KR20150047410A

KR20150047410A - Apparatus for cleaning end surfaces of substrate

Info

Publication number: KR20150047410A
Application number: KR1020140018603A
Authority: KR
Inventors: 소이치 야나기사와
Original assignee: 가부시키가이샤 나가오카 세이사쿠쇼
Priority date: 2013-10-24
Filing date: 2014-02-18
Publication date: 2015-05-04
Also published as: TWI530331B; TW201515725A; CN104550063A; JP2015080781A; JP5651226B1; CN104550063B; KR101577637B1

Abstract

An apparatus for cleaning end surfaces of a substrate (1) according to an embodiment of the present invention comprises: a guide unit (21) comprising a guide part (27) having a recess (24) formed on a front surface (22) thereof and through which an end surface (5a) of a substrate (5) passes; and a brush (50) whose front end (51) position is controlled by a rear surface (23) of the guide part. The recess (24) comprises an opening (25) penetrating the guide part (27), and the front end (51) of the brush (50) contacts the end surface (5a) of the substrate (5) passing through the recess (24). The guide unit (21) further comprises a concave part (70) to accommodate at least the front end (51) of the brush (50) and a suction hole (73) to suck dust from the concave part (70).

Description

[0001] APPARATUS FOR CLEANING END SURFACES OF SUBSTRATE [0002]

본 발명은, 기판의 단면(端面)을 클리닝하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for cleaning an end face of a substrate.

일본 특허공개공보 제2010-207687호에는, 기판의 양면으로부터 먼지를 제거하는 작업을 종래보다 단시간에 행할 수 있는 장치를 제공하는 내용이 기재되어 있다. 특허문헌 1의 장치는, 기판을 반송하는 반송수단과, 반송수단에 의해 반송되는 기판을 사이에 끼우도록 상하로 배치된 한 쌍의 회전 브러시 롤러이며, 기판의 반송방향과 교차하는 방향으로 각각 연장되는 한 쌍의 회전 브러시 롤러를 가진다. 반송수단은, 기판을 반송하기 위한 제 1 컨베이어이며, 한 쌍의 회전 브러시 롤러보다 상류측에 배치된 제 1 컨베이어와, 기판을 반송하기 위한 제 2 컨베이어이며, 한 쌍의 회전 브러시 롤러보다 하류측에 배치된 제 2 컨베이어를 구비한다. 제 1 컨베이어와 제 2 컨베이어는, 한 쌍의 회전 브러시 롤러가 기판에 접촉가능한 틈새를 두고 배치되어 있다.Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2010-207687 discloses a device for removing dust from both sides of a substrate in a shorter time than in the prior art. The apparatus of Patent Document 1 is a pair of rotary brush rollers arranged vertically so as to sandwich a substrate conveyed by the conveying means and conveying means for conveying the substrate and each of the pair of rotary brush rollers extends in the direction crossing the conveying direction of the substrate And a pair of rotating brush rollers. The conveying means is a first conveyor for conveying the substrate, which is a first conveyor disposed on the upstream side of the pair of rotary brush rollers, and a second conveyor for conveying the substrate. The conveyor is disposed downstream of the pair of rotary brush rollers And a second conveyor disposed on the second conveyor. The first conveyor and the second conveyor are disposed with a gap in which a pair of rotary brush rollers can contact the substrate.

일본 특허공개공보 제2010－207687호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-207687

인용문헌 1에 기재된 장치는, 기판의 표리면(表裏面)을 클리닝하기에 적합하나, 이에 더하여, 기판의 표리면에 대한 단면(端面)을 클리닝하는 장치가 요구되고 있다.The apparatus described in Reference 1 is suitable for cleaning the front and back surfaces of the substrate, but additionally, there is a demand for an apparatus for cleaning the end surface of the substrate against the front and back surfaces.

본 발명의 하나의 형태는, 전면(前面)에 기판의 단면이 통과하는 홈이 형성된 가이드부를 포함하는 가이드 유닛과, 가이드부의 후면(後面)에 의해 선단의 위치가 제어되는 브러시를 가지며, 홈은 가이드부를 관통하는 개구를 포함하고, 개구를 통해 브러시의 선단이 홈을 통과하는 기판의 단면에 접하는 클리닝 장치이다. 가이드부의 후면에 의해 선단의 위치가 제어되는 브러시에 의해, 홈에 형성된 개구를 통해, 홈을 통과하는 기판의 단면을 클리닝할 수 있다. 따라서, 홈을 따라 기판의 단면을 통과 및 지지시키면서, 브러시에 의해, 기판의 표면 또는 이면에 탑재된 회로나 회로 소자에 영향을 주기 어려운 상태에서, 기판의 단면으로부터 먼지 등의 불필요한 물질을 제거할 수 있다.One aspect of the present invention is a cleaning apparatus including a guide unit including a guide portion formed with a groove through which a cross section of a substrate is formed on a front surface and a brush whose tip is controlled in position by a rear surface of the guide portion, And a cleaning device including an opening penetrating through the guide portion and contacting the end face of the substrate through which the tip of the brush passes through the groove. The cross section of the substrate passing through the groove can be cleaned through the opening formed in the groove by the brush whose tip end position is controlled by the rear surface of the guide section. Therefore, unnecessary substances such as dust are removed from the end face of the substrate in a state in which it is difficult to affect circuitry and circuit elements mounted on the surface or the back surface of the substrate by the brush while passing and supporting the end face of the substrate along the groove .

가이드 유닛은, 브러시의 적어도 선단을 수납하는 오목부와, 오목부로부터 먼지를 흡인하는 흡인구(吸引口)를 포함하는 것이 바람직하다. 오목부에 의해 브러시로 제거된 먼지가 확산되는 것을 억제하고, 흡인구로부터 먼지를 회수 또는 제거할 수 있다.The guide unit preferably includes a concave portion for accommodating at least the tip of the brush and a suction port for sucking dust from the concave portion. The dust removed by the brush can be prevented from diffusing by the recess, and dust can be recovered or removed from the suction port.

가이드 유닛은, 오목부 내의 가이드부의 후면에 흡인구로 연결되는 홈을 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 브러시의 선단에 붙은 먼지 등을 이면의 홈을 통해 흡인구로부터 회수 또는 제거할 수 있다. 이 때문에, 기판에 먼지가 재부착되는 것을 억제할 수 있다.It is further preferable that the guide unit includes a groove connected to the suction port on the rear surface of the guide portion in the recess. Dust or the like adhered to the tip of the brush can be recovered or removed from the suction port through the groove on the back surface. Therefore, dust can be restrained from adhering to the substrate.

브러시는 회전하는 것이어도 좋고, 전후, 상하, 좌우로 이동하는 것이어도 좋다. 회전축은, 가이드부의 후면에 평행한 것이어도 좋다. 가이드부의 후면에 대해 수직인 회전축을 포함하는 브러시는, 가이드부의 홈을 통과하는 기판의 단면에 대해 상하 상이한 방향으로부터 접하므로 기판의 단면을 효율적으로 클리닝할 수 있다. 회전축이 가이드부의 후면 또는 전면에 대해 평행한 브러시는, 회전축의 위치를 제어함으로써 브러시의 선단 위치를 제어할 수 있다. 이에 반해, 회전축이 가이드부의 후면에 수직인 브러시는, 회전축의 위치를 제어하지 못하여, 브러시의 선단 위치를 제어하기 어렵다. 상기 장치에 있어서는, 브러시의 선단 위치를 가이드부의 후면에 접촉시키거나, 꽉 누르거나 함으로써 제어할 수 있다. 또한, 클리닝의 경과(經過)에 따라 브러시의 선단이 마모되는 경우라도, 브러시의 선단 위치를 가이드부의 후면을 기준으로 제어할 수 있다. 이 때문에, 가이드부의 홈을 통과하는 기판의 단면에 브러시의 선단을 안정적으로 접촉시킬 수 있어, 안정적인 클리닝 효과를 얻을 수 있다.The brush may be rotated or moved back and forth, up and down, left and right. The rotating shaft may be parallel to the rear surface of the guide portion. The brush including the rotation axis perpendicular to the rear surface of the guide portion contacts the top surface of the substrate passing through the groove of the guide portion in different directions so that the cross section of the substrate can be efficiently cleaned. The brush whose rotation axis is parallel to the rear face or the front face of the guide portion can control the position of the tip of the brush by controlling the position of the rotation axis. On the contrary, the brush whose rotation axis is perpendicular to the rear face of the guide portion can not control the position of the rotation axis, and it is difficult to control the tip position of the brush. In this apparatus, the tip end position of the brush can be controlled by being brought into contact with the rear surface of the guide portion or by pressing it tightly. In addition, even when the tip of the brush is worn away due to the progress of cleaning, the tip end position of the brush can be controlled based on the rear surface of the guide portion. Therefore, the tip of the brush can be stably brought into contact with the end face of the substrate passing through the groove of the guide portion, and a stable cleaning effect can be obtained.

가이드 유닛은, 가이드부의 기판의 단면이 통과하는 홈의 이면(후면)으로부터 회전축방향으로 돌출된 지지부를 포함하는 것이 바람직하다. 회전 브러시의 위치를 더욱 안정적으로 제어할 수 있다. 전형적인 회전 브러시는, 환형(丸型)의 회전 브러시이다.The guide unit preferably includes a support portion protruding in the direction of the rotation axis from the rear surface (rear surface) of the groove through which the end face of the substrate of the guide portion passes. The position of the rotary brush can be more stably controlled. A typical rotary brush is a circular rotary brush.

상기 클리닝 장치는, 브러시를 가이드부의 후면을 향해 가압하는 유닛과, 브러시의 선단을 가이드부의 후면으로부터 이격시킨 상태로 브러시의 위치를 고정시키는 유닛을 더 가지는 것이 바람직하다. 기판의 단면의 클리닝이 필요할 때에는, 브러시를 가이드부의 후면을 향해 가압함으로써 브러시의 선단 위치를 가이드부의 후면에 의해 제어할 수 있다. 또한, 기판의 단면의 클리닝이 불필요할 때에는, 고정시키는 유닛에 의해 브러시가 기판의 단면에 접촉하지 않는 상태로 퇴피(退避)시킬 수 있다.It is preferable that the cleaning apparatus further includes a unit for pressing the brush toward the rear surface of the guide portion and a unit for fixing the position of the brush in a state where the tip end of the brush is spaced from the rear surface of the guide portion. When cleaning of the end face of the substrate is required, the brush tip can be controlled by the rear face of the guide portion by pressing the brush toward the rear face of the guide portion. When the cleaning of the end face of the substrate is unnecessary, the brush can be retracted in a state in which the brush does not contact the end face of the substrate by the fixing unit.

상기 클리닝 장치는, 기판 클리닝 장치여도 좋고, 단면 클리닝 장치여도 좋다. 클리닝 장치는, 기판의 양(兩) 단면이 통과하는 위치에, 표면의 홈이 서로 마주보도록 배치된 복수의 가이드 유닛과, 복수의 가이드 유닛의 가이드부의 후면에 의해 선단의 위치가 제어되도록 배치된 복수의 브러시를 가지는 것이 바람직하다. 또한, 클리닝 장치는, 복수의 가이드 유닛의 가이드부 전면(前面)의 홈을 양단이 각각 통과하도록 기판을 반송하는 유닛을 가지는 것이 바람직하다. 기판을 반송하면서 양단을 동시에 클리닝할 수 있다.The cleaning apparatus may be a substrate cleaning apparatus or a single-sided cleaning apparatus. The cleaning apparatus includes a plurality of guide units arranged such that grooves of the surface face each other at a position where both end faces of the substrate pass, and a plurality of guide units arranged so that the position of the tip is controlled by the rear surface of the guide units of the plurality of guide units It is preferable to have a plurality of brushes. It is also preferable that the cleaning apparatus has a unit for transporting the substrate so that the both ends of the grooves on the front surface of the guide portion of the plurality of guide units pass through. Both ends can be simultaneously cleaned while the substrate is being conveyed.

도 1은, 기판 클리닝 장치의 개략적인 구성을 나타낸 도면이다.
도 2는, 단면 클리닝 장치의 가이드 블록 및 브러시 근방의 구성을 확대하여 나타낸 단면도로서, 도 2(a)는 도 1의 Ⅱa선에 따른 단면도이고, 도 2(b)는 도 1의 Ⅱb선에 따른 단면도이고, 도 2(c)는 브러시를 후방으로 퇴피시킨 모습을 나타낸 도 1의 Ⅱa선에 따른 단면도이다.
도 3은, 단면 클리닝 장치의 기판의 통로를 따른 구성을 나타낸 평면도이다.
도 4는, 가이드 블록의 하부 블록의 개략적인 구성을 나타낸 사시도이다.
도 5는, 하부 블록의 구성을 나타낸 도면으로서, 도 5(a)는 정면도이고, 도 5(b)는 수평방향의 단면도이고, 도 5(c)는 배면도이고, 도 5(d)는 측면도이고, 도 5(e)는 세로방향의 단면도이고, 도 5(f)는 중심으로부터 어긋난 위치에 있어서의 세로방향의 단면도이다.
도 6은, 가이드 유닛의 가이드부에 브러시를 세트하여 기판의 단면을 클리닝하는 모습을 나타낸 단면도로서, 도 6(a)는 가이드부의 오목부에 브러시를 세트하는 모습을 나타낸 도면이고, 도 6(b)는 오목부에 브러시의 선단을 세트한 모습을 나타낸 도면이고, 도 6(c)는 기판의 단면을 클리닝하고 있는 모습을 나타낸 도면이다.
도 7은, 브러시의 다른 예를 나타낸 도면으로서, 도 7(a)는 선단을 본체에 접착고정시킨 브러시를 나타낸 도면이고, 도 7(b)는 선단을 본체에 매립한 브러시를 나타낸 도면이다.1 is a diagram showing a schematic configuration of a substrate cleaning apparatus.
Fig. 2 is an enlarged cross-sectional view showing a guide block and a configuration in the vicinity of the brush of a section cleaning device, wherein Fig. 2A is a sectional view taken along a line IIa in Fig. 1, And Fig. 2 (c) is a cross-sectional view taken along the line IIa-1 of Fig. 1 showing the brush retracted backward.
3 is a plan view showing a configuration along the path of the substrate of the end face cleaning apparatus.
4 is a perspective view showing a schematic structure of a lower block of the guide block.
5 (a) is a front view, Fig. 5 (b) is a sectional view in the horizontal direction, Fig. 5 (c) is a rear view, Fig. 5 (e) is a sectional view in the vertical direction, and Fig. 5 (f) is a vertical sectional view at a position shifted from the center.
6 is a cross-sectional view showing a state in which a brush is set on a guide portion of a guide unit to clean an end face of the substrate. Fig. 6 (a) is a view showing a state in which a brush is set in a concave portion of the guide portion, Fig. 6 (b) is a view showing a state where the tip of the brush is set in the concave portion, and Fig. 6 (c) is a view showing a state in which the end face of the substrate is cleaned.
Fig. 7 is a view showing another example of a brush. Fig. 7 (a) is a view showing a brush in which the tip end is adhered and fixed to the main body, and Fig. 7 (b) is a view showing the brush with its tip end embedded in the main body.

도 1에는, 기판 클리닝 장치(10)의 개략적인 구성이 도시되어 있다. 상기 기판 클리닝 장치(10)는, 기판(5)을 반송하는 라인의 도중에 설치가능한 장치이며, 반송 중인 기판(프린트 배선판)(5)의 표리면과, 양 단면을 클리닝할 수 있다. 기판 클리닝 장치(10)는, 하우징(11)과, 하우징(11)의 내부에 배치된 단면(端面) 클리닝 장치(20)와, 양면(兩面) 클리닝 장치(30)를 포함한다. 기판(5)은, 하우징(11)의 입력 포트(12)로부터 단면 클리닝 장치(20), 양면 클리닝 장치(30)를 통과하여 출력 포트(13)로부터 배출된다. 양면 클리닝 장치(30)는, 기판(5)의 표면(2) 및 하면(이면(裏面))(3)을 각각 클리닝하기 위한 클리닝 롤러(31 및 32)와, 기판(5)을 반송하는 컨베이어(33)를 포함한다.Fig. 1 shows a schematic configuration of the substrate cleaning apparatus 10. As shown in Fig. The substrate cleaning apparatus 10 is an apparatus that can be installed in the middle of a line for transporting the substrate 5 and can clean both the top and bottom surfaces of the substrate (printed wiring board) 5 being transported. The substrate cleaning apparatus 10 includes a housing 11, an end surface cleaning device 20 disposed inside the housing 11, and a both-side cleaning device 30. [ The substrate 5 is discharged from the output port 13 through the input port 12 of the housing 11 through the end face cleaning device 20 and the both face cleaning device 30. [ The double-sided cleaning device 30 includes cleaning rollers 31 and 32 for cleaning the front surface 2 and the back surface 3 of the substrate 5 respectively and a conveyor 31 for conveying the substrate 5 (33).

단면 클리닝 장치(단면 클리너)(20)는, 기판(5)의 일방의 단면(5a) 근방을 지지하여 인도하는 가이드 블록(가이드 유닛)(21)과, 가이드 블록(21)에 단면(5a)이 따라 이동하도록 인도하는 컨베이어 유닛(40)을 포함한다. 가이드 블록(21)은, 전면(前面)(표면)(22)에, 기판(5)의 단면(5a)이 통과하는 홈(24)이 형성되어 있다. 단면 클리닝 장치(20)는, 가이드 블록(21)에 의해 선단(51)의 위치가 제어되는 브러시(50)를 더 가진다. 홈(24)은 가이드 블록(21)을 관통하여 형성된 개구(25)를 포함하며, 개구(25)를 통해 브러시(50)의 선단(51)이 홈(24)을 통과하는 기판(5)의 단면(5a)에 접하여, 단면(5a)을 클리닝한다.The end face cleaning apparatus 20 includes a guide block 21 for guiding and guiding the vicinity of one end face 5a of the substrate 5 and an end face 5a for guiding the guide block 21, And a conveyor unit (40) for guiding the conveyor unit (40) to move along. The guide block 21 is formed with a groove 24 through which the end face 5a of the substrate 5 passes. The end face cleaning apparatus 20 further has a brush 50 whose position is controlled by the guide block 21. The groove 24 includes an opening 25 formed through the guide block 21 and the tip 25 of the brush 50 through the opening 25 passes through the groove 24 of the substrate 5 The end face 5a is contacted, and the end face 5a is cleaned.

컨베이어 유닛(40)은, 홈(24)의 전후에서 기판(5)의 단부를 상하에서 끼워서 이동하는 롤러(41a 및 41b, 42a 및 42b)와, 이러한 롤러(41a∼42b)를 구동시키는 모터(44)와, 구동 벨트(45)를 포함한다. 모터(44)의 위치나 구동 벨트(45)의 배열(arrange)은 다양하게 할 수 있으며, 본 예에 한정되지 않는다. 가이드 블록(21)은, 하부의 롤러(41b 및 42b)와 홈(24)을 포함하는 하부 블록(21a)과, 상부의 롤러(41a 및 42a)를 지지하는 상부 블록(21b)을 포함한다.The conveyor unit 40 includes rollers 41a and 41b and 42a and 42b which move the ends of the substrate 5 on the front and rear sides of the groove 24 in the vertical direction and motors 44, and a drive belt 45. The position of the motor 44 and the arrangement of the drive belts 45 can be varied and are not limited to this example. The guide block 21 includes a lower block 21a including lower rollers 41b and 42b and a groove 24 and an upper block 21b for supporting upper rollers 41a and 42a.

단면 클리닝 장치(20)는, 브러시(50)에 의해 기판(5)으로부터 제거된 먼지를 가이드 블록(21)으로부터 흡인하여 제거하기 위한 펌프(진공 펌프)(61)와, 흡인 호스(62)를 더 포함한다.The end face cleaning apparatus 20 includes a pump (vacuum pump) 61 for sucking and removing the dust removed from the substrate 5 by the brush 50 from the guide block 21, a suction hose 62 .

도 2는, 단면 클리닝 장치(20)의 가이드 블록(21) 및 브러시(50) 근방의 구성을 확대하여 세로방향의 단면에 의해 나타낸 것이다. 도 3은, 단면 클리닝 장치(20)의 기판(5)의 통로를 따른 구성을 평면도에 의해 나타낸 것이다. 단면 클리닝 장치(20)는, 한 쌍의 가이드 블록(21)이, 반송로를 통과하는 기판(5)의 양 단면(5a 및 5b)을 클리닝하도록 대치(대면)하여 배치되며, 각각의 가이드 블록(21)에는 클리닝용 브러시(50)가 장착되어 있다. 단면 클리닝 장치(20)는, 이러한 가이드 블록(21) 및 브러시(50)를 지지하는 플레이트(65)와, 플레이트(65) 간의 거리를 조정할 수 있는 적당한 접속 기구(66)를 더 포함한다. 단면 클리닝 장치(20)의 좌우의 구성은 공통되므로, 구체적인 구성은, 주로 좌측에 나타낸 가이드 블록(21)을 중심으로 설명한다.Fig. 2 is an enlarged cross-sectional view in the longitudinal direction of the configuration of the vicinity of the guide block 21 and the brush 50 of the end face cleaning device 20. Fig. Fig. 3 is a plan view showing a configuration along the path of the substrate 5 of the end face cleaning apparatus 20. As shown in Fig. The end face cleaning device 20 is disposed such that the pair of guide blocks 21 are opposed to each other to clean both end faces 5a and 5b of the substrate 5 passing through the transport path, A cleaning brush 50 is mounted on the cleaning blade 21. The end face cleaning apparatus 20 further includes a plate 65 for supporting the guide block 21 and the brush 50 and a suitable connection mechanism 66 for adjusting the distance between the plate 65 and the plate 65. [ Since the left and right configurations of the end face cleaning device 20 are common, the specific configuration will be mainly described with reference to the guide block 21 shown on the left side.

단면 클리닝 장치(20)는, 플레이트(대반(臺盤))(65) 상에 배치된, 가이드 블록(21)과, 가이드 블록(21)에 장착되는 브러시(50)와, 브러시(50)를 회전시키는 모터(56)와, 모터(56) 및 브러시(50)를 지지하는 지지 플레이트(80)와, 지지 플레이트(80)를 통해 브러시(50)를 가이드 블록(21)의 방향으로 가압하는 스프링(가압 유닛)(82)과, 지지 플레이트(80)의 위치를 가이드 블록(21)으로부터 이격된 위치에서 고정시키는 퇴피 유닛(85)을 포함한다. 가압 유닛(82)은 스프링에 한정되지 않고, 다른 탄성적인 힘을 부여하는 기구나, 에어 실린더 등의 가압 기구여도 좋다.The end face cleaning apparatus 20 includes a guide block 21 disposed on a plate 65 and a brush 50 mounted on the guide block 21 and a brush 50 A support plate 80 for supporting the motor 56 and the brush 50 and a spring for pressing the brush 50 in the direction of the guide block 21 through the support plate 80, And a retraction unit 85 for fixing the position of the support plate 80 at a position spaced apart from the guide block 21. [ The pressurizing unit 82 is not limited to the spring, but may be a mechanism for imparting another elastic force or a pressurizing mechanism such as an air cylinder.

도 2(a) 및 (b)와 도 3에 나타낸 바와 같이, 롤러(41a 및 41b, 42a 및 42b)를 포함하는 기판 반송 유닛(컨베이어 유닛)(40)에 의해, 단면 클리닝 장치(20)에 있어서 기판(5)이 반송로(이동 경로, 이동로, 통로)(9)를 통해 반송되고, 반송된 기판(5)은 양 단면(5a 및 5b)이 양측의 가이드 블록(21)의 전면(22)에 설치된 홈(24)을 통과한다. 가이드 블록(21)에는 이면측으로부터 브러시(50)가 삽입되어, 홈(24) 방향으로 지지 플레이트(80)를 통해 스프링(82)에 의해 가압된 상태에서 중심축(회전축)(55)을 중심으로 회전한다. 홈(24)은 가이드 블록(21)의 전방의 벽을 관통하는 개구(25)를 포함하며, 개구(25)로부터 기판(5) 방향으로 돌출된 브러시(50)의 선단(51)이 회전하면서 양 단면(5a 및 5b)에 접촉하여, 기판(5)의 양 단면(5a 및 5b)을 클리닝한다.As shown in Figs. 2 (a) and 2 (b) and Fig. 3, by the substrate conveyance unit (conveyor unit) 40 including the rollers 41a and 41b, 42a and 42b, The substrate 5 is conveyed through a conveying path (moving path, moving path, passage) 9 and both the end faces 5a and 5b are conveyed to the front face 22 through the grooves 24 provided therein. The brush 50 is inserted into the guide block 21 from the back side so that the central axis (rotation axis) 55 is pressed against the center (rotation axis) 55 in the state of being pressed by the spring 82 through the support plate 80 in the direction of the groove 24 . The groove 24 includes an opening 25 penetrating the front wall of the guide block 21 and the tip 51 of the brush 50 protruding from the opening 25 toward the substrate 5 is rotated Contact both end faces 5a and 5b to clean both end faces 5a and 5b of the substrate 5. [

도 2(c)에 나타낸 바와 같이, 단면(5a 및 5b)의 클리닝이 불필요할 때에는, 퇴피 유닛(85)에 의해 지지 플레이트(80)를 통해 브러시(50)를 가이드 블록(21)의 후방으로 퇴피시킨다. 퇴피 유닛(85)은 지지 플레이트(80) 측에 설치된 핀(85a)과, 대반 플레이트(65) 측에 설치된 돌기(85b)를 포함하며, 핀(85a)을 대반 플레이트(65) 상의 가이드 블록(21)으로부터 이격된 위치의 돌기(85b)에 걺으로써 지지 플레이트(80)를 가이드 블록(21)으로부터 이격된 위치에 고정시킬 수 있다. 지지 플레이트(80)를 가이드 블록(21)으로부터 이격시킨 상태에서, 브러시(50)를 교환하거나, 기판(5)의 종류나 오염 등의 상태에 따라 브러시(50)의 종류를 교환하거나 할 수 있다.2C, when the cleaning of the end faces 5a and 5b is not required, the brush 50 is guided to the rear of the guide block 21 by the retraction unit 85 through the support plate 80 It is evacuated. The retraction unit 85 includes a pin 85a provided on the side of the support plate 80 and a projection 85b provided on the side of the transfer plate 65. The pin 85a is inserted into the guide block The support plate 80 can be fixed at a position spaced from the guide block 21 by being pulled by the projection 85b at a position spaced apart from the guide block 21. [ The brush 50 can be exchanged while the support plate 80 is separated from the guide block 21 or the type of the brush 50 can be changed in accordance with the state of the substrate 5 or the contamination .

도 4는, 가이드 블록(21)의 하부 블록(21a)을 뽑아내고 사시도에 의해 개략적인 구성을 나타낸 것이다. 도 5는, 하부 블록(21a)의 정면도(a), 수평방향의 단면도(b), 배면도(c), 측면도(d), 세로방향의 단면도(e), 및, 중심으로부터 어긋난 위치에 있어서의 세로방향의 단면도(f)를 나타낸 것이다.Fig. 4 shows a schematic structure of the lower block 21a of the guide block 21 extracted from the perspective view. 5 is a front view (a), a horizontal sectional view (b), a rear view (c), a side view (d) and a longitudinal sectional view (e) of the lower block 21a (F) of FIG.

하부 블록(21a)은, 전체적으로 凸자 형상인 블록이며, 전면(표면)(22)의 중앙 부분이 기판(5)의 통로(9)의 방향(전방)으로 돌출된 가이드부(27)로 되어 있다. 가이드부(27)는, 통로(9)를 사이에 끼우도록 돌출된 가이드 벽(29a 및 29b)을 포함한다. 하측의 가이드 벽(29a)의 상단(28a) 및 상측의 가이드 벽(29b)의 하단(28b)은 기판(5)이 통과하는 통로(9)를 사이에 두고 대칭인 형상이며, 상단(28a) 및 하단(28b)에 의해, 가이드부(27)의 전면(표면)(22a)에 기판(5)의 단부(단면)(5a)가 통과하는 홈(24)이 형성되어 있다. 홈(24)은, 양단(24b 및 24c)이 중심(24a)에 대해 상하방향으로 넓으며, 중심(24a)에는 통로(9)의 방향을 따라 연장된 평탄한 부분(24f)이 형성되어 있다.The lower block 21a is a block having a generally convex shape and a central portion of the front surface 22 is a guide portion 27 protruding in the direction of the passage 9 of the substrate 5 have. The guide portion 27 includes guide walls 29a and 29b protruded to sandwich the passage 9 therebetween. The upper end 28a of the lower guide wall 29a and the lower end 28b of the upper guide wall 29b are symmetrical with the passage 9 through which the substrate 5 passes, A groove 24 through which the end portion (end face) 5a of the substrate 5 passes is formed on the front surface (surface) 22a of the guide portion 27 by the lower end 28b. The groove 24 has both ends 24b and 24c extending vertically with respect to the center 24a and a flat portion 24f extending along the direction of the passage 9 at the center 24a.

홈(24)의 중심(24a)의 폭(높이)(h1)은, 2∼6mm 정도가 바람직하며, 2∼4mm 정도가 더욱 바람직하다. 또한, 중심부의 평탄한 부분(24f)의 길이는 10∼30mm 정도가 바람직하며, 15∼25mm 정도가 더욱 바람직하다. 또한, 양단(24b 및 24c)은, 중심부의 평탄한 부분(24f)으로부터의 열림각(θ)이 30∼80도인 것이 바람직하고, 40∼70도이면 더욱 바람직하다.The width (height) h1 of the center 24a of the groove 24 is preferably about 2 to 6 mm, more preferably about 2 to 4 mm. The length of the flat portion 24f at the center is preferably about 10 to 30 mm, more preferably about 15 to 25 mm. It is preferable that the both ends 24b and 24c have an opening angle? Of 30 to 80 degrees from the flat portion 24f of the central portion and more preferably 40 to 70 degrees.

상측의 가이드 벽(29b) 및 하측의 가이드 벽(29a)은, 홈(24)의 중앙 부분으로부터 가이드부(27)의 후면(이면, 배면)(23) 방향으로 돌출된 돌기(71)에 의해 접속되어 있다. 본 예의 가이드 벽(29a 및 29b)은, 하부 블록(21a)의 전면(22)이 돌출된 것으로서, 하부 블록(21a)과 일체로 되어 있다. 상측의 가이드 벽(29b) 및 하측의 가이드 벽(29a)이, 이면측으로 돌출된 돌기(71)에 의해 일체로 된 플레이트를 가이드부(27)의 유닛으로서 제공하여, 가이드 블록(21)에 부착시키는 것도 가능하다.The guide wall 29b on the upper side and the guide wall 29a on the lower side are supported by protrusions 71 protruding from the central portion of the groove 24 in the direction of the rear surface (back surface, back surface) 23 of the guide portion 27 Respectively. The guide walls 29a and 29b of the present embodiment are formed by projecting the front surface 22 of the lower block 21a and are integrated with the lower block 21a. The guide wall 29b on the upper side and the guide wall 29a on the lower side are provided as a unit of the guide portion 27 by a plate integrally formed with the projection 71 projecting to the back side, It is also possible to do.

하부 블록(21a)의 가이드부(27), 즉, 가이드 벽(29a 및 29b)의 이면측(후측)은 원통 형상의 오목부(70)로 되어 있으며, 오목부(70)에는, 클리닝용 브러시(50)가, 그 선단(51)이 오목부(70)의 바닥면, 즉, 가이드부(27)의 후면(23)에 접촉하도록 수납된다. 가이드 벽(29a 및 29b)에 의해 형성되는 홈(24)은, 가이드부(27)를 관통하여, 오목부(70)를 향해 형성된 개구(25)를 포함한다. 브러시(50)의 선단(51)은 개구(25)로부터 홈(24)의 내부로 돌출되어, 홈(24)을 통과하는 기판(5)의 단면(5a)에 접촉하여 클리닝한다. 가이드부(27)의 개구(25)는, 홈(24)의 중심의 돌기(71)를 제외하고, 원통 형상의 오목부(70)의 내부에서, 홈(24)과 동일한 형상이 되도록 형성되어 있다.The back side (rear side) of the guide portion 27 of the lower block 21a, that is, the guide walls 29a and 29b is a cylindrical recess 70. The recess 70 is provided with a cleaning brush The distal end 50 of the guide portion 27 is accommodated so that its tip end 51 is in contact with the bottom surface of the concave portion 70, that is, the rear surface 23 of the guide portion 27. The groove 24 formed by the guide walls 29a and 29b includes an opening 25 penetrating the guide portion 27 and formed toward the concave portion 70. The tip end 51 of the brush 50 protrudes from the opening 25 into the groove 24 and contacts the end face 5a of the substrate 5 passing through the groove 24 to perform cleaning. The opening 25 of the guide portion 27 is formed so as to have the same shape as the groove 24 in the cylindrical recessed portion 70 except for the projection 71 at the center of the groove 24 have.

구체적으로는, 하부 블록(21a)의 전면(22) 중, 가이드부(27)의 가이드 벽(29a 및 29b)의 전면(22a)이, 기판(5)이 통과하는 홈(24)의 상면이 된다. 한편, 하부 블록(21a)의 표면(22) 중 다른 부분의 표면(22b)이, 홈(24)의 하면(바닥면)에 대응하는 표면으로 되어 있다. 브러시(50)의 선단(51)이 접촉하여, 선단(51)의 위치를 제어하는 가이드 벽(29a 및 29b)의 후면(23)은, 홈(24)의 바닥면이 되는 전면(22b)보다 기판의 통로(9) 측에 위치하며, 브러시(50)의 선단(51)은, 홈(24)의 바닥면(22b)으로부터 통로(9) 측으로 돌출된다. 이 때문에, 브러시(50)의 선단(51)은, 가이드부(27)의 가이드 벽(29a 및 29b)의 후면(23)에 위치가 제어된 상태로 홈(24)을 통과하는 기판(5)의 단면(5a)에 접촉하여, 단면(5a)을 클리닝한다. 본 예에서는, 하부 블록(21a)의 다른 부분에 대해 가이드부(27)를 전면(前面)으로 돌출시켜 홈(24)을 형성하고 있으나, 홈(24)의 형상 및 형성 방법은 이에 한정되지 않는다. 하부 블록(21a)의 전면에 홈(24)을 형성해도 좋고, 하부 블록(21a)을 가이드부(27)만으로 형성해도 좋다.More specifically, the front surface 22a of the guide walls 29a and 29b of the guide portion 27 out of the front surface 22 of the lower block 21a faces the upper surface of the groove 24 through which the substrate 5 passes do. On the other hand, the surface 22b of the other part of the surface 22 of the lower block 21a is a surface corresponding to the lower surface (bottom surface) of the groove 24. The rear surface 23 of the guide walls 29a and 29b for controlling the position of the front end 51 is in contact with the front end 22b of the groove 24 which is the bottom surface of the groove 24 And the tip end 51 of the brush 50 protrudes from the bottom surface 22b of the groove 24 toward the passage 9 side. The tip end 51 of the brush 50 is pressed against the substrate 5 passing through the groove 24 in a state where the position is controlled by the rear surface 23 of the guide walls 29a and 29b of the guide portion 27, And the end face 5a is cleaned. In this embodiment, the groove 24 is formed by projecting the guide portion 27 to the front surface of the other portion of the lower block 21a, but the shape and the forming method of the groove 24 are not limited to this . The groove 24 may be formed on the front surface of the lower block 21a or the guide block 27 may be formed on the lower block 21a.

홈(24)의 폭(상면(22a)과 하면(22b) 간의 거리)(W1)은 1∼5mm 정도가 바람직하고, 2∼4mm 정도이면 더욱 바람직하다. 가이드 벽(29a 및 29b)의 이면(23)과 홈의 하면(22b) 간의 거리(W2)는 0.5∼2mm 정도가 바람직하고, 0.5∼1.5mm 정도이면 더욱 바람직하다.The width W1 of the groove 24 (the distance between the upper surface 22a and the lower surface 22b) is preferably about 1 to 5 mm, more preferably about 2 to 4 mm. The distance W2 between the rear surface 23 of the guide walls 29a and 29b and the bottom surface 22b of the groove is preferably about 0.5 to 2 mm and more preferably about 0.5 to 1.5 mm.

하부 블록(21a)은, 오목부(70)의 하면에 형성된 흡인구멍(73)을 더 포함한다. 흡인구멍(73)은, 흡인 호스(62)와 접속되며, 브러시(50)에 의해 오목부(70)로 들어온 먼지를 외부로 배출한다. 본 예에서, 흡인구멍(73)은, 오목부(70)의 후면(23) 측으로부터 하측으로 연장되어 있다. 브러시(50)는, 홈(24)으로 들어가는 기판(5)을 하측으로 누르는 방향으로 회전하여, 기판(5)의 선단이 홈(24)의 내부에서 덜컹거리는 것을 방지한다. 따라서, 브러시(50)에 의해 긁어내진 먼지는, 우선 하측으로 배출되어, 흡인구멍(73)을 통해 배출된다. 이 때문에, 기판(5)에 대한 먼지의 재부착을 억제할 수 있다.The lower block 21a further includes a suction hole 73 formed in the lower surface of the concave portion 70. The suction hole 73 is connected to the suction hose 62 and discharges the dust that has entered the recess 70 by the brush 50 to the outside. In this example, the suction hole 73 extends downward from the rear surface 23 side of the concave portion 70. The brush 50 rotates in the direction of pushing down the substrate 5 that enters the groove 24 and prevents the tip of the substrate 5 from rattling inside the groove 24. [ Accordingly, the dust scraped off by the brush 50 is first discharged to the lower side and discharged through the suction hole 73. Therefore, reattachment of dust to the substrate 5 can be suppressed.

하부 블록(21a)은, 원통 형상의 오목부(70)의 바닥면이 되는 가이드부(27)의 후면(이면)(23)에 반경방향으로 연장되며, 흡인구멍(73)에 연결되는, 깊이 0.5∼2mm 정도인 배출용 홈(74)을 더 포함한다. 브러시(50)의 선단(51)은, 가이드부(27)의 후면(23)에 접촉하면서 회전하며, 배출용 홈(74)에 도달하면 선단(51)이 배출용 홈(74) 내에서 자유로운 상태가 되어, 선단(51)에 붙은 먼지가 배출용 홈(74)으로 방출된다. 단면 클리닝용으로는 강도가 강한 브러시(50)가 사용되는 경우가 많기 때문에, 선단(51)이 후면(23)에 접촉한 상태로부터 배출용 홈(74)에서 자유로운 상태가 되면 먼지가 방출되기 쉽고, 나아가 배출용 홈(74)은 흡인되어 부압(負壓)이 되기 쉬우므로 방출된 먼지는 즉시 회수된다.The lower block 21a extends radially to the rear surface (back surface) 23 of the guide portion 27 which becomes the bottom surface of the cylindrical recessed portion 70 and has a depth And a discharge groove 74 of about 0.5 to 2 mm. The tip end 51 of the brush 50 rotates while contacting the rear surface 23 of the guide portion 27. When the tip end 51 reaches the ejection groove 74, So that dust adhering to the tip 51 is discharged into the discharge groove 74. [ The bristles 50 having high strength are often used for the surface cleaning. Therefore, when the tip end 51 comes into a free state in the discharge groove 74 from the state in which the tip end 51 is in contact with the rear surface 23, Further, the discharge groove 74 is sucked and is liable to become negative pressure, so that the discharged dust is immediately recovered.

하부 블록(21a)은, 원통 형상의 오목부(70)의 바닥면이 되는 후면(23)의 개구(25)의 상하를 따라 확대된 깊이(W3)가 0.5∼2mm 정도인 함몰부(75)를 더 포함한다. 브러시(50)의 선단(51)은, 가이드부(27)의 후면(23)에 접촉하면서 회전하며, 함몰부(75)에 이르면 선단(51)이 자유로운 상태가 되어, 가이드부(27)를 관통하는 개구(25)로부터 선단(51)이 기판(5) 측으로 돌출된다. 따라서, 브러시(50)의 선단(51)이, 기판(5)의 단면(5a)에 대해 거의 수직으로 돌출된(연장된) 상태로 접촉하게 되어, 기판(5)으로부터 먼지를 제거하기가 용이하다. 또한, 개구(25)의 전후에서 브러시(50)의 선단(51)이 가이드부(27)에 접촉하지 않거나, 또는 접촉하기 어려운 상태로 회전한다. 이 때문에, 브러시(50)의 선단(51)에 부착된 먼지가 재부착되기 어려우며, 브러시(50)로 긁어낸 먼지를 회수하기가 용이하다.The lower block 21a is provided with a depressed portion 75 having an enlarged depth W3 of about 0.5 to 2 mm along the upper and lower sides of the opening 25 of the rear surface 23 serving as the bottom surface of the cylindrical recessed portion 70, . The tip end 51 of the brush 50 rotates while contacting the rear surface 23 of the guide portion 27. When the tip end 51 of the brush 50 reaches the depression portion 75, The tip end 51 protrudes from the through-hole 25 to the substrate 5 side. Therefore, the tip end 51 of the brush 50 comes into contact with the end face 5a of the substrate 5 so as to protrude substantially perpendicularly (extended) to facilitate removal of dust from the substrate 5 Do. The tip end 51 of the brush 50 does not come into contact with the guide portion 27 or rotate in a state in which it is difficult to come into contact with the guide portion 27 before and after the opening 25. [ Therefore, the dust adhering to the front end 51 of the brush 50 is hard to reattach, and the dust scraped by the brush 50 is easily recovered.

하부 블록(21a)은, 하측의 롤러(41b 및 42b)를 지지하며, 하부 블록(21a)의 이면측으로부터 구동되는 샤프트(도시 생략)를 삽입하기 위한 관통구멍(79)를 더 포함한다.The lower block 21a further includes a through hole 79 for supporting the lower rollers 41b and 42b and for inserting a shaft (not shown) driven from the back side of the lower block 21a.

하부 블록(21a)의 원통 형상의 오목부(70)에 장착되는 브러시(50)는, 도 4에 나타낸 바와 같이 환형의 회전 브러시이며, 회전축(55)이 오목부(70)의 바닥면인 가이드부(27)의 후면(23)에 수직이 되도록 세트된다. 브러시(50)의 선단(51)은, 나일론, 아크릴 등 수지제의 무수히 많은 모(毛)로 구성되어 있으며, 한데 모여서 전체적으로 원통 형상을 이루고 있다. 선단(51)의 중심부분(52)은 공동(空洞)으로 되어 있으며, 오목부(70)의 바닥면(후면)(23)으로부터 후방으로 돌출된 돌기(71)에 중심부분(52)을 위치맞춤함으로써, 돌기(71)가 브러시(50)의 회전축(55) 방향으로 연장된 지지부가 된다. 이 때문에, 브러시(50)는 오목부(70)의 내부에 있어서, 보다 안정된 상태로 회전한다.The brush 50 attached to the cylindrical recessed portion 70 of the lower block 21a is an annular rotary brush as shown in Fig. 4, and the rotary shaft 55 is rotatably supported by a guide Is set to be perpendicular to the rear surface (23) of the part (27). The tip end 51 of the brush 50 is made up of a large number of bristles made of resin such as nylon and acrylic and is formed into a cylindrical shape as a whole. The center portion 52 of the tip 51 is hollow and the center portion 52 is positioned on the projection 71 projecting rearward from the bottom surface (rear surface) 23 of the recess 70 The protrusion 71 becomes a supporting portion extending in the direction of the rotational axis 55 of the brush 50. Therefore, the brush 50 rotates in a more stable state in the recessed portion 70.

본 예에서는, 돌기(71)가, 기판(5)이 통과하는 홈(24)의 중심부에 대응하는 위치에 설치되어 있고, 브러시(50)는, 기판(5)의 단부(5a)를 중심으로 하여 회전한다. 따라서, 홈(24)의 도입측 개구(25)와, 배출측 개구(25)에서 상하 반대방향으로 브러시(50)의 선단(51)이 기판(5)의 단부(5a)에 접촉하여, 상하 쌍방으로부터 기판(5)의 단부(5a)를 클리닝한다. 상술한 바와 같이, 기판(5)의 선단이 덜컹거리는 것을 억제하기 위해, 도입방향의 개구(25)에서는 기판(5)에 대해 브러시(50)의 선단(51)이 위에서 아래로 접촉하도록 브러시(50)를 회전시키는 것이 바람직하다. 이 때문에, 기판(5)의 배출측 개구(25)에 있어서는, 브러시(50)의 선단(51)은, 단부(5a)에 아래에서 위로 접촉하도록 회전한다. 브러시(50)의 회전축(55)은, 홈(24)의 중심으로부터 전후 및 상하로 시프트되어도 좋다.The protrusion 71 is provided at a position corresponding to the central portion of the groove 24 through which the substrate 5 passes and the brush 50 is arranged around the end 5a of the substrate 5 . The leading end 51 of the brush 50 is brought into contact with the end portion 5a of the substrate 5 in the upward and downward directions at the introduction side opening 25 and the discharge side opening 25 of the groove 24, The end portion 5a of the substrate 5 is cleaned from both sides. The tip end 51 of the brush 50 is in contact with the substrate 5 at the opening 25 in the introduction direction so as to prevent the tip of the substrate 5 from rattling as described above, 50 are preferably rotated. The distal end 51 of the brush 50 rotates so as to contact the end portion 5a from the bottom to the top at the discharge side opening 25 of the substrate 5. The rotary shaft 55 of the brush 50 may be shifted back and forth and up and down from the center of the groove 24.

도 6은, 가이드 유닛(21)의 가이드부(27)에 브러시(50)를 세트하여 기판(5)의 단면(5a)을 클리닝하는 모습을 확대하여 나타낸 것이다. 도 6(a)에 나타낸 바와 같이, 가이드부(27)의 전면(22a)에는 기판(5)의 단면(5a)이 통과하는 홈(24)이 형성되어 있고, 가이드부(27)의 후방에는 브러시(50)의 선단(51)을 수납하는 원통 형상의 오목부(70)가 형성되어 있다. 도 6(b)에 나타낸 바와 같이, 오목부(70)에 브러시(50)의 선단(51)을 세트하면, 선단(51)은, 가이드부(27)의 후벽(후면)(23)에 접촉하여, 선단(51)의 위치가 제어된 상태에서 선단(51)이 홈(24)으로 돌출된다. 도 6(c)에 나타낸 바와 같이, 브러시(50)가 회전하여, 홈(24)을 통과하는 기판(5)의 단면(5a)을 클리닝한다.6 is an enlarged view showing a state in which the brush 50 is set on the guide portion 27 of the guide unit 21 to clean the end face 5a of the substrate 5. [ 6A, a groove 24 through which the end face 5a of the substrate 5 passes is formed in the front surface 22a of the guide portion 27. On the rear side of the guide portion 27, A cylindrical recess 70 for accommodating the tip 51 of the brush 50 is formed. 6 (b), when the tip end 51 of the brush 50 is set in the concave portion 70, the tip end 51 is brought into contact with the rear wall (rear surface) 23 of the guide portion 27 The distal end 51 protrudes into the groove 24 in a state where the position of the distal end 51 is controlled. The brush 50 rotates to clean the end face 5a of the substrate 5 passing through the groove 24 as shown in Fig.

브러시(50)는 스프링(82)에 의해 후벽(23)을 향해 가압되어 있어, 클리닝함으로써 선단(51)이 마모되어 브러시(50)의 길이가 변화하더라도, 일정한 누름량이 유지된다. 이 때문에, 브러시(50)는, 마모된 선단(51)이 후벽(23)에 접촉하도록 위치가 제어되며, 항상 브러시(50)의 선단(51)은 소정의 길이만큼 홈(24)의 내부로 돌출된 상태로 회전하여, 기판(5)의 단면(5a)을 클리닝한다.The brush 50 is urged toward the rear wall 23 by the spring 82 so that even if the length of the brush 50 is changed by the wear of the tip 51 by the cleaning, The brush 50 is always positioned such that the tip 51 of the brush 50 is positioned inside the groove 24 by a predetermined length at all times so that the worn tip 51 is in contact with the rear wall 23, And the end face 5a of the substrate 5 is cleaned.

브러시(50)의 선단(51)은 가이드부(27)의 후벽(23)에 접촉하여 위치가 높은 정밀도로 제어된다. 이 때문에, 선단(51)이 홈(24)으로 돌출되는 양(길이)을 높은 정밀도로 제어가능하며, 또한, 기계적으로 선단(51)의 위치가 결정되므로, 브러시(50)의 선단(51)이 기판(5)에 접촉하는 길이 및 위치의 정밀도가 매우 높아 신뢰성이 높다. 이 때문에, 모(毛)가 뻣뻣한 브러시(50)를 이용하더라도, 기판(5)에 손상을 주거나, 기판(5) 상의 회로나 회로요소에 손상을 줄 가능성은 거의 없다. 또한, 뻣뻣한 브러시(50)를 사용함으로써, 선단(51)이 후벽(23)에 접촉함으로써 선단(51)의 위치가 제어되므로, 선단(51)의 위치 정밀도가 향상된다. 이 때문에, 상기 단면 클리닝 장치(20)에 있어서는, 먼지뿐만 아니라, 뻣뻣한 브러시(50)를 이용함으로써 기판 절단 등으로 인해 생긴 버(burr)의 제거에도 대응할 수 있다.The front end 51 of the brush 50 contacts the rear wall 23 of the guide portion 27 and the position is controlled with high accuracy. The tip end 51 of the brush 50 can be controlled with high accuracy and the position of the tip 51 can be mechanically determined. The accuracy of the length and position of contact with the substrate 5 is very high and reliability is high. Therefore, even if the hair brush 50 is used, there is little possibility of damaging the substrate 5 or damaging circuits or circuit elements on the substrate 5. Further, by using the stiff brush 50, since the position of the tip 51 is controlled by the contact of the tip 51 with the rear wall 23, the positional accuracy of the tip 51 is improved. Therefore, in the end face cleaning apparatus 20, not only the dust but also the stiff brush 50 can be used to remove the burr caused by cutting the substrate or the like.

또한, 오목부(70)에는 후면(23)의 중앙, 즉, 홈(24)로부터 후방으로 돌출된 돌기(71)가 설치되어 있으며, 환형브러시(50)의 중앙 부분(중심 부분)(52)이 함몰되어, 돌기(71)가 삽입되도록 되어 있다. 따라서, 브러시(50)의 선단(51)은, 중앙 부분(52)이 돌기(71)에 가이드되면서 회전한다. 이 때문에, 브러시(50)는, 회전축(55)을 중심으로 하여, 선단(51)도 포함하여 안정적으로 회전한다. 따라서, 기판(5)에 손상이 발생할 가능성을 한층 더 저감시킬 수 있다.The concave portion 70 is provided with a projection 71 protruding rearward from the center of the rear surface 23, that is, the groove 24, and a central portion (central portion) 52 of the annular brush 50 So that the projection 71 is inserted. The distal end 51 of the brush 50 rotates while the center portion 52 is guided by the protrusion 71. Therefore, Therefore, the brush 50 stably rotates about the rotary shaft 55, including the tip end 51 thereof. Therefore, the possibility of damaging the substrate 5 can be further reduced.

또한, 후면(23)의 개구(25)의 상하에는 W3의 깊이를 가지는 함몰부(75)가 형성되어 있어, 선단(모의 끝)(51)이 자유로운 상태가 되며, 기립된 상태로 기판(5)의 단면(5a)에 접촉한다. 따라서, 선단(51)으로 단면(5a)을 쓸듯이 클리닝할 수 있어, 먼지의 제거 효율을 향상시킬 수 있다. 함몰부(75)의 깊이(W3)는, 홈(24)으로 선단(51)이 돌출되는 길이(W2)와 동등한 것이 바람직하다.A concave portion 75 having a depth of W3 is formed on the upper and lower sides of the opening 25 of the rear surface 23 so that the front end (simulated end) 51 is free, Of the end face 5a. Therefore, it is possible to clean the end surface 5a by sweeping the tip end 51, thereby improving the dust removing efficiency. The depth W3 of the depressed portion 75 is preferably equal to the length W2 at which the tip end 51 protrudes into the groove 24. [

브러시(50)의 선단(51)을 수납하는 오목부(70)에는, 흡인 홈(배출용 홈)(74) 및 흡인 홈(74)에 연결된 흡인구멍(73)이 형성되어 있다. 따라서, 브러시(50)에 의해 긁어내진 먼지는, 이러한 흡인 기구에 의해 오목부(70)로부터 배출되어, 기판(5)으로의 재부착을 억제할 수 있다. 또한, 먼지가 기판(5)의 표면(2) 또는 이면(3)에 재부착되더라도, 단면 클리닝 장치(20)의 하류에 배치된 양면 클리닝 장치(30)에 의해 제거할 수 있다. 따라서, 단면 클리닝 장치(20)는, 양면 클리닝 장치(30)의 상류에 배치하는 것이 바람직하다.The suction hole (discharge groove) 74 and the suction hole 73 connected to the suction groove 74 are formed in the recess 70 that receives the tip 51 of the brush 50. Therefore, the dust scraped off by the brush 50 can be discharged from the concave portion 70 by the suction mechanism and restrained from reattaching to the substrate 5. Even if the dust is reattached to the front surface 2 or back surface 3 of the substrate 5, it can be removed by the double-sided cleaning device 30 disposed downstream of the surface cleaning device 20. [ Therefore, it is preferable that the end face cleaning device 20 is disposed upstream of the two-side cleaning device 30. [

도 7은, 단면 클리닝 장치(20)에 장착 가능한 브러시(50)의 다른 몇 가지의 예를 나타낸 것이다. 브러시(50)는, 도 7(a)에 나타낸 바와 같이 선단(모(毛) 부분)(51)을 본체(53)에 접착하여 고정시킨 것이어도 좋고, 도 7(b)에 나타낸 바와 같이 선단(51)을 본체(53)에 매립한 것이어도 좋다. 선단(51)의 재질은, 와이어 브러시와 같이 강도가 높은 단단한 것이어도 좋고, 솔(刷毛), 천 등의 부드러운 것이어도 좋다. 브러시(50)의 교환은, 도 2(c)에 나타낸 바와 같이, 브러시(50)를 퇴피시킨 상태에서 간단히 행할 수 있다. 또한, 강도 혹은 경도가 상이한 브러시를 구비한 단면 클리닝 장치(20)를 기판(5)의 반송방향으로 차례로 나열하여 기판의 단면을 클리닝해도 좋다.7 shows another example of the brush 50 that can be attached to the end face cleaning apparatus 20. As shown in Fig. 7 (a), the bristles 50 may be fixed to the main body 53 by adhering the tips (hair portions) 51 to the main body 53. As shown in Fig. 7 (b) (51) may be embedded in the main body (53). The tip 51 may be made of a material having a high strength such as a wire brush or a soft brush such as a brush or a cloth. The replacement of the brush 50 can be simply performed with the brush 50 retracted as shown in Fig. 2 (c). The end face of the substrate may be cleaned by sequentially laminating the end face cleaning devices 20 provided with the brushes having different strength or hardness in the carrying direction of the substrate 5.

이상, 설명한 바와 같이, 상기 기판 클리닝 장치(10)는, 반송 중인 기판(5)의 양면을 클리닝하는 양면 클리닝 장치(30)의 상류에 단면 클리닝 장치(20)를 포함한다. 따라서, 기판(5)을 반송시키면서, 기판(5)의 양면뿐만 아니라, 양 단면(사이드면)(5a 및 5b)의 먼지까지 제거할 수 있다.As described above, the substrate cleaning apparatus 10 includes the end face cleaning device 20 upstream of the double-side cleaning device 30 for cleaning both sides of the substrate 5 being transported. Therefore, not only the both surfaces of the substrate 5 but also the dust on both end surfaces (side surfaces) 5a and 5b can be removed while the substrate 5 is being transported.

참고로, 상기에서는, 기판 클리닝 장치(10)에 내장된 단면 클리닝 장치(20)를 예로 들어 설명하였으나, 단면 클리닝 장치(20)는, 가이드 블록(21)을 중심으로, 복수의 롤러를 포함하는 반송 유닛, 브러시(50) 등이 유닛화되어 있어, 기판을 반송하는 컨베이어 등의 기존의 설비에 추가 부착하는 것도 용이하다.The end face cleaning apparatus 20 includes a plurality of rollers 20 including a plurality of rollers 21 around the guide block 21, The transfer unit, the brush 50, and the like are formed as a unit, so that it is easy to attach the transfer unit and the brush 50 to an existing facility such as a conveyor for transferring the substrate.

Claims

A guide unit including a guide portion formed with a groove through which a cross section of the substrate passes,
And a brush whose distal end position is controlled by the rear surface of the guide portion,
Wherein the groove includes an opening penetrating through the guide portion and the tip of the brush contacts the end face of the substrate passing through the groove through the opening.

The method according to claim 1,
Wherein the guide unit comprises a concave portion for accommodating at least the tip of the brush,
And a suction port for sucking dust from the concave portion.

3. The method of claim 2,
Wherein the guide unit includes a groove connected to the suction port on a rear surface of the guide portion in the recess.

The method according to claim 1,
Wherein the brush includes a rotation axis that is perpendicular to a rear surface of the guide portion.

5. The method of claim 4,
Wherein the guide unit includes a support portion protruding in the direction of the rotation axis from the groove through which the end face of the substrate of the guide portion passes.

5. The method of claim 4,
Wherein the brush is an annular rotating brush.

The method according to claim 1,
A unit for pressing the brush toward the rear surface of the guide portion,
And a unit for fixing the position of the brush in a state where the tip end of the brush is spaced from the rear surface of the guide portion.

8. The method according to any one of claims 1 to 7,
A plurality of said guide units arranged such that grooves of said front face are opposed to each other at a position where both end faces of said substrate pass through said plurality of guide units; A cleaning device having a brush.

9. The method of claim 8,
And a unit for transporting the substrate such that both ends of the grooves of the front surface of the guide portion of the plurality of guide units pass through.