KR20140003986A

KR20140003986A - Apparatus fdr treating substrates

Info

Publication number: KR20140003986A
Application number: KR1020120103327A
Authority: KR
Inventors: 최기훈; 박철호
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2012-06-29
Filing date: 2012-09-18
Publication date: 2014-01-10
Also published as: KR20140066141A; KR101713688B1; KR101408786B1

Abstract

The present invention relates to a substrate treating device and, more specifically, to a device which discharges droplets of fluid such as a liquid crystal, a polyimide (PI), and a color filter (CF). A substrate treating device according to an embodiment of the present invention includes a substrate supporting member supporting a substrate; a head unit including one or several heads spraying a processing liquid to the substrate supported by the substrate supporting member; a gentry to which the heads are joined and which is formed to be moved on the upper side of the substrate supporting member; and a processing liquid supplying unit where the processing liquid supplied to the heads is stored. The processing liquid supplying unit includes a storing tank where the processing liquid is stored; a supply line to which the storing tank and the heads are connected; a pressure control unit which presses the inside of the storing tank; a pressure control line where the storing tank is connected; and filter member which is formed inside the processing liquid supplying unit to prevent the processing liquid from discharging via the pressure control line from the storing tank.

Description

[0001] APPARATUS FDR TREATING SUBSTRATES [0002]

본 발명은 기판 제조 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 잉크젯 방식으로 기판에 액정(Liquid Crystal), PI(Polyimide) 및 CF(Color Filter)등의 액적(Liquid drop)을 토출하는 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate manufacturing apparatus, and more particularly, to an apparatus for discharging a liquid drop such as a liquid crystal, a polyimide (PI), and a color filter (CF) onto a substrate by an inkjet method.

최근에 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 표시 장치가 널리 이용되고 있다. 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극 및 배향막이 형성된 컬러 필터 기판과 박막트랜지스터(TFT), 화소 전극 및 배향막이 형성된 어레이 기판 사이의 공간에 액정을 주입하여, 액정의 이방성에 따른 빛의 굴절률의 차이를 이용해 영상 효과를 얻는다. 2. Description of the Related Art Recently, liquid crystal display devices have been widely used in display portions of electronic apparatuses such as mobile phones and portable computers. The liquid crystal display device has a structure in which liquid crystal is injected into a space between a color filter substrate on which a black matrix, a color filter, a common electrode and an alignment film are formed, a thin film transistor (TFT), a pixel electrode and an array substrate on which an alignment film is formed, The imaging effect is obtained using the difference in refractive index.

컬러 필터 기판과 어레이 기판 상에 배향액이나 액정을 도포하는 장치로 잉크젯 방식의 도포 장치가 사용되고 있다. An ink jet type coating apparatus is used as an apparatus for applying an alignment liquid or a liquid crystal onto a color filter substrate and an array substrate.

종래의 잉크젯 방식의 도포 장치는 전기신호를 물리적인 힘으로 변환하여 작은 노즐을 통하여 액정을 액적의 형태로 토출되도록 하는 구조체이다. 잉크젯 방식의 도포 장치는 처리액이 저장되는 처리액 공급 유닛, 처리액 공급 유닛으로부터 처리액을 공급받아 기판 표면에 처리액을 토출하는 헤드 유닛을 포함한다.A conventional inkjet coating device is a structure that converts electric signals to physical force and discharges the liquid crystal in the form of droplets through a small nozzle. The inkjet type coating apparatus includes a processing liquid supply unit for storing the processing liquid, and a head unit for receiving the processing liquid from the processing liquid supply unit and discharging the processing liquid onto the substrate surface.

처리액 공급 유닛에서는 저장 탱크에 처리액을 채워 놓고 상부에서 진공을 제공하여 저장 탱크로부터 헤드 유닛으로 공급하는 처리액의 양을 조절한다. 이때 저장 탱크에 진공이 인가되면 처리액이 기화하면서 처리액 수위 변동이 발생된다. 저장 탱크 내부의 처리액 수위가 불안정하게 되면, 헤드의 토출 볼륨에 영향을 주어 균일한 토출을 어렵게 만든다. 또한, 감압에 의한 계속적인 용매 손실로 인한 농도 증가 등으로 품질이 저하될 우려가 있다.In the treatment liquid supply unit, the treatment liquid is filled in the storage tank and a vacuum is provided in the upper part to adjust the amount of the treatment liquid supplied from the storage tank to the head unit. At this time, when vacuum is applied to the storage tank, the treatment liquid vaporizes and the level of the treatment liquid changes. When the level of the processing liquid in the storage tank becomes unstable, it affects the discharge volume of the head, making uniform discharge difficult. In addition, there is a possibility that the quality is lowered due to an increase in concentration due to continuous solvent loss due to decompression.

본 발명은 처리액 공급 유닛에서 저장 탱크 내부의 처리액의 수위를 균일하게 유지하기 위한 것이다.The present invention is for uniformly maintaining the level of the treatment liquid in the storage tank in the treatment liquid supply unit.

또한, 본 발명은 잉크젯 헤드로 균일한 양의 처리액을 전달하여, 잉크젯 헤드에서 기판으로 처리액이 균일한 토출 볼륨으로 분사되도록 제공하기 위한 것이다.Further, the present invention is to provide a uniform amount of the processing liquid to the inkjet head, so that the processing liquid is jetted from the inkjet head to the substrate at a uniform discharge volume.

본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 과제들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명의 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problem to be solved by the present invention is not limited to the above-described problem, and the objects not mentioned may be clearly understood by those skilled in the art from the present specification and the accompanying drawings. will be.

본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다.The present invention provides a substrate processing apparatus.

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 부재, 상기 기판 지지 부재에 지지된 상기 기판으로 처리액을 분사하는 하나 또는 복수의 헤드를 포함하는 헤드 유닛, 상기 헤드가 결합되고, 상기 기판 지지 부재 상측에서 이동 가능하도록 제공되는 갠트리 및 상기 헤드로 공급되는 상기 처리액이 저장되는 처리액 공급 유닛을 포함하되, 상기 처리액 공급 유닛은 상기 처리액이 저장되는 저장 탱크, 상기 저장 탱크와 상기 헤드가 연결되는 공급 라인, 상기 저장 탱크 내부를 가압하는 압력 조절 유닛과 상기 저장 탱크가 연결되는 압력 제어 라인 및 상기 저장 탱크로부터 상기 압력 제어 라인을 통해 액상의 상기 처리액이 배출되는 것을 방지하기 위해 상기 처리액 공급 유닛 내부에 제공되는 필터 부재를 포함한다.A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a substrate support member for supporting a substrate, a head unit including one or a plurality of heads for spraying a processing solution onto the substrate supported by the substrate support member, And a processing liquid supply unit for storing the processing liquid supplied to the head, wherein the processing liquid supply unit includes a storage tank in which the processing liquid is stored, A supply line for connecting the storage tank and the head, a pressure control unit for pressurizing the inside of the storage tank, a pressure control line to which the storage tank is connected, and a pressure control line for discharging the liquid from the storage tank through the pressure control line And a filter member provided inside the treatment liquid supply unit to prevent the treatment liquid supply unit from being damaged.

상기 필터 부재는 상기 저장 탱크 내부에 제공될 수 있다.The filter member may be provided inside the storage tank.

상기 필터 부재는 상기 저장 탱크 내부의 압력 변화에 따라 상하로 이동될 수 있도록 제공될 수 있다.The filter member may be provided so as to be movable up and down in accordance with a pressure change in the storage tank.

상기 처리액 공급 유닛은 상기 저장 탱크 내부 측면에 설치되고, 상기 필터 부재가 이동하는 하한을 제공하는 하부 스토퍼를 더 포함할 수 있다.The treatment liquid supply unit may further include a lower stopper provided on the inner side of the storage tank and providing a lower limit at which the filter member moves.

상기 필터 부재는 링 형상의 프레임, 상기 프레임 내부에 제공되는 필터 및 상기 프레임의 외부면에 제공되는 실링 부재를 포함할 수 있다.The filter member may include a ring-shaped frame, a filter provided inside the frame, and a sealing member provided on an outer surface of the frame.

상기 필터 부재는 상기 압력 조절 유닛과 상기 저장 탱크 사이의 상기 압력 제어 라인상에 제공될 수 있다.The filter member may be provided on the pressure control line between the pressure regulating unit and the storage tank.

상기 압력 제어 라인은 상기 저장 탱크에 연결되는 제1 라인, 상기 압력 조절 유닛에 연결되는 제2 라인 및 상기 제1, 2 라인 사이에 위치하고, 상기 제1, 2 라인보다 큰 단면적을 갖는 제3 라인을 포함하되, 상기 제3 라인에 상기 필터 부재가 제공될 수 있다.Wherein the pressure control line includes a first line connected to the storage tank, a second line connected to the pressure regulating unit, and a third line positioned between the first and second lines, the third line having a cross- And the filter member may be provided in the third line.

상기 처리액 공급 유닛은 상기 제3 라인의 바닥면과 상기 저장 탱크의 측면이 연결되는 제1 회수 라인을 더 포함하되, 상기 제1 회수 라인은 상기 제3 라인의 바닥면에서 액화되는 상기 처리액을 상기 저장 탱크로 회수될 수 있다.Wherein the processing liquid supply unit further includes a first recovery line connected to a bottom surface of the third line and a side surface of the storage tank, Can be recovered to the storage tank.

상기 제3 라인은 바닥면이 하부로 갈수록 단면적이 좁아지는 형상으로 제공될 수 있다.The third line may be provided in such a shape that the sectional area becomes narrower as the bottom surface is lowered.

상기 처리액 저장 유닛은 상기 제3 라인의 바닥면을 냉각시키는 냉각 부재를 더 포함할 수 있다.The treatment liquid storing unit may further include a cooling member for cooling the bottom surface of the third line.

상기 압력 제어 라인은 상기 저장 탱크로부터 상부로 연장되는 제1 라인, 상기 제1 라인으로부터 상부로 볼록하게 연결되어 하부로 연장되는 제2 라인, 상기 제2 라인으로부터 하부로 볼록하게 연결되어 상부로 연장되는 제3 라인 및 일단은 상기 제3 라인으로부터 연결되고, 타단은 상기 압력 조절 부재와 연결되는 제4 라인을 포함하되, 상기 필터 부재는 상기 제4 라인에 제공될 수 있다.Wherein the pressure control line comprises a first line extending upwardly from the storage tank, a second line convexly connected upwardly from the first line and extending downwardly from the storage tank, And a fourth line connected at one end to the third line and at the other end to the pressure regulating member, wherein the filter member may be provided in the fourth line.

상기 처리액 공급 유닛은 상기 제3 라인의 바닥면과 상기 저장 탱크가 연결되는 제2 회수 라인을 더 포함하되, 상기 제2 회수 라인을 통해 액화된 상기 처리액이 상기 제3 라인의 바닥면에서 상기 저장 탱크로 회수될 수 있다.Wherein the processing liquid supply unit further includes a second recovery line to which the storage tank is connected to a bottom surface of the third line, wherein the processing liquid liquefied through the second recovery line is discharged from the bottom surface of the third line And may be recovered to the storage tank.

상기 처리액 공급 유닛은 상기 제3 라인의 바닥면을 냉각시키는 냉각 부재를 더 포함할 수 있다.The processing liquid supply unit may further include a cooling member for cooling the bottom surface of the third line.

상기 필터 부재는 상기 저장 탱크 내부와 상기 제어 라인 내부의 압력 변화에 따라 상하로 이동되도록 제공될 수 있다.The filter member may be provided to be moved up and down according to a pressure change inside the storage tank and inside the control line.

또한, 본 발명은 처리액 공급 유닛을 제공한다.Further, the present invention provides a treatment liquid supply unit.

본 발명의 일 실시예에 따른 처리액 공급 유닛은 헤드로 공급되는 처리액이 저장되는 저장 탱크, 상기 저장 탱크와 상기 헤드가 연결되는 공급 라인, 상기 저장 탱크 내부를 가압하는 압력 조절 유닛과 상기 저장 탱크가 연결되는 압력 제어 라인 및 상기 저장 탱크로부터 상기 압력 제어 라인을 통해 액상의 상기 처리액이 배출되는 것을 방지하기 위해 상기 처리액 공급 유닛 내부에 제공되는 필터 부재를 포함한다.A processing liquid supply unit according to an embodiment of the present invention includes a storage tank in which a processing liquid supplied to a head is stored, a supply line to which the storage tank and the head are connected, a pressure control unit that pressurizes the inside of the storage tank, A pressure control line to which the tank is connected, and a filter member provided inside the process liquid supply unit to prevent the process liquid from being discharged from the storage tank through the pressure control line.

상기 필터 부재는 상기 저장 탱크 내부에 제공되고, 상기 저장 탱크 내부의 압력 변화에 따라 상하로 이동될 수 있도록 제공될 수 있다.The filter member may be provided inside the storage tank and may be provided so as to be movable up and down according to a pressure change in the storage tank.

상기 처리액 공급 유닛은 상기 제3 라인의 바닥면과 상기 저장 탱크의 측면을 연결하는 제1 회수 라인을 더 포함하되, 상기 제1 회수 라인은 상기 제3 라인의 바닥면에서 액화되는 상기 처리액이 상기 저장 탱크로 회수될 수 있다.Wherein the treatment liquid supply unit further includes a first recovery line for connecting a bottom surface of the third line to a side surface of the storage tank, Can be recovered to the storage tank.

상기 압력 제어 라인은 상기 저장 탱크로부터 상부로 연장되는 제1 라인, 상기 제1 라인으로부터 상부로 볼록하게 연결되어 하부로 연장되는 제2 라인, 상기 제2 라인으로부터 하부로 볼록하게 연결되어 상부로 연장되는 제3 라인 및 상기 일단은 제3 라인으로부터 연결되고, 타단은 상기 압력 조절 유닛과 연결되는 제4 라인을 포함하되, 상기 필터 부재는 상기 제4 라인에 제공될 수 있다.Wherein the pressure control line comprises a first line extending upwardly from the storage tank, a second line convexly connected upwardly from the first line and extending downwardly from the storage tank, And the fourth end connected to the pressure regulating unit, wherein the filter member can be provided on the fourth line.

상기 필터 부재는 상기 저장 탱크 내부의 압력 변화에 따라 상하로 이동되도록 제공될 수 있다.The filter member may be provided to be moved up and down according to a pressure change in the storage tank.

본 발명의 일 실시 예에 의하면, 처리액 공급 유닛에서 저장 탱크 내부의 처리액의 수위를 균일하게 유지할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the level of the treatment liquid in the storage tank can be uniformly maintained in the treatment liquid supply unit.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 잉크젯 헤드로 균일한 양의 처리액을 전달하여, 잉크젯 헤드에서 기판으로 균일한 양의 처리액이 분사되도록 할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a uniform amount of the processing liquid is transferred to the inkjet head, and a uniform amount of processing liquid is jetted from the inkjet head to the substrate.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and the effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the present specification and attached drawings.

도 1은 기판 처리 장치의 구성을 보여주는 도면이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 액정 토출부의 사시도이다
도 3은 도 2의 처리액 공급 유닛, 압력 조절 유닛 및 헤드의 상호간의 관계를 보여주는 도면이다.
도 4는 도 2의 처리액 공급 유닛의 제1 실시예를 보여주는 도면이다.
도 5는 도 4의 처리액 공급 유닛에서 처리액의 수위가 유지되는 과정을 보여주는 도면이다.
도 6은 도 2의 처리액 공급 유닛의 제2 실시예를 보여주는 도면이다
도 7은 도 6의 처리액 공급 유닛에서 수위가 유지되는 과정을 보여주는 도면이다.
도 8은 도 2의 처리액 공급 유닛의 제3 실시예를 보여주는 도면이다
도 9는 도 8의 처리액 공급 유닛에서 수위가 유지되는 과정을 보여주는 도면이다.
도 10은 도 2의 처리액 공급 유닛의 제3 실시예를 보여주는 도면이다
도 11은 도 10의 처리액 공급 유닛에서 수위가 유지되는 과정을 보여주는 도면이다.
도 12는 도 4의 처리액 공급 유닛의 변형예를 보여주는 도면이다.
도 13은 도 6의 처리액 공급 유닛의 변형예를 보여주는 도면이다.1 is a view showing a configuration of a substrate processing apparatus.
2 is a perspective view of a liquid crystal discharge portion of the substrate processing apparatus of FIG. 1
Fig. 3 is a view showing the relationship between the processing liquid supply unit, the pressure regulating unit and the head of Fig. 2; Fig.
Fig. 4 is a view showing a first embodiment of the treatment liquid supply unit of Fig. 2; Fig.
5 is a view showing a process of maintaining the level of the process liquid in the process liquid supply unit of FIG.
6 is a view showing a second embodiment of the treatment liquid supply unit of FIG. 2
7 is a view showing a process of maintaining the water level in the treatment liquid supply unit of FIG.
8 is a view showing a third embodiment of the treatment liquid supply unit of FIG. 2
9 is a view showing a process of maintaining the water level in the treatment liquid supply unit of FIG.
10 is a view showing a third embodiment of the treatment liquid supply unit of FIG. 2
11 is a view showing a process of maintaining the water level in the treatment liquid supply unit of FIG.
Fig. 12 is a view showing a modification of the processing liquid supply unit of Fig. 4;
FIG. 13 is a view showing a modification of the process liquid supply unit of FIG. 6; FIG.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.4Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art. The shape of the elements in the figures is thus exaggerated to emphasize a clearer description.4

도 1은 기판 처리 장치의 구성을 보여주는 도면이다.1 is a view showing a configuration of a substrate processing apparatus.

도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 액정 공급부(50), 그리고 메인 제어부(90)를 포함한다. 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 액정 토출부(10)를 중심으로 기판 이송부(20)와 마주하는 위치에는 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)가 배치된다. 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 이송부(20)를 중심으로 액정 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(30)와 언로딩부(40)가 배치된다. 로딩부(30)와 언로딩부(40)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 1, the substrate processing apparatus 1 includes a liquid crystal discharge unit 10, a substrate transfer unit 20, a loading unit 30, an unloading unit 40, a liquid crystal supply unit 50, and a main controller 90 ). The liquid crystal discharge portion 10 and the substrate transfer portion 20 are arranged in a line in the first direction I and can be positioned adjacent to each other. A liquid crystal supply part 50 and a main control part 90 are disposed at positions facing the substrate transfer part 20 with the liquid crystal discharge part 10 as a center. The liquid crystal supply part 50 and the main control part 90 may be arranged in a line in the second direction II. The loading unit 30 and the unloading unit 40 are disposed at positions facing the liquid crystal discharge unit 10 with the substrate transfer unit 20 as a center. The loading section 30 and the unloading section 40 may be arranged in a line in the second direction II.

여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.Here, the first direction I is an arrangement direction of the liquid crystal discharge portion 10 and the substrate transfer portion 20, the second direction II is a direction perpendicular to the first direction I on the horizontal plane, (III) is a direction perpendicular to the first direction (I) and the second direction (II).

액정이 도포될 기판은 로딩부(30)로 반입된다. 기판 이송부(20)는 로딩부(30)에 반입된 기판을 액정 토출부(10)로 이송한다. 액정 토출부(10)는 액정 공급부(50)로부터 액정을 공급받고, 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판상에 액정을 토출한다. 액정 토출이 완료되면, 기판 이송부(20)는 액정 토출부(10)로부터 언로딩부(40)로 기판을 이송한다. 액정이 도포된 기판은 언로딩부(40)로부터 반출된다. 메인 제어부(90)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 그리고 액정 공급부(50)의 전반적인 동작을 제어한다.The substrate to which the liquid crystal is to be applied is brought into the loading section 30. The substrate transferring unit 20 transfers the substrate loaded into the loading unit 30 to the liquid crystal discharging unit 10. The liquid crystal discharging portion 10 receives liquid crystal from the liquid crystal supplying portion 50 and discharges the liquid crystal onto the substrate by an ink jet method for discharging liquid droplets. When the liquid crystal discharge is completed, the substrate transfer section 20 transfers the substrate from the liquid crystal discharge section 10 to the unloading section 40. The substrate coated with the liquid crystal is taken out of the unloading portion 40. The main control unit 90 controls the overall operations of the liquid crystal discharge unit 10, the substrate transfer unit 20, the loading unit 30, the unloading unit 40, and the liquid crystal supply unit 50.

도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 액정 토출부의 사시도이다2 is a perspective view of a liquid crystal discharge portion of the substrate processing apparatus of FIG. 1

도 2를 참조하면, 기판 처리 장치의 액정 토출부는 베이스(B), 기판 지지 부재(100), 갠트리(200), 갠트리 이동 유닛(300), 헤드 유닛(400), 헤드 이동 유닛(500), 처리액 공급 유닛(600), 제어 유닛(700), 액정 토출량 측정 유닛(800), 노즐 검사 유닛(900), 그리고 헤드 세정 유닛(1000)을 포함한다.2, the liquid crystal discharging portion of the substrate processing apparatus includes a base B, a substrate supporting member 100, a gantry 200, a gantry moving unit 300, a head unit 400, a head moving unit 500, A processing liquid supply unit 600, a control unit 700, a liquid crystal discharge amount measurement unit 800, a nozzle inspection unit 900, and a head cleaning unit 1000.

기판 지지 부재(100)는 베이스(B)의 상면에 배치된다. 베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 기판 지지 부재(100)는 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(100)에 수직한 회전 중심 축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다.The substrate supporting member 100 is disposed on the upper surface of the base B. The base (B) may be provided in a rectangular parallelepiped shape having a constant thickness. The substrate support member 100 has a support plate 110 on which the substrate S is placed. The support plate 110 may be a rectangular plate. The rotation driving member 120 is connected to the lower surface of the support plate 110. The rotation drive member 120 may be a rotary motor. The rotation driving member 120 rotates the support plate 110 around a rotation center axis perpendicular to the support plate 100. [

지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다. 액정이 도포될 기판에 형성된 셀의 장변 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하는 경우, 회전 구동 부재(120)는 셀의 장변 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 기판을 회전시킬 수 있다.When the support plate 110 is rotated by the rotation drive member 120, the substrate S can be rotated by the rotation of the support plate 110. [ When the long-side direction of the cell formed on the substrate to which the liquid crystal is to be applied faces the second direction II, the rotation driving member 120 can rotate the substrate such that the long-side direction of the cell is in the first direction I.

지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터(미도시)에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.The support plate 110 and the rotation driving member 120 may be linearly moved in the first direction I by the linear driving member 130. The linear driving member 130 includes a slider 132 and a guide member 134. The rotation driving member 120 is provided on the upper surface of the slider 132. [ The guide member 134 is elongated in the first direction I in the center of the upper surface of the base B. A linear motor (not shown) may be incorporated in the slider 132 and the slider 132 is linearly moved in the first direction I along the guide member 134 by a linear motor (not shown).

갠트리(200)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(200)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치된다. 갠트리(200)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 배치된다. 헤드 유닛(400)은 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리(200)에 결합된다. 헤드 유닛(400)은 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다.The gantry 200 is provided at an upper portion of a path through which the support plate 110 is moved. The gantry 200 is disposed upwardly from the upper surface of the base B. The gantry 200 is arranged such that the longitudinal direction thereof is in the second direction II. The head unit 400 is coupled to the gantry 200 by the head moving unit 500. The head unit 400 can be linearly moved by the head moving unit 500 in the longitudinal direction of the gantry, that is, in the second direction II and linearly in the third direction III.

갠트리 이동 유닛(300)은 갠트리(200)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키거나, 갠트리(200)의 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 갠트리(200)를 회전시킬 수 있다. 갠트리(200)의 회전에 의해, 헤드 유닛(400) 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬될 수 있다.The gantry moving unit 300 moves the gantry 200 in a first direction I or moves the gantry 200 in such a direction that the longitudinal direction of the gantry 200 is inclined in the first direction I . By the rotation of the gantry 200, the head unit 400 can be aligned in an oblique direction in the first direction I.

헤드 유닛(400)은 기판에 처리액의 액적을 토출한다. 헤드 유닛(400)은 복수 개 제공될 수 있다. 본 실시 예에서는 3 개의 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)이 제공된 예를 들어 설명하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 헤드 유닛(400)은 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있으며, 갠트리(200)에 결합된다.The head unit 400 discharges droplets of the treatment liquid onto the substrate. A plurality of head units 400 may be provided. In this embodiment, three head units 400a, 400b and 400c are provided, but the present invention is not limited thereto. The head units 400 may be arranged in a line in a row in the second direction II and are coupled to the gantry 200.

헤드 유닛(400)의 저면에는 액정의 액적을 토출하는 복수 개의 노즐들(미도시)이 제공된다. 예를 들어, 각각의 헤드들에는 128 개 또는 256 개의 노즐들(미도시)이 제공될 수 있다. 노즐들(미도시)은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 노즐들(미도시)은 ㎍ 단위의 양으로 액정을 토출할 수 있다.On the bottom surface of the head unit 400, a plurality of nozzles (not shown) for ejecting droplets of liquid crystal are provided. For example, 128 or 256 nozzles (not shown) may be provided for each of the heads. The nozzles (not shown) may be arranged in a line at intervals of a predetermined pitch. The nozzles (not shown) can discharge the liquid crystal in an amount of ㎍ unit.

각각의 헤드 유닛(400)에는 노즐들(미도시)에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 노즐들(미도시)의 액적 토출량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.The number of piezoelectric elements corresponding to the nozzles (not shown) may be provided in each of the head units 400. The droplet discharge amount of the nozzles (not shown) may be controlled by controlling the voltage applied to the piezoelectric elements, Can be adjusted independently.

헤드 이동 유닛(500)은 헤드 유닛(400)에 각각 제공될 수 있다. 본 실시 예의 경우, 3 개의 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)이 제공된 예를 들어 설명하므로, 헤드 이동 유닛(500) 또한 헤드의 수에 대응하도록 3 개가 제공될 수 있다. 이와 달리 헤드 이동 유닛(500)은 1 개 제공될 수 있으며, 이 경우 헤드 유닛(400)은 개별 이동이 아니라 일체로 이동될 수 있다. 헤드 이동 유닛(500)은 헤드 유닛(400)을 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동시키거나, 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시킬 수 있다.The head moving unit 500 may be provided to the head unit 400, respectively. In the case of this embodiment, since three head units 400a, 400b and 400c are provided as examples, three head moving units 500 can also be provided corresponding to the number of heads. Alternatively, one head moving unit 500 may be provided, in which case the head unit 400 may be moved integrally but not individually. The head moving unit 500 can linearly move the head unit 400 in the longitudinal direction of the gantry, that is, in the second direction II or in the third direction III.

도 3은 도 2의 처리액 공급 유닛, 제어 유닛 및 헤드의 상호간의 관계를 보여주는 도면이다.Fig. 3 is a view showing the relationship between the processing liquid supply unit, the control unit and the head of Fig. 2; Fig.

도 2와 도 3을 참조하면, 처리액 공급 유닛(600)은 저장 탱크(610), 공급 라인(620), 압력 제어 라인(630) 및 필터 부재(640)를 포함한다. 2 and 3, the treatment liquid supply unit 600 includes a storage tank 610, a supply line 620, a pressure control line 630, and a filter member 640.

저장 탱크(610)는 헤드 유닛(400)에 공급하는 처리액이 저장된다. 처리액은 저장 탱크(610) 내부에서 일정한 수위가 유지된다. 처리액의 수위가 일정하지 않으면 헤드 유닛(400)으로 이동하는 처리액의 압력이 상이하게 되고, 이로 인해 기판(S)으로 토출되는 처리액의 볼륨이 일정하지 않게 된다. 이를 방지하기 위해 처리액이 헤드 유닛(400)으로 이동되는 만큼 저장 탱크(610)로 처리액이 공급되어 처리액의 수위가 일정하게 유지될 수 있도록 한다. 그러나 처리액이 헤드 유닛(400)으로 공급되지 않는 경우에도 처리액이 기화됨으로써 처리액의 수위가 일정하게 유지되지 않을 수 있다. 이를 방지하기 위한 본 발명의 실시예들은 이하에서 상세히 설명한다. The storage tank 610 stores the processing liquid to be supplied to the head unit 400. The treatment liquid is maintained at a constant water level in the storage tank 610. If the level of the processing liquid is not constant, the pressure of the processing liquid moving to the head unit 400 becomes different, and the volume of the processing liquid discharged to the substrate S becomes uneven. In order to prevent this, the treatment liquid is supplied to the storage tank 610 as the treatment liquid is moved to the head unit 400 so that the level of the treatment liquid can be maintained constant. However, even if the processing liquid is not supplied to the head unit 400, the processing liquid may be vaporized, so that the level of the processing liquid may not be maintained constant. Embodiments of the present invention for preventing this are described in detail below.

공급 라인(620)은 저장 탱크(610)와 헤드 유닛(400)이 연결된다. 공급 라인(620)은 제어 유닛(700)에서 전기적 신호를 받아서 처리액이 저장 탱크(610)에서 헤드 유닛(400)으로 이동되도록 제공된다.The supply line 620 connects the storage tank 610 and the head unit 400. The supply line 620 is provided to receive the electrical signal from the control unit 700 so that the process liquid is transferred from the storage tank 610 to the head unit 400.

압력 제어 라인(630)은 저장 탱크(610)와 제어 유닛(700)이 연결된다. 제어 유닛(700)의 압력 조절부(720)에서 저장 탱크(610) 내부의 압력을 공정에 따라 진공 상태로 조절하기 위해 압력 제어 라인(630)을 통해 양압과 음압을 인가하여 제어한다The pressure control line 630 is connected to the storage tank 610 and the control unit 700. The pressure control unit 720 of the control unit 700 controls the pressure inside the storage tank 610 by applying a positive pressure and a negative pressure through the pressure control line 630 in order to adjust the pressure in the vacuum state according to the process

필터 부재(640)는 저장 탱크(610) 내부의 처리액이 기화하여 저장 탱크(610) 외부로 이동되는 것을 차단한다. 실시예에 의하면 필터 부재(640)는 링 형상의 프레임(641), 프레임 내부에 제공되는 필터(642) 및 프레임의 외부면에 제공되는 실링 부재(643)로 구성될 수 있다. 필터 부재(640)는 저장 탱크(610) 내부의 압력 변화에 따라 상하로 이동될 수 있다. 필터(642)는 기체만이 통과하고 액체나 기화된 액체는 통과될 수 없는 재질로 이루어질 수 있다. 일 예에 의하면 멤브레인(Membrane)이 필터(642)로 제공될 수 있다. 실시예에 의하면, 필터 부재(640)는 저장 탱크(610) 내부 또는 압력 제어 라인(630)에 제공될 수 있다. 이는 이하에서 상세하게 설명한다.The filter member 640 blocks the process liquid in the storage tank 610 from vaporizing and moving out of the storage tank 610. According to the embodiment, the filter member 640 may be composed of a ring-shaped frame 641, a filter 642 provided inside the frame, and a sealing member 643 provided on the outer surface of the frame. The filter member 640 can be moved up and down in accordance with the pressure change inside the storage tank 610. The filter 642 may be made of a material through which only gas can pass and liquid or vaporized liquid can not pass through. According to one example, a membrane may be provided to the filter 642. According to an embodiment, the filter member 640 may be provided in the storage tank 610 or in the pressure control line 630. This is described in detail below.

제어 유닛(700)은 제어 보드(710), 압력 조절부(720)를 포함한다. 제어 유닛(700)은 헤드 이동 유닛(500)에 설치되어 헤드 유닛(400)으로의 액정 공급, 압력 제어 그리고 토출량 제어 등의 동작을 제어한다.The control unit 700 includes a control board 710 and a pressure regulator 720. The control unit 700 is installed in the head moving unit 500 to control operations such as liquid crystal supply to the head unit 400, pressure control, and discharge amount control.

제어 보드(710)는 헤드 유닛(400)에 전기적으로 연결되고, 헤드 유닛(400)으로 토출 제어신호를 인가한다. 헤드 유닛(400)에는 노즐들에 대응하는 수의 압전소자가 제공되며, 제어 유닛(700)의 제어 보드(710)는 압전소자들에 인가되는 전압을 제어하여 노즐들의 액적 토출량을 조절하게 된다. 제어 보드(710)는 압력 조절부(720)에 전기적으로 연결되고, 헤드 유닛(400)의 저장 탱크(610) 내부 압력을 일정하게 유지하도록 제어하기 위하여 압력 조절부(720)에 제어신호를 인가한다. 제어 보드(710)는 헤드 유닛(400)으로의 처리액 공급을 위해 처리액 공급 유닛(600)을 제어한다. The control board 710 is electrically connected to the head unit 400 and applies a discharge control signal to the head unit 400. The head unit 400 is provided with a number of piezoelectric elements corresponding to the nozzles and the control board 710 of the control unit 700 controls the voltage applied to the piezoelectric elements to adjust the droplet discharge amount of the nozzles. The control board 710 is electrically connected to the pressure regulator 720 and supplies a control signal to the pressure regulator 720 to control the internal pressure of the reservoir tank 610 of the head unit 400 to be constant do. The control board 710 controls the process liquid supply unit 600 to supply the process liquid to the head unit 400.

압력 조절부(720)는 저장 탱크(610)의 내부 압력을 일정하게 유지하도록 양압과 음압을 제어하기 위한 것으로, 제어 보드(710)에 의해 제어된다.The pressure regulator 720 is for controlling the positive pressure and the negative pressure to keep the internal pressure of the storage tank 610 constant, and is controlled by the control board 710.

도 4는 도 2의 처리액 공급 유닛의 제1 실시예를 보여주는 도면이고, 도 5는 도4의 처리액 공급 유닛에서 처리액의 수위가 유지되는 과정을 보여주는 도면이다.FIG. 4 is a view showing a first embodiment of the treatment liquid supply unit of FIG. 2, and FIG. 5 is a view showing a process of maintaining the level of the treatment liquid in the treatment liquid supply unit of FIG.

도 4 및 도 5를 참조하면, 처리액 공급 유닛(6100)은 저장 탱크(6110), 공급 라인(6120), 압력 제어 라인(6130), 필터 부재(6140) 및 하부 스토퍼(6115)를 포함한다. 4 and 5, the treatment liquid supply unit 6100 includes a storage tank 6110, a supply line 6120, a pressure control line 6130, a filter member 6140, and a lower stopper 6115 .

저장 탱크(6110)는 헤드 유닛(400)에 공급되는 처리액이 저장된다. 공급 라인(6120)은 저장 탱크(6110)와 헤드 유닛(400)에 연결된다. 압력 제어 라인(6130)은 저장 탱크(6110)와 제어 유닛(700)에 연결된다. 필터 부재(6140)는 저장 탱크(6110) 내부에 제공되며, 저장 탱크(6110) 내부의 압력 변화에 따라 상하로 이동될 수 있다. The storage tank 6110 stores the processing liquid supplied to the head unit 400. [ The supply line 6120 is connected to the storage tank 6110 and the head unit 400. The pressure control line 6130 is connected to the storage tank 6110 and the control unit 700. The filter member 6140 is provided inside the storage tank 6110 and can be moved up and down in accordance with the pressure change inside the storage tank 6110.

하부 스토퍼(6115)는 저장 탱크(6110)의 측벽에 위치하고, 저장 탱크(6110)가 상하로 이동될 때 그 하한을 제공한다. 하부 스토퍼(6115)는 저장 탱크(6110) 내부에서 저장된 처리액에 근접한 위치에 제공된다. 이는 필터 부재(6140)로 인하여 액화된 처리액이 회수될 때 최대한 처리액에 근접한 위치에서 회수되어야 처리액의 수위의 변화가 적기 때문이다. 선택적으로, 하부 스토퍼(6115)는 제공되지 않을 수 있다.The lower stopper 6115 is located on the side wall of the storage tank 6110 and provides the lower limit when the storage tank 6110 is moved up and down. The lower stopper 6115 is provided at a position close to the processing liquid stored in the storage tank 6110. This is because when the liquefied processing liquid is recovered due to the filter member 6140, it is required to be recovered at a position close to the processing liquid as much as the change in the level of the processing liquid is small. Alternatively, the lower stopper 6115 may not be provided.

기화된 처리액은 저장 탱크(6110)에서 압력 제어 라인(6130)으로 이동하다 필터 부재(6140)와 만난다. 이때 기체는 필터 부재(6140)를 통과하나 기화된 처리액은 필터 부재(6140)를 통과하지 못한다. 필터 부재(6140)를 통과하지 못한 처리액은 저장 탱크(6110) 내부에서 액화되어 회수된다. 이러한 과정을 통하여 저장 탱크(6110) 내부의 처리액의 수위를 일정하게 유지할 수 있다.The vaporized process liquid is moved from the storage tank 6110 to the pressure control line 6130 and meets the filter member 6140. At this time, the gas passes through the filter member 6140, but the vaporized treatment liquid does not pass through the filter member 6140. The processing liquid which has not passed through the filter member 6140 is liquefied and recovered inside the storage tank 6110. Through this process, the level of the treatment liquid in the storage tank 6110 can be kept constant.

도 6은 도 2의 처리액 공급 유닛의 제2 실시예를 보여주는 도면이다. 도 7은 도 6의 처리액 공급 유닛에서 수위가 유지되는 과정을 보여주는 도면이다.FIG. 6 is a view showing a second embodiment of the treatment liquid supply unit of FIG. 2. FIG. 7 is a view showing a process of maintaining the water level in the treatment liquid supply unit of FIG.

도 6 및 도 7을 참조하면, 처리액 공급 유닛(6200)은 저장 탱크(6210), 공급 라인(6220), 압력 제어 라인(6230), 필터 부재(6240) 및 냉각 부재(6260)를 포함한다. 6 and 7, the treatment liquid supply unit 6200 includes a storage tank 6210, a supply line 6220, a pressure control line 6230, a filter member 6240, and a cooling member 6260 .

처리액 공급 유닛(6200)은 도 4의 처리액 공급 유닛(6100)과 비교하여, 필터 부재(6240)의 위치가 상이하다. 또한, 처리액 공급 유닛(6200)은 냉각 부재(6260)를 더 포함하고 있고, 압력 제어 라인(6230)의 형상이 상이하다. 그 외에는 처리액 공급 유닛(6200)은 도 4의 처리액 공급 유닛(6100)과 유사한 형상과 기능을 갖는다. 따라서 도 4의 처리액 공급 유닛(6100)과 차이점을 중심으로 처리액 공급 유닛(6200)을 설명하고, 중복되는 설명은 생략한다.The position of the filter member 6240 is different in the process liquid supply unit 6200 from the process liquid supply unit 6100 in Fig. Further, the treatment liquid supply unit 6200 further includes a cooling member 6260, and the shape of the pressure control line 6230 is different. Otherwise, the treatment liquid supply unit 6200 has a shape and a function similar to those of the treatment liquid supply unit 6100 of FIG. Therefore, the process liquid supply unit 6200 will be described mainly on the difference from the process liquid supply unit 6100 of FIG. 4, and a duplicate description will be omitted.

압력 제어 라인(6230)은 저장 탱크에 연결되는 제1 라인(6231), 제어 유닛에 연결되는 제2 라인(6232) 및 제1, 2 라인 사이에 위치하고, 제1, 2 라인보다 큰 단면적을 갖는 제3 라인(6233)을 포함한다. 제3 라인(6233)은 하면(6233a)이 하부로 갈수록 단면적이 좁아지는 형상으로 제공된다. 이로 인하여 필터 부재(6240)로 인하여 제3 라인(6233)에서 액화된 처리액(6290)이 제3 라인(6233)의 하면(6233a)의 경사를 따라 미끄러져 내려감으로써 저장 탱크(6210) 내부로 회수될 수 있다.The pressure control line 6230 includes a first line 6231 connected to the storage tank, a second line 6232 connected to the control unit, and a second control line 6232 located between the first and second lines and having a cross- And a third line 6233. The third line 6233 is provided in such a shape that the lower surface 6233a has a smaller sectional area as it goes down. The processing liquid 6290 liquefied in the third line 6233 due to the filter member 6240 is slid down along the inclination of the lower surface 6233a of the third line 6233 so as to flow into the storage tank 6210 Can be recovered.

필터 부재(6240)는 압력 제어 라인(6230)의 압력 변화로 인하여 상하로 움직일 수 있다. 그러나 제3 라인(6233)의 내부에 제공된 필터 부재(6240)의 단면적이 제1 라인(6231) 및 제2 라인(6232)보다 크기 때문에, 필터 부재(6240)의 상하 이동 범위가 제한된다. 따라서 제1 라인(6231)의 상면과 제3 라인(6233)의 하면이 필터 부재(6240)의 상한과 하한으로 제공되므로, 도 4의 처리액 공급 유닛(6100)의 하부 스토퍼(6115)와 동일한 기능이 제공된다.The filter member 6240 can be moved up and down due to the pressure change of the pressure control line 6230. However, since the sectional area of the filter member 6240 provided inside the third line 6233 is larger than that of the first line 6231 and the second line 6232, the vertical movement range of the filter member 6240 is limited. The upper surface of the first line 6231 and the lower surface of the third line 6233 are provided at the upper and lower limits of the filter member 6240 and therefore the same as the lower stopper 6115 of the processing liquid supply unit 6100 of FIG. Function is provided.

냉각 부재(6260)는 제3 라인(6233)의 하면(6233a)을 냉각한다. 이로서 필터 부재(6240)로 인하여 제3 라인(6233)에 잔류하는 기화된 처리액의 액화가 촉진된다. 제3 라인(6233)의 하면(6233a)에서 액화된 처리액(6290)은 제3 라인(6233)의 하면(6233a)을 따라 미끄러져 저장 탱크(6210) 내부로 회수될 수 있다. 선택적으로, 냉각 부재(6260)는 제공되지 않을 수도 있다.The cooling member 6260 cools the lower surface 6233a of the third line 6233. This facilitates the liquefaction of the vaporized process liquid remaining in the third line 6233 due to the filter member 6240. The process liquid 6290 liquefied on the lower surface 6233a of the third line 6233 can be slid along the lower surface 6233a of the third line 6233 and recovered into the storage tank 6210. [ Optionally, cooling member 6260 may not be provided.

도 8은 도 2의 처리액 공급 유닛의 제3 실시예를 보여주는 도면이다. 도 9는 도 8의 처리액 공급 유닛에서 수위가 유지되는 과정을 보여주는 도면이다.FIG. 8 is a view showing a third embodiment of the treatment liquid supply unit of FIG. 2. FIG. 9 is a view showing a process of maintaining the water level in the treatment liquid supply unit of FIG.

도 8 및 도 9를 참조하면, 처리액 공급 유닛(6300)은 저장 탱크(6310), 공급 라인(6320), 압력 제어 라인(6330), 필터 부재(6340), 회수 라인(6350) 및 냉각 부재(6360)를 포함한다. 8 and 9, the treatment liquid supply unit 6300 includes a storage tank 6310, a supply line 6320, a pressure control line 6330, a filter member 6340, a recovery line 6350, (6360).

처리액 공급 유닛(6300)은 도 4의 처리액 공급 유닛(6100)과 비교하여, 필터 부재(6340)의 위치가 상이하다. 또한, 처리액 공급 유닛(6300)은 회수 라인(6350)과 냉각 부재(6360)를 더 포함하고 있고, 압력 제어 라인(6330)의 형상이 상이하다. 그 외에는 처리액 공급 유닛(6300)은 도 4의 처리액 공급 유닛(6100)과 유사한 형상과 기능을 갖는다. 따라서 도 4의 처리액 공급 유닛(6100)과 차이점을 중심으로 처리액 공급 유닛(6300)을 설명하고, 중복되는 설명은 생략한다.The treatment liquid supply unit 6300 differs from the treatment liquid supply unit 6100 of FIG. 4 in the position of the filter member 6340. The treatment liquid supply unit 6300 further includes a recovery line 6350 and a cooling member 6360. The shape of the pressure control line 6330 is different. Otherwise, the treatment liquid supply unit 6300 has a similar shape and function to the treatment liquid supply unit 6100 of FIG. Therefore, the process liquid supply unit 6300 will be described mainly on the difference from the process liquid supply unit 6100 of FIG. 4, and a duplicate description will be omitted.

압력 제어 라인(6330)은 저장 탱크(6310)에 연결되는 제1 라인(6331), 제어 유닛에 연결되는 제2 라인(6332) 및 제1, 2 라인 사이에 위치하고, 제1, 2 라인보다 큰 단면적을 갖는 제3 라인(6333)을 포함한다. The pressure control line 6330 includes a first line 6331 connected to the storage tank 6310, a second line 6332 connected to the control unit, and a second control line 6332 located between the first and second lines, And a third line 6333 having a cross-sectional area.

필터 부재(6340)는 압력 제어 라인(6330)의 제3 라인(6333) 내부에 제공된다. 필터 부재(6340)는 압력 제어 라인(6330) 내부의 압력 변화로 인하여 상하로 움직일 수 있다. 그러나 제3 라인(6333)의 내부에 제공된 필터 부재(6340)의 단면적이 제1 라인(6331) 및 제2 라인(6332)보다 크기 때문에, 필터 부재(6340)의 상하 이동 범위가 제한된다. 따라서 제3 라인(6333)의 상면과 제3 라인(6333)의 하면이 필터 부재(6340)의 상한과 하한으로 제공된다.The filter member 6340 is provided inside the third line 6333 of the pressure control line 6330. The filter member 6340 can move up and down due to the pressure change inside the pressure control line 6330. However, since the sectional area of the filter member 6340 provided inside the third line 6333 is larger than that of the first line 6331 and the second line 6332, the vertical movement range of the filter member 6340 is limited. The upper surface of the third line 6333 and the lower surface of the third line 6333 are provided at the upper and lower limits of the filter member 6340. [

냉각 부재(6360)는 제3 라인(6333)의 하면을 냉각한다. 이로서 필터 부재(6340)로 인하여 제3 라인(6333)에 잔류하는 기화된 처리액의 액화가 촉진된다. 이로 인해, 제3 라인(6333)의 하면에서 액화된 처리액(6390)이 모이게 된다. 선택적으로, 냉각 부재(6360)는 제공되지 않을 수도 있다.The cooling member 6360 cools the lower surface of the third line 6333. This facilitates the liquefaction of the vaporized process liquid remaining in the third line 6333 due to the filter member 6340. As a result, the liquefied processing liquid 6390 is collected on the lower surface of the third line 6333. Alternatively, cooling member 6360 may not be provided.

회수 라인(6350)은 제3 라인(6333)의 하면과 저장 탱크(6310)를 연결한다. 이로 인해 제3 라인(6333)의 하면에서 액화된 처리액(6390)이 회수 라인(6350)을 통해 저장 탱크(6310)로 회수될 수 있다. 회수 라인(6350)은 저장 탱크(6310) 내측벽에서 처리액과의 거리가 가장 가까운 곳에 연결될 수 있다. 이는 회수 라인(6350)을 통해 액화된 처리액(6390)이 회수될 때 저장 탱크(6310) 내부의 처리액 수위의 변화를 최소화하기 위함이다. 선택적으로, 회수 라인(6350)은 제공되지 않을 수도 있다.The recovery line 6350 connects the lower surface of the third line 6333 and the storage tank 6310. As a result, the process liquid 6390 liquefied on the lower surface of the third line 6333 can be recovered to the storage tank 6310 through the recovery line 6350. The recovery line 6350 can be connected to the side wall of the storage tank 6310 at a position closest to the processing liquid. This is to minimize a change in the level of the processing liquid in the storage tank 6310 when the liquefied processing liquid 6390 is recovered through the recovery line 6350. [ Alternatively, recovery line 6350 may not be provided.

도 10은 도 2의 처리액 공급 유닛의 제4 실시예를 보여주는 도면이다. 도 11은 도 10의 처리액 공급 유닛에서 수위가 유지되는 과정을 보여주는 도면이다.FIG. 10 is a view showing a fourth embodiment of the treatment liquid supply unit of FIG. 2. FIG. 11 is a view showing a process of maintaining the water level in the treatment liquid supply unit of FIG.

도 10 및 도 11을 참조하면, 처리액 공급 유닛(6400)은 저장 탱크(6410), 공급 라인(6420), 압력 제어 라인(6430), 필터 부재(6440), 회수 라인(6450) 및 냉각 부재(6460)를 포함한다.10 and 11, the treatment liquid supply unit 6400 includes a reservoir tank 6410, a supply line 6420, a pressure control line 6430, a filter member 6440, a recovery line 6450, (6460).

처리액 공급 유닛(6400)은 도 4의 처리액 공급 유닛(6100)과 비교하여, 필터 부재(6440)의 위치가 상이하다. 또한, 처리액 공급 유닛(6400)은 회수 라인(6450)과 냉각 부재(6460)를 더 포함하고 있고, 압력 제어 라인(6430)의 형상이 상이하다. 그 외에는 처리액 공급 유닛(6400)은 도 4의 처리액 공급 유닛(6100)과 유사한 형상과 기능을 갖는다. 따라서 도 4의 처리액 공급 유닛(6100)과 차이점을 중심으로 처리액 공급 유닛(6400)을 설명하고, 중복되는 설명은 생략한다.The treatment liquid supply unit 6400 differs from the treatment liquid supply unit 6100 of FIG. 4 in the position of the filter member 6440. The treatment liquid supply unit 6400 further includes a recovery line 6450 and a cooling member 6460. The shape of the pressure control line 6430 is different. Otherwise, the treatment liquid supply unit 6400 has a shape and a function similar to those of the treatment liquid supply unit 6100 of FIG. Therefore, the process liquid supply unit 6400 will be described mainly on the difference from the process liquid supply unit 6100 of FIG. 4, and a duplicate description will be omitted.

압력 제어 라인(6430)은 저장 탱크(6410)로부터 상부로 연장되는 제1 라인(6431), 제1 라인(6431)으로부터 상부로 볼록하게 연결되어 하부로 연장되는 제2 라인(6432), 제2 라인(6432)으로부터 하부로 볼록하게 연결되어 상부로 연장되는 제3 라인(6433) 및 일단은 제3 라인(6433)으로부터 연결되고, 타단은 제어 유닛(700)과 연결되는 제4 라인(6434)을 포함한다. The pressure control line 6430 includes a first line 6431 extending upwardly from the storage tank 6410, a second line 6432 extending upwardly convexly upwardly from the first line 6431, A fourth line 6434 connected from the third line 6433 and the other end connected to the control unit 700, a third line 6433 extending upward from the line 6432, .

필터 부재(6440)는 압력 제어 라인(6430)의 제4 라인(6434) 내부에 제공된다. 필터 부재(6440)는 압력 제어 라인(6430) 내부의 압력 변화로 인하여 상하로 움직일 수 있다.The filter member 6440 is provided within the fourth line 6434 of the pressure control line 6430. The filter member 6440 can move up and down due to the pressure change inside the pressure control line 6430.

냉각 부재(6460)는 제3 라인(6433)의 하면을 냉각한다. 이로서 필터 부재(6440)로 인하여 제3 라인(6433)에 잔류하는 기화된 처리액의 액화가 촉진된다. 이로 인해, 제3 라인(6433)의 하면에서 액화된 처리액(6490)이 모이게 된다. 선택적으로, 냉각 부재(6460)는 제공되지 않을 수도 있다.The cooling member 6460 cools the lower surface of the third line 6433. This facilitates liquefaction of the vaporized process liquid remaining in the third line 6433 due to the filter member 6440. As a result, the liquefied processing liquid 6490 is collected on the lower surface of the third line 6433. Optionally, cooling member 6460 may not be provided.

회수 라인(6450)은 제3 라인(6433)의 하면과 저장 탱크(6410)를 연결한다. 이로 인해 제3 라인(6433)의 하면에서 액화된 처리액(6490)이 회수 라인(6450)을 통해 저장 탱크(6410)로 회수될 수 있다. 회수 라인(6450)은 저장 탱크(6410) 내측벽에서 처리액과의 거리가 가장 가까운 곳에 연결될 수 있다. 이는 회수 라인(6450)을 통해 액화된 처리액(6490)이 저장 탱크(6410) 내부로 회수 될 때 저장 탱크(6410) 내부의 처리액 수위의 변화를 최소화 하기 위함이다. 선택적으로, 회수 라인(6450)은 제공되지 않을 수도 있다.The recovery line 6450 connects the lower surface of the third line 6433 and the storage tank 6410. As a result, the process liquid 6490 liquefied on the lower surface of the third line 6433 can be recovered to the storage tank 6410 through the recovery line 6450. The recovery line 6450 can be connected to the side wall of the storage tank 6410 at a position closest to the processing liquid. This is to minimize a change in the level of the processing liquid in the storage tank 6410 when the processing liquid 6490 liquefied through the recovery line 6450 is recovered into the storage tank 6410. Alternatively, the withdrawal line 6450 may not be provided.

도시되지 않았지만, 압력 제어 라인(6430)은 필터 부재(6440)가 제공되는 제4 라인(6434)에 하부 스토퍼(미도시)를 더 포함할 수 있다. 하부 스토퍼(미도시)는 필터 부재(6440)가 상하 이동하는 하한을 제공한다.Although not shown, the pressure control line 6430 may further include a lower stopper (not shown) in the fourth line 6434 where the filter member 6440 is provided. A lower stopper (not shown) provides a lower limit at which the filter member 6440 moves up and down.

도 12는 도 4의 처리액 공급 유닛의 변형예를 보여주는 도면이다.Fig. 12 is a view showing a modification of the processing liquid supply unit of Fig. 4;

도 12를 참조하면, 처리액 공급 유닛(6500)은 저장 탱크(6510), 공급 라인(6520), 압력 제어 라인(6530) 및 필터 부재(6540)를 포함한다.12, the treatment liquid supply unit 6500 includes a storage tank 6510, a supply line 6520, a pressure control line 6530, and a filter member 6540.

처리액 공급 유닛(6500)은 도 4의 처리액 공급 유닛(6100)과 비교하여, 필터 부재(6540)의 구성이 상이하고, 필터 부재(6540)가 고정되어 제공된다. The treatment liquid supply unit 6500 differs from the treatment liquid supply unit 6100 of FIG. 4 in the structure of the filter member 6540 and is provided with the filter member 6540 fixed.

필터 부재(6540)는 링 형상의 프레임(6541) 및 프레임 내부에 제공되는 필터(6542)를 포함한다. 도 4의 필터 부재(6140)와 비교할 때 실링 부재(6543)를 포함하지 않는다. 따라서 필터 부재(6540)는 저장 탱크(6510) 내벽에 고정되어 제공된다. 이때 필터 부재(6540)는 저장 탱크(6510) 내벽에서 처리액과 근접한 위치에 제공될 수 있다. 이는 필터 부재(6540)를 통과하지 못하고 액화되어 회수되는 처리액이 떨어지면서 처리액의 수위를 변동시키지 못하도록 하여, 균일한 토출 볼륨을 유지하기 위함이다.The filter member 6540 includes a ring-shaped frame 6541 and a filter 6542 provided inside the frame. And does not include a sealing member 6543 as compared with the filter member 6140 of FIG. Therefore, the filter member 6540 is fixedly provided on the inner wall of the storage tank 6510. At this time, the filter member 6540 may be provided at a position close to the processing liquid at the inner wall of the storage tank 6510. This is to maintain the uniform discharge volume by preventing the liquid level of the process liquid from fluctuating as the process liquid that has been liquefied and recovered is dropped without passing through the filter member 6540.

도 13은 도 6의 처리액 공급 유닛의 변형예를 보여주는 도면이다.FIG. 13 is a view showing a modification of the process liquid supply unit of FIG. 6; FIG.

도 13을 참조하면, 처리액 공급 유닛(6600)은 저장 탱크(6610), 공급 라인(6620), 압력 제어 라인(6630) 및 필터 부재(6640)를 포함한다. 13, the treatment liquid supply unit 6600 includes a storage tank 6610, a supply line 6620, a pressure control line 6630, and a filter member 6640. [

처리액 공급 유닛(6600)은 도 4의 처리액 공급 유닛(6200)과 달리, 압력 제어 라인(6630)이 동일한 단면적을 갖도록 제공될 수 있다. 이러한 경우에 필터 부재(6640)는 압력 제어 라인(6630)에 위치하고, 압력 제어 라인(6630) 내부의 압력 변화에 따라 상하로 이동된다. 도시되지 않았지만, 압력 제어 라인(6630)은 하부 스토퍼(미도시)를 더 포함할 수 있다. 하부 스토퍼(미도시)는 필터 부재(6640)가 상하 이동할 때 그 하한을 제공한다. 하부 스토퍼(미도시)는 액화되어 회수되는 처리액으로 인하여 발생하는 수위 변동을 최소화 하기 위하여 저장 탱크(6610)내 처리액에 가깝도록 위치될 수 있다. Unlike the treatment liquid supply unit 6200 of FIG. 4, the treatment liquid supply unit 6600 may be provided such that the pressure control line 6630 has the same cross-sectional area. In this case, the filter member 6640 is located on the pressure control line 6630 and is moved up and down in accordance with the pressure change inside the pressure control line 6630. Although not shown, the pressure control line 6630 may further include a lower stopper (not shown). The lower stopper (not shown) provides its lower limit when the filter member 6640 moves up and down. The lower stopper (not shown) may be positioned so as to be close to the treatment liquid in the storage tank 6610 in order to minimize the water level fluctuation caused by the treatment liquid to be liquefied and recovered.

다시 도 2를 참조하면, 액정 토출량 측정 유닛(800)은 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 액정 토출량을 측정한다. 구체적으로, 액정 토출량 측정 유닛(800)은 헤드 유닛(400a, 400b, 400c) 마다 전부의 노즐들(미도시)로부터 토출되는 액정 량을 측정한다. 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 액정 토출량 측정을 통해, 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 노즐들(미도시)의 이상 유무를 거시적으로 확인할 수 있다. 즉, 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 액정 토출량이 기준치를 벗어나면, 노즐들(미도시) 중 적어도 하나에 이상이 있음을 알 수 있다.Referring again to Fig. 2, the liquid crystal discharge amount measurement unit 800 measures the liquid crystal discharge amount of the head units 400a, 400b, and 400c. Specifically, the liquid crystal discharge amount measurement unit 800 measures the amount of liquid crystal discharged from all of the nozzles (not shown) for each of the head units 400a, 400b and 400c. The presence or absence of abnormalities in the nozzles (not shown) of the head units 400a, 400b and 400c can be confirmed macroscopically by measuring the liquid crystal discharge amount of the head units 400a, 400b and 400c. That is, when the liquid crystal discharge amount of the head units 400a, 400b, 400c is out of the reference value, it is found that at least one of the nozzles (not shown) is abnormal.

헤드 유닛(400a, 400b, 400c)은 갠트리 이동 유닛(300)과 헤드 이동 유닛(500)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 이동되어 액정 토출량 측정 유닛(800)의 상부에 위치할 수 있다. 헤드 이동 유닛(500)은 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동시켜 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)과 액정 토출량 측정 유닛(800)과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.The head units 400a, 400b and 400c are moved in the first direction I and the second direction II by the gantry moving unit 300 and the head moving unit 500, Lt; / RTI > The head moving unit 500 moves the head units 400a, 400b and 400c in the third direction III to adjust the vertical distance between the head units 400a, 400b and 400c and the liquid crystal discharge amount measuring unit 800 .

노즐 검사 유닛(900)은 광학 검사를 통해 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)에 제공된 개별 노즐의 이상 유무를 확인한다. 액정 토출량 측정 유닛(800)에서 거시적인 노즐의 이상 유무를 확인한 결과, 불특정의 노즐에 이상이 있는 것으로 판단된 경우, 노즐 검사 유닛(900)은 개별 노즐의 이상 유무를 확인하면서 노즐에 대한 전수 검사를 진행할 수 있다.The nozzle inspection unit 900 confirms whether or not the individual nozzles provided to the head units 400a, 400b and 400c are abnormal through the optical inspection. When the abnormality of the macroscopic nozzle is checked by the liquid crystal discharge quantity measurement unit 800 and it is judged that there is an abnormality in the unspecified nozzle, the nozzle inspection unit 900 checks the existence of abnormality of the individual nozzle, .

노즐 검사 유닛(900)은 베이스(B) 상의 기판 지지 부재(100) 일측에 배치될 수 있다. 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)은 갠트리 이동 유닛(300)과 헤드 이동 유닛(500)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 이동되어 노즐 검사 유닛(900)의 상부에 위치할 수 있다. 헤드 이동 유닛(500)은 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동시켜 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)과 노즐 검사 유닛(900)과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.The nozzle inspection unit 900 may be disposed on one side of the substrate support member 100 on the base B. [ The head units 400a, 400b and 400c are moved in the first direction I and the second direction II by the gantry moving unit 300 and the head moving unit 500, Can be located. The head moving unit 500 moves the head units 400a, 400b and 400c in the third direction III to adjust the vertical distance between the head units 400a, 400b and 400c and the nozzle inspection unit 900 have.

헤드 세정 유닛(1000)은 퍼징(Purging) 공정과 흡입(Suction) 공정을 진행한다. 퍼징(Purging) 공정은 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 내부에 수용된 액정의 일부를 고압으로 분사하는 공정이다. 흡입(Suction) 공정은, 퍼징(Purging) 공정 후, 헤드 유닛(400a, 400b, 400c)의 노즐면에 잔류하는 액정을 흡입하여 제거하는 공정이다.The head cleaning unit 1000 performs a purging process and a suction process. The purging process is a process of injecting a part of liquid crystal housed inside the head units 400a, 400b and 400c at a high pressure. The suction process is a process of sucking and removing the liquid crystal remaining on the nozzle face of the head units 400a, 400b, and 400c after the purging process.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the foregoing is intended to illustrate and explain the preferred embodiments of the present invention, and the present invention may be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, it is possible to make changes or modifications within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, within the scope of the disclosure, and / or within the skill and knowledge of the art. The embodiments described herein are intended to illustrate the best mode for implementing the technical idea of the present invention and various modifications required for specific applications and uses of the present invention are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. It is also to be understood that the appended claims are intended to cover such other embodiments.

10 : 액정 토출부 400 : 헤드 유닛
600 : 처리액 공급 유닛 610 : 저장 탱크
630 : 압력 제어 라인 640 : 필터 부재
700 : 제어 유닛 800 : 액정 토출량 측정 유닛
900 : 노즐 검사 유닛 1000 : 헤드 세정 유닛10: liquid crystal discharging part 400: head unit
600: Process liquid supply unit 610: Storage tank
630: pressure control line 640: filter element
700: control unit 800: liquid crystal discharge amount measurement unit
900: nozzle inspection unit 1000: head cleaning unit

Claims

A substrate support member for supporting the substrate;
A head unit including one or a plurality of heads for jetting a treatment liquid onto the substrate supported by the substrate support member;
A gantry to which the head is coupled and is provided so as to be movable above the substrate support member; And
And a processing liquid supply unit for storing the processing liquid supplied to the head,
The treatment liquid supply unit
A storage tank in which the treatment liquid is stored;
A supply line to which the storage tank and the head are connected;
A pressure control line to which the storage tank is connected, and a control unit that pressurizes the inside of the storage tank; And
And a filter member provided inside the processing liquid supply unit to prevent the processing liquid in the liquid state from being discharged from the storage tank through the pressure control line.

The method of claim 1,
Wherein the filter member is provided inside the storage tank.

3. The method of claim 2,
Wherein the filter member is provided so as to be movable up and down according to a pressure change in the storage tank.

The method of claim 3,
The treatment liquid supply unit
And a lower stopper provided on the inner side of the storage tank and providing a lower limit at which the filter member moves.

5. The method of claim 4,
The filter element
A ring-shaped frame;
A filter provided inside the frame; And
And a sealing member provided on an outer surface of the frame.

The method of claim 1,
Wherein the filter member is provided on the pressure control line between the control unit and the storage tank.

The method according to claim 6,
The pressure control line
A first line connected to the storage tank;
A second line coupled to the control unit; And
And a third line located between the first and second lines and having a cross-sectional area greater than that of the first and second lines,
And the filter member is provided in the third line.

The method of claim 7, wherein
The third line
Wherein the bottom surface is provided in a shape in which the cross-sectional area becomes narrower toward the bottom.

The method of claim 7, wherein
The treatment liquid supply unit
And a first recovery line connected to a bottom surface of the third line and a side surface of the storage tank,
Wherein the first recovery line recovers the processing liquid to be liquefied on the bottom surface of the third line to the storage tank.

10. The method according to any one of claims 7 to 9,
The processing liquid storage unit
And a cooling member for cooling the bottom surface of the third line.

The method of claim 1,
The pressure control line
A first line extending upwardly from the storage tank;
A second line convexly connected upward from the first line and extending downward;
A third line convexly extending downward from the second line and extending upward; And
And a fourth line, one end of which is connected from the third line and the other end of which is connected to the control unit,
And the filter member is provided in the fourth line.

12. The method of claim 11,
The treatment liquid supply unit
And a second recovery line to which the bottom surface of the third line and the storage tank are connected,
And the processing liquid that has been liquefied through the second recovery line is recovered from the bottom surface of the third line to the storage tank.

The method of claim 12,
The treatment liquid supply unit
And a cooling member for cooling the bottom surface of the third line.

The method according to any one of claims 6 to 9 and 11 to 13,
Wherein the filter member is provided so as to move up and down in accordance with a pressure change inside the storage tank and inside the pressure control line.

15. The method of claim 14,
The filter element
A ring-shaped frame;
A filter provided inside the frame; And
And a sealing member provided on an outer surface of the frame.

A storage tank for storing a processing liquid supplied to the head;
A supply line to which the storage tank and the head are connected;
A pressure control line to which the storage tank is connected, and a control unit that pressurizes the inside of the storage tank; And
And a filter member provided inside the processing liquid supply unit to prevent the processing liquid in a liquid state from being discharged from the storage tank through the pressure control line.

17. The method of claim 16,
Wherein the filter member is provided inside the storage tank and is provided so as to be movable up and down according to a pressure change in the storage tank.

18. The method of claim 17,
The treatment liquid supply unit
And a lower stopper installed on the inner side of the storage tank and providing a lower limit at which the filter member moves.

19. The method of claim 18,
The filter element
A ring-shaped frame;
A filter provided inside the frame; And
And a sealing member provided on an outer surface of the frame.

17. The method of claim 16,
The pressure control line
A first line connected to the storage tank;
A second line coupled to the control unit; And
And a third line located between the first and second lines and having a cross-sectional area greater than that of the first and second lines,
And the filter member is provided in the third line.

21. The method of claim 20,
The treatment liquid supply unit
And a first recovery line connecting the bottom surface of the third line and the side surface of the storage tank,
Wherein the first recovery line recovers the processing liquid that is liquefied on the bottom surface of the third line to the storage tank.

21. The method of claim 20,
Wherein the third line is provided in a shape such that the cross-sectional area decreases as the bottom surface is lowered.

23. The method according to any one of claims 20 to 22,
The treatment liquid supply unit
And a cooling member for cooling the bottom surface of the third line.

17. The method of claim 16,
The pressure control line
A first line extending upwardly from the storage tank;
A second line convexly connected upward from the first line and extending downward;
A third line convexly extending downward from the second line and extending upward; And
And a fourth line having one end connected from a third line and the other end connected to the control unit.
And the filter member is provided in the fourth line.

25. The method of claim 24,
The treatment liquid supply unit
And a second recovery line to which the bottom surface of the third line and the storage tank are connected,
And the processing liquid which has been liquefied through the second recovery line is recovered from the bottom surface of the third line to the storage tank.

26. The method of claim 25,
The treatment liquid supply unit
And a cooling member for cooling the bottom surface of the third line.

27. The method according to any one of claims 20-22 and 24-26,
And the filter member is provided so as to be moved up and down in accordance with a change in pressure inside the storage tank.

28. The method of claim 27,
The filter element
A ring-shaped frame;
A filter provided inside the frame; And
And a sealing member provided on an outer surface of the frame.