KR20150133910A - Manufacturing method for transparent electrode film using blading process - Google Patents

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KR20150133910A
KR20150133910A KR1020140060384A KR20140060384A KR20150133910A KR 20150133910 A KR20150133910 A KR 20150133910A KR 1020140060384 A KR1020140060384 A KR 1020140060384A KR 20140060384 A KR20140060384 A KR 20140060384A KR 20150133910 A KR20150133910 A KR 20150133910A
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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a transparent electrode film using a blading process and, more specifically, to a method for manufacturing a transparent electrode film using a blading process, which enables manufacture at low costs by using a photosensitizer and a blading process. The method includes: a step of manufacturing a relief mold having a relief part with a relief pattern formed; a step of applying a liquid resin to the relief mold; a blading step of removing the applied liquid resin; a step of bonding a base film; a step of separating the relief mold; a step of filling conductive material; and a step for forming a relief pattern.

Description

블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름 제조방법{MANUFACTURING METHOD FOR TRANSPARENT ELECTRODE FILM USING BLADING PROCESS} TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a method of manufacturing a transparent electrode film using a blading process,

본 발명은 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 감광제와 블레이딩 공정을 이용하여 저렴한 비용으로 투명전극필름의 제조 가능한 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing a transparent electrode film using a blading process, and more particularly, to a method of manufacturing a transparent electrode film using a blading process capable of producing a transparent electrode film at a low cost by using a photosensitive agent and a blading process .

터치 패널은 음극선관(CRT; Cathode Ray Tube), 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시장치(FED; Field Emission Display), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP; Plasma Display Panel) 및 전계발광소자(ELD; Electro Luminescence Device) 등과 같은 화상표시장치의 표시면에 설치되며, 사용자가 화상표시장치를 보면서 터치 패널을 컴퓨터에 미리 정해진 정보를 입력하기 위한 장치로서, 최근에는 터치에 의한 명령이 필수적인 스마트 폰(Smart Phone) 또는 터치 폰(Touch Phone) 등의 통신 단말에 널리 사용되고 있다. 이와 같은 터치패널은, 예를 들면, 특허공개 제10-2013-0125469호(2013.11.19일 공개)에 기재된 바와 같은 투명전극 필름으로 구현된다. The touch panel may be a cathode ray tube (CRT), a liquid crystal display (LCD), a field emission display (FED), a plasma display panel (PDP) (ELD; Electro Luminescence Device), and is a device for inputting predetermined information on a touch panel to a computer while the user views the image display device. Recently, a smart And is widely used in communication terminals such as a smart phone or a touch phone. Such a touch panel is realized, for example, by a transparent electrode film as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-2013-0125469 (published on November 19, 2013).

상기 투명전극필름은 다 수의 업체에서 독자적인 기술로서 터치패널을 생산함에 따라서 그 제조방법 역시 다양하다. 이와 같은 다양한 방식의 투명전극필름의 제조기술은, 예를 들면, 특허등록 제10-0704915(2007.04.02일 등록)에 기재된 반도체등의 인쇄회로기판을 제조하는 공정중 일부를 응용하여 제조되는 기술을 포함하고 있다. The manufacturing method of the transparent electrode film varies according to the manufacture of the touch panel as a unique technology by a plurality of companies. Such a technique of manufacturing transparent electrode films of various methods is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-0704915 (Registered on April 02, 2007), a technique of manufacturing a printed circuit board .

이중 종래의 인쇄회로기판의 제조공정을 응용한 투명전극필름의 제조방법은 기재에 직접 감광제를 코팅하고 노광과 현상 공정을 거쳐 음각 패턴을 형성하고 전도성 물질을 충진하여 제조될 수 있다. 하지만 비용이 높아 양산이 어려운 문제점이 있다.A conventional method of manufacturing a transparent electrode film by applying a manufacturing process of a printed circuit board can be manufactured by coating a photosensitive agent directly on a substrate, forming an engraved pattern through exposure and development processes, and filling the conductive material. However, there is a problem that mass production is difficult due to high cost.

또한 종래의 투명전극필름의 제조방법은 포토리소그래피 방식으로 양각 몰드를 만들고 기재에 UV경화수지 또는 열 경화 수지를 코팅하고 양각 몰드로 찍어내어 음각 패턴을 형성하고 전도성 물질을 충진 하여 만들어 진다.In addition, a conventional method of manufacturing a transparent electrode film is made by forming a positive mold by a photolithography method, coating a substrate with a UV curable resin or a thermosetting resin, and dipping it with a positive mold to form an engraved pattern and filling the conductive material.

하지만, 상기와 같은 종래의 투명전극 제조방법은 몰드를 이용하여 음각필름을 제조한 결과, 음각부위의 밑면과 베이스필름의 사이에도 수지가 존재함에 따라 투과율이 낮아지고, 전도성 물질이 패턴의 음각구조를 이루는 음각부에 충진되어 경화되면, 수지층의 표면보다 전도성 물질이 음각패턴 안쪽 깊숙히 들어감에 따라 터치센서의 특성이 나빠지는 문제점이 있었다. However, in the conventional transparent electrode manufacturing method as described above, as a result of the production of the engraved film using the mold, the transmittance is lowered due to the presence of resin between the bottom of the engraved area and the base film, The conductive material is more deeply embedded in the engraved pattern than the surface of the resin layer, thereby deteriorating the characteristics of the touch sensor.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서 본 발명의 목적은 전도성 물질과 베이스필름의 접착력을 높이고, 양각 형태의 미세패턴으로 터치센서 특성이 좋은 투명전극필름의 제조방법을 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to overcome the above-mentioned problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a transparent electrode film having improved adhesion between a conductive material and a base film, .

또한 본 발명은 투명전극필름에서 수지층을 최소화시켜 투명전극필름의 투과율을 높일 수 있는 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법을 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a transparent electrode film using a blading process capable of minimizing a resin layer in a transparent electrode film to increase the transmittance of the transparent electrode film.

또한 본 발명은 터치의 센싱감도를 높일 수 있도록 양각화된 패턴을 구비한 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법을 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a transparent electrode film using a blending process having an embossed pattern so as to increase the sensing sensitivity of a touch.

본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 하기와 같은 실시예를 포함한다. The present invention includes the following embodiments in order to achieve the above object.

본 발명에 따른 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법의 바람직한 실시예는 패턴의 폭과 일치되는 양각패턴이 형성된 양각부를 구비한 양각몰드 제조단계; 상기 양각몰드에 액상의 수지를 도포하는 수지도포단계; 상기 수지도포단계에서 설정된 영역 외에 도포된 액상의 수지를 제거하는 블레이딩 단계; 상기 블레이딩 단계 이후에 베이스필름을 접착하고, 액상의 수지를 경화시켜 상기 베이스필름에 수지층을 접착시키는 베이스필름 접착단계; 상기 베이스필름 접착단계 이후에 상기 양각몰드를 분리시켜 상기 베이스필름에 접착된 수지층의 상면에 패턴의 음각구조를 이루는 음각부를 형성하는 양각몰드 분리단계; 상기 양각몰드 분리단계 이후에 상기 베이스필름에 형성된 상기 수지층의 음각부에 전도성 물질을 충진 및 경화시키는 전도성 물질 충진단계; 및 상기 전도성 물질 충진단계 이후에 상기 수지층을 제거하여 상기 전도성물질만을 잔류시켜 상기 베이스필름에 양각형의 패턴을 형성하는 양각패턴 형성단계를 포함한다. A preferred embodiment of a method of manufacturing a transparent electrode film using a blading process according to the present invention comprises: a manufacturing step of a positive embossed mold having an embossed portion formed with a relief pattern corresponding to a width of a pattern; A resin applying step of applying a liquid resin to the positive mold; A blading step of removing the liquid resin applied outside the region set in the resin applying step; A base film adhering step of adhering the base film after the blading step and curing the liquid resin to adhere the resin layer to the base film; A positive embossing mold separating step of separating the positive embossing mold after the base film adhering step to form an engraved portion forming a negative embossing pattern on the upper surface of the resin layer adhered to the base film; A conductive material filling step of filling and curing a conductive material in the recessed portion of the resin layer formed on the base film after the step of separating the positive mold; And forming a relief pattern on the base film by removing only the conductive material by removing the resin layer after the step of filling the conductive material.

본 발명의 다른 실시예에 있어서, 상기 수지는 감광제인 것을 특징으로 한다. In another embodiment of the present invention, the resin is a photosensitive agent.

본 발명의 또 다른 실시예에 있어서, 상기 양각 패턴 형성단계는 상기 감광제를 제거할 수 있는 현상액을 공급하여 상기 수지층을 제거하는 것을 특징으로 한다. In another embodiment of the present invention, the relief pattern forming step includes supplying a developer capable of removing the photosensitive agent to remove the resin layer.

본 발명은 감광제를 이용하여 음각패턴을 형성하고, 현상공정을 통하여 베이스필름을 제외한 나머지 수지층을 제거함에 따라 투과율이 향상되는 효과가 있다. The present invention has the effect of improving the transmittance by forming the engraved pattern using the photosensitive agent and removing the resin layer excluding the base film through the developing process.

또한 본 발명은 패턴이 양각된 양각몰드에 도포된 감광제를 경화시켜 패턴의 음각구조를 형성하여 패턴을 형성함에 따라 1~10㎛의 미세한 폭을 갖는 패턴의 구현이 가능하고, 베이스필름에 양각된 패턴을 형성함에 따라 터치센서의 특성이 향상되는 효과가 있다. In addition, the present invention can realize a pattern having a fine width of 1 to 10 mu m by forming a pattern by forming a depressed structure of a pattern by curing a photosensitive agent applied to a positive embossed mold in which a pattern is embossed, As the pattern is formed, the characteristics of the touch sensor are improved.

또한 본 발명은 인쇄회로기판을 제조할 때의 고가의 포토리소그래피 장비와 마스크를 이용한 노광장치에 비하여 보다 저렴한 장비로서 투명전극필름을 제조할 수 있어 제조원가가 절감된다. In addition, the present invention can manufacture a transparent electrode film as a more inexpensive apparatus as compared with an expensive photolithography apparatus and an exposure apparatus using a mask at the time of manufacturing a printed circuit board, thereby reducing manufacturing costs.

도 1은 본 발명에 따른 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조장치를 도시한 블럭도,
도 2는 본 발명에 따른 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법을 도시한 순서도,
도 3은 본 발명에 따른 블레이딩 공정을 이용한 투명전극 필름의 제조과정을 간략히 도시한 도면이다. 1 is a block diagram showing an apparatus for manufacturing a transparent electrode film using a blading process according to the present invention,
FIG. 2 is a flowchart showing a method of manufacturing a transparent electrode film using a blading process according to the present invention,
3 is a view illustrating a process of manufacturing a transparent electrode film using a blading process according to the present invention.

이하에서는 본 발명에 따른 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of a method of manufacturing a transparent electrode film using a blading process according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름 제조장치를 도시한 블럭도이다. 1 is a block diagram illustrating an apparatus for manufacturing a transparent electrode film using a blading process according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름 제조장치는 양각몰드(100) 및 베이스필름(300)을 이동시키는 이송부(12)와, 상기 이송부(12)에서 이송되는 양각몰드(100)의 상면에 감광제(200, 도 3참조)를 도포하는 감광제도포부(14)와, 상기 베이스필름(300)을 양각몰드(100)에 가압하여 접착시키는 필름공급부(15)와, 상기 감광제(200)를 경화시키는 제1경화부(16)와, 전도성 물질(400)을 경화시키는 제2경화부(16')와, 전도성 물질(400)을 충진시키는 충진부(17)와, 상기 양각몰드에 도포된 감광제(200)를 블레이딩하는 블레이드(13)와, 상기 양각 몰드(100)와 베이스필름(300)을 분리시키는 분리부(18)와, 상기 감광제(200)를 제거하는 현상부(19)를 포함한다. Referring to FIG. 1, an apparatus for manufacturing a transparent electrode film using a blading process according to the present invention includes a transfer unit 12 for transferring a positive mold 100 and a base film 300, A photoresist pattern covering portion 14 for applying a photoresist 200 (see FIG. 3) to the upper surface of the mold 100, a film supply portion 15 for pressing and bonding the base film 300 to the positive mold 100, A first curing part 16 for curing the photosensitive agent 200, a second curing part 16 'for curing the conductive material 400, a filling part 17 for filling the conductive material 400, A blade 13 for blasting the photoresist 200 applied to the positive mold, a separator 18 for separating the positive mold 100 and the base film 300 from each other, And includes a developing section 19.

상기 양각 몰드(100)(도 3 참조)는 상면에서 하나 이상의 패턴이 양각된 양각부(110)(도 3참조)가 돌출되도록 형성된다. The embossed mold 100 (see FIG. 3) is formed such that the embossed portion 110 (see FIG. 3) protruding from the upper surface is embossed with one or more patterns.

상기 이송부(12)는 상기 양각 몰드(100)를, 예를 들면, 모터에 의하여 구동되는 레일 또는 롤러의 구동에 의하여 회전되는 이송벨트로서 양각몰드(100) 및 베이스필름(300)을 이송시킨다. The transfer unit 12 transfers the positive mold 100 and the base film 300 as a transfer belt rotated by driving a rail or a roller driven by a motor, for example, the positive mold 100.

상기 감광제도포부(14)는 상기 양각 몰드(100)의 상면에 감광제(200)를 도포한다. 이때 상기 감광제도포부(14)는 상기 양각몰드(100)의 양각부(110) 사이의 빈 공간 및 그 상면에서 감광제(200)를 도포한다. The photosensitizer shroud 14 applies a photoresist 200 to the upper surface of the positive mold 100. At this time, the photosensitive agent shroud 14 applies the photosensitive agent 200 on the empty space between the relief portions 110 of the relief mold 100 and the upper surface thereof.

상기 블레이드(13)는 상기 이송부(12)의 이송경로에서 고정 설치되어 상기 양각몰드(100)의 상기 양각부(110) 사이에 충진된 감광제(200)를 제외한 나머지를 제거한다. The blade 13 is fixedly installed on the conveying path of the conveying unit 12 to remove the remainder of the blanks 13 except for the photosensitive agent 200 filled between the blanks 110 of the blanket mold 100.

상기 필름공급부(15)는 플라스틱 재질의 베이스필름(300)을 상기 감광제(200)가 도포된 양각몰드(100)의 상면에 공급하고, 상기 베이스필름(300)을 가압하여 접착시킨다. The film supply unit 15 supplies a plastic base film 300 to the upper surface of the positive mold 100 coated with the photosensitive agent 200 and presses the base film 300 to adhere thereto.

상기 제1경화부(16)는 상기 감광제(200)의 상면에 상기 필름공급부(15)에서 공급된 베이스필름(300)이 가압 및 접착되어 이송되면, 상기 감광제(200)를 경화시켜 상기 베이스필름(300)과 감광제(200)를 접착 고정시킨다. 이를 위하여 상기 제1경화부(16)는, 예를 들면, UV램프 또는 열경화기를 적용함이 바람직하다. The first curing unit 16 cures the photosensitive agent 200 to form a base film 300 on the photosensitive film 200 when the base film 300 supplied from the film supply unit 15 is pressed and adhered on the photosensitive agent 200, (300) and the photosensitive agent (200). For this purpose, it is preferable to apply, for example, a UV lamp or a heat curing unit to the first curing unit 16.

상기 분리부(18)는 상기 제1경화부(16)에 의하여 양각몰드(100)의 상면에 접착고정된 베이스필름(300)을 분리시킨다. 이때 상기 분리부(18)는, 예를 들면, 양각몰드(100)를 고정시킨 뒤에 상기 베이스필름(300)을 잡아당겨 상기 양각몰드(100)를 분리시킨다. The separator 18 separates the base film 300 adhered and fixed to the upper surface of the positive mold 100 by the first curing unit 16. At this time, the separating part 18 pulls the base film 300, for example, after fixing the embossed mold 100, and separates the embossed mold 100.

여기서 상기 베이스필름(300)은 상기 제1경화부(16)에 의하여 상기 감광제(200)가 경화 및 접착된 상태이다. 아울러 상기 베이스필름(300)은 상기 양각몰드(100)가 분리된 이후에 회전되어 상기 이송부(12)를 통하여 이동된다. Here, the base film 300 is in a state in which the photosensitive agent 200 is cured and adhered by the first curing unit 16. In addition, the base film 300 is rotated after being separated from the positive mold 100 and moved through the transfer unit 12.

이때 상기 감광제(200)는 상기 양각몰드(110)의 양각부(110) 사이에 충진되어 경화되었기 때문에 상기 양각몰드(110)가 분리되면 패턴의 음각구조를 이루는 음각부(210, 도 3참조)가 형성된다. 상기 음각부(210)는 상기 베이스필름(300)이 회전됨에 따라 상기 베이스필름(300)의 상면에 위치된다. Since the photosensitive agent 200 is filled and cured between the bosses 110 of the bosses 110, when the bosses 110 are separated, the bosses 210 (see FIG. 3) . The engraved portion 210 is positioned on the upper surface of the base film 300 as the base film 300 is rotated.

상기 충진부(17)는 상기 감광제의 음각부(210)에 전도성 물질(400, 도 3참조)을 충진한다. 예를 들면, 상기 전도성 물질(400)은 은, 구리, 마그네슘, 티타늄과 같은 전도성 금속분말중 하나 이상이 포함된 전도성 잉크를 적용함도 가능하다. The filling part 17 fills the engraved part 210 of the photosensitive material with a conductive material 400 (see FIG. 3). For example, the conductive material 400 may be a conductive ink including at least one of conductive metal powder such as silver, copper, magnesium, and titanium.

상기 제2경화부(16')는 상기 충진부(17)에 의하여 음각부(210)에 충진된 전도성 물질(400)을 경화시킨다. 이를 위하여 상기 제2경화부(16')는, 예를 들면, UV램프 또는 열경화기를 적용함이 바람직하다. The second curing part 16 'cures the conductive material 400 filled in the engraved part 210 by the filling part 17. For this purpose, it is preferable to apply, for example, a UV lamp or a heat curing unit to the second curing unit 16 '.

상기 현상부(19)는 상기 감광제(200)를 제거할 수 있는 현상액을 상기 전도성 물질(400)이 충진된 베이스필름(300)에 도포하여 상기 감광제(200)를 제거한다. The developing unit 19 applies a developer capable of removing the photosensitive agent 200 to the base film 300 filled with the conductive material 400 to remove the photosensitive agent 200.

상기 제어부(11)는 조작패널(도시되지 않음)로부터 구동명령이 인가되면, 센서부(도시되지 않음)에서 인가되는 상기 양각몰드(100)의 위치를 확인하여 상기 감광제도포부(14)를 제어하여 감광제(200)를 도포하도록 제어한다. 또한 상기 제어부(11)는 상기 필름공급부(15)를 제어하여 상기 양각몰드(100)에 베이스필름(300)을 공급 및 가압하여 접착하도록 제어한다. When the control unit 11 receives a drive command from an operation panel (not shown), the control unit 11 checks the position of the positive mold 100 applied by the sensor unit (not shown) So that the photosensitive agent 200 is applied. The control unit 11 controls the film supply unit 15 to supply and press the base film 300 to the positive mold 100 so as to adhere thereto.

또한 상기 제어부(11)는 상기 이송부(12)를 통하여 이송된 베이스필름(300)이 상기 제1경화부(16) 및 제2경화부(16')의 설정된 위치에 도달되면, 상기 제1경화부(16)와 제2경화부(16')를 구동시켜 감광제(200) 및 전도성 물질(400)을 경화시키고, 상기 충진부(17)를 제어하여 전도성 물질(400)을 상기 음각부(210)에 충진하도록 제어한다. When the base film 300 transferred through the transfer unit 12 reaches a predetermined position of the first curing unit 16 and the second curing unit 16 ', the controller 11 controls the first curing unit 16 and the second curing unit 16' The photosensitive material 200 and the conductive material 400 are cured by driving the first and second hardened parts 16 and 16 ' ).

여기서 상기 이송부(12) 내지 현상부(19)는 동업종에 종사하는 종사자에게 공지된 장치를 적용한 것이기에 구체적인 구성이나 동작설명을 생략하였다. 이하에서는 상기와 같은 구성을 통하여 달성되는 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법을 하기의 도 2 및 도 3을 참조하여 상세히 설명한다. Here, since the conveying unit 12 to the developing unit 19 are devices known to the workers who are engaged in the same industry, detailed description of the configuration and operation is omitted. Hereinafter, a method of manufacturing a transparent electrode film using a blading process, which is accomplished through the above-described structure, will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 3. FIG.

도 2는 본 발명에 따른블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름 제조방법을 도시한 순서도, 도 3은 본 발명에 따른 블레이딩 공정을 이용한 투명전극 필름 제조방법의 과정을 간략히 도시한 도면이다.FIG. 2 is a flow chart showing a method of manufacturing a transparent electrode film using a blading process according to the present invention, and FIG. 3 is a view illustrating a process of a transparent electrode film manufacturing method using a blading process according to the present invention.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법은 금형을 이용하여 상면에서 다 수개의 양각 패턴으로 이루어진 양각부(110)가 형성되는 양각몰드 제조단계(S10)와, 상기 양각몰드(100)의 상면에 액상의 수지(200, 감광제)를 도포하는 수지도포단계(S20)와, 상기 수지도포단계(S20) 이후에 양각부(110)의 상측에 도포된 액상의 수지중에서 설정된 영역외에 도포된 수지를 제거하는 블레이딩 단계(S30)와, 상기 블레이딩단계(S30) 이후에 베이스필름(300)을 접착 후 경화시켜 수지층을 형성하는 베이스필름 접착단계(S40)와, 상기 베이스필름(300)에서 양각몰드를 분리시키고, 상기 베이스필름(300)의 상면에 경화된 수지층을노출시키는 양각몰드 분리단계(S50)와, 상기 양각몰드 분리단계(S50) 이후에 전도성 물질(400)을 충진하는 전도성 물질(400) 충진단계(S60)와, 상기 전도성 물질(400) 충진 단계 이후에 수지층(200, 감광제)를 제거하여 베이스필름(300)에 양각형의 패턴(410)을 형성하는 양각패턴 형성단계(S70)를 포함한다. Referring to FIGS. 2 and 3, a method of manufacturing a transparent electrode film using a blading process according to the present invention includes forming a relief portion 110 having a plurality of relief patterns on a top surface using a mold, (S20) of applying a liquid resin (200, photosensitive agent) to the upper surface of the relief mold (100), and a step (S20) A blending step (S30) of removing the resin applied outside the predetermined area of the applied liquid resin; and a base film bonding step (S30) of bonding the base film (300) after the blending step (S30) A positive embossing mold separating step (S50) of separating a positive embossing mold from the base film 300 and exposing a cured resin layer on the upper surface of the base film 300; S50) and then filling the conductive material 400 And a burying pattern 400 for forming a burying pattern 410 on the base film 300 by removing the resin layer 200 after the step of filling the conductive material 400. [ Forming step S70.

상기 양각몰드(100) 제조단계(S10)는 금형을 이용하여 상면에서 다 수개의 양각패턴이 형성되는 양각부(110)를 포함하는 양각몰드(100)를 형성하는 단계이다. 여기서 상기 양각몰드(100)는 도 3의 (a)에 그 일예가 도시되었다. 도시된 바를 참조하면, 상기 양각부(110)는 제조하고자 하는 패턴(410)의 폭에 일치되는 폭을 갖고 양각된 양각패턴으로 형성된다. The step of manufacturing the positive embossed mold 100 is a step of forming the embossed mold 100 including the embossed portion 110 in which a plurality of embossed patterns are formed on the upper side using a mold. Here, the embossed mold 100 is shown in Fig. 3 (a). Referring to FIG. 1, the embossed portion 110 is formed in an embossed pattern having a width corresponding to the width of the pattern 410 to be manufactured.

상기 수지도포단계(S20)는 상기 제어부(11)가 상기 이송부(12)를 구동시켜 상기 양각몰드(100)를 상기 감광제도포부(14)의 하측으로 이송시키고, 상기 감광제도포부(14)를 제어하여 상기 양각몰드(100)의 상면에 액상의 수지(200)를 도포하는 단계이다. 상기 액상의 수지는 현상액에 의해 제거가능한 감광제이다. In the resin applying step S20, the controller 11 drives the transfer unit 12 to transfer the positive mold 100 to the lower side of the photosensitizer shell 14, and the photosensitizer shell 14 And applying the liquid resin 200 to the upper surface of the embossed mold 100 by controlling. The liquid resin is a photosensitizer which can be removed by a developer.

상기 감광제도포부(14)는 상기 양각몰드(100)의 상면에서 형성되는 양각부(110) 사이의 빈공간에 감광제(200)를 충진한다. 이때 상기 감광제(200)는 상기 양각부(110)가 수용될 수 있는 양이 충진된다. The photosensitizer shroud 14 fills the photoresist 200 in an empty space between the reliefs 110 formed on the upper surface of the relief mold 100. At this time, the photosensitive agent 200 is filled in an amount that allows the embossed portion 110 to be accommodated.

상기 블레이딩 단계(S30)는, 도 3의 (b)참조, 상기 수지도포단계(S20)에서 도포된 감광제중 설정된 영역(예를 들면, 두께 및 면적)외에 도포된 감광제를 제거하는 단계이다. 여기서 상기 양각몰드(100)는 상기 감광제가 도포된 이후에 상기 이송부(12)에 의해 설정된 높이로서 고정된 블레이드(13)를 통과한다. 상기 블레이드(13)는, 예를 들면, 상기 이송부(12)의 이송경로에 상기 양각부(110)의 높이와 일치된 위치에 끝단의 날이 고정된 상태이다. 따라서 상기 양각몰드(100)는 상기 이송부(12)에 의해 상기 블레이드(13)의 하측으로 이송되면서 상기 양각부(110) 사이에 충진된 감광제(200)를 제외한 나머지 감광제(200')가 상기 블레이드(13)에 의해 모두 제거된다. The blinding step S30 is a step for removing the applied photosensitive agent in addition to the predetermined area (for example, thickness and area) of the photosensitive agent applied in the resin applying step S20, referring to FIG. 3B. Here, the positive mold 100 passes through the fixed blade 13 as a height set by the transferring unit 12 after the photosensitive agent is applied. For example, the blade 13 is fixed at a position corresponding to the height of the embossed portion 110 in the conveying path of the conveying portion 12. Therefore, while the positive mold 100 is transferred to the lower side of the blade 13 by the transfer unit 12, the remaining photoresist 200 'except for the photoresist 200 filled in between the bosses 110, (13).

상기 베이스필름 접착단계(S40)는, 도 3의 (c)참조, 상기 제어부(11)가 상기 필름공급부(12)를 제어하여 상기 블레이드(13)를 통과한 양각몰드(100)에 상기 베이스필름(300)을 접착 및 경화시키는 단계이다. 여기서 상기 베이스필름(300)은 상기 블레이딩 단계(S30) 이후에 상기 필름공급부(15)에서 공급되어 상기 양각몰드의 상면에 도포된 감광제의 상면에 접착된다. 3 (c), the control unit 11 controls the film supply unit 12 to attach the base film 20 to the positive embossed mold 100 that has passed through the blade 13, (300). Here, the base film 300 is supplied from the film supply unit 15 after the blading step S30, and is adhered to the upper surface of the photosensitive agent applied on the upper surface of the relief mold.

여기서 상기 필름공급부(15)는 상기 제어부(11)의 제어에 의해 상기 양각몰드(100)의 크기에 따라서 절단된 플라스틱 수지계열의 베이스필름(300)을 상기 감광제(200)의 상면에 위치시킨 뒤에 가압한다. The film supply unit 15 places the base film 300 of the plastic resin based on the size of the positive mold 100 under the control of the controller 11 on the upper surface of the photosensitive agent 200 Pressure.

또한 상기 제어부(11)는 상기 필름공급부(15)에서 상기 베이스필름(300)의 접착이 완료되면, 상기 제1경화부(16)를 구동시켜 상기 감광제(200)와 베이스필름(300)이 접착되도록 경화시켜 상기 베이스필름에 상기 감광제(200)에 의한 수지층(200)을 접착시킨다. 상기 제1경화부(16)는, 예를 들면, UV램프 또는 열경화기를 적용할 수 있다. The control unit 11 drives the first hardening unit 16 to adhere the photosensitive film 200 and the base film 300 to each other after the base film 300 is completely bonded to the film supplying unit 15. [ And the resin layer 200 made of the photosensitive agent 200 is adhered to the base film. As the first curing unit 16, for example, a UV lamp or a heat curing unit can be applied.

상기 양각몰드 분리단계(S50)는, 도 3의 (d) 참조, 상기 제어부(11)가 상기 제1경화부(16)의 경화 이후에 상기 분리부(18)를 제어하여 상기 양각몰드(100)를 상기 베이스필름(300)으로부터 분리시키는 단계이다. 여기서 상기 감광제(200)는 상기 양각몰드의 양각부(110) 사이에 충진된 이후에 분리됨에 따라 패턴의 음각구조를 이루는 음각부(210)가 형성된 수지층(200)을 이루게 된다. 아울러 상기 제어부(11)는 상기 양각몰드(100)가 분리되면, 상기 이송부(12)를 제어하여 상기 음각부(210)가 상측에 위치되도록 회전시킨다. 3 (d), the control unit 11 controls the separating unit 18 after the curing of the first curing unit 16 to remove the positive mold 100 (step S50) ) From the base film (300). The photosensitive agent 200 is filled between the relief portions 110 of the relief mold 200 and is separated therefrom to form a resin layer 200 having a relief portion 210 having a relief pattern of a relief pattern. The control unit 11 controls the conveying unit 12 to rotate the engraved portion 210 so that the engraved portion 210 is positioned on the upper side when the embossed mold 100 is detached.

상기 전도성 물질(400) 충진단계(S60)는, 도 3의 (e) 참조, 상기 제어부(11)가 상기 충진부(17)를 제어하여 상기 음각부(210)에 전도성 물질(400)을 충진 하는 단계이다. 상기 전도성 물질(400)은, 예를 들면, 전도성 금속분말이 포함된 액상의 전도성 잉크에 해당된다. 또한 상기 충진부(17)는, 예를 들면, 전도성 잉크를 공급하는 주입노즐(도시되지 않음)과, 상기 주입노즐(도시되지 않음)에서 공급된 전도성 잉크가 음각부(210)외에 다른 영역으로 도포된 전도성 잉크를 제거하는 잉크블레이드(도시되지 않음)로 형성된다. 상기 주입노즐 및 잉크블레이드는 일반적인 장치임에 따라 상세설명과 도면을 생략하였다. 3 (e), the control unit 11 controls the filling unit 17 to fill the engraved portion 210 with the conductive material 400, . The conductive material 400 corresponds to, for example, a liquid conductive ink containing a conductive metal powder. In addition, the filling section 17 is provided with an injection nozzle (not shown) for supplying a conductive ink and a conductive ink supplied from the injection nozzle (not shown) to an area other than the engraved section 210 (Not shown) that removes the applied conductive ink. Since the injection nozzle and the ink blade are general devices, detailed description and drawings are omitted.

따라서 상기 충진부(17)는 상기 제어부(11)의 제어에 의해 상기 베이스필름(300)의 상면에서 형성된 음각부(210)에 전도성 물질(400)을 충진한다. 이는 도 3의 (e)에 도시된 바와 같다. The filling part 17 fills the recessed part 210 formed on the upper surface of the base film 300 with the conductive material 400 under the control of the control part 11. This is as shown in Fig. 3 (e).

그리고 상기 제어부(11)는 상기 음각부(210)에 전도성 물질(400)의 충진이 완료되면, 상기 제2경화부(16')를 구동시켜 상기 전도성 물질(400)을 경화시킨다. 이때 상기 제2경화부(16')는, 예를 들면, UV램프 또는 열경화기로서 액상의 전도성 물질(400)을 설정된 시간 동안 경화시킨다. The control unit 11 drives the second curing unit 16 'to cure the conductive material 400 when the conductive material 400 is filled in the engraved unit 210. At this time, the second curing unit 16 'cures the liquid conductive material 400 as a UV lamp or a heat curing unit for a predetermined time.

상기 양각패턴 형성단계(S70)는, 도 3의 (f)참조, 상기 제어부(11)가 상기 이동부를 제어하여 상기 전도성 물질(400) 충진단계(S60)에서 전도성 물질(400)이 충진된 베이스필름(300)을 상기 현상부(19)로 이동시키고, 상기 현상부(19)에 의해 도포되는 현상액에 의해 상기 감광제(200)를 제거하는 단계이다. 3 (f), the control unit 11 controls the moving unit so that the conductive material 400 is filled with the conductive material 400 in the filling step S60 of the conductive material 400, The film 300 is moved to the developing section 19 and the photosensitive agent 200 is removed by the developer applied by the developing section 19.

상기 현상부(19)는, 예를 들면, 현상액을 수용하는 탱크 또는 현상액을 분사하는 분사노즐로 이루어져 상기 베이스필름(300)의 음각부(210)에 충진된 전도성 물질(400)을 제외한 나머지 감광제(200)를 모두 제거한다. 즉, 상기 베이스필름(300)은 현상액이 수용된 탱크에 일정 시간 동안 입수되거나 또는 현상액이 분사되는 일정구간에 이동되어 감광제(200)가 제거된다. 따라서 상기 베이스필름(300)은, 도 3의 (f)에 도시된 바와 같이, 상면에서 감광제(200)가 제거됨에 따라 전도성 물질(400)이 경화된 패턴(410)만이 잔류된다. The developing unit 19 includes a tank for storing a developing solution or a spray nozzle for spraying a developing solution. The developing unit 19 removes the conductive material 400, which is filled in the engraved portion 210 of the base film 300, (200) are all removed. That is, the base film 300 is received in the tank containing the developer for a predetermined time or is moved in a predetermined section in which the developer is sprayed to remove the photosensitive agent 200. Therefore, as shown in FIG. 3 (f), only the pattern 410 of the conductive material 400 is left as the photosensitive material 200 is removed from the upper surface of the base film 300.

이와 같이 본 발명은 블레이딩 공정을 통해 음각부(221)를 베이스필름의 상면에 노출될 수 있도록 식각함에 따라 상기 음각부에 충진된 전도성 물질(400)과 베이스필름(300)의 접착력을 높이는데 용이하다. As described above, according to the present invention, the engraved portion 221 is etched so as to be exposed on the upper surface of the base film, thereby enhancing the adhesive force between the conductive material 400 filled in the engraved portion and the base film 300 It is easy.

또한 본 발명은 상기와 같은 음각부가 상기 베이스필름의 상면이 노출되도로 식각함에 따라 전도성 물질(400)과 베이스필름(300)이 직접 접착되기 때문에 상기 양각패턴 형성단계에서 현상액에 의해 감광제(200)를 전부 제거할 수 있다. In the present invention, since the conductive material 400 and the base film 300 are directly adhered to each other when the upper surface of the base film is etched as described above, Can be completely removed.

아울러 본 발명은 양각몰드에 양각패턴을 구현한 뒤에 감광제로서 음각패턴을 형성하기 때문에 1~10 ㎛ 선폭의 미세패턴의 제조가 용이하다. In addition, since the embossed pattern is formed as a photosensitive agent after embossing the embossed pattern on the embossed mold, it is easy to produce a fine pattern having a line width of 1 to 10 탆.

따라서 본 발명은 상술한 바와 같이 베이스필름의 상면에서 1~10 ㎛ 선폭의 양각형태의 미세 패턴을 형성함에 따라서 베이스필름을 제외한 수지계열의 구성요소가 포함되지 않기에 투과율이 향상될 수 있고, 터치패널에 적용시에 더욱 민감한 터치의 센싱이 가능하다.As described above, the present invention forms a fine pattern having a line width of 1 to 10 mu m on the upper surface of the base film, so that the transmittance can be improved because no resin-based components other than the base film are included, When applied to a panel, more sensitive touch sensing is possible.

이상에서 본 발명은 기재된 구체 예에 대해서 상세히 설명하였지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims.

11 : 제어부 12 : 이송부
13 : 블레이드 14 : 감광제도포부
15 : 필름공급부 16, 16' : 경화부
17 : 충진부 18 : 분리부
19 : 현상부 100 : 양각몰드
110 : 양각부 200, 200' : 감광제
210 : 음각부 300 : 베이스필름
400 : 전도성 물질 410 : 패턴11: control unit 12:
13: Blade 14: Photosensitizer aspiration
15: film supply part 16, 16 ': hardening part
17: filling part 18: separating part
19: development part 100: embossed mold
110: Embossed parts 200, 200 ': Photosensitizer
210: engraved portion 300: base film
400: conductive material 410: pattern

Claims (3)

패턴의 폭과 일치되는 양각패턴이 형성된 양각부를 구비한 양각몰드 제조단계;
상기 양각몰드에 액상의 수지를 도포하는 수지도포단계;
상기 수지도포단계에서 설정된 영역 외에 도포된 액상의 수지를 제거하는 블레이딩 단계;
상기 블레이딩 단계 이후에 베이스필름을 접착하고, 액상의 수지를 경화시켜 상기 베이스필름에 수지층을 접착시키는 베이스필름 접착단계;
상기 베이스필름 접착단계 이후에 상기 양각몰드를 분리시켜 상기 베이스필름에 접착된 수지층의 상면에 패턴의 음각구조를 이루는 음각부를 형성하는 양각몰드 분리단계;
상기 양각몰드 분리단계 이후에 상기 베이스필름에 형성된 상기 수지층의 음각부에 전도성 물질을 충진 및 경화시키는 전도성 물질 충진단계; 및
상기 전도성 물질 충진단계 이후에 상기 수지층을 제거하여 상기 전도성물질만을 잔류시켜 상기 베이스필름에 양각형의 패턴을 형성하는 양각패턴 형성단계를 포함하는 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법.
A positive embossed mold having an embossed portion formed with an embossed pattern conforming to the width of the pattern;
A resin applying step of applying a liquid resin to the positive mold;
A blading step of removing the liquid resin applied outside the region set in the resin applying step;
A base film adhering step of adhering the base film after the blading step and curing the liquid resin to adhere the resin layer to the base film;
A positive embossing mold separating step of separating the positive embossing mold after the base film adhering step to form an engraved portion forming a negative embossing pattern on the upper surface of the resin layer adhered to the base film;
A conductive material filling step of filling and curing a conductive material in the recessed portion of the resin layer formed on the base film after the step of separating the positive mold; And
And forming a relief pattern on the base film by removing only the conductive material by removing the resin layer after the conductive material filling step.
제1항에 있어서, 상기 수지는
감광제인 것을 특징으로 하는 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법.
The method of claim 1, wherein the resin comprises
Wherein the transparent electrode film is a photoresist.
제2항에 있어서, 상기 양각 패턴 형성단계는
상기 감광제를 제거할 수 있는 현상액을 공급하여 상기 수지층을 제거하는 것을 특징으로 하는 블레이딩 공정을 이용한 투명전극필름의 제조방법.

The method of claim 2, wherein the forming of the relief pattern
Wherein a developer capable of removing the photosensitive agent is supplied to remove the resin layer.

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