KR20150097522A - 발광 디스플레이를 갖는 유리-세라믹 물품 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 하나 이상의 발광 패턴을 포함하는 하나 이상의 발광 영역, 특히 디스플레이 영역이 제공된, 특히 가열 요소를 덮거나 수용하기 위해 사용되는 유리-세라믹 물품이며, 여기서 상기 물품은 하나 이상의 유리-세라믹 기판, 하나 이상의 광원, 및 상기 영역의 적어도 일부를 피복하며 내부에 상기 패턴의 형상의 일부가 코팅되지 않은 채로 있는 하나 이상의 에나멜 코팅을 포함하고, 상기 에나멜의 조성물은 하나 이상의 유리 프릿 및 하나 이상의 안료를 포함하고, 상기 유리 프릿은 하기 성분: 40-55%의 SiO2, 0-10%의 Al2O3, 25-55%의 B2O3, 0-5%의 Na2O, 0-5%의 K2O 및 0-10%의 Li2O를 포함하고, 안료 함량은 추가로 프릿/안료 혼합물의 40 내지 65 중량%이고, 물품은 추가로 에나멜 코팅의 반대쪽에 산란 영역을 포함하는 것인, 유리-세라믹 물품에 관한 것이다.

Description

발광 디스플레이를 갖는 유리-세라믹 물품 {GLASS-CERAMIC ARTICLE HAVING A LUMINOUS DISPLAY}
본 발명은 비트로세라믹(vitroceramic) (또는 "유리-세라믹") 분야에 관한 것이다. 보다 정확히는, 본 발명은 적어도 하나의 선택된 대역 내에 발광 디스플레이 (또는 하나 이상의 발광 대역)가 제공된, 특히 가열 요소를 덮거나 수용하도록 의도된 비트로세라믹 물품 (또는 제품 또는 기판), 특히 비트로세라믹 판에 관한 것이다.
비트로세라믹 조리판 (또는 호브(hob))과 같은 물품의 판매는 수년 동안 꾸준히 증가해 왔다. 이러한 성공은, 특히 이들 판의 매력적인 외관 및 이들을 용이하게 세정할 수 있다는 점에 의해 설명된다.
비트로세라믹은 전구체 유리 (또는 모 유리(mother glass) 또는 그린 유리(green glass))라고 지칭되는 유리를 기재로 하고, 그의 특정한 화학적 조성은 세라믹화(ceramization)라고 지칭되는 적합한 열처리에 의한 제어된 결정화를 유발하는 것을 가능하게 하는 것으로 상기될 수 있다. 이러한 부분적으로 결정화된 특정한 구조는 독특한 특성을 비트로세라믹에 부여한다.
현재 다양한 유형의 비트로세라믹 판이 존재하고, 각각의 변형물은 상당한 연구 및 수많은 시험의 결과물인데, 이는 원하는 특성에 불리한 영향이 미칠 위험 없이 이들 판 및/또는 이들을 수득하는 방법을 변형하는 것은 매우 어렵기 때문이며; 조리판으로서 사용되기 위해, 비트로세라믹 판은 일반적으로, 꺼져 있을 때에는 기저 가열 요소의 적어도 일부를 차폐하기에 충분히 낮으면서도 사용자가 켜져 있는 가열 요소를 안전을 위해 시각적으로 감지할 수 있도록 경우 (방사 가열, 유도 가열 등)에 따라 충분히 높은 가시광 파장 범위에서의 투과율을 나타내야 하고; 또한 특히 방사 열원을 갖는 판의 경우에 적외선 파장 범위에서 높은 투과율을 나타내야 한다.
대부분의 현대의 판은, 예를 들어 용융 전에 모 유리의 출발 재료에 첨가되는 바나듐 산화물의 사용에 의해 착색된 어두운 색, 특히 흑색인데; 세라믹화 후에, 이러한 산화물은 바나듐의 환원과 연관된 강한 오렌지-갈색을 부여한다. 다른 착색제, 예컨대 코발트 및 망간의 산화물이 또한 사용될 수 있다. 600 ㎚ 미만의 낮은 투과 계수의 경우에, 이들 판은 특히 고온으로 가열된 가열 요소와 같은 적색 요소, 또는 대안적으로 적색의 단색 발광 다이오드를 기재로 하는 발광 디스플레이를 보는 것을 가능하게 한다. 보다 투명한 비트로세라믹 판 (예컨대 유로케라(EuroKera) 사에 의해 판매되는 비트로세라믹인 케라비전(KeraVision) 또는 케라레진(KeraResin)), 또는 다른 판 (예컨대 케라스펙트럼(Keraspectrum) 비트로세라믹)이 또한 존재하여, 다른 색을 표시하는 것을 가능하게 한다.
비트로세라믹 판과 함께 사용되는 발광 조명은 제어부 또는 가열 대역을 제시하고, 데이터를 표시하고, 장식물을 보여주는 것 등을 가능하게 한다. 사용되는 광원은, 일반적으로 스크린 인쇄에 의해 비트로세라믹의 상부 면 상에 침착된 패턴 (예를 들어 가열 대역이 켜져 있는 것을 나타내는 아이콘 또는 기호, 또는 온/오프(ON/OFF) 패턴)을 조명할 수 있도록, 일반적으로 판 아래에 설치된다. 일반적으로 작은 이들 패턴은 일반적으로 충분한 명료성 및 콘트라스트로 출현하는 것이 바람직하고, 이들이 활성화된 상태 (켜짐)이든지 불활성화된 상태 (꺼짐)이든지 간에, 이들이 용이하게 위치추정가능한 것이 바람직하다.
조리판 장식에 통상적으로 사용되는 것과 동일한 유형의 에나멜, 예를 들어 70 중량%의 유리 프릿 및 30 중량%의 흑색 안료를 포함하며 상기 유리 프릿이 특히 이산화규소 SiO2 (예를 들어 프릿의 42 중량%로 존재함), 삼산화붕소 B2O3 (예를 들어 28 중량%로 존재함) 및 산화알루미늄 Al2O3 (예를 들어 18 중량%로 존재함)을 기재로 하는 것인 에나멜을 사용하여, 스크린 인쇄를 통해 조명되도록 의도된 패턴을 비트로세라믹의 상부 면 상에 침착시키는 것이 공지되어 있다. 그러나, 비트로세라믹의 하부 면 상에 배열된 광원이 켜져 있을 때 (예를 들어 적색 광을 방출함), 광은 에나멜을 통해 산란하기 때문에, 스크린-인쇄된 에나멜에 의해 경계지워진 윤곽이 예리하게 보이지 않을 수 있고, 따라서 표시된 패턴의 선명성이 떨어질 수 있다. 더욱이 비트로세라믹의 하부 면 상의 포인트는 투명성에 의해 패턴 내에서 관찰될 수 있고, 광원의 광의 광학적 왜곡을 야기할 수 있다.
이들 문제를 극복하는 한 방식은, 특히 흑색 페인트를 스크린 인쇄를 통해 상부 면의 패턴과 마주 보는 판의 하부 면 상에 침착시키는 것이다. 포인트로 인한 광학적 왜곡 효과를 제한하기 위해, 비트로세라믹과 동일한 굴절률을 갖는 수지를 흑색 페인트와 조합할 수도 있다. 그러나, 비트로세라믹의 상부 면 상에 스크린-인쇄된 에나멜-기재의 패턴을 비트로세라믹의 하부 면 상에 스크린-인쇄된 페인트-기재의 패턴과 정합시키는 것은, 원하는 결과를 얻기 위해 필요하긴 하지만, 산업적으로 수행하기가 매우 어렵다.
따라서 본 발명에서는, 비트로세라믹의 상부 면 상에 출현하는 발광 패턴 (즉 조명되도록 의도된 패턴)이 (특히 비트로세라믹의 하부 면 상에 배치된) 하나 이상의 광원에 의해 조명될 때, 조명되지 않을 때 관찰되는 것과 유사한 정도로 상기 패턴의 윤곽의 선예성이 보존될 수 있게 해 주고, 또한 불활성 상태에서 패턴을 명확하게 식별할 수 있게 해 주고 비트로세라믹의 하부 면 상에 배치된 포인트의 가시성을 방지할 뿐만 아니라 이들 포인트에 의해 야기되는 왜곡 효과를 억제할 수 있게 해 주는, 수행하기 간단하고 효과적인 해결책이 추구되었다.
이러한 목적은 특히 가열 요소를 덮거나 수용하도록 의도된, 본 발명에 따른, 비트로세라믹 물품 (또는 제품), 특히 비트로세라믹 판 (본 발명에 따른 물품은, 특히 조리판 또는 호브임)에 의해 달성되는데, 상기 물품에는 하나 이상의 발광 패턴을 포함하는 하나 이상의 발광 (이도록 설계된) 대역 (또는 조명되도록 의도된 대역), 특히 정보를 표시하기 위한 대역 (예를 들어 기호 또는 아이콘, 단어 등을 통해 하나 이상의 가열 대역이 켜져 있는지 또는 꺼져 있는지를 나타내는 대역, 또는 온/오프 대역)이 제공되고, 상기 물품은 하나 이상의 비트로세라믹 기판, (패턴을 조명하도록 의도되고 배치된, 특히 기판의 하부 면 아래에 배치된) 하나 이상의 광원, 특히 하나 이상의 발광 다이오드, 및 상기 대역의 적어도 일부를 피복하는 하나 이상의 에나멜 코팅 (에나멜은 특히 스크린 인쇄에 의해 특히 기판의 상부 면 상에 침착됨)을 포함하고, 상기 에나멜 코팅 내에는 비-피복 영역이 상기 패턴의 형상으로 형성되어 있고, 상기 에나멜의 조성물은 하나 이상의 유리 프릿 및 하나 이상의 안료, 및 임의로 하나 이상의 담체 또는 매체를 포함하고, 상기 유리 프릿은 중량 백분율 (프릿의 총 중량에 대해 표현된 중량 백분율 또는 질량 백분율임)로서 표현된 하기 조성을 갖고 (또는 하기 구성성분들을, 한계치를 포함한 하기 정의된 범위 내에서 포함함):
SiO2 40 - 55%
Al2O3 0 - 10%
B2O3 25 - 55%
Na2O 0 - 5%
K2O 0 - 5%
Li2O 0 - 10%
, 안료 또는 안료들의 비율은 또한 프릿/안료 혼합물의 40 내지 65 중량% (및 바람직하게는 45 내지 60 중량%)이고, 더욱이 물품은 상기 에나멜 코팅과 대면하는 산란 대역을 포함한다.
따라서, 본 발명에 따라, 예를 들어 비트로세라믹, 예컨대 조리판 상에 정보 또는 제어부를 표시하도록 의도된, 발광 용도를 위한 패턴을 한정하기 위해, 상기 판의 코팅을 위한 것으로 공지되어 있지 않은 특정한 조성의 프릿에 의해 형성되고 더욱이 통상적으로 사용되는 에나멜의 안료 비율보다 더 높은 안료 비율을 갖는 에나멜을, 특히 스크린 인쇄를 통해 원하는 패턴을 포함하도록 의도된 표면 (또는 대역), 특히 비트로세라믹의 상부 면 상에 침착시키는데, 이러한 패턴은 침착된 에나멜 코팅 내에 상응하는 형상의 비-피복 영역을 형성함에 의해 수득되고, 기판의 한쪽 면 상의 이러한 코팅은, 특히 에나멜 코팅과 이것을 조명하도록 의도된 광원 사이에서, 및 특히 기판의 반대쪽 면 상에서 (특히 하부 면 상/하에서), 에나멜 코팅과 대면하는 산란 대역과 조합되고, 이러한 산란 대역은 특히 에나멜 코팅과 동일한 형상 및/또는 크기 (또는 대략적으로 동일한 형상 및/또는 크기)를 가져서 2개의 대역을 완벽하게 정합시킬 필요가 없고, 이렇게 형성된 조합은 광원에 의해 방출된 패턴 내에 집중된 광이 비-피복 영역 내로만 산란되고 수득된 패턴의 윤곽이 특히 예리하여, 이로써 패턴 아래에 놓인 포인트 또는 요소가 지각되지 않는 효과를 갖는다.
흑색 비트로세라믹의 상부 면 상에 적용된 정의된 바와 같은 에나멜은, 조명되지 않은 상태에서는 조리판의 코팅을 위한 전통적인 에나멜의 불투명성에 필적할만한 불투명성을 갖고, 에나멜이 비트로세라믹의 관련 대역을 조명하는데 사용되는 광, 특히 적색 광에 노출될 때, 조리판을 위한 전통적인 에나멜의 불투명성보다 훨씬 더 큰 불투명성을 갖는데, 이러한 경우에 비트로세라믹의 하부 면 상에 흑색 페인트를 스크린 인쇄하는 것은 불필요하다.
에나멜은, 특히 스크린 인쇄에 의해 또는 대안적으로 전사 공정 또는 에나멜 제트에 의해 용이하게 침착될 수 있고, 균열 또는 부풀음 없이 (조성물은 특히 낮은 팽창 계수를 가짐), 불투명한 얇은 층 (유리하게는 소성 후 1 내지 6 마이크로미터, 특히 2 내지 5 마이크로미터)을 수득할 수 있게 해 준다. 유리 프릿은 얇은 두께로의 침착에 적합하고, 유리 기판 상에 침착된 에나멜의 균열 또는 분해 없이, 원하는 차폐 효과에 적합한 에나멜 중 안료(들) 비율을 허용한다 (바람직하게는 소성 후 2 내지 5 마이크로미터의 두께로의 스크린 인쇄의 경우). 더욱이 에나멜 조성물의 점도는 우수한 퍼짐을 허용하여, 최종 제품에서의 에나멜의 비교적 밝고 매끄러운 외관을 보장하고, 수득된 층은 우수한 기계적 강도를 갖는다. 에나멜은 유리하게는 (후속적으로), 광학적 분산의 위험 없이, 일반적으로 에나멜의 열처리에 사용되는 약 700 내지 800℃의 온도에서, 세라믹화된 기판 상에서 소성될 수 있거나, 유리하게는 세라믹화 전에 전구체 유리 (또는 모 유리) 상에 침착되고 세라믹화 동안에 소성될 수 있다.
에나멜은 유리하게는 본 발명에 따라 정의된 조성을 갖는다. 이것은 특히 (기판 상에 적용되고 소성되기 전에), 유리 프릿 (또는 유리 입자, 이것은 유리질 메트릭스를 형성할 것임) 및 안료 (특히 착색제로서; 이들 안료는 임의로 프릿의 일부를 형성할 수 있음)를 포함하는 분말 (상기 프릿 및 안료는 금속 산화물을 기재로 함), 및 에나멜을 기판 상에 적용하여 예비 접착시키는 것을 허용하는 매체 또는 "담체"에 의해 형성된다.
바람직하게는, 에나멜 조성물의 유리 프릿은 45 내지 50% 범위의 SiO2 비율, 및/또는 2 내지 8%, 유리하게는 3 내지 6% 범위의 Al2O3 비율, 및/또는 27 내지 50%, 유리하게는 27 내지 45% 범위의 B2O3 비율을 갖고, 이 경우에 이러한 비율은 30% 초과, 특히 31% 초과, 또는 32% 초과, 또는 심지어는 유리하게는 33% 초과, 특히 34% 초과일 수 있다.
또한 바람직하게는, 유리 프릿은 2 내지 3% 범위의 Na2O 비율, 및/또는 0.5 내지 3%, 유리하게는 1 내지 2% 범위의 K2O 비율, 및/또는 2 내지 6%, 유리하게는 3 내지 5% 범위의 Li2O 비율을 갖는다.
또한 바람직하게는, 에나멜 조성물은, 안전한 취급 및 점도 등과 관련하여 우수한 특성을 갖기 위해, 하기 요소들 중 하나 이상을 함유하지 않는다: ZrO2, BaO, MgO, CaO 및 SrO. 더욱이, 에나멜이 TiO2를 포함할 때, 프릿 중의 그의 비율은 5% 미만, 유리하게는 2% 미만, 또는 심지어는 1 중량% 미만이다.
바람직하게는, 선택된 에나멜 조성물의 유리 프릿은 하기로 이루어진다:
SiO2 45 - 50%
Al2O3 2 - 8%, 유리하게는 3 - 6%
B2O3 27 - 50%, 유리하게는 27 - 45%
Na2O 2 - 3%
K2O 0.5 - 3%, 유리하게는 1 - 2%
Li2O 2 - 6%, 유리하게는 3 - 5%.
본 발명에 따라 정의된 에나멜은, 상기에 설명된 조성을 갖는 유리 프릿 (또는 유리 입자) 외에도, 다른 성분을 또한 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 에나멜은, 특히 상기에 이미 나타내어진 바와 같은 적어도 몇몇 안료를 포함하고, 에나멜의 총 프릿(들)/안료(들) 중의, 일반적으로 프릿에 첨가되는 안료 또는 안료들의 비율은, 총 프릿(들)/안료(들)와 관련하여 표현 시, 일반적으로 40 내지 65 중량% (한계치를 포함함), 바람직하게는 45 내지 60%이다. 안료는, 특히 크롬 산화물, 구리 산화물, 철 산화물, 코발트 산화물, 니켈 산화물, 아연 산화물, 망간 산화물, 세륨 산화물, 티타늄 산화물과 같은 금속 산화물을 함유하는 화합물, 또는 알루미늄을 기재로 하는 화합물 등으로부터 (특히 원하는 색에 따라) 선택될 수 있고/거나, 이들은 쿠퍼 크로메이트, 코발트 크로메이트 등으로부터 선택될 수 있다.
본 발명에 따라 정의된 에나멜은 바람직하게는 하나 이상의 불투명 흑색 안료, 예를 들어 크롬, 철, 코발트 및 니켈의 산화물, 또는 크롬 및 구리 Cr-Cu 스피넬을 기재로 하는 것 (예컨대 페로(Ferro)™ 사에 의해 참조번호 스피넬 V7709로서, 또는 세퍼드 컬러즈(Sheperd Colors) 사에 의해 참조번호 BK1G로서 판매되는 흑색 안료 등)을 포함한다. 에나멜은 또한 유리하게는 MnO2, Fe2O3 및/또는 CoO를 기재로 하는 안료, 또는 대안적으로 하기를 기재로 하는 안료 (색)를 포함할 수 있다: NiO (녹색), Cr2O3 (녹색), TiO2 (백색), Cr-Al 스피넬 (분홍색), Sn-Sb-V (회색), Ti-Sb-Ni (황색), Zr-V (황색), Co-Zn-Al 스피넬 (청색), Zn-Fe-Cr 스피넬 (갈색), 실리케이트, 예컨대 Ca-Cr-Si 가네트 (녹색), Ca-Sn-Si-Cr (분홍색), 지르콘 Zr-Si-Fe (분홍색), Co-Zn-Si (어두운 청색), 및/또는 Co-Si (어두운 청색) 등.
유리 프릿 및 안료는 일반적으로 매체 중 현탁액 내로 혼입되기 전에 분말의 형태를 갖는다. 분말 형태에서 총 프릿(들)/안료(들)의 입자 크기 분포는 일반적으로, 분말을 형성하는 입자의 90 중량% 이상이 20 ㎛ 미만, 특히 10 ㎛ 미만의 직경을 갖도록, 선택된다. 바람직하게는, 유리 프릿 및 안료 또는 안료들은 1 내지 6 마이크로미터 범위의 입자 크기 분포를 갖는 입자에 의해 형성되고, 40 내지 65%, 바람직하게는 45 내지 60%, 특히 약 50%의 안료 또는 안료들의 비율을 갖는 이러한 에나멜은 너무 두꺼운 두께를 갖지 않고서도 충분한 불투명성을 수득할 수 있게 해 줌으로써, 기판과 에나멜 사이의 팽창 계수의 차이를 제한하여, 균열 (에나멜 층이 냉각되는 동안에 생기는 에나멜 층의 부풀음)을 회피하는데 기여한다.
유리 프릿을, 특히 고온 (1000℃ 초과)에서 적합한 (천연 또는 합성) 출발 재료의 혼합물을 용융시킴으로써 수득할 수 있다. 이어서, 특히 임의로 안료가 첨가된, 분말을 수득하기 위해, 일반적으로 (후속적으로 증발되는) 에탄올과 같은 용매에서, 프릿을 (예를 들어 약 10 내지 13 마이크로미터로) 분쇄하고/거나 초미분쇄 (또는 예를 들어 약 3 내지 4 마이크로미터로 마쇄)한다. 후속적으로, (적절한 경우에, 분쇄 용매를 증발시킨 후에) 이로부터 생성된 분말 혼합물 (유리 분말 + 안료)을 매체 중의 현탁액으로 혼입시켜, 기판 상에 침착될 수 있는 조성물 (페이스트)을 수득한다.
침착될 준비가 되어 있는 형태를 갖는 에나멜 조성물은 일반적으로, 기판 상에의 적용을 위한 원하는 점도를 조절할 수 있게 해 주고 기판과 결합할 수 있게 해 주는 매체를 포함한다. 프릿 입자와 안료의 우수한 현탁을 보장하기 위해 선택되고 이후에 에나멜의 소성 동안에 소비될 이러한 매체는, 전통적인 에나멜 조성물에서 통상적으로 사용되는 임의의 유기 매체 또는 결합제일 수 있고, 이것은 특히 용매, 희석제, 오일, 예컨대 송유 및 다른 식물유, 수지, 예컨대 아크릴성 수지, 석유 유분, 필름-형성 재료, 예컨대 셀룰로스성 재료 등을 포함할 수 있고, 침착될 준비가 되어 있는 조성물 중의 매체의 구성비율은 바람직하게는 상기 조성물의 40 내지 60 중량%, 바람직하게는 45 내지 55 중량%이다.
따라서, 판과 같은, 본 발명에 따른 비트로세라믹 물품 상에 침착되기 전의 에나멜 조성물은, 일반적으로 (특히 스크린 인쇄에 의한) 침착 방법에 적합한 점도를 갖는, 페이스트-유사 점조도의 안정한 액체/고체 혼합물의 형태를 갖는다.
비-피복 영역 (에나멜 코팅 내에서 에나멜에 의해 비-피복 부분)을, 예를 들어 침착 후에 제거되는 마스크를 사용하여 문제의 대역 또는 대역들을 에나멜 조성물의 침착 동안에 차폐하는 것, 또는 예를 들어 문제의 대역 또는 대역들에서 에나멜을 침착시키는데 사용되는 스크린-인쇄 스크린의 셀을 차단하는 것, 또는 피복할 대역을 에나멜 제트 등을 사용하여 정확히 표적화하는 것에 의해 형성한다.
본 발명의 정의에 제시된 바와 같이, 본 발명에 따른 물품은 또한 에나멜 코팅과 대면하는 하나 이상의 산란 대역 (또는 광 산란자)을 포함하고, 광원 또는 광원들에 의해 방출된 광은 조명될 패턴에 도달하기 전에 이러한 산란 대역을 통과한다. 이러한 산란자는 일반적으로 비트로세라믹의 하부 면 상에 배치된다. 이러한 산란 대역은, 특히 광원 또는 광원들에 의해 방출된 방사선이 원하는 조명 대역 쪽으로 추출될 수 있게 해 주며, 예를 들어 하나 이상의 산란 요소 또는 처리부에 의해 형성되고, 특히 비트로세라믹의 표면 상에 적용 (예를 들어 하부 면 상에 접착 결합)되고/거나 비트로세라믹과 결합 또는 조합된 요소 (예컨대 웨이브가이드(waveguide) 및/또는 광원 등)의 표면 상에 적용된 (예를 들어, 산란 요소는 광원 상에 침착되거나 상기 광원을 캡슐화함) 하나 이상의 층 (또는 필름, 또는 요소, 특히 중합체, 예를 들어 폴리비닐 클로라이드 (PVC) 등으로 된 것), 및/또는 예를 들어 화학적 침해 (산 등) 또는 기계적 침해 (샌드 블라스팅 등) 등에 의한 비트로세라믹 (또는 결합되거나 조합된 요소)의 관련 표면의 차등 처리부 또는 텍스춰링부의 형태를 갖는다 (또는 그로 부분적으로 또는 완전히 구성됨).
이러한 산란 대역은, 특히 광원과 조명될 대역 사이에 배치되며, 일반적으로 비트로세라믹 및/또는 임의로 또 다른 결합 또는 조합된 요소와 통합된다. 임의로, 산란 대역 (또는 추출 수단 또는 표면)은 대안적으로 또는 부가적으로 비트로세라믹 (또는 결합 또는 조합된 요소)의 체적부 내에, 임의로 예를 들어 내부 레이저 에칭 기술 등에 의해 제공될 수 있다.
본 발명에 따른 물품은 또한 적어도 하나 이상의 광원을 포함한다 (조명을 균일하게 하기 위해 그의 개수 및 그의 배열은 다양할 수 있음). 광원 또는 광원들은 디스플레이 유형의 하나 이상의 구조체 (예를 들어 소위 "7 세그먼트" 유형의 발광 다이오드를 가짐), 또는 감지 버튼 및 디지털 디스플레이를 갖는 전자 제어 패널 등과 통합 및/또는 커플링될 수 있다. 이미 언급된 바와 같이, 광원은 유리하게는, 임의로 하기에 언급되는 바와 같은 하나 이상의 광 가이드(optical guide)와 조합된, 더 또는 덜 이격된 발광 다이오드에 의해 형성된다. 다이오드는 본 발명에서 특히 크기, 효율, 수명 및 환경적 조건 (열 등)에 대한 내성과 관련하여 유리하다.
다이오드는 캡슐화될 수 있고, 즉 이들은 반도체 성분 및 반도체 성분을 캡슐화하는 (예를 들어 에폭시 또는 나일론 또는 실리콘 유형의 수지로 만들어진) 포장을 포함할 수 있다. 다이오드는 또한, 시준 렌즈를 갖지 않고 예를 들어 크기가 약 100 ㎛ 또는 1 mm이고 임의로 최소로 (예를 들어 보호를 위해) 캡슐화된 반도체 칩일 수 있다.
다이오드는 지지부 또는 바(bar) 또는 기저부 상에 보유될 수 있으며, 이러한 경우에 기저부는,
예를 들어 래커 또는 페인트 및/또는 미러(mirror) 층으로 코팅되고/거나 방출된 방사선을 보다 잘 배향시키기 위해 백색 또는 금속성 반사체와 커플링된, 보다 우수한 발광 효율을 위해 처리된 (평평한 또는 경사진) 표면 및/또는 반사성으로 된 표면을 가질 수 있다.
광원 또는 광원들의 (판 또는 물품의 또 다른 구성성분, 예를 들어 제어 패널과의) 조립은 용접, 딥-패스닝(dip-fastening), 접착 결합 등에 의해, 임의로 또 다른 요소에 의해 수행될 수 있고; 예를 들어, 프로파일링된(profiled) 금속 섹션의 저부에 그 자체로 수용된 지지부 상에 용접된 다이오드는 상기 프로파일링된 섹션의 클립-패스닝 또는 접착 결합에 의해 장착될 수 있다. (특히 판에 대한) 광원 또는 광원들의 위치 선정은 비트로세라믹을 통한 디스플레이를 허용하도록 조정된다.
광원뿐만 아니라 그의 공급부 및 그의 작동부는, 필요에 따라, 원하는 조명 대역의 동시 또는 개별 조명을 허용하기 위해, 분리될 수 있거나 분리되지 않을 수 있다.
광원 또는 광원들은 임의의 제어 시스템에 의해, 예를 들어 하나 이상의 전자기 누름-버튼 또는 감지 버튼에 의해, 가동될 수 있고, 특히 광원 또는 광원들은, 손가락을 비트로세라믹 상에 적합한 활성화 대역의 위치에 (또는 활성화 대역 상에) 놓는 것에 의해 정전용량 메카니즘에 따라 작동될 수 있고, 이러한 활성화 대역은 비트로세라믹의 표면 상에 나타내어지고, 특히 본 발명에 따른 (조명되도록 의도된) 전술된 발광 대역에 상응한다. 손가락 (전기의 전도체)의 터치에 의해 정전용량이 변화하고, 전하가 이로 전달되고, 정전용량의 변화가 측정 시스템에 의해 감지되고, 후자는 특히 결합된 광원 또는 광원들의 활성화를 유발한다.
이미 언급된 바와 같이, 물품은, 광원 또는 광원들 외에도, 물품의 한 부분으로부터 또 다른 부분으로 (특히, 전반사를 통해 또는 금속 반사를 통해) 광을 전파하도록 의도된 하나 이상의 웨이브가이드를 포함할 수 있고, 이 때 광원은 가이드에 부착되고 그의 광 방사선을 가이드 내로 방출함으로써 가이드와 협력하여 가이드가 이러한 광을 투과하게 해 주며, 광원 또는 광원들은 예를 들어 가이드의 측부 또는 모서리를 통해 방출/커플링된다. 이러한 가이드는 유리하게는 맑거나 투명하고, 일반적으로 기판의 하부 면 상에 부착된다 (별도로 설계된 후에 조립됨). 이것은 유기물 및/또는 플라스틱 (예를 들어, 폴리카르보네이트 또는 폴리메틸 메타크릴레이트 PMMA로 만들어진 것) 또는 무기물일 수 있고, 바람직하게는 무기물이고; 특히 유리이다. 본 발명에 따른 물품은, 임의로 개구를 갖는, 각각 하나 이상의 발광 대역을 위해 전용으로 사용되는 다수의 가이드, 또는 단일의 가이드를 포함할 수 있다. 가이드는 접착 결합 및/또는 클립-패스닝에 의해 또는 캡슐화 등에 의해 기판에 고정될 수 있다. 가이드의 조립은 기판 또는 물품의 또 다른 부분 상에서, 또는 물품이 장착되어 있는 지지부 상에서 직접 수행될 수 있고, 예를 들어 가이드는 기판이 장착되어 있는 조리 기구의 케이싱에 고정될 수 있다 (이 경우에 케이싱은 임의로 물품의 일부를 형성할 수 있음). 가이드는, 무엇보다도, 특히 기판이 어두운 색을 갖는 경우에, 광이 원하는 조명 대역 쪽으로 보다 잘 인도될 수 있게 해 준다. 임의로, 웨이브가이드의 모서리의 기하구조 및 거칠기는 또한 광의 제어된 국부적 추출을 허용하도록 설정될 수 있다.
본 발명에 따른 물품은 유리하게는 조리판, 또는 기능성 또는 장식성의 디스플레이 또는 하나 이상의 발광 대역을 갖는 비트로세라믹 물품, 또는 디스플레이 (장식성 및/또는 기능성)를 위한 (주로 이를 의도하는) 물품 또는 모듈 또는 조립체 또는 시스템일 수 있다.
용어 "비트로세라믹 물품"은 비트로세라믹 (또는 유리-세라믹) 그 자체로부터 제조된 물품뿐만 아니라, 특히 고온 내성 및/또는 특히 0 또는 약 0의 (예를 들어, 방사 링에서 사용되는 비트로세라믹 판의 경우에서와 같이 15.10-7 K-1 미만의) 팽창 계수를 갖는, 동일한 용도에 적합한 임의의 다른 유사한 재료 (예를 들어 임의로 강화된 유리)로 만들어진 물품을 의미하도록 의도된다. 그러나, 바람직하게는, 이것은 비트로세라믹 그 자체로 만들어진 물품이다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 물품은, (기판으로서), 평평하거나 주로 또는 실질적으로 평평한 (특히 판의 대각선의 0.1% 미만, 바람직하게는 약 0의 곡률을 갖는), (일반적으로 3 내지 4 ㎜의, 특히 약 4 ㎜의 두께를 갖는) 비트로세라믹 판에 의해 형성되고, 조리판으로서 사용되도록 의도된다. 상기 판은 일반적으로 상기 판 및 가열 요소, 예를 들어 방사 또는 할로겐 열원 또는 유도 가열 요소를 포함하는 조리탑 또는 키친탑 내로 통합되도록 의도된다.
판은 일반적으로 사용 위치에서 "상부" 면 (관찰 가능한 면), 사용 위치에서 또 다른 "하부" 면 (예를 들어, 조리기의 골조 또는 케이싱 내에 종종 은폐됨), 및 측부 (또는 모서리 또는 체적부)를 갖는다. 상부 면은 일반적으로 평평하고 매끄럽지만, 또한 하나 이상의 요철 대역 및/또는 하나 이상의 함몰 대역 및/또는 하나 이상의 개구 (예를 들어, 판이 대기형 가스 버너를 수용하도록 의도된 개구를 갖는 경우)를 가질 수 있다. 하부 면은, 특히 매끄러울 수 있거나, 그의 기계적 강도를 증가시키는, 예를 들어 롤링에 의해 수득된 포인트를 가질 수 있다. 임의로, 포인트가 존재하는 경우에, 필요하다면 하부 표면을 매끄럽게 만들기 위해, 인덱스 수지를 하부 표면 상에 적용할 수 있다.
본 발명의 한 실시양태에서, 본 발명에 따라 언급된 발광 대역은, 특히 상기 대역의 위치에 대한 터치가 허용되도록 (그러한 크기를 갖는) 하나 이상의 융기부 및/또는 바람직하게는 함몰부의 요철부 내에 놓이며, 상기 요철부는 예를 들어 하나 이상의 기하학적 패턴 형태를 갖는다. 이러한 유형의 요철부를, 비트로세라믹을 분쇄 또는 연마함으로써 제조할 수 있고, 그렇지 않으면 판과 일치해야 하는 지지부 또는 성형 또는 가압 표면의 기하구조를 조정함에 의한 특정한 부가적인 단계를 수행해야 한다. 터치 위치의 특징부는 요철부의 기하구조의 합당한 선택에 의해 용이하게 수득된다. 최적 조건 하의 터치 위치를 보장하기 위해, 요철부의 높이는 예를 들어 0.1 ㎜ 이상, 바람직하게는 0.2 ㎜ 이상일 수 있고, 이러한 높이는 예를 들어 2 ㎜를 초과하지 않고, 특히 1 ㎜ 미만이다. 요철부의 "높이"는 판의 평면에 대해 수직인 방향으로의 그의 크기, 즉 그의 가장 높은 지점과 그의 가장 낮은 지점 사이의 고도 차이를 의미하도록 의도된다.
유리한 실시양태에 따라, 판 상의 위치추정 요철부의 주변은 본래 매끄러운 표면 상태를 갖고, 이로부터 상기 요철부는 연속적인 변이부를 구성한다. 판은, 특히 관련 대역에서, 압입, 성형 또는 가압 작업에 의해, 원하는 기하구조를 갖는 지지부 또는 성형 또는 가압 표면의 사용에 의해, 성형될 수 있고, 이러한 경우에 압입, 성형 또는 가압은, 비트로세라믹 판을 제조하는데 사용된 재료가 소성 변형을 허용하기에 충분히 높은 온도인 한, 비트로세라믹 판의 통상적인 제조 방법에서 임의의 시점에서 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 물품은, 특히 가시광 범위에 있는 0.8% 내지 40%, 바람직하게는 0.8 내지 5%, 특히 0.8 내지 2% 범위의 발광 투과율, 및 625 ㎚의 파장에 대해 3.5% 이상의 (주어진 파장에서 투과 세기와 입사 세기의 비를 취함으로써 공지된 방식으로 결정된) 광학 투과율을 본질적으로 갖는 임의의 비트로세라믹을 기재로 한다. 용어 "본질적으로"는, 임의의 코팅이 존재하지 않는 상태에서, 판 그 자체가 상기 투과율을 나타냄을 의미하도록 의도된다. 발광 투과율은 발광체 D65를 사용하여 (광학 투과율을 또한 언급하는) 표준 ISO 9050:2003에 따라 측정되고, 직접 투과율과 가능한 산란 투과율 둘 다를 고려하는 (특히 가시광 범위에 걸쳐 적분되고, 인간 눈의 감도 곡선에 의해 가중되는) 총 투과율이며, 상기 측정은 예를 들어 적분구(integrating sphere)가 제공된 분광계에 의해 수행되고, 후속적으로, 주어진 두께에서의 측정치는 필요한 경우에 표준 ISO 9050:2003에 따라 4 mm의 참조 두께로 전환된다.
본 발명은 특히 유리하게는 상기 투과율 기준을 갖는, 특히 흑색 또는 갈색의 외관을 갖는, 어두운 색의 판에 적용될 수 있지만, 상기 기준을 갖고서 사용되는 비트로세라믹은 맑은 비트로세라믹일 수도 있고, 본 발명에 따른 해결책은, 이러한 종류의 판에 대해, 간단하게, 판의 다른 특성이 변질될 위험이 없이, 조정된다.
본 발명에 따른 물품은 임의로 전술된 구성성분을 제외한 요소 및/또는 층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 조리 모듈의 경우에, 물품은 하나 이상의 부가적인 기능성 또는 장식성 요소 (프레임, 하나 이상의 커넥터, 하나 이상의 케이블, 하나 이상의 제어 요소) 등을 제공받을 수 있다 (또는 이들과 결합될 수 있음). 이것은 에나멜, 페인트 등을 기재로 하는 다양한 기능성 및/또는 장식성 코팅을 포함할 수 있다. 예를 들어, 기판의 면들 중 하나는, 예를 들어 장식 또는 차폐 (예를 들어 광원이 직접 관찰되는 것을 회피) 등을 위한 하나 이상의 다른 에나멜 층을 가질 수 있다.
본 발명은 또한, 본 발명에 따른 하나 이상의 물품을 갖고 임의로 하나 이상의 가열 요소, 예컨대 하나 이상의 방사 또는 할로겐 요소 및/또는 하나 이상의 대기형 가스 버너 및/또는 하나 이상의 유도 가열 수단을 갖는, 조리를 위한 및/또는 고온 유지를 위한 기구 (또는 장치) (예를 들어, 조리기, 장착된 조리탑, 오븐 등)에 관한 것이다. 본 발명에 따른 물품은 또한 상기에 본 발명의 정의에서 언급된 요소 외에도 하나 이상의 가열 요소를 갖는 조리 기구를 구성할 수 있다. 본 발명은 단일 판을 갖는 조리 기구와 다수의 판을 갖는 기구를 동등한 수준으로 포함하고, 이들 각각의 판은 임의로 단일 링 또는 다수의 링을 갖는다. 용어 "링"은 조리 위치를 의미하도록 의도된다. 본 발명은 또한 조리판 또는 판들이 많은 유형의 링 (가스 링, 방사, 할로겐, 또는 유도 링)을 갖는 하이브리드 조리 기구에 관한 것이다.
조리 기구는, 내부 가열 요소 외에도, 또한 일반적으로 제어 및/또는 모니터링 수단을 포함하고, 내부 요소는 비트로세라믹 기판에 의해 덮이고, 디스플레이 또는 발광 대역 또는 대역들은 상기 기판을 통해 관찰된다.
비트로세라믹 기판을 수득하기 위해, 에나멜 코팅 및 산란 대역을, 경우에 따라, 전구체 유리 (또는 모 유리 또는 그린 유리)의 세라믹화 전 및/또는 후에 비트로세라믹 기판에 첨가할 수 있다. 상기해 보건대, 비트로세라믹 판을 일반적으로 하기와 같이 제조한다: 비트로세라믹을 형성하기 위해, 선택된 조성을 갖는 유리를 용융로에서 용융시키고, 이어서 용융된 유리를 롤들 사이에 통과시킴으로써 용융된 유리를 롤링하여 표준 리본 또는 시트로 만들고, 유리 리본을 원하는 치수로 절단한다. 후속적으로, 이렇게 절단해 낸 판을 그 자체로 공지된 방식으로 세라믹화하는데, 세라믹화는 유리를, 팽창 계수가 0 또는 약 0이고 700℃ 이하의 열 응력에 견디는, "비트로세라믹"이라고 지칭되는 다결정질 재료로 변환시키기 위해 판을 선택된 열 프로필에 따라 소성시키는 것이다. 세라믹화는 일반적으로, 온도를, 일반적으로 유리의 전이 범위 근처에 놓인 핵형성 범위까지 점진적으로 상승시키는 단계, 수분 동안 핵형성 기간을 거치는 단계, 추가로 온도를 세라믹화 수준의 온도까지 점진적으로 상승시키는 단계, 상기 세라믹화 수준의 온도를 수분 동안 유지하는 단계, 이어서 실온으로 급속하게 냉각시키는 단계를 포함한다. 임의로, 상기 방법은 또한, 예를 들어 워터 제트, 휠 등을 사용한 기계적 트레이싱을 사용한 (일반적으로 세라믹화 전의) 절단 작업, 후속되는 드레싱 작업 (분쇄, 베벨링 등)을 포함한다.
본 발명에 따라 사용되는 에나멜은 얇은 두께에서 가능한 한 적은 횟수의 통과를 통한 침착을 허용하여 에나멜의 박리 및 비트로세라믹 판의 기계적 손상을 회피할 수 있게 해 준다. 기판은, 세라믹화 전에 또는 세라믹화 후에, 일반적으로 스크린 인쇄에 의해, (예를 들어 폴리에스테르 또는 폴리아미드 필라멘트 직물로 이루어진) 스크린-인쇄 스크린에 의해, 그의 상부 면의 적합한 대역 또는 대역들에서, 조성물을 포함하는 페이스트로 코팅되고, 이어서 약 100 내지 150℃에서 건조된다.
유리하게는, (소성 후에 수득된) 선택된 에나멜로 코팅된 기판은 특히 기저 요소를 차폐할 수 있게 해 주는 정도의 불투명성을 갖는다. 불투명한 백색 배경에 놓인 기판 및 불투명한 흑색 배경에 놓인 기판에 대한, 에나멜을 보유하는 면과 반대쪽에 있는 기판의 면 상에서 측정된 색 사이의 차이에 상응하는 색 변이 ΔE* (1976년에 CIE에 의해 확립된 식에 따른 ΔE* = ((LW*-LB*)2 + (aW*-aB*)2 + (bW*-bB*)2)½, 여기서 LW*, aW*, bW*는 백색 배경에서 측정된 첫 번째 측정치의 비색 좌표이고, LB*, aB*, bB*는 흑색 배경에서 측정된 두 번째 측정치의 비색 좌표임)를 측정함으로써 (빅-가드너 컬러 가이드(Byk-Gardner Color Guide) 45/0 비색계를 사용하여 반사 비색 정량을 수행함) 불투명성을 평가한다. 유리하게는, 본 발명에 따른 에나멜로 코팅된 비트로세라믹 기판은 0.5 이하, 바람직하게는 0.4 이하, 특히 0.1 미만의 ΔE*의 값을 갖는다. 더욱이, 유리하게 사용되는 에나멜은 25 미만, 또는 21 미만, 바람직하게는 12 내지 18의 L* 값을 갖고, 이러한 값은 유리 기판 상의 에나멜이 기공을 갖지 않음을 표현한다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 물품은 하나 이상의 가열 대역이 켜져 있는지 또는 꺼져 있는지를 나타내도록 의도된 하나 이상의 발광 대역 (온/오프 대역이라고 지칭됨, 상기 대역 내의 조명될 패턴을 한정하는 비-피복 영역은, 예를 들어, 켜진 상태를 나타내는 도상의 형태를 가짐)을 포함한다. 본 발명에 따른 물품은 또한 바람직하게는, 예를 들어 스크린 인쇄에 의해, 상기 대역 내의 상부 상에 침착된, 본 발명에 따라 정의된 바와 같은 에나멜을 포함하고, 이러한 에나멜 코팅은 예를 들어 디스크의 형태를 갖고, 상기 디스크의 중심부에는 비-피복 영역이, 선택된 패턴 (예컨대 전술된 온/오프 패턴)에 따라 형성되어 있다. 이러한 패턴은, 예를 들어, 이것이 예를 들어 제어 패널 상에 배치된 온/오프 제어 버튼임을 나타내며, 이러한 버튼의 활성화는 예를 들어 손가락을 비트로세라믹 상의 상기 버튼 상에 놓는 것에 의해 정전용량 메카니즘에 따라 수행된다. 그의 활성화에 의해 (예를 들어 적색의) LED 방출 광이 발산된다. 이러한 LED에 의해 방출된 광은 광원 위에 배치된 산란 대역에 의해 산란되고, 이러한 대역은 예를 들어 원통형 형상을 갖는다 (또는 원형 또는 디스크-형상을 가짐, 직경은 예를 들어 상부 면 상에 스크린-인쇄된 디스크의 직경에 상응함). 이러한 산란 디스크는, 예를 들어, 비트로세라믹의 하부 면 상에 접착 결합된다. LED의 광이 스크린-인쇄된 온/오프 서클 아래에서 산란될 때, 적색 광이 비-피복 대역에서 출현한다.
단지 예로서 주어질 뿐 제한하려는 것이 아닌 하기 실시예를 읽으면 본 발명 및 그의 이점을 보다 잘 이해하게 될 것이다.
본 발명에 따른 실시예
본 실시예에서, 제조된 물품은 유로케라 사에 의해 참조번호 케라블랙(KeraBlack)+ 또는 케라비전으로서 판매되는 반투명 흑색 비트로세라믹 판 (기판)을 포함하는 평탄한 조리 모듈이고, 이러한 판은 매끄러운 상부 면 및 매끄러운 하부 면을 갖고, 더욱이 물품은 판 아래에서 판에 정착된 광원을 포함한다.
사용되는 광원은, 판 아래에 배치된, 아바고(Avago) 사에 의해 참조번호 AlInGaP 5 ㎜ 아바고 LED 다이오드로서 판매되는 발광 다이오드 (LED)이다. 더욱이, 판의 상부 면 상에, 제어 패널 내에, 및 광원과 일직선을 이루어, 하기 조성을 갖는 50% 유리 프릿 및 페로 사에 의해 참조번호 V7709로서 판매되는 (크롬-구리 스피넬을 기재로 하는) 50 중량%의 흑색 안료로 구성된 에나멜이 침착되고, 침착된 에나멜의 두께는 2.5 내지 5 ㎛이다: SiO2: 47.6%; Al2O3: 5.0%; Li2O: 3.6%; B2O3: 40%; Na2O: 2.5%; K2O: 1.4%. 이러한 침착은 디스크의 형상으로 수행되며, 이러한 에나멜 침착물 내에, 활성화를 나타내는 도상의 형태를 갖는 비-피복 영역이, 침착에 사용된 스크린-인쇄 스크린 내의 상응하는 마스크에 의해 형성된다. 생성된 상기 패턴은 이것이 제어 대역 (온/오프 대역)임을 나타내고, 이러한 대역의 활성화는 정전용량 메카니즘에 따라 수행된다.
더욱이, 두께가 5 ㎜인 폴리비닐 클로라이드 (PVC)의 펠렛은 산란 대역으로서 사용되고, 이것은 비트로세라믹 아래에 또는 광원 (이러한 광원은 임의로 PVC 내에 캡슐화될 수 있음) 상에 접착 결합된다.
이렇게 장식된 모 유리 판은, 후속적으로, 650℃로 급속하게 가열된 후에, 약 15 ℃/min의 가열 속도로 약 820℃로 가열되고, 이어서 분당 수 ℃의 가열 속도로 최고 결정화 온도 (대략적으로 900 내지 950℃)로 가열되고, 이러한 후자의 온도가 수분 동안 유지된 후에, 오븐에서 냉각됨으로써, 세라믹화되며, 에나멜의 소성이 상기 세라믹화 동안에 일어난다. 세라믹화 및 에나멜의 소성 후에, 비트로세라믹의 아래에, 온/오프 패턴의 위치에 배치된 온/오프 제어 버튼 LED의 광은 비-피복 대역 내로만 산란하여, 온/오프 패턴의 만족스러운 선명성을 허용한다.
참조 실시예:
전술된 에나멜 대신에, 하기 조성을 갖는 70% 유리 프릿 및 페로 사에 의해 참조번호 220946으로서 판매되는 CoSi 기재의 30 중량%의 흑색 안료로 구성된 에나멜이 사용된다: SiO2: 41.7%; Al2O3: 18.5%; Li2O: 2.1%; B2O3: 28.0%; Na2O: 0.9%; K2O: 3.5%, CaO: 2.8%. 세라믹화 및 에나멜의 소성 후에, 비트로세라믹의 아래에, 온/오프 패턴의 위치에 배치된 온/오프 제어 버튼 LED의 광은 에나멜 내로 산란하여, 온/오프 패턴의 만족스러운 선명성을 방해한다. 더욱이, 사용된 프릿은 본 발명에 따른 실시예의 프릿의 연화점 (515℃)에 비해 너무 높은 연화점 (590℃)을 갖고, 이러한 프릿과 연관될 수 있는 안료 함량은 비트로세라믹의 표면 상에의 우수한 적층을 허용하지 않는 에나멜이 수득될 위험이 있어서 제한된다.
본 발명에 따른 물품, 특히 판은, 특히 조리기 또는 조리탑을 위한 신규한 종류의 조리판을 제조하는데 유리하게 사용될 수 있다.

Claims (9)

  1. 하나 이상의 발광 패턴을 포함하는, 특히 디스플레이를 위한 하나 이상의 발광 대역이 제공된, 특히 가열 요소를 덮거나 수용하도록 의도된 비트로세라믹 물품, 특히 비트로세라믹 판이며, 여기서 상기 물품은 하나 이상의 비트로세라믹 기판, 하나 이상의 광원, 및 상기 대역의 적어도 일부를 피복하며 내부에 비-피복 영역이 상기 패턴의 형상으로 형성되어 있는 하나 이상의 에나멜 코팅을 포함하고, 상기 에나멜의 조성물은 하나 이상의 유리 프릿 및 하나 이상의 안료를 포함하고, 상기 유리 프릿은 하기 구성성분
    SiO2 40 - 55%
    Al2O3 0 - 10%
    B2O3 25 - 55%
    Na2O 0 - 5%
    K2O 0 - 5%
    Li2O 0 - 10%
    을 포함하고, 안료 또는 안료들의 비율은 추가로 프릿/안료 혼합물의 40 내지 65 중량%이고, 물품은 더욱이 상기 에나멜 코팅과 대면하는 산란 대역을 포함하는 것인, 비트로세라믹 물품.
  2. 제1항에 있어서, 유리 프릿이
    SiO2 45 - 50%
    Al2O3 3 - 6%
    B2O3 27 - 45%
    Na2O 2 - 3%
    K2O 1 - 2%
    Li2O 3 - 5%
    로 이루어진 것을 특징으로 하는 비트로세라믹 물품.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 에나멜 코팅이 기판의 한쪽 면 상에, 특히 비트로세라믹의 상부 면 상에 침착되어 있고, 산란 대역이 기판의 반대쪽 면 상에 있고 특히 에나멜 코팅과 대략적으로 동일한 형상 및/또는 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 비트로세라믹 물품.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 광원 또는 광원들이 손가락을 비트로세라믹 상에 적합한 활성화 대역의 위치에 놓는 것에 의해 정전용량 메카니즘에 따라 작동되고, 이러한 활성화 대역이 비트로세라믹의 표면 상에 제시되고 특히 발광 대역에 상응하는 것을 특징으로 하는 비트로세라믹 물품.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 발광 대역이, 특히 상기 대역의 위치에 대한 터치가 허용되도록 하나 이상의 융기부 및/또는 함몰부의 요철부 내에 놓이고, 상기 요철부가 예를 들어 하나 이상의 기하학적 패턴의 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 비트로세라믹 물품.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 0.8% 내지 40%, 바람직하게는 0.8% 내지 5%, 특히 0.8% 내지 2% 범위의 발광 투과율, 및 625 ㎚의 파장에 대해 3.5% 이상의 광학 투과율을 갖는 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 비트로세라믹 물품.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 물품 또는 상기 기판이 조리판인 것을 특징으로 하는 비트로세라믹 물품.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 물품이 예를 들어 제어 패널 상에 놓이고 하나 이상의 가열 대역이 켜져 있는지 또는 꺼져 있는지를 나타내도록 의도된 하나 이상의 발광 대역을 포함하고, 에나멜 코팅이 예를 들어 디스크의 형태를 갖고, 상기 디스크의 중심부에는 비-피복 영역이 이것이 제어 버튼임을 나타내는 패턴에 따라 형성되어 있고, 이러한 버튼의 활성화가 예를 들어 손가락을 상기 버튼 상에 놓는 것에 의해 정전용량 메카니즘에 따라 수행되고, 산란 대역이 광원 위에 배치되고, 예를 들어 스크린-인쇄된 코팅의 형상에 상응하는, 예를 들어 원형 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 비트로세라믹 물품.
  9. 조리 및/또는 고온 유지를 위한 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 청구된 바와 같은 물품, 또는 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 청구된 바와 같은 물품을 갖고 하나 이상의 가열 요소, 예컨대 하나 이상의 방사 또는 할로겐 요소 및/또는 하나 이상의 대기형 가스 버너 및/또는 하나 이상의 유도 가열 수단을 갖는 장치.
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