KR101737156B1 - Transparent conductor and apparatus comprising the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기재층, 상기 기재층 상에 형성되고 도전성을 갖는 제1코팅층, 및 상기 제1코팅층 상에 형성된 제2코팅층을 포함하고, 파장 380 내지 780nm에서 상기 기재층의 굴절률을 R1, 상기 제1코팅층의 굴절률을 R2, 상기 제2코팅층의 굴절률을 R3이라고 할 때, 굴절률의 차이 R1-R2가 0.05 내지 0.20이고, 굴절률의 차이 R2-R3이 0.01 내지 0.20인 투명 도전체 및 이를 포함하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical information recording medium comprising a base layer, a first coating layer formed on the base layer and having conductivity, and a second coating layer formed on the first coating layer, wherein the refractive index of the base layer is R1 at a wavelength of 380 to 780 nm, A transparent conductor having a refractive index difference R1-R2 of 0.05 to 0.20 and a refractive index difference R2-R3 of 0.01 to 0.20, wherein the refractive index of the first coating layer is R2 and the refractive index of the second coating layer is R3, .
Description
본 발명은 투명 도전체 및 이를 포함하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent conductor and an apparatus including the transparent conductor.
투명 도전체는 디스플레이 장치에 포함되는 터치스크린패널, 플렉시블(flexible) 디스플레이 등에서 전극 필름으로 사용되고 있다. 이에 따라, 최근 투명 도전체에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 투명 도전체는 투명성, 면저항 등의 물성이 좋아야 하고, 최근 플렉시블 디스플레이에까지 사용 영역이 확대되면서 굴곡 특성도 요구되고 있다. 투명 도전체로 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 포함하는 기재필름 양면에 인듐 틴 산화물(ITO) 필름이 적층된 필름을 사용하여 왔다. ITO 필름은 기재필름에 건식 증착 방식으로 증착되어 경제적이며 투명성이 뛰어나다. 하지만, ITO 자체의 특성으로 인하여 저항이 증가할 수 있고 굴곡 특성이 좋지 않다는 문제점이 있다.The transparent conductor is used as an electrode film in a touch screen panel or a flexible display included in a display device. As a result, studies on transparent conductive materials have recently been actively conducted. Transparent conductors should have good physical properties such as transparency and sheet resistance. Flexibility has also been required in recent years as the area of use extends to flexible displays. A film in which an indium tin oxide (ITO) film is laminated on both sides of a base film including a polyethylene terephthalate (PET) film as a transparent conductor has been used. The ITO film is deposited on a substrate film by a dry deposition method, and is economical and excellent in transparency. However, due to the characteristics of the ITO itself, there is a problem that the resistance may increase and the bending property is poor.
최근 은 나노와이어 등을 포함하는 금속 나노와이어를 포함하는 도전층이 형성된 투명 도전체가 개발되고 있다. 이것은 굴곡 특성이 우수한 장점이 있다. 그러나, 금속 나노와이어만으로 된 도전층을 갖는 투명 도전체는 헤이즈가 높아 광학 특성이 좋지 않다는 문제점이 있다.BACKGROUND ART [0002] Recently, a transparent conductor having a conductive layer including metal nanowires including nanowires has been developed. This has the advantage of excellent bending properties. However, a transparent conductor having a conductive layer made of only metal nanowires has a problem of high haze and poor optical characteristics.
이와 관련하여 일본공표특허 제2009-505358호에 의하면, 기판과, 상기 기판 상에 금속 나노와이어를 포함하는 도전층을 포함하고, 상기 도전층이 매트릭스재로 폴리우레탄, 폴리아크릴산, 실리콘, 폴리아크릴레이트, 폴리에스테르 등으로 형성되는 투명 도전체를 개시하고 있다.Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-505358 discloses a semiconductor device comprising a substrate and a conductive layer containing metal nanowires on the substrate, wherein the conductive layer is a matrix material selected from the group consisting of polyurethane, polyacrylic acid, Discloses a transparent conductor formed from a metal, a metal, a metal,
본 발명의 목적은 헤이즈를 저감시키고 투과율을 향상시켜 광학 특성이 개선된 투명 도전체를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a transparent conductor having improved optical characteristics by reducing haze and increasing transmittance.
본 발명의 다른 목적은 기재 필름에 대한 양호한 부착성과 내용제성을 구현할 수 있는 투명 도전체를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a transparent conductor capable of realizing good adhesion and solvent resistance to a base film.
본 발명의 또 다른 목적은 양호한 굴곡성과 낮은 면저항을 갖는 투명 도전체를 제공하는 것이다.It is a further object of the present invention to provide a transparent conductor having good bendability and low sheet resistance.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 투명 도전체를 제조하기 위한 조성물을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a composition for producing the transparent conductor.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 투명 도전체를 포함하는 장치를 제공하는 것이다.It is a further object of the present invention to provide an apparatus comprising the transparent conductor.
본 발명의 투명 도전체는 기재층, 상기 기재층 상에 형성되고 도전성을 갖는 제1코팅층, 및 상기 제1코팅층 상에 형성된 제2코팅층을 포함하고, 파장 380 내지 780nm에서 상기 기재층의 굴절률을 R1, 상기 제1코팅층의 굴절률을 R2, 상기 제2코팅층의 굴절률을 R3이라고 할 때, 굴절률의 차이 R1-R2가 0.05 내지 0.20이고, 굴절률의 차이 R2-R3이 0.01 내지 0.2가 될 수 있다.The transparent conductor of the present invention comprises a base layer, a first coating layer formed on the base layer and having conductivity, and a second coating layer formed on the first coating layer, wherein the refractive index of the base layer at a wavelength of 380 to 780 nm is The difference in refractive index R1-R2 is 0.05 to 0.20, and the difference in refractive index R2-R3 is 0.01 to 0.2, where R1 is the refractive index of the first coating layer, R2 is the refractive index of the first coating layer, and R3 is the refractive index of the second coating layer.
본 발명의 투명 도전체는 기재층, 상기 기재층 상에 형성되고 도전성을 갖는 제1코팅층, 및 상기 제1코팅층 상에 형성된 제2코팅층을 포함하고, 상기 투명 도전체는 헤이즈가 0.01 내지 1.0%이고, 면저항이 50 내지 150(Ω/□)가 될 수 있다.A transparent conductor according to the present invention comprises a base layer, a first coating layer formed on the base layer and having conductivity, and a second coating layer formed on the first coating layer, wherein the transparent conductor has a haze of 0.01 to 1.0% And the sheet resistance can be 50 to 150 (? /?).
본 발명의 장치는 상기 투명 도전체를 포함할 수 있다.The device of the present invention may comprise said transparent conductor.
본 발명은 헤이즈가 낮고, 투과율이 높아 광학 특성이 개선되며, 기재 필름에 대해 부착성이 좋고 내용제성이 좋으며, 양호한 굴곡성과 낮은 면저항을 갖는 투명 도전체를 제공하였다. The present invention provides a transparent conductor having low haze, high transmittance, improved optical characteristics, good adhesion to a base film, good solvent resistance, good bendability and low sheet resistance.
도 1은 본 발명 일 실시예의 투명 도전체의 단면도이다.
도 2는 본 발명 다른 실시예의 투명 도전체의 단면도이다.
도 3은 본 발명 또 다른 실시예의 투명 도전체의 단면도이다.
도 4는 본 발명 일 실시예의 광학 표시 장치의 단면도이다.
도 5는 본 발명 다른 실시예의 광학 표시 장치의 단면도이다.
도 6은 본 발명 또 다른 실시예의 광학 표시 장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a transparent conductor according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a transparent conductor according to another embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view of a transparent conductor according to another embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of an optical display device according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of an optical display device according to another embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view of an optical display device according to still another embodiment of the present invention.
첨부한 도면을 참고하여 실시예에 의해 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 본 명세서에서, '상부'와 '하부'는 도면을 기준으로 정의한 것으로, 보는 시각에 따라 '상부'가 하부'로, '하부'가 '상부'로 변경될 수 있고, '(메트)아크릴레이트'는 아크릴레이트 및/또는 메타아크릴레이트를 의미할 수 있다.The present invention will now be described more fully hereinafter with reference to the accompanying drawings, in which preferred embodiments of the invention are shown. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification. In the present specification, 'upper' and 'lower' are defined with reference to the drawings, and 'upper' may be changed to 'lower' and 'lower' 'May mean acrylate and / or methacrylate.
이하, 도 1을 참고하여 본 발명 일 실시예의 투명 도전체를 설명한다. 도 1은 본 발명 일 실시예의 투명 도전체의 단면도이다. Hereinafter, a transparent conductor according to one embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1 is a cross-sectional view of a transparent conductor according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 투명 도전체(100)는 기재층(110), 기재층(110) 상에 형성되고 도전성을 갖는 제1코팅층(120), 제1코팅층(120) 상에 형성된 제2코팅층(130)을 포함하고, 파장 380 내지 780nm에서 기재(110)층의 굴절률을 R1, 제1코팅층(120)의 굴절률을 R2, 제2코팅층(130)의 굴절률을 R3이라고 할 때, 굴절률의 차이 R1-R2가 0.05 내지 0.20이고, 굴절률의 차이 R2-R3이 0.01 내지 0.2가 될 수 있다. R1-R2가 0.05 미만 또는 0.20 초과, R2-R3이 0.01 미만 또는 0.2 초과이면, 투명 도전체의 헤이즈가 높아지고 투과율이 낮아 광학특성이 좋지 않을 수 있다. 구체적으로, R1-R2는 0.15 내지 0.20이 될 수 있고, R2-R3은 0.01 내지 0.1이 될 수 있다. R1, R2, R3은 각각 파장 380 내지 780nm에서 측정된 값이 될 수 있다.1, a
도 1에서, 기재층(110)의 일면에 제1코팅층(120), 제2코팅층(130)이 형성된 경우만을 도시하였으나, 기재층(110)의 양면에 제1코팅층(120), 제2코팅층(130)이 형성된 경우도 본 발명의 범위에 포함될 수 있다.1, the
투명 도전체는 가시광선 영역 예를 들면 파장 400 내지 700nm에서 투명성을 가질 수 있다. 구체예에서, 투명 도전체는 파장 400 내지 700nm에서 헤이즈 미터로 측정된 헤이즈가 1.0% 이하, 구체적으로 0.01-1.0%이고, 전광선 투과율이 90% 이상, 구체적으로 90-95%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 투명 도전체로 사용될 수 있다. The transparent conductor may have transparency in a visible light region, for example, a wavelength of 400 to 700 nm. In a specific example, the transparent conductor may have a haze measured by a haze meter at a wavelength of 400 to 700 nm of 1.0% or less, specifically 0.01 to 1.0%, and a total light transmittance of 90% or more, specifically 90 to 95%. Within this range, it can be used as a transparent conductor.
투명 도전체는 4-프로브로 측정된 면저항이 150(Ω/□) 이하, 구체적으로 50-150(Ω/□), 더 구체적으로 50-100(Ω/□)이 될 수 있다. 상기 범위에서, 면저항이 낮아 터치패널용 전극 필름으로 사용할 수 있고, 대면적 터치패널에 적용될 수 있다.The transparent conductor may have a sheet resistance of 150 (Ω / □) or less, specifically 50-150 (Ω / □), more specifically 50-100 (Ω / □), as measured by 4-probe. In the above range, since the sheet resistance is low, it can be used as an electrode film for a touch panel, and can be applied to a large-area touch panel.
제1코팅층과 제2코팅층의 적층체는 투명 도전성 필름 또는 투명 전극 필름이 될 수 있고, 터치 패널, E-paper, 또는 태양 전지의 투명 전극 필름으로 사용될 수 있다. 제1코팅층과 제2코팅층의 적층체의 두께는 제한되지 않지만, 0.09㎛-0.3㎛, 바람직하게는 0.1㎛-0.2㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 플렉시블 터치패널을 포함하는 터치패널 투명 전극필름으로 사용될 수 있다.The laminate of the first coating layer and the second coating layer may be a transparent conductive film or a transparent electrode film, and may be used as a transparent electrode film of a touch panel, an E-paper, or a solar cell. The thickness of the laminate of the first coating layer and the second coating layer is not limited, but may be 0.09 탆 to 0.3 탆, preferably 0.1 탆 -0.2 탆. In the above range, it can be used as a touch panel transparent electrode film including a flexible touch panel.
투명 도전체는 도전성을 갖는 제1코팅층 상에, 굴절률이 1.30-1.50인 저굴절률층인 제2코팅층이 형성되어 있어, 투명 도전체의 낮은 면저항과 높은 굴곡성을 확보하면서도, 투명 도전체의 헤이즈를 낮추고 투과율을 높여 광학 특성을 개선할 수 있다.The transparent conductor has a second coating layer, which is a low refractive index layer having a refractive index of 1.30-1.50, formed on the first coating layer having conductivity. The second conductor layer has a low sheet resistance and a high flexibility, The transmittance can be increased and the optical characteristics can be improved.
이하, 본 발명 일 실시예의 투명 도전체에 대해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the transparent conductor of one embodiment of the present invention will be described in more detail.
기재층은 굴절률 R1이 1.50 내지 1.70이 될 수 있다. 상기 범위에서, 금속 나노와이어를 포함하는 제1코팅층 대비 적정 굴절률을 가져 투명 도전체의 투명성을 높일 수 있다.The base layer may have a refractive index R1 of 1.50 to 1.70. Within this range, it is possible to increase the transparency of the transparent conductor with an appropriate refractive index compared to the first coating layer including the metal nanowires.
기재층은 두께가 10㎛-100㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 투명 도전체를 투명 전극 필름으로 사용할 수 있다.The base layer may have a thickness of 10 mu m to 100 mu m. In the above range, the transparent conductor can be used as the transparent electrode film.
기재층은 위상차기능이 있는 위상차필름, 위상차필름이 없는 비-위상차필름 중 하나 이상이 될 수 있다. 구체예에서, 기재층은 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에스테르 나프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르, 폴리올레핀, 시클릭올레핀폴리머, 폴리술폰, 폴리이미드, 실리콘(silicone), 폴리스티렌, 폴리아크릴, 폴리비닐클로라이드 필름이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The base layer may be at least one of a retardation film having a retardation function and a non-retardation film having no retardation film. In an embodiment, the substrate layer comprises at least one of polyester, polyolefin, cyclic olefin polymer, polysulfone, polyimide, silicone, polystyrene, polyacrylic acid, polycarbonate, , Polyvinyl chloride film, but is not limited thereto.
기재층의 일면 또는 양면에는 기능성 층이 더 적층될 수 있고, 기능성 층으로는 하드코팅층, 부식방지층, anti-glare 코팅층, adhesion promoter, 올리고머 용출 방지층 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.A functional layer may be further laminated on one side or both sides of the base layer, and the functional layer may be a hard coating layer, a corrosion prevention layer, an anti-glare coating layer, an adhesion promoter, an oligomer elution preventive layer and the like.
제1코팅층의 굴절률 R2는 1.35 내지 1.70, 구체적으로 1.40 내지 1.60이 될 수 있다. 상기 범위에서, 제1코팅층은 제2코팅층 대비 적정 굴절률을 가져 투명 도전체의 헤이즈를 낮추고 투과율을 높여 광학 특성을 개선할 수 있다.The refractive index R2 of the first coating layer may be 1.35 to 1.70, specifically 1.40 to 1.60. In this range, the first coating layer has an appropriate refractive index with respect to the second coating layer, thereby lowering the haze of the transparent conductor and increasing the transmittance, thereby improving optical characteristics.
제1코팅층의 두께는 0.1㎛-0.2㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 투명 도전체를 터치패널용 필름 용도로 사용할 수 있다.The thickness of the first coating layer may be 0.1 탆 to 0.2 탆. Within the above range, the transparent conductor can be used as a film for a touch panel.
제1코팅층은 도전성을 갖는데, 구체적으로 제1코팅층은 금속 나노와이어를 포함하는 도전층으로서, 금속 나노와이어로 형성된 전도성 나노와이어 네트워크를 포함할 수 있다. 그 결과, 투명 도전체에 대해 도전성을 부여할 수 있다. 구체적으로, 제1코팅층은 금속 나노와이어를 포함하는 제1코팅층용 조성물로 형성될 수 있다.The first coating layer is conductive, and in particular, the first coating layer is a conductive layer comprising metal nanowires and may comprise a conductive nanowire network formed of metal nanowires. As a result, conductivity can be imparted to the transparent conductor. Specifically, the first coating layer may be formed of the composition for the first coating layer including the metal nanowires.
금속 나노와이어는 전도성 네트워크를 형성하여 제1코팅층에 도전성을 부여할 수 있고, 양호한 유연성(flexibility)과 굴곡성을 제공할 수 있다. The metal nanowires can form a conductive network to impart conductivity to the first coating layer and can provide good flexibility and flexibility.
금속 나노와이어는 나노와이어 형상으로 인하여 금속 나노입자에 비해 분산성이 좋다. 또한, 금속 나노와이어는 입자 형상 대 나노와이어 형상의 차이점으로 인하여, 제1코팅층의 면저항을 현저하게 낮출 수 있는 효과를 제공할 수 있다. Metal nanowires are better dispersed than metal nanoparticles because of the nanowire shape. Further, the metal nanowire can provide an effect of significantly lowering the sheet resistance of the first coating layer owing to the difference between the particle shape and the nanowire shape.
금속 나노와이어는 특정 단면을 갖는 극 미세선의 형태를 갖는다. 구체적으로, 금속 나노와이어 단면의 직경(d)에 대한 나노와이어 길이(L)의 비(L/d, aspect ratio)는 10-1,000이 될 수 있다. 상기 범위에서, 낮은 나노와이어 밀도에서도 높은 전도성 네트워크를 구현할 수 있고, 투명 도전체의 면저항이 낮아질 수 있다. 구체적으로 aspect ratio는 500-1,000, 더 구체적으로 500-700이 될 수 있다.The metal nanowires have the form of microscopic lines having a specific cross-section. Specifically, the ratio (L / d) of the nanowire length (L) to the diameter (d) of the cross section of the metal nanowire may be 10-1,000. Within this range, a high conductivity network can be realized even at a low nanowire density, and the sheet resistance of the transparent conductor can be lowered. Specifically, the aspect ratio can be 500-1,000, more specifically 500-700.
금속 나노와이어는 단면의 직경(d)이 0 초과 100nm 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 높은 L/d를 확보하여 전도성이 높고 면저항이 낮은 투명 도전체를 구현할 수 있다. 구체적으로 30nm-100nm, 더 구체적으로 60nm- 100nm가 될 수 있다.The diameter of the cross section of the metal nanowire may be greater than 0 and less than or equal to 100 nm. Within this range, a transparent conductor having high conductivity and low sheet resistance can be realized by securing high L / d. Specifically, 30 nm-100 nm, more specifically 60 nm-100 nm.
금속 나노와이어는 길이(L)가 20㎛ 이상이 될 수 있다. 상기 범위에서, 높은 L/d를 확보하여 전도성이 높고 면저항이 낮은 도전성 필름을 구현할 수 있다. 구체적으로 20㎛-50㎛가 될 수 있다.The metal nanowire may have a length (L) of 20 mu m or more. Within this range, a high L / d can be ensured to realize a conductive film having a low conductivity and a low sheet resistance. Specifically 20 占 퐉 to 50 占 퐉.
금속 나노와이어는 임의의 금속으로 제조된 나노와이어를 포함할 수 있다. 예를 들면, 은, 구리, 금 나노와이어 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다. 바람직하게는 은 나노와이어 또는 이를 포함하는 혼합물을 사용할 수 있다.The metal nanowires may comprise nanowires made of any metal. For example, silver, copper, gold nanowires or mixtures thereof. Silver nanowires or mixtures containing them may be preferably used.
금속 나노와이어는 통상의 방법으로 제조하거나, 상업적으로 시판되는 제품을 사용할 수 있다. 예를 들면, 폴리올과 폴리(비닐 피롤리돈) 존재 하에서 금속 염(예를 들면, 질산은, AgNO3)의 환원 반응을 통해 합성할 수 있다. 또는, 상업적으로 시판되는 Cambrios사의 제품(예: ClearOhm Ink.)을 사용할 수도 있다.The metal nanowires may be manufactured by a conventional method or commercially available products may be used. For example, it can be synthesized through a reduction reaction of a metal salt (for example, silver nitrate, AgNO 3 ) in the presence of a polyol and poly (vinylpyrrolidone). Alternatively, a commercially available product of Cambrios (e.g. ClearOhm Ink.) May be used.
제1코팅층용 조성물은 코팅층 형성의 용이성, 기재필름의 코팅 용이성을 위해 용제를 더 포함할 수 있다. 용제는 금속 나노와이어와 다관능 모노머의 서로 다른 물성으로 인해, 주 용제(main solvent)와 보조 용제(co-solvent)를 포함할 수 있다. 주 용제로는 물, 아세톤 등을 사용할 수 있고, 보조 용제로는 물과 아세톤의 혼화성을 위하여 메탄올 등의 알코올 종류를 사용할 수 있다.The composition for the first coating layer may further include a solvent for facilitating the formation of the coating layer and for facilitating the coating of the base film. Because of the different physical properties of the metal nanowire and the multifunctional monomer, the solvent may include a main solvent and a co-solvent. Water, acetone, etc. may be used as the main agent and alcohol such as methanol may be used as an auxiliary agent for the compatibility of water and acetone.
제2코팅층은 오버코팅(overcoating) 층으로서 제1코팅층의 기재필름에 대한 부착성을 높일 수 있고, 저굴절률 코팅층으로서, 기존의 투명 도전체 대비 헤이즈를 낮추고 투과율을 높여 투명 도전체의 광학 특성을 개선하며, 우수한 전기 특성과 굴곡 특성을 제공할 수 있다. 구체예에서, 제2코팅층의 굴절률 R3은 1.30 내지 1.50이 될 수 있다. 상기 범위에서, 제2코팅층은 투명 도전체의 헤이즈를 저감시키고, 투과율을 향상시킬 수 있다.The second coating layer is an overcoating layer which can increase the adhesion of the first coating layer to the base film and can improve the optical characteristics of the transparent conductor by lowering the haze and increasing the transmittance as compared with the conventional transparent conductor as the low refractive index coating layer. It is possible to provide excellent electrical characteristics and bending properties. In an embodiment, the refractive index R3 of the second coating layer may be 1.30 to 1.50. Within this range, the second coating layer can reduce the haze of the transparent conductor and improve the transmittance.
제2코팅층의 두께는 0.05㎛-0.2㎛, 바람직하게는 0.05㎛-0.1㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 투명 도전체를 터치패널용 필름 용도로 사용할 수 있다. The thickness of the second coating layer may be 0.05 탆 to 0.2 탆, preferably 0.05 탆 to 0.1 탆. Within the above range, the transparent conductor can be used as a film for a touch panel.
제2코팅층은 불소 함유 수지를 포함하는 조성물로 형성될 수 있다. 구체적으로, 제2코팅층은 (C1)불소 함유 모노머 또는 이들의 중합체, (C2)비 불소계 모노머, 및 (C3)개시제를 포함하는 제2코팅층용 조성물로 형성될 수 있다.The second coating layer may be formed of a composition containing a fluorine-containing resin. Specifically, the second coating layer may be formed of a composition for a second coating layer comprising (C1) a fluorine-containing monomer or a polymer thereof, (C2) a non-fluorine monomer, and (C3) an initiator.
불소 함유 모노머 또는 이들의 중합체는 경화 후 제2코팅층의 도막을 형성함과 동시에 제2코팅층의 굴절률을 저하시켜, 투명 도전체의 헤이즈를 저감시키고 투과율을 높일 수 있다.The fluorine-containing monomer or the polymer thereof can form a coating film of the second coating layer after curing and reduce the refractive index of the second coating layer, thereby reducing the haze of the transparent conductor and increasing the transmittance.
불소 함유 모노머 또는 이들의 중합체는 굴절률이 1.30 내지 1.50이 될 수 있다. 상기 범위 내에서, 제2코팅층은 원하는 저굴절률을 가질 수 있다.The fluorine-containing monomer or the polymer thereof may have a refractive index of 1.30 to 1.50. Within this range, the second coating layer may have a desired low refractive index.
불소 함유 모노머의 중량평균분자량은 300 내지 10,000g/mol, 구체적으로 500 내지 1000g/mol이 될 수 있다. 상기 범위 내에서, 저굴절률을 갖는 균일한 제2코팅층 도막의 형성과 투명 도전체의 헤이즈가 낮아질 수 있다.The weight average molecular weight of the fluorine-containing monomer may be 300 to 10,000 g / mol, specifically 500 to 1000 g / mol. Within this range, the formation of a uniform second coating film having a low refractive index and the haze of the transparent conductor may be lowered.
불소 함유 모노머로 형성된 불소 함유 중합체의 중량평균분자량은 10,000 내지 20,000g/mol이 될 수 있다. 상기 범위 내에서, 저굴절률을 갖는 균일한 제2코팅층 도막의 형성과 투명 도전체의 헤이즈가 낮아질 수 있다.The weight average molecular weight of the fluorine-containing polymer formed from the fluorine-containing monomer may be 10,000 to 20,000 g / mol. Within this range, the formation of a uniform second coating film having a low refractive index and the haze of the transparent conductor may be lowered.
불소 함유 모노머 또는 이들의 중합체는 불소를 함유하고 1분자 중에 관능기(예:(메타)아크릴레이트기 또는 불소 함유 (메타)아크릴레이트기)를 2개 이상 갖는 모노머, (메타)아크릴레이트기 중 1개 이상의 수소 원자가 불소로 치환된 불소 치환 (메타)아크릴레이트기 1개 이상을 갖는 모노머, 불소를 함유하고 (메타)아크릴레이트기 중 1개 이상의 수소 원자가 불소로 치환된 불소 치환 (메타)아크릴레이트기 1개 이상을 갖는 모노머, 또는 이들의 중합체를 포함할 수 있다.The fluorine-containing monomer or the polymer thereof is a monomer containing fluorine and having two or more functional groups (e.g., (meth) acrylate group or fluorine-containing (meth) acrylate group) in one molecule, (Meth) acrylate group in which at least one hydrogen atom is substituted with fluorine, a fluorine-substituted (meth) acrylate group containing at least one fluorine-substituted (meth) acrylate group in which at least one hydrogen atom of the A monomer having at least one group, or a polymer thereof.
불소 함유 모노머로 형성된 불소 함유 중합체 중 불소 함량은 50-90(wt%)가 될 수 있다. 상기 범위 내에서, 투명 도전체의 헤이즈 저감 및 투과율 향상의 효과가 있을 수 있다.The fluorine content of the fluorine-containing polymer formed from the fluorine-containing monomer may be 50-90 (wt%). Within the above range, there may be an effect of reducing the haze and improving the transmittance of the transparent conductor.
불소 함유 모노머는 예를 들면 펜타에리스리톨 골격을 갖는 불소 함유 모노머, 디펜타에리트리톨 골격을 갖는 불소 함유 모노머, 트리메틸올프로판 골격을 갖는 불소 함유 모노머, 디트리메틸올프로판 골격을 갖는 불소 함유 모노머, 시클로헥실 골격을 갖는 불소 함유 모노머, 직쇄상 골격을 갖는 불소 함유 모노머 또는 이들의 혼합물이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.Examples of the fluorine-containing monomer include a fluorine-containing monomer having a pentaerythritol skeleton, a fluorine-containing monomer having a dipentaerythritol skeleton, a fluorine-containing monomer having a trimethylolpropane skeleton, a fluorine-containing monomer having a ditrimethylolpropane skeleton, A fluorine-containing monomer having a skeleton, a fluorine-containing monomer having a straight-chain skeleton, or a mixture thereof.
구체적으로, 상기 불소 함유 모노머는 하기 화학식 1 내지 19 중 어느 하나로 표시될 수 있다:Specifically, the fluorine-containing monomer may be represented by any one of the following formulas (1) to (19):
<화학식 1>≪ Formula 1 >
<화학식 2>(2)
<화학식 3>(3)
<화학식 4>≪ Formula 4 >
<화학식 5>≪ Formula 5 >
<화학식 6>(6)
<화학식 7>≪ Formula 7 >
<화학식 8>(8)
<화학식 9>≪ Formula 9 >
<화학식 10>≪ Formula 10 >
<화학식 11>≪ Formula 11 >
<화학식 12>≪ Formula 12 >
<화학식 13>≪ Formula 13 >
<화학식 14>≪ Formula 14 >
<화학식 15>≪ Formula 15 >
<화학식 16>≪ Formula 16 >
<화학식 17>≪ Formula 17 >
<화학식 18>≪ Formula 18 >
<화학식 19>(19)
(A)n - (B)m(A) n - (B) m
(상기에서, A는 불소 함유 탄소수 1-10의 알킬기 또는 불소 함유 탄소수 1-10의 알킬렌기이고, (Wherein A is an alkyl group having 1-10 fluorine atoms or an alkylene group having 1-10 fluorine atoms,
B는 아크릴레이트기, 메타아크릴레이트기, 불소 함유 아크릴레이트기 또는 불소 함유 메타아크릴레이트기이고,B is an acrylate group, a methacrylate group, a fluorine-containing acrylate group or a fluorine-containing methacrylate group,
n은 1-6의 정수, m은 1-16의 정수이다).n is an integer of 1-6, and m is an integer of 1-16).
화학식 19에서 "탄화수소기"는 알킬기 또는 알킬렌기가 될 수 있다.The "hydrocarbon group" in formula (19) may be an alkyl group or an alkylene group.
불소 함유 모노머 또는 이들의 중합체는 고형분 기준으로 제2코팅층용 조성물 중 2 내지 95중량%, 구체적으로 5 내지 91중량%, 더 구체적으로 2 내지 50중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 제2코팅층에 저굴절률을 제공하여 투명 도전체의 헤이즈를 저감시키고 투과율을 높일 수 있다. The fluorine-containing monomer or the polymer thereof is contained in the composition for the second coating layer 2 to 95% by weight, in particular 5 to 91% by weight, 2 to 50% by weight. Within this range, it is possible to reduce the haze of the transparent conductor and increase the transmittance by providing a low refractive index to the second coating layer.
불소 함유 모노머 또는 이들의 중합체는 (C1) + (C2) 100중량부 중 2 내지 95중량부, 구체적으로 5 내지 95중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 균일한 도막을 형성하여 투명 도전체의 헤이즈 저감 및 투과율 향상의 효과가 있을 수 있다.The fluorine-containing monomer or the polymer thereof may be used in an amount of 100 parts by weight of (C1) + (C2) 2 to 95 parts by weight, specifically 5 to 95 parts by weight. Within the above range, a uniform coating film may be formed to reduce the haze and improve the transmittance of the transparent conductor.
비 불소계 모노머는 불소를 함유하지 않고, 경화 반응기 예를 들면 (메타)아크릴레이트기를 함유하는 단관능 또는 다관능의 모노머를 포함할 수 있다. 비 불소계 모노머는 상기 조성물을 가열 및 경화시키는 과정에 의해 상기 불소 함유 모노머 또는 이들의 중합체와 중합 가교되어 제2코팅층을 형성할 수 있다.The non-fluorine-containing monomer may include a monofunctional or polyfunctional monomer containing no fluorine and containing a curing reaction group, for example, a (meth) acrylate group. The non-fluorine-containing monomer may be polymerized and crosslinked with the fluorine-containing monomer or the polymer thereof by heating and curing the composition to form a second coating layer.
비 불소계 모노머의 굴절률은 1.30 내지 1.50이 될 수 있다. 상기 범위에서, 충분히 낮은 굴절율을 갖는 제2코팅층을 구현할 수 있다.The refractive index of the non-fluorine-based monomer may be 1.30 to 1.50. Within this range, a second coating layer having a sufficiently low refractive index can be realized.
비 불소계 모노머의 중량평균분자량은 250 내지 1,000g/mol이 될 수 있다. 상기 범위 내에서, 관능기 수가 적절하여 얻어지는 제2코팅층의 경도가 저하되는 문제점이 없다.The weight average molecular weight of the non-fluorine-based monomer may be from 250 to 1,000 g / mol. Within the above range, there is no problem that the hardness of the second coating layer obtained by appropriately controlling the number of functional groups is lowered.
예를 들면, 비 불소계 모노머는 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디(트리메틸올프로판) 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메타)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 사이클로데칸 디메탄올 디(메타)아크릴레이트 중 하나 이상이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.For example, the non-fluorine-based monomer may be selected from the group consisting of dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylol propane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, di (trimethylol propane) (Meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, trimethylol propane di (meth) acrylate, dipentaerythritol penta Dimethanol di (meth) acrylate, but are not limited thereto.
비 불소계 모노머는 제2코팅층용 조성물 중 0.1 내지 95중량%, 구체적으로 0.2 내지 40중량% 또는 8 내지 92중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 제2코팅층의 외관을 유지하고, 기재와의 부착성 및 물리적 특성이 향상되는 효과가 있을 수 있다.The non-fluorine-containing monomer may be contained in the composition for the second coating layer in an amount of 0.1 to 95% by weight, specifically 0.2 to 40% by weight or 8 to 92% by weight. Within the above range, there may be an effect that the appearance of the second coating layer is maintained, and adhesion with the substrate and physical properties are improved.
일 구체예에서, 제2코팅층용 조성물 중 비 불소계 모노머로서 6관능 모노머와 3관능 모노머의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 혼합물 중 6관능 모노머는 0.1 내지 99.9중량%, 3관능 모노머는 0.1 내지 99.9중량%, 구체적으로, 6관능 모노머는 0.1 내지 90중량%, 3관능 모노머는 0.1 내지 10중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 기재와 코팅층 사이의 부착성을 확보하고 haze 가 낮고 투과율이 높아지는 효과가 있을 수 있다.In one embodiment, as the non-fluorine-based monomer in the composition for the second coating layer, it may comprise a mixture of a hexafunctional monomer and a trifunctional monomer. The mixture may contain 0.1 to 99.9% by weight of the hexafunctional monomer, 0.1 to 99.9% by weight of the trifunctional monomer, 0.1 to 90% by weight of the hexafunctional monomer, and 0.1 to 10% by weight of the trifunctional monomer. Within the above-mentioned range, it is possible to secure the adhesion between the substrate and the coating layer, and to lower the haze and increase the transmittance.
비 불소계 모노머는 (C1) + (C2) 100중량부 중 5 내지 98중량부, 구체적으로, 5 내지 95중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서, 기재와의 부착성 및 물리적 특성이 향상되는 효과가 있을 수 있다.The non-fluorine-containing monomer may be contained in an amount of 5 to 98 parts by weight, specifically 5 to 95 parts by weight, based on 100 parts by weight of (C1) + (C2). Within this range, there may be an effect of improving the adhesion to the substrate and the physical properties.
개시제는 흡수 파장 150nm-500nm을 흡수하여 광 반응을 나타낼 수 있는 것이라면 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 개시제는 포스핀 옥시드 계열, α-히드록시케톤 계열 등을 사용할 수 있다. 구체적으로, 비스-아실-포스핀 옥시드(BAPO), 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥시드(TPO), 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.The initiator can be used without limitation as long as it absorbs an absorption wavelength of 150 nm to 500 nm to exhibit a photoreaction. For example, the initiator may be a phosphine oxide series,? -Hydroxy ketone series, or the like. Specifically, bis-acylphosphine oxide (BAPO), diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide (TPO), 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone or a mixture thereof can be used .
개시제는 제2코팅층용 조성물 중 0.1 내지 10중량%, 구체적으로 0.1 내지 5중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서, 잔량의 개시제 없이 다관능 모노머를 충분히 경화시킬 수 있다.The initiator may be contained in the composition for the second coating layer in an amount of 0.1 to 10% by weight, specifically 0.1 to 5% by weight. Within this range, the polyfunctional monomer can be sufficiently cured without remaining initiator.
개시제는 (C1) + (C2) 100중량부에 대해 0.01 내지 5중량부, 구체적으로 0.1 내지 1중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서, 경화된 도막의 기재 필름과의 부착성 및 내화학성의 효과가 있을 수 있다.The initiator is 0 part per 100 parts by weight of (C1) + (C2) . 01 to 5 parts by weight, specifically 0.1 to 1 part by weight. Within the above range, there may be an effect of adhesion of the cured coating film to the base film and chemical resistance.
제2코팅층용 조성물은 중공 실리카 미립자를 더 포함할 수 있다. 중공 실리카 미립자는 제2코팅층의 강도를 높일 수 있다. 중공 실리카는 불소 수지로 표면 개질된 것일 수 있다. 그 결과, 제2코팅층의 굴절률을 더 낮출 수 있다. The composition for the second coating layer may further include hollow silica fine particles. The hollow silica fine particles can increase the strength of the second coating layer. The hollow silica may be surface-modified with a fluororesin. As a result, the refractive index of the second coating layer can be further lowered.
중공 실리카 미립자는 고형분 기준으로 제2코팅층용 조성물 100중량부에 대해 0.1 내지 10중량부로 포함될 수 있다. 중공 실리카 미립자의 평균 입경은 30nm 내지 60nm가 될 수 있다. 상기 범위 내에서, 제2코팅층에 우수한 투명성을 부여할 수 있다.The hollow silica fine particles may be contained in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the composition for the second coating layer based on the solid content. The average particle diameter of the hollow silica fine particles may be 30 nm to 60 nm. Within this range, excellent transparency can be imparted to the second coating layer.
투명 도전체는 상술한 기재층, 제1코팅층용 조성물 및 제2코팅층용 조성물을 이용하여 통상의 방법으로 제조할 수 있다. 예를 들면, 기재층의 적어도 일면에 제1코팅층용 조성물을 코팅하고, 건조 및 베이킹시킨다. 그런 다음, 제2코팅층용 조성물을 상기 제1코팅층 위에 코팅하고, 건조 및 베이킹시킨 후 500mJ/cm2이상, 바람직하게는 500 내지 1000mJ/cm2에서 UV 경화시켜 제2코팅층을 형성한다. 제1코팅층과 제2코팅층은 기재층의 적어도 일면에 형성될 수 있지만, 바람직하게는 기재층의 일면에 형성된다.The transparent conductor can be produced by a conventional method using the base layer, the composition for the first coating layer and the composition for the second coating layer. For example, at least one side of the substrate layer is coated with the composition for the first coating layer, dried and baked. Then, the composition for the second coating layer is coated on the first coating layer, dried and baked, and UV cured at 500 mJ / cm 2 or more, preferably 500 to 1000 mJ / cm 2 to form a second coating layer. The first coating layer and the second coating layer may be formed on at least one side of the base layer, but are preferably formed on one side of the base layer.
도 2는 본 발명 다른 실시예의 투명 도전체의 단면도이다. 도 2를 참조하면, 투명 도전체(150)는 기재층(110), 기재층(110) 상에 형성되고 도전성을 갖는 제1코팅층(120), 제1코팅층(120) 상에 형성된 제2코팅층(130)을 포함하고, 파장 380 내지 780nm에서 상기 기재층의 굴절률을 R1, 상기 제1코팅층의 굴절률을 R2, 상기 제2코팅층의 굴절률을 R3이라고 할 때, 굴절률의 차이 R1-R2가 0.05-0.20이고, 굴절률의 차이 R2-R3이 0.01-0.2이고, 제1코팅층(120)과 제2코팅층(130)은 패턴화될 수 있다. 도 2에서, 제1코팅층(120)과 제2코팅층(130)이 모두 완전히 패턴화된 것을 제외하고는 도 1의 본 발명 일 실시예의 투명 도전체와 동일하다.2 is a cross-sectional view of a transparent conductor according to another embodiment of the present invention. 2, the
도 2에서, 기재층(110)의 일면에 제1코팅층(120), 제2코팅층(130)이 형성된 경우만을 도시하였으나, 기재층(110)의 양면에 제1코팅층(120), 제2코팅층(130)이 형성된 경우도 본 발명의 범위에 포함될 수 있다.2, the
제1코팅층(120)과 제2코팅층(130)은 각각 패턴화될 수 있는데, 구체적으로 습식 에칭 등의 방법으로 패턴화될 수 있다.The
도 3은 본 발명 또 다른 실시예의 투명 도전체의 단면도이다. 도 3을 참조하면, 투명 도전체(190)는 기재층(110), 기재층(110) 상에 형성되고 도전성을 갖는 제1코팅층(120), 제1코팅층(120) 상에 형성된 제2코팅층(130)을 포함하고, 파장 380 내지 780nm에서 상기 기재층의 굴절률을 R1, 상기 제1코팅층의 굴절률을 R2, 상기 제2코팅층의 굴절률을 R3이라고 할 때, 굴절률의 차이 R1-R2가 0.05-0.20이고, 굴절률의 차이 R2-R3이 0.01-0.2이고, 제1코팅층(120)은 일부 패턴화되고 제2코팅층(130)은 완전히 패턴화될 수 있다. 도 3에서, 제1코팅층(120)은 일부만 패턴화되고 제2코팅층(130)은 완전히 패턴화된 것을 제외하고는 도 1의 본 발명 일 실시예의 투명 도전체와 동일하다.3 is a cross-sectional view of a transparent conductor according to another embodiment of the present invention. 3, the
제1코팅층(120)과 제2코팅층(130)은 각각 패턴화될 수 있는데, 구체적으로 습식 에칭 등의 방법으로 패턴화될 수 있다.The
본 발명의 장치는 본 발명의 투명 도전체를 포함할 수 있고, 구체적으로 터치스크린패널, 플렉시블(flexible) 디스플레이 등을 포함하는 광학 표시 장치, E-paper, 또는 태양 전지 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The apparatus of the present invention may include the transparent conductor of the present invention and may specifically include an optical display device including a touch screen panel, a flexible display, etc., E-paper, or a solar cell, But is not limited thereto.
도 4 내지 도 6은 본 발명 실시예의 광학표시장치의 단면도이다.4 to 6 are sectional views of an optical display device according to an embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 광학표시장치(200)는 기재층(110), 기재층(110)의 상부면에 형성된 제1전극(255)과 제2전극(260), 및 기재층(110)의 하부면에 형성된 제3전극(265)과 제4전극(270)을 포함하는 투명 전극체(230), 제1전극(255)과 제2전극(260)의 상부에 형성된 윈도우 글라스(205), 제3전극(265)과 제4전극(270)의 하부에 형성된 제1편광판(235), 제1편광판(235)의 하부면에 형성된 CF(COLOR FILTER) 글라스(240), CF 글라스(240)의 하부면에 형성되고 TFT(THIN FILM TRANSISTOR) 글라스를 포함하는 패널(245), TFT 글라스(245) 하부면에 형성된 제2편광판(250)을 포함할 수 있다. 투명 전극체(230)는 도 2의 투명 도전체에서 투명 도전층(120)을 각각 소정의 방법(예:에칭 등)으로 패터닝하여 제1전극, 제2전극, 제3전극, 제4전극을 형성함으로써 제조된 것으로, 본 발명의 오버코팅층을 포함함으로써 광학특성이 개선될 수 있다. 제1전극(255)과 제2전극(260)은 Rx 전극, 제3전극(265)과 제4전극(270)은 Tx 전극이 될 수 있고, 그 역의 경우도 본 발명의 범위에 포함될 수 있다. 윈도우 글라스(205)는 광학표시장치에서 화면 표시 기능을 수행하는 것으로, 통상의 유리 재질로 제조될 수 있다. 제1편광판(235), 제2편광판(250)은 광학표시장치에 편광 성능을 부여하기 위한 것으로, 외부광 또는 내부광을 편광시킬 수 있고, 편광자, 또는 편광자와 보호필름의 적층체를 포함할 수 있고, 편광자, 보호필름은 편광판 분야에서 알려진 통상의 것을 포함할 수 있다. 윈도우 글라스(205)와 투명 전극체(230) 사이 및 투명 전극체(230)와 제1 편광판(235) 사이에는 각각 점착 필름(210, 212)을 부가함으로써, 투명 전극체(230), 윈도우 글라스(205), 제1편광판(235) 간의 결합을 유지할 수 있다. 점착 필름(210, 212)은 통상의 점착 필름으로서, 예를 들면 OCA(optical clear adhesive) 필름이 될 수 있다. 4, the
도 5를 참조하면, 광학표시장치(300)는 기재층(110), 기재층(110)의 상부면에 형성된 제3전극(265)과 제4전극(270)을 포함하는 투명 전극체(330), 제3전극(265)과 제4전극(270)의 상부에 형성되고 하부면에 제1전극(255)과 제2전극(260)이 형성된 윈도우 글라스(205), 투명 전극체(330)의 하부에 형성된 제1편광판(235), 제1편광판(235)의 하부면에 형성된 CF(COLOR FILTER) 글라스(240), CF 글라스(240)의 하부면에 형성된 TFT(THIN FILM TRANSISTOR) 글라스를 포함하는 패널(245), TFT 글라스(245) 하부면에 형성된 제2편광판(250)을 포함할 수 있다. 투명 전극체(330)는 도 1의 투명 도전체에서 투명 도전층(120)을 소정의 방법으로 패터닝하여 제3전극(265), 제4전극(270)을 형성함으로써 제조된 것으로, 본 발명의 오버코팅층을 포함함으로써 광학특성이 개선될 수 있고, 제2편광판(250), CF 글라스(240), TFT 글라스(245) 및 제1편광판(235)을 투과한 빛에 대한 광 효율을 높일 수 있다. 제1전극(255)과 제2전극(260)은 통상의 전극 형성 방법을 채용하여 형성할 수 있다. 윈도우 글라스(205)와 투명 전극체(330) 사이 및 투명 전극체(330)와 제1 편광판(235) 사이에는 각각 점착 필름(210, 212)을 부가함으로써, 투명 전극체, 윈도우 글라스, 제1편광판 간의 결합을 유지할 수 있다. 5, the
도 6을 참조하면, 광학표시장치(400)는 제1기재층(110a), 제1기재층(110a)의 상부면에 형성된 제1전극(255)과 제2전극(260)을 포함하는 제1투명 전극체(430a), 제1투명 전극체(430a)의 하부에 형성되고, 제2기재층(110b), 제2기재층(110b)의 상부면에 형성된 제3전극(265)과 제4전극(270)을 포함하는 제2투명 전극체(430b), 제2투명 전극체(330b)의 하부에 형성된 제1편광판(235), 제1편광판(235)의 하부면에 형성된 CF(COLOR FILTER) 글라스(240), CF 글라스(240)의 하부면에 형성된 TFT(THIN FILM TRANSISTOR) 글라스(245), TFT 글라스(245) 하부면에 형성된 제2편광판(250)을 포함할 수 있다. 제1투명 전극체(430a)와 제2투명 전극체(430b)는 도 1의 투명 도전체에서 투명 도전층(120)을 소정의 방법으로 패터닝하여 제1전극, 제2전극 제3전극, 제4전극을 형성함으로써 제조된 것으로, 기재층이 위상차 필름으로 시야각 보상 효과를 가져, 제2편광판(250), CF 글라스(240), TFT 글라스(245) 및 제1편광판(235)을 투과한 빛에 대해 시야각을 보상할 수 있다. 제1투명 전극체(430a)와 윈도우 글라스(205) 사이, 제1투명 전극체(430a)와 제2투명 전극체(430b) 사이, 및 제2 투명 전극체(430b)와 제1 편광판(235) 사이에는 각각 점착 필름(210, 212, 214)을 부가함으로써, 투명 전극체, 윈도우 글라스, 제1편광판 간의 결합을 유지할 수 있다. 점착 필름(210, 212, 214)은 통상의 점착 필름으로서, 예를 들면 OCA(optical clear adhesive) 필름이 될 수 있다. 또한, 도 4 내지 도 6에서 도시되지 않았지만, 제1기재층, 제2기재층 또는 기재층은 수지 필름이 접착제 등에 의해 적층된 형태가 될 수도 있다.6, the
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments of the present invention. It is to be understood, however, that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed in a limiting sense.
제조예Manufacturing example : 제1 : 1st 코팅층용For coating layer 조성물 제조 Composition manufacturing
은 나노와이어(Clearohm Ink., Cambrios사, aspect ratio: 500 ) 48중량부를 초순수 증류수 52중량부에 넣고 교반하여 제1코팅층 조성물을 제조하였다. 48 parts by weight of a nanowire (Clearohm Ink., Cambrios, aspect ratio: 500) was added to 52 parts by weight of ultrapure distilled water and stirred to prepare a first coating layer composition.
하기 실시예와 비교예에서 사용된 성분의 구체적인 사양은 다음과 같다.Specific specifications of the components used in the following examples and comparative examples are as follows.
(A)불소 함유 모노머 또는 이들의 중합체:(A1)AR-110(DAIKIN사), (A2)LINC-3A(KYOEISHA사, 상기 화학식 2)(A) Fluorine-containing monomers or polymers thereof: (A1) AR-110 (DAIKIN), (A2) LINC-3A (KYOEISHA,
(B)비 불소계 모노머:(B1)트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(TMPTA), (B2)디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA)(B1) trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), (B2) dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), (B)
(C)개시제:비스-아실-포스핀 옥시드(BAPO, Darocur 819W, CIBA)(C) Initiator: bis-acyl-phosphine oxide (BAPO, Darocur 819W, CIBA)
(D)우레탄 아크릴레이트(D) urethane acrylate
(E)제1코팅층용 조성물: 제조예의 조성물(E) Composition for the first coating layer: composition of the production example
(F)기재층:폴리카보네이트 필름(두께:50㎛, 파장 550nm에서 굴절률 1.63)(F) Base layer: Polycarbonate film (thickness: 50 탆, refractive index 1.63 at a wavelength of 550 nm)
실시예Example 1 One
용제 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 95중량부에, TMPTA 0.45중량부, 개시제 0.01중량부를 넣고 용해시켰다. 그런 다음, AR-110(DAIKIN사) 4.5중량부를 넣고 용해시켜 제2코팅층용 조성물을 제조하였다. 기재층에 제1코팅층용 조성물을 와이어 바 코팅을 이용하여 코팅하였다. 80℃ 오븐에서 2분 동안 건조시켰다. 그런 다음, 제2코팅층용 조성물을 스핀 코터를 이용하여 코팅하였다. 80℃ 오븐에서 2분 동안 건조시킨 후 500mJ/cm2 질소 분위기에서 UV 경화시켜 투명 도전체를 제조하였다. solvent To 95 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME), 0.45 part by weight of TMPTA and 0.01 part by weight of an initiator were dissolved and dissolved. Then, 4.5 parts by weight of AR-110 (DAIKIN) was added and dissolved to prepare a composition for the second coating layer. The composition for the first coating layer was coated on the base layer using a wire bar coating. Lt; RTI ID = 0.0 > 80 C < / RTI > Then, the composition for the second coating layer was coated using a spin coater. After drying for 2 minutes at 80 ℃ oven was UV cured at 500mJ / cm 2 nitrogen atmosphere to prepare a transparent conductor.
실시예Example 2 2
용제 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 99중량부에, TMPTA 0.21중량부, DPHA 7.5중량부, 개시제 0.23중량부를 넣고 용해시켰다. 그런 다음, LINC-3A(KYOEISHA사) 0.5중량부를 넣고 용해시켜 제2코팅층용 조성물을 제조하였다. 기재층에 제1코팅층용 조성물을 와이어 바 코팅을 이용하여 코팅하였다. 80℃ 오븐에서 2분 동안 건조시켰다. 그런 다음, 제2코팅층용 조성물을 스핀 코터를 이용하여 코팅하였다. 80℃ 오븐에서 2분 동안 건조시킨 후 500mJ/cm2 질소 분위기에서 UV 경화시켜 투명 도전체를 제조하였다.solvent To 99 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME), 0.21 parts by weight of TMPTA, 7.5 parts by weight of DPHA and 0.23 parts by weight of an initiator were dissolved and dissolved. Then, 0.5 part by weight of LINC-3A (manufactured by KYOEISHA) was added and dissolved to prepare a composition for a second coating layer. The composition for the first coating layer was coated on the base layer using a wire bar coating. Lt; RTI ID = 0.0 > 80 C < / RTI > Then, the composition for the second coating layer was coated using a spin coater. After drying for 2 minutes at 80 ℃ oven was UV cured at 500mJ / cm 2 nitrogen atmosphere to prepare a transparent conductor.
비교예Comparative Example 1 One
프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 98중량부에 우레탄 아크릴레이트 2중량부 및 개시제 0.01중량부를 넣고 용해시켜 용액 B를 제조하였다. 기재층에 제1코팅층 조성물을 와이어 바 코팅을 이용하여 코팅하였다. 80℃ 오븐에서 1분 동안 건조시킨 후 120℃ 오븐에서 1분 동안 베이킹한다. 이 위에 용액 B를 와이어 바를 이용하여 코팅하고 80℃ 오븐에서 1분 동안 건조시킨 후 120℃ 오븐에서 1분 동안 베이킹하였다. 이후에 500mJ/cm2 질소 분위기에서 UV 경화시켜, 기재필름 일면에 두께 150nm의 금속 나노와이어와 우레탄 아크릴레이트와 개시제의 경화물로 구성되는 도전성 필름이 적층된 투명 도전체를 제조하였다. To 98 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME), 2 parts by weight of urethane acrylate and 0.01 part by weight of an initiator were dissolved and dissolved to prepare solution B. The first coating layer composition was coated on the substrate layer using a wire bar coating. After drying in an oven at 80 ° C for 1 minute, it is baked at 120 ° C in an oven for 1 minute. Solution B was coated thereon using a wire bar, dried in an oven at 80 ° C for 1 minute, and then baked in an oven at 120 ° C for 1 minute. Thereafter, the film was subjected to UV curing in a nitrogen atmosphere at 500 mJ / cm 2 to prepare a transparent conductor having a conductive film composed of a metal nanowire having a thickness of 150 nm, a urethane acrylate and a curing agent of an initiator laminated on one side of the base film.
비교예Comparative Example 2 2
실시예 1에서, AR-110(DAIKIN사) 4.5중량부를 사용하지 않고, TMPTA 5중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법을 실시하여 투명 도전체를 제조하였다.A transparent conductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that 4.5 parts by weight of AR-110 (DAIKIN) was not used and 5 parts by weight of TMPTA was used.
비교예Comparative Example 3 3
실시예 1에서, TMPTA 0.45중량부와 AR-110(DAIKIN사) 4.5중량부를 사용하지 않고, 불소 수지 포함 중공 실리카(TU2276 JSR사) 5중량부를 사용하고 개시제 0.3중량부를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법을 실시하여 투명 도전체를 제조하였다. Except that 0.45 parts by weight of TMPTA and 4.5 parts by weight of AR-110 (DAIKIN) were used instead of 5 parts by weight of hollow silica containing fluorine resin (TU2276 manufactured by JSR Corporation) and 0.3 part by weight of an initiator were used in Example 1 To prepare a transparent conductor.
실시예와 비교예의 투명 도전체에 대해 하기 물성을 평가하고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.The following properties of the transparent conductor of the examples and comparative examples were evaluated, and the results are shown in Table 1 below.
(1)굴절률 차이: 코팅층의 굴절률은 ellipsometer 를 이용하여 파장 380nm-780nm에서 측정한다. 이로부터 굴절률 차이를 계산한다. R1은 기재층, R2는 제1코팅층, R3은 제2코팅층의 굴절률이다.(1) Refractive index difference: The refractive index of the coating layer is measured at an wavelength of 380 nm to 780 nm using an ellipsometer. And the refractive index difference is calculated therefrom. R1 is a base layer, R2 is a first coating layer, and R3 is a refractive index of a second coating layer.
(2)헤이즈와 전광선 투과율(%):투명 도전체에 대해 파장 400-700nm에서 헤이즈미터를 사용하여 헤이즈와 전광선 투과율을 측정한다.(2) Haze and total light transmittance (%): The haze and total light transmittance are measured using a haze meter at a wavelength of 400-700 nm with respect to a transparent conductor.
(3)면저항(Ω): 투명 도전체의 제2코팅층 표면에 접촉식 면저항 측정기 MCP-T610(Mitsubish Chemical Analytech社)의 4-프로브를 접촉하고 10초 후에 면저항을 측정한다.(3) Surface Resistance (Ω): The surface resistance of the second coating layer of the transparent conductor is measured by contacting a 4-probe of a contact-type surface resistivity meter MCP-T610 (Mitsubishi Chemical Analytech) with the surface resistance after 10 seconds.
(4)IPA rubbing: 제2코팅층에 스포이드로 이소프로판올(IPA)를 뿌리고, 와이퍼로 10회 문지른 후 제2코팅층의 외관 변화와 저항 변화를 확인한다. 외관과 저항 변화가 없는 경우 양호, 외관과 저항 중 하나라도 변하는 경우 불량으로 평가한다.(4) IPA rubbing: Spray isopropanol (IPA) on the second coating layer and rub 10 times with a wiper, and then change the appearance and resistance of the second coating layer. Good when there is no change in appearance and resistance, and bad when the appearance and resistance change.
표 1에서 나타난 바와 같이, 본 발명의 저굴절 불소 수지를 포함하는 제2코팅층이 형성된 투명 도전체는 헤이즈가 낮고 투과율이 높아 광학 특성이 우수하고, 면저항도 낮았다. 반면에, 기존의 제2코팅층이 형성되지 않고, 우레탄 아크릴레이트를 포함하는 오버코팅층이 형성된 비교예 1의 투명 도전체는 헤이즈가 높고 면저항도 높아 본 발명의 효과를 구현할 수 없었다. 또한, 불소 함유 모노머 또는 중합체를 포함하지 않는 제2코팅층이 형성된 비교예 2의 투명 도전체는 헤이즈가 높고 내화학성 및 기재 필름과의 부착성 문제가 있었다. 또한, 저굴절 수지로 코팅된 중공 실리카를 포함할 경우, 면저항이 상승하고 헤이즈가 높다는 문제점이 있었다.
As shown in Table 1, the transparent conductor having the second coating layer containing the low refractive index fluorine resin of the present invention had low haze and high transmittance, so that the optical characteristics were excellent and the sheet resistance was low. On the other hand, the transparent conductor of Comparative Example 1 in which the existing second coating layer was not formed and the overcoat layer containing urethane acrylate was formed had a high haze and a high sheet resistance, and thus the effect of the present invention could not be realized. In addition, the transparent conductor of Comparative Example 2 in which a second coating layer containing no fluorine-containing monomer or polymer was formed had a high haze and had a problem of chemical resistance and adhesion to a base film. Further, when hollow silica coated with a low refractive resin is included, the sheet resistance is increased and the haze is high.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.
Claims (21)
상기 기재층 상에 형성되고 도전성을 갖는 제1코팅층, 및
상기 제1코팅층 상에 형성된 제2코팅층을 포함하고,
파장 380 내지 780nm에서 상기 기재층의 굴절률을 R1, 상기 제1코팅층의 굴절률을 R2, 상기 제2코팅층의 굴절률을 R3이라고 할 때, 굴절률의 차이 R1-R2가 0.05 내지 0.20이고, 굴절률의 차이 R2-R3이 0.01 내지 0.20인 투명 도전체이고,
상기 투명 도전체는 헤이즈가 0.01-1.0%이고 면저항이 50-150(Ω/□)이고,
상기 제1코팅층은 금속 나노와이어 네트워크를 포함하고,
상기 제2코팅층은 불소 함유 모노머 또는 그의 중합체, 비 불소계 모노머 및 개시제를 포함하는 조성물로 형성되는 것인, 투명 도전체.Substrate layer,
A first coating layer formed on the base layer and having conductivity, and
And a second coating layer formed on the first coating layer,
A refractive index difference R1-R2 is 0.05 to 0.20, and a refractive index difference R2 (refractive index difference R2) is 0.05 to 0.20 when the refractive index of the base layer is R1, the refractive index of the first coating layer is R2 and the refractive index of the second coating layer is R3 at a wavelength of 380 to 780 nm, -R < 3 > is from 0.01 to 0.20,
The transparent conductor has a haze of 0.01-1.0% and a sheet resistance of 50-150 (? /?),
Wherein the first coating layer comprises a metal nanowire network,
Wherein the second coating layer is formed of a composition comprising a fluorine-containing monomer or a polymer thereof, a non-fluorine-based monomer and an initiator.
<화학식 1>
<화학식 2>
<화학식 3>
<화학식 4>
<화학식 5>
<화학식 6>
<화학식 7>
<화학식 8>
<화학식 9>
<화학식 10>
<화학식 11>
<화학식 12>
<화학식 13>
<화학식 14>
<화학식 15>
<화학식 16>
<화학식 17>
<화학식 18>
<화학식 19>
(A)n - (B)m
(상기에서, A는 불소 함유 탄소수 1-10의 알킬기 또는 불소 함유 탄소수 1-10의 알킬렌기이고,
B는 아크릴레이트기, 메타아크릴레이트기, 불소 함유 아크릴레이트기 또는 불소 함유 메타아크릴레이트기이고,
n은 1-6의 정수, m은 1-16의 정수이다).The fluorine-containing monomer according to claim 1, wherein the fluorine-containing monomer comprises at least one of the following formulas (1) to (19):
≪ Formula 1 >
(2)
(3)
≪ Formula 4 >
≪ Formula 5 >
(6)
≪ Formula 7 >
(8)
≪ Formula 9 >
≪ Formula 10 >
≪ Formula 11 >
≪ Formula 12 >
≪ Formula 13 >
≪ Formula 14 >
≪ Formula 15 >
≪ Formula 16 >
≪ Formula 17 >
≪ Formula 18 >
(19)
(A) n - (B) m
(Wherein A is an alkyl group having 1-10 fluorine atoms or an alkylene group having 1-10 fluorine atoms,
B is an acrylate group, a methacrylate group, a fluorine-containing acrylate group or a fluorine-containing methacrylate group,
n is an integer of 1-6, and m is an integer of 1-16).
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