KR20150077853A - 파우더 축적방지용 챔버 - Google Patents

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안명헌
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주식회사 테스
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Abstract

본 발명은 파우더 축적방지용 챔버에 관한 것으로서, 챔버본체와, 챔버리드와, 사이드펌핑터널과 연통가능하게 상기 챔버리드의 하부에 설치되는 펌핑채널부와, 상기 챔버본체의 내벽에 설치되는 라이너키트; 및 상기 라이너키트와 상기 챔버본체 사이의 제 1 틈새를 막도록, 상기 펌핑채널부와 상기 라이너키트 사이에서 상기 챔버본체의 내벽에 설치된 제 1 블로킹부와, 상기 펌핑채널부의 상단에 설치되어, 상기 펌핑채널부와 상기 챔버리드 사이의 제 2 틈새로 상기 파우더가 유입되는 것을 방지하는 제 2 블로킹부를 포함하여 구성되며, 제 1 블로킹부와 제 2 블로킹부를 통해 제 1 틈새와 제 2 틈새를 막아, 기판증착공정에서 생긴 파우더가 기판 이송 터널, 라이너키트와 챔버의 내벽사이에 생긴 제 1 틈새와, 챔버리드와 챔버본체에 생긴 제 2 틈새로 유입되는 것을 방지할 수 있고, 세정공정레시피로 파우더의 제거가 어려운 부분인 제 1 틈새 및 또는 제 2 틈새를 블로킹함으로써, 종래에 제 1 틈새 및 또는 제 2 틈새, 그리고 라이너개구에 쌓인 파우더를 제거하기 위하여 챔버 내부를 통기하여 직접적으로 챔버의 내부공간을 세정하는 주기를 길게 할 수 있어, 챔버의 유지보수에 소요되는 시간을 절약할 수 있고, 이와 더불어 챔버의 내구성을 향상시킬 수 있다.

Description

파우더 축적방지용 챔버{CHAMBER FOR PREVENTING POWDER FROM PILING UP A GAP BETWEEN LINER AND WALL OF CHAMBER}
본 발명은 파우더 축적방지용 챔버에 관한 것이며, 상세하게는 기판증착공정에서 생긴 파우더가 기판 이송 터널, 라이너키트와 챔버의 내벽사이에 생긴 틈새로 유입되는 것을 방지할 수 있는 파우더 축적방지용 챔버에 관한 것이다.
일반적으로, CVD법에 의한 기판처리공정에 사용되는 챔버(10)는 도 1에 도시된 바와 같이, 내부에 기판을 가열하는 히터(20)와, 챔버 내벽에 마련되는 라이너키트(50)와, 챔버 내부를 배기하기 위한 펌핑채널부(40)가 설치된다.
그리고, 챔버(10)에는 기판(30)이 챔버(10)의 내부공간(11)으로 출입될 수 있게 하기 위해, 일측에 기판이송개구(12)가 마련된다.
도 1에 도시된 바와 같이, 챔버(10)에는 챔버(10) 내부로 압력을 제공하기 위한 펌핑채널부(40)가 설치된다. 일반적으로 채널에 적용되는 펌핑채널부(40)의 구조로는 바닥타입과 사이드타입이 있는데, 여기서, 사이드타입은 히터(20)를 공정위치로 이송하는데 리프트모듈(미도시)과 챔버(10)에 연결되는 다른 구성요소들(미도시)이 챔버(10)의 바닥면에 복잡하게 설치되어 바닥타입을 적용하기 어려운 경우에 적용될 수 있다. 도 1에는 펌핑채널부(40)는 사이드타입이 도시되어 있다.
한편, 라이너키트(50)는 히터(20)가 가열되어 히터(20)에서 발생한 열이 기판(30)으로 온전히 제공되지 않고, 챔버(10)로 전달되는 열손실을 방지하기 위해, 챔버(10)의 내벽에 설치된 부재이다.
일반적으로, 라이너키트(50)는 반도체 공정에서 사용되는 챔버(10)는 그 크기가 크기 때문에 여러 조작으로 분리되어, 챔버(10)의 내벽에 조립되는 방식으로 챔버(10)에 설치된다.
그러나, 아무리 정밀하게 설계를 하는 경우라도, 라이너키트(50)의 외면과 챔버(10)의 내벽 사이에는 조립공차가 발생하게 되고, 이러한 조립공차로 인해, 라이너키트(50)의 외면과 챔버(10)의 내벽 사이에는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같은 틈새(gap; 15)가 생기게 마련이다. 이러한 틈새(15)는 상술한 펌핑채널부(40)와 챔버(10)의 내벽 사이에 발생하게 되는 틈새(16)와도 연통되고, 아울러, 챔버(10)와 챔버리드(60) 사이에 발생하게 되는 틈새(17)와도 연통된다.
챔버와 다른 구성요소들 간의 조립과정에서 생긴 이러한 틈새들(15, 16, 17)에는 파우더(미도시)가 쌓일 수 있다. 여기서, 파우더는 챔버(10) 내부에서 기판증착공정이 진행되는 경우에, 기판(30) 상에 증착되기 위해 챔버(10) 내부로 제공된 반응가스는 기판증착공정에서 대부분이 기판(30) 상에 증착되고 그 중 일부가 챔버(10)의 내부공간(11)에 남아 있다가 발생된다.
이렇게 챔버(10)의 내벽과 라이너키트(50)의 외면 사이에 생긴 틈새에 끼인 파우더는 펌핑채널부(40)의 작동시 챔버(10)의 내부공간(11)으로 압력을 가하는 과정에서, 즉, 펌핑채널부(40)가 챔버(10)의 내부공간(11)의 공기를 빨아들이는 과정에서, 틈새에서 분리되어 챔버(10)의 내부공간(11)으로 유입될 수 있는데, 이러한 파우더는 기판증착공정에서 기판(30) 상에 파티클로 작용될 수 있다.
파우더가 기판(30) 상에 파티클로 작용하는 것을 방지하기 위해, 일정 시간 공정을 진행한 후, 세정가스를 사용하는 세정공정레시피로 챔버(10) 내부에 축적된 파우더를 제거하는 공정을 수행하고 있다.
그러나, 히터(20) 주위를 감싸는 라이너키트(50)들의 경우, 공정이 진행되는 챔버(10)의 내부공간(11)에 노출된 면에 있는 파우더는 제거되어도, 도 2에 도시된 바와 같이, 챔버(10)의 내부공간(11)과 거의 고립되어 있는 라이너키트(50)와의 조립틈새에 쌓인 파우더까지는 세정가스가 닿지 못해 제거되지 않는 경우가 많아, 효율적으로 파우더를 제거하는데 어려움이 존재한다.
또한, 라이너키트(50) 조립 틈새에 쌓인 파우더는 증착 공정 진행 시 라이너키트(50) 조립면을 통하여 공정 진행 공간(Process Space)으로 흘러 나오게 되고, 이로 인해 각 공정 파티클 조건에 부합하지 못하는 경우에는 챔버(10)를 통기하여 내부를 직접 세정해야 하는 번거로움이 발생한다.
아울러, 기판(30)이 출입되는 기판이송개구(12)도 히터(20) 주위의 내부공간(11)에 비하여 세정가스와 접촉되는 면이 작으므로 파우더가 덜 제거될 수도 있는 문제점도 있었다.
한국등록특허 제10-0566908호(저이물질 고밀도 플라즈마 에칭 챔버 및 그 제조 방법)
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 기판증착공정에서 생긴 파우더가 라이너키트와 챔버본체 사이의 갭이나, 펌핑채널부와 챔버본체 사이의 갭으로 유입되는 것을 방지할 수 있는 파우더 축적방지용 챔버를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 세정공정레시피에 의해 미처 제거할 수 없는 부분을 사전에 차단함으로써, 추후의 기판증착공정에서 파우더에 의한 기판의 파티클을 방지할 수 있는 파우더 축적방지용 챔버를 제공함을 목적으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 파우더 축적방지용 챔버는
내부에 기판과 히터가 수용되는 챔버공간이 마련되며, 일측에 기판이 출입되는 기판이송터널과, 상기 챔버공간으로부터 펌핑된 공기가 유통하는 사이드펌핑터널이 구비된 챔버본체; 상기 챔버공간을 밀폐토록 상기 챔버본체의 상부를 덮는 구조를 가진 챔버리드; 상기 사이드펌핑터널과 연통가능하게 상기 챔버리드의 하부에 설치되는 펌핑채널부; 상기 챔버본체의 내벽에 설치되는 라이너키트; 및 상기 라이너키트와 상기 챔버본체 사이의 제 1 틈새를 막도록, 상기 펌핑채널부와 상기 라이너키트 사이에서 상기 챔버본체의 내벽에 설치된 제 1 블로킹부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 제 1 블로킹부는, 상기 펌핑채널부의 외면과 상기 채널본체의 내벽을 둘러싸는 한 쌍의 제 1 블로커로 이루어지며, 상기 한 쌍의 제 1 블로커는 각각 C자 형상으로 형성되고 조립되어 상호 간에 폐구조를 이루도록 연결된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 1 블로커는, 상기 펌핑채널부의 외면과 상기 챔버본체의 내벽 사이에 위치되는 제 1 블로커몸체와, 상기 제 1 블로커몸체의 하단으로부터 절곡되어 형성되어, 상기 펌핑채널부와 상기 라이너키트 사이공간에 끼워지는 구조를 가진 제 1 하부연결부와, 상기 제 1 블로커몸체의 상단으로부터 상기 제 1 하부연결부와 반대방향으로 절곡되어 형성되고, 상기 사이드펌핑터널에서 상기 챔버본체의 내벽에 설치되는 제 1 상부연결부로 이루어지고, 상기 제 1 블로커몸체, 상기 제 1 하부연결부와 상기 제 1 상부연결부는 일체로 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 펌핑채널부의 상단에 설치되어, 상기 펌핑채널부와 상기 챔버리드 사이의 제 2 틈새로 상기 파우더가 유입되는 것을 방지하는 제 2 블로킹부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 제 2 블로킹부는, 상기 펌핑채널부와 상기 챔버리드의 사이에 위치되는 제 2 블로커몸체와, 상기 제 2 블로커몸체와 일체로 형성되며 상기 제 2 블로커몸체에 대해 절곡되어 상기 펌핑채널부의 상부에 끼움결합되는 제 2 블로커연결부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 펌핑채널부는, 상기 펌핑채널부의 원주방향을 따라 상기 사이드펌핑터널과 연통되는 복수의 채널홀을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 상기와 같은 구조로 제 1 블로킹부와 제 2 블로킹부를 통해 제 1 틈새와 제 2 틈새를 막아, 기판증착공정에서 생긴 파우더가 기판 이송 터널, 라이너키트와 챔버의 내벽사이에 생긴 제 1 틈새와, 챔버리드와 챔버본체에 생긴 제 2 틈새로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기와 같은 구조로 세정공정레시피로 파우더의 제거가 어려운 부분인 제 1 틈새 및 또는 제 2 틈새를 블로킹함으로써, 종래에 제 1 틈새 및 또는 제 2 틈새, 그리고 라이너개구에 쌓인 파우더를 제거하기 위하여 챔버 내부를 통기하여 직접적으로 챔버의 내부공간을 세정하는 주기를 길게 할 수 있어, 챔버의 유지보수에 소요되는 시간을 절약할 수 있고, 이와 더불어 챔버의 내구성을 향상시킬 수 있다.
아울러, 본 발명은 세정공정레시피에 의한 챔버세정시 챔버의 내부공간에 파우더가 존재하지 않도록 세정할 수 있어, 기판증착공정시 파우더에 의한 기판의 파티클 생성을 방지하여 양질의 기판을 생산할 수 있다.
도 1은 종래기술에 따른 CVD용 챔버의 구성도를 개략적으로 도시한 것이며,
도 2는 도 1의 A부분을 확대한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 파우더 축적방지용 챔버의 구성도를 개략적으로 도시한 것이다.
도 4는 도 3의 B의 확대도를 개략적으로 도시한 것이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 제 1 블로킹부에 대한 사시도를 예시적으로 도시한 것이다.
이하에서는 첨부도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 파우더 축적방지용 챔버에 대해 설명하기로 한다.
도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시에에 따른 파우더 축적방지용 챔버(100)는 챔버본체(110), 챔버리드(120), 펌핑채널부(130), 라이너키트(150), 제 1 블로킹부(160)와 제 2 블로킹부(170)를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 챔버본체(110)는 상부가 개방되고, 내부에 기판(180)과 히터(140)가 수용되는 챔버공간(111)이 마련된 구조를 가진다. 챔버본체(110)의 일측에는 챔버공간(111)으로 기판이 출입되는 기판이송터널(113)이 마련된다.
챔버본체(110)에는 기판이송터널(113)의 상부에서 사이드펌핑터널(115)이 마련된다. 여기서, 사이드펌핑터널(115)은 후술할 펌핑채널부(130)와 연통되는 구조를 가진 것이 바람직하다.
사이드펌핑터널(115)은 챔버본체(110)의 내벽과 외벽사이에 마련된 수직펌핑터널(117)와 연통가능하게 연결된 구조를 가진다. 여기서, 수직펌핑터널(117)은 챔버의 외부에 위치된 압력제공부(미도시)에 연결된다.
본 발명의 일 실시예에서, 히터(140)는 챔버공간(111)에 설치되어 기판(180)으로 열을 제공하는 부재이다. 반도체 공정에 사용되는 히터(140)구조는 공지된 기술인 바, 본 명세서에서는 히터(140)에 대해서는 구체적인 설명을 생략하기로 한다.
챔버본체(110)는 상부에 챔버리드(120)가 설치된다. 여기서, 챔버리드(120)는 챔버본체(110)에 탈착가능하게 설치되어, 챔버본체(110)의 개방된 상부를 폐쇄하는 부재이다.
챔버리드(120)의 하부에는 기판(180)으로 공정가스를 분사하는 샤워헤드(미도시)가 마련된다. 다만, 본 발명의 일 실시예에서는 챔버리드(120)와 챔버본체(110) 사이에 설치된 펌핑채널부(130)를 부각하여 설명하기 위해, 도면에서 샤워헤드의 도시를 생략하였다.
아울러, 반도체 공정에서 사용되는 샤워헤드(미도시)는 공지된 기술인 바, 본 명세서에서는 기판(180)으로 공정가스를 분사하는 샤워헤드(미도시)에 대해서는 구체적인 설명을 생략하기로 한다.
이하에서는 펌핑채널부(130)에 대해 설명하기로 한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에서, 펌핑채널부(130)는 챔버리드(120)의 하부에 위치되어, 사이드펌핑터널(115)과 연통가능하게 챔버본체(110)에 설치된다. 본 발명의 일 실시예에서, 펌핑채널부(130)는 상기 챔버리드의 하부에서 상단의 라이너 키트의 기능을 함과 동시에, 후술하는 바와 같이 채널홀에 의해 챔버 내부의 공기를 빨아들여 챔버공간(111)으로 진공압력을 제공하는 펌핑채널로 기능한다.
본 발명의 일 실시예에서, 펌핑채널부(130)에는 복수의 채널홀(131)이 마련된 구조를 가진다. 여기서, 상기 채널홀(131)은 사이드펌핑터널(115)과 연통되며, 펌핑채널부(130)의 원주방향을 따라 소정의 간격으로 이격되어, 펌핑채널부(130)의 외면에 형성된 개구이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 펌핑채널부(130)는 복수의 채널홀(131)을 통해 챔버공간(111) 중 어느 부분에 편중하여 진공압력을 제공하는 것이 아니라 챔버공간(111) 전반에 걸쳐 고르게 진공압력을 제공할 수 있다.
이하에서는 라이너키트(150)에 대해 설명하기로 한다.
본 발명의 일 실시예에서, 라이너키트(150)는 히터(140)에서 기판(180)으로 전달되는 열이 챔버본체(110)로 제공되는 것을 방지하는 부재이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 라이너키트(150)는 히터(140)와 인접하게 위치된 챔버본체(110)의 내벽에 설치된다.
라이너키트(150)는 라이너키트(150)의 외면이 챔버본체(110)의 내벽과 접촉가능한 형상을 가진 것이 바람직하다. 본 발명의 일 실시예에 따른 라이너키트(150)는 라이너개구(151) 외에는 홈 또는 개구가 없으며, 라이너키트(150)는 챔버공간(111)에서 히터(140)에서 전달된 열을 라이너키트(150)의 전면적에 걸쳐 차단하여, 히터(140)에서 발생된 열이 챔버본체(110)에 빼앗기는 것을 보다 효율적으로 방지할 수 있다.
일반적으로, 라이너키트(150)가 챔버본체(110)의 내벽에 설치될 때, 라이너키트(150)의 외면과 챔버본체(110)의 내벽 사이에는 제 1 틈새(111a)가 생긴다. 제 1 틈새(111a)가 생기는 이유는, 히터(140)에서 발생된 열에 의해 라이너키트(150)의 열팽창을 고려해야 하고, 또한, 아무리 정교하게 설계하는 경우라도 조립시 조립공차가 발생되기 때문이다. 여기서, 제 1 틈새(111a)는 사이드펌핑터널(115)과 연통된다.
기판증착공정에서 발생된 파우더(미도시)는 제 1 틈새(111a)에 쌓이고, 펌핑채널부(130)가 챔버공간(111)으로 진공압력을 제공하는 과정에서 챔버공간(111)으로 유입되어, 기판(180) 상에 파티클을 형성할 수 있다.
또한, 라이너키트(150)는 기판이송터널(113)과 연통되는 라이너개구(151)가 마련된 구조를 가진다.
본 발명에 의한 파우더 축적방지용 챔버는, 챔버본체(110)와 라이너키트(150)와의 사이에 발생된 제 1 틈새(111a)를 막는 제 1 블로킹부(160)를 구비한다.
도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 제 1 블로킹부(160)는 펌핑채널부(130)와 라이너키트(150) 사이에서 챔버본체(110)의 내벽에 설치된다.
제 1 블로킹부는 기판증착공정에서 챔버공간(111)에서 발생된 파우더(미도시)가 펌핑채널부(130)의 작동시, 라이너키트(150)와 챔버본체(110) 사이의 제 1 틈새(111a), 라이너개구(151)와 기판이송터널(113)로 유입되는 것을 방지하기 위한 부재이다.
제 1 블로킹부(160)는 도 5에 도시된 바와 같이, 한 쌍의 제 1 블로커(161, 162)로 이루어지며, 펌핑채널부(130)의 외면과 채널본체의 내벽 사이에 설치된다.
구체적으로, 제 1 블로커(161)는, 도 5에 도시된 바와 같이, 각각 C형 형상으로 형성되어, 조립이 용이하게 구성되며, 한 쌍의 제 1 블로커(161)는 서로 연결되어 폐구조를 가지는 것이 바람직하다.
이에, 본 발명의 일 실시예에 따른 한 쌍의 제 1 블로커(161)는 서로 마주보면서 원형으로 폐단면을 이루는 구조로 제 1 블로커몸체(161a)의 내면이 펌핑채널부(130)의 외면과 접촉가능하게 펌핑채널부(130)의 외면과 채널본체의 내벽 사이에 설치된 것이 바람직하다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 제 1 블로커(161)는, 제 1 블로커몸체(161a), 제 1 하부연결부(161b)와 제 1 상부연결부(161c)가 일체로 형성된 구조를 가진다.
여기서, 제 1 블로커몸체(161a)는 펌핑채널부(130)의 외면과 챔버본체(110)의 내벽 사이에 위치되는 부분이다. 제 1 블로커몸체(161a)의 내면은 펌핑채널부(130)의 외면과 밀접하게 접하고, 제 1 블로커몸체(161a)의 외면은 챔버본체(110)의 내벽과 밀접하게 접하는 것이 바람직하다.
상기 제 1 하부연결부(161b)는 제 1 블로커몸체(161a)의 하단으로부터 절곡되어, 펌핑채널부(130)와 라이너키트(150) 사이공간에 끼워넣어져 안정적으로 조립된다.
상기 제 1 상부연결부(161c)는 제 1 블로커몸체(161a)의 상단으로부터 제 1 하부연결부(161b)와 반대방향으로 절곡되어 형성되며, 사이드펌핑터널(115)에서 챔버본체(110)의 내벽의 단턱진 부분(112)에 걸리도록 구성되어 안정적으로 조립된다.
제 1 블로킹부(160)는 사이드펌핑터널(115)과 제 1 틈새(111a)부분을 상기와 같은 구조로 블로킹하여, 펌핑채널부(130)의 작동시 챔버공간(111)에서 발생된 파우더(미도시)가 제 1 틈새(111a), 라이너개구(151)와 기판이송터널(113)로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
이로 인해, 본 발명의 일 실시예에 따른 파우더 축적방지용 챔버(100)는 기판증착공정 완료후에 챔버를 세정하는 세정공정레시피의 진행시, 세정가스에 의해 세정되기 어려운 부분에 파우더(미도시)가 쌓이는 것을 사전에 방지함으로써, 추후에 발생되는 기판증착공정시 파우더(미도시)에 의한 기판(180)의 파티클 생성을 방지할 수 있고 결과적으로는 양질의 기판(180)을 생산할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 파우더 축적방지용 챔버(100)는 제 1 블로킹부(160)를 통해 종래에 세정공정레시피로 파우더(미도시)의 제거가 어려운 부분을 블로킹함으로써, 종래에 제 1 틈새(111a), 그리고 라이너개구(151)에 쌓인 파우더(미도시)를 제거하기 위하여 챔버 내부를 통기하여 직접적으로 챔버의 내부공간을 세정하는 주기를 길게 할 수 있어, 챔버의 유지보수에 소요되는 시간을 절약할 수 있고, 이와 더불어 챔버의 내구성을 향상시킬 수 있다.
이하에서는 제 2 블로킹부(170)에 대해 설명하기로 한다.
제 2 블로킹부(170)는 펌핑채널부(130)의 상단에 설치되어, 펌핑채널부(130)와 챔버리드(120) 사이의 제 2 틈새(111b)로 파우더(미도시)가 유입되는 것을 방지하는 부재이다.
제 2 블로킹부(170)는 펌핑채널부(130)의 전체적인 형상에 대응되는 형상을 가지며, 고리형 구조를 가진 것이 바람직하다.
구체적으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 제 2 블로킹부(170)는 제 2 블로커몸체(170a)와 제 2 블로커연결부(170b)로 구성되며, 상기 제 2 블로커몸체(170a)는 펌핑채널부(130)와 챔버리드(120)의 사이에 위치되며, 일면은 상기 챔버리드의 경사면에 상응하는 경사면을 갖도록 구성된다.
제 2 블로커연결부(170b)는 제 2 블로커몸체(170a)에 대해 바깥방향으로 절곡되어 제 2 블로커몸체(170a)에 대해 기역자(ㄱ)형 종단면을 형성하는 부분으로서, 펌핑채널부(130)의 상부에 마련된 단턱진 홈(135)에 걸림결합되어, 안정적으로 조립된다.
제 2 블로킹부(170)는 상기와 같은 구조로 펌핑채널부(130)와 챔버리드(120) 사이, 그리고 펌핑채널부(130)와 챔버본체(110)의 내벽사이에 발생된 제 2 틈새(111b)를 블로킹하여, 펌핑채널부(130)의 작동시 챔버공간(111)에서 발생된 파우더(미도시)가 제 2 틈새(111b)를 통해 챔버공간(111)으로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 파우더 축적방지용 챔버(100)는 제 2 블로킹부(170)에 의해, 기판증착공정 완료후에 챔버를 세정하는 세정공정레시피의 진행시, 챔버세정시 세정가스에 의해 세정되기 어려운 부분에 파우더(미도시)가 쌓이는 것을 사전에 방지함으로써, 추후에 발생되는 기판증착공정시 파우더(미도시)에 의한 기판(180)의 파티클 생성을 방지할 수 있고 결과적으로는 양질의 기판(180)을 생산할 수 있다.
아울러, 본 발명의 일 실시예에 따른 파우더 축적방지용 챔버(100)는 제 2 틈새(111b)를 막아, 복수의 채널홀(132)로 흡입되는 공기의 양을 늘림으로써, 펌핑채널부(130)가 보다 효율적으로 챔버공간(111)의 공기를 흡입할 수 있도록 보조할 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다.
100: 파우더 축적방지용 챔버 110: 챔버본체
111: 챔버공간 111a: 제 1 틈새
111b: 제 2 틈새 113: 기판이송터널
115: 사이드펌핑터널 117: 수직펌핑터널
120: 챔버리드 130: 펌핑채널부
140: 히터 150: 라이너키트
160: 제 1 블로킹부 161: 제 1 블로커
161a: 제 1 블로커몸체 161b: 제 1 하부연결부
161c: 제 1 상부연결부 170: 제 2 블로킹부

Claims (6)

  1. 내부에 기판과 히터가 수용되는 챔버공간이 마련되며, 일측에 기판이 출입되는 기판이송터널과, 상기 챔버공간으로부터 펌핑된 공기가 유통하는 사이드펌핑터널이 구비된 챔버본체;
    상기 챔버공간을 밀폐토록 상기 챔버본체의 상부를 덮는 구조를 가진 챔버리드;
    상기 사이드펌핑터널과 연통가능하게 상기 챔버리드의 하부에 설치되는 펌핑채널부;
    상기 챔버본체의 내벽에 설치되는 라이너키트; 및
    상기 라이너키트와 상기 챔버본체 사이의 제 1 틈새를 막도록, 상기 펌핑채널부와 상기 라이너키트 사이에서 상기 챔버본체의 내벽에 설치된 제 1 블로킹부를 포함하는 것을 특징으로 하는 파우더 축적방지용 챔버.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 블로킹부는,
    상기 펌핑채널부의 외면과 상기 채널본체의 내벽을 둘러싸는 한 쌍의 제 1 블로커로 이루어지며,
    상기 한 쌍의 제 1 블로커는 각각 C자 형상으로 형성되고 조립되어 상호 간에 폐구조를 이루도록 연결된 것을 특징으로 하는 파우더 축적방지용 챔버.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 블로커는,
    상기 펌핑채널부의 외면과 상기 챔버본체의 내벽 사이에 위치되는 제 1 블로커몸체와,
    상기 제 1 블로커몸체의 하단으로부터 절곡되어 형성되어, 상기 펌핑채널부와 상기 라이너키트 사이공간에 끼워지는 구조를 가진 제 1 하부연결부와,
    상기 제 1 블로커몸체의 상단으로부터 상기 제 1 하부연결부와 반대방향으로 절곡되어 형성되고, 상기 사이드펌핑터널에서 상기 챔버본체의 내벽에 설치되는 제 1 상부연결부로 이루어지고,
    상기 제 1 블로커몸체, 상기 제 1 하부연결부와 상기 제 1 상부연결부는 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 파우더 축적방지용 챔버.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 펌핑채널부의 상단에 설치되어, 상기 펌핑채널부와 상기 챔버리드 사이의 제 2 틈새로 상기 파우더가 유입되는 것을 방지하는 제 2 블로킹부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파우더 축적방지용 챔버.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 블로킹부는,
    상기 펌핑채널부와 상기 챔버리드의 사이에 위치되는 제 2 블로커몸체와,
    상기 제 2 블로커몸체와 일체로 형성되며 상기 제 2 블로커몸체에 대해 절곡되어 상기 펌핑채널부의 상부에 끼움결합되는 제 2 블로커연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 파우더 축적방지용 챔버.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 펌핑채널부는,
    상기 펌핑채널부의 원주방향을 따라 상기 사이드펌핑터널과 연통되는 복수의 채널홀을 구비하는 것을 특징으로 하는 파우더 축적방지용 챔버.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN113337810A (zh) * 2021-05-26 2021-09-03 北京北方华创微电子装备有限公司 内衬装置及半导体加工设备

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