KR20150061920A - Organic Light Emitting Diode Display Device - Google Patents

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Abstract

According to one aspect of the present invention, an organic electroluminescence display device comprises: a substrate including a plurality of pixels having a transparent area and a light emitting area; a pixel electrode located on the light emitting area; an auxiliary electrode separated with the pixel electrode; a bank layer including an opening exposing the pixel electrode and the auxiliary electrode; a partition layer located on the auxiliary electrode exposed by the opening, and separated with the bank layer; an organic light emitting layer located on the pixel electrode exposed by the opening, separated by the partition layer, and receiving electron from the pixel electrode; and a common electrode located on the organic light emitting layer, connected with the auxiliary electrode, and supplying hole to the organic light emitting layer.

Description

유기전계발광표시장치{Organic Light Emitting Diode Display Device}[0001] The present invention relates to an organic light emitting diode display device,

본 발명은 유기전계발광표시장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 능동형 유기전계발광표시장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an organic light emitting display, and more particularly, to an active organic light emitting display.

최근 수년간 경량 박형의 평판표시장치(flat display device)가 최첨단 과학기술시대의 정보표시장치(information display device)로 확실한 자리매김을 한 가운데, 평판표시장치 중 액정표시장치(liquid crystal display)에 이은 차세대 표시장치로 손꼽히는 유기전계발광표시장치(organic light emitting display device)의 연구 개발이 한창이다.In recent years, lightweight thin flat display devices have been firmly positioned as information display devices in the cutting-edge science and technology era. Among the flat display devices, liquid crystal displays (LCDs) Research and development of an organic light emitting display device, which is one of the display devices, is in full swing.

유기전계발광표시장치는 액정표시장치 대비 별도의 광원이 필요없는 자발광 소자이기 때문에 액정표시장치보다 훨씬 더 넓은 산업 분야에 적용될 수 있는 이점이 있다. 이런 이점이 있기 때문에, 특히, 미래 디스플레이로 불리는, 투명 디스플레이나 플렉서블(flexible) 디스플레이를 구현하는 데에는 유기전계발광표시장치가 액정표시장치보다 훨씬 유리하다.The organic electroluminescent display device is advantageous in that it can be applied to a wider industrial field than a liquid crystal display device because it is a self-luminous device which does not require a separate light source compared to a liquid crystal display device. Because of this advantage, organic electroluminescent display devices are far more advantageous than liquid crystal display devices, in particular, to implement transparent displays or flexible displays, which are referred to as future displays.

유기전계발광표시장치는 발광 방향에 따라 두 가지로 분류되는데, 구동 회로가 형성된 기판을 통과하여 그 하부로 발광하는 하부발광방식(bottom emission type)과 기판 상의 구동 회로 반대 방향인 상부로 발광하는 상부발광방식(top emission type)이 있다. 따라서, 플렉서블 디스플레이를 포함한 일반 유기전계발광표시장치의 고해상도 구현을 위해서, 특히 투명 디스플레이의 개구율 및 투명도 향상을 위해서, 구동 회로가 개구율에 영향을 미치지 않는 상부발광방식(top emission type)의 유기전계발광표시장치가 더욱 주목 받고 있다.The organic electroluminescent display device is divided into two types according to the light emitting direction. The organic electroluminescent display device includes a bottom emission type which emits light to a lower portion through a substrate on which a driving circuit is formed, There is a top emission type. Therefore, in order to realize a high resolution of a general organic light emitting display device including a flexible display, in particular, in order to improve the aperture ratio and transparency of a transparent display, a driving circuit is provided with a top emission type organic electroluminescence A display device has attracted more attention.

유기전계발광표시장치는 하부 전극을 애노드(anode) 전극으로, 상부전극을 캐소드(cathode) 전극으로 배치하며, 애노드 전극은 화소 별로 분리된 화소 전극의 역할을 하고, 캐소드 전극은 기판 전면에 배치된 공통 전극의 역할을 한다. 그러므로, 하부발광방식의 경우, 발광된 빛이 애노드 전극을 통과해야 하며, 상부발광방식의 경우, 발광된 빛이 캐소드 전극을 통과해야 한다.The organic electroluminescent display device has a lower electrode as an anode electrode and an upper electrode as a cathode electrode. The anode electrode serves as a pixel electrode separated for each pixel. The cathode electrode is disposed on the front surface of the substrate And serves as a common electrode. Therefore, in the case of the bottom emission type, the emitted light must pass through the anode electrode. In the case of the top emission type, the emitted light must pass through the cathode electrode.

한편, 정공을 애노드 전극은 보통 투명 도전성 산화물(transparent conductive oxide)로 형성되며, 캐소드 전극은 금속으로 형성되므로, 상부발광방식의 경우 캐소드 전극의 금속을 박막으로 형성하여 빛의 투과도를 높여야 한다.On the other hand, since the anode is formed of a transparent conductive oxide and the cathode electrode is formed of a metal, in the case of the upper emission type, the metal of the cathode electrode must be formed as a thin film to increase light transmittance.

그러나, 상부발광방식의 구현을 위해 캐소드 전극의 금속을 박막으로 형성할 경우, 캐소드 전극의 두께가 얇아질수록 발광된 빛의 투과도는 높아지지만 저항이 커져 화면 중앙부에서 휘도 저하가 발생할 수 있으며, 캐소드 전극의 두께가 두꺼워지면 발광된 빛의 투과도가 낮아지는 문제점이 발생할 수 있다.However, when a metal of the cathode electrode is formed as a thin film for the implementation of the top emission type, as the thickness of the cathode decreases, the transmittance of the emitted light increases, but the resistance increases and luminance decline may occur at the center of the screen. If the thickness of the electrode is increased, the transmittance of the emitted light may be lowered.

또한, 특히 투명 디스플레이 구현 시, 투과 영역 및 발광 영역의 확보를 위해 상부발광방식을 구현할 경우, 캐소드 전극이 투명 영역까지 형성되어 투과도가 떨어지는 문제점이 발생할 수 있다.
In particular, when implementing a top emission type for securing a transmissive region and a light emitting region in a transparent display implementation, the cathode electrode may be formed up to a transparent region, thereby lowering the transmittance.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 휘도 및 투과도가 향상된 유기전계발광표시장치를 제공하는 것을 그 기술적 과제로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an organic light emitting display having improved brightness and transmittance.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 유기전계발광표시장치는 투명 영역 및 발광 영역을 포함하는 복수의 화소를 포함하는 기판; 상기 발광 영역에 위치하는 화소 전극; 상기 화소 전극과 이격되는 보조 전극; 상기 화소 전극 및 상기 보조 전극과 일부 중첩하며, 상기 화소 전극 및 상기 보조 전극을 노출시키는 개구부를 포함하는 뱅크층; 상기 개구부에 의해 노출된 보조 전극 상에 위치하며, 상기 뱅크층과 이격된 격벽층; 상기 개구부에 의해 노출된 화소 전극 상에 위치하고, 상기 격벽층에 의해 분리되며, 상기 화소 전극으로부터 전자를 공급받는 유기 발광층; 및 상기 유기 발광층 상에 위치하고, 상기 보조 전극과 연결되며, 상기 유기 발광층에 정공을 공급하는 공통 전극;을 포함한다.
According to an aspect of the present invention, there is provided an organic light emitting display including: a substrate including a plurality of pixels including a transparent region and a light emitting region; A pixel electrode located in the light emitting region; An auxiliary electrode spaced apart from the pixel electrode; A bank layer partially overlapping the pixel electrode and the auxiliary electrode and including an opening for exposing the pixel electrode and the auxiliary electrode; A barrier layer located on the auxiliary electrode exposed by the opening and spaced apart from the bank layer; An organic light emitting layer disposed on the pixel electrode exposed by the opening and separated from the barrier layer to receive electrons from the pixel electrode; And a common electrode disposed on the organic light emitting layer, the common electrode being connected to the auxiliary electrode and supplying holes to the organic light emitting layer.

본 발명에 따르면, 애노드 전극을 공통 전극에 배치하고, 캐소드 전극을 화소 전극에 배치하여, 상부발광방식의 유기전계발광표시장치에서 발광된 빛이 투명한 애노드 전극을 통해 출사됨으로써, 유기전계발광표시장치의 휘도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, the anode electrode is disposed on the common electrode, the cathode electrode is disposed on the pixel electrode, and light emitted from the organic light emitting display device of the upper emission type is emitted through the transparent anode electrode, It is possible to improve the luminance of the display device.

또한, 본 발명에 따르면, 캐소드 전극을 화소마다 분리시켜, 캐소드 전극을 통해 인접한 화소로 전류가 누설되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.Further, according to the present invention, there is an effect that current can be prevented from being leaked to adjacent pixels through the cathode electrode by separating the cathode electrode for each pixel.

또한, 본 발명에 따르면, 캐소드 전극을 화소 전극에 배치시킴으로써, 캐소드 전극의 재료 선택 및 두께 설정의 자유도가 높아져 전자 주입 효율을 최대화할 수 있고, 이에 따라 광효율이 향상될 수 있는 효과가 있다.Further, according to the present invention, by arranging the cathode electrode on the pixel electrode, the degree of freedom of material selection and thickness setting of the cathode electrode can be increased, and the electron injection efficiency can be maximized, thereby improving the light efficiency.

또한, 본 발명에 따르면, 투명 유기전계발광표시장치의 경우, 투명한 애노드 전극이 발광 영역 및 투명 영역에 위치하고, 불투명한 캐소드 전극은 발광 영역에만 위치하며 투명 영역에 형성되지 않아, 투명 영역의 투과도가 향상된 투명 유기전계발광표시장치를 구현할 수 있는 효과가 있다.
According to the present invention, in the case of a transparent organic electroluminescent display device, a transparent anode electrode is located in a light emitting region and a transparent region, an opaque cathode electrode is located only in a light emitting region and is not formed in a transparent region, There is an effect that an improved transparent organic electroluminescent display device can be realized.

도 1 ~ 도 5는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 유기전계발광표시장치를 도시한 도시한 단면도;
도 6a ~ 도 6d는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 유기전계발광표시장치를 도시한 평면도; 및
도 7a ~ 도 7d는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기전계발광표시장치의 제조방법을 도시한 단면도.1 to 5 are sectional views illustrating an organic light emitting display device according to various embodiments of the present invention;
6A to 6D are plan views illustrating organic light emitting display devices according to various embodiments of the present invention; And
7A to 7D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부되는 도면들을 참고하여 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 ~ 도 5는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 유기전계발광표시장치를 도시한 단면도이다.1 to 5 are cross-sectional views illustrating an organic light emitting display according to various embodiments of the present invention.

먼저 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기전계발광표시장치는, 기판(110), 스위칭 트랜지스터(STR), 구동 트랜지스터(DTR), 평탄화층(120), 반사 전극(131), 보조 전극(132), 뱅크층(140), 격벽층(150), 화소 전극(160), 유기 발광층(170) 및 공통 전극(180)을 포함한다.1, an organic light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a substrate 110, a switching transistor STR, a driving transistor DTR, a planarization layer 120, a reflective electrode A bank layer 140, a barrier rib layer 150, a pixel electrode 160, an organic light emitting layer 170, and a common electrode 180. The auxiliary electrode 132, the bank layer 140,

본 발명은 유기전계발광표시장치에 관한 발명이며, 특히 투명 유기전계발광표시장치의 경우, 화소가 발광 영역(EA)과 투명 영역(TA)을 포함한다. 발광 영역(EA)에는 반사 전극(131) 및 화소 전극(160)이 있지만 투명 영역(TA)에는 빛이 패널을 투과해야 하므로 반사 전극(131) 및 화소 전극(160)이 배치되지 않는 것이 특징이다.The present invention relates to an organic electroluminescent display device, and in particular, in the case of a transparent organic electroluminescent display device, a pixel includes a light emitting region (EA) and a transparent region (TA). The reflective electrode 131 and the pixel electrode 160 are disposed in the light emitting region EA but the light must transmit through the panel in the transparent region TA .

먼저, 기판(110)은 유리(glass), 금속(metal) 또는 플라스틱(plastic)을 포함할 수 있으며, 플렉서블(flexible)한 물질로 형성될 수도 있다. 예를 들어, 기판(110)은 폴리에테르술폰(Polyethersulphone; PES), 폴리아크릴레이트(Polyacrylate; PAR), 폴리에테르 이미드(Polyetherimide; PEI), 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethyelenen Napthalate; PEN), 폴리에틸렌 테레프탈레이드(Polyethyelene Terepthalate; PET), 폴리페닐렌 설파이드(Polyphenylene Sulfide; PPS), 폴리아릴레이트(Polyallylate), 폴리이미드(Polyimide), 폴리카보네이트(PC), 셀룰로오스 트리 아세테이트(TAC), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(Cellulose Acetate Propionate: CAP) 등 중 어느 하나를 포함할 수 있다.First, the substrate 110 may include glass, metal, or plastic, and may be formed of a flexible material. For example, the substrate 110 may be formed of a material such as polyethersulphone (PES), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate (PET), Polyphenylene Sulfide (PPS), Polyallylate, Polyimide, Polycarbonate (PC), Cellulose Triacetate (TAC), Cellulose Acetate Propionate Cellulose Acetate Propionate (CAP), and the like.

스위칭 트랜지스터(STR) 및 구동 트랜지스터(DTR)는 기판(110) 상에 위치한다. 스위칭 트랜지스터(STR)는 게이트 라인(미도시)과 연결되는 게이트 전극(미도시)과 데이터 라인(미도시)과 연결되는 소스 전극(미도시)를 포함할 수 있다. 스위칭 트랜지스터(STR)는 드레인 전극(미도시)을 더 포함할 수 있다.The switching transistor STR and the driving transistor DTR are located on the substrate 110. The switching transistor STR may include a gate electrode (not shown) connected to a gate line (not shown) and a source electrode (not shown) connected to a data line (not shown). The switching transistor STR may further include a drain electrode (not shown).

스위칭 트랜지스터(STR)의 게이트 전극(미도시)은 게이트 라인(미도시)에서 스캔 신호를 전달받고, 게이트 전극(미도시)에 전달된 상기 스캔 신호에 의해 데이터 라인(미도시)의 데이터 신호가 소스 전극(미도시)에서 드레인 전극(미도시)으로 전달된다. 그 다음, 스위칭 트랜지스터(STR)의 드레인 전극(미도시)은 구동 트랜지스터(DTR)의 게이트 전극(미도시)과 연결되어 데이터 신호가 구동 트랜지스터(DTR)로 전달될 수 있다. 전달된 데이터 신호에 의해 구동 트랜지스터(DTR)는 전원 전압인 고전위 전압(Vdd) 및 저전위 전압(Vss) 중 어느 하나를 구동 트랜지스터(DTR)의 드레인 전극(미도시)를 통해 반사 전극(131)으로 전달된다.A gate electrode (not shown) of the switching transistor STR receives a scan signal from a gate line (not shown) and receives a data signal of a data line (not shown) by the scan signal transmitted to a gate electrode (Not shown) to a drain electrode (not shown). A drain electrode (not shown) of the switching transistor STR is connected to a gate electrode (not shown) of the driving transistor DTR so that a data signal can be transmitted to the driving transistor DTR. The driving transistor DTR supplies either one of the high voltage Vdd and the low voltage Vss which is the power source voltage to the reflective electrode 131 through the drain electrode (not shown) of the driving transistor DTR ).

전원 전압의 경우 상기 설명된 고전위 전압(Vdd)은 보통 드레인 전압(drain voltage)이라고 하며, 회로도 상에서는 Vdd로 표시된다. 저전위 전압(Vss)은 보통 소스 전압(source voltage)이라고 하며, 회로도 상에서는 Vss로 표시된다. 여기서, 드레인(drain) 또는 소스(source)라는 명칭은 박막 트랜지스터의 종류 및 구동 방법에 따라 가변적이기 때문에, 상대적으로 높은 전압인 드레인 전압을 고전위 전압(Vdd)로, 상대적으로 낮은 전압인 소스 전압을 저전위 전압(Vss)으로 명명하도록 한다.In the case of the power supply voltage, the above-described high potential voltage Vdd is usually referred to as a drain voltage, and is represented by Vdd in the circuit diagram. The low potential voltage (Vss) is commonly referred to as the source voltage and is represented by Vss in the circuit diagram. Here, since the name of the drain or the source is variable depending on the type of the thin film transistor and the driving method, the drain voltage, which is a relatively high voltage, is referred to as a high-potential voltage Vdd, Is referred to as a low potential voltage (Vss).

다음으로, 평탄화층(120)이 스위칭 트랜지스터(STR) 및 구동 트랜지스터(DTR) 상에 위치한다. 평탄화층(120)은 스위칭 트랜지스터(STR) 및 구동 트랜지스터(DTR)의 요철을 평탄화시켜 상부에 형성되는 유기발광소자를 형성하는 데 구조적 안정성을 향상시킬 수 있다.Next, the planarization layer 120 is placed on the switching transistor STR and the driving transistor DTR. The planarization layer 120 may improve the structural stability in forming the organic light emitting device formed on the upper surface by planarizing the unevenness of the switching transistor STR and the driving transistor DTR.

평탄화층(120)은 하부의 요철구조와 상관없이 상부 표면을 평탄화시킬 수 있는 유기물로 형성될 수 있다. 예를 들어, 평탄화층(120)은 아크릴계 수지(polyacrylates resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드계 수지(polyamides resin), 폴리이미드계 수지(polyimides rein), 불포화 폴리에스테르계 수지(unsaturated polyesters resin), 폴리페닐렌계 수지(poly phenylenethers resin), 폴리페닐렌설파이드계 수지(poly phenylenesulfides resin), 포토 아크릴(photo acryl, PAC) 및 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene, BCB) 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The planarization layer 120 may be formed of an organic material capable of flattening the upper surface irrespective of the bottom concavo-convex structure. For example, the planarization layer 120 may be formed of a material selected from the group consisting of polyacrylates resin, epoxy resin, phenolic resin, polyamide resin, polyimide resin, It has been found that in the case of unsaturated polyesters resin, polyphenylenethers resin, polyphenylenesulfides resin, photo acryl (PAC) and benzocyclobutene (BCB) And may include any one of them.

평탄화층(120)과 스위칭 트랜지스터(STR) 및 구동 트랜지스터(DTR) 사이에 실리콘 산화물(SiOx)나 실리콘 질화물(SiNx)와 같은 무기물로 형성되는 보호막(미도시)이 더 형성될 수 있다.A protective layer (not shown) formed of an inorganic material such as silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx) may be further formed between the planarization layer 120 and the switching transistor STR and the driving transistor DTR.

다음으로, 반사 전극(131) 및 보조 전극(132)이 평탄화층(120) 상에 위치한다. 반사 전극(131)은 구동 트랜지스터(DTR)와 연결되며, 구동 트랜지스터(DTR)로부터 데이터 신호에 따른 전원 전압을 공급받아 이를 화소 전극(131)으로 전달한다. 반사 전극(131) 및 보조 전극(132)은 빛을 투과하지 않고 반사하므로, 투명 영역(TA)에는 배치되는 않는 것이 특징이다.Next, the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 are positioned on the planarization layer 120. The reflective electrode 131 is connected to the driving transistor DTR and receives a power supply voltage corresponding to a data signal from the driving transistor DTR and transmits the power voltage to the pixel electrode 131. The reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 are not arranged in the transparent region TA because they are reflected without transmitting light.

반사 전극(131)은 유기 발광층(170)에서 발광된 빛을 공통 전극(180)으로 반사시켜 유기전계발광표시장치의 외부로 출사되는 빛의 양을 증가시켜 휘도를 향상시킬 수 있다. 또한, 반사 전극(131)은 공통 전극(180)과 마이크로 캐비티(micro cavity) 구조를 형성하여, 반사 전극(131)과 공통 전극(180) 사이에서 발광된 빛이 증폭함으로써, 휘도를 더욱 향상시킬 수 있다.The reflective electrode 131 reflects light emitted from the organic light emitting layer 170 to the common electrode 180 to increase the amount of light emitted to the outside of the organic light emitting display device, thereby improving the brightness. The reflection electrode 131 forms a micro cavity structure with the common electrode 180 so that the light emitted between the reflection electrode 131 and the common electrode 180 is amplified to further improve the luminance. .

반사 전극(131)은 발광된 빛을 반사시키기 위해 반사도가 높은 물질로 형성될 수 있다. 반사 전극(131)은 금속(metal)을 포함할 수 있으며, 예를 들어, 몰리브데늄(Mo), 알루미늄(Al), 은(Ag), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 적어도 하나를 포함하거나, 상기 물질 중 적어도 하나를 포함하는 합금(alloy)으로 이루어질 수 있다. 또한, 반사 전극(131)은 단일층 또는 다중층으로 형성될 수 있다.The reflective electrode 131 may be formed of a highly reflective material to reflect the emitted light. The reflective electrode 131 may include a metal such as molybdenum (Mo), aluminum (Al), silver (Ag), chromium (Cr), gold (Au), titanium ), Nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu), or an alloy including at least one of the above materials. In addition, the reflective electrode 131 may be formed as a single layer or a multilayer.

보조 전극(132)은 반사 전극(131)과 동일한 층에 위치할 수 있다. 또한, 보조 전극(132) 및 반사 전극(131)은 동시에 형성되어, 적어도 하나의 동일한 물질을 포함할 수 있다. 보조 전극(132)은 공통 전극(180)과 연결되어 공통 전극(180)의 저항을 저감시켜줄 수 있다.The auxiliary electrode 132 may be located on the same layer as the reflective electrode 131. Further, the auxiliary electrode 132 and the reflective electrode 131 may be formed at the same time, and may include at least one same material. The auxiliary electrode 132 may be connected to the common electrode 180 to reduce the resistance of the common electrode 180.

보조 전극(132)은 공통 전극(180)과 연결되므로, 공통 전극(180)이 공급받는 전압과 동일한 전압을 공급받는다. 공통 전극(180)이 캐소드 전극일 경우, 저전위 전압(Vss)을 공급받고, 공통 전극(180)이 애노드 전극일 경우, 고전위 전압(Vdd)을 공급받는다. 본 발명에서는 공통 전극(180)이 애노드 전극 역할을 하므로, 보조 전극(132)은 고전위 전압(Vdd)을 공급받아 공통 전극(180)과 연결되어 공통 전극(180)의 저항을 저감하는 역할을 한다.Since the auxiliary electrode 132 is connected to the common electrode 180, the common electrode 180 receives the same voltage as the supplied voltage. When the common electrode 180 is a cathode electrode, a low-potential voltage Vss is supplied. When the common electrode 180 is an anode electrode, a high-potential voltage Vdd is supplied. Since the common electrode 180 serves as the anode electrode, the auxiliary electrode 132 receives the high voltage Vdd and is connected to the common electrode 180 to reduce the resistance of the common electrode 180 do.

다음으로, 화소 전극(160)이 반사 전극(131) 상에 위치한다. 화소 전극(160)은 애노드 전극 또는 캐소드 전극의 역할을 할 수 있으며, 본 발명에서는 화소 전극(160)이 캐소드 전극의 역할을 하여, 유기 발광층(170)에 전자(electron)를 공급한다. 따라서, 화소 전극(160)은 일함수(work function)가 작은 물질일 수 있다.Next, the pixel electrode 160 is positioned on the reflective electrode 131. The pixel electrode 160 may serve as an anode or a cathode. In the present invention, the pixel electrode 160 serves as a cathode electrode to supply electrons to the organic light emitting layer 170. Accordingly, the pixel electrode 160 may be a material having a small work function.

화소 전극(160)은 은(Ag), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 알루미늄(Al), 리튬(Li) 및 네오디뮴(Nd) 중 어느 하나를 포함하는 단일층 또는 다중층으로 형성될 수 있고, LiF/Al, CsF/Al, Mg:Ag, Ca/Ag, Ca:Ag, LiF/Mg:Ag, LiF/Ca/Ag, LiF/Ca:Ag 등과 같은 다중층으로 형성될 수 있다. 다중층으로 형성될 경우, 화소 전극(160)은 유기 발광층(170)과 접하는 금속층(metal layer)을 포함한다. 금속(metal)은 전도성 산화물에 비해 일함수가 높기 때문에, 유기 발광층(170)에 전자를 공급하기 수월하다. 또한, 유기 발광층(170)에서 발광한 빛은 공통 전극(180)을 통해 출사되기 때문에, 화소 전극(160)은 빛의 투과도와 상관없이 형성될 수 있으므로, 재료 선택 및 두께 설정의 자유도가 높아져 전자 주입 효율을 최대화할 수 있고, 이에 따라 광효율이 향상될 수 있는 효과가 있다.The pixel electrode 160 may be formed as a single layer or multiple layers including any one of silver (Ag), magnesium (Mg), calcium (Ca), aluminum (Al), lithium (Li), and neodymium And may be formed of multiple layers such as LiF / Al, CsF / Al, Mg: Ag, Ca / Ag, Ca: Ag, LiF / Mg: Ag, LiF / Ca / Ag and LiF / Ca: Ag. The pixel electrode 160 includes a metal layer in contact with the organic light emitting layer 170. [ Since the metal has a higher work function than the conductive oxide, it is easy to supply electrons to the organic light emitting layer 170. Since the light emitted from the organic light emitting layer 170 is emitted through the common electrode 180, the pixel electrode 160 can be formed regardless of the transmittance of light, The injection efficiency can be maximized, and the light efficiency can be improved.

화소 전극(160)은 캐소드 전극 역할을 하므로, 저전위 전압(Vss)를 공급받으며, 유기 발광층(170)에 전자(electron)를 전달한다. 화소 전극(160)은 화소마다 분리 형성되기 때문에, 인접한 화소로 전류가 흐르는 전류 누설(current leakage) 현상이 일어나지 않으며, 이로 인해 구동 신뢰성을 향상시키고 보다 정확한 계조 표현이 가능하게 된다.Since the pixel electrode 160 serves as a cathode electrode, the pixel electrode 160 receives a low potential Vss and transmits electrons to the organic light emitting layer 170. Since the pixel electrode 160 is formed separately for each pixel, a current leakage phenomenon in which a current flows in adjacent pixels does not occur, thereby improving driving reliability and enabling more accurate gradation representation.

도 1에 도시된 실시예에 따르면, 평탄화층(120)이 형성되고 난 후, 반사 전극(131)과 보조 전극(132)이 동시에 형성되고 이후, 화소 전극(160)이 형성된다. 이 경우, 포토리소그래피(photolithography) 공정에서 반사 전극(131)과 보조 전극(132)을 형성할 때 필요한 마스크(mask)와 화소 전극(160)을 형성할 때 필요한 마스크가 서로 다르므로, 두 개의 마스크가 필요하다.1, after the planarization layer 120 is formed, the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 are simultaneously formed, and then the pixel electrode 160 is formed. In this case, since a mask necessary for forming the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 and a mask necessary for forming the pixel electrode 160 are different from each other in the photolithography process, .

더욱 자세하게, 우선 평탄화층(120) 상에 구동 트랜지스터(DTR)를 노출시키는 컨택홀을 형성한 후, 반사 전극(131)과 보조 전극(132)을 형성하는 물질 및 포토레지스트(photoresist)를 순차적으로 도포하여 반사 전극(131)을 구동 트랜지스터(DTR)에 연결시킨 후, 반사 전극(131) 및 보조 전극(132)의 패턴과 대응되는 마스크를 얼라인(align)시키고, 노광(exposure) 및 현상(development)을 거치면 반사 전극(131) 및 보조 전극(132)의 패턴 부위를 제외한 나머지 부분의 포토레지스트가 패터닝되어 제거된다. 이 후, 건식 식각(dry etch) 또는 습식 식각(wet etch) 등을 통해, 반사 전극(131) 및 보조 전극(132)을 패터닝하고, 남은 포토레지스트를 스트립(strip)하여 반사 전극(131)과 보조 전극(132)을 형성한다. 상기와 동일한 과정을 통해 화소 전극(160)도 형성될 수 있다.A contact hole exposing the driving transistor DTR is first formed on the planarization layer 120 and then a material for forming the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 and a photoresist are sequentially formed The reflective electrode 131 is connected to the driving transistor DTR and the mask corresponding to the pattern of the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 is aligned, development is performed, the photoresist of the remaining portions except the pattern portions of the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 is patterned and removed. Thereafter, the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 are patterned through dry etch or wet etch, and the remaining photoresist is stripped to form the reflective electrode 131 An auxiliary electrode 132 is formed. The pixel electrode 160 may also be formed through the same process as described above.

다음으로, 화소 전극(131) 및 보조 전극(132) 상에 뱅크층(140)이 위치한다. 뱅크층(140)은 화소 전극(131) 및 보조 전극(132)과 가장자리에서 일부 중첩됨으로써, 화소 전극(131)과 보조 전극(132)을 노출시키는 개구부가 형성된다. 상기 개구부에 의해 노출된 화소 전극(131) 및 뱅크층(140) 상에는 유기 발광층(170)이 위치하고, 상기 개구부에 의해 노출된 보조 전극(132) 상에는 격벽층(150)이 위치한다.Next, the bank layer 140 is positioned on the pixel electrode 131 and the auxiliary electrode 132. [ The bank layer 140 is partially overlapped with the pixel electrode 131 and the auxiliary electrode 132 to form an opening for exposing the pixel electrode 131 and the auxiliary electrode 132. An organic light emitting layer 170 is disposed on the pixel electrode 131 and the bank layer 140 exposed by the opening and a barrier layer 150 is disposed on the auxiliary electrode 132 exposed by the opening.

뱅크층(140)은 화소의 경계부에 위치하나, 투명 유기전계발광표시장치의 경우, 도시된 바와 같이 발광 영역(EA)의 경계부에 위치할 수 있다. 즉, 화소 전극(160)과 가장자리에서 일부 중첩되는 것이 특징이다. 투명 영역(TA)의 경계부에는 뱅크층(140)이 배치되어도 되고, 배치되지 않아도 무방하다.The bank layer 140 is located at the boundary of the pixel, but in the case of a transparent organic light emitting display, it may be located at the boundary of the light emitting region EA as shown in FIG. That is, the pixel electrode 160 is partially overlapped with the edge. The bank layer 140 may or may not be disposed at the boundary of the transparent region TA.

뱅크층(140)은 무기물 또는 유기물을 포함할 수 있으며, 예를 들어, 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene; BCB)계 수지, 아크릴(acryl)계 수지, 폴리이미드(polyimide) 수지 및 실리카(Silica) 계열의 무기물 또는 유기물 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The bank layer 140 may include an inorganic material or an organic material. For example, the bank layer 140 may be formed of a material selected from the group consisting of benzocyclobutene (BCB) resin, acryl resin, polyimide resin, and silica Inorganic material, or organic material.

격벽층(150)은 뱅크층(140)과 이격되어 공통 전극(180)이 보조 전극(132)과 연결되는 공간을 제공한다. 또한, 격벽층(150)은 역테이퍼(reversed taper) 형상으로 형성되어, 스텝 커버리지(step coverage)가 낮은 물질을 포함하는 유기 발광층(170)이 격벽층(150)과 뱅크층(140) 사이에 증착되는 것을 방지함으로써, 공통 전극(180)이 보조 전극(132)과 직접 연결될 수 있도록 한다.The barrier rib layer 150 is spaced apart from the bank layer 140 to provide a space in which the common electrode 180 is connected to the auxiliary electrode 132. The barrier rib layer 150 is formed in a reversed taper shape so that an organic light emitting layer 170 including a material having a low step coverage is formed between the barrier rib layer 150 and the bank layer 140 So that the common electrode 180 can be directly connected to the auxiliary electrode 132.

격벽층(150)은 뱅크층(140)과 동일한 물질로 형성되어 공정 효율성이 향상될 수 있다. 또는, 격벽층(150)은 네거티브 포토레지스트(negative photoresist) 물질로 형성되어 역테이퍼 형상을 보다 쉽게 구현할 수도 있다.The barrier layer 150 may be formed of the same material as the bank layer 140, thereby improving process efficiency. Alternatively, the barrier layer 150 may be formed of a negative photoresist material to more easily implement an inverse tapered shape.

격벽층(150)은 유기 발광층(170)을 화소마다 분리시켜주는 역할을 한다. 화소 전극(160) 및 유기 발광층(170)은 격벽층(150)과 뱅크층(140) 간의 이격된 틈에서 분리된다. 유기 발광층(170)은 격벽층(150) 상부에 적층될 수 있으며, 스텝 커버리지(step coverage)가 낮아 패터닝 공정없이 증착과 동시에 격벽층(150)에 의해 분리되기 때문에, 유기전계발광표시장치의 공정 효율성이 향상될 수 있다.The barrier rib layer 150 separates the organic light emitting layer 170 for each pixel. The pixel electrode 160 and the organic light emitting layer 170 are separated from each other in a spaced gap between the barrier layer 150 and the bank layer 140. Since the organic light emitting layer 170 can be stacked on the barrier layer 150 and is separated by the barrier layer 150 simultaneously with the deposition without the patterning process due to the low step coverage, The efficiency can be improved.

또한, 격벽층(150)은 뱅크층(140) 사이의 보조 전극(132) 상에 형성되며, 격벽층(150)은 공통 전극(180)이 보조 전극(132)과 연결되도록 보조 전극(132) 상에 유기 발광층(170)이 적층되는 것을 방지하기 때문에, 뱅크층(140) 및 보조 전극(132) 없는 곳에는 격벽층(150)이 존재할 필요가 없다. 그러므로, 상기 격벽층(150)은 뱅크층(140)이 존재하는 발광 영역(EA) 주변부에 배치될 수 있으며, 뱅크층(140)이 존재하는 투명 영역(TA)의 주변부에도 배치될 수 있으나, 투명 영역(TA)의 경계부에 뱅크층(140)이 존재하지 않는다면, 격벽층(150)도 배치되지 않을 수 있다.The barrier rib layer 150 is formed on the auxiliary electrode 132 between the bank layers 140 and the auxiliary barrier rib layer 150 is formed on the auxiliary electrode 132 such that the common electrode 180 is connected to the auxiliary electrode 132. [ The barrier layer 150 does not need to be present in the absence of the bank layer 140 and the auxiliary electrode 132 because the organic luminescent layer 170 is prevented from being deposited on the barrier layer 140. [ The barrier layer 150 may be disposed on the periphery of the light emitting region EA where the bank layer 140 is present and may be disposed on the periphery of the transparent region TA where the bank layer 140 is present, If the bank layer 140 does not exist at the boundary of the transparent region TA, the barrier rib layer 150 may not be disposed.

다음으로, 유기 발광층(170)이 화소 전극(160) 및 뱅크층(140) 상에 형성된다. 유기 발광층(170)은 스텝 커버리지(step coverage)가 낮아 패터닝 공정없이 증착과 동시에 격벽층(150)에 의해 화소마다 분리 형성된다.Next, an organic light emitting layer 170 is formed on the pixel electrode 160 and the bank layer 140. Since the organic light emitting layer 170 has low step coverage, the organic light emitting layer 170 is separately formed for each pixel by the barrier layer 150 simultaneously with the deposition without the patterning process.

유기 발광층(170)은 화소 전극(160)과 접하는 발광 영역(EA)뿐만 아니라 뱅크층(140) 및 격벽층(150)의 상부를 포함하여 투명 영역(TA)에도 배치될 수 있다. 유기 발광층(170)은 대체적으로 빛을 잘 투과하는 투명 물질이기 때문에, 투명 영역(TA)의 투과도 저하에 크게 영향을 미치지 않는다.The organic light emitting layer 170 may be disposed not only in the light emitting region EA in contact with the pixel electrode 160 but also in the transparent region TA including the upper portion of the bank layer 140 and the barrier rib layer 150. Since the organic light emitting layer 170 is a transparent material that transmits light generally, the organic light emitting layer 170 does not greatly affect the lowering of the transmittance of the transparent region TA.

유기 발광층(170)은 유기물질의 박막으로 형성되어, 화소 전극(160)과 공통 전극(180)에서 주입되는 정공과 전자를 이용하여 광을 생성한다. 도 1에 구체적으로 도시되지는 않았지만, 유기 발광층(170)은, 정공주입층(Hole Injection Layer: HIL), 정공수송층(Hole Transport Layer: HTL), 발광층(EMission Layer: EML), 전자수송층(Electron Transport Layer: ETL)을 포함할 수 있다. 정공주입층(HIL)은 화소 전극(160)과 발광층(EML) 사이의 에너지장벽을 낮추어, 공통 전극(180)으로부터 정공이 주입되는 효율을 향상시킨다. 정공수송층(HTL)은 화소 전극(160)에서 주입되어 발광층(EML)으로 이송된 전자를 발광층(EML) 내에 속박하여, 발광층(EML)에서 전자와 정공이 재결합되는 효율을 증가시킨다. 이와 마찬가지로, 전자수송층(ETL)은, 화소 전극(160)과 발광층(EML) 사이의 에너지장벽을 낮추며, 화소 전극(160)으로부터 전자가 주입되는 효율을 향상시키고, 발광층(EML)으로 이송된 정공을 발광층(EML) 내에 속박하여, 발광층(EML)에서 전자와 정공이 재결합되는 효율을 증가시킨다. 발광층(EML)은 저분자 또는 고분자 계열의 유기물질의 박막으로 형성되어, 화소 전극(160)과 공통 전극(180) 각각에서 주입되고 발광층(EML)으로 이송되는 전자와 정공이 재결합하여, 여기자(exiton)가 생성되고, 여기자가 여기상태(excited state)에서 기저상태(ground state)로 떨어지면서 방출하는 에너지를 광으로 생성한다. 이때, 발광층을 형성하는 유기물질에 따라, 또는 여기상태와 기저상태의 에너지 차이(밴드갭 에너지; band-gap energy)광의 색상이 달라진다.The organic light emitting layer 170 is formed of a thin film of an organic material and generates light using holes and electrons injected from the pixel electrode 160 and the common electrode 180. Although not specifically shown in FIG. 1, the organic light emitting layer 170 includes a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an emission layer (EML), an electron transport layer Transport Layer (ETL). The hole injection layer (HIL) lowers an energy barrier between the pixel electrode 160 and the light emitting layer (EML), thereby improving the efficiency of injecting holes from the common electrode 180. The hole transport layer HTL binds electrons injected from the pixel electrode 160 and transferred to the emission layer EML into the emission layer EML to increase the efficiency of recombination of electrons and holes in the emission layer EML. Similarly, the electron transport layer (ETL) lowers the energy barrier between the pixel electrode 160 and the emission layer (EML), improves the efficiency of injecting electrons from the pixel electrode 160, In the light emitting layer (EML), thereby increasing the efficiency of recombination of electrons and holes in the light emitting layer (EML). The light emitting layer (EML) is formed of a thin film of a low molecular weight or high molecular organic material and recombined with holes injected from each of the pixel electrode 160 and the common electrode 180 and transferred to the light emitting layer (EML) ) Is generated, and excitons generate energy by emitting energy while falling from an excited state to a ground state. At this time, the color of the energy difference (band gap energy) between the excited state and the base state changes depending on the organic material forming the light emitting layer.

다음으로, 유기 발광층(170) 상에 공통 전극(180)이 위치한다. 공통 전극(180)은 유기 발광층(170)으로 정공(hole)을 공급하기 위해 일함수(work function)가 큰 물질로 형성될 수 있다. 공통 전극(180)은 예를 들어, 투명 전도성 산화물(Transparent Conductive Oxide, TCO)로 형성될 수 있으며, 바람직하게, 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zinc Oxide, IZO) 및 인듐 주석 아연 산화물(Indium Tin Zinc Oxide, ITZO)로 형성될 수 있다. 또는 인듐(Indium), 은(Ag), 아연(Zinc), 주석(Tin), 은 아연 산화물(AZO), 갈륨 아연 산화물(GZO), 아연 산화물(ZnO), 인듐 주석 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO) 및 인듐 주석 아연 산화물(ITZO) 중 어느 하나를 포함하는 단일층 혹은 다중층으로 형성될 수 있다.Next, the common electrode 180 is positioned on the organic light emitting layer 170. The common electrode 180 may be formed of a material having a large work function to supply holes to the organic light emitting layer 170. The common electrode 180 may be formed of, for example, a transparent conductive oxide (TCO), and is preferably formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO) And indium tin zinc oxide (ITZO). Or indium (Ag), zinc (Zinc), tin, silver, zinc oxide (AZO), gallium zinc oxide (GZO), zinc oxide (ZnO), indium tin oxide Oxide (IZO), and indium tin zinc oxide (ITZO).

공통 전극(180)도 화소 전극(160)과 마찬가지로, 발광 영역(EA)뿐만 아니라 뱅크층(140) 및 격벽층(150)의 상부를 포함하여 투명 영역(TA)에도 배치될 수 있다. 공통 전극(180)의 배치 범위는 유기 발광층(170)과 거의 유사할 수 있다. 공통 전극(180)도 화소 전극(160)과 마찬가지로 상기 설명한 바와 같이 투명 물질이기 때문에, 투명 영역(TA)의 투과도 저하에 크게 영향을 미치지 않는다.The common electrode 180 may be disposed not only in the light emitting region EA but also in the transparent region TA including the upper portion of the bank layer 140 and the barrier rib layer 150 as the pixel electrode 160. The arrangement range of the common electrode 180 may be substantially similar to that of the organic light emitting layer 170. Since the common electrode 180 is a transparent material as described above as well as the pixel electrode 160, the common electrode 180 does not greatly affect the lowering of the transmittance of the transparent region TA.

공통 전극(180)은 전기 전도도를 향상시키고, 저항을 낮추기 위해 금속(metal)을 포함할 수 있으며, 금속은 발광 영역(EA)에서 휘도를 저하시키지 않고, 투명 영역(TA)에서는 투과도를 저하시키지 않는 범위 내에서 적정량이 포함될 수 있다. 또한, 공통 전극(180)은 유기 발광층(170)과 접하는 전도성 산화물층(conductive oxide layer)을 포함한다. 전도성 산화물은 금속에 비해 일함수가 높기 때문에, 유기 발광층(170)에 정공을 공급하기 수월하다.The common electrode 180 may include a metal to improve the electrical conductivity and reduce the resistance and the metal may not lower the luminance in the light emitting region EA and decrease the transmittance in the transparent region TA A suitable amount may be included. In addition, the common electrode 180 includes a conductive oxide layer in contact with the organic light emitting layer 170. Since the conductive oxide has a higher work function than the metal, it is easy to supply holes to the organic light emitting layer 170.

공통 전극(180)은 보조 전극(132)과 연결된다. 공통 전극(180)은 투명한 전도성 산화물을 포함하며, 투명 전도성 산화물은 예를 들어, 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zinc Oxide, IZO), 은 아연 산화물(AZO), 갈륨 아연 산화물(GZO), 아연 산화물(ZnO), 인듐 주석 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO) 및 인듐 주석 아연 산화물(ITZO) 중 적어도 하나를 포함하는 단일층 혹은 다중층으로 형성될 수 있다. 및 인듐 주석 아연 산화물(Indium Tin Zinc Oxide, ITZO) 등이 있다. 이들은 스텝 커버리지(step coverage) 특성이 우수한 물질로써, 역테이퍼 형태의 격벽층(150) 및 뱅크층(140)과의 이격된 공간에도 박막의 형태로 증착될 수 있다. 따라서, 도시된 바와 같이 투명 전도성 산화물은 공통 전극(180)을 비롯하여 뱅크층(140) 및 격벽층(150)의 외부 면에 증착되어 공통 전극(180)을 형성할 수 있다. 이에 따라, 공통 전극(180)은 보조 전극(132)에 연결되어 저항이 저감됨으로써, 화면 전체적으로 휘도 균일도(brightness uniformity)를 향상시킬 수 있다.The common electrode 180 is connected to the auxiliary electrode 132. The common electrode 180 includes a transparent conductive oxide, and the transparent conductive oxide includes, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), silver oxide (AZO) Layer or multilayer including at least one of gallium zinc oxide (GZO), zinc oxide (ZnO), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO) and indium tin zinc oxide (ITZO) . And indium tin zinc oxide (ITZO). These materials are excellent in step coverage, and can be deposited in the form of a thin film even in a space apart from the barrier layer 150 and the bank layer 140 in the reverse tapered form. The transparent conductive oxide may be deposited on the outer surfaces of the bank layer 140 and the barrier layer 150 as well as the common electrode 180 to form the common electrode 180. Accordingly, the common electrode 180 is connected to the auxiliary electrode 132 to reduce the resistance, thereby improving brightness uniformity over the entire screen.

그 다음으로, 도 2에 도시된 실시예에서, 유기전계발광표시장치는 반사 전극(131)이 먼저 형성되고 난 후, 보조 전극(132)과 화소 전극(160)이 동시에 형성되는 것이 특징이다. 구동 트랜지스터(DTR)은 반사 전극(131)에 연결되는 점과 화소 전극(160)이 반사 전극(131)과 중첩되어 반사 전극(131) 상에 형성되는 점은 도 1에 도시된 실시예와 동일한 점이다.Next, in the embodiment shown in FIG. 2, the organic light emitting display is characterized in that the auxiliary electrode 132 and the pixel electrode 160 are simultaneously formed after the reflective electrode 131 is formed first. The driving transistor DTR is connected to the reflective electrode 131 and the point that the pixel electrode 160 is overlapped with the reflective electrode 131 and formed on the reflective electrode 131 is the same as the embodiment shown in FIG. It is a point.

본 실시예에서도, 도 1에 도시된 실시예와 같이 두 개의 마스크가 필요한데, 반사 전극(131)을 형성하기 위한 마스크와 보조 전극(132) 및 화소 전극(160)을 동시에 형성하는 마스크가 필요하다.1, a mask for forming the reflective electrode 131 and a mask for simultaneously forming the auxiliary electrode 132 and the pixel electrode 160 are required (see, for example, .

더욱 자세하게, 우선 평탄화층(120) 상에 구동 트랜지스터(DTR)를 노출시키는 컨택홀을 형성한 후, 반사 전극(131)을 형성하는 물질 및 포토레지스트(photoresist)를 순차적으로 도포하여 반사 전극(131)을 구동 트랜지스터(DTR)에 연결시킨 후, 반사 전극(131)의 패턴과 대응되는 마스크를 얼라인(align)시키고, 노광(exposure) 및 현상(development)을 거치면 반사 전극(131)의 패턴 부위를 제외한 나머지 부분의 포토레지스트가 패터닝되어 제거된다. 이 후, 건식 식각(dry etch) 또는 습식 식각(wet etch) 등을 통해, 반사 전극(131)을 패터닝하고, 남은 포토레지스트를 스트립(strip)하여 반사 전극(131)을 형성한다. 이후, 화소 전극(160)과 보조 전극(132)도 상기와 동일한 과정을 통해 형성될 수 있다.The contact hole for exposing the driving transistor DTR is first formed on the planarization layer 120 and then the material for forming the reflective electrode 131 and the photoresist are sequentially coated to form the reflective electrode 131 The mask corresponding to the pattern of the reflective electrode 131 is aligned and exposure and development are performed to connect the pattern region of the reflective electrode 131 to the driving transistor DTR, The remaining portions of the photoresist are patterned and removed. Thereafter, the reflective electrode 131 is patterned through dry etch or wet etch, and the remaining photoresist is stripped to form the reflective electrode 131. Then, the pixel electrode 160 and the auxiliary electrode 132 may be formed through the same process as described above.

그 다음으로, 도 3에 도시된 실시예에서, 유기전계발광표시장치는 반사 전극(131)이 형성되고 난 후, 보조 전극(132) 과 화소 전극(160)이 동시에 형성되며, 화소 전극(160)은 반사 전극(131)과 중첩되어 반사 전극(131) 상에 형성된다. 상기 내용은 도 2에 도시된 실시예와 동일한 특징이다. 그러나, 구동 트랜지스터(DTR)와 연결되는 것은 화소 전극(160)인 점이 상이하다. 즉, 평탄화층(120) 상에 반사 전극(131)이 형성된 후, 평탄화층(120)에 컨택홀(contact hole)을 형성하고, 상기 컨택홀을 통해 구동 트랜지스터(DTR)와 연결되도록 화소 전극(160)을 형성하면서 보조 전극(132)을 동시에 형성할 수 있다.3, after the reflective electrode 131 is formed, the auxiliary electrode 132 and the pixel electrode 160 are formed at the same time, and the pixel electrode 160 Is formed on the reflective electrode 131 so as to overlap with the reflective electrode 131. The above contents are the same as those of the embodiment shown in Fig. However, the pixel electrode 160 is connected to the driving transistor DTR. That is, after the reflective electrode 131 is formed on the planarization layer 120, a contact hole is formed in the planarization layer 120 and the pixel electrode (not shown) is connected to the driving transistor DTR through the contact hole. The auxiliary electrode 132 may be formed at the same time.

본 실시예에서도, 도 1 및 도 2에 도시된 실시예와 같이 두 개의 마스크가 필요하며, 반사 전극(131)을 형성하기 위한 마스크와 보조 전극(132) 및 화소 전극(160)을 동시에 형성하는 마스크가 필요하다.2 and 3, a mask for forming the reflective electrode 131, an auxiliary electrode 132, and a pixel electrode 160 are formed at the same time as in the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 I need a mask.

더욱 자세하게, 우선 평탄화층(120) 상에 반사 전극(131)을 형성하는 물질 및 포토레지스트(photoresist)를 순차적으로 도포한 후, 반사 전극(131)의 패턴과 대응되는 마스크를 얼라인(align)시키고, 노광(exposure) 및 현상(development)을 거치면 반사 전극(131)의 패턴 부위를 제외한 나머지 부분의 포토레지스트가 패터닝되어 제거된다. 이 후, 건식 식각(dry etch) 또는 습식 식각(wet etch) 등을 통해, 반사 전극(131)을 패터닝하고, 남은 포토레지스트를 스트립(strip)하여 반사 전극(131)을 형성한다. 이후, 구동 트랜지스터(DTR)를 노출시키는 컨택홀을 형성한 후, 상기 컨택홀을 통해 구동 트랜지스터(DTR)와 연결되도록 화소 전극(160)을 형성하고 이와 동시에 보조 전극(132)을 형성할 수 있다.A material for forming the reflective electrode 131 and a photoresist are sequentially coated on the planarization layer 120 and the mask corresponding to the pattern of the reflective electrode 131 is aligned, After exposure and development are performed, the photoresist of the remaining portions except the pattern portion of the reflective electrode 131 is patterned and removed. Thereafter, the reflective electrode 131 is patterned through dry etch or wet etch, and the remaining photoresist is stripped to form the reflective electrode 131. After forming the contact hole to expose the driving transistor DTR, the pixel electrode 160 may be formed to be connected to the driving transistor DTR through the contact hole, and the auxiliary electrode 132 may be formed at the same time .

도 3에 도시된 실시예에서, 반사 전극(131)이 생략된 추가 실시예가 도출될 수 있다. 화소 전극(160)은 전자를 공급하는 캐소드 전극의 역할을 하고, 빛이 투과될 필요가 없기 때문에, 화소 전극(160)이 반사도가 높은 물질로 형성되고, 반사 전극(131)은 생략될 수 있다.In the embodiment shown in Fig. 3, a further embodiment in which the reflective electrode 131 is omitted can be derived. Since the pixel electrode 160 serves as a cathode electrode for supplying electrons and does not need to transmit light, the pixel electrode 160 is formed of a material having high reflectivity, and the reflective electrode 131 can be omitted .

그 다음으로, 도 4에 도시된 실시예에서, 유기전계발광표시장치는 반사 전극(131)과 보조 전극(132)이 동시에 형성되고, 화소 전극(160)은 반사 전극(131)과 중첩되어 반사 전극(131) 상에 형성된다. 상기 내용은 도 1에 도시된 실시예와 동일하나, 구동 트랜지스터(DTR)와 연결되는 것은 화소 전극(160)이라는 점이 도 1에 도시된 실시예와 상이한 점이다. 즉, 평탄화층(120) 상에 반사 전극(131)과 보조 전극(132) 형성된 후, 평탄화층(120)에 컨택홀(contact hole)을 형성하고, 화소 전극(160)을 형성할 수 있다.4, the organic light emitting display includes a reflective electrode 131 and an auxiliary electrode 132 formed at the same time, and the pixel electrode 160 overlaps the reflective electrode 131, And is formed on the electrode 131. The above description is the same as the embodiment shown in FIG. 1, except that the pixel electrode 160 is connected to the driving transistor DTR, which is different from the embodiment shown in FIG. That is, after the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 are formed on the planarization layer 120, a contact hole may be formed in the planarization layer 120 and the pixel electrode 160 may be formed.

본 실시예에서도, 도 2에 도시된 실시예와 같이 반사 전극(131)과 보조 전극(132)을 형성하기 위한 마스크와 화소 전극(160)을 형성하는 마스크를 포함하여 두 개의 마스크가 필요하다.Also in this embodiment, two masks are required including the mask for forming the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 and the mask for forming the pixel electrode 160 as in the embodiment shown in FIG.

더욱 자세하게, 우선 평탄화층(120) 상에 반사 전극(131) 및 보조 전극(132)을 형성하는 물질 및 포토레지스트(photoresist)를 순차적으로 도포한 후, 반사 전극(131)의 패턴과 대응되는 마스크를 얼라인(align)시키고, 노광(exposure) 및 현상(development)을 거치면 반사 전극(131) 및 보조 전극(132)의 패턴 부위를 제외한 나머지 부분의 포토레지스트가 패터닝되어 제거된다. 이 후, 건식 식각(dry etch) 또는 습식 식각(wet etch) 등을 통해, 반사 전극(131)을 패터닝하고, 남은 포토레지스트를 스트립(strip)하여 반사 전극(131)을 형성한다. 이후, 구동 트랜지스터(DTR)를 노출시키는 컨택홀을 형성한 후, 상기 컨택홀을 통해 구동 트랜지스터(DTR)와 연결되도록 화소 전극(160)을 형성할 수 있다.A material for forming the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 and a photoresist are sequentially coated on the planarization layer 120 and then a mask corresponding to the pattern of the reflective electrode 131 The photoresist is patterned and removed except for the pattern portions of the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 after exposure and development are performed. Thereafter, the reflective electrode 131 is patterned through dry etch or wet etch, and the remaining photoresist is stripped to form the reflective electrode 131. After forming the contact hole for exposing the driving transistor DTR, the pixel electrode 160 may be formed to be connected to the driving transistor DTR through the contact hole.

그 다음으로, 도 5에 도시된 실시예에서, 유기전계발광표시장치는 보조 전극(132)이 반사 전극(131) 및 화소 전극(160)과 동시에 형성되는 것이 특징이다. 화소 전극(160)은 반사 전극(131) 상에 위치하며, 보조 전극(132)은 반사 전극(131)과 동일한 물질의 하부층(132a)과 화소 전극(160)과 동일한 물질의 상부층(132b)을 포함한다. 구동 트랜지스터(DTR)와 연결되는 것은 반사 전극(131)이다. 도 5에 도시되지는 않았지만, 화소 전극(160)이 구동 트랜지스터(DTR)에 연결되는 실시예도 추가될 수 있다.5, the organic electroluminescent display device is characterized in that the auxiliary electrode 132 is formed simultaneously with the reflective electrode 131 and the pixel electrode 160. In the embodiment shown in FIG. The pixel electrode 160 is located on the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 is formed on the lower layer 132a of the same material as the reflective electrode 131 and the upper layer 132b of the same material as the pixel electrode 160 . The reflective electrode 131 is connected to the driving transistor DTR. Although not shown in FIG. 5, an embodiment in which the pixel electrode 160 is connected to the driving transistor DTR may be added.

또한, 본 실시예는 보조 전극(132), 반사 전극(131) 및 화소 전극(160)을 형성하는데 한 개의 마스크만 있어도 형성할 수 있는 것이 특징이다.The present embodiment is characterized in that even when only one mask is formed, auxiliary electrodes 132, reflective electrodes 131 and pixel electrodes 160 can be formed.

더욱 자세하게, 도 5에 도시된 실시예의 제조방법에 대해서 설명하자면, 우선 평탄화층(120)에 구동 트랜지스터(DTR)와 화소 전극(160)이 연결될 수 있도록 컨택홀(contact hole)을 형성한다. 이후, 평탄화층(120) 상에 반사 전극(131)과 보조 전극(132)의 하부층(132b)를 형성하는 물질, 화소 전극(160)과 보조 전극(132)의 상부층(132a)를 형성하는 물질 및 포토레지스트(photoresist)를 순차적으로 도포한 후, 반사 전극(131), 보조 전극(132) 및 화소 전극(160)의 패턴과 대응되는 마스크를 얼라인(align)시키고, 노광(exposure) 및 현상(development)을 거치면 반사 전극(131), 보조 전극(132) 및 화소 전극(160)의 패턴 부위를 제외한 나머지 부분의 포토레지스트가 패터닝되어 제거된다. 이 후, 건식 식각(dry etch) 또는 습식 식각(wet etch) 등을 통해, 먼저 화소 전극(160)과 보조 전극(132)의 상부층(132a)을 패터닝하고, 그 후 다른 식각액 또는 에천트(etchant)를 이용하여 반사 전극(131) 및 보조 전극(132)의 하부층(132b)을 패터닝한 후, 남은 포토레지스트를 스트립(strip)하여 반사 전극(131), 보조 전극(132) 및 화소 전극(160)을 형성한다.5, a contact hole is formed in the planarization layer 120 so that the driving transistor DTR and the pixel electrode 160 can be connected to each other. Referring to FIG. A material for forming the lower layer 132b of the reflective electrode 131 and the auxiliary electrode 132 and a material for forming the upper layer 132a of the pixel electrode 160 and the auxiliary electrode 132 are formed on the planarization layer 120, And auxiliary electrodes 132 and the pixel electrodes 160 are sequentially aligned and the exposure and development are performed by aligning the masks corresponding to the patterns of the reflective electrode 131, the photoresist of the rest of the pattern except the pattern portions of the reflective electrode 131, the auxiliary electrode 132 and the pixel electrode 160 is patterned and removed. Thereafter, the upper layer 132a of the pixel electrode 160 and the auxiliary electrode 132 is first patterned by dry etch, wet etch, or the like, and then another etchant or etchant The reflective electrode 131 and the lower layer 132b of the auxiliary electrode 132 are patterned and the remaining photoresist is stripped to form the reflective electrode 131, the auxiliary electrode 132, and the pixel electrode 160 ).

여기서 반사 전극(131)을 형성하는 물질과 화소 전극(160)을 형성하는 물질은 서로 동일하거나 상이하며, 서로 동일하거나 상이한 식각액 또는 에천트(etchant)에 의해 식각될 수 있다.Here, the material for forming the reflective electrode 131 and the material for forming the pixel electrode 160 may be the same or different from each other, and may be etched by the same or different etchant or etchant.

도 6a ~ 도 6d는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 유기전계발광표시장치를 도시한 평면도이다.6A to 6D are plan views illustrating an organic light emitting display according to various embodiments of the present invention.

도 6a 및 도 6d는 도 1 내지 도 5에 도시된 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기전계발광표시장치 도시한 평면도이다. 도 6a 및 도 6d는 도 1 내지 도 5에 도시된 모든 실시예에 모두 해당될 수 있다.FIGS. 6A and 6D are plan views illustrating an organic light emitting display according to another embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 to 5. FIG. FIGS. 6A and 6D can be applied to all the embodiments shown in FIGS. 1 to 5. FIG.

도 6a에서 격벽층(150)은 모든 발광 영역(EA) 및 투명 영역(TA)의 경계부에 위치한다. 또한, 도 6a 및 도 6d의 실시예는 화소 전극(160)이 뱅크층(140) 하부에 위치하며, 화소 전극(160)이 이미 화소마다 분리되어 있으므로, 격벽층(150)에 의해 화소 전극(160)이 분리될 필요가 없다. 따라서, 특히, 도 6b 내지 5d에서는 격벽층(150)이 모든 화소마다 형성되지 않은 형태를 도시하고 있다. 도 5b에서는 격벽층(150)이 발광 영역(EA)의 주변부에만 위치하고 있으며, 투명 영역(TA)의 주변부의 경우, 격벽층(150)뿐만 아니라 뱅크층(140)이 형성되지 않을 수도 있다.In FIG. 6A, the barrier layer 150 is located at the boundary between all the light emitting regions EA and the transparent regions TA. 6A and 6D, since the pixel electrode 160 is located below the bank layer 140 and the pixel electrode 160 is already divided for each pixel, the pixel electrode 160 is formed by the partition wall layer 150 160 need not be separated. 6B to 5D, the partitioning layer 150 is not formed for every pixel. In FIG. 5B, the barrier rib layer 150 is located only in the periphery of the light emitting region EA. In the case of the peripheral portion of the transparent region TA, not only the barrier rib layer 150 but also the bank layer 140 may not be formed.

도 6c 및 도 6d에서 격벽층(150)은 화소의 가로열 또는 세로열에만 형성되어 있으며, 또는, 도면에 도시되진 않았지만, 각 가로열 및 세로열마다 교번적으로 형성될 수도 있다. 혹은, 격벽층(150)의 형성 위치는 불규칙적일 수도 있다.6C and 6D, the partition wall layer 150 is formed only in the row or column of the pixels, or may be alternately formed in each row and column, though not shown in the figure. Alternatively, the formation position of the barrier rib layer 150 may be irregular.

격벽층(150)의 형성 위치는 공통 전극(180)이 보조 전극(132)과 연결되는 위치와 동일하므로, 공통 전극(180)의 저항 감소 효과를 고려하여 격벽층(150)의 형성 위치가 결정될 수 있다. 즉, 공통 전극(180)과 보조 전극(132)이 연결되는 지점의 면적이 커질수록 저항 저감 효과도 커지므로, 저항 저감 효과가 충분하도록 최소의 격벽층(150)만을 형성하는 설계가 필요하다.Since the forming position of the barrier rib layer 150 is the same as the position where the common electrode 180 is connected to the auxiliary electrode 132, the formation position of the barrier rib layer 150 is determined in consideration of the resistance reduction effect of the common electrode 180 . That is, as the area of the point where the common electrode 180 and the auxiliary electrode 132 are connected becomes larger, the effect of reducing the resistance becomes greater. Therefore, it is necessary to design a minimum partition layer 150 only to have a sufficient resistance reduction effect.

도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기전계발광표시장치의 제조방법을 도시한 단면도이다.7A to 7D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.

우선, 도 7a에 도시된 바와 같이, 기판(110) 상에 스위칭 트랜지스터(STR) 및 구동 트랜지스터(DTR)를 형성하고, 이를 기반으로 유기 발광층(170)을 구동하는 구동 회로(미도시)를 형성한다. 스위칭 트랜지스터(STR) 및 구동 트랜지스터(DTR)를 포함하는 구동 회로는 도전 배선으로 구성되어 있으며, 도전 배선은 단일층 또는 다중층으로 이루어질 수 있다.First, as shown in FIG. 7A, a switching transistor STR and a driving transistor DTR are formed on a substrate 110, and a driving circuit (not shown) for driving the organic light emitting layer 170 is formed based on the switching transistor STR and the driving transistor DTR do. The driving circuit including the switching transistor STR and the driving transistor DTR is constituted by a conductive wiring, and the conductive wiring may be composed of a single layer or a multilayer.

도전 배선이 단일층일 경우에는 몰리브데늄(Mo), 알루미늄(Al), 은(Ag), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 적어도 하나를 포함하거나, 상기 물질 중 적어도 하나를 포함하는 합금(alloy)으로 이루어질 수 있다. 그리고 도전 배선이 다중층일 경우에는 상기 단일층이 둘 이상 적층되어 형성될 수 있으며, 예를 들어 Mo/Al-AlNd의 2중층, Mo/Al/Mo 또는 Mo/Al-AlNd/Mo의 3중층으로 이루어질 수 있다.In the case where the conductive wiring is a single layer, a single layer of molybdenum (Mo), aluminum (Al), silver (Ag), chrome (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Cu), or an alloy including at least one of the above materials. When the conductive wiring is a multilayer, the single layer may be formed by stacking two or more layers. For example, a multilayer of Mo / Al-AlNd, a Mo / Al / Mo or a Mo / Al- AlNd / Lt; / RTI >

스위칭 트랜지스터(STR) 및 구동 트랜지스터(DTR)를 포함하는 구동 회로 상에는 상기 구동 회로를 평탄화시키는 평탄화층(120)이 형성되고, 이후, 보조 전극(132)과 반사 전극(131)을 형성한다. 보조 전극(132)과 반사 전극(131)을 형성하기 전에, 평탄화층(120)에 구동 트랜지스터(DTR)를 노출시키는 컨택홀(CH)이 형성되고, 이후 발광 영역(EA)에 반사 전극(131)이 형성되면서 상기 컨택홀(CH)을 통해 반사 전극(131)과 구동 트랜지스터(DTR)가 연결된다.A planarization layer 120 for planarizing the driving circuit is formed on a driving circuit including the switching transistor STR and the driving transistor DTR and an auxiliary electrode 132 and a reflective electrode 131 are formed thereafter. A contact hole CH for exposing the driving transistor DTR is formed in the planarization layer 120 before the auxiliary electrode 132 and the reflective electrode 131 are formed. The reflective electrode 131 and the driving transistor DTR are connected to each other through the contact hole CH.

보조 전극(132)은 반사 전극(131)이 형성될 때, 동시에 형성될 수 있으며, 이후, 반사 전극(131) 상에 반사 전극(131)과 중첩되도록 화소 전극(160)이 형성될 수 있다.The auxiliary electrode 132 may be formed at the same time when the reflective electrode 131 is formed and then the pixel electrode 160 may be formed on the reflective electrode 131 so as to overlap the reflective electrode 131.

다음으로, 도 7b와 같이 보조 전극(132) 및 화소 전극(160) 상에 뱅크층(140) 및 격벽층(150)이 형성된다. 뱅크층(140)과 격벽층(150)은 동시에 형성될 수도 있지만, 격벽층(150)을 역테이퍼 형태로 형성하고 뱅크층(140)을 정테이퍼 형태로 형성하기 위해서는 서로 다른 물질로 형성하는 것이 바람직하다.Next, a bank layer 140 and a barrier rib layer 150 are formed on the auxiliary electrode 132 and the pixel electrode 160 as shown in FIG. 7B. The bank layer 140 and the barrier rib layer 150 may be formed at the same time. However, in order to form the barrier rib layer 150 in an inverted taper shape and the bank layer 140 in a constant taper shape, desirable.

뱅크층(140)은 유기물 또는 무기물을 포함할 수 있으며, 예를 들어, 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene; BCB)계 수지, 아크릴(acryl)계 수지, 폴리이미드(polyimide) 수지 및 실리카(Silica) 계열의 무기물 또는 유기물 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 격벽층(150)은 역테이퍼 형태로 형성하기에 적절한 네거티브 포토레지스트(negative photoresist)로 형성될 수 있다.The bank layer 140 may include an organic material or an inorganic material. For example, the bank layer 140 may be made of benzocyclobutene (BCB) resin, acryl resin, polyimide resin, Inorganic material, or organic material. The barrier layer 150 may be formed of a negative photoresist suitable for forming in reverse tapered form.

뱅크층(140)은 화소 영역을 둘러싸도록 형성될 수도 있으며, 발광 영역(EA)과 투명 영역(TA) 사이에도 형성될 수 있다. 또는, 뱅크층(140)은 발광 영역(EA)만 둘러싸도록 형성될 수도 있다. 화소 전극(160)이 뱅크층(140) 하부에 위치하기 때문에 발광 영역(EA)을 정의하기 위해 뱅크층(140)은 발광 영역(EA)은 반드시 둘러싸도록 형성되어야 한다. 발광 영역(EA)을 제외한 나머지 부분에는 뱅크층(140) 형성될 수도 있고, 형성되지 않을 수도 있다.The bank layer 140 may be formed to surround the pixel region or may be formed between the light emitting region EA and the transparent region TA. Alternatively, the bank layer 140 may be formed so as to surround only the light emitting region EA. Since the pixel electrode 160 is located under the bank layer 140, the bank layer 140 must be formed so as to surround the light emitting region EA in order to define the light emitting region EA. The bank layer 140 may or may not be formed in other portions except the light emitting region EA.

뱅크층(140)은 보조 전극(132) 및 화소 전극(160)의 대부분의 영역을 노출시키는 개구부(OP)가 형성되도록 패터닝된다. 개구부(OP)는 투명 영역(TA)의 대부분 영역에도 위치하여 투명 영역(TA)의 투과도를 더욱 향상시킬 수 있다. 상기 개구부(OP)에 의해 노출된 보조 전극(132) 상에는 격벽층(150)이 형성되고, 상기 개구부(OP)에 의해 노출된 화소 전극(160) 상에는 도 7c에 도시된 바와 같이, 유기 발광층(170)이 형성된다. 투명 영역(TA)에서는 개구부(OP)에 의해 노출된 평탄화층(120) 상에 유기 발광층(170)이 형성된다. 격벽층(150)과 뱅크층(140)이 이격된 곳에서 유기 발광층(170)은 화소마다 분리된다.The bank layer 140 is patterned to form an auxiliary electrode 132 and an opening OP that exposes most of the pixel electrode 160. The opening OP is also located in most areas of the transparent area TA to further improve the transparency of the transparent area TA. A partition wall layer 150 is formed on the auxiliary electrode 132 exposed by the opening OP and on the pixel electrode 160 exposed by the opening OP, 170 are formed. In the transparent region TA, the organic light emitting layer 170 is formed on the planarization layer 120 exposed by the opening OP. The organic light emitting layer 170 is separated for each pixel where the bank layer 150 and the bank layer 140 are separated from each other.

유기 발광층(170)은 진공 증착(vacuum deposition) 혹은 열 증착(thermal deposition) 방식 등으로 형성되며, 그 재료의 스텝 커버리지(step coverage) 특성이 크지 않아 도 7c에 도시된 바와 같이, 폭이 좁은 격벽층(150)과 뱅크층의 간격 안쪽이나, 격벽층(150)의 역테이퍼의 측면 등에는 증착되지 않은 성질이 있다. 그러나, 도 7d에 도시된 바와 같이 공통 전극(180)은 투명 전도성 산화물(transparent conductive oxide)을 스퍼터링(sputtering) 방식을 통해 성막함으로써 형성되기 때문에, 스텝 커버리지 특성이 우수하여 격벽층(150)과 뱅크층(140)의 이격된 간격 내부에도 공통 전극(180)이 형성되며, 따라서, 화소 전극(160)과 유기 발광층(170)은 연결될 수 없었던 보조 전극(132)이 공통 전극(180)과 연결될 수 있는 것이다.The organic light emitting layer 170 is formed by vacuum deposition or thermal deposition or the like and the step coverage characteristic of the organic light emitting layer 170 is not large. As shown in FIG. 7C, The inside of the gap between the layer 150 and the bank layer, the side of the reverse taper of the barrier layer 150, and the like. However, since the common electrode 180 is formed by depositing a transparent conductive oxide through a sputtering method as shown in FIG. 7D, the step coverage characteristic is excellent, and the barrier rib layer 150 and the bank The auxiliary electrode 132 can not be connected to the pixel electrode 160 and the organic light emitting layer 170 can be connected to the common electrode 180. Accordingly, It is.

이상, 본 발명에 따르면, 애노드 전극을 공통 전극에 배치하고, 캐소드 전극을 화소 전극에 배치하여, 상부발광방식의 유기전계발광표시장치에서 발광된 빛이 투명한 애노드 전극을 통해 출사됨으로써, 유기전계발광표시장치의 휘도를 향상시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, the anode electrode is disposed on the common electrode, the cathode electrode is disposed on the pixel electrode, and light emitted from the organic light emitting display device of the upper emission type is emitted through the transparent anode electrode, The brightness of the display device can be improved.

또한, 캐소드 전극을 화소마다 분리시켜, 캐소드 전극을 통해 인접한 화소로 전류가 누설되는 것을 방지할 수 있으며, 캐소드 전극을 화소 전극에 배치시킴으로써, 캐소드 전극의 재료 선택 및 두께 설정의 자유도가 높아져 전자 주입 효율을 최대화할 수 있고, 이에 따라 광효율이 향상될 수 있는 효과가 있다.Further, by separating the cathode electrode for each pixel, it is possible to prevent the current from leaking to the adjacent pixel through the cathode electrode. By arranging the cathode electrode on the pixel electrode, the degree of freedom of material selection and thickness setting of the cathode electrode is increased, The efficiency can be maximized, and the light efficiency can be improved.

더불어, 본 발명이 투명 유기전계발광표시장치에 적용될 경우, 투명한 애노드 전극이 발광 영역 및 투명 영역에 위치하고, 불투명한 캐소드 전극은 발광 영역에만 위치하며 투명 영역에 형성되지 않아, 투명 영역의 투과도가 향상된 투명 유기전계발광표시장치를 구현할 수 있는 효과가 있다.In addition, when the present invention is applied to a transparent organic electroluminescence display device, a transparent anode electrode is located in a light emitting region and a transparent region, an opaque cathode electrode is located only in a light emitting region and is not formed in a transparent region, There is an effect that a transparent organic electroluminescent display device can be realized.

본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 상술한 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are to be construed as being included within the scope of the present invention do.

110: 기판 120: 평탄화층
131: 반사 전극 132: 보조 전극
140: 뱅크층 150: 격벽층
160: 화소 전극 170: 유기 발광층
180: 공통 전극 STR: 스위칭 트랜지스터
DTR: 구동 트랜지스터 EA: 발광 영역
TA: 투명 영역110: substrate 120: planarization layer
131: reflective electrode 132: auxiliary electrode
140: bank layer 150: partition wall layer
160: pixel electrode 170: organic light emitting layer
180: common electrode STR: switching transistor
DTR: driving transistor EA: light emitting region
TA: transparent region

Claims (16)

투명 영역 및 발광 영역을 포함하는 복수의 화소를 포함하는 기판;
상기 발광 영역에 위치하는 화소 전극;
상기 화소 전극과 이격되는 보조 전극;
상기 화소 전극 및 상기 보조 전극과 일부 중첩하며, 상기 화소 전극 및 상기 보조 전극을 노출시키는 개구부를 포함하는 뱅크층;
상기 개구부에 의해 노출된 보조 전극 상에 위치하며, 상기 뱅크층과 이격된 격벽층;
상기 개구부에 의해 노출된 화소 전극 상에 위치하고, 상기 격벽층에 의해 분리되며, 상기 화소 전극으로부터 전자를 공급받는 유기 발광층; 및
상기 유기 발광층 상에 위치하고, 상기 보조 전극과 연결되며, 상기 유기 발광층에 정공을 공급하는 공통 전극;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
A substrate including a plurality of pixels including a transparent region and a light emitting region;
A pixel electrode located in the light emitting region;
An auxiliary electrode spaced apart from the pixel electrode;
A bank layer partially overlapping the pixel electrode and the auxiliary electrode and including an opening for exposing the pixel electrode and the auxiliary electrode;
A barrier layer located on the auxiliary electrode exposed by the opening and spaced apart from the bank layer;
An organic light emitting layer disposed on the pixel electrode exposed by the opening and separated from the barrier layer to receive electrons from the pixel electrode; And
And a common electrode disposed on the organic light emitting layer and connected to the auxiliary electrode to supply holes to the organic light emitting layer.
제 1 항에 있어서,
상기 격벽층은 역테이퍼 형상인 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the barrier rib layer has a reverse taper shape.
제 1 항에 있어서,
상기 화소 전극과 상기 보조 전극은 적어도 하나의 동일한 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the pixel electrode and the auxiliary electrode comprise at least one same material.
제 1 항에 있어서,
상기 기판 및 상기 화소 전극 사이에 위치하는 박막 트랜지스터를 더 포함하고,
상기 화소 전극은 상기 박막 트랜지스터에 연결되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a thin film transistor located between the substrate and the pixel electrode,
And the pixel electrode is connected to the thin film transistor.
제 1 항에 있어서,
상기 기판과 상기 화소 전극 사이에 위치하는 반사 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
And a reflective electrode disposed between the substrate and the pixel electrode.
제 5 항에 있어서,
상기 반사 전극과 상기 화소 전극 중 어느 하나와 상기 보조 전극은 적어도 하나의 동일한 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.6. The method of claim 5,
Wherein one of the reflective electrode and the pixel electrode and the auxiliary electrode comprise at least one same material. 제 5 항에 있어서,
상기 기판 및 상기 반사 전극 사이에 위치하는 박막 트랜지스터를 더 포함하고,
상기 반사 전극 및 상기 화소 전극 중 어느 하나는 상기 박막 트랜지스터에 연결되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
6. The method of claim 5,
Further comprising a thin film transistor positioned between the substrate and the reflective electrode,
Wherein one of the reflective electrode and the pixel electrode is connected to the thin film transistor.
제 1 항에 있어서,
상기 뱅크층은 상기 화소 또는 상기 발광 영역을 둘러싸는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
And the bank layer surrounds the pixel or the light emitting region.
제 1 항에 있어서,
상기 격벽층은 상기 화소 또는 상기 발광 영역을 둘러싸는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the barrier layer surrounds the pixel or the light emitting region.
제 9 항에 있어서,
상기 유기 발광층은 상기 격벽층에 의해 상기 화소마다 또는 상기 발광 영역마다 분리되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the organic light emitting layer is divided for each pixel or for each light emitting region by the barrier layer.
제 1 항에 있어서,
상기 공통 전극의 일함수는 상기 화소 전극의 일함수보다 더 높은 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein a work function of the common electrode is higher than a work function of the pixel electrode.
제 1 항에 있어서,
상기 화소 전극은 저전위 전압을 공급받고, 상기 공통 전극은 고전위 전압을 공급받는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the pixel electrode is supplied with a low potential voltage and the common electrode is supplied with a high potential voltage.
제 1 항에 있어서,
상기 보조 전극은 고전위 전압을 공급받는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
And the auxiliary electrode is supplied with a high potential voltage.
제 1 항에 있어서,
상기 공통 전극은 상기 뱅크층과 상기 격벽층 사이에서 상기 보조 전극과 연결되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
And the common electrode is connected to the auxiliary electrode between the bank layer and the barrier rib layer.
제 1 항에 있어서,
상기 화소 전극은 상기 유기 발광층과 접하는 금속층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the pixel electrode further comprises a metal layer in contact with the organic light emitting layer.
제 1 항에 있어서,
상기 공통 전극은 상기 유기 발광층과 접하는 전도성 산화물층을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the common electrode includes a conductive oxide layer in contact with the organic light emitting layer.
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