KR20150137694A - Apparatus for treating substrate and method for supplying liquid - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a substrate processing apparatus. According to an embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus has a head unit, and a liquid supply unit. The head unit has a liquid inlet through which liquid is supplied to the inside of the head unit. The liquid supply unit has a nozzle inserted into the liquid inlet to supply liquid to the head unit. When the head unit moves to a position where the nozzle can be inserted into the liquid inlet, the nozzle moves to the position to be inserted into the liquid inlet and to supply liquid. After completing the liquid supply, the nozzle is separated from the liquid inlet.

Description

기판 처리 장치 및 액 공급 방법{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE AND METHOD FOR SUPPLYING LIQUID}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate processing apparatus,

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 잉크젯 방식으로 액을 토출하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus that discharges a liquid by an inkjet method.

영상을 표시하는 액정표시장치는 다양한 박막들이 증착된 두 장의 기판 및 두 장의 기판 사이에 개재된 액정층으로 이루어진다. 일반적으로, 각 기판에 형성된 박막들은 다양한 형상의 패턴을 가지므로, 패턴의 정밀도를 위해 증착 공정 및 사진 식각 공정을 통해 형성된다. 이와 같이, 하나의 박막을 형성하기 위해서는 고가의 마스크가 사용되는 사진 식각 공정이 이용되므로, 제조 원가가 상승하고, 제조 공정 시간이 증가한다.2. Description of the Related Art A liquid crystal display device for displaying an image is composed of two substrates on which various thin films are deposited and a liquid crystal layer sandwiched between two substrates. In general, the thin films formed on each substrate have various shapes of patterns and are formed through a deposition process and a photolithography process for pattern precision. As described above, in order to form one thin film, a photolithography process in which an expensive mask is used is used, so that the manufacturing cost is increased and the manufacturing process time is increased.

최근, 이러한 박막 형성 방법의 대안으로 잉크젯 프린팅 방식을 이용한 박막 형성 방법이 사용되고 있다. 잉크젯 프린팅 방식은 기판의 특정 위치에 약액을 도포하여 박막을 형성하므로, 별도의 식각 공정을 필요로 하지 않는다. 이러한 잉크젯 프린팅 방식은 액정표시장치의 컬러필터 또는 배향막 등을 형성하는 데 사용될 수 있다.Recently, a thin film forming method using an ink-jet printing method has been used as an alternative to such a thin film forming method. The inkjet printing method does not require a separate etching process because a thin film is formed by applying a chemical solution to a specific position of the substrate. Such an inkjet printing method can be used to form a color filter, an alignment film, or the like of a liquid crystal display device.

일반적으로, 저장 용기 내의 약액이 소모되면 수동으로 약액을 보충해 주거나 저장 용기를 교체해주어야 한다.Generally, when the chemical in the storage container is consumed, the chemical solution must be replenished manually or the storage container must be replaced.

본 발명은 장치에 약액을 자동으로 공급할 수 있는 기판 처리 장치 및 액 공급 방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention is intended to provide a substrate processing apparatus and a liquid supply method capable of automatically supplying a chemical liquid to an apparatus.

또한, 본 발명은 액 공급시 역류를 방지하고 액이 용이하게 공급될 수 있는 기판 처리 장치 및 액 공급 방법을 제공하기 위한 것이다.Further, the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a liquid supplying method which can prevent a backflow when a liquid is supplied and the liquid can be supplied easily.

또한, 본 발명은 액 공급 후 외부로 유출되는 액의 양을 최소화하는 기판 처리 장치 및 액 공급 방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention also provides a substrate processing apparatus and a liquid supply method for minimizing the amount of liquid that flows out after supplying liquid.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems to be solved by the present invention are not limited thereto, and other matters not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 기판이 놓이는 기판 지지 유닛; 상기 기판 지지 유닛 상에 놓인 상기 기판으로 액을 토출하는 헤드 유닛; 상기 헤드 유닛으로 액을 공급하는 액 공급 유닛;을 포함하되, 상기 헤드 유닛은, 갠트리;와 상기 갠트리에 결합되며, 액을 토출하는 토출 헤드; 상기 갠트리에 결합되며, 상기 토출 헤드에 공급되는 액을 저장하는 저장 용기를 가지고, 상기 액 공급 유닛은, 액이 저장되는 캐니스터; 상기 저장 용기의 액 유입구에 삽입 및 분리가 가능하고, 액을 상기 저장 용기에 공급하는 노즐; 및 상기 캐니스터와 상기 노즐을 연결하는 액 공급 라인을 가진다.The present invention provides a substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus includes a substrate supporting unit on which a substrate is placed; A head unit for ejecting liquid to the substrate placed on the substrate supporting unit; And a liquid supply unit for supplying liquid to the head unit, wherein the head unit comprises: a gantry; an ejection head coupled to the gantry and ejecting liquid; And a storage container coupled to the gantry and storing liquid supplied to the discharge head, wherein the liquid supply unit includes: a canister in which liquid is stored; A nozzle capable of being inserted into and separated from the liquid inlet of the storage container and supplying the liquid to the storage container; And a liquid supply line connecting the canister and the nozzle.

상기 액 공급 유닛은, 상기 액 공급 라인에서 상기 노즐에 인접한 부분에 설치되는 밸브를 더 포함한다. 상기 밸브는 개폐 밸브, 석백 밸브 또는 체크 벨브로 제공될 수 있다.The liquid supply unit further includes a valve provided at a portion of the liquid supply line adjacent to the nozzle. The valve may be provided as an on-off valve, a quartz valve or a check valve.

상기 헤드 유닛은, 상기 저장 용기에 연결되며, 개폐 밸브가 설치된 밴트 라인;을 더 포함한다.The head unit further includes a vent line connected to the storage container and having an on-off valve.

상기 헤드 유닛은, 액이 상기 액 유입구 에서 상기 저장 용기로 공급되도록 상기 액 유입구와 상기 저장 용기에 연결된 액 유입 라인; 및 액이 상기 저장 용기에서 상기 토출 헤드로 공급되도록 상기 저장 용기와 상기 토출 헤드에 연결된 헤드 공급 라인;을 가지되, 상기 헤드 공급 라인은 3방 밸브(3-way valve)에 의해 상기 액 유입 라인에 연결된다.The head unit comprising: a liquid inflow line connected to the liquid inlet and the storage container so that liquid is supplied from the liquid inlet to the storage container; And a head supply line connected to the storage container and the discharge head such that liquid is supplied to the discharge head from the storage container, the head supply line being connected to the liquid inflow line by a 3-way valve, Lt; / RTI >

상기 액 유입구는 개방되게 제공되고, 상기 3방 밸브에 의해 개폐된다.The liquid inlet is provided open and is opened and closed by the three-way valve.

상기 토출 헤드는, 복수개가 제공되고, 상기 저장 용기는, 각각의 토출 헤드에 대응되도록 복수개가 제공되되, 상기 액 공급 유닛과 상기 기판 지지 유닛은, 제 1 방향을 따라 배열되고, 상기 갠트리는 그 길이 방향이 상부에서 바라 볼 때 제 2 방향과 평행하도록 제공되며, 상기 기판 처리 장치는, 상기 갠트리를 상기 제 1 방향을 따라 이동시키는 갠트리 구동기;와 상기 저장 용기를 상기 제 2 방향을 따라 이동시키는 저장 용기 구동기;를 더 포함한다.Wherein a plurality of the discharge heads are provided, the storage vessels being provided so as to correspond to the respective discharge heads, wherein the liquid supply unit and the substrate supporting unit are arranged along a first direction, Wherein the substrate processing apparatus includes a gantry driver for moving the gantry along the first direction and a gantry driver for moving the gantry along the first direction, And a storage vessel actuator.

상기 노즐을 제 1 위치와 제 2 위치 간에 이동시키는 노즐 구동기;를 더 포함하되, 상기 제 1 위치는, 상기 노즐이 상기 액 유입구와 분리되는 위치이고, 상기 제 2 위치는, 상기 노즐이 상기 액 유입구에 삽입되는 위치이다.And a nozzle driver for moving the nozzle between a first position and a second position, wherein the first position is a position at which the nozzle is separated from the liquid inlet, and the second position is a position at which the nozzle It is the position to be inserted into the inlet.

상기 제 1 위치와 상기 제 2 위치는 상기 제 1 방향을 따라 배열된다.The first position and the second position are arranged along the first direction.

또한, 본 발명은 액 유입 방법을 제공한다. 액 유입 방법은 제 1 항의 기판 처리 장치를 이용하여 상기 저장 용기에 액을 공급하는 방법에 있어서, 상기 노즐은 상기 액 유입구에 결합되어 상기 저장 용기에 액을 충전하고, 충전이 완료된 후, 상기 노즐은 상기 액 유입구로부터 분리된다.The present invention also provides a liquid inflow method. The liquid inflow method is a method of supplying a liquid to the storage container using the substrate processing apparatus of claim 1, wherein the nozzle is connected to the liquid inlet and charges the liquid into the storage container, Is separated from the liquid inlet.

상기 저장 용기는 복수개가 제공되고, 상기 노즐은, 상기 저장용기들과 순차적으로 결합하여 액을 공급하고 액 공급이 완료된 후 분리된다.A plurality of the storage vessels are provided, and the nozzles are sequentially separated from the storage vessels to supply liquid and separate after the liquid supply is completed.

상기 기판 처리 장치는 상기 저장용기에 연결된 밴트 라인을 더 포함하고, 상기 액 충전시, 상기 저장 용기에 연결된 밴트 라인이 개방되는 단계;를 포함한다.The substrate processing apparatus further includes a vat line connected to the storage container, and when the liquid is filled, opening the vat line connected to the storage container.

본 발명의 일 실시 예에 의하면, 본 발명은 장치에 별도의 액 공급 유닛을 제공하여 약액을 자동으로 공급할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the present invention can automatically supply a chemical liquid by providing a separate liquid supply unit to the apparatus.

또한, 본 발명의 일 실시예에 의하면 액 공급시 역류를 방지하고 액이 용이하게 공급될 수 있다.Further, according to the embodiment of the present invention, the liquid can be supplied easily while preventing the back flow when supplying the liquid.

또한, 본 발명의 일 실시예에 의하면 액 공급 후 외부로 유출되는 액의 양을 최소화한다.In addition, according to the embodiment of the present invention, the amount of the liquid flowing out after the liquid is supplied is minimized.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1의 헤드 유닛 및 액 공급 유닛을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 도 2의 액 유입구를 나타낸 도면이다.
도 4는 도 2의 노즐이 이동하는 모습을 나타낸 도면이다.
도 5 내지 도 8은 액 공급 방법을 순차적으로 나타낸 도면들이다.1 is a perspective view illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a schematic view of the head unit and the liquid supply unit of Fig. 1. Fig.
FIG. 3 is a view showing the liquid inlet of FIG. 2. FIG.
FIG. 4 is a view showing a state in which the nozzle of FIG. 2 moves.
FIGS. 5 to 8 are views sequentially showing the liquid supplying method.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art. Thus, the shape of the elements in the figures has been exaggerated to emphasize a clearer description.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다.1 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 베이스(B), 기판 지지 유닛(100), 헤드 유닛(200) 그리고 액 공급 유닛 헤드(300) 을 포함한다.1, the substrate processing apparatus 10 includes a base B, a substrate supporting unit 100, a head unit 200, and a liquid supply unit head 300.

베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(B)의 상면에는 기판 지지 유닛(100)이 배치된다. The base (B) may be provided in a rectangular parallelepiped shape having a constant thickness. A substrate supporting unit 100 is disposed on the upper surface of the base B.

기판 지지 유닛(100)은 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(110)에 수직한 회전 중심축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다. 지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다.The substrate supporting unit 100 has a supporting plate 110 on which the substrate S is placed. The support plate 110 may be a rectangular plate. The rotation driving member 120 is connected to the lower surface of the support plate 110. The rotation drive member 120 may be a rotary motor. The rotation drive member 120 rotates the support plate 110 about a rotation center axis perpendicular to the support plate 110. [ When the support plate 110 is rotated by the rotation drive member 120, the substrate S can be rotated by the rotation of the support plate 110. [

제 1 방향(Ⅰ)은 갠트리(210) 및 기판 지지 유닛(100)이 배열된 방향이다. 제 2 방향(Ⅱ)은 상부에서 바라볼 때 제 1 방향(Ⅰ)과 수직한 방향이다. 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ) 및 제 2 방향(Ⅱ)과 수직한 방향이다.The first direction I is the direction in which the gantry 210 and the substrate supporting unit 100 are arranged. The second direction (II) is a direction perpendicular to the first direction (I) when viewed from above. The third direction III is perpendicular to the first direction I and the second direction II.

지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.The support plate 110 and the rotation driving member 120 may be linearly moved in the first direction I by the linear driving member 130. The linear driving member 130 includes a slider 132 and a guide member 134. The rotation driving member 120 is provided on the upper surface of the slider 132. [ The guide member 134 is elongated in the first direction I in the center of the upper surface of the base B. A linear motor may be incorporated in the slider 132 and the slider 132 is linearly moved in the first direction I along the guide member 134 by the linear motor.

도 2는 도 1의 헤드 유닛(200)과 액 공급 유닛(300)을 간략히 나타낸 도면이다. 도 1 및 도 2를 참고하면, 헤드 유닛(200)은 기판 지지 유닛(100) 상에 놓인 기판(S)으로 액을 토출한다. 헤드 유닛(200)은 갠트리(210), 토출 헤드(240), 저장용기(230) 및 액 유입구(250)를 포함한다.Fig. 2 is a view schematically showing the head unit 200 and the liquid supply unit 300 of Fig. Referring to Figs. 1 and 2, the head unit 200 discharges the liquid to the substrate S placed on the substrate supporting unit 100. Fig. The head unit 200 includes a gantry 210, a discharge head 240, a storage container 230, and a liquid inlet 250.

갠트리(210)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(210)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치되며, 갠트리(210)는 그 길이 방향이 상부에서 바라볼 때 제 2 방향(Ⅱ)과 평행하도록 배치된다. 갠트리(200)는 갠트리 구동기(220)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)을 따라 직선 이동이 가능하도록 제공된다.The gantry 210 is provided at an upper portion of a path through which the support plate 110 is moved. The gantry 210 is spaced upwardly from the upper surface of the base B and the gantry 210 is disposed so that its longitudinal direction is parallel to the second direction II when viewed from above. The gantry 200 is provided so as to be linearly movable along the first direction I by the gantry driver 220.

토출 헤드(240)는 갠트리(210)에 결합된다. 토출 헤드(240)는 기판(S)에 액의 액적을 토출한다. 토출 헤드(240)는 복수 개가 제공될 수 있다. 본 실시예에서는 3개의 토출 헤드(240a, 240b, 240c)가 제공된 예를 도시하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 헤드(240a, 240b, 240c)는 제2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있다. 토출 헤드(240)의 저면에는 액정의 액을 토출하는 복수 개의 헤드 노즐들이 제공된다. 예를 들어, 각각의 헤드(240a, 240b, 240c)에는 128개 또는 256개의 헤드 노즐들이 제공될 수 있다. 헤드 노즐들은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 각각의 헤드(240a, 240b, 240c)에는 헤드 노즐들에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 헤드 노즐들의 액적 토출량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다. The discharge head 240 is coupled to the gantry 210. The discharge head 240 discharges a droplet of the liquid onto the substrate S. A plurality of discharge heads 240 may be provided. In the present embodiment, three ejection heads 240a, 240b and 240c are provided, but the present invention is not limited thereto. The heads 240a, 240b and 240c may be arranged in a line in a second direction II. On the bottom surface of the discharge head 240, a plurality of head nozzles for discharging the liquid crystal liquid are provided. For example, 128 or 256 head nozzles may be provided for each of the heads 240a, 240b, and 240c. The head nozzles may be arranged in a line at intervals of a predetermined pitch. The number of piezoelectric elements corresponding to the head nozzles may be provided in each of the heads 240a, 240b and 240c, and the droplet discharge amount of the head nozzles may be independently adjusted by controlling the voltage applied to the piezoelectric elements .

저장 용기(230)는 갠트리(210)에 결합된다. 저장 용기(230)는 토출 헤드(240)에 공급되는 액을 저장한다. 저장 용기(230)는 각각의 토출 헤드(240a, 240b, 240c)에 대응되도록 복수 개가 제공될 수 있다. 본 실시예에서는 3개의 저장 용기(230a, 230b, 230c)가 제공된 예를 도시하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 저장 용기(230)는 저장 용기 구동기(231)에 의해 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 이동 가능하게 제공된다. 또한, 제3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다. The storage vessel 230 is coupled to the gantry 210. The storage container 230 stores liquid to be supplied to the discharge head 240. A plurality of storage containers 230 may be provided to correspond to the respective discharge heads 240a, 240b, and 240c. In this embodiment, three storage containers 230a, 230b, and 230c are provided, but the present invention is not limited thereto. The storage container 230 is provided movably along the second direction II by the storage container driver 231. [ Further, it can be linearly moved in the third direction III.

토출 헤드(240a, 240b, 240c) 및 저장 용기(230a, 230b, 230c)는 저장 용기 구동기(230)에 의해 갠트리(210)에 결합된다. 토출 헤드(240a, 240b, 240c)는 저장 용기 구동기(231)에 의해 저장 용기(230a, 230b, 230c)와 함께 제2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 제3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다. 액 공급 유닛(300)에 의한 액 공급시 토출 헤드(240a, 240b, 240c) 및 저장 용기(230a, 230b, 230c)는 갠트리(210) 및 저장 용기 구동기(231)에 의해 액 공급이 수행되는 위치로 이동된다.The discharge heads 240a, 240b and 240c and the storage vessels 230a, 230b and 230c are coupled to the gantry 210 by the storage vessel actuator 230. The discharge heads 240a, 240b and 240c are linearly moved in the second direction II together with the storage containers 230a, 230b and 230c by the storage container actuator 231 and linearly moved in the third direction III, . The discharge heads 240a, 240b and 240c and the storage vessels 230a, 230b and 230c at the time of supplying the liquid by the liquid supply unit 300 are positioned at the positions where the liquid supply is performed by the gantry 210 and the storage vessel actuator 231 .

도 3은 도 2의 액 유입구(250)를 나타낸 도면이다. 도 2 및 도 3을 참고하면, 액은 액 유입구(250)를 통해 헤드 유닛(200)으로 공급된다. 액 유입구(250)는 그 입구(250a)가 개방되게 제공되고, 3방 밸브(280a)에 의해 개폐될 수 있다. 도면에는 도시되지 않았으나, 액 유입구(250)의 입구(250a)에는 도어 등의 개폐 부재가 제공될 수 있다. 또는 노즐(320)이 바늘 형태로 제공되고 입구(250a)에는 실리콘 등의 탄성 재질의 실링 부재가 제공될 수 있다. 따라서, 노즐(320)이 실링 부재에 삽입 또는 분리시 실링 부재의 재질의 탄성으로 인해 입구(250a)가 개폐된다.3 is a view showing the liquid inlet 250 of FIG. Referring to FIGS. 2 and 3, the liquid is supplied to the head unit 200 through the liquid inlet 250. The liquid inlet 250 is provided to open its inlet 250a and can be opened and closed by a three-way valve 280a. Although not shown in the drawing, the opening 250a of the liquid inlet 250 may be provided with an opening and closing member such as a door. Or the nozzle 320 may be provided in the form of a needle and the inlet 250a may be provided with a sealing member made of an elastic material such as silicone. Accordingly, when the nozzle 320 is inserted into or detached from the sealing member, the opening 250a is opened or closed due to the elasticity of the material of the sealing member.

다시 도 1 및 도 2를 참고하면, 헤드 유닛(200)은 밴트 라인(270)을 더 포함할 수 있다. 밴트 라인(270)은 저장 용기(230)에 연결된다. 밴트 라인(270)에는 개폐 밸브(270a)가 설치된다. 저장 용기(230)에 액 충전시, 개폐 밸브(270a)가 개방된다. 따라서 저장 용기(230) 내의 공기 등의 기체가 밴트 라인(270)을 통해 외부로 밴팅된다. 이로 인해, 저장 용기(230) 내의 압력이 액 공급으로 인해 상승하는 것을 방지함으로써, 액 공급시 역류를 방지하고 액이 용이하게 공급될 수 있다.Referring again to FIGS. 1 and 2, the head unit 200 may further include a bent line 270. The bent line 270 is connected to the storage container 230. The vent line 270 is provided with an on-off valve 270a. When the liquid in the storage container 230 is filled, the on-off valve 270a is opened. Thus, gas such as air in the storage container 230 is vented to the outside through the vent line 270. Thus, by preventing the pressure in the storage container 230 from rising due to the supply of the liquid, the liquid can be easily supplied while preventing the back flow in supplying the liquid.

헤드 유닛(200)은 액 유입 라인(260) 및 헤드 공급 라인(280)을 더 포함한다.The head unit 200 further includes a liquid inflow line 260 and a head supply line 280.

액 유입 라인(260)은 액이 액 유입구(250)에서 저장 용기(230)로 공급되도록 액 유입구(250)와 저장 용기(230)를 연결한다. The liquid inflow line 260 connects the liquid inflow port 250 and the storage container 230 such that the liquid inflow line 250 is supplied from the liquid inflow port 250 to the storage container 230.

헤드 공급 라인(280)은 액이 저장 용기(230)에서 토출 헤드(240)로 공급되도록 저장 용기(230)와 토출 헤드(240)를 연결한다. 헤드 공급 라인(280)은 3방 밸브(3-way valve, 280a)에 의해 액 유입 라인(260)에 연결된다.The head supply line 280 connects the storage container 230 and the discharge head 240 so that the liquid is supplied from the storage container 230 to the discharge head 240. The head supply line 280 is connected to the liquid inflow line 260 by a three-way valve 280a.

3방 밸브(280a)는 저장 용기(230)에 액 공급 시 액 유입 라인(260)은 열고, 헤드 공급 라인(280)은 닫는다. 3 방 밸브(280a)는 액이 충분히 공급된 후 토출 헤드(240)에 액 공급시, 액 유입 라인(260)은 닫고, 헤드 공급 라인(280)은 연다. 따라서, 저장 용기(230)에 액 공급시, 토출 헤드(240)로 액이 유입되는 것을 방지한다. 또한, 토출 헤드(240)에 액 공급시, 액 유입구(250)로부터 외부의 기체가 토출 헤드(240)로 유입되는 것을 방지함으로써 토출 헤드(240)의 음압을 유지할 수 있다. 저장 용기(230)내의 액을 토출 헤드(240)로 공급하기 위해 토출 헤드(240) 내부는 음압이 유지되어야 한다.The three-way valve 280a opens the liquid inflow line 260 and closes the head supply line 280 when the liquid is supplied to the storage container 230. When the liquid is supplied to the discharge head 240 after the liquid is sufficiently supplied, the three-way valve 280a closes the liquid inflow line 260, and the head supply line 280 opens. Therefore, when the liquid is supplied to the storage container 230, the liquid is prevented from flowing into the discharge head 240. In addition, when the liquid is supplied to the discharge head 240, the external gas from the liquid inlet 250 is prevented from flowing into the discharge head 240, so that the negative pressure of the discharge head 240 can be maintained. A negative pressure must be maintained inside the discharge head 240 to supply the liquid in the storage container 230 to the discharge head 240. [

헤드 유닛(200)은 압력 조절 장치(290)를 더 포함할 수 있다. 압력 조절 장치(290)는 밴트 라인(270)을 통해서 저장 용기(230)의 압력을 승압시키고, 토출 헤드(240)를 음압 상태로 유지시킨다. 따라서, 액이 저장 용기(230)로부터 토출 헤드(240)로 공급된다.The head unit 200 may further include a pressure regulator 290. The pressure regulating device 290 pressurizes the pressure of the storage container 230 through the vent line 270 and keeps the discharge head 240 at a negative pressure. Therefore, the liquid is supplied from the storage container 230 to the discharge head 240.

액 공급 유닛(300)은 헤드 유닛(200)으로 액을 공급한다. 액 공급 유닛(300)은 베이스(B) 상에 위치될 수 있다. 선택적으로, 액 공급 유닛(300)은 베이스(B) 외부에 별도로 제공될 수 있다. 액 공급 유닛(300)은 캐니스터(310), 노즐(320), 액 공급 라인(330)을 포함한다. 액 공급 유닛(300)과 기판 지지 유닛(100)은 제 1 방향(I)을 따라 배열된다. The liquid supply unit 300 supplies the liquid to the head unit 200. The liquid supply unit 300 may be placed on the base B. Alternatively, the liquid supply unit 300 may be separately provided outside the base B. The liquid supply unit 300 includes a canister 310, a nozzle 320, and a liquid supply line 330. The liquid supply unit 300 and the substrate supporting unit 100 are arranged along the first direction I.

캐니스터(310)는 헤드 유닛(200)으로 공급할 액을 저장한다. The canister 310 stores liquid to be supplied to the head unit 200.

노즐(320)은 저장 용기(230)의 액 유입구(250)에 삽입 및 분리가 가능하다. 노즐(320)은 액 유입구(250)에 삽입되어 액을 저장 용기(230)에 공급한다. 충전이 완료 된 후, 노즐(320)은 액 유입구(250)로부터 분리된다. 노즐(320)은 노즐 구동기(340)에 의해 제 1 위치(320a)와 제 2 위치(320b) 간에 이동 가능하도록 제공된다. 제 1 위치(320a)는 노즐(320)이 액 유입구(250)와 분리되는 위치이고, 제 2 위치(320b)는, 노즐(320)이 액 유입구(250)에 삽입되는 위치이다. 제 1 위치(320a)와 제 2 위치(320b)는 제 1 방향(I)을 따라 배열된다. 노즐(320)은 노즐 구동기(340)에 의해 제 3 방향(Ⅲ)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다.The nozzle 320 can be inserted into and separated from the liquid inlet 250 of the storage container 230. The nozzle 320 is inserted into the liquid inlet 250 to supply the liquid to the storage container 230. After the filling is completed, the nozzle 320 is separated from the liquid inlet 250. The nozzle 320 is provided by the nozzle driver 340 so as to be movable between the first position 320a and the second position 320b. The first position 320a is a position where the nozzle 320 is separated from the liquid inlet 250 and the second position 320b is a position where the nozzle 320 is inserted into the liquid inlet 250. The first position 320a and the second position 320b are arranged along the first direction I. The nozzle 320 may be provided movably along the third direction III by the nozzle driver 340. [

액 공급 라인(330)은 캐니스터(310)에 저장된 액이 노즐(320)로 공급되도록 캐니스터(310)와 노즐(320)을 연결한다. 액 공급 라인(330)에는 노즐(320)에 인접한 부분에 밸브(331)가 설치될 수 있다. 밸브(331)는 액 공급 시 개방된다. 밸브(331)는 액 공급 완료시 노즐(320)에 인접한 부분에서 액 공급 라인(330)을 닫는다. 따라서, 액 공급후 노즐(320) 및 액 공급 라인(330)에 잔류하는 액의 유출을 최소화한다. 밸브(331)는 일반적인 개폐 밸브, 석백 밸브(SUCK-BACK VALVE) 또는 체크 벨브(CHECK VALVE)로 제공될 수 있다.The liquid supply line 330 connects the canister 310 and the nozzle 320 so that the liquid stored in the canister 310 is supplied to the nozzle 320. The liquid supply line 330 may be provided with a valve 331 at a portion adjacent to the nozzle 320. The valve 331 is opened when the liquid is supplied. The valve 331 closes the liquid supply line 330 at a portion adjacent to the nozzle 320 when the liquid supply is completed. Therefore, the outflow of the liquid remaining in the nozzle 320 and the liquid supply line 330 after the liquid supply is minimized. The valve 331 may be provided with a general on / off valve, a squeak valve, or a check valve.

이하, 상술한 기판 처리 장치를 이용하여 저장 용기(230)에 액을 공급하는 액 공급 방법에 대해 설명한다. 도 5 내지 도 8은 액을 공급하는 방법을 순차적으로 나타낸 도면이다.Hereinafter, a method of supplying a liquid to the storage container 230 using the above-described substrate processing apparatus will be described. 5 to 8 are diagrams sequentially showing a method of supplying a liquid.

도 5를 참고하면, 갠트리(210)는 갠트리 구동기(220)에 의해 제 1 방향(I)을 따라 액 공급 유닛(300)의 노즐(320)이 액 유입구(250)로 삽입 가능한 위치까지 이동된다.5, the gantry 210 is moved to a position where the nozzle 320 of the liquid supply unit 300 can be inserted into the liquid inlet 250 along the first direction I by the gantry driver 220 .

이 후, 노즐(320)은 복수개의 저장 용기(230)들과 순차적으로 결합하여 액을 공급 하고 공급이 완료 된 후 분리된다. Thereafter, the nozzle 320 is sequentially connected to the plurality of storage containers 230 to supply the liquid, and the liquid is separated after the supply is completed.

도 6을 참고하면, 저장 용기(230a)는 노즐(320)이 액 유입구(250)에 삽입 가능한 위치까지 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 이동한다. 이 후, 노즐(320)이 제 1 방향(I)과 반대 방향을 따라 이동하여 액 유입구(250)에 삽입된다. 이 후, 액이 노즐(320)로부터 액 유입구(250)를 통해 저장 용기(230a)로 공급된다.Referring to FIG. 6, the storage container 230a moves along the second direction II to a position where the nozzle 320 can be inserted into the liquid inlet 250. Thereafter, the nozzle 320 moves along the direction opposite to the first direction I and is inserted into the liquid inlet 250. Thereafter, the liquid is supplied from the nozzle 320 through the liquid inlet 250 to the storage container 230a.

도 7을 참고하면, 액 공급이 완료된 후, 노즐(320)은 제 1 방향(I)을 따라 액 유입구(250)로부터 분리된다. 이 후, 저장 용기(230a)는 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 노즐(320)이 저장 용기(230a)의 액 유입구(250)에 삽입 가능한 위치에서 벗어난다.Referring to FIG. 7, after the liquid supply is completed, the nozzle 320 is separated from the liquid inlet 250 along the first direction I. Thereafter, the storage container 230a moves away from the position where the nozzle 320 can be inserted into the liquid inlet 250 of the storage container 230a along the second direction II.

도 8을 참고하면, 저장 용기(230b)는 노즐(320)이 액 유입구(250)에 삽입 가능한 위치까지 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 이동한다. 이 후, 노즐(320)이 제 1 방향(I)과 반대 방향을 따라 이동하여 액 유입구(250)에 삽입된다. 이 후, 액이 노즐(320)로부터 액 유입구(250)를 통해 저장 용기(230b)로 공급된다.Referring to FIG. 8, the storage container 230b moves along the second direction II to a position where the nozzle 320 can be inserted into the liquid inlet 250. Thereafter, the nozzle 320 moves along the direction opposite to the first direction I and is inserted into the liquid inlet 250. Thereafter, the liquid is supplied from the nozzle 320 through the liquid inlet 250 to the storage container 230b.

이 후 저장 용기(230b)가 노즐(320)이 저장 용기(230b)의 액 유입구(250)에 삽입 가능한 위치에서 벗어나는 방법 및 저장 용기(230c)가 노즐(320)이 저장 용기(230c)의 액 유입구(250)에 삽입 가능한 위치까지 이동하는 방법은 도 6 및 도 7에서 설명한 방법과 동일하다. Thereafter, the storage container 230b moves away from the position where the nozzle 320 can be inserted into the liquid inlet 250 of the storage container 230b and the method in which the storage container 230c moves the nozzle 320 to the liquid The method of moving to the position where it can be inserted into the inlet 250 is the same as the method described in FIG. 6 and FIG.

액 공급시에는 상술한 바와 같이, 저장 용기(230a, 230b, 230c)에 연결된 밴트 라인(270)이 개방됨으로써, 액의 역류를 방지하고, 액이 용이하게 공급되도록 할 수 있다.As described above, when the liquid is supplied, the bent line 270 connected to the storage containers 230a, 230b, and 230c is opened to prevent the backflow of the liquid and to easily supply the liquid.

상술한 바와 같이, 본 발명의 기판 처리 장치 및 액 공급 방법은 헤드 유닛(200)에 자동으로 액을 공급하는 액 공급 유닛(300)을 제공함으로서, 액 소모시 수동으로 액을 공급하거나, 저장 용기(230)를 교체해 주는 불편을 해소할 수 있다.As described above, the substrate processing apparatus and the liquid supplying method of the present invention provide the liquid supplying unit 300 that automatically supplies the liquid to the head unit 200, so that the liquid can be supplied manually when the liquid is consumed, It is possible to eliminate the inconvenience of replacing the battery 230.

10: 기판 처리 장치 S: 기판
100: 기판 지지 유닛 200: 헤드 유닛
210: 갠트리 230: 저장 용기
240: 토출 헤드 250: 액 유입구
300: 액 공급 유닛 310: 캐니스터
320: 노즐10: substrate processing apparatus S: substrate
100: substrate supporting unit 200: head unit
210: gantry 230: storage container
240: Discharge head 250: liquid inlet
300: liquid supply unit 310: canister
320: nozzle

Claims (13)

기판이 놓이는 기판 지지 유닛;
상기 기판 지지 유닛 상에 놓인 상기 기판으로 액을 토출하는 헤드 유닛;
상기 헤드 유닛으로 액을 공급하는 액 공급 유닛;을 포함하되,
상기 헤드 유닛은,
갠트리;와
상기 갠트리에 결합되며, 액을 토출하는 토출 헤드;
상기 갠트리에 결합되며, 상기 토출 헤드에 공급되는 액을 저장하는 저장 용기를 가지고,
상기 액 공급 유닛은,
액이 저장되는 캐니스터;
상기 저장 용기의 액 유입구에 삽입 및 분리가 가능하고, 액을 상기 저장 용기에 공급하는 노즐; 및
상기 캐니스터와 상기 노즐을 연결하는 액 공급 라인을 가지는 기판 처리 장치.A substrate supporting unit on which a substrate is placed;
A head unit for ejecting liquid to the substrate placed on the substrate supporting unit;
And a liquid supply unit for supplying liquid to the head unit,
The head unit includes:
Gantry
A discharge head coupled to the gantry and discharging the liquid;
A storage container coupled to the gantry and storing liquid supplied to the discharge head,
The liquid supply unit includes:
A canister in which liquid is stored;
A nozzle capable of being inserted into and separated from the liquid inlet of the storage container and supplying the liquid to the storage container; And
And a liquid supply line connecting the canister and the nozzle. 제 1 항에 있어서,
상기 액 공급 유닛은,
상기 액 공급 라인에서 상기 노즐에 인접한 부분에 설치되는 개폐 밸브를 더 포함하는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
The liquid supply unit includes:
Further comprising: an opening / closing valve provided at a portion of the liquid supply line adjacent to the nozzle. 제 1 항에 있어서,
상기 액 공급 유닛은,
상기 액 공급 라인에서 상기 노즐에 인접한 부분에 설치되는 석백 밸브(Suck-back Valve)를 더 포함하는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
The liquid supply unit includes:
Further comprising a suck-back valve provided at a portion of the liquid supply line adjacent to the nozzle. 제 1 항에 있어서,
상기 액 공급 유닛은,
상기 액 공급 라인에서 상기 노즐에 인접한 부분에 설치되는 체크 밸브(Check Valve)를 더 포함하는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
The liquid supply unit includes:
And a check valve installed at a portion of the liquid supply line adjacent to the nozzle. 제 1 항에 있어서,
상기 헤드 유닛은,
상기 저장 용기에 연결되며, 개폐 밸브가 설치된 밴트 라인;을 더 포함하는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
The head unit includes:
And a vent line connected to the storage container and having an on-off valve. 제 1 항에 있어서,
상기 헤드 유닛은,
액이 상기 액 유입구 에서 상기 저장 용기로 공급되도록 상기 액 유입구와 상기 저장 용기에 연결된 액 유입 라인; 및
액이 상기 저장 용기에서 상기 토출 헤드로 공급되도록 상기 저장 용기와 상기 토출 헤드에 연결된 헤드 공급 라인;을 가지되,
상기 헤드 공급 라인은 3방 밸브(3-way valve)에 의해 상기 액 유입 라인에 연결된 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
The head unit includes:
A liquid inflow line connected to the liquid inlet and the storage container such that liquid is supplied from the liquid inlet to the storage container; And
A head supply line connected to the storage container and the discharge head such that liquid is supplied to the discharge head from the storage container,
Wherein the head supply line is connected to the liquid inlet line by a three-way valve. 제 1 항에 있어서,
상기 액 유입구는 개방되게 제공되고, 상기 3방 밸브에 의해 개폐되는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the liquid inlet is provided so as to be opened, and is opened and closed by the three-way valve. 제 1 항에 있어서,
상기 토출 헤드는, 복수개가 제공되고,
상기 저장 용기는, 각각의 토출 헤드에 대응되도록 복수개가 제공되되,
상기 액 공급 유닛과 상기 기판 지지 유닛은, 제 1 방향을 따라 배열되고,
상기 갠트리는 그 길이 방향이 상부에서 바라 볼 때 제 2 방향과 평행하도록 제공되며,
상기 기판 처리 장치는,
상기 갠트리를 상기 제 1 방향을 따라 이동시키는 갠트리 구동기;와
상기 저장 용기를 상기 제 2 방향을 따라 이동시키는 저장 용기 구동기;를 더 포함하는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein a plurality of the discharge heads are provided,
A plurality of the storage vessels are provided so as to correspond to the respective discharge heads,
Wherein the liquid supply unit and the substrate supporting unit are arranged along a first direction,
Wherein the gantry is provided such that its longitudinal direction is parallel to the second direction when viewed from above,
The substrate processing apparatus includes:
A gantry driver for moving the gantry along the first direction;
And a storage container driver for moving the storage container along the second direction. 제 8 항에 있어서,
상기 노즐을 제 1 위치와 제 2 위치 간에 이동시키는 노즐 구동기;를 더 포함하되,
상기 제 1 위치는, 상기 노즐이 상기 액 유입구와 분리되는 위치이고,
상기 제 2 위치는, 상기 노즐이 상기 액 유입구에 삽입되는 위치인 기판 처리 장치.9. The method of claim 8,
And a nozzle driver for moving the nozzle between a first position and a second position,
Wherein the first position is a position where the nozzle is separated from the liquid inlet,
And the second position is a position at which the nozzle is inserted into the liquid inlet. 제 9 항에 있어서,
상기 제 1 위치와 상기 제 2 위치는 상기 제 1 방향을 따라 배열되는 기판 처리 장치.10. The method of claim 9,
Wherein the first position and the second position are arranged along the first direction. 제 1 항의 기판 처리 장치를 이용하여 상기 저장 용기에 액을 공급하는 방법에 있어서,
상기 노즐은 상기 액 유입구에 결합되어 상기 저장 용기에 액을 충전하고,
충전이 완료된 후, 상기 노즐은 상기 액 유입구로부터 분리되는 액 공급 방법.A method for supplying a liquid to a storage container using the substrate processing apparatus of claim 1,
Wherein the nozzle is coupled to the liquid inlet port to fill the reservoir with a liquid,
And after the filling is completed, the nozzle is separated from the liquid inlet. 제 11 항에 있어서,
상기 저장 용기는 복수개가 제공되고,
상기 노즐은, 상기 저장용기들과 순차적으로 결합하여 액을 공급하고 액 공급이 완료된 후 분리되는 액 공급 방법.12. The method of claim 11,
Wherein a plurality of the storage containers are provided,
Wherein the nozzle is sequentially connected to the storage containers to supply the liquid, and after the liquid supply is completed, the nozzle is separated. 제 11 항에 있어서,
상기 기판 처리 장치는 상기 저장용기에 연결된 밴트 라인을 더 포함하고,
상기 액 충전시, 상기 저장 용기에 연결된 밴트 라인이 개방되는 단계;를 포함하는 액 공급 방법.12. The method of claim 11,
Wherein the substrate processing apparatus further comprises a bent line connected to the storage container,
And opening the vent line connected to the storage container when the liquid is filled.
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