하는 경우, 저점도와 접착력을 만족할 뿐만 아니라, 편광판의 열 충격 물성이 향상되는 것으로 나타났다.
It is particularly preferable to use a combination of a first epoxy compound containing at least one epoxidized aliphatic ring group and a second epoxy compound containing at least one glycidyl ether group as the epoxy compound. When such a combination of the first epoxy compound and the second epoxy compound is used, it has been found that not only the low viscosity and the adhesive strength are satisfied but also the thermal shock property of the polarizing plate is improved.

한편, 상기 제2에폭시 화합물은 제1에폭시 화합물 100 중량부에 대하여, 30 내지 100 중량부의 함량으로 포함되는 것이 바람직하다. 제2에폭시 화합물의 함량이 100 중량부를 초과할 경우, 전체 조성물의 유리전이온도가 낮아져 내열성이 저하되고, 30 중량부 미만인 경우에는 접착력이 저하될 수 있기 때문이다.
Meanwhile, the second epoxy compound is preferably contained in an amount of 30 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the first epoxy compound. When the content of the second epoxy compound is more than 100 parts by weight, the glass transition temperature of the whole composition is lowered to lower the heat resistance. If the content is less than 30 parts by weight, the adhesive strength may be lowered.

보다 바람직하게는, 상기 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물의 중량비가 1:1 내지 3:1정도이며, 보다 바람직하게는, 1:1 내지 2:1의 중량비, 가장 바람직하게는 상기 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물이 1:1의 중량비로 혼합되어 사용될 수 있다. 제1에폭시 화합물과 제2에폭시 화합물의 중량비율이 상기 범위를 만족할 때, 유리전이온도 및 접착력 면에서 가장 바람직한 물성을 얻을 수 있다.
More preferably, the weight ratio of the first epoxy compound to the second epoxy compound is about 1: 1 to 3: 1, more preferably 1: 1 to 2: 1, An epoxy compound and a second epoxy compound may be mixed and used in a weight ratio of 1: 1. When the weight ratio of the first epoxy compound and the second epoxy compound is in the above range, the most preferable physical properties in terms of the glass transition temperature and the adhesion can be obtained.

한편, 상기 양이온성 광 중합 개시제는 활성 에너지 선의 조사에 의해 양이온(cation) 종이나 루이스산을 만들어내는 화합물로서, 예를 들면 방향족 디아조늄염, 방향족 요오드 알루미늄염이나 방향족 설포늄염과 같은 오늄염, 철-아렌 착제 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 한편, 상기 양이온성 광 중합 개시제의 함량은 제1에폭시 화합물 100 중량부에 대하여, 0.5 내지 20 중량부 정도이며, 바람직하게는 0.5 내지 15 중량부 정도, 더 바람직하게는 0.5 내지 10 중량부 정도이다.
On the other hand, the cationic photopolymerization initiator is a compound which produces a cationic species or Lewis acid by irradiation with an active energy ray. Examples of the cationic photopolymerization initiator include onium salts such as aromatic diazonium salts, aromatic iodine aluminum salts and aromatic sulfonium salts, Iron-arene complex, and the like, but the present invention is not limited thereto. On the other hand, the content of the cationic photopolymerization initiator is about 0.5 to 20 parts by weight, preferably about 0.5 to 15 parts by weight, more preferably about 0.5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the first epoxy compound .

한편, 상기 양이온 경화형 조성물은 필요에 따라, 분자 내에 적어도 1개의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄 화합물 100 내지 400 중량부를 더 포함할 수 있다. 옥세탄 화합물을 사용할 경우, 조성물의 점도를 낮추어 경화 후 수지층의 박막화를 도모 할 수 있다.
The cationically curable composition may further contain 100 to 400 parts by weight of an oxetane compound having at least one oxetanyl group in the molecule, if necessary. When an oxetane compound is used, the viscosity of the composition can be lowered to make the resin layer thinner after curing.

한편, 옥세탄 화합물은 분자 내에 적어도 1개의 옥세타닐기를 갖는 것이면, 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술 분야에 잘 알려진 다양한 옥세탄 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 상기 옥세탄 화합물로는, 3-에틸-3-〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕옥세탄, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕벤젠, 1,4-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 1,2-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕벤젠, 4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,2'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕비페닐, 2,7-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕나프탈렌, 비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 비스〔2-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕메탄, 2,2-비스〔4-{(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}페닐〕프로판, 노볼락형페놀-포름알데히드 수지의 3-클로로메틸-3-에틸옥세탄에 의한 에테르화 변성물, 3(4),8(9)-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕-트리시클로[5.2.1.0 2,6]데칸, 2,3-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕노르보르난, 1,1,1-트리스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕프로판, 1-부톡시-2,2-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸〕부탄, 1,2-비스〔{2-(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시}에틸티오〕에탄, 비스〔{4-(3-에틸옥세탄-3-일)메틸티오}페닐〕술피드, 1,6-비스〔(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시〕-2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로헥산 등을 들 수 있다. 한편, 상기 옥세탄 화합물의 함량은 제1에폭시 화합물 100중량부에 대하여, 100 내지 400 중량부, 보다 바람직하게는 150 내지 300중량부 정도인 것이 바람직하다.
On the other hand, the oxetane compound is not particularly limited as long as it has at least one oxetanyl group in the molecule, and various oxetane compounds well known in the art can be used. Examples of the oxetane compound of the present invention include 3-ethyl-3 - [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] oxetane, 1,4-bis [ 3-yl) methoxymethyl] benzene, 1,4-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] benzene, 1,3- ) Methoxy] benzene, 1,2-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] benzene, 4,4'- Phenyl, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-bis [3-ethyloxetane-3-yl] 3-yl) methoxy] naphthalene, bis [4 - {(3-ethyloxetan-3-yl) ) Methoxy} phenyl] methane, bis [2 - {(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy} phenyl] methane, 2,2- ) Methoxy} phenyl] propane, an etherified product of 3-chloromethyl-3-ethyloxetane of novolak type phenol-formaldehyde resin, 3 (4) Oxetane- (3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] norbornane, 1,1,1,3,3-tetramethyl- Methoxy methyl] propane, 1-butoxy-2,2-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] , [2- (3-ethyloxetan-3-yl) methoxy} ethylthio] ethane, bis [{4- , And 1,6-bis [(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] -2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane. On the other hand, the content of the oxetane compound is preferably 100 to 400 parts by weight, more preferably 150 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the first epoxy compound.

한편, 옥세탄화합물로 옥세타닐기를 2개 갖는 경우 경화 후 수지층의 유리전이온도를 높이는데 효과적이며 옥세타닐기를 1개 갖는 경우 접착력에 유리하다.
On the other hand, when two oxetanyl groups are used as the oxetane compound, it is effective to increase the glass transition temperature of the resin layer after curing, and it is advantageous in the case of having one oxetanyl group.

한편, 본 발명에서 사용하는 상기 활성 에너지선 경화형 접착제는 경화 후 유리전이온도가 70℃ 이상인 것이 바람직하며, 예를 들면 70℃ 내지 150℃ 정도, 또는 80℃ 내지 120℃ 정도일 수 있다. 이 경우, 충분한 내열성을 가질 수 있는바, 열 수축을 위한 고온 연신 과정에서 충분한 접착력을 가질 수 있다.
Meanwhile, the active energy ray-curable adhesive used in the present invention preferably has a glass transition temperature after curing of 70 ° C or higher, for example, about 70 ° C to 150 ° C or about 80 ° C to 120 ° C. In this case, since it can have sufficient heat resistance, it can have a sufficient adhesive force in the high temperature stretching process for heat shrinkage.

한편, 이와 같은 활성 에너지선 경화형 접착제를 매개로 적층체를 형성하는 경우, 적층체 형성 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 상기 복굴절층과 열 수축성 필름의 사이에 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 도포한 후, 이들을 합지하고, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 경화시키는 방법으로 수행되는 것일 수 있다,
On the other hand, in the case of forming a laminate through such an active energy ray-curable adhesive, there is no particular limitation on the method of forming the laminate. For example, an active energy ray-curable adhesive composition may be applied between the birefringent layer and the heat- And then curing the active energy ray-curable adhesive composition by irradiating active energy rays to the active energy ray curable adhesive composition.

이때, 복굴절층과 열 수축성 필름 사이에 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 복굴절층 또는 열 수축성 필름 상에 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 점적 방식으로 흘려 넣음으로써, 충분한 양의 뱅크(BANK)를 형성하는 방식을 이용할 수 있다.
At this time, the method of applying the active energy ray-curable adhesive composition between the birefringent layer and the heat shrinkable film is not particularly limited. For example, the active energy ray-curable adhesive composition is flowed in a dripping manner on the birefringent layer or the heat shrinkable film , A method of forming a sufficient amount of banks (BANK) can be used.

또한, 합지하는 방법 역시 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 상기 복굴절층과 열 수축성 필름을 접착시키면서, 서로 반대 방향으로 회전하는 두 개의 롤 사이를 통과하는 라미네이트 공정 등을 이용할 수 있다.
Also, the method of laminating is not particularly limited. For example, a lamination process in which the birefringent layer and the heat shrinkable film are adhered to each other and passes between two rolls rotating in opposite directions can be used.

또한, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 경화시키는 방법 역시 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 자외선, 가시광선, 전자선, X선 등의 활성 에너지선 조사를 통해 경화시키는 방법으로 수행될 수 있다. 이때, 조사 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 자외선 조사장치(LH10 Fusion D bulb)를 이용하여 광량 500mJ/cm2 정도의 자외선을 세기 2000mW/cm2 정도, 속도 20m/min 정도의 조건에서 조사하는 방법으로 수행할 수 있다.
Also, the method for curing the active energy ray-curable adhesive composition is not particularly limited, and can be performed by, for example, a method of curing through irradiation of active energy ray such as ultraviolet ray, visible ray, electron ray or X-ray. At this time, the method of irradiation is not particularly limited. For example, ultraviolet light having a light intensity of about 500 mJ / cm 2 is irradiated using an ultraviolet irradiator (LH10 Fusion D bulb) under conditions of about 2000 mW / cm 2 and a speed of about 20 m / min And the like.

(c) 열 수축 공정(c) Heat shrinkage process

상기와 같은 방법으로 적층체가 형성이 되면, 적층체를 상기한 바와 같이 식 (1)을 만족하며, 바람직하게는 식 (2)를 더 만족하며, 보다 바람직하게는 상기 식 (3) 및 (4)를 더 만족하도록 열 수축 시킨다. 이때, 상기 열 수축하는 단계는 적층체를 공지의 연신 장비 등을 이용하여 길이 방향(MD)으로 1축 연신하는 방법으로 수행되는 것이 바람직하다. 예를 들면, 고온 조건의 오븐 안에서 적층체의 길이 방향(MD)의 양 끝을 잡아준 상태에서 UTM 장비를 이용하여 적층체를 길이 방향(MD)으로 당기는 방법으로 1축 연신할 수 있다. 본 발명에 사용한 상기 복굴절층은 연신 방향을 따라 최대 굴절율이 발현이 되는 정의 복굴절층인 것이 바람직하며, 이 경우 길이 방향(MD)이 x 방향(굴절율이 최대가 되는 방향)이 되고, 폭 방향(TD)이 y 방향(굴절율이 최대가 되는 방향에 수직한 방향)이 된다. 이때, 상기 고온 연신에 의하여 y 방향으로 적층체가 수축하게 되는데, 특히 복굴절층은 상대적으로 수축이 더 잘 일어나는 열 수축성 필름과 합지되어 있는바 급격하게 수축하게 되며, 그 결과 ny 가 nz 보다 더 작아지므로, nx > nz > ny 의 위상차 특성을 효과적으로 구현할 수 있게 된다.
When the laminate is formed in the same manner as described above, the laminate satisfies the formula (1), preferably satisfies the formula (2), and more preferably satisfies the formulas (3) and ) Is further heat-shrunk. At this time, the heat shrinking step is preferably performed by a method of uniaxially stretching the laminate in the longitudinal direction (MD) using a known drawing machine or the like. For example, uniaxial stretching can be performed by pulling the laminate in the longitudinal direction (MD) using UTM equipment while holding both ends of the laminate in the longitudinal direction (MD) in an oven at high temperature. The birefringent layer used in the present invention is preferably a positive birefringent layer in which the maximum refractive index is expressed along the stretching direction. In this case, the longitudinal direction MD becomes the x direction (the direction in which the refractive index becomes maximum) TD) in the y direction (direction perpendicular to the direction in which the refractive index becomes maximum). At this time, there is shrink laminated body in the y direction by the high-temperature stretching, in particular the birefringent layer is relatively contractions better occurs abruptly contracted bar is laminated and heat shrinkable film with, as a result, n y is more than n z becomes smaller, n x> n z & gt ; n < y & gt ; can be effectively implemented.

이때, 상기 연신은 열 수축성 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg) 내지 (Tg + 100℃)의 온도에서 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, (Tg + 20℃) 내지 (Tg + 80℃)의 온도에서 수행될 수 있다. 연신 온도가 이와 같은 범위를 만족해야지만 높은 위상차 구현이 가능하다. 구체적으로, 이와 같은 연신 온도에서 복굴절층은 수축을 잘 안 하려고 하나, 열 수축성 필름은 매우 강하게 수축을 하려고 하며, 이때 이들은 수지층에 의하여 부착되어 있는바, 복굴절층은 연신 과정에서 강한 폭 수축이 일어나게 되며, 그 결과 높은 위상차를 가질 수 있다.
The stretching is preferably performed at a temperature of (Tg) to (Tg + 100 ° C), for example, from (Tg + 20 ° C) to (Tg + 80 < 0 > C). A high retardation can be realized only when the stretching temperature satisfies the above range. Specifically, at such a stretching temperature, the birefringent layer attempts to shrink easily, but the heat shrinkable film tends to shrink very strongly. At this time, the birefringent layer adheres to the resin layer. In the stretching process, And, as a result, can have a high phase difference.

또한, 상기 연신은 1.1 내지 3.0 배의 연신 배율로 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면, 1.1 내지 2.5 배 또는 1.1 내지 2.0 배의 연신 배율로 수행될 수 있다. 이와 같은 연신 배율로 연신이 수행되는 경우, 복굴절층을 본 발명이 원하는 만큼 폭 방향으로 수축시킬 수 있으며, 본 발명이 원하는 만큼의 높은 위상차를 구현시킬 수 있다.
In addition, the stretching is preferably performed at a draw magnification of 1.1 to 3.0 times, for example, at a draw magnification of 1.1 to 2.5 times or 1.1 to 2.0 times. When the stretching at such a stretching magnification is performed, the birefringent layer can be contracted in the width direction as much as desired by the present invention, and the present invention can realize a high retardation as desired.

한편, 상기 적층체를 열 수축하는 단계 후 복굴절층의 두께는 30㎛ 이하인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1㎛ 내지 20㎛ 또는 1㎛ 내지 15㎛ 정도일 수 있다. 연신 후 복굴절층의 두께가 이보다 두꺼운 경우에는 이를 포함하는 편광판이나 디스플레이 장치의 박형 경량화 추세에 부흥할 수 없을 뿐만 아니라, 본 발명이 추구하는 위상차 값의 범위를 벗어날 수 있다.
On the other hand, the thickness of the birefringent layer after heat shrinking the laminate is preferably 30 占 퐉 or less, more preferably 1 占 퐉 to 20 占 퐉 or 1 占 퐉 to 15 占 퐉. If the thickness of the birefringent layer after stretching is larger than the above range, it is not possible to reduce the thickness of the polarizing plate or the display device including the polarizing plate or the display device, and it may deviate from the range of the retardation value pursued by the present invention.

(d) 기타 공정(d) Other processes

한편, 본 발명의 제조 방법은 상기 적층체를 형성하는 단계 전에 열 수축성 필름을 텐터 연신기 등을 이용하여 폭 방향(TD)으로 1축 연신하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이는 상기 열 수축성 필름을 폭 방향(TD)으로 1축 연신 된 상태로 사용하기 위한 것으로, 상기한 바와 같이, 상기 열 수축성 필름이 폭 방향(TD)으로 1축 연신 처리된 필름인 경우 상기 복굴절층을 효과적으로 수축시키기 위하여 바람직하다. 이때, 상기 연신은 열 수축성 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg-20)℃ 내지 (Tg+50)℃의 온도에서, 1.5 내지 5.0 배의 연신 배율로 수행될 수 있다.
Meanwhile, the manufacturing method of the present invention may further include a step of uniaxially stretching the heat shrinkable film in the transverse direction (TD) using a tenter stretcher or the like before the step of forming the laminate. This is to use the heat shrinkable film in the uniaxially stretched state in the width direction (TD). As described above, when the heat shrinkable film is a film uniaxially stretched in the width direction (TD) In order to effectively shrink it. The stretching may be performed at a stretching magnification of 1.5 to 5.0 times at a temperature of (Tg-20) DEG C to (Tg + 50) DEG C, where Tg is the glass transition temperature of the heat shrinkable film.

한편, 본 발명의 제조 방법은 상기 열 수축하는 단계 후에 복굴절층을 열 수축성 필름으로부터 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다. 즉, 복굴절층을 단일의 위상차 필름으로 사용하기 위해서는 박리하는 것이 바람직하다. 한편, 상기 박리하는 단계는 상온에서 진행될 수 있으며, 박리 방법은 특별히 한정되지 않는다.
Meanwhile, the manufacturing method of the present invention may further include peeling the birefringent layer from the heat shrinkable film after the heat shrinking step. That is, peeling is preferable in order to use the birefringent layer as a single retardation film. On the other hand, the peeling step may proceed at room temperature, and the peeling method is not particularly limited.

2. 광학 부재, 광학 필름, 편광판 및 액정표시장치2. Optical member, optical film, polarizing plate and liquid crystal display

한편, 본 발명은 상기한 제조 방법에 의하여 제조되는 광학 부재 역시 제공한다. 구체적으로, 본 발명은 열 수축성 필름; 및 상기 열 수축성 필름의 적어도 일면에 적층되는, 상기 식 (1)을 만족하는 복굴절층을 포함하며, 상기 복굴절층은 이형 필름 상에 복굴절성 물질을 직접 도포하여 복굴절층을 형성한 후, 열 수축성 필름 상에 복굴절층을 전사하여 적층되는 것인 광학 부재 또한 제공한다. 이때, 상기 열 수축성 필름 및 복굴절층의 재료 및 적층 방법 등은 상기한 바와 동일하며, 또한 상기 광학 부재 역시 바람직하게는 상술한 식 (2)를 더 만족하고, 보다 바람직하게는 상술한 식 (3) 및 (4)를 더 만족한다.
The present invention also provides an optical member manufactured by the above manufacturing method. Specifically, the present invention relates to a heat shrinkable film; And a birefringent layer laminated on at least one surface of the heat shrinkable film, wherein the birefringent layer is formed by directly applying a birefringent material on a release film to form a birefringent layer, And the birefringent layer is transferred and laminated on the film. The material and the lamination method of the heat shrinkable film and the birefringent layer are the same as those described above, and the optical member preferably further satisfies the above formula (2), more preferably the formula (3) ) And (4).

또한, 본 발명은 상기한 제조 방법에 의하여 제조되는 광학 필름 역시 제공한다. 이때, 본 발명의 광학 필름은 하기 식 (5) 내지 (7) 중 적어도 하나 이상을 만족하는 것이 바람직하다. 이 경우 IPS 모드용 위상차 필름으로 매우 유용하게 사용될 수 있다. 보다 바람직하게는, 상기 광학 필름은 Rin의 범위가 150nm 내지 300nm 정도 또는 200nm 내지 300nm 정도이고, Rth의 범위가 70nm 내지 200nm 정도 또는 100nm 내지 200nm 정도이며, Nz 값이 0.2 내지 0.9 정도, 0.3 내지 0.7 정도, 또는 0.4 내지 0.6 정도일 수 있다.The present invention also provides an optical film produced by the above-mentioned production method. At this time, the optical film of the present invention preferably satisfies at least one of the following formulas (5) to (7). In this case, it can be very useful as a retardation film for IPS mode. More preferably, the optical film is in the range of R in 150nm to 300nm degree or 200nm to 300nm or so, the range of R th is 70nm to 200nm extent or degree of 100nm to 200nm, the Nz value of 0.2 to 0.9 degree, 0.3 To about 0.7, or from about 0.4 to about 0.6.

식 (5): 150nm ≤ Rin ≤ 350nmFormula (5): 150 nm? R in ? 350 nm

식 (6): 50nm ≤ Rth ≤ 250nm(6): 50nm? Rth ? 250nm

식 (7): 0.1 ≤ Nz ≤ 1Equation (7): 0.1? Nz? 1

상기 식 (5) 내지 (7)에 있어서, Rin는 파장 550nm에서 측정한 필름의 면 방향 위상차 값이고, Rth는 파장 550nm에서 측정한 필름의 두께 방향 위상차 값이며, Nz는 파장 550nm에서 측정한 면 방향 위상차 값에 대한 두께 방향 위상차 값의 비(Rth/Rin)이다.
In the formulas (5) to (7), R in is the retardation value in the plane direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, R th is the retardation value in the thickness direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, (R th / R in ) of the retardation value in the thickness direction to the retardation value in one direction.

또한, 본 발명은 상기 광학 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 편광판을 제공한다. 이 경우, 본 발명에 따른 상기 광학 필름은 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착되거나, 편광자의 양면에 보호 필름이 부착된 편광판의 보호 필름 상에 부착되어, 위상차 필름으로 유용하게 사용될 수 있다.
The present invention also provides a polarizing plate comprising at least one or more optical films. In this case, the optical film according to the present invention may be directly attached to one side or both sides of the polarizer, or may be attached to a protective film of a polarizer having a protective film on both sides of the polarizer, and thus may be usefully used as a retardation film.

상기 광학 필름을 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착시키는 경우, 예를 들어, 그 구조는 상 보호필름/편광자/광학 필름, 광학 필름/편광자/하 보호필름, 광학 필름/상 보호필름/편광자/하 보호필름 또는 상 보호필름/편광자/하 보호필름/광학 필름 일 수 있다.
When the optical film is directly adhered to one surface or both surfaces of the polarizer, for example, the structure may be an upper protective film / a polarizer / an optical film, an optical film / a polarizer / a lower protective film, an optical film / an upper protective film / Protective film or an upper protective film / polarizer / lower protective film / optical film.

한편, 본 발명은 상기 광학 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 액정표시장치를 제공한다. 예컨대 본 발명은 상기 광학 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 IPS 모드 액정표시장치를 제공한다.
Meanwhile, the present invention provides a liquid crystal display device including at least one optical film. For example, the present invention provides an IPS mode liquid crystal display including at least one optical film.

이때, 상기 액정표시장치는 액정 셀 및 상기 액정 셀의 양면에 각각 구비된 제 1 편광판 및 제 2 편광판을 포함하는 것일 수 있으며, 상기 광학 필름은 상기 액정 셀과 상기 제 1 편광판 및/또는 제 2 편광판 사이에 위상차 필름으로써 구비될 수 있다. 즉, 제 1 편광판과 액정 셀 사이에 광학 필름이 구비될 수 있고, 제 2 편광판과 액정 셀 사이에, 또는 제 1 편광판과 액정 셀 사이와 제 2 편광판과 액정 셀 사이 모두에 광학 필름이 하나 또는 2 이상 구비될 수 있다.
The liquid crystal display may include a liquid crystal cell and a first polarizing plate and a second polarizing plate disposed on both surfaces of the liquid crystal cell, and the optical film may include the liquid crystal cell, the first polarizing plate and / And may be provided as a retardation film between the polarizing plates. That is, an optical film may be provided between the first polarizing plate and the liquid crystal cell, and one optical film may be provided between the second polarizing plate and the liquid crystal cell, or between the first polarizing plate and the liquid crystal cell, 2 or more .

이하에서는 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

제조예Manufacturing example 1 - 이형 필름 1 - release film

이형 필름으로는 시판되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(SKC社 SG31)을 사용하였다.
As the release film, a commercially available polyethylene terephthalate film (SKC SG31) was used.

제조예Manufacturing example 2 - 열 수축성 필름 2 - Heat shrinkable film

열 수축성 필름으로 시판되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 연신 필름(SKC社 SP19H, TD 1축 연신, Tg=76℃)를 사용하였다.
A polyethylene terephthalate stretched film (SK19 SP19H, TD uniaxially stretched, Tg = 76 deg. C) commercially available as a heat shrinkable film was used.

제조예Manufacturing example 3 -  3 - 라디칼Radical 경화형 조성물 Curable composition

활성 에너지선 경화형 접착제로 사용하기 위하여 라디칼 경화형 조성물을 제조하였다. 구체적으로, 상기 라디칼 경화형 조성물은 2-히드록시에틸아크릴릴레이트 70 중량%, 이타콘산 10 중량%, 및 4,4'-((((프로판-2,2-디일비스(4,1-페닐렌))비스(옥시))비스(1-(메타크릴로일옥시)프로판-3,2-디일))비스(옥시))비스(4-옥소부탄 산) 20 중량%를 포함하는 조성물 100 중량부에, 라디칼 개시제 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀옥사이드 3 중량부 및 광산 발생제 디페닐(4-페닐티오)페닐설포늄헥사플루오로포스페이트 5 중량부를 첨가하여 제조하였다. 시차주사열량계(DSC Mettler 社)를 이용하여 측정한 조성물의 유리전이온도는 82℃ 이었다.
Radical curable compositions were prepared for use as active energy ray curable adhesives. Specifically, the radical curable composition is prepared by dissolving 70% by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 10% by weight of itaconic acid, and 4,4 '- ((((propane-2,2-diylbis Bis (oxy)) bis (1- (methacryloyloxy) propane-3,2-diyl)) bis (oxy)) bis (4-oxobutanoic acid) , 3 parts by weight of a radical initiator phenyl bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phosphine oxide and 5 parts by weight of a photo-acid generator, diphenyl (4-phenylthio) phenylsulfonium hexafluorophosphate . The glass transition temperature of the composition measured using a differential scanning calorimeter (DSC Mettler) was 82 ° C.

실시예Example 1 -  One - PCPC + 이형 필름 사용의 경우 + For release film use

상기 이형 필름 상에 폴리카보네이트(㈜LG화학社 LUPOY DVD1080)가 15wt%로 포함되어 있는 용액(용매 1,3-dioxolane)을 바 코터를 이용하여 20㎛ 두께로 코팅하여, 복굴절층이 형성되어 있는 이형 필름을 제조하였다. 다음으로, 상기 열 수축성 필름 상에 상기 라디칼 경화형 조성물을 점적 방식으로 도포한 후, 복굴절층이 열 수축성 필름에 부착되도록 상기 복굴절층이 형성되어 있는 이형 필름과 열 수축성 필름을 합지한 후, UV 경화기(Light Hammer社, Fusion UV)를 이용하여 광량 500mJ/cm2, 세기 2000mW/cm2, 속도 20m/min의 조건으로 경화하고, 이형 필름을 제거하여, 적층체를 제조하였다. 다음으로, 상기 적층체를 155℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 MD 방향으로 25% 1축 연신 한 후, 적층체를 상온으로 꺼내어 열 수축성 필름에 부착되어 있는 복굴절층을 박리하였다. 그 결과 최종적으로 두께 21㎛의 광학 필름을 얻을 수 있었다.
A solution (solvent 1,3-dioxolane) containing 15 wt% of polycarbonate (LUPOY DVD1080, manufactured by LIG Chemical Co., Ltd.) was coated on the release film to a thickness of 20 탆 using a bar coater to form a birefringent layer To prepare a release film. Next, after the radical curable composition is applied on the heat shrinkable film in a dropwise manner, the release film on which the birefringent layer is formed and the heat shrinkable film are laminated together so that the birefringent layer is attached to the heat shrinkable film, (Light Hammer, Fusion UV) under conditions of light quantity of 500 mJ / cm 2 , intensity of 2000 mW / cm 2 and speed of 20 m / min, and the release film was removed to prepare a laminate. Next, the laminate was uniaxially stretched by 25% in the MD direction in a 155 ° C oven using UTM equipment, and then the laminate was taken out at room temperature to separate the birefringent layer adhering to the heat shrinkable film. As a result, an optical film having a thickness of 21 mu m was finally obtained.

실시예Example 2 -  2 - TPITPI + 이형 필름 사용의 경우 + For release film use

상기 이형 필름 상에 폴리에테르이미드(Sabic社 Ultem1000)가 13wt%로 포함되어 있는 용액(용매 1,3-dioxolane)을 바 코터를 이용하여 3㎛ 두께로 코팅하여, 복굴절층이 형성되어 있는 이형 필름을 제조하였다. 다음으로, 상기 열 수축성 필름 상에 상기 라디칼 경화형 조성물을 점적 방식으로 도포한 후, 복굴절층이 열 수축성 필름에 부착되도록 상기 복굴절층이 형성되어 있는 이형 필름과 열 수축성 필름을 합지한 후, UV 경화기(Light Hammer社, Fusion UV)를 이용하여 광량 500mJ/cm2, 세기 2000mW/cm2, 속도 20m/min의 조건으로 경화하고, 이형 필름을 제거하여, 적층체를 제조하였다. 다음으로, 상기 적층체를 155℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 MD 방향으로 18% 1축 연신 한 후, 적층체를 상온으로 꺼내어 열 수축성 필름에 부착되어 있는 복굴절층을 박리하였다. 그 결과 최종적으로 두께 5㎛의 광학 필름을 얻을 수 있었다.
A solution (solvent 1,3-dioxolane) containing 13 wt% of a polyetherimide (Sabic Ultem 1000) on the release film was coated to a thickness of 3 탆 using a bar coater to obtain a release film having a birefringent layer . Next, after the radical curable composition is applied on the heat shrinkable film in a dropwise manner, the release film on which the birefringent layer is formed and the heat shrinkable film are laminated together so that the birefringent layer is attached to the heat shrinkable film, (Light Hammer, Fusion UV) under conditions of light quantity of 500 mJ / cm 2 , intensity of 2000 mW / cm 2 and speed of 20 m / min, and the release film was removed to prepare a laminate. Next, the laminate was uniaxially stretched by 18% in an MD direction in a 155 ° C oven using UTM equipment, and then the laminate was taken out at room temperature to separate the birefringent layer adhering to the heat shrinkable film. As a result, an optical film having a thickness of 5 탆 was finally obtained.

비교예Comparative Example -  - PCPC 직접 도포의 경우 In the case of direct application

상기 열 수축성 필름 상에 직접 폴리카보네이트(㈜LG화학社 LUPOY DVD1080)가 15wt%로 포함되어 있는 용액(용매 1,3-dioxolane)을 바 코터를 이용하여 20㎛ 두께로 코팅하여, 적층체를 제조하였다. 다음으로, 상기 적층체를 155℃ 오븐에서, UTM 장비를 이용하여 MD 방향으로 25% 1축 연신 한 후, 적층체를 상온으로 꺼내어 열 수축성 필름에 부착되어 있는 복굴절층을 박리하였다. 그 결과 최종적으로 두께 21㎛의 광학 필름을 얻을 수 있었다.
A solution (solvent 1,3-dioxolane) containing 15 wt% of polycarbonate (LUPOY DVD1080, manufactured by LIG Chemical Co., Ltd.) was directly coated on the heat shrinkable film to a thickness of 20 μm using a bar coater to prepare a laminate Respectively. Next, the laminate was uniaxially stretched by 25% in the MD direction in a 155 ° C oven using UTM equipment, and then the laminate was taken out at room temperature to separate the birefringent layer adhering to the heat shrinkable film. As a result, an optical film having a thickness of 21 mu m was finally obtained.

실험예Experimental Example 1 - 폭 수축률( 1 - Width Shrinkage ( SS 1One , , SS 22 ) 및 접착력() And adhesive strength PP aa , , PP bb ) 측정) Measure

상기 실시예 1~2 및 비교예에 있어서, 적층체 상태에서의 복굴절층의 폭 수축률(S1) 및 열 수축성 필름의 폭 수축률(S2)을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다. 이때, 상기 폭 수축률(S1, S2)는 열 수축 전 적층체의 양면, 즉 복굴절층과 열 수축성 필름 각각에 점을 1cm 간격으로 찍은 후, 열 수축 후 박리한 다음, 각각의 점 간격을 재는 방법으로 측정하였다.
The width shrinkage ratio (S 1 ) of the birefringent layer in the laminated state and the width shrinkage ratio (S 2 ) of the heat shrinkable film in Examples 1 to 2 and Comparative Examples were measured and shown in Table 1 below. At this time, the width shrinkage ratio (S 1 , S 2 ) is obtained by taking dots at intervals of 1 cm on both surfaces of the laminate before heat shrinkage, that is, on the birefringent layer and the heat shrinkable film, then peeling off after heat shrinkage, Were measured by ashing method.

또한, 상기 실시예 1~2 및 비교예에 있어서, 수축 전 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력(Pa) 및 수축 후 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력(Pb)을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다. 이때, 상기 접착력(Pa, Pb)은 Stable Micro Systems社의 Texture Analyzer(모델명: TA-XT Plus) 장비를 이용하여 측정하였다.
(P a ) between the birefringent layer and the heat shrinkable film before shrinkage and the adhesive force (P b ) between the birefringent layer and the heat shrinkable film after shrinkage were measured in Examples 1 to 2 and Comparative Examples, Respectively. In this case, the adhesive force (P a, P b) is the Texture Analyzer Stable Micro Systems社: was measured using a (model TA-XT Plus) equipment.

구 분division S1 (%)S 1 (%) S2 (%)S 2 (%) Pa (N/2cm)P a (N / 2 cm) Pb (N/2cm)P b (N / 2 cm) 실시예 1Example 1 1515 1515 0.180.18 0.140.14 실시예 2Example 2 5050 5050 0.150.15 0.120.12 비교예Comparative Example 1515 1515 0.200.20 0.580.58

상기 표 1에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 실시예 1 및 2에서 제조된 적층체의 경우, 복굴절층과 열 수축성 필름의 폭 수축률(S1, S2)이 상기 식 (2)를 만족하며, 또한 수축 전 접착력(Pa)과 수축 후 접착력(Pb)이 상기 식 (3) 및 (4)를 만족한다. 이를 통하여, 본 발명의 실시예 1 및 3에서 제조된 적층체의 경우, 열 수축 과정에서 박리가 쉽게 일어나지 않았으며, 그 결과 하기 도 2 (a)에 예시적으로 도시(접착제 생략)한 바와 같이 복굴절층이 열 수축성 필름과 실질적으로 동일하게 수축되었다는 것을 알 수 있다. 또한, 열 수축 후 박리가 용이하다는 것을 알 수 있다.
As shown in Table 1, in the case of the laminate produced in Examples 1 and 2 of the present invention, the width shrinkage ratio (S 1 , S 2 ) of the birefringent layer and the heat shrinkable film satisfies the formula (2) In addition, before adhesion contraction (P a) and after shrinkage the adhesive force (P b) satisfies the formula (3) and (4). As a result, in the case of the laminate produced in Examples 1 and 3 of the present invention, peeling was not easily caused in the heat shrinking process, and as a result, as shown in FIG. 2 (a) It can be seen that the birefringent layer has contracted substantially the same as the heat shrinkable film. Further, it can be seen that peeling after heat shrinking is easy.

한편, 비교예의 경우 열 수축성 필름 상에 복굴절층을 직접 도포하여 형성하였는바, 복굴절층과 열 수축성 필름의 폭 수축률(S1, S2)이 상기 식 (2)를 만족하였으나, 수축 후 접착력(Pb)이 상기 식 (4)를 만족하지 못하는 것을 알 수 있다. 즉, 열 수축 후 박리가 용이하지 않다는 것을 알 수 있다.
On the other hand, in the comparative example, when the birefringent layer was directly coated on the heat shrinkable film, the width shrinkage ratio (S 1 , S 2 ) of the birefringent layer and the heat shrinkable film satisfied the formula (2) P b ) does not satisfy the above formula (4). That is, it can be seen that peeling after heat shrinkage is not easy.

실험예Experimental Example 2 -  2 - 위상차Phase difference 특성 측정 Characterization

상기 실시예 1~2 및 비교예에서 제조한 광학 필름의 위상차 특성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다. nx, ny, nz는 프리즘 커플러 장비(SAIRON TECHNOLOGY社 SPA-3DR)를 이용하여 측정하였으며, 위상차 값은 Axometrics社의 Axoscan 측정장비를 이용하여 측정하였다.
The retardation characteristics of the optical films prepared in Examples 1 to 2 and Comparative Examples were measured and are shown in Table 2 below. n x , n y , and n z were measured using prism coupler equipment (SPA-3DR, SAIRON TECHNOLOGY), and the retardation values were measured using Axoscan's Axoscan measuring equipment.

구 분division 두께(㎛)Thickness (㎛) nx/ny/nz n x / n y / n z Rin(㎚)R in (nm) Rth(㎚)R th (nm) NzNz 실시예 1Example 1 2323 1.590/1.583/1.5861.590 / 1.583 / 1.586 150150 7272 0.480.48 실시예 2Example 2 55 1.634/1.583/1.6131.634 / 1.583 / 1.613 254254 149149 0.580.58 비교예Comparative Example 2121 1.591/1.583/1.5851.591 / 1.583 / 1.585 164164 4242 0.370.37

상기 표 2에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 실시예 1 및 2에서 제조된 광학 필름은 IPS 모드용 액정표시장치에 위상차 필름으로 사용하기에 매우 적합한 위상차 값을 가지는 것을 알 수 있다.
As can be seen from Table 2, the optical films prepared in Examples 1 and 2 of the present invention have a phase difference value very suitable for use as a retardation film in an IPS mode liquid crystal display.

그러나, 비교예에서 제조된 광학 필름은 복굴절층 형성에 사용되는 유기 용매에 의하여 열 수축성 필름이 침식이 되었으며, 그 결과 수축력이 떨어져 제조되는 광학 필름의 Rth 발현이 떨어지는바, IPS 모드용 액정표시장치에 위상차 필름으로 사용하기에 다소 부적합한 위상차 값을 가지는 것을 알 수 있다.
However, the optical film is shown a liquid crystal for was the erosion is a heat shrinkable film by the organic solvent used in forming the birefringent layer, as a result, shrinkage force falling R th expression of the optical film to be produced off the bar, IPS mode produced in Comparative Example It can be seen that the device has a somewhat inadequate phase difference value for use as a phase difference film.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It will be obvious to those of ordinary skill in the art.

1: 이형 필름
2: 복굴절층
3: 열 수축성 필름
W: 폭
L: 길이
1: release film
2: birefringent layer
3: Heat shrinkable film
W: Width
L: Length

Claims (15)

이형 필름 상에 복굴절성 물질을 도포하여 복굴절층을 형성하는 단계;
상기 복굴절층을 열 수축성 필름 상에 전사하여 적층체를 형성하는 단계; 및
상기 복굴절층이 하기 식 (1)을 만족하도록 상기 적층체를 열 수축하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법에 있어서,
상기 복굴절층의 유리전이온도가 열 수축성 필름의 유리전이온도보다 20℃ 내지 100℃ 더 큰 것이고,
상기 복굴절성 물질은 폴리아마이드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아릴레이트계 수지 및 환상올레핀계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 정의 복굴절성 물질; 또는 폴리비닐카바졸, 및 폴리비닐나프탈렌으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 부의 복굴절성 물질인 광학 필름의 제조방법.
식 (1): nx > nz > ny
상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절층의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절층의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz는 복굴절층의 두께 방향의 굴절율임.
Applying a birefringent material on the release film to form a birefringent layer;
Transferring the birefringent layer onto a heat shrinkable film to form a laminate; And
And heat-shrinking the laminate so that the birefringent layer satisfies the following formula (1)
The glass transition temperature of the birefringent layer is 20 占 폚 to 100 占 폚 higher than the glass transition temperature of the heat shrinkable film,
Wherein the birefringent material is at least one positive birefringent material selected from the group consisting of a polyamide resin, a polyimide resin, a polyarylate resin, and a cyclic olefin resin; And at least one negative birefringent material selected from the group consisting of polyvinyl carbazole, polyvinyl carbazole, and polyvinyl naphthalene.
Equation (1): n x > n z > n y
In the formula (1), n x is the plane direction refractive index is the refractive index of the direction in which the maximum of the birefringent layer, n y is a refractive index in the direction perpendicular to the n x direction in the birefringent layer, n z is a birefringent layer Refractive index in the thickness direction.
제 1 항에 있어서,
상기 적층체를 열 수축하는 단계 후 복굴절층의 두께는 1㎛ 이상 30㎛ 이하인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the birefringent layer is not less than 1 占 퐉 and not more than 30 占 퐉 after the step of heat shrinking the laminate.
제 1 항에 있어서,
상기 적층체를 형성하는 단계는 점착제 또는 접착제를 이용하여 복굴절층을 열 수축성 필름 상에 전사하는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of forming the laminate is a step of transferring the birefringent layer onto a heat shrinkable film using a pressure sensitive adhesive or an adhesive.
제 3 항에 있어서,
상기 적층체를 형성하는 단계는 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하여 복굴절층을 열 수축성 필름 상에 전사하는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method of claim 3,
Wherein the step of forming the laminate is a step of transferring the birefringent layer onto a heat shrinkable film using an active energy ray curable adhesive.
제 1 항에 있어서,
상기 적층체를 열 수축하는 단계는 하기 식 (2)를 만족하는 것인 광학 필름의 제조 방법.
식 (2): 0% ≤ S2 - S1 ≤ 5%
상기 식 (2)에 있어서, S1은 적층체 상태에서의 복굴절층의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률이며, S2는 적층체 상태에서의 열 수축성 필름의 연신 방향에 수직한 방향의 수축률임.
The method according to claim 1,
Wherein the step of heat shrinking the laminate satisfies the following formula (2).
(2): 0%? S 2 - S 1 ? 5%
In the formula (2), S 1 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the birefringent layer in the laminated state, and S 2 is a shrinkage ratio in the direction perpendicular to the stretching direction of the heat shrinkable film in the laminated state .
제 1 항에 있어서,
상기 적층체를 열 수축하는 단계는 하기 식 (3) 및 (4)를 만족하는 것인 광학 필름의 제조 방법.
식 (3): 0.10 N/2cm ≤ Pa ≤ 1.0 N/2cm
식 (4): 0.01 N/2cm ≤ Pb ≤ 0.5 N/2cm
상기 식 (3) 및 (4)에 있어서, Pa는 열 수축 전 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력이며, Pb는 열 수축 후 복굴절층과 열 수축성 필름의 접착력임.
The method according to claim 1,
Wherein the step of heat shrinking the laminate satisfies the following formulas (3) and (4).
(3): 0.10 N / 2 cm? P a ? 1.0 N / 2 cm
(4): 0.01 N / 2 cm? P b ? 0.5 N / 2 cm
In the above formulas (3) and (4), P a is the adhesive strength between the birefringent layer and the heat shrinkable film before heat shrinkage, and P b is the adhesive strength between the birefringent layer and the heat shrinkable film after heat shrinkage.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 열 수축하는 단계는 적층체를 길이 방향(MD)으로 1축 연신하는 것인 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the heat shrinking step uniaxially stretches the laminate in the longitudinal direction (MD).
제 8 항에 있어서,
상기 연신은 열 수축성 필름의 유리전이온도를 Tg라 할 때, (Tg) 내지 (Tg + 100℃)의 온도에서 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the stretching is performed at a temperature of (Tg) to (Tg + 100 deg. C), where Tg is the glass transition temperature of the heat shrinkable film.
제 8 항에 있어서,
상기 연신은 1.1 내지 3.0 배의 연신 배율로 수행되는 것인 광학 필름의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the stretching is performed at a draw magnification of 1.1 to 3.0 times.
제 1 항에 있어서,
상기 열 수축하는 단계 후에 복굴절층을 열 수축성 필름으로부터 박리하는 단계를 더 포함하는 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
And peeling the birefringent layer from the heat shrinkable film after the heat shrinking step.
열 수축성 필름; 및 상기 열 수축성 필름의 적어도 일면에 형성되는 하기 식 (1)을 만족하는 복굴절층을 포함하며,
상기 복굴절층은 이형 필름 상에 복굴절성 물질을 직접 도포하여 복굴절층을 형성한 후, 열 수축성 필름 상에 복굴절층을 전사하여 형성되는 것인 광학 부재에 있어서,
상기 복굴절층의 유리전이온도가 열 수축성 필름의 유리전이온도보다 20℃ 내지 100℃ 더 큰 것이고,
상기 복굴절성 물질은 폴리아마이드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아릴레이트계 수지 및 환상올레핀계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 정의 복굴절성 물질; 또는 폴리비닐카바졸, 및 폴리비닐나프탈렌으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 부의 복굴절성 물질인 광학 부재.
식 (1): nx > nz > ny
상기 식 (1)에 있어서, nx는 복굴절층의 면 방향 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고, ny는 복굴절층의 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율이며, nz는 복굴절층의 두께 방향의 굴절율임.
Heat shrinkable film; And a birefringent layer formed on at least one surface of the heat shrinkable film and satisfying the following formula (1)
Wherein the birefringent layer is formed by directly applying a birefringent material on a release film to form a birefringent layer and then transferring the birefringent layer onto a heat shrinkable film,
The glass transition temperature of the birefringent layer is 20 占 폚 to 100 占 폚 higher than the glass transition temperature of the heat shrinkable film,
Wherein the birefringent material is at least one positive birefringent material selected from the group consisting of a polyamide resin, a polyimide resin, a polyarylate resin, and a cyclic olefin resin; Or an optical member that is at least one negative birefringent material selected from the group consisting of polyvinylcarbazole, and polyvinylnaphthalene.
Equation (1): n x > n z > n y
In the formula (1), n x is the plane direction refractive index is the refractive index of the direction in which the maximum of the birefringent layer, n y is a refractive index in the direction perpendicular to the n x direction in the birefringent layer, n z is a birefringent layer Refractive index in the thickness direction.
제 1 항 내지 제 6 항 및 제 8 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항의 제조 방법으로 제조되며,
하기 식 (5) 내지 (7)을 만족하는 광학 필름.
식 (5): 150nm ≤ Rin ≤ 350nm
식 (6): 50nm ≤ Rth ≤ 250nm
식 (7): 0.1 ≤ Nz ≤ 1
상기 식 (5) 내지 (7)에 있어서, Rin는 파장 550nm에서 측정한 필름의 면 방향 위상차 값이고, Rth는 파장 550nm에서 측정한 필름의 두께 방향 위상차 값이며, Nz는 파장 550nm에서 측정한 면 방향 위상차 값에 대한 두께 방향 위상차 값의 비(Rth/Rin)임.
11. A process for producing a polyurethane foam, which is produced by the production method of any one of claims 1 to 6 and 8 to 11,
The optical film satisfies the following formulas (5) to (7).
Formula (5): 150 nm? R in ? 350 nm
(6): 50nm? Rth ? 250nm
Equation (7): 0.1? Nz? 1
In the formulas (5) to (7), R in is the retardation value in the plane direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, R th is the retardation value in the thickness direction of the film measured at a wavelength of 550 nm, (R th / R in ) of the retardation value in the thickness direction to the retardation value in one direction.
제 13 항의 광학 필름을 포함하는 편광판.
14. A polarizing plate comprising the optical film of claim 13.
제 13 항의 광학 필름을 포함하는 액정표시장치.14. A liquid crystal display device comprising the optical film of claim 13.
KR1020140122731A 2014-09-16 2014-09-16 Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same KR101737177B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140122731A KR101737177B1 (en) 2014-09-16 2014-09-16 Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140122731A KR101737177B1 (en) 2014-09-16 2014-09-16 Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160032507A KR20160032507A (en) 2016-03-24
KR101737177B1 true KR101737177B1 (en) 2017-05-17

Family

ID=55651399

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140122731A KR101737177B1 (en) 2014-09-16 2014-09-16 Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101737177B1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102043492B1 (en) * 2016-05-02 2019-11-11 주식회사 엘지화학 Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
KR102504354B1 (en) * 2019-01-11 2023-02-28 주식회사 엘지화학 Method for manufacturing retardation film

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160032507A (en) 2016-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102394679B1 (en) Polarizer
KR20160001501A (en) Polarizing plate and image display apparatus comprising the same
TW201930931A (en) Polarizing plate, polarizing plate-carrier film laminate, the method for manufacturing the polarizing plate-carrier film laminate, the method for manufacturing the polarizing plate and the active energy beam-cured composition for protective layer of pola
CN110072963B (en) Adhesive composition for polarizing plate, polarizing plate and optical display
US9442223B2 (en) Polarizing plate and image display device comprising same
KR101737170B1 (en) Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
KR101737177B1 (en) Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
KR102172568B1 (en) Adhesive composition and polarizing plate comprising adhesive layer formed by using the same
WO2018025716A1 (en) Laminate film
TWI819142B (en) Photocurable adhesive, polarizing plate and laminated optical member
TWI681030B (en) Adhesive composition, polarizing plate comprising adhesive layer formed by using the same and image display device
KR101757025B1 (en) Preparing method for the optical film, optical member and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
TWI681029B (en) Adhesive composition, polarizing plate comprising adhesive layer formed by using the same and image display device
JP7242884B2 (en) Polarizing plate with retardation layer and image display device using the same
KR101732223B1 (en) Preparing method for the optical film, optical member and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
WO2021261344A1 (en) Retardation-layer-equipped polarizing plate and image display device using same
KR101732226B1 (en) Preparing method for the optical film, optical mamber and optical film by the same method, polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
WO2018025714A1 (en) Laminate film
KR101729817B1 (en) Retadation film and preparing method for retadation film
KR101724799B1 (en) Preparing method for thin polarizing plate and polarizing plate using the same
TWI764913B (en) Polarizing plate
TW202004234A (en) Polarizing plate, method for manufacturing the same and image display device comprising the same
TW201921005A (en) Polarizing plate and image display apparatus comprising the same
TW202334718A (en) Polarizing plate and adhesive composition for polarizing plate
TW202330273A (en) Laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant