KR20150060728A - Microsphere-filled-metal components for wireless-communication towers - Google Patents

Microsphere-filled-metal components for wireless-communication towers Download PDF

Info

Publication number
KR20150060728A
KR20150060728A KR1020157007629A KR20157007629A KR20150060728A KR 20150060728 A KR20150060728 A KR 20150060728A KR 1020157007629 A KR1020157007629 A KR 1020157007629A KR 20157007629 A KR20157007629 A KR 20157007629A KR 20150060728 A KR20150060728 A KR 20150060728A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
metal
microsphere
microspheres
range
filled metal
Prior art date
Application number
KR1020157007629A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
모하메드 에세기르
Original Assignee
다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 filed Critical 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨
Publication of KR20150060728A publication Critical patent/KR20150060728A/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/08Alloys with open or closed pores
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/10Sintering only
    • B22F3/11Making porous workpieces or articles
    • B22F3/1103Making porous workpieces or articles with particular physical characteristics
    • B22F3/1112Making porous workpieces or articles with particular physical characteristics comprising hollow spheres or hollow fibres
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C21/00Alloys based on aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C23/00Alloys based on magnesium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P1/00Auxiliary devices
    • H01P1/20Frequency-selective devices, e.g. filters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/10Sintering only
    • B22F3/11Making porous workpieces or articles
    • B22F3/1103Making porous workpieces or articles with particular physical characteristics
    • B22F2003/1106Product comprising closed porosity
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/10Sintering only
    • B22F3/11Making porous workpieces or articles
    • B22F3/1103Making porous workpieces or articles with particular physical characteristics
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04WWIRELESS COMMUNICATION NETWORKS
    • H04W88/00Devices specially adapted for wireless communication networks, e.g. terminals, base stations or access point devices
    • H04W88/08Access point devices

Abstract

마이크로구체-충전 금속으로부터 적어도 부분적으로 형성된 무선 통신탑 부품에 관한 것이다. 마이크로구체-충전 금속은 2.7 g/cm3 미만의 밀도, 1 W/m·K 초과의 열 전도율, 및 30 μm/m·K 미만의 열 팽창 계수를 갖는다. 이러한 마이크로구체-충전 금속에 사용하기에 적합한 마이크로구체는, 예를 들어 유리 마이크로구체, 멀라이트 마이크로구체, 알루미나 마이크로구체, 알루미노-실리케이트 마이크로구체, 세라믹 마이크로구체, 실리카-탄소 마이크로구체, 탄소 마이크로구체, 및 이들 중 둘 이상의 혼합물을 포함한다.Lt; RTI ID = 0.0 > at least < / RTI > partially formed from microsphere-filled metal. The microsphere-filled metal has a density of less than 2.7 g / cm 3 , a thermal conductivity of greater than 1 W / m · K, and a thermal expansion coefficient of less than 30 μm / m · K. Suitable microspheres for use in such microsphere-filled metals are, for example, glass microspheres, mullite microspheres, alumina microspheres, alumino-silicate microspheres, ceramic microspheres, silica- Spheres, and mixtures of two or more thereof.

Description

무선 통신탑을 위한 마이크로구체-충전 금속 부품 {MICROSPHERE-FILLED-METAL COMPONENTS FOR WIRELESS-COMMUNICATION TOWERS}[0001] MICROSPHERE-FILLED-METAL COMPONENTS FOR WIRELESS-COMMUNICATION TOWERS FOR WIRELESS COMMUNICATIONS [

<관련 출원에 대한 참조><Reference to related application>

본 출원은 2012년 9월 28일자로 출원된 미국 가출원 번호 61/707,085의 이익을 청구한다.This application claims benefit of U.S. Provisional Application No. 61 / 707,085 filed on September 28, 2012.

본 발명의 다양한 실시양태는 무선 통신탑에 사용하기 위한 금속-기재 부품에 관한 것이다.Various embodiments of the present invention are directed to metal-based components for use in a wireless telecommunications tower.

전기통신 분야에서, 신규 서비스 및 증가된 수의 사용자를 지지하기 위해 대역폭 요건이 매년 세계적으로 증가할 것이며, 따라서 무선 시스템이 보다 높은 주파수 대역으로 이동할 것이라고 예측된다. 이러한 산업에서는 기지국 전자장치를 탑 기지로부터 무선 통신탑의 보다 높은 영역 (즉, 탑-상부 전자장치)로 이동시키는 추세이며, 이는 탑 상부를 기지 장비에 연결하는 전기통신 케이블에서의 신호 손실을 감소시키려는 노력이다. 증가한 수의 부품이 탑으로 이동되기 때문에, 이러한 부품의 중량이 문제가 된다.In the field of telecommunications, bandwidth requirements are expected to increase globally every year to support new services and an increased number of users, and therefore wireless systems are expected to migrate to higher frequency bands. In this industry, there is a trend to move the base station electronics from a tower base to a higher area of the radio telecommunication tower (i.e., top-to-top electronics), which tends to reduce signal loss in telecommunication cables connecting the tower top to the base equipment Effort. Since an increased number of parts are moved to the tower, the weight of these parts becomes a problem.

한 실시양태는In one embodiment,

마이크로구체-충전 금속으로부터 적어도 부분적으로 형성된 무선 통신탑 부품을 포함하며,A wireless telecommunications tower component formed at least partially from a microsphere-filled metal,

여기서 상기 마이크로구체-충전 금속은 25℃에서 측정시에 2.7 그램/세제곱 센티미터 ("g/cm3") 미만의 밀도를 갖는 것인, 장치이다.Wherein the microsphere-filled metal has a density of less than 2.7 grams per square centimeter ("g / cm &lt; 3 &gt;

본 발명의 다양한 실시양태는 금속-기재 재료로부터 적어도 부분적으로 형성된 무선 통신탑 부품에 관한 것이다. 이러한 금속-기재 재료는 이를 탑-상부 적용에 적합하게 하는, 특히 밀도, 열 전도율 및 열 팽창 계수에 대한 특정 범위를 비롯한 특정 특성을 가질 수 있다. 이러한 무선 통신탑 부품은 특히 라디오 주파수 ("RF") 캐비티 필터, 히트 싱크, 인클로저, 탑-상부 지지 부속품, 및 이들의 조합을 포함할 수 있다.Various embodiments of the present invention are directed to wireless telecommunications tower components formed at least partially from a metal-based material. Such metal-based materials may have particular properties, including a particular range for density, thermal conductivity and coefficient of thermal expansion, making them suitable for top-top applications. Such wireless telecommunications tower components may in particular include radio frequency ("RF") cavity filters, heat sinks, enclosures, tower-top support accessories, and combinations thereof.

금속-기재 재료Metal-based material

언급된 바와 같이, 무선 통신탑 부품은 금속-기재 재료로부터 적어도 부분적으로 형성될 수 있다. 본원에 사용된 바와 같이, "금속-기재" 재료는 주요 (즉, 25 중량 퍼센트 ("중량%") 초과의) 성분으로서 금속을 포함하는 재료이다. 다양한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 1종 이상의 금속을 적어도 50, 적어도 60, 적어도 70, 적어도 80, 적어도 90, 또는 적어도 95 중량%의 합한 양으로 포함할 수 있다. 일부 실시양태에서, 1종 이상의 금속은 금속-기재 재료의 전부 또는 실질적으로 전부를 구성한다. 본원에 사용된 바와 같이, 용어 "실질적으로 전부"는 개별적으로 10 백만분율 (ppm) 미만의 기재되지 않은 성분의 존재를 나타낸다. 대안적 실시양태에서, 금속-기재 재료는 하기에 보다 상세히 기재된 바와 같이 금속과 1종 이상의 충전제의 복합물일 수 있으며, 따라서 1종 이상의 금속을 보다 낮은 비율로 (예를 들어, 최소 5 중량%로부터 99 중량%까지) 포함할 수 있다.As noted, the wireless telecommunications tower component can be formed at least in part from the metal-based material. As used herein, a "metal-based" material is a material comprising a metal as a major (ie, greater than 25 weight percent ("wt%")) component. In various embodiments, the metal-based material may comprise one or more metals in a combined amount of at least 50, at least 60, at least 70, at least 80, at least 90, or at least 95 wt%. In some embodiments, the at least one metal comprises all or substantially all of the metal-based material. As used herein, the term "substantially all" individually indicates the presence of less than 10 parts per million (ppm) of the undesired component. In an alternative embodiment, the metal-based material may be a composite of a metal and one or more fillers, as described in more detail below, so that one or more metals may be added in a lower ratio (e.g., Up to 99% by weight).

금속-기재 재료의 금속 성분은 관련 기술분야에 공지되거나 또는 이후 발견되는 임의의 금속 또는 금속의 조합 (즉, 금속 합금)일 수 있다. 다양한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 저밀도 금속, 예컨대 알루미늄 또는 마그네슘, 또는 다른 금속, 예컨대 니켈, 철, 청동, 구리, 및 이들의 합금을 포함할 수 있다. 하나 이상의 실시양태에서, 금속-기재 재료는 금속 합금, 예컨대 알루미늄 또는 마그네슘, 및 이들의 합금을 포함할 수 있다. 특정 실시양태에서, 금속-기재 재료는 알루미늄을 포함한다. 다양한 실시양태에서, 알루미늄은 금속-기재 재료의 금속 성분의 적어도 50, 적어도 60, 적어도 70, 적어도 80, 적어도 90, 적어도 95 중량%, 실질적으로 전부, 또는 전부를 구성한다. 따라서, 다양한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 알루미늄-기재 재료일 수 있다. 추가로, 사용되는 알루미늄은 알루미늄 합금, 예컨대 AA 6061일 수 있다. 합금 6061은 전형적으로 97.9 중량%의 알루미늄, 0.6 중량%의 규소, 0.28 중량%의 구리, 1.0 중량%의 마그네슘, 및 0.2 중량%의 크롬을 함유한다.The metal component of the metal-based material may be any metal or combination of metals (i. E., A metal alloy) known in the art or found later. In various embodiments, the metal-based material may comprise a low density metal such as aluminum or magnesium, or other metals such as nickel, iron, bronze, copper, and alloys thereof. In one or more embodiments, the metal-based material may comprise a metal alloy, such as aluminum or magnesium, and alloys thereof. In certain embodiments, the metal-based material comprises aluminum. In various embodiments, aluminum comprises at least 50, at least 60, at least 70, at least 80, at least 90, at least 95 weight percent, substantially all, or all of the metal component of the metal-based material. Thus, in various embodiments, the metal-based material may be an aluminum-based material. In addition, the aluminum used may be an aluminum alloy, such as AA 6061. Alloy 6061 typically contains 97.9 wt.% Aluminum, 0.6 wt.% Silicon, 0.28 wt.% Copper, 1.0 wt.% Magnesium, and 0.2 wt.% Chromium.

상기 언급된 바와 같이, 금속-기재 재료는 특정 특성을 가질 수 있다. 다양한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 2.7 그램/세제곱 센티미터 ("g/cm3") 미만, 2.6 g/cm3 미만, 2.5 g/cm3 미만, 2.4 g/cm3 미만, 2.3 g/cm3 미만, 2.2 g/cm3 미만, 2.1 g/cm3 미만, 또는 2.0 g/cm3 미만의 밀도를 갖는다. 이러한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 적어도 0.1 g/cm3의 밀도를 가질 수 있다. 금속-기재 재료는 하기 논의된 바와 같이 중합체-금속 복합물을 포함할 수 있기 때문에, 본원에 제공된 밀도 값은 ASTM D792에 따라 25℃에서 측정될 수 있다. 비-중합체/금속-복합물 재료에 대해, 밀도는 밀도 구배 방법에 의해 ASTM D1505에 따라 측정될 수 있다.As mentioned above, the metal-based material may have certain characteristics. In various embodiments, the metal-based material is 2.7 grams / cubic centimeters ( "g / cm 3") is less than, 2.6 g / cm 3 less than, 2.5 g / cm 3 less than, 2.4 g / cm 3 less than, 2.3 g / cm 3, less than 2.2 g / cm 3, less than 2.1 g / cm 3 , or less than 2.0 g / cm 3 . In such embodiments, the metal-based material may have a density of at least 0.1 g / cm &lt; 3 &gt;. Because the metal-based material may comprise a polymer-metal composite as discussed below, the density values provided herein may be measured at 25 占 폚 in accordance with ASTM D792. For non-polymer / metal-composite material, the density can be measured according to ASTM D1505 by the density gradient method.

다양한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 1 와트/미터 켈빈 ("W/m·K") 초과, 2 W/m·K 초과, 3 W/m·K 초과, 4 W/m·K 초과, 5 W/m·K 초과, 또는 6 W/m·K 초과의 열 전도율을 갖는다. 이러한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 50 W/m·K 이하, 100 W/m·K 이하, 180 W/m·K 이하, 또는 250 W/m·K 이하의 열 전도율을 가질 수 있다. 본원에 제공된 모든 열 전도율 값은 ISO 22007-2 (트랜션트 플레인 열원 [고온 디스크] 방법)에 따라 25℃에서 측정된다. 다양한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 50 마이크로미터/미터 켈빈 ("μm/m·K", 이는 ppm/℃와 등가임) 미만, 45 μm/m·K 미만, 40 μm/m·K 미만, 35 μm/m·K 미만, 30 μm/m·K 미만, 또는 26 μm/m·K 미만의 선형 등방성 열 팽창 계수 ("CTE")를 갖는다. 이러한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 적어도 10 μm/m·K의 CTE를 가질 수 있다. 본원에 제공된 모든 CTE 값은 하기 시험 방법 섹션에 제공된 절차에 따라 측정된다.In various embodiments, the metal-based material has a specific surface area greater than 1 watt / meter Kelvin ("W / mK"), greater than 2 W / mK, greater than 3 W / 5 W / m · K, or 6 W / m · K. In such embodiments, the metal-based material may have a thermal conductivity of 50 W / mK or less, 100 W / mK or less, 180 W / mK or less, or 250 W / mK or less. All of the thermal conductivity values provided herein are measured at 25 DEG C in accordance with ISO 22007-2 (transient plane heat source [high temperature disk] method). In various embodiments, the metal-based material is less than 40 micrometers per meter Kelvin ("μm / mK", which is equivalent to ppm / , A linear isotropic coefficient of thermal expansion ("CTE") of less than 35 μm / m · K, less than 30 μm / m · K, or less than 26 μm / m · K. In such an embodiment, the metal-based material may have a CTE of at least 10 [mu] m / mK. All CTE values provided herein are measured according to the procedure provided in the Test Methods section below.

다양한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 적어도 5.0 메가파스칼 ("MPa")의 인장 강도를 갖는다. 이러한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 일반적으로 500 MPa 이하의 극한 인장 강도를 갖는다. 본원에 기재된 금속-기재 재료는 또한 중합체-금속 복합물에 관한 것이기 때문에, 본원에 제공된 모든 인장 강도 값은 ASTM D638에 따라 측정된다. 금속-단독 샘플에 대해, ASTM B557M에 따라 인장 특성을 측정한다.In various embodiments, the metal-based material has a tensile strength of at least 5.0 megapascals ("MPa"). In this embodiment, the metal-based material generally has an ultimate tensile strength of 500 MPa or less. Because the metal-based materials described herein are also related to polymer-metal composites, all of the tensile strength values provided herein are measured in accordance with ASTM D638. For metal-only samples, the tensile properties are measured according to ASTM B557M.

다양한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 발포 금속일 수 있다. 본원에 사용된 바와 같이, 용어 "발포 금속"은 일정 부피 분율의 공극-공간 세공을 포함하는 셀형 구조를 갖는 금속을 나타낸다. 발포 금속의 금속은 발포 금속을 제조하기에 적합한 것으로서 관련 기술분야에 공지되거나 또는 이후 발견되는 임의의 금속일 수 있다. 예를 들어, 발포 금속의 금속은 특히 알루미늄, 마그네슘 및 구리, 및 이들의 합금으로부터 선택될 수 있다. 특정 실시양태에서, 발포 금속은 발포 알루미늄일 수 있다.In various embodiments, the metal-based material may be a foamed metal. As used herein, the term "foam metal" refers to a metal having a cell-like structure comprising void-space pores of a certain volume fraction. The metal of the foamed metal may be any metal known in the art as being suitable for producing foamed metal or found later. For example, the metal of the foamed metal may be selected from aluminum, magnesium and copper, and alloys thereof, among others. In certain embodiments, the foamed metal may be foamed aluminum.

다양한 실시양태에서, 발포 금속은 0.1 내지 2.0 g/cm3, 0.1 내지 1.0 g/cm3, 또는 0.25 내지 0.5 g/cm3 범위의 밀도를 가질 수 있다. 일부 실시양태에서, 발포 금속은 0.03 내지 0.9, 0.1 내지 0.7, 또는 0.14 내지 0.5의 상대 밀도를 가질 수 있으며, 여기서 상대 밀도 (단위 없음)는 기재 금속 (즉, 다른 것은 동일한 금속의 비-발포 샘플)의 밀도에 대한 발포 금속의 밀도의 비로서 정의된다. 추가로, 발포 금속은 5 내지 150 W/m·K, 8 내지 125 W/m·K, 또는 15 내지 80 W/m·K 범위의 열 전도율을 가질 수 있다. 추가로, 발포 금속은 15 내지 25 μm/m·K, 또는 19 내지 23 μm/m·K 범위의 CTE를 가질 수 있다. 다양한 실시양태에서, 발포 금속은 5 내지 500 MPa, 20 내지 400 MPa, 50 내지 300 MPa, 60 내지 200 MPa, 또는 80 내지 200 MPa 범위의 인장 강도를 가질 수 있다.In various embodiments, the foamed metal may have a density in the range of 0.1 to 2.0 g / cm 3 , 0.1 to 1.0 g / cm 3 , or 0.25 to 0.5 g / cm 3 . In some embodiments, the foamed metal may have a relative density of 0.03 to 0.9, 0.1 to 0.7, or 0.14 to 0.5, wherein the relative density (in units) is less than the base metal (i.e., Of the density of the foamed metal to the density of the foamed metal. In addition, the foamed metal may have a thermal conductivity in the range of 5 to 150 W / mK, 8 to 125 W / mK, or 15 to 80 W / mK. In addition, the foamed metal may have a CTE in the range of 15 to 25 μm / m · K, or 19 to 23 μm / m · K. In various embodiments, the foamed metal may have a tensile strength in the range of 5 to 500 MPa, 20 to 400 MPa, 50 to 300 MPa, 60 to 200 MPa, or 80 to 200 MPa.

다양한 실시양태에서, 발포 금속은 폐쇄-셀 발포 금속일 수 있다. 관련 기술분야에 공지된 바와 같이, 용어 "폐쇄-셀"은 금속 기재 재료 내의 공극-공간 세공의 대부분이 독립된 세공 (즉, 다른 공극-공간 세공과 상호연결되지 않음)인 구조를 나타낸다. 폐쇄-셀 발포 금속은 일반적으로 1 내지 8 밀리미터 ("mm") 범위의 셀 크기를 가질 수 있다.In various embodiments, the foam metal may be a closed-cell foam metal. As is known in the relevant art, the term "closed-cell" refers to a structure in which most of the pore-space pores in the metal-based material are independent pores (i.e., are not interconnected with other pore-space pores). The closed-cell foamed metal may generally have a cell size in the range of 1 to 8 millimeters ("mm").

다양한 실시양태에서, 발포 금속은 개방-셀 발포 금속일 수 있다. 관련 기술분야에 공지된 바와 같이, 용어 "개방-셀"은 금속 기재 재료 내의 공극-공간 세공의 대부분이 상호연결된 세공 (즉, 하나 이상의 인접한 세공과 개방 접촉함)인 구조를 나타낸다. 개방-셀 발포 금속은 일반적으로 0.5 내지 10 mm 범위의 셀 크기를 가질 수 있다.In various embodiments, the foam metal may be an open-cell foam metal. As is known in the relevant art, the term "open-cell" refers to a structure in which most of the pore-space pores in the metal-based material are interconnected pores (i.e., in open contact with one or more adjacent pores). The open-cell foamed metal may generally have a cell size in the range of 0.5 to 10 mm.

상업적으로 입수가능한 발포 금속이 본원에 기재된 다양한 실시양태에 사용될 수 있다. 예를 들어, 적합한 발포 알루미늄 재료는 이소테크 인크(Isotech Inc)로부터 시트 형태 또는 3차원 캐스트 형태로 수득될 수 있다. 이러한 재료는 또한 폼테크TM 코포레이션(FoamtechTM Corporation), 라세매트TM 비브이(RacematTM BV), 및 레드TM 인터내셔널 코포레이션(ReadeTM International Corporation)으로부터 각각 시트 형태로 수득될 수 있다.Commercially available foamed metals may be used in the various embodiments described herein. For example, suitable foamed aluminum materials can be obtained from Isotech Inc in sheet form or in three-dimensional cast form. This material also forms TM Tech Corporation may each be obtained in a sheet form from the (Foamtech TM Corporation), La mat bibeuyi TM (TM Racemat BV), and red TM International Corporation (TM Reade International Corporation).

다양한 실시양태에서, 특히 개방-셀 발포 금속이 사용되는 경우에, 발포 금속은 (a) 비-발포 금속이거나, 또는 (b) 중합체-기재 재료로 코팅된, 표면 영역 또는 표면 영역의 일부를 제공할 수 있다. 이러한 실시양태에서, 발포 금속은 따라서 결함이 없거나 또는 실질적으로 없는 (즉, 평활한) 표면을 제공할 수 있다. 이러한 표면은 금속 도금을 용이하게 할 수 있고, 목적하는 강도가 발포 구조 단독으로는 달성되지 않을 수 있는 히트 싱크 핀의 경우와 같이 평활한 표면이 요구되는 부품의 형성을 가능하게 할 수 있다. 또한, 핀은 일반적으로 구조물에 실질적인 중량을 추가하지 않는 두께를 가지며, 따라서 추가 강도를 위해 비-발포 구조를 보유시키거나 또는 발포 구조의 공극-공간 세공을 중합체-기재 재료로 충전시키는 것 (또는 적어도 부분적으로 충전시키는 것)이 바람직할 수 있다. 표면 영역이 비-발포인 경우에, 비-발포 부분은 0.05 내지 5 mm 범위의 표면으로부터의 평균 깊이를 가질 수 있다. 비-발포 표면 영역을 갖는 적합한 발포 금속의 예는 시매트 테크놀로지스(Cymat Technologies) (캐나다 토론토)의 사업부인 알루션(Alusion)TM으로부터 상업적으로 입수가능한 안정화된 알루미늄 발포체이다.In various embodiments, particularly when an open-cell foamed metal is used, the foamed metal may be either (a) a non-foamed metal, or (b) a portion of a surface region or surface region coated with a polymer- can do. In such embodiments, the foamed metal may thus provide a surface that is substantially free (i.e., smooth) without defects. Such a surface can facilitate metal plating and enable the formation of parts that require a smooth surface, such as in the case of a heat sink fin where the desired strength may not be achieved by the foam structure alone. Also, the fins generally have a thickness that does not add substantial weight to the structure, thus retaining the non-foamed structure for additional strength or filling the void-space pores of the foamed structure with the polymer-based material (or At least partially filling) may be preferred. When the surface area is non-foamed, the non-foamed portion may have an average depth from the surface in the range of 0.05 to 5 mm. An example of a suitable foamed metal having a non-foamed surface area is a stabilized aluminum foam commercially available from Alusion TM , a division of Cymat Technologies, Toronto, Canada.

발포 금속의 열 손실을 개선하기 위한 추가 접근법은, 예를 들어 밀폐된 부품을 보호하기 위해 밀봉 인클로저를 보유시키는 것과 같이, 물품의 전체 성능에 영향을 미치지 않으면서 공기 순환을 가능하게 하는 발포 코어를 통과하는 공기 통로를 사용하는 것일 수 있다. 이러한 접근법은 비-발포 외부 층이 사용되는 경우에, 즉 순환이 타당하게 위치한 채널을 통해 코어 내에서만 발생하는 경우에 특히 유용하다.An additional approach to improving the heat loss of the foamed metal is to use a foam core that allows air circulation without affecting the overall performance of the article, such as, for example, holding a sealing enclosure to protect the enclosed component It may be to use an air passage to pass through. This approach is particularly useful when a non-foamed outer layer is used, i. E. It occurs only in the core through a channel in which the circulation is reasonably located.

중합체-기재 재료를 사용하여 무결함 또는 실질적으로 무결함인 표면을 제공하거나, 또는 추가 강도를 위해 발포 구조를 충전시키거나 또는 적어도 부분적으로 충전시키는 경우에, 이러한 중합체-기재 재료는 0.05 mm로부터 발포 금속을 완전 침투하여 상호침투된 중합체-금속 네트워크를 형성하도록 하는 것까지의 범위의 두께로 적용될 수 있다. 이러한 실시양태에 사용하기 위한 중합체-기재 재료의 예에는 열경화성 에폭시, 또는 열가소성 무정형 또는 결정질 중합체가 포함된다. 한 실시양태에서, 중합체-기재 재료는 열경화성 에폭시이다. 중합체-기재 재료는 관련 기술분야의 임의의 통상의 방법 또는 이후 발견되는 방법을 사용하여 표면 영역에 적용되거나, 또는 발포 금속의 구조 내부로 침투되도록 할 수 있다. 예를 들어, 이러한 적용은 진공 캐스팅 또는 압력 함침, 또는 압력 하의 열경화성 재료와의 삽입 성형을 통해 달성될 수 있다. 중합체 재료는 그 자체로 밀도 감소, 가열 강도 및/또는 열 전도율 개선을 위해 적절한 충전제로 충전될 수 있다. 이러한 충전제에는 실리카, 석영, 알루미나, 질화붕소, 질화알루미늄, 흑연, 카본 블랙, 탄소 나노튜브, 알루미늄 플레이크, 및 섬유, 유리 섬유, 유리 또는 세라믹 마이크로구체, 및 이들 중 둘 이상의 조합이 포함될 수 있다.When polymer-based materials are used to provide a defect-free or substantially defect-free surface, or to fill or at least partially fill the foam structure for additional strength, such polymer- To a thickness that ranges from fully penetrating the metal to forming an interpenetrating polymer-metal network. Examples of polymer-based materials for use in such embodiments include thermosetting epoxies, or thermoplastic amorphous or crystalline polymers. In one embodiment, the polymer-based material is a thermosetting epoxy. The polymer-based material may be applied to the surface area using any conventional method or method that will be found later, or may be made to penetrate into the structure of the foamed metal. For example, such application can be accomplished through vacuum casting or pressure impregnation, or insert molding with a thermosetting material under pressure. The polymeric material may itself be filled with a suitable filler for density reduction, heating strength and / or thermal conductivity improvement. Such fillers may include silica, quartz, alumina, boron nitride, aluminum nitride, graphite, carbon black, carbon nanotubes, aluminum flakes and fibers, glass fibers, glass or ceramic microspheres, and combinations of two or more thereof.

다양한 실시양태에서, 금속-기재 재료는 마이크로구체-충전 금속일 수 있다. 본원에 사용된 바와 같이, 용어 "마이크로구체"는 500 마이크로미터 ("μm") 미만의 질량 중앙 직경 ("D50")을 갖는 충전제 재료를 나타낸다. 본원에 사용하기에 적합한 마이크로구체 충전제는 일반적으로 구형 또는 실질적으로 구형인 형상을 가질 수 있다. 마이크로구체-충전 금속의 금속은 상기 기재된 임의의 금속일 수 있다. 상기 언급된 바와 같이, 금속-기재 재료의 금속은 알루미늄일 수 있다. 따라서, 특정 실시양태에서, 마이크로구체-충전 금속은 마이크로구체-충전 알루미늄일 수 있다.In various embodiments, the metal-based material may be a microsphere-filled metal. As used herein, the term "microsphere" refers to a filler material having a mass median diameter ("D50") of less than 500 micrometers ("μm"). Microsphere fillers suitable for use herein may generally have a spherical or substantially spherical shape. The metal of the microsphere-filled metal may be any of the metals described above. As mentioned above, the metal of the metal-based material may be aluminum. Thus, in certain embodiments, the microsphere-filled metal may be microsphere-filled aluminum.

다양한 실시양태에서, 마이크로구체-충전 금속은 0.6 내지 2 g/cm3 범위의 밀도를 가질 수 있다. 추가로, 마이크로구체-충전 금속은 5 내지 150 W/m·K 범위의 열 전도율을 가질 수 있다. 추가로, 마이크로구체-충전 금속은 8 내지 25 μm/m·K 범위의 선형 등방성 CTE를 가질 수 있다. 다양한 실시양태에서, 마이크로구체-충전 금속은 0.8 내지 60 Kpsi (~5.5 내지 413.7 MPa) 범위의 인장 강도를 가질 수 있다.In various embodiments, the microsphere-filled metal may have a density in the range of 0.6 to 2 g / cm &lt; 3 &gt;. In addition, the microsphere-filled metal may have a thermal conductivity in the range of 5 to 150 W / mK. In addition, the microsphere-filled metal may have a linear isotropic CTE in the range of 8 to 25 μm / m · K. In various embodiments, the microsphere-filled metal may have a tensile strength in the range of 0.8 to 60 Kpsi (~ 5.5 to 413.7 MPa).

다양한 유형의 마이크로구체 충전제가 본원에 사용하기에 적합한 마이크로구체-충전 금속에 사용될 수 있다. 다양한 실시양태에서, 마이크로구체 충전제는 중공이다. 추가로, 특정 실시양태에서, 마이크로구체는 유리 마이크로구체, 멀라이트 마이크로구체, 알루미나 마이크로구체, 알루미노-실리케이트 마이크로구체 (세노스피어(cenosphere)로도 공지됨), 세라믹 마이크로구체, 실리카-탄소 마이크로구체, 탄소 마이크로구체, 및 이들 중 둘 이상의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.Various types of microsphere fillers may be used in the microsphere-filled metal suitable for use herein. In various embodiments, the microsphere filler is hollow. In addition, in certain embodiments, the microspheres are selected from the group consisting of glass microspheres, mullite microspheres, alumina microspheres, aluminosilicate microspheres (also known as cenosphere), ceramic microspheres, silica- , Carbon microspheres, and mixtures of two or more thereof.

다양한 실시양태에서, 본원에 사용하기에 적합한 마이크로구체는 8 내지 30 μm의 입자 크기 분포 D10을 가질 수 있다. 추가로, 마이크로구체는 10 내지 70 μm의 D50을 가질 수 있다. 추가로, 마이크로구체는 25 내지 120 μm의 D90을 가질 수 있다. 또한, 마이크로구체는 0.1 내지 0.7 g/cm3 범위의 진밀도를 가질 수 있다. 관련 기술분야에 공지된 바와 같이, "진"밀도는 ("벌크" 밀도와는 대조적으로) 입자간 공극 공간을 무시하는 밀도 측정치이다. 마이크로구체의 진밀도는 유럽 특허 출원 번호 EP 1 156 021 A1에 기재된 바와 같이 헬륨 가스 치환 유형 건식 자동 밀도계 (예를 들어, 시마즈 코포레이션(Shimadzu Corporation)의 아큐픽(Acupic) 1330)로 측정될 수 있다. 또한, 본원에 사용하기에 적합한 마이크로구체는 0.1 내지 8 μm/m·K 범위의 CTE를 가질 수 있다. 또한, 사용하기에 적합한 마이크로구체는 0.5 내지 5 W/m·K 범위의 열 전도율을 가질 수 있다. 마이크로구체는 금속 코팅될 수 있다.In various embodiments, the microspheres suitable for use herein may have a particle size distribution D10 of from 8 to 30 [mu] m. Additionally, the microspheres may have a D50 of 10 to 70 [mu] m. In addition, the microspheres may have a D90 of 25 to 120 [mu] m. In addition, the microspheres may have a true density in the range of 0.1 to 0.7 g / cm &lt; 3 &gt;. As is known in the relevant art, "true" density is a density measure that ignores intergranular void spaces (as opposed to "bulk" density). The true density of the microspheres can be measured with a helium gas displacement type dry automatic density meter (e.g., Acupic 1330 from Shimadzu Corporation) as described in European Patent Application No. EP 1 156 021 A1 have. In addition, the microspheres suitable for use herein may have a CTE in the range of 0.1 to 8 [mu] m / mK. In addition, microspheres suitable for use may have a thermal conductivity in the range of 0.5 to 5 W / m 占.. The microspheres can be metal coated.

다양한 실시양태에서, 마이크로구체는 마이크로구체-충전 금속의 총 부피를 기준으로 1 내지 95 부피 퍼센트 ("부피%"), 10 내지 80 부피%, 또는 30 내지 70 부피% 범위를 구성할 수 있다.In various embodiments, the microspheres may comprise from 1 to 95 volume percent ("volume%"), from 10 to 80 volume%, or from 30 to 70 volume%, based on the total volume of the microsphere-filled metal.

하나 이상의 실시양태에서, 마이크로구체는 임의로 1종 이상의 유형의 통상의 충전제 재료와 조합될 수 있다. 통상의 충전제 재료의 예에는 실리카 및 알루미나가 포함된다.In one or more embodiments, the microspheres may optionally be combined with one or more types of conventional filler materials. Examples of typical filler materials include silica and alumina.

상업적으로 입수가능한 마이크로구체-충전 금속이 본원에 기재된 다양한 실시양태에 사용될 수 있다. 하나의 이러한 상업적으로 입수가능한 제품의 예는 파우더메트 인크.(Powdermet Inc.) (미국 오하이오주 유클리드)로부터의 에스콤피(SComP)™이다.Commercially available microsphere-filled metals may be used in the various embodiments described herein. One example of one such commercially available product is SComP ™ from Powdermet Inc. (Euclid, Ohio, USA).

다양한 실시양태에서, 마이크로구체-충전 금속은 (a) 비-마이크로구체-충전 금속이거나 또는 (b) 중합체-기재 재료로 코팅된, 표면 영역 또는 표면 영역의 일부를 제공할 수 있다. 이러한 실시양태에서, 마이크로구체-충전 금속은 따라서 결함이 없거나 또는 실질적으로 없는 (즉, 평활한) 표면을 제공할 수 있으며, 이는 금속 도금을 용이하게 할 수 있고, 평활한 표면이 요구되는 부품 (예를 들어, 히트 싱크 핀)의 형성을 가능하게 할 수 있다. 표면 영역이 비-마이크로구체-충전인 경우에, 비-마이크로구체-충전 부분은 0.2 내지 5 mm 범위의 표면으로부터의 평균 깊이를 가질 수 있다.In various embodiments, the microsphere-filled metal may provide a portion of a surface region or surface region that is (a) a non-microsphere-filled metal or (b) coated with a polymer-based material. In such an embodiment, the microsphere-filled metal may thus provide a surface that is defect free or substantially free (i.e., smooth), which may facilitate metal plating and may require a smooth surface For example, a heat sink pin). When the surface area is non-microsphere-filled, the non-microsphere-filled portion may have an average depth from the surface in the range of 0.2 to 5 mm.

중합체-기재 재료가 무결함 표면을 제공하기 위해 사용되는 경우에, 이러한 중합체-기재 재료는 50 내지 1,000 μm 범위의 두께로 적용될 수 있다. 이러한 실시양태에 사용하기 위한 중합체-기재 재료를 사용하는 예 및 방법은 발포 금속에 관하여 상기 기재된 바와 동일하다.When a polymer-based material is used to provide a defect-free surface, such a polymer-based material may be applied in a thickness in the range of 50 to 1,000 [mu] m. Examples and methods of using a polymer-based material for use in this embodiment are the same as described above with respect to the foamed metal.

무선 통신탑 부품Wireless Telecommunication Tower Parts

상기 언급된 바와 같이, 상기 기재된 금속-기재 재료 중 임의의 하나 이상을 사용하여 무선 통신탑 부품을 적어도 부분적으로 제조할 수 있다. 본원에 사용된 바와 같이, "무선 통신탑 부품"은 전자 통신 장비, 위성 위치확인 시스템 ("GPS") 장비, 또는 유사한 장비의 임의의 피스, 또는 그의 부품 또는 부분을 나타낸다. 용어 "탑"이 사용되었지만, 이러한 장비는 실제로 탑 상에 장착되거나 또는 탑 상에 장착되도록 설계될 필요는 없으며, 오히려 다른 높은 위치, 예컨대 라디오 마스트, 건물, 기념비 또는 나무가 또한 고려될 수 있다. 이러한 부품의 예에는 안테나, 송신기, 수신기, 송수신기, 디지탈 신호 프로세서, 제어 전자장치, GPS 수신기, 전원, 및 전기 부품 하우징을 위한 인클로저가 포함되지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 추가로, 이러한 전기 장비 내에서 전형적으로 발견되는 부품, 예컨대 RF 필터 및 히트 싱크가 또한 고려된다. 추가로, 탑-상부 지지 부속품, 예컨대 플랫폼 및 마운팅 하드웨어가 또한 포함된다.As mentioned above, any one or more of the above-described metal-based materials may be used to at least partially fabricate wireless telecommunications tower parts. As used herein, "wireless telecommunications tower part" refers to any piece of electronic communication equipment, a satellite positioning system ("GPS") equipment, or similar equipment, or parts or parts thereof. Although the term "tower" has been used, such equipment need not actually be designed to be mounted on a tower or mounted on a tower, but rather another high location, such as a radio mast, building, monument or wood may also be considered. Examples of such components include, but are not limited to, antennas, transmitters, receivers, transceivers, digital signal processors, control electronics, GPS receivers, power supplies, and enclosures for electrical component housings. In addition, components typically found in such electrical equipment, such as RF filters and heat sinks, are also contemplated. In addition, top-top support accessories, such as platforms and mounting hardware, are also included.

상기 언급된 바와 같이, 무선 통신탑 부품은 RF 필터일 수 있다. RF 필터는 리모트 라디오 헤드(remote radio head) 내의 주요한 요소이다. RF 필터는 특정 주파수의 신호를 제거하기 위해 사용되며, 일반적으로 듀플렉서(duplexer) 및 디플렉서(diplexer)를 위한 빌딩 블록으로서 사용되어 다중 주파수 대역을 조합하거나 또는 분리한다. RF 필터는 또한 상이한 대역에서 작동하는 시스템 간의 간섭을 최소화하는데에 있어 주요한 역할을 한다.As mentioned above, the radio telecommunication tower part may be an RF filter. An RF filter is a key element within a remote radio head. An RF filter is used to remove a signal of a specific frequency and is generally used as a building block for a duplexer and a diplexer to combine or separate multiple frequency bands. RF filters also play a major role in minimizing interference between systems operating in different bands.

RF 캐비티 필터가 일반적으로 사용되는 RF 필터이다. 다양한 설계 및 물리적 기하구조의 이러한 필터를 제조하기 위한 일반적인 실시는, 알루미늄을 목적하는 구조로 다이 캐스팅하거나 또는 다이 캐스트 예비-형성체로부터 최종 기하구조로 기계가공하는 것이다. RF 필터, 그의 특징, 그의 제조, 그의 기계가공 및 그의 전체 제조는, 예를 들어 미국 특허 번호 7,847,658 및 8,072,298에 기재되어 있다.RF cavity filters are commonly used RF filters. A common practice for fabricating such filters of various designs and physical geometries is to die-cast aluminum into the desired structure or to machine the final geometry from the die-cast preform. The RF filter, its features, its fabrication, its machining and its overall fabrication are described, for example, in U.S. Patent Nos. 7,847,658 and 8,072,298.

상기 언급된 바와 같이, 중합체-기재 재료는 금속-기재 재료 상에 평활한 표면을 제공하기 위해 사용될 수 있고/거나 금속-기재 재료를 위한 충전제로서 사용될 수 있다. 예를 들어, 에폭시 복합물 재료를 사용하여 금속-기재 재료의 표면 중 적어도 일부를 코팅할 수 있다. 예시적인 에폭시 복합물은 미국 가특허 출원 일련 번호 61/557,918 ("'918 출원")에 기재되어 있다. 추가로, 금속-기재 재료 및/또는 중합체-기재 재료의 표면은 '918 출원에 기재된 바와 같이 금속화될 수 있다.As mentioned above, the polymer-based material may be used to provide a smooth surface on the metal-based material and / or may be used as a filler for the metal-based material. For example, an epoxy composite material can be used to coat at least a portion of the surface of the metal-based material. Exemplary epoxy composites are described in United States patent application serial number 61 / 557,918 ("'918 application"). In addition, the surface of the metal-based material and / or the polymer-based material may be metallized as described in the '918 application.

다양한 실시양태에서, 상기 기재된 금속-기재 재료 중 적어도 일부는, RF 캐비티 필터에 대해 전형적으로 수행되는 바와 같이, 금속 도금될 수 있다. 예를 들어, 금속 층, 예컨대 구리, 은 또는 금이 다양한 도금 기술을 통해 금속-기재 재료 또는 개재하는 중합체-기재 재료 층 상에 침착될 수 있다. 적합한 도금 기술의 예는, 예를 들어 '918 출원에서 찾을 수 있다. In various embodiments, at least some of the metal-based materials described above may be metal plated, as is typically done for RF cavity filters. For example, a metal layer, such as copper, silver, or gold, may be deposited on the metal-based material or the intervening polymer-based material layer through a variety of plating techniques. Examples of suitable plating techniques can be found, for example, in the '918 application.

한 실시양태에서, 무선 통신탑 부품은 히트 싱크일 수 있다. 관련 기술분야에 공지된 바와 같이, 리모트 라디오 헤드에 사용되는 부품일 수 있는 히트 싱크는 전형적으로 베이스 부재 및 열 확산 부재 (또는 "핀")를 포함한다. 열 확산 부재는 전형적으로 고전도성 재료, 예컨대 구리로부터 형성된다. 한 실시양태에서, 본 명세서에 따라 제조된 히트 싱크는 임의의 상기 기재된 금속-기재 재료로부터 형성된 베이스 부재를 포함할 수 있으며, 통상의 열 확산 부재를 사용한다. 다양한 실시양태에서, 발포 금속 (특히, 개방-셀 발포 금속)이 사용되는 경우에, 베이스 부재는 상기 기재된 바와 같은 비-발포 표면을 가질 수 있다.In one embodiment, the wireless telecommunications tower part may be a heat sink. As is known in the relevant art, a heat sink, which may be a component used in a remote radio head, typically includes a base member and a heat spreading member (or "pin"). The heat spreading member is typically formed from a highly conductive material, such as copper. In one embodiment, a heat sink manufactured in accordance with the present disclosure may comprise a base member formed from any of the above-described metal-based materials and uses conventional heat spreading members. In various embodiments, when a foamed metal (particularly an open-cell foamed metal) is used, the base member may have a non-foamed surface as described above.

다양한 실시양태에서, 무선 통신탑 부품은 전자 장비를 함유 및/또는 보호하는 인클로저일 수 있다. 이러한 인클로저의 예는, 예를 들어 엠티아이 인크(MTI Inc.)로부터의 MRH-24605 LTE 리모트 라디오 헤드일 수 있다.In various embodiments, the wireless telecommunications tower part may be an enclosure that contains and / or protects electronic equipment. An example of such an enclosure may be the MRH-24605 LTE remote radio head, for example from MTI Inc.

하나 이상의 실시양태에서, 무선 통신탑 부품은 지지 부재, 예컨대 패스닝 브라켓 또는 플랫폼을 제조하기 위해 사용되는 부품일 수 있다. 구체적인 부품에는 안테나 마운트, 지지 브라켓, 코-로케이션 플랫폼, 클램프 시스템, 섹터 프레임 부속품, 아이스 브릿지 키트, 트리-섹터 t-마운트 부속품, 라이트 키트 마운팅 시스템, 및 웨이브-가드 브릿지가 포함되지만, 이에 제한되는 것은 아니다.In one or more embodiments, the wireless telecommunications tower component may be a support member, e.g., a part used to fabricate a fastening bracket or platform. Specific components include but are not limited to antenna mounts, support brackets, co-location platforms, clamping systems, sector frame fittings, ice bridge kits, tri-sector t-mount fittings, light kit mounting systems, and wave- It is not.

본원에 기재된 금속-기재 재료로부터 상기 기재된 무선 통신탑 부품을 제조하는 것은 임의의 공지되거나 또는 이후 발견되는 금속-가공 기술, 예컨대 성형, 벤딩, 다이-캐스팅, 기계가공 및 그의 조합에 따라 수행될 수 있다.Fabrication of the wireless telecommunications tower components described above from the metal-based materials described herein may be performed according to any known or later discovered metal-processing technique, such as molding, bending, die-casting, machining, and combinations thereof .

<시험 방법><Test Method>

밀도density

복합물 샘플의 밀도는 ASTM D792에 따라 25℃에서 측정한다. 금속-단독 샘플에 대해, 밀도 구배 방법에 의해 ASTM D1505에 따라 밀도를 측정한다.The density of the composite sample is measured at 25 DEG C in accordance with ASTM D792. For metal-only samples, the density is measured according to ASTM D1505 by the density gradient method.

열 전도율Thermal conductivity

열 전도율은 ISO 22007-2 (트랜션트 플레인 열원 (고온 디스크) 방법)에 따라 측정한다.The thermal conductivity is measured according to ISO 22007-2 (transient plane heat source (high temperature disc) method).

열 팽창 계수Coefficient of thermal expansion

CTE는 열기계 분석기(Thermomechanical Analyzer) (티에이 인스트루먼츠(TA Instruments)로부터의 TMA 2940)를 사용하여 측정한다. 5℃/분의 가열 속도를 사용하여 팽창 프로파일을 생성하고, CTE를 팽창 프로파일 곡선의 기울기로서 하기와 같이 계산한다: CTE = △L/(△T x L) (여기서, △L은 샘플 길이의 변화 (μm)이고, L은 샘플의 본래 길이 (m)이고, △T는 온도의 변화 (℃)임). 기울기가 측정되는 온도 범위는 제2 가열시에 20℃ 내지 60℃이다.The CTE is measured using a Thermomechanical Analyzer (TMA 2940 from TA Instruments). A heating rate of 5 [deg.] C / min is used to generate the expansion profile and the CTE is calculated as the slope of the expansion profile curve as follows: CTE = DELTA L / (DELTA TxL) (M), L is the original length (m) of the sample, and DELTA T is the change in temperature (DEG C). The temperature range at which the tilt is measured is 20 占 폚 to 60 占 폚 in the second heating.

인장 강도The tensile strength

인장 특성 측정 (인장 강도 및 % 파단 신율)은 유형 1 인장 막대 및 0.2 인치/분의 변형 속도를 사용하여 ASTM D638에 따라 경화된 에폭시 배합물 상에서 이루어진다. 알루미늄 금속 샘플에 대해, ASTM B557M에 따라 인장 특성을 측정한다.Tensile properties measurements (tensile strength and% elongation at break) are made on epoxy formulations cured according to ASTM D638 using a Type 1 tensile bar and a strain rate of 0.2 inch / min. For aluminum metal samples, tensile properties are measured according to ASTM B557M.

유리 전이 온도 (Tg)The glass transition temperature (Tg)

Tg는 샘플을 0에서 250℃로의 제1 가열 스캔 내지 0에서 250℃로의 제2 가열 스캔에서의 10℃/분의 가열 및 냉각을 갖는 시차 주사 열량계 ("DSC")에 넣음으로써 측정한다. Tg를 0에서 250℃로의 제2 가열 스캔시에 2차 전이의 절반-높이 값으로서 기록한다.Tg is measured by placing the sample in a differential scanning calorimeter ("DSC ") having a first heating scan from 0 to 250 占 폚 and heating and cooling at 10 占 폚 / min in a second heating scan from 0 to 250 占 폚. Record the Tg as the half-height value of the second transition at the second heating scan from 0 to 250 占 폚.

<실시예><Examples>

실시예 1 - 재료 비교Example 1 - Comparison of materials

하기 표 1에서 발포 알루미늄 (S1)의 샘플을 통상의 알루미늄 (비교예 A), 3종의 에폭시 복합물 조성물 (비교예 B 내지 D), 및 유리-충전 폴리에테르이미드 (비교예 E)와 비교하였다. 발포 알루미늄은 0.41 g/cm3의 밀도 및 주로 개방-셀 구조를 갖는 25.4 mm 두께의 샘플이고, 시매트 테크놀로지스, 리미티드로부터 입수하였다. 통상의 알루미늄은 알루미늄 합금 6061이었다. 에폭시 복합물 조성물 (비교예 B 내지 D)에 대한 혼합, 캐스팅 및 경화 공정을 하기 기재된 바와 같이 일반적으로 수행하였다. 유리-충전 폴리에테르이미드는 지이 플라스틱스(GE Plastics)로부터 상업적으로 입수가능한, 45%의 유리 섬유 충전제를 갖는 폴리에테르에테르 이미드인 울템(ULTEM)TM 3452였다.The samples of foamed aluminum (S1) in Table 1 were compared with conventional aluminum (Comparative Example A), three epoxy composite compositions (Comparative Examples B to D), and glass-filled polyetherimide (Comparative Example E) . Foamed aluminum was a 25.4 mm thick sample with a density of 0.41 g / cm &lt; 3 &gt; and a mainly open-cell structure, and was obtained from SiMat Technologies, The normal aluminum was an aluminum alloy 6061. The mixing, casting and curing processes for the epoxy composite compositions (Comparative Examples B to D) were generally carried out as described below. The glass-filled polyether imide was ULTEM TM 3452, a polyether ether imide having 45% glass fiber filler, commercially available from GE Plastics.

비교예 B 내지 D 제조 절차Comparative Examples B to D Manufacturing procedures

하기 기재에 사용된 용어 및 명칭은 다음과 같다: D.E.N. 425는 172의 EEW를 갖는 에폭시 수지이고, 더 다우 케미칼 캄파니(The Dow Chemical Company)로부터 상업적으로 입수가능하고; D.E.R. 383은 171의 EEW를 갖는 에폭시 수지이고, 더 다우 케미칼 캄파니로부터 상업적으로 입수가능하고; "NMA"는 나드산 메틸 무수물을 나타내고, 폴리사이언시즈(Polysciences)로부터 상업적으로 입수가능하고; "ECA100"은 에폭시 경화제(Epoxy Curing Agent) 100을 나타내고, 딕시 케미칼(Dixie Chemical)로부터 상업적으로 입수가능하고, ECA 100은 일반적으로 80% 초과의 메틸테트라히드로프탈산 무수물 및 10% 초과의 테트라히드로프탈산 무수물을 포함하고; "1MI"는 1-메틸이미다졸을 나타내고, 알드리치 케미칼(Aldrich Chemical)로부터 상업적으로 입수가능하고; 실본드(SILBOND)® W12EST는 16 μm의 D50 입자 크기를 갖는 에폭시 실란 처리된 석영이고, 쿼르츠베르케(Quarzwerke)로부터 상업적으로 입수가능하였다.The terms and names used in the following description are as follows: D.E.N. 425 is an epoxy resin with an EEW of 172 and is commercially available from The Dow Chemical Company; D.E.R. 383 is an epoxy resin having an EEW of 171 and is commercially available from The Dow Chemical Company; "NMA" refers to methyl anhydride and is commercially available from Polysciences; "ECA100" refers to Epoxy Curing Agent 100, commercially available from Dixie Chemical, and ECA 100 generally comprises greater than 80% methyltetrahydrophthalic anhydride and greater than 10% tetrahydrophthalic acid An anhydride; "1MI" refers to 1-methylimidazole, commercially available from Aldrich Chemical; SILBOND 占 W12EST is an epoxy silane treated quartz with a D50 particle size of 16 占 퐉 and is commercially available from Quarzwerke.

필요량의 충전제를 밤새 ~70℃의 온도에서 진공 오븐 내에서 건조시켰다. 무수물 고화제를 함유하는 에폭시 수지를 별도로 ~60℃로 예비 가온하였다. 입구가 넓은 플라스틱 용기에 지정된 양의 따뜻한 에폭시 수지, 따뜻한 무수물 고화제 및 1-메틸이미다졸을 로딩하고, 이를 수동으로 저은 후, 따뜻한 충전제를 첨가하였다. 이어서, 용기의 내용물을 플랙텍 스피드믹서(FlackTek SpeedMixer)™ 상에서 약 800 내지 약 2000 rpm으로 ~1-2분 지속기간의 다수의 사이클로 혼합하였다.The required amount of filler was dried overnight in a vacuum oven at a temperature of ~ 70 ° C. The epoxy resin containing the anhydride solidifying agent was preliminarily heated to ~ 60 ° C. The amount of warm epoxy resin, warm anhydrous solidifying agent and 1-methylimidazole were loaded into a large plastic container with an inlet, which was manually diluted, followed by the addition of warm filler. The contents of the vessel were then mixed on a FlackTek SpeedMixer ™ at a number of cycles of from about 800 to about 2000 rpm for a duration of 1-2 minutes.

혼합된 배합물을 탈기용 진공 펌프 및 진공 제어기와 함께, 유리 교반-축을 사용하고, 테플론(Teflon)® 날개를 보유하는 오버헤드 교반기를 갖춘 온도 제어된 ~500 내지 1000-mL의 수지 케틀에 로딩하였다. 전형적인 탈기 프로파일을 약 55℃ 내지 약 75℃에서 수행하였으며, 하기 단계가 대표적이다: 5분, 80 rpm, 100 Torr; 5분, 80 rpm, 50 Torr; 5분, 80 rpm, 20 Torr와 ~760 Torr로의 N2 브레이크; 5분, 80 rpm, 20 Torr와 ~760 Torr로의 N2 브레이크; 3분, 80 rpm, 20 Torr; 5분, 120 rpm, 10 Torr; 5분, 180 rpm, 10 Torr; 5분, 80 rpm, 20 Torr; 및 5분, 80 rpm, 30 Torr. 탈기시킬 배합물의 크기에 따라, 보다 높은 진공에서의 시간을 임의로 증가시킬 수도 있고, 뿐만 아니라 원하는 경우에 5 Torr의 보다 높은 진공을 사용할 수도 있다.The combined blends were loaded with a vacuum pump for degassing and a vacuum controller into a temperature controlled ~500 to 1000-mL resin kettle with an overhead stirrer using a glass stirrer and holding Teflon ® blades . A typical degassing profile was performed at about 55 ° C to about 75 ° C, the following steps being representative: 5 minutes, 80 rpm, 100 Torr; 5 min, 80 rpm, 50 Torr; 5 minutes, 80 rpm, N 2 brakes from 20 Torr to ~ 760 Torr; 5 minutes, 80 rpm, N 2 brakes from 20 Torr to ~ 760 Torr; 3 min, 80 rpm, 20 Torr; 5 min, 120 rpm, 10 Torr; 5 min, 180 rpm, 10 Torr; 5 min, 80 rpm, 20 Torr; And 5 minutes, 80 rpm, 30 Torr. Depending on the size of the compound to be degassed, the time at higher vacuum may optionally be increased, as well as a higher vacuum of 5 Torr if desired.

따뜻한 탈기된 혼합물을 대기압에 두고, 하기 기재된 따뜻한 몰드 어셈블리에 부었다. 하기 기재된 특정 몰드에 대해, 전형적으로 약 350 그램 내지 450 그램의 특정한 양을 몰드의 개방 측에 부었다. 충전된 몰드를 80℃ 오븐 내에 약 16시간 동안 수직으로 세워 놓고, 후속적으로 온도를 상승시키고, 총 10시간 동안 140℃에서 유지시키고; 이어서 후속적으로 온도를 상승시키고, 총 4시간 동안 225℃에서 유지시키고; 이어서 주위 온도 (약 25℃)로 천천히 냉각시켰다.The warm degassed mixture was poured into the warm mold assembly described below at atmospheric pressure. For the particular molds described below, a specific amount of typically about 350 grams to 450 grams was poured on the open side of the mold. The filled mold was placed vertically in an 80 DEG C oven for about 16 hours, subsequently raised in temperature and held at 140 DEG C for a total of 10 hours; Subsequently the temperature was subsequently raised and held at 225 DEG C for a total of 4 hours; It was then slowly cooled to ambient temperature (about 25 DEG C).

몰드 어셈블리Mold assembly

한 모서리에 각진 절단부를 갖는 2개의 ~355 mm2 금속 플레이트 상에 각각의 듀오호일(DUOFOIL)™ (~330 mm x 355 mm x ~0.38 mm)을 고정시켰다. ~3.05 mm 두께의 U-스페이서 막대 및 ~3.175 mm ID x ~4.75 mm OD의 실리콘 고무 튜빙 (가스켓으로서 사용됨)을 플레이트 사이에 넣고, 몰드를 C-클램프를 사용하여 밀폐되도록 유지시켰다. 사용 전에 몰드를 약 65℃ 오븐 내에서 예비 가온하였다. 동일한 몰드 공정은, 보다 작은 금속 플레이트를 사용하는 캐스팅에 대해 적합화될 수 있을 뿐만 아니라, 가스켓으로서 기능하는 실리콘 고무 튜빙의 적절한 조정을 사용하여 보다 두꺼운 U-스페이서 막대의 사용에 대해 적합화될 수 있다.Each Duo foil (DUOFOIL) (~ 330 mm x 355 mm x ~ 0.38 mm) was secured onto two ~ 355 mm 2 metal plates with angled cuts at one corner. Silicone rubber tubing (used as a gasket) with ~ 3.05 mm thick U-spacer rod and ~ 3.175 mm ID x ~ 4.75 mm OD was placed between the plates and the mold was held closed using a C-clamp. The molds were pre-warmed in an oven at about &lt; RTI ID = 0.0 &gt; 65 C &lt; / RTI &gt; The same mold process can be adapted for use with thicker U-spacer rods, as well as being adapted for casting using smaller metal plates, but also with appropriate adjustment of the silicone rubber tubing serving as a gasket have.

<표 1> 무선 통신탑 부품에 대한 재료 비교<Table 1> Comparison of materials for wireless communication tower parts

Figure pct00001
Figure pct00001

N/D = 측정되지 않음N / D = not measured

* 전형적인 6061 합금 (측정되지 않음; 데이터는 www.efunda.com로부터 입수하여 기록함)* Typical 6061 alloy (unmeasured; data available from www.efunda.com)

** 특성은 측정되지 않음; 데이터는 지이 프로덕츠 데이터 시트로부터 수득하여 기록함** Characteristics not measured; Data was obtained from the GI products data sheet and recorded

*** 유동 방향/횡 방향*** Flow direction / transverse direction

† 도금 절차는 미국 가특허 출원 일련 번호 61/557,918에 제공된 기재에 따라 수행함† The plating procedure was performed according to the description provided in the US patent application Serial No. 61 / 557,918

†† 양호한 표피 마감을 갖는 발포 알루미늄은 도금가능한 표면을 제공함†† Foamed aluminum with good skin finish provides a platable surface.

표 1에 보여진 바와 같이, 발포 알루미늄은 열경화물에 비해 보다 낮은 열 팽창 계수를 제공하며, 통상의 알루미늄에 비해 크게 감소된 밀도에서 적절한 열 전도율을 유지하였다.As shown in Table 1, foamed aluminum provided a lower coefficient of thermal expansion compared to thermoset, and maintained adequate thermal conductivity at significantly reduced density compared to conventional aluminum.

실시예 2 - 열경화성 에폭시로 충전된 발포 알루미늄Example 2 - Foam aluminum filled with thermosetting epoxy

하기 절차에 따라, 충전된 에폭시 배합물 중에서 2"x2"x0.5"의 치수를 갖는 발포 알루미늄 블록을 캐스팅하고, 경화시켰다. 사용된 에폭시 배합물은 DER 332 + 50/50 나드산 메틸 무수물/에폭시 경화제 100 (즉, MTHPA)과 65 중량%의 실본드 126EST였다. 발포 알루미늄 발포체는 실시예 1에서 상기 기재된 바와 동일하였다. 상기 기재된 바와 같이 에폭시 조성물을 혼합하고, 탈기시킨 후, 발포 알루미늄을 수지 케틀 내의 액체 에폭시 혼합물에 도입하고, 교반 날개를 사용하여 제위치에 유지시켜 부유하는 것을 방지하였다. 용기를 밀폐하고, 하기와 같이 35분 동안 진공을 적용하여 알루미늄 발포체로부터 공기를 제거하고, 액체 에폭시를 금속 세공에 밀어 넣었다 : 10분 동안 10 torr, 5분 동안 5 torr, 5분 동안 10 torr, 5분 동안 20 torr, 및 5분 동안 30 torr. 이어서, 용기를 다시 대기압에 두었다. 550-mil 두께의 U-스페이서를 몰드에 놓고, 탈기된 혼합물의 약 1/2을 몰드 어셈블리 (상기 기재됨)에 부었으며, 이때 에폭시가 흡수된 알루미늄 발포체 조각은 제자리에 위치하고, 나머지 에폭시는 상부에 부어졌다. 80℃에서 16시간 동안, 이어서 140℃에서 10시간 동안 경화를 수행하고, 마지막으로 200℃에서 4시간 동안 완결하였다.The foamed aluminum block having dimensions of 2 "x2" x0.5 "was cast and cured in a filled epoxy formulation according to the following procedure: The epoxy formulation used was DER 332 + 50/50 methyl anhydride / epoxy hardener 100 (i. E., MTHPA) and 65 wt% Silicone Bond 126. The foamed aluminum foams were the same as described above in Example 1. The epoxy compositions were mixed and degassed as described above, The container was sealed and air was removed from the aluminum foam by applying a vacuum for 35 minutes as described below to remove the liquid epoxy from the metal &lt; RTI ID = 0.0 &gt; Pushed into the pores: 10 torr for 10 minutes, 5 torr for 5 minutes, 10 torr for 5 minutes, 20 torr for 5 minutes, and 30 torr for 5 minutes. A 550-mil thick U-spacer was placed in the mold and about one-half of the degassed mixture was poured into a mold assembly (described above), where the epoxy-absorbed aluminum foam pieces were in place And the remaining epoxy was poured on top. Curing was carried out at 80 DEG C for 16 hours, then at 140 DEG C for 10 hours and finally at 200 DEG C for 4 hours.

생성된 복합물은 1.65 g/cm3의 평균 밀도, 23.6 내지 29.4 μm/m·K 범위의 평균 CTE, 및 5.1 W/m·K의 선형 등방성 열 전도율을 가졌다.The resulting composites had an average density of 1.65 g / cm 3 , an average CTE in the range of 23.6 to 29.4 μm / m · K, and a linear isotropic thermal conductivity of 5.1 W / m · K.

Claims (10)

마이크로구체-충전 금속으로부터 적어도 부분적으로 형성된 무선 통신탑 부품을 포함하며,
여기서 상기 마이크로구체-충전 금속은 25℃에서 측정시에 2.7 그램/세제곱 센티미터 ("g/cm3") 미만의 밀도를 갖는 것인, 장치.
A wireless telecommunications tower component formed at least partially from a microsphere-filled metal,
Wherein the microsphere-filled metal has a density of less than 2.7 grams per square centimeter ("g / cm &lt; 3 &gt;
제1항에 있어서, 상기 마이크로구체-충전 금속의 금속이 알루미늄, 마그네슘, 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 장치.The apparatus of claim 1, wherein the metal of the microsphere-filled metal is selected from the group consisting of aluminum, magnesium, and alloys thereof. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 마이크로구체-충전 금속이 25℃에서 측정시에 1 와트/미터 켈빈 ("W/m·K") 초과의 열 전도율을 갖고, -35 내지 120℃의 온도 범위에 걸쳐 30 마이크로미터/미터 켈빈 ("μm/m·K") 미만의 선형 등방성 열 팽창 계수 ("CTE")를 갖는 것인 장치.The microsphere-filled metal of claim 1 or 2, wherein the microsphere-filled metal has a thermal conductivity of greater than 1 watt / meter Kelvin ("W / mK & ("CTE") of less than 30 micrometers / meter Kelvin (" 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 마이크로구체-충전 금속이 25℃에서 측정시에 0.6 내지 2 g/cm3 범위의 밀도를 갖고, 25℃에서 측정시에 5 내지 150 W/m·K 범위의 열 전도율을 갖고, -35 내지 120℃의 온도 범위에 걸쳐 8 내지 25 μm/m·K 범위의 선형 등방성 CTE를 갖는 것인 장치.4. A method according to any one of claims 1 to 3, wherein the microsphere-filled metal has a density in the range of 0.6 to 2 g / cm &lt; 3 &gt; at 25 DEG C and 5 to 150 W / m · K and has a linear isotropic CTE in the range of 8 to 25 μm / m · K over a temperature range of -35 to 120 ° C. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 마이크로구체-충전 금속이 0.8 내지 60 Kpsi 범위의 인장 강도를 갖는 것인 장치.5. The apparatus of any one of claims 1 to 4, wherein the microsphere-filled metal has a tensile strength in the range of 0.8 to 60 Kpsi. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 마이크로구체-충전 금속이 유리 마이크로구체, 멀라이트 마이크로구체, 알루미나 마이크로구체, 알루미노-실리케이트 마이크로구체, 세라믹 마이크로구체, 실리카-탄소 마이크로구체, 탄소 마이크로구체, 및 이들 중 둘 이상의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 마이크로구체를 포함하는 것인 장치.6. The method of any one of claims 1 to 5, wherein the microsphere-filled metal is selected from the group consisting of glass microspheres, mullite microspheres, alumina microspheres, alumino-silicate microspheres, ceramic microspheres, , Carbon microspheres, and mixtures of two or more thereof. 제6항에 있어서, 상기 마이크로구체가 8 내지 30 μm 범위의 입자 크기 분포 D10, 10 내지 70 μm 범위의 D50, 및 25 내지 120 μm 범위의 D90을 갖고, 0.1 내지 0.7 g/cm3 범위의 진밀도를 갖는 것인 장치.The method of claim 6, wherein the microsphere has a D90 of D50, and 25 to 120 μm range of the particle size distribution D10, 10 to 70 μm range of 8 to 30 μm range, Jean of 0.1 to 0.7 g / cm 3 range Density. 제6항에 있어서, 상기 마이크로구체가 상기 마이크로구체-충전 금속의 총 부피를 기준으로 1 내지 95 부피 퍼센트 범위를 구성하는 것인 장치.7. The apparatus of claim 6, wherein the microspheres comprise from 1 to 95 volume percent based on the total volume of the microsphere-filled metal. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무선 통신탑 부품이 라디오 주파수 ("RF") 캐비티 필터, 히트 싱크, 인클로저, 탑-상부 지지 부속품, 및 이들 중 둘 이상의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 장치.9. A method according to any one of claims 1 to 8, wherein the wireless telecommunication tower component is selected from the group consisting of a radio frequency ("RF") cavity filter, a heat sink, an enclosure, A device that is selected. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무선 통신탑 부품이 RF 캐비티 필터이고, 상기 마이크로구체-충전 금속 중 적어도 일부가 구리 및/또는 은 도금된 것인 장치.10. The apparatus according to any one of the preceding claims, wherein the radio telecommunication tower part is an RF cavity filter and at least a portion of the microsphere-filled metal is copper and / or silver plated.
KR1020157007629A 2012-09-28 2013-09-12 Microsphere-filled-metal components for wireless-communication towers KR20150060728A (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201261707085P 2012-09-28 2012-09-28
US61/707,085 2012-09-28
PCT/US2013/059390 WO2014052020A1 (en) 2012-09-28 2013-09-12 Microsphere-filled-metal components for wireless-communication towers

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20150060728A true KR20150060728A (en) 2015-06-03

Family

ID=49230874

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157007629A KR20150060728A (en) 2012-09-28 2013-09-12 Microsphere-filled-metal components for wireless-communication towers

Country Status (10)

Country Link
US (1) US20150225815A1 (en)
EP (1) EP2900838A1 (en)
JP (1) JP2016518694A (en)
KR (1) KR20150060728A (en)
CN (1) CN104662184B (en)
BR (1) BR112015006630A2 (en)
CA (1) CA2881164A1 (en)
MX (1) MX2015004107A (en)
TW (1) TWI607094B (en)
WO (1) WO2014052020A1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MX361304B (en) * 2012-12-20 2018-12-03 Dow Global Technologies Llc Polymer composite components for wireless-communication towers.
MX2019006250A (en) * 2016-11-30 2019-08-22 Continental Structural Plastics Inc Two piece bonded vehicle components formed by sheet molding compound-resin transfer molding assemblies.

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5910980B2 (en) * 1975-03-31 1984-03-13 工業技術院長 Manufacturing method of porous aluminum alloy composite material
JPS62170440A (en) * 1986-01-22 1987-07-27 Inahata Kenkyusho:Kk Composite light-metal material
JPH065751A (en) * 1992-03-05 1994-01-14 Texas Instr Inc <Ti> Metal form heat sink
JPH11302765A (en) * 1998-04-20 1999-11-02 Shinko Kosen Kogyo Kk Blowing metal excellent in impact absorption
JPH11340640A (en) * 1998-05-26 1999-12-10 Furukawa Electric Co Ltd:The Electronic apparatus cabinet
KR20010076991A (en) * 2000-01-29 2001-08-17 박호군 Foam metal heat sink
JP2002077969A (en) * 2000-09-05 2002-03-15 Hitachi Kokusai Electric Inc Supporting device for installation and maintenance of fixed station device
JP2002100998A (en) * 2000-09-22 2002-04-05 Hitachi Kokusai Electric Inc Amplifier gain adjustment method for cable loss
CN1463039A (en) * 2002-05-29 2003-12-24 富骅企业股份有限公司 Structure of thermal fin with high heat conductivity and its manufacturing method
JP2004282504A (en) * 2003-03-17 2004-10-07 Hitachi Metals Ltd Case for portable electronic apparatus, and its manufacturing method
JP4913605B2 (en) * 2005-01-20 2012-04-11 株式会社アライドマテリアル Method for manufacturing member for semiconductor device
JP4694988B2 (en) * 2006-02-22 2011-06-08 株式会社神戸製鋼所 Aluminum alloy foam and manufacturing method thereof
US20070223858A1 (en) * 2006-03-22 2007-09-27 Searete Llc, A Limited Liability Corporation Of The State Of Delaware Electromagnetically responsive element with self resonant bodies
CN101627503A (en) * 2006-11-13 2010-01-13 Kmw株式会社 Radio frequency filter
EP2092593B1 (en) * 2006-11-13 2012-11-28 KMW Inc. Radio frequency filter
JP2008283108A (en) * 2007-05-14 2008-11-20 Naigai Technos:Kk Composite material and composite body
JP2009029653A (en) * 2007-07-26 2009-02-12 Konoshima Chemical Co Ltd Foaming agent, foamed metal material, and methods for producing them
JP5111230B2 (en) * 2008-05-14 2013-01-09 三菱電機株式会社 Cavity resonator and high frequency filter
JP5252380B2 (en) * 2008-07-14 2013-07-31 Toto株式会社 Composite structure and manufacturing method thereof
GB0916205D0 (en) * 2009-09-15 2009-10-28 Zephyros Inc Improvements in or relating to cavity filling
US20120015245A1 (en) * 2010-07-15 2012-01-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method of electrode of power storage device, electrode of power storage device, and power storage device
US8969132B2 (en) * 2010-09-20 2015-03-03 Nuvotronics, Llc Device package and methods for the fabrication thereof
DE112011104333T5 (en) * 2010-12-10 2013-09-05 Northrop Grumman Systems Corporation Low-mass electrical foam structure
CN102501357B (en) * 2011-12-09 2013-12-11 长沙理工大学 Polymer/foamed aluminium composite material and production method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
BR112015006630A2 (en) 2017-07-04
EP2900838A1 (en) 2015-08-05
TWI607094B (en) 2017-12-01
CN104662184A (en) 2015-05-27
WO2014052020A1 (en) 2014-04-03
CN104662184B (en) 2018-03-02
CA2881164A1 (en) 2014-04-03
MX2015004107A (en) 2015-07-06
JP2016518694A (en) 2016-06-23
TW201413002A (en) 2014-04-01
US20150225815A1 (en) 2015-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20150060726A (en) Low-density, metal-based components for wireless-communication towers
KR20150060725A (en) Foamed-metal components for wireless-communication towers
KR101976890B1 (en) Process for preparing cured epoxy composites
US20220169832A1 (en) Spherical silica powder
JP2016513139A (en) Polymer composite components for wireless communication towers
JP2022022091A (en) Prepreg and metallic clad laminate
CN102962434A (en) Silicon carbide/copper silicon alloy codual-continuous composite and preparation method thereof
KR20150060728A (en) Microsphere-filled-metal components for wireless-communication towers
CN107760278A (en) Composition as thermal interfacial material
US11602091B2 (en) Electromagnetic wave shielding film
CN115003146A (en) Electromagnetic wave absorption composite material and preparation method thereof
CN111509398B (en) Preparation method of low-density artificial medium luneberg lens
KR102342782B1 (en) Composite material
KR101891405B1 (en) Metal foam and manufacturing method of the metal foam
CN109306148A (en) Heat diffusion-proof resin composite material, preparation method thereof and battery module
Lu et al. 3D printing of a SiO2@ BN TPMS structure: Efficient heat transfer strategy for BN/epoxy composites
CN113667272A (en) Polymer-based high-thermal-conductivity material and preparation process thereof
CN116769195A (en) Carbon fiber heat conduction gasket and preparation method thereof
CN112759869A (en) Light fluororesin/h-BN composite dielectric material with high heat conductivity and low dielectric loss and preparation method thereof
JP2003002770A (en) Highly thermal conductive composite material and production method therefor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application