KR20150029146A - Thin film deposition apparatus - Google Patents

Thin film deposition apparatus

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KR20150029146A
KR20150029146A KR20130107922A KR20130107922A KR20150029146A KR 20150029146 A KR20150029146 A KR 20150029146A KR 20130107922 A KR20130107922 A KR 20130107922A KR 20130107922 A KR20130107922 A KR 20130107922A KR 20150029146 A KR20150029146 A KR 20150029146A
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evaporation
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유도형
정재천
김정훈
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주식회사 원익아이피에스
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Abstract

The present invention relates to a thin film deposition apparatus and, more specifically, to a thin film deposition apparatus capable of depositing by evaporation. Disclosed is the thin film deposition apparatus comprising: a process chamber which has a sealed processing space; one or more evaporators installed in the process chamber, wherein a deposition material is evaporated; a substrate support part which supports a substrate to allow a substrate treatment surface to face the evaporator; a space dividing part which divides the processing space into a processing area in which the substrate is located and an evaporating area in which the evaporator is installed, and has an opening connected with the processing area and the evaporating area; and an evaporation blocking part which opens and closes the opening of the space dividing part. The evaporation blocking part includes: one or more main shutter parts which opens and closes a part of the opening by linear movement; a linear driving part which drives linear movement of the main shutter part; a folding shutter part which covers the opening with the main shutter part as rotating with respect to the main shutter part when the opening is closed; and a rotation driving part which rotates the folding shutter part with respect to the main shutter part.

Description

박막증착장치 {Thin film deposition apparatus}[0001] The present invention relates to a thin film deposition apparatus,

본 발명은 박막증착장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 증발에 의하여 증착을 수행하는 박막증착장치에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film deposition apparatus, and more particularly, to a thin film deposition apparatus that performs deposition by evaporation.

평판표시소자(Flat Panel Display)는 액정표시소자 (Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이소자(Plasma Display Panel), 유기발광소자 (Organic Light Emitting Diodes) 등이 대표적이다.A flat panel display is typically a liquid crystal display, a plasma display panel, or an organic light emitting diode.

이 중에서 유기발광소자는 빠른 응답속도, 기존의 액정표시소자보다 낮은 소비 전력, 고휘도, 경량성 등의 특성이 있으며, 별도의 백라이트(back light) 장치가 필요 없어 초박형으로 만들 수 있는 점 등의 장점을 지니고 있는바, 차세대 디스플레이 소자로서 각광받고 있다.Of these, organic light emitting devices have advantages such as fast response speed, lower power consumption than conventional liquid crystal display devices, high brightness and light weight, and the advantage of being able to be made ultra thin by not requiring a separate back light device And has been attracting attention as a next-generation display device.

한편, 평판표시소자의 기판에 박막을 형성하는 일반적인 방법으로는, 증발증착법(Evaporation)과, 이온 플레이팅법(Ion-plating) 및 스퍼터링법(Sputtering)과 같은 물리증착법(PVD)과, 가스반응에 의한 화학기상증착법(CVD) 등이 있다. 이 중에서, 유기발광소자의 유기물층, 무기물층 등과 같은 박막형성에 증발증착법이 사용될 수 있다.As a general method of forming a thin film on a substrate of a flat panel display device, there are evaporation, physical vapor deposition (PVD) such as ion plating and sputtering, And chemical vapor deposition (CVD). Among them, a vapor deposition method can be used for forming a thin film such as an organic material layer, an inorganic material layer, etc. of an organic light emitting device.

평판표시소자의 기판에 박막을 형성하는 방법 중 증발증착법은 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와, 공정챔버의 하부에 설치되어 증착될 물질이 증발되는 증발원을 포함하는 박막증착장치에 의하여 수행된다.Among the methods of forming a thin film on the substrate of the flat panel display device, the evaporation deposition method is performed by a thin film deposition apparatus including a process chamber for forming a closed process space and an evaporation source for evaporating the material to be deposited, .

여기서 증발원은, 도가니에 담긴 증착물질을 가열하여 지속적으로 증발시켜 기판처리면에 박막을 증착하게 된다. 특히 증발원은, 증착물질의 증발을 시작하면 도가니 내에 증착물질이 소진될 때까지 지속적으로 가열하여야 한다.Here, the evaporation source heats the evaporation material contained in the crucible and continuously evaporates the evaporation material to deposit the thin film on the substrate processing surface. In particular, the evaporation source should be continuously heated until evaporation of the evaporation material occurs, until the evaporation material in the crucible is exhausted.

한편, 상기 박막증착장치는, 기판에 대한 박막증착공정을 마친 후에는 새로운 기판으로 교환하여야 하는데 증발원에서는 지속적으로 증착물질이 증발된다.Meanwhile, after the thin film deposition process for the substrate is completed, the thin film deposition apparatus must be replaced with a new substrate, and the evaporation material continuously evaporates in the evaporation source.

그리하여 기판처리를 마친 기판과 기판처리될 기판과의 교환과정에서 증착물질의 지속되는 증발에 의하여 기판처리를 마친 기판 및 기판처리될 기판에 증착물질의 불안정한 증착이 이루어지는 문제점이 있다.Thus, there is a problem that unstable deposition of a deposition material occurs on the substrate after the substrate processing and the substrate to be processed by the continuous evaporation of the evaporation material during the exchange of the substrate after the substrate processing and the substrate to be processed.

특히 기판을 공정챔버 내에서 기판을 회전시키면서 박막증착공정을 수행하는 경우, 기판교환시 기판회전을 멈추고 새로운 기판으로 교환되는바 이 경우 기판교환과정에서 증착물질의 증발에 의하여 기판처리를 마친 기판 및 기판처리될 기판에 증착물질의 불안정한 증착이 이루어져 기판불량을 초래할 수 있다.Particularly, when a thin film deposition process is performed while rotating a substrate in a process chamber, the substrate rotation is stopped and the substrate is exchanged with a new substrate when the substrate is exchanged. In this case, Unstable deposition of the deposition material on the substrate to be processed may result in substrate failure.

따라서 종래의 박막증착장치는, 기판이 위치된 처리영역과 증발원이 설치된 증발영역을 구획하며, 처리영역 및 증발영역이 연통되는 개구부를 형성하는 구획부와, 구획부의 개구부를 개폐하는 증발차단부를 포함한다.Therefore, the conventional thin film deposition apparatus includes a partition for partitioning a processing area where a substrate is placed and an evaporation area where an evaporation source is installed, and forms an opening through which the processing area and the evaporation area communicate, and an evaporation blocking part for opening and closing the opening of the compartment do.

여기서 증발차단부는, 선형이동 또는 회전이동에 의하여 개구부를 개폐하는 셔터를 구비함이 일반적이다.Here, the evaporation cut-off portion is generally provided with a shutter that opens and closes the opening portion by linear movement or rotational movement.

그런데 상기와 같이 증발차단부가 공정챔버에 설치되는 경우 증발차단부를 구성하는 셔터부재가 개구부의 가장자리 밖으로 완전히 이동하여 개구부를 개방하여야 하는바 셔터부재가 개구부의 가장자리 밖으로 완전히 이동될 수 있도록 공정챔버에 측방향 공간이 확보되어야 하며, 결과적으로 공정챔버의 크기를 증가시켜 진공압 형성을 위한 배기시간의 증가, 챔버크기 증가에 따른 제조비용의 증가 등의 문제점이 있다.However, when the evaporation cutoff unit is installed in the process chamber as described above, the shutter member constituting the evaporation cutoff unit must be completely moved out of the edge of the opening to open the opening. In order to completely move the shutter member out of the edge of the opening, There is a problem in that the size of the process chamber is increased to increase the exhaust time for forming the vacuum pressure and increase the manufacturing cost due to the increase of the chamber size.

본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 증발원에서 증발된 증착물질을 차단하는 증발차단부를 구성함에 있어 증착물질이 통과하는 개구부의 개방시 중첩된 상태에 있고 개구부의 폐쇄시 펼쳐지는 메인셔터부 및 접이셔터부로 구성함으로써 공정챔버 내 증발차단부가 차지하는 공간을 줄여 공정챔버의 크기를 최소화할 수 있는 박막증착장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide an evaporation cut-off unit for blocking a vaporized material evaporated in an evaporation source, A shutter unit and a folding shutter unit, thereby reducing the space occupied by the evaporation blocking unit in the process chamber, thereby minimizing the size of the process chamber.

본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은, 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와; 상기 공정챔버에 설치되어 증착물질이 증발되는 하나 이상의 증발원과; 기판처리면이 상기 증발원을 향하도록 기판을 지지하는 기판지지부와; 상기 처리공간을 기판이 위치된 처리영역과 상기 증발원이 설치된 증발영역을 구획하며 상기 처리영역 및 상기 증발영역이 연통되는 개구부가 형성된 공간구획부와; 상기 공간구획부의 개구부를 개폐하는 증발차단부를 포함하며, 상기 증발차단부는, 선형이동에 의하여 상기 개구부의 일부를 개폐하는 하나 이상의 메인셔터부와, 상기 메인셔터부의 선형이동을 구동하기 위한 선형구동부와, 상기 개구부의 폐쇄시 상기 메인셔터부에 대하여 회전하여 상기 메인셔터부와 함께 상기 개구부를 복개하는 접이셔터부와, 상기 메인셔터부에 대하여 상기 접이셔터부를 회전시키는 회전구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치를 개시한다.The present invention has been made in order to achieve the above-mentioned object of the present invention, and it is an object of the present invention to provide a process chamber for forming a closed process space; One or more evaporation sources installed in the process chamber to evaporate the evaporation material; A substrate supporting part for supporting the substrate such that the substrate processing surface faces the evaporation source; A space dividing section for dividing the processing space into a processing area in which the substrate is placed and an evaporation area in which the evaporation source is installed and an opening through which the processing area and the evaporation area communicate; Wherein the evaporation blocking portion includes at least one main shutter portion that opens and closes a part of the opening portion by linear movement, a linear driving portion for driving the linear movement of the main shutter portion, A folding shutter portion that rotates with respect to the main shutter portion when the opening portion is closed and covers the opening portion together with the main shutter portion; and a rotation driving portion that rotates the folding shutter portion with respect to the main shutter portion A thin film deposition apparatus is disclosed.

상기 메인셔터부 및 상기 접이셔터부는, 상기 기판지지부에 안착된 상태의 기판의 중심을 기준으로 서로 대칭을 이루어 한 쌍으로 배치될 수 있다.The main shutter portion and the tilting shutter portion may be arranged in a pair symmetrically with respect to the center of the substrate in a state of being mounted on the substrate supporting portion.

상기 회전구동부는, 상기 접이셔터부를 상기 메인셔터부에 힌지결합시키는 힌지축을 회전시키는 회전모터를 포함할 수 있다.The rotation driving unit may include a rotation motor that rotates a hinge shaft that hinges the folding shutter unit to the main shutter unit.

상기 회전모터의 회전구동력은 하나 이상의 기어에 의하여 상기 힌지축에 전달될 수 있다.The rotational driving force of the rotary motor may be transmitted to the hinge shaft by one or more gears.

상기 회전모터와 상기 힌지축 사이에는 상기 회전모터의 회전력을 감속하기 위한 감속기가 설치될 수 있다.A decelerator for decelerating the rotational force of the rotary motor may be installed between the rotary motor and the hinge shaft.

상기 회전구동부는, 상기 메인셔터부의 선형이동방향으로 상기 메인셔터부에 형성된 슬롯에 이동가능하게 설치된 제1샤프트와, 상기 메인셔터부가 선형이동방향을 따라서 간격을 두고 설치되어 상기 메인셔터부의 선형이동시 상기 제1샤프트의 이동을 제한하는 제1 및 제2스토퍼들과, 상기 접이셔터부를 상기 메인셔터부에 힌지결합시키는 힌지축과 평행을 이루어 상기 접이셔터부에 결합된 제2샤프트와, 상기 제1샤프트가 상기 제1 및 제2스토퍼들 중 어느 하나에 이동을 제한받을 때 상기 접이셔터부가 상기 메인셔터부에 대하여 회전되도록 상기 제1샤프트 및 상기 제2샤프트를 연결하며 그 길이가 가변되는 링크부재를 포함할 수 있다.Wherein the rotation drive unit includes a first shaft movably installed in a slot formed in the main shutter unit in a linear movement direction of the main shutter unit and a second shaft movably provided in the linear movement direction of the main shutter unit, A second shaft coupled to the folding shutter portion in parallel with a hinge shaft for hinging the folding shutter portion to the main shutter portion; Wherein the first shaft and the second shaft are connected to each other so that when the first shaft is restricted from being moved to any one of the first and second stoppers, the folding shutter is rotated with respect to the main shutter, Member.

상기 회전구동부는, 상기 메인셔터부의 선형이동방향으로 상기 메인셔터부에 형성된 슬롯에 이동가능하게 설치된 제1샤프트와, 상기 메인셔터부가 선형이동방향을 따라서 간격을 두고 설치되어 상기 메인셔터부의 선형이동시 상기 제1샤프트의 이동을 제한하는 제1 및 제2스토퍼들과, 상기 접이셔터부를 상기 메인셔터부에 힌지결합시키는 힌지축과 평행을 이루어 상기 접이셔터부에 결합되며 상기 힌지축과 수직을 이루어 상기 접이셔터부에 형성된 슬롯을 따라서 이동가능하게 설치된 제2샤프트와, 상기 제1샤프트가 상기 제1 및 제2스토퍼들 중 어느 하나에 이동을 제한받을 때 상기 접이셔터부가 상기 메인셔터부에 대하여 회전되도록 상기 제1샤프트 및 상기 제2샤프트를 연결하는 링크부재를 포함할 수 있다.Wherein the rotation drive unit includes a first shaft movably installed in a slot formed in the main shutter unit in a linear movement direction of the main shutter unit and a second shaft movably provided in the linear movement direction of the main shutter unit, The hinge unit includes first and second stoppers for restricting movement of the first shaft, and a second stopper that is parallel to a hinge shaft for hinge-coupling the folding shutter unit to the main shutter unit and is coupled to the folding shutter unit and perpendicular to the hinge shaft A second shaft provided movably along a slot formed in the folding shutter portion; and a second shutter, which is provided on the main shutter portion when the first shaft is restricted to move to either the first stopper or the second stopper And a link member connecting the first shaft and the second shaft to be rotated.

상기 회전구동부는, 상기 메인셔터부의 선형이동방향으로 설치된 랙기어와, 상기 접이셔터부에 결합되어 상기 랙기어에 기어결합되어 상기 메인셔터부의 선형이동시 회전되어 상기 메인셔터부에 힌지결합시키는 힌지축을 회전시키는 피니언기어를 포함할 수 있다.The rotation driving unit may include a rack gear installed in a linear movement direction of the main shutter unit and a hinge shaft coupled to the folding shutter unit and gear-coupled to the rack gear to rotate when the main shutter unit is linearly moved to hinge the main shutter unit. And may include a pinion gear that rotates.

상기 피니언기어 및 상기 힌지축 사이에는 상기 피니언기어의 회전력을 감속하기 위한 감속기가 설치될 수 있다.A decelerator for decelerating the rotational force of the pinion gear may be installed between the pinion gear and the hinge shaft.

상기 기판지지부는, 박막증착공정 수행시 기판을 픽업하여 수평회전시킬 수 있다.The substrate support may be horizontally rotated by picking up a substrate during a thin film deposition process.

상기 증발원은, 기판의 수평회전방향으로 간격을 두고 복수개로 배치될 수 있다.The evaporation sources may be arranged in a plurality of intervals with an interval in the horizontal rotation direction of the substrate.

상기 증발원은, 상기 공정챔버 내에서 고정되며, 상기 기판은, 증착공정 수행시 선형이동될 수 있다.The evaporation source is fixed in the process chamber, and the substrate can be linearly moved during the deposition process.

상기 증발원은, 기판의 이동방향과 수직인 방향으로 하나 이상의 증발원군이 기판의 이동방향을 따라서 복수개로 배치될 수 있다.The evaporation source may be arranged in a plurality of groups along the moving direction of the substrate, in which one or more evaporation source groups are arranged in a direction perpendicular to the moving direction of the substrate.

본 발명에 따른 박막증착장치는, 개구부의 개방시 중첩된 상태에 있다가 회전에 의하여 펼쳐져서 개구부를 폐쇄할 수 있도록 증발원에서 증발된 증착물질을 차단하는 증발차단부를 선형이동하는 메인셔터부 및 메인셔터부에 대하여 회전하는 접이셔터부로 구성함으로써 증발차단부의 설치에 따른 공정챔버의 크기 증가를 최소화할 수 있는 이점이 있다.The thin film deposition apparatus according to the present invention includes a main shutter portion and a main shutter portion which linearly move the evaporation blocking portion for blocking the evaporated material in the evaporation source so as to be opened when the opening portion is opened, And a folded shutter portion that rotates with respect to the shutter portion, thereby increasing the size of the process chamber due to the installation of the evaporation cut-off portion.

특히 본 발명에 따른 박막증착장치는, 증발물질의 증발을 차단하는 증발차단부의 구성에 있어서 메인셔터부의 선형이동 및 접이셔터부의 힌지회전에 의하여 개부를 개폐함으로써 증발차단부가 차지하는 공간을 최소화하고 개구부를 신속하게 개폐할 수 있는 이점이 있다.Particularly, the thin film deposition apparatus according to the present invention minimizes the space occupied by the evaporation blocking portion by opening and closing the open portion by linear movement of the main shutter portion and hinge rotation of the folding shutter portion in the structure of the evaporation blocking portion for blocking evaporation of evaporation material, There is an advantage that it can be opened and closed quickly.

또한 본 발명에 따른 박막증착장치는, 증발물질의 증발을 차단하는 증발차단부의 구성에 있어서 메인셔터부의 선형이동 및 메인셔터부의 선형이동에 연동하여 메인셔터부에 대하여 회전되는 접이셔터부를 구비함으로써 증발차단부가 차지하는 공간을 최소화하고 개구부를 신속하게 개폐할 수 있는 이점이 있다.The thin film deposition apparatus according to the present invention includes a tilting shutter unit that is rotated relative to the main shutter unit in conjunction with the linear movement of the main shutter unit and the linear movement of the main shutter unit in the configuration of the evaporation blocking unit that blocks evaporation of evaporation material, There is an advantage that the space occupied by the blocking portion can be minimized and the opening can be quickly opened and closed.

도 1은, 본 발명에 따른 박막증착장치를 보여주는 단면도이다.
도 2a 및 도 2b는, 도 1의 박막증착장치에서 증발차단부의 작동과정을 보여주는 단면도들이다.
도 3은, 도 1의 박막증착장치에서 증발차단부의 제1실시예를 보여주는 일부 측면도이다.
도 4a 내지 도 4c는, 도 3의 증발차단부의 제1실시예의 작동과정을 보여주는 단면도들이다.
도 5는, 도 1의 박막증착장치에서 증발차단부의 제2실시예를 보여주는 일부 측면도이다.
도 6a 내지 도 6c는, 도 5의 증발차단부의 제2실시예의 작동과정을 보여주는 단면도들이다.1 is a cross-sectional view showing a thin film deposition apparatus according to the present invention.
FIGS. 2A and 2B are cross-sectional views illustrating the operation of the evaporation cut-off portion in the thin film deposition apparatus of FIG.
3 is a partial side view showing a first embodiment of the evaporation cut-off portion in the thin film deposition apparatus of FIG.
4A to 4C are sectional views showing the operation of the first embodiment of the evaporation cut-off portion of Fig.
5 is a partial side view showing a second embodiment of the evaporation cut-off portion in the thin film deposition apparatus of FIG.
6A to 6C are cross-sectional views showing an operation process of the second embodiment of the evaporation cut-off portion of FIG.

이하 본 발명에 따른 박막증착장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a thin film deposition apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 박막증착장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 공정챔버(100)와; 공정챔버(100)에 설치되어 증착물질이 증발되는 하나 이상의 증발원(310)과; 기판처리면이 증발원(310)을 향하도록 기판(10)을 지지하는 기판지지부(400)와; 처리공간(S)을 기판(10)이 위치된 처리영역(S)과 증발원(310)이 설치된 증발영역을 구획하며, 처리영역 및 증발영역이 연통되는 개구부(141)가 형성된 공간구획부(140)와; 공간구획부(140)의 개구부(141)를 개폐하는 증발차단부(200)를 포함한다.The thin film deposition apparatus according to the present invention comprises a process chamber 100 forming a closed process space S as shown in FIG. 1; At least one evaporation source (310) installed in the process chamber (100) to evaporate the evaporation material; A substrate support 400 for supporting the substrate 10 such that the substrate processing surface faces the evaporation source 310; The processing space S is divided into a processing region S where the substrate 10 is located and an evaporation region where the evaporation source 310 is installed and a space partition 140 )Wow; And an evaporation blocking part 200 for opening and closing the opening 141 of the space dividing part 140.

여기서 기판처리의 대상인 기판(10)은 액정표시소자 (Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이소자(Plasma Display Panel), 유기발광소자 (Organic Light Emitting Diodes) 등 기판처리면에 증착물의 증발에 의하여 박막을 형성할 수 있는 부재이면 어떠한 대상도 가능하다.Here, the substrate 10, which is an object of the substrate processing, forms a thin film by evaporation of a deposition material on a substrate-processed surface such as a liquid crystal display, a plasma display panel, and an organic light emitting diode Any object can be made as long as it can be done.

상기 공정챔버(100)는 기판처리의 수행을 위하여 처리공간(S)을 형성하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The process chamber 100 is configured to form a process space S for performing a substrate process.

일예로서, 상기 공정챔버(100)는 챔버본체(120)와 서로 탈착가능하게 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 탑리드(110)를 포함하여 구성될 수 있다.For example, the process chamber 100 may include a top lead 110 detachably coupled to the chamber body 120 to form a closed processing space S.

상기 기판지지부(400)는, 기판처리의 수행을 위하여 기판(10)을 지지하기 위한 구성으로서 기판처리의 방식에 따라서 다양한 구성이 가능하다.The substrate supporter 400 may be configured to support the substrate 10 in order to perform the substrate process, and may have various configurations according to the substrate processing method.

특히 상기 기판지지부(400)는, 기판처리의 수행을 위하여 기판(10)을 수평선형이동시키는 등, 기판(10)의 이동형태에 따라서 다양한 구성을 가질 수 있다.In particular, the substrate support unit 400 may have various configurations according to the movement of the substrate 10, such as horizontally moving the substrate 10 to perform substrate processing.

일예로서, 상기 기판(10)을 고정한 상태에서 기판(10)을 회전시켜 기판처리를 수행하는 경우, 기판지지부(400)는, 기판(10)을 픽업하여 고정하는 기판픽업부(410)와 기판픽업부(410)를 수평회전시킴으로써 기판(10)을 수평회전시키는 기판회전부(420)를 포함할 수 있다.For example, when the substrate 10 is rotated while the substrate 10 is fixed, the substrate supporting unit 400 includes a substrate pickup unit 410 for picking up and fixing the substrate 10, And a substrate rotating part 420 for horizontally rotating the pick-up part 410 to rotate the substrate 10 in a horizontal direction.

상기 기판픽업부(410)는, 기판처리면이 증발원(310), 예를 들면 하측을 향하도록 기판(10)을 픽업하여 지지하기 위한 구성으로서 기판처리면의 배면이 밀착되어 안착되는 지지부(412)와, 기판(10)을 지지부(412)에 밀착시키는 픽업부(411)를 포함할 수 있다.The substrate pick-up unit 410 includes a support unit 412 for picking up and supporting the substrate 10 so as to face the evaporation source 310, for example, And a pickup unit 411 for bringing the substrate 10 into close contact with the supporting unit 412.

상기 지지부(412)는, 기판(10)의 배면을 안정적으로 지지할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The supporting portion 412 may have any structure as long as it can stably support the back surface of the substrate 10. [

상기 픽업부(411)는, 지지부(412)에 밀착시켜 기판(10)을 지지하기 위한 구성으로서 상하이동에 의하여 기판(10)의 수수 및 기판밀착을 수행하는 등 다양한 구성이 가능하다. 도 1에 도시된 픽업부(211)는, 편의상 도시한 것으로 기판도입시 기판(10)이 픽업부(411)로 도입될 수 있도록 게이트(121)로 향할 수 있음은 물론이다.The pickup unit 411 may have a variety of configurations such as performing the substrate transfer by the up-and-down movement and the substrate adherence by closely contacting the support unit 412 to support the substrate 10. 1 may be directed to the gate 121 so that the substrate 10 can be introduced into the pickup unit 411 when the substrate is introduced.

한편 상기 증착공정이 기판(10)의 기판처리면에 마스크(미도시)를 밀착시켜 수행되는 경우 픽업부(211)는 마스크도 동시에 지지하는 등 다양한 구성이 가능하다.Meanwhile, if the deposition process is carried out by closely adhering a mask (not shown) to the substrate-processed surface of the substrate 10, the pickup unit 211 can support the mask at the same time.

상기 기판회전부(420)는, 기판픽업부(410)를 회전구동하기 위한 구성으로서 회전모터 등 다양한 구성이 가능하다.The substrate rotating part 420 may have various configurations such as a rotary motor for rotating and driving the substrate pickup part 410.

한편 상기 공정챔버(100)는 처리공간(S)에서 기판처리의 조건에 맞춰 압력유지 및 배기를 위한 배기관(미도시), 처리공간(S) 내로 가스를 공급하는 가스공급부(미도시) 등 기판처리의 종류에 따라서 다양한 부재, 모듈 등이 설치될 수 있다.Meanwhile, the process chamber 100 includes an exhaust pipe (not shown) for maintaining and exhausting the pressure in accordance with conditions of the substrate processing in the process space S, a gas supply unit (not shown) for supplying gas into the process space S, Various members, modules, and the like may be installed depending on the type of processing.

또한 상기 공정챔버(100)는 기판(10)에 패턴화된 증착공정을 수행하는 경우 마스크(미도시)가 설치될 수 있으며, 마스크와 기판(10)을 얼라인하는 얼라인모듈 등 다양한 모듈이 설치될 수 있다.In addition, the process chamber 100 may be provided with a mask (not shown) for performing a patterned deposition process on the substrate 10, and various modules such as an alignment module for aligning the mask and the substrate 10 Can be installed.

또한 상기 공정챔버(100)는 기판(10)의 입출을 위한 하나 이상의 게이트(122)가 형성될 수 있다.In addition, the process chamber 100 may be formed with at least one gate 122 for the entry and exit of the substrate 10. [

상기 증발원(310)은 증착물질을 가열에 의하여 증발시키기 위한 구성으로서, 하나 이상으로 설치되며, 증착물질이 담기는 도가니와, 도가니 주변에 설치되어 도가니에 담긴 증착물질을 가열하는 히터를 포함하여 구성되는 등 다양하게 구성될 수 있다.The evaporation source 310 is configured to evaporate the evaporation material by heating. The evaporation source 310 includes at least one crucible for containing the evaporation material, and a heater installed around the crucible for heating the evaporation material contained in the crucible. And the like.

그리고 상기 증착물질은, 증착공정의 목적에 따라서, OLED의 유기층을 형성하는 유기물, 전극층을 형성하는 Al, Ag, Mg, LiQ 등의 다양한 물질이 사용될 수 있다.The deposition material may be an organic material for forming an organic layer of an OLED, or a variety of materials for forming an electrode layer such as Al, Ag, Mg, and LiQ depending on the purpose of the deposition process.

한편 상기 증발원(310)은, 하나 이상으로 공정챔버(100)에 고정설치되거나 수평이동하는 등 다양한 방식에 의하여 설치될 수 있다.Meanwhile, the evaporation source 310 may be installed in various ways such as fixedly installed in the process chamber 100 or moved horizontally.

예로서, 상기 증발원(310)은, 기판(10)의 수평회전방향으로 간격을 두고 복수개로 배치될 수 있다.For example, the evaporation sources 310 may be arranged in a plurality of intervals with an interval in the horizontal rotation direction of the substrate 10. [

또한 상기 증발원(310)은, 하나 이상으로 공정챔버(100) 내에서 고정되며, 이때 기판(10)은 증착공정 수행시 수평선형이동될 수 있다.Also, the evaporation source 310 is fixed in one or more of the process chambers 100, wherein the substrate 10 can be moved horizontally during the deposition process.

또한 상기 증발원(310)은, 기판(10)의 이동방향과 수직인 방향으로 배치된 하나 이상의 증발원군이 기판의 이동방향을 따라서 배치되어 구성될 수 있다.The evaporation source 310 may be configured such that at least one evaporation source group arranged in a direction perpendicular to the moving direction of the substrate 10 is disposed along the moving direction of the substrate.

상기 공간구획부(140)는, 공정챔버(100) 내에 설치되며 처리공간(S)을 상기 처리영역 및 증발영역으로 구획하며 개구부(141)가 형성되는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The space dividing unit 140 may be configured in various ways as a constitution in which the processing space S is divided into the processing region and the evaporation region and the opening portion 141 is formed in the process chamber 100.

여기서 상기 처리영역 및 증발영역은, 처리공간(S)이 기판(10)이 위치된 영역과 증발원(310)이 설치된 영역으로 구획된 영역들을 의미한다.Here, the processing region and the evaporation region refer to regions where the processing space S is divided into a region where the substrate 10 is located and a region where the evaporation source 310 is installed.

그리고 상기 공간구획부(140)는, 처리공간(S)을 처리영역 및 증발영역으로 구획함과 아울러 증발원(310)에서 발생되는 고열을 처리영역 쪽으로 전달되는 것을 방지하기 위하여 냉각부가 설치될 수 있다.The space dividing unit 140 may be provided with a cooling unit for partitioning the process space S into a process region and an evaporation region and for preventing the high heat generated in the evaporation source 310 from being transmitted to the process region .

상기 냉각부는, 구획부(140)에 설치되는 열교환부재 또는 냉매순환관으로 구성되는 등 다양한 구성이 가능하다.The cooling unit may include a heat exchange member or a refrigerant circulation pipe installed in the partition 140, and the like.

상기 증발차단부(200)는, 처리영역 및 증발영역이 연통되는 공간구획부(140)의 개구부(141)를 개폐하여 기판처리시에만 증착물질이 처리영역으로 전달되도록 하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The evaporation cut-off portion 200 may be configured to open and close the opening 141 of the space dividing portion 140 in which the processing region and the evaporation region communicate with each other to transfer the evaporation material to the processing region only during the substrate processing. Do.

상기 증발차단부(200)는, 도 1 내지 도 6c에 도시된 바와 같이, 선형이동에 의하여 개구부(141)의 일부를 개폐하는 하나 이상의 메인셔터부(210)와, 메인셔터부(210)의 선형이동을 구동하기 위한 선형구동부(230)와, 개구부(141)의 폐쇄시 메인셔터부(210)에 대하여 회전하여 메인셔터부(210)와 함께 개구부(141)를 복개하는 접이셔터부(220)와, 메인셔터부(210)에 대하여 접이셔터부(220)를 회전시키는 회전구동부를 포함할 수 있다.1 to 6C, the evaporation cut-off portion 200 includes at least one main shutter portion 210 for opening / closing a part of the opening 141 by linear movement, A linear shutter 230 for driving linear movement of the main shutter unit 210 and a shutter shutter 220 for rotating the main shutter unit 210 when the opening 141 is closed, And a rotation driving unit for rotating the folding shutter unit 220 with respect to the main shutter unit 210.

상기 메인셔터부(210)는, 공정챔버(100)에 하나 이상으로 설치되어, 선형이동에 의하여 개구부(141)의 일부를 개폐하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The main shutter unit 210 may be installed in one or more of the process chambers 100 to open and close a part of the opening 141 by linear movement.

예로서, 상기 메인셔터부(210)는, 개구부(141)의 일부를 개폐할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하며, 하나 이상의 플레이트를 포함할 수 있으며, 구조적 보강을 위하여 복수의 프레임부재들이 더 포함할 수 있다.For example, the main shutter unit 210 may have any configuration as long as it can open and close a part of the opening 141, may include one or more plates, and a plurality of frame members may be provided for structural reinforcement .

상기 선형구동부(230)는, 메인셔터부(210)가 개구부(141)의 일부를 개폐하기 위하여 선형이동시키기 위한 구성으로서, 스크류잭, 리니어가이드 등 메인셔터부(210)에 대한 선형구동방식에 따라서 다양한 구성이 가능하다.The linear driving unit 230 is configured to linearly move the main shutter unit 210 such as a screw jack or a linear guide to linearly move the main shutter unit 210 in order to open and close a part of the opening 141, Thus, various configurations are possible.

예로서, 상기 선형구동부(230)는, 도 1 내지 도 2b에 도시된 바와 같이, 메인셔터부(210)의 양단을 지지하여 그 선형이동을 가이드하는 한 쌍의 가이드레일(231)과, 가이드레일(231)을 따라서 메인셔터부(210)의 선형이동을 구동하는 구동부(미도시)를 포함할 수 있다.1 and 2B, the linear driving unit 230 includes a pair of guide rails 231 for supporting both ends of the main shutter unit 210 and guiding the linear movement of the main shutter unit 210, And a driving unit (not shown) for driving the linear movement of the main shutter unit 210 along the rail 231.

상기 접이셔터부(220)는, 개구부(141)의 폐쇄시 메인셔터부(210)에 대하여 회전하여 메인셔터부(210)와 함께 개구부(141)를 복개하는 구성으로서 메인셔터부(210)에 대하여 회전에 의하여 메인셔터부(210)와 함께 개구부(141)를 복개할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The folding shutter portion 220 is configured to rotate about the main shutter portion 210 when the opening portion 141 is closed and cover the opening portion 141 together with the main shutter portion 210, Any structure can be used as long as it can cover the opening portion 141 together with the main shutter portion 210 by the rotation.

예로서, 상기 접이셔터부(220)는, 메인셔터부(210)에 대하여 하나 이상의 힌지부재(240)에 의하여 결합됨을 특징으로 하며, 하나 이상의 플레이트를 포함할 수 있으며, 구조적 보강을 위하여 복수의 프레임부재들이 더 포함할 수 있다.For example, the folding shutter portion 220 is characterized in that it is coupled to the main shutter portion 210 by one or more hinge members 240, and may include one or more plates, And may further include frame members.

또한 상기 접이셔터부(220)는, 메인셔터부(210)의 선형이동방향을 기준으로 그 전방에서 메인셔터부(210)와 힌지결합됨으로써, 메인셔터부(210)의 선형이동과 동시에 또는 메인셔터부(210)의 선형이동 후에 회전됨으로써 메인셔터부(210)와 함께 개구부(141)를 복개하거나 개방할 수 있다.The folding shutter unit 220 is hinged to the main shutter unit 210 in front of the main shutter unit 210 with respect to the linear movement direction of the main shutter unit 210, The opening portion 141 can be opened or closed together with the main shutter portion 210 by being rotated after the linear movement of the shutter portion 210. [

특히 상기 접이셔터부(220)는, 개구부(141)의 신속한 복개 또는 개방을 위하여 메인셔터부(210)의 선형이동에 연동하여 메인셔터부(210)에 대하여 회전되도록 설치됨이 바람직하다.It is preferable that the folding shutter unit 220 is provided so as to be rotated with respect to the main shutter unit 210 in conjunction with the linear movement of the main shutter unit 210 for quick opening or closing of the opening 141.

한편 상기 접이셔터부(220)는, 힌지부재(240)에 의하여 메인셔터부(210)와 힌지결합되는 것이 바람직한바 메인셔터부(210)와의 결합부분에서 틈이 형성되어 증발물질이 누출될 수 있다.The folding shutter unit 220 is preferably hinged to the main shutter unit 210 by the hinge member 240 so that a gap is formed at a portion where the main shutter unit 210 is coupled with the main shutter unit 210, have.

따라서 상기 접이셔터부(220) 및 메인셔터부(210)가 펼쳐진 상태에서 접이셔터부(220)는, 도 2b에 도시된 바와 같이, 메인셔터부(210)와 서로 면접하는 부분에 어느 한쪽은 일부가 돌출되며 다른 쪽은 그 돌출된 부분이 삽입되도록 오목하게 형성됨이 바람직하다.2B, when the folding shutter unit 220 and the main shutter unit 210 are in a unfolded state, the folding shutter unit 220 is rotated in the direction in which the main shutter unit 210 and the main shutter unit 210 face each other, It is preferable that a part is protruded and the other is formed concave so as to insert the protruding part.

또한 상기 접이셔터부(220) 및 메인셔터부(210)가 펼쳐진 상태에서 접이셔터부(220)와 메인셔터부(210)가 서로 면접하는 부분이 증발원(310)에 대하여, 즉 지면에 대한 수직선을 기준으로 경사면을 이룰 수 있다.A portion where the folding shutter unit 220 and the main shutter unit 210 are in contact with each other in a state in which the folding shutter unit 220 and the main shutter unit 210 are unfolded is set with respect to the evaporation source 310, The inclined surface can be obtained.

상기 회전구동부는, 메인셔터부(210)에 대하여 접이셔터부(220)를 회전시키는 구성으로서 회전모터를 포함하는 등 접이셔터부(220)의 회전방식에 따라서 도 3a 내지 도 7에 도시된 바와 같은 다양한 구성이 가능하다.The rotary drive unit is configured to rotate the folding shutter unit 220 with respect to the main shutter unit 210. The rotary drive unit may be configured to rotate the folding shutter unit 220 as shown in Figs. Various configurations are possible.

또한 상기 회전구동부가 회전모터를 포함하는 경우, 회전모터의 회전구동력은 하나 이상의 기어에 의하여 후술하는 힌지부재(240)의 힌지축(241)에 전달될 수 있으며, 그 회전 감속을 위하여 회전모터와 힌지축(241) 사이에는 회전모터의 회전력을 감속하기 위한 감속기가 설치될 수 있다.When the rotation driving unit includes a rotation motor, the rotation driving force of the rotation motor may be transmitted to the hinge shaft 241 of the hinge member 240, which will be described later, by one or more gears. A decelerator for decelerating the rotational force of the rotary motor may be installed between the hinge shaft 241.

상기와 같은 구성을 가지는 메인셔터부(210) 및 접이셔터부(220)는, 하나로 구성되거나, 도 1 내지 도 6c에 도시된 바와 같이, 기판지지부(210)에 안착된 상태의 기판(10)의 중심을 기준으로 서로 대칭을 이루어 한 쌍으로 배치되는 등 다양한 배치가 가능하다.The main shutter unit 210 and the tilting shutter unit 220 having the above-described structure may be formed as one unit or may be mounted on the substrate 10 in a state of being mounted on the substrate support unit 210, as shown in Figs. 1 to 6C. And they are arranged in a pair symmetrically with respect to the center of the light guide plate.

이때 상기 메인셔터부(210)와 접이셔터부(220)가 펼쳐진 상태에서 대향되는 접이셔터부(220) 사이에서 틈이 형성되어 증발물질이 누출될 수 있는바 이의 방지를 위하여, 접이셔터부(220) 및 메인셔터부(210)가 펼쳐진 상태에서 접이셔터부(220)는, 인접한 접이셔터부(220)와 서로 면접하는 부분에 어느 한쪽은 일부가 돌출되며 다른 쪽은 그 돌출된 부분이 삽입되도록 오목하게 형성됨이 바람직하다.In order to prevent the leakage of the evaporation material due to a gap formed between the main shutter unit 210 and the folded shutter unit 220 facing the folded shutter unit 220 in the unfolded state, 220 and the main shutter portion 210 are opened, the folding shutter portion 220 is formed such that a portion of the folding shutter portion 220 is partially protruded at a portion where the adjacent folding shutter portion 220 is in contact with the other, So that it is concave.

또한 상기 접이셔터부(220) 및 메인셔터부(210)가 펼쳐진 상태에서 접이셔터부(220)는, 인접한 접이셔터부(220)와 서로 면접하는 부분이 증발원(310)에 대하여, 즉 지면에 대한 수직선을 기준으로 경사면을 이룰 수 있다.When the folding shutter unit 220 and the main shutter unit 210 are in a unfolded state, the folding shutter unit 220 is positioned such that a portion of the folding shutter unit 220 that is in contact with the adjacent folding shutter unit 220 faces the evaporation source 310, An inclined plane can be formed based on the vertical line.

한편 상기 증발차단부(200)는, 메인셔터부(210)에 대한 접이셔터부(220)의 회전구동방식에 따라서 다양한 구성이 가능하다.Meanwhile, the evaporation cut-off part 200 can have various configurations according to the rotation driving method of the folding shutter part 220 with respect to the main shutter part 210. [

이하, 상기 증발차단부(200)의 회전구동부에 관하여 실시예들 및 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, the rotation driving unit of the evaporation cut-off unit 200 will be described with reference to embodiments and drawings.

제1실시예에 따른 증발차단부(200)의 회전구동부는, 도 3 내지 도 4c에 도시된 바와 같이, 메인셔터부(210)가 이동과 함께 접이셔터부(220)를 회전시키는 링크부재(255)를 이용하는 구조를 가질 수 있다.3 to 4C, the rotation driving unit of the evaporation cut-off unit 200 according to the first embodiment includes a link member (not shown) for rotating the fold shutter unit 220 along with the movement of the main shutter unit 210 255) may be used.

즉, 제1실시예에 따른 증발차단부(200)의 회전구동부는, 메인셔터부(210)의 선형이동방향으로 메인셔터부(210)에 형성된 슬롯(211)에 이동가능하게 설치된 제1샤프트(251)와, 메인셔터부(210)가 선형이동방향을 따라서 간격을 두고 설치되어 메인셔터부(210)의 선형이동시 제1샤프트(251)의 이동을 제한하는 제1 및 제2스토퍼(252, 253)들과, 접이셔터부(220)를 메인셔터부(210)에 힌지결합시키는 힌지축(241)과 평행을 이루어 접이셔터부(220)에 결합된 제2샤프트(254)와, 제1샤프트(251) 및 제2샤프트(254)를 연결하여 제1샤프트(251)가 제1 및 제2스토퍼(252, 253)들 중 어느 하나에 이동을 제한받을 때 접이셔터부(220)가 메인셔터부(210)에 대하여 회전되도록 하는 링크부재(255)를 포함할 수 있다.That is, the rotation driving unit of the evaporation cut-off unit 200 according to the first embodiment includes a first shaft 210 movably installed in the slot 211 formed in the main shutter unit 210 in the linear movement direction of the main shutter unit 210, A first stopper 251 and a second stopper 252 which are spaced apart from each other along the linear moving direction and restrict movement of the first shaft 251 when the main shutter unit 210 linearly moves, A second shaft 254 coupled to the shutter unit 220 in parallel with the hinge shaft 241 for hinge-coupling the folding shutter unit 220 to the main shutter unit 210, The first shutter 251 and the second shaft 254 are connected to each other so that when the first shaft 251 is restricted from being moved to any one of the first and second stoppers 252 and 253, And a link member 255 for rotating the main shutter unit 210 with respect to the main shutter unit 210.

상기 제1샤프트(251) 및 제2샤프트(254)는, 각각 메인셔터부(210) 및 접이셔터부(220)에 결합되고 링크부재(255)에 의하여 구속결합됨으로써 메인셔터부(210)의 선형이동시 접이셔터부(220)를 회전시키기 위한 구성으로서 힌지부재(240)의 힌지축(241)과 평행하게 설치되는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The first and second shafts 251 and 254 are coupled to the main shutter unit 210 and the tilting shutter unit 220 and are constrained by the link member 255, Any structure may be employed as long as it is arranged parallel to the hinge shaft 241 of the hinge member 240 as a structure for rotating the folding shutter unit 220 when moving linearly.

특히 상기 제1샤프트(251)은, 메인셔터부(210)의 선형이동방향으로 메인셔터부(210)에 형성된 슬롯(211)에 이동가능하게 설치된다.Particularly, the first shaft 251 is movably installed in the slot 211 formed in the main shutter unit 210 in the linear movement direction of the main shutter unit 210.

또한 상기 제2샤프트(254)는, 후술하는 링크부재(255)의 길이가 일정한 경우 제1샤프트(251)과 유사하게 접이셔터부(220)에 형성된 슬롯(미도시)을 따라서 이동가능하게 설치될 수 있다.The second shaft 254 is installed so as to be movable along a slot (not shown) formed in the folding shutter portion 220 similarly to the first shaft 251 when the length of a link member 255 .

또한 상기 링크부재(255)는, 도 4a 내지 도 4c에 도시된 바와 같이, 메인셔터부(210)의 선형이동에 의하여 제1샤프트(251)가 제1 및 제2스토퍼(252, 253)들 중 어느 하나에 이동을 제한받을 때 접이셔터부(220)가 메인셔터부(210)에 대하여 회전되도록 하는 구성으로서, 그 길이가 가변되도록 구성될 수 있다.4A to 4C, the link member 255 is moved in a direction in which the first shaft 251 is engaged with the first and second stoppers 252 and 253 by the linear movement of the main shutter unit 210, The rotation of the folding shutter unit 220 relative to the main shutter unit 210 may be configured such that the length thereof is variable.

이 경우 상기 링크부재(255)는, 양단이 각각 제1샤프트(251) 및 제2샤프트(254)에 결합되고 제1샤프트(251) 및 제2샤프트(254)의 상대회전에 의하여 그 길이변경이 가능한 실린더 구조를 가질 수 있다.In this case, the link member 255 is coupled to the first shaft 251 and the second shaft 254 at both ends thereof, and the length thereof is changed by the relative rotation of the first shaft 251 and the second shaft 254 It is possible to have a possible cylinder structure.

또한 상기 링크부재(255)는, 그 길이가 고정될 수 있으며 이 경우 앞서 설명한 바와 같이, 제1샤프트(251) 및 제2샤프트(254)의 상대회전이 가능하도록 링크부재(255)를 접이셔터부(220)에 연결하는 제2샤프트(254)가 접이셔터부(220)에 형성된 슬롯을 따라서 이동가능하게 설치된다.The link member 255 may be fixed in its length. In this case, as described above, the link member 255 may be rotated by the folding shutter 255 so that the first shaft 251 and the second shaft 254 can rotate relative to each other. And a second shaft 254 connected to the portion 220 is movably installed along a slot formed in the folding shutter portion 220.

상기와 같은 구성을 가지는 제1실시예에 따른 증발차단부(200)의 회전구동부는, 제1샤프트(251), 제2샤프트(254) 및 링크부재(255)의 결합구조에 의하여 메인셔터부(210)의 선형이동시 도 4a 내지 도 4c에 도시된 바와 같이, 개구부(141)의 개방시에는 접이셔터부(220)가 메인셔터부(210)의 상부에 중첩된 상태로 있다가 개구부(141)의 폐쇄시에는 접이셔터부(220)가 회전되어 펼쳐지면서 메인셔터부(210)와 함께 개구부(141)를 폐쇄하게 된다.The rotation driving part of the evaporation cut-off part 200 according to the first embodiment having the above-described structure is constituted by the coupling structure of the first shaft 251, the second shaft 254 and the link member 255, 4A to 4C, when the opening 141 is opened, the folding shutter portion 220 is overlapped on the upper portion of the main shutter portion 210, and the opening portion 141 The folding shutter portion 220 is rotated and unfolded to close the opening portion 141 together with the main shutter portion 210.

구체적으로 제1실시예에 따른 증발차단부(200)의 작동은 아래와 같다.Specifically, the operation of the evaporation cutoff unit 200 according to the first embodiment is as follows.

먼저 상기 메인셔터부(210)가 선형이동하게 되면, 메인셔터부(210)의 선형이동에 의하여 접이셔터부(220)가 함께 선형이동되고, 제1샤프트(251) 또한 메인셔터부(210)의 선형이동과 함께 이동되다가 제2스토퍼(253)에 걸림되어 제1샤프트(251)의 선형이동이 제한된다.When the main shutter unit 210 is linearly moved, the folding shutter unit 220 is linearly moved together with the linear movement of the main shutter unit 210 and the first shaft 251 is also moved along the main shutter unit 210, And then is stopped by the second stopper 253 so that the linear movement of the first shaft 251 is restricted.

그리고 상기 제1샤프트(251)의 선형이동의 제한 및 메인셔터부(210)의 지속적인 선형이동에 의하여, 접이셔터부(220)는, 링크부재(255) 및 제2샤프트(254)에 의한 구속결합으로 도 4a 내지 도 4b에 도시된 바와 같이 접이셔터부(220)가 메인셔터부(210)의 상부에 중첩된 상태로 있다가 개구부(141)의 폐쇄시에는 접이셔터부(220)가 회전되어 펼쳐지면서 메인셔터부(210)와 함께 개구부(141)를 폐쇄하게 된다.The restricting movement of the first shaft 251 and the continuous linear movement of the main shutter unit 210 cause the folding shutter unit 220 to be restrained by the link member 255 and the second shaft 254 The folding shutter unit 220 is overlapped on the upper portion of the main shutter unit 210 as shown in FIGS. 4A and 4B. When the opening unit 141 is closed, the folding shutter unit 220 is rotated So that the opening 141 is closed together with the main shutter unit 210.

한편 상기 접이셔터부(220)가 도 4a와 같이 메인셔터부(210)의 상부에 중첩된 상태로 전환되는 것은 도 4a 내지 도 4c의 과정을 반대로 수행하면 된다.4A, the folding shutter 220 is shifted to a state in which it is superimposed on the main shutter unit 210 as shown in FIGS. 4A to 4C.

여기서 상기 접이셔터부(220)의 역회전이 용이하도록 메인셔터부(210)에 대한 접이셔터부(220)의 힌지결합각은 메인셔터부(210)에 대하여 접이셔터부(220)가 펼쳐진 상태에서 180°보다 작은 것이 바람직하다.The hinge coupling angle of the tilting shutter unit 220 with respect to the main shutter unit 210 is set such that the tilting angle of the tilting shutter unit 220 with respect to the main shutter unit 210 Is preferably smaller than 180 DEG.

제2실시예에 따른 증발차단부(200)의 회전구동부는, 메인셔터부(210)의 선형이동을 랙과 피니언 조합 구조를 가질 수 있다.The rotation driving unit of the evaporation cut-off unit 200 according to the second embodiment may have a rack-and-pinion combination structure for linear movement of the main shutter unit 210. [

즉, 제1실시예에 따른 증발차단부(200)의 회전구동부는, 도 5 내지 도 6c에 도시된 바와 같이, 메인셔터부(210)의 선형이동방향으로 설치된 랙기어(261)와, 접이셔터부(220)에 결합되어 랙기어(261)에 기어결합되어 메인셔터부(210)의 선형이동시 회전되어 메인셔터부(210)에 힌지결합시키는 힌지축(241)을 회전시키는 피니언기어(262)를 포함할 수 있다.5 to 6C, the rotation driving unit of the evaporation cut-off unit 200 according to the first embodiment includes a rack gear 261 installed in the linear movement direction of the main shutter unit 210, A pinion gear 262 coupled to the shutter unit 220 and geared to the rack gear 261 for rotating the hinge shaft 241 which is rotated when the main shutter unit 210 is linearly moved to hinge the main shutter unit 210 ).

상기 랙기어(261)은, 메인셔터부(210)의 선형이동시 접이셔터부(220)에 결합된 피니언기어(262)를 회전시키기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The rack gear 261 may be configured to rotate the pinion gear 262 coupled to the tilting shutter unit 220 when the main shutter unit 210 linearly moves.

상기 피니언기어(262)은, 랙기어(261)와 기어결합됨으로써 메인셔터부(210)의 선형이동시 회전되어 접이셔터부(220)를 회전시키기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The pinion gear 262 can be variously configured as a structure for rotating the tilting shutter unit 220 when the main shutter unit 210 is linearly moved by being engaged with the rack gear 261.

여기서 상기 피니언기어(262) 및 힌지축(241) 사이에는 피니언기어(262)의 회전력을 감속하기 위한 감속기(미도시)가 설치됨이 바람직하다.Here, a decelerator (not shown) for decelerating the rotational force of the pinion gear 262 is preferably provided between the pinion gear 262 and the hinge shaft 241.

상기와 같은 구성을 가지는 제2실시예에 따른 증발차단부(200)의 회전구동부는, 도 6a 내지 도 6c에 도시된 바와 같이, 피니언기어(262) 및 랙기어(261)가 기어결합됨으로써 메인셔터부(210)의 선형이동시 랙기어(261)에 기어결합된 피니언기어(262)가 회전되고 피니언기어(262)의 회전에 의하여 피니언기어(262)에 결합된 접이셔터부(220)가 회전되어 개방시에는 접이셔터부(220)가 메인셔터부(210)의 상부에 중첩된 상태로 있다가 개구부(141)의 폐쇄시에는 접이셔터부(220)가 회전되어 펼쳐지면서 메인셔터부(210)와 함께 개구부(141)를 폐쇄하게 된다.
6A to 6C, the rotation drive portion of the evaporation cut-off portion 200 according to the second embodiment having the above-described structure is configured such that the pinion gear 262 and the rack gear 261 are gear- The pinion gear 262 that has been engaged with the rack gear 261 is rotated when the shutter unit 210 linearly moves and the folded shutter unit 220 coupled to the pinion gear 262 by the rotation of the pinion gear 262 rotates The folding shutter portion 220 is overlapped on the upper portion of the main shutter portion 210. When the opening portion 141 is closed, the folding shutter portion 220 is rotated and unfolded, and the main shutter portion 210 The opening 141 is closed.

이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It is to be understood that both the technical idea and the technical spirit of the invention are included in the scope of the present invention.

100 : 공정챔버 200 : 증발차단부
140 : 구획부
310 : 증발원 400 : 기판지지부100: Process chamber 200:
140:
310: evaporation source 400: substrate support

Claims (12)

밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와;
상기 공정챔버에 설치되어 증착물질이 증발되는 하나 이상의 증발원과;
기판처리면이 상기 증발원을 향하도록 기판을 지지하는 기판지지부와;
상기 처리공간을 기판이 위치된 처리영역과 상기 증발원이 설치된 증발영역을 구획하며 상기 처리영역 및 상기 증발영역이 연통되는 개구부가 형성된 공간구획부와;
상기 공간구획부의 개구부를 개폐하는 증발차단부를 포함하며,
상기 증발차단부는, 선형이동에 의하여 상기 개구부의 일부를 개폐하는 하나 이상의 메인셔터부와, 상기 메인셔터부의 선형이동을 구동하기 위한 선형구동부와, 상기 개구부의 폐쇄시 상기 메인셔터부에 대하여 회전하여 상기 메인셔터부와 함께 상기 개구부를 복개하는 접이셔터부와, 상기 메인셔터부에 대하여 상기 접이셔터부를 회전시키는 회전구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.A process chamber for forming a closed process space;
One or more evaporation sources installed in the process chamber to evaporate the evaporation material;
A substrate supporting part for supporting the substrate such that the substrate processing surface faces the evaporation source;
A space dividing section for dividing the processing space into a processing area in which the substrate is placed and an evaporation area in which the evaporation source is installed and an opening through which the processing area and the evaporation area communicate;
And an evaporation blocking portion for opening and closing the opening of the space partition,
The evaporation cut-off portion includes at least one main shutter portion that opens and closes a part of the opening portion by linear movement, a linear driving portion that drives the linear movement of the main shutter portion, and a linear driving portion that rotates with respect to the main shutter portion when the opening portion is closed A folding shutter portion for covering the opening with the main shutter portion; and a rotation driving portion for rotating the folding shutter portion with respect to the main shutter portion. 청구항 1에 있어서,
상기 메인셔터부 및 상기 접이셔터부는, 상기 기판지지부에 안착된 상태의 기판의 중심을 기준으로 서로 대칭을 이루어 한 쌍으로 배치된 것을 특징으로 하는 박막증착장치.The method according to claim 1,
Wherein the main shutter portion and the tilting shutter portion are symmetrically disposed with respect to each other with respect to a center of the substrate placed on the substrate supporting portion. 청구항 1에 있어서,
상기 접이셔터부는, 상기 메인셔터부에 힌지축에 의하여 힌지결합되며,
상기 회전구동부는, 상기 접이셔터부를 상기 힌지축을 회전시키는 회전모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.The method according to claim 1,
Wherein the folding shutter portion is hinged to the main shutter portion by a hinge shaft,
Wherein the rotation driving unit includes a rotation motor that rotates the hinge shaft with the folding shutter unit. 청구항 3에 있어서,
상기 회전모터의 회전구동력은 하나 이상의 기어에 의하여 상기 힌지축에 전달되는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.The method of claim 3,
Wherein the rotary driving force of the rotary motor is transmitted to the hinge shaft by one or more gears. 청구항 3에 있어서,
상기 회전모터와 상기 힌지축 사이에는 상기 회전모터의 회전력을 감속하기 위한 감속기가 설치된 것을 특징으로 하는 박막증착장치.The method of claim 3,
And a speed reducer is provided between the rotary motor and the hinge shaft for reducing the rotational force of the rotary motor. 청구항 1에 있어서,
상기 접이셔터부는, 상기 메인셔터부의 선형이동에 연동하여 상기 메인셔터부에 대하여 힌지회전하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.The method according to claim 1,
Wherein the folding shutter portion is hingedly rotated with respect to the main shutter portion in association with linear movement of the main shutter portion. 청구항 1에 있어서,
상기 접이셔터부는, 상기 메인셔터부에 힌지축에 의하여 힌지결합되며,
상기 회전구동부는,
상기 메인셔터부의 선형이동방향으로 상기 메인셔터부에 형성된 슬롯에 이동가능하게 설치된 제1샤프트와,
상기 메인셔터부가 선형이동방향을 따라서 간격을 두고 설치되어 상기 메인셔터부의 선형이동시 상기 제1샤프트의 이동을 제한하는 제1 및 제2스토퍼들과,
상기 접이셔터부를 상기 힌지축과 평행을 이루어 상기 접이셔터부에 결합된 제2샤프트와,
상기 제1샤프트가 상기 제1 및 제2스토퍼들 중 어느 하나에 이동을 제한받을 때 상기 접이셔터부가 상기 메인셔터부에 대하여 회전되도록 상기 제1샤프트 및 상기 제2샤프트를 연결하며 그 길이가 가변되는 링크부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.The method according to claim 1,
Wherein the folding shutter portion is hinged to the main shutter portion by a hinge shaft,
The rotation drive unit includes:
A first shaft movably installed in a slot formed in the main shutter unit in a linear movement direction of the main shutter unit,
First and second stoppers provided at intervals along the linear movement direction to limit movement of the first shaft when the main shutter unit linearly moves,
A second shaft coupled to the folding shutter portion with the folding shutter portion being parallel to the hinge shaft,
The first shaft and the second shaft are connected so that the folding shutter portion is rotated with respect to the main shutter portion when the first shaft is restricted to move to either the first stopper or the second stopper, And a link member that is formed on the substrate. 청구항 1에 있어서,
상기 접이셔터부는, 상기 메인셔터부에 힌지축에 의하여 힌지결합되며,
상기 회전구동부는,
상기 메인셔터부의 선형이동방향으로 상기 메인셔터부에 형성된 슬롯에 이동가능하게 설치된 제1샤프트와,
상기 메인셔터부가 선형이동방향을 따라서 간격을 두고 설치되어 상기 메인셔터부의 선형이동시 상기 제1샤프트의 이동을 제한하는 제1 및 제2스토퍼들과,
상기 접이셔터부를 상기 힌지축과 평행을 이루어 상기 접이셔터부에 결합되며 상기 힌지축과 수직을 이루어 상기 접이셔터부에 형성된 슬롯을 따라서 이동가능하게 설치된 제2샤프트와,
상기 제1샤프트가 상기 제1 및 제2스토퍼들 중 어느 하나에 이동을 제한받을 때 상기 접이셔터부가 상기 메인셔터부에 대하여 회전되도록 상기 제1샤프트 및 상기 제2샤프트를 연결하는 링크부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.The method according to claim 1,
Wherein the folding shutter portion is hinged to the main shutter portion by a hinge shaft,
The rotation drive unit includes:
A first shaft movably installed in a slot formed in the main shutter unit in a linear movement direction of the main shutter unit,
First and second stoppers provided at intervals along the linear movement direction to limit movement of the first shaft when the main shutter unit linearly moves,
A second shaft installed on the hinge shaft so as to be movable along a slot formed in the hinge shaft perpendicularly to the hinge shaft and coupled to the hinge shutter, the hinge shaft being parallel to the hinge shaft;
And a link member connecting the first shaft and the second shaft such that the folding shutter portion is rotated with respect to the main shutter portion when the first shaft is restricted from being moved to any one of the first and second stoppers Wherein the thin film deposition apparatus is a thin film deposition apparatus. 청구항 1에 있어서,
상기 접이셔터부는, 상기 메인셔터부에 힌지축에 의하여 힌지결합되며,
상기 회전구동부는,
상기 메인셔터부의 선형이동방향으로 설치된 랙기어와,
상기 접이셔터부에 결합되어 상기 랙기어에 기어결합되어 상기 메인셔터부의 선형이동시 회전되어 상기 힌지축을 회전시키는 피니언기어를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.The method according to claim 1,
Wherein the folding shutter portion is hinged to the main shutter portion by a hinge shaft,
The rotation drive unit includes:
A rack gear installed in a linear movement direction of the main shutter unit,
And a pinion gear coupled to the folding shutter portion and gear-coupled to the rack gear to rotate when the main shutter portion linearly moves to rotate the hinge shaft. 청구항 9에 있어서,
상기 피니언기어 및 상기 힌지축 사이에는 상기 피니언기어의 회전력을 감속하기 위한 감속기가 설치된 것을 특징으로 하는 박막증착장치.The method of claim 9,
And a speed reducer is provided between the pinion gear and the hinge shaft for reducing the rotational force of the pinion gear. 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 기판지지부는, 박막증착공정 수행시 기판을 픽업하여 수평회전시키는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.The method according to any one of claims 1 to 10,
Wherein the substrate supporting unit picks up the substrate and horizontally rotates the substrate when the thin film deposition process is performed. 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 증발원은, 상기 공정챔버 내에서 고정되며,
상기 기판은, 증착공정 수행시 수평선형이동되는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.The method according to any one of claims 1 to 10,
The evaporation source is fixed in the process chamber,
Wherein the substrate is horizontally moved during a deposition process.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2021091890A1 (en) * 2019-11-08 2021-05-14 Kurt J. Lesker Company Compound motion vacuum environment deposition source shutter mechanism
KR20220073184A (en) * 2020-11-26 2022-06-03 한국과학기술연구원 Substrate holder for physical vapor deposition apparatus

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