KR20150086025A - The apparatus for changing the surface character of material - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an apparatus for processing a hydrophobic surface, capable of performing a certain hydrophobic process with respect to a surface of a material with a low processing cost by utilizing fluoride resin to be a fluoride supply source. According to the present invention, an apparatus for processing a hydrophobic surface comprises: a housing which is a container shape having a consistent inner space in the center; a high voltage electrode unit installed in a lower side inside the housing and applied with high voltage; a fluoride supply unit installed in an upper side of the high voltage electrode unit and supplying a fluoride reactant to an inner space of the housing and the high voltage electrode unit; and a plasma injection unit installed to be grounded on a lower surface of the housing and injecting generated plasma to a lower direction.

Description

소수성 표면 처리장치{THE APPARATUS FOR CHANGING THE SURFACE CHARACTER OF MATERIAL}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a hydrophobic surface treatment apparatus,

본 발명은 소수성 표면 처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 불소 수지를 불소 공급원으로 활용하여 저가의 공정 비용으로 소재표면에 대하여 확실한 소수성 처리를 할 수 있는 소수성 표면 처리장치에 관한 것이다. The present invention relates to a hydrophobic surface treatment apparatus, and more particularly, to a hydrophobic surface treatment apparatus which can reliably perform hydrophobic treatment on a work surface by using a fluorine resin as a fluorine supply source at low cost.

소재의 표면은 해당 소재가 보유하고 있는 고유 물성에 의하여 결정되는 소수성 또는 친수성 등 다양한 성질을 가진다. 그런데 이러한 소재를 다양한 분야에 사용하는데 있어서는 소재가 고유하게 보유하고 있는 표면 특성과 다른 특성이 필요한 경우가 많고, 따라서 소재의 표면을 개질할 필요성이 있는 것이다. The surface of the material has various properties such as hydrophobicity or hydrophilicity determined by inherent properties possessed by the material. However, when such a material is used in various fields, it is often necessary to have characteristics different from the surface characteristics inherently possessed by the material. Therefore, there is a need to modify the surface of the material.

예를 들어 특정 소재 표면에 특정 박막을 형성함에 있어서, 형성되는 박막을 이루는 물질의 특성이 소수성이면 해당 소재 표면도 소수성인 것이 바람직하다. 따라서 해당 소재 표면이 친수성을 띠고 있다면 이를 소수성으로 변화시킬 필요가 있는 것이다. For example, in forming a specific thin film on a specific material surface, if the material constituting the thin film to be formed is hydrophobic, the material surface is preferably hydrophobic. Therefore, if the material surface is hydrophilic, it needs to be changed to hydrophobic.

그런데 종래에는 이렇게 소재 표면의 성질을 변화시키는 기술의 개발 특히, 소수성 특성을 가지지 않는 소재 표면을 소수성을 가지는 표면으로 개질하는 기술의 개발이 미진하였고, 특히, 매우 고가의 비용이 소요되는 문제점이 있었다. However, in the past, the development of a technique for changing the properties of the surface of the workpiece, in particular, a technique for modifying the surface of the workpiece having no hydrophobic property to a hydrophobic surface has been hardly developed, .

본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 불소 수지를 불소 공급원으로 활용하여 저가의 공정 비용으로 소재 표면에 대하여 확실한 소수성 처리를 할 수 있는 소수성 표면 처리장치를 제공하는 것이다. Disclosure of Invention Technical Problem [8] The present invention provides a hydrophobic surface treatment apparatus which can reliably perform hydrophobic treatment on a surface of a material by using a fluororesin as a fluorine source.

전술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 소수성 표면 처리장치는, 중앙에 일정한 내부 공간을 가지는 통 형상의 하우징; 상기 하우징의 내부 하측에 설치되며, 고전압이 인가되는 고전압 전극부; 상기 고전압 전극부의 상측에 설치되며, 상기 하우징의 내부 공간과 상기 고전압 전극부 방향으로 불소반응물을 공급하는 불소 공급부; 상기 하우징의 하면에 접지된 상태로 설치되며, 하측 방향으로 발생된 플라즈마를 분사하는 플라즈마 분사부;를 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a hydrophobic surface treatment apparatus comprising: a tubular housing having a central inner space; A high-voltage electrode unit installed inside the housing, the high-voltage electrode unit being applied with a high voltage; A fluorine supply unit provided above the high voltage electrode unit and supplying a fluorine reactant in the inner space of the housing and the high voltage electrode unit; And a plasma spraying unit installed in a state of being grounded on a lower surface of the housing and spraying a plasma generated in a downward direction.

본 발명에서 상기 고전압 전극부는, 일정간격 이격되어 나란하게 설치되는 다수개의 봉형 고전압 전극봉으로 이루어지는 것이 바람직하다. In the present invention, it is preferable that the high-voltage electrode unit comprises a plurality of bar-shaped high-voltage electrode bars spaced apart from each other by a predetermined distance.

그리고 상기 봉형 고전압 전극봉은, 내측에 봉형 고전압 전극이 구비되고, 상기 고전압 외면이 일정한 두께의 세라믹으로 이루어진 외부 유전체로 이루어지는 것이 바람직하다. The rod-shaped high-voltage electrode rod is preferably formed of a rod-like high-voltage electrode on the inner side and an outer dielectric body having the high-voltage outer surface made of ceramics having a constant thickness.

또한 본 발명에서 상기 불소 공급부는, 상기 하우징의 상면에 결합되어 설치되며, 내부에 일정한 공간을 형성하는 불소 저장함; 상기 불소 저장함 내부에 채워지는 불소 공급원; 상기 불소 저장함의 일 측벽에 설치되며, 상기 불소 저정함 내부로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부; 상기 불소 공급함에 설치되며, 상기 불소 공급원을 가열하여 불소 반응물을 발생시키는 가열부; 상기 불소 저장함 하면에 형성되며, 상기 하우징 방향으로 상기 캐리어 가스와 혼합된 불소 반응물을 공급하는 불소 반응물 공급홀;을 포함하는 것이 바람직하다. The fluorine supply unit may include a fluorine storage unit coupled to an upper surface of the housing to form a predetermined space therein. A fluorine source filled in the fluorine storage box; A carrier gas supply unit installed on one side wall of the fluorine storage box for supplying a carrier gas into the fluorine storage box; A heating unit installed in the fluorine supply box and heating the fluorine supply source to generate a fluorine reaction product; And a fluorine reactant supply hole formed at the bottom of the fluorine storage chamber to supply a fluorine reactant mixed with the carrier gas in the direction of the housing.

또한 본 발명에서 상기 불소 공급원은 불소 수지인 것이 바람직하다. Further, in the present invention, the fluorine source is preferably a fluorine resin.

또한 상기 불소 수지는, 일정한 크기를 가지는 불소 수지 입자인 것이 바람직하다. The fluororesin is preferably a fluororesin particle having a certain size.

또한 본 발명에서 상기 플라즈마 분사부는, 상기 하우징 하면에 착탈가능하게 설치되는 것이 바람직하다. Further, in the present invention, it is preferable that the plasma spraying unit is detachably installed on the bottom surface of the housing.

또한 상기 플라즈마 분사부에는, 냉각 매체가 순환하는 냉각 유로가 더 설치되며, 상기 냉각 유로에 냉각 매체를 순환시키는 냉각 매체 순환부가 더 구비되는 것이 바람직하다. It is preferable that the plasma spraying unit is further provided with a cooling channel through which the cooling medium circulates and further includes a cooling medium circulation unit circulating the cooling medium in the cooling channel.

또한 본 발명에서 상기 불소 공급부와 고전압 전극부 사이에는 상기 불소 공급부에서 공급되는 기체를 균일하게 확산시키는 기체 분배판이 더 구비되는 것이 바람직하다. In the present invention, it is preferable that a gas distribution plate is further provided between the fluorine supply unit and the high voltage electrode unit to uniformly diffuse the gas supplied from the fluorine supply unit.

본 발명에 따르면 저렴한 소재인 불소 수지를 불소 공급원으로 활용하면서도 상압 플라즈마를 이용하여 소재 표면에 대하여 확실한 소수성 처리를 수행할 수 있는 현저한 효과를 달성할 수 있다. According to the present invention, it is possible to achieve a remarkable effect that a hydrophobic treatment can be reliably performed on the surface of a work by using an atmospheric pressure plasma while utilizing a fluororesin as an inexpensive material as a fluorine source.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 소수성 표면 처리장치의 구조를 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기체 분배판의 구조를 도시하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 분사부의 구조를 도시하는 도면이다. 1 is a view showing a structure of a hydrophobic surface treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing a structure of a gas distribution plate according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a view showing a structure of a plasma jetting unit according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다.
Hereinafter, a specific embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 실시예에 따른 소수성 표면 처리장치(1)는 도 1에도시된 바와 같이, 하우징(10), 고전압 전극부(20), 불소 공급부(30) 및 플라즈마 분사부(40)를 포함하여 구성될 수 있다. 1, the hydrophobic surface treatment apparatus 1 according to the present embodiment includes a housing 10, a high voltage electrode unit 20, a fluorine supplying unit 30, and a plasma jetting unit 40 .

먼저 상기 하우징(10)은 본 실시예에 따른 소수성 표면 처리장치(1)의 전체적인 형상을 이루는 구성요소로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 중앙에 일정한 내부 공간을 가지는 통 형상으로 이루어진다. First, the housing 10 is a component that forms the overall shape of the hydrophobic surface treatment apparatus 1 according to the present embodiment, and has a tubular shape having a constant internal space at the center, as shown in FIG.

다음으로 상기 고전압 전극부(20)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 하우징(10)의 내부 하측에 설치되며, 외부에 설치되는 전원(도면에 미도시)에 연결되어 고전압이 인가되는 구성요소이다. 본 실시예에서 상기 고전압 전극부(20)는 구체적으로 도 1에 도시된 바와 같이, 다수개의 봉형 고전압 전극봉(20a ~ 20d)으로 이루어지는 것이 바람직하다. 이때 다수개의 봉형 고전압 전극봉(20a ~20d)은 일정 간격 이격되어 나란하게 설치되며, 전극봉이 이격된 공간으로 캐리어 가스에 의하여 이동되는 불소 반응물이 통과하는 것이다. 이렇게 고전압 전극부(20)를 다수개의 봉형 고전압 전극봉(20a ~ 20d)으로 구성하면 균일한 밀도의 플라즈마를 형성할 수 있으며, 전극 손상시 교체가 용이한 장점이 있다. 1, the high-voltage electrode unit 20 is installed inside the housing 10, and is connected to an external power source (not shown) to apply a high voltage thereto. to be. As shown in FIG. 1, the high voltage electrode unit 20 is preferably formed of a plurality of rod-shaped high voltage electrode rods 20a to 20d. At this time, the plurality of rod-like high voltage electrode rods 20a to 20d are spaced apart from each other by a predetermined distance, and the fluorine reactant that moves by the carrier gas passes through the space where the electrode rods are spaced apart. When the high-voltage electrode unit 20 is composed of a plurality of bar-shaped high-voltage electrode bars 20a to 20d, it is possible to form a plasma with a uniform density and to easily replace the electrode when the electrode is damaged.

또한 본 실시예에서 상기 봉형 고전압 전극봉(20a ~ 20d)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 내측에 봉형 고전압 전극(22a)이 구비되고, 상기 고전압 전극(22a) 외면에 일정한 두께의 세라믹으로 이루어진 외부 유전체(24a)로 이루어지는 것이 바람직하다. 1, the rod-type high-voltage electrodes 20a to 20d are provided with a rod-like high-voltage electrode 22a on the inner side thereof, and a rod- And an outer dielectric 24a.

다음으로 상기 불소 공급부(30)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 고전압 전극부(20)의 상측에 설치되며, 상기 하우징(10)의 내부 공간과 상기 고전압 전극부(20) 방향으로 불소 반응물을 공급하는 구성요소이다. 본 실시예에 따른 소수성 표면 처리장치(1)에서는 상기 불소 공급부(30)에 의하여 공급되는 불소 반응물을 플라즈마화하여 피처리물(S)의 표면을 소수성으로 처리하는 것이다. 1, the fluorine supplying unit 30 is installed on the upper side of the high voltage electrode unit 20, and the fluorine reacting unit 30 is disposed in the inner space of the housing 10 and in the direction of the high voltage electrode unit 20, . In the hydrophobic surface treatment apparatus 1 according to the present embodiment, the fluorine reactant supplied by the fluorine supply unit 30 is converted into plasma to treat the surface of the object S to be hydrophobic.

본 실시예에서 상기 불소 공급부(30)는 구체적으로 도 1에 도시된 바와 같이, 불소 저장함(32), 불소 공급원(34), 가열부(38), 캐리어 가스 공급부(36) 및 불소 반응물 공급홀(39)을 포함하여 구성될 수 있다. 상기 불소 저장함(32)은, 상기 하우징(10)의 상면에 결합되어 설치되며, 내부에 일정한 밀폐 공간을 형성하는 구성요소이다. 1, the fluorine supply unit 30 includes a fluorine storage 32, a fluorine supply source 34, a heating unit 38, a carrier gas supply unit 36, (39). The fluorine storage box 32 is connected to an upper surface of the housing 10, and is a constituent element for forming a certain closed space in the inside.

그리고 상기 불소 공급원(34)은 상기 불소 저장함(32) 내부에 채워지며, 상기 가열부(38)에 의하여 가열되면서 불소 반응물을 발산하는 구성요소이다. 본 실시예에서 상기 불소 공급원(34)은 불소 수지로 구성되는 것이 바람직하며, 테프론 수지 등 다양한 불소 수지가 사용될 수 있다. 특히 상기 불소 공급원(34)으로 사용되는 불소 수지는 도 1에 도시된 바와 같이, 일정한 크기를 가지는 불소 수지 입자(33)로 구성되고, 이 불소 수지 입자(33)는 일정한 망 형태의 용기 내에 채워져서 충전이 가능한 구조를 가지는 것이 바람직하다. 물론 상기 불소 저정함(32)에는 불소 수지의 충전 및 공급을 위한 게이트(도면에 미도시)가 별도로 설치된다. The fluorine source 34 is filled in the fluorine reservoir 32 and is a component that emits fluorine reactant while being heated by the heating unit 38. In the present embodiment, the fluorine source 34 is preferably composed of a fluororesin, and various fluororesins such as Teflon resin may be used. Particularly, as shown in Fig. 1, the fluororesin used as the fluorine source 34 is composed of fluororesin particles 33 having a certain size, and the fluororesin particles 33 are filled in a constant mesh- It is preferable to have a structure capable of charging. Of course, a gate (not shown in the drawings) for filling and supplying the fluororesin is separately provided in the fluorine reservoir 32.

다음으로 상기 캐리어 가스 공급부(36)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 불소 저장함(32)의 일 측벽에 설치되며, 상기 불소 저정함(32) 내부로 캐리어 가스를 공급하는 구성요소이다. 본 실시예에서는 기체의 공급 흐름상 상기 캐리어 가스 공급부(36)가 상기 불소 저장함(32)의 상측에 설치되어 상측에서 하측 방향으로 캐리어 가스를 공급하는 것이 바람직하다. 그리고 상기 캐리어 가스 공급부(36)에 의하여 공급되는 캐리어 가스는 질소 기체인 것이 바람직하다. 1, the carrier gas supply unit 36 is installed on a side wall of the fluorine storage box 32 and supplies a carrier gas into the fluorine storage box 32. [ In the present embodiment, it is preferable that the carrier gas supply unit 36 is provided on the upper side of the fluorine storage box 32 to supply the carrier gas from the upper side to the lower side in the supply flow of the gas. The carrier gas supplied by the carrier gas supply unit 36 is preferably nitrogen gas.

다음으로 상기 가열부(38)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 불소 공급함(32)에 설치되며, 상기 불소 공급원(34)을 가열하여 기체 상태의 불소 반응물을 발생시키는 구성요소이다. 상기 불소 반응물은 상기 불소 공급원(34)인 불소 수지가 일정 온도 이상으로 가열되어 발생되는 불소 함유 기체이며, 다양한 화학 구조를 가질 수 있다. 이를 위하여 상기 가열부(38)는 열선 등 상기 질소 저장함(32) 내부를 가열할 수 있는 다양한 구조를 가질 수 있다. 1, the heating unit 38 is installed in the fluorine supply box 32 and generates a gaseous fluorine reactant by heating the fluorine supply source 34. The fluorine reactant is a fluorine-containing gas generated by heating the fluorine resin as the fluorine source (34) at a certain temperature or higher, and may have various chemical structures. For this, the heating unit 38 may have various structures that can heat the inside of the nitrogen storage box 32 such as a hot wire.

다음으로 상기 불소 반응물 공급홀(39)은 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 불소 저장함(32) 하면에 형성되며, 상기 하우징(10) 방향으로 상기 캐리어 가스와 혼합된 불소 반응물을 공급하는 구성요소이다. 즉, 상기 불소 반응물 공급홀(39)은 상기 질소 저장함(32)과 상기 하우징(10) 내부 공간을 연통하는 통로로서, 상측 질소 저장함(32)에서 상기 고전압 전극부(20) 방향으로 캐리어 가스와 함께 질소 반응물을 공급하는 통로 역할을 하는 것이다. 구체적으로 상기 불소 반응물 공급홀(39)은 다수개의 홀로 구성될 수 있다. 1, the fluorine reactant supply hole 39 is formed on the lower surface of the fluorine storage box 32 and supplies a fluorine reactant mixed with the carrier gas in the direction of the housing 10 to be. That is, the fluorine reactant supply hole 39 is a passage for communicating the nitrogen storage box 32 with the inner space of the housing 10, and the fluorine reactant supply hole 39 is formed in the upper nitrogen storage box 32 in the direction of the high voltage electrode unit 20, And serves as a passage for supplying the nitrogen reactant together. Specifically, the fluorine reactant supply hole 39 may be composed of a plurality of holes.

다음으로 상기 플라즈마 분사부(40)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 하우징(10)의 하면에 접지된 상태로 설치되며, 하측 방향으로 발생된 플라즈마를 분사하는 구성요소이다. 본 실시예에서 상기 플라즈마 분사부(40)는 전술한 바와 같이, 접지되어 접지 전극으로서의 역할도 하며, 상기 고전압 전극부(20)와 플라즈마 분사부(40) 사이에서 발생된 플라즈마를 하측 방향 즉, 피처리물(S) 방향으로 분사하는 역할도 한다. Next, as shown in FIG. 1, the plasma spraying unit 40 is installed in a state of being grounded on the lower surface of the housing 10, and is a constituent element for spraying plasma generated in a downward direction. In the present embodiment, the plasma spraying unit 40 is grounded to serve as a ground electrode, and the plasma generated between the high voltage electrode unit 20 and the plasma spraying unit 40 is directed downward, that is, And also injects in the direction of the object S to be processed.

이를 위해 상기 플라즈마 분사부(40)에는 도 3에 도시된 바와 같이, 미세한 직경을 가지는 다수개의 플라즈마 분사홀(44)이 균일하게 배열되어 형성된다. As shown in FIG. 3, the plasma spraying unit 40 includes a plurality of plasma spray holes 44 having a small diameter uniformly arranged.

그리고 본 실시예에서 상기 플라즈마 분사부(40)는 도 1에 도시된 바와 같이, 용이하게 상기 하우징(10)으로부터 착탈가능하게 설치되는 것이 바람직하다. 본 실시예에서 발생되는 플라즈마에는 전술한 바와 같이, 불소 반응물이 포함되어 있으므로, 상기 플라즈마 분사부(40)의 표면 및 플라즈마 분사홀(44) 내면에 미세한 두께로 코팅막이 형성된다. 따라서 상기 플라즈마 분사부(40)를 주기적으로 분해하여 클리닝하는 등의 유지 보수 작업이 필요하므로 용이하게 탈부착할 수 있도록 체결수단(46)을 이용하여 체결할 수 있는 구조를 가지는 것이다. In this embodiment, it is preferable that the plasma spraying unit 40 is detachably installed from the housing 10 as shown in FIG. Since the plasma generated in the present embodiment includes the fluorine reactant as described above, a coating film is formed on the surface of the plasma spraying part 40 and the inner surface of the plasma spraying hole 44 with a small thickness. Therefore, the plasma spraying unit 40 is required to be periodically disassembled and cleaned. Therefore, the plasma spraying unit 40 can be fastened using the fastening means 46 so that the plasma spraying unit 40 can be detached easily.

또한 상기 플라즈마 분사부(40)에는, 도 1, 3에 도시된 바와 같이, 냉각 매체가 순환하는 냉각 유로(50)가 더 설치되며, 상기 냉각 유로(50)에 냉각 매체를 순환시키는 냉각 매체 순환부(도면에 미도시)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 냉각 유로(50)는 상기 플라즈마 분사부(40) 및 고전압 전극부(20)가 플라즈마 발생과정에서 과도하게 가열되는 것을 방지하는 역할을 한다.
1 and 3, a cooling passage 50 through which the cooling medium circulates is further provided in the plasma spraying section 40, and a cooling medium circulation path 50 for circulating the cooling medium in the cooling passage 50 (Not shown in the figure). The cooling passage 50 serves to prevent the plasma spraying unit 40 and the high voltage electrode unit 20 from being heated excessively during plasma generation.

한편 본 실시예에 따른 소수성 표면 처리장치(1)에는, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 불소 공급부(30)와 고전압 전극부(20) 사이에는 상기 불소 공급부(30)에서 공급되는 기체를 균일하게 확산시키는 기체 분배판(70)이 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 기체 분배판(70)은 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 하우징(10)의 내부 공간을 가로지르는 크기의 판넬(72)에 다수개의 기체 통과홀(74)이 균일하게 형성되는 구조를 가질 수 있다. 이 기체 분배판(70)에 의하여 상기 불소 공급부(30)에서 공급되는 기체가 균일하게 확산된 상태에서 상기 고전압 전극부(20) 방향으로 분사되어 균일한 플라즈마를 형성할 수 있는 것이다. 1, in the hydrophobic surface treatment apparatus 1 according to the present embodiment, the gas supplied from the fluorine supply unit 30 is uniformly supplied between the fluorine supply unit 30 and the high voltage electrode unit 20, And a gas distribution plate 70 for spreading the gas distribution plate 70. 2, the gas distribution plate 70 has a structure in which a plurality of gas passing holes 74 are uniformly formed in a panel 72 having a size that crosses the inner space of the housing 10 . The gas distribution plate 70 can spray the gas supplied from the fluorine supply unit 30 in the direction of the high voltage electrode unit 20 in a uniformly diffused state to form a uniform plasma.

1 : 본 발명의 일 실시예에 따른 소수성 표면 처리장치
10 : 하우징 20 : 고전압 전극부
30 : 불소 공급부 40 : 플라즈마 분사부
50 : 냉각 유로 60 : 장착 지그
70 : 기체 분배판 S : 피처리물1: Hydrophobic surface treatment apparatus according to one embodiment of the present invention
10: housing 20: high voltage electrode part
30: Fluorine supply part 40: Plasma spray part
50: cooling channel 60: mounting jig
70: gas distribution plate S: material to be treated

Claims (9)

중앙에 일정한 내부 공간을 가지는 통 형상의 하우징;
상기 하우징의 내부 하측에 설치되며, 고전압이 인가되는 고전압 전극부;
상기 고전압 전극부의 상측에 설치되며, 상기 하우징의 내부 공간과 상기 고전압 전극부 방향으로 불소반응물을 공급하는 불소 공급부;
상기 하우징의 하면에 접지된 상태로 설치되며, 하측 방향으로 발생된 플라즈마를 분사하는 플라즈마 분사부;를 포함하는 소수성 표면 처리장치.A tubular housing having a central interior space;
A high-voltage electrode unit installed inside the housing, the high-voltage electrode unit being applied with a high voltage;
A fluorine supply unit provided above the high voltage electrode unit and supplying a fluorine reactant in the inner space of the housing and the high voltage electrode unit;
And a plasma spraying unit installed in a state of being grounded on a lower surface of the housing and spraying a plasma generated in a downward direction. 제1항에 있어서, 상기 고전압 전극부는,
일정간격 이격되어 나란하게 설치되는 다수개의 봉형 고전압 전극봉으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 소수성 표면 처리장치.The high voltage electrode unit according to claim 1,
And a plurality of bar type high voltage electrode rods arranged at regular intervals and spaced apart from each other. 제2항에 있어서, 상기 봉형 고전압 전극봉은,
내측에 봉형 고전압 전극이 구비되고, 상기 고전압 외면이 일정한 두께의 세라믹으로 이루어진 외부 유전체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 소수성 표면 처리장치. The high-voltage electrode according to claim 2,
Characterized in that the high-voltage outer surface is made of an outer dielectric body made of ceramics having a constant thickness. 제1항에 있어서, 상기 불소 공급부는,
상기 하우징의 상면에 결합되어 설치되며, 내부에 일정한 공간을 형성하는 불소 저장함;
상기 불소 저장함 내부에 채워지는 불소 공급원;
상기 불소 저장함의 일 측벽에 설치되며, 상기 불소 저정함 내부로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부;
상기 불소 공급함에 설치되며, 상기 불소 공급원을 가열하여 불소 반응물을 발생시키는 가열부;
상기 불소 저장함 하면에 형성되며, 상기 하우징 방향으로 상기 캐리어 가스와 혼합된 불소 반응물을 공급하는 불소 반응물 공급홀;을 포함하는 것을 특징으로 하는 소수성 표면 처리장치.The fluorine-containing composition according to claim 1,
A fluorine storage unit coupled to an upper surface of the housing to form a predetermined space therein;
A fluorine source filled in the fluorine storage box;
A carrier gas supply unit installed on one side wall of the fluorine storage box for supplying a carrier gas into the fluorine storage box;
A heating unit installed in the fluorine supply box and heating the fluorine supply source to generate a fluorine reaction product;
And a fluorine reactant supply hole formed at the bottom of the fluorine storage tank for supplying a fluorine reactant mixed with the carrier gas in the direction of the housing. 제4항에 있어서, 상기 불소 공급원은,
불소 수지인 것을 특징으로 하는 소수성 표면 처리장치.The method of claim 4, wherein the fluorine source comprises:
Wherein the hydrophobic surface treatment agent is a fluororesin. 제5항에 있어서, 상기 불소 수지는,
일정한 크기를 가지는 불소 수지 입자인 것을 특징으로 하는 소수성 표면 처리장치.The fluororesin according to claim 5,
Wherein the hydrophobic surface treatment agent is a fluororesin particle having a uniform size. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마 분사부는,
상기 하우징 하면에 착탈가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 소수성 표면 처리장치.The plasma processing apparatus according to claim 1,
Wherein the hydrophobic surface treatment apparatus is detachably mounted on the lower surface of the housing. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마 분사부에는,
냉각 매체가 순환하는 냉각 유로가 더 설치되며, 상기 냉각 유로에 냉각 매체를 순환시키는 냉각 매체 순환부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 소수성 표면 처리장치.The plasma processing apparatus according to claim 1,
Further comprising a cooling flow path through which the cooling medium circulates, and a cooling medium circulation section circulating the cooling medium in the cooling flow path. 제1항에 있어서,
상기 불소 공급부와 고전압 전극부 사이에는 상기 불소 공급부에서 공급되는 기체를 균일하게 확산시키는 기체 분배판이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 소수성 표면 처리장치.The method according to claim 1,
Further comprising a gas distribution plate between the fluorine supply unit and the high voltage electrode unit for uniformly diffusing the gas supplied from the fluorine supply unit.
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