KR20150055906A - Repair method for display panel and repair apparatus therefor - Google Patents

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Abstract

The present invention discloses a method for repairing a display panel, and more specifically, to a display panel repairing method used to repair a coupling due to the damage on a lower substrate as well as a metal layer forming a wiring structure of the display panel and a device thereof. According to an embodiment of the present invention, the display panel repairing method includes the steps of: filling a viscous and conductive material in a display panel having a disconnection failure and a chipped area through a dotting method; and removing the short-circuited area between adjacent wires through a cutting process. Accordingly, the present invention can carry out a more precise and efficient repairing process.

Description

표시패널의 리페어 방법 및 리페어 장치{REPAIR METHOD FOR DISPLAY PANEL AND REPAIR APPARATUS THEREFOR}Technical Field [0001] The present invention relates to a repair method and a repair apparatus for a display panel,

본 발명은 표시패널의 리페어 방법에 관한 것으로, 특히 배선을 이루는 금속층 뿐만 아니라, 그 금속층을 포함하여 하부의 기판 파손에 의한 결합을 효율적으로 리페어하기 위한 표시패널의 리페어 방법 및 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a repair method for a display panel, and more particularly, to a repair method and apparatus for repairing a display panel including not only a metal layer that forms a wiring but also a metal layer.

휴대폰(Mobile Phone), 노트북컴퓨터와 같은 각종 포터플 장치(potable device) 및, HDTV 등의 고해상도, 고품질의 영상을 구현하는 정보전자장치가 발전함에 따라, 이에 이용되는 평판표시장치(Flat Panel Display Device)에 대한 수요가 점차 증대되고 있다. 이러한 평판표시장치로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display; LCD), 플라즈마 표시패널(Plasma Display Panel; PDP), 전계발광 표시장치(Field Emission Display; FED) 및 유기전계 발광소자(Organic Light Emitting Diodes; OLED) 등이 있다. 2. Description of the Related Art [0002] With the development of information electronic devices for realizing high-resolution and high-quality images such as portable telephones (portable phones) and notebook computers, and HDTVs, flat panel display devices ) Are increasingly in demand. Examples of such flat panel display devices include a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), and an organic light emitting diode (OLED). OLED).

이러한 평판표시장치 중, 액정표시장치에 포함되는 액정표시패널의 구조를 설명하면, 컬러필터 기판 및 어레이기판과, 상기 컬러필터 기판 및 어레이기판의 사이에 개재되는 액정층으로 구성된다.Among these flat panel display devices, the structure of a liquid crystal display panel included in a liquid crystal display device will be described. The liquid crystal display panel includes a color filter substrate and an array substrate, and a liquid crystal layer interposed between the color filter substrate and the array substrate.

컬러필터 기판은 적, 녹, 청의 색상을 구현하는 다수의 서브-컬러필터로 구성된 컬러필터와, 서브-컬러필터 사이를 구분하고 액정층을 투과하는 광을 차단하는 블랙매트릭스로 이루어진다.The color filter substrate is composed of a color filter composed of a plurality of sub-color filters for realizing the colors of red, green and blue, and a black matrix for separating the sub-color filters from each other and shielding light transmitted through the liquid crystal layer.

또한, 어레이 기판은 매트릭스 형태로 배열되어 복수개의 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트 배선과 데이터 배선, 그리고 게이트 배선과 데이터배선의 교차영역에 형성된 스위칭 소자인 박막트랜지스터 및 화소영역상에 형성되는 화소전극 및 공통전극을 이루어진다. The array substrate includes a plurality of gate wirings and data wirings arranged in a matrix form to define a plurality of pixel regions, a thin film transistor which is a switching element formed in a crossing region between the gate wirings and the data wirings, and a pixel electrode And a common electrode.

이와 같은 액정표시패널을 이루는 두 기판은 대면적의 모기판에 상기의 박막구조를 형성하고 합착하는 방식으로 제조하여 다수개의 액정표시패널들을 동시에 형성함으로서 수율 향상을 도모하게 되며, 이에 따라 합착된 모기판을 단위 액정표시패널로 절단하는 공정이 수반된다.The two substrates constituting the liquid crystal display panel are formed in such a manner that the thin film structure is formed on a large-sized mother substrate and are bonded together to form a plurality of liquid crystal display panels at the same time, thereby improving the yield. And a step of cutting the plate into a unit liquid crystal display panel.

통상적으로, 모기판의 절단공정은 유리에 비해 경도가 높은 다이아몬드 재질의 휠로 모기판의 표면에 절단 예정선을 형성하는 스크라이브(scribe)공정과, 기계적 힘을 가해 절단하는 브레이크(break)공정으로 이루어진다. Typically, the mother substrate cutting process comprises a scribe process for forming a line to be cut on the surface of the mother substrate with a diamond-shaped wheel having a hardness higher than that of glass, and a break process for cutting off by applying a mechanical force .

도 1은 종래의 모기판 절단공정을 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining a conventional mother board cutting process.

도 1을 참조하면, 모기판 절단공정에서는 다수의 단위 액정표시패널(1)이 형성되며, 박막트랜지스터 어레이기판들이 형성된 제1 모기판(2)과, 컬러필터 기판들이 형성된 제2 모기판(3)이 사이에 액정층(미도시)이 개재된 상태로 합착되어 절단공정이 수행되는 스테이지(5)상에 로딩되고, 절단휠(9)에 의해 액정표시패널들이 개별적으로 절단되게 된다. Referring to FIG. 1, a plurality of unit liquid crystal display panels 1 are formed in a mother substrate cutting process, and a first mother substrate 2 having thin film transistor array substrates formed thereon, a second mother substrate 3 (Not shown) are interposed therebetween and are loaded on the stage 5 on which the cutting process is performed, and the liquid crystal display panels are individually cut by the cutting wheel 9. [

여기서, 도시되어 있지는 않지만, 절단된 단위 액정표시패널(1)들은 하부의 어레이기판이 상부의 컬러필터 기판들에 비해 돌출되도록 절단된다. 이는 하부의 어레이 기판들은 컬러필터 기판과 중첩되지 않는 측단부에 드라이버 IC 또는 외부 시스템이 본딩되는 패드부(미도시)가 형성되기 때문이다.Here, although not shown, the cut unit liquid crystal display panels 1 are cut so that the lower array substrate protrudes from the upper color filter substrates. This is because a pad portion (not shown) in which a driver IC or an external system is bonded is formed at a side end portion where the lower array substrates do not overlap with the color filter substrate.

한편, 스테이지(5) 상에 로딩된 제1 및 제2 모기판(2,3)은 절단휠(9)에 의해 먼저 제1 방향 및 이와 수직한 제2 방향으로 제1 절단 예정선이 형성되고, 제1 및 제2 모기판(2,3)이 반전된 형태로 재로딩 및 제2 절단 예정선이 형성된 후, 브레이크 봉(미도시)의 타격에 의해 두 절단 예정선을 따라 크랙(crack)이 전파되어 단위 액정표시패널로 절단된다. On the other hand, the first and second mother board 2 and 3 loaded on the stage 5 are first cut by the cutting wheel 9 and a first line to be cut is formed in the first direction and the second direction perpendicular thereto The first and second mother boards 2 and 3 are reversed and after the second cutting line is formed, cracks are generated along the two lines to be cut by the blow of the break bar (not shown) And is cut into a unit liquid crystal display panel.

이때, 상기의 공정에 따라 절단된 단위 액정표시장치패널은 그 절단면에서 크랙이 의도하지 않은 어레이 기판의 내부방향으로 전파되어 어레이 기판상에 형성된 금속패턴을 단선(open)시키는 불량이 발생하게 된다.At this time, the unit LCD panel panel cut according to the above-described process propagates in the direction of the inside of the array substrate where the cracks are not intentionally generated at the cut surface, resulting in a failure to open the metal pattern formed on the array substrate.

도 2a는 절단공정이 완료된 단위 액정표시패널의 일 단면을 나타낸 도면이고, 도 2b는 도 2a의 단위 액정표시패널에서 단선 불량이 발생되는 일 예를 나타낸 도면이다. FIG. 2A is a cross-sectional view of a unit liquid crystal display panel in which a cutting process is completed, and FIG. 2B is a view illustrating an example in which a single line defect occurs in the unit liquid crystal display panel of FIG.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 단위 액정표시패널은 어레이 기판(12) 및 컬러필터 기판(13)이 합착된 상태로서, 어레이 기판(12)의 적어도 하나의 측단이 돌출된 형태이며, 그 부분에는 패드부(20)가 형성되어 있다.2A and 2B, the unit liquid crystal display panel has a structure in which at least one side end of the array substrate 12 protrudes in a state in which the array substrate 12 and the color filter substrate 13 are bonded together, A pad portion 20 is formed.

패드부(20)는 액정표시패널과 구동 IC 및 기타 외부 시스템을 전기적으로 연결하는 패드 및 배선을 포함하는 것으로, 하부에서부터 상부로 게이트 금속층(21), 게이트 절연층(24) 및 데이터 금속층(26)이 적층되는 형태로 형성될 수 있으며 데이터 금속층(26)의 상부로 보호층(28)이 더 형성되어 있다. 또한, 액정표시패널의 종류에 따라 패드부(20)는 게이트 금속층(21) 및 데이터 금속층(26)이 하나의 배선으로 이루어질 수 있으며, 이러한 구조의 단위 액정표시패널은 모기판의 절단공정시에 어레이 기판의 외측으로 크랙이 전파되어 종종 파손이 발생하게 되며, 특히 외측에 구비된 패드부(20)의 금속층 및 절연층(21,24,26)이 단선되는 불량이 발생할 수 있다. The pad portion 20 includes pads and wirings for electrically connecting the liquid crystal display panel to the driving IC and other external systems and includes a gate metal layer 21, a gate insulating layer 24, and a data metal layer 26 And a protective layer 28 is further formed on the data metal layer 26. In addition, depending on the type of the liquid crystal display panel, the pad portion 20 may include a single gate metal layer 21 and a data metal layer 26, and the unit liquid crystal display panel having such a structure may be formed, Cracks are propagated to the outside of the array substrate and breakage is often caused. In particular, defects such as disconnection of the metal layer and the insulating layers 21, 24 and 26 of the pad portion 20 provided outside may occur.

이러한 문제를 해결하기 위한 종래 기술로서, 어레이 기판상에 형성된 박막트랜지스터 패턴이 단선되는 불량에 대해서는 해당 영역에 CVD Zone(Chemical Vapor Deposition Zone)을 이용하여 국부적으로 단락(short)시키는 리페어 방법이 이용되었으나, 이러한 방식은 리페어의 대상이 되는 기판과 CVD 유닛이 0.5 mm~ 1.0 mm의 간격을 유지해야만 적용가능하다는 단점이 있다. 즉 두 기판의 합착 이후, 발생하는 단선불량에 대해서는 컬러필터기판의 두께에 의해 상기 간격을 확보하기가 어려워 적용이 불가능한 문제가 있었으며, 또한 약 9 ㎛ 이하의 좁은 영역에만 적용이 가능하다는 한계가 있었다. As a conventional technique for solving such a problem, a repair method of locally short-circuiting a thin film transistor pattern formed on an array substrate using a CVD zone (chemical vapor deposition zone) is used for the defect of the thin film transistor pattern formed on the array substrate , This method is disadvantageous in that it can be applied only when the substrate to be repaired and the CVD unit are maintained at intervals of 0.5 mm to 1.0 mm. In other words, there has been a problem that it is difficult to apply the gap between the two substrates due to the thickness of the color filter substrate after the adhesion of the two substrates and the application of the gap is impossible. .

또한, 종래 기판의 단선 불량에 대한 리페어 방법으로서, 단선부분에 메탈잉크 또는 전도성 페이스트와 같은 전도성 물질을 도포하여 패턴을 단락시키는 방법이 제안되었으나, 도 3에 도시된 바와 같이, 전도성 물질(50)이 단선영역 내부에 완전히 충진되지 않아 단락이 제대로 되지 않는 문제가 발생하였다.In addition, as a repair method for defective single wire of a conventional substrate, a method of shorting a pattern by applying a conductive material such as a metal ink or a conductive paste to a single-wire portion has been proposed. However, A problem that the short circuit is not properly performed due to the failure to completely fill the inside of the disconnection area occurs.

특히, 어레이 기판이 심하게 파손되어 기판(12)상부의 패드부(20) 뿐만 아니라, 패드부(20)의 하부 기판(12)의 표면이 떨어져나가는 치핑영역(CP)이 발생하는 경우, 상기의 전도성 물질(50)이 미충진되는 현상이 더욱 심화되는 문제가 있었다.Particularly, when the array substrate is severely damaged and a chipping area CP in which the surface of the lower substrate 12 of the pad part 20 is apart as well as the pad part 20 on the substrate 12 is generated, There is a problem that the phenomenon that the conductive material 50 is unfilled is further intensified.

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 모기판 절단공정에 의해 기판에 발생되는 단선불량을 정밀하고 효율적으로 리페어 할 수 있는 표시패널의 리페어 방법 및 리페어 장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a repair method and repair apparatus for a display panel capable of repairing defects in a single line generated on a substrate by a mother board cutting process precisely and efficiently have.

전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 실시예에 따른 표시패널의 리페어 방법은, 검사하고자 하는 표시패널을 스테이지 상에 로딩하는 단계; 상기 표시패널을 스캔하여 적어도 하나의 배선의 단선을 포함하는 치핑(chipping)영역의 검출시 상기 표시패널 상에서 상기 치핑영역의 위치를 판단하는 단계; 상기 치핑영역의 내부를 전도성 물질을 도팅(dotting)방식으로 충진하여 도전층을 형성하는 단계; 이웃한 배선간의 단락부를 제거하는 단계; 및 상기 도전층의 상부로 절연성 물질을 도포하여 보조 보호층을 형성하는 단계를 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a repair method for a display panel, comprising: loading a display panel to be inspected on a stage; Scanning the display panel to determine a position of the chipping area on the display panel when detecting a chipping area including a disconnection of at least one wire; Filling the inside of the chipping region with a conductive material by a dotting method to form a conductive layer; Removing a short circuit between adjacent wirings; And applying an insulating material on the conductive layer to form an auxiliary protective layer.

또한, 전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 실시예에 따른 리페어 장치는, 표시패널이 로딩되는 스테이지; 상기 표시패널을 스캔하여 적어도 하나의 배선의 단선을 포함하는 치핑영역의 검출시 상기 치핑영역의 위치를 판단하는 센서부; 상기 치핑영역의 내부로 도전층을 형성하기 위한 전도성 물질을 도팅(dotting)방식으로 충진하는 제1 토출부; 상기 도전층에 의해 단락된 둘 이상의 배선의 단락부를 제거하는 커팅부; 상기 단락부가 제거된 도전층 상부로 보조 절연층을 형성하기 위한 절연성 물질을 도포하는 제2 토출부; 및 상기 전도성 물질 및 절연성 물질을 경화하여 상기 도전층 및 보조 절연층을 형성하는 경화부를 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a repair apparatus comprising: a stage on which a display panel is loaded; A sensor unit for scanning the display panel to determine a position of the chipping area when detecting a chipping area including a disconnection of at least one wire; A first discharging unit for filling a conductive material for forming a conductive layer in the chipping area by a dotting method; A cutting portion for removing a short-circuit portion of two or more wires short-circuited by the conductive layer; A second discharging portion for applying an insulating material for forming an auxiliary insulating layer to an upper portion of the conductive layer from which the shorting portion is removed; And a hardening unit for hardening the conductive material and the insulating material to form the conductive layer and the auxiliary insulating layer.

본 발명의 실시예에 따르면, 단선불량 및 이를 포함하는 치핑영역이 발생한 표시패널에 대하여 점성을 갖는 전도성 물질을 도팅(dotting)방식으로 충진하고, 이웃한 배선간의 단락부분을 커팅공정을 통해 제거함으로서 보다 정밀하고 효율적으로 리페어 공정을 수행할 수 있는 효과가 있다. According to an embodiment of the present invention, a conductive material having a viscosity is filled in a dotting manner on a display panel where a disconnection defect and a chipping area including the disconnection are generated, and a short circuit between adjacent wirings is removed through a cutting process The repair process can be performed more precisely and efficiently.

도 1은 종래의 모기판 절단공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 2a는 절단공정이 완료된 단위 액정표시패널의 일 단면을 나타낸 도면이다.
도 2b는 도 2a의 단위 액정표시패널에서 단선 불량이 발생되는 일 예를 나타낸 도면이다.
도 3은 종래 리페어 방법에 의한 리페어 된 액정표시패널의 일 단면을 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 리페어 장치의 구조를 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 표시패널의 리페어 방법을 순서도로 나타낸 도면이다.
도 6a 내지 도 6f는 본 발명의 실시예에 따른 리페어 방법에 따른 공정이 수행되는 표시패널의 단면 또는 평면을 나타내는 도면이다.
1 is a view for explaining a conventional mother board cutting process.
2A is a cross-sectional view of a unit liquid crystal display panel in which a cutting process is completed.
FIG. 2B is a view illustrating an example in which a single wire failure occurs in the unit liquid crystal display panel of FIG. 2A.
3 is a sectional view of a repaired liquid crystal display panel according to a conventional repair method.
4 is a view showing the structure of a repair apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a flowchart illustrating a repair method of a display panel according to an embodiment of the present invention.
6A to 6F are cross-sectional views or plan views of a display panel on which a process according to an embodiment of the present invention is performed.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 표시패널의 리페어 방법 및 리페어 장치를 설명한다.Hereinafter, a repair method and repair apparatus for a display panel according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

이하의 설명에서는 표시패널로는 액정을 사이에 두고 두 기판이 합착된 액정표시패널을 일 예로 하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 모기판의 절단에 따라 패널상에 기판의 파손을 포함한 단선이 발생할 수 있는 표시패널이면 적용가능하다.In the following description, the display panel is a liquid crystal display panel in which two substrates are bonded together with a liquid crystal interposed therebetween. However, the present invention is not limited thereto, and a break may occur on the panel, The present invention is applicable.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 리페어 장치의 구조를 나타내는 도면이다.4 is a view showing the structure of a repair apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 리페어 장치(100)는 검사하고자 하는 표시패널이 로딩되는 스테이지(110)와, 표시패널을 스캔하여 적어도 하나의 배선의 단선을 포함하는 치핑영역의 검출시, 표시패널 상에서 그 영역의 위치를 판단하는 센서부(120)와, 치핑영역의 내부로 전도성 물질을 도팅(dotting)방식으로 충진하여 도전층을 형성하는 제1 토출부(130)와, 도전층의 상부로 절연성 물질을 도포하여 보조 보호층을 형성하는 제2 토출부(140)와, 배선과 이웃한 배선간의 단락부를 제거하는 커팅부(150)와, 충진된 전도성 물질 및 절연성 물질을 경화시키는 경화부(160)와, 각 구성부를 제어하는 제어부(170)을 포함한다.Referring to FIG. 4, the repair apparatus 100 of the present invention includes a stage 110 on which a display panel to be inspected is loaded, and a controller 110 that scans the display panel to detect a chipping area, A sensor part 120 for determining the position of the area on the panel, a first discharging part 130 for filling the inside of the chipping area with a conductive material by a dotting method to form a conductive layer, A second discharging portion 140 for forming an auxiliary protective layer by applying an insulating material to the wiring portion, a cutting portion 150 for removing a short circuit between the wiring and the adjacent wiring, a hardening portion for hardening the filled conductive material and the insulating material, (160), and a controller (170) for controlling each component.

본 실시예에 따른 표시패널의 리페어 장치(100)는 합착이후 절단된 단위 액정표시패널의 측단에 발생하는 단선을 포함하는 치핑영역을 도팅방식으로 전도성 물질을 충진하여 단락시키고, 의도하지 않는 단락부분을 커팅부로 제거함으로서 단선불량을 리페어하게 된다.The repairing apparatus 100 of the display panel according to the present embodiment is characterized in that the chipping area including the disconnection occurring at the side of the unit liquid crystal display panel which is cut after the cementation is filled and shorted by a conductive material in a dipping manner, The defective wire is repaired.

먼저, 스테이지(110)는 합착된 모기판에 대하여 절단공정이 완료되어 이송수단을 통해 이송된 각 단위 표시패널이 로딩된다. 이후의 리페어 공정은 상기 스테이지(110)상에서 진행되며, 스테이지(110)은 공정진행 중에도 흔들림 없이 표시패널을 안정적으로 지지하도록 구성되어야 한다.First, the stage 110 is loaded with the unit display panels transferred through the transfer means after completion of the cutting process with respect to the attached mother substrate. The subsequent repair process is performed on the stage 110, and the stage 110 should be structured so as to stably support the display panel without shaking even during the process.

여기서 이용되는 표시패널은 두 기판 중, 박막트랜지스터가 패터닝된 어레이 기판이 상부의 컬러필터 기판보다 그 폭이 넓어 일부 돌출되고, 돌출된 부분에 복수의 배선을 포함하는 패드부(미도시)가 형성된 구조일 수 있다.In the display panel used here, a pad portion (not shown) including a plurality of wirings is formed on a protruding portion of the two substrates, the array substrate on which the thin film transistor is patterned is wider than the color filter substrate on the upper portion thereof Structure.

상기 표시패널은 내부로 화상이 표시되는 복수의 화소가 형성되는 표시영역과, 표시영역을 둘러싸며, 복수의 화소와 전기적으로 연결되는 각종 배선이 형성되는 비표시영역으로 정의될 수 있으며, 상기 패드부는 비표시영역에 포함된다. The display panel may be defined as a display area in which a plurality of pixels for displaying an image are formed and a non-display area surrounding the display area and in which various wirings electrically connected to the plurality of pixels are formed, The part is included in the non-display area.

이러한 패드부는 상기 화소에 형성되는 박막트랜지스터의 게이트 전극 및 게이트 배선과 동일층에 형성되는 게이트 금속층과, 게이트 전극 및 배선의 상부를 덮는 절연층과, 절연층의 상부로 형성되는 박막트랜지스터의 소스 및 드레인 전극 및 데이터 배선과 동일층에 형성되는 데이터 금속층과, 상기 데이터 금속층의 상부로 형성되는 보호층으로 이루어 질 수 있다.The pad portion includes a gate metal layer formed on the same layer as the gate electrode and the gate wiring of the thin film transistor formed in the pixel, an insulating layer covering the upper portion of the gate electrode and the wiring, a source of the thin film transistor formed on the upper portion of the insulating layer, Drain electrodes and a data line, and a protective layer formed on the data metal layer.

또한, 표시패널의 종류에 따라 상기 절연층과 데이터 금속층 사이에는 박막트랜지스터의 구성을 위한 반도체층(미도시)가 더 형성되어 있을 수 있다. In addition, a semiconductor layer (not shown) for forming a thin film transistor may be further formed between the insulating layer and the data metal layer depending on the type of the display panel.

센서부(120)는 소정의 CCD 카메라를 포함할 수 있으며, CCD 카메라를 통해 스테이지(110)상의 표시패널을 스캔하여 단선 발생여부를 판단하게 된다. 단선이 발생한 경우 센서부(120)는 표시패널상에서 단선이 발생한 영역의 위치에 대한 위치좌표 정보를 산출하게 된다. 또한, 도시되어 있지는 않지만 센서부(120)는 별도의 표시장치와 연결되어 판단된 위치좌표를 표시할 수 있으며, 작업자는 이를 통해 표시패널상에서 단선발생 위치를 직접 식별하고 후속공정을 직접 제어할 수 있다.The sensor unit 120 may include a predetermined CCD camera. The sensor unit 120 scans a display panel on the stage 110 through a CCD camera to determine whether a break occurs. When the disconnection occurs, the sensor unit 120 calculates the position coordinate information for the position of the area where the disconnection occurred on the display panel. Also, although not shown, the sensor unit 120 may be connected to a separate display device to display the determined position coordinates, and the operator can directly identify the occurrence position of the break on the display panel and directly control the subsequent process have.

이러한 센서부(120)가 검출하는 단선불량은 패드부를 이루는 금속층 및 보호층이 파손된 상태 뿐만 아니라, 하부의 기판표면이 떨어져 나간 상태인 치핑영역을 포함한다. 즉, 치핑영역은 기판표면이 내부로 패인 형상을 가지며, 센서부(120)는 불투명 금속층뿐만 아니라, 투명한 기판의 패인형상 또한 검출할 수 있도록 설정된다.The disconnection defect detected by the sensor unit 120 includes a chipping region in which the surface of the lower substrate is separated as well as the metal layer and the protective layer of the pad portion are broken. That is, the chipping area has a shape in which the surface of the substrate is recessed, and the sensor part 120 is set so as to detect not only the opaque metal layer but also the depressed shape of the transparent substrate.

제1 토출부(130)는 상기 치핑영역의 내부로 전도성 물질을 충진하여 단선부분에 대한 전기적 연결을 복구하는 역할을 한다. 특히, 본 발명의 제1 토출부(130)는 치핑영역에 대한 1회의 토출에 의해 치핑영역의 내부를 전도성 물질로 충진하는 것이 아닌, 디스펜서(dispenser)를 치핑영역의 내부면을 따라 진행하여 도팅(dotting) 방식으로 충진하는 것을 특징으로 한다. The first discharging part 130 functions to fill the inside of the chipping area and to restore electrical connection to the broken line part. Particularly, the first discharging part 130 of the present invention does not fill the inside of the chipping area with a conductive material by discharging once to the chipping area, but rather moves the dispenser along the inner surface of the chipping area, and is filled in a dotting manner.

상기의 도팅 방식이란, 디스펜서를 통해 대량의 전도성 물질을 1회 도포하는 것이 아닌, 치핑영역의 측벽 및 바닥면을 따라 디스펜서를 이동시켜 소량의 전도성 물질을 점(dot) 형태로 반복 토출하여 점 형태의 전도성 물질간에 서로 접촉하도록 하는 방식이다. 이러한 도팅 방식에 의하면 소량의 전도성 물질은 치핑영역의 내부면을 따라 고르게 형성된다. 이때, 토출된 전도성 물질의 토출량, 간격 및 두께는 이웃한 점간에 서로 접촉될 수 있을 정도면 충분하며, 그 토출량을 제1 토출부(130)의 개구부의 크기로 변경가능하다.The dotting method is a method in which a dispenser is moved along a side wall and a bottom surface of a chipping area to apply a small amount of conductive material repeatedly in a dot shape to form a point shape Of the conductive material are brought into contact with each other. According to this dipping method, a small amount of conductive material is uniformly formed along the inner surface of the chipping region. At this time, the discharge amount, spacing, and thickness of the discharged conductive material are sufficient to contact each other between neighboring points, and the discharge amount can be changed to the size of the opening of the first discharge portion 130.

이를 위해, 제1 토출부(130)는 전도성 물질을 토출하는 디스펜서와, 디스펜서를 제1 방향으로 진행시키고, 이와 하부로 수직인 방향 즉, 치핑영역의 내부면 방향으로 상기 디스펜서를 하강 및 상승구동을 반복하도록 하는 액추에이터(미도시)가 구비될 수 있다. 또한, 제1 토출부(130)는 전도성 물질을 공급하는 저장탱크(135)와 더 연결될 수 있으며, 그 저장탱크(135)에 저장된 전도성 물질로는 점성을 갖는 은 페이스트(Ag paste)를 포함하는 물질이 이용될 수 있다.For this, the first discharging unit 130 includes a dispenser for discharging the conductive material, and a dispenser for moving the dispenser in the first direction and moving the dispenser in the direction perpendicular to the downward direction, that is, toward the inner surface of the chipping area, (Not shown) for repeating the above-described operation. The first discharging unit 130 may further be connected to a storage tank 135 for supplying a conductive material and the conductive material stored in the storage tank 135 may include a silver paste having a viscosity. Substances may be used.

상기 은 페이스트는 은(Ag)이 50 % ~ 70 %, 메탄올(methanol)이 10% ~ 20%, 톨루엔(Toluene)이 5 % ~ 10 % 의 성분비로 이루어질 수 있다. 또한, 은 페이스트는 점도(cps)가 5 ~ 20 인 특성을 가지며, UV 를 조사하는 경우 10 s ~ 20 s 내의 경화시간을 갖도록 제조되는 것이 바람직하다.The silver paste may have a composition ratio of 50% to 70% of silver (Ag), 10% to 20% of methanol, and 5% to 10% of toluene. The silver paste preferably has a viscosity (cps) of 5 to 20, and is preferably prepared so as to have a curing time within 10 s to 20 s when irradiated with UV light.

제2 토출부(140)는 치핑영역내의 경화된 도전층의 상부로 절연성 물질을 도포하는 역할을 한다. 제1 토출부(130)를 통해 형성한 도전층은 경화되어 금속특성을 가지며, 상부 표면이 외부로 노출되어 있어 이후의 액정표시패널에 대한 세척 공정등에서 이물에 의해 오염되거나 파손되어 다시 단선되는 문제가 발생할 수 있다. 이러한 문제를 최소화하기 위해, 리페어 장치(100)는 제2 토출부(140)를 더 구비하여 해당 부분에 절연성 물질을 도포하고 경화공정을 통해 보조 보호층을 더 형성하도록 한다. The second discharging portion 140 serves to apply an insulating material to the upper portion of the hardened conductive layer in the chipping area. The conductive layer formed through the first discharge portion 130 is cured to have a metal characteristic and the upper surface is exposed to the outside so that the liquid crystal display panel is contaminated or damaged by the foreign object in the subsequent cleaning process, May occur. In order to minimize such a problem, the repair apparatus 100 further includes a second discharging unit 140 to apply an insulating material to the corresponding portion, and further form an auxiliary protective layer through a curing process.

특히, 제2 토출부(140)는 도전층의 형태에 대응하여 제1 토출부(130)와 동일한 구조로 도팅 방식을 통해 절연성 물질을 토출하도록 구성될 수 있으며, 이는 일반적인 박막 증착수단보다 도전층의 표면형태에 따라 더 적응적으로 보호층을 형성할 수 있다는 장점이 있다.Particularly, the second discharging unit 140 may be configured to discharge the insulating material through the dotting method in the same structure as that of the first discharging unit 130, corresponding to the shape of the conductive layer, The protective layer can be formed more adaptively according to the surface shape of the protective layer.

또한, 제2 토출부(140)는 절연성 물질을 공급하는 저장탱크(145)와 더 연결될 수 있다.In addition, the second discharging portion 140 may further be connected to the storage tank 145 for supplying the insulating material.

커팅부(150)는 전도성 물질의 토출 및 경화공정에 따라, 이웃한 배선간에 의도치 않은 단락이 발생한 부분을 제거하는 역할을 한다. 치핑영역은 평면에서 보았을 때, 둘 이상의 이웃한 배선이 함께 파손된 형태로 발생될 수 있으며 이에 전도성 물질을 충진하는 경우 이웃한 배선이 전기적으로 단락되게 된다. 커팅부(150)는 그 두 배선사이의 도전층을 제거함으로서 각 배선을 원래의 전기적 연결 상태로 리페어 하게 된다. 이러한 커팅부(150)로는 소정의 광학수단을 포함하는 레이저 빔 조사장치가 이용될 수 있으며, 도전층에 레이저 빔을 조사하여 제거함으로서 도전층에 의해 접촉된 둘 이상의 배선을 전기적으로 단선시키게 된다. The cutting portion 150 serves to remove a portion where an unintentional short circuit occurs between adjacent wirings in accordance with the discharge and curing process of the conductive material. The chipping area can be generated in a plan view, in which two or more neighboring wires are broken together, and neighboring wires are electrically short-circuited when the conductive material is filled therein. The cutting portion 150 repairs each of the wirings to the original electrically connected state by removing the conductive layer between the two wirings. As the cutting portion 150, a laser beam irradiating device including a predetermined optical means may be used. The laser beam is irradiated to the conductive layer to remove the two or more wires contacted by the conductive layer.

경화부(160)는 제1 토출부(130)에 의해 충진된 전도성 물질 및 제2 토출부(140)에 의해 도포된 절연성 물질을 경화시켜 일정한 굳기의 도전층 및 보조 보호층을 형성하는 것으로, 열 또는 소정 파장의 UV를 해당 영역에 가하여 경화공정을 수행하게 된다. 이러한 경화부(160)는 소정의 히팅장치 또는 UV 조사장치로 구성될 수 있다.The hardening unit 160 hardens the conductive material filled by the first discharging unit 130 and the insulating material applied by the second discharging unit 140 to form a certain hardened conductive layer and the auxiliary protective layer, Heat or UV of a predetermined wavelength is applied to the corresponding region to perform a curing process. The hardened portion 160 may be formed of a predetermined heating device or a UV irradiation device.

제어부(170)는 전술한 리페어 장치(100)의 전반적인 구동을 제어하는 역할을 한다. 본 발명의 리페어 방법에 따라, 제어부(170)는 센서부(120)를 통해 스테이지(110)의 표시패널에 치핑영역을 검출하고(a), 제1 토출부 및 경화부(130, 160)를 제어하여 전도성 물질을 치핑영역에 토출 후(b), 경화시킨다(c).The controller 170 controls the overall operation of the repair apparatus 100 described above. According to the repair method of the present invention, the controller 170 detects the chipping area on the display panel of the stage 110 through the sensor unit 120 and controls the first discharge unit and the hardening units 130 and 160 (B), and curing (c) the conductive material is discharged to the chipping region by controlling.

다음으로, 커팅부(150)를 제어하여 불필요한 단락부분을 제거한 후(d), 보호물질을 도포(e) 및 경화(f)하는 순서(a→b→c→d→e→f)로 각 리페어 장치(100)를 제어하게 된다. Next, the cutting unit 150 is controlled to remove unnecessary short-circuit parts (d), and then the protective material is applied (e) and cured (f) in the order (a → b → c → d → e → f) Thereby controlling the repair apparatus 100.

이하, 공정순서도 및 이와 관련된 단면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 표시패널의 리페어 방법을 설명한다.Hereinafter, a repair method of a display panel according to an embodiment of the present invention will be described with reference to a flow chart and a cross-section related thereto.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 표시패널의 리페어 방법을 순서도로 나타낸 도면이고, 도 6a 내지 도 6f는 본 발명의 실시예에 따른 리페어 방법에 따른 공정이 수행되는 표시패널의 단면 또는 평면을 나타내는 도면이다.FIG. 5 is a flowchart illustrating a repair method of a display panel according to an embodiment of the present invention. FIGS. 6A to 6F are views illustrating a method of repairing a display panel according to an embodiment of the present invention, Fig.

도 5 및, 도 6a 내지 도 6f를 함께 참조하면, 본 발명의 표시패널 리페어 방법은, 검사하고자 하는 표시패널을 스테이지 상에 로딩하는 단계(S200)와, 표시패널을 스캔하여 적어도 하나의 배선의 단선을 포함하는 치핑(chipping)영역의 검출시 표시패널 상에서 치핑영역의 위치를 판단하는 단계(S210, S220)와, 치핑영역의 내부를 전도성 물질을 도팅(dotting)방식으로 충진하여 도전층을 형성하는 단계(S230 ~ S250)와, 이웃한 배선간의 단락부를 제거하는 단계(S260)와, 도전층의 상부로 절연성 물질을 도포하여 보조 보호층을 형성하는 단계(S270 ~ S290)을 포함한다. Referring to FIGS. 5 and 6A to 6F, the display panel repair method of the present invention includes loading a display panel to be inspected on a stage (S200), scanning the display panel to remove at least one wiring (S210, S220) of determining a position of a chipping area on a display panel when detecting a chipping area including a disconnection; forming a conductive layer by filling a conductive material in a dotting manner inside the chipping area A step S260 of removing a short circuit between adjacent wirings, and a step S270 through S290 of forming an auxiliary protective layer by coating an insulating material on the conductive layer.

검사하고자 하는 표시패널을 스테이지 상에 로딩하는 단계(S200), 즉 기판로딩단계는, 절단공정이 완료된 단위 액정표시패널을 스테이지상에 안착시키는 단계이다. The step of loading the display panel to be inspected on the stage (S200), i.e., loading the substrate, is a step of placing the unit liquid crystal display panel on which the cutting process is completed on the stage.

표시패널을 스캔하여 적어도 하나의 배선의 단선을 포함하는 치핑(chipping)영역의 검출시 표시패널 상에서 치핑영역의 위치를 판단하는 단계(S210, S220)는 로딩된 액정표시패널의 전 영역을 스캔하여 균열이 발생하거나, 단선이 발생한 부분인 치핑영역을 검출하고, 치핑영역이 검출되면 액정표시패널상에서 해당 부분에 대한 위치좌표를 판단하는 단계이다. 도 6a를 함께 참조하면, 상기의 치핑영역(CP)은 브레이크 공정시 특히 액정표시패널의 가장자리 절단면 부근에서 빈번히 발생하게 되며, 패드부(320)에 포함되는 게이트 금속층(321), 게이트 절연층(324), 데이터 금속층(326) 및 보호층(328)에 대한 단선 뿐만 아니라, 기판표면(312)까지 파손된 패인 형상을 갖는 기판불량을 포함한다.(S210, S220) of determining the position of the chipping area on the display panel when detecting a chipping area including a disconnection of at least one line by scanning the display panel, the entire area of the loaded liquid crystal display panel is scanned Detecting a chipping region which is a portion where a crack occurs or a disconnection occurs, and determining a position coordinate of the chipping region on the liquid crystal display panel when the chipping region is detected. 6A, the chipping region CP frequently occurs in the break process, particularly in the vicinity of the edge cut surface of the liquid crystal display panel, and the gate metal layer 321, the gate insulating layer 324, the data metal layer 326 and the protective layer 328, as well as substrate defects having a depressed shape to the substrate surface 312.

치핑영역의 내부를 전도성 물질을 도팅(dotting)방식으로 충진하여 도전층을 형성하는 단계(S230 ~ S250)는, 도 6b를 함께 참조하면 검출된 치핑영역(CP)에 대응되도록 제1 토출부를 배치하고(S230), 치핑영역(CP)의 내측면에서부터 바닥면 및 반대편의 내측면까지 제1 토출부(120)를 제1 방향(x방향)으로 이동시켜 일정간격으로 전도성 물질을 토출하게 된다(S240). 이때, 제1 토출부(120)는 구비된 엑추에이터에 의해 단순히 제1 방향(x방향)으로만 이동하는 것이 아닌, 제1 방향과 하부로 수직하는 제2 방향(y)으로 이동하여 제1 토출부(120)의 개구부(121)가 치핑영역(CP)의 내측면 또는 바닥면에 닿는 순간 전도성 물질을 점 형태로 토출하게 된다. Referring to FIG. 6B, steps (S230 to S250) of forming a conductive layer by filling the inside of the chipping area with a conductive material by a dotting method include arranging a first discharge part so as to correspond to the detected chipping area CP (S230). The first discharging unit 120 is moved in the first direction (x direction) from the inner surface of the chipping area CP to the bottom surface and the inner surface of the opposite side, thereby discharging the conductive material at predetermined intervals S240). At this time, the first discharge portion 120 is moved not only in the first direction (x direction) but also in the second direction (y) perpendicular to the first direction and the lower direction by the provided actuator, The conductive material is ejected in a dotted form as soon as the opening 121 of the portion 120 touches the inner surface or the bottom surface of the chipping region CP.

즉, 전도성 물질은 치핑영역(CP)의 저변에 점 형태로 도포되며 기판(312)표면의 패인 부분까지 충진된다.That is, the conductive material is applied in the form of a dot at the base of the chipping region CP and filled up to the depressed portion of the surface of the substrate 312.

이러한 도팅 방식은 전도성 물질 도포방식에 의하면 전도성 물질이 뭉침에 따라, 기판의 패인영역까지 전도성 물질이 닿지 않거나, 단선된 두 금속층 사이에 접촉되지 않는 부분에 대하여 밀착하여 전도성 물질을 충진할 수 있다는 장점이 있다.According to the conductive material application method, the conductive material can be filled with the conductive material in a manner that the conductive material does not reach the recessed portion of the substrate due to the lump of the conductive material, .

그리고, 제1 토출부(120)는 도 6b에 도시된 ①→②→③→④→⑤의 경로로 토출공정을 진행하게 된다. 상기의 경로로 하여 하나의 선 형태로 전도성 물질이 도포되면, 제1 토출부(120)는 평면에서 보았을 때 제1 방향과 수평으로 수직한 제3 방향(z방향)으로 소정거리 이동하여 상기와 반대경로로 진행함으로서 치핑영역(CP)내의 모든 금속층(321, 326)에 전도성 물질이 접촉하도록 토출공정을 진행할 수 있다.Then, the first discharging unit 120 carries out the discharging process through the path of? 1??>? 3? 4?? Shown in FIG. 6B. When the conductive material is applied in the form of a line in the above-described manner, the first discharge portion 120 moves a predetermined distance in a third direction (z direction) perpendicular to the first direction when viewed in a plan view, By proceeding to the opposite path, the discharging process can be performed so that the conductive material contacts all of the metal layers 321 and 326 in the chipping area CP.

상기에서는 제1 토출부(120)의 진행 경로가 일방향으로만 진행되는 경우의 실시예만을 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며 지그재그 경로로 설정될 수도 있으며, 적어도 제1 토출부(120)로부터 토출되는 전도성 물질이 하나의 치핑영역(CP)에 대하여 1회 토출하는 것이 아닌, 치핑영역(CP)의 내부면을 따라 다수의 점 형태로 전도성 물질을 토출하는 방식이라면 어떠한 경로라도 적용 가능하다.The present invention is not limited to this, and may be a zigzag path, and at least a part of the discharge path may be formed by discharging the discharge path from the first discharge part 120 It is possible to apply any path as long as the conductive material discharges the conductive material in a plurality of dot shapes along the inner surface of the chipping area CP instead of discharging the conductive material once for one chipping area CP.

또한, 여기서 이용되는 전도성 물질로는 미세 은 입자가 점성을 갖는 액에 혼합된 은 페이스트 등을 포함하는 물질이 이용될 수 있으며, 이러한 은 페이스트는 은(Ag)이 50 % ~ 70 %, 메탄올(methanol)이 10% ~ 20%, 톨루엔(Toluene)이 5 % ~ 10 % 의 성분비로 이루어질 수 있다. 또한, 은 페이스트는 점도(cps)가 5 ~ 20 인 특성을 가지며, UV 를 조사하는 경우 10 s ~ 20 s 내의 경화시간을 갖는 것이 바람직하다. In addition, as the conductive material used herein, a material containing silver paste or the like mixed with a liquid having a fine silver particle in a viscous state may be used, and this silver paste may be prepared by mixing 50% to 70% of silver (Ag) methanol may be 10% to 20%, and toluene (toluene) may be 5% to 10%. The silver paste has a viscosity (cps) of 5 to 20, and preferably has a curing time of 10 s to 20 s when irradiated with UV light.

다음으로, 제1 토출부(120)는 원 위치로 이동하고, S250 단계로서 도 6c를 함께 참조하면, 경화부(미도시)가 치핑영역에 대하여 기판(340)상부로 열 또는 UV 광을 가하여 전도성 물질을 경화시킴으로서 도전층(340)을 형성하게 된다. 여기서, 도전층(340)은 하부의 게이트 금속층(321)과 상부의 데이터 금속층(326)에 모두 접촉될 뿐만 아니라, 기판(312) 표면의 함몰된 영역의 내부까지 형성되게 된다. 6C as step S250, the curing unit (not shown) applies heat or UV light to the top of the substrate 340 with respect to the chipping area The conductive material is cured to form the conductive layer 340. Here, the conductive layer 340 not only contacts both the lower gate metal layer 321 and the upper data metal layer 326, but also extends into the recessed region of the surface of the substrate 312.

이웃한 배선간의 단락부를 제거하는 단계(S260)는, 도 6d를 함께 참조하면 평면상에서 보았을 때 기판(312)상에 도전층(340)이 제1 배선(320a) 내지 제3 배선(320c)에 걸쳐 형성되었다고 하면, 제1 배선(320a) 및 제2 배선(320b)과, 제2 배선(320b) 및 제3 배선(320c) 사이에 각각 제1 및 제2 커팅영역(CA1, CA2)을 정의하고, 커팅부(140)가 해당 부분에 대하여 레이저 커팅공정(140)을 실시하여 커팅영역(CA)을 제거하는 단계이다. 본 단계를 통해 패드부(320)의 각 배선(320a 내지 320c)는 서로 전기적으로 절연되게 된다.Referring to FIG. 6D, the step of removing the short circuit between adjacent wirings may be performed such that the conductive layer 340 is formed on the first wiring 320a to the third wiring 320c on the substrate 312, The first and second cutting areas CA1 and CA2 are defined between the first wiring 320a and the second wiring 320b and between the second wiring 320b and the third wiring 320c, And the cutting portion 140 performs a laser cutting process 140 on the portion to remove the cutting area CA. Through this step, the wirings 320a to 320c of the pad portion 320 are electrically insulated from each other.

도전층의 상부로 절연성 물질을 도포하여 보조 보호층을 형성하는 단계(S270 ~ S290)는, 먼저 제2 토출기 정렬단계(S270)로서 도 6e를 함께 참조하면 각 배선이 전기적으로 절연된 상태에서 보호층(314)의 상부로 제2 토출기(150)를 배치하고(S270), 보호층(314)의 상부가 완전히 덮히도록 도포하는 단계(S280)이다. 이때, 보호층(314)은 치핑영역의 형상에 따라 내부로 패인 형상을 가지므로, 절연성 물질(350)도 상기 전도성 물질과 같이 도팅 방식으로 충진하는 것이 바람직하다. 즉, 제2 토출기(150)는 도전층(341)의 표면을 따라 진행하며 일정간격씩 도전층(341)에 닿는 순간 절연성 물질(350)을 점 형태로 토출하게 된다. 여기서, 도전층(341)은 상기 단락영역 제거단계(S260)에 의해 이웃한 배선간에는 비접촉상태이며, 도시되어 있지는 않지만 절연성 물질(350)은 도전층(341) 및 도전층이 커팅되어 하부의 기판(312)이 노출된 부분까지 덮게 된다. Referring to FIG. 6E as a second aligner aligning step (S270), steps (S270 to S290) of forming an auxiliary protective layer by applying an insulating material to the upper portion of the conductive layer are performed in a state where the respective wires are electrically insulated The second discharger 150 is disposed above the protective layer 314 in step S270 and the protective layer 314 is coated on the top of the protective layer 314 so as to be completely covered in step S280. At this time, since the protective layer 314 has a depressed shape depending on the shape of the chipping region, it is preferable that the insulating material 350 is filled in the same manner as the conductive material by a dipping method. That is, the second discharger 150 travels along the surface of the conductive layer 341, and discharges the insulating material 350 in a point-like manner as soon as the conductive layer 341 contacts the conductive layer 341 at regular intervals. Here, the conductive layer 341 is in a non-contact state between neighboring wirings by the short-circuit region removing step (S260). Although not shown, the insulating layer 350 is formed by cutting the conductive layer 341 and the conductive layer, (312) is exposed.

이어서, 제2 토출부(150)는 원 위치로 이동하고, S290 단계로서 도 6f를 함께 참조하면, 경화부(미도시)가 절연성 물질(350) 대하여 기판(340)상부로 열 또는 UV 광을 가하여 절연성 물질을 경화시킴으로서 절연층(351)을 형성하게 된다. 6f, the second discharging unit 150 moves to the original position. In step S290, a hardening unit (not shown) heat or UV light to the upper surface of the substrate 340 with respect to the insulating material 350 The insulating layer 351 is formed by curing the insulating material.

전술한 단계에 따라, 본 발명의 표시패널 리페어 방법은, 치핑영역에 대하여 도팅 방식으로 도전층을 형성하고 단락부분을 제거한 후 보조 절연층을 형성함으로서, 기판까지 파손된 불량도 용이하게 리페어 할 수 있다. According to the above-described steps, in the display panel repair method of the present invention, the conductive layer is formed in a dipping manner with respect to the chipping area, and the auxiliary insulation layer is formed after removing the short-circuit part, have.

전술한 설명에 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나 이것은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 따라서 발명은 설명된 실시예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위와 특허청구범위에 균등한 것에 의하여 정하여져야 한다.While a number of embodiments have been described in detail above, it should be construed as being illustrative of preferred embodiments rather than limiting the scope of the invention. Therefore, the invention should not be construed as limited to the embodiments described, but should be determined by equivalents to the appended claims and the claims.

100 : 리페어 장치 110 : 스테이지
120 : 센서부 130 : 제1 토출부
135 : 전도성물질 저장탱크 140 : 제2 토출부
145 : 절연성물질 저장탱크 150 : 커팅부
160 : 경화부 170 : 제어부
100: Repair device 110: Stage
120: sensor part 130: first discharge part
135: Conductive material storage tank 140: Second discharge portion
145: Insulating material storage tank 150: Cutting part
160: hardening unit 170:

Claims (15)

검사하고자 하는 표시패널을 스테이지 상에 로딩하는 단계;
상기 표시패널을 스캔하여 적어도 하나의 배선의 단선을 포함하는 치핑(chipping)영역의 검출시 상기 표시패널 상에서 상기 치핑영역의 위치를 판단하는 단계;
상기 치핑영역의 내부를 전도성 물질을 도팅(dotting)방식으로 충진하여 도전층을 형성하는 단계;
상기 도전층 형성단계에 의해 발생한 이웃한 배선간의 단락부를 제거하는 단계; 및
상기 도전층의 상부로 절연성 물질을 도포하여 보조 보호층을 형성하는 단계
를 포함하는 표시패널의 리페어 방법.
Loading a display panel to be inspected on a stage;
Scanning the display panel to determine a position of the chipping area on the display panel when detecting a chipping area including a disconnection of at least one wire;
Filling the inside of the chipping region with a conductive material by a dotting method to form a conductive layer;
Removing a short circuit between adjacent wirings generated by the conductive layer forming step; And
Forming an auxiliary protective layer by coating an insulating material on the conductive layer
And a repairing step of repairing the display panel.
제 1 항에 있어서,
상기 도팅 방식으로 도전층을 형성하는 단계는,
상기 치핑영역의 일 지점에 제1 토출부가 위치하는 단계; 및
상기 제1 토출부를 제1 방향으로 진행시키며 일정간격씩 상기 전도성 물질을 내부면을 따라 토출하되, 토출시 상기 제1 방향과 수직하는 제2 방향으로 하강하여 상기 제1 토출부의 개구부가 상기 치핑영역의 내부면을 닿는 지점에서 상기 전도성 물질을 토출하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 방법.
The method according to claim 1,
The forming of the conductive layer by the dicing method may include:
Positioning the first discharge portion at one point of the chipping area; And
The first discharging portion is moved in the first direction and the conductive material is discharged along the inner surface at predetermined intervals, and the discharging portion is lowered in a second direction perpendicular to the first discharging direction, A step of discharging the conductive material at a point of contact with the inner surface of the step
The method of claim 1,
제 1 항에 있어서,
상기 전도성 물질은,
점성이 있는 은 페이스트(Ag paste)를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 방법.
The method according to claim 1,
The conductive material may be,
A method for repairing a display panel, the method comprising: applying a paste to a display panel;
제 3 항에 있어서,
상기 은 페이스트(Ag)는,
은(Ag)이 50 % ~ 70 %;
메탄올(methanol)이 10% ~ 20%;
톨루엔(Toluene)이 5 % ~ 10 % 의 성분비로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 방법.
The method of claim 3,
The silver paste (Ag)
50% to 70% of silver (Ag);
10% to 20% of methanol;
Characterized in that toluene (Toluene) has a composition ratio of 5% to 10%.
제 3 항에 있어서,
상기 은 페이스트(Ag)는,
점도(cps)가 5 ~ 20;
UV 에 의한 경화시간이 10 s ~ 20 s 내의 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 방법.
The method of claim 3,
The silver paste (Ag)
Viscosity (cps) of 5 to 20;
Wherein the curing time by UV is within 10 s to 20 s.
제 1 항에 있어서,
상기 표시패널은,
합착된 모기판에 대해 절단공정을 진행하여 단위패널로 분할된 액정표시패널인 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 방법.
The method according to claim 1,
In the display panel,
Wherein the liquid crystal display panel is a liquid crystal display panel divided into unit panels by performing a cutting process with respect to the bonded mother substrate.
제 1 항에 있어서,
상기 치핑영역은,
상기 배선의 하부로 기판의 표면이 일정깊이로 떨어져 나간 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 방법.
The method according to claim 1,
The chipping region
And a portion of the substrate where the surface of the substrate falls to a certain depth below the wiring.
제 1 항에 있어서,
상기 도전층 형성단계 및 보조 보호층 형성단계는,
각각 상기 전도성 물질 및 절연성 물질을 경화하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 방법.
The method according to claim 1,
The conductive layer forming step and the auxiliary protective layer forming step may include:
Further comprising the step of curing the conductive material and the insulating material, respectively.
표시패널이 로딩되는 스테이지;
상기 표시패널을 스캔하여 적어도 하나의 배선의 단선을 포함하는 치핑영역의 검출시 상기 치핑영역의 위치를 판단하는 센서부;
상기 치핑영역의 내부로 도전층을 형성하기 위한 전도성 물질을 도팅(dotting)방식으로 충진하는 제1 토출부;
상기 도전층에 의해 단락된 둘 이상의 배선의 단락부를 제거하는 커팅부;
상기 단락부가 제거된 도전층 상부로 보조 절연층을 형성하기 위한 절연성 물질을 도포하는 제2 토출부; 및
상기 전도성 물질 및 절연성 물질을 경화하여 상기 도전층 및 보조 절연층을 형성하는 경화부
를 포함하는 표시패널의 리페어 장치.
A stage on which the display panel is loaded;
A sensor unit for scanning the display panel to determine a position of the chipping area when detecting a chipping area including a disconnection of at least one wire;
A first discharging unit for filling a conductive material for forming a conductive layer in the chipping area by a dotting method;
A cutting portion for removing a short-circuit portion of two or more wires short-circuited by the conductive layer;
A second discharging portion for applying an insulating material for forming an auxiliary insulating layer to an upper portion of the conductive layer from which the shorting portion is removed; And
And a hardening part for hardening the conductive material and the insulating material to form the conductive layer and the auxiliary insulating layer,
And a display panel.
제 9 항에 있어서,
상기 제1 토출부는,
상기 치핑영역의 일 지점에 위치 한 후, 제1 방향으로 진행하여 일정간격씩 상기 전도성 물질을 토출하되, 토출시 상기 제1 방향과 수직하는 제2 방향으로 하강하여 상기 제1 토출부의 개구부가 상기 치핑영역의 내부면에 닿는 시점에서 상기 전도성 물질을 토출하는 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the first discharging portion
The conductive material is discharged in a first direction at a predetermined distance after being positioned at one point of the chipping area, and the conductive material is lowered in a second direction perpendicular to the first direction, And discharges the conductive material at a point of contact with the inner surface of the chipping area.
제 9 항에 있어서,
상기 전도성 물질은,
점성이 있는 은 페이스트(Ag paste)를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 장치.
10. The method of claim 9,
The conductive material may be,
Characterized in that it comprises a viscous silver paste (Ag paste).
제 11 항에 있어서,
상기 은 페이스트(Ag)는,
은(Ag)이 50 % ~ 70 %;
메탄올(methanol)이 10% ~ 20%;
톨루엔(Toluene)이 5 % ~ 10 % 의 성분비로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 장치.
12. The method of claim 11,
The silver paste (Ag)
50% to 70% of silver (Ag);
10% to 20% of methanol;
And the toluene (Toluene) has a composition ratio of 5% to 10%.
제 11 항에 있어서,
상기 은 페이스트(Ag)는,
점도(cps)가 5 ~ 20;
UV 에 의한 경화시간이 10 s ~ 20 s 내의 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 장치.
12. The method of claim 11,
The silver paste (Ag)
Viscosity (cps) of 5 to 20;
Wherein the curing time by UV is within 10 s to 20 s.
제 9 항에 있어서,
상기 표시패널은,
모기판으로부터 절단공정을 통해 단위패널로 분할된 평판표시패널인 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 장치.
10. The method of claim 9,
In the display panel,
Wherein the display panel is a flat panel display panel divided into unit panels through a cutting process from the mother substrate.
제 9 항에 있어서,
상기 치핑영역은,
상기 배선의 하부로 기판의 표면이 일정깊이로 떨어져 나간 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널의 리페어 장치.
10. The method of claim 9,
The chipping region
And a portion of the substrate where the surface of the substrate falls to a certain depth below the wiring.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017164447A1 (en) * 2016-03-24 2017-09-28 주식회사 코윈디에스티 Method for repairing metal wiring

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07318724A (en) * 1994-03-31 1995-12-08 Canon Inc Correcting method of color filter, correcting device therefor, color filter, liquid crystal display device, and device equipped with this liquid crystal display device
JP2000100329A (en) * 1998-09-18 2000-04-07 Fujitsu Ltd Wire breakage repairing method for electrode board, and gas discharge panel with repaired electrode
JP2005300940A (en) * 2004-04-13 2005-10-27 Sharp Corp Substrate repairing method and repairing device, and substrate repaired by using the same
JP2005317526A (en) * 2004-03-31 2005-11-10 Toray Ind Inc Method for manufacturing flat display substrate
KR101123331B1 (en) * 2004-08-30 2012-03-26 엘지디스플레이 주식회사 Mother panel for fabrication of LCD

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07318724A (en) * 1994-03-31 1995-12-08 Canon Inc Correcting method of color filter, correcting device therefor, color filter, liquid crystal display device, and device equipped with this liquid crystal display device
JP2000100329A (en) * 1998-09-18 2000-04-07 Fujitsu Ltd Wire breakage repairing method for electrode board, and gas discharge panel with repaired electrode
JP2005317526A (en) * 2004-03-31 2005-11-10 Toray Ind Inc Method for manufacturing flat display substrate
JP2005300940A (en) * 2004-04-13 2005-10-27 Sharp Corp Substrate repairing method and repairing device, and substrate repaired by using the same
KR101123331B1 (en) * 2004-08-30 2012-03-26 엘지디스플레이 주식회사 Mother panel for fabrication of LCD

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017164447A1 (en) * 2016-03-24 2017-09-28 주식회사 코윈디에스티 Method for repairing metal wiring

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