KR20150077169A - Organic light emitting diode device and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an organic light emitting diode display device which includes a substrate which includes first to fourth pixels arranged in two rows and two columns, first to fourth emission transistors which are formed on the first to fourth pixels, respectively, a first electrode of a first organic light emitting diode which is formed on the first pixel and is connected to the first emission transistor, a second electrode of a second organic light emitting diode which is formed on the second pixel and is connected to the second emission transistor, a third electrode of a third organic light emitting diode which is formed on the fourth pixel and is connected to the third emission transistor, a fourth electrode of a fourth organic light emitting diode which is formed on the third pixel and is connected to the fourth emission transistor, a first storage capacitor which the first pixel and the second pixel share, and a second storage capacitor which the third pixel and the fourth pixel share. Thereby, the present invention performs the high resolution of the organic light emitting diode display device and secures the capacitance at the same time. Also, image quality is improved by the driving with a dot interlace method.

Description

유기발광다이오드 표시장치 및 이의 제조방법{Organic light emitting diode device and method of fabricating the same}[0001] The present invention relates to an organic light emitting diode (OLED) display device and a method of manufacturing the same.

본 발명은 유기발광다이오드 표시장치에 관한 것으로서, 특히 고해상도 및 고정세(ppi)의 표시패널을 갖는 유기발광다이오드 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to an organic light emitting diode display, and more particularly, to an organic light emitting diode having a display panel of high resolution and high definition (ppi) and a method of manufacturing the same.

정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 액정표시장치(LCD: liquid crystal display), 플라즈마표시장치(PDP: plasma display panel), 유기발광다이오드 표시장치(OLED: organic light emitting diode device)와 같은 여러가지 평판표시장치(flat display device)가 활용되고 있다.2. Description of the Related Art [0002] As an information-oriented society develops, demands for a display device for displaying an image have increased in various forms. Recently, a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP) Various flat display devices such as organic light emitting diode (OLED) devices have been utilized.

이중 유기발광다이오드 표시장치는 스스로 발광하는 자발광소자를 이용함으로써 응답속도가 빠르고 발광효율, 휘도 및 시야각이 우수한 장점이 있다.The dual organic light emitting diode display device has advantages of high response speed, excellent luminous efficiency, luminance and viewing angle by using a self-luminous element which emits light by itself.

이러한 유기발광다이오드 표시장치는 자발광소자로서 유기발광다이오드를 가진다. 유기발광다이오드는 애노드전극과 캐소드전극 사이에 형성된 유기 화합물층(HIL, HTL, EML, ETL, EIL)을 구비한다. 유기 화합물층은 정공주입층(Hole Injection layer, HIL), 정공수송층(Hole transport layer, HTL), 발광층(Emission layer, EML), 전자수송층(Electron transport layer, ETL) 및 전자주입층(Electron Injection layer, EIL)을 포함한다. 애노드전극과 캐소드전극에 구동전압이 인가되면 정공수송층(HTL)을 통과한 정공과 전자수송층(ETL)을 통과한 전자가 발광층(EML)으로 이동되어 여기자를 형성하고, 그 결과 발광층(EML)이 가시광을 발생하게 된다.Such an organic light emitting diode display device has an organic light emitting diode as a self-luminous element. The organic light emitting diode has organic compound layers (HIL, HTL, EML, ETL, EIL) formed between the anode electrode and the cathode electrode. The organic compound layer includes a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an emission layer (EML), an electron transport layer (ETL), and an electron injection layer EIL). When a driving voltage is applied to the anode electrode and the cathode electrode, holes passing through the HTL and electrons passing through the ETL are transferred to the EML to form excitons, Thereby generating visible light.

유기발광다이오드 표시장치는 이와 같은 유기발광다이오드가 포함된 화소를 매트릭스 형태로 배열하고 게이트신호에 의해 선택된 화소들의 밝기를 비디오 데이터의 계조에 따라 제어한다.The organic light emitting diode display device arranges the pixels including the organic light emitting diode in a matrix form and controls the brightness of the pixels selected by the gate signal according to the gray level of the video data.

도 1는 유기발광다이오드 표시장치에 있어서 하나의 화소에 대한 등가 회로도이다. 도 1를 참조하면, 유기발광다이오드 표시장치의 화소는 유기발광다이오드(E), 서로 교차하는 게이트라인(GL) 및 데이터라인(DL), 스위칭 트랜지스터(ST), 구동 트랜지스터(DT) 및 스토리지 커패시터(Cst)를 포함한다.1 is an equivalent circuit diagram for one pixel in an organic light emitting diode display. 1, a pixel of an organic light emitting diode display device includes an organic light emitting diode E, a gate line GL and a data line DL intersecting with each other, a switching transistor ST, a driving transistor DT, (Cst).

스위칭 트랜지스터(ST)는 게이트라인(GL)으로부터의 스캔신호에 응답하여 턴-온(turn-on)됨으로써 데이터라인(DL)으로부터의 데이터전압을 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전극에 인가한다. 구동 트랜지스터(DT)는 게이트전극의 게이트전위(Vg)와 소스전극의 소스전위(Vs)간의 차이(Vg-s)에 따라 유기발광다이오드(E)에 흐르는 전류량을 제어한다. 스토리지 커패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(DT)의 게이트전위(Vg)를 한 프레임동안 일정하게 유지시킨다. 유기발광다이오드(E)는 구동 트랜지지스터(DT)의 드레인전극과 기저전압원(Vcc) 사이에 접속된다.The switching transistor ST is turned on in response to a scan signal from the gate line GL to thereby apply the data voltage from the data line DL to the gate electrode of the driving transistor DT. The driving transistor DT controls the amount of current flowing to the organic light emitting diode E according to the difference Vg-s between the gate potential Vg of the gate electrode and the source potential Vs of the source electrode. The storage capacitor Cst maintains the gate potential Vg of the driving transistor DT constant for one frame. The organic light emitting diode E is connected between the drain electrode of the driving transceiver DT and the ground voltage source Vcc.

전술한 구동 트랜지스터의 전류제어 능력은 구동 트랜지스터의 문턱전압에 많은 영향을 받는다. The current control capability of the driving transistor described above is greatly affected by the threshold voltage of the driving transistor.

LTPS(Low Temperature Poly Silicon) 로 구동 트랜지스터를 형성하는 유기발광다이오드 표시장치에서는 ELA(Excimer Laser Annealing) 공정으로 인해 화소들 간 구동 트랜지스터의 문턱전압 편차가 발생한다. 한편, a-Si(Amorphous Silicon)로 구동 트랜지스터를 형성하는 유기발광다이오드 표시장치에서는 패널 구동에 따라 구동 트랜지스터의 열화 발생하여 문턱전압의 변동(Shift)이 발생된다.In an organic light emitting diode display device that forms a driving transistor by LTPS (Low Temperature Poly Silicon), a threshold voltage deviation of a driving transistor between pixels occurs due to an ELA (Excimer Laser Annealing) process. On the other hand, in an organic light emitting diode display device which forms a driving transistor by a-Si (Amorphous Silicon), deterioration of the driving transistor occurs due to panel driving, and a shift of a threshold voltage occurs.

따라서, 화소별 구동 트랜지스터의 전류 구동제어 편차를 보정하는 것이 표시장치의 화질개선에 있어서 중요한 요소이다. 그런데, 이를 위해서는 하나의 화소에 많은 스위칭소자들 및 커패시터가 형성되어야 하는 바, 이로 인해 화소의 크기가 증가할 수밖에 없으며, 따라서 고해상도의 패널을 제작하는데 많은 제약이 따른다. Therefore, correcting the current drive control deviation of the pixel-by-pixel drive transistor is an important factor in improving the picture quality of the display device. However, in order to accomplish this, a large number of switching elements and capacitors must be formed in one pixel, which results in an increase in the size of the pixel, and therefore, there are many restrictions in manufacturing a high-resolution panel.

특히, 고해상도의 표시장치로 갈수록 화소의 크기가 줄어들어 스위칭 소자와 커패시터가 한 화소내에 형성되지 못하는 문제점이 있다. 특히 커패시터는 표시장치를 구동하기 위해서 일전한 정전용량이 확보되어야 하는데, 정전용량을 확보하기 위해서는 어느 정도 이상의 면적이 반드시 필요하게 된다.Particularly, the size of the pixel is reduced as the display device becomes a high-resolution display, so that the switching element and the capacitor can not be formed in one pixel. Particularly, a capacitor needs to secure a certain electrostatic capacity in order to drive a display device. However, in order to secure a capacitance, a certain area or more is necessarily required.

즉, 종래의 유기발광다이오드 표시장치는 고해상도의 표시장치를 구현하기에 적합하지 않은 문제점이 있다.
That is, the conventional organic light emitting diode display device is not suitable for realizing a high-resolution display device.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 정전용량을 확보하고, 고해상도를 구현할 수 있는 유기발광다이오드 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an organic light emitting diode display device capable of securing a capacitance and realizing a high resolution.

전술한 바와 같이 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 2행2열로 배열되는 제1 내지 제4화소를 포함하는 기판과; 상기 제1 내지 제4화소에 각각 형성되는 제 1 내지 제4에미션트랜지스터와; 상기 제1화소에 형성되고 상기 제1에미션트랜지스터에 연결되는 제1유기발광다이오드의 제1전극과; 상기 제2화소에 형성되고 상기 제2에미션트랜지스터에 연결되는 제2유기발광다이오드의 제2전극과; 상기 제4화소에 형성되고 상기 제3에미션트랜지스터에 연결되는 제3발광다이오드의 제3전극과; 상기 제3화소에 형성되고 상기 제4에미션트랜지스터에 연결되는 제4발광다이오드의 제4전극과; 상기 제1 및 제2화소가 공유하는 제1스토리지커패시터와; 상기 제3 및 제4화소가 공유하는 제2스토리지커패시터를 포함하는 유기발광다이오드 표시장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a liquid crystal display comprising: a substrate including first to fourth pixels arranged in two rows and two columns; First to fourth emissive transistors formed in the first to fourth pixels, respectively; A first electrode of a first organic light emitting diode formed in the first pixel and connected to the first emission transistor; A second electrode of a second organic light emitting diode formed on the second pixel and connected to the second emission transistor; A third electrode of the third light emitting diode formed in the fourth pixel and connected to the third emission transistor; A fourth electrode of a fourth light emitting diode formed in the third pixel and connected to the fourth emission transistor; A first storage capacitor shared by the first and second pixels; And a second storage capacitor shared by the third and fourth pixels.

상기 제1화소에 형성되는 제1스위칭트랜지스터 및 제1구동트랜지스터와; 상기 제2화소에 형성되는 제2스위칭트랜지스터 및 제2구동트랜지스터와; 상기 제3화소에 형성되는 제3스위칭트랜지스터 및 제3구동트랜지스터와; 상기 제4화소에 형성되는 제4스위칭트랜지스터 및 제4구동트랜지스터를 더 포함한다.A first switching transistor and a first driving transistor formed in the first pixel; A second switching transistor and a second driving transistor formed in the second pixel; A third switching transistor and a third driving transistor formed in the third pixel; And a fourth switching transistor and a fourth driving transistor formed in the fourth pixel.

상기 제1스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제1 및 제2구동트랜지스터에 연결되고, 상기 제2스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제3 및 제4구동트랜지스터에 연결되는 것을 특징으로 한다.Both ends of the first storage capacitor are connected to the first and second driving transistors, respectively, and both ends of the second storage capacitor are connected to the third and fourth driving transistors, respectively.

상기 제1유기발광다이오드는, 상기 제1전극 상부에 순차적으로 형성되는 제1발광층 및 제5전극을 더 포함하고, 상기 제2발광다이오드는, 상기 제2전극 상부에 순차적으로 형성되는 제2발광층 및 제6전극을 더 포함하고, 상기 제3발광다이오드는, 상기 제3전극 상부에 순차적으로 형성되는 제3발광층 및 제7전극을 더 포함하고, 상기 제4발광다이오드는, 상기 제4전극 상부에 순차적으로 형성되는 제4발광층 및 제8전극을 더 포함한다.The first organic light emitting diode may further include a first light emitting layer and a fifth electrode sequentially formed on the first electrode, and the second light emitting diode may include a second light emitting layer sequentially formed on the second electrode, And a sixth electrode, wherein the third light emitting diode further includes a third light emitting layer and a seventh electrode sequentially formed on the third electrode, wherein the fourth light emitting diode includes a fourth electrode Emitting layer and an eighth electrode sequentially formed on the first electrode.

전술한 본 발명은 제1하프프레임 동안 상기 제1 및 제4화소가 구동되고, 제2하프프레임 동안 상기 제2 및 제3화소가 구동되는 것을 특징으로 한다.The above-described invention is characterized in that the first and fourth pixels are driven during a first half frame, and the second and third pixels are driven during a second half frame.

전술한 바와 같이 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 상단에서 3행2열로 배치되는 제1 내지 제6화소와, 하단에서 3행2열로 배치되는 제7 내지 제12화소를 포함하는 기판과; 상기 제1 내지 제12화소에 각각 형성되는 제 1 내지 제12에미션트랜지스터와; 상기 제2화소에 형성되고 상기 제2에미션트랜지스터에 연결되는 제1유기발광다이오드의 제1전극과; 상기 제3화소에 형성되고 상기 제3에미션트랜지스터에 연결되는 제2유기발광다이오드의 제2전극과; 상기 제5화소에 형성되고 상기 제6에미션트랜지스터에 연결되는 제3유기발광다이오드의 제3전극과; 상기 제6화소에 형성되고 상기 제5에미션트랜지스터에 연결되는 제4유기발광다이오드의 제4전극과; 상기 제7화소에 형성되고 상기 제7에미션트랜지스터에 연결되는 제5유기발광다이오드의 제5전극과; 상기 제8화소에 형성되고 상기 제8에미션트랜지스터에 연결되는 제6유기발광다이오드의 제6전극과; 상기 제10화소에 형성되고 상기 제11에미션트랜지스터에 연결되는 제7유기발광다이오드의 제7전극과; 상기 제11화소에 형성되고 상기 제10션트랜지스터에 연결되는 제8유기발광다이오드의 제8전극과; 상기 제1 및 제2화소가 공유하는 제1스토리지커패시터와; 상기 제4 및 제5화소가 공유하는 제2스토리지커패시터와; 상기 제8 및 제9화소가 공유하는 제3스토리지커패시터와; 상기 제11 및 제12화소가 공유하는 제4스토리지커패시터를 포함하는 유기발광다이오드 표시장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a liquid crystal display comprising: a substrate including first to sixth pixels arranged in three rows and two columns at the top; and seventh to twelfth pixels arranged in two rows in three rows at the bottom; First to twelfth emission transistors formed in the first to twelfth pixels, respectively; A first electrode of a first organic light emitting diode formed in the second pixel and connected to the second emission transistor; A second electrode of a second organic light emitting diode formed in the third pixel and connected to the third emission transistor; A third electrode of the third organic light emitting diode formed in the fifth pixel and connected to the sixth emission transistor; A fourth electrode of a fourth organic light emitting diode formed in the sixth pixel and connected to the fifth emission transistor; A fifth electrode of a fifth organic light emitting diode formed in the seventh pixel and connected to the seventh emission transistor; A sixth electrode of the sixth organic light emitting diode formed in the eighth pixel and connected to the eighth emission transistor; A seventh electrode of the seventh organic light emitting diode formed in the tenth pixel and connected to the eleventh emission transistor; An eighth electrode of an eighth organic light emitting diode formed in the eleventh pixel and connected to the amplification transistor; A first storage capacitor shared by the first and second pixels; A second storage capacitor shared by the fourth and fifth pixels; A third storage capacitor shared by the eighth and ninth pixels; And a fourth storage capacitor shared by the eleventh and twelfth pixels.

상기 제1화소에 형성되는 제1스위칭트랜지스터 및 제1구동트랜지스터와; 상기 제2화소에 형성되는 제2스위칭트랜지스터 및 제2구동트랜지스터와; 상기 제3화소에 형성되는 제3스위칭트랜지스터 및 제3구동트랜지스터와; 상기 제4화소에 형성되는 제4스위칭트랜지스터 및 제4구동트랜지스터와; 상기 제5화소에 형성되는 제5스위칭트랜지스터 및 제5구동트랜지스터와; 상기 제6화소에 형성되는 제6스위칭트랜지스터 및 제6구동트랜지스터와; 상기 제7화소에 형성되는 제7스위칭트랜지스터 및 제7구동트랜지스터와; 상기 제8화소에 형성되는 제8스위칭트랜지스터 및 제8구동트랜지스터와; 상기 제8화소에 형성되는 제8스위칭트랜지스터 및 제8구동트랜지스터와; 상기 제9화소에 형성되는 제9스위칭트랜지스터 및 제9구동트랜지스터와; 상기 제10화소에 형성되는 제10스위칭트랜지스터 및 제10구동트랜지스터와; 상기 제11화소에 형성되는 제11스위칭트랜지스터 및 제11구동트랜지스터와; 상기 제12화소에 형성되는 제12스위칭트랜지스터 및 제12구동트랜지스터를 더 포함한다.A first switching transistor and a first driving transistor formed in the first pixel; A second switching transistor and a second driving transistor formed in the second pixel; A third switching transistor and a third driving transistor formed in the third pixel; A fourth switching transistor and a fourth driving transistor formed in the fourth pixel; A fifth switching transistor and a fifth driving transistor formed in the fifth pixel; A sixth switching transistor and a sixth driving transistor formed in the sixth pixel; A seventh switching transistor and a seventh driving transistor formed in the seventh pixel; An eighth switching transistor and an eighth driving transistor formed in the eighth pixel; An eighth switching transistor and an eighth driving transistor formed in the eighth pixel; A ninth switching transistor and a ninth driving transistor formed in the ninth pixel; A tenth switching transistor and a tenth driving transistor formed in the tenth pixel; An eleventh switching transistor and an eleventh driving transistor formed in the eleventh pixel; And a twelfth switching transistor and a twelfth driving transistor formed in the twelfth pixel.

상기 제1스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제1 및 제2구동트랜지스터에 연결되고, 상기 제2스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제4 및 제5구동트랜지스터에 연결되고, 상기 제3스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제8 및 제9구동트랜지스터에 연결되고, 상기 제4스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제11 및 제12구동트랜지스터에 연결되는 것을 특징으로 한다. 또한, 상기 제1, 제4, 제9, 제12화소는 더미영역인 것을 특징으로 한다.Wherein both ends of the first storage capacitor are respectively connected to the first and second driving transistors, both ends of the second storage capacitor are respectively connected to the fourth and fifth driving transistors, and both ends of the third storage capacitor are connected to the first and second driving transistors, Respectively, and the both ends of the fourth storage capacitor are connected to the eleventh and twelfth driving transistors, respectively. The first, fourth, ninth, and twelfth pixels are dummy regions.

제1하프프레임 동안 상기 제2 및 제6화소, 상기 제7 및 제11화소가 구동되고, 제2하프프레임 동안 상기 제3 및 제5화소, 상기 제8 및 제10화소가 구동되는 것을 특징으로 한다.
Wherein the second and sixth pixels, the seventh and eleventh pixels are driven during a first half frame, and the third and fifth pixels, the eighth and tenth pixels are driven during a second half frame. do.

상술한 바와 같이, 본 발명의 정전용량을 확보함과 동시에 유기발광다이오드 표시장치의 고해상도를 구현할 수 있는 효과를 갖는다.As described above, the organic light emitting diode display device can have a high resolution while securing the electrostatic capacity of the present invention.

또한, 도트 인터레이스 방식으로 구동하는 것으로 화질 개선의 효과를 갖는다.
In addition, it is driven by the dot interlace method, which has the effect of improving image quality.

도 1은 일반적인 유기전계 발광소자의 한 화소에 대한 회로도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 유기발광다이오드 표시장치의 화소의 회로 구성을 나타낸 도면으로서, 하나의 커패시터를 서로 공유하는 2개의 부화소에 대한 등가회로도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 유기발광다이오드 표시장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 4는 도 3의 절단선 Ⅲ-Ⅲ을 따라 절단한 단면도이다.
도 5는 도 3의 절단선 Ⅳ-Ⅳ을 따라 절단한 단면도이다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 유기발광다이오드에 있어서 트랜지스터에 대한 단면도이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 유기발광다이오드 표시장치의 한 프레임에 대한 영상출력을 나타낸 사진이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기발광다이오드 표시장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
1 is a circuit diagram of one pixel of a general organic light emitting device.
FIG. 2 is a circuit diagram of a pixel of an organic light emitting diode display according to an embodiment of the present invention, which is an equivalent circuit diagram for two sub-pixels sharing one capacitor.
3 is a plan view schematically showing an organic light emitting diode display device according to an embodiment of the present invention.
Fig. 4 is a cross-sectional view taken along line III-III in Fig. 3; Fig.
5 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in Fig.
6 and 7 are cross-sectional views of a transistor in an organic light emitting diode according to an embodiment of the present invention.
8 is a photograph showing an image output of one frame of the organic light emitting diode display according to the embodiment of the present invention.
9 is a plan view schematically showing an organic light emitting diode display device according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부되는 도면들을 참고하여 본 발명의 다양한 실시예들에 대해 상세히 설명한다.
Various embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 유기발광다이오드 표시장치의 화소의 회로 구성을 나타낸 도면으로서, 하나의 커패시터를 서로 공유하는 2개의 부화소에 대한 등가회로도이다.FIG. 2 is a circuit diagram of a pixel of an organic light emitting diode display according to an embodiment of the present invention, which is an equivalent circuit diagram for two sub-pixels sharing one capacitor.

도 2에 도시한 바와 같이, 제1부화소(SP1)는 제1트랜지스터 내지 제5트랜지스터(T1, T2, T3, T4, T5) 및 제1유기발광다이오드(E1)를 포함하고, 제2부화소(SP2)는 제6트랜지스터 내지 제10트랜지스터(T6, T7, T8, T9, T10) 및 제2유기발광다이오드(E)를 포함하며, 제1부화소(SP1)와 제2부화소(SP2)는 스토리지 커패시터(Cst)를 공유하며 접속되어 있다. 여기서, 제1 내지 제10트랜지스터(T1 ~ T10)를 P타입의 트랜지스터가 사용되는 것을 예로 설명한다. 한편, N타입의 트랜지스터가 제1 내지 제10트랜지스터(T1 ~ T10)로서 사용될 수 있으며, 더욱이 제1 내지 제10트랜지스터(T1 ~ T10) 중 일부에 대해서는 P타입의 트랜지스터를 사용하고 나머지에 대해서는 N타입의 트랜지스터를 사용할 수 있다.2, the first sub-pixel SP1 includes first to fifth transistors T1, T2, T3, T4 and T5 and a first organic light emitting diode E1, The pixel SP2 includes a sixth transistor to a tenth transistor T6, T7, T8, T9 and T10 and a second organic light emitting diode E. The pixel SP2 includes a first sub-pixel SP1 and a second sub- Are connected to share the storage capacitor Cst. Here, it is assumed that the first to tenth transistors T1 to T10 are P-type transistors. The N-type transistor may be used as the first to tenth transistors T1 to T10. Further, a P-type transistor may be used for a part of the first to tenth transistors T1 to T10 and an N Type transistors can be used.

제1트랜지스터(T1, 스위칭트랜지스터)의 게이트전극은 제1스캔라인(SL1)에 연결될 수 있고, 소스전극은 데이터라인(DL)에 연결될 수 있다. 그리고 제1트랜지스터(T1)의 드레인전극은 스토리지 커패시터(Cst)의 제1전극과 연결될 수 있다. 여기서, 제1트랜지스터(T1)와 스토리지 커패시터(Cst)의 접점을 제1노드(N1)라고 칭한다.The gate electrode of the first transistor T1 may be connected to the first scan line SL1 and the source electrode of the first transistor T1 may be coupled to the data line DL. The drain electrode of the first transistor T1 may be connected to the first electrode of the storage capacitor Cst. Here, the contact point between the first transistor T1 and the storage capacitor Cst is referred to as a first node N1.

이 때, 제1트랜지스터(T1)는 제1스캔라인(SL1)에서 전달되는 제1스캔신호에 따라 턴-온 또는 턴-오프되며, 턴-온시 데이터라인(DL)에 인가되는 기준 전압 또는 데이터신호를 제1노드(N1)로 공급한다.At this time, the first transistor T1 is turned on or off according to the first scan signal transmitted from the first scan line SL1, and the reference voltage or data applied to the turn- And supplies a signal to the first node N1.

제2트랜지스터(T2, 스위칭트랜지스터)의 게이트전극은 제1전원전달라인(PTL1)에 연결될 수 있고, 소스전극은 고전위전원라인(VDD)과 연결될 수 있다. 그리고, 제2트랜지스터(T2)의 드레인전극은 스토리지 커패시터(Cst)의 제1전극과 연결될 수 있다.A gate electrode of the second transistor T2 (switching transistor) may be connected to the first power supply line PTL1, and a source electrode thereof may be coupled to the high potential power supply line VDD. The drain electrode of the second transistor T2 may be connected to the first electrode of the storage capacitor Cst.

이 때, 제2트랜지스터(T2)는 제1전원전달라인(PTL1)에서 전달되는 제1전원제어신호에 따라 턴-온 또는 턴-오프 되며, 턴-온시 고전위전원라인(VDD)에서 인가되는 고전위전원을 제1노드(N1)로 공급한다.At this time, the second transistor T2 is turned on or off according to the first power supply control signal transmitted from the first power supply line PTL1, and the second transistor T2 is turned on at the high-potential power supply line VDD And supplies the high potential power to the first node N1.

제3트랜지스터(T3, 스위칭트랜지스터)의 게이트전극은 제1센싱배선(SEN1)에 연결될 수 있고, 소스전극은 스토리지 커패시터(Cst)의 제2전극에 연결될 수 있다. 그리고 제3트랜지스터(T3)의 드레인전극은 제4트랜지스터(T4)의 드레인전극과 제5트랜지스(T5)의 소스전극 사이에 연결될 수 있다. 여기서, 제3트랜지스터(T3)와 스토리지 커패시터(Cst)의 접점을 제2노드(N2)라 칭하고, 제3트랜지스터(T3)와 제4트랜지스터(T4) 그리고 제5트랜지스터(T5)의 접점을 제3노드(N3)라고 칭한다.The gate electrode of the third transistor T3 (switching transistor) may be connected to the first sensing wiring SEN1, and the source electrode thereof may be connected to the second electrode of the storage capacitor Cst. The drain electrode of the third transistor T3 may be connected between the drain electrode of the fourth transistor T4 and the source electrode of the fifth transistor T5. Here, the contact between the third transistor T3 and the storage capacitor Cst is referred to as a second node N2, and the contact between the third transistor T3, the fourth transistor T4, and the fifth transistor T5 3 node (N3).

이 때, 제3트랜지스터(T3)는 제1센싱배선(SEN1)에서 전달되는 제1문턱전압검출제어신호에 따라 턴-온 또는 턴-오프되며, 턴-온시 제2노드(N2)와 제3노드(N3)를 연결시키고, 제4트랜지스터(T4)의 게이트전극과 드레인전극이 서로 연결되도록 한다. 다시 말해, 제3트랜지스터(T3)는 제4트랜지스터(T4)의 문턱전압검출을 위해 제4트랜지스터(T4)가 회로적으로 다이오드 형태를 갖도록 제어한다.At this time, the third transistor T3 is turned on or off according to the first threshold voltage detection control signal transmitted from the first sensing wiring SEN1, and the second node N2 and the third The node N3 is connected, and the gate electrode and the drain electrode of the fourth transistor T4 are connected to each other. In other words, the third transistor T3 controls the fourth transistor T4 to have a circuit diode form for detecting the threshold voltage of the fourth transistor T4.

제4트랜지스터(T4, 드라이빙트랜지스터)의 게이트 전극은 제2노드(N2)에 연결될 수 있고, 소스전극은 고전위전원라인(VDD)과 연결될 수 있다. 그리고 제4트랜지스터(T4)의 드레인전극은 제3노드(N3)에 연결될 수 있다.The gate electrode of the fourth transistor T4 (driving transistor) may be connected to the second node N2, and the source electrode thereof may be connected to the high potential power supply line VDD. The drain electrode of the fourth transistor T4 may be connected to the third node N3.

이 때, 제4트랜지스터(T4)는 제2노드(N2)에 인가된 신호에 따라 제어되며, 제2노드(N2)에 인가된 신호의 크기에 따라 고전위전원라인(VDD)으로부터 저전위전압배선(VSS)으로 흐르는 구동전류의 양을 조절한다. At this time, the fourth transistor T4 is controlled according to a signal applied to the second node N2, and the fourth transistor T4 is turned off from the high potential power supply line VDD according to the magnitude of the signal applied to the second node N2. Thereby adjusting the amount of the driving current flowing to the wiring VSS.

제5트랜지스터(T5, 에미션트랜지스터)의 게이트전극은 제1발광제어라인(EL1)에 연결될 수 있고, 소스전극은 제3노드(N3)에 연결될 수 있다. 그리고, 제5트랜지스터(T5)의 드레인전극은 제1유기발광다이오드(E1)의 제1전극에 연결될 수 있다.A gate electrode of the fifth transistor T5 (emission transistor) may be connected to the first emission control line EL1, and a source electrode thereof may be coupled to the third node N3. The drain electrode of the fifth transistor T5 may be connected to the first electrode of the first organic light emitting diode E1.

이 때, 제5트랜지스터(T5)는 제1발광제어라인(EL1)에서 전달되는 제1발광제어신호에 따라 턴-온 또는 턴-오프 되며, 턴-온시 제3노드(N3)와 제1유기발광다이오드(E1)의 제1전극간을 전기적으로 연결시킨다. 즉, 제5트랜지스터(T5)는 제4트랜지스터(T4)에 이해 제어되는 구동전류를 제1유기발광다이오드(E1)로 전달한다.At this time, the fifth transistor T5 is turned on or off according to the first emission control signal transmitted from the first emission control line EL1, and the third node N3 and the first Thereby electrically connecting the first electrodes of the light emitting diode E1. That is, the fifth transistor T5 transfers the driving current to the first organic light emitting diode E1, which is under the control of the fourth transistor T4.

제1유기발광다이오드(E1)의 제1전극은 제5트랜지스터(T5)의 소스전극과 연결될 수 있으며, 제2전극은 저전위전원라인(VSS)에 연결될 수 있다. 이 때 제1전극은 애노드전극이 될 수 있으며, 제2전극은 캐소드전극이 될 수 있다.The first electrode of the first organic light emitting diode E1 may be connected to the source electrode of the fifth transistor T5 and the second electrode may be connected to the low potential power supply line VSS. In this case, the first electrode may be an anode electrode, and the second electrode may be a cathode electrode.

제6트랜지스터(T6, 스위칭트랜지스터)의 게이트전극은 제2스캔라인(SL2)에 연결될 수 있고, 소스전극은 데이터라인(DL)에 연결될 수 있다. 그리고 제6트랜지스터(T6)의 드레인전극은 제2노드(N2)에 연결될 수 있다.The gate electrode of the sixth transistor T6 (switching transistor) may be connected to the second scan line SL2, and the source electrode thereof may be connected to the data line DL. The drain electrode of the sixth transistor T6 may be connected to the second node N2.

이 때, 제6트랜지스터(T6)는 제2스캔라인(SL2)에서 전달되는 제2스캔신호에 따라 턴-온 또는 턴-오프되며, 턴-온시 데이터라인(DL)에 인가되는 기준 전압 또는 데이터신호를 제2노드(N2)로 공급한다.At this time, the sixth transistor T6 is turned on or off according to the second scan signal transmitted from the second scan line SL2, and the reference voltage or data applied to the turn- And supplies a signal to the second node N2.

제7트랜지스터(T7, 스위칭트랜지스터)의 게이트전극은 제2전원전달라인(PTL2)에 연결될 수 있고, 소스전극은 고전위전원라인(VDD)과 연결될 수 있다. 그리고, 제7트랜지스터(T7)의 드레인전극은 스토리지 커패시터(Cst)의 제2전극과 연결될 수 있다.The gate electrode of the seventh transistor T7 (switching transistor) may be connected to the second power supply line PTL2, and the source electrode thereof may be connected to the high potential power supply line VDD. The drain electrode of the seventh transistor T7 may be connected to the second electrode of the storage capacitor Cst.

이 때, 제7트랜지스터(T7)는 제2전원전달라인(PTL2)에서 전달되는 제2전원제어신호에 따라 턴-온 또는 턴-오프 되며, 턴-온시 고전위전원라인(VDD)에서 인가되는 고전위전원을 제2노드(N2)로 공급한다.At this time, the seventh transistor T7 is turned on or off according to a second power supply control signal transmitted from the second power supply line PTL2, and the seventh transistor T7 is turned on at the high potential power supply line VDD And supplies the high potential power to the second node N2.

제8트랜지스터(T8, 스위칭트랜지스터)의 게이트전극은 제2센싱배선(SEN2)에 연결될 수 있고, 소스전극은 스토리지 커패시터(Cst)의 제1노드(N1)에 연결될 수 있다. 그리고 제8트랜지스터(T8)의 드레인전극은 제9트랜지스터(T9)의 드레인전극과 제10트랜지스(T10)의 소스전극 사이에 연결될 수 있다. 여기서, 제8트랜지스터(T8)와 제9트랜지스터(T9) 그리고 제10트랜지스터(T10)의 접점을 제4노드(N4)라고 칭한다.The gate electrode of the eighth transistor T8 (switching transistor) may be connected to the second sensing wiring SEN2, and the source electrode thereof may be connected to the first node N1 of the storage capacitor Cst. The drain electrode of the eighth transistor T8 may be connected between the drain electrode of the ninth transistor T9 and the source electrode of the tenth transistor T10. Here, the contact point of the eighth transistor T8, the ninth transistor T9 and the tenth transistor T10 is referred to as a fourth node N4.

이 때, 제8트랜지스터(T8. 스위칭트랜지스터)는 제2센싱배선(SEN2)에서 전달되는 제2문턱전압검출제어신호에 따라 턴-온 또는 턴-오프되며, 턴-온시 제1노드(N1)와 제4노드(N4)를 연결시키고, 제9트랜지스터(T9)의 게이트전극과 드레인전극이 서로 연결되도록 한다. 다시 말해, 제8트랜지스터(T8)는 제9트랜지스터(T9)의 문턱전압검출을 위해 제9트랜지스터(T9)가 회로적으로 다이오드 형태를 갖도록 제어한다.At this time, the eighth transistor T8 (switching transistor) is turned on or off according to the second threshold voltage detection control signal transmitted from the second sensing wiring SEN2, and the first node N1 is turned on, And the fourth node N4, and the gate electrode and the drain electrode of the ninth transistor T9 are connected to each other. In other words, the eighth transistor T8 controls the ninth transistor T9 to have a circuit diode form for detecting the threshold voltage of the ninth transistor T9.

제9트랜지스터(T9, 드라이빙트랜지스터)의 게이트 전극은 제1노드(N1)에 연결될 수 있고, 소스전극은 고전위전원라인(VDD)과 연결될 수 있다. 그리고 제9트랜지스터(T9)의 드레인전극은 제4노드(N4)에 연결될 수 있다.A gate electrode of the ninth transistor T9 (driving transistor) may be connected to the first node N1, and a source electrode thereof may be connected to the high potential power supply line VDD. And the drain electrode of the ninth transistor T9 may be connected to the fourth node N4.

이 때, 제9트랜지스터(T9)는 제1노드(N1)에 인가된 신호에 따라 제어되며, 제1노드(N1)에 인가된 신호의 크기에 따라 고전위전원라인(VDD)으로부터 저전위전압배선(VSS)으로 흐르는 구동전류의 양을 조절한다. At this time, the ninth transistor T9 is controlled according to a signal applied to the first node N1, and the ninth transistor T9 is turned off from the high potential power supply line VDD according to the magnitude of the signal applied to the first node N1. Thereby adjusting the amount of the driving current flowing to the wiring VSS.

제10트랜지스터(T10, 에미션트랜지스터)의 게이트전극은 제2발광제어라인(EL2)에 연결될 수 있고, 소스전극은 제4노드(N4)에 연결될 수 있다. 그리고, 제10트랜지스터(T10)의 드레인전극은 제2유기발광다이오드(E2)의 제1전극에 연결될 수 있다.The gate electrode of the tenth transistor (T10, emission transistor) may be connected to the second emission control line EL2, and the source electrode may be connected to the fourth node N4. The drain electrode of the tenth transistor T10 may be connected to the first electrode of the second organic light emitting diode E2.

이 때, 제10트랜지스터(T10)는 제2발광제어라인(EL2)에서 전달되는 발광제어신호에 따라 턴-온 또는 턴-오프 되며, 턴-온시 제4노드(N4)와 제2유기발광다이오드(E2)의 제1전극간을 전기적으로 연결시킨다. 즉, 제10트랜지스터(T10)는 제9트랜지스터(T9)에 이해 제어되는 구동전류를 제2유기발광다이오드(E2)로 전달한다.At this time, the tenth transistor T10 is turned on or off according to the emission control signal transmitted from the second emission control line EL2, and the fourth node N4 and the second organic light emitting diode And electrically connects the first electrodes of the second electrode E2. That is, the tenth transistor T10 transmits a drive current, which is under the control of the ninth transistor T9, to the second organic light emitting diode E2.

제2유기발광다이오드(E2)의 제1전극은 제10트랜지스터(T10)의 소스전극과 연결될 수 있으며, 제2전극은 저전위전원라인(VSS)에 연결될 수 있다. 이 때 제1전극은 애노드전극이 될 수 있으며, 제2전극은 캐소드전극이 될 수 있다.The first electrode of the second organic light emitting diode E2 may be connected to the source electrode of the tenth transistor T10 and the second electrode may be connected to the low potential power supply line VSS. In this case, the first electrode may be an anode electrode, and the second electrode may be a cathode electrode.

그리고 스토리지 커패시터(Cst)는 제1노드(N1)와 제2노드(N2) 사이에 연결될 수 있다.And the storage capacitor Cst may be connected between the first node N1 and the second node N2.

이하 전술한 바와 같은 구성요소들의 기능에 대해 상세히 살펴본다.Hereinafter, the functions of the above-described components will be described in detail.

제1부화소(SP1)의 제1시간구간(예를 들어 초기화구간) 동안 제1전원전달라인(PTL1)을 통해 제1전원제어신호가 인가되고, 제2스캔라인(SL2)을 통해 제2스캔신호가 인가되고, 데이터라인(DL)으로 기준전압(Vref)이 인가된다. The first power supply control signal is applied through the first power supply line PTL1 during the first time period (e.g., the initialization period) of the first sub-pixel SP1 and the second power supply control signal is applied through the second scan line SL2 A scan signal is applied, and a reference voltage Vref is applied to the data line DL.

이에 따라 제2트랜지스터(T2) 및 제6트랜지스터(T6)가 턴-온되고, 나머지 트랜지스터들은 모두 턴-오프되며, 데이터라인(DL)으로부터의 기준전압(Vref)이 턴-온된 제2트랜지스터(T2)를 통해, 제2노드(N2)로 인가된다. 또한, 고전위전원라인(VDD)로부터 고전위전원이 턴-온된 제2트랜지스터(T2)를 통해 제1노드(N1)로 인가된다. 이에 따라, 스토리지 커패시터(Cst)의 양단에 각각 기준전압(Vref)과 고전위전원이 인가되어, 고전위전원과 기준전압(Vref)간의 차이에 상응하는 전압이 스토리지 커패시터(Cst)에 저장된다. 즉 초기화된다.The second transistor T2 and the sixth transistor T6 are turned on and the remaining transistors are all turned off and the reference voltage Vref from the data line DL is turned on, T2 to the second node N2. Also, the high potential power from the high potential power supply line VDD is applied to the first node N1 through the second transistor T2 turned on. Accordingly, the reference voltage Vref and the high potential power are applied to both ends of the storage capacitor Cst, respectively, and a voltage corresponding to the difference between the high potential power supply and the reference voltage Vref is stored in the storage capacitor Cst. I.e. initialized.

이후 제1부화소(SP1)의 제2시간구간(예를 들어 센싱구간)동안에는, 제1스캔라인(SL1)을 통해 제1스캔신호가 인가되고, 제1센싱배선(SEN1)을 통해 제1문턱전압검출제어신호가 인가되고, 데이터라인(DL)으로 데이터전압(Vdata)에 해당하는 데이터신호가 인가된다. 이 때, 나머지 라인은 로직로우(Low) 상태이다.During a second time period (for example, a sensing period) of the first sub-pixel SP1, a first scan signal is applied through the first scan line SL1, a first scan signal is applied through the first sense line SEN1, A threshold voltage detection control signal is applied and a data signal corresponding to the data voltage Vdata is applied to the data line DL. At this time, the remaining lines are in a logic low state.

이에 따라 제1트랜지스터(T1) 및 제3트랜지스터(T)가 턴-온되며, 제4트랜지스터(T)는 잠시 동안 턴-온된 상태를 유지하다가 턴-오프되고, 나머지 트랜지스터는 모두 턴-오프된다.Accordingly, the first transistor T1 and the third transistor T are turned on, the fourth transistor T is kept turned on for a while and then turned off, and all the remaining transistors are turned off .

다시 말해, 턴-온된 제1트랜지스터(T1)에 의해 제1노드(N1)에 데이터신호가 인가되어 제1노드(N1)의 전압이 상승하면, 스토리지 커패시터(Cst)에 의해 그 전압 의 상승분 만큼 제2노드(N2)의 전압도 상승하게 된다. 이에 의해 제4트랜지스터(T4) 가 턴-온되며, 제3트랜지스터(T3) 및 제4트랜지스터(T4)를 통하여 고전위구동전압(VDD)이 제2노드(N2)로 인가될수 있다. In other words, when the voltage of the first node N1 rises due to the application of the data signal to the first node N1 by the turned-on first transistor T1, by the storage capacitor Cst, The voltage of the second node N2 also rises. Thus, the fourth transistor T4 is turned on and the high potential driving voltage VDD can be applied to the second node N2 through the third transistor T3 and the fourth transistor T4.

그러면, 제2노드(N2)의 전압이 상승하기 시작하여 문턱전압에 상응하는 전압이 될 때 제4트랜지스터(T4)가 턴-오프된다. 이 때, 스토리지 커패시터(Cst)에는 데이터신호와 문턱전압의 합에 상응하는 전압이 저장된다.Then, when the voltage of the second node N2 begins to rise and becomes the voltage corresponding to the threshold voltage, the fourth transistor T4 is turned off. At this time, a voltage corresponding to the sum of the data signal and the threshold voltage is stored in the storage capacitor Cst.

따라서, 제4트랜지스터(T4)의 문턱전압이 검출되어 스토리지 커패시터(Cst)에 저장된다.Therefore, the threshold voltage of the fourth transistor T4 is detected and stored in the storage capacitor Cst.

이후 제1부화소(SP1)의 제3시간구간(예를 들어 발광구간)동안에는, 제1전원전달라인(PTl1)을 통해 제1전원제어신호가 인가되고, 제1발광제어라인(EL1)을 통해 제1발광제어신호가 인가된다. 그리고, 데이터라인(DL)에는 제1부화소(SP1)에 필요한 기준전압 및 데이터신호가 인가될 수 있다. 이 때, 나머지 라인은 로직로우(Low) 상태이다.During the third time period (for example, the light emitting period) of the first sub-pixel SP1, the first power supply control signal is applied through the first power supply line PTl1 and the first light emitting control line EL1 is turned on The first emission control signal is applied. A reference voltage and a data signal necessary for the first sub-pixel SP1 may be applied to the data line DL. At this time, the remaining lines are in a logic low state.

이에 따라 제2트랜지스터(T2), 제4트랜지스터(T4), 제5트랜지스터(T5)가 턴-온되고, 나머지 트랜지스터들은 모두 턴-오프되며, 턴-온된 제5트랜지스터(T5)는 스토리지 커패시터(Cst)에 저장된 전압에 대응되는 크기의 구동전류를 발생시키고, 이를 턴-온된 제5트랜지스터(T5)를 통해 제1유기발광다이오드(E1)로 제공한다. 그러면, 이 제1유기발광다이오드(E1)가 그 구동전류의 크기에 따른 광을 출사한다.The fifth transistor T5 is turned on and the remaining transistors are turned off and the fifth transistor T5 is turned on and the fifth transistor T5 is turned off. Cst and supplies the generated driving current to the first organic light emitting diode E1 through the fifth transistor T5 which is turned on. Then, the first organic light emitting diode E1 emits light according to the magnitude of the driving current.

한편, 제2부화소(SP2)의 제1 내지 제3시간구간 동안에는 제1부화소(SP1)의 데이터전압및 문턱전압이 삭제되고, 제2부화소(SP2)의 데이터전압 및 문턱전압이 다시 저장된다. 이를 위해, 제2부화소(SP2)의 제1 내지 제3시간구간에서는 제1부화소(SP1)의 제1 내지 제3시간구간에서 인가되는 제어신호들에 대해 반전된 형태로 제어신호가 인가된다.
On the other hand, during the first to third time periods of the second subpixel SP2, the data voltage and the threshold voltage of the first subpixel SP1 are deleted, and the data voltage and the threshold voltage of the second subpixel SP2 are again . To this end, in the first to third time periods of the second subpixel SP2, the control signals are inverted with respect to the control signals applied in the first to third time periods of the first subpixel SP1 do.

한편, 전술한 회로와 연결구조에 대해 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 제n화소와 제n+1화소가 스토리지 커패시터(Cst)를 공유하는 구성이라면 다른 회로와 연결구조도 가능할 것이다.The circuit and the connection structure described above are not particularly limited. For example, if the n-th pixel and the (n + 1) -th pixel share the storage capacitor Cst, other circuits and connection structures may be possible.

이하, 도면을 참조하여, 전술한 바와 같은 부화소 구조를 갖는 본 발명에 따른 유기발광다이오드 표시장치의 표시패널 구조를 설명한다.Hereinafter, a display panel structure of an organic light emitting diode display device according to the present invention having the sub-pixel structure as described above will be described with reference to the drawings.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 유기발광다이오드 표시장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다. 이 때, 설명의 편의상 유기발광다이오드의 제1전극과, 유기발광다이오드의 제1전극에 접촉하는 제5트랜지스터의 드레인전극을 노출시키는 드레인콘택홀만 도시하였다.3 is a plan view schematically showing an organic light emitting diode display device according to an embodiment of the present invention. Here, for convenience of explanation, only the first electrode of the organic light emitting diode and the drain contact hole exposing the drain electrode of the fifth transistor which contacts the first electrode of the organic light emitting diode are shown.

도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 유기발광다이오드 표시장치는 기판(101)과, 기판(101) 상에 형성되는 다수의 스캔배선(미도시)과 다수의 데이터배선(미도시), 그리고 다수의 스캔배선(미도시)과 다수의 데이터배선(미도시)이 교차하여 정의하는 다수의 부화소로 이루어지는 다수의 화소(PXL1, PXL2, PXL3, PXL4, … )와, 다수의 화소(PXL1, PXL2, PXL3, PXL4, … ) 각각에 형성되는 다수의 트랜지스터(도 2의 T1 ~ T10, …, T(n))로 구성된다. 이 때, 다수의 트랜지스터(도 2의 T1 ~ T10, …, T(n))를 덮으며 기판(101) 전면으로 평탄화막(109)이 형성되어 있다.3, an organic light emitting diode display device according to an embodiment of the present invention includes a substrate 101, a plurality of scan lines (not shown) formed on the substrate 101, and a plurality of data lines And a plurality of pixels PXL1, PXL2, PXL3, PXL4, ..., each of which is composed of a plurality of sub-pixels defined by intersecting a plurality of scan lines (not shown) and a plurality of data lines (not shown) (T 1 to T 10,..., T (n) in FIG. 2) formed in each of the pixels PXL 1, PXL 2, PXL 3, PXL 4, At this time, the planarizing film 109 is formed on the entire surface of the substrate 101 so as to cover a plurality of transistors (T1 to T10, ..., T (n) in FIG. 2).

조금 더 자세히 설명하면, 제1화소(PXL1)에는 스위칭 및 구동기능을 하는 제1 내지 제5트랜지스터(도 2의 T1~T5)가 형성되어 있으며, 제1 내지 제5트랜지스터(도 2의 T1~T5)는 도 2에서와 같은 연결구조를 가질 수 있지만 전술한 바와 같이 이에 대해 특별히 한정하지 하지 않으며, 다만 설명의 편의상 전술한 구성요소들을 위주로 설명하며, 후술되는 제5트랜지스터 및 제6트랜지스터가 회로구성에 따라 에미션 트랜지스터 또는 구동 트랜지스터가 될 수 있음은 당업자라면 이해할 수 있을 것이다.The first to fifth transistors T1 to T5 having switching and driving functions are formed in the first pixel PXL1. The first to fifth transistors T1 to T5 in FIG. T5 may have a connection structure as shown in FIG. 2. However, the present invention is not limited to the above-described structure. However, for convenience of description, the above-described components will be mainly described, And it can be an emission transistor or a driving transistor depending on the configuration.

이어서 설명하면, 제5트랜지스터(도 2의 T5)의 드레인전극을 노출시키는 제5드레인콘택홀(113)이 평탄화막(109)에 구비되어, 제5드레인콘택홀(113)을 통해 제5트랜지스터(도 2의 T5)의 드레인전극에 연결되는 제1유기발광다이오드(도 2의 E1)의 제1전극(110)이 형성되어 있다.A fifth drain contact hole 113 exposing the drain electrode of the fifth transistor (T5 in FIG. 2) is provided in the planarization film 109, and the fifth transistor The first electrode 110 of the first organic light emitting diode (E1 of FIG. 2) connected to the drain electrode of the organic light emitting diode (T5 of FIG. 2) is formed.

한편, 제1화소(PXL1)는 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 부화소를 포함하여 이루어질 수 있으며 각 부화소에는 전술한 바와 마찬가지로 트랜지스터와 유기발광다이오드의 제1전극이 형성되어 있다. 여기서 제1화소(PXL1)가 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 부화소를 포함하는 것에 한정하지 되지 않으며 적색(R), 녹색(G), 청색(B), 백색(W)의 부화소를 포함하여 이루어질 수 있다.The first pixel PXL1 may include red (R), green (G), and blue (B) subpixels. In each subpixel, a transistor and a first electrode of the organic light emitting diode Respectively. Here, the first pixel PXL1 is not limited to a sub-pixel including red (R), green (G), and blue (B) subpixels and may include red (R), green (G), blue (B) W) sub-pixels.

제2화소(PXL)에는 스위칭 및 구동기능을 하는 제6 내지 제10트랜지스터(도 2의 T6~T10)가 형성되어 있다. 그리고 제10드레인콘택홀(117)을 통해 제10트랜지스터(도 2의 T10)의 드레인전극이 노출되고 있으며, 노출된 드레인전극과 접촉되는 제2유기발광다이오드(도 2의 E2)의 제1전극(115)이 형성되어 있다.The sixth to tenth transistors (T6 to T10 in Fig. 2) that perform switching and drive functions are formed in the second pixel PXL. The drain electrode of the tenth transistor (T10 of FIG. 2) is exposed through the tenth drain contact hole 117 and the drain electrode of the second organic light emitting diode (E2 of FIG. 2) (Not shown).

제3화소(PXL3) 및 제4화소(PXL4)에는 스위칭 및 구동기능을 하는 트랜지스터(설명의 편의상 도 2의 T1 ~ T10)가 형성되어 있고, 제5트랜지스터, 제10트랜지스터(도 2의 T5, T10)는 각각 제5, 제10드레인콘택홀(123, 127)을 통해 드레인전극이 노출되어 있다.The third and fourth transistors PXL3 and PXL4 are formed with transistors (T1 to T10 in FIG. 2) for performing switching and driving functions. The fifth transistor and the tenth transistor (T5, T10 are exposed through the fifth and tenth drain contact holes 123 and 127, respectively.

이 때, 제3화소(PXL3)의 제3유기발광다이오드의 제1전극(120)은 제4화소(PXL4)의 제10트랜지스터(T10)의 드레인전극과 접촉하고, 제4화소(PXL4)의 제4유기발광다이오드의 제1전극(125)은 제3화소(PXL3)의 제5트랜지스터(T5)의 드레인전극과 접촉하게 된다.At this time, the first electrode 120 of the third organic light emitting diode of the third pixel PXL3 is in contact with the drain electrode of the tenth transistor T10 of the fourth pixel PXL4, The first electrode 125 of the fourth organic light emitting diode is brought into contact with the drain electrode of the fifth transistor T5 of the third pixel PXL3.

이러한 구조를 갖는 본 발명의 유기발광다이오드 표시장치가 만일 제1화소(PXL1)와 제2화소(PXL)의 구조가 반복되어 표시패널이 구성되는 경우라면 하나의 커패시터를 두 화소가 공유하고 있기 때문에 커패시터에 저장된 데이터신호를 한 화소만 사용할 수 있으므로 제1하프프레임(전반부 프레임) 동안에는 1, 3, 5, 7, … 순서로 홀수열이 먼저 구동이 되고, 이후 제2하프프레임(후반부 프레임) 동안에는 2, 4, 6, 8, … 순서로 짝수열이 구동되는 시분할 구동으로 동작하게 된다. If the structure of the first pixel PXL1 and the second pixel PXL is repeated so that a display panel is formed, the organic light emitting diode display device having such a structure is formed by sharing a capacitor between two pixels Since only one pixel of the data signal stored in the capacitor can be used, 1, 3, 5, 7,... During the first half frame (first half frame) The odd-numbered columns are driven first in sequence, and then in the second half frame (second half frame), 2, 4, 6, 8, ... Division drive in which even-numbered columns are driven in order.

즉, 제1화소(PXL1)와 제2화소(PXL)의 구조가 반복되어 표시패널이 구성 되는 경우 라인 인터레이스(line lnterlace) 방식으로 화면을 표시하게 되며 이로 인해 화면의 떨림현상, 선명도저하, 잔상 등의 화질저하가 발생할 수 있는 문제점이 생긴다.That is, when the structures of the first pixel PXL1 and the second pixel PXL are repeated to constitute a display panel, a screen is displayed in a line interlace manner. As a result, There is a problem in that image quality degradation may occur.

그러나 전술한 바와 같이, 제3화소(PXL3)의 제3유기발광다이오드의 제1전극(120)은 제4화소(PXL4)의 제10트랜지스터(T10)의 드레인전극과 접촉되고, 제4화소(PXL4)의 제4유기발광다이오드의 제1전극(125)은 제3화소(PXL3)의 제5트랜지스터(T5)의 드레인전극과 접촉하는 표시패널로 구성한다면 데이터신호는 라인 인터레이스(line interlace) 방식으로 인가되지만, 각 화소는 도트 인터레이스(dot interlace) 방식으로 점 단위로 교차되어 구동되기 때문에 라인 인터레이스(line interlace) 방식의 영상출력 약점인 화질저하를 개선할 수 있게 된다.
However, as described above, the first electrode 120 of the third organic light emitting diode of the third pixel PXL3 is in contact with the drain electrode of the tenth transistor T10 of the fourth pixel PXL4, If the first electrode 125 of the fourth organic light emitting diode of the third pixel PXL4 is constituted by a display panel which is in contact with the drain electrode of the fifth transistor T5 of the third pixel PXL3, However, since each pixel is driven by being crossed in dot-by-dot manner by a dot interlace method, it is possible to improve image quality degradation due to a line interlace method.

도 4는 도 3의 절단선 Ⅲ-Ⅲ을 따라 절단한 단면도이다. 이 때, 설명의 편의상 도면에는 제5트랜지스터와 제10트랜지스터, 커패시터, 유기발광다이오드만 도시하였지만, 실제 제1~4, 6~9트랜지스터는 제5트랜지스터 및 제10트랜지스터와 동일한 공정에서 동일한 물질, 구조로 형성할 수 있다.Fig. 4 is a cross-sectional view taken along line III-III in Fig. 3; Fig. In this case, although only the fifth transistor and the tenth transistor, the capacitor and the organic light emitting diode are shown in the figure for the sake of convenience, the first through fourth and sixth through ninth transistors are the same material in the same process as the fifth transistor and the tenth transistor, Structure.

도 4에 도시한 바와 같이, 기판(101) 상에는 폴리실리콘으로 이루어지며 그 중앙부는 채널이 형성되는 제1영역(133a) 및 제4영역(135a)과, 제1영역(133a) 양측면으로 고농도의 불순물이 도핑된 제2영역(133b) 및 제3영역(133c)과 제4영역(135a) 양측면으로 제5영역(135b) 및 제6영역(135c)로 구성된 제1반도체층 및 제2반도체층(133, 135, 실제는 제5트랜지스터의 제5반도체층과 제10트랜지스터의 제10반도체층)이 형성되어 있다.4, the substrate 101 is made of polysilicon. The central portion of the substrate 101 has a first region 133a and a fourth region 135a in which channels are formed, and a first region 133a and a second region 133b. The first semiconductor layer and the second semiconductor layer including the impurity-doped second region 133b and the third region 133c and the fifth region 135b and the sixth region 135c on both sides of the fourth region 135a, (Actually, the fifth semiconductor layer of the fifth transistor and the tenth semiconductor layer of the tenth transistor) 133 and 135 are formed.

제1반도체층 및 제2반도체층(133, 135)과 제1기판(101) 사이에는 전면에 무기절연물질, 예를 들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)으로 이루어진 버퍼층(미도시)이 구비될 수 있다.A buffer layer (not shown) made of an inorganic insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiN x ) is formed on the entire surface between the first and second semiconductor layers 133 and 135 and the first substrate 101. May be provided.

그리고, 제1 및 제2반도체층(133, 135)을 덮으며 기판(101) 전면에 제1절연막(103)이 형성되어 있으며, 제1절연막(103) 상부로 제1반도체층 및 제2반도체층(133, 135)의 제1영역(133a) 및 제4영역(135a)에 대응하여 제1게이트전극 및 제2게이트전극(140, 142 실제는 제5트랜지스터의 제5게이트전극과 제10트랜지스터의 제10게이트전극)이 형성되어 있다. 이 때, 도면상 도시하지 않았지만 제1절연막(110) 상부로 일 방향으로 연장하는 게이트 배선(미도시)이 형성되어 있다.A first insulating layer 103 is formed on the entire surface of the substrate 101 so as to cover the first and second semiconductor layers 133 and 135. A first semiconductor layer and a second semiconductor layer The first gate electrode and the second gate electrode 140 and 142 corresponding to the first region 133a and the fourth region 135a of the layers 133 and 135 are actually connected to the fifth gate electrode of the fifth transistor and the tenth transistor The tenth gate electrode of the tenth layer is formed. At this time, although not shown in the figure, gate wiring (not shown) extending in one direction is formed on the first insulating film 110.

제1게이트전극 및 제2게이트전극(140, 142)과 게이트배선(미도시) 상부 전면으로 제2절연막(107)이 형성되어 있다. 이 때, 제2절연막(107)과 그 하부의 제1절연막(103)에은 제1영역(133a) 및 제4영역(135a) 양측면에 위치한 제2영역, 제3영역, 제5영역, 제6영역(133b, 133c, 135b, 135c) 각각을 노출시키는 제1콘택홀 및 제2콘택홀(CH1, CH2)이 형성되어 있다. 이 때, 도면상 도시하지 않았지만 제1콘택홀 및 제2콘택홀(CH1, CH2)을 포함하는 제2절연막(107) 상부에는 게이트배선(미도시)과 교차하여 각 화소영역을 정의하는 데이터배선(미도시)이 형성되어 있다.A second insulating layer 107 is formed on the first gate electrode and the second gate electrodes 140 and 142 and the upper surface of the gate wiring (not shown). At this time, a second region, a third region, a fifth region, a sixth region, and a fourth region located on both sides of the first region 133a and the fourth region 135a are formed in the second insulating film 107 and the first insulating film 103 under the second insulating film 107, First contact holes and second contact holes CH1 and CH2 exposing the regions 133b, 133c, 135b and 135c are formed. At this time, although not shown in the figure, on the upper portion of the second insulating film 107 including the first contact hole and the second contact holes CH1 and CH2, a data wiring (not shown) crossing the gate wiring (Not shown) is formed.

또한, 제2절연막(107) 상부로 제1, 제2콘택홀(CH, CH2)을 통해 노출된 제2영역, 제3영역, 제5영역, 제6영역(133b, 133c, 135b, 135c)과 접속하는 제1소스 및 제1드레인전극(151, 153), 제2소스 및 제2드레인전극(155, 157)이 형성되어 있다.A second region, a third region, a fifth region, a sixth region 133b, 133c, 135b, and 135c exposed above the second insulating film 107 through the first and second contact holes CH and CH2, A first source and first drain electrodes 151 and 153, a second source and a second drain electrode 155 and 157 are formed.

이 때, 제1소스 및 제1드레인전극(151, 153)과, 제1반도체층(133)과, 제1절연막(103) 및 제1게이트전극(140)은 제5트랜지스터(T5)를 이루고, 제2소스 및 제2드레인전극(155, 157)과, 제2반도체층(135)과, 제1절연막(103) 및 제2게이트전극(142)은 제10트랜지스터(T10)를 이루게 된다.At this time, the first source and first drain electrodes 151 and 153, the first semiconductor layer 133, the first insulating film 103 and the first gate electrode 140 form a fifth transistor T5 The second source and drain electrodes 155 and 157 and the second semiconductor layer 135 and the first insulating layer 103 and the second gate electrode 142 constitute a tenth transistor T10.

한편, 상술한 각 트랜지스터(T5, T10)는 폴리실리콘의 반도체를 가지며 탑 게이트 타입(Top gate type)으로 구성된 것을 일례로 보이고 있지만, 도 6 및 7(본 발명의 유기발광다이오드 소자에 있어서 구동 트랜지스터의 다른예에 대한 단면도)에 각각 도시한 바와 같이, 비정질 실리콘의 반도체층(도 6의 233) 또는 산화물 반도체 물질로 이루어진 반도체층(도 7의 331)을 갖는 보텀 게이트 타입(Bottom gate type)으로 구성될 수도 있다.6 and 7 (in the organic light-emitting diode device of the present invention, each of the transistors T5 and T10 has a polysilicon semiconductor and is of a top gate type) (Bottom gate type) having a semiconductor layer of amorphous silicon (233 in FIG. 6) or a semiconductor layer made of an oxide semiconductor material (331 in FIG. 7), as shown in FIG. .

각 트랜지스터가 보텀 게이트 타입으로 구성되는 경우, 도 6에 도시한 바와 같이, 게이트전극(240)과, 게이트절연막(203)과, 순수 비정질 실리콘의 액티브층(233a)과 서로 이격하며 불순물 비정질 실리콘의 오믹콘택층(233b)으로 이루어진 반도체층(233)과, 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(251, 253)의 적층구조를 갖거나, 또는 도 7에 도시한 바와 같이, 게이트전극(340)과, 게이트절연막(303)과, 산화물 반도체층(331)과, 에치스토퍼(333)와, 에치스토퍼(333) 상에서 서로 이격하며 각각 산화물 반도체층(331)과 접촉하는 소스 및 드레인 전극(351, 353)의 적층구조를 갖는다.6, the gate electrode 240, the gate insulating film 203, and the active layer 233a of pure amorphous silicon are spaced apart from each other and the impurity amorphous silicon A semiconductor layer 233 made of an ohmic contact layer 233b and source and drain electrodes 251 and 253 spaced apart from each other or having a laminated structure of a gate electrode 340, Source and drain electrodes 351 and 353 which are separated from each other on the gate insulating film 303, the oxide semiconductor layer 331, the etch stopper 333 and the etch stopper 333 and are in contact with the oxide semiconductor layer 331, As shown in FIG.

다시 도 4를 설명하면, 제5, 제10트랜지스터(T5, T10) 위로는 기판(101) 전면에 평탄화막(109)이 형성되어 있다. 이 때, 평탄화막(109)에는 제5트랜지스터(T5)의 드레인전극(153)을 노출시키는 제5드레인콘택홀(113)과 제10트랜지스터(T10)의 드레인전극(157)을 노출시키는 제10드레인콘택홀(117)이 형성되어 있다.Referring again to FIG. 4, a planarizing film 109 is formed on the entire surface of the substrate 101 over the fifth and tenth transistors T5 and T10. In this case, the fifth drain contact hole 113 exposing the drain electrode 153 of the fifth transistor T5 and the drain electrode 157 of the tenth transistor T10 are exposed in the planarization film 109, Drain contact holes 117 are formed.

제5, 제10드레인콘택홀(113, 117)을 구비한 평탄화막(109) 상부로는 제5트랜지스터(T5)의 드레인전극(153)과 제5드레인콘택홀(113)을 통해 접촉되며 제1유기발광다이오드의 제1전극(110), 제2유기발광다이오드의 제1전극(115)이 형성되어 있다.The upper part of the planarization film 109 having the fifth and tenth drain contact holes 113 and 117 is in contact with the drain electrode 153 of the fifth transistor T5 through the fifth drain contact hole 113, A first electrode 110 of the organic light emitting diode and a first electrode 115 of the second organic light emitting diode are formed.

제1유기발광다이오드의 제1전극(110), 제2유기발광다이오드의 제1전극(115)은 애노드 전극의 역할을 하도록 일함수 값이 비교적 큰 투명 도전성 물질 예를들면 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어질 수 있다.The first electrode 110 of the first organic light emitting diode and the first electrode 115 of the second organic light emitting diode may be formed of a transparent conductive material having a relatively large work function value such as indium tin oxide ITO) or indium-zinc-oxide (IZO).

한편, 제1유기발광다이오드의 제1전극(110), 제2유기발광다이오드의 제1전극(115)은 이중충 구조로 형성될 수도 있는데, 제1유기발광다이오드의 제1전극(110), 제2유기발광다이오드의 제1전극(115)의 상부층(미도시)은 애노드 전극의 역할을 하며, 하부층(미도시)은 반사판의 역할을 하도록 형성된다. 하부층(미도시)은 반사효율이 우수한 금속물질 예를들면 알루미늄(Al) 또는 은(Ag)으로 이루어질 수 있고, 제1유기발광다이오드의 제1전극(110), 제2유기발광다이오드의 제1전극(115)상부에 형성되는 유기 발광층(미도시)으로부터 발광된 빛을 상부로 반사시켜 재활용함으로써 발광효율을 향상시키는 역할을 하게 된다.The first electrode 110 of the first organic light emitting diode and the first electrode 115 of the second organic light emitting diode may have a double layer structure. The first electrode 110 of the first organic light emitting diode, An upper layer (not shown) of the first electrode 115 of the second organic light emitting diode serves as an anode electrode, and a lower layer (not shown) serves as a reflective plate. The lower layer (not shown) may be made of a metal material having excellent reflection efficiency, for example, aluminum (Al) or silver (Ag), and may include a first electrode 110 of the first organic light emitting diode, Light emitted from an organic light emitting layer (not shown) formed on the electrode 115 is reflected upward and recycled, thereby improving luminous efficiency.

한편, 제1절연막(103) 상으로 제5트랜지스터(T5)와 제10트랜지스터(T10)사이에 스토리지 커패시터(Cst)의 제1전극(139)이 형성되어 있고, 스토리지 커패시터(Cst)의 제1전극(139)에 대응되는 제2절연막(107) 상으로 스토리지 커패시터(Cst)의 제2전극(159)가 형성되어 있다.The first electrode 139 of the storage capacitor Cst is formed between the fifth transistor T5 and the tenth transistor T10 on the first insulating film 103 and the first electrode 139 of the storage capacitor Cst is formed between the fifth transistor T5 and the tenth transistor T10. The second electrode 159 of the storage capacitor Cst is formed on the second insulating film 107 corresponding to the electrode 139. [

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 제1유기발광다이오드의 제1전극(110), 제2유기발광다이오드의 제1전극(115)의 가장자리에 뱅크(미도시)가 형성되어 있으며, 뱅크(미도시)가 형성되지 않은 중앙부에는 유기발광층(미도시)이 형성된다. 이때, 유기발광층(미도시)은 유기발광물질로 이루어진 단일층으로 구성될 수도 있으며, 또는 발광 효율을 높이기 위해 다중층 구조로 이루어질 수도 있다.Although not shown in the drawing, banks (not shown) are formed at the edges of the first electrode 110 of the first organic light emitting diode and the first electrode 115 of the second organic light emitting diode, An organic light emitting layer (not shown) is formed at a central portion where no organic light emitting layer (not shown) is formed. At this time, the organic light emitting layer (not shown) may be formed of a single layer made of an organic light emitting material, or may have a multi-layer structure to enhance the light emitting efficiency.

유기발광층(미도시)이 다중층 구조를 이루는 경우, 각 제1전극(110, 115)의 상부로부터 순차적으로 정공주입층(hole injection layer), 정공수송층(hole transporting layer), 발광층(emitting material layer), 전자수송층(electron transporting layer) 및 전자주입층(electron injection layer의 5중층 구조로 형성될 수도 있으며, 또는 정공수송층(hole transporting layer), 발광층(emitting material layer), 전자수송층(electron transporting layer) 및 전자주입층(electron injection layer)의 4중층 구조, 정공수송층(hole transporting layer), 발광층(emitting material layer), 전자수송층(electron transporting layer)의 3중층 구조로 형성될 수도 있다. When the organic light emitting layer (not shown) has a multilayer structure, a hole injection layer, a hole transporting layer, an emitting material layer (light emitting layer) A hole transporting layer, an emitting material layer, and an electron transporting layer), an electron transporting layer, and an electron injection layer (a five-layer structure) A hole transporting layer, an emitting material layer, and an electron transporting layer, each of which is formed of a single layer, a hole injection layer, and an electron injection layer.

그리고, 유기발광층(미도시)의 상부에는 제1유기발광다이오드의 제2전극(미도시), 제2유기발광다이오드의 제2전극(미도시)이 형성된다.A second electrode (not shown) of the first organic light emitting diode and a second electrode (not shown) of the second organic light emitting diode are formed on the organic light emitting layer (not shown).

각각의 제2전극(미도시)은 캐소드전극의 역할을 하며, 일함수 값이 비교적 낮은 금속물질 예를들면 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 은(Ag), 마그네슘(Mg), 금(Au), 알루미늄마그네슘 합금(AlMg) 중 어느 하나 또는 둘 이상의 물질로 이루어질 수 있다.
Each second electrode (not shown) serves as a cathode electrode and is formed of a metal material having a relatively low work function value such as aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), silver (Ag) (Au), an aluminum magnesium alloy (AlMg), or two or more materials.

도 5는 도 3의 절단선 Ⅳ-Ⅳ을 따라 절단한 단면도로서, 각 구성요소를 설명하는데 있어서 도 4에서 설명한 구성요소와 대응되는 부분은 생략하도록 한다.5 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3, and the components corresponding to those shown in FIG. 4 are omitted in the description of each component.

제5, 제10트랜지스터(T5, T10) 위로는 기판(101) 전면에 평탄화막(109)이 형성되어 있다. 이 때, 평탄화막(109)에는 제5트랜지스터(T5)의 드레인전극(153)을 노출시키는 제5드레인콘택홀(127)과 제10트랜지스터(T10)의 드레인전극(157)을 노출시키는 제10드레인콘택홀(123)이 형성되어 있다.A planarizing film 109 is formed on the entire surface of the substrate 101 above the fifth and tenth transistors T5 and T10. In this case, the fifth drain contact hole 127 exposing the drain electrode 153 of the fifth transistor T5 and the drain electrode 157 of the tenth transistor T10 are exposed in the planarization film 109, Drain contact holes 123 are formed.

제5, 제10드레인콘택홀(127, 123)을 구비한 평탄화막(109) 상부로는 제5트랜지스터(T5)의 드레인전극(153)과 제5드레인콘택홀(127)을 통해 접촉되며 제4유기발광다이오드의 제1전극(125), 제10트랜지스터(T10)의 드레인전극(157)과 제10드레인콘택홀(123)을 통해 접촉되며 제3유기발광다이오드의 제1전극(120)이 형성되어 있다.The upper part of the planarization film 109 having the fifth and tenth drain contact holes 127 and 123 is in contact with the drain electrode 153 of the fifth transistor T5 through the fifth drain contact hole 127, The first electrode 125 of the organic light emitting diode and the drain electrode 157 of the tenth transistor T10 are connected to the tenth drain contact hole 123 and the first electrode 120 of the third organic light emitting diode Respectively.

이 때, 전술한 바와 같이, 제3화소(PXL3)의 제3유기발광다이오드의 제1전극(120)은 제4화소(PXL4)의 제10트랜지스터(T10)의 드레인전극(157)과 접촉되고, 제4화소(PXL4)의 제4유기발광다이오드의 제1전극(125)은 제3화소(PXL3)의 제5트랜지스터(T5)의 드레인전극(153)과 접촉되게 된다.
At this time, as described above, the first electrode 120 of the third organic light emitting diode of the third pixel PXL3 is brought into contact with the drain electrode 157 of the tenth transistor T10 of the fourth pixel PXL4 The first electrode 125 of the fourth organic light emitting diode of the fourth pixel PXL4 is brought into contact with the drain electrode 153 of the fifth transistor T5 of the third pixel PXL3.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 유기발광다이오드 표시장치의 한 프레임에 대한 영상출력을 나타낸 사진이다.8 is a photograph showing an image output of one frame of the organic light emitting diode display according to the embodiment of the present invention.

도 8에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 다른 유기발광다이오드 표시장치는 제1하프프레임에서 제1화소, 제4화소, … 에서 영상출력을 하며, 제2하프프레임에서 제2화소, 제3화소, … 에서 영상출력을 하는 것을 확인할 수 있다. 즉 하프프레임 단위로 이웃하는 화소마다 영상출력이 반전되어 도트 인터레이스 방식으로 구동하게 된다.
As shown in FIG. 8, the organic light emitting diode display device according to the embodiment of the present invention includes a first pixel, a fourth pixel, and a second pixel in a first half frame. The second pixel, the third pixel, and the third pixel in the second half frame. It is possible to confirm that the video output is performed. That is, the image output is inverted for each neighboring pixel in the half frame unit, and is driven by the dot interlace method.

이상에서 전술한 바와 같이, 본 발명의 따른 유기발광다이오드 표시장치는 하나의 커패시터를 공유하는 화소구조의 경우에 커패시터를 공유하는 화소단위로 유기발광다이오드의 제1전극을 교차하여 형성하는 것으로, 도트 인터레이스 방식으로 구동이 가능하며 이에 고화질의 영상을 출력할 수 있는 효과를 갖게 된다.As described above, in the organic light emitting diode display device according to the present invention, the first electrodes of the organic light emitting diodes are formed in units of pixels sharing a capacitor in the case of a pixel structure sharing one capacitor, It is possible to drive it in an interlaced manner and thus it is possible to output a high-quality image.

동시에 커패시터를 공유하기 때문에 커패시터의 정전용량을 확보할 수 있는 효과를 갖는 동시에 유기발광다이오드 표시장치 표시영역을 확보하고, 고해상도 및 고정세(ppi)를 구현할 수 있는 효과를 갖는다.
At the same time, since the capacitor is shared, the capacitance of the capacitor can be ensured, the display area of the organic light emitting diode display can be ensured, and high resolution and high definition (ppi) can be realized.

한편, 본 발명의 다른 실시예의 경우 더미화소를 이용하여 커패시터의 신호간섭 등에 대한 영향을 최소화할 수 있는데, 이를 도면을 참조하여 설명한다.In another embodiment of the present invention, the effect of the capacitor on the signal interference and the like can be minimized by using dummy pixels, which will be described with reference to the drawings.

도 9은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기발광다이오드 표시장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다.9 is a plan view schematically showing an organic light emitting diode display device according to another embodiment of the present invention.

도 9에 도시한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예를 본 발명의 일 실시예와 비교하면 첫번째 단(400)과 마지막 단(490)에 더미영역(410)을 형성하고, 두번째 단부터 화소(P)를 활용하는 것이 차이점이다.9, a dummy region 410 is formed in the first stage 400 and the last stage 490, and the dummy region 410 is formed in the second stage from the pixel P).

더미영역(410)에는 인접한 화소와 커패시터를 공유하기 위해 게이트배선 및 데이터 배선과, 다수의 트랜지스터(T1 ~ T10, …, T(n))가 형성되고, 다수의 트랜지스터(T1 ~ T10, …, T(n))에 제어신호를 인가하지만, 유기발광다이오드는 형성하지 않는 것이 특징이다.더미영역(410)을 제외한 화소(P)는 전술한 일 실시예와 구성요소가 동일하며, 제조과정 또한 동일하게 진행 할 수 있다.부연하자면, 더미영역(410)은 도 3의 제1 및 제3화소(PXL1, PXL3)에 대응될 수 있고, 이에 연장선으로 마지막 단(490)까지 순차적으로 다수의 화소(PXL2, PXL4, PXL5, PXL7, …)가 정의될 수 있다.A plurality of transistors T1 to T10, ..., T (n) are formed in the dummy region 410 to share a capacitor with adjacent pixels, and a plurality of transistors T1 to T10, The pixel P except for the dummy region 410 has the same components as those of the above-described embodiment, and the manufacturing process is also similar to that of the above embodiment. The dummy area 410 may correspond to the first and third pixels PXL1 and PXL3 of FIG. 3, and sequentially extend to a plurality of pixels (PXL2, PXL4, PXL5, PXL7, ...) can be defined.

즉, 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기발광다이오드 표시장치는 더미영역(410)으로 유기발광다이오드만 형성되지 않을 뿐, 하나의 커패시터를 서로 공유하는 구조는 유지된다. 이에 제1유기발광다이오드의 제1전극은 제2화소(PXL2)에 연결될 수 있고, 제2유기발광다이오드의 제1전극은 제5화소(PXL5)에 연결될 수 있고, 제4유기발광다이오드의 제1전극은 제4화소(PXL4)에 연결될 수 있고, 제3유기발광다이오드의 제1전극은 제7화소(PXL7)에 연결될 수 있다. That is, in the organic light emitting diode display device according to another embodiment of the present invention, only the organic light emitting diode is not formed in the dummy region 410, but a structure in which one capacitor is shared is maintained. The first electrode of the first organic light emitting diode may be coupled to the second pixel PXL2, the first electrode of the second organic light emitting diode may be coupled to the fifth pixel PXL5, One electrode may be coupled to the fourth pixel PXL4 and the first electrode of the third organic light emitting diode may be coupled to the seventh pixel PXL7.

이 때, 영상출력은 제1하프프레임에서 제2화소, 제7화소, …, 가 표시하고, 제2하프프레임에서 제4화소, 제5화소, …, 가 표시하게 된다.At this time, the video output is the second pixel, the seventh pixel, and the third pixel in the first half frame. , And the fourth pixel, the fifth pixel, the second pixel in the second half frame, , Will be displayed.

이외의 언급하지 않은 다수의 화소는 전술한 제2, 제4, 제5, 제7화소(PXL2, PXL4, PXL5, PXL7)와 대응되는 형태로 마지막 단(490)까지 구성될 수 있다.
A plurality of other unspecified pixels may be formed up to the last stage 490 in a form corresponding to the second, fourth, fifth, and seventh pixels PXL2, PXL4, PXL5, and PXL7 described above.

본 발명은 전술한 실시예 및 변형예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.
The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention.

CH1, CH2 : 반도체층 콘택홀 T : 트랜지스터
PXL1 : 제1화소 PXL2 : 제2화소
PXL3 : 제3화소 PXL4 : 제4화소
101 : 기판 109 : 평탄화막
110, 115, 120, 125 : 애노드전극
113, 117, 123, 127 : 드레인 콘택홀
CH1, CH2: semiconductor layer contact hole T: transistor
PXL1: first pixel PXL2: second pixel
PXL3: third pixel PXL4: fourth pixel
101: substrate 109: planarization film
110, 115, 120, 125: anode electrode
113, 117, 123, 127: drain contact hole

Claims (10)

2행2열로 배열되는 제1 내지 제4화소를 포함하는 기판과;
상기 제1 내지 제4화소에 각각 형성되는 제 1 내지 제4에미션트랜지스터와;
상기 제1화소에 형성되고 상기 제1에미션트랜지스터에 연결되는 제1유기발광다이오드의 제1전극과;
상기 제2화소에 형성되고 상기 제2에미션트랜지스터에 연결되는 제2유기발광다이오드의 제2전극과;
상기 제4화소에 형성되고 상기 제3에미션트랜지스터에 연결되는 제3발광다이오드의 제3전극과;
상기 제3화소에 형성되고 상기 제4에미션트랜지스터에 연결되는 제4발광다이오드의 제4전극과;
상기 제1 및 제2화소가 공유하는 제1스토리지커패시터와;
상기 제3 및 제4화소가 공유하는 제2스토리지커패시터를 포함하는 유기발광다이오드 표시장치.
A substrate including first to fourth pixels arranged in two rows and two columns;
First to fourth emissive transistors formed in the first to fourth pixels, respectively;
A first electrode of a first organic light emitting diode formed in the first pixel and connected to the first emission transistor;
A second electrode of a second organic light emitting diode formed on the second pixel and connected to the second emission transistor;
A third electrode of the third light emitting diode formed in the fourth pixel and connected to the third emission transistor;
A fourth electrode of a fourth light emitting diode formed in the third pixel and connected to the fourth emission transistor;
A first storage capacitor shared by the first and second pixels;
And a second storage capacitor shared by the third and fourth pixels.
제 1 항에 있어서,
상기 제1화소에 형성되는 제1스위칭트랜지스터 및 제1구동트랜지스터와;
상기 제2화소에 형성되는 제2스위칭트랜지스터 및 제2구동트랜지스터와;
상기 제3화소에 형성되는 제3스위칭트랜지스터 및 제3구동트랜지스터와;
상기 제4화소에 형성되는 제4스위칭트랜지스터 및 제4구동트랜지스터를 더 포함하는 유기발광다이오드 표시장치.
The method according to claim 1,
A first switching transistor and a first driving transistor formed in the first pixel;
A second switching transistor and a second driving transistor formed in the second pixel;
A third switching transistor and a third driving transistor formed in the third pixel;
And a fourth switching transistor and a fourth driving transistor formed in the fourth pixel.
제 2 항에 있어서,
상기 제1스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제1 및 제2구동트랜지스터에 연결되고,
상기 제2스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제3 및 제4구동트랜지스터에 연결되는 유기발광다이오드 표시장치.
3. The method of claim 2,
Both ends of the first storage capacitor are connected to the first and second driving transistors, respectively,
And both ends of the second storage capacitor are connected to the third and fourth driving transistors, respectively.
제 1 항에 있어서,
상기 제1유기발광다이오드는, 상기 제1전극 상부에 순차적으로 형성되는 제1발광층 및 제5전극을 더 포함하고,
상기 제2발광다이오드는, 상기 제2전극 상부에 순차적으로 형성되는 제2발광층 및 제6전극을 더 포함하고,
상기 제3발광다이오드는, 상기 제3전극 상부에 순차적으로 형성되는 제3발광층 및 제7전극을 더 포함하고,
상기 제4발광다이오드는, 상기 제4전극 상부에 순차적으로 형성되는 제4발광층 및 제8전극을 더 포함하는 유기발광다이오드 표시장치.
The method according to claim 1,
The first organic light emitting diode may further include a first light emitting layer and a fifth electrode sequentially formed on the first electrode,
The second light emitting diode further includes a second light emitting layer and a sixth electrode sequentially formed on the second electrode,
The third light emitting diode may further include a third light emitting layer and a seventh electrode sequentially formed on the third electrode,
Wherein the fourth light emitting diode further comprises a fourth light emitting layer and an eighth electrode sequentially formed on the fourth electrode.
제 1 항에 있어서,
제1하프프레임 동안 상기 제1 및 제4화소가 구동되고,
제2하프프레임 동안 상기 제2 및 제3화소가 구동되는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치.
The method according to claim 1,
The first and fourth pixels are driven during the first half frame,
And the second and third pixels are driven during a second half frame.
상단에서 3행2열로 배치되는 제1 내지 제6화소와, 하단에서 3행2열로 배치되는 제7 내지 제12화소를 포함하는 기판과;
상기 제1 내지 제12화소에 각각 형성되는 제 1 내지 제12에미션트랜지스터와;
상기 제2화소에 형성되고 상기 제2에미션트랜지스터에 연결되는 제1유기발광다이오드의 제1전극과;
상기 제3화소에 형성되고 상기 제3에미션트랜지스터에 연결되는 제2유기발광다이오드의 제2전극과;
상기 제5화소에 형성되고 상기 제6에미션트랜지스터에 연결되는 제3유기발광다이오드의 제3전극과;
상기 제6화소에 형성되고 상기 제5에미션트랜지스터에 연결되는 제4유기발광다이오드의 제4전극과;
상기 제7화소에 형성되고 상기 제7에미션트랜지스터에 연결되는 제5유기발광다이오드의 제5전극과;
상기 제8화소에 형성되고 상기 제8에미션트랜지스터에 연결되는 제6유기발광다이오드의 제6전극과;
상기 제10화소에 형성되고 상기 제11에미션트랜지스터에 연결되는 제7유기발광다이오드의 제7전극과;
상기 제11화소에 형성되고 상기 제10션트랜지스터에 연결되는 제8유기발광다이오드의 제8전극과;
상기 제1 및 제2화소가 공유하는 제1스토리지커패시터와;
상기 제4 및 제5화소가 공유하는 제2스토리지커패시터와;
상기 제8 및 제9화소가 공유하는 제3스토리지커패시터와;
상기 제11 및 제12화소가 공유하는 제4스토리지커패시터를 포함하는 유기발광다이오드 표시장치.
A substrate including first through sixth pixels arranged in three rows and two columns from the top and seventh through twelfth pixels arranged in two rows in three rows from the bottom;
First to twelfth emission transistors formed in the first to twelfth pixels, respectively;
A first electrode of a first organic light emitting diode formed in the second pixel and connected to the second emission transistor;
A second electrode of a second organic light emitting diode formed in the third pixel and connected to the third emission transistor;
A third electrode of the third organic light emitting diode formed in the fifth pixel and connected to the sixth emission transistor;
A fourth electrode of a fourth organic light emitting diode formed in the sixth pixel and connected to the fifth emission transistor;
A fifth electrode of a fifth organic light emitting diode formed in the seventh pixel and connected to the seventh emission transistor;
A sixth electrode of the sixth organic light emitting diode formed in the eighth pixel and connected to the eighth emission transistor;
A seventh electrode of the seventh organic light emitting diode formed in the tenth pixel and connected to the eleventh emission transistor;
An eighth electrode of an eighth organic light emitting diode formed in the eleventh pixel and connected to the amplification transistor;
A first storage capacitor shared by the first and second pixels;
A second storage capacitor shared by the fourth and fifth pixels;
A third storage capacitor shared by the eighth and ninth pixels;
And a fourth storage capacitor shared by the eleventh and twelfth pixels.
제 6 항에 있어서,
상기 제1화소에 형성되는 제1스위칭트랜지스터 및 제1구동트랜지스터와;
상기 제2화소에 형성되는 제2스위칭트랜지스터 및 제2구동트랜지스터와;
상기 제3화소에 형성되는 제3스위칭트랜지스터 및 제3구동트랜지스터와;
상기 제4화소에 형성되는 제4스위칭트랜지스터 및 제4구동트랜지스터와;
상기 제5화소에 형성되는 제5스위칭트랜지스터 및 제5구동트랜지스터와;
상기 제6화소에 형성되는 제6스위칭트랜지스터 및 제6구동트랜지스터와;
상기 제7화소에 형성되는 제7스위칭트랜지스터 및 제7구동트랜지스터와;
상기 제8화소에 형성되는 제8스위칭트랜지스터 및 제8구동트랜지스터와;
상기 제8화소에 형성되는 제8스위칭트랜지스터 및 제8구동트랜지스터와;
상기 제9화소에 형성되는 제9스위칭트랜지스터 및 제9구동트랜지스터와;
상기 제10화소에 형성되는 제10스위칭트랜지스터 및 제10구동트랜지스터와;
상기 제11화소에 형성되는 제11스위칭트랜지스터 및 제11구동트랜지스터와;
상기 제12화소에 형성되는 제12스위칭트랜지스터 및 제12구동트랜지스터를 를 더 포함하는 유기발광다이오드 표시장치.
The method according to claim 6,
A first switching transistor and a first driving transistor formed in the first pixel;
A second switching transistor and a second driving transistor formed in the second pixel;
A third switching transistor and a third driving transistor formed in the third pixel;
A fourth switching transistor and a fourth driving transistor formed in the fourth pixel;
A fifth switching transistor and a fifth driving transistor formed in the fifth pixel;
A sixth switching transistor and a sixth driving transistor formed in the sixth pixel;
A seventh switching transistor and a seventh driving transistor formed in the seventh pixel;
An eighth switching transistor and an eighth driving transistor formed in the eighth pixel;
An eighth switching transistor and an eighth driving transistor formed in the eighth pixel;
A ninth switching transistor and a ninth driving transistor formed in the ninth pixel;
A tenth switching transistor and a tenth driving transistor formed in the tenth pixel;
An eleventh switching transistor and an eleventh driving transistor formed in the eleventh pixel;
And a twelfth switching transistor and a twelfth driving transistor formed in the twelfth pixel.
제 7 항에 있어서,
상기 제1스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제1 및 제2구동트랜지스터에 연결되고,
상기 제2스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제4 및 제5구동트랜지스터에 연결되고,
상기 제3스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제8 및 제9구동트랜지스터에 연결되고,
상기 제4스토리지커패시터의 양단은 각각 상기 제11 및 제12구동트랜지스터에 연결되는 유기발광다이오드 표시장치.
8. The method of claim 7,
Both ends of the first storage capacitor are connected to the first and second driving transistors, respectively,
Both ends of the second storage capacitor are connected to the fourth and fifth driving transistors, respectively,
Both ends of the third storage capacitor are connected to the eighth and ninth driving transistors, respectively,
And both ends of the fourth storage capacitor are connected to the eleventh and twelfth driving transistors, respectively.
제 6 항에 있어서,
상기 제1, 제4, 제9, 제12화소는 더미영역인 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치.
The method according to claim 6,
Wherein the first, fourth, ninth, and twelfth pixels are dummy regions.
제 6 항에 있어서,
제1하프프레임 동안 상기 제2 및 제6화소, 상기 제7 및 제11화소가 구동되고,
제2하프프레임 동안 상기 제3 및 제5화소, 상기 제8 및 제10화소가 구동되는 것을 특징으로 하는 유기발광다이오드 표시장치.
The method according to claim 6,
The second and sixth pixels, the seventh and eleventh pixels are driven during the first half frame,
And the third and fifth pixels, the eighth and tenth pixels are driven during the second half frame.
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