KR20150066634A - Exposing apparatus for flat panel display - Google Patents

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KR20150066634A
KR20150066634A KR1020130151491A KR20130151491A KR20150066634A KR 20150066634 A KR20150066634 A KR 20150066634A KR 1020130151491 A KR1020130151491 A KR 1020130151491A KR 20130151491 A KR20130151491 A KR 20130151491A KR 20150066634 A KR20150066634 A KR 20150066634A
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Abstract

The present invention relates to an exposure device for a flat display panel. An exposure device for a flat display panel according to the present invention is composed of: a mask stage and a board stage where a mask and a board are mounted; a lighting unit that radiates lights to the mask; a first optical unit; a second optical unit located at the first optical unit and an optical unit located between the mask stage and the board stage. The optical unit is composed of a first sealing unit formed inside the first optical unit and a second sealing unit formed to reach part of the outer side of the second optical unit from part of the outer side of the first optical unit. As a result, exposure stains caused by air flow changes can be prevented.

Description

평판표시패널용 노광장치{Exposing apparatus for flat panel display}[0001] Exposing apparatus for flat panel display [0002]

본 발명은 노광장치에 관한 것으로, 특히 평판표시패널을 노광함에 있어서 기류 변동으로 인해 발생될 수 있는 노광얼룩을 방지할 수 있는 노광장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus, and more particularly, to an exposure apparatus capable of preventing exposure unevenness that may occur due to airflow fluctuation in exposure of a flat panel display panel.

최근 정보화 시대에 발맞추어 디스플레이(display) 분야 또한 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응해서 박형화, 경량화, 저소비전력화 장점을 지닌 평판표시장치(flat panel display device : FPD)로서 액정표시장치(liquid crystal display device : LCD), 플라즈마표시장치(plasma display panel device : PDP), 전기발광표시장치(electroluminescence display device : ELD), 전계방출표시장치(field emission display device : FED) 및 유기발광다이오드(organic light emitting diode:OLED) 표시장치 등이 개발되어 사용되고 있다. 2. Description of the Related Art In recent years, the display field has rapidly developed in line with the information age. In response to this trend, a flat panel display device (FPD) having a thinness, light weight, A plasma display panel (PDP), an electroluminescence display device (ELD), a field emission display device (FED), and an organic light emitting diode (OLED) ) Display devices have been developed and used.

이중에서도 액정표시장치와 유기발광다이오드 표시장치가 널리 사용되고 있는 추세에 있다. Liquid crystal display devices and organic light emitting diode display devices are in widespread use.

여기서, 액정표시장치는 액정의 광학적이방성(optical anisotropy)과 분극성질(polarization)에 의한 화상구현원리를 나타내는데, 동화상 표시에 유리하고 콘트라스트비(contrast ratio)가 비교적 큰 특징을 가진다. Here, the liquid crystal display device shows the principle of image realization by the optical anisotropy and polarization of liquid crystal, which is advantageous for moving picture display and has a comparatively large contrast ratio.

이러한 액정표시장치는 서로 마주보는 제1기판 및 제2기판(substrate) 사이로 액정층을 개재하여 합착시킨 액정패널(liquid crystal panel)을 필수 구성요소로 하며, 액정패널 내의 전기장으로 액정분자의 배열방향을 변화시켜 투과율 차이를 구현한다. Such a liquid crystal display device has a liquid crystal panel in which a liquid crystal panel is interposed between a first substrate and a second substrate facing each other through a liquid crystal layer as an essential component, To realize the difference in transmittance.

하지만 액정패널은 자체 발광요소를 갖추지 못한 관계로 투과율의 차이를 화상으로 표시하기 위해서 별도의 광원을 요구하고, 이를 위해 액정패널의 배면에는 광원(光源)이 내장된 백라이트(backlight) 유닛이 배치된다. However, since the liquid crystal panel does not have its own light emitting element, a separate light source is required to display the difference in transmittance as an image. To this end, a backlight unit having a light source is disposed on the back surface of the liquid crystal panel .

한편, 유기발광다이오드 표시장치는 자발광소자를 이용함으로써 별도의 광원인 백라이트 유닛을 필요로 하는 액정표시장치에 비해 제조공정이 단순하며, 경량 박형의 구현이 가능한 이점을 가진다. On the other hand, the organic light emitting diode display device has a merit that a manufacturing process is simple and a lightweight and thin type can be realized as compared with a liquid crystal display device requiring a backlight unit which is a separate light source by using a self light emitting device.

또한, 유기발광다이오드 표시장치는 액정표시장치에 비해 시야각 및 명암 대비비가 비교적 우수하며 응답속도가 빠르고, 낮은 소비전력을 소모하며 직류 저전압 구동이 가능하므로 구동회로의 제작 및 설계가 용이한 이점을 가진다. 그리고, 내부 구성요소가 고체이기 때문에 외부충격에 강하고, 사용 온도범위도 넓은 장점을 가지며 보다 활발한 연구가 진행되고 있다.In addition, the organic light emitting diode display device has advantages of relatively high viewing angle and contrast ratio, quick response time, low power consumption, and low-voltage direct current driving as compared with a liquid crystal display device, . Since the internal components are solid, they are resistant to external impacts, have a wide temperature range, and more active research is being conducted.

이와 같이 전술한 액정표시장치와 유기발광다이오드 표시장치가 평판표시장치로써 우수한 특성을 가지며 널리 사용되며, 특히 근래에는 사용자의 보다 다양한 요구에 발맞추어 휴대용 컴퓨터는 물론 데스크톱 컴퓨터 모니터 및 벽걸이형 텔레비전 등 보다 넓은 사용영역에서 적용됨에 따라 고해상도 및 대화면을 구현하기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. As described above, the liquid crystal display device and the organic light emitting diode display device have excellent characteristics and are widely used. In particular, in recent years, in order to meet the various demands of users, a portable computer, a desktop computer monitor and a wall- Researches are being actively carried out to realize a high resolution and a large screen in a wide use area.

한편, 평판표시장치는 평판표시패널을 필수 구성요소로 하는데, 평판표시패널은 여러 층의 박막을 형성하기 위한 포토리소그라피(photolithography)공정과 기판 합착 공정을 포함한 제조공정을 거쳐 완성된다. Meanwhile, a flat panel display panel is an essential component of a flat panel display, and a flat panel display panel is completed through a manufacturing process including a photolithography process for forming a thin film of several layers and a substrate adhering process.

여기서, 포토리소그라피 공정은 일종의 사진식각공정의 하나로 마스크를 통해 기판 위에 특정 패턴 이미지를 전사시킴으로써 기판에 원하는 패턴을 형성하는 공정으로, 포토레지스트(photo-resist, 이하 PR이라 함)를 도포 한 후, 마스크(mask)를 대면시켜 노광(exposing) 및 현상(developing)함으로써 패턴을 형성한다.Here, the photolithography process is a process of forming a desired pattern on a substrate by transferring a specific pattern image onto a substrate through a mask as a kind of photolithography process. The photolithography process is performed by applying a photo-resist (hereinafter referred to as PR) A pattern is formed by facing and exposing a mask.

이러한 포토리소그라피 공정은 노광장치를 통해 이루어지며, 근래에는 스캔 방식의 노광장치를 통해 기판 상에 포토리소그라피 공정이 이루어지고 있다. Such a photolithography process is performed through an exposure apparatus, and in recent years, a photolithography process has been performed on a substrate through a scanning type exposure apparatus.

여기서, 스캔 방식의 노광장치는 마스크가 안착되는 마스크 스테이지부와, 기판이 안착되는 기판 스테이지와, 마스크 스테이지부와 기판 스테이지 사이에 위치되는 광학부, 그리고 제어장치를 포함한다. Here, the scanning type exposure apparatus includes a mask stage portion on which a mask is mounted, a substrate stage on which the substrate is mounted, an optical portion positioned between the mask stage portion and the substrate stage, and a control device.

이러한 노광장치는 마스크가 안착된 마스크 스테이지가 스캔방향을 따라 이동되도록 함으로써 기판 상에 포토리소그라피 공정이 이루어지도록 한다. Such an exposure apparatus allows a mask stage on which a mask is placed to move along the scanning direction so that a photolithography process is performed on the substrate.

그런데, 이러한 노광 장치는 마스크 스테이지가 이동됨에 따라 광학부를 통해 공기가 마스크 스테이지쪽으로 흘러들어가며 광학부의 광 경로를 변화시키는 문제점이 있다. However, such an exposure apparatus has a problem that as the mask stage is moved, air flows into the mask stage through the optical section and changes the optical path of the optical section.

이를 보다 상세히 설명하면, 마스크 스테이지의 이동에 의해 광학부에서 마스크 스테이쪽으로 기류가 형성되며, 이러한 기류는 광학부 내부의 틈을 통해 빠져나가며 난기류를 형성하고, 이러한 난기류에 의해 광학부 내부에서 광경로의 왜곡이 발생된다. In more detail, an airflow is formed from the optical portion toward the mask stove by the movement of the mask stage, and this airflow passes through a gap in the optical portion and forms a turbulent flow. By this turbulence, Distortion occurs.

이로 인해 기판 상에 원하는 패턴이 정상적으로 형성되지 못하고, 도 1에 도시된 바와 같이 스캔방향을 따라 노광얼룩이 발생되는 문제점이 있다.
As a result, a desired pattern can not be normally formed on the substrate, and exposure unevenness occurs along the scan direction as shown in FIG.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 광학부 내부의 틈을 실링함으로써 난기류 형성과 이로 인해 발생되는 노광얼룩을 방지할 수 있는 평판표시패널용 노광장치를 제공하는데 있다. An object of the present invention is to provide an exposure apparatus for a flat panel display panel capable of preventing turbulence formation and exposure unevenness caused by sealing a gap in an optical part.

또한, 본 발명의 다른 목적은 기류를 감지할 수 있는 감지센서를 탑재시켜 안정적인 상태에서만 노광공정이 이루어질 수 있도록 하는 평판표시패널용 노광장치를 제공하는데 있다.
It is another object of the present invention to provide an exposure apparatus for a flat panel display panel in which a sensing sensor capable of sensing an airflow is mounted to perform an exposure process only in a stable state.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 평판표시패널용 노광장치는, 마스크와 기판이 각각 안착되는 마스크 스테이지 및 기판 스테이지와; 상기 마스크로 광을 출사시키는 조명부와; 제1광학부와 상기 제1광학부의 하부에 위치되는 제2광학부를 포함하며, 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지 사이에 위치되는 광학부를 포함하고, 상기 광학부는 상기 제1광학부 내부에 형성된 제1실링부와, 상기 제1광학부의 외측 일부분에서부터 상기 제2광학부의 외측 일부분까지 형성된 제2실링부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus for a flat panel display panel, including: a mask stage and a substrate stage on which a mask and a substrate are respectively mounted; An illumination unit for emitting light to the mask; And an optical portion including a first optical portion and a second optical portion located under the first optical portion, the optical portion being positioned between the mask stage and the substrate stage, wherein the optical portion includes a first optical portion formed in the first optical portion, A sealing portion and a second sealing portion formed from an outer portion of the first optical portion to an outer portion of the second optical portion.

여기서, 상기 제1광학부는 상기 마스크를 통과하는 광의 광경로를 변화시켜 횡배율을 확대 또는 축소하는 보정을 하는 보정부와, 상기 보정부를 구동시키기 위한 모터 그리고 상기 보정부와 모터를 둘러 감싸는 제1하우징부를 포함하는 것을 특징으로 한다.Here, the first optical portion may include a correcting portion for correcting a magnification or a reduction of a lateral magnification by changing an optical path of light passing through the mask, a motor for driving the correcting portion, and a motor for surrounding the correcting portion and the motor And a housing part.

이때, 상기 제1실링부는 상기 제1하우징부와 상기 보정부 가장자리 사이에 형성된 것을 특징으로 한다.In this case, the first sealing part is formed between the first housing part and the edge of the fixing part.

특히, 상기 제1실링부는 상기 모터에서 발생된 열을 배출하는 열 배출구를 피해 형성된 것을 특징으로 한다. Particularly, the first sealing part is formed to avoid a heat exhaust port for discharging heat generated in the motor.

그리고, 상기 제2광학부는 울트라미러와, 상기 울트라미러가 실장되는 제2하우징부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The second optical unit includes an ultra-mirror and a second housing unit on which the ultra-mirror is mounted.

이때, 상기 제2실링부는 상기 제1하우징부의 일부에서부터 상기 제2하우징부의 일부까지 부착된 테이프인 것을 특징으로 한다. In this case, the second sealing part is a tape attached from a part of the first housing part to a part of the second housing part.

한편, 상기 광학부는 내부 기류를 감지하기 위한 감지센서를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. The optical unit may further include a sensor for sensing an internal airflow.

또한, 상기 제1광학부와 상기 제2광학부는 나사 체결을 통해 서로 결속된 상태인 것을 특징으로 한다.
The first optical unit and the second optical unit may be coupled to each other through a screw connection.

본 발명에 따른 평판표시패널용 노광장치에 따르면, 광학부 내부의 틈을 밀봉시킴으로써 난기류 형성을 방지하며 난기류에 의해 발생될 수 있는 노광얼룩을 방지할 수 있게 된다. According to the exposure apparatus for a flat panel display panel according to the present invention, it is possible to prevent formation of turbulence and to prevent exposure unevenness which may be caused by turbulence by sealing a gap in the optical portion.

또한, 광학부쪽에 기류를 감지할 수 있는 감지센서를 탑재시켜 기류가 감지되면, 그 즉시 노광공정이 중단되도록 함으로써 불량을 사전에 방지할 수 있게 된다. In addition, when a sensing sensor capable of sensing an airflow is mounted on the optical unit side and an airflow is detected, the exposure process is immediately stopped so that defects can be prevented in advance.

이를 통해, 불량률을 감소시키고, 불량 발생에 다른 재료비와 공정비용 및 공정시간을 절감하며, 나아가 전체 제조비용을 절감함과 동시에 노광공정의 공정 효율성을 향상시킬 수 있게 된다. As a result, it is possible to reduce the defect rate, reduce the material cost, the process cost, and the process time for the occurrence of defects, thereby reducing the overall manufacturing cost and improving the process efficiency of the exposure process.

도 1은 종래 포토리소그라피 공정에서 발생된 노광얼룩을 보여주는 도면.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 평판표시패널용 노광장치를 보여주는 단면도.
도 3은 도 2에 도시된 평판표시패널용 노광장치에서 일부를 도시한 사시도.
도 4는 도 2에 도시된 평판표시패널용 노광장치에서 AB영역을 확대한 단면도.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 평판표시패널용 노광장치를 이용한 포토리소그라피 공정을 설명하기 위한 흐름도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view showing exposure unevenness generated in a conventional photolithography process; FIG.
2 is a cross-sectional view illustrating an exposure apparatus for a flat panel display panel according to a preferred embodiment of the present invention.
3 is a perspective view showing a part of the exposure apparatus for the flat panel display panel shown in Fig.
4 is an enlarged cross-sectional view of the AB region in the exposure apparatus for the flat panel display panel shown in Fig.
5 is a flowchart illustrating a photolithography process using an exposure apparatus for a flat panel display panel according to a preferred embodiment of the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 평판표시패널용 노광장치를 보여주는 단면도이고, 도 3은 도 2에 도시된 평판표시패널용 노광장치에서 일부를 도시한 사시도이며, 도 4는 도 2에 도시된 평판표시패널용 노광장치에서 AB영역을 확대한 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view showing an exposure apparatus for a flat panel display panel according to a preferred embodiment of the present invention, FIG. 3 is a perspective view showing a part of the exposure apparatus for a flat panel display panel shown in FIG. 2, Sectional view of an AB region in an exposure apparatus for a flat panel display panel shown in Fig.

도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 평판표시패널용 노광장치(100)는 조명부(120)와, 마스크 스테이지(140)와, 블레이드부(145)와, 광학부(150)와, 기판 스테이지(180) 및 이들을 제어하기 위한 제어부(190)를 포함한다. The exposure apparatus 100 for a flat panel display according to the present invention includes an illumination unit 120, a mask stage 140, a blade unit 145, an optical unit 150, a substrate stage 180 And a control unit 190 for controlling them.

조명부(120)는 소정 파장 길이를 가지는 광을 발생시킨다. The illumination unit 120 generates light having a predetermined wavelength.

마스크 스테이지부(140)에는 마스크(130)가 안착되고, 마스크(130)의 하부에는 노광영역을 조절하기 위한 블레이드부(145)가 위치된다. A mask 130 is mounted on the mask stage portion 140 and a blade portion 145 for adjusting the exposure region is disposed under the mask 130. [

이때, 마스크 스테이지부(140)의 일측에는 마스크(130)의 위치를 측정하기 위한 마스크 위치확인부(미도시)가 구비될 수 있다. 상기 마스크 위치확인부(미도시)는 마스크의 위치를 보다 정확하게 배치할 수 있도록 한다. At this time, a mask position checking unit (not shown) for measuring the position of the mask 130 may be provided at one side of the mask stage unit 140. The mask position determination unit (not shown) makes it possible to arrange the position of the mask more accurately.

광학부(150)는 조명부(120)를 통해 마스크(130)를 통과하는 패턴 이미지를 기판(G)으로 투영시키는 역할을 하는 것으로, 마스크 스테이지(140)와 기판 스테이지(180) 사이에 위치된다. The optical unit 150 is disposed between the mask stage 140 and the substrate stage 180 to serve to project a pattern image passing through the mask 130 to the substrate G through the illumination unit 120.

이러한 광학부(150)는 제1광학부와, 제2광학부와, 제1광학부 내부의 틈을 밀봉할 수 있는 제1실링부(162)와, 제1광학부와 제2광학부 사이의 틈을 밀봉할 수 있는 제2실링부(164), 그리고 기류를 감지할 수 있는 감지센서(169)를 포함한다. The optical portion 150 includes a first optical portion, a second optical portion, a first sealing portion 162 capable of sealing a gap in the first optical portion, and a second sealing portion 162 between the first optical portion and the second optical portion A second sealing portion 164 capable of sealing a gap between the first sealing portion 164 and the second sealing portion 164, and a sensing sensor 169 capable of sensing the airflow.

여기서, 제1광학부는 보정부(141)와, 모터(152) 및 이들을 하우징 하기 위한 제1하우징부(153)로 구성된다. Here, the first optical section is composed of a correction section 141, a motor 152, and a first housing section 153 for housing them.

보정부(141)는 마스크(130)를 통과하는 투과광의 광경로를 변화시켜 횡배율을 확대 또는 축소하는 보정을 한다.The correction unit 141 corrects the magnification or reduction of the lateral magnification by changing the optical path of the transmitted light passing through the mask 130. [

모터(152)는 보정부(151)의 양 가장자리 배면에 각각 위치되어 보정부(151)를 구동시키는 역할을 한다. The motors 152 are positioned on the back edges of both sides of the correcting unit 151 to drive the correcting unit 151.

이때, 모터(152)와 보정부(151) 사이에는 모터(152)에서 발생된 열이 배출되기 위한 배출구(154)가 더 포함될 수 있다. At this time, an outlet 154 for discharging the heat generated by the motor 152 may further be provided between the motor 152 and the correcting unit 151.

제1하우징부(153)는 보정부(151)와 모터(152)를 둘러 감싼다.The first housing part 153 surrounds the correcting part 151 and the motor 152.

이때, 제1하우징부(155)와 보정부(151)의 가장자리 사이에는 제1실링부(162)가 구비되는 것을 특징으로 한다. In this case, a first sealing part 162 is provided between the first housing part 155 and the edge of the correcting part 151.

제1실링부(162)는 EPDM(ethylene-propylene diene monomer) 재질의 로보실러일 수 있다. The first sealing portion 162 may be a rovosilver made of ethylene-propylene diene monomer (EPDM).

이러한 제1실링부(162)는 제1하우징부(155)와 보정부(151) 사이를 밀봉함으로써 마스크 스테이지(140)가 이동됨에 따라 발생된 광학부(150) 내부의 공기가 난기류를 형성하지 못하도록 한다. The first sealing part 162 seals between the first housing part 155 and the correcting part 151 so that the air inside the optical part 150 generated by the movement of the mask stage 140 does not form turbulence I can not.

이와 같은 제1실링부(162)는, 도 3에 도시된 바와 같이 모터(152)의 열 배출구(154)를 피하여 제1하우징부(155)와 보정부(151) 사이 외곽을 따라 구비될 수 있다. 이와 같이 공기의 통로로 작용할 수 있는 열 배출구(154)를 피하여 제1실링부(162)를 형성함으로써 광학부(150) 내부의 틈을 완벽히 밀봉할 수 있게 된다. 3, the first sealing portion 162 may be provided along the outer circumference between the first housing portion 155 and the correcting portion 151, avoiding the heat outlet 154 of the motor 152 have. As described above, the first sealing portion 162 is formed to avoid the heat outlet 154, which can act as a passage of air, so that the gap in the optical portion 150 can be completely sealed.

또한, 제1실링부(162)의 하부 또는 제1실링부(162)의 내측으로는 기류를 감지하기 위한 감지센서(169)가 구비된다. A sensing sensor 169 for sensing airflow is provided below the first sealing portion 162 or inside the first sealing portion 162.

감지센서(169)가 기류를 감지하면, 제어장치(190)는 이를 관리자에게 알리면서 전체 시스템 동작을 일시 정지시키고 공기를 배출시킨 후에 재가동시키거나, 또는 기류가 감지되지 않을 때까지 기다렸다가 재가동시킬 수 있다. When the detection sensor 169 senses the airflow, the control device 190 notifies the manager of the airflow, suspends the entire system operation, restarts the air after discharging the air, or waits until the airflow is not sensed, have.

제2광학부는 울트라미러(ultra mirror)와 울트라미러를 실장하는 제2하우징부(157)로 구성된다. The second optical portion is composed of a second housing portion 157 for mounting an ultra-mirror and an ultra-mirror.

울트라미러는 입사면이 비구면(aspherical)으로 이루어져 출사면의 변형에 의한 수차를 보정하는 렌즈부(155)와, 사다리꼴 형태를 가지는 사다리꼴 거울(trapezoidal mirror, 156)을 포함할 수 있다. The ultramirror may include a lens unit 155 whose incident surface is aspherical and corrects aberration due to deformation of the emitting surface, and a trapezoidal mirror 156 having a trapezoidal shape.

이때, 도면에 도시하지는 않았지만 사다리꼴 거울(156)과 동일 평면 상에 이격되어 볼록 거울(convex mirror)이 배치될 수 있으며, 또한 볼록 거울과 이격되어 오목 거울(concabe mirror)이 함께 배치됨으로써 울트라미러를 구성할 수 있다. At this time, although not shown, a convex mirror may be disposed on the same plane as the trapezoidal mirror 156, and a concave mirror may be disposed apart from the convex mirror so that the ultra- Can be configured.

이러한 울트라미러는 제2하우징부(157)에 의해 둘러지며 제2하우징부(157)의 내부에 실장된다. The ultramirror is surrounded by the second housing part 157 and is mounted inside the second housing part 157.

전술한 제1광학부와 제2광학부를 연결하는 연결부분에는 제2실링부(164)가 구비되는 것을 특징으로 한다. And a second sealing part 164 is provided at a connection part for connecting the first optical part and the second optical part.

제2실링부(164)는 제1하우징부(153)의 외측 일부분에서부터 제2하우징부(157)의 외측 일부분까지 연장되어 형성됨으로써 제1하우징부(153)와 제2하우징부(157)의 사이를 통해 공기가 빠져나가지 못하도록 한다. The second sealing portion 164 is formed to extend from a portion of the outer side of the first housing portion 153 to a portion of the outer side of the second housing portion 157 to prevent the first housing portion 153 and the second housing portion 157 So that air can not escape through the space between them.

한편, 제2실링부(164)가 구비되기 전에, 제1하우징부(153)와 제2하우징부(157)는 나사 체결(210)을 통해 결합될 수 있다. The first housing part 153 and the second housing part 157 may be coupled through the screw coupling 210 before the second sealing part 164 is provided.

이에 따라, 제1하우징부(153)와 제2하우징부(157) 간에는 나사 체결(210)을 통해 1차로 결속이 이루어지고, 제2실링부(164)를 통해 완전히 틈이 밀봉될 수 있게 된다. Accordingly, the first housing part 153 and the second housing part 157 are firstly coupled through the screw coupling 210, and the gap can be completely sealed through the second sealing part 164 .

기판 스테이지(180)에는 포토리소그라피 공정의 대상물인 기판(G)이 안착된다. A substrate G, which is an object of the photolithography process, is seated on the substrate stage 180.

여기서, 도면 상에 나타내지는 않았지만 기판(G) 상에는 소정의 박막층과 이의 상부로 도포된 포토레지스트가 형성되어 있다. 이에 따라 조명부(120)에서 조사된 광이 마스크(130)와 블레이드부(145)를 통과하여 기판 스테이지(180) 상에 안착된 기판(G)에 조사된다. Here, although not shown in the drawing, a predetermined thin film layer and a photoresist coated thereon are formed on the substrate G. The light irradiated from the illumination unit 120 passes through the mask 130 and the blade 145 and is irradiated onto the substrate G placed on the substrate stage 180. [

상기 포토레지스트는 빛에 의해 분자구조가 변화되어 현상액에 대한 선택적인 용해가 가능한 물질로, 용매 역할의 솔벤트(solvent)와, 모노머(monomer)의 화합 결과물로써 현상 후 잔류되는 포토레지스트 패턴의 실체를 이루는 폴리머(polymer)와 빛을 받아 폴리머에 에너지를 전달하여 현상액에 녹거나 녹지 않도록 하는 매개물질인 감광체(sensitizer)을 포함한다. The photoresist is a material capable of selectively dissolving in a developing solution due to a change in molecular structure due to light. The photoresist pattern remains as a result of the combination of a solvent and a monomer as a solvent. And a photoreceptor which is an intermediary material that receives light and transfers energy to the polymer to dissolve or dissolve in the developer.

그리고 이 같은 포토레지스트는 감광제의 종류에 따라 포지티브형과 네가티브형(negative type)으로 구분될 수 있으며, 포지티브형인 경우에는 빛에 노출된 부분만이 경화되고, 네거티브형인 경우에는 빛을 받지 않은 부분이 경화된다. Such a photoresist may be classified into a positive type and a negative type depending on the type of the photoresist. In the case of a positive type, only a portion exposed to light is cured. In the case of a negative type, Cured.

그 결과 후속의 현상 공정에서 포토레지스트의 경화된 부분만을 제거여 실질적으로 마스크의 패턴고 동일 형태의 포토레지스트 패턴을 구현할 수 있게 된다.As a result, only the cured portion of the photoresist is removed in the subsequent developing process, thereby realizing the pattern of the mask and the photoresist pattern of the same type.

한편, 기판 스테이지(180)에는 기판(G)의 위치를 측정하는 기판 위치확인부(미도시)가 더 구비될 수 있다. 이때 기판 위치확인부(미도시)는 제1방향을 따라 기판의 위치를 확인하는 제1위치확인부와, 제1방향과 교차하는 제1방향을 따라 기판의 위치를 확인하는 제2위치확인부를 포함할 수 있다. The substrate stage 180 may further include a substrate position determining unit (not shown) for measuring the position of the substrate G. In this case, the substrate position confirming unit (not shown) may include a first position confirming unit for confirming the position of the substrate along the first direction, and a second position confirming unit for confirming the position of the substrate along the first direction crossing the first direction .

제어장치(190)는 마스크 스테이지(140) 및 기판 스테이지(180), 그리고 광학부(150)를 제어하며, 전체 시스템을 제어한다. The control device 190 controls the mask stage 140 and the substrate stage 180, and the optical unit 150, and controls the entire system.

이러한 제어장치(190)는 마스크 스테이지(140)와 기판 스테이지(180)의 스캔 속도를 제어하며, 마스크(130)와 마스크 스테이지(140) 그리고 기판(G)과 기판 스테이지(180) 간의 위치 정렬을 제어할 수 있다. The control device 190 controls the scan speed of the mask stage 140 and the substrate stage 180 and controls the alignment between the mask 130 and the mask stage 140 and between the substrate G and the substrate stage 180 Can be controlled.

이를 위한 제어장치(190)는 광학부 제어장치(162), 마스크 스테이지 제어장치(194), 그리고 기판 스테이지 제어장치(196)를 포함할 수 있다. The control device 190 for this purpose may include an optical part control device 162, a mask stage control device 194, and a substrate stage control device 196.

전술한 구조를 가지는 평판표시패널용 노광장치(100)는 제1실링부(162)와 제2실링부(164)를 통해 광학부(150) 내부의 공기가 광학부(150) 내부 틈을 통해 외부로 빠져나감으로써 마스크 스테이지(140)쪽으로 난기류가 형성되는 것을 방지하고 난기류로 인한 노광얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있게 된다. 즉, 공기로 인한 기류변동을 방지함으로써 광경로가 왜곡되는 것을 방지하고 노광공정에서 발생되는 불량을 방지할 수 있는 것이다. In the exposure apparatus 100 for a flat panel display panel having the above-described structure, the air inside the optical part 150 passes through the inside of the optical part 150 through the first sealing part 162 and the second sealing part 164 It is possible to prevent turbulence from being formed toward the mask stage 140 and to prevent occurrence of exposure unevenness due to turbulence. That is, it is possible to prevent the optical path from being distorted by preventing the fluctuation of the airflow caused by the air, and to prevent defects generated in the exposure process.

한편, 본 발명에 따른 평판표시패널용 노광장치(100)는 마스크 스테이지(140)와 기판 스테이지(180)가 서로 다른 방향으로 평면 이동함으로써 기판 상에 포토리소그라피 공정이 이루어지도록 할 수 있다. 또한 이에 한정되지 않고 마스크 스테이지(140)와 기판 스테이지(180) 중 하나는 고정된 상태로 위치되고, 나머지 하나가 스캔방향을 따라 이동함으로써 기판 상에 포토리소그라피 공정이 이루어지도록 할 수 있다.
Meanwhile, in the exposure apparatus 100 for a flat panel display panel according to the present invention, the mask stage 140 and the substrate stage 180 are moved in different directions in a plane so that a photolithography process can be performed on the substrate. Also, the present invention is not limited to this, and one of the mask stage 140 and the substrate stage 180 may be positioned in a fixed state and the other may move along the scanning direction so that a photolithography process is performed on the substrate.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 노광장치의 포토리소그라피 공정을 설명하기 위한 흐름도로, 도 1 내지 도 4를 참조한다. 5 is a flow chart for explaining the photolithography process of the exposure apparatus according to the embodiment of the present invention, with reference to Figs. 1 to 4. Fig.

도시된 바와 같이, 포토리소그라피 공정은 크게 도포공정(st100)와, 노광공정(st200) 및 현상공정(st300)으로 구분된다. As shown in the figure, the photolithography process is mainly divided into a coating process (st100), an exposure process (st200), and a developing process (st300).

먼저, 첫 번째 도포단계(st100)는 프리베이킹(pre-baking), 코팅(coating), 소프트베이킹(soft-baking)을 거쳐 박막층이 증착된 기판(G) 상에 균일한 두께로 포토레지스트를 도포하는 단계이다.First, the first coating step st100 is a step of applying a photoresist to a uniform thickness on a substrate G on which a thin film layer is deposited by pre-baking, coating, soft-baking, .

여기서 프리베이킹은 박막층이 증착된 기판(G) 상의 잔류수분을 제거하여 기판(G)과 포토레지스트와의 접착력을 향상시키는 역할을 한다.Here, the pre-baking serves to remove the residual moisture on the substrate G on which the thin film layer is deposited to improve the adhesion between the substrate G and the photoresist.

그리고, 코팅은 기판(G) 상에 포토레지스트를 도포하는 단계로, 이를 구현하기 위한 방법 중 하나로 코팅방법이 사용되는데, 구체적인 예로는 슬릿코팅(slit coating), 스핀코팅(spin coating), 롤러코팅(roller coating) 스핀리스코팅(spinless coating) 등이 있다.The coating is a step of applying a photoresist on the substrate G, and a coating method is used as one of the methods for realizing the coating. Specific examples thereof include slit coating, spin coating, roller coating roller coating and spinless coating.

그리고 소프트베이킹은 포토레지스트(106)에 함유된 솔벤트(solvent) 등의 휘발성분을 1차적으로 휘발시키기 위하여 핫플레이트 등의 기판 가열장치를 통해 대기 상에서 인라인 형태로 공정이 이루어진다.The soft baking is performed in an in-line form on the atmosphere through a substrate heating apparatus such as a hot plate in order to primarily volatilize volatile components such as a solvent contained in the photoresist 106.

이어서 후속의 두 번째 노광단계(st200)는 기판(G)과 마스크(130)의 얼라인을 비롯한 노광단계로서, 소프트베이킹이 완료된 기판(G)을 본 발명에 따른 평판표시패널용 노광장치의 기판 스테이지(180) 상에 안착시키고 마스크(130)를 마스크 스테이지(140)에 안착시킨 후 정확한 정렬위치로 얼라인 한다. Subsequently, the subsequent second exposure step st200 is an exposure step including alignment of the substrate G and the mask 130. The substrate G on which the soft baking has been completed is placed on the substrate of the exposure apparatus for a flat panel display according to the present invention Is placed on the stage 180 and the mask 130 is placed on the mask stage 140 and aligned to the correct alignment position.

이때, 불필요한 노광을 차단시키는 역할을 하는 블레이드부(145)가 마스크 스테이지(140) 내측에 위치하게 된다. 여기서, 블레이드부(145)는 마스크(130)에 의한 패턴 이미지가 형성되지 않도록 하기 위한 것으로, 마스크(130)의 일부영역을 가려 노광영역을 조절하거나 또는 불필요한 노광영역을 가리기 위한 차단수단으로써 작용한다. At this time, the blade portion 145, which serves to block unnecessary exposure, is positioned inside the mask stage 140. Here, the blade portion 145 serves to prevent a pattern image by the mask 130 from being formed, and serves as a shielding means for shielding a portion of the mask 130 to adjust the exposure region or to cover an unnecessary exposure region .

다음으로 조명부(120)로부터 빛이 출사되어 마스크(130)를 통해 기판(G)상에 패턴이 전사되는 노광공정이 진행되는데, 특히 노광공정은 광학부 내부의 틈을 완벽히 제거함으로써 기류가 형성되지 못하도록 하는 본 발명에 따른 평판표시패널용 노광장치를 통해 이루어진다는 점에 특징이 있다. 본 발명에 따른 평판표시패널용 노광장치(100)는, 이미 전술한 바와 같이 제1하우징부(153)와 보정부(151) 가장자리 사이에 형성된 제1실링부(162)와, 제1하우징부(153)와 제2하우징부(157) 간에 틈이 생기지 않도록 제1하우징부(153)의 외측 일부분에서 제2하우징부(157)의 외측 일부분까지 부착 형성된 제2실링부(164) 뿐만 아니라 기류를 감지할 수 있는 감지센서(169)를 구비함으로써 노광공정 중에 발생될 수 있는 노광얼룩이 발생되는 것을 사전에 방지할 수 있는 이점을 가진다. Next, an exposure process is performed in which light is emitted from the illumination unit 120 and a pattern is transferred onto the substrate G through the mask 130. In particular, the exposure process completely removes a gap in the optical unit, The present invention is characterized in that it is performed through an exposure apparatus for a flat panel display panel according to the present invention. The exposure apparatus 100 for a flat panel display panel according to the present invention includes a first sealing portion 162 formed between the first housing portion 153 and the edge of the correcting portion 151, A second sealing portion 164 attached from an outer portion of the first housing portion 153 to an outer portion of the second housing portion 157 so as to prevent a gap between the first housing portion 153 and the second housing portion 157, It is possible to prevent exposure unevenness that may occur during the exposure process from occurring in advance.

이를 통해 불량률을 감소시키고, 불량에 따른 재료비와 공정비용 및 공정시간을 절감하고, 나아가 전체 제조비용을 절감함과 동시에 노광공정의 공정 효율성을 향상시킬 수 있게 된다.Accordingly, it is possible to reduce the defect rate, reduce the material cost, the process cost, and the process time due to defects, thereby reducing the overall manufacturing cost and improving the process efficiency of the exposure process.

세 번째 단계(st300)는 현상 그리고 하드베이킹(hard-baking)공정을 포함한 다.The third step (st300) includes development and hard-baking processes.

현상은 소정의 현상액을 이용하여 기판(G)의 포토레지스트 중 빛에 노출된 부분과 그렇지 않은 부분의 화학적 변화특성에 따라 어느 한 부분을 선택적으로 제거함으로써 마스크(130)에 의한 패턴과 동일한 형상의 포토레지스트 패턴을 구성한다.The development is performed by selectively removing a portion of the photoresist of the substrate G according to the chemical change characteristics of the portion exposed to the light and the portion of the photoresist not exposed to the light by using a predetermined developing solution, Thereby forming a photoresist pattern.

그리고 하드베이킹(hard-baking)은 포토레지스트 패턴 내부의 잔여 솔벤트 등의 휘발성분을 완전히 제거하기 위하여 기판(G) 전체에 소정온도를 가한다. 이로 인하여, 포토레지스트 패턴의 치밀화와 균일성을 확보할 수 있게 된다.
In hard-baking, a predetermined temperature is applied to the entire substrate G to completely remove volatile components such as residual solvent in the photoresist pattern. As a result, the densification and uniformity of the photoresist pattern can be ensured.

이상에서 설명한 본 발명의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 자유로운 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 첨부된 특허청구범위 및 이와 균등한 범위 내에서의 본 발명의 변형을 포함한다.
The embodiments of the present invention described above are merely illustrative, and those skilled in the art can freely make modifications without departing from the gist of the present invention. Accordingly, the protection scope of the present invention includes modifications of the present invention within the scope of the appended claims and equivalents thereof.

100: 노광장치 G: 기판
130: 마스크 140: 마스크 스테이지
145: 블레이드부 150: 광학부
151: 보정부 152: 모터
153: 제1하우징부 155: 렌즈부
157: 제2하우징부 162: 제1실링부
164: 제2실링부 169: 감지센서
180: 기판 스테이지 190: 제어장치100: Exposure device G:
130: mask 140: mask stage
145: blade part 150: optical part
151:
153: first housing part 155: lens part
157: second housing part 162: first sealing part
164: second sealing portion 169: detection sensor
180: substrate stage 190: control device

Claims (8)

마스크와 기판이 각각 안착되는 마스크 스테이지 및 기판 스테이지와;
상기 마스크로 광을 출사시키는 조명부와;
제1광학부와 상기 제1광학부의 하부에 위치되는 제2광학부를 포함하며, 상기 마스크 스테이지와 상기 기판 스테이지 사이에 위치되는 광학부를 포함하고,
상기 광학부는 상기 제1광학부 내부에 형성된 제1실링부와, 상기 제1광학부의 외측 일부분에서부터 상기 제2광학부의 외측 일부분까지 형성된 제2실링부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시패널용 노광장치.
A mask stage and a substrate stage on which the mask and the substrate are respectively mounted;
An illumination unit for emitting light to the mask;
And an optical portion including a first optical portion and a second optical portion located below the first optical portion, the optical portion being positioned between the mask stage and the substrate stage,
Wherein the optical portion further includes a first sealing portion formed inside the first optical portion and a second sealing portion formed from an outer portion of the first optical portion to an outer portion of the second optical portion. Device.
제 1항에 있어서,
상기 제1광학부는
상기 마스크를 통과하는 광의 광경로를 변화시켜 횡배율을 확대 또는 축소하는 보정을 하는 보정부와, 상기 보정부를 구동시키기 위한 모터 그리고 상기 보정부와 모터를 둘러 감싸는 제1하우징부를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시패널용 노광장치.
The method according to claim 1,
The first optical portion
A mask for driving the correcting unit, and a first housing unit surrounding the correcting unit and the motor, wherein the correcting unit corrects the magnification or the reduction of the lateral magnification by changing the optical path of the light passing through the mask. Wherein the light emitting device is a flat display panel.
제 2항에 있어서,
상기 제1실링부는 상기 제1하우징부와 상기 보정부 가장자리 사이에 형성된 것을 특징으로 하는 평판표시패널용 노광장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the first sealing part is formed between the first housing part and the edge of the correction part.
제 3항에 있어서,
상기 제1실링부는 상기 모터에서 발생된 열을 배출하는 열 배출구를 피해 형성된 것을 특징으로 하는 평판표시패널용 노광장치.
The method of claim 3,
Wherein the first sealing portion is formed to avoid a heat exhaust port for discharging heat generated in the motor.
제 3항에 있어서,
상기 제2광학부는
울트라미러와, 상기 울트라미러가 실장되는 제2하우징부를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시패널용 노광장치.
The method of claim 3,
The second optical portion
And a second housing part on which the ultra-mirror is mounted.
제 5항에 있어서,
상기 제2실링부는 상기 제1하우징부의 일부에서부터 상기 제2하우징부의 일부까지 부착된 테이프인 것을 특징으로 하는 평판표시패널용 노광장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the second sealing portion is a tape attached from a portion of the first housing portion to a portion of the second housing portion.
제 1항에 있어서,
상기 광학부는 내부 기류를 감지하기 위한 감지센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시패널용 노광장치.
The method according to claim 1,
Wherein the optical unit further comprises a sensing sensor for sensing an internal air flow.
제 1항에 있어서,
상기 제1광학부와 상기 제2광학부는 나사 체결을 통해 서로 결속된 상태인 것을 특징으로 하는 평판표시패널용 노광장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first optical portion and the second optical portion are coupled to each other through a screw connection.
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