KR20150065454A - Bellows - Google Patents

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KR20150065454A
KR20150065454A KR1020130150805A KR20130150805A KR20150065454A KR 20150065454 A KR20150065454 A KR 20150065454A KR 1020130150805 A KR1020130150805 A KR 1020130150805A KR 20130150805 A KR20130150805 A KR 20130150805A KR 20150065454 A KR20150065454 A KR 20150065454A
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bellows
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cvd
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polyimide
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KR1020130150805A
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Inventor
김재민
박근배
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주식회사 썬닉스
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Abstract

The present invention relates to a bellows for moving a caustic-harmful gas. The bellow for moving the caustic-harmful gas comprises: a bellows surface; an organic compound monomer deposited on the bellows surface in a vacuum through a CVD chamber; a polyimide coating layer in which polyimide is coated on the deposited bellows surface through CVD vacuum deposition; and a Nix coating layer in which Nix is coated on the polyimide coating layer through the CVD vacuum deposition. According to the present invention, the bellows is to prevent the attachment of caustic powder, a metal burr, etc. to a curved wrinkle part composed of a metal material by coating Nix and PI having an antistatic characteristic on the bellows and to control the progress of corrosion by caustic gas, etc.

Description

벨로우즈{BELLOWS}Bellows {BELLOWS}

본 발명은 벨로우즈에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 부식성 유해가스에 대한 내부식성이 높은 벨로우즈에 관한 것이다.
The present invention relates to a bellows, and more particularly, to a bellows having high corrosion resistance against corrosive noxious gas.

일반적으로 반도체 장치는 성막공정, 사진 식각공정, 불순물 주입공정 및 금속공정 등에 의해 제조되고, 이러한 반도체 장치의 제조를 위한 단위공정들은 주로 진공상태의 챔버(chamber)에서 수행된다.Generally, a semiconductor device is manufactured by a film forming process, a photolithography process, an impurity implantation process, a metal process, etc., and the unit processes for manufacturing such a semiconductor device are mainly performed in a vacuum chamber.

진공 챔버에서의 공정 분위기는 반드시 안정된 진공 상태가 유지되어야 하고, 챔버의 내부에서 작동하는 구동장치들은 외부에서 동력을 받아 구동하게 되기 때문에, 이들 구동장치들이 삽입되는 부위에서의 실링이 반드시 요구된다.The process atmosphere in the vacuum chamber must be maintained in a stable vacuum state and the driving devices operating in the chamber are externally powered and therefore sealing is required at the portions where these driving devices are inserted.

또한 진공 챔버 뿐만 아니라 진공 펌프와의 연결 구성에서도 밀폐된 실링이 요구된다. In addition, a sealed sealing is required in the connection structure with the vacuum pump as well as with the vacuum chamber.

여기서 진공 챔버에서 전술한 바와 같이 진공 펌프에 의한 배관들에서 기밀 유지시키기 위해 가장 많이 적용되고 있는 구성 요소가 벨로우즈다. Here, the bellows is the most frequently applied component to keep the vacuum chamber sealed in the piping by the vacuum pump as described above.

벨로우즈는 신축이 가능할 뿐만 아니라 비틀림이 발생되어도 그 내부의 기밀성을 안전하게 유지시킬 수가 있어서 가장 많이 사용되고 있다.The bellows is most widely used because it can not only expand and contract but also keep the airtightness of the inside of the bellows secure even if a twist occurs.

여기서 벨로우즈는 유동이 요구되는 배관 대 배관 또는 장치 대 배관 사이에 설치되고, 유연성을 위해 유연한 재질로 형성되어야만 한다. Here, the bellows should be installed between the pipe-to-pipe or pipe-to-pipe where flow is required, and should be formed of a flexible material for flexibility.

특히 반도체, LCD 공정, LED 공정 등에서는 부식성이 높은 유해가스를 사용하기 때문에, 그 기밀이 특히 중요하다. Particularly, in the semiconductor, LCD process, LED process, etc., the airtightness is particularly important because noxious gas having high corrosiveness is used.

그런데 종래의 금속재질로 형성된 벨로우즈는 높은 강도를 보유하지만, 유동되는 부식성 유해가스로 인해 부식이 발생되는 문제점이 있었다.However, the conventional bellows formed of a metal material has a high strength, but has a problem in that corrosive noxious gas flowing causes corrosion.

특히, 벨로우즈의 형태적인 특성 상 주름 부분 안쪽에 부식성 가스의 파우더, 메탈 버 등이 침투되는 경우 부식이 급속히 진행되어 상기 부식성 유해가스를 누출시키는 문제점이 있었다.
Particularly, when the powder of the corrosive gas, the metal bur, or the like is permeated into the corrugated portion due to the morphological characteristics of the bellows, corrosion is rapidly progressed and the corrosive noxious gas is leaked.

한국 공개특허 10-2004-0003334Korean Patent Publication No. 10-2004-0003334

본 발명은 부식성 유해가스에 대해 내부식성이 높은 벨로우즈를 제공하는데 목적이 있다.
An object of the present invention is to provide a bellows having high corrosion resistance against corrosive noxious gas.

본 발명의 일측면에 따른 부식성 유해가스를 유동시키는 벨로우즈에 있어서, 벨로우즈표면; CVD 챔버를 통해, 상기 벨로우즈표면에 진공 기상 증착된 유기화합물 단량체; CVD 진공 증착에 의해, 상기 증착된 벨로우즈표면에 폴리이미드 코팅된 폴리이미드 코팅층; 및 CVD 진공 증착에 의해, 상기 폴리이미드 코팅층 표면에 닉스 코팅된 닉스 코팅층;이 형성된 챔버용 벨로우즈를 제공한다. A bellows for flowing corrosive noxious gas according to one aspect of the present invention, comprising: a bellows surface; An organic compound monomer vapor-deposited on the bellows surface through a CVD chamber; A polyimide-coated polyimide coating layer on the deposited bellows surface by CVD vacuum deposition; And a knuckle coating layer knocked on the surface of the polyimide coating layer by CVD vacuum deposition.

본 발명의 다른 측면에 따른 부식성 유해가스를 유동시키는 벨로우즈에 있어서, 벨로우즈표면; CVD 챔버를 통해, 상기 벨로우즈표면에 진공 기상 증착된 유기화합물 단량체; CVD 진공 증착에 의해, 상기 증착된 벨로우즈표면에 닉스 코팅된 닉스 코팅층; 및 CVD 진공 증착에 의해, 상기 닉스 코팅층 표면에 폴리이미드 코팅된 폴리이미드 코팅층;이 형성된 챔버용 벨로우즈를 제공한다. A bellows for flowing corrosive noxious gas according to another aspect of the present invention, comprising: a bellows surface; An organic compound monomer vapor-deposited on the bellows surface through a CVD chamber; A nitric coating layer on the deposited bellows surface by CVD vacuum deposition; And a polyimide-coated polyimide coating layer on the surface of the nitric oxide coating layer by CVD vacuum deposition.

상기 유기화합물 단량체는, 알킬실란, 알킬트리알콕시실란, 알콕시실란, 아미노알킬트리알콕시실란 및, 머켑토알킬알콕시실란 중 적어도 하나의 화합물을 사용하는 것을 특징으로 한다.
The organic compound monomer is characterized by using at least one compound selected from alkylsilane, alkyltrialkoxysilane, alkoxysilane, aminoalkyltrialkoxysilane and mercaptoalkylalkoxysilane.

본 발명에 따른 벨로우즈는 표면에 무정전 특성이 있는 닉스 및 PI 코팅이 실시되어 금속재질의 절곡된 주름부에 부식성 파우더 또는 메탈 버 등이 부착되는 것을 방지할 뿐만 아니라, 부식성 가스 등에 의해 부식이 진행되는 것을 억제하는 효과가 있다.
The bellows according to the present invention is provided with a knuckle and PI coating having an uninterruptive characteristic on the surface to prevent a corrosive powder or a metal bur from adhering to a folded wrinkle portion of a metal material, There is an effect of suppressing.

도 1은 본 발명의 1 실시예에 따른 닉스 및 PI 코팅 방법의 순서도
도 2는 본 발명의 2 실시예에 따른 닉스 및 PI 코팅 방법의 순서도
도 3은 종래 벨로우즈가 도시된 사진
도 4는 본 발명의 1 실시예에 따른 벨로우즈가 도시된 사진
1 is a flowchart of a knock and PI coating method according to an embodiment of the present invention
2 is a flow chart of a knock and PI coating method according to the second embodiment of the present invention
3 is a cross-sectional view of a conventional bellows
Figure 4 is a cross-sectional view of a bellows < RTI ID = 0.0 >

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해 구체적으로 살펴보기로 한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

다만, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 용어가 동일하더라도 표시하는 부분이 상이하면 도면 부호가 일치하지 않음을 미리 말해두는 바이다.In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. Even if the terms are the same, it is to be noted that when the portions to be displayed differ, the reference signs do not coincide.

그리고 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 설정된 용어들로서 이는 실험자 및 측정자와 같은 사용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있으므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are intended to provide further explanation of the invention as claimed.

본 명세서에서 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다. The terms first, second, etc. in this specification may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component. And / or < / RTI > includes any combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다. The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가진 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the relevant art and are to be interpreted in an ideal or overly formal sense unless explicitly defined in the present application Do not.

또한, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. Also, when a part is referred to as "including " an element, it does not exclude other elements unless specifically stated otherwise.

도 1은 본 발명의 1 실시예에 따른 닉스 및 PI 코팅 방법의 순서도이고, 도 2는 본 발명의 2 실시예에 따른 닉스 및 PI 코팅 방법의 순서도이고, 도 3은 종래 벨로우즈가 도시된 사진이고, 도 4는 본 발명의 1 실시예에 따른 벨로우즈가 도시된 사진이다. FIG. 1 is a flow chart of a knock and PI coating method according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a flowchart of a knock and PI coating method according to a second embodiment of the present invention, FIG. 3 is a photograph showing a conventional bellows And Fig. 4 is a photograph showing a bellows according to an embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 벨로우즈는 0.005 ~ 2.2mm의 두께로 형성된 얇은 금속 박판을 원통형으로 원통형으로 스텝핑 한 후, 낱 장을 연속적으로 용접하여 제작하고, 금속 재질에 의한 탄성을 갖도록 형성된 주름관이다. As shown in the figure, the bellows according to the present embodiment is manufactured by stepping a thin metal thin plate formed to a thickness of 0.005 to 2.2 mm into a cylindrical shape, welding it continuously by welding it, It is a corrugated pipe.

여기서 벨로우즈의 형태적인 특성 상 주름 부분 안쪽에 부식성 가스의 파우더, 메탈 버 등이 침투되는 경우 부식이 급속히 진행되는 바, 본 실시예에서는 무정전 특성이 있는 코팅을 실시하여 부식성 파우더가 주름 부분 안쪽에 부착되는 것을 억제하고, 부식성 가스에 의한 내구성을 향상시킨다. In this case, when the powder of the corrosive gas or the metal bur is penetrated into the inside of the wrinkle part due to the morphological characteristics of the bellows, the corrosion rapidly proceeds. In this embodiment, the coating with the non- And improves durability due to corrosive gas.

먼저, 상기 벨로우즈의 오염물을 제거하기 위한 세척 공정(또는, 진공 클리닝 공정)을 수행한다. 여기서, 상기 세척 공정은, 알코올 등의 세척제 등을 통해 수행되거나 또는, 이소프로필 알코올(Isopropyl Alcohol) 등을 통해 초음파 세척을 수행할 수 있다. First, a cleaning process (or a vacuum cleaning process) for removing contaminants from the bellows is performed. Here, the washing process may be performed through a detergent such as alcohol, or ultrasonic cleaning may be performed through isopropyl alcohol or the like.

이때, 상기 벨로우즈는 금속재잴로 형성되고, 상기 금속계 재질은, 알루미늄, 스테인리스 스틸 등일 수 있다(S110).At this time, the bellows may be formed of a metal material, and the metal material may be aluminum, stainless steel, or the like (S110).

이후, CVD(Chemical Vapor Deposition : 화학 기상 증착) 챔버(미도시)를 통한 전처리 공정/작업(또는, 프라이머(primer))에 의해, 유기화합물 단량체를 상기 벨로우즈상(또는, 상기 벨로우즈의 적어도 일부 표면)에 진공 기상 증착(또는, CVD 진공 증착)한다.Thereafter, the organic compound monomer is injected onto the bellows (or at least part of the surface of the bellows (not shown) by a pretreatment process / operation (or primer) through a CVD (Chemical Vapor Deposition) ) Or vacuum vapor deposition (or CVD vacuum deposition).

즉, 상기 벨로우즈가 수용된 상기 CVD 챔버 내에, 한 종류 이상의 상기 액상 유기화합물 단량체를 상기 CVD 챔버 내에 기체 상태로 주입시켜 10mTorr ~ 100 mTorr 상태로 상기 벨로우즈표면에 증착시킨다. That is, in the CVD chamber in which the bellows is accommodated, at least one liquid organic compound monomer is injected into the CVD chamber in a gaseous state and is deposited on the surface of the bellows in the range of 10 mTorr to 100 mTorr.

여기서, 상기 유기화합물 단량체는, 알킬실란(Alkylsilane), 알킬트리알콕시실란(Alkyltrialkoxysilane), 알콕시실란(Alkoxysilane), 아미노알킬트리알콕시실란(Aminoalkyltrialkoxysilane) 및, 머켑토알킬알콕시실란(Mercaptoalkylalkoxysilane) 등 중에서, 적어도 하나의 화합물을 사용할 수 있다. 이때, 상기 벨로우즈표면은, 상기 벨로우즈의 전체 표면 또는, 상기 벨로우즈의 적어도 하나 이상의 일부 표면일 수 있다.The organic compound monomer may be at least one selected from the group consisting of alkylsilane, alkyltrialkoxysilane, alkoxysilane, aminoalkyltrialkoxysilane, and mercaptoalkylalkoxysilane. One compound can be used. At this time, the bellows surface may be the entire surface of the bellows, or at least one surface of the bellows.

일 예로, 상기 유기화합물 단량체는, 상기 CVD 챔버를 통한 CVD 진공 증착에 의해 상기 벨로우즈의 표면에 진공 증착된다(S120).In one embodiment, the organic compound monomer is vacuum deposited on the surface of the bellows by CVD vacuum deposition through the CVD chamber (S120).

이후, 상기 전처리된 벨로우즈는, 상기 CVD 챔버를 통한 CVD 진공 증착에 의해 PI 코팅(Polyimide coating :폴리이미드 코팅)한다. 이때, PI 코팅층(또는, PI 코팅막/절연 코팅막)을 형성할 때, 상기 CVD 진공 증착뿐만 아니라, 스프레이(spray) 방식 또는 웨팅(wetting) 방식 등을 통해서도 상기 전처리된 벨로우즈에 상기 PI 코팅층을 형성할 수도 있다.Thereafter, the pretreated bellows is subjected to PI coating (polyimide coating) by CVD vacuum deposition through the CVD chamber. At this time, when the PI coating layer (or PI coating film / insulating coating film) is formed, the PI coating layer may be formed on the pretreated bellows through a spraying method or a wetting method as well as the CVD vacuum deposition method It is possible.

즉, 상기 전처리된 벨로우즈의 전체 표면 또는 적어도 하나 이상의 일부 표면에, 상기 CVD 챔버를 통해 폴리이미드(PI)를 진공 기상 증착한다.That is, polyimide (PI) is vacuum vapor deposited on the entire surface or at least one surface of the pretreated bellows through the CVD chamber.

일 예로, 상기 전처리된 벨로우즈 표면에 상기 PI 코팅층을 형성한다(S130).For example, the PI coating layer is formed on the surface of the pretreated bellows (S130).

이후, 상기 PI 코팅층이 형성된 벨로우즈는, CVD 진공 증착에 의해 닉스 코팅(NIX Coating)(또는, 다이머(dimer))한다. 이때, 상기 닉스 코팅에 사용되는 다이머는, 패럴린 N(poly(Para-Xylene)), 패럴린C(poly(Chloro-Para-Xylylene)), 패럴린 D(poly(Di-Chloro-Para-Xylylene)) 및, 패럴린 F(poly(tetrafluoro-[2,2]para-Xylylene)) 등 중에서 적어도 하나의 다이머를 사용할 수 있다. 또한, 상기 닉스 코팅에 의해 형성되는 닉스 코팅층(또는, 닉스 코팅막)의 두께는, 약 1 ㎛ ~ 70 ㎛ 범위일 수 있으며, 상기 벨로우즈의 사용 용도 등을 고려하여 설계자의 설계에 따라 다양하게 설정할 수 있다.Then, the bellows on which the PI coating layer is formed is NIX coated (or dimerized) by CVD vacuum deposition. The dimers used in the nick coating include poly (para-xylene), poly (chloro-para-xylylene), poly (di-chloro-para-xylylene ) And poly (tetrafluoro- [2,2] para-Xylylene)), and the like. The thickness of the nickle coating layer (or the nickle coating layer) formed by the nick coating may be in the range of about 1 μm to 70 μm, and may be variously set according to the design of the designer in consideration of the use of the bellows. have.

즉, 고체상 다이머를 증발기(vaporizer)(미도시) 내에 장착하고, 압력을 미리 설정된 레벨(예를 들어, 약 1Torr)로 조절하고 미리 설정된 온도(예를 들어, 170℃ ~ 200℃)로 가열하면, 상기 고체상 다이머가 기화되어 다이머 가스가 발생한다. That is, when the solid-state dimer is installed in a vaporizer (not shown) and the pressure is adjusted to a predetermined level (for example, about 1 Torr) and heated to a predetermined temperature (for example, 170 ° C to 200 ° C) , The solid-state dimer is vaporized and dimer gas is generated.

이후, 상기 기화된 다이머 가스는, 650℃ ~ 700℃로 유지되고 압력이 0.5 Torr로 조절된 열분해기(pyrolysis)(미도시)에 통과시켜 모노머(monomer)로 분해한다. Then, the vaporized dimer gas is decomposed into monomers by passing through a pyrolysis (not shown) maintained at 650 ° C to 700 ° C and a pressure of 0.5 Torr.

이후, 상기 열분해된 모노머는, 상온에 서 10 mTorr ~ 100 mTorr 압력으로 조절된 상기 CVD 챔버에서 상기 PI 코팅층이 형성된(또는, 증착된) 상기 벨로우즈 표면에 고분자 상태로 증착(또는, 적층/축합)하여, 닉스 코팅층(또는, 닉스 코팅/닉스 고분자/닉스 코팅막)을 형성한다.Thereafter, the thermally decomposed monomer is deposited (or laminated / condensed) in a polymer state on the bellows surface on which the PI coating layer is formed (or deposited) in the CVD chamber controlled at a room temperature and 10 mTorr to 100 mTorr pressure, (Or a Knicks coating / Knicks polymer / Knicks coating film) is formed.

일 예로, 상기 PI 코팅층 상부에 상기 닉스 코팅층을 형성한다.For example, the nick coating layer is formed on the PI coating layer.

이와 같이, 상기 닉스 고분자(또는, 패럴린 고분자)는, 상온 또는 진공 중에서 코팅이 이루어지므로, 열적 스트레스로 인한 모재의 변형을 방지하고, 핀홀 없이 모재의 측면뿐만 아니라 미세한 요철 부분까지 균일하게 코팅할 수 있다. As described above, since the coating of the nicks polymer (or the paraline polymer) is performed at room temperature or vacuum, it is possible to prevent the deformation of the base material due to thermal stress and uniformly coat not only the side surface of the base material but also the fine uneven portion .

또한, 상기 닉스 코팅에 의해, 내화학성, 내열성 및, 내수성 등을 향상시킬 수 있다(S140).In addition, by the nick coating, the chemical resistance, heat resistance and water resistance can be improved (S140).

또한, 상기 실시예에서는, 상기 벨로우즈에 PI 코팅층과 닉스 코팅층을 순차적으로 형성하는 구성을 기재하고 있으나, 상기 닉스 코팅층을 형성하지 않을 수도 있다. Although the PI coating layer and the nitric oxide coating layer are sequentially formed on the bellows in the above embodiment, the nit coating layer may not be formed.

즉, 상기 벨로우즈의 일 예인 상기 벨로우즈 표면에 상기 PI 코팅층을 형성한 상태일 수도 있다.
That is, the PI coating layer may be formed on the bellows surface, which is one example of the bellows.

이하, 본 발명의 2 실시예에 따른 닉스 및 PI 코팅 방법을 설명한다. Hereinafter, a knock and PI coating method according to the second embodiment of the present invention will be described.

먼저, 벨로우즈표면의 오염물을 제거하기 위한 세척 공정(또는, 진공 클리닝 공정)을 수행한다. 여기서, 상기 세척 공정은, 알코올 등의 세척제 등을 통해 수행되거나 또는, 이소프로필 알코올 등을 통해 초음파 세척을 수행할 수 있다.First, a cleaning process (or a vacuum cleaning process) is performed to remove contaminants on the surface of the bellows. Here, the cleaning process may be performed through a cleaning agent such as alcohol, or ultrasonic cleaning may be performed through isopropyl alcohol or the like.

일 예로, 상기 벨로우즈에 대해 상기 세척 공정을 수행한다. 이때, 상기 벨로우즈는 금속재잴로 형성되고, 상기 금속계 재질은, 알루미늄, 스테인리스 스틸 등일 수 있다.(S210)For example, the cleaning process is performed on the bellows. At this time, the bellows may be formed of a metal material, and the metal material may be aluminum, stainless steel, etc. (S210)

이후, CVD 챔버(미도시)를 통한 전처리 공정/작업(또는, 프라이머)에 의해, 유기화합물 단량체를 상기 벨로우즈상(또는, 상기 벨로우즈의 적어도 일부 표면)에 진공 기상 증착(또는, CVD 진공 증착)한다.The organic compound monomer is then vacuum vapor deposited (or CVD vacuum evaporated) onto the bellows (or at least a part of the surface of the bellows) by a pretreatment process / operation (or primer) through a CVD chamber (not shown) do.

즉, 상기 벨로우즈가 수용된 상기 CVD 챔버 내에, 한 종류 이상의 상기 액상 유기화합물 단량체를 상기 CVD 챔버 내에 기체 상태로 주입시켜 10mTorr ~ 100 mTorr 상태로 상기 벨로우즈표면에 증착시킨다. That is, in the CVD chamber in which the bellows is accommodated, at least one liquid organic compound monomer is injected into the CVD chamber in a gaseous state and is deposited on the surface of the bellows in the range of 10 mTorr to 100 mTorr.

여기서, 상기 유기화합물 단량체는, 알킬실란, 알킬트리알콕시실란, 알콕시실란, 아미노알킬트리알콕시실란 및, 머켑토알킬알콕시실란 등 중에서, 적어도 하나의 화합물을 사용할 수 있다. 이때, 상기 벨로우즈표면은, 상기 벨로우즈의 전체 표면 또는, 상기 벨로우즈의 적어도 하나 이상의 일부 표면일 수 있다.The organic compound monomer may be at least one compound selected from among alkylsilane, alkyltrialkoxysilane, alkoxysilane, aminoalkyltrialkoxysilane, and mercaptoalkylalkoxysilane. At this time, the bellows surface may be the entire surface of the bellows, or at least one surface of the bellows.

일 예로, 상기 유기화합물 단량체는 상기 CVD 챔버를 통한 CVD 진공 증착에 의해 상기 벨로우즈의 표면에 진공 증착된다(S220).In one embodiment, the organic compound monomer is vacuum deposited on the surface of the bellows by CVD vacuum deposition through the CVD chamber (S220).

이후, 상기 전처리된 벨로우즈은, CVD 진공 증착에 의해 닉스 코팅(NIX Coating)(또는, 다이머)한다. 이때, 상기 닉스 코팅에 사용되는 다이머는, 패럴린 N, 패럴린 C, 패럴린 D 및, 패럴린 F 등 중에서, 적어도 하나의 다이머를 사용할 수 있다. 또한, 상기 닉스 코팅에 의해 형성되는 닉스 코팅층(또는, 닉스 코팅막)의 두께는, 약1 ㎛ ~ 70 ㎛ 범위일 수 있으며, 상기 벨로우즈의 사용 용도 등을 고려하여 설계자의 설계에 따라 다양하게 설정될 수 있다.Thereafter, the pretreated bellows is NIX coated (or diminished) by CVD vacuum deposition. At this time, at least one dimer may be used among the dimers used in the nick coating, such as paralin N, paralin C, paralin D, and paralin F. The thickness of the nickle coating layer (or the nickle coating layer) formed by the nick coating may range from about 1 μm to 70 μm, and may be variously set according to the design of the designer in consideration of the use of the bellows. .

즉, 고체상 다이머를 증발기(미도시) 내에 장착하고, 압력을 미리 설정된 레벨(예를 들어, 약 1 Torr)로 조절하고 미리 설정된 온도(예를 들어, 170℃ ~ 200℃)로 가열하면, 상기 고체상 다이머가 기화되어 다이머 가스가 발생한다. That is, when the solid-state dimer is installed in an evaporator (not shown) and the pressure is adjusted to a predetermined level (for example, about 1 Torr) and heated to a predetermined temperature (for example, 170 ° C to 200 ° C) The solid-phase dimer is vaporized and dimer gas is generated.

이후, 상기 기화된 다이머 가스는, 650℃ ~ 700℃로 유지되고 압력이 0.5 Torr로 조절된 열분해기(미도시)에 통과시켜 모노머로 분해한다. 이후, 상기 열분해된 모너머는, 상온에서 10 mTorr ~ 100 mTorr 압력으로 조절된 상기 CVD 챔버에서 상기 유기화합물 단량체가 증착된 상기 벨로우즈표면에 고분자 상태로 증착(또는, 적층/축합)하여, 닉스 코팅층(또는, 닉스 코팅/닉스 고분자/닉스 코팅막)을 형성한다.Thereafter, the vaporized dimer gas is decomposed into monomers by passing through a pyrolyzer (not shown) maintained at 650 ° C to 700 ° C and a pressure of 0.5 Torr. Thereafter, the pyrolyzed monomer is deposited (or laminated / condensed) in a polymer state on the surface of the bellows on which the organic compound monomer is deposited in the CVD chamber controlled at a normal pressure of 10 mTorr to 100 mTorr, (Or Knicks coating / Knicks polymer / Knicks coating film).

일 예로, 상기 전처리된 벨로우즈 표면에 상기 닉스 코팅층을 형성한다(S230).For example, the nickle coating layer is formed on the surface of the pretreated bellows (S230).

이후, 상기 닉스 코팅층이 형성된 벨로우즈는, 상기 CVD 챔버를 통한 CVD 진공 증착에 의해 PI 코팅한다.Then, the bellows in which the nickle coating layer is formed is PI-coated by CVD vacuum deposition through the CVD chamber.

이때, PI 코팅층(또는, PI 코팅막)을 형성할 때, 상기 CVD 진공 증착뿐만 아니라, 스프레이 방식 또는 웨팅 방식 등을 통해서도 상기 닉스 코팅층이 형성된 벨로우즈에 상기 PI 코팅층을 형성할 수도 있다.At this time, when the PI coating layer (or the PI coating layer) is formed, the PI coating layer may be formed on the bellows in which the nickle coating layer is formed, not only by the CVD vacuum deposition but also by a spraying method or a wetting method.

즉, 상기 닉스 코팅층이 형성된 벨로우즈의 전체 표면 또는 적어도 하나 이상의 일부 표면에, 상기 CVD챔버를 통해 폴리이미드(PI)를 진공 기상 증착한다.That is, polyimide (PI) is vacuum vapor deposited on the entire surface or at least one surface of the bellows on which the nickle coating layer is formed through the CVD chamber.

일 예로, 상기 닉스 코팅층 상부에 상기 PI 코팅층을 형성한다(S240).For example, the PI coating layer is formed on the Knicks coating layer (S240).

본 명세서의 실시예는 앞서 설명한 바와 같이, 벨로우즈에 닉스(NIX) 및/또는 PI 코팅 과정(또는, 다이머 과정)을 수행하여, 내화학성, 내열성 및, 내수성을 향상시키고, 적용 온도 범위를 향상시킬 수 있다.As described above, the embodiments of the present invention can improve the chemical resistance, heat resistance, and water resistance of the bellows and / or enhance the application temperature range by performing a NIX and / or PI coating process (or a dimer process) .

또한, 본 명세서의 실시예는 앞서 설명한 바와 같이, CVD 진공 증착을 통해 임의의 부품에 닉스 코팅층 및/또는 PI 코팅층을 형성하여, 균일한 코팅층과, 낮은 마찰 계수와, 무정전 특성과, 유연한 기계적 특성(예를 들어, 수축, 팽창, 굴절 등 물리적 변화에 영향을 받지 않는 특성)과, 반영구적인 사용 특성 등을 제공하고, 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Also, as described above, the embodiments of the present invention can be achieved by forming a nick coating layer and / or a PI coating layer on an arbitrary part by CVD vacuum deposition to form a uniform coating layer, a low friction coefficient, an uninterruptible characteristic, (For example, characteristics that are not affected by physical changes such as shrinkage, swelling, and refraction), semi-permanent usage characteristics, and the like, and the reliability of the product can be improved.

그래서 상술한 바와 같이, 닉스 코팅층 또는 PI 코팅층이 형성된 벨로우즈는 부식성 유체가 사용되는 공간에 설치되어 사용될 수 있다.Thus, as described above, the bellows in which the nickle coating layer or the PI coating layer is formed can be installed in a space where the corrosive fluid is used.

특히, 본 실시예와 같이, 기상증착을 통해 닉스 코팅층 또는 PI 코팅층이 형성된 벨로우즈는 협소한 공간에도 균일하게 코팅이 이루어지기 때문에, 내구성을 보다 향상시킬 수 있다. In particular, as in the present embodiment, since the bellows in which the nit coating layer or the PI coating layer is formed through the vapor deposition is uniformly coated even in a narrow space, the durability can be further improved.

이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. It will be possible.

Claims (3)

부식성 유해가스를 유동시키는 벨로우즈에 있어서,
벨로우즈표면;
CVD 챔버를 통해, 상기 벨로우즈표면에 진공 기상 증착된 유기화합물 단량체;
CVD 진공 증착에 의해, 상기 증착된 벨로우즈표면에 폴리이미드 코팅된 폴리이미드 코팅층; 및
CVD 진공 증착에 의해, 상기 폴리이미드 코팅층 표면에 닉스 코팅된 닉스 코팅층;이 형성된 챔버용 벨로우즈.
In a bellows for flowing corrosive noxious gas,
Bellows surface;
An organic compound monomer vapor-deposited on the bellows surface through a CVD chamber;
A polyimide-coated polyimide coating layer on the deposited bellows surface by CVD vacuum deposition; And
A knuckle coating layer knocked on the surface of the polyimide coating layer by CVD vacuum deposition.
부식성 유해가스를 유동시키는 벨로우즈에 있어서,
벨로우즈표면;
CVD 챔버를 통해, 상기 벨로우즈표면에 진공 기상 증착된 유기화합물 단량체;
CVD 진공 증착에 의해, 상기 증착된 벨로우즈표면에 닉스 코팅된 닉스 코팅층; 및
CVD 진공 증착에 의해, 상기 닉스 코팅층 표면에 폴리이미드 코팅된 폴리이미드 코팅층;이 형성된 챔버용 벨로우즈.
In a bellows for flowing corrosive noxious gas,
Bellows surface;
An organic compound monomer vapor-deposited on the bellows surface through a CVD chamber;
A nitric coating layer on the deposited bellows surface by CVD vacuum deposition; And
A polyimide coating layer formed on the surface of the nickle coating layer by CVD vacuum vapor deposition;
청구항 1 또는 2에 있어서,
상기 유기화합물 단량체는, 알킬실란, 알킬트리알콕시실란, 알콕시실란, 아미노알킬트리알콕시실란 및, 머켑토알킬알콕시실란 중 적어도 하나의 화합물을 사용하는 것을 특징으로 하는 챔버용 벨로우즈.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the organic compound monomer is at least one compound selected from alkylsilane, alkyltrialkoxysilane, alkoxysilane, aminoalkyltrialkoxysilane and mercaptoalkylalkoxysilane.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US11725279B2 (en) 2017-02-08 2023-08-15 Picosun Oy Deposition or cleaning apparatus with movable structure

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