KR20150030619A - 클러스터 질량 유량 디바이스들 및 이를 포함한 다중-라인 질량 유량 디바이스들 - Google Patents

클러스터 질량 유량 디바이스들 및 이를 포함한 다중-라인 질량 유량 디바이스들 Download PDF

Info

Publication number
KR20150030619A
KR20150030619A KR20140118908A KR20140118908A KR20150030619A KR 20150030619 A KR20150030619 A KR 20150030619A KR 20140118908 A KR20140118908 A KR 20140118908A KR 20140118908 A KR20140118908 A KR 20140118908A KR 20150030619 A KR20150030619 A KR 20150030619A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
flow
mounting block
inlet
manifold
Prior art date
Application number
KR20140118908A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102328315B1 (ko
Inventor
마크 타스카
이크발 샤리프
Original Assignee
램 리써치 코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 램 리써치 코포레이션 filed Critical 램 리써치 코포레이션
Publication of KR20150030619A publication Critical patent/KR20150030619A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102328315B1 publication Critical patent/KR102328315B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00—Control of flow
    • G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
    • G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
    • F16K27/003—Housing formed from a plurality of the same valve elements
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00—Control of flow
    • G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
    • G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
    • G05D7/0652—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged in parallel
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/2496—Self-proportioning or correlating systems
    • Y10T137/2499—Mixture condition maintaining or sensing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Valve Housings (AREA)
  • Flow Control (AREA)

Abstract

2 개 이상의 유체의 프로세스 챔버 내로의 제어된 전달을 위해서 구성된 다중-라인 질량 유량 디바이스가 제공된다. 다중-라인 질량 유량 디바이스는 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드 및 다중-유입구 매니폴드를 포함한다. 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드는 제어기, 가스 매니폴드 장착 블록, 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들을 포함한다. 다중-유입구 매니폴드는 다중-유입구 장착 블록 및 상기 다중-유입구 장착 블록 상에 장착된 2 개 이상의 격리 밸브들 (isolation valves) 을 포함한다.

Description

클러스터 질량 유량 디바이스들 및 이를 포함한 다중-라인 질량 유량 디바이스들{CLUSTER MASS FLOW DEVICES AND MULTI-LINE MASS FLOW DEVICES INCORPORATING THE SAME}
본 개시는 질량 유량 디바이스들에 관한 것이며, 특히 2 개 이상의 유체들의 프로세서 챔버 내로의 제어된 전달을 위해서 구성될 수 있는 질량 유량 디바이스들에 관한 것이다.
에칭 또는 박막 프로세스들에서, 몇 개의 위험하고/하거나 위험하지 않은 가스들이 사용될 수도 있다. 이러한 가스들을 프로세싱 챔버에 전달할 시에 신중이 기해져야 한다. 예를 들어서, 가스 패널은 가스 또는 가스들의 혼합물을 반응 챔버 내로 제공하는데 사용될 수도 있다. 때로, 가스 패널은 가스들을 혼합, 사전-혼합, 퍼지, 샘플링 및 벤팅 (venting) 하는데 사용되며, 다수의 유입 가스 라인들을 포함할 수도 있으며, 각 유입 가스 라인은 밸브들, 조정기들, 압력 트랜스듀서들, 질량 유량 제어기들 및 다른 컴포넌트들로 구성된 가스 스틱들 (gas sticks) 에 의해서 제어된다. 관여하는 복수의 가스 라인들 및 각 가스 라인에 대한 플로우를 제어하는데 사용되는 복수의 컴포넌트들로 인해서, 가스 라인들은 통상적으로 서로 멀리 이격된다. 본 발명자들은 이는, 프로세싱 챔버로 전달될 상이한 가스들 간을 스위칭할 때에, 양립성 문제들을 초래할 수 있음을 인지하였다. 또한, 각 가스 라인 간의 거리도 역시, 특히 보다 가까운 가스 라인들로부터의 가스들이 보다 멀리 떨어진 가스 라인들로부터의 가스들보다는 먼저 가스 패널 내에서 혼합 지점에 도달하는 경우에, 상이한 가스 라인들로부터의 가스들을 서로 신속하게 혼합할 시에 정확도에 영향을 줄 수 있다. 따라서, 2 개 이상의 가스들을 프로세스 챔버 내로 전달하기 위한 개선된 디바이스를 제공하는 것이 바람직할 수도 있다.
몇몇 실시예들에서, 제어기, 가스 매니폴드, 2 개 이상의 제어 밸브들 및 2 개 이상의 플로우 센서들을 포함하는 클러스터 질량 유량 디바이스 (cluster mass flow device) 가 제공된다. 제어기는 각 제어 밸브에 그리고 각 플로우 센서에 전기적으로 커플링 (coupled) 된다. 가스 매니폴드는 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들, 가스 혼합 영역 및 가스 유출구를 포함한다. 가스 매니폴드의 각 가스 분배 플로우 경로는 가스를 수용하도록 구성된 가스 유입구, 및 가스 유입구에 커플링된 가스 플로우 채널을 포함한다. 가스 매니폴드의 가스 혼합 영역은 각 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링된다. 가스 매니폴드의 가스 유출구는 가스 혼합 영역에 유체적으로 커플링된다. 각 플로우 센서 및 각 제어 밸브는 가스 분배 플로우 경로의 대응하는 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링되며, 각 플로우 센서는 제어 밸브와 가스 혼합 영역 간에서, 그리고 제어 밸브의 다운스트림에 (downstream) 위치한다. 제어기는, 목표된 가스 플로우가 생성되도록, 각 제어 밸브의 위치를 제어하기 위해서 각 제어 밸브에 제어 신호를 제공하도록 프로그래밍된다. 제어기는, 각 가스 플로우 채널을 통해서 플로우하는 가스의 플로우 레이트를 표시하는 측정된 가스 플로우 신호들을 각 플로우 센서로부터 자동적으로 수신하여 프로세싱하고, 가스 유출구로부터 유출될 2 개 이상의 가스들에 대해서 가스 플로우의 목표된 질량 (desired mass) 을 유지하기 위해서 측정된 가스 플로우 신호들에 기초하여서 가스 플로우를 조정하도록 각 제어 밸브의 위치를 조절하기 위한 가스 플로우 레시피 (recipe) 프로그램을 사용하도록 더 프로그래밍된다.
다른 실시예들에서, 제어기, 가스 매니폴드 장착 블록, 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들을 포함하는 클러스터 질량 유량 디바이스가 제공된다. 가스 매니폴드 장착 블록의 외측부는 유입 단부, 유출 단부, 및 유입 단부와 유출 단부 간에 연장된 제 1 장착 표면부를 포함한다. 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부는 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들, 가스 혼합 영역 및 가스 매니폴드 장착 블록의 유출 단부 내에서 구획된 가스 유출구를 포함한다. 각 가스 분배 플로우 경로는 가스 유입구, 및 가스 유입구에 커플링된 가스 플로우 채널을 포함한다. 각 가스 유입구는 가스 매니폴드 장착 블록의 유입 단부 내에 구획되며 가스를 수용하도록 구성된다. 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 가스 혼합 영역은 각 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링된다. 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 가스 유출구는 가스 혼합 영역에 유체적으로 커플링된다. 각 가스 플로우 제어 스테이션은 플로우 센서 및 제어 밸브를 포함한다. 각 가스 플로우 제어 스테이션은 가스 매니폴드 장착 블록의 제 1 장착 표면부 상으로 장착되고, 플로우 센서 및 제어 밸브가 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 가스 플로우 채널과 유체적으로 연통하도록 제 1 장착 표면부 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들 (apertures) 을 통해서 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 대응하는 가스 분배 플로우 경로에 커플링된다. 제어기는 가스 매니폴드 장착 블록의 제 1 장착 표면부 상으로 장착되며 각 가스 플로우 제어 스테이션에 전기적으로 커플링된다. 제어기는, 목표된 가스 플로우가 생성되도록, 각 제어 밸브의 위치를 제어하기 위해서 각 제어 밸브에 제어 신호를 제공하도록 프로그래밍된다. 제어기는, 각 가스 플로우 채널을 통해서 플로우하는 가스의 플로우 레이트를 표시하는 측정된 가스 플로우 신호들을 각 플로우 센서로부터 자동적으로 수신하여 프로세싱하고, 가스 유출구로부터 유출될 2 개 이상의 가스들에 대해서 가스 플로우의 목표된 질량을 유지하기 위해서 측정된 가스 플로우 신호들에 기초하여서 가스 플로우를 조정하도록 각 제어 밸브의 위치를 조절하기 위한 가스 플로우 레시피 프로그램을 사용하도록 더 프로그래밍된다.
다른 실시예들에서, 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드 및 다중-유입구 매니폴드를 포함하는 다중-라인 질량 유량 디바이스 (multi-line mass flow device) 가 제공된다. 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드는 제어기, 가스 매니폴드 장착 블록, 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들을 포함한다. 가스 매니폴드 장착 블록의 외측부는 유입 단부, 유출 단부, 및 유입 단부와 유출 단부 간에 연장된 제 1 장착 표면부를 포함한다. 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부는 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들, 가스 혼합 영역 및 가스 매니폴드 장착 블록의 유출 단부 내에서 구획된 가스 유출구를 포함한다. 각 가스 분배 플로우 경로는 가스 유입구, 및 가스 유입구에 커플링된 가스 플로우 채널을 포함한다. 각 가스 유입구는 가스 매니폴드 장착 블록의 유입 단부 내에 구획되며 가스를 수용하도록 구성된다. 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 가스 혼합 영역은 각 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링된다. 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 가스 유출구는 가스 혼합 영역에 유체적으로 커플링된다. 각 가스 플로우 제어 스테이션은 플로우 센서 및 제어 밸브를 포함한다. 각 가스 플로우 제어 스테이션은 가스 매니폴드 장착 블록의 제 1 장착 표면부 상으로 장착되고, 플로우 센서 및 제어 밸브가 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 가스 플로우 채널과 유체적으로 연통하도록 제 1 장착 표면부 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들 (apertures) 을 통해서 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 대응하는 가스 분배 플로우 경로에 커플링된다. 제어기는 가스 매니폴드 장착 블록의 제 1 장착 표면부 상으로 장착되며 각 가스 플로우 제어 스테이션에 전기적으로 커플링된다. 제어기는, 목표된 가스 플로우가 생성되도록, 각 제어 밸브의 위치를 제어하기 위해서 각 제어 밸브에 제어 신호를 제공하도록 프로그래밍된다. 제어기는, 각 가스 플로우 채널을 통해서 플로우하는 가스의 플로우 레이트를 표시하는 측정된 가스 플로우 신호들을 각 플로우 센서로부터 자동적으로 수신하여 프로세싱하고, 가스 유출구로부터 유출될 2 개 이상의 가스들에 대해서 가스 플로우의 목표된 질량을 유지하기 위해서 측정된 가스 플로우 신호들에 기초하여서 가스 플로우를 조정하도록 각 제어 밸브의 위치를 조절하기 위한 가스 플로우 레시피 프로그램을 사용하도록 더 프로그래밍된다. 다중-유입구 매니폴드는 다중-유입구 장착 블록 및 다중-유입구 장착 블록 상에 장착된 2 개 이상의 격리 밸브들 (isolation valves) 을 포함한다. 다중-유입구 장착 블록의 내측부는 2 개 이상의 다중-라인 유입구들, 2 개 이상의 다중-라인 통로들 (passageways) 및 2 개 이상의 다중-라인 유출구들을 포함한다. 다중-유입구 장착 블록의 2 개 이상의 다중-라인 통로들은 2 개 이상의 다중-라인 유입구들 및 2 개 이상의 다중-라인 유출구들에 유체적으로 커플링된다. 다중-유입구 장착 블록의 2 개 이상의 다중-라인 유출구들은 가스 매니폴드 장착 블록의 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들에 유체적으로 커플링된다. 각 격리 밸브는 대응하는 다중-라인 경로에 유체적으로 커플링된다.
실시예들의 추가 특징들 및 장점들은 다음의 상세한 설명에서 제시될 것이며, 부분적으로 이러한 설명으로부터 본 기술 분야의 당업자에게 용이하게 명백해질 것이며, 다음의 상세한 설명, 청구항들 및 첨부된 도면들을 포함하여, 본 명세서에서 기술된 실시예들을 실시함으로써 인지될 것이다.
전술한 대략적인 설명 및 다음의 상세한 설명은 다양한 실시예들을 기술하며 청구된 청구 대상의 특성 및 성질을 이해시키기 위해서 개요 또는 기본뼈대를 제공하도록 의도됨이 이해되어야 한다. 첨부 도면들은 다양한 실시예들의 추가 이해를 제공하도록 포함되며, 본 명세서의 일부로서 포함되고 이의 일부를 구성한다. 도면들은 본 명세서에서 기술되는 다양한 실시예들을 예시하며, 이 설명과 함께 청구된 청구 대상의 원칙 및 동작을 설명하는 역할을 한다.
도 1a는 본 명세서에서 도시되거나 기술된 하나 이상의 실시예들에 따른 클러스터 질량 유량 디바이스 (cluster mass flow device) 의 상단 사시도를 그래픽적으로 도시한다.
도 1b는 도 1a의 클러스터 질량 유량 디바이스의 하단 사시도를 그래픽적으로 도시한다.
도 2는 본 명세서에서 도시되거나 기술된 하나 이상의 실시예들에 따른 다중-라인 질량 유량 디바이스 (multi-line mass flow device) 의 상단 사시도이다.
도 3은 본 명세서에서 도시되거나 기술된 하나 이상의 실시예들에 따른 다중-라인 질량 유량 디바이스의 가스 플로우 개략도이다.
도 4a는 본 명세서에서 도시되거나 기술된 하나 이상의 실시예들에 따른 다중-라인 질량 유량 디바이스의 사시도를 그래픽적으로 도시한다.
도 4b는 도 4a의 클러스터 질량 유량 디바이스의 측면도를 그래픽적으로 도시한다.
도 5는 본 명세서에서 도시되거나 기술된 하나 이상의 실시예들에 따른 디버터 (diverter) 및 다중-유입구 메니폴드의 가스 플로우 개략도이다.
이제 클러스터 질량 유량 디바이스들의 실시예들이 상세하게 참조될 것이며, 이 디바이스들의 실례들은 첨부 도면들에서 예시된다. 가능한 경우마다, 동일한 참조 부호들은 도면들에 걸쳐서 동일하거나 유사한 부분들을 지칭하는데 사용될 것이다. 2 개의 이상의 유체들을 프로세스 챔버로 전달하는 것을 제어하는 질량 유량 디바이스들이 본 명세서에서 기술된다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 용어 "유체"는 과학분야에서 이 용어의 통상적인 사용에 따라서, 가스, 액체 또는 이들의 조합을 지칭하며, 본 명세서에서 이와 달리 한정되지 않는 이상 이러한 모든 물질들을 지칭한다.
도 1a를 참조하면, 가스 매니폴드 또는 가스 매니폴드 장착 블록 (105), 2 개 이상의 제어 밸브들 (110) 및 2 개 이상의 플로우 센서들 (115) 을 포함하는 클러스터 질량 유량 디바이스 (100) 의 상단 사시도가 도시된다. 또한, 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들 (117) 이 도시되며, 각 가스 플로우 제어 스테이션 (117) 은 제어 밸브 (110) 및 플로우 센서 (115) 로 구성된다. 내측에 제어기 (미도시) 를 포함하는 제어기 인클로저 (120) 가 도시된다. 용어들 "가스 매니폴드", "가스 매니폴드 장착 블록" 또는 "가스 매니폴드 블록"은 본 명세서에서 상호교환가능하게 사용된다.
클러스터 질량 유량 디바이스 (100) 의 하단 사시도를 도시하는 도 1b를 참조하면, 가스 매니폴드 장착 블록 (105) 은 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들, 가스 혼합 영역 (130) 및 가스 유출구 (135) 를 포함한다. 가스 매니폴드 (105) 의 각 가스 분배 플로우 경로는 가스를 수용하도록 구성된 가스 유입구 (140) 및 가스 유입구 (140) 에 커플링된 (coupled) 가스 플로우 채널 (125) 을 포함한다. 가스 매니폴드 (105) 의 가스 혼합 영역 (130) 은 각 가스 플로우 채널 (125) 에 유체적으로 커플링된다. 각 가스 플로우 채널 (125) 은 가스 혼합 영역 (130) 내로 수렴할 수도 있다. 가스 매니폴드 (105) 의 가스 유출구 (135) 는 가스 혼합 영역 (130) 에 유체적으로 커플링된다. 가스 혼합 영역 (130) 과 가스 유출구 (135) 간의 플로우 채널은 가스들의 혼합을 가능하게 할 수 있다. 본 명세서에서의 실시예들에서, 가스 매니폴드 (105) 는 제 2 가스 혼합 영역을 포함한다. 제 2 가스 혼합 영역은 유입 가스들의 일부가, 나머지 유입 가스들과 결합되기 이전에 혼합되게 할 수 있다. 본 명세서에서의 다른 실시예들에서, 가스 매니폴드 (105) 는 가스 혼합들의 2 개 이상의 개별 플로우 스트림들을 제공하도록 구성될 수도 있다. 가스 혼합 영역 (130) 은 일부 가스 플로우 채널들 (125) 에 유체적으로 커플링될 수 있는 한편, 가스 매니폴드 (105) 의 제 2 가스 혼합 영역은 나머지 가스 플로우 채널들 (125) 에 유체적으로 커플링될 수 있다. 가스 매니폴드 (105) 의 제 2 가스 유출구는 제 2 가스 혼합 영역에 유체적으로 커플링될 수 있다. 또한, 가스 매니폴드 (105) 는 실제로 임의의 목표된 x 개의 (예를 들어서, 12 개) 의 유입 가스 스트림들 및 임의의 목표된 y 개의 (예를 들어서, 5 개) 의 상이한 유출 가스 스트림들을 제공하도록 구성될 수도 있다.
유입 가스들이 그를 통해서 플로우할 수 있는 각 가스 유입구 (140) 는 가스 소스 (미도시) 에 유체적으로 커플링된다. 가스 소스는 단일 가스 소스일 수도 있거나 가스 혼합 소스일 수도 있다. 본 명세서에서의 몇몇 실시예들에서, 유입 가스들 또는 유입 가스들의 하위세트는 전혀 결합되지 않을 수 있으며 혼합 없이 프로세싱 챔버로 향할 수도 있다. 본 명세서에서의 다른 실시예들에서, 유입 가스들 또는 유입 가스들의 하위세트는 결합되어서 하나 이상의 가스 혼합물들을 형성하고 이 혼합물들이 프로세싱 챔버로 향할 수도 있다.
본 명세서에서의 실시예들에서, 가스 매니폴드 (105) 는 가스 스트림들을 다루는데 적합한 고체 재료들로부터 형성된 홈형성된 블록 (grooved block) 일 수도 있다. 적합한 고체 재료들의 실례는 예를 들어서, 내부식성 스테인레스 스틸, 페라이트, 알루미늄, 알루미늄 합금, 유리 세라믹, 실리카, 수정, PTFE, 또는 폴리카보네이트 또는 이들의 조합을 포함할 수도 있다. 가스 매니폴드 (105) 는 외측부 및 내측부를 갖는다. 가스 매니폴드 (105) 의 외측부는 유입 단부 (145), 유입 단부 (145) 의 반대편 측을 따라서 연장되는 유출 단부 (150), 유입 단부 (145) 와 유출 단부 (150) 간에서 연장되는 제 1 장착 표면부 (155) 및 유입 단부 (145) 와 유출 단부 (150) 간에서 연장되는 제 2 장착 표면부 (160) 를 포함한다. 제 1 장착 표면부 및 제 2 장착 표면부는 가스 매니폴드 (105) 의 서로 대향하는 측면들을 따라서 연장된다. 가스 매니폴드 (105) 의 내측부는 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들, 가스 혼합 영역 (130) 및 가스 유출구 (135) 를 포함한다.
각 가스 유입구 (140) 는 유입 단부 (145) 를 향하여 제 2 장착 표면부 (160) 내에서 구획되는 바와 같이 도 1b에서 도시된다. 가스 유출구 (135) 는 유출 단부 (150) 를 향하여 제 2 장착 표면부 (160) 내에서 구획된다. 각 가스 유입구 (140) 및 가스 유출구 (135) 는 가스 매니폴드 (105) 의 다른 부분들에서 구획될 수도 있다. 예를 들어서, 각 가스 유입구 (140) 및 가스 유출구 (135) 는 유입 단부 (145) 및 유출 단부 (150) 에서 각각 구획될 수도 있다.
각 플로우 센서 (115) 및 제어 밸브 (110) (각 가스 플로우 제어 스테이션 (117)) 는 가스 매니폴드 (105) 의 제 1 장착 표면부 (155) 상에 장착될 수도 있으며, 가스 분배 플로우 경로의 대응하는 가스 플로우 채널 (125) 에 유체적으로 커플링된다. 본 명세서에서의 몇몇 실시예들에서, 2 개 이상의 플로우 센서들 (115) 중 적어도 하나 및 2 개 이상의 제어 밸브들 (110) 중 적어도 하나 (즉, 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들 (117) 중 적어도 하나) 는 가스 매니폴드 (105) 의 제 2 장착 표면부 (160) 상에 장착될 수도 있으며, 가스 분배 플로우 경로의 대응하는 가스 플로우 채널 (125) 에 유체적으로 커플링된다. 각 플로우 센서 (115) 및 제어 밸브 (110) (각 가스 플로우 제어 스테이션 (117)) 는 가스 매니폴드 (105) 의 제 1 장착 표면부 (155) 및/또는 제 2 장착 표면부 (160) 에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들 (apertures) (165) 을 통해서 가스 분배 플로우 경로의 대응하는 가스 플로우 채널 (125) 에 유체적으로 커플링될 수도 있다.
각 플로우 센서 (115) 는 제어 밸브 (110) 의 업스트림 또는 다운스트림 중 어느 하나에 위치할 수도 있다. 본 명세서에서의 몇몇 실시예들에서, 플로우 센서 (115) 는 제어 밸브 (110) 와 가스 혼합 영역 (130) 간에서, 제어 밸브 (110) 의 다운스트림에 위치된다.
본 명세서에서의 실시예들에서, 각 플로우 센서 (115) 는 센서 도관, 및 이 센서 도관 (conduit) 을 통한 유체의 플로우 레이트를 나타내는 측정된 신호를 생성하도록 센서 도관에 동작하게 커플링된 센서 어셈블리를 포함할 수도 있다. 센서 도관은 가스 분배 플로우 경로의 가스 플로우 채널 (125) 에 유체적으로 커플링될 수도 있다. 센서 도관은 직접적으로 또는 바이패스 채널을 사용하여서 유체적으로 커플링될 수도 있다. 본 명세서에서의 몇몇 실시예들에서, 센서는 유체 플로우 레이트 또는 양을 결정하기 위해서 센서 도관에 걸친, 연관된 압력 강하 또는 압력 차 △P를 측정한다. 다른 적합한 플로우 센서들이 가스 분배 플로우 경로를 통한 유체의 플로우 레이트를 측정하는데 사용될 수도 있으며 예를 들어서 열적 플로우 미터기들 및 코리올리힘 플로우 미터기들 (coriolis force flow meters) 을 포함할 수도 있다는 것이 이해되어야 한다.
각 제어 밸브 (110) 는 각 플로우 센서에 유체적으로 커플링되고, 목표 또는 거기를 통해서 플로우하는 유체의 레이트 또는 양을 목표된 사전결정된 값으로 한정하도록 동작한다. 각 제어 밸브 (110) 는 가스 플로우 채널 (125) 과 직선으로 된 (inline with) 유체 플로우 경로를 갖는 밸브 바디, 제어 밸브 바디의 유체 플로우 경로 내에 위치한 밸브 디스크, 및 밸브 디스크를 작동시키기 위해서 밸브 디스크에 커플링된 액추에이터를 포함할 수도 있다. 액추에이터는 밸브가 개방되는 정도를 제어하며, 따라서, 목표된 (desired) 가스 플로우를 생성하도록 거기를 통해서 플로우하는 유체의 레이트 또는 양을 제어한다. 다른 제어 밸브 (110) 가 유체 플로우의 레이트 또는 양을 제어하기 위해서 사용될 수도 있다는 것이 이해되어야 한다.
제어기는 제어기 인클로저 (120) 를 더 포함할 수도 있다. 본 명세서에서의 몇몇 실시예들에서, 가스 플로우 제어 스테이션 (117) (플로우 센서 (115) 및 제어 밸브 (110)) 가 제어기 인클로저 (120) 내에 위치하고 가스 매니폴드 (105) 의 제 1 장착 표면부 (155) 상으로 장착될 수도 있다.
제어기는 제어기 인클로저 (120) 내에서 가스 매니폴드 (105) 의 제 1 장착 표면부 (155) 상에 장착될 수도 있으며, 각 제어 밸브 (110) 및 각 플로우 센서 (115) 에 (또는 가스 플로우 제어 스테이션 (117) 에) 전기적으로 커플링된다. 가스 플로우 제어 스테이션 (117) (제어 밸브 (110) 및 각 플로우 센서 (115)) 및 제어기는, 가스 플로우 제어 스테이션 (117) (제어 밸브 (110) 및 각 플로우 센서 (115)) 과 제어기 간의 이격거리가 최소화되도록, 제 1 장착 표면부 (155) 및/또는 제 2 장착 표면부 (160) 상으로 장착될 수도 있다. 본 명세서에서의 몇몇 실시예들에서, 가스 플로우 제어 스테이션 (117) (제어 밸브 (110) 및 각 플로우 센서 (115)) 과 제어기는, 이 가스 플로우 제어 스테이션 (117) (제어 밸브 (110) 및 각 플로우 센서 (115)) 과 제어기에 의해서 점유되는 제 1 장착 표면부 (155) 의 표면적의 부분이 제 1 장착 표면부 (155) 의 점유되지 않은 표면적을 초과하도록, 가스 매니폴드 (105) 의 제 1 장착 표면부 (155) 상에 위치된다. 가스 플로우 제어 스테이션들 (117) (제어 밸브 (110) 및 각 플로우 센서 (115)) 은 가스 매니폴드 (105) 의 제 1 장착 표면부 (155) 상에서 제어기 인클로저 (120) 를 중심으로 대칭적으로 위치될 수도 있다.
제어기는 하나 이상의 입력 신호들을 수신하고 하나 이상의 출력 신호들을 출력하도록 구성된 하나 이상의 프로세서들을 포함할 수 있다. 제어기는 목표된 유체 플로우가 생성되도록 각 제어 밸브 (110) 의 위치를 제어하기 위해서 각 제어 밸브 (110) 에 제어 신호를 제공하도록 프로그래밍된다. 제어기는 수신된 하나 이상의 입력 신호들에 응답하여서, 각 제어 밸브 (110) 의 위치를 수정할 수도 있다. 제어기는, 각 가스 플로우 채널을 통해서 플로우하는 가스의 플로우 레이트를 표시하는 측정된 가스 플로우 신호들을 각 플로우 센서로부터 자동적으로 수신하여 프로세싱하고, 가스 유출구로부터 유출될 2 개 이상의 가스들에 대해서 가스 플로우의 목표된 질량 (desired mass) 을 유지하기 위해서 그 측정된 가스 플로우 신호들에 기초하여서 가스 플로우를 조정하도록 각 제어 밸브의 위치를 조절하기 위한 가스 플로우 레시피 (recipe) 프로그램을 사용하도록 더 프로그래밍된다. 가스 플로우 레시피 프로그램은 각 유입 가스에 대한 하나 이상의 목표된 설정점들을 포함할 수도 있다.
제어기는 예를 들어서, 하나 이상의 데이터 저장 디바이스들 및/또는 하나 이상의 주변 디바이스들과 데이터를 교환하도록 더 동작하게 커플링되고/되거나 구성될 수도 있다. 하나 이상의 데이터 저장 디바이스는 예를 들어서, 디스크 드라이브 메모리, 플래시 메모리 디바이스, RAM 메모리 디바이스 또는 데이터를 저장하기 위한 다른 디바이스 또는 이들의 조합들일 수 있다. 데이터 저장 디바이스는 예를 들어서, 클러스터 질량 유량 디바이스 (100) 의 동작 동안의 프로그램 및 데이터를 포함하여, 클러스터 질량 유량 디바이스 (100) 의 물리적 구성에 대하여 관련된 정보를 저장할 수도 있다. 본 명세서에서의 몇몇 실시예들에서, 데이터 저장 디바이스는 시간적 기간에 걸친 파라미터들와 관련된 이력 데이터 및 동작 데이터를 저장하는데 사용될 수도 있다. 본 발명의 실시예들을 구현하는 프로그래밍 코드를 포함하는 소프트웨어가 컴퓨터 판독가능한 및/또는 기록가능한 비휘발성 기록 매체 상에 저장될 수 있으며, 어어서 메모리 내로 카피되고, 어어서 여기서 소프트웨어는 제어기에 의해서 실행될 수 있다. 이러한 프로그래밍 코드는 복수의 프로그래밍 언어들 중 임의의 언어로 기록될 수도 있다.
하나 이상의 주변 디바이스들은 클러스터 질량 유량 디바이스 (100) 의 동작에 대한 임의의 정보를 제공하도록 구성된 출력 디바이스일 수 있으며, 예를 들어서 프린팅 디바이스, 디스플레이 스크린, 또는 스피커를 포함할 수도 있다. 하나 이상의 주변 디바이스들은 예를 들어서, 키보드, 마우스, 트랙볼, 마이크로폰, 터치 스크린, 및 다른 인간-머신 인터페이스 디바이스들과 같은, 하나 이상의 입력 디바이스들을 또한 포함할 수 있다. 또한, 컴퓨터 시스템은 이 컴퓨터 시스템을 통신 네트워크에 접속시킬 수 있는 하나 이상의 인터페이스들을 포함할 수도 있다.
도 2를 참조하면, 다중-라인 질량 유량 디바이스 (200) 의 상단 사시도가 도시된다. 다중-라인 질량 유량 디바이스 (200) 는 (i) 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드 (205) 로서 구성된 클러스터 질량 유량 디바이스, 및 (ii) 다중-유입구 매니폴드 (210) 를 포함한다. 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드 (205) 는 제어기 인클로저 (215) 내의 제어기 (미도시), 가스 매니폴드 장착 블록 (220), 및 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들 (225) 을 포함한다. 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 은 외측부 및 내측부를 갖는다. 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 외측부는 유입 단부 (230), 유입 단부 (230) 의 반대측을 따라서 연장된 유출 단부 (235), 유입 단부 (230) 와 유출 단부 (235) 간에서 연장되는 제 1 장착 표면부 (240) 및 유입 단부 (230) 와 유출 단부 (235) 간에서 연장되는 제 2 장착 표면부 (245) 를 포함한다. 제 1 장착 표면부 (240) 및 제 2 장착 표면부 (245) 는 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 서로 대향하는 측면들을 따라서 연장된다. 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 내측부는 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들, 가스 혼합 영역 및 가스 유출구를 포함한다. 가스 유출구는 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 유출 단부 (235) 내에서 구획될 수도 있다. 가스 분배 플로우 경로들 각각은 가스 유입구 및 이 가스 유입구에 커플링된 가스 플로우 채널 (250) 을 포함한다. 각 가스 유입구는 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 유입 단부 (230) 내에서 구획될 수도 있으며, 가스 소스로부터 유입 가스를 수용하도록 구성된다. 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 내측부 내의 가스 혼합 영역은 각 가스 플로우 채널 (250) 과 유체적으로 커플링된다. 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 내측부 내의 가스 유출구는 가스 혼합 영역과 유체적으로 커플링된다.
각 가스 플로우 제어 스테이션 (225) 은 플로우 센서 (255) 및 제어 밸브 (260) 를 포함한다. 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들 (225) 이 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 제 1 장착 표면부 (240) 상으로 장착될 수도 있다. 물론, 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들 (225) 중 적어도 하나는 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 제 2 장착 표면부 (245) 상으로 장착될 수도 있다. 각 가스 플로우 제어 스테이션 (225) 은, 플로우 센서 (255) 및 제어 밸브 (260) (즉, 가스 플로우 제어 스테이션 (225)) 가 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 내측부 내의 가스 플로우 채널 (250) 과 유체적으로 연통하도록, 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 제 1 장착 표면부 (240) 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들 (apertures) 을 통해서 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 내측부 내의 대응하는 가스 분배 플로우 경로에 유체적으로 커플링될 수도 있다.
제어기는 제어기 인클로저 (215) 를 더 포함할 수도 있다. 본 명세서에서의 몇몇 실시예들에서, 가스 플로우 제어 스테이션 (225) (플로우 센서 (255) 및 제어 밸브 (260)) 가 제어기 인클로저 (215) 내에 위치하고 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 제 1 장착 표면부 (240) 상으로 장착될 수도 있다. 제어기는 제어기 인클로저 (215) 내에서 가스 매니폴드 장착 블록 (220) 의 제 1 장착 표면부 (240) 상으로 장착될 수도 있으며, 각 플로우 센서 (255) 및 각 제어 밸브 (260) 에 (또는 각 가스 플로우 제어 스테이션 (225) 에) 전기적으로 커플링된다.
제어기는 목표된 유체 플로우가 생성되도록 각 제어 밸브 (260) 의 위치를 제어하기 위해서 각 제어 밸브 (260) 에 제어 신호를 제공하도록 프로그래밍된다. 제어기는 수신된 하나 이상의 입력 신호들에 응답하여서, 각 제어 밸브 (260) 의 위치를 수정할 수도 있다. 제어기는, 각 가스 플로우 채널을 통해서 플로우하는 가스의 플로우 레이트를 표시하는 측정된 가스 플로우 신호들을 각 플로우 센서 (255) 로부터 자동적으로 수신하여 프로세싱하고, 가스 유출구로부터 유출될 2 개 이상의 가스들에 대해서 가스 플로우의 목표된 질량 (desired mass) 을 유지하기 위해서 그 측정된 가스 플로우 신호들에 기초하여서 가스 플로우를 조정하도록 각 제어 밸브 (260) 의 위치를 조절하기 위한 가스 플로우 레시피 (recipe) 프로그램을 사용하도록 더 프로그래밍된다. 가스 플로우 레시피 프로그램은 각 유입 가스에 대한 하나 이상의 목표된 설정점들을 포함할 수도 있다.
다중-유입구 매니폴드 (210) 는 다중-유입구 장착 블록 (265) 및 이 다중-유입구 장착 블록 (265) 상에 장착된 2 개 이상의 격리 밸브들 (270) 을 포함한다. 다중-유입구 매니폴드 (210) 는 퍼지 포트 (275) 를 더 포함할 수도 있다. 본 명세서에서의 실시예들에서, 다중-유입구 장착 블록 (265) 은 가스 스트림들을 다루는데 적합한 고체 재료들로부터 형성된 홈형성된 블록일 수도 있다. 다중-유입구 장착 블록 (265) 은 2 개 이상의 개별 가스 플로우 스트림들을 제공하도록 구성된다. 적합한 고체 재료들의 실례는 예를 들어서, 내부식성 스테인레스 스틸, 페라이트, 알루미늄, 알루미늄 합금, 유리 세라믹, 실리카, 수정, PTFE, 또는 폴리카보네이트를 포함할 수도 있다. 다중-유입구 장착 블록 (265) 은 내측부 및 외측부를 갖는다. 다중-유입구 장착 블록 (265) 의 외측부는 다중-라인 유입 단부 (267), 이 다중-라인 유입 단부 (267) 의 반대 측을 따라서 연장된 다중-라인 유출 단부 (269), 다중-라인 유입 단부 (267) 와 다중-라인 유출 단부 (269) 간에 연장된 상단 장착 표면부 (272), 및 다중-유입구 장착 블록 (265) 의 다중-라인 유입 단부 (267) 와 다중-라인 유출 단부 (269) 간에 연장된 하단 장착 표면부 (274) 를 갖는다. 상단 장착 표면부 (272) 및 하단 장착 표면부 (274) 는 다중-유입구 장착 블록 (265) 의 대향하는 측면들을 따라서 연장된다. 다중-유입구 장착 블록 (265) 의 내측부는 2 개 이상의 다중-라인 유입구들 (280), 2 개 이상의 다중-라인 통로들 (285) 및 2 개 이상의 다중-라인 유출구들 (미도시) 을 포함한다. 다중-유입구 장착 블록 (265) 은 실제로 임의의 목표된 m 개의 (예를 들어서, 12 개의) 유입 가스 스트림 및 유출 가스 스트림을 제공하도록 구성될 수도 있음이 이해되어야 한다.
각 다중-라인 통로 (285) 는 대응하는 다중-라인 유입구 (280), 다중-라인 유출구 및 격리 밸브 (270) 에 유체적으로 커플링된다. 각 다중-라인 통로 (285) 는 또한 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드 (205) 의 대응하는 가스 플로우 채널 (250) 에 유체적으로 커플링된다. 그를 통해서 유입 가스들이 플로우할 수 있는 각 다중-라인 유입구 (280) 는 가스 소스 (미도시) 에 유체적으로 커플링된다. 가스 소스는 단일 가스 소스 또는 가스 혼합물 소스일 수도 있다.
본 명세서의 실시예들에서, 격리 밸브 (270) 는 다중-라인 통로 (285) 를 통한 유체 플로우를 차단하도록 동작가능하다. 격리 밸브 (270) 는 다중-라인 통로 (285) 와 직선으로 된 (inline with) 유체 플로우 경로를 갖는 밸브 바디, 제어 밸브 바디의 유체 플로우 경로 내에 위치한 밸브 디스크, 및 밸브 디스크를 개방 위치와 폐쇄 위치 간에서 작동시키기 위해서 밸브 디스크에 커플링된 액추에이터를 포함할 수도 있다. 다른 격리 밸브 (270) 가 다중-라인 통로 (285) 를 통한 유체 플로우를 허용 또는 차단하기 위해서 사용될 수도 있다는 것이 이해되어야 한다. 본 명세서에서의 실시예들에서, 퍼지 포트 (purge port) (275) 는 퍼지 가스 수용을 위한 유입구를 포함한다. 퍼지 가스는 퍼지 포트 (275) 에 부착된 별도의 입력 라인 (미도시) 을 통해서 공급될 수도 있다.
본 명세서에서의 실시예들에서, 적어도 하나의 격리 밸브 (270) 가 다중-유입구 장착 블록 (265) 의 상단 장착 표면부 (272) 상에 장착될 수도 있으며, 대응하는 다중-라인 통로 (285) 에 유체적으로 커플링된다. 본 명세서에서의 몇몇 실시예들에서, 적어도 하나의 격리 밸브 (270) 는 다중-유입구 장착 블록 (265) 의 하단 장착 표면부 (274) 상에 장착될 수도 있으며, 대응하는 다중-라인 통로 (285) 에 유체적으로 커플링된다. 각 격리 밸브 (270) 는 다중-유입구 장착 블록 (265) 의 상단 장착 표면부 (272) 및/또는 하단 장착 표면부 (274) 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들을 통해서 대응하는 다중-라인 통로 (285) 에 유체적으로 커플링된다.
도 3을 참조하면, 클러스터 질량 유량 제어 디바이스/매니폴드 (305) 및 다중-유입구 매니폴드 (310) 를 포함하는 다중-라인 질량 유량 디바이스 (300) 의 가스 플로우 개략도가 도시된다. 유입 가스들 (1 내지 4) 이 다중-라인 유입구 (315) 를 통해서 다중-유입구 매니폴드 (310) 내로 도입된다. 유입 가스들은 다중-라인 통로들 (325) 을 통해서, 격리 밸브들 (320) 을 통해서, 퍼지 포트 (330) 를 통해서 다중-라인 유출구로 플로우한다. 다중-라인 유출구는 클러스터 질량 유량 제어 디바이스/매니폴드 (305) 의 가스 유입구에 유체적으로 커플링된다. 유입 가스들은 가스 플로우 채널들 (340) 을 통해서 그리고 제어 밸브 (345) 및 플로우 센서 (350) 를 통해서 혼합 지점 (355) 으로 플로우한다. 가스들은 클러스터 질량 유량 제어 디바이스/매니폴드 (305) 의 가스 유출구 (360) 를 통해서 그리고 다른 클러스터 질량 유량 제어 디바이스/매니폴드 또는 프로세스 챔버로 이동한다.
도 4a 및 도 4b를 참조하면, 다중-라인 질량 유량 디바이스 (400) 의 사시도가 도시된다. 다중-라인 질량 유량 디바이스 (400) 는 (i) 다중 질량 유량 제어 매니폴드 (405) 로서 구성된 클러스터 질량 유량 디바이스, 및 (ii) 다중-유입구 매니폴드 (410) 를 포함한다. 다중 질량 유량 제어 매니폴드 (405) 는 제어기 인클로저 (415, 417) 내에 위치한 하나 이상의 제어기들 (미도시), 가스 매니폴드 장착 블록 (420) 및 제어기 인클로저 (415, 417) 내에 위치한 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들 (미도시) 을 포함한다. 가스 매니폴드 장착 블록 (420) 은 외측부 및 내측부를 갖는다. 가스 매니폴드 장착 블록 (420) 의 외측부는 유입 단부, 이 유입 단부의 반대편 측을 따라서 연장된 유출 단부, 유입 단부와 유출 단부 간에서 연장된 제 1 장착 표면부 (425) 및 유입 단부와 유출 단부 간에서 연장된 제 2 장착 표면부 (430) 를 포함한다. 제 1 장착 표면부 (425) 및 제 2 장착 표면부 (430) 는 가스 매니폴드 장착 블록 (420) 의 대향하는 측면들을 따라서 연장된다. 가스 매니폴드 장착 블록 (420) 의 내측부 (미도시) 는 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들, 하나 이상의 혼합 영역들, 및 가스 유출구를 포함한다. 가스 유출구는 가스 매니폴드 장착 블록 (420) 의 유출 단부 내에서 구획될 수도 있다. 각 가스 분배 플로우 경로는 가스 유입구 및 이 가스 유입구에 커플링된 가스 플로우 채널을 포함한다. 각 가스 유입구는 가스 매니폴드 장착 블록 (420) 의 유입 단부 내에서 구획될 수도 있으며, 가스 소스로부터 유입 가스를 수용하도록 구성된다. 가스 매니폴드 장착 블록 (420) 의 내측부 내의 하나 이상의 가스 혼합 영역은 하나 이상의 가스 플로우 채널들에 유체적으로 커플링된다. 가스 매니폴드 장착 블록 (420) 의 내측부 내의 가스 유출구는 하나 이상의 가스 혼합 영역에 유체적으로 커플링될 수도 있다.
각 가스 플로우 제어 스테이션이 도 1a, 도 1b, 및 도 2를 참조하여서 상술되었다. 제어기는 제어기 인클로저 (415, 417) 를 더 포함할 수도 있다. 본 명세서에서의 몇몇 실시예들에서, 모든 가스 플로우 제어 스테이션들은 제어기 인클로저 (415, 417) 내에 위치될 수도 있으며, 가스 매니폴드 장착 블록 (420) 의 표면 상에 장착될 수도 있다. 제어기는 각 가스 플로우 제어 스테이션에 전기적으로 커플링될 수도 있다. 제어기는 도 2를 참조하여서 상술된 바와 같이 프로그래밍될 수도 있다.
다중-유입구 매니폴드 (410) 는 다중-유입구 장착 블록 (435) 및 이 다중-유입구 장착 블록 (435) 의 표면 상에 장착된 2 개 이상의 격리 밸브들 (440) 을 포함한다. 다중-유입구 장착 블록 (435) 은 도 2를 참조하여서 상술된 바와 같이 형성될 수도 있다. 다중-유입구 장착 블록 (435) 은 외측부 및 내측부를 갖는다. 다중-유입구 장착 블록 (435) 의 외측부는 다중-라인 유입 단부, 이 다중-라인 유입 단부의 반대 측을 따라서 연장된 다중-라인 유출 단부, 다중-라인 유입 단부와 다중-라인 유출 단부 간에 연장된 상단 장착 표면부 (445), 및 다중-유입구 장착 블록 (435) 의 다중-라인 유입 단부와 다중-라인 유출 단부 간에 연장된 하단 장착 표면부 (450) 를 갖는다. 상단 장착 표면부 (445) 및 하단 장착 표면부 (450) 는 다중-유입구 장착 블록 (435) 의 대향하는 측면들을 따라서 연장된다. 다중-유입구 장착 블록 (435) 의 내측부는 2 개 이상의 다중-라인 유입구들 (455), 2 개 이상의 다중-라인 통로들 (460) 및 2 개 이상의 다중-라인 유출구들 (미도시) 을 포함한다. 다중-유입구 장착 블록 (435) 은 실제로 임의의 목표된 m 개의 (예를 들어서, 12 개의) 유입 가스 스트림 및 유출 가스 스트림을 제공하도록 구성될 수도 있음이 이해되어야 한다.
각 다중-라인 통로 (460) 는 대응하는 다중-라인 유입구 (455) 및 다중-라인 유출구에 유체적으로 커플링된다. 각 다중-라인 통로 (460) 는 또한 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드 (405) 의 대응하는 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링된다. 그를 통해서 유입 가스들이 플로우할 수 있는 각 다중-라인 유입구 (455) 는 가스 소스 (미도시) 에 유체적으로 커플링된다. 가스 소스는 단일 가스 소스 또는 가스 혼합물 소스일 수도 있다.
격리 밸브 (440) 는 다중-라인 통로 (460) 를 통한 유체 플로우를 차단하도록 동작가능하다. 격리 밸브 (440) 는 다중-라인 통로 (460) 와 직선으로 된 유체 플로우 경로를 갖는 밸브 바디, 제어 밸브 바디의 유체 플로우 경로 내에 위치한 밸브 디스크, 및 밸브 디스크를 개방 위치와 폐쇄 위치 간에서 작동시키기 위해서 밸브 디스크에 커플링된 액추에이터를 포함할 수도 있다. 격리 밸브 (440) 는 다중-유입구 장착 블록 (435) 의 장착 표면부들 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들을 통해서 대응하는 다중-라인 통로 (460) 와 유체적으로 커플링된다. 다른 격리 밸브 (440) 가 다중-라인 통로 (460) 를 통한 유체 플로우를 허용 또는 차단하기 위해서 사용될 수도 있다는 것이 이해되어야 한다. 본 명세서에서의 실시예들에서, 다중-유입구 매니폴드 (410) 는 도 2를 참조하여서 상술한 바와 같이 퍼지 포트를 더 포함할 수도 있다.
본 명세서에서의 실시예들에서, 다중-유입구 매니폴드 (410) 는 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드 (405) 와 다중-유입구 매니폴드 (410) 간에 위치한 하나 이상의 디버터 밸브들 (diverter valves) 을 더 포함할 수도 있다. 디버터 밸브들은 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드 (405) 의 가스 유입구에 그리고 다중-유입구 매니폴드 (410) 의 가스 유출구에 유체적으로 커플링될 수도 있다. 디버터 밸브는 하나 이상의 가스들을 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드 (405) 내의 상이한 가스 분배 플로우 경로로 전환 (divert) 하는데 사용될 수도 있다.
도 5를 참조하면, 다중-유입구 매니폴드 (510) 에 유체적으로 커플링된 디버터 (505) 의 가스 플로우 개략도 (500) 가 도시된다. 디버터 (505) 는 하나 이상의 가스들을 하나 이상의 유출구들로 전환하도록 구성된 하나 이상의 디버터 밸브들을 포함할 수도 있다. 유입 가스들 (1 내지 6) 이 다중-라인 유입구 (515) 를 통해서 다중-유입구 매니폴드 (510) 내로 도입된다. 유입 가스들은 다중-라인 통로들을 통해서, 격리 밸브들 (520) 을 통해서 다중-라인 유출구로 플로우한다. 각 다중-라인 유출구는 디버터 (505) 의 가스 유입구 (525) 에 유체적으로 커플링된다. 유입 가스는 각 가스 유입구 (525) 및 디버터 (505) 의 각 가스 플로우 채널 (530) 을 통해서 하나 이상의 유출구들 (535) 로 플로우한다. 예를 들어서, 유입 가스는 가스 유입구 (6) 로 공급되고 가스 플로우 채널 (530) 을 통해서 제 1 라인 밸브 (540) 로 플로우한다. 제 1 라인 밸브 (540) 는 유입 가스 일부 또는 전부를 유출구 (C) 로 또는 제 1 라인 밸브 (545) 로 향하게 한다. 제 2 라인 밸브 (545) 는 유입 가스 일부 또는 전부를 유출구 (B) 로 또는 제 3 라인 밸브 (550) 로 향하게 하도록 구성될 수도 있다. 제 3 라인 밸브 (550) 는 유입 가스 일부 또는 전부를 유출구 (A) 로 향하게 하도록 구성될 수도 있다. 각 유입 가스 라인은 하나 이상의 밸브들 (540, 545, 550) 을 사용하여서 각각의 가스를 하나 이상의 유출구들 (535) 로 향하게 하는 유사한 구성을 갖는다. 이와 달리 다중위치 선택기들이 하나 이상의 유출구들 (535) 로 유입 가스를 향하게 하도록 밸브들을 라이닝하는데 사용될 수도 있다는 것이 이해되어야 한다. 하나 이상의 유출구들 (535) 을 나가는 가스들은 클러스터 질량 유량 제어 디바이스/매니폴드에 전송될 수도 있다. 가스 유입구 (7) 는 퍼지 포트로서 사용되거나 추가 프로세스 가스를 디버터 (505) 로 도입시키는데 사용될 수도 있다.
다양한 수정 및 변경이 청구된 청구 대상의 사상 및 범위로부터 벗어나지 않으면서 본 명세서에서 기술된 실시예들에 대해서 이루어질 수 있음은 본 기술 분야의 당업자에게 명백할 것이다. 따라서, 본 명세서에서 기술된 다양한 실시예들의 수정 및 변경이 청구항들의 청구 범위 및 이들의 균등 범위 내에 해당한다면 본 명세서가 이러한 수정 및 변경을 포함하는 것이 의도된다.

Claims (20)

  1. 제어기, 가스 매니폴드, 2 개 이상의 제어 밸브들 및 2 개 이상의 플로우 센서들을 포함하는 클러스터 질량 유량 디바이스 (cluster mass flow device) 로서,
    상기 제어기는 각 제어 밸브에 그리고 각 플로우 센서에 전기적으로 커플링 (coupled) 되고;
    상기 가스 매니폴드는 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들, 가스 혼합 영역 및 가스 유출구를 포함하며;
    상기 가스 매니폴드의 각 가스 분배 플로우 경로는 가스를 수용하도록 구성된 가스 유입구, 및 상기 가스 유입구에 커플링된 가스 플로우 채널을 포함하며;
    상기 가스 매니폴드의 상기 가스 혼합 영역은 각 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링되며;
    상기 가스 매니폴드의 상기 가스 유출구는 상기 가스 혼합 영역에 유체적으로 커플링되고;
    각 플로우 센서 및 각 제어 밸브는 상기 가스 분배 플로우 경로의 대응하는 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링되고;
    각 플로우 센서는 상기 제어 밸브와 상기 가스 혼합 영역 간에서, 그리고 상기 제어 밸브의 다운스트림에 (downstream) 위치하며;
    상기 제어기는, 목표된 가스 플로우가 생성되도록, 각 제어 밸브의 위치를 제어하기 위해서 각 제어 밸브에 제어 신호를 제공하도록 프로그래밍되며,
    상기 제어기는, 각 가스 플로우 채널을 통해서 플로우하는 가스의 플로우 레이트를 표시하는 측정된 가스 플로우 신호들을 각 플로우 센서로부터 자동적으로 수신하여 프로세싱하고, 상기 가스 유출구로부터 유출될 2 개 이상의 가스들에 대해서 가스 플로우의 목표된 질량 (desired mass) 을 유지하기 위해서 상기 측정된 가스 플로우 신호들에 기초하여서 가스 플로우를 조정하도록 각 제어 밸브의 위치를 조절하기 위한 가스 플로우 레시피 (recipe) 프로그램을 사용하도록 더 프로그래밍된,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 가스 매니폴드의 외측부는 유입 단부, 유출 단부, 및 상기 유입 단부와 상기 유출 단부 간에 연장된 제 1 장착 표면부를 포함하며;
    각 가스 유입구는 상기 가스 매니폴드의 상기 유입 단부 내에 구획되며,
    상기 가스 유출구는 상기 가스 매니폴드의 상기 유출 단부 내에 구획되는,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제어기는 상기 가스 매니폴드의 상기 제 1 장착 표면부 상으로 장착되는,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 2 개 이상의 플로우 센서들 중 적어도 하나 및 상기 2 개 이상의 제어 밸브들 중 적어도 하나는 상기 가스 매니폴드의 상기 제 1 장착 표면부 상으로 장착되는,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 2 개 이상의 플로우 센서들 중 적어도 하나 및 상기 2 개 이상의 제어 밸브들 중 적어도 하나는, 상기 가스 매니폴드의 상기 제 1 장착 표면부 상으로 장착되며, 상기 가스 매니폴드의 상기 제 1 장착 표면부 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들 (apertures) 을 통해서 상기 가스 분배 플로우 경로의 대응하는 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링되는,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  6. 제 2 항에 있어서,
    상기 가스 매니폴드는 상기 가스 매니폴드의 상기 유입 단부와 상기 유출 단부 간에 연장된 제 2 장착 표면부를 더 포함하며;
    상기 제 1 장착 표면부와 상기 제 2 장착 표면부는 상기 가스 매니폴드의 대향하는 측면들을 따라서 연장된,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 2 개 이상의 플로우 센서들 중 적어도 하나 및 상기 2 개 이상의 제어 밸브들 중 적어도 하나는, 상기 가스 매니폴드의 상기 제 2 장착 표면부 상으로 장착되며, 상기 가스 매니폴드의 상기 제 2 장착 표면부 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들을 통해서 상기 가스 분배 플로우 경로의 대응하는 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링되는,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어기는 제어기 인클로저를 포함하며,
    상기 2 개 이상의 플로우 센서들 중 적어도 하나 및 상기 2 개 이상의 제어 밸브들 중 적어도 하나는 상기 제어기 인클로저 내에 위치되는,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  9. 제어기, 가스 매니폴드 장착 블록, 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들을 포함하는 클러스터 질량 유량 디바이스로서,
    상기 가스 매니폴드 장착 블록의 외측부는 유입 단부, 유출 단부, 및 상기 유입 단부와 상기 유출 단부 간에 연장된 제 1 장착 표면부를 포함하며;
    상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부는 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들, 가스 혼합 영역 및 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 유출 단부 내에서 구획된 가스 유출구를 포함하며;
    각 가스 분배 플로우 경로는 가스 유입구, 및 상기 가스 유입구에 커플링된 가스 플로우 채널을 포함하며;
    각 가스 유입구는 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 유입 단부 내에 구획되며 가스를 수용하도록 구성되며;
    상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 상기 가스 혼합 영역은 각 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링되며;
    상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 상기 가스 유출구는 상기 가스 혼합 영역에 유체적으로 커플링되며;
    각 가스 플로우 제어 스테이션은 플로우 센서 및 제어 밸브를 포함하며;
    각 가스 플로우 제어 스테이션은 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 제 1 장착 표면부 상으로 장착되고, 상기 플로우 센서 및 상기 제어 밸브가 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 상기 가스 플로우 채널과 유체적으로 연통하도록 상기 제 1 장착 표면부 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들 (apertures) 을 통해서 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 대응하는 가스 분배 플로우 경로에 커플링되며;
    상기 제어기는 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 제 1 장착 표면부 상으로 장착되며 각 가스 플로우 제어 스테이션에 전기적으로 커플링되며;
    상기 제어기는, 목표된 가스 플로우가 생성되도록, 각 제어 밸브의 위치를 제어하기 위해서 각 제어 밸브에 제어 신호를 제공하도록 프로그래밍되며;
    상기 제어기는, 각 가스 플로우 채널을 통해서 플로우하는 가스의 플로우 레이트를 표시하는 측정된 가스 플로우 신호들을 각 플로우 센서로부터 자동적으로 수신하여 프로세싱하고, 상기 가스 유출구로부터 유출될 2 개 이상의 가스들에 대해서 가스 플로우의 목표된 질량을 유지하기 위해서 상기 측정된 가스 플로우 신호들에 기초하여서 가스 플로우를 조정하도록 각 제어 밸브의 위치를 조절하기 위한 가스 플로우 레시피 프로그램을 사용하도록 더 프로그래밍된,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 가스 매니폴드 장착 블록은 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 유입 단부와 상기 유출 단부 간에 연장된 제 2 장착 표면부를 더 포함하며;
    상기 제 1 장착 표면부와 상기 제 2 장착 표면부는 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 대향하는 측면들을 따라서 연장된,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들 중 적어도 하나는, 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 제 2 장착 표면부 상으로 장착되며,
    상기 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들 중 적어도 하나는, 상기 플로우 센서 및 상기 제어 밸브가 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 상기 가스 플로우 채널과 유체적으로 연통하도록 상기 제 2 장착 표면부 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들을 통해서 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 대응하는 가스 분배 플로우 경로에 커플링되는,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  12. 제 9 항에 있어서,
    각 플로우 센서는 상기 제어 밸브와 상기 가스 혼합 영역 간에서, 그리고 상기 제어 밸브의 다운스트림에 위치되는,
    클러스터 질량 유량 디바이스.
  13. 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드 및 다중-유입구 매니폴드를 포함하는 다중-라인 질량 유량 디바이스 (multi-line mass flow device) 로서,
    상기 클러스터 질량 유량 제어 매니폴드는 제어기, 가스 매니폴드 장착 블록, 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들을 포함하며;
    상기 가스 매니폴드 장착 블록의 외측부는 유입 단부, 유출 단부, 및 상기 유입 단부와 상기 유출 단부 간에 연장된 제 1 장착 표면부를 포함하며;
    상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부는 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들, 가스 혼합 영역 및 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 유출 단부 내에서 구획된 가스 유출구를 포함하며;
    각 가스 분배 플로우 경로는 가스 유입구, 및 상기 가스 유입구에 커플링된 가스 플로우 채널을 포함하며;
    각 가스 유입구는 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 유입 단부 내에 구획되며 가스를 수용하도록 구성되며;
    상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 상기 가스 혼합 영역은 각 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링되며;
    상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 상기 가스 유출구는 상기 가스 혼합 영역에 유체적으로 커플링되며;
    각 가스 플로우 제어 스테이션은 플로우 센서 및 제어 밸브를 포함하며;
    각 가스 플로우 제어 스테이션은 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 제 1 장착 표면부 상으로 장착되고, 상기 플로우 센서 및 상기 제어 밸브가 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 상기 가스 플로우 채널과 유체적으로 연통하도록 상기 제 1 장착 표면부 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들 (apertures) 을 통해서 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 대응하는 가스 분배 플로우 경로에 커플링되며;
    상기 제어기는 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 제 1 장착 표면부 상으로 장착되며 각 가스 플로우 제어 스테이션에 전기적으로 커플링되며;
    상기 제어기는, 목표된 가스 플로우가 생성되도록, 각 제어 밸브의 위치를 제어하기 위해서 각 제어 밸브에 제어 신호를 제공하도록 프로그래밍되며;
    상기 제어기는, 각 가스 플로우 채널을 통해서 플로우하는 가스의 플로우 레이트를 표시하는 측정된 가스 플로우 신호들을 각 플로우 센서로부터 자동적으로 수신하여 프로세싱하고, 상기 가스 유출구로부터 유출될 2 개 이상의 가스들에 대해서 가스 플로우의 목표된 질량을 유지하기 위해서 상기 측정된 가스 플로우 신호들에 기초하여서 가스 플로우를 조정하도록 각 제어 밸브의 위치를 조절하기 위한 가스 플로우 레시피 프로그램을 사용하도록 더 프로그래밍되며;
    상기 다중-유입구 매니폴드는 다중-유입구 장착 블록 및 상기 다중-유입구 장착 블록 상에 장착된 2 개 이상의 격리 밸브들 (isolation valves) 을 포함하며;
    상기 다중-유입구 장착 블록의 내측부는 2 개 이상의 다중-라인 유입구들, 2 개 이상의 다중-라인 통로들 (passageways) 및 2 개 이상의 다중-라인 유출구들을 포함하며;
    상기 다중-유입구 장착 블록의 상기 2 개 이상의 다중-라인 통로들은 상기 2 개 이상의 다중-라인 유입구들 및 상기 2 개 이상의 다중-라인 유출구들에 유체적으로 커플링되며;
    상기 다중-유입구 장착 블록의 상기 2 개 이상의 다중-라인 유출구들은 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 2 개 이상의 가스 분배 플로우 경로들에 유체적으로 커플링되며;
    각 격리 밸브는 대응하는 다중-라인 경로에 유체적으로 커플링된,
    다중-라인 질량 유량 디바이스.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 가스 매니폴드 장착 블록은 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 유입 단부와 상기 유출 단부 간에 연장된 제 2 장착 표면부를 더 포함하며;
    상기 제 1 장착 표면부와 상기 제 2 장착 표면부는 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 대향하는 측면들을 따라서 연장된,
    다중-라인 질량 유량 디바이스.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들 중 적어도 하나는, 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 제 2 장착 표면부 상으로 장착되며, 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 제 2 장착 표면부 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들을 통해서 상기 가스 분배 플로우 경로의 대응하는 가스 플로우 채널에 유체적으로 커플링되는,
    다중-라인 질량 유량 디바이스.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들 중 적어도 하나는, 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 상기 제 2 장착 표면부 상으로 장착되며,
    상기 2 개 이상의 가스 플로우 제어 스테이션들 중 적어도 하나는, 상기 플로우 센서 및 상기 제어 밸브가 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 상기 가스 플로우 채널과 유체적으로 연통하도록 상기 제 2 장착 표면부 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들을 통해서 상기 가스 매니폴드 장착 블록의 내측부 내의 대응하는 가스 분배 플로우 경로에 커플링되는,
    다중-라인 질량 유량 디바이스.
  17. 제 13 항에 있어서,
    상기 다중-유입구 장착 블록은 다중-라인 유입 단부, 다중-라인 유출 단부, 및 상기 다중-라인 유입 단부와 상기 다중-라인 유출 단부 간에 연장된 상단 장착 표면부를 포함하며;
    상기 다중-유입구 장착 블록의 내측부의 각 다중-라인 유입구는 상기 유입 단부 내에서 구획되며;
    상기 다중-유입구 장착 블록의 내측부의 각 다중-라인 유출구는 상기 유출 단부 내에서 구획된,
    다중-라인 질량 유량 디바이스.
  18. 제 17 항에 있어서,
    각 격리 밸브는 상기 상단 장착 표면부 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들을 통해서 대응하는 다중-라인 통로에 유체적으로 커플링되는,
    다중-라인 질량 유량 디바이스.
  19. 제 13 항에 있어서,
    상기 다중-유입구 매니폴드는 상기 다중-유입구 장착 블록 상에 장착된 퍼지 포트를 더 포함하는,
    다중-라인 질량 유량 디바이스.
  20. 제 13 항에 있어서,
    상기 다중-유입구 장착 블록은 상기 다중-유입구 장착 블록의 유입 단부와 유출 단부 간에 연장된 하단 장착 표면부를 더 포함하며;
    상기 상단 장착 표면부 및 상기 하단 장착 표면부는 상기 다중-유입구 장착 블록의 대향하는 측면들을 따라서 연장되며;
    상기 2 개 이상의 격리 밸브들 중 적어도 하나는 상기 다중-유입구 장착 블록의 상기 하단 장착 표면부 상으로 장착되며, 상기 하단 장착 표면부 내에 형성된 하나 이상의 가스 플로우 아퍼처들을 통해서 대응하는 다중-라인 통로에 유체적으로 커플링되는,
    다중-라인 질량 유량 디바이스.
KR1020140118908A 2013-09-12 2014-09-05 클러스터 질량 유량 디바이스들 및 이를 포함한 다중-라인 질량 유량 디바이스들 KR102328315B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/025,162 2013-09-12
US14/025,162 US9335768B2 (en) 2013-09-12 2013-09-12 Cluster mass flow devices and multi-line mass flow devices incorporating the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150030619A true KR20150030619A (ko) 2015-03-20
KR102328315B1 KR102328315B1 (ko) 2021-11-17

Family

ID=52624327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140118908A KR102328315B1 (ko) 2013-09-12 2014-09-05 클러스터 질량 유량 디바이스들 및 이를 포함한 다중-라인 질량 유량 디바이스들

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9335768B2 (ko)
KR (1) KR102328315B1 (ko)
CN (1) CN104460706B (ko)
TW (1) TWI629429B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200054399A (ko) * 2018-11-09 2020-05-20 삼성전자주식회사 밸브 장치

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9511151B2 (en) 2010-11-12 2016-12-06 Uti Limited Partnership Compositions and methods for the prevention and treatment of cancer
US10988516B2 (en) 2012-03-26 2021-04-27 Uti Limited Partnership Methods and compositions for treating inflammation
US9603948B2 (en) 2012-10-11 2017-03-28 Uti Limited Partnership Methods and compositions for treating multiple sclerosis and related disorders
JP6240661B2 (ja) * 2013-03-08 2017-11-29 株式会社フジキン 流体制御装置および流体制御装置へのサーマルセンサ設置構造
SG11201603487YA (en) 2013-11-04 2016-05-30 Uti Limited Partnership Methods and compositions for sustained immunotherapy
JP6920211B2 (ja) 2015-05-06 2021-08-18 ユーティーアイ リミテッド パートナーシップ 持続療法用のナノ粒子組成物
US10138555B2 (en) * 2015-10-13 2018-11-27 Horiba Stec, Co., Ltd. Gas control system and program for gas control system
US10215317B2 (en) * 2016-01-15 2019-02-26 Lam Research Corporation Additively manufactured gas distribution manifold
JP6618123B2 (ja) * 2016-03-18 2019-12-11 東フロコーポレーション株式会社 流量制御装置
JP7281285B2 (ja) 2019-01-28 2023-05-25 株式会社堀場エステック 濃度制御装置、及び、ゼロ点調整方法、濃度制御装置用プログラム
WO2020163190A1 (en) * 2019-02-05 2020-08-13 Swagelok Company Integrated actuator manifold for multiple valve assembly
JP7396933B2 (ja) * 2020-03-03 2023-12-12 日本ピラー工業株式会社 流路ユニット
JP2024512898A (ja) 2021-03-03 2024-03-21 アイコール・システムズ・インク マニホールドアセンブリを備える流体流れ制御システム

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100633190B1 (ko) * 1996-10-30 2006-10-11 유닛 인스트루먼츠 인코포레이티드 가스 패널
KR20070070259A (ko) * 2002-03-25 2007-07-03 가부시키가이샤 호리바 에스텍 매스 플로우 콘트롤러
KR100944962B1 (ko) * 2002-01-04 2010-03-02 엠케이에스 인스트루먼츠 인코포레이티드 질량유량분할 시스템과 방법
KR20120081221A (ko) * 2004-02-12 2012-07-18 엔테그리스, 아이엔씨. 유동 모니터링 및 제어 시스템과 그 방법

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61254242A (ja) * 1985-05-01 1986-11-12 Sumitomo Electric Ind Ltd 原料供給装置
US6227227B1 (en) * 1999-06-18 2001-05-08 Masconi Commerce Systems Inc. Single meter blending fuel dispensing system
JP4209688B2 (ja) * 2001-05-24 2009-01-14 セレリティ・インコーポレーテッド 決定された比率のプロセス流体を供給する方法および装置
DE10204250A1 (de) * 2002-02-02 2003-08-14 Bosch Gmbh Robert Mehrfachventilanordnung für strömende Medien
JP4314425B2 (ja) * 2002-12-02 2009-08-19 株式会社フジキン 流体制御装置
US7673645B2 (en) * 2005-04-21 2010-03-09 Mks Instruments, Inc. Gas delivery method and system including a flow ratio controller using a multiple antisymmetric optimal control arrangement
WO2006130774A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Ultra Clean Holdings, Incorporated Gas-panel assembly
US7320339B2 (en) * 2005-06-02 2008-01-22 Ultra Clean Holdings, Inc. Gas-panel assembly
JP4256884B2 (ja) * 2006-06-23 2009-04-22 東京エレクトロン株式会社 気化器への原料液供給ユニット
US8074677B2 (en) * 2007-02-26 2011-12-13 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for controlling gas flow to a processing chamber
KR101578220B1 (ko) * 2008-10-31 2015-12-16 가부시키가이샤 호리바 세이샤쿠쇼 재료가스 농도 제어 시스템
JP5457021B2 (ja) * 2008-12-22 2014-04-02 東京エレクトロン株式会社 混合ガスの供給方法及び混合ガスの供給装置
CN201562174U (zh) * 2009-11-02 2010-08-25 北京七星华创电子股份有限公司 流量计量控制装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100633190B1 (ko) * 1996-10-30 2006-10-11 유닛 인스트루먼츠 인코포레이티드 가스 패널
KR100944962B1 (ko) * 2002-01-04 2010-03-02 엠케이에스 인스트루먼츠 인코포레이티드 질량유량분할 시스템과 방법
KR20070070259A (ko) * 2002-03-25 2007-07-03 가부시키가이샤 호리바 에스텍 매스 플로우 콘트롤러
KR20120081221A (ko) * 2004-02-12 2012-07-18 엔테그리스, 아이엔씨. 유동 모니터링 및 제어 시스템과 그 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200054399A (ko) * 2018-11-09 2020-05-20 삼성전자주식회사 밸브 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR102328315B1 (ko) 2021-11-17
TWI629429B (zh) 2018-07-11
CN104460706B (zh) 2020-01-07
US9335768B2 (en) 2016-05-10
US20150068613A1 (en) 2015-03-12
TW201533377A (zh) 2015-09-01
CN104460706A (zh) 2015-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20150030619A (ko) 클러스터 질량 유량 디바이스들 및 이를 포함한 다중-라인 질량 유량 디바이스들
JP5947659B2 (ja) 流量制御装置
JP5330709B2 (ja) 処理チャンバへのガスフローを制御する方法及び装置
JP5582684B2 (ja) 半導体処理システムにガスを分配する装置及び半導体処理チャンバにガスを分配する装置
US20120097266A1 (en) Apparatus for controlling gas distribution using orifice ratio conductance control
WO2009084422A1 (ja) 流量比率制御装置
US7775236B2 (en) Method and apparatus for controlling gas flow to a processing chamber
JP2008211218A5 (ko)
TWI480712B (zh) A gas shunt supply device for a semiconductor manufacturing apparatus
CN109477586A (zh) 流孔内置阀以及压力式流量控制装置
KR20140144242A (ko) 다중―존 가스 피드들을 채용한 플라즈마 프로세싱 챔버들에서의 공유된 가스 패널들
TW201442132A (zh) 用於工件之液體處理的設備及用於該設備中之流動控制系統
KR20190074930A (ko) 질량유량제어기
TWI652134B (zh) Cooling device and method for cooling the same
WO2020217042A3 (en) Fluid dispensing apparatus, system and method
KR102040962B1 (ko) 다채널 솔레노이드 밸브 조합체 및 이를 이용한 이동형 압력/유량 정밀 제어 시스템
US6363966B1 (en) Stream switching system
CN112362719A (zh) 一种气流流量控制装置及离子迁移谱仪
CN219051282U (zh) 一种高通量压力控制器及平行反应系统
CN210626393U (zh) 一种气流流量控制装置及离子迁移谱仪
JP7352947B2 (ja) バルブ装置及び分流システム
CN116272719A (zh) 一种高通量压力控制器及平行反应系统
JP2024517166A (ja) 流体供給取付けパネルおよびシステム
IT202100026630A1 (it) Gruppo valvola perfezionato.
JP2008232751A (ja) 分析計

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant