KR20150050137A - 기재 일체형 휘도 향상 편광판 및 그 제조 방법 - Google Patents

기재 일체형 휘도 향상 편광판 및 그 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20150050137A
KR20150050137A KR1020130131593A KR20130131593A KR20150050137A KR 20150050137 A KR20150050137 A KR 20150050137A KR 1020130131593 A KR1020130131593 A KR 1020130131593A KR 20130131593 A KR20130131593 A KR 20130131593A KR 20150050137 A KR20150050137 A KR 20150050137A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
polymer
stretching
base layer
polymer resin
Prior art date
Application number
KR1020130131593A
Other languages
English (en)
Inventor
박태성
이남정
엄준근
박보라
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020130131593A priority Critical patent/KR20150050137A/ko
Publication of KR20150050137A publication Critical patent/KR20150050137A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)

Abstract

본 발명은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지와 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 블렌딩 수지를 포함하는 산란편광 특성을 갖는 기재층; 및 상기 기재층의 적어도 일면에 형성되며, 흡수편광 특성을 갖는 고분자층을 포함하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

Description

기재 일체형 휘도 향상 편광판 및 그 제조 방법{SUBSTRATE ASSEMBLED TYPE POLARIZING PLATE HAVING IMPROVED BRIGHTNESS AND PREPARING METHOD FOR THE SAME}
본 발명은 기재 일체형 휘도 향상 편광판에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 산란편광 특성을 갖는 기재층 및 흡수편광 특성을 갖는 고분자층이 일체화된 휘도 향상 편광판에 관한 것이다.
편광판은 일반적으로 폴리비닐알코올(Poly Vinyl Alchol, 이하, PVA라 함)계 분자 사슬이 일정한 방향으로 배향되고, 요오드계 화합물 또는 이색성 편광 물질을 포함하는 구조를 갖는 편광자에, 보호 필름으로 트리아세틸셀룰로오즈(TAC) 필름을 접착시킨 구조로 이루어진다. 이때 상기 편광자와 보호 필름은 일반적으로 폴리비닐알코올계 용액으로 이루어진 수계 접착제에 의해 접착된다.
한편, 상기와 같은 편광판의 경우, 편광자는 편광 투과축에 평행한 편광 성분만을 투과시키고, 편광 투과축에 수직인 편광 성분을 흡수하기 때문에 광 이용 효율이 매우 낮다는 문제점이 있으며, 따라서 광 이용 효율을 높이기 위하여 편광판의 일면에 별도의 휘도 향상 필름을 부착하는 기술이 제안된바 있다. 예컨대, 제조되는 편광판의 일면에 3M사의 DBEF 필름과 같은 휘도 향상 필름을 부착하는 기술이 제안되었다.
한편, 현재 생산되고 있는 DBEF 필름과 같은 휘도 향상 필름의 경우, 연신 방향, 즉 MD 방향에 대해 편광 투과축이 형성되는 반면, PVA 필름에 요오드를 염착한 후 연신하여 제조되는 편광판의 경우에는 연신 방향으로 흡수축이 형성된다. 따라서, 일반적으로 MD 방향을 기준으로 휘도 향상 필름의 편광 투과축이 편광판의 편광 투과축과 수직인 방향으로 형성되어 있기 때문에, 편광판에 휘도 향상 필름을 부착하기 위해서 휘도 향상 필름을 편광판 크기에 대응되도록 시트 형상으로 재단한 후, 편광판의 편광 투과축과 휘도향상필름의 편광 투과축이 일치하도록 부착하는 롤-투-시트(roll-to-sheet) 공정이 적용되어 왔다. 그러나, 이와 같이 휘도 향상 필름을 편광판에 시트 형태로 재단하여 부착하는 경우, 별도의 재단 공정이 추가되고, 기포 및 이물 등이 유입되기 쉬우며, 정밀한 얼라인(align)이 요구되기 때문에 불량 발생률이 높아지고, 수율이 떨어져 생산성이 낮다는 문제점이 있다.
한편, 편광자는 일반적으로 기재층 없이 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤 처리, 염색 처리, 가교 처리, 연신 처리, 보색 처리, 건조 처리 등을 함으로써 제조되고 있는데, 이때, 상기와 같은 종래의 제조 공정에 있어서, 파단의 발생 없이 연신이 수행되기 위해서는 연신 전 폴리비닐알코올계 필름의 두께가 60㎛을 초과할 것이 요구되나, 이 경우 연신 후 편광자의 두께를 줄이는데 한계가 있었다.
따라서, 파단 발생 없이 연신이 수행되면서도 얇은 두께의 편광자를 제조하기 위하여 기재층 상에 친수성 고분자층을 코팅하거나, 기재층 형성재와 친수성 고분자층 형성재를 공압출하여 제조되는 적층체를 이용하여 박형의 편광판을 제조하는 방법이 제안되었으며, 이때, 공정의 간소화 및 생산성 향상을 위하여 상기 기재층을 편광자의 보호 필름으로 그대로 사용하고 있었다. 그러나, 상기 기재층은 편광자의 보호 기능만 가지고 있기 때문에, 광 이용 효율을 높이기 위해서는 역시 별도의 휘도 향상 필름을 부착해야 하는 문제점이 있다.
따라서, 간단한 방법으로 제조가 가능하고, 편광 투과축의 얼라인(align)이 용이하며, 편광자의 박형화가 가능하고, 나아가 광 이용 효율 역시 높일 수 있는, 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 개발이 요구되고 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 간단한 방법으로 제조가 가능하고, 편광 투과축의 얼라인(align)이 용이하며, 편광자의 박형화가 가능하고, 나아가 광 이용 효율 역시 높일 수 있는, 기재 일체형 휘도 향상 편광판 및 그 제조 방법을 제공하고자 한다.
일 측면에서, 본 발명은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지와 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 블렌딩 수지를 포함하는 산란편광 특성을 갖는 기재층; 및 상기 기재층의 적어도 일면에 형성되며, 흡수편광 특성을 갖는 고분자층을 포함하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판을 제공한다.
이때, 상기 기재층 및 고분자층은 동시 연신되고, 상기 연신에 의해 기재층 및 고분자층의 편광 투과축이 연신 방향의 수직 방향으로 형성되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 기재층은 하기 식 (1) 내지 (2)를 만족하는 것이 바람직하다.
식 (1): 0 ≤ |nx1 - nx2| ≤ 0.10
식 (2): 0.15 ≤ |ny1 - ny2| ≤ 0.40
상기 식 (1) 내지 (2)에 있어서, nx1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, nx2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, ny1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미하며, ny2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미함.
또한, 상기 기재층은 하기 식 (3) 내지 (4)를 만족하는 것이 바람직하다.
식 (3): 0.15 ≤ ny1 - nx1 ≤ 0.40
식 (4): 0 ≤ nx2 - ny2 ≤ 0.10
상기 식 (3) 내지 (4)에 있어서, nx1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, nx2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, ny1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미하며, ny2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미함.
또한, 상기 블렌딩 수지는 전체 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 제 1 고분자 수지 80 내지 99 중량부 및 제 2 고분자 수지 1 내지 20 중량부를 포함하는 것이 바람직하다.
한편, 상기 제 1 고분자 수지와 제 2 고분자 수지는 유리전이온도 차가 30℃ 이내인 것이 바람직하다.
한편, 상기 기재층은 최대 연신 배율이 4.5 배 이상인 것이 바람직하다.
또한, 상기 기재층의 두께는 30 내지 200㎛ 인 것이 바람직하다.
한편, 상기 고분자층은 요오드 또는 이색성 염료가 흡착 배향된 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 고분자층의 두께는 10㎛ 이하인 것이 바람직하다.
한편, 상기 기재층과 고분자층 사이에는 접착 보조층을 더 포함될 수 있다.
한편, 본 발명은 액정 셀; 상기 액정 셀의 상층부에 구비되는 상부 편광판; 상기 액정 셀의 하층부에 구비되는 상기 기재 일체형 휘도 향상 편광판; 및 상기 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 하층부에 구비되는 백라이트 유닛을 포함하는 액정표시장치 역시 제공한다.
다른 측면에서, 본 발명은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지와 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지를 혼합하고, 용융 압출하여 기재층을 제조하는 단계; 상기 기재층의 적어도 일면에 고분자층을 적층하는 단계: 및 상기 기재층과 고분자층을 동시에 연신하는 단계를 포함하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법을 제공한다.
이때, 상기 연신하는 단계에 의하여 기재층 및 고분자층의 편광 투과축이 연신 방향의 수직 방향으로 형성되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 연신하는 단계는 90 내지 120℃에서 4.5 내지 6.0배의 연신 배율로 연신하는 것이 바람직하다.
한편, 본 발명의 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법은 상기 기재층의 적어도 일면에 접착 보조층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
한편, 본 발명의 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법은 고분자층에 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 염색하는 단계를 더 포함할 수 있다.
이때, 상기 염색하는 단계는 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 포함하는 용액에 고분자층이 형성된 기재층을 침지하는 방법으로 수행되는 것일 수 있다.
또는, 상기 염색하는 단계는 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 포함하는 용액을 고분자층 상에 도포하여 코팅하는 방법으로 수행되는 것일 수 있다.
본 발명의 기재 일체형 휘도 향상 편광판은 산란편광 특성을 갖는 기재층을 사용하기 때문에 광 이용 효율이 우수하며, 따라서 종래의 기재 일체형 편광판에 비하여 높은 휘도 향상 효과를 가진다.
또한, 본 발명의 기재 일체형 휘도 향상 편광판은 상기 기재층과 고분자층을 적층한 후 동시에 연신 시 편광 투과축이 모두 연신 방향에 수직하게 형성이 되는바, 특별히 조정할 필요 없이 각각의 편광 투과축이 실질적으로 평행하게 된다.
또한, 본 발명의 기재 일체형 휘도 향상 편광판은 상기 동시 연신을 고배율로 수행이 가능한바, 흡수편광 특성을 갖는 고분자층의 광학 특성이 우수하며, 상기 기재층 만으로도 고분자층의 지지체 역할을 수행할 수 있기 때문에, 고배율 연신 과정에서의 고분자층의 파단을 방지해 줌으로써, 흡수편광 특성을 갖는 고분자층의 박막화를 가능하게 해준다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.
1. 기재 일체형 휘도 향상 편광판
본 발명자들은 연구를 거듭한 결과, 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지와 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 블렌딩 수지를 이용하여 기재층을 형성하고, 그 위에 흡수편광 특성을 갖는 고분자층을 적층한 후, 이들을 동시에 연신하여 기재 일체형 편광판을 제조하는 경우, 간단한 공정으로 제조가 가능하고, 편광 투과축의 얼라인(align)이 쉬우며, 광학 특성이 우수하고, 박형이며, 광 이용 효율을 향상시킬 수 있음을 알아내고 본 발명을 완성하였다.
보다 구체적으로, 본 발명의 기재 일체형 휘도 향상 편광판은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지와 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 블렌딩 수지를 포함하는 산란편광 특성을 갖는 기재층; 및 상기 기재층의 적어도 일면에 형성되며, 흡수편광 특성을 갖는 고분자층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
이때, 본 발명에 있어서 “연속상” 이란 광학 필름의 매트릭스상을 의미하며, “불연속상” 이란 상기 매트릭스상에 분산되어 존재하는 분산상을 의미한다.
먼저, 본 발명에 있어서 상기 기재층은 연신에 의하여 산란편광 특성을 갖는 것으로, 본 발명에 따른 일체형 휘도 향상 편광판은 이러한 산란편광 특성을 갖는 기재층에 의하여 우수한 광 이용 효율을 가진다. 즉, 상기 기재층은 백라이트 유닛으로부터 유입되는 광 중에서, 편광 투과축에 평행한 편광을 선택적으로 투과시키고, 편광 투과축에 수직한 편광을 선택적으로 반사 또는 산란시킴으로써, 광 이용 효율을 향상시킨다.
보다 구체적으로, 상기 기재층의 편광 투과축과 직교 방향의 편광성분은 전방 또는 후방으로 산란이 되고, 이와 같이 산란되는 광은 편광방향으로 회전되어 편광해소될 수 있으며, 그 결과 산란된 광은 편광 투과축에 대해 평행한 편광성분을 가질 수 있게 된다. 따라서, 편광방향으로 편광된 성분이 증가하게 되며, 우수한 광 이용 효율을 가질 수 있다.
이때, 상기 기재층은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지와 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 블렌딩 수지로 구성된다. 이와 같이 2종의 고분자 수지를 블렌딩 하여 사용하는 경우에는 2종의 고분자 수지 모두 연신에 의하여 복굴절이 발생하게 되므로, 이로 인하여 산란편광 특성이 보다 우수해지며, 따라서 광 이용 효율을 더욱 증가시킬 수 있다는 장점이 있다.
또한, 이와 같이 2종의 고분자 수지를 블렌딩 하여 사용하는 경우에는 필름 형상의 기재층의 제조가 가능하고, 고배율 연신이 가능하며, 이와 같이 고배율 연신이 가능하기 때문에 기재층과 일체화 되어 동시 연신되는 후술할 흡수편광 특성을 갖는 고분자층의 광학 특성이 우수하며, 또한 연신 과정에서의 고분자층의 파단을 방지해 줄 수 있기 때문에 후술할 흡수편광 특성을 갖는 고분자층의 박막화 역시 가능하다는 장점이 있다.
이때, 상기 블렌딩 수지는 전체 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 제 1 고분자 수지 80 내지 99 중량부 및 제 2 고분자 수지 1 내지 20 중량부를 포함하는 것이 바람직하고, 제 1 고분자 수지 85 내지 97 중량부 및 제 2 고분자 수지 3 내지 15 중량부를 포함하는 것이 보다 바람직하며, 제 1 고분자 수지 90 내지 95 중량부 및 제 2 고분자 수지 5 내지 10 중량부를 포함하는 것이 특히 바람직하다. 일반적으로 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지와 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지는 상용성이 낮기 때문에, 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 조성비가 상기 범위보다 높아지면 상 분리가 일어나게 되며, 따라서 기재층 내에서 연속상과 불연속상을 구현할 수 없다는 문제점이 있다. 한편, 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 조성비가 상기 범위보다 낮아지면 산란편광 특성이 좋지 못하며, 따라서 광 이용 효율이 떨어진다는 문제점이 있다.
한편, 본 발명의 상기 기재층은 하기 식 (1) 내지 (2)를 만족하는 것이 바람직하다.
식 (1): 0 ≤ |nx1 - nx2| ≤ 0.10
식 (2): 0.15 ≤ |ny1 - ny2| ≤ 0.40
상기 식 (1) 내지 (2)에 있어서, nx1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, nx2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, ny1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미하며, ny2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미한다.
상기 식 (1)과 같이 기재층을 구성하는 연속상과 불연속상 두 물질의 편광 투과축 방향의 귤절률이 실질적으로 동일해야 이 방향과 평행한 빛이 굴절률 차이가 없음으로 인해 투과를 하게 되며, 만약 상기 식 (1)을 만족하지 못하는 경우에는 편광 투과축 방향과 평행한 빛 역시 산란이 일어나게 되어 광 이용 효율이 저하되는 문제점이 있다. 또한, 상기 식 (2)와 같이 기재층을 구성하는 연속상과 불연속상 두 물질의 편광 투과축 방향과 수직한 방향의 굴절률이 상이해야 이 방향과 평행한 빛이 굴절률 차이로 인하여 투과하지 못하고 산란이 되며, 만약 상기 식 (2)를 만족하지 못하는 경우에는 빛이 새는 현상이 발생하게 되고, 따라서 산란 효율이 떨어지게 되며, 그 결과 광 이용 효율이 저하되는 문제점이 있다.
또한, 본 발명의 상기 기재층은 하기 식 (3) 내지 (4)를 만족하는 것이 바람직하다.
식 (3): 0.15 ≤ ny1 - nx1 ≤ 0.40
식 (4): 0 ≤ nx2 - ny2 ≤ 0.10
상기 식 (3) 내지 (4)에 있어서, nx1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, nx2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, ny1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미하며, ny2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미한다.
본 발명의 기재층은 연신 방향에 수직한 방향으로 편광 투과축이 형성이 되는 바(상세 후술), 상기 식 (3)은 기재층을 구성하는 연속상이 연신 후 굴절률이 연신 방향과 평행하는 방향의 굴절률이 발달하는 정의 복굴절을 가지는 물질인 것이 바람직함을 의미하며, 상기 식 (4)는 기재층을 구성하는 불연속상이 연신 후 굴절률이 연신 방향과 수직하는 방향의 굴절률이 발달하는 부의 복굴절을 가지는 물질인 것이 바람직함을 의미한다. 본 발명의 기재층은 그 중에서도 특히 상기 식 (3) 내지 (4)의 수치 범위를 만족하는 경우 특히 우수한 광 이용 효율을 가질 수 있다.
한편, 본 발명에 사용 가능한 상기 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지는 후술할 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지와 블렌딩 되어 본 발명의 기재층에서 연속상으로 사용될 수 있는 것으로, 바람직하게는 상기 식 (1) 내지 (3)을 만족할 수 있는 것이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, Co-폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트계 수지, Co-폴리에틸렌나프탈레이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트글리콜계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 고리형폴리올레핀계 수지, 폴리에테르술폰계 수지 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명에 사용 가능한 상기 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지는 상술한 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지와 블렌딩 되어 본 발명의 기재층에서 불연속상으로 사용될 수 있는 것으로, 바람직하게는 상기 식 (1), (2) 및 (4)를 만족할 수 있는 것이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하며, 이에 한정되는 것은 아니나, 예를 들면, 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 아크릴계 수지-co-스티렌계 수지, 폴리카보네이트계 수지-co-스티렌계 수지 등일 수 있다.
한편, 상기 아크릴계 수지는 (메트)아크릴레이트계 단위를 주성분으로 하는 것으로, (메트)아크릴레이트계 단위로 이루어진 호모폴리머 수지뿐 아니라 (메트)아크릴레이트계 단위 이외에 다른 단량체 단위가 공중합된 공중합체 수지를 포함하는 개념이다. 예를 들면, 상기 아크릴계 수지는, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리메틸메타크릴레이트 수지 등일 수 있다.
또한, 상기 스티렌계 수지는 스티렌계 단위를 주성분으로 포함하는 것으로, 스티렌계 단위로 이루어진 호모폴리머 수지뿐 아니라 스티렌계 단위 이외의 다른 단량체 단위가 공중합된 공중합체 수지를 포함하는 개념이다. 예를 들면, 상기 스티렌계 수지는, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리스티렌 수지, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 수지, α-메틸스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 수지 등일 수 있다.
한편, 상기 제 1 고분자 수지와 제 2 고분자 수지는 유리전이온도 차가 30℃ 이내인 것이 바람직하다. 유리전이 온도의 차가 30℃를 초과하는 경우 블렌딩 후 제막된 필름의 연신 과정에서 연신 온도가 한 물질의 유리전이온도에 치우치게 되고, 이 경우 연속상 혹은 불연속상의 광학적 이방성 발달율이 저하되어 산란 효과가 떨어지는 문제점이 있다. 이때, 유리전이온도는 시차주사형 열량계(DSC)에 의해 측정될 수 있다. 예컨대, 시차주사형 열량계(DSC)를 이용하는 경우, 약 10mg의 시료를 전용 펜(pan)에 밀봉하고 일정 승온 조건으로 가열할 때 상변이가 일어남에 따른 물질의 흡열 및 발열량을 온도에 따라 그려 유리전이온도를 측정할 수 있다.
한편, 상기 산란편광 특성을 갖는 기재층은 최대 연신 배율이 4.5배 이상인 것이 바람직하며, 4.5 내지 6.0 배인 것이 보다 바람직하다. 보다 구체적으로 90 내지 120℃의 온도에서 최대 연신 배율이 4.5 내지 6.0 배 정도일 수 있다. 여기서 최대 연신 배율이란 연신 과정에서 필름의 파단이 일어나기 직전의 연신 배율을 의미하며, 기재층의 최대 연신 배율이 상기 범위 이상인 경우 고배율 연신이 가능한바, 연속상과 불연속상의 굴절률 차이가 커져 기재층의 산란편광 특성 우수해지며, 고분자층의 박막화가 가능하고 광학 특성이 우수해지는 장점이 있다.
한편, 상기 산란편광 특성을 갖는 기재층의 두께는 30 내지 200㎛인 것이 바람직하며, 30 내지 100㎛인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위 보다 두꺼워질 경우 연신 전 필름의 두께가 매우 두꺼워야 하기 때문에 제막 공정성이 나오지 않을 수 있으며, 상기 범위 보다 얇은 경우에는 광 이용 효율이 떨어질 수 있다.
다음으로, 상기 기재층의 적어도 일면에 적층되는 흡수편광 특성을 갖는 고분자층은, 백라이트 유닛으로부터 유입되는 광 중에서 편광 투과축에 평행한 편광을 선택적으로 투과시키고, 편광 투과축에 수직한 편광을 선택적으로 흡수시키기 위한 것으로, 상기 흡수편광 특성을 갖는 고분자층은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나가 흡착 배향된 고분자층을 사용할 수 있다. 이때, 상기 고분자층은 폴리비닐알콜계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등을 포함하는 것일 수 있으며, 다만, 이들 중에서도 특히 요오드 또는 이색성 염료에 의한 염색성이 우수하다는 점에서 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 것이 바람직하다.
이때, 상기 폴리비닐알코올계 수지는 폴리비닐알코올 수지 또는 그 유도체를 의미하는 것으로, 상기 폴리비닐알코올 수지의 유도체로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리비닐포르말 수지, 폴리비닐아세탈 수지 등을 들 수 있다. 이때, 상기 폴리비닐알코올계 수지는 중합도가 1,000 내지 10,000 정도, 바람직하게는 1,500 내지 5,000 정도인 것이 좋다. 중합도가 상기 범위를 만족할 때, 분자 움직임이 자유롭고, 요오드 또는 이색성 염료 등과 유연하게 혼합될 수 있기 때문이다.
한편, 상기 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 고분자층은 당해 기술분야에 있어서 편광자 제조에 일반적으로 사용되는 시판되는 폴리비닐알코올계 필름, 예컨대, 구라레 사의 P30, PE30, PE60, 일본합성사의 M3000 M6000 등을 사용할 수도 있다.
한편, 본 발명에 있어서, 상기 흡수편광 특성을 갖는 고분자층의 두께는 10㎛ 이하, 바람직하게는 1 내지 10㎛ 정도로 박형이다. 또한, 이와 같은 얇은 두께에서도, 단체 투과도가 38 내지 42% 정도이며, 편광도가 99.9%, 보다 바람직하게는 99.98% 이상으로 매우 우수한 광학 물성을 나타낸다.
한편, 본 발명의 상기 기재 일체형 휘도 향상 편광판은 필요에 따라 상기 기재층과 고분자층 사이에는 접착 보조층을 더 포함할 수 있다. 이와 같이 기재층의 적어도 일면에 접착 보조층을 형성한 후, 고분자층을 상기 접착 보조층 상에 적층하는 경우, 기재층과 고분자층간의 부착력을 더욱 향상시킬 수 있다. 이때, 상기 접착 보조층은 바인더 수지 및 미립자를 포함하는 것을 바람직하게 사용할 수 있다.
한편, 상기 바인더 수지로는 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리우레탄계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에스테르계 수지 또는 이들의 조합 등을 예로 들 수 있다. 또한, 상기 폴리우레탄계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에스테르계 수지 등의 바인더 수지는 수용성, 수분산성, 유기용제 용해성 또는 유기용제 분산성일 수 있다. 이때, 유기용제 용해성 또는 유기용제 분산성에 사용될 수 있는 유기용제로는 특별히 한정하지 않으며, 상기 저굴절 고분자 수지를 녹이거나 분산시킬 수 있으며, 통상의 코팅공정에 사용할 수 있는 유기용제면 모두 사용 가능하다.
한편, 상기 폴리우레탄계 수지는 폴리올과 폴리이소시아네이트를 반응시킴으로써 획득할 수 있다. 상기 폴리올로서는 분자 중에 하이드록실기를 2개 이상 갖는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 임의의 적절한 폴리올을 채용할 수 있다. 예를 들어, 상기 폴리올은 폴리에스테르폴리올, 폴리카보네이트다이올, 폴리에테르폴리올 등일 수 있으며, 이들로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 1종이상을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
또한, 상기 아크릴계 수지는 아크릴계 단량체를 중합시켜 제조할 수 있으며, 이때, 유리전이온도가 상온보다 높은 아크릴계 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 이에는, 이로써 제한되는 것은 아니나, 예를 들면, 메틸메트아크릴레이트, 에틸메트아크릴레이트, 이소부틸메트아크릴레이트 또는 이들의 혼합물 등을 들 수 있다. 또한, 접착력 및 도막물성 개선을 목적으로 메톡시에틸아미노아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 헥실아크릴레이트, 에틸헥실아크릴레이트 등과 같이 유리전이온도가 상온보다 낮은 아크릴계 단량체를 1종 이상 혼합하여 사용할 수도 있다.
또한, 상기 폴리에스테르계 수지는 폴리올과 디카르복실산을 에스테르화법에 의해 중합시켜 제조할 수 있으며, 또는 폴리올과 디카르복실산 디에스테르를 에스테르교환법에 의해 중합시켜 제조할 수도 있다.
한편, 상기 미립자는 임의의 적절한 미립자를 이용할 수 있으며, 바람직하게는 수분산성의 미립자를 이용할 수 있다. 예를 들면, 무기계 미립자 및/또는 유기계 미립자를 이용할 수 있다. 상기 무기계 미립자로서는 예를 들어 실리카, 티타니아, 알루미나, 지르코니아, 산화아연, 안티몬계 등의 무기 산화물 등을 사용할 수 있고, 상기 유기계 미립자로서는 예를 들어 실리콘계 수지, 불소계 수지, (메트)아크릴계 수지, 가교 폴리비닐알코올, 멜라민계 수지 등을 사용할 수 있다. 다만, 이 중에서도 특히 실리카가 바람직하게 사용될 수 있다.
한편, 본 발명의 상기 기재 일체형 휘도 향상 편광판은 필요에 따라 상기 흡수편광 특성을 갖는 고분자층을 보호하기 위하여 상기 고분자층의 기재층에 적층된 면의 반대면에 별도의 보호 필름을 구비할 수 있다.
이때, 상기 보호 필름은 저 복굴절성이고, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차폐성 등이 우수한 폴리머로 이루어지는 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들면 아크릴계 필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름, 폴리노르보넨(PNB) 필름, 싸이클로올레핀폴리머(COP) 필름, 폴리카보네이트(PC) 필름 등을 사용할 수 있다. 이 중에서도 광학 특성, 내구성 및 경제적인 측면을 고려할 때, 아크릴계 필름이 특히 바람직하다.
한편, 본 발명에서 사용 가능한 아크릴계 필름은 아크릴계 수지를 주성분으로 포함하는 성형 재료를 압출 성형에 의해 성형하여 획득할 수 있다. 이때, 상기 아크릴계 수지는 (메트)아크릴레이트계 단위를 포함하는 수지를 주 성분으로 하는 것으로, (메트)아크릴레이트계 단위로 이루어진 호모 폴리머 수지뿐 아니라 (메트)아크릴레이트계 단위 이외에 다른 단량체 단위가 공중합된 공중합체 수지 및 상기와 같은 (메트)아크릴레이트계 수지에 폴리카보네이트 수지와 같은 다른 수지가 블렌드된 블렌드 수지도 포함하는 개념이다.
한편, 상기 보호 필름의 부착은 마이크로 그라비아 코팅법, 콤마 코팅법, 바 코팅법, 롤러 코팅법, 스핀 코팅법, 프린트법, 딥 코팅법, 유연 성막법, 다이 코팅법, 블레이드 코팅법, 그라비아 인쇄 법 등을 사용하여 상기 고분자층 또는 보호 필름의 표면에 접착제를 코팅한 후, 이들을 합지 롤로 가열 합지하거나, 상온 압착하여 합지하는 방법 또는 합지 후 UV 조사하는 방법 등에 의해 수행될 수 있다. 한편, 상기 접착제로는 당해 기술 분야에서 사용되는 접착제들, 예를 들면, 폴리비닐알코올계 접착제, 폴리우레탄계 접착제, 아크릴계 접착제, 양이온계 또는 라디칼계 자외선 접착제 등이 제한 없이 사용될 수 있다.
2. 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법
이하에서는, 본 발명의 상기 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법을 설명한다.
본 발명의 상기 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법은, 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지와 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지를 혼합하고, 용융 압출하여 기재층을 제조하는 단계; 상기 기재층의 적어도 일면에 고분자층을 적층하는 단계: 및 상기 기재층과 고분자층을 동시에 연신하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
먼저, 상기 미연신 필름의 제조 방법으로는 당해 기술 분야에 있어서 일반적으로 이용되는 필름의 성형 방법을 이용할 수 있으며, 예컨대, 상술한 상기 제 1 고분자 수지와 제 2 고분자 수지를 적절한 혼합 방법에 의해 혼합하여 수지 조성물을 제조한 후 이를 필름 성형하여 제조할 수 있다. 보다 구체적으로, 예를 들면, 상기 수지 조성물은 옴니 믹서 등의 임의의 적절한 혼합기로 상기 필름 원료를 블렌드한 후 얻어진 혼합물을 압출 혼련하여 제조할 수 있으며, 상기 압출 혼련에 이용되는 혼합기로는 단축 압출기, 2축 압출기 등의 압출기나, 가압 니더 등의 임의의 적절한 혼합기를 그 예로 들 수 있다.
상기 필름 성형의 방법으로는, 용액 캐스트법(용액 유연법), 용융 압출법, 캘린더법, 압축 성형법 등의 임의의 적절한 필름 성형법을 이용할 수 있으며, 본 발명의 경우 이 중에서도 특히 용융 압출법을 이용하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 용융 압출법으로는 예를 들어 T 다이법, 인플레이션법 등을 들 수 있으며, 특히 T 다이법으로 필름을 성형하는 경우에는, 공지된 단축 압출기나 2축 압출기의 선단부에 T 다이를 장착하고, 필름 형상으로 압출된 필름을 권취하여 롤 형상의 필름을 얻을 수 있는바, 연속적으로 필름의 제조가 가능하기 때문에 생산성이 우수하다는 장점이 있다. 한편, 성형 온도는 바람직하게는 150~350℃, 보다 바람직하게는 200~300℃이다.
다음으로, 상기 기재층을 제조한 후에는 기재층의 적어도 일면에 고분자층을 적층한다. 이때, 상기 고분자층으로는 상기한 바와 같이 폴리비닐알콜계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등을 포함하는 것을 사용할 수 있으며, 그 중에서도 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 것을 바람직하게 사용할 수 있다.
한편, 상기 기재층과 고분자층의 적층 방법은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 기재층에 고분자층의 형성재를 함유하는 용액을 당해 기술분야에 일반적으로 알려진 마이크로 그라비아 코팅법, 콤마 코팅법, 바 코팅법, 롤러 코팅법, 스핀 코팅법, 프린트법, 딥 코팅법, 유연 성막법, 다이 코팅법, 블레이드 코팅법, 그라비아 인쇄 법 등의 방법을 이용하여 도공 한 후에 건조시킴으로써 적층체를 얻을 수 있다. 사용 가능한 용매로는 메틸렌클로라이드, 클로로포름, 테트라하이드로퓨란(THF), 1,3-디옥살레인, 시클로펜타논, N-메틸 피롤리돈(NMP), 디메틸폼아마이드(DMF), 디메틸아세트아마이드(DMAc), 에탄올, 메탄올 등의 알코올류, 물 등을 들 수 있다.
또는, 상기 기재층의 형성재와 고분자층의 형성재를 당해 기술분야에서 일반적으로 사용되는 공압출기에 주입하고, 공압출되는 기재층과 고분자층의 두께가 적절한 범위가 되도록 제어함으로써 적층체를 얻을 수도 있다. 보다 구체적으로, 상기 기재층의 형성재와 고분자층의 형성재를 각각의 압출기에서 용융 시키고, 피드블록 또는 멀티메니폴더 다이를 이용하여 기재층과 고분자층의 두께를 원하는 범위가 되도록 제어함으로써 적층체를 형성할 수 있다.
또는, 상기 기재층과 고분자층은 별도의 매개물 없이 약한 인력에 의해 부착되어 적층체를 형성할 수도 있다. 이때 상기 부착력은 2N/2cm 이하. 바람직하게는, 0.1 내지 1N/2cm 정도인 것이 바람직하다. 부착력이 상기 범위를 만족하는 경우, 연신 과정에서 기재층과 고분자층이 분리되지 않고, 연신 후 분리 과정에서 표면 손상을 최소화할 수 있기 때문이다. 한편, 상기 부착력은 2cm 폭의 샘플 필름들을 부착하였을 때 측정되는 부착력이며, 보다 구체적으로, 적층체의 고분자층을 샘플 홀더로 고정한 후, 적층체의 면 방향에 대해 수직한 방향으로 힘을 가하여 기재층으로부터 고분자층을 박리하면서 측정한 박리력(Peel Strength)을 말하며, 이때 측정 기기로는 Stable Micro Systems사의 Texture Analyzer(모델명: TA-XT Plus)를 사용한다.
또는, 상기 기재층과 고분자층은 접착제를 이용하여 부착될 수도 있다. 접착제를 이용하여 상기 기재층과 상기 고분자층을 부착할 경우, 접착제층의 두께는 20 내지 4000nm 정도인 것이 바람직하다. 접착제층의 두께가 상기 범위를 만족할 때, 연신 및 건조 공정 이후에 고분자층을 손상 없이 박리하는데 유리하다. 한편, 상기 접착제는, 부착력(접착력)이 2N/2cm 이하이면 되고, 그 재질이 특별히 한정되는 것은 아니며, 당해 기술 분야에 알려진 다양한 접착제들이 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 접착제층은 당해 기술분야에 잘 알려진 수계 접착제 또는 자외선 경화형 접착제로 형성될 수 있다.
한편, 본 발명은 상기 고분자층을 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 포함하는 상태로 기재층 상에 적층할 수도 있다. 이 경우 상기 고분자층이 후술할 염색, 가교, 보색 처리 없이도 흡수편광 특성을 갖게 된다. 한편, 이 경우에도 적층 방법을 특별히 제한되지 않으며, 상술한 코팅법, 공압출법 등을 이용하여 적층할 수 있다.
한편, 본 발명의 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법은 상기 적층하는 단계 전에 기재층과 고분자층의 부착력을 향상시키기 위하여 상기 기재층의 적어도 일면에 접착 보조층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
이때, 상기 기재층의 적어도 일면에 상기 접착 보조층을 형성하는 방법은, 당해 기술 분야에 잘 알려진 코팅 방법, 예를 들면, 마이크로 그라비아 코팅법, 콤마 코팅법, 바 코팅법, 롤러 코팅법, 스핀 코팅법, 프린트법, 딥 코팅법, 유연 성막법, 다이 코팅법, 블레이드 코팅법, 그라비아 인쇄 법 등의 방법을 이용하여 상술한 바인더 수지 및 미립자를 포함하는 조성물을 기재층 상에 도포하고 건조하는 방법으로 수행될 수 있다. 한편, 상기 건조는 컨벡션(convection) 오븐 등을 통해 수행될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
다음으로, 상기 기재층 상에 고분자층을 적층하여 적층체가 형성되면 이들을 동시에 연신한다. 이때, 본 발명의 경우 상기한 바와 같이 동시 연신에 의하여 상기 기재층 및 고분자층의 편광 투과축이 모두 연신 방향의 수직 방향으로 형성된다. 일반적으로 흡수 편광 필름으로 이용되는 고분자층의 경우 연신 방향의 수직 방향으로 편광 투과축이 형성이 되며, 본 발명은 이뿐만 아니라 기재층 역시 상기한 바와 같은 기재 특이성에 의하여 연신 방향의 수직 방향으로 편광 투과축이 형성이 된다. 따라서, 동시 연신에 의하여 기재층과 고분자층의 편광 투과축이 특별히 조정할 필요 없이 실질적으로 평행하게 된다.
이때, 연신 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 상기 적층체의 종 방향(MD)에 대하여 일축 연신을 실시할 수 있고, 또는 상기 적층체의 횡 방향(TD)에 대하여 일축 연신을 실시할 수도 있다. 또한, 상기 적층체의 횡 방향(TD) 연신 시 동시 이축으로 종 방향(MD) 수축을 유발할 수도 있다. 한편, 상기 적층체의 횡 방향(TD) 연신 방법으로는 예를 들어, 텐터를 통해 일단(一端)을 고정시킨 고정단 일축 연신 방법 등을 들 수 있으며, 상기 적층체의 종 방향(MD) 연신 방식으로는, 롤간 연신 방법, 압축 연신 방법, 자유단 일축 연신 방법 등을 들 수 있다. 한편, 연신 처리는 다단으로 실시할 수도 있으며, 또는 이축 연신, 경사 연신 등을 실시함으로써 이루어질 수도 있다.
한편, 상기 연신 처리는 습식 연신 또는 건식 연식으로 수행될 수 있으며, 다만 건식 연신으로 수행되는 것이 보다 바람직하다. 이 경우 상기 연신은 90 내지 120℃의 온도에서 4.5 내지 6.0배의 연신 배율로 수행될 수 있으며, 보다 바람직하게는 100 내지 110℃의 온도에서 5.0 내지 6.0배의 연신 배율로 수행될 수 있다. 한편, 상기 연신은 100 내지 105℃의 온도에서, 5.0 내지 5.5배의 연신 배율로 수행하는 것이 기재층 및 고분자층의 연신성을 고려할 때 특히 바람직하다.
한편, 본 발명의 경우 상기 고분자층에 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 염색하는 단계를 더 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 고분자층에 흡수편광 특성을 부여하기 위해서 고분자층에 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 염색하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 염색하는 단계의 순서는 특별히 한정되지 않으며, 연신하는 단계와 동시에 수행이 되어도 좋고, 연신하는 단계 전에 수행이 되어도 좋으며, 연신하는 단계 이후에 수행되어도 좋다.
한편, 상기 이색성 염료는 당해 기술분야에 있어서 편광자 제조에 사용되는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 예컨대 레드 BR, 레드 LR, 레드 R, 핑크 LB, 루빈 BL, 보르도 GS, 스카이블루 LG, 레몬 옐로우, 블루 BR, 블루 2R, 네이비 RY, 그린 LG, 바이올렛 LB, 바이올렛 B, 블랙 H, 블랙 B, 블랙 GSP, 옐로우 3G, 옐로우 R, 오렌지 LR, 오렌지 3R, 스칼렛 GL, 스칼렛 KGL, 콩고 레드, 브릴리언트 바이올렛 BK, 수프라 블루 G, 수프라 블루 GL, 수프라 오렌지 GL, 다이렉트 스카이블루, 다이렉트 퍼스트 오렌지 S, 퍼스트 블랙 등과 같은 유기 염료 등의 사용이 가능하다.
한편, 염색 물질로 요오드를 사용하는 경우, 염색 효율을 더욱 향상시키기 위하여 추가로 상기 용액에 요오드화 화합물을 첨가하는 것이 바람직하다. 요오드화 화합물로는 요오드화 칼륨, 요오드화 리튬, 요오드화 나트륨, 요오드화 아연, 요오드화 알루미늄, 오요드화 칼슘 등을 그 예로 들 수 있으며, 그 중에서도 특히 요오드화 칼륨이 바람직하다.
한편, 상기 염색하는 단계는 상기 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 포함하는 용액에, 상기 적층체를 침지시킴으로써 수행될 수 있다. 이때, 용매로는 일반적으로 물이 사용되며, 물과 상용성이 있는 유기 용매가 추가로 첨가되어도 좋다. 염색 용액에 대한 적층체의 침지 시간은 특별히 한정되지 않으며, 염색 용액의 온도는 10 내지 60 ℃ 정도이다.
또는, 상기 염색하는 단계는 상기 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 포함하는 용액을 상기 고분자층 상에 도포하여 코팅하는 방법으로 수행될 수도 있다. 침지에 의하여 염색을 하는 경우 기재층과 고분자층 간의 박리 및 파단 발생의 문제점이 발생할 수 있으나, 이와 같이 코팅에 의하여 염색을 하는 경우 이를 방지할 수 있다.
이때, 상기 코팅 방법은 당해 기술분야에 널리 알려진 방법에 의해 수행될 수 있으며, 예컨대 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 포함하는 용액을 마이크로 그라비아 코팅법, 콤마 코팅법, 바 코팅법, 롤러 코팅법, 스핀 코팅법, 프린트법, 딥 코팅법, 유연 성막법, 다이 코팅법, 블레이드 코팅법, 그라비아 인쇄 법 등의 방법을 이용하여 고분자층 상에 도포하는 방법으로 수행될 수 있다. 용매로는 물이 일반적으로 사용되며, 물과 상용성이 좋은 유기 용매가 추가로 첨가되어도 좋다.
한편, 상기와 같이 코팅에 의하여 염색을 하는 경우, 코팅은 30 내지 80℃, 보다 바람직하게는 40 내지 70℃, 특히 바람직하게는 45 내지 65℃의 온도에서 수행되는 것이 보다 바람직하다. 이 경우 고분자층의 팽윤이 쉽게 일어날 수 있으며, 그 결과 염착 효율을 향상시킬 수 있기 때문이다. 한편, 상기 적층체에 상기 온도 범위를 만족하는 열을 가해주는 방법으로는 열풍 노즐 등을 이용하는 방법, 상기 온도 범위로 가열 처리 한 가열 롤을 이용하는 방법 등이 있다.
한편, 본 발명의 경우 상기 염색하는 단계에 추가하여 가교하는 단계를 더 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 고분자층에 흡착 배향된 요오드 또는 이색성 염료를 고정시키기 위하여 가교하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 가교하는 단계의 순서는 특별히 한정되지 않으며, 연신 및/또는 염색하는 단계와 동시에 수행이 되어도 좋고, 연신 및/또는 염색하는 단계 전에 수행이 되어도 좋으며, 연신 및/또는 염색하는 단계 이후에 수행되어도 좋다. 염색하는 단계와 동시에 수행되는 경우에는 가교제를 상기 염색 용액 중에 배합함으로써 수행한다.
한편, 상기 가교제는 종래 공지된 물질을 사용할 수 있다. 예컨대 붕산, 붕산 나트륨 등의 붕소 화합물, 글리옥살 또는 글루탈알데히드 등을 사용할 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 그 중에서도 특히 붕산을 포함하여 사용하는 것이 바람직하다.
한편, 상기 가교하는 단계는 상기 가교제를 포함하는 용액에, 상기 적층체를 침지시킴으로써 수행될 수 있다. 이때, 용매로는 일반적으로 물이 사용되며, 물과 상용성이 있는 유기 용매가 추가로 첨가되어도 좋다. 가교 용액에 대한 적층체의 침지 시간은 특별히 한정되지 않으며, 가교 용액의 온도는 10 내지 60 ℃ 정도이다.
또는, 상기 가교하는 단계는 상기 가교제를 포함하는 용액을 상기 고분자층 상에 도포하여 코팅하는 방법으로 수행될 수도 있다. 코팅에 의해 염색하는 단계를 거친 후 가교하는 단계 역시 코팅에 의한 방법으로 수행하는 경우, 기재층과 고분자층 간의 박리 및 파단 발생의 문제를 더욱 효과적으로 방지할 수 있다. 이때, 코팅 방법 등은 염색하는 단계에서 설명한 바와 같다.
한편, 본 발명의 경우 상기 가교하는 단계에 추가하여 보색하는 단계를 더 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 고분자층에 흡착 배향된 요오드 또는 이색성 염료의 색 변화를 방지하기 위하여 보색하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 보색하는 단계의 순서는 특별히 한정되지 않으며, 염색 및/또는 가교하는 단계와 동시에 수행되어도 좋고, 염색 및/또는 가교하는 단계 이후에 수행되어도 좋다. 염색 및/또는 가교하는 단계와 동시에 수행되는 경우에는 보색제를 상기 염색 및/또는 가교 용액 중에 배합함으로써 수행한다.
한편, 상기 보색제로는 일반적으로 요오드화 화합물이 사용되며, 요오드화 화합물로는 요오드화 칼륨, 요오드화 리튬, 요오드화 나트륨, 요오드화 아연, 요오드화 알루미늄, 오요드화 칼슘 등을 그 예로 들 수 있으며, 그 중에서도 특히 요오드화 칼륨이 바람직하다.
한편, 상기 보색하는 단계는 상기 보색제를 포함하는 용액에, 상기 적층체를 침지시킴으로써 수행될 수 있다. 이때, 용매로는 일반적으로 물이 사용되며, 물과 상용성이 있는 유기 용매가 추가로 첨가되어도 좋다. 보색 용액에 대한 적층체의 침지 시간은 특별히 한정되지 않으며, 보색 용액의 온도는 10 내지 60 ℃ 정도이다.
또는, 상기 보색하는 단계는 상기 보색제를 포함하는 용액을 상기 고분자층 상에 도포하여 코팅하는 방법으로 수행될 수도 있다. 코팅에 의해 염색 및 가교하는 단계를 거친 후 보색하는 단계 역시 코팅에 의한 방법으로 수행하는 경우, 기재층과 고분자층 간의 박리 및 파단 발생의 문제를 더욱 효과적으로 방지할 수 있다. 이때, 코팅 방법 등은 염색하는 단계에서 설명한 바와 같다.
한편, 본 발명의 경우 상기 염색하는 단계 이후에 적층체를 건조하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 건조는, 이로써 한정되는 것은 아니나, 편광자의 광학 특성을 고려할 때, 20 내지 100℃, 더 바람직하게는 40 내지 90℃ 정도의 온도에서 수행되는 것이 바람직하며, 상기 건조 시간은 1 내지 10분 정도인 것이 바람직하다. 건조 공정은 고분자층의 표면 및 내부의 수분 제거를 통해 편광판 제조공정 중 수분에 의한 고분자층의 물성 저하를 방지하고, 건조 과정에서 연신된 고분자층의 폭수축을 원활하게 유도해주어 고분자 및 요오드로 구성된 착체의 배향성을 증대시켜 고분자층의 편광도를 향상시키는 역할을 한다. 이때, 상기 건조하는 단계는 염색, 가교, 보색 처리 등을 수행한 후에 실시하는 것이 바람직하다.
3. 액정표시장치
한편, 본 발명은 상기 기재 일체형 휘도 향상 편광판을 포함하는 액정표시장치 역시 제공한다. 이때, 상기 액정표시장치는 액정 셀, 상기 액정 셀의 상층부에 구비되는 상부 편광판, 상기 액정 셀의 하층부에 구비되는 상기 기재 일체형 휘도 향상 편광판, 및 상기 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 하층부에 구비되는 백라이트 유닛을 포함하는 것일 수 있다.
이때, 상기 상부 편광판은 액정표시장치에 일반적으로 사용되는 것이면 제한 없이 사용이 가능하며, 그 구조는 예컨대 보호 필름/편광자, 편광자/보호 필름 또는 보호 필름/편광자/보호 필름 등일 수 있다.
이때, 상기 상부 편광판에 사용되는 편광자는 요오드 또는 이색성 염료를 포함하는 폴리비닐알코올로 이루어진 필름과 같이 당해 기술분야에 알려져 있는 것을 제한 없이 사용이 가능하며, 제조방법 역시 특별히 한정되지 않는다.
또한, 상기 상부 편광판에 사용되는 보호 필름은 아크릴계 필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름, 폴리노르보넨(PNB) 필름, 싸이클로올레핀폴리머(COP) 필름, 폴리카보네이트(PC) 필름 등을 사용할 수 있으며, 그 중에서도 특히 아크릴계 필름이 바람직하다. 아크릴계 필름에 대한 구체적인 내용은 상기한 바와 같다.
한편, 상기 편광자와 보호 필름의 부착은 롤 코터, 그라비어 코터, 바 코터, 나이프 코터 또는 캐필러리 코터 등을 사용하여 편광자 또는 보호 필름의 표면에 접착제를 코팅한 후, 이들을 합지 롤로 가열 합지하거나, 상온 압착하여 합지하는 방법 등에 의해 수행될 수 있다. 한편, 상기 접착제로는 당해 기술 분야에서 사용되는 접착제들, 예를 들면, 폴리비닐알코올계 접착제, 폴리우레탄계 접착제, 아크릴계 접착제, 양이온계 또는 라디칼계 UV접착제 등이 제한 없이 사용될 수 있다.
한편, 상기 상부 편광판에는 액정 셀에서 발생하는 광학 위상차를 보상시켜 주기 위한 위상차 필름이 포함될 수도 있다. 이 경우 그 구조는 예컨대 보호 필름/편광자/보호 필름/위상차 필름 등일 수 있다. 이때, 본 발명에 사용 가능한 위상차 필름은 특별히 제한되지 않으며, 액정표시장치의 다양한 액정 모드에 따라 당해 기술분야에서 일반적으로 사용되고 있는 위상차 필름이 사용될 수 있다.
다음으로, 상기 액정 셀은 액정표시장치에 일반적으로 사용되는 것이면 제한 없이 사용이 가능하며, 그 구조는 예컨대 상 투명 기판/칼러필터/보호막/투명도전막 전극/배향막/액정/배향막/박막 트랜지스터/하 투명 기판 등일 수 있다. 한편, 상기 액정 셀(20)에는 다양한 모드의 액정이 사용될 수 있으며, 예컨대 Double Domain TN(Twisted Nematic), ASM(axially symmetric aligned microcell), OCB(optically compensated blend), VA(vertical alig㎚ent), MVA(multidomain VA), SE(surrounding electrode), PVA(patterned VA), IPS(in-plane switching), FFS(fringe-field switching) 모드 등이 사용될 수 있다.
한편, 본 발명의 액정표시장치에 있어서, 액정 셀과 편광판의 부착은 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술분야에서 일반적으로 이용되는 방법으로 부착이 가능하다.
다음으로, 상기 백라이트 유닛은 액정표시장치에 일반적으로 사용되는 것이면 제한 없이 사용이 가능하며, 예를 들면, 광원과 다수의 광학 필름들을 포함할 수 있다. 이때, 상기 백라이트 유닛에 사용되는 광원은 다양한 광원이 사용될 수 있으며, 예컨대 냉음극 형광램프(CCFL), 외부전극 형광램프(EEFL), 발광다이오드(LED), 면광원램프(FFL) 등이 사용될 수 있다. 또한, 상기 광학 필름으로는 프리즘 시트, 확산 필름, 도광판, 확산판, 반사 필름 등과 같이 당해 기술 분야에 잘 알려진 백라이트 유닛용 광학 필름이 제한 없이 사용될 수 있다.
이하 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.
실시예 1
폴리에틸렌테레프탈레이트(TK케미칼, TEX-PET) 90 중량부와 폴리메틸메타크릴레이트(LG화학, PMMA) 10 중량부를 물리적으로 혼합한 수지 조성물을 압출기에 공급하여 250℃에서 용융하여 원료 펠렛(pellet)을 제조하였다. 제조한 원료 펠렛을 진공 건조하고 250℃에서 압출기로 용융한 뒤, 매니폴더 타입의 티-다이(T-die)에 통과시키고, 크롬 도금 캐스팅 롤 및 건조 롤 등을 거쳐 두께 200㎛의 필름 형상의 기재층을 제조하였다. 그 후, 폴리비닐알코올 수지(일본합성,NH-26)를 9.1wt% 녹여 코팅액(용매 물)을 만들어 상기 기재층에 콤마 코터로 도포 및 건조하여 15㎛두께로 코팅하여, 적층체를 제조하였다.
다음으로, 상기 적층체를 100℃의 온도에서 건식 연신 방법으로 5배의 연신 배율로 폭 방향(TD)으로 1축 연신 하였다. 연신 후 폴리비닐알코올층의 두께는 3㎛ 이었다. 그 후, 요오드/요오드화칼륨/붕산 수용액(요오드 0.3wt%, 요오드화 칼륨 1wt%, 붕산 10wt%)에 상기 적층체를 침지하여 폴리비닐알코올층을 염색, 가교, 보색 처리 하였다. 그 후, 상기 적층체를 70℃ 오븐에서 270초간 건조하여, 기재 일체형 휘도 향상 편광판을 제조하였다. 제조된 편광판의 기재층의 두께는 40㎛ 이었고, 흡수편광 특성이 부여된 폴리비닐알코올층의 최종 두께는 3㎛ 이었다.
실시예 2
실시예 1에 있어서, 상기 폴리메틸메타크릴레이트 대신에 폴리스틸렌-co-폴리메틸메타크릴레이트(LG화학, PS-co-PMMA)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 기재 일체형 휘도 향상 편광판을 제조하였다. 제조된 편광판의 기재층의 두께는 40㎛ 이었고, 흡수편광 특성이 부여된 폴리비닐알코올층의 최종 두께는 3㎛ 이었다.
비교예
실시예 1에 있어서, 기재층 제조 시 상기 폴리에틸렌테레프탈레이트만을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 기재 일체형 휘도 향상 편광판을 제조하였다. 제조된 편광판의 기재층의 두께는 40㎛ 이었고, 흡수편광 특성이 부여된 폴리비닐알코올층의 최종 두께는 3㎛ 이었다.
실험예 1 - 굴절률 측정
편광판의 제조 후에는 굴절률의 측정이 어려운바, 상기 실시예 1 ~ 2 및 비교예서 사용된 고분자 수지의 굴절률을 측정하기 위하여, 이들 고분자 수지 각각을 상기 실시예 1에서 기재한 방법과 동일한 방법으로 용융 압출하여 필름을 제조하였다. 제조된 필름의 굴절률을 프리즘 커플러를 이용하여 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
구 분 고분자 수지 유리전이온도(℃) nx ny
실시예 1 PET 78 1.53 1.69
PMMA 59 1.49 1.49
실시예 2 PET 78 1.53 1.69
PS-co-PMMA 108 1.52 1.52
비교예 PET 78 1.53 1.69
상기 표 1에 있어서, nx는 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, ny는 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미한다. 또한, PET는 폴리에틸렌테레프탈레이트를 의미하고, PMMA는 폴리메틸메타크릴레이트를 의미하며, PS-co-PMMA는 폴리스틸렌-co-폴리메틸메타크릴레이트를 의미한다.
실험예 2 - 광 특성 측정
상기 실시예 1 ~ 2 및 비교예에서 제조된 편광판의 광학특성을 JASCO V-7100 Spectrophotometer로 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
실험예 3 - 휘도 측정
상기 실시예 1 ~ 2 및 비교예에서 제조된 편광판의 상대적인 휘도 값을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다. 보다 구체적으로, 백라이트 유닛(BLU) 상에 상기 실시예 1 ~ 2 및 비교예에서 제조한 편광판을 3cm x 3cm 로 재단한 하여 라미네이션 한 후 비교예의 휘도 값을 100%로 하고, 실시예 1 ~ 2의 비교예에 대한 상대적인 휘도 값을 휘도 측정장비(BM-7)를 이용하여 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
구분 편광 소자 두께(㎛) 편광도(%) 휘도(%)
실시예 1 3 99.985 108
실시예 2 3 99.985 108
비교예 3 99.985 100
상기 표 2에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 기재 일체형 휘도 향상 편광판은 산란편광 특성을 갖는 기재층을 일체화하여 사용하기 때문에 단순히 박형 편광자를 제조할 수 있는 비교예에 비하여 광 이용 효율이 우수하고, 광학 특성 역시 우수하며, 박막화가 가능하다. 또한, 동시 연신에 의하여 특별한 조정 없이도 기재층과 고분자층의 편광 투과축이 실질적으로 평행하게 형성되는 등, 제조 공정이 간단하다.
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.

Claims (19)

  1. 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지와 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 블렌딩 수지를 포함하는 산란편광 특성을 갖는 기재층; 및
    상기 기재층의 적어도 일면에 형성되며, 흡수편광 특성을 갖는 고분자층을 포함하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층 및 고분자층은 동시 연신되고,
    상기 연신에 의해 기재층 및 고분자층의 편광 투과축이 연신 방향의 수직 방향으로 형성되는 기재 일체형 휘도 향상 편광판.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층은 하기 식 (1) 내지 (2)를 만족하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판.
    식 (1): 0 ≤ |nx1 - nx2| ≤ 0.10
    식 (2): 0.15 ≤ |ny1 - ny2| ≤ 0.40
    상기 식 (1) 내지 (2)에 있어서, nx1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, nx2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, ny1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미하며, ny2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미함.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층은 하기 식 (3) 내지 (4)를 만족하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판.
    식 (3): 0.15 ≤ ny1 - nx1 ≤ 0.40
    식 (4): 0 ≤ nx2 - ny2 ≤ 0.10
    상기 식 (3) 내지 (4)에 있어서, nx1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, nx2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향의 굴절률을 의미하고, ny1은 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미하며, ny2는 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지의 연신 후 편광 투과축 방향에 수직한 방향의 굴절률을 의미함.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 블렌딩 수지는 전체 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 제 1 고분자 수지 80 내지 99 중량부 및 제 2 고분자 수지 1 내지 20 중량부를 포함하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 고분자 수지와 제 2 고분자 수지는 유리전이온도 차가 30℃ 이내인 기재 일체형 휘도 향상 편광판.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층은 최대 연신 배율이 4.5 배 이상인 기재 일체형 휘도 향상 편광판.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층의 두께는 30 내지 200㎛ 인 기재 일체형 휘도 향상 편광판.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 고분자층은 요오드 또는 이색성 염료가 흡착 배향된 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 고분자층의 두께는 10㎛ 이하인 기재 일체형 휘도 향상 편광판.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재층과 고분자층 사이에 접착 보조층을 더 포함하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판.
  12. 액정 셀;
    상기 액정 셀의 상층부에 구비되는 상부 편광판;
    상기 액정 셀의 하층부에 구비되는 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항의 기재 일체형 휘도 향상 편광판; 및
    상기 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 하층부에 구비되는 백라이트 유닛을 포함하는 액정표시장치.
  13. 연속상을 형성하는 제 1 고분자 수지와 불연속상을 형성하는 제 2 고분자 수지를 혼합하고, 용융 압출하여 기재층을 제조하는 단계;
    상기 기재층의 적어도 일면에 고분자층을 적층하는 단계: 및
    상기 기재층과 고분자층을 동시에 연신하는 단계;
    를 포함하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 연신하는 단계에 의하여 기재층 및 고분자층의 편광 투과축이 연신 방향의 수직 방향으로 형성되는 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 연신하는 단계는 90 내지 120℃에서 4.5 내지 6.0배의 연신 배율로 연신하는 것인 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법.
  16. 제 13 항에 있어서,
    상기 기재층의 적어도 일면에 접착 보조층을 형성하는 단계를 더 포함하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법.
  17. 제 13 항에 있어서,
    상기 고분자층에 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 염색하는 단계를 더 포함하는 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 염색하는 단계는 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 포함하는 용액에 고분자층이 형성된 기재층을 침지하는 방법으로 수행되는 것인 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법.
  19. 제 17 항에 있어서,
    상기 염색하는 단계는 요오드 및 이색성 염료 중 적어도 하나를 포함하는 용액을 고분자층 상에 도포하여 코팅하는 방법으로 수행되는 것인 기재 일체형 휘도 향상 편광판의 제조 방법.
KR1020130131593A 2013-10-31 2013-10-31 기재 일체형 휘도 향상 편광판 및 그 제조 방법 KR20150050137A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130131593A KR20150050137A (ko) 2013-10-31 2013-10-31 기재 일체형 휘도 향상 편광판 및 그 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130131593A KR20150050137A (ko) 2013-10-31 2013-10-31 기재 일체형 휘도 향상 편광판 및 그 제조 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20150050137A true KR20150050137A (ko) 2015-05-08

Family

ID=53388075

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130131593A KR20150050137A (ko) 2013-10-31 2013-10-31 기재 일체형 휘도 향상 편광판 및 그 제조 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20150050137A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5073589B2 (ja) 偏光子の製造方法、偏光子、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP4938632B2 (ja) 液晶パネル及び液晶表示装置
KR100687515B1 (ko) 위상차 필름, 편광 소자, 액정 패널, 및 액정 표시 장치
KR101628597B1 (ko) 액정 표시 장치
JP5072747B2 (ja) 偏光子の製造方法、偏光子、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
WO2013191152A1 (ja) 偏光板および有機ｅｌパネル
JP5232465B2 (ja) 長尺光学積層体の製造方法、長方形状光学積層体の製造方法、及び液晶パネル
TW201818579A (zh) 寬頻帶波長薄膜及其製造方法以及圓偏光薄膜的製造方法
TWI739941B (zh) 寬頻帶波長薄膜及其製造方法以及圓偏光薄膜的製造方法
JP2008281761A (ja) 光学積層フィルム、及び長尺光学積層フィルムの製造方法、及び液晶表示装置
JP2013037222A (ja) 偏光子及びその製造方法
KR101190981B1 (ko) 내열성이 우수한 광학 이방성 필름 및 이를 포함하는 액정디스플레이 장치
CN102632680A (zh) 多层层叠薄膜的制造方法
KR20190131575A (ko) 액정 표시 장치
TW201543087A (zh) 偏光板、影像顯示裝置及液晶顯示裝置
JP2008268668A (ja) 幅方向に一軸円筒対称に配向したフィルムおよびその製造方法
CN101251614A (zh) 层叠相位差薄膜
JP7343093B2 (ja) 視野角補償フィルム、これを含む偏光板及びこれを含むディスプレイ装置
TW201738596A (zh) 偏光板之套組及使用該套組之ｉｐｓ模式液晶顯示裝置
JP5463020B2 (ja) 液晶パネル及び液晶表示装置
JP2008298871A (ja) 偏光子の製造方法、偏光子、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
KR20150037443A (ko) 역파장분산 특성을 갖는 위상차 필름 및 그 제조 방법
KR101751573B1 (ko) 광학 필름 및 그 제조 방법
KR102530378B1 (ko) 편광판의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
KR20150050137A (ko) 기재 일체형 휘도 향상 편광판 및 그 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application