KR20150061103A - 반송 로봇, 기판 처리 장치, 그리고 파티클 배출 방법 - Google Patents

반송 로봇, 기판 처리 장치, 그리고 파티클 배출 방법 Download PDF

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KR20150061103A
KR20150061103A KR1020130143987A KR20130143987A KR20150061103A KR 20150061103 A KR20150061103 A KR 20150061103A KR 1020130143987 A KR1020130143987 A KR 1020130143987A KR 20130143987 A KR20130143987 A KR 20130143987A KR 20150061103 A KR20150061103 A KR 20150061103A
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이성진
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명은 반송 로봇을 제공한다. 반송 로봇은 기판이 놓이는 아암, 상기 아암을 지지하는 베이스, 그리고 상기 베이스를 이동시키는 구동 유닛을 포함하되, 상기 구동 유닛은, 일측면에 상기 베이스의 일단이 삽입되도록 상하방향으로 제공되는 슬릿 형상의 홀이 형성되는 수직 프레임, 상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 베이스의 일단이 결합된 브라켓, 상기 브라켓을 상하 방향으로 이동시키는 구동부재, 상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 수직 프레임의 내부의 파티클을 외부로 배출시키는 팬, 상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 파티클의 양을 측정하는 센서, 그리고 상기 센서로부터 측정값을 입력받고, 상기 측정값에 따라 상기 팬의 회전 속도를 제어하는 제어기를 포함할 수 있다.

Description

반송 로봇, 기판 처리 장치, 그리고 파티클 배출 방법 {TRANSPORTIMG ROBOT, SUBSTRATE TREATING APPARATUS, AND DISCHARGING METHOD OF PARTICLE}
본 발명은 반송 로봇, 반송 로봇을 포함하는 기판 처리 장치, 그리고 반송 로봇을 이용한 파티클 배출 방법에 관한 것이다.
반도체소자 및 평판 디스플레이를 제조하기 위해서, 포토리소그라피 및 세정 등의 다양한 공정들이 진행된다. 이러한 공정들은 서로 독립된 공간을 가지는 챔버들 내에서 진행되며, 공정의 순서에 맞게 기판을 각각의 챔버로 반송하는 반송로봇이 제공된다.
일반적으로 기판의 공정 처리는 대기에 분진과 같은 파티클이 제거된 클린 상태를 요구한다. 그러나 각각의 공정이 진행되는 챔버의 내부가 클린 상태일지라도, 기판을 반송하는 중에 발생되는 파티클로 인해 기판의 공정 불량이 발생된다. 파티클은 주로 기판을 반송하는 장치에서 발생되며, 보다 상세하게는 장치에 동력을 전달하는 구동부재에서 부품과 부품 간의 마찰로 인해 다량 발생된다.
도 1은 일반적인 반송로봇의 일 예를 보여준다. 도 1에 의하면, 지지프레임은 수직프레임 내에 배치된 구동부재에 의해 상하로 이동된다. 구동부재는 풀리 및 구동벨트의 조합의 의해 회전되고, 풀리가 회전됨에 따라 구동벨트와 풀리 간에는 갈림이 발생된다. 이로 인해 구동부재에서는 파티클이 발생되고, 이들은 홀을 통해 수직프레임의 외부로 빠져나와 기판이 위치되는 대기에 노출된다.
이를 해결하고자 수직프레임의 홀을 실링하는 실링벨트는 수직프레임 내에서 구동부재를 감싸도록 제공된다. 그러나 실링벨트의 내측면에 쌓인 파티클은 실링벨트가 회전됨에 따라 실링벨트와 함께 이동되고, 그 파티클은 수직프레임의 외부로 빠져 나와 기판 상에 부착된다.
본 발명은 기판을 반송하는 과정에서 발생되는 파티클로 인해 공정 불량이 발생되는 것을 최소화하고자 한다.
또한 본 발명은 반송 로봇 내에서 발생된 파티클이 외부로 유출되는 것을 최소화하고자 한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 과제들은 본 명세서 그리고 첨부된 도면으로부터 본 발명의 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 반송 로봇을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 반송 로봇은, 기판이 놓이는 아암, 상기 아암을 지지하는 베이스. 그리고 상기 베이스를 상하방향으로 이동시키는 수직 구동 유닛을 포함하되, 상기 수직 구동 유닛은, 일측면에 상기 베이스의 일단이 삽입되도록 상하방향으로 제공되는 슬릿 형상의 홀이 형성되는 수직 프레임, 상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 베이스의 일단이 결합된 브라켓, 상기 브라켓을 상하 방향으로 이동시키는 구동부재, 상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 수직 프레임의 내부의 파티클을 외부로 배출시키는 팬, 상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 파티클의 양을 측정하는 센서, 상기 센서로부터 측정값을 입력받고, 상기 측정값에 따라 상기 팬의 회전 속도를 제어하는 제어기를 포함할 수 있다.
상기 제어기는 상기 파티클의 양이 증가할수록 상기 팬의 회전속도를 빠르게 제어할 수 있다.
상기 수직 프레임 내부를, 상기 구동부재와 상기 실링벨트가 제공되는 제 1 영역과 상기 팬을 통해 상기 파티클을 배출시키는 제 2 영역으로 구획하는 격벽을 더 포함하되, 상기 격벽에는, 상기 제 1 영역과 상기 제 2 영역이 서로 연통되도록 하는 개구가 형성될 수 있다.
상기 팬은 상기 개구에 설치될 수 있다.
상기 팬은 상하 방향으로 복수 개 설치되고, 상기 센서는 상기 팬과 대응되는 영역에 각각 설치되되, 상기 제어기는 상기 복수 개의 팬을, 상기 복수 개의 팬과 대응되는 상기 센서로부터 측정된 측정값에 따라 개별적으로 구동하도록 제어할 수 있다.
또한, 본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 기판의 공정 처리가 진행되는 복수 개의 공정챔버들, 상기 공정챔버들과 인접하게 배치되고, 상기 공정챔버들 간에 기판을 반송하는 반송 로봇이 내부에 제공되는 반송 챔버를 포함하되, 상기 반송 로봇은, 기판이 놓이는 아암, 상기 아암을 지지하는 베이스, 그리고 상기 베이스를 상하방향으로 이동시키는 수직 구동 유닛을 포함하되, 상기 수직 구동 유닛은, 일측면에 상기 베이스의 일단이 삽입되도록 상하방향으로 제공되는 슬릿 형상의 홀이 형성되는 수직 프레임, 상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 베이스의 일단이 결합된 브라켓, 상기 브라켓을 상하 방향으로 이동시키는 구동부재, 상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 수직 프레임의 내부의 파티클을 외부로 배출시키는 팬, 상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 파티클의 양을 측정하는 센서, 그리고 상기 센서로부터 측정값을 입력받고, 상기 측정값에 따라 상기 팬의 회전 속도를 제어하는 제어기를 포함할 수 있다.
상기 제어기는 상기 파티클의 양이 증가할수록 상기 팬의 회전속도를 빠르게 제어할 수 있다.
또한, 본 발명은 파티클 배출 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 파티클 배출 방법은, 제 1 항의 반송 로봇을 이용하여 파티클을 배출하는 방법에 있어서, 상기 수직 프레임 내의 파티클의 양을 상기 센서로 측정하고, 상기 파티클의 양이 증가할수록 상기 팬의 회전 속도를 빠르게 제어할 수 있다.
상하 방향으로 복수 개 설치된 상기 팬을, 상기 팬과 대응되는 영역에 설치된 상기 센서 각각으로부터 측정된 상기 측정값에 따라 개별적으로 구동시킬 수 있다.
본 발명은 기판을 반송하는 과정에서 발생되는 파티클로 인해 공정 불량이 발생되는 것을 최소화할 수 있다.
또한 본 발명은 반송 로봇 내에서 발생된 파티클이 외부로 유출되는 것을 최소화할 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 그리고 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 기판 처리 설비를 상부에서 바라본 도면이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 설비의 로드 포트, 인? 모듈, 그리고 공정 모듈을 정면에서 바라본 도면이다.
도 3은 도 1의 반송 부재를 보여주는 도면이다.
도 4와 도 5는 도 3의 수직 구동 유닛의 내부를 보여주는 도면이다.
본 명세서에 기재된 실시예는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상을 명확히 설명하기 위한 것이므로, 본 발명이 본 명세서에 기재된 실시예에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 범위는 본 발명의 사상을 벗어나지 아니하는 수정예 또는 변형예를 포함하는 것으로 해석되어야 한다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 용어와 첨부된 도면은 본 발명을 용이하게 설명하기 위한 것이므로, 본 발명이 본 명세서에서 사용되는 용어와 첨부된 도면에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지의 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
본 실시예의 설비는 반도체 웨이퍼 또는 평판 표시 패널과 같은 기판에 대해 포토리소그래피 공정을 수행하는 데 사용된다. 특히 본 실시예의 설비는 노광장치에 연결되어 기판에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행하는 데 사용된다. 아래에서는 기판으로 웨이퍼가 사용된 경우를 예로 들어 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비(1)를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 1은 기판 처리 설비(1)를 상부에서 바라본 도면이다. 도 2는 도 1의 기판 처리 설비(1)의 로드 포트(100), 인덱스 모듈(200), 그리고 공정 모듈(300)을 정면에서 바라본 도면이다.
도 1과 도 2를 참조하면, 기판 처리 설비(1)는 로드 포트(100), 인덱스 모듈(200), 공정 모듈(300), 인터페이스 모듈(400), 그리고 노광 모듈(500)을 포함한다. 로드 포트(100), 인덱스 모듈(200), 공정 모듈(300), 인터페이스 모듈(400), 그리고 노광 모듈(500)은 순차적으로 일 방향으로 일렬로 배치된다.
이하, 로드 포트(100), 인덱스 모듈(200), 공정 모듈(300), 인터페이스 모듈(400), 그리고 노광 모듈(500)이 배치된 방향을 제 1 방향(x)이라 칭하고, 상부에서 바라볼 때 제 1 방향(x)과 수직한 방향을 제 2 방향(y)이라 칭하고, 제 1 방향(x) 및 제 2 방향(y)과 각각 수직한 방향을 제 3 방향(z)이라 칭한다.
웨이퍼(W)는 카세트(20) 내에 수납되어 이동된다. 카세트(20)는 외부로부터 밀폐될 수 있는 구조를 가진다. 일 예로, 카세트(20)로는 전방에 도어를 가지는 전면 개방 일체식 포드(Front Open Unified Pod; FOUP)가 사용될 수 있다.
이하에서는 로드 포트(100), 인덱스 모듈(200), 공정 모듈(300), 인터페이스 모듈(400), 그리고 노광 모듈(500)에 대해 상세히 설명한다.
로드 포트(100)는 재치대(120)를 가진다. 재치대들(200)은 제 2 방향(y)을 따라 일렬로 배치된다. 재치대(120)에는 웨이퍼들(W)이 수납된 카세트(20)가 놓여진다. 재치대(120)는 복수 개가 제공될 수 있다. 도 1에서는 4개의 재치대(120)가 제공된다.
인덱스 모듈(200)은 카세트(20)와 공정 모듈(300) 간에 웨이퍼(W)를 이송한다. 인덱스 모듈(200)은 프레임(210), 인덱스 로봇(220), 그리고 가이드 레일(230)을 가진다. 프레임(210)은 로드 포트(100)와 공정 모듈(300) 사이에 배치된다. 프레임(210)은 대체로 내부가 빈 직육면체의 형상으로 제공된다. 인덱스 로봇(220)과 가이드 레일(230)은 프레임(210) 내에 배치된다. 인덱스 로봇(220)은 핸드(221), 아암(222), 지지대(223), 그리고 받침대(224)를 가진다. 인덱스 로봇(220)은 웨이퍼(W)를 직접 핸들링하는 핸드(221)가 제 1 방향(x), 제 2 방향(y), 제 3 방향(z)으로 이동 가능하고 회전시킬 수 있다. 핸드(221)는 아암(222)에 고정 설치된다. 아암(222)은 신축 및 회전 가능한 구조로 제공된다. 아암(222)은 지지대(223)에 결합된다. 지지대(223)는 그 길이 방향이 제 3 방향(z)을 따라 배치된다. 아암(222)은 지지대(223)를 따라 이동 가능하다. 지지대(223)는 받침대(224)에 고정결합된다. 가이드 레일(230)은 그 길이 방향이 제 2 방향(y)을 따라 배치된다. 받침대(224)는 가이드 레일(230)에 결합된다. 받침대(224)는 가이드 레일(230)을 따라 직선 이동될 수 있다. 또한, 프레임(210)에는 카세트(20)의 도어를 개폐하는 도어 오프너(미도시)가 더 제공될 수 있다.
공정 모듈(300)은 대체로 직육면체의 형상을 가진다. 공정 모듈(300)은 도포 모듈(301)과 현상 모듈(302)을 가진다. 도포 모듈(301)과 현상 모듈(302)은 층으로 구획되도록 배치된다. 일 예에 의하면, 도포 모듈(301)은 현상 모듈(302)의 상부에 위치된다. 공정 모듈(300) 내에는 기판(W)을 반송하는 기판처리장치(300)가 제공된다.
도포 모듈(301)은 노광 공정 전에 웨이퍼(W) 상에 포토 레지스트를 도포하는 공정을 수행한다. 도포 모듈(301)은 레지스트 도포 챔버(310), 베이크 챔버(320), 그리고 반송 부재(600)를 가진다. 레지스트 도포 챔버(310), 반송 부재(600), 그리고 베이크 챔버(320)는 제 2 방향(y)을 따라 순차적으로 배치된다. 레지스트 도포 챔버(310)와 베이크 챔버(320)는 각각 복수 개씩 제공될 수 있다.
레지스트 도포 챔버들(310)은 모두 동일한 구조를 가진다. 다만, 각각의 레지스트 도포 챔버(310)에서 사용되는 포토 레지스트의 종류는 서로 상이할 수 있다. 일 예로, 포토 레지스트로는 화학 증폭형 레지스트(chemical amplification resist)가 사용될 수 있다. 레지스트 도포 챔버(310)는 웨이퍼(W) 상에 포토 레지스트를 도포한다.
반송 부재(600)는 반송챔버(610), 반송 로봇(620), 그리고 가이드 레일(680)를 포함한다. 반송챔버(610)는 대체로 직사각의 형상을 가진다. 반송 부재(600)는 그 길이방향이 제 1 방향(x)을 따라 배치된다. 반송챔버(610) 내에는 반송 로봇(620) 및 가이드 레일(680)이 배치된다.
도 3은 반송 로봇(620)과 가이드 레일(680)을 보여주는 사시도이다.
반송 로봇(620)은 아암(622), 베이스(624), 구동 유닛(630), 그리고 보조 가이드(670)를 가진다. 반송 로봇(620)은 레지스트 도포 챔버들(310)과 베이크 챔버들(320) 간에 웨이퍼(W)를 이송한다.
아암(622)에는 웨이퍼(W)가 놓여진다. 아암(622)은 수평 방향으로 신축될 수 있다. 아암(622)은 베이스(624)에 회전 가능하도록 결합된다. 베이스(624)는 아암(622)을 지지한다. 베이스(624)은 그 길이방향이 대체로 제 1 방향으로 제공된 바 형상을 가진다.
구동 유닛(630)은 제 1 수직 구동 유닛(630a) 및 제 2 수직 구동 유닛(630b)를 가진다. 구동 유닛(630)은 베이스(624)를 이동시킨다. 일 예로, 구동 유닛(630)은 베이스(624)를 상하방향으로 이동시킬 수 있다. 제 1 수직 구동 유닛(630a) 및 제 2 수직 구동 유닛(630b)은 베이스(624)을 사이에 두고 서로 대향되게 배치된다. 베이스(624)의 양 끝단은 제 1 수직 구동 유닛(630a) 및 제 2 수직 구동 유닛(630b)에 각각 결합된다. 이와 달리, 구동 유닛(630)은 베이스(624)를 수평 방향으로 움직일 수 있다.
구동 유닛들(630)은 각각 수직 프레임(640), 구동부재(650), 그리고 실링벨트(660)를 가진다. 도 4는 도 3의 구동 유닛(630)의 내부를 보여주는 단면도이다. 도 4를 참조하면, 수직 프레임(640)은 홀(641), 격벽(642), 개구(643), 팬(644), 센서(645), 제어기(646), 그리고 배출구(647)을 가진다. 수직 프레임(640)은 그 길이방향이 제 3 방향(z)으로 제공된다.
홀(641)은 수직 프레임(640)의 그 일면에 형성된다. 홀(641)은 제 3 방향(z)으로 긴 슬릿 형상으로 제공된다. 베이스(624)의 일단은 홀(641)에 삽입된다. 이에 따라, 베이스(624)는 홀(641)을 따라 제 3 방향(z)으로 이동될 수 있다.
격벽(642)은 수직 프레임(640)의 내부를 제 1 영역(D1)과 제 2 영역(D2)으로 구획한다. 제 1 영역(D1)에는 구동부재(650)와 실링벨트(660)가 제공된다. 제 2 영역(D2)에는 배출구(647)가 포함된다.
개구(643)는 격벽(642)에 형성된다. 개구(643)는 제 1 영역(D1)과 제 2 영역(D2)이 서로 연통되도록 한다.
팬(644)은 수직 프레임(640) 내부에 설치된다. 팬(644)은 수직 프레임(640) 내부의 파티클을 수직 프레임(640) 외부로 배출시킨다. 일 예로, 도 5와 같이, 팬(644)은 개구(643)에 설치될 수 있다. 팬(644)은 제 1 영역(D1) 내부의 파티클을 제 2 영역(D2)으로 배출시킨다. 팬(644)은 상하 방향으로 복수 개(644a, 644b) 설치될 수 있다.
센서(645)는 수직 프레임(640) 내부에 위치된다. 센서(645)는 수직 프레임(640) 내부의 파티클의 양을 측정한다. 도 5와 같이, 각각의 팬(644a, 644b)에 대응되는 영역에, 각각의 센서(645a, 645b)가 설치될 수 있다. 이와 달리, 팬(644)과 센서(645)는 일대일 대응되지 않을 수 있다. 일 예로, 하나의 센서(645)는 복수 개의 팬(644)을 제어할 수 있다.
제어기(646)는 팬(644)과 센서(645)를 제어한다. 제어기(646)는 센서(645)로부터 측정값을 입력받고, 측정값에 따라 팬(644)의 회전 속도를 제어한다. 제어기(646)는 파티클의 양이 증가할수록 팬(644)의 회전속도를 빠르게 제어한다. 복수 개의 팬(644a, 644b)과 센서(645a, 645b)가 각각 제공되는 경우, 제어기(646)는 복수 개의 팬(644a, 644b)을 대응되는 영역의 센서(645a, 645b)로부터 측정된 측정값에 따라 개별적으로 구동하도록 제어할 수 있다. 또한, 제어기(646)는 기설정값을 설정하여, 파티클의 양이 기설정값을 초과하면 알람을 발생시킬 수 있다.
도 5를 참조하면, 배출구(647)는 수직 프레임(640)의 하면에 제공된다. 배출구(647)는 수직 프레임(640) 내의 파티클을 배출시킨다. 제 1 영역(D1)에서 팬(644)에 의해 제 2 영역(D2)으로 배출된 파티클은 배출구(647)를 통해 배출된다.
구동부재(650)는 풀리(652), 회전벨트(654), 그리고 브라켓(656)을 가진다. 구동부재(650)는 수직프레임(640)의 내부에 배치된다. 일 예로, 다시 도 4를 참조하면, 구동부재(650)는 제 1 영역(D1) 내부에 배치될 수 있다. 구동부재(650)는 베이스(624)를 제 3 방향(z)으로 이동시킨다. 풀리(652)는 2 개가 상하방향으로 대향되게 배치된다. 회전벨트(654)는 풀리(652)들을 동시에 감싸도록 배치된다. 회전벨트(654)의 일측면에는 브라켓(656)이 결합된다. 브라켓(656)은 베이스(624)의 일단과 회전벨트(654)를 고정 결합한다. 회전벨트(654)는 풀리(652)의 회전에 의해 구동된다. 구동부재(640)에 의해, 베이스(624)는 제 3 방향(z)으로 이동된다.
실링밸트(660)는 수직프레임(640)의 내측벽과 회전밸트(654)의 사이에 배치된다. 실링벨트(660)는 그 일면이 수직프레임(640)의 홀(641)과 대향되도록 제공된다. 일 예로, 다시 도 4를 참조하면, 구동부재(650)는 제 1 영역(D1) 내부에 배치될 수 있다. 실링벨트(660)는 수직프레임(640)의 홀(641)을 실링한다. 실링벨트(660)는 수직 프레임(640)의 내부에서 발생되는 파티클이 수직 프레임(640)의 홀(641)을 통해 유출되는 것을 방지한다. 실링벨트(660)는 복수 개의 프리롤러(662)를 동시에 감싸도록 제공된다. 각각의 프리폴러(662)는 수직 프레임(640)의 내부 모서리와 인접하게 고정 설치된다. 실링벨트(660)의 일면은 홀(641)과 인접하게 배치된다. 홀(641)과 대향되는 실링벨트(660)는 일면에 개구(664)가 형성될 수 있다. 개구(664)에는 베이스(624)의 일단이 관통된다. 실링벨트(660)는 구동부재(650)에 의해 이동 가능하다. 다만, 이와 달리, 실링벨트(660)는 제공되지 않을 수 있다.
다시, 도 3을 참조하면, 보조 가이드(670)는 제 1 수직 구동 유닛(630a) 및 제 2 수직 구동 유닛(630b)를 연결한다. 보조 가이드(670)는 각각의 수직 구동 유닛(630a,630b)가 같은 속도로 이동하도록 안내한다. 보조 가이드(670)는 상부 보조 프레임(672)과 하부 보조 프레임(674)을 가진다. 상부 보조 프레임(672)의 양단 저면은 수직 구동 유닛(630a,630b) 각각의 상단과 고정 결합된다. 하부 보조프레임(674)의 양단 상면은 수직가이드들(630a,630b) 각각의 하단과 고정 결합된다.
가이드 레일(680)은 반송 로봇(620)의 직선 이동을 안내한다. 가이드 레일(680)은 그 길이방향이 제 1 방향(x)을 따라 제공된다. 가이드 레일(680)은 하부 가이드(682) 및 상부 가이드(686)를 가진다. 하부 가이드(682)는 하부 수평 레일(683), 하부 브라켓(684), 그리고 구동기(미도시)를 가진다. 하부 수평 레일(683)은 반송챔버(610)의 바닥면에 결합된다. 하부 수평 레일(683) 상에는 하부 브라켓(684)이 설치된다. 하부 브라켓(684)은 하부 수평 레일(683)의 길이방향을 따라 직선 이동 가능하다. 하부 브라켓(684)은 하부 보조 프레임(674)과 결합된다. 구동기(미도시)는 하부 브라켓(684)이 직선 이동되도록 동력을 제공한다. 예컨대, 구동기(미도시)는 모터일 수 있다. 상부 가이드(686)는 상부 수평레일(687) 및 상부 브라켓(688)을 가진다. 상부 수평 레일(687)은 반송챔버(610)의 상면에 결합된다. 상부 수평 레일(687)은 하부 수평 레일(683)과 상하로 마주보도록 배치된다. 상부 수평 레일(687) 상에는 상부 브라켓(688)이 설치된다. 상부 브라켓(688)은 상부 수평레일(687)의 길이방향을 따라 직선 이동 가능하다. 상부 브라켓(975)은 상부 보조 프레임(674)과 결합된다.
베이크 챔버(320)는 웨이퍼(W)를 열처리한다. 일 예로, 베이크 챔버들(320)은 포토 레지스트를 도포하기 전에 웨이퍼(W)를 가열하여 웨이퍼(W) 표면의 유기물이나 수분을 제거하는 프리 베이크(prebake) 공정을 수행할 수 있다. 선택적으로, 포토레지스트를 도포한 후에 행하는 소프트 베이크(soft bake) 공정 등을 수행하고, 각각의 가열 공정 이후에 웨이퍼(W)를 냉각하는 냉각 공정 등을 수행할 수 있다.
제 1 버퍼부(330)는 인덱스 모듈(200)과 베이크 챔버(320) 사이에 위치된다. 제 1 버퍼부(330)는 제 1 버퍼 로봇(332)과 제 1 버퍼(336)를 가진다. 제 1 버퍼 로봇(332)은 인덱스 모듈(200)과 베이크 챔버(320) 간에 웨이퍼(W)를 이동시킨다. 제 1 버퍼 로봇(332)은 핸드(333), 아암(334), 그리고 지지대(335)를 가진다. 핸드(333)는 아암(334)에 고정 설치된다. 아암(334)은 신축 가능한 구조로 제공된다. 아암(334)은 지지대(335)에 결합된다. 아암(334)은 지지대(335)를 따라, 제 3 방향(z)으로 직선 이동 가능하다.
제 2 버퍼부(340)는 베이크 챔버(320)와 인터페이스 모듈(400) 사이에 배치된다. 제 2 버퍼부(340)는 제 2 버퍼 로봇(342)과 제 2 버퍼(336)를 가진다. 제 2 버퍼 로봇(342)는 제 1 버퍼 로봇(332)과 대체로 동일 또는 유사한 구조를 가진다. 제 2 버퍼 로봇(342)은 베이크 챔버(320)와 인터페이스 모듈(400) 간에 웨이퍼(W)를 이동시킨다.
현상 모듈(302)은 노광 공정 후에 웨이퍼(W)를 현상하는 공정을 수행한다. 현상모듈(302)은 현상 챔버(360), 베이크 챔버(370), 그리고 반송 부재(380)를 가진다. 현상 챔버(360), 반송 부재(380), 그리고 베이크 챔버(370)는 제 2 방향(y)을 따라 순차적으로 배치된다. 현상 모듈(302)은 웨이퍼(W) 상에 패턴을 얻기 위해 현상액을 공급하여 포토 레지스트의 일부를 제거하는 현상 공정, 및 현상 공정 전후에 웨이퍼(W)에 대해 수행되는 가열 및 냉각과 같은 열처리 공정을 포함한다. 현상 챔버(360)와 베이크 챔버(370)는 각각 복수 개씩 제공될 수 있다.
현상 챔버들(360)은 대체로 동일한 구조를 가진다. 다만, 각각의 현상 챔버(360)에서 사용되는 현상액의 종류는 서로 상이할 수 있다. 현상 챔버(360)는 웨이퍼(W) 상의 포토 레지스트 중 광이 조사된 영역을 제거한다. 이때, 보호막 중 광이 조사된 영역도 같이 제거된다. 선택적으로, 포토 레지스트의 종류에 따라 포토 레지스트 및 보호막의 영역들 중 광이 조사되지 않은 영역만이 제거될 수 있다. 반송 부재(380)는 상술한 도포 모듈(301)의 반송 부재(600)와 대체로 동일 또는 유사한 구조를 가진다. 또한, 베이크 챔버(370)는 상술한 도포 모듈(301)의 베이크 챔버(320)와 대체로 동일 또는 유사한 구조를 가진다.
상술한 바와 같이 공정 모듈(300)에서 도포 모듈(301)과 현상 모듈(302)은 서로 간에 분리되도록 제공된다. 또한, 상부에서 바라볼 때 도포 모듈(301)과 현상 모듈(302)은 동일한 챔버 배치를 가질 수 있다.
인터페이스 모듈(400)은 공정 모듈(300) 및 노광 장치(900) 간에 웨이퍼(W)를 이송한다. 인터페이스 모듈(400)은 프레임(420) 및 인터페이스 로봇(440)를 가진다. 인터페이스 로봇(440)은 프레임(420) 내에 위치된다. 인터페이스 로봇(440)은 버퍼 로봇(660)과 대체로 동일 또는 유사한 구조를 가진다. 인터페이스 로봇(440)은 버퍼(330b)와 노광 모듈(500) 간에 웨이퍼(W)를 운반한다.
노광 모듈(500)는 웨이퍼의 일면에 대해 노광 공정, 예를 들어 액침 노광 공정을 수행한다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
100: 로드 포트 200: 인덱스 모듈
300: 공정 모듈 301: 도포 모듈
302: 현상 모듈 400: 인터페이스 모듈
500: 노광 모듈 600: 반송 부재
620: 반송 로봇 622: 아암
624: 베이스 630: 수직 구동 유닛
670: 보조 가이드 640: 수직 프레임
650: 구동 부재 660: 실링 벨트

Claims (2)

  1. 기판이 놓이는 아암;
    상기 아암을 지지하는 베이스; 그리고
    상기 베이스를 이동시키는 구동 유닛을 포함하되,
    상기 구동 유닛은,
    일측면에 상기 베이스의 일단이 삽입되도록 상하방향으로 제공되는 슬릿 형상의 홀이 형성되는 수직 프레임;
    상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 베이스의 일단이 결합된 브라켓;
    상기 브라켓을 상하 방향으로 이동시키는 구동부재;
    상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 수직 프레임의 내부의 파티클을 외부로 배출시키는 팬;
    상기 수직 프레임의 내부에 위치되고, 상기 파티클의 양을 측정하는 센서; 그리고
    상기 센서로부터 측정값을 입력받고, 상기 측정값에 따라 상기 팬의 회전 속도를 제어하는 제어기를 포함하는 반송 로봇.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어기는 상기 파티클의 양이 증가할수록 상기 팬의 회전속도를 빠르게 제어하는, 반송 로봇.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180014587A (ko) * 2016-08-01 2018-02-09 세메스 주식회사 기판 처리 장치
CN108247676A (zh) * 2017-10-14 2018-07-06 刘珍国 一种具备避障装置的机器人
KR20190109245A (ko) * 2018-03-15 2019-09-25 신포니아 테크놀로지 가부시끼가이샤 Efem 및 efem에 있어서의 가스 치환 방법
KR20210002024A (ko) * 2019-06-28 2021-01-06 니혼 덴산 산쿄 가부시키가이샤 산업용 로봇
KR20220160143A (ko) * 2021-05-26 2022-12-06 세메스 주식회사 기판 처리 설비의 배기 장치 및 배기 방법

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