KR20150048042A - Transparent conductor, method for preparing the same and optical display apparatus comprising the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a transparent conductor, a manufacturing method thereof, and an optical display device including the same. The transparent conductor includes a base layer and a conductive layer which is formed on the base layer and includes a metal nanowire and a matrix. A transmission b* value is 1.5 or less. The matrix includes a five or six functional monomer and a three functional monomer.

Description

투명 도전체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 광학표시장치{TRANSPARENT CONDUCTOR, METHOD FOR PREPARING THE SAME AND OPTICAL DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a transparent conductor, a method of manufacturing the same, and an optical display device including the transparent conductor. [0002]

본 발명은 투명 도전체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 광학표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent conductor, a method of manufacturing the same, and an optical display device including the same.

투명 도전체는 디스플레이 장치에 포함되는 터치스크린패널, 플렉시블(flexible) 디스플레이 등 다방면에 사용되고 있다. 투명 도전체는 투명성, 면저항 등의 물성이 좋아야 하고, 최근 플렉시블 디스플레이에까지 사용 영역이 확대되면서 굴곡 특성도 요구되고 있다. 은 나노와이어 포함 투명 도전층을 포함하는 투명 도전체는 굴곡 특성이 우수하다. 그러나, 은 나노와이어 포함 투명 도전체는 기재필름과의 부착성을 높이는 오버코팅층(overcoating layer)을 포함하게 되는데, 일반적으로 사용되는 오버코팅층은 색차 계수 중 투과 b*값이 높아, 투명 도전체는 색의 왜곡 현상을 보일 수 있고, 투과도, 헤이즈 등의 광학 특성이 떨어질 수 있다. 또한, 은 나노와이어 포함 투명 도전층은 은 나노와이어로 인해 노란색으로 보일 수 있다는 문제점도 있다. 이와 관련하여 한국공개특허 제2012-0053724호는 투명 도전성 필름 및 그 제조방법을 기술하고 있다.The transparent conductor is used in many aspects such as a touch screen panel and a flexible display included in a display device. Transparent conductors should have good physical properties such as transparency and sheet resistance. Flexibility has also been required in recent years as the area of use extends to flexible displays. The transparent conductor including the transparent conductive layer including silver nanowires has excellent bending property. However, the transparent conductor including the silver nanowire includes an overcoating layer for enhancing adhesion with the base film. In general, the overcoat layer used has a high transmission b * value in the color difference coefficient, Color distortion may be exhibited, and optical characteristics such as transmittance and haze may be deteriorated. In addition, there is a problem that the transparent conductive layer including silver nanowires can be seen as yellow due to silver nanowires. Korean Patent Publication No. 2012-0053724 discloses a transparent conductive film and a manufacturing method thereof.

본 발명의 목적은 투과 b*값을 낮춤으로써 투과도, 헤이즈 등을 비롯한 광학특성이 좋은 투명 도전체를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a transparent conductor having good optical characteristics including transmittance, haze and the like by lowering the transmission b * value.

본 발명의 다른 목적은 광학특성과 함께 면저항도 낮고, 신뢰성과 내구성이 좋은 투명 도전체를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a transparent conductor having low surface resistance, reliability and durability as well as optical properties.

본 발명의 투명 도전체는 본 발명은 기재층, 및 상기 기재층 상에 형성되고 금속 나노와이어 및 매트릭스를 포함하는 도전층을 포함하고, 투과 b* 값이 1.5 이하이고, 상기 매트릭스는 5관능 또는 6관능 모노머 및 3관능 모노머를 포함하는 조성물로 형성될 수 있다.The transparent conductor of the present invention is a transparent conductor comprising a base layer and a conductive layer formed on the base layer and including metal nanowires and a matrix, wherein the transmission b * value is 1.5 or less, Can be formed from a composition comprising a hexafunctional monomer and a trifunctional monomer.

본 발명의 투명 도전체의 제조 방법은 기재층 상에 금속 나노와이어 네트워크층을 형성하고, 금속 나노와이어 네트워크층 상에 5관능 또는 6관능 모노머, 3관능 모노머, 부착증진제, 산화방지제 및 개시제를 포함하는 매트릭스용 조성물로 도전층을 형성하는 것을 포함할 수 있다.The method of manufacturing a transparent conductor of the present invention comprises forming a metal nanowire network layer on a substrate layer and including a pentafunctional or hexafunctional monomer, a trifunctional monomer, an adhesion promoter, an antioxidant and an initiator on the metal nanowire network layer To form a conductive layer with the composition for the matrix.

본 발명의 광학표시장치는 상기 투명 도전체를 포함할 수 있다.The optical display device of the present invention may include the transparent conductor.

본 발명은 투과도, 헤이즈 등을 비롯한 광학특성이 좋고, 면저항도 낮고, 신뢰성과 내구성이 좋은 투명 도전체를 제공하였다.The present invention provides a transparent conductor having good optical characteristics including low transmittance and haze, low sheet resistance, and high reliability and durability.

도 1은 본 발명 일 실시예의 투명 도전체의 단면도이다.
도 2는 본 발명 다른 실시예의 투명 도전체의 단면도이다.
도 3은 본 발명 일 실시예의 광학표시장치의 단면도이다.
도 4는 본 발명 다른 실시예의 광학표시장치의 단면도이다.
도 5는 본 발명 또 다른 실시예의 광학표시장치의 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of a transparent conductor according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a transparent conductor according to another embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view of an optical display device according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of an optical display device according to another embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of an optical display device according to still another embodiment of the present invention.

첨부한 도면을 참고하여 실시예에 의해 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 본 명세서에서, '상부'와 '하부'는 도면을 기준으로 정의한 것으로, 보는 시각에 따라 '상부'가 '하부'로, '하부'가 '상부'로 변경될 수 있고, '(메트)아크릴레이트'는 아크릴레이트 및/또는 메타아크릴레이트를 의미할 수 있다.The present invention will now be described more fully hereinafter with reference to the accompanying drawings, in which preferred embodiments of the invention are shown. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification. In this specification, 'upper' and 'lower' are defined with reference to the drawings, and 'upper' may be changed to 'lower' and 'lower' Quot; rate " may mean acrylate and / or methacrylate.

본 명세서에서 "투과 b* 값"은 폴리카보네이트 기재필름(두께:50㎛~125㎛)에 금속 나노와이어 및 매트릭스를 포함하는 도전층(두께:10nm 내지 1㎛)이 적층된 투명도전체에 대하여 파장 400nm 내지 700nm에서 색차 측정기 CM6000D(Konica Minolta사)를 사용하여 측정할 수 있지만, 기재필름의 재질과 두께, 도전층의 두께, 파장을 변경하더라도 본 발명의 범위에 포함될 수 있다.In the present specification, the "transmission b * value" means a value obtained by multiplying the transparency obtained by laminating metal nanowires and a conductive layer (thickness: 10 nm to 1 m) on a polycarbonate base film (thickness: 50 m to 125 m) (Konica Minolta) at 400 to 700 nm. However, the material and thickness of the base film, the thickness and wavelength of the conductive layer may be changed, and the present invention can be included in the scope of the present invention.

본 명세서에서 "신뢰성"은 투명 도전체 위에 두께 50~125㎛ 투명 접착 필름(Optically Clear Adhesives 8215, 3M 사)과 두께 38~125㎛의 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 필름을 합지한 상태로 85℃ 및 85% 상대습도에서 240시간 방치 후 측정된 저항변화율로 나타내며, 상기 저항변화율이 10% 이하, 구체적으로 1 내지 10%가 될 수 있는 경우 신뢰성이 있는 것으로 판단한다.In the present specification, "reliability" means that a transparent conductive film (Optically Clear Adhesives 8215, 3M) and a PET (polyethylene terephthalate) film having a thickness of 38 to 125 탆 are laminated on a transparent conductor at a temperature of 85 캜 and The resistance change rate is measured after standing at 85% relative humidity for 240 hours. When the resistance change rate is 10% or less, specifically 1 to 10%, it is determined that the resistance is reliable.

본 발명의 실시예들에 따른 투명 도전체는 기재층, 상기 기재층 상에 형성되고 금속 나노와이어 및 매트릭스를 포함하는 도전층을 포함하고, 매트릭스는5관능 또는 6관능 모노머 및 3관능 모노머를 포함하는 조성물로 형성될 수 있다. 그 결과, 투과도, 헤이즈 등을 비롯한 광학 특성이 좋고, 면 저항도 낮고, 신뢰성과 내구성이 개선된 투명 도전체를 구현할 수 있다.A transparent conductor according to embodiments of the present invention comprises a substrate layer, a conductive layer formed on the substrate layer and comprising metal nanowires and a matrix, wherein the matrix comprises five or six functional monomers and three functional monomers Or the like. As a result, it is possible to realize a transparent conductor having good optical characteristics including transmittance and haze, low surface resistance, and improved reliability and durability.

이하, 도 1을 참고하여 본 발명 일 실시예의 투명 도전체를 설명한다.Hereinafter, a transparent conductor according to one embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

도 1을 참조하면, 본 실시예의 투명 도전체(100)는 기재층(110), 기재층(110) 상에 형성되고 금속 나노와이어(121) 및 매트릭스(122)를 포함하는 도전층(120)을 포함하고, 투과 b* 값이 1.5 이하이며, 매트릭스(122)는5관능 또는 6관능 모노머, 3관능 모노머를 포함하는 조성물로 형성될 수 있다. 그 결과, 매트릭스(122)는 UV 광경화되어 투명 도전체의 투과도를 높이고 투과 b* 값을 낮추어 도전층이 노란색으로 보이는 현상을 최소화하고 도전층의 신뢰성을 높일 수 있다. 1, the transparent conductor 100 of this embodiment includes a base layer 110, a conductive layer 120 formed on the base layer 110 and including metal nanowires 121 and a matrix 122, And the transmission b * value is 1.5 or less, and the matrix 122 may be formed of a composition comprising a pentafunctional or hexafunctional monomer, and a trifunctional monomer. As a result, the matrix 122 is UV-cured, thereby increasing the transmittance of the transparent conductor and lowering the transmission b * value, minimizing the yellow appearance of the conductive layer and increasing the reliability of the conductive layer.

상기 투과 b* 값은 1.5 이하, 구체적으로 0.50 내지 1.50, 1.00 내지 1.30이 될 수 있다. 상기 범위에서, 투명 도전체(100)의 투과도가 높고, 저항 변화율이 낮고, 투명 도전체(100)의 패터닝으로 투명 전극 필름으로 사용할 수 있다. 물론 매트릭스(122)로 인하여 기존의 투명 도전체의 내구성, 내화학성, 내용제성 등을 가질 수 있다.The transmission b * value may be 1.5 or less, specifically 0.50 to 1.50 or 1.00 to 1.30. Within the above range, the transparency of the transparent conductor 100 is high, the rate of change in resistance is low, and the transparent conductor 100 can be used as a transparent electrode film by patterning. Of course, the matrix 122 may have durability, chemical resistance, solvent resistance, etc. of the conventional transparent conductor.

기재층(110)은 투명성을 갖는 필름으로서, 파장 550nm에서 투과율이 85% 이상100% 이하, 예를 들면 90% 내지 99%인 필름이 될 수 있다. 구체적으로, 기재층(110)은 폴리카보네이트(polycarbonate), 시클릭올레핀폴리머(cycloolefine polymer), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate) 등을 포함하는 폴리에스테르, 폴리올레핀(polyolefine), 폴리술폰(polysulfone), 폴리이미드(polyimide), 실리콘(silicone), 폴리스티렌(polystyrene), 폴리아크릴(polyacryl), 및 폴리비닐클로라이드(polyvinylchloride) 에서 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 기재층(110)은 단일층 또는 2종 이상의 수지 필름이 적층된 형태가 될 수도 있다. 기재층(110)의 두께는 10㎛ 내지 200㎛, 구체적으로 50㎛ 내지 150㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 디스플레이에 사용될 수 있다.The base layer 110 is a film having transparency and can be a film having a transmittance of 85% or more and 100% or less, for example, 90% to 99% at a wavelength of 550 nm. Specifically, the base layer 110 may be formed of a material selected from the group consisting of polyesters including polycarbonate, cycloolefin polymer, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate and the like, polyolefins polyolefine, polysulfone, polyimide, silicone, polystyrene, polyacryl, and polyvinylchloride, or a mixture thereof. However, , But is not limited thereto. The base layer 110 may be a single layer or a laminated type of two or more resin films. The thickness of the base layer 110 may be 10 占 퐉 to 200 占 퐉, specifically, 50 占 퐉 to 150 占 퐉. In this range, it can be used for display.

도전층(120)은 금속 나노와이어(121) 및 매트릭스(122)를 포함한다. The conductive layer 120 includes metal nanowires 121 and a matrix 122.

금속 나노와이어(121)는 네트워크를 형성하여, 도전성과 양호한 유연성(flexibility) 및 굴곡성을 가질 수 있다. 금속 나노와이어(121)는 나노와이어 형상으로 인하여 금속 나노입자에 비해 분산성이 좋다. 또한, 금속 나노와이어(121)는 입자 형상 대 나노와이어 형상의 차이점으로 인하여, 투명 도전성 필름의 면저항을 현저하게 낮출 수 있는 효과를 제공할 수 있다. 금속 나노와이어(121)는 특정 단면을 갖는 극 미세선의 형태를 갖는다. 구체예에서, 금속 나노와이어(121)의 단면의 직경(d)에 대한 나노와이어 길이(L)의 비(L/d, aspect ratio)는 10 내지 2,000이 될 수 있다. 상기 범위에서, 낮은 나노와이어 밀도에서도 높은 도전성 네트워크를 구현할 수 있고, 면저항이 낮아질 수 있다. 예를 들면 aspect ratio는 500~1,000, 예를 들면 500~700이 될 수 있다. 금속 나노와이어(121)는 단면의 직경(d)이 0 초과 100nm 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 높은 L/d를 확보하여 전도성이 높고 면저항이 낮은 투명 도전체를 구현할 수 있다. 예를 들면30nm 내지100nm, 예를 들면 60nm 내지 100nm가 될 수 있다. 금속 나노와이어(121)는 길이(L)가 20㎛ 이상이 될 수 있다. 상기 범위에서, 높은 L/d를 확보하여 전도성이 높고 면저항이 낮은 도전성 필름을 구현할 수 있다. 예를 들면 20㎛ 내지 50㎛가 될 수 있다. 금속 나노와이어(121)는 임의의 금속으로 제조된 나노와이어를 포함할 수 있다. 예를 들면, 은, 구리, 금 나노와이어 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다. 바람직하게는 은 나노와이어 또는 이를 포함하는 혼합물을 사용할 수 있다.The metal nanowires 121 form a network, and can have conductivity and good flexibility and flexibility. The metal nanowires 121 have better dispersibility than metal nanoparticles due to their nanowire shape. Further, the metal nanowires 121 can provide an effect of significantly lowering the sheet resistance of the transparent conductive film due to the difference in particle shape to nanowire shape. The metal nanowires 121 have a shape of a very fine line having a specific cross section. In an embodiment, the aspect ratio of the nanowire length L to the diameter d of the cross-section of the metal nanowire 121 may be 10 to 2,000. In this range, a high conductivity network can be realized even at a low nanowire density, and the sheet resistance can be lowered. For example, the aspect ratio may be 500 to 1,000, for example, 500 to 700. The diameter d of the cross section of the metal nanowires 121 may be greater than 0 and less than or equal to 100 nm. Within this range, a transparent conductor having high conductivity and low sheet resistance can be realized by securing high L / d. For example, 30 nm to 100 nm, for example, 60 nm to 100 nm. The metal nanowires 121 may have a length L of 20 mu m or more. Within this range, a high L / d can be ensured to realize a conductive film having a low conductivity and a low sheet resistance. For example, 20 占 퐉 to 50 占 퐉. The metal nanowires 121 may comprise nanowires made of any metal. For example, silver, copper, gold nanowires or mixtures thereof. Silver nanowires or mixtures containing them may be preferably used.

금속 나노와이어(121)는 통상의 방법으로 제조하거나, 상업적으로 시판되는 제품을 사용할 수 있다. 예를 들면, 폴리올과 폴리(비닐 피롤리돈) 존재 하에서 금속 염(예를 들면, 질산은, AgNO3)의 환원 반응을 통해 합성할 수 있다. 또는, 상업적으로 시판되는 Cambrios사의 제품(예:ClearOhm Ink., 금속 나노와이어 함유 용액)을 사용할 수도 있다. 금속 나노와이어(121)는 도전층(120) 중 13중량% 이상, 예를 들면 13 중량% 내지 50중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 충분한 전도성을 확보할 수 있고, 전도성 네트워크를 형성할 수 있다.The metal nano wire 121 may be manufactured by a conventional method or a commercially available product may be used. For example, it can be synthesized through a reduction reaction of a metal salt (for example, silver nitrate, AgNO 3 ) in the presence of a polyol and poly (vinylpyrrolidone). Alternatively, a commercially available product of Cambrios (e.g., ClearOhm Ink., A solution containing a metal nanowire) may be used. The metal nanowires 121 may include 13 wt% or more, for example, 13 wt% to 50 wt% of the conductive layer 120. Within this range, sufficient conductivity can be ensured and a conductive network can be formed.

금속 나노와이어(121)는 기재층(110)에 도포 용이성 및 기재층(110)과의 부착력을 위하여 액체에 분산된 상태로 사용될 수 있다. 본원에서는 금속 나노와이어가 분산된 액체 조성물을 '금속 나노와이어 조성물'이라 한다. 상기 금속 나노와이어 조성물은 금속 나노와이어의 분산을 위해 첨가제 및 바인더 등을 포함할 수 있다. 상기 바인더는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 카르복시 메틸 셀룰로오스(carboxy methyl cellulose;CMC), 2-히드록시 에틸 셀룰로오스(2-hydroxy ethyl cellulose;HEC), 히드록시 프로필 메틸 셀룰로오스(hydroxy propyl methyl cellulose;HPMC), 메틸 셀룰로오스(methylcellulose;MC), 폴리 비닐 알콜(poly vinyl alcohol;PVA), 트리프로필렌 글리콜(tripropylene glycol;TPG), Polyvinylpyrrolidone계, 잔탄 검(xanthan gum;XG), 에톡시레이트들(ethoxylates), 알콕시레이트(alkoxylate), 산화 에틸렌(ethyleneoxide), 산화 프로필렌(propylene oxide) 또는 그들의 공중합체들을 사용할 수 있다.The metal nanowires 121 may be used in a dispersed state in the liquid for easy application to the substrate layer 110 and adhesion to the substrate layer 110. Herein, a liquid composition in which metal nanowires are dispersed is referred to as a " metal nanowire composition ". The metal nanowire composition may include additives and binders for dispersing the metal nanowires. The binder is not particularly limited and includes, for example, carboxy methyl cellulose (CMC), 2-hydroxy ethyl cellulose (HEC), hydroxy propyl methyl cellulose HPMC, methylcellulose (MC), polyvinyl alcohol (PVA), tripropylene glycol (TPG), polyvinylpyrrolidone, xanthan gum (XG), ethoxylates Alkoxylate, ethylene oxide, propylene oxide, or copolymers thereof may be used.

매트릭스(122)는 금속 나노와이어(121)를 함침한다. 즉, 매트릭스(122) 내에 금속 나노와이어가 산재되어 있거나 매몰되어 있을 수 있다. 또한, 일부 금속 나노와이어(121)는 매트릭스(122) 표면으로 돌출되어 노출될 수 있다. 매트릭스(122)는 도전층(120)의 상부에 노출될 수 있는 금속 나노와이어의(121) 산화 및 마모를 방지하고, 도전층(120)과 기재층(110) 간의 접착력을 부여하며 투명도전성 필름의 광학 특성, 내화학성, 내용제성 등을 높일 수도 있다.The matrix 122 impregnates the metal nanowires 121. That is, the metal nanowires may be scattered or buried in the matrix 122. Also, some of the metal nanowires 121 may protrude from the surface of the matrix 122 and be exposed. The matrix 122 prevents oxidation and abrasion of the metal nanowires 121 that may be exposed on the top of the conductive layer 120 and provides adhesion between the conductive layer 120 and the substrate layer 110, The chemical resistance, the solvent resistance, and the like of the glass.

매트릭스(122)는 5관능 또는 6관능 모노머, 및 3관능 모노머를 포함하는 매트릭스용 조성물로 형성될 수 있다. 5관능 또는 6관능 모노머는 (메트)아크릴레이트기를 갖는 5관능 또는 6관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서, 구체적으로 탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 5관능 모노머 또는 6관능 모노머가 될 수 있다. 특히, 우레탄기를 갖지 않는 비-우레탄계 5관능 또는 6관능 모노머를 포함함으로써 금속나노와이어(121)의 네트워크 구조 내에 경화물의 적층이 조밀해지고 기재층(110)에 대한 부착성이 향상될 수 있다. 5관능 또는 6관능 모노머는 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트(dipentaerythritol penta(meth)acrylate), 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(dipentaerythritol hexa(meth)acrylate), 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트(caprolactone-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate), 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(caprolactone-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate) 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The matrix 122 may be formed of a composition for a matrix comprising a pentafunctional or hexafunctional monomer, and a trifunctional monomer. The pentafunctional or hexafunctional monomer may be a pentafunctional or hexafunctional (meth) acrylate monomer having a (meth) acrylate group, specifically a pentafunctional monomer or a hexafunctional monomer of a polyhydric alcohol having 3 to 20 carbon atoms. In particular, the inclusion of the non-urethane-based pentafunctional or hexafunctional monomer having no urethane group enables the laminate of the cured product to be densified in the network structure of the metal nanowires 121 and the adhesion to the base layer 110 can be improved. The pentafunctional or hexafunctional monomer may be selected from the group consisting of dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone denatured dipenta Modified caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa But are not limited thereto.

3관능 모노머는 (메트)아크릴레이트기를 갖는 3관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서, 우레탄기를 갖지 않는 비-우레탄계 3관능 모노머를 포함함으로써 금속 나노와이어(121)의 네트워크 구조 내에 경화물의 적층이 조밀해지고 기재층(110)에 대한 부착성이 향상될 수 있다. 3관능 모노머는 탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 3관능 모노머, 알콕시기로 개질된 탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 3관능 모노머 중 하나 이상을 포함할 수 있다.탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 3관능 모노머는 보다 구체적으로 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트(trimethylolpropane tri(meth)acrylate) ,글리세롤트리(메트)아크릴레이트(glycerol tri(meth)acrylate), 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트(pentaerythritol tri(meth)acrylate), 디펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트(dipentaerythritol tri(meth)acrylate) 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 알콕시기로 개질된 탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 3관능 모노머는 알콕시기를 갖지 않는 3관능 모노머 대비 투명 도전체의 투과도, 신뢰성을 더 높일 수 있고, 투과 b* 값을 낮추어 도전층이 노란색으로 왜곡되어 보이는 현상을 막을 수 있다. 구체적으로, 알콕시기(예:탄소수 1~5의 알콕시기)를 갖는 3관능 모노머는 에톡시화된 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트(ethoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate), 프로폭시화된 글리세릴트리(메트)아크릴레이트(propoxylated glyceryl tri(meth)acrylate) 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The trifunctional monomer is a trifunctional (meth) acrylate monomer having a (meth) acrylate group and contains a non-urethane-based trifunctional monomer having no urethane group, so that the lamination of the cured product in the network structure of the metal nanowire 121 becomes dense The adhesion to the base layer 110 can be improved. The trifunctional monomer may include at least one of a trifunctional monomer of a polyhydric alcohol having 3 to 20 carbon atoms and a trifunctional monomer of a polyhydric alcohol having 3 to 20 carbon atoms modified with an alkoxy group. More specifically, the monomer may be selected from the group consisting of trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol (meth) acrylate, tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, and the like. The trifunctional monomer of a polyhydric alcohol having 3 to 20 carbon atoms modified with an alkoxy group can further improve the transparency and reliability of the transparent conductor in comparison with the trifunctional monomer having no alkoxy group and lower the transmission b * value, It is possible to prevent visible phenomena. Specifically, the trifunctional monomer having an alkoxy group (for example, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms) may be an ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, a propoxylated glyceryl But are not limited to, one or more of propoxylated glyceryl tri (meth) acrylate.

상기5관능 또는 6관능 모노머:3관능 모노머는 매트릭스용 조성물 중 2:1 내지 5:1, 구체적으로 2:1 내지 3.5:1의 중량비로 포함될 수 있고, 상기 범위에서, 투명 도전체(100)의 투과도, 신뢰성이 높아질 수 있다. 3관능 모노머가 5관능 또는 6관능 모노머보다 많을 경우 기재층(110)과의 부착성이 약해지고 신뢰성이 낮아질 수 있다. The above-mentioned five functional or six functional monomer: trifunctional monomer may be contained in a weight ratio of 2: 1 to 5: 1, specifically 2: 1 to 3.5: 1 in the composition for a matrix, Permeability and reliability of the liquid crystal display device can be enhanced. If the trifunctional monomer is larger than the five or six functional monomers, adhesion with the base layer 110 may be weakened and reliability may be lowered.

매트릭스(122)는 부착증진제를 포함할 수 있다. 부착증진제는 금속 나노와이어(121)의 기재층(110)에 대한 부착성을 증진시킴과 동시에 투명 도전체(100)의 신뢰성을 높일 수 있는데, 실란커플링제, 1 관능 내지 3관능 모노머 중 하나 이상을 사용할 수 있다. 실란커플링제는 통상의 알려진 실란커플링제를 사용할 수 있는데, 아미노기 또는 에폭시기를 갖는 실란 커플링제를 사용하는 경우 부착성 및 내화학성이 양호할 수 있다. 구체적으로3-글리시드옥시프로필트리메톡시실란(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane), 3-글리시드옥시프로필메틸디메톡시실란(3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane), 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡실란(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane) 등의 에폭시 구조를 갖는 규소 화합물; 비닐 트리메톡시실란(vinyltrimethoxysilane), 비닐트리에톡시실란(vinyltriethoxysilane), (메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란((meth)acryloxypropyltrimethoxysilane) 등의 중합성 불포화기 함유 규소 화합물; 3-아미노프로필트리메톡시실란(3-aminopropyltrimethoxysilane), 3-아미노프로필트리에톡시실란(3-aminopropyltriethoxysilane), N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란(N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane), N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란(N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane) 등의 아미노기 함유 규소 화합물; 및 3-클로로프로필 트리메톡시실란(3-chloropropyltrimethoxysilane)중 하나 이상을 사용할 수 있다. The matrix 122 may include an adhesion promoter. The adhesion promoter improves the adhesion of the metal nanowires 121 to the base layer 110 and improves the reliability of the transparent conductive material 100. The adhesion promoter may include a silane coupling agent, at least one of monofunctional to trifunctional monomers Can be used. As the silane coupling agent, a commonly known silane coupling agent can be used. When a silane coupling agent having an amino group or an epoxy group is used, adhesion and chemical resistance may be good. Specifically, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane ( 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane); A polymerizable unsaturated group-containing silicon compound such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane; Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane (N- (2-aminopropyltrimethoxysilane) amino group-containing silicon compounds such as N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane; And 3-chloropropyltrimethoxysilane may be used.

1 관능 내지 3 관능 모노머는 산 에스테르(acid ester)계 모노머를 사용할 수 있다. 예를 들어 (메트)아크릴레이트기를 갖는 1관능 내지 3관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서, 구체적으로 탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 1관능 내지 3관능 모노머, 보다 구체적으로 (메트)아크릴레이트((meth)acrylate), 이소보르닐 (메트)아크릴레이트(isobornyl(meth)acrylate), 사이클로펜틸 (메트)아크릴레이트(cyclopentyl(meth)acrylate), 사이클로헥실 (메트)아크릴레이트(cyclohexyl(meth)acrylate), 트리메틸올프로판 디(메트)아크릴레이트(trimethylolpropane tri(meth)acrylate), 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트(pentaerythritol tri(meth)acrylate), 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누에이트 트리(메트)아크릴레이트(tris(2-hydroxyethyl)isocyanuate tri(meth)acrylate), 글리세롤 트리(메트)아크릴레이트(glycerol tri(meth)acrylate), 에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트(ethyleneglycol di(meth)acrylate), 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트(neopentylglycol di(meth)acrylate), 헥산디올 디(메트)아크릴레이트(hexanediol di(meth)acrylate), 사이클로데칸 디메탄올 디(메트)아크릴레이트(cyclodecane dimethanol di(meth)acrylate) 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The monofunctional or trifunctional monomer may be an acid ester monomer. (Meth) acrylate monomer having a (meth) acrylate group, specifically, a monofunctional or trifunctional monomer of a polyhydric alcohol having 3 to 20 carbon atoms, more specifically a (meth) acrylate (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tris (2) Glycerol tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, glycerol tri Meth) acrylate Acrylate such as ethyleneglycol di (meth) acrylate, neopentylglycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, cyclodecanedimethanol di But are not limited to, one or more of cyclodecane dimethanol di (meth) acrylate.

부착증진제는 매트릭스용 조성물 중에 1중량% 내지 15중량% 구체적으로 5중량% 내지 10중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서 투명 도전체의 신뢰성 및 도전성을 유지하면서 부착성을 증진시킬 수 있다.The adhesion promoting agent may be included in the composition for a matrix in an amount of 1 wt% to 15 wt%, specifically 5 wt% to 10 wt%. Adhesiveness can be improved while maintaining the reliability and conductivity of the transparent conductor within the above range.

매트릭스(122)는 산화방지제를 포함할 수 있다. 산화방지제는 도전층(120)의 금속 나노와이어 네트워크의 산화를 방지할 수 있는데, 트리아졸(triazole)계 산화방지제, 트리아진(triazine)계 산화방지제, 포스파이트(phosphite)계 등의 인계 산화방지제, HALS(Hinder amine light stabilizer)계 산화방지제, 페놀계 산화방지제 중 하나 이상, 예를 들면 2종 이상을 혼합하여 사용함으로써 금속 나노와이어(121)의 산화를 막고 신뢰성을 높일 수 있다. 산화방지제는2종 이상을 사용하는 경우 산화 방지 및 신뢰성이 보다 우수할 수 있다. 일 구체예에서, 산화방지제는 인계와 페놀계의 혼합물, 인계와 HALS계의 혼합물, 또는 페놀계와 HALS계의 혼합물을 사용할 수 있으며, 특히 인계 및 HALS계의 혼합물, 또는 트리아졸계, 페놀계 및 인계의 혼합물, 또는 트리아진계, 페놀계 및 인계의 혼합물을 사용할 수 있다. 투명 도전체(100)는 인계 산화방지제를 포함함으로써 도전층(120)의 도전성에 영향을 주지 않고, 투과 b*값을 낮출 수 있다.,The matrix 122 may comprise an antioxidant. The antioxidant can prevent the oxidation of the metal nanowire network of the conductive layer 120. The antioxidant can be used in combination with an antioxidant such as a triazole antioxidant, a triazine antioxidant, a phosphite- , HALS (Hinder amine light stabilizer) -based antioxidant, and phenol-based antioxidant, for example, by mixing two or more kinds of them, the oxidation of the metal nanowires 121 can be prevented and reliability can be improved. When two or more kinds of antioxidants are used, oxidation prevention and reliability can be more excellent. In one embodiment, the antioxidant may be a mixture of phosphorus and phenol, a mixture of phosphorus and HALS, or a mixture of phenol and HALS, especially phosphorus and HALS, or a triazole, Phosphorous, or a mixture of triazine, phenol, and phosphorous. The transparent conductor 100 includes a phosphorus antioxidant to reduce the transmission b * value without affecting the conductivity of the conductive layer 120. [

예를 들면, 인계 산화방지제는 트리스(2,4-디-터트-부틸페닐)포스파이트(tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite), 페놀계 산화방지제는 펜타에리트리톨테트라키스(3-(3,5-디-터트-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트(Pentaerythritol tetrakis(3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate))가 될 수 있고, HALS계 산화방지제는 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트(bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)sebacate), 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)세바케이트(bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)sebacate), 비스(2,2,6,6-테트라메틸-5-피페리디닐)세바케이트(bis(2,2,6,6-tetramethyl-5-piperidinyl)sebacate), 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리딘-에탄올을 갖는 디메틸숙시네이트 공중합체(Copolymer of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6- tetramethyl-1-piperidine ethanol),2,4-비스[N-부틸-N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)아미노]-6-(2-히드록시에틸아민)-1,3,5-트리아진(2,4-bis[N-butyl-n-(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4-yl)amino]-6-(2-hydroxyethylamine)-1,3,5-triazine) 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.For example, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite is used as the phosphorus antioxidant, pentaerythritol tetrakis Can be 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate (Pentaerythritol tetrakis , HALS antioxidants include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2, , 2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl) (2,2,6,6-tetramethyl-5-piperidinyl) sebacate), 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidine (Copolymer of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidine ethanol), 2,4-bis [N-butyl- Cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethyl 4-yl) amino] -6- (2-hydroxyethylamine) -1,3,5-triazine (N-butyl- , 6,6-tetramethylpiperidine-4-yl) amino] -6- (2-hydroxyethylamine) -1,3,5-triazine) and the like.

산화방지제는 매트릭스용 조성물 중에 0.01중량% 내지 5중량% 구체적으로 0.5중량% 내지 2중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서 금속 나노와이어 네트워크의 산화를 방지하고 투과 b*값을 낮출 수 있다.The antioxidant may be contained in the composition for a matrix in an amount of 0.01 wt% to 5 wt%, specifically 0.5 wt% to 2 wt%. Within this range, oxidation of the metal nanowire network can be prevented and the transmission b * value can be lowered.

매트릭스(122)는 개시제를 포함할 수 있다. 개시제는 통상의 광중합 개시제로서 알파-히드록시케톤 계열로서, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 또는 이를 포함하는 혼합물을 사용할 수 있다.The matrix 122 may include an initiator. The initiator may be an alpha-hydroxy ketone series as a conventional photopolymerization initiator, or a mixture containing 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone or a mixture thereof.

개시제는 매트릭스용 조성물 중에 1중량% 내지 15중량%, 구체적으로 2중량% 내지 10중량%로 포함될 수 있다.The initiator may be included in the matrix composition in an amount of 1 to 15% by weight, specifically 2 to 10% by weight.

매트릭스(122)는5관능 또는 6관능 모노머, 3관능 모노머, 부착증진제, 산화방지제 및 개시제를 포함하는 매트릭스용 조성물로 형성될 수 있는데, 고형분 기준 5관능 또는 6관능 모노머 50중량% 내지 70중량% 구체적으로 55중량% 내지 66중량%, 3관능 모노머 10중량% 내지 30중량% 구체적으로 15중량% 내지 25중량%, 부착증진제 1중량% 내지 15중량% 구체적으로 5중량% 내지 10중량%, 산화방지제 0.01중량% 내지 5중량% 구체적으로 0.5중량% 내지 2중량%, 및 개시제 1중량% 내지 15중량%, 구체적으로 2중량% 내지 10중량% 포함하는 조성물로 형성될 수 있다. 상기 범위에서, 투명 도전체(100)의 투과도와 신뢰성을 높이고, 도전층(120)이 노란색으로 색이 왜곡되어 보이는 현상을 막을 수 있다.The matrix 122 may be formed of a composition for a matrix comprising a bifunctional or hexafunctional monomer, a trifunctional monomer, an adhesion promoter, an antioxidant, and an initiator, wherein 50% to 70% by weight, Specifically from 55% by weight to 66% by weight, from 10% by weight to 30% by weight, in particular from 15% by weight to 25% by weight, of the trifunctional monomer, from 1% by weight to 15% by weight, From 0.01% to 5%, specifically from 0.5% to 2% by weight of an inhibitor, and from 1% to 15% by weight, and in particular from 2% to 10% by weight, of an initiator. In this range, it is possible to enhance the transparency and reliability of the transparent conductor 100 and prevent the conductive layer 120 from being distorted in yellow.

매트릭스(122)는 성능 개선을 위한 첨가제를 더 포함할 수 있는데, 첨가제로는 자외선 안정제 등을 포함할 수 있다.The matrix 122 may further include an additive for improving the performance, and the additive may include an ultraviolet stabilizer or the like.

도전층(120)의 두께는 10nm 내지 1㎛, 구체적으로 20 nm내지200nm, 보다 구체적으로 30 nm내지130nm, 50 nm 내지 100 nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 투명 도전체(100)를 터치패널용 필름 용도로 사용할 수 있다. 상기 범위에서, 접촉 저항이 낮아지고 내구성 및 내화학성이 향상되는 효과가 있을 수 있다.The thickness of the conductive layer 120 may be 10 nm to 1 탆, specifically 20 nm to 200 nm, more specifically 30 nm to 130 nm, and 50 nm to 100 nm. In the above range, the transparent conductor 100 can be used as a film for a touch panel. Within this range, there may be an effect that the contact resistance is lowered and the durability and the chemical resistance are improved.

도 1에서 도시되지 않았지만, 기재층(110)의 일면 또는 양면에는 기능성 층이 더 적층될 수 있다. 기능성 층으로는 하드코팅층, 부식방지층, 눈부심방지(anti-glare)코팅층, 부착력증진층, 올리고머 용출 방지층 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.Although not shown in FIG. 1, a functional layer may be further laminated on one side or both sides of the base layer 110. The functional layer may be, but not limited to, a hard coating layer, a corrosion inhibiting layer, an anti-glare coating layer, an adhesion promoting layer, and an oligomer elution preventing layer.

투명 도전체(100)는 투과도 90% 이상 구체적으로 90 내지 99%, 신뢰성이 10% 이하 구체적으로 1 내지 10%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 투명 도전체(100)의 투과도가 높고, 저항 변화율이 낮고, 투명 도전체(100)의 패터닝으로 투명 전극 필름으로 사용할 수 있다. 물론 매트릭스(122)로 인하여 기존의 투명 도전체의 내구성, 내화학성, 내용제성 등을 가질 수 있다. The transparent conductor 100 may have a transmittance of 90% or more, specifically 90 to 99%, and a reliability of 10% or less, specifically 1 to 10%. Within the above range, the transparency of the transparent conductor 100 is high, the rate of change in resistance is low, and the transparent conductor 100 can be used as a transparent electrode film by patterning. Of course, the matrix 122 may have durability, chemical resistance, solvent resistance, etc. of the conventional transparent conductor.

투명 도전체(100)는 가시광선 영역 예를 들면 파장 400nm 내지 700nm에서 투명성을 가질 수 있다. 구체예에서, 투명 도전체(100)는 파장 400nm 내지 700nm에서 헤이즈 미터로 측정된 헤이즈가 0 내지 1.3%, 예를 들면 0.01% 내지 1.3%이고, 전광선 투과율이 90% 내지 100%, 예를 들면 90% 내지 95%가 될 수 있다. 상기 범위에서 투명성이 좋아 투명 도전체 용도로 사용될 수 있다. 투명 도전체(100)는 4-프로브로 측정된 면저항이 100(Ω/□) 이하, 구체적으로 50-100(Ω/□), 또는30-100(Ω/□)이 될 수 있다. 상기 범위에서, 면저항이 낮아 터치패널용 전극 필름으로 사용할 수 있고, 대면적 터치패널에 적용될 수 있다.The transparent conductor 100 may have transparency in a visible light region, for example, a wavelength of 400 nm to 700 nm. In embodiments, the transparent conductor 100 has a haze of 0 to 1.3%, such as 0.01% to 1.3%, measured with a haze meter at a wavelength of 400 nm to 700 nm, and a total light transmittance of 90% to 100% Can be from 90% to 95%. In this range, transparency is good and can be used for transparent conductor applications. The transparent conductor 100 may have a sheet resistance of 100 (Ω / □), specifically 50-100 (Ω / □), or 30-100 (Ω / □) as measured with a 4-probe. In the above range, since the sheet resistance is low, it can be used as an electrode film for a touch panel, and can be applied to a large-area touch panel.

투명 도전체(100)의 두께는 제한되지 않지만, 10㎛-250㎛, 예를 들면 50-200㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 터치패널용 필름을 포함하는 투명 전극 필름으로 사용할 수 있고, 플렉시블 터치 패널용 투명 전극필름으로 사용될 수 있다. 투명 도전체는 필름 형태로서, 에칭 등에 의해 패터닝되어, 터치 패널, E-paper, 또는 태양 전지의 투명 전극 필름으로 사용될 수 있다.The thickness of the transparent conductor 100 is not limited, but may be 10 占 퐉 to 250 占 퐉, for example, 50-200 占 퐉. In the above range, it can be used as a transparent electrode film including a film for a touch panel, and can be used as a transparent electrode film for a flexible touch panel. The transparent conductor is in the form of a film and is patterned by etching or the like, and can be used as a transparent electrode film of a touch panel, an E-paper, or a solar cell.

도 1은 기재층의 상부면에 금속 나노와이어 및 매트릭스를 포함하는 도전층이 형성된 실시예를 도시하였으나, 기재층의 하부면에 금속 나노와이어 및 매트릭스를 포함하는 도전층이 더 형성된 실시예 역시 본 발명의 범위에 포함될 수 있다.FIG. 1 shows an embodiment in which a conductive layer including a metal nanowire and a matrix is formed on a top surface of a base layer. However, an embodiment in which a metal nanowire and a conductive layer including a matrix are further formed on a lower surface of the base layer And can be included in the scope of the invention.

이하, 도 2를 참고하여 본 발명 다른 실시예의 투명 도전체를 설명한다. Hereinafter, the transparent conductor of another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

도 2를 참고하면, 본 발명 다른 실시예의 투명 도전체(150)는 기재층(110), 기재층(110)의 상부면에 형성되고 금속 나노와이어(121) 및 매트릭스(122)를 포함하는 금속 나노와이어 함유 도전층(120a)과 금속 나노와이어를 포함하지 않는 금속 나노와이어 비 함유 도전층(120b)으로 패턴화된 도전층(120')을 포함하고, 매트릭스(122)는5관능 또는 6관능 모노머, 3관능 모노머, 개시제, 부착증진제 및 산화방지제를 포함하는 조성물로 형성될 수 있다. 도전층(120')이 패턴화된 것을 제외하고는 본 발명 일 실시예의 투명 도전체(100)와 실질적으로 동일하다.2, the transparent conductor 150 of another embodiment of the present invention includes a base layer 110, a metal layer 120 formed on the upper surface of the base layer 110 and including a metal nanowire 121 and a matrix 122 And a conductive layer 120 'patterned with a metal nanowire-free conductive layer 120b that does not include a metal nanowire and the matrix 122 has a five- or six- Monomers, trifunctional monomers, initiators, adhesion promoters, and antioxidants. Is substantially the same as the transparent conductor 100 of the embodiment of the present invention except that the conductive layer 120 'is patterned.

도전층(120')은 소정의 방법 예를 들면 산성 용액을 사용한 에칭에 의해 패턴화될 수 있고, 도전층(120')이 패턴화됨으로써 x, y 채널을 형성하여 도전체로 사용될 수 있다. 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이 금속 나노와이어(121) 함유 도전층(120a)과 금속 나노와이어(121) 없이 매트릭스(122) 만으로 구성된 금속 나노와이어 비 함유 도전층(120b)을 포함하는 패턴으로 패턴화 될 수 있다.The conductive layer 120 'may be patterned by a predetermined method, for example, etching using an acidic solution, and the conductive layer 120' may be patterned to form x and y channels and used as a conductor. For example, as shown in FIG. 2, a conductive layer 120a including a metal nanowire 121 and a metal nanowire-free conductive layer 120b including only a matrix 122 without a metal nanowire 121 Pattern. ≪ / RTI >

이하, 본 발명 일 실시예의 투명 도전체의 제조방법을 설명한다.Hereinafter, a method for manufacturing a transparent conductor according to an embodiment of the present invention will be described.

본 발명 일 실시예의 투명 도전체의 제조 방법은 기재층 상에 금속 나노와이어 네트워크층을 형성하고, 그리고 금속 나노와이어 네트워크층 상에 5관능 또는 6관능 모노머, 3관능 모노머, 부착증진제, 산화방지제 및 개시제를 포함하는 매트릭스용 조성물로 코팅하는 것을 포함할 수 있다. 본 실시예에 다른 제조방법은 금속 나노 와이어와 매트릭스용 조성물을 동시에 코팅하여 도전층을 형성하지 않고, 금속 나노 와이어를 코팅한 후에 별도로 매트릭스용 조성물을 코팅하여 도전성,광특성, 내화학성 및 신뢰성이 우수한 투명 도전체를 얻을 수 있다. A method of manufacturing a transparent conductor of an embodiment of the present invention includes forming a metal nanowire network layer on a substrate layer and forming a metal nanowire network layer on the metal nanowire network layer with a five- or six-functional monomer, a trifunctional monomer, an adhesion promoter, And coating with a composition for a matrix comprising an initiator. Another manufacturing method according to this embodiment is a method in which metal nanowires and a composition for a matrix are coated at the same time to form a conductive layer without coating the metal nanowires and then coated with a composition for a matrix, An excellent transparent conductor can be obtained.

금속 나노와이어 조성물은 금속 나노와이어가 분산된 액체 조성물로서, 금속 나노와이어를 분산시키기 위한 바인더를 포함하여 제조할 수 있다. 금속 나노와이어 조성물은 구체적으로 본 발명의 일 실시예의 투명 도전체(100)에 관하여 기술한 바와 같다.The metal nanowire composition is a liquid composition in which metal nanowires are dispersed, and can be produced by including a binder for dispersing metal nanowires. The metal nanowire composition is specifically as described for the transparent conductor 100 of one embodiment of the present invention.

금속 나노와이어 조성물을 기재층 상에 코팅하는 방법은 특별히 제한되지 않으나, 바 코팅, 스핀 코팅, 딥 코팅, 롤 코팅, 플로우 코팅, 다이 코팅 등에 의할 수 있다. 금속 나노와이어를 기재층 상에 코팅한 후, 건조시켜 금속 나노와이어가 기재층 상에 금속 나노와이어 네트워크층을 형성할 수 있다. 건조는 예를 들어 약 80℃ 내지 140℃에서 1분 내지 30분 동안 수행할 수 있다.The method of coating the metal nanowire composition on the base layer is not particularly limited, but may be bar coating, spin coating, dip coating, roll coating, flow coating, die coating and the like. The metal nanowires may be coated on the substrate layer and then dried to form metal nanowire network layers on the substrate layer. The drying can be carried out, for example, at about 80 캜 to 140 캜 for 1 minute to 30 minutes.

매트릭스용 조성물은 바인더, 개시제, 및 용제를 포함할 수 있다. 매트릭스용 조성물은 구체적으로 본 발명의 일 실시예의 투명 도전체(100)에 관하여 기술한 바와 같다.The composition for the matrix may comprise a binder, an initiator, and a solvent. The composition for a matrix is as described in detail for the transparent conductor 100 of the embodiment of the present invention.

금속 나노와이어 네트워크층 상에 매트릭스용 조성물을 코팅하는 방법은 특별히 제한되지 않으나, 바 코팅, 스핀 코팅, 딥 코팅, 롤 코팅, 플로우 코팅, 다이 코팅 등에 의할 수 있다. 금속 나노와이어 네트워크층은 기재층 상에 금속 나노와이어 조성물을 코팅 후 건조에 의하여 형성되고, 금속 나노와이어 네트워크층 상에 코팅된 매트릭스용 조성물은 금속 나노와이어 네트워크층 내로 침투된다. 이에 의하여 금속 나노와이어는 매트릭스용 조성물 내에 함침되어 금속 나노와이어, 매트릭스를 포함하는 도전층을 형성한다. 금속 나노와이어는 매트릭스에 전체로 함침되거나 도전층 표면에 부분적으로 노출된 상태로 존재할 수 있다.The method for coating the matrix composition on the metal nanowire network layer is not particularly limited, but may be bar coating, spin coating, dip coating, roll coating, flow coating, die coating and the like. The metal nanowire network layer is formed by coating the metal nanowire composition on the substrate layer followed by drying, and the composition for the matrix coated on the metal nanowire network layer is permeated into the metal nanowire network layer. Thus, the metal nanowires are impregnated into the matrix composition to form a conductive layer containing the metal nanowires and the matrix. The metal nanowire may be present either as a whole impregnated in the matrix or partially exposed on the conductive layer surface.

매트릭스용 조성물을 코팅한 후, 건조시키는 단계를 더 포함할 수 있다. 예를 들어 80℃ 내지 120℃에서 1분 내지 30분 동안 건조시킬 수 있다.Coating the composition for a matrix, and then drying the composition. For example, at 80 ° C to 120 ° C for 1 minute to 30 minutes.

건조시킨 후에, 광경화 및 열경화 중 하나 이상을 수행할 수 있다. 광경화는 파장 400nm 이하에서 300mJ/㎠ 내지 약 1000mJ/㎠의 광량을 조사하여 수행할 수 있으며, 열경화는 50℃ 내지 200℃에서 1시간 내지 120시간의 열경화를 포함할 수 있다.After drying, one or more of photocuring and thermosetting may be performed. Photocuring can be carried out by irradiating light with a wavelength of from 300 mJ / cm 2 to about 1000 mJ / cm 2 at a wavelength of 400 nm or less, and thermal curing may include thermal curing at 50 to 200 ° C for 1 to 120 hours.

본 발명의 일 실시예에 따른 장치는 본 발명 실시예의 투명 도전체를 포함하고, 구체적으로 터치패널, 터치스크린패널, 플렉시블(flexible) 디스플레이 등을 포함하는 광학표시장치, E-paper, 또는 태양 전지 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.An apparatus according to an embodiment of the present invention includes a transparent conductor according to an embodiment of the present invention and specifically includes an optical display device including a touch panel, a touch screen panel, a flexible display, etc., an E-paper, And the like, but are not limited thereto.

도 3 내지 도 5는 본 발명 일 실시예의 광학표시장치의 단면도이다.3 to 5 are sectional views of an optical display device according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명 일 실시예의 광학표시장치(200)는 기재층(110), 기재층(110)의 상부면에 형성된 제1전극(255)과 제2전극(260), 및 기재층(110)의 하부면에 형성된 제3전극(265)과 제4전극(270)을 포함하는 투명 전극체(230), 제1전극(255)과 제2전극(260)의 상부에 형성된 윈도우 글라스(205), 제3전극(265)과 제4전극(270)의 하부에 형성된 제1편광판(235), 제1편광판(235)의 하부면에 형성된 CF(COLOR FILTER) 글라스(240), CF 글라스(240)의 하부면에 형성되고 TFT(THIN FILM TRANSISTOR) 글라스를 포함하는 패널(245), 패널(245) 하부면에 형성된 제2편광판(250)을 포함하고, 투명 전극체(230)는 본 발명 실시예의 투명 도전체로 형성될 수 있다.3, an optical display device 200 according to an embodiment of the present invention includes a substrate layer 110, a first electrode 255 and a second electrode 260 formed on the upper surface of the substrate layer 110, A transparent electrode body 230 including a third electrode 265 and a fourth electrode 270 formed on the lower surface of the layer 110 and a window formed on the upper portion of the first electrode 255 and the second electrode 260. [ A first polarizer 235 formed on the lower part of the third electrode 265 and the fourth electrode 270, a CF (COLOR FILTER) glass 240 formed on the lower surface of the first polarizer 235, A panel 245 formed on the lower surface of the CF glass 240 and including a TFT THIN FILM TRANSISTOR glass and a second polarizer 250 formed on the lower surface of the panel 245, May be formed of the transparent conductor of the embodiment of the present invention.

투명 전극체(230)는 투명 도전체를 각각 소정의 방법(예:에칭 등)으로 패터닝하여 제1전극, 제2전극, 제3전극, 제4전극을 형성함으로써 제조될 수 있다. 제1전극(255)과 제2전극(260)은 Rx 전극, 제3전극(265)과 제4전극(270)은 Tx 전극이 될 수 있고, 그 역의 경우도 본 발명의 범위에 포함될 수 있다. 윈도우 글라스(205)는 광학표시장치에서 화면 표시 기능을 수행하는 것으로, 통상의 유리 재질 또는 투명 플라스틱 필름으로 제조될 수 있다. 제1편광판(235), 제2편광판(250)은 광학표시장치에 편광 성능을 부여하기 위한 것으로, 외부광 또는 내부광을 편광시킬 수 있고, 편광자, 또는 편광자와 보호필름의 적층체를 포함할 수 있고, 편광자, 보호필름은 편광판 분야에서 알려진 통상의 것을 포함할 수 있다. 윈도우 글라스(205)와 투명 전극체(230) 사이 및 투명 전극체(230)와 제1편광판(235) 사이에는 각각 점착 필름(210, 212)을 부가함으로써, 투명 전극체(230), 윈도우 글라스(205), 제1편광판(235) 간의 결합을 유지할 수 있다. 점착 필름(210, 212)은 통상의 점착 필름으로서, 예를 들면 OCA(optical clear adhesive) 필름이 될 수 있다. The transparent electrode member 230 can be manufactured by patterning the transparent conductive material by a predetermined method (e.g., etching) to form the first electrode, the second electrode, the third electrode, and the fourth electrode. The first electrode 255 and the second electrode 260 may be Rx electrodes, the third electrode 265 and the fourth electrode 270 may be Tx electrodes, and vice versa. have. The window glass 205 performs a screen display function in an optical display device, and can be made of a general glass material or a transparent plastic film. The first polarizing plate 235 and the second polarizing plate 250 are provided for imparting polarization capability to the optical display device and can polarize external light or internal light and include a polarizer or a laminate of a polarizer and a protective film The polarizer, and the protective film may include those conventionally known in the polarizer field. By attaching the adhesive films 210 and 212 between the window glass 205 and the transparent electrode body 230 and between the transparent electrode body 230 and the first polarizing plate 235 respectively to form the transparent electrode body 230, The first polarizer plate 205 and the first polarizer plate 235 can be maintained. The adhesive films 210 and 212 may be ordinary adhesive films, for example, OCA (optical clear adhesive) films.

본 발명 다른 실시예에 의하면, 도 3의 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 표시 장치에서 제1 편광판(235) 및 제2 편광판(250)이 생략되고, 윈도우 글라스(205)와 투명전극체(230) 사이에 편광판이 위치할 수 있다.3, the first polarizing plate 235 and the second polarizing plate 250 may be omitted, and the window glass 205 and the transparent electrode body (not shown) may be omitted. In the optical display device of FIG. 3, 230 may be positioned between the polarizer plates.

도 4를 참조하면, 본 발명 또 다른 실시예의 광학표시장치(300)는 기재층(110), 기재층(110)의 상부면에 형성된 제3전극(265)과 제4전극(270)을 포함하는 투명 전극체(330), 제3전극(265)과 제4전극(270)의 상부에 형성되고 하부면에 제1전극(255)과 제2전극(260)이 형성된 윈도우 글라스(205), 투명 전극체(330)의 하부에 형성된 제1편광판(235), 제1편광판(235)의 하부면에 형성된 CF(COLOR FILTER) 글라스(240), CF 글라스(240)의 하부면에 형성된 TFT(THIN FILM TRANSISTOR) 글라스를 포함하는 패널(245), 패널(245) 하부면에 형성된 제2편광판(250)을 포함하고, 투명 전극체(330)는 본 발명 실시예의 투명 도전체로 형성될 수 있다.4, the optical display device 300 according to another embodiment of the present invention includes a base layer 110, a third electrode 265 and a fourth electrode 270 formed on the upper surface of the base layer 110 A window glass 205 formed on the third electrode 265 and the fourth electrode 270 and having a first electrode 255 and a second electrode 260 formed on the lower surface thereof, A color filter glass 240 formed on the lower surface of the first polarizer 235 and a TFT 240 formed on the lower surface of the CF glass 240. The first polarizer 235 is formed on the lower side of the transparent electrode unit 330, THIN FILM TRANSISTOR) glass and a second polarizer 250 formed on the lower surface of the panel 245. The transparent electrode body 330 may be formed of the transparent conductor of the embodiment of the present invention.

투명 전극체(330)는 투명 도전체가 소정의 방법으로 패터닝되어 제3전극(265), 제4전극(270)을 형성함으로써 제조된 것으로, 제1전극(255)과 제2전극(260)은 통상의 전극 형성 방법을 채용하여 형성할 수 있다. 윈도우 글라스(205)와 투명 전극체(330) 사이 및 투명 전극체(330)와 제1편광판(235) 사이에는 각각 점착 필름(210, 212)을 부가함으로써, 투명 전극체, 윈도우 글라스, 제1편광판 간의 결합을 유지할 수 있다. The transparent electrodes 330 are formed by patterning a transparent conductive material by a predetermined method to form a third electrode 265 and a fourth electrode 270. The first electrode 255 and the second electrode 260 It can be formed by employing a normal electrode forming method. By attaching the adhesive films 210 and 212 between the window glass 205 and the transparent electrode member 330 and between the transparent electrode member 330 and the first polarizer 235, The bonding between the polarizing plates can be maintained.

도 5를 참조하면, 본 발명 또 다른 실시예의 광학표시장치(400)는 제1기재층(110a), 제1기재층(110a)의 상부면에 형성된 제1전극(255)과 제2전극(260)을 포함하는 제1투명 전극체(430a), 제1투명 전극체(430a)의 하부에 형성되고, 제2기재층(110b), 제2기재층(110b)의 상부면에 형성된 제3전극(265)과 제4전극(270)을 포함하는 제2투명 전극체(430b), 제2투명 전극체(430b)의 하부에 형성된 제1편광판(235), 제1편광판(235)의 하부면에 형성된 CF(COLOR FILTER) 글라스(240), CF 글라스(240)의 하부면에 형성된 TFT(THIN FILM TRANSISTOR) 글라스를 포함하는 패널(245), 패널(245) 하부면에 형성된 제2편광판(250)을 포함하고, 제1투명 전극체(430a)와 제2투명 전극체(430b)는 본 발명 실시예의 투명 도전체로 형성될 수 있다.5, an optical display device 400 according to another embodiment of the present invention includes a first base layer 110a, a first electrode 255 formed on a top surface of a first base layer 110a, 260 formed on the upper surface of the second base layer 110b and a third transparent electrode body 430b formed below the first transparent electrode body 430a and formed on the upper surface of the second base layer 110b and the second base layer 110b, A second transparent electrode body 430b including an electrode 265 and a fourth electrode 270, a first polarizer 235 formed below the second transparent electrode body 430b, a lower portion of the first polarizer 235, A panel 245 including a TFT (THIN FILM TRANSISTOR) glass formed on the lower surface of the CF glass 240, a second polarizer plate 244 formed on the lower surface of the panel 245 250, and the first transparent electrode member 430a and the second transparent electrode member 430b may be formed of the transparent conductive material of the embodiment of the present invention.

제1투명 전극체(430a)와 제2투명 전극체(430b)는 투명 도전체를 소정의 방법으로 패터닝하여 제1전극, 제2전극, 제3전극, 제4전극을 형성함으로써 제조될 수 있다.The first transparent electrode member 430a and the second transparent electrode member 430b may be manufactured by forming a first electrode, a second electrode, a third electrode, and a fourth electrode by patterning a transparent conductor by a predetermined method .

제1투명 전극체(430a)와 윈도우 글라스(205) 사이, 제1투명 전극체(430a)와 제2투명 전극체(430b) 사이, 및 제2 투명 전극체(430b)와 제1편광판(235) 사이에는 각각 점착 필름(210, 212, 214)을 부가함으로써, 투명 전극체, 윈도우 글라스, 제1편광판 간의 결합을 유지할 수 있다. 점착 필름(210, 212, 214)은 통상의 점착 필름으로서, 예를 들면 OCA(optical clear adhesive) 필름이 될 수 있다. 또한, 도 3 내지 도 5에서 도시되지 않았지만, 기재층은 수지 필름이 접착제 등에 의해 적층된 형태가 될 수도 있다.The first transparent electrode body 430a and the window glass 205 and between the first transparent electrode body 430a and the second transparent electrode body 430b and between the second transparent electrode body 430b and the first polarizing plate 235 The adhesion between the transparent electrode body, the window glass, and the first polarizer can be maintained by adding the adhesive films 210, 212, and 214, respectively. The adhesive films 210, 212, and 214 may be ordinary adhesive films, for example, OCA (optical clear adhesive) films. Although not shown in Figs. 3 to 5, the substrate layer may be in the form of a resin film laminated with an adhesive or the like.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.      Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments of the present invention. It is to be understood, however, that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed in a limiting sense.

실시예 1Example 1

금속 나노와이어 함유 용액(제품명:Clearohm ink(Cambrios사), 금속 나노와이어와 바인더의 합 2.45중량%) 37중량부를 초순수 증류수 63중량부에 넣고 교반하여 금속 나노와이어 조성물을 제조하였다. 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(SK CYTEC사) 65.4중량부, 에톡시화된 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(SARTOMER사) 20.8중량부, 페놀계 산화방지제 Irganox 1010과 인계 산화방지제 Irgafos 168(BASF사) 혼합물 0.9중량부, 부착증진제 KBE-903(SHIN-ETSU사) 8.6중량부, 개시제 Irgacure 184(CIBA사) 4.3중량부를 포함하는 100중량부의 혼합물 중 1중량부를 이소프로필 알콜 49.5중량부와 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 49.5중량부에 첨가하여 매트릭스용 조성물을 제조하였다. 37 weight parts of a metal nanowire-containing solution (product name: Clearohm ink (Cambrios), 2.45 weight% of metal nanowire and binder) was added to 63 weight parts of ultrapure distilled water and stirred to prepare a metal nanowire composition. , 65.4 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (SK CYTEC), 20.8 parts by weight of ethoxylated trimethylolpropane triacrylate (SARTOMER), a mixture of phenolic antioxidant Irganox 1010 and phosphorus-based antioxidant Irgafos 168 (BASF) , 0.9 parts by weight of an adhesion promoter KBE-903 (SHIN-ETSU), and 4.3 parts by weight of an initiator Irgacure 184 (CIBA) were added to 1 part by weight of isopropyl alcohol and 49.5 parts by weight of propylene glycol monomethyl And 49.5 parts by weight of ether acetate to prepare a composition for a matrix.

폴리카보네이트 필름(Teijin, 두께 50㎛) 에, 금속 나노와이어 조성물을 스핀 코터로 코팅하고, 80℃ 오븐에서 2분 건조시키고, 매트릭스용 조성물을 스핀 코터로 다시 코팅하여 도전층을 85nm 두께로 형성하고, 80℃ 오븐에서 2분 건조시키고, 300mJ/cm2으로 UV 경화시켜 투명 도전체를 제조하였다.The metal nanowire composition was coated on a polycarbonate film (Teijin, thickness 50 탆) with a spin coater, dried in an oven at 80 캜 for 2 minutes, and the composition for a matrix was coated again with a spin coater to form a conductive layer to a thickness of 85 nm , Dried in an oven at 80 캜 for 2 minutes, and UV-cured at 300 mJ / cm 2 to prepare a transparent conductor.

실시예 2Example 2

실시예 1에서 에톡시화된 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 20.8중량부 대신에 프로폭시화된 글리세롤트리아크릴레이트(SARTOMER사) 20.8중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.Except that 20.8 parts by weight of ethoxylated trimethylolpropane triacrylate was replaced by 20.8 parts by weight of propoxylated glycerol triacrylate (SARTOMER) in Example 1, and a transparent conductor was prepared in the same manner.

실시예 3Example 3

실시예 1에서 에톡시화된 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 20.8중량부 대신에 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(SK CYTEC) 20.8중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1, except that 20.8 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate (SK CYTEC) was used instead of 20.8 parts by weight of ethoxylated trimethylolpropane triacrylate.

실시예 4Example 4

실시예 1에서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(SK CYTEC사) 65.4중량부 대신에 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 (Sartomer) 65.4중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1, except that 65.4 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer) was used instead of 65.4 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (SK CYTEC).

실시예 5Example 5

실시예 1에서 HALS계 산화방지제 TINUVIN 152(BASF사)과 인계 산화방지제 Irgafos 168의 혼합물 0.9중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.9 part by weight of a mixture of a HALS-based antioxidant TINUVIN 152 (BASF) and a phosphorus-based antioxidant Irgafos 168 was used.

실시예 6Example 6

실시예 1에서 트리아졸계 산화방지제 BTA(대정화금), 페놀계 산화방지제 Irganox 1010 및 인계 산화방지제 Irgafos 168(BASF사) 의 혼합물 0.9중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.9 parts by weight of a mixture of triazole-based antioxidant BTA (antimicrobial), phenol antioxidant Irganox 1010 and phosphorus antioxidant Irgafos 168 (BASF) .

실시예 7Example 7

실시예 1에서 HALS계 산화방지제 TINUVIN 152(BASF사) 및 인계 산화방지제 Irgafos 168(BASF사) 의 혼합물 0.9중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.9 parts by weight of a mixture of a HALS-based antioxidant TINUVIN 152 (BASF) and a phosphorus-based antioxidant Irgafos 168 (BASF) was used.

비교예 1Comparative Example 1

실시예 1에서, 매트릭스용 조성물을 코팅하지 않은 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition for a matrix was not coated.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 1에서, 에톡시화된 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 20.8 중량부 대신에 글리세롤디메타크릴레이트(TCI사)20.8 중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1, except that 20.8 parts by weight of glycerol dimethacrylate (TCI) was used instead of 20.8 parts by weight of ethoxylated trimethylolpropane triacrylate.

비교예 3Comparative Example 3

실시예 1에서, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 65.4중량부 대신에 2-에틸헥실아크릴레이트 65.4중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1, except that 65.4 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate was used instead of 65.4 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate.

비교예 4Comparative Example 4

실시예 1에서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 86.2중량부, 에톡시화된 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 0중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that 86.2 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate and 0 part by weight of ethoxylated trimethylolpropane triacrylate were used.

비교예 5Comparative Example 5

실시예 1에서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 0중량부, 에톡시화된 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 86.2중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate and 86.2 parts by weight of ethoxylated trimethylolpropane triacrylate were used.

비교예 6Comparative Example 6

실시예 1에서, 금속 나노와이어 조성물과 매트릭스용 조성물의 혼합물을 폴리카보네이트 필름에 코팅한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1, except that a mixture of the metal nanowire composition and the matrix composition was coated on the polycarbonate film.

실시예와 비교예의 투명 도전체에 대해 하기 물성을 평가하고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.The following properties of the transparent conductor of the examples and comparative examples were evaluated, and the results are shown in Table 1 below.

(1)면저항(Ω/□): 접촉식 면저항 측정기 R-CHEK RC2175(EDTM사)를 사용하여 투명 도전체(패터닝하지 않음) 면에 대한 면저항을 측정하였다.(1) Surface Resistance (Ω / □): The sheet resistance of the transparent conductor (not patterned) surface was measured using a contact type surface resistance measuring device R-CHEK RC2175 (EDTM).

(2)헤이즈와 전광선 투과율(%): 투명 도전체에 대해 투명 도전성 필름을 광원으로 향하게 하고 파장 400-700nm에서 헤이즈미터(NDH-9000)를 사용하여 헤이즈와 전광선 투과율을 측정하였다.(2) Haze and total light transmittance (%): The haze and total light transmittance were measured using a haze meter (NDH-9000) at a wavelength of 400-700 nm with a transparent conductive film directed toward a light source for the transparent conductor.

(3)투과 b*: 실시예와 비교예의 투명 도전체(폴리카보네이트 필름:두께50㎛, 금속 나노와이어 및 매트릭스를 포함하는 도전층: 두께 85nm)에 대해 파장 400nm 내지700nm에서 UV spectrometer(illuminant 65도, observer 2도) CM6000D(Konica Minolta사)를 사용하여 투과 색좌표를 측정하였다.(3) Transmission b *: A transparent conductive material (polycarbonate film: thickness 50 탆, conductive layer including metal nanowire and matrix: thickness 85 nm) in Examples and Comparative Examples was irradiated with a UV spectrometer (illuminant 65 (Observer 2 degrees) The transmission color coordinates were measured using a CM6000D (Konica Minolta).

(4)신뢰성: 신뢰성은 저항 변화율로 평가하는데, 실시예와 비교예의 투명도전층(폴리카보네이트 필름:두께50㎛, 금속 나노와이어 및 매트릭스를 포함하는 도전층:두께 85nm)위에 두께 125㎛의 투명 접착 필름(3M사, Optically Clear Adhesives 8215)과 두께 100㎛의 PET 필름(Toyobo사, A4300)을 순차 합지한 상태로 상기 (1)과 동일한 방법으로 초기 면저항(a)을 측정하고 85℃, 85% 상대습도 조건에서 240시간 방치한 후 동일 방법으로 면저항(b)을 측정하고, │b-a│/a x 100으로 계산하였다.(4) Reliability: Reliability was evaluated by the rate of change in resistance. Transparent adhesion with a thickness of 125 占 퐉 was performed on a transparent conductive layer (polycarbonate film: thickness 50 占 퐉, conductive layer comprising metal nanowire and matrix: The initial sheet resistance (a) was measured in the same manner as in the above (1) while sequentially laminating a film (3M Company, Optically Clear Adhesives 8215) and a 100 μm thick PET film (Toyobo, A4300) After allowing to stand for 240 hours under relative humidity conditions, the sheet resistance (b) was measured in the same manner and calculated as │ba│ / ax 100.

(5)IPA rubbing: 도전층에 스포이드로 이소프로판올을 뿌리고 와이퍼로 10회 문지르고 외관 변화와 저항 변화를 확인하였다. 육안에 의한 외관이 변화되지 않고 상기 저항 변화율이 10% 이하일 때 "양호", 외관이 변화거나 및/또는 저항 변화율이 10%를 초과할 때 "불량"으로 평가하였다.(5) IPA rubbing: Isopropanol was sprayed as a sphere on the conductive layer and rubbed with a wiper 10 times, and appearance change and resistance change were confirmed. &Quot; Good "when the external appearance by the naked eye was not changed, " Bad" when the resistance change rate was 10% or less, and / or when the resistance change rate exceeded 10%.

(6)cross-cut 테스트: 상기 실시예 및 비교예에서 제조한 도전층에10mm×10mm의 크기로 100개의 cell 형태로 칼로 흠집을 낸뒤 테이프(3M 사, 스카치 매직 테이프)로 붙였다 떼었다를 2 회 반복하여 떨어져 나오는 개수를 측정하여 기재와의 부착성을 평가하였으며, 표 1 및 표 2에 기재된 것은 100개 중 떨어져 나오지 않고 남아있는 cell의 개수이다. (6) Cross-cut test: The conductive layer prepared in the above Examples and Comparative Examples was scratched with a knife in the form of 100 cells in a size of 10 mm x 10 mm and then stuck with a tape (3M company, Scotch magic tape) The number of repeated peelings was measured to evaluate the adhesion to the substrate. The peaks shown in Table 1 and Table 2 are the number of cells that did not fall apart among 100 peelings.

(단위: 중량부)(Unit: parts by weight) 실시예
1
Example
One
실시예
2
Example
2
실시예
3
Example
3
실시예
4
Example
4
실시예
5
Example
5
실시예
6
Example
6
실시예
7
Example
7
디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트Dipentaerythritol hexaacrylate 65.465.4 65.465.4 65.465.4 -- 65.465.4 65.465.4 65.465.4 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트Dipentaerythritol pentaacrylate -- -- -- 65.465.4 -- -- -- 에톡시화된
트리메틸올프로판트리아크릴레이트
Ethoxylated
Trimethylolpropane triacrylate
20.820.8 -- -- 20.820.8 20.820.8 20.820.8 20.820.8
프로폭시화된 글리세롤트리아크릴레이트Propoxylated glycerol triacrylate -- 20.820.8 -- -- -- -- -- 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트Trimethylolpropane trimethacrylate -- -- 20.820.8 -- -- -- -- Irganox 1010Irganox 1010 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.30.3 -- Irgafos 168Irgafos 168 0.40.4 0.40.4 0.40.4 0.40.4 -- 0.30.3 0.50.5 TINUVIN 152TINUVIN 152 -- -- -- -- 0.40.4 -- 0.40.4 BTA(Benzotriazole)BTA (Benzotriazole) -- -- -- -- -- 0.30.3 -- 부착증진제Adhesion promoter 8.68.6 8.68.6 8.68.6 8.68.6 8.68.6 8.68.6 8.68.6 개시제Initiator 4.34.3 4.34.3 4.34.3 4.34.3 4.34.3 4.34.3 4.34.3 Haze(%)Haze (%) 1.071.07 1.081.08 1.09 1.09 1.06 1.06 1.021.02 1.091.09 1.091.09 전광선투과율(%)Total light transmittance (%) 90.1290.12 90.3990.39 90.10 90.10 90.46 90.46 90.2590.25 90.2190.21 90.1290.12 면저항
(Ω/□)
Sheet resistance
(Ω / □)
47.0247.02 47.3447.34 47.40 47.40 47.10 47.10 48.1248.12 48.6148.61 48.0648.06
투과 b*Transmission b * 1.101.10 1.131.13 1.17 1.17 1.10 1.10 1.091.09 1.081.08 1.071.07 IPA rubbingIPA rubbing 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good Cross-cutCross-cut 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 신뢰성(%)responsibility(%) 44 55 44 44 22 33 33

(단위: 중량부)(Unit: parts by weight) 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 비교예4Comparative Example 4 비교예5Comparative Example 5 비교예6Comparative Example 6 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트Dipentaerythritol hexaacrylate -- 65.465.4 -- 86.286.2 -- 65.465.4 에톡시화된
트리메틸올프로판트리아크릴레이트
Ethoxylated
Trimethylolpropane triacrylate
-- -- 20.820.8 -- 86.286.2 20.820.8
글리세롤디메타크릴레이트Glycerol dimethacrylate -- 20.820.8 -- -- -- -- 2-에틸헥실아크릴레이트2-ethylhexyl acrylate -- -- 65.465.4 -- -- -- Irganox 1010Irganox 1010 -- 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 Irgafos 168Irgafos 168 -- 0.40.4 0.40.4 0.40.4 0.40.4 0.40.4 TINUVIN 152TINUVIN 152 -- -- -- -- -- -- 부착증진제Adhesion promoter -- 8.68.6 8.68.6 8.68.6 8.68.6 8.68.6 개시제Initiator -- 4.34.3 4.34.3 4.34.3 4.34.3 4.34.3 Haze(%)Haze (%) 1.031.03 1.121.12 1.491.49 1.291.29 1.541.54 0.90.9 전광선투과율(%)Total light transmittance (%) 88.1788.17 90.0590.05 89.7789.77 90.1390.13 90.390.3 88.9888.98 면저항
(Ω/□)
Sheet resistance
(Ω / □)
50.150.1 50.750.7 57.9157.91 54.4154.41 53.9253.92 749.8749.8
투과 b*Transmission b * 0.860.86 1.311.31 1.541.54 1.211.21 1.121.12 0.940.94 IPA rubbingIPA rubbing 불량Bad 불량Bad 불량Bad 양호Good 불량Bad 불량Bad Cross cutCross cut 0/1000/100 50/10050/100 50/10050/100 100/100100/100 50/10050/100 0/1000/100 신뢰성(%)responsibility(%) 300300 2222 2929 1818 5252 129129

상기 표 1에서 나타난 바와 같이, 실시예 1~7의 투명 도전체는 투명 도전체의 투과도와 신뢰성이 높고, 투과 b* 값이 낮아 도전층의 색의 왜곡 현상을 막을 수 있고, IPA 러빙에 의한 저항 변화율과 외관 변화가 적어 내화학성과 부착성이 좋음을 확인하였다. As shown in Table 1, the transparent conductors of Examples 1 to 7 have high transparency and reliability of the transparent conductor and have a low transmission b * value, which can prevent the color distortion of the conductive layer, The resistance change rate and appearance change were small and it was confirmed that chemical resistance and adhesion were good.

반면에, 매트릭스를 포함하지 않는 비교예 1은 투과율이 90% 미만이고 부착성 및 내구성이 약한 문제점이 있었고, 3관능 모노머 대신에 2관능 모노머를 사용한 비교예 2는 IPA 러빙과 cross-cut 에서 부착성과 내화학성이 미흡한 것으로 나타났고, 6관능 모노머 대신에 2관능 모노머를 사용한 비교예 3은 광특성의 개선이 미흡하며 부착성 및 내구성이 나빴고, 6관능 모노머, 3관능 모노머 중 어느 하나를 포함하지 않는 비교예 4~5는 광특성 및 부착성, 내구성이 미흡하였고, 금속 나노 와이어 조성물과 매트릭스용 조성물을 동시에 코팅한 비교예 6은 면저항이 상승하고 광특성이 나빠지고 코팅 필름의 외관이 불량한 문제점이 있었다.On the other hand, Comparative Example 1, which did not include a matrix, had a problem that the transmittance was less than 90% and adhesion and durability were poor. Comparative Example 2 using bifunctional monomers instead of trifunctional monomers showed adhesion at IPA rubbing and cross- Comparative Example 3 using bifunctional monomers instead of hexafunctional monomers showed poor improvement in optical characteristics, poor adhesion and durability, and contained neither 6-functional monomers nor 3-functional monomers Comparative Examples 4 to 5 in which Comparative Examples 4 to 5 had insufficient optical characteristics, adhesion and durability, and Comparative Example 6 in which a metal nanowire composition and a composition for a matrix were simultaneously coated had problems such as increase in sheet resistance, deteriorated optical characteristics, .

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.
It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

Claims (17)

기재층, 및 상기 기재층 상에 형성되고 금속 나노와이어 및 매트릭스를 포함하는 도전층을 포함하는 투명 도전체이고,
상기 투명 도전체는 투과 b* 값이 1.5 이하이고,
상기 매트릭스는 5관능 또는 6관능 모노머, 및 3관능 모노머를 포함하는 조성물로 형성되는 투명 도전체.
A transparent conductor comprising a base layer and a conductive layer formed on the base layer and including metal nanowires and a matrix,
The transparent conductor has a transmission b * value of 1.5 or less,
Wherein the matrix is formed of a composition comprising a pentafunctional or hexafunctional monomer, and a trifunctional monomer.
제1항에 있어서, 상기 3관능 모노머는 (메트)아크릴레이트계 모노머를 포함하는 투명 도전체.The transparent conductor according to claim 1, wherein the trifunctional monomer comprises a (meth) acrylate-based monomer. 제1항에 있어서, 상기 3관능 모노머는 알콕시기로 개질된 (메트)아크릴레이트계 모노머를 포함하는 투명 도전체.The transparent conductor according to claim 1, wherein the trifunctional monomer comprises a (meth) acrylate-based monomer modified with an alkoxy group. 제1항에 있어서, 상기 투명 도전체는 하기 식 1의 저항변화율이 10% 이하인 투명 도전체:
<식 1>
저항 변화율 = │b-a│/a × 100
(상기 식 1에서, a는 투명 도전체에 두께 125㎛의 투명 접착 필름과 두께 100㎛의 PET 필름이 순차 형성된 시편의 초기 면저항, b는 상기 시편을 85℃, 85% 상대습도에서 240시간 방치한 후의 면저항이다).
The transparent conductor according to claim 1, wherein the transparent conductor is a transparent conductor having a resistance change ratio of 10%
<Formula 1>
Rate of change in resistance = | ba | / a x 100
(Where a is the initial sheet resistance of a specimen in which a transparent adhesive film having a thickness of 125 占 퐉 and a PET film having a thickness of 100 占 퐉 are sequentially formed on a transparent conductor and b is a temperature at which the specimen is left at 85 占 폚 and 85% Which is the sheet resistance.
제1항에 있어서, 상기 매트릭스는 개시제, 부착증진제 및 산화방지제 중 하나 이상을 더 포함하는 투명 도전체.The transparent conductor of claim 1, wherein the matrix further comprises at least one of an initiator, an adhesion promoter, and an antioxidant. 제5항에 있어서, 상기 매트릭스 중 고형분 기준 부착증진제 함량이 1 내지 15중량%인 투명 도전체.6. The transparent conductor according to claim 5, wherein the content of the solids-based adhesion promoter in the matrix is 1 to 15% by weight. 제5항에 있어서, 상기 매트릭스 중 고형분 기준 산화방지제 함량이 0.01 내지 5중량%인 투명 도전체.6. The transparent conductor according to claim 5, wherein the content of the antioxidant on a solid basis in the matrix is 0.01 to 5% by weight. 제5항에 있어서, 상기 조성물은 고형분 기준 상기 6관능 모노머 50 내지 70중량%, 상기 3관능 모노머 10 내지 30중량%, 상기 개시제 1 내지 15중량%, 상기 부착증진제 1 내지 15중량%, 상기 산화방지제 0.01 내지 5중량%를 포함하는 투명 도전체.The composition according to claim 5, wherein the composition comprises 50 to 70% by weight of the hexafunctional monomer, 10 to 30% by weight of the trifunctional monomer, 1 to 15% by weight of the initiator, 1 to 15% And 0.01 to 5% by weight of an inhibitor. 제5항에 있어서, 상기 부착증진제는 실란커플링제, 2관능 모노머 중 하나 이상을 포함하는 투명 도전체.6. The transparent conductor according to claim 5, wherein the adhesion promoter comprises at least one of a silane coupling agent, and a bifunctional monomer. 제5항에 있어서, 상기 산화방지제는 HALS(Hinder amine light stabilizer)계 산화방지제 및 인계 산화방지제를 포함하는 투명 도전체.6. The transparent conductor according to claim 5, wherein the antioxidant comprises a Hinder amine light stabilizer (HALS) -based antioxidant and a phosphorus-based antioxidant. 제5항에 있어서, 상기 산화방지제는 트리아졸계 산화방지제, 페놀계 산화방지제 및 인계 산화방지제를 포함하는 투명 도전체.6. The transparent conductor according to claim 5, wherein the antioxidant comprises a triazole-based antioxidant, a phenol-based antioxidant and a phosphorus-based antioxidant. 제5항에 있어서, 상기 산화방지제는 트리아진계 산화방지제, 페놀계 산화방지제 및 인계 산화방지제를 포함하는 투명 도전체.6. The transparent conductor according to claim 5, wherein the antioxidant comprises a triazine-based antioxidant, a phenol-based antioxidant and a phosphorus-based antioxidant. 제1항에 있어서, 상기 금속 나노와이어는 은 나노와이어를 포함하는 투명 도전체.The transparent conductor according to claim 1, wherein the metal nanowire comprises silver nanowires. 제1항에 있어서, 상기 기재층의 상부면 또는 하부면에 하드코팅층, 부식방지층, 눈부심방지 코팅층, 부착력증진층, 올리고머 용출 방지층 중 하나 이상이 더 형성된 투명 도전체.The transparent conductor according to claim 1, wherein at least one of a hard coating layer, a corrosion preventing layer, an anti-glare coating layer, an adhesion promoting layer, and an oligomer elution preventing layer is further formed on the upper surface or the lower surface of the substrate layer. 제1항에 있어서, 상기 도전층은 패턴화된 것인 투명 도전체.The transparent conductor according to claim 1, wherein the conductive layer is patterned. 기재층 상에 금속 나노와이어 네트워크층을 형성하고,
상기 금속 나노와이어 네트워크층 상에 5관능 또는 6관능 모노머, 3관능 모노머, 부착증진제, 산화방지제 및 개시제를 포함하는 매트릭스용 조성물로 도전층을 형성하는 것을 포함하는 투명 도전체의 제조방법.
Forming a metal nanowire network layer on the substrate layer,
Forming a conductive layer on the metal nanowire network layer with a composition for a matrix comprising a pentafunctional or hexafunctional monomer, a trifunctional monomer, an adhesion promoter, an antioxidant and an initiator.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항의 투명도전체를 포함하는 광학표시장치.
An optical display device comprising the entire transparency of any one of claims 1 to 15.
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