KR20150082402A - Film having cured film formed thereon, aligning material, and retardation material - Google Patents

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Abstract

[과제] 우수한 액정배향성과 밀착성을 구비한 경화막을 표층에 갖는 광학필름을 제공하고, 배향재를 제공하고, 그 배향재를 사용하여 위상차재를 제공한다.
[해결수단] (A) 광배향성기를 갖는 화합물 및 광배향성기를 갖는 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종, (B) 하기 식 X로 표시되는 단위구조를 갖는 폴리머

Figure pct00022

(상기 식 중 R1은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소원자수 1~5의 직쇄 또는 분지상의 알킬기를 나타낸다.)를 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물에 의해, 아크릴필름 상에 경화막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광학필름, 해당 필름을 사용하여 제작되는 액정배향재, 해당 필름을 사용하여 제작되는 위상차재.[PROBLEMS] To provide an optical film having a surface layer of a cured film having excellent liquid crystal alignability and adhesion, to provide an alignment material, and to provide a retardation material using the alignment material.
(A) at least one member selected from the group consisting of a compound having a photo-orientable group and a polymer having a photo-orientable group, (B) a polymer having a unit structure represented by the following formula X
Figure pct00022

(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms). The cured film- A liquid crystal aligning material produced by using the film, and a retarder produced by using the film.

Description

경화막을 형성한 필름, 배향재 및 위상차재{FILM HAVING CURED FILM FORMED THEREON, ALIGNING MATERIAL, AND RETARDATION MATERIAL}[0001] The present invention relates to a film having a cured film, an alignment material, and a phase difference material (e.g., a film having a curved film formed thereon, an alignment material, and a retinal material)

본 발명은, 경화막을 형성한 필름, 배향재 및 위상차재에 관한 것이다.The present invention relates to a film on which a cured film is formed, an alignment material and a phase difference material.

최근, 액정 패널을 이용한 텔레비전 등의 디스플레이의 분야에 있어서는, 고성능화를 목표로 한 시도로, 3D화상을 즐길 수 있는 3D디스플레이의 개발이 진행되고 있다. 3D디스플레이에서는, 예를 들어, 관찰자의 오른쪽 눈에 오른쪽 눈용 화상을 시인시키고, 관찰자의 왼쪽 눈에 왼쪽 눈용 화상을 시인시킴으로써, 입체감이 있는 화상을 지각시킬 수 있다.
BACKGROUND ART [0002] In recent years, in the field of displays such as televisions using liquid crystal panels, development of 3D displays capable of enjoying 3D images has been proceeding with the aim of achieving high performance. In the 3D display, for example, the image for the right eye can be seen on the right eye of the observer, and the image for the left eye can be seen on the observer's left eye.

3D화상을 표시하는 3D디스플레이의 방식에는 다양한 것이 있으며, 전용 안경을 필요로 하지 않는 방식으로는, 렌티큘러렌즈 방식 및 시차 배리어(Parallax Barrier) 방식 등이 알려져 있다.There are various types of 3D display methods for displaying 3D images, and a lenticular lens method and a parallax barrier method are known as methods that do not require dedicated glasses.

그리고, 관찰자가 안경을 착용하고 3D화상을 관찰하는 디스플레이의 방식 중 하나로는, 원편광 안경 방식 등이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1을 참조).
One of the display modes in which an observer wears glasses and observes a 3D image is known as a circular polarizing glasses system or the like (see, for example, Patent Document 1).

원편광 안경 방식의 3D디스플레이의 경우, 액정 패널 등의 화상을 형성하는 표시소자 상에 위상차재가 배치되는 것이 통상이다. 이 위상차재는, 위상차 특성이 상이한 2종류의 위상차 영역이 각각 복수, 규칙적으로 배치되어 있고, 패터닝된 위상차재를 구성하고 있다. 또한, 이하, 본 명세서에 있어서는, 이러한 위상차 특성이 상이한 복수의 위상차 영역을 배치하도록 패턴화된 위상차재를 패턴화 위상차재라고 칭한다.
In the case of a 3D display of a circular polarizing glasses system, a phase difference material is usually arranged on a display element forming an image of a liquid crystal panel or the like. This phase difference material has a plurality of two types of retardation regions with different retardation characteristics and is arranged regularly to constitute a patterned retardation material. Hereinafter, in the present specification, the retardation patterned to arrange a plurality of retardation regions having different retardation characteristics is referred to as a patterned retardation material.

패턴화 위상차재는, 예를 들어, 특허문헌 2에 개시된 바와 같이, 중합성 액정으로 이루어지는 위상차 재료를 광학 패터닝함으로써 제작할 수 있다. 중합성 액정으로 이루어지는 위상차 재료의 광학 패터닝은, 액정 패널의 배향재 형성으로 알려진 광배향기술을 이용한다. 즉, 기재 상에 광배향성의 재료로 이루어지는 도막을 마련하고, 이것에 편광방향이 상이한 2종류의 편광을 조사한다. 그리고, 액정의 배향제어방향이 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재로서 광배향막을 얻는다. 이 광배향막 상에 중합성 액정을 포함하는 용액상의 위상차 재료를 도포하고, 중합성 액정의 배향을 실현한다. 그 후, 배향된 중합성 액정을 경화하여 패턴화 위상차재를 형성한다.
The patterned retardation material can be produced, for example, by optical patterning a retardation material made of a polymerizable liquid crystal as disclosed in Patent Document 2. Optical patterning of a retardation material made of a polymerizable liquid crystal uses a photo-alignment technique known as alignment material formation of a liquid crystal panel. That is, a coating film made of a photo-orientable material is provided on a substrate, and two kinds of polarized light beams having different polarization directions are irradiated thereto. Then, a photo alignment film is obtained as an alignment material having two types of liquid crystal alignment regions in which alignment control directions of liquid crystals are different. A solution phase phase difference material containing a polymerizable liquid crystal is applied on the photo alignment layer to realize alignment of the polymerizable liquid crystal. Thereafter, the oriented polymerizable liquid crystal is cured to form a patterned retardation material.

액정 패널의 광배향 기술을 이용한 배향재 형성에서는, 이용 가능한 광배향성의 재료로서, 측쇄에 신나모일기 및 칼콘기 등의 광이량화 부위를 갖는 아크릴 수지나 폴리이미드 수지 등이 알려져 있다. 이들 수지는, 편광 UV를 조사함으로써, 액정의 배향을 제어하는 성능(이하, 액정배향성이라고도 함)을 나타내는 것이 보고되어 있다(특허문헌 3~특허문헌 5를 참조.).In the alignment reformation using the optical alignment technique of a liquid crystal panel, acrylic resin, polyimide resin, or the like having a photo-dimerization site such as a neomoyl group and a knocker on the side chain is known as a usable photo-orientable material. These resins have been reported to exhibit performance (hereinafter, also referred to as liquid crystal orientation property) for controlling alignment of liquid crystal by irradiating polarized UV (see Patent Documents 3 to 5).

일본특허공개 H10-232365호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-232365 일본특허공개 2005-49865호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-49865 일본특허 제3611342호 명세서Japanese Patent No. 3611342 Specification 일본특허공개 2009-058584호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-058584 일본특허공표 2001-517719호 공보Japanese Patent Publication No. 2001-517719

광배향 기술을 이용하여 3D디스플레이의 패턴화 위상차재를 제조하는 경우, 종래는 유리기재 상에서의 형성이 이루어져 왔다. 그러나, 최근에는 제조비용 저감의 요구에 따라, 아크릴필름, TAC(트리아세틸셀룰로오스)필름, COP(시클로올레핀폴리머)필름 등의 저렴한 수지필름 상에서, 소위 롤투롤 방식에 의한 광학재료의 생산이 요구되고 있으며, 특히, 그 우수한 광학특성과 신뢰성, 제조비용을 저감할 수 있는 이점에서, 수지필름(기재)으로서 아크릴필름을 이용하는 것이 요구되고 있다.In the case of producing a patterned retardation material of a 3D display using photo-alignment technology, conventionally, formation on a glass substrate has been made. However, recently, production of an optical material by a so-called roll-to-roll method is required on an inexpensive resin film such as an acrylic film, a TAC (triacetylcellulose) film and a COP (cycloolefin polymer) In particular, it is required to use an acrylic film as a resin film (base material) in view of its advantage of being able to reduce its excellent optical characteristics, reliability and manufacturing cost.

그러나, 상기 서술한 바와 같은 종래 재료로 형성된 광배향막에서는, 아크릴필름에 대한 밀착성이 약하고, 이 때문에 아크릴필름기재를 이용하여 형성된 고신뢰의 패턴화 위상차재를 제조하는 것은 곤란하였다.However, in the photo alignment film formed from the conventional material as described above, the adhesion to the acrylic film is weak, and therefore, it is difficult to produce a patterned retardation material with high reliability, which is formed using an acrylic film substrate.

따라서, 아크릴필름기재를 이용하면서 기재와의 밀착성이 우수한 고신뢰의 위상차재를 형성할 수 있고, 광배향 기술에 적용가능한 배향재가 요구되고 있다.
Accordingly, there is a demand for an alignment material which can form a highly reliable retardation material having excellent adhesion to a substrate while using an acrylic film substrate, and is applicable to photo-alignment technology.

본 발명은, 이상의 지견이나 검토결과에 기초하여 이루어진 것이다. 즉, 본 발명의 목적은, 그 표면에 기재와의 밀착성이 우수한 경화막을 갖는 아크릴필름으로서, 이 경화막이 고감도로 중합성 액정을 배향시킬 수 있는 배향재로서 사용할 수 있는 광학필름을 제공하는 것이다.The present invention is based on the above findings and the results of the examination. That is, an object of the present invention is to provide an acrylic film having a cured film having excellent adhesion to a substrate on its surface, and which can be used as an alignment material capable of orienting the polymerizable liquid crystal with high sensitivity.

그리고, 본 발명의 다른 목적은, 그 배향재를 구비하는 광학필름을 이용하여 형성된 위상차재를 제공하는 것에 있다.Another object of the present invention is to provide a phase difference material formed using an optical film having the alignment material.

본 발명의 다른 목적 및 이점은, 이하의 기재로부터 명백해질 것이다.Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

본 발명의 제1 태양은, 경화막을 아크릴필름 상에 갖는 광학필름으로서, 이 경화막은,A first aspect of the present invention is an optical film having a cured film on an acrylic film,

(A) 광배향성기를 갖는 화합물 및 광배향성기를 갖는 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종,(A) at least one member selected from the group consisting of a compound having a photo-orientable group and a polymer having a photo-

(B) 하기 식 X로 표시되는 단위구조를 갖는 폴리머(B) a polymer having a unit structure represented by the following formula X

를 함유하는 경화막 형성 조성물에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광학필름에 관한 것이다.
And a cured film-forming composition containing the cured film-forming composition.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001

Figure pct00001

(상기 식 중, R1은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소원자수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지상의 알킬기를 나타낸다.)(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)

본 발명의 제1 태양에 있어서, (A)성분의 광배향성기는 광이량화 또는 광이성화하는 구조의 관능기인 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the photo-orientable group of the component (A) is a functional group having a structure of photo-dimerization or photoisomerization.

본 발명의 제1 태양에 있어서, (A)성분의 광배향성기는 신나모일기 또는 아조벤젠 구조의 기인 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the photo-orientable group of the component (A) is a group having a cinnamoyl group or an azobenzene structure.

본 발명의 제1 태양에 있어서, (A)성분이 광배향성기 외에, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기 중 어느 하나를 갖는 화합물 또는 폴리머이며, 그리고 상기 경화막 형성 조성물은 추가로 (C) (A)성분 또는 (B)성분, 혹은 이들 쌍방의 성분과 반응하는 가교제를 함유하는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, the component (A) is a compound or polymer having any one of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group in addition to the photo-alignable group, and the cured film- C) a crosslinking agent which reacts with the component (A) or the component (B), or both of these components.

본 발명의 제1 태양에 있어서, (B)성분이 상기 식(X) 중, R1 및 R2가 메틸기를 나타내는 구조단위를 갖는 폴리머인 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, the component (B) is preferably a polymer having a structural unit in which R 1 and R 2 represent a methyl group in the formula (X).

본 발명의 제1 태양에 있어서, (B)성분에 있어서의 식(X)로 표시되는 단위구조의 존재비율이, 이 폴리머의 전체 질량에 기초하여 40 내지 100질량%인 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, the presence ratio of the unit structure represented by the formula (X) in the component (B) is preferably 40 to 100% by mass based on the total mass of the polymer.

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 경화막 형성 조성물은, (A)성분과 (B)성분의 함유비가 질량비로 5:95 내지 60:40인 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the content of the component (A) and the component (B) in the cured film forming composition is in a mass ratio of 5:95 to 60:40.

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 경화막 형성 조성물은, (A)성분 및 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 5질량부 내지 400질량부의 (C)성분을 함유하는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, the cured film-forming composition preferably contains 5 to 400 parts by mass of the component (C) based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) Do.

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 경화막을 액정배향막으로서 이용하는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable to use the cured film as a liquid crystal alignment film.

본 발명의 제2 태양은, 본 발명의 제1 태양의 광학필름을 사용하여 형성되는 액정배향재에 관한 것이다.A second aspect of the present invention relates to a liquid crystal alignment material formed using the optical film of the first aspect of the present invention.

본 발명의 제3 태양은, 본 발명의 제1 태양의 광학필름을 사용하여 형성되는 위상차재에 관한 것이다.A third aspect of the present invention relates to a retardation material formed using the optical film of the first aspect of the present invention.

본 발명의 제1 태양에 따르면, 우수한 액정배향성을 가지고, 기재와의 밀착성이 우수한 경화막을 갖는 광학필름을 제공할 수 있다.According to the first aspect of the present invention, it is possible to provide an optical film having a cured film having excellent liquid crystal alignability and excellent adhesion to a substrate.

본 발명의 제2 태양에 따르면, 액정배향성이 우수하고, 기재와의 밀착성이 우수한 액정배향막을 갖는 배향재를 제공할 수 있다.According to the second aspect of the present invention, it is possible to provide an alignment material having a liquid crystal alignment film excellent in liquid crystal alignability and excellent in adhesion to a substrate.

본 발명의 제3 태양에 따르면, 고정밀도(高精度)의 광학 패터닝이 가능하고, 기재 상에 형성된 액정배향막과의 밀착성이 우수한 위상차재를 제공할 수 있다.According to the third aspect of the present invention, it is possible to provide a high-precision optical patterning and a phase difference material excellent in adhesion to a liquid crystal alignment film formed on a substrate.

상기 서술한 바와 같이, 우수한 패턴화 위상차재를 제조하기 위하여, 아크릴필름기재를 이용하여 제조되고, 필름 표면에 액정배향막으로서 기능하는 경화막을 갖고, 기재필름과의 밀착성이 우수한 배향재가 요구되고 있다.
As described above, in order to produce an excellent patterned retardation material, there is a demand for an alignment material which is produced by using an acrylic film base material and has a cured film functioning as a liquid crystal alignment film on the film surface and excellent in adhesion with a base film.

본 발명자는, 상기 서술한 요구에 부응하기 위하여, 예의검토를 행한 결과, 특정 조성을 갖는 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막이, 편광노광에 의해 액정배향을 규제하는 액정배향성을 나타내어 배향재로서의 이용이 가능한 것을 발견하였다. 또한, 본 발명자는, 그 특정 조성을 갖는 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막이, 기재로서 이용되는 아크릴필름과의 사이에서, 우수한 밀착성을 나타내는 것을 발견하였다. 즉, 본 발명의 광학필름은, 특정 조성을 갖는 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막을 아크릴필름 표면에 갖는 것으로서, 기재와 액정배향막으로서 기능하는 경화막과의 밀착성이 우수한 광학필름, 나아가서는 이 액정배향막 상에 형성되는 중합성 액정층과의 밀착성이 우수한 광학필름으로서, 다양한 광학용도로 이용할 수 있다.
The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to meet the above-mentioned demand. As a result, the inventors have found that a cured film obtained from a cured film-forming composition having a specific composition exhibits liquid crystal alignability that restricts liquid crystal alignment by polarized light exposure and is usable as an alignment material . Further, the present inventors have found that a cured film obtained from a cured film-forming composition having the specific composition exhibits excellent adhesion with an acrylic film used as a substrate. That is, the optical film of the present invention is an optical film having a cured film obtained from a cured film-forming composition having a specific composition on the surface of an acrylic film and having excellent adhesion between a substrate and a cured film functioning as a liquid crystal alignment film, And can be used for various optical applications.

이하에 있어서, 경화막을 형성한 본 발명의 광학필름에 대하여, 성분 등의 구체예를 들면서 상세하게 설명한다. 그리고, 액정배향막으로서 기능하는 경화막이 형성된 광학필름, 그리고, 이 광학필름을 이용하여 형성되는 배향재 및 위상차재 및 액정표시소자 등에 대하여 설명한다.
Hereinafter, the optical film of the present invention in which a cured film is formed will be described in detail with specific examples of components and the like. An optical film on which a cured film functioning as a liquid crystal alignment film is formed, an alignment material, a phase difference material, and a liquid crystal display element formed using the optical film will be described.

<경화막 형성 조성물>&Lt; Cured film forming composition >

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물은, (A) 광배향성분, (B) 아크릴산에스테르 또는 메타크릴산에스테르를 단위구조로서 갖는 폴리머를 함유한다. 또한, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물은, (A)성분, (B)성분에 더하여, (C)성분으로서 가교제를 함유할 수 있다. 그리고, (A)성분, (B)성분, 및 (C)성분에 더하여, (D)성분으로서, (C)성분과 열가교 가능한 기와 (메트)아크릴기를 갖는 화합물인 밀착성분을 함유할 수 있다. 또한, 이들에 더하여 (E)성분으로서 가교촉매를 함유할 수 있다. 또한, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있다. 또한, 용제를 함유할 수 있다.The composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention contains a polymer having (A) a photo-alignment component and (B) an acrylate ester or a methacrylate ester as a unit structure. The composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention may contain a crosslinking agent as the component (C) in addition to the component (A) and the component (B). In addition to the component (A), the component (B), and the component (C), the component (D) may contain a cohesive component that is a compound having a thermally crosslinkable group and a (meth) . In addition to these, a crosslinking catalyst may be contained as the component (E). In addition, other additives may be added as long as the effect of the present invention is not impaired. Further, it may contain a solvent.

이하, 각 성분의 상세를 설명한다.
Hereinafter, the details of each component will be described.

[(A)성분][Component (A)] [

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 경화막 형성 조성물에 있어서의 (A)성분은, 광배향성기를 갖는 화합물 및 광배향성기를 갖는 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들의 혼합물이다. 즉 (A)성분은, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막에 광배향성을 부여하는 성분이며, 본 명세서에 있어서, (A)성분을 광배향 성분이라고도 칭한다.
The component (A) in the cured film-forming composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention is preferably at least one selected from the group consisting of a compound having a photo-aligning group and a polymer having a photo- &Lt; / RTI &gt; That is, the component (A) is a component that imparts optical alignment properties to the cured film on the surface of the optical film of the present invention, and in this specification, the component (A) is also referred to as a photo alignment component.

(A)성분이 저분자량의 화합물인 경우의 상세를 이하에 설명한다.Details of the case where the component (A) is a low molecular weight compound will be described below.

(A)성분이 저분자량의 화합물인 경우, 베이스가 되는 후술의 (B)성분의 폴리머에 비해 저분자량의 광배향성분이 된다.
When the component (A) is a compound having a low molecular weight, it is a photo-oriented component having a lower molecular weight than the polymer of the component (B) described below which becomes a base.

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 있어서, (A)성분이 저분자량의 화합물인 경우, (A)성분은 광배향성기를 갖는 화합물로서, 나아가 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나의 기를 갖는 화합물로 할 수 있다.When the component (A) is a compound having a low molecular weight in the composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention, the component (A) is a compound having a photo-orientable group, and further a hydroxyl group, And an alkoxysilyl group, may be used.

또한, 본 발명에 있어서, 광배향성기란, 일반적으로 광조사에 의해 배향하는 성질을 발휘하는 관능기를 가리키고, 대표적으로는 광이량화 또는 광이성화하는 구조부위의 관능기를 말한다. 기타 광배향성기로는, 예를 들어 광프리스(光フリ―ス; photo Fries) 전위반응을 일으키는 관능기(예시 화합물: 안식향산에스테르 화합물 등), 광분해반응을 일으키는 기(예시 화합물; 시클로부탄환 등) 등을 들 수 있다.
In the present invention, the photo-orientable group generally refers to a functional group that exhibits a property of being oriented by light irradiation, and typically refers to a functional group at a structure site where the photo-dimerization or photoisomerization occurs. Examples of other photo-orientable groups include functional groups (exemplified compounds: benzoic acid ester compounds and the like) that cause a potential reaction, photo-cleavable groups (examples: cyclobutane, etc.) .

(A)성분의 화합물이 광배향성기로서 가질 수 있는 광이량화하는 구조부위란, 광조사에 의해 이량체를 형성하는 부위이며, 그 구체예로는, 신나모일기, 칼콘기, 쿠마린기, 안트라센기 등을 들 수 있다. 이들 중 가시광 영역에서의 투명성의 높이, 광이량화 반응성의 높이로부터 신나모일기가 바람직하다.
The structural moiety in which the compound of the component (A) has a light-quantifiable light quantifiable as the photo-orientable group is a moiety that forms a dimer by light irradiation. Specific examples thereof include a nenamoyl group, a carboxy group, Anthracene group and the like. Among them, a cinnamoyl group is preferable from the height of transparency in the visible light region and the height of the light dimerization reactivity.

또한, (A)성분의 화합물이 광배향성기로서 가질 수 있는 광이성화하는 구조부위란, 광조사에 의해 시스체와 트랜스체로 변하는 구조부위를 가리키고, 그 구체예로는 아조벤젠 구조, 스틸벤 구조 등으로 이루어진 부위를 들 수 있다. 이들 중 반응성의 높이로부터 아조벤젠 구조가 바람직하다.
The photo-isomerizing structural moiety that the compound of component (A) may have as a photo-orientable group refers to a structural moiety that changes into a cis structure and a trans-isomer by light irradiation. Specific examples thereof include azobenzene structure, As shown in Fig. Among them, the azobenzene structure is preferable from the height of the reactivity.

광배향성기와 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나의 기를 갖는 화합물은, 예를 들어, 하기 식으로 표시되는 화합물이다.
The compound having a photo-oriented group and one group selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group is, for example, a compound represented by the following formula.

[화학식 2](2)

Figure pct00002

Figure pct00002

상기 식 중, A1과 A2는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다.
In the formula, A 1 and A 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.

X11은 단결합, 에테르결합, 에스테르결합, 아미드결합, 우레탄결합, 아미노결합 또는 이들 조합으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 결합, 혹은 이 1종 또는 2종 이상의 결합을 개재하여, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬렌, 페닐렌, 비페닐렌 또는 이들 조합으로부터 선택되는 1 내지 3의 치환기가 결합하여 이루어지는 구조로서, 상기 치환기는 상기 결합을 개재하여 각각 복수개가 연결되어 이루어진 구조일 수도 있다.X 11 represents a single bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urethane bond, an amino bond, or a combination of two or more kinds selected from these combinations, Or a combination of 1 to 3 substituents selected from the group consisting of alkylene, phenylene, biphenylene, and combinations thereof. The substituent may be a structure in which a plurality of substituents are connected to each other via the bond.

X12는 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기, 비페닐기 또는 시클로헥실기를 나타낸다. 이때, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기, 비페닐기 및 시클로헥실기는, 공유결합, 에테르결합, 에스테르결합, 아미드결합 또는 요소결합을 개재하여 2종 이상의 기가 결합할 수도 있다.X 12 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group or a cyclohexyl group. At this time, the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, the phenyl group, the biphenyl group, and the cyclohexyl group may be bonded with two or more groups via a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond or an urea bond.

X13은 하이드록시기, 메르캅토기, 탄소원자수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소원자수 1 내지 10의 알킬티오기, 페녹시기, 비페닐옥시기 또는 페닐기를 나타낸다.X 13 represents a hydroxyl group, a mercapto group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, a phenoxy group, a biphenyloxy group or a phenyl group.

X14는 단결합, 탄소원자수 1 내지 20의 알킬렌기, 2가의 방향족환기, 또는, 2가의 지방족환기를 나타낸다. 여기서 탄소원자수 1 내지 20의 알킬렌기는 분지상일 수도 직쇄상일 수도 있다.X 14 represents a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent aromatic ring group, or a divalent aliphatic ring group. Here, the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms may be branched or straight-chain.

X15는 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 또는 알콕시실릴기를 나타낸다.X 15 represents a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group or an alkoxysilyl group.

X는 단결합, 산소원자 또는 황원자를 나타낸다.
X represents a single bond, an oxygen atom or a sulfur atom.

또한, 이들 치환기에 있어서 벤젠환이 포함되는 경우, 해당 벤젠환은, 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 탄소원자수 1 내지 4의 알콕시기, 할로겐원자, 트리플루오로메틸기 및 시아노기로부터 선택되는 동일 또는 상이한 1 또는 복수의 치환기에 의해 치환되어 있을 수도 있다.
When the substituent contains a benzene ring, the benzene ring may be the same or different 1 or 2 selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a trifluoromethyl group and a cyano group. Or may be substituted by a plurality of substituents.

상기 식 중, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17 및 R18은, 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 탄소원자수 1 내지 4의 알콕시기, 할로겐원자, 트리플루오로메틸기 또는 시아노기를 나타낸다.
Wherein R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms A halogen atom, a trifluoromethyl group or a cyano group.

(A)성분인 광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물의 구체예로서, 예를 들어 상기 식[A11]~[A15]로 표시되는 화합물 그리고 이 식 이외의 화합물로는, 예를 들어, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산메틸에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산메틸에스테르, 4-하이드록시계피산메틸에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산에틸에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산에틸에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산에틸에스테르, 4-하이드록시계피산에틸에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산페닐에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산페닐에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산페닐에스테르, 4-하이드록시계피산페닐에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산비페닐에스테르, 4-하이드록시계피산비페닐에스테르, 계피산8-하이드로키옥틸에스테르(けい皮酸8-ヒドロキオクチルエステル), 계피산6-하이드록시헥실에스테르, 계피산4-하이드록시부틸에스테르, 계피산3-하이드록시프로필에스테르, 계피산2-하이드록시에틸에스테르, 계피산하이드록시메틸에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)아조벤젠, 4-(6-하이드록시헥실옥시)아조벤젠, 4-(4-하이드록시부틸옥시)아조벤젠, 4-(3-하이드록시프로필옥시)아조벤젠, 4-(2-하이드록시에틸옥시)아조벤젠, 4-하이드록시메틸옥시아조벤젠, 4-하이드록시아조벤젠, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)칼콘, 4-(6-하이드록시헥실옥시)칼콘, 4-(4-하이드록시부틸옥시)칼콘, 4-(3-하이드록시프로필옥시)칼콘, 4-(2-하이드록시에틸옥시)칼콘, 4-하이드록시메틸옥시칼콘, 4-하이드록시칼콘, 4'-(8-하이드록시옥틸옥시)칼콘, 4'-(6-하이드록시헥실옥시)칼콘, 4'-(4-하이드록시부틸옥시)칼콘, 4'-(3-하이드록시프로필옥시)칼콘, 4'-(2-하이드록시에틸옥시)칼콘, 4'-하이드록시메틸옥시칼콘, 4'-하이드록시칼콘, 7-(8-하이드록시옥틸옥시)쿠마린, 7-(6-하이드록시헥실옥시)쿠마린, 7-(4-하이드록시부틸옥시)쿠마린, 7-(3-하이드록시프로필옥시)쿠마린, 7-(2-하이드록시에틸옥시)쿠마린, 7-하이드록시메틸옥시쿠마린, 7-하이드록시쿠마린, 6-하이드록시옥틸옥시쿠마린, 6-하이드록시헥실옥시쿠마린, 6-(4-하이드록시부틸옥시)쿠마린, 6-(3-하이드록시프로필옥시)쿠마린, 6-(2-하이드록시에틸옥시)쿠마린, 6-하이드록시메틸옥시쿠마린, 6-하이드록시쿠마린, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-벤조일계피산8-하이드로키옥틸에스테르(4-ベンゾイルけい皮酸8-ヒドロキオクチルエステル), 4-벤조일계피산6-하이드록시헥실에스테르, 4-벤조일계피산4-하이드록시부틸에스테르, 4-벤조일계피산3-하이드록시프로필에스테르, 4-벤조일계피산2-하이드록시에틸에스테르, 4-벤조일계피산하이드록시메틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]칼콘, 4-(4-하이드록시메틸옥시벤조일)칼콘, 4-(4-하이드록시벤조일)칼콘, 4'-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]칼콘, 4'-(4-하이드록시메틸옥시벤조일)칼콘, 4'-(4-하이드록시벤조일)칼콘 등을 들 수 있다.
As specific examples of the compound having a photo-orientable group and a hydroxy group, which are the component (A), for example, the compounds represented by the above formulas [A11] to [A15] (4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (3-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- ) Methyl ester of cinnamic acid, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid methyl ester, 4- , Ethyl 4- (3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (2-hydroxybutyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- Hydroxyethyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid ethyl ester , 4-hydroxycinnamic acid ethyl ester, 4- (8-hydroxyoctyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4- (4-hydroxybutyloxy) Esters, phenyl ester of 4- (3-hydroxypropyloxy) cinnamate, phenyl ester of 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamate, phenyl ester of 4-hydroxymethyloxy cinnamate, phenyl ester of 4- (4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4- (3-hydroxyoctyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4- Hydroxypropyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid biphenyl ester, 4-hydroxy cinnamic acid biphenyl ester, cinnamic acid 8- Ester (8-hydroxycutyl esters of cinnamic acid ), Cinnamic acid 6-hydroxyhexyl ester, cinnamic acid 4-hydroxybutyl ester, cinnamic acid 3-hydroxypropyl ester, cinnamic acid 2-hydroxyethyl ester, cinnamic acid hydroxymethyl ester, 4- (8-hydroxyoctyloxy) Azobenzene, 4- (3-hydroxypropyloxy) azobenzene, 4- (2-hydroxyethyloxy) azobenzene, 4- , 4- (hydroxyoctyloxy) chalcone, 4- (6-hydroxyhexyloxy) chalcone, 4- (4-hydroxybutyloxy) 4-hydroxycalcone, 4'- (8-hydroxyoctyloxy) chalcone, 4- (3-hydroxypropyloxy) chalcone, 4- ) Chalcone, 4 '- (6-hydroxyhexyloxy) chalcone, 4' - (4-hydroxybutyloxy) (8-hydroxyoctyloxy) coumarin, 7- (6-hydroxyhexyloxy) coumarin, 7-hydroxyoxycyclohexane, 7- (3-hydroxypropyloxy) coumarin, 7- (2-hydroxyethyloxy) coumarin, 7-hydroxymethyloxycoumarin, 7-hydroxycoumarin, 6- (4-hydroxybutyloxy) coumarin, 6- (3-hydroxypropyloxy) coumarin, 6- (2-hydroxyethyloxy) coumarin, 6- Benzoyl] benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4- (6-hydroxyhexyloxy) benzoyl] cinnamic acid, Methyl ester, methyl ester of 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4- (3- hydroxypropyloxy) benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4- Roxy Benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4-hydroxybenzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl ] Ethyl cinnamate, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4- Benzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- 4-hydroxybenzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] cinnamic acid tertiary butyl ester, 4- [4- (6-hydroxyhexyloxy) benzoyl] cinnamic acid tertiary Butyl ester, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid tert-butyl ester, 4- [4- (3- hydroxypropyloxy) Butyl ester of 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid, tert-butyl ester of 4- [4- hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid, 4- [4- Benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- (6-hydroxyhexyloxy) benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- (4- hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, Benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxybenzoyl] Phenyl ester, 4- [4-hydroxybenzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4- (6-hydroxyhexyloxy) Benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4- (3- hydroxypropyloxy) Hydroxymethylbenzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [ Hydroxyoctyl ester of 4-benzoyl cinnamic acid, 4-hydroxyoctyl ester of 4-benzoyl cinnamic acid, 4-hydroxyoctyl ester of 4-benzoyl cinnamic acid, Benzoyl cinnamic acid hydroxymethyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] chalcone, 4- [2- 4- [4- (3-hydroxypropyloxy) benzoyl] chalcone, 4 [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] 4- (4-hydroxymethylbenzoyl) chalcone, 4- (4-hydroxybenzoyl) 4 - [4- (4-hydroxyphenoxy) benzoyl] chalcone, 4 '- [4- (6-hydroxyhexyloxy) benzoyl] Benzoyl] chalcone, 4'- [4- (3-hydroxypropyloxy) benzoyl] chalcone, 4 '- [4- (2- hydroxyethyloxy) 4-hydroxybenzoyl) chalcone, and 4 '- (4-hydroxybenzoyl) chalcone.

(A)성분인, 광배향성기 및 카르복실기를 갖는 화합물의 구체예로는, 계피산, 페룰산, 4-메톡시계피산, 3,4-디메톡시계피산, 쿠마린-3-카르본산, 4-(N,N-디메틸아미노)계피산 등을 들 수 있다.
Specific examples of the compound having a photo-aligning group and a carboxyl group as the component (A) include cinnamic acid, ferulic acid, 4-methoxy cinnamic acid, 3,4-dimethoxy cinnamic acid, coumarin- , N-dimethylamino) cinnamic acid, and the like.

(A)성분인, 광배향성기 및 아미노기를 갖는 화합물의 구체예로는, 4-아미노계피산메틸에스테르, 4-아미노계피산에틸에스테르, 3-아미노계피산메틸에스테르, 3-아미노계피산에틸에스테르 등을 들 수 있다.
Specific examples of the compound having a photo-aligning group and an amino group as the component (A) include 4-amino cinnamic acid methyl ester, 4-amino cinnamic acid ethyl ester, 3-amino cinnamic acid methyl ester and 3-amino cinnamic acid ethyl ester. .

(A)성분인, 광배향성기와 알콕시실릴기를 갖는 화합물의 구체예로는, 4-(3-트리메톡시실릴프로필옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리에톡시실릴프로필옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리메톡시실릴프로필옥시)계피산에틸에스테르, 4-(3-트리에톡시실릴프로필옥시)계피산에틸에스테르, 4-(3-트리메톡시실릴헥실옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리에톡시실릴헥실옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리메톡시실릴헥실옥시)계피산에틸에스테르 및 4-(3-트리에톡시실릴헥실옥시)계피산에틸에스테르 등을 들 수 있다.
Specific examples of the compound having a photo-orientable group and an alkoxysilyl group as the component (A) include methyl 4- (3-trimethoxysilylpropyloxy) cinnamate, methyl 4- (3-triethoxysilylpropyloxy) Ester, 4- (3-trimethoxysilylpropyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (3-triethoxysilylpropyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (3-trimethoxysilylhexyloxy) cinnamic acid methyl ester , Ethyl 4- (3-triethoxysilylhexyloxy) cinnamate, ethyl 4- (3-trimethoxysilylhexyloxy) cinnamate and 4- (3-triethoxysilylhexyloxy) cinnamate Esters and the like.

(A)성분인 저분자량의 광배향성분은, 이상의 구체예를 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.
Examples of the low molecular weight photo-alignment component as the component (A) include the specific examples described above, but are not limited thereto.

그 중에서도, (A)성분인 저분자량의 광배향성분은, 광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물인 것이 특히 바람직하다. 광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물은, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막에 광배향성을 부여함과 함께, 배향재로서 이용된 경우에 중합성 액정의 층과의 밀착성의 향상에 있어서, 특히 유효해진다.
Among them, the photo-alignment component having a low molecular weight as the component (A) is particularly preferably a compound having a photo-aligning group and a hydroxy group. The compound having a photo-aligning group and a hydroxy group is preferably used for imparting photo-alignment property to the cured film on the surface of the optical film of the present invention and for improving the adhesion with the layer of the polymerizable liquid crystal So that it becomes particularly effective.

또한, (A)성분인 저분자량의 광배향성분이, 광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물인 경우, (A)성분으로서, 분자 내에, 광배향성기를 2개 이상 및/또는 하이드록시기를 2개 이상 갖는 화합물을 이용하는 것이 가능하다. 구체적으로는, (A)성분으로서, 분자 내에 1개의 하이드록시기와 함께 2개 이상의 광배향성기를 갖는 화합물이나, 분자 내에 1개의 광배향성기와 함께 2개 이상의 하이드록시기를 갖는 화합물이나, 분자 내에 광배향성기와 하이드록시기를 각각 2개 이상 갖는 화합물을 이용하는 것이 가능하다. 예를 들어, 분자 내에 광배향성기와 하이드록시기를 각각 2개 이상 갖는 화합물에 대해서는, 하기 식으로 표시되는 화합물을 예시할 수 있다.
When the photo-aligned component having a low molecular weight as the component (A) is a compound having a photo-orientable group and a hydroxyl group, the component (A) may contain two or more photo-aligning groups and / or two or more photo- Can be used. Specifically, it is preferable to use, as the component (A), a compound having two or more photo-orientable groups in addition to one hydroxy group in the molecule, a compound having two or more hydroxy groups in addition to one photo- It is possible to use a compound having two or more tie and hydroxy groups. For example, for compounds having two or more photo-orientable groups and hydroxy groups in the molecule, the compounds represented by the following formulas can be exemplified.

[화학식 3](3)

Figure pct00003

Figure pct00003

이러한 화합물을 적절히 선택함으로써, (A)성분인 저분자량의 광배향성분의 분자량을 원하는 범위의 값으로 제어하는 것이 가능해진다. 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물을 이용하여, 본 실시형태의 경화막을 형성하기 위해서는, 가열경화가 필요하지만, 그 가열을 행할 때에, (A)성분인 저분자량의 광배향성분이 승화하는 것을 억제할 수 있다.
By appropriately selecting such a compound, it becomes possible to control the molecular weight of the photo-alignment component having a low molecular weight, which is the component (A), to a value within a desired range. In order to form the cured film of the present embodiment using the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention, heat curing is required, but when heating is performed, It is possible to suppress the sublimation of the oriented component.

또한, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 있어서의 (A)성분의 화합물로는, 광배향성기와 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기 중 어느 하나를 갖는, 복수종의 화합물의 혼합물일 수도 있다.
In the composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention, the compound of component (A) may be a compound having a photo-orientable group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, and an alkoxysilyl group It may be a mixture of compounds of the species.

이어서 (A)성분이 폴리머, 즉, 고분자량의 중합체인 경우의 상세를 이하에 설명한다.Next, details of the case where the component (A) is a polymer, that is, a polymer having a high molecular weight will be described below.

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 함유되는 (A)성분이 고분자량의 중합체인 경우, (A)성분은 광배향성기를 갖는 중합체로서, 즉 광배향성기로서 광이량화 또는 광이성화하는 구조부위의 관능기를 갖는 중합체, 특히 적어도 광이량화 부위를 갖는 아크릴 공중합체인 것이 바람직하다. 또한, 광이량화 부위에 더하여, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나의 기(이하, 이들 기를 포함하여 열가교 부위라고도 함)를 갖는 아크릴 공중합체인 것이 바람직하다.
When the component (A) contained in the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention is a high molecular weight polymer, the component (A) is a polymer having a photo-orientable group, Or a polymer having a functional group at a structural site for photoisomerization, particularly an acrylic copolymer having at least a light dimerization site. In addition to the photo-dimerization site, an acrylic copolymer having one group selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group (hereinafter also referred to as a thermal crosslinking site including these groups) is preferable.

본 발명에 있어서, 아크릴 공중합체란, 아크릴산에스테르, 메타크릴산에스테르, 스티렌 등의 불포화이중결합을 갖는 모노머를 중합하여 얻어지는 공중합체를 말한다.In the present invention, the acrylic copolymer refers to a copolymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond such as an acrylate ester, a methacrylate ester, or styrene.

(A)성분의 광이량화 부위 및 열가교 부위를 갖는 아크릴 공중합체(이하, 특정 공중합체라고도 함)는, 이러한 구조를 갖는 아크릴 공중합체이면 되고, 아크릴 공중합체를 구성하는 고분자의 주쇄의 골격 및 측쇄의 종류 등에 대하여 특별히 한정되지 않는다.
(Hereinafter also referred to as a specific copolymer) having a photo-dimerization site and a thermal crosslinking site of the component (A) may be any acrylic copolymer having such a structure, and the backbone skeleton of the polymer constituting the acrylic copolymer And the kind of the side chain.

광이량화 부위로는, 신나모일기, 칼콘기, 쿠마린기, 안트라센기 등을 들 수 있다. 이들 중 가시광 영역에서의 투명성의 높이, 및 광이량화 반응성의 높이로부터 신나모일기가 바람직하다. 보다 바람직한 신나모일기 및 신나모일 구조를 포함하는 치환기로는 하기 식[1] 또는 식[2]로 표시되는 구조를 들 수 있다. 또한 본 명세서에 있어서, 신나모일기에 있어서의 벤젠환이 나프탈렌환인 기에 대해서도 「신나모일기」 및 「신나모일 구조를 포함하는 치환기」에 포함하고 있다.
Examples of the light dimerization site include a cinnamoyl group, a chalcone group, a coumarin group, and an anthracene group. Among them, a cinnamoyl group is preferable from the height of transparency in the visible light region and the height of the light dimerization reactivity. More preferred examples of the substituent containing a cinnamoyl group and a cinnamoyl structure include a structure represented by the following formula [1] or [2]. In the present specification, the group in which the benzene ring in the nenamoyl group is a naphthalene group is also included in the &quot; nenamoyl group &quot; and the &quot; substituent group having a cinnamoyl structure &quot;.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pct00004

Figure pct00004

상기 식[1] 중, X1은 수소원자, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기 또는 비페닐기를 나타낸다. 이때, 페닐기 및 비페닐기는 할로겐원자 및 시아노기 중 어느 하나에 의해 치환되어 있을 수도 있다.In the formula [1], X 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group or a biphenyl group. At this time, the phenyl group and the biphenyl group may be substituted by any one of a halogen atom and a cyano group.

상기 식[2] 중, X2는 수소원자, 시아노기, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기, 비페닐기, 시클로헥실기를 나타낸다. 이때, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기, 비페닐기, 시클로헥실기는, 공유결합, 에테르결합, 에스테르결합, 아미드결합, 요소결합을 개재하여 복수종이 결합할 수도 있다.
In the formula [2], X 2 represents a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group. At this time, the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, the phenyl group, the biphenyl group, and the cyclohexyl group may be bonded to each other via a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond or an urea bond.

상기 식[1] 및 식[2] 중, A는 식[A1], 식[A2], 식[A3], 식[A4], 식[A5] 및 식[A6] 중 어느 하나를 나타낸다.
In the above formulas [1] and [2], A represents any one of the formula [A1], the formula [A2], the formula [A3], the formula [A4], the formula [A5] and the formula [A6].

상기 식[A1], 식[A2], 식[A3], 식[A4], 식[A5] 및 식[A6] 중, R31, R32, R33, R34, R35, R36, R37 및 R38은, 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 탄소원자수 1 내지 4의 알콕시기, 할로겐원자, 트리플루오로메틸기 또는 시아노기를 나타낸다.
In the formula [A1], formula [A2], formula [A3], formula [A4], formula [A5] and formula [A6], R 31, R 32, R 33, R 34, R 35, R 36, R 37 and R 38 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a trifluoromethyl group or a cyano group.

열가교 부위는, 가열에 의해 (C)성분인 가교제와 결합하는 부위이며, 그 구체예로는 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기, 알콕시실릴기나, 글리시딜기 등을 들 수 있다.
The thermal cross-linking site is a site to be bonded with the cross-linking agent as the component (C) by heating, and specific examples thereof include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an alkoxysilyl group and a glycidyl group.

(A)성분의 아크릴 공중합체는, 중량평균분자량이 3,000 내지 200,000인 것이 바람직하다. 중량평균분자량이 200,000을 초과하여 지나치게 크면, 용제에 대한 용해성이 저하되어 핸들링성이 저하되는 경우가 있으며, 한편, 중량평균분자량이 3,000 미만으로 지나치게 작으면, 열경화시에 경화부족이 되어 용제내성이 저하되거나 내열성이 저하되는 경우가 있다.
The acrylic copolymer of component (A) preferably has a weight average molecular weight of 3,000 to 200,000. If the weight average molecular weight is more than 200,000, the solubility in a solvent is lowered and the handling property is lowered. On the other hand, if the weight average molecular weight is less than 3,000, the curing becomes insufficient at the time of thermosetting, Or the heat resistance may be lowered.

(A)성분의 광이량화 부위 및 열가교 부위를 갖는 아크릴 공중합체의 합성방법은, 광이량화 부위를 갖는 모노머와, 열가교 부위를 갖는 모노머를 공중합하는 방법이 간편하다.
As a method of synthesizing an acrylic copolymer having a photo-dimerization site and a thermal crosslinking site of the component (A), a method of copolymerizing a monomer having a photo-dimerization site and a monomer having a thermal crosslink site is simple.

광이량화 부위를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 신나모일기, 칼콘기, 쿠마린기, 안트라센기 등을 갖는 모노머를 들 수 있다. 이들 중 가시광 영역에서의 투명성의 높이 및 광이량화 반응성의 높이로부터 신나모일기를 갖는 모노머가 특히 바람직하다.
Examples of the monomer having a photo-dimerization moiety include monomers having a cinnamoyl group, a chalcone group, a coumarin group, and an anthracene group. Of these, monomers having a cinnamoyl group from the height of transparency and the height of photo-dimerization reactivity in the visible light region are particularly preferable.

그 중에서도 상기 식[1] 또는 식[2]로 표시되는 구조의 신나모일기 및 신나모일 구조를 포함하는 치환기를 갖는 모노머가 보다 바람직하다. 이러한 모노머의 구체예를 들면, 하기 식[3] 또는 식[4]로 표시되는 모노머이다.
Among them, a monomer having a substituent including a neomoyl group and a cinnamoyl structure having the structure represented by the above formula [1] or [2] is more preferable. Specific examples of such a monomer are the monomer represented by the following formula [3] or formula [4].

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pct00005

Figure pct00005

상기 식[3] 중, X1은 수소원자, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기 또는 비페닐기를 나타낸다. 이때, 페닐기 및 비페닐기는 할로겐원자 및 시아노기 중 어느 하나에 의해 치환되어 있을 수도 있다.In the formula [3], X 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group or a biphenyl group. At this time, the phenyl group and the biphenyl group may be substituted by any one of a halogen atom and a cyano group.

L1 및 L2는, 각각 독립적으로 공유결합, 에테르결합, 에스테르결합, 아미드결합, 요소결합 또는 우레탄결합을 나타낸다.
L 1 and L 2 each independently represent a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, an urea bond or a urethane bond.

상기 식[4] 중, X2는 수소원자, 시아노기, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기, 비페닐기, 시클로헥실기를 나타낸다. 이때, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기, 비페닐기, 시클로헥실기는, 공유결합, 에테르결합, 에스테르결합, 아미드결합, 요소결합을 개재하여 결합할 수도 있다.
In the formula [4], X 2 represents a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group. At this time, the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, the phenyl group, the biphenyl group, and the cyclohexyl group may be bonded via a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, or an urea bond.

상기 식[3] 및 식[4] 중, X3 및 X5는 각각 독립적으로 단결합, 탄소원자수 1 내지 20의 알킬렌기, 2가의 방향족환, 2가의 지방족환을 나타낸다. 여기서 탄소원자수 1 내지 20의 알킬렌기는 분지상일 수도 직쇄상일 수도 있다.
In the formulas [3] and [4], X 3 and X 5 each independently represent a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a bivalent aromatic ring, or a bivalent aliphatic ring. Here, the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms may be branched or straight-chain.

상기 식[3] 및 식[4] 중, X4 및 X6은 중합성기를 나타낸다. 이 중합성기의 구체예로는, 예를 들어, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 스티렌기, 말레이미드기, 아크릴아미드기, 메타크릴아미드기 등을 들 수 있다.
In the formulas [3] and [4], X 4 and X 6 represent a polymerizable group. Specific examples of the polymerizable group include an acryloyl group, a methacryloyl group, a styrene group, a maleimide group, an acrylamide group, and a methacrylamide group.

상기 식[3] 및 식[4] 중, A는 상기와 마찬가지로 식[A1], 식[A2], 식[A3], 식[A4], 식[A5] 및 식[A6] 중 어느 하나를 나타낸다.
In the above formulas [3] and [4], A may be any one of the formulas [A1], [A2], [A3], [A4], [A5] .

열가교 부위를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸메타크릴레이트, 2,3-디하이드록시프로필아크릴레이트, 2,3-디하이드록시프로필메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노아크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노메타크릴레이트, 카프로락톤2-(아크릴로일옥시)에틸에스테르, 카프로락톤2-(메타크릴로일옥시)에틸에스테르, 폴리(에틸렌글리콜)에틸에테르아크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜)에틸에테르메타크릴레이트, 5-아크릴로일옥시-6-하이드록시노보넨-2-카르복실릭-6-락톤, 5-메타크릴로일옥시-6-하이드록시노보넨-2-카르복실릭-6-락톤 등의 하이드록시기를 갖는 모노머; 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 모노-(2-(아크릴로일옥시)에틸)프탈레이트, 모노-(2-(메타크릴로일옥시)에틸)프탈레이트, N-(카르복시페닐)말레이미드, N-(카르복시페닐)메타크릴아미드, N-(카르복시페닐)아크릴아미드 등의 카르복실기를 갖는 모노머; 하이드록시스티렌, N-(하이드록시페닐)메타크릴아미드, N-(하이드록시페닐)아크릴아미드, N-(하이드록시페닐)말레이미드, N-(하이드록시페닐)말레이미드 등의 페놀성 하이드록시기를 갖는 모노머; 글리시딜메타크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트 등의 글리시딜기를 갖는 모노머; 메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란, 아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란 등의 알콕시실릴기를 갖는 모노머 등을 들 수 있다.
The monomer having a thermal crosslinking site includes, for example, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, Hydroxybutyl methacrylate, 2,3-dihydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, diethylene glycol monoacrylate, diethylene glycol monomethacrylate Caprolactone 2- (acryloyloxy) ethyl ester, caprolactone 2- (methacryloyloxy) ethyl ester, poly (ethylene glycol) ethyl ether acrylate, poly (ethylene glycol) ethyl ether methacrylate, 5-acryloyloxy-6-hydroxy norbornene-2-carboxyl-6-lactone, 5-methacryloyloxy-6-hydroxy norbornene- Monomers having a hydroxy group; Acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, mono- (2- (acryloyloxy) ethyl) phthalate, mono- (2- (methacryloyloxy) ethyl) phthalate, N- (carboxyphenyl) maleimide, N - (carboxyphenyl) methacrylamide, N- (carboxyphenyl) acrylamide, and the like; (Hydroxyphenyl) maleimide, N- (hydroxyphenyl) maleimide and the like such as N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- A monomer having a group; Monomers having a glycidyl group such as glycidyl methacrylate and glycidyl acrylate; Monomers having an alkoxysilyl group such as methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, methacryloyloxypropyltriethoxysilane, acryloyloxypropyltrimethoxysilane, and acryloyloxypropyltriethoxysilane, and the like can be used. .

특정 공중합체를 얻기 위하여 이용하는 광이량화 부위를 갖는 모노머 및 열가교 부위를 갖는 모노머의 사용량은, 특정 공중합체를 얻기 위하여 사용하는 전체 모노머의 합계량에 기초하여, 광이량화 부위를 갖는 모노머가 40질량%~95질량%, 열가교 부위를 갖는 모노머가 5질량%~60질량%인 것이 바람직하다. 광이량화 부위를 갖는 모노머 함유량을 40질량% 이상으로 함으로써 고감도이고 양호한 액정배향성을 부여할 수 있다. 한편, 95질량% 이하로 함으로써 충분한 열경화성을 부여할 수 있고, 고감도이고 양호한 액정배향성을 유지할 수 있다.
The amount of the monomer having the photo-dimerizing moiety and the monomer having the thermally crosslinking moiety used for obtaining the specific copolymer is preferably 40 to 40% by weight based on the total amount of the total monomers used for obtaining the specific copolymer, By mass to 95% by mass, and a monomer having a thermal crosslinking site in an amount of 5% by mass to 60% by mass. When the content of the monomer having the photo-dimerization site is 40 mass% or more, high sensitivity and good liquid crystal alignability can be given. On the other hand, when it is 95 mass% or less, sufficient thermosetting property can be imparted, and high sensitivity and good liquid crystal alignability can be maintained.

또한, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 있어서는, 특정 공중합체를 얻을 때에, 광이량화 부위 및 열가교 부위(이하, 이들을 특정 관능기라고도 함)를 갖는 모노머와 공중합가능한 모노머(이하 비반응성 관능기를 갖는 모노머라고도 함)를 병용할 수 있다.
In the composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention, it is preferable that the specific copolymer can be copolymerized with a monomer having a light-dimerization site and a heat-crosslinkable site (hereinafter also referred to as a specific functional group) A monomer (hereinafter also referred to as a monomer having a non-reactive functional group) may be used in combination.

이러한 모노머의 구체예로는, 아크릴산에스테르 화합물, 메타크릴산에스테르 화합물, 말레이미드 화합물, 아크릴아미드 화합물, 아크릴로니트릴, 말레산무수물, 스티렌 화합물 및 비닐 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of such monomers include acrylic acid ester compounds, methacrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds and vinyl compounds.

이하, 상기 모노머의 구체예를 들지만, 본 발명은, 이들로 한정되는 것은 아니다.
Specific examples of the monomer are mentioned below, but the present invention is not limited thereto.

상기 서술한 아크릴산에스테르 화합물로는, 예를 들어, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 나프틸아크릴레이트, 안트릴아크릴레이트, 안트릴메틸아크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸아크릴레이트, tert-부틸아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-에톡시에틸아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴아크릴레이트, 3-메톡시부틸아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸아크릴레이트, 2-프로필-2-아다만틸아크릴레이트, 8-메틸-8-트리시클로데실아크릴레이트, 및, 8-에틸-8-트리시클로데실아크릴레이트 등을 들 수 있다.
Examples of the acrylic ester compound include acrylic esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, Acrylates such as glycidyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, tert-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxy triethylene glycol acrylate 2-adamantyl acrylate, 2-propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methoxybutyl acrylate, 2- Methyl-8-tricyclodecyl acrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.

상기 서술한 메타크릴산에스테르 화합물로는, 예를 들어, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 나프틸메타크릴레이트, 안트릴메타크릴레이트, 안트릴메틸메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸메타크릴레이트, tert-부틸메타크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 이소보닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 2-에톡시에틸메타크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴메타크릴레이트, 3-메톡시부틸메타크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸메타크릴레이트, γ-부티로락톤메타크릴레이트, 2-프로필-2-아다만틸메타크릴레이트, 8-메틸-8-트리시클로데실메타크릴레이트, 및, 8-에틸-8-트리시클로데실메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
Examples of the methacrylic acid ester compound include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl Methyl methacrylate, phenyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, Methoxyethyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, methoxy triethylene glycol methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, Adamantyl methacrylate,? -Butyrolactone methacrylate, 2-propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, and 8- Tricyclodecyl methacrylic And the like.

상기 서술한 비닐 화합물로는, 예를 들어, 메틸비닐에테르, 벤질비닐에테르, 비닐나프탈렌, 비닐카르바졸, 알릴글리시딜에테르, 3-에테닐-7-옥사비시클로[4.1.0]헵탄, 1,2-에폭시-5-헥센, 및, 1,7-옥타디엔모노에폭사이드 등을 들 수 있다.
Examples of the above-mentioned vinyl compound include methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, vinyl naphthalene, vinyl carbazole, allyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane, 1,2-epoxy-5-hexene, and 1,7-octadiene monoepoxide.

상기 서술한 스티렌 화합물로는, 예를 들어, 스티렌, 메틸스티렌, 클로로스티렌, 및, 브로모스티렌 등을 들 수 있다.
Examples of the above-mentioned styrene compound include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, and bromostyrene.

상기 서술한 말레이미드 화합물로는, 예를 들어, 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-페닐말레이미드, 및, N-시클로헥실말레이미드 등을 들 수 있다.
Examples of the maleimide compound described above include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 이용하는 특정 공중합체를 얻는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 특정 관능기를 갖는 모노머(광이량화 부위를 갖는 모노머 및 열가교 부위를 갖는 모노머), 필요에 따라 비반응성 관능기를 갖는 모노머 및 중합개시제 등을 공존시킨 용제 중에 있어서, 50℃~110℃의 온도하에서 중합반응시켜 얻어진다. 이때, 이용되는 용제는, 특정 관능기를 갖는 모노머, 필요에 따라 이용되는 비반응성 관능기를 갖는 모노머 및 중합개시제 등을 용해하는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 구체예로는, 후술하는 용제에 기재하는 용제를 들 수 있다.The method for obtaining the specific copolymer used in the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention is not particularly limited. For example, a monomer having a specific functional group (a monomer having a light- , A monomer having a non-reactive functional group, and a polymerization initiator, if necessary, in the presence of a polymerization initiator at a temperature of 50 ° C to 110 ° C. Here, the solvent to be used is not particularly limited as long as it dissolves the monomer having a specific functional group, the monomer having a non-reactive functional group to be used if necessary, and the polymerization initiator. Specific examples include the solvents described in the below-mentioned solvents.

이와 같이 하여 얻어지는 특정 공중합체는, 통상, 용제에 용해된 용액의 상태이며, 본 발명에 있어서 (A)성분의 용액으로서 그대로 사용할 수 있다.
The specific copolymer thus obtained is usually in the form of a solution dissolved in a solvent and can be used as it is as a solution of the component (A) in the present invention.

또한, 상기와 같이 하여 얻어진 특정 공중합체의 용액을, 디에틸에테르나 물 등의 교반하에 투입하여 재침전시키고, 생성된 침전물을 여과·세정한 후, 상압 또는 감압하에서, 상온 혹은 가열건조함으로써, 특정 공중합체의 분체로 할 수 있다. 이러한 조작에 의해, 특정 공중합체와 공존하는 중합개시제나 미반응모노머를 제거할 수 있고, 그 결과, 정제한 특정 공중합체의 분체가 얻어진다. 한번의 조작으로 충분히 정제하지 못하는 경우는, 얻어진 분체를 용제에 재용해하여, 상기의 조작을 반복하여 행하면 된다.
The solution of the specific copolymer thus obtained may be re-precipitated by the addition of diethyl ether, water or the like with stirring, and the resultant precipitate may be filtered and washed and then dried at room temperature or under reduced pressure or by heating and drying, It can be a powder of a specific copolymer. By such an operation, the polymerization initiator coexisting with the specific copolymer and the unreacted monomer can be removed, and as a result, the purified specific copolymer powder can be obtained. When the powder can not be sufficiently purified by one operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above-described operation may be repeated.

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 있어서는, (A)성분으로서 상기 특정 공중합체의 분체를 그대로 이용할 수도 있고, 혹은 그 분체를, 예를 들어 후술하는 용제에 재용해하여 용액의 상태로서 이용할 수도 있다.In the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention, the powder of the specific copolymer as the component (A) may be used as it is, or the powder may be reused, for example, It can also be used as a solution state.

또한, 본 실시형태에 있어서는, (A)성분의 아크릴 공중합체는, 복수종의 특정 공중합체의 혼합물일 수도 있다.
Further, in the present embodiment, the acrylic copolymer of component (A) may be a mixture of plural kinds of specific copolymers.

이상과 같이 본 발명에 있어서는, (A)성분으로는 저분자량의 화합물, 또는 고분자량의 특정 공중합체를 이용할 수 있다. 또한, (A)성분은 각각 1종 이상의 저분자량의 화합물과 고분자량의 특정 공중합체의 혼합물일 수도 있다.
As described above, in the present invention, as the component (A), a compound having a low molecular weight or a specific copolymer having a high molecular weight can be used. Further, the component (A) may be a mixture of one or more kinds of low molecular weight compounds and specific copolymers of high molecular weight.

[(B)성분][Component (B)] [

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 함유되는 (B)성분은, 단위구조로서, 하기 식X로 표시되는 메타크릴산알킬에스테르 또는 아크릴산알킬에스테르에서 유래하는 단위구조를 갖는 폴리머(이하 특정 공중합체 2라고도 함)이다.
The component (B) contained in the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention has a unit structure, which has a unit structure derived from a methacrylic acid alkyl ester or an acrylic acid alkyl ester represented by the following formula X (Hereinafter also referred to as a specific copolymer 2).

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pct00006

Figure pct00006

(상기 식 중 R1은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소원자수 1~5의 직쇄 또는 분지상의 알킬기를 나타낸다.)(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)

이하, 상기 식(X)로 표시되는 반복단위를 주는 모노머를, 특정 모노머X라고 칭한다.
Hereinafter, the monomer giving the repeating unit represented by the formula (X) is referred to as a specific monomer X.

특정 모노머X인 아크릴산알킬에스테르 또는 메타크릴산알킬에스테르모노머로는, 예를 들어, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, t-부틸아크릴레이트 등의 아크릴산알킬에스테르 화합물, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트 등의 메타크릴산알킬에스테르 화합물을 들 수 있다.
Examples of the alkyl acrylate or methacrylate alkyl ester monomer as the specific monomer X include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate butyl acrylate, and t-butyl acrylate; alkyl acrylate compounds such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t And methacrylic acid alkyl ester compounds such as butyl methacrylate.

이들 화합물 중, 입수용이성 및 기재로서 이용되는 아크릴필름과의 친화성의 점에서 메틸메타크릴레이트가 특히 바람직하다.Of these compounds, methyl methacrylate is particularly preferable from the viewpoint of availability and compatibility with an acrylic film used as a substrate.

즉, (B)성분이 메틸메타크릴레이트를 단량체로서 이용하여 얻어지는 폴리머인 것, 요컨대 식(X) 중, R1 및 R2가 모두 메틸기를 나타내는 단위구조를 갖는 폴리머인 것이 바람직하다.
That is, the component (B) is a polymer obtained by using methyl methacrylate as a monomer. In the formula (X), it is preferable that all of R 1 and R 2 are polymers having a unit structure showing a methyl group.

(B)성분인 특정 공중합체 2에는, 특정 모노머X인 아크릴산알킬에스테르, 메타크릴산알킬에스테르 외에, 스티렌 등의 불포화이중결합을 갖는 모노머를 첨가하고, 이들을 중합하여 얻어지는 중합체가 적용될 수 있다.
As the specific copolymer 2 as the component (B), a polymer obtained by adding a monomer having an unsaturated double bond such as styrene, in addition to an alkyl acrylate or methacrylate alkyl ester as the specific monomer X may be applied.

또한, 본 발명의 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물은, 후술하는 (C)성분으로서 가교제를 함유하고 있을 수도 있다. 그 경우 (B)성분은, 특정 모노머X인 아크릴산알킬에스테르 또는 메타크릴산알킬에스테르에 더하여, (C)성분과 열가교가능한 치환기로서 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는 모노머를 공중합시킨, 아크릴 공중합체인 것이 바람직하다.
The composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention of the present invention may contain a crosslinking agent as a component (C) to be described later. In this case, the component (B) is preferably a compound having at least one substituent selected from a hydroxyl group, a carboxyl group and an amino group as a substituent capable of thermally crosslinking with the component (C) in addition to the acrylic acid alkyl ester or methacrylic acid alkyl ester as the specific monomer X It is preferable that the acrylic copolymer is a copolymer obtained by copolymerizing monomers.

특정 모노머X인 아크릴산알킬에스테르 또는 메타크릴산알킬에스테르에 더하여, 또한 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는 모노머를 공중합시킨 아크릴 공중합체의 합성방법으로는, 특정 모노머X와, 하이드록시기, 카르복실기 및/또는 아미노기를 갖는 모노머로부터 선택되는 적어도 1종의 모노머를 공중합하는 방법이 간편하다.
As a method for synthesizing an acrylic copolymer in which a monomer having at least one substituent selected from a hydroxyl group, a carboxyl group and an amino group is copolymerized with a specific monomer X in addition to an alkyl acrylate or methacrylate alkyl ester, , A monomer having a hydroxyl group, a carboxyl group and / or an amino group is copolymerized.

하이드록시기, 카르복실기, 아미노기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸메타크릴레이트, 2,3-디하이드록시프로필아크릴레이트, 2,3-디하이드록시프로필메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노아크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노메타크릴레이트, 카프로락톤2-(아크릴로일옥시)에틸에스테르, 카프로락톤2-(메타크릴로일옥시)에틸에스테르, 폴리(에틸렌글리콜)에틸에테르아크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜)에틸에테르메타크릴레이트, 5-아크릴로일옥시-6-하이드록시노보넨-2-카르복실릭-6-락톤, 5-메타크릴로일옥시-6-하이드록시노보넨-2-카르복실릭-6-락톤 등의 하이드록시기를 갖는 모노머; 및, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 모노-(2-(아크릴로일옥시)에틸)프탈레이트, 모노-(2-(메타크릴로일옥시)에틸)프탈레이트, N-(카르복시페닐)말레이미드, N-(카르복시페닐)메타크릴아미드, N-(카르복시페닐)아크릴아미드 등의 카르복실기를 갖는 모노머; 및, 하이드록시스티렌, N-(하이드록시페닐)메타크릴아미드, N-(하이드록시페닐)아크릴아미드, N-(하이드록시페닐)말레이미드 및, N-(하이드록시페닐)말레이미드 등의 페놀성하이드록시기를 갖는 모노머; 아미노에틸아크릴레이트, 아미노에틸메타크릴레이트, 아미노프로필아크릴레이트 및 아미노프로필메타크릴레이트 등의 아미노기를 갖는 모노머 등을 들 수 있다.
Examples of the monomer having a hydroxyl group, a carboxyl group and an amino group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate , 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2,3-dihydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, diethylene glycol monoacrylate, diethylene (Methacryloyloxy) ethyl ester, poly (ethylene glycol) ethyl ether acrylate, poly (ethylene glycol) ethyl ether, Methacryloyloxy-6-hydroxy norbornene-2-carboxyl-6-methacryloyloxy-6-hydroxy norbornene- - Hydroxyl groups such as lactones ; (Methacryloyloxy) ethyl) phthalate, N- (carboxyphenyl) maleimide, and mono- (2- , N- (carboxyphenyl) methacrylamide, N- (carboxyphenyl) acrylamide, and the like; And phenol such as hydroxystyrene, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (hydroxyphenyl) maleimide and N- (hydroxyphenyl) maleimide Monomers having a hydroxy group; And monomers having an amino group such as aminoethyl acrylate, aminoethyl methacrylate, aminopropyl acrylate and aminopropyl methacrylate.

또한, 본 발명에 있어서는, 특정 공중합체 2를 얻을 때에, 특정 모노머X와, 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는 모노머 외에, 이 모노머와 공중합가능하고 상기 열가교가능한 치환기를 갖지 않는 모노머를 병용할 수 있다.
In the present invention, in obtaining the specific copolymer 2, in addition to the monomer having a specific monomer X and at least one substituent selected from a hydroxyl group, a carboxyl group and an amino group, a monomer capable of copolymerizing with the monomer and capable of thermally crosslinking Can be used in combination.

이러한 모노머의 구체예로는, 특정 모노머X, 그리고, 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는 모노머와는 상이한 구조를 갖는 아크릴산에스테르 화합물 또는 메타크릴산에스테르 화합물, 말레이미드 화합물, 아크릴아미드 화합물, 아크릴로니트릴, 말레산무수물, 스티렌 화합물 및 비닐 화합물 등을 들 수 있다.
Specific examples of such a monomer include an acrylic ester compound or a methacrylic acid ester compound having a structure different from that of a specific monomer X and a monomer having at least one substituent selected from a hydroxyl group, a carboxyl group and an amino group, a maleimide compound , Acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds and vinyl compounds.

이하, 상기 모노머의 구체예를 들지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the monomer include, but are not limited to, the following.

상기 특정 모노머X 등과는 상이한 구조를 갖는 아크릴산에스테르 화합물로는, 예를 들어, 벤질아크릴레이트, 나프틸아크릴레이트, 안트릴아크릴레이트, 안트릴메틸아크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-에톡시에틸아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴아크릴레이트, 3-메톡시부틸아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸아크릴레이트, 2-프로필-2-아다만틸아크릴레이트, 8-메틸-8-트리시클로데실아크릴레이트, 및, 8-에틸-8-트리시클로데실아크릴레이트 등을 들 수 있다.
Examples of the acrylic acid ester compound having a structure different from that of the specific monomer X include benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, glycidyl acrylate, Acrylates such as 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, 2-ethoxy ethyl acrylate, Methyl-2-adamantyl acrylate, 2-propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl acrylate, 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate, and the like.

상기 특정 모노머X 등과는 상이한 구조를 갖는 메타크릴산에스테르 화합물로는, 예를 들어, 벤질메타크릴레이트, 나프틸메타크릴레이트, 안트릴메타크릴레이트, 안트릴메틸메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸메타크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 이소보닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 2-에톡시에틸메타크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴메타크릴레이트, 3-메톡시부틸메타크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸메타크릴레이트, γ-부티로락톤메타크릴레이트, 2-프로필-2-아다만틸메타크릴레이트, 8-메틸-8-트리시클로데실메타크릴레이트, 및, 8-에틸-8-트리시클로데실메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
Examples of the methacrylic acid ester compound having a structure different from that of the specific monomer X include benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthrylmethyl methacrylate, phenyl methacrylate , Glycidyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, methoxy triethylene glycol methacrylate Methacrylate, 2-methoxybutyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2- Adamantyl methacrylate, 2-propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl methacrylate.

상기 비닐 화합물로는, 예를 들어, 메틸비닐에테르, 벤질비닐에테르, 비닐나프탈렌, 비닐카르바졸, 알릴글리시딜에테르, 3-에테닐-7-옥사비시클로[4.1.0]헵탄, 1,2-에폭시-5-헥센, 및, 1,7-옥타디엔모노에폭사이드 등을 들 수 있다.
Examples of the vinyl compound include methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, vinyl naphthalene, vinyl carbazole, allyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane, 2-epoxy-5-hexene, and 1,7-octadiene monoepoxide.

상기 스티렌 화합물로는, 예를 들어, 스티렌, 메틸스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌 등을 들 수 있다.
Examples of the styrene compound include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, and bromostyrene.

상기 말레이미드 화합물로는, 예를 들어, 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-페닐말레이미드, 및 N-시클로헥실말레이미드 등을 들 수 있다.
Examples of the maleimide compound include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.

(B)성분의 폴리머 중, 식(X)로 표시되는 단위구조의 존재비율이, 이 폴리머의 전체 질량에 기초하여 40질량%~100질량%인 것이 바람직하다.(B) is preferably from 40% by mass to 100% by mass, based on the total mass of the polymer, of the unit structure represented by the formula (X).

즉, (B)성분인 특정 공중합체 2를 얻기 위하여 이용되는 특정 모노머X의 사용량은, (B)성분인 특정 공중합체 2를 얻기 위하여 이용하는 전체 모노머의 합계량에 기초하여, 40질량%~100질량%인 것이 바람직하다.
That is, the amount of the specific monomer X used for obtaining the specific copolymer 2 as the component (B) is preferably 40% by mass to 100% by mass based on the total amount of the total monomers used for obtaining the specific copolymer 2 as the component (B) %.

또한, (B)성분이, 특정 모노머 X인 아크릴산알킬에스테르 또는 메타크릴산알킬에스테르에 더하여 (C)성분과 열가교가능한 치환기로서 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는 모노머와의 아크릴 공중합체인 경우, 상기 하이드록시기, 카르복실기 및/또는 아미노기를 갖는 모노머의 사용량의 합계는, (B)성분인 특정 공중합체 2를 얻기 위하여 이용하는 전체 모노머의 합계량에 기초하여, 5질량%~30질량%인 것이 바람직하다. 하이드록시기, 카르복실기 및/또는 아미노기를 갖는 모노머의 사용량의 합계가 5질량% 미만인 경우는 (C)성분과의 열가교에 의한 경화가 불충분해지는 경우가 있으며, 30질량%보다 과대인 경우는, 아크릴기재와의 밀착성에 악영향을 주는 경우가 있다.
The component (B) is preferably a monomer having at least one substituent selected from a hydroxyl group, a carboxyl group and an amino group as a substituent capable of thermally crosslinking with the component (C) in addition to the acrylic acid alkyl ester or methacrylic acid alkyl ester as the specific monomer X , The total amount of the monomers having a hydroxyl group, a carboxyl group and / or an amino group is preferably 5% by mass or more, more preferably 5% by mass or less, based on the total amount of the monomers used to obtain the specific copolymer 2 as the component (B) By mass to 30% by mass. When the total amount of the monomer having a hydroxyl group, a carboxyl group and / or an amino group is less than 5% by mass, the curing by thermal crosslinking with the component (C) may be insufficient. When the total amount is more than 30% by mass, Adherence to the acrylic base material may be adversely affected.

(B)성분의 예인 특정 공중합체 2를 얻는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 특정 모노머X와, 필요에 따라 특정 모노머X 이외의 모노머와 중합개시제 등을 공존시킨 용제 중에 있어서, 50℃~110℃의 온도하에서 중합반응에 의해 얻어진다. 이때, 이용되는 용제는, 상기 식X로 표시되는 모노머, 필요에 따라 이용되는 상기 식X로 표시되는 모노머 이외의 모노머 및 중합개시제 등을 용해하는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 구체예로는, 후술하는 [용제]의 항에 기재한다.
The method for obtaining the specific copolymer 2 as an example of the component (B) is not particularly limited. For example, in a solvent in which a specific monomer X and, if necessary, a monomer other than the specific monomer X and a polymerization initiator are co- Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 110 C &lt; / RTI &gt; The solvent to be used here is not particularly limited as long as it dissolves the monomer represented by the formula X, the monomer other than the monomer represented by the formula X and the polymerization initiator which are used if necessary. Specific examples are described in the section [solvent] described later.

이상의 방법에 의해 얻어지는 (B)성분의 예인 아크릴중합체는, 통상, 용제에 용해된 용액의 상태이며, 본 발명에 있어서 (B)성분의 용액으로서 그대로 사용할 수 있다.
The acrylic polymer, which is an example of the component (B) obtained by the above method, is usually in the form of a solution dissolved in a solvent and can be used as it is as a solution of the component (B) in the present invention.

또한, 상기 방법으로 얻어진 (B)성분의 예인 아크릴중합체의 용액을, 교반하의 디에틸에테르나 물 등에 투입하여 재침전시키고, 생성한 침전물을 여과·세정한 후에, 상압 또는 감압하에서, 상온건조 또는 가열건조하여, (B)성분의 특정 공중합체 2의 분체로 할 수 있다. 상기 서술한 조작에 의해, (B)성분의 특정 공중합체 2와 공존하는 중합개시제 및 미반응의 모노머를 제거할 수 있고, 그 결과, 정제한 (B)성분의 예인 특정 공중합체 2의 분체가 얻어진다. 한번의 조작으로 충분히 정제하지 못하는 경우는, 얻어진 분체를 용제에 재용해시켜, 상기 서술한 조작을 반복하여 행하면 된다.
Further, a solution of an acrylic polymer, which is an example of the component (B) obtained by the above-mentioned method, is re-precipitated by charging it into diethyl ether or water under stirring, filtering and washing the resulting precipitate, Followed by heating and drying to obtain a powder of the specific copolymer 2 of the component (B). By the above-described operation, the polymerization initiator coexisting with the specific copolymer 2 of the component (B) and the unreacted monomer can be removed. As a result, the powder of the specific copolymer 2, which is an example of the purified component (B) . When the powder can not be sufficiently purified by one operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above-described operation may be repeated.

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 있어서, (B)성분의 특정 공중합체 2는, 분체형태로, 또는 정제한 분말을 후술하는 용제에 재용해된 용액형태로 이용할 수도 있다.
In the composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention, the specific copolymer 2 of the component (B) can be used in the form of a powder, or in the form of a solution in which the purified powder is redissolved in a solvent have.

또한, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 있어서 (B)성분은, (B)성분의 예로서 나타내는 특정 공중합체 2의 복수종의 혼합물일 수도 있다.
In the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention, the component (B) may be a mixture of plural kinds of the specific copolymer 2 shown as an example of the component (B).

[(C)성분][Component (C)] [

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물은, 상기 서술한 바와 같이, (C)성분으로서, 가교제를 함유할 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물로부터 얻어지는 경화막의 내부에서는, (A)성분의 화합물의 광배향성기에 의한 광반응 전에, (C)가교제를 이용한 열반응에 의한 가교반응을 행할 수 있다. 그 결과, (C)성분을 사용함으로써, 이 경화막을 배향재로서 이용된 경우에, 그 위에 도포되는 중합성 액정이나 그 용제에 대한 내성을 향상시킬 수 있다.
As described above, the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention may contain a crosslinking agent as the component (C). Thus, in the interior of the cured film obtained from the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention, before the light reaction by the photo-orienting group of the compound of the component (A), (C) A crosslinking reaction can be carried out. As a result, by using the component (C), when the cured film is used as an alignment material, the resistance to the polymerizable liquid crystal coated thereon and the solvent thereof can be improved.

상세하게는, (C)성분은, 상기 서술한 (A)성분 또는 (B)성분, 혹은 이들 쌍방의 성분과 반응하고, 또한, (A)성분이 저분자 배향성분인 경우는, (A)성분의 승화온도보다 저온에서 반응하는 가교제이다.Specifically, when the component (C) is reacted with the above-described component (A) or component (B) or both of these components and the component (A) is a low molecular weight component, At a lower temperature than the sublimation temperature of &lt; RTI ID = 0.0 &gt;

또한, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물이, 후술하는 (D)성분으로서 밀착성 향상성분을 함유하는 경우, (C)성분은 (D)성분과도 반응할 수 있다. 이와 같이 (C)성분은, (A)성분의 승화온도보다 저온하에서, (A)성분인 화합물의 하이드록시기, (D)성분인 화합물의 하이드록시기와 결합한다. 그 결과, 후술하는 바와 같이, (A)성분 및 (D)성분과, (C)성분인 가교제가 열반응할 때에, (A)성분이 승화하는 것을 억제할 수 있다. 그리고, 본 실시의 광학형태의 필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물은, 경화막으로서, 상기 서술한 바와 같이, 광반응효율이 높은 배향재를 형성할 수 있다.
When the composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention contains an adhesion improving component as a component (D) to be described later, the component (C) may also react with the component (D). Thus, the component (C) binds to the hydroxyl group of the compound (A) and the hydroxy group of the compound (D) at a temperature lower than the sublimation temperature of the component (A). As a result, sublimation of the component (A) can be suppressed when the component (A) and the component (D) are thermally reacted with the crosslinking agent as the component (C), as described later. The composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present embodiment can form an oriented material having a high photoreaction efficiency as described above as the cured film.

또한, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 있어서, (C)성분은 친수성의 성분인 것이 바람직하다. 이에 따라, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물을 이용하여 경화막을 형성할 때에, 막 중에 (C)성분을 호적하게 분산시킬 수 있다.
In the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention, the component (C) is preferably a hydrophilic component. Accordingly, when the cured film is formed using the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention, the component (C) can be suitably dispersed in the film.

(C)성분인 가교제로는, 에폭시 화합물, 메틸올 화합물 및 이소시아네이트 화합물 등의 화합물을 들 수 있는데, 바람직하게는 메틸올 화합물이다.
Examples of the crosslinking agent as the component (C) include compounds such as an epoxy compound, a methylol compound and an isocyanate compound, preferably a methylol compound.

상기 서술한 메틸올 화합물의 구체예로는, 예를 들어, 알콕시메틸화글리콜우릴, 알콕시메틸화벤조구아나민 및 알콕시메틸화멜라민 등의 화합물을 들 수 있다.
Specific examples of the methylol compounds described above include, for example, compounds such as alkoxymethylated glycoluril, alkoxymethylated benzoguanamine, and alkoxymethylated melamine.

알콕시메틸화글리콜우릴의 구체예로는, 예를 들어, 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴, 1,3,4,6-테트라키스(부톡시메틸)글리콜우릴, 1,3,4,6-테트라키스(하이드록시메틸)글리콜우릴, 1,3-비스(하이드록시메틸)요소, 1,1,3,3-테트라키스(부톡시메틸)요소, 1,1,3,3-테트라키스(메톡시메틸)요소, 1,3-비스(하이드록시메틸)-4,5-디하이드록시-2-이미다졸리논, 및 1,3-비스(메톡시메틸)-4,5-디메톡시-2-이미다졸리논 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Mitsui Cytec, Ltd.(현: Nihon Cytec Industries Inc.)제 글리콜우릴 화합물(상품명: CYMEL(등록상표) 1170, POWDERLINK(등록상표)1174) 등의 화합물, 메틸화요소수지(상품명: UFR(등록상표)65), 부틸화요소수지(상품명: UFR(등록상표)300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV) 등; DIC Corporation제 요소/포름알데히드계 수지(고축합형, 상품명: BECKAMINE(등록상표) J-300S, BECKAMIN EP-955, BECKAMINE N) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the alkoxymethylated glycoluril include, for example, 1,3,4,6-tetrakis (methoxymethyl) glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis (butoxymethyl) glycoluril, 1,3,4-tetrakis (hydroxymethyl) glycoluril, 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (butoxymethyl) (Methoxymethyl) urea, 1,3-bis (hydroxymethyl) -4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3-bis ) -4,5-dimethoxy-2-imidazolidinone. (Trade name: CYMEL (registered trademark) 1170, POWDERLINK (registered trademark) 1174) manufactured by Mitsui Cytec, Ltd. (currently, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV) and the like; BECKAMINE (registered trademark) J-300S, BECKAMIN EP-955, BECKAMINE N) manufactured by DIC Corporation under the trade name of urea / formaldehyde resin (high condensation type).

알콕시메틸화벤조구아나민의 구체예로는, 예를 들어, 테트라메톡시메틸벤조구아나민 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Mitsui Cytec, Ltd.(현: Nihon Cytec Industries Inc.)제 (상품명: CYMEL(등록상표)1123); Sanwa Chemical Industrial Co., Ltd.제(상품명: NIKALAC(등록상표) BX-4000, NIKALAC BX-37, NIKALAC BL-60, NIKALAC BX-55H) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the alkoxymethylated benzoguanamine include, for example, tetramethoxymethylbenzoguanamine. As a commercial product, CYMEL (registered trademark) 1123 manufactured by Mitsui Cytec, Ltd. (currently, Nihon Cytec Industries Inc.); (NIKALAC (registered trademark) BX-4000, NIKALAC BX-37, NIKALAC BL-60, NIKALAC BX-55H) available from Sanwa Chemical Industrial Co., Ltd.

알콕시메틸화멜라민의 구체예로는, 예를 들어, 헥사메톡시메틸멜라민 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Mitsui Cytec, Ltd.(현: Nihon Cytec Industries Inc.)제 메톡시메틸타입멜라민 화합물(상품명: CYMEL(등록상표) 300, CYMEL 301, CYMEL 303, CYMEL 350), 부톡시메틸타입멜라민 화합물(상품명: MYCOAT(등록상표) 506, MYCOAT 508) 등; Sanwa Chemical Industrial Co., Ltd.제 메톡시메틸타입멜라민 화합물(상품명: NIKALAC(등록상표) MW-30, NIKALAC MW-22, NIKALAC MW-11, NIKALAC MS-001, NIKALAC MX-002, NIKALAC MX-730, NIKALAC MX-750, NIKALAC MX-035), 부톡시메틸타입멜라민 화합물(상품명: NIKALAC(등록상표) MX-45, NIKALAC MX-410, NIKALAC MX-302) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the alkoxymethylated melamine include, for example, hexamethoxymethylmelamine and the like. As a commercial product, a methoxymethyl type melamine compound (trade names: CYMEL (registered trademark) 300, CYMEL 301, CYMEL 303, CYMEL 350) manufactured by Mitsui Cytec, Ltd. (now Nihon Cytec Industries Inc.), a butoxymethyl type melamine compound (Trade name: MYCOAT (registered trademark) 506, MYCOAT 508); NIKALAC (registered trademark) MW-30, NIKALAC MW-22, NIKALAC MW-11, NIKALAC MS-001, NIKALAC MX-002 and NIKALAC MX-002 manufactured by Sanwa Chemical Industrial Co., 730, NIKALAC MX-750, NIKALAC MX-035), and butoxymethyl type melamine compounds (trade names: NIKALAC (registered trademark) MX-45, NIKALAC MX-410 and NIKALAC MX-302).

또한, 이러한 아미노기의 수소원자가 메틸올기 또는 알콕시메틸기로 치환된 멜라민 화합물, 요소 화합물, 글리콜우릴 화합물 및 벤조구아나민 화합물을 축합시켜 얻어지는 화합물일 수도 있다. 예를 들어, 미국특허 제6323310호에 기재되어 있는 멜라민 화합물 및 벤조구아나민 화합물로부터 제조되는 고분자량의 화합물을 들 수 있다. 상기 멜라민 화합물의 시판품으로는, 상품명: CYMEL(등록상표) 303(Mitsui Cytec, Ltd.제)(현: Nihon Cytec Industries Inc.)) 등을 들 수 있고, 상기 벤조구아나민 화합물의 시판품으로는, 상품명: CYMEL(등록상표) 1123(Mitsui Cytec, Ltd.제)(현: Nihon Cytec Industries Inc.)) 등을 들 수 있다.
A compound obtained by condensing a melamine compound, a urea compound, a glycoluril compound and a benzoguanamine compound in which the hydrogen atom of the amino group is substituted with a methylol group or an alkoxymethyl group. For example, a high molecular weight compound prepared from a melamine compound and a benzoguanamine compound described in U.S. Patent 6,323,310 can be mentioned. Commercially available products of the above-mentioned melamine compounds include CYMEL (registered trademark) 303 (manufactured by Mitsui Cytec, Ltd.) (currently, Nihon Cytec Industries Inc.) (Trade name: CYMEL (registered trademark) 1123 (manufactured by Mitsui Cytec, Ltd.) (currently, Nihon Cytec Industries Inc.)).

또한, (C)성분으로는, N-하이드록시메틸(메트)아크릴아미드, N-메톡시메틸(메트)아크릴아미드, N-에톡시메틸(메트)아크릴아미드, N-부톡시메틸(메트)아크릴아미드 등의 하이드록시메틸기 또는 알콕시메틸기로 치환된 아크릴아미드 화합물 또는 메타크릴아미드 화합물을 사용하여 제조되는 폴리머도 이용할 수 있다. 또한, (메트)아크릴아미드란 메타크릴아미드와 아크릴아미드의 쌍방을 의미한다.
Examples of the component (C) include N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl (meth) Acrylamide or an acrylamide compound substituted with an alkoxymethyl group, or a polymer prepared by using a methacrylamide compound. Further, (meth) acrylamide means both of methacrylamide and acrylamide.

이러한 폴리머로는, 예를 들어, 폴리(N-부톡시메틸아크릴아미드), N-부톡시메틸아크릴아미드와 스티렌의 공중합체, N-하이드록시메틸메타크릴아미드와 메틸메타크릴레이트의 공중합체, N-에톡시메틸메타크릴아미드와 벤질메타크릴레이트의 공중합체, 및, N-부톡시메틸아크릴아미드와 벤질메타크릴레이트와 2-하이드록시프로필메타크릴레이트의 공중합체 등을 들 수 있다. 이러한 폴리머의 중량평균분자량은, 1,000~500,000이며, 바람직하게는, 2,000~200,000이며, 보다 바람직하게는 3,000~150,000이며, 더욱 바람직하게는 3,000~50,000이다.
Such polymers include, for example, poly (N-butoxymethylacrylamide), copolymers of N-butoxymethylacrylamide and styrene, copolymers of N-hydroxymethylmethacrylamide and methylmethacrylate, A copolymer of N-ethoxymethylmethacrylamide and benzylmethacrylate, and a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and benzylmethacrylate and 2-hydroxypropylmethacrylate. The weight average molecular weight of such a polymer is 1,000 to 500,000, preferably 2,000 to 200,000, more preferably 3,000 to 150,000, and still more preferably 3,000 to 50,000.

이들 가교제는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
These crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 있어서의 (C)성분의 가교제의 함유량은, (A)성분인 광배향성기를 갖는 화합물 및 광배향성기를 갖는 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종과 (B)성분의 폴리머의 합계량의 100질량부에 기초하여 10질량부~400질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15질량부~200질량부이다. 가교제의 함유량이 과소인 경우에는, 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막의 용제내성 및 내열성이 저하되고, 광배향시의 배향감도가 저하된다. 한편, 함유량이 과대인 경우에는 광배향성 및 보존안정성이 저하되는 경우가 있다.
The content of the crosslinking agent in the component (C) in the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention is preferably selected from the group consisting of a compound having a photo-orientable group and a polymer having a photo- Is preferably 10 parts by mass to 400 parts by mass, more preferably 15 parts by mass to 200 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the polymer of the component (B). When the content of the crosslinking agent is too low, the solvent resistance and heat resistance of the cured film obtained from the cured film-forming composition are lowered, and the orientation sensitivity at the time of photo curing is lowered. On the other hand, when the content is excessive, the photoalignment property and the storage stability may be deteriorated.

[(D)성분][Component (D)] [

본 발명의 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물은, 상기 (C)성분과 함께, (C)성분과 열가교가능한 기와 (메트)아크릴기를 갖는 화합물을 (D)성분으로서 함유할 수 있다. 또한 (메트)아크릴기란 메타크릴기와 아크릴기의 쌍방을 의미한다.The composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention comprises the component (C), a compound having a group capable of thermally crosslinking with the component (C) and a compound having a (meth) &Lt; / RTI &gt; In addition, (meth) acrylic group means both methacryl group and acrylic group.

(D)성분의 화합물은, 본 발명의 광학필름에 있어서의 경화막을 배향재로서 이용한 경우에, 그 위에 형성되는 경화된 중합성 액정의 층의 사이의 밀착성을 강화하도록, 즉 밀착성 향상성분으로서 기능한다.When the cured film of the optical film of the present invention is used as an alignment material, the compound of the component (D) functions as a component for improving the adhesion between layers of the cured polymerizable liquid crystal formed thereon, do.

바람직하게는, (D)성분으로서, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물이다.
Preferably, the component (D) is a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryl group.

(D)성분을 함유하는 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물로부터 형성되는 경화막을 액정배향막으로서 이용하는 경우, 액정배향막(경화막)과 그 위에 형성되는 중합성 액정의 층과의 밀착성이 향상되도록, 중합성 액정의 중합성 관능기와 액정배향막에 포함되는 가교반응부위를 공유결합에 의해 링크시킬 수 있다. 그 결과, 본 실시형태의 배향재 상에 경화된 중합성 액정을 적층하여 이루어지는 본 실시형태의 위상차재는, 고온고질의 조건하에서도, 강한 밀착성을 유지할 수 있고, 박리 등에 대한 높은 내구성을 나타낼 수 있다.
When a cured film formed from a composition for forming a cured film on the surface in the optical film of the present invention containing the component (D) is used as a liquid crystal alignment film, a liquid crystal alignment film (cured film) and a layer of a polymerizable liquid crystal The crosslinkable reaction site included in the liquid crystal alignment film and the polymerizable functional group of the polymerizable liquid crystal can be linked by a covalent bond. As a result, the retarder of the present embodiment, which is formed by laminating the cured polymerizable liquid crystal on the alignment material of the present embodiment, can maintain strong adhesion even under conditions of high temperature and high quality, and can exhibit high durability against peeling and the like .

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (D)성분의 함유량은, (A)성분인 광배향성기를 갖는 화합물 및 광배향성기를 갖는 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종과 (B)성분의 폴리머와 (C)인 가교제와의 합계량의 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1질량부~40질량부이며, 더욱 바람직하게는 5질량부~35질량부이다. (D)성분의 함유량을 0.1질량부 이상으로 함으로써, 형성되는 경화막에 중합성 액정층에 대한 충분한 밀착성을 부여할 수 있다. 그러나, 40질량부보다 많은 경우, 경화막 형성 조성물의 보존안정성이 저하되는 경우가 있다.
The content of the component (D) in the cured film-forming composition of the embodiment of the present invention is such that the content of the component (A) is at least one selected from the group consisting of a compound having a photo-orientable group and a polymer having a photo- Is preferably 0.1 part by mass to 40 parts by mass, more preferably 5 parts by mass to 35 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the polymer of component (C) and the crosslinking agent of (C). When the content of the component (D) is 0.1 part by mass or more, sufficient adhesion to the polymerizable liquid crystal layer can be imparted to the cured film to be formed. However, if it is more than 40 parts by mass, the storage stability of the cured film-forming composition may be deteriorated.

또한, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 있어서, (D)성분은, (D)성분의 화합물의 복수종의 혼합물일 수도 있다.
In the composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention, the component (D) may be a mixture of a plurality of compounds of the component (D).

이하에, (D)성분의 화합물의 바람직한 예를 든다. 또한, (D)성분의 화합물은, 이하의 화합물예로 한정되는 것은 아니다.
Preferable examples of the compound of the component (D) are given below. The compound of component (D) is not limited to the following compound examples.

[화학식 7](7)

Figure pct00007

Figure pct00007

(상기 식 중, R41은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, m은 1~10의 정수를 나타낸다.)
(Wherein R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group, and m represents an integer of 1 to 10.)

[(E)성분][Component (E)] [

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물은, 상기 서술한 (A)성분 및 (B)성분, 나아가 필요에 따라 (C)성분, (D)성분에 더하여, 추가로 (E)성분으로서 가교촉매를 함유할 수 있다.The composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention may further comprise (E) a component (A) and / or a component (B) ) Component as a crosslinking catalyst.

(E)성분인 가교촉매로는, 예를 들어, 산 또는 열산발생제를 들 수 있다. 이 (E)성분은, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물을 이용한 경화막의 형성에 있어서, 열경화 반응의 촉진에 유효해진다.
As the crosslinking catalyst as the component (E), for example, an acid or a thermal acid generator may be mentioned. This component (E) is effective for promoting the thermosetting reaction in the formation of the cured film using the composition forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention.

(E)성분으로서 산 또는 열산발생제를 이용한 경우, (E)성분은, 설폰산기함유 화합물, 염산 또는 그 염, 프리베이크 또는 포스트베이크 시에 열분해하여 산을 발생하는 화합물, 즉 온도 80℃~250℃에서 열분해하여 산을 발생하는 화합물이면 특별히 한정되는 것은 아니다.
When an acid or a thermal acid generator is used as the component (E), the component (E) is a compound capable of generating an acid by thermal decomposition at a sulfonic acid group-containing compound, hydrochloric acid or its salt, prebake or postbake, Is not particularly limited as far as it is a compound which generates an acid by pyrolysis at 250 ° C.

이러한 화합물로는, 예를 들어, 염산, 메탄설폰산, 에탄설폰산, 프로판설폰산, 부탄설폰산, 펜탄설폰산, 옥탄설폰산, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산, 캠퍼설폰산, 트리플루오로메탄설폰산, p-페놀설폰산, 2-나프탈렌설폰산, 메시틸렌설폰산, p-자일렌-2-설폰산, m-자일렌-2-설폰산, 4-에틸벤젠설폰산, 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로옥탄설폰산, 퍼플루오로(2-에톡시에탄)설폰산, 펜타플루오로에탄설폰산, 노나플루오로부탄-1-설폰산, 도데실벤젠설폰산 등의 설폰산 또는 그 수화물이나 염 등을 들 수 있다.
Such compounds include, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, octanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p- toluenesulfonic acid, P-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, But are not limited to, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctanesulfonic acid, perfluoro (2-ethoxyethanesulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutane- Or a hydrate thereof or a salt thereof.

또한, 열에 의해 산을 발생하는 화합물로는, 예를 들어, 비스(토실옥시)에탄, 비스(토실옥시)프로판, 비스(토실옥시)부탄, p-니트로벤질토실레이트, o-니트로벤질토실레이트, 1,2,3-페닐렌트리스(메틸설포네이트), p-톨루엔설폰산피리디늄염, p-톨루엔설폰산모포늄(p-トルエンスルホン酸モルフォニウム)염, p-톨루엔설폰산에틸에스테르, p-톨루엔설폰산프로필에스테르, p-톨루엔설폰산부틸에스테르, p-톨루엔설폰산이소부틸에스테르, p-톨루엔설폰산메틸에스테르, p-톨루엔설폰산페네틸에스테르, 시아노메틸p-톨루엔설포네이트, 2,2,2-트리플루오로에틸p-톨루엔설포네이트, 2-하이드록시부틸p-토실레이트, N-에틸-4-톨루엔설폰아미드, 및 하기 식[PAG-1]~식[PAG-41]로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
Examples of the compound capable of generating an acid upon exposure to heat include bis (tosyloxy) ethane, bis (tosyloxy) propane, bis (tosyloxy) butane, p-nitrobenzyl tosylate, P-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonyl p-toluenesulfonate, p-toluenesulfonyl p-toluenesulfonate, Toluenesulfonic acid butyl ester, p-toluenesulfonic acid isobutyl ester, p-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenetyl ester, cyanomethyl p-toluenesulfonate, 2 Toluene sulfonate, 2-hydroxybutyl p-tosylate, N-ethyl-4-toluenesulfonamide and the following formulas [PAG-1] to [PAG- And the like.

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pct00008

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[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pct00009

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[화학식 10][Chemical formula 10]

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[화학식 11](11)

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[화학식 12][Chemical Formula 12]

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[화학식 13][Chemical Formula 13]

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[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure pct00014

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본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (E)성분의 함유량은, (A)성분인 광배향성기를 갖는 화합물 및 광배향성기를 갖는 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종, (B)성분인 폴리머, (C)성분인 가교제, 그리고 (D)성분인 밀착성 향상성분과의 합계량의 100질량부에 대하여, 0.01질량부~20질량부, 바람직하게는 0.01질량부~10질량부, 보다 바람직하게는 0.05질량부~8질량부, 더욱 바람직하게는 0.1질량부~6질량부이다. (E)성분의 함유량을 0.01질량부 이상으로 함으로써, 충분한 열경화성과 용제내성을 부여할 수 있고, 노광에 대한 높은 감도도 부여할 수 있다. 또한, 20질량부 이하로 함으로써, 경화막 형성 조성물의 보존안정성을 양호하게 할 수 있다.
The content of the component (E) in the cured film-forming composition of the embodiment of the present invention is preferably at least one selected from the group consisting of a compound having a photo-orientable group as a component (A) and a polymer having a photo- , Preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.01 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the total amount of the polymer as the component (C), the crosslinking agent as the component (C) Preferably 0.05 parts by mass to 8 parts by mass, more preferably 0.1 parts by mass to 6 parts by mass. When the content of the component (E) is 0.01 part by mass or more, sufficient thermosetting property and solvent resistance can be imparted, and high sensitivity to exposure can be given. When the amount is 20 parts by mass or less, the storage stability of the cured film forming composition can be improved.

[기타 첨가제][Other additives]

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있다.The cured film-forming composition of the embodiment of the present invention may contain other additives as long as the effect of the present invention is not impaired.

기타 첨가제로는, 예를 들어, 증감제를 함유할 수 있다. 증감제는, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성함에 있어서, 그 광반응을 촉진함에 있어서 유효해진다.
Other additives may include, for example, sensitizers. The sensitizer is effective in promoting the photoreaction in forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention.

증감제로는, 벤조페논, 안트라센, 안트라퀴논 및 티옥산톤 등의 유도체 그리고 니트로페닐 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중 벤조페논의 유도체인 N,N-디에틸아미노벤조페논, 및 니트로페닐 화합물인 2-니트로플루오렌, 2-니트로플루오레논, 5-니트로아세나프텐, 4-니트로비페닐, 4-니트로계피산, 4-니트로스틸벤, 4-니트로벤조페논, 5-니트로인돌이 특히 바람직하다.
Examples of the sensitizer include derivatives such as benzophenone, anthracene, anthraquinone and thioxanthone, and nitrophenyl compounds. Of these, N, N-diethylaminobenzophenone, a benzophenone derivative, and nitrophenyl compounds such as 2-nitrofluorene, 2-nitrofluorenone, 5-nitroasenaphthene, 4-nitrobiphenyl, Nitrostevanone, 4-nitrobenzophenone, 5-nitroindole are particularly preferable.

이들 증감제는 특히 상기 서술한 것으로 한정되는 것은 아니다. 이들은, 단독 또는 2종 이상의 화합물을 병용하는 것이 가능하다.
These sensitizers are not particularly limited to those described above. These can be used alone or in combination of two or more compounds.

본 발명의 실시형태에 있어서, 증감제의 사용비율은, (A)성분의 100질량부에 대하여 0.1질량부~20질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2질량부~10질량부이다. 이 비율이 과소인 경우에는, 증감제로서의 효과를 충분히 얻지 못하는 경우가 있으며, 과대인 경우에는, 형성되는 경화막의 투과율이 저하되거나 도막이 거칠어지는 경우가 있다.
In the embodiment of the present invention, the ratio of the sensitizer used is preferably 0.1 part by mass to 20 parts by mass, more preferably 0.2 parts by mass to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the component (A). If the ratio is too small, the effect as a sensitizer may not be sufficiently obtained. In the case where the ratio is too large, the transmittance of the formed cured film may be lowered or the coating film may be roughened.

또한, 본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 기타 첨가제로서, 실란커플링제, 계면활성제, 레올로지조정제, 안료, 염료, 보존안정제, 소포제, 산화방지제 등을 함유할 수 있다.
The cured film-forming composition of the embodiment of the present invention may contain, as other additives, a silane coupling agent, a surfactant, a rheology modifier, a pigment, a dye, a storage stabilizer, a defoaming agent, And the like.

[용제][solvent]

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 용제에 용해된 용액상태로 이용되는 경우가 많다. 이 때 이용되는 용제는, (A)성분 및 (B)성분, 필요에 따라 (C)성분, (D)성분, (E)성분, 및/또는, 기타 첨가제를 용해하는 것이며, 이러한 용해능을 갖는 용제이면, 그 종류 및 구조 등은 특별히 한정되는 것은 아니다.
The cured film-forming composition of the embodiment of the present invention is often used in the form of a solution dissolved in a solvent. The solvent used here is one which dissolves the component (A) and the component (B), and optionally the component (C), the component (D), the component (E) and / or other additives, The type and structure thereof are not particularly limited.

용제의 구체예를 들면, 예를 들어, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 시클로펜틸메틸에테르, 톨루엔, 자일렌, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥사논, 2-부탄온, 3-메틸-2-펜탄온, 2-펜탄온, 2-헵탄온, γ-부티로락톤, 2-하이드록시프로피온산에틸, 2-하이드록시-2-메틸프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 하이드록시아세트산에틸, 2-하이드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 유산에틸, 유산부틸, 아세트산n-프로필, 아세트산이소프로필, 이소프로판올, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 및 N-메틸-2-피롤리돈 등을 들 수 있다.
Specific examples of the solvent include, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene Propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, cyclopentyl methyl ether, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2- Butanone, 2-pentanone, 2-pentanone, 2-heptanone,? -Butyrolactone, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2- methylpropionate, ethyl ethoxyacetate , Ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate , Ethyl 3-ethoxypropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, isopropanol, N, N-dimethylformamide, Acetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone.

이들 용제는, 1종 단독으로, 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수 있다. 이들 용제 중, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵탄온, 프로필렌글리콜프로필에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 아세트산에틸, 유산에틸, 유산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸 및 3-에톡시프로피온산메틸은 성막성이 양호하고 안전성이 높으므로 보다 바람직하다.
These solvents may be used singly or in combination of two or more. Of these solvents, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, ethyl acetate, Methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate are preferable because of good film-forming properties and high safety.

<경화막 형성 조성물의 조제>&Lt; Preparation of cured film forming composition >

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물은, 상기 서술한 바와 같이, (A)성분인 광배향성분, (B)성분인 메타크릴산알킬에스테르 또는 아크릴산알킬에스테르를 단위구조로서 갖는 폴리머가 용제에 용해된 것이다. 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물은, 추가로, (C)성분인 가교제, (D)성분인 밀착성 향상성분(하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물), (E)성분으로서 가교촉매를 함유할 수 있다. 그리고, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있다.
As described above, the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention is a composition wherein the photo-alignment component (A), the methacrylic acid alkyl ester or the acrylic acid alkyl ester (B) Is dissolved in a solvent. The composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention may further contain a crosslinking agent as the component (C), a compound having a hydroxyl group and a (meth) acrylic group as the component (D) E) component as a crosslinking catalyst. Other additives may be added as long as the effect of the present invention is not impaired.

(A)성분과 (B)성분의 배합비(함유비)는, 질량비로 5:95~90:10이 바람직하다. (B)성분의 함유량이 과대인 경우는 액정배향성이 저하되기 쉽고, 과소인 경우는 용제내성이 저하됨으로써 배향성이 저하되기 쉽다.
The mixing ratio (content ratio) of the component (A) to the component (B) is preferably from 5:95 to 90:10 in terms of the mass ratio. When the content of the component (B) is excessive, the liquid crystal alignability tends to deteriorate. If the content of the component (B) is too low, the solvent resistance tends to decrease.

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물의 바람직한 예는, 이하와 같다.
Preferable examples of the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention are as follows.

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95~90:10이며, (A)성분과 (B)성분의 합계량의 100질량부에 기초하여, 10질량부~400질량부의 (C)성분을 함유하는 경화막 형성 조성물.
[1] A positive electrode active material composition for a lithium secondary battery according to any one of [1] to [6], wherein a mixing ratio of the component (A) to the component (B) is 5:95 to 90:10 in terms of a mass ratio and 10 parts by mass to 100 parts by mass, And 400 parts by mass of the component (C).

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95~90:10이며, (A)성분과 (B)성분의 합계량의 100질량부에 기초하여, 10질량부~400질량부의 (C)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.
[1] A positive electrode active material composition for a lithium secondary battery according to any one of [1] to [6], wherein a mixing ratio of the component (A) to the component (B) is 5:95 to 90:10 in terms of a mass ratio and 10 parts by mass to 100 parts by mass, , 400 parts by mass of component (C), and a solvent.

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95~90:10이며, (A)성분과 (B)성분의 합계량의 100질량부에 기초하여, 10질량부~400질량부의 (C)성분, (A)성분과 (B)성분과 (C)성분의 합계량의 100질량부에 기초하여, 0.1질량부~40질량부의 (D)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.
[1] A positive electrode active material composition for a lithium secondary battery according to any one of [1] to [6], wherein a mixing ratio of the component (A) to the component (B) is 5:95 to 90:10 in terms of a mass ratio and 10 parts by mass to 100 parts by mass, (D) component based on 100 parts by mass of the total of the component (A), the component (B), and the component (C) in an amount of 0.1 part by mass to 40 parts by mass, Forming composition.

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95~90:10이며, (A)성분과 (B)성분의 합계량의 100질량부에 기초하여, 10질량부~400질량부의 (C)성분, (A)성분과 (B)성분과 (C)성분의 합계량의 100질량부에 기초하여, 0.1질량부~40질량부의 (D)성분, (A)성분과 (B)성분과 (C)성분과 (D)성분의 합계량의 100질량부에 기초하여, 0.01질량부~20질량부의 (E)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.
[1] A positive electrode active material composition for a lithium secondary battery according to any one of [1] to [6], wherein a mixing ratio of the component (A) to the component (B) is 5:95 to 90:10 in terms of a mass ratio and 10 parts by mass to 100 parts by mass, (D) component, (A) component and (B) component, based on 100 parts by mass of the total of (A), (B) and (C) (E) component and a solvent, based on 100 parts by mass of the total amount of the component (B), the component (C), and the component (D).

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물을 용액으로서 이용하는 경우의 배합비율, 조제방법 등을 이하에 상술한다.The composition ratio, preparation method and the like when a composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention is used as a solution will be described in detail below.

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물에 있어서의 고형분의 비율은, 각 성분이 균일하게 용제에 용해되어 있는 한, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1질량%~80질량%이며, 바람직하게는 2질량%~60질량%이며, 보다 바람직하게는 3질량%~40질량%이다. 여기서, 고형분이란, 경화막 형성 조성물의 전체 성분으로부터 용제를 제외한 것을 말한다.
The proportion of the solid content in the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in the solvent, but it is preferably 1% by mass to 80% , Preferably 2% by mass to 60% by mass, and more preferably 3% by mass to 40% by mass. Here, the solid content refers to the solvent excluding the entire components of the cured film forming composition.

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물의 조제방법은, 특별히 한정되지 않는다. 조제법으로는, 예를 들어, 용제에 용해된 (B)성분의 용액에 (A)성분, 나아가 필요에 따라 (C)성분, 더 나아가 (D)성분, (E)성분을 소정의 비율로 혼합하고, 균일한 용액으로 하는 방법, 또는, 이 조제법의 적당한 단계에 있어서, 필요에 따라 기타 첨가제를 더욱 첨가하여 혼합하는 방법을 들 수 있다.
The method of preparing the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention is not particularly limited. In the preparation method, for example, a solution of the component (A), and optionally the component (C), furthermore, the component (D) and the component (E) are mixed in a predetermined ratio And a method in which a homogeneous solution is prepared, or a method in which other additives are further added and mixed at an appropriate stage of this preparation method, if necessary.

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막을 형성하는 조성물의 조제에 있어서는, 상기 서술한 바와 같이, 용제 중의 중합반응에 의해 얻어지는 특정 공중합체((A)성분)나 특정 공중합체 2((B)성분)의 용액을 그대로 사용할 수 있다. 이 경우, 예를 들어, 상기 서술의 광이량화 부위를 갖는 모노머와 열가교 부위를 갖는 모노머와 필요에 따라 그 이외의 모노머를 공중합시켜 얻어지는 (A)성분의 용액에, 상기 서술의 특정 모노머X와 열가교가능한 치환기를 갖는 모노머와 그 이외의 모노머를 공중합시켜 얻어지는 (B)성분의 용액, 나아가 필요에 따라 (C)성분, 더 나아가, (D)성분, (E)성분 등을 첨가하여 균일한 용액으로 한다. 이때, 농도조정을 목적으로 하여 더욱 용제를 추가 투입할 수도 있다. 이때, (A)성분 및 (B)성분의 제조과정에서 이용되는 용제와, 경화막 형성 조성물의 농도조정에 이용되는 용제와는 동일할 수도 있고, 또한 상이할 수도 있다.
In the preparation of the composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention, the specific copolymer (component (A)) obtained by the polymerization reaction in a solvent and the specific copolymer 2 ((B ) Component) can be used as it is. In this case, to the solution of the component (A) obtained, for example, by copolymerizing the above-described monomer having a photo-dimerization site, a monomer having a thermal crosslinking site and other monomers as required, (B) component obtained by copolymerizing a monomer having a thermally crosslinkable substituent with other monomers and further adding a component (C), furthermore, a component (D) and an ingredient (E) Solution. At this time, the solvent may be further added for the purpose of concentration adjustment. At this time, the solvent used in the production of the component (A) and the component (B) may be the same as or different from the solvent used for adjusting the concentration of the cured film forming composition.

또한, 조제된 경화막 형성 조성물의 용액은, 구멍직경이 0.2μm 정도인 필터 등을 이용하여 여과한 후, 경화막의 형성에 사용하는 것이 바람직하다.
The solution of the prepared cured film-forming composition is preferably used for forming a cured film after filtration using a filter having a pore diameter of about 0.2 탆 or the like.

<광학필름>&Lt; Optical film &

본 발명의 광학필름은, 바람직하게는 상기 서술의 경화막 형성 조성물의 용액을 아크릴필름기재 상에, 바코트, 회전도포, 흘림도포, 롤도포, 슬릿도포, 슬릿에 계속된 회전도포, 잉크젯도포, 인쇄 등에 의해 도포하여 도막을 형성하고, 그 후, 핫플레이트 또는 오븐 등으로 가열건조함으로써, 경화막을 형성함으로써 얻어진다.The optical film of the present invention is preferably obtained by applying a solution of the cured film-forming composition described above onto an acrylic film substrate by means of bar coating, spin coating, flow coating, roll coating, slit coating, , Printing or the like to form a coating film, and thereafter, heating and drying the coated film with a hot plate or an oven to form a cured film.

상기 아크릴필름으로는 메타크릴산알킬에스테르 및/또는 아크릴산알킬에스테르를 성분으로 한 공중합체 등으로 이루어진 필름을 적절히 사용할 수 있다. 또한 기재로서 사용하는 아크릴필름은, 그 막두께가 20~100μm인 것이 바람직하다.
As the acrylic film, a film comprising a copolymer of alkyl methacrylate and / or acrylic acid alkyl ester may be suitably used. The acrylic film used as the base material preferably has a thickness of 20 to 100 占 퐉.

가열건조의 조건으로는, 액정배향막으로서 경화막을 사용했을 때, 이 액정배향막의 성분이, 그 위에 도포되는 중합성 액정용액에 용출되지 않을 정도로 경화반응이 진행되면 되는데, 예를 들어, 온도 60℃~200℃, 시간 0.4분간~60분간의 범위 내에서 적당히 선택된 가열온도 및 가열시간이 채용된다. 가열온도 및 가열시간은, 바람직하게는 70℃~160℃, 0.5분간~10분간이다.
As a condition for heating and drying, when a cured film is used as a liquid crystal alignment film, the curing reaction proceeds so that the components of the liquid crystal alignment film do not dissolve in the polymerizable liquid crystal solution applied thereon. For example, A heating temperature and a heating time suitably selected within a range of from -20 ° C to a time of from 0.4 minute to 60 minutes are employed. The heating temperature and heating time are preferably 70 ° C to 160 ° C for 0.5 minute to 10 minutes.

본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막의 막두께는, 예를 들어, 0.05μm~5μm이며, 기재로서 사용하는 아크릴필름의 단차나 광학적, 전기적 성질을 고려하여 적당히 선택할 수 있다.
The film thickness of the cured film on the surface of the optical film of the present invention is, for example, 0.05 to 5 占 퐉 and can be appropriately selected in consideration of the step difference of the acrylic film used as the substrate and the optical and electrical properties.

이와 같이 하여 제작된 본 발명의 광학필름은, 편광 UV조사를 행함으로써, 기재 상에 형성된 경화막을 액정배향막으로서, 즉, 중합성 액정 등을 포함한 액정성을 갖는 화합물을 배향시키는 부재로서 기능시킬 수 있고, 이 광학필름을 배향재로서 사용할 수 있다.
The optical film of the present invention produced in this way can be used as a member for orienting a cured film formed on a substrate as a liquid crystal alignment film, that is, for orienting a liquid crystalline compound containing a polymerizable liquid crystal or the like And this optical film can be used as an alignment material.

편광 UV의 조사방법으로는, 통상 150nm~450nm의 파장의 자외광~가시광이 이용되고, 실온 또는 가열한 상태로, 수직 또는 기울기 방향으로부터 직선편광을 조사함으로써 행해진다.
As a method of irradiating polarized UV, ultraviolet light to visible light having a wavelength of 150 nm to 450 nm is usually used and irradiated with linearly polarized light from a vertical or inclined direction at room temperature or in a heated state.

본 발명의 배향재에 있어서, 액정배향막이 되는 경화막은 내용제성 및 내열성을 가지고 있기 때문에, 이 배향재 상에, 중합성 액정용액으로 이루어진 위상차 재료를 도포한 후, 그 액정의 상전이온도까지 가열함으로써 위상차 재료를 액정상태로 하고, 배향재 상에서 배향시킨다. 그리고, 원하는 배향상태가 된 위상차 재료를 그대로 경화시켜, 광학이방성을 갖는 층을 갖는 위상차재를 형성할 수 있다.
In the alignment material of the present invention, since the cured film to be a liquid crystal alignment film has solvent resistance and heat resistance, a phase difference material comprising a polymerizable liquid crystal solution is coated on the alignment material and then heated to the phase transition temperature of the liquid crystal The phase difference material is put into a liquid crystal state and aligned on the alignment material. Then, the retardation material having the optically anisotropic layer can be formed by directly curing the retardation material in the desired alignment state.

위상차 재료로는, 예를 들어, 중합성기를 갖는 액정모노머 및 이를 함유하는 조성물 등이 이용된다. 그리고, 본 발명에 있어서는 배향재에 있어서의 기재가 아크릴필름인 점에서, 본 발명의 위상차재는, 위상차필름으로서 유용해진다. 이러한 위상차재를 형성하는 위상차 재료는, 액정상태가 되어, 배향재 상에서, 수평배향, 콜레스테릭배향, 수직배향, 하이브리드배향 등의 배향상태를 취하는 것이 있으며, 각각 필요시되는 위상차 특성에 따라 구분하여 사용할 수 있다.
As the retardation material, for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group and a composition containing the liquid crystal monomer are used. In the present invention, since the base material in the alignment material is an acrylic film, the retardation film of the present invention is useful as a retardation film. The retardation material forming such a retardation material is in a liquid crystal state and has an alignment state such as a horizontal alignment, a cholesteric alignment, a vertical alignment, and a hybrid alignment on the alignment material. Can be used.

또한, 3D디스플레이에 이용되는 패턴화 위상차재를 제조하는 경우에는, 본 발명의 광학필름에 있어서의 표면의 경화막에, 라인앤드스페이스패턴의 마스크를 개재하여 소정의 기준으로부터, 예를 들어, +45도의 방향으로 편광 UV 노광하고, 이어서, 마스크를 분리하고 나서 -45도의 방향으로 편광 UV를 보다 적은 노광량으로 노광한다. 이에 따라, 이 필름표면의 경화막을 액정의 배향제어방향이 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 액정배향막으로 하고, 이 광학필름을 배향재로 할 수 있다. 그 후, 중합성 액정용액으로 이루어진 위상차 재료를 배향재 상에 도포한 후, 액정의 상전이온도까지 가열함으로써 위상차 재료를 액정상태로 한다. 액정상태가 된 중합성 액정은, 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재 상에서 배향하고, 각 액정배향영역에 각각 대응하는 배향상태를 형성한다. 그리고, 이러한 배향상태가 실현된 위상차 재료를 그대로 경화시켜, 상기 서술한 배향상태를 고정화하고, 위상차 특성이 상이한 2종류의 위상차 영역이 각각 복수, 규칙적으로 배치된, 패턴화 위상차재를 얻을 수 있다.
Further, in the case of producing the patterned retardation material for use in the 3D display, the cured film of the surface of the optical film of the present invention is exposed to light from a predetermined standard through a mask of a line and space pattern, for example, Polarized UV exposure in the direction of 45 degrees, and then the polarized UV in the direction of -45 degrees is exposed at a lower exposure dose after the mask is separated. Thus, the cured film of the film surface can be used as a liquid crystal alignment film in which two kinds of liquid crystal alignment regions having different liquid crystal alignment control directions are formed, and this optical film can be used as an alignment material. Thereafter, the retardation material made of the polymerizable liquid crystal solution is coated on the alignment material, and then heated to the phase transition temperature of the liquid crystal to bring the retardation material into a liquid crystal state. The polymerizable liquid crystal in a liquid crystal state is oriented on an alignment material having two kinds of liquid crystal alignment regions, and forms an alignment state corresponding to each liquid crystal alignment region. Then, the retardation material realizing this alignment state is intact, the above-described alignment state is fixed, and a patterned retardation material in which a plurality of two types of retardation regions having different retardation characteristics are arranged in a regular pattern can be obtained .

본 발명의 광학필름은, 액정표시소자의 액정배향막으로서의 이용도 가능하다. 예를 들어, 상기한 바와 같이 하여 형성된, 본 실시형태의 광학필름을 이용하고, 스페이서를 개재하여 양 광학필름에 있어서의 배향재가 서로 마주하도록 맞붙인 후, 이들의 기재간에 액정을 주입하여, 액정이 배향한 액정표시소자를 제조할 수 있다.The optical film of the present invention can be used as a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element. For example, after the optical film of the present embodiment formed as described above is used and the alignment members in the both optical films are brought into contact with each other with the spacer interposed therebetween, liquid crystal is injected between these substrates, The aligned liquid crystal display element can be manufactured.

이에 따라, 본 발명의 광학필름은, 각종 위상차재(위상차필름)나 액정표시소자 등의 제조에 호적하게 이용할 수 있다.
Accordingly, the optical film of the present invention can be suitably used for the production of various retardation films (phase difference films) and liquid crystal display devices.

실시예Example

이하, 실시예를 들어, 본 발명을 더욱 상세하게 설명하는데, 본 발명은, 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

[실시예에서 이용하는 약기호][Abbreviation used in the examples]

이하의 실시예에서 이용하는 약기호의 의미는, 다음과 같다.The meanings of the weak symbols used in the following examples are as follows.

<광배향성기를 갖는 화합물 및 광배향성기를 갖는 폴리머원료>&Lt; Compounds having photo aligning group and polymer raw material having photo aligning group >

CIN1: 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르CIN1: 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid methyl ester

CIN2: 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르와 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트를 1:1로 반응시킨 것CIN2: a product obtained by reacting 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid methyl ester with 2-isocyanatoethyl methacrylate in a ratio of 1: 1

CIN3: 4-(6-메타크릴옥시헥실-1-옥시)계피산메틸에스테르CIN3: 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid methyl ester

<아크릴중합체 원료>&Lt; Acrylic polymer raw material &

MMA: 메틸메타크릴레이트MMA: methyl methacrylate

HEMA: 2-하이드록시에틸메타크릴레이트HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate

THFMA: 테트라하이드로푸르푸릴메타크릴레이트THFMA: tetrahydrofurfuryl methacrylate

BMAA: N-부톡시메틸아크릴아미드BMAA: N-butoxymethyl acrylamide

AIBN: α,α'-아조비스이소부티로니트릴AIBN: α, α'-azobisisobutyronitrile

<가교제><Cross-linking agent>

HMM: 헥사메톡시메틸멜라민HMM: hexamethoxymethyl melamine

<가교촉매>&Lt; Crosslinking catalyst &

PTSA: p-톨루엔설폰산일수화물PTSA: p-toluenesulfonic acid monohydrate

<밀착성 향상성분>&Lt; Adhesion improving component >

C-1: 하기의 구조식으로 표시되는 하이드록시기 및 메타크릴기를 갖는 화합물(C1)
C-1: a compound (C1) having a hydroxyl group and a methacryl group represented by the following structural formula:

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure pct00015

Figure pct00015

C-2: 하기의 구조식으로 표시되는 하이드록시기 및 메타크릴기를 갖는 화합물(C2)
C-2: a compound (C2) having a hydroxyl group and a methacryl group represented by the following structural formula:

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure pct00016

Figure pct00016

C-3: 하기의 구조식으로 표시되는 하이드록시기 및 아크릴기를 갖는 화합물(C3)
C-3: A compound (C3) having a hydroxyl group and an acrylic group represented by the following structural formula:

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure pct00017

Figure pct00017

<용제><Solvent>

PM: 프로필렌글리콜모노메틸에테르PM: Propylene glycol monomethyl ether

PMA: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트PMA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

CHN: 시클로헥사논
CHN: Cyclohexanone

이하의 합성예에 따라 얻어진 아크릴 공중합체의 수평균분자량 및 중량평균분자량은, JASCO Corporation제 GPC장치(Shodex(등록상표) 칼럼 KF803L 및 KF804L)를 이용하고, 용출용매 테트라하이드로퓨란을 유량 1mL/분으로 칼럼 중에(칼럼온도 40℃) 흘려 용리시킨다는 조건으로 측정하였다. 또한, 하기의 수평균분자량(이하, Mn이라고 함) 및 중량평균분자량(이하, Mw라고 함)은, 폴리스티렌 환산값으로 나타내었다.
The number-average molecular weight and the weight-average molecular weight of the acrylic copolymer obtained according to the following Synthesis Example were measured using a GPC apparatus (Shodex (registered trademark) columns KF803L and KF804L) manufactured by JASCO Corporation and eluting solvent tetrahydrofuran at a flow rate of 1 mL / min (Column temperature: 40 占 폚) and eluted. The following number average molecular weight (hereinafter referred to as Mn) and weight average molecular weight (hereinafter referred to as Mw) are shown in polystyrene conversion values.

<합성예 1>&Lt; Synthesis Example 1 &

CIN2 100.0g, HEMA 13.6g, 중합촉매로서 AIBN 1.0g을 PM 443.0g, CHN 111.0g의 혼합용매에 용해하고, 90℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴 공중합체 용액(고형분농도 18질량%)(P1)을 얻었다. 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 8,900, Mw는 20,200이었다.
(Solid content concentration: 18 mass%) (P1) was obtained by dissolving 100.0 g of CIN2, 13.6 g of HEMA and 1.0 g of AIBN as a polymerization catalyst in a mixed solvent of 443.0 g of PM and 111.0 g of CHN and reacting at 90 DEG C for 20 hours. &Lt; / RTI &gt; The acrylic copolymer thus obtained had Mn of 8,900 and Mw of 20,200.

<합성예 2>&Lt; Synthesis Example 2 &

MMA 100.0g, 중합촉매로서 AIBN 1.0g을 PM 404.0g에 용해하고, 80℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴중합체 용액(고형분농도 20질량%)(P2)을 얻었다. 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 15,200, Mw는 31,700이었다.
100.0 g of MMA and 1.0 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 404.0 g of PM and reacted at 80 DEG C for 20 hours to obtain an acrylic polymer solution (solid content concentration 20 mass%) (P2). The obtained acrylic copolymer had Mn of 15,200 and Mw of 31,700.

<합성예 3>&Lt; Synthesis Example 3 &

MMA 100.0g, HEMA 11.1g, 중합촉매로서 AIBN 1.1g을 PM 450.0g에 용해하고, 80℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴 공중합체 용액(고형분농도 20질량%)(P3)을 얻었다. 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 16,700, Mw는 29,900이었다.
100.0 g of MMA, 11.1 g of HEMA and 1.1 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 450.0 g of PM and reacted at 80 DEG C for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution (solid concentration 20 mass%) (P3). The acrylic copolymer thus obtained had Mn of 16,700 and Mw of 29,900.

<합성예 4>&Lt; Synthesis Example 4 &

MMA 100.0g, HEMA 11.1g, 중합촉매로서 AIBN 5.6g을 PM 450.0g에 용해하고, 80℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴 공중합체 용액(고형분농도 20질량%)(P4)을 얻었다. 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 4,200, Mw는 7,600이었다.
100.0 g of MMA, 11.1 g of HEMA and 5.6 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 450.0 g of PM and reacted at 80 DEG C for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution (solid concentration 20 mass%) (P4). The obtained acrylic copolymer had Mn of 4,200 and Mw of 7,600.

<합성예 5>&Lt; Synthesis Example 5 &

MMA 100.0g, HEMA 42.9g, 중합촉매로서 AIBN 1.4g을 PM 657.0g에 용해하고, 80℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴 공중합체 용액(고형분농도 20질량%)(P5)을 얻었다. 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 15,300, Mw는 29,200이었다.
100 g of MMA, 42.9 g of HEMA and 1.4 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 657.0 g of PM and reacted at 80 DEG C for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution (solid concentration 20 mass%) (P5). The obtained acrylic copolymer had Mn of 15,300 and Mw of 29,200.

<합성예 6>&Lt; Synthesis Example 6 &

MMA 50.0g, THFMA 40.0g, HEMA 10.0g, 중합촉매로서 AIBN 1.0g을 PM 404.0g에 용해하고, 80℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴 공중합체 용액(고형분농도 20질량%)(P6)을 얻었다. 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 14,700, Mw는 32,500이었다.
(Solid content concentration 20 mass%) (P6) was obtained by dissolving 50.0 g of MMA, 40.0 g of THFMA, 10.0 g of HEMA and 1.0 g of AIBN as a polymerization catalyst in 404.0 g of PM and reacting at 80 DEG C for 20 hours. The obtained acrylic copolymer had Mn of 14,700 and Mw of 32,500.

<합성예 7>&Lt; Synthesis Example 7 &

HEMA 100.0g, 중합촉매로서 AIBN 1.0g을 PM 404.0g에 용해하고, 80℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴중합체 용액(고형분농도 20질량%)(P7)을 얻었다. 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 14,100, Mw는 27,700이었다.
100.0 g of HEMA and 1.0 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 404.0 g of PM and reacted at 80 DEG C for 20 hours to obtain an acrylic polymer solution (solid content concentration: 20 mass%) (P7). The obtained acrylic copolymer had Mn of 14,100 and Mw of 27,700.

<합성예 8>&Lt; Synthesis Example 8 &

BMAA 100.0g, 중합촉매로서 AIBN 4.2g을 PM 193.5g에 용해하고, 90℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴중합체 용액(고형분농도 35질량%)(P8)을 얻었다. 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 2,700, Mw는 3,900이었다.
100.0 g of BMAA and 4.2 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 193.5 g of PM and reacted at 90 DEG C for 20 hours to obtain an acrylic polymer solution (solid content concentration: 35 mass%) (P8). The obtained acrylic copolymer had 2,700 Mn and 3,900 Mw.

<합성예 9>&Lt; Synthesis Example 9 &

CIN3 100.0g, 중합촉매로서 AIBN 1.0g을 PMA 404.0g에 용해하고, 80℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴중합체 용액(고형분농도 20질량%)(P9)을 얻었다. 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 7,800, Mw는 21,000이었다.
100.0 g of CIN3 and 1.0 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 404.0 g of PMA and reacted at 80 DEG C for 20 hours to obtain an acrylic polymer solution (solid content concentration: 20 mass%) (P9). The obtained acrylic copolymer had Mn of 7,800 and Mw of 21,000.

<기재필름의 제작>&Lt; Production of base film &

기재로서 이용하는 아크릴필름은, 예를 들어 이하의 방법으로 제작할 수 있다. 즉, 메틸메타크릴레이트를 주성분으로 한 공중합체 등으로 이루어진 원료펠릿을 250℃에서 압출기로 용융, T-다이에 통과시키고, 캐스팅롤 및 건조롤 등을 거쳐 두께 40μm인 아크릴필름을 제작할 수 있다.
The acrylic film used as the substrate can be produced, for example, by the following method. That is, raw pellets composed of a copolymer mainly composed of methyl methacrylate are melted at 250 ° C by an extruder, passed through a T-die, and an acrylic film having a thickness of 40 μm can be produced through a casting roll and a drying roll.

<실시예 1~12>&Lt; Examples 1 to 12 >

표 1에 나타낸 조성으로 각 경화막 형성 조성물을 조제하고, 각 경화막 형성 조성물을 기재로서 이용하는 아크릴필름 상에 바코터를 이용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간, 열순환식 오븐 내에서 가열건조를 행하고, 필름 표면에 경화막을 형성하여, 실시예 1~12의 필름을 제작하였다. 이들 실시예의 필름에 대하여, 밀착성, 배향성의 평가를 행하였다.
Each cured film-forming composition was prepared in the composition shown in Table 1, and each cured film-forming composition was coated on an acrylic film using a bar coater, and then heated at 100 ° C for 120 seconds in a thermo-circulating oven Followed by heating and drying to form a cured film on the surface of the film to produce films of Examples 1 to 12. The films of these Examples were evaluated for adhesion and orientation.

[표 1][Table 1]

Figure pct00018

Figure pct00018

<비교예 1~3>&Lt; Comparative Examples 1 to 3 >

표 2에 나타낸 조성으로, 각 경화막 형성 조성물을 조제하고, 실시예와 동일한 방법으로 비교예 1~3의 필름을 제작하였다. 이들 비교예의 필름에 대하여, 밀착성, 배향성의 평가를 행하였다.
Each of the cured film forming compositions was prepared in the compositions shown in Table 2, and films of Comparative Examples 1 to 3 were prepared in the same manner as in Examples. The films of these comparative examples were evaluated for adhesion and orientation.

[표 2][Table 2]

Figure pct00019

Figure pct00019

[밀착성의 평가][Evaluation of adhesion]

실시예 1~11 및 비교예 1~2의 필름에 있어서, 경화막이 형성된 표면에 대하여, 313nm의 직선편광을 수직으로 40mJ/cm2 조사하였다. 실시예 12 및 비교예 3의 필름에 대해서도 마찬가지로 313nm의 직선편광을 수직으로 400mJ/cm2 조사하였다. 노광 후의 기재 상의 경화막의 위에, 수평배향용 중합성 액정용액을 바코터를 이용하여 도포하고, 이어서, 70℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행하여, 막두께 1.0μm의 도막을 형성하였다. 이 도막을 300mJ/cm2로 노광하고, 중합성 액정을 중합시켜, 아크릴필름 상에 중합성 액정의 층을 갖는 위상차재를 제작하였다.In the films of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2, linearly polarized light of 313 nm was vertically irradiated to the surface on which the cured film was formed at 40 mJ / cm 2 . Similarly to the films of Example 12 and Comparative Example 3, linearly polarized light of 313 nm was vertically irradiated at 400 mJ / cm 2 . A polymerizable liquid crystal solution for horizontal orientation was applied on the cured film on the substrate after the exposure by using a bar coater and then prebaked on a hot plate at 70 캜 for 60 seconds to form a coating film having a thickness of 1.0 탆. This coating film was exposed at 300 mJ / cm 2 and the polymerizable liquid crystal was polymerized to prepare a retarder having a polymerizable liquid crystal layer on the acrylic film.

위상차재 표면(중합성 액정의 층이 형성된 표면)에 커터나이프를 이용하여 크로스컷(1mm×1mm×100칸)을 넣고, 그 후, 셀로판테이프를 첩부하였다. 이어서, 그 셀로판테이프를 벗겼을 때에, 중합된 중합성 액정의 층이 하층의 경화막(액정배향막) 그리고 추가로 하층의 필름기재 상에서 벗겨지지 않고 남아 있는 칸의 개수를 카운트하였다. 중합액정의 층이 벗겨지지 않고 남아 있는 칸이 90개 이상 남아 있는 것을, 밀착성이 양호하다고 판단하여 ○로 나타내고, 남아 있는 칸이 90개 미만인 경우를 밀착성이 불량하다고 판단하여 ×로 나타냈다. 얻어진 결과를 표 3에 정리하여 나타낸다.
A cross cut (1 mm x 1 mm x 100 cells) was put on a retardation surface (a surface on which a layer of a polymerizable liquid crystal was formed) using a cutter knife, and then a cellophane tape was stuck. Then, when the cellophane tape was peeled off, the number of the chambers remaining without being peeled off on the cured film (liquid crystal alignment film) of the lower layer and the film substrate of the lower layer was counted. When the layer of the polymerized liquid crystal had not been peeled off, the number of remaining chambers remaining 90 or more was judged to be good and the adhesion was judged to be good. When the number of remaining chambers was less than 90, the adhesion was judged to be poor. The obtained results are summarized in Table 3.

[패턴형성성의 평가][Evaluation of pattern formation property]

실시예 1~11 및 비교예 1~2의 필름에 350μm의 라인앤드스페이스 마스크를 개재하여, 경화막이 형성된 표면에 대하여, 313nm의 직선편광을 40mJ/cm2 수직으로 조사하였다. 이어서, 마스크를 제거하고, 기재를 90도 회전시킨 후, 경화막이 형성된 표면에 대하여, 313nm의 직선편광을 20mJ/cm2 수직으로 조사함으로써, 이 경화막을 액정의 배향제어방향이 90도 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재로 하였다. 마찬가지로, 실시예 12 및 비교예 3의 필름에 350μm의 라인앤드스페이스 마스크를 개재하여, 경화막이 형성된 표면에 대하여, 313nm의 직선편광을 400mJ/cm2 수직으로 조사하였다. 이어서, 마스크를 제거하고, 기재를 90도 회전시킨 후, 경화막이 형성된 표면에 대하여, 313nm의 직선편광을 200mJ/cm2 수직으로 조사함으로써, 이 경화막을 액정의 배향제어방향이 90도 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재로 하였다.The films of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2 were irradiated with linearly polarized light of 313 nm at a rate of 40 mJ / cm 2 perpendicularly to the surface on which the cured film was formed, with a line-and-space mask of 350 m. Subsequently, the substrate was rotated 90 degrees after the mask was removed, and linearly polarized light of 313 nm was irradiated perpendicularly to the surface on which the cured film was formed at 20 mJ / cm &lt; 2 &gt;, whereby the cured film was divided into two types Of the liquid crystal alignment region was formed. Similarly, the films of Example 12 and Comparative Example 3 were irradiated with linearly polarized light of 313 nm at a rate of 400 mJ / cm 2 perpendicularly to the surface on which the cured film was formed, with a 350 μm line and space mask interposed. Subsequently, the substrate was rotated 90 degrees after the mask was removed, and linearly polarized light of 313 nm was irradiated perpendicularly to the surface on which the cured film was formed at a rate of 200 mJ / cm &lt; 2 &gt;, whereby the cured film was divided into two types Of the liquid crystal alignment region was formed.

이 기재 상의 경화막(배향재)의 위에, 수평배향용 중합성 액정용액을, 바코터를 이용하여 도포하고, 이어서, 70℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행하여, 막두께 1.0μm의 도막을 형성하였다. 이 도막을 300mJ/cm2로 노광하고, 중합성 액정을 중합시켜, 상이한 위상차 특성을 갖는 2종류의 영역이 규칙적으로 배열된 패턴화 위상차재를 제작하였다.A polymerizable liquid crystal solution for horizontal orientation was applied on a cured film (alignment material) on this substrate using a bar coater, and then prebaked on a hot plate at 70 캜 for 60 seconds to form a coating film . The coating film was exposed at 300 mJ / cm 2 , and the polymerizable liquid crystal was polymerized to prepare a patterned retardation material in which two kinds of regions having different retardation characteristics were regularly arranged.

제작한 기재 상에 형성된 경화막(배향재) 상의 패턴화 위상차재를, 편광현미경을 이용하여 관찰하고, 배향결함없이 위상차패턴이 형성되어 있는 것을 ○, 배향결함이 보이는 것을 ×로 하여 평가하였다. 평가결과를 표 3에 정리하여 나타낸다.
The patterned phase difference material on the cured film (alignment material) formed on the produced substrate was observed using a polarization microscope, and those in which a phase difference pattern was formed without alignment defects were evaluated as &amp; cir &amp; The evaluation results are summarized in Table 3.

[평가의 결과][Results of evaluation]

이상의 평가를 행한 결과를, 다음의 표 3에 나타낸다.
The results of the above evaluation are shown in Table 3 below.

[표 3][Table 3]

Figure pct00020

Figure pct00020

실시예 1~12는, 제작한 위상차재가, 하층의 경화막 그리고 기재와의 높은 밀착성을 나타내었다. 또한, 모든 실시예에 있어서 제작한 배향재가 액정배향성을 나타내고, 광학 패터닝을 행할 수 있었다.In Examples 1 to 12, the retardation material produced exhibited high adhesiveness to the cured film and substrate of the lower layer. In addition, the alignment material produced in all of the examples exhibited liquid crystal alignability, and optical patterning could be performed.

한편, (B)성분에 기재와의 밀착성이 높은 폴리머를 이용하지 않은 비교예 1 및 2에서는, 광학 패터닝을 행할 수 있었지만, 하층의 경화막 그리고 기재와의 밀착성이 불량하였다. 또한, (B)성분을 이용하지 않은 비교예 3에서는 광학 패터닝을 행할 수 없었다.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2 in which the polymer (B) did not use a polymer having a high adhesion property with the substrate, optical patterning could be performed, but adhesion to the underlying cured film and substrate was poor. In Comparative Example 3 in which component (B) was not used, optical patterning could not be performed.

산업상의 이용가능성Industrial availability

본 발명에 의한 경화막을 형성한 필름은, 액정표시소자의 액정배향재나, 액정표시소자에 내부나 외부에 마련되는 광학이방성 필름을 형성하기 위한 배향재로서 매우 유용하며, 특히, 3D디스플레이의 패턴화 위상차재의 형성재료로서 호적하다. 또한, 박막 트랜지스터(TFT)형 액정표시소자나 유기EL소자 등의 각종 디스플레이에 있어서의 보호막, 평탄화막 및 절연막 등의 경화막을 형성하는 재료, 특히, TFT형 액정소자의 층간절연막, 컬러필터의 보호막 또는 유기EL소자의 절연막 등을 형성하는 재료로서도 호적하다.The film on which the cured film according to the present invention is formed is very useful as a liquid crystal aligning material for a liquid crystal display element or an alignment material for forming an optically anisotropic film provided inside or outside the liquid crystal display element, And is a favorable material for forming a retardation material. In addition, a material for forming a cured film such as a protective film, a planarizing film, and an insulating film in various displays such as a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display element and an organic EL element, especially a material for forming an interlayer insulating film of a TFT type liquid crystal element, Or as a material for forming an insulating film of an organic EL element or the like.

Claims (12)

경화막을 아크릴필름 상에 갖는 광학필름으로서, 이 경화막은,
(A) 광배향성기를 갖는 화합물 및 광배향성기를 갖는 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 및
(B) 하기 식 X로 표시되는 단위구조를 갖는 폴리머
를 함유하는 경화막 형성 조성물에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광학필름.
[화학식 1]
Figure pct00021

(상기 식 중, R1은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소원자수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지상의 알킬기를 나타낸다.)
An optical film having a cured film on an acrylic film,
(A) at least one member selected from the group consisting of a compound having a photo-orientable group and a polymer having a photo-orientable group, and
(B) a polymer having a unit structure represented by the following formula X
Wherein the optical film is formed by a cured film-forming composition containing a curing agent.
[Chemical Formula 1]
Figure pct00021

(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
제1항에 있어서,
(A)성분의 광배향성기가 광이량화 또는 광이성화하는 구조의 관능기인, 광학필름.
The method according to claim 1,
Wherein the photo-orientable group of the component (A) is a functional group having a structure of photo-dimerization or photo-isomerization.
제1항 또는 제2항에 있어서,
(A)성분의 광배향성기가 신나모일기인, 광학필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the photo-orientable group of the component (A) is a cinnamoyl group.
제1항 또는 제2항에 있어서,
(A)성분의 광배향성기가 아조벤젠 구조의 기인, 광학필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the photo-orientable group of the component (A) is a group of an azobenzene structure.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
(A)성분이 광배향성기 외에, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기 중 어느 하나를 갖는 화합물 또는 폴리머이며, 그리고 상기 경화막 형성 조성물은, 추가로,
(C) (A)성분 또는 (B)성분, 혹은 이들 쌍방의 성분과 반응하는 가교제를 함유하는, 광학필름.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
(A) is a compound or a polymer having any one of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group in addition to the photo-aligning group, and the cured film-
(C) an optical film containing a cross-linking agent which reacts with the component (A) or the component (B), or both of these components.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
(B)성분이 상기 식(X) 중, R1 및 R2가 메틸기를 나타내는 구조단위를 갖는 폴리머인, 광학필름.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
(B) is a polymer having a structural unit in which R 1 and R 2 each represent a methyl group in the formula (X).
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
(B)성분의 폴리머 중의, 식(X)로 표시되는 단위구조의 존재비율이, 이 폴리머의 전체 질량에 기초하여 40 내지 100질량%인, 광학필름.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
(X) in the polymer of the component (B) is from 40 to 100% by mass based on the total mass of the polymer.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 경화막 형성 조성물은, (A)성분과 (B)성분의 함유비가 질량비로 5:95 내지 60:40인, 광학필름.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Wherein the curable film forming composition has a content ratio of the component (A) to the component (B) in a mass ratio of 5:95 to 60:40.
제5항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 경화막 형성 조성물은, (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 5질량부 내지 400질량부의 (C)성분을 함유하는, 광학필름.
9. The method according to any one of claims 5 to 8,
The cured film-forming composition contains 5 to 400 parts by mass of the component (C) based on 100 parts by mass of the total of the components (A) and (B).
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 경화막을 액정배향막으로서 이용하는 것을 특징으로 하는, 광학필름.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
Wherein the cured film is used as a liquid crystal alignment film.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 광학필름을 사용하는 형성되는 액정배향재.A liquid crystal alignment material formed using the optical film according to any one of claims 1 to 10. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 광학필름을 사용하여 형성되는 위상차재.A retardation film formed by using the optical film according to any one of claims 1 to 10.
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