JP6605073B2 - Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material - Google Patents

Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material Download PDF

Info

Publication number
JP6605073B2
JP6605073B2 JP2018095120A JP2018095120A JP6605073B2 JP 6605073 B2 JP6605073 B2 JP 6605073B2 JP 2018095120 A JP2018095120 A JP 2018095120A JP 2018095120 A JP2018095120 A JP 2018095120A JP 6605073 B2 JP6605073 B2 JP 6605073B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
evaporation source
evaporation
distribution pipe
organic material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018095120A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018154926A (en
Inventor
シュテファン バンゲルト,
ウーヴェ シュースラー,
ホセ マヌエル ディエゲス−カンポ,
ディーター ハース,
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Materials Inc
Original Assignee
Applied Materials Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Applied Materials Inc filed Critical Applied Materials Inc
Priority to JP2018095120A priority Critical patent/JP6605073B2/en
Publication of JP2018154926A publication Critical patent/JP2018154926A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6605073B2 publication Critical patent/JP6605073B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明の実施形態は、有機材料の堆積、有機材料用の源、及び有機材料用の堆積装置に関する。本発明の実施形態は、特に、有機材料用の蒸発源、真空チャンバの中で有機材料を堆積させるための堆積装置、及び有機材料を蒸発させるための方法に関する。   Embodiments of the invention relate to organic material deposition, a source for organic materials, and a deposition apparatus for organic materials. Embodiments of the present invention relate in particular to an evaporation source for organic materials, a deposition apparatus for depositing organic materials in a vacuum chamber, and a method for evaporating organic materials.

有機蒸発器は、有機発光ダイオード(OLED)の生産用ツールである。OLEDは、内部で発光層がある有機化合物の薄膜を含む、特別な種類の発光ダイオードである。有機発光ダイオード(OLED)は、情報を表示するためのテレビ画面、コンピュータモニタ、携帯電話、その他の手持ちデバイスなどの製造時に使用される。OLEDはまた、一般的な空間照明にも使用することができる。OLEDディスプレイで可能な色、輝度、及び視野角の範囲は、OLEDピクセルが直接発行し、バックライトを必要としないので、従来のLCDディスプレイの範囲よりも大きい。したがって、OLEDディスプレイのエネルギー消費は、従来のLCDディスプレイのエネルギー消費よりもかなり少ない。更に、OLEDは、フレキシブル基板上に製造することができるという事実により、更なる用途がもたらされる。例えば、OLEDディスプレイは、個々にエネルギー供給可能なピクセルを有するマトリクスディスプレイパネルを形成するように、基板上にすべてが堆積された2つの電極の間に位置する有機材料の層を含み得る。OLEDは、一般的に2つのガラスパネルの間に置かれ、ガラスパネルのエッジは、OLEDを内部にカプセル化するために密閉される。   An organic evaporator is a tool for the production of organic light emitting diodes (OLEDs). An OLED is a special type of light emitting diode that includes a thin film of an organic compound with a light emitting layer therein. Organic light emitting diodes (OLEDs) are used in the manufacture of television screens, computer monitors, mobile phones, and other handheld devices for displaying information. OLEDs can also be used for general space illumination. The range of colors, brightness, and viewing angles possible with OLED displays is larger than that of conventional LCD displays because OLED pixels issue directly and do not require a backlight. Thus, the energy consumption of an OLED display is significantly less than that of a conventional LCD display. Furthermore, the fact that OLEDs can be manufactured on flexible substrates provides further applications. For example, an OLED display can include a layer of organic material located between two electrodes, all deposited on a substrate, to form a matrix display panel having individually energizable pixels. An OLED is typically placed between two glass panels, and the edges of the glass panel are sealed to encapsulate the OLED inside.

そのようなディスプレイデバイスの製造時に遭遇する多くの課題がある。1つの例では、デバイスの起こり得る汚染を防止するために、2つのガラスパネルの間でOLEDをカプセル化するのに必要な多くの大きな労力を要するステップがある。別の例では、ディスプレイスクリーンの異なるサイズ、更にガラスパネルの異なるサイズによって、処理及びディスプレイデバイスを形成するために使用される処理ハードウェアの実質的な再構築が必要となり得る。一般的に、OLEDデバイスは、大面積基板で製造されることが望ましい。   There are many challenges encountered when manufacturing such display devices. In one example, there are many significant steps required to encapsulate an OLED between two glass panels to prevent possible contamination of the device. In another example, different sizes of display screens, as well as different sizes of glass panels, may require substantial reconstruction of the processing hardware used to form the processing and display devices. In general, OLED devices are desirably manufactured on large area substrates.

様々な課題をもたらす大規模なOLEDディスプレイの製造における1つのステップは、例えば、パターン形成された層の堆積のための、基板のマスキングである。更に、既知のシステムでは、典型的には、わずかな全体的材料利用率は、例えば、50%未満などである。   One step in the manufacture of large scale OLED displays that pose various challenges is masking of the substrate, for example, for the deposition of patterned layers. Furthermore, in known systems, typically a small overall material utilization is, for example, less than 50%.

したがって、OLEDディスプレイデバイスを形成するための新たな改良された装置及び方法が継続的に必要となる。   Accordingly, there is a continuing need for new and improved apparatus and methods for forming OLED display devices.

上記を考慮して、有機材料用の改良された蒸発源、有機材料を蒸発させるための改良された堆積装置、及び有機材料を蒸発させる方法が提供される。本発明の実施形態の更なる態様、利点及び特徴が、従属請求項、明細書及び添付図面から明らかになる。   In view of the above, improved evaporation sources for organic materials, improved deposition apparatus for evaporating organic materials, and methods for evaporating organic materials are provided. Further aspects, advantages and features of embodiments of the invention will become apparent from the dependent claims, the description and the attached drawings.

1つの実施形態によれば、有機材料の蒸発源が提供される。蒸発源は、有機材料を蒸発させるように構成された蒸発るつぼと;蒸発るつぼと流体連通しており、蒸発中に軸周囲を回転可能である、一又は複数の排出口を有する分配管と;有機材料を遮蔽するための少なくとも1つのサイドシールドとを含む。
According to one embodiment, an organic material evaporation source is provided. The evaporation source is an evaporation crucible configured to evaporate the organic material; a distribution pipe having one or more outlets in fluid communication with the evaporation crucible and rotatable about the axis during evaporation; And at least one side shield for shielding the organic material.

別の実施形態によれば、有機材料を真空チャンバの中に堆積させるための堆積装置が提供される。堆積装置は、真空チャンバと;真空チャンバの中で有機材料を蒸発させる、本明細書に記載の実施形態による蒸発源と;真空チャンバの中に配置され、少なくとも2つのトラックを有する基板支持体システムとを備え、基板支持体システムの少なくとも2つのトラックは、基板又は真空チャンバの中で基板を運ぶキャリアの本質的に垂直な支持のために構成される。According to another embodiment, a deposition apparatus is provided for depositing an organic material into a vacuum chamber. A deposition apparatus includes: a vacuum chamber; an evaporation source according to embodiments described herein for evaporating organic material in the vacuum chamber; a substrate support system disposed in the vacuum chamber and having at least two tracks And at least two tracks of the substrate support system are configured for essentially vertical support of the substrate or carrier carrying the substrate in a vacuum chamber.

更なる実施形態によれば、有機材料を蒸発させるための方法が提供される。当該方法は、本質的に垂直な第1の処理位置で第1の基板を移動させることと;蒸発源が有機材料を蒸発させる間に、少なくとも並進運動で第1の基板に沿って蒸発源を移動させることと;第1の処理位置と異なる本質的に垂直な第2の処理位置で第2の基板を移動させることと;蒸発中に軸周囲で蒸発源の分配管を回転させることと;少なくとも1つのサイドシールドで有機材料の蒸発を遮蔽することと;蒸発源が有機材料を蒸発させる間に、少なくとも1つの更なる並進運動で第2の基板に沿って蒸発源を移動させることとを含む。According to a further embodiment, a method for evaporating organic material is provided. The method includes moving the first substrate in a first vertical processing position; and evaporating the evaporation source along the first substrate in at least translational motion while the evaporation source evaporates the organic material. Moving; moving the second substrate in a second processing position that is essentially perpendicular to the first processing position; rotating the evaporation source distribution pipe about the axis during evaporation; Shielding the evaporation of the organic material with at least one side shield; moving the evaporation source along the second substrate with at least one further translational movement while the evaporation source evaporates the organic material; Including.

1つの実施形態によれば、有機材料用の蒸発源が提供される。蒸発源は、有機材料を蒸発させるように構成された蒸発るつぼと;蒸発るつぼと流体連通しており、蒸発中に軸の周囲を回転可能である、1または複数の排出口を有する分配管と;第1のドライバと連結された又は前記第1のドライバを含む、分配管の支持体であって、第1のドライバが支持体及び分配管の並進運動のために構成されている、支持体と;支持体に支持され、内部の大気圧を維持するように構成された蒸発器制御ハウジングとを備える。According to one embodiment, an evaporation source for organic materials is provided. The evaporation source includes an evaporation crucible configured to evaporate the organic material; a distribution pipe having one or more outlets in fluid communication with the evaporation crucible and rotatable about the shaft during evaporation; A support for the distribution pipe connected to or including the first driver, wherein the first driver is configured for translational movement of the support and the distribution pipe; And an evaporator control housing supported by the support and configured to maintain an internal atmospheric pressure.

別の実施形態によれば、有機材料を真空チャンバの中で堆積させるための堆積装置が提供される。堆積装置は、真空チャンバと;真空チャンバの中で有機材料を蒸発させる、本明細書に記載の実施形態による蒸発源と;真空チャンバの中に配置され、少なくとも2つのトラックを有する基板支持体システムとを備え、基板支持体システムの少なくとも2つのトラックは、基板又は真空チャンバの中で基板を運ぶキャリアの本質的に垂直な支持のために構成される。According to another embodiment, a deposition apparatus is provided for depositing an organic material in a vacuum chamber. A deposition apparatus includes: a vacuum chamber; an evaporation source according to embodiments described herein for evaporating organic material in the vacuum chamber; a substrate support system disposed in the vacuum chamber and having at least two tracks And at least two tracks of the substrate support system are configured for essentially vertical support of the substrate or carrier carrying the substrate in a vacuum chamber.

更なる実施形態によれば、有機材料を蒸発させるための方法が提供される。当該方法は、本質的に垂直な第1の処理位置で第1の基板を移動させることと;蒸発源が有機材料を蒸発させる間に、少なくとも並進運動で第1の基板に沿って蒸発源を移動させることと;第1の処理位置と異なる本質的に垂直な第2の処理位置で第2の基板を移動させることと;蒸発中に軸の周囲で蒸発源の分配管を回転させることと;蒸発源が有機材料を蒸発させる間に、少なくとも更なる並進運動で第2の基板に沿って前記蒸発源を移動させることとを含み、蒸発源が支持体に支持され、内部の大気圧を維持するように構成された蒸発器制御ハウジングを備える。According to a further embodiment, a method for evaporating organic material is provided. The method includes moving the first substrate in a first vertical processing position; and evaporating the evaporation source along the first substrate in at least translational motion while the evaporation source evaporates the organic material. Moving; moving the second substrate in a second processing position that is essentially perpendicular to the first processing position; rotating the distribution pipe of the evaporation source around the axis during evaporation; Moving the evaporation source along the second substrate in at least a further translational movement while the evaporation source evaporates the organic material, the evaporation source being supported by the support and reducing the internal atmospheric pressure An evaporator control housing configured to maintain is provided.

本発明の上記の特徴を詳細に理解することができるよう、実施形態を参照することによって、上記で簡潔に概説した本発明のより詳細な説明を得ることができるだろう。添付の図面は、本発明の実施形態に関連し、以下の記述において説明される。   In order that the above features of the present invention may be understood in detail, a more detailed description of the invention, briefly outlined above, may be obtained by reference to the embodiments. The accompanying drawings relate to embodiments of the invention and are described in the following description.

AからDは、本明細書に記載の更なる実施形態による堆積装置の真空チャンバの異なる堆積位置における、本明細書に記載の実施形態による有機材料用の蒸発源を図示する概略図を示す。A to D show schematic diagrams illustrating evaporation sources for organic materials according to embodiments described herein at different deposition positions of a vacuum chamber of a deposition apparatus according to further embodiments described herein. 本明細書に記載の実施形態による真空チャンバの中で有機材料を堆積させるための堆積装置の概略上面図を示す。FIG. 2 shows a schematic top view of a deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber according to embodiments described herein. 本明細書に記載の実施形態による真空チャンバの中で有機材料を堆積させるための別の堆積装置の概略上面図を示す。FIG. 6 shows a schematic top view of another deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber according to embodiments described herein. A及びBは、本明細書に記載の実施形態による真空チャンバの中で有機材料を堆積させるための堆積装置、及び真空チャンバの中の異なる堆積位置における本明細書に記載の実施形態による有機材料蒸発のための蒸発源の概略側面図を示す。A and B are a deposition apparatus for depositing an organic material in a vacuum chamber according to embodiments described herein, and an organic material according to embodiments described herein at different deposition locations in the vacuum chamber 1 shows a schematic side view of an evaporation source for evaporation. A及びBは、本明細書に記載の実施形態による真空チャンバの中で有機材料を堆積させるための堆積装置、及び真空チャンバの中の異なる堆積位置における本明細書に記載の実施形態による有機材料蒸発のための蒸発源の概略図を示す。A and B are a deposition apparatus for depositing an organic material in a vacuum chamber according to embodiments described herein, and an organic material according to embodiments described herein at different deposition locations in the vacuum chamber 1 shows a schematic diagram of an evaporation source for evaporation. 本明細書に記載の実施形態による、少なくとも2つの堆積装置及び有機材料蒸発のための蒸発源を有するシステムの概略図を示す。FIG. 2 shows a schematic diagram of a system having at least two deposition devices and an evaporation source for organic material evaporation according to embodiments described herein. A及びBは、本明細書に記載の実施形態による蒸発源の部分の概略図を示し、Cは、本明細書に記載の実施形態による別の蒸発源の概略図を示す。A and B show a schematic diagram of a portion of an evaporation source according to embodiments described herein, and C shows a schematic diagram of another evaporation source according to an embodiment described herein. A及びBは、本明細書に記載の実施形態による真空チャンバの中で有機材料を堆積させるための堆積装置、及び真空チャンバの中の異なる堆積位置における本明細書に記載の実施形態による有機材料蒸発のための蒸発源の概略図を示す。A and B are a deposition apparatus for depositing an organic material in a vacuum chamber according to embodiments described herein, and an organic material according to embodiments described herein at different deposition locations in the vacuum chamber 1 shows a schematic diagram of an evaporation source for evaporation. 本明細書に記載の実施形態による真空チャンバの中で有機材料を堆積させるための別の堆積装置の概略図を示す。FIG. 6 shows a schematic diagram of another deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber according to embodiments described herein. 本明細書に記載された実施形態による有機材料を蒸発させるための方法を示すフローチャートを図示する。FIG. 4 illustrates a flowchart illustrating a method for evaporating organic material according to embodiments described herein.

これより本発明の種々の実施形態が詳細に参照されるが、その一又は複数の例が図示されている。図面に関する以下の説明の中で、同じ参照番号は同じ構成要素を指している。一般的に、個々の実施形態に関する違いのみが説明される。各例は、本発明の説明として提供されているが、本発明を限定することを意図するものではない。更に、1つの実施形態の一部として図示又は説明される特徴を、他の実施形態で使用又は他の実施形態と併用して、更なる実施形態を得ることができる。本明細書は、かかる修正及び改変を含むことが意図されている。   Reference will now be made in detail to various embodiments of the invention, one or more examples of which are illustrated. Within the following description of the drawings, the same reference numbers refer to the same components. Generally, only the differences with respect to the individual embodiments are described. Each example is provided by way of explanation of the invention, but is not intended to limit the invention. In addition, features illustrated or described as part of one embodiment can be used in or combined with other embodiments to yield further embodiments. This specification is intended to cover such modifications and variations.

図1Aから図1Dは、真空チャンバ110の中の様々な位置における蒸発源100を示す。異なる位置の間の移動は、矢印101B、101C、及び101Dによって示される。本明細書に記載の実施形態によれば、蒸発源は、並進運動及び軸周囲の回転のために構成される。図1Aから図1Dは、蒸発るつぼ104及び分配管106を有する蒸発源100を示す。分配管106は、支持体102によって支持される。更に、いくつかの実施形態によれば、蒸発るつぼ104はまた、支持体102によって支持することができる。2つの基板121は、真空チャンバ110の中に提供される。典型的には、基板上での層堆積のマスキング用マスク132を基板と蒸発源100との間に提供することができる。図1Aから図1Dに示されるように、有機材料は、分配管106から蒸発する。これは、参照番号10により示される。   FIGS. 1A-1D show the evaporation source 100 at various locations within the vacuum chamber 110. Movement between different positions is indicated by arrows 101B, 101C, and 101D. According to embodiments described herein, the evaporation source is configured for translation and rotation about an axis. 1A to 1D show an evaporation source 100 having an evaporation crucible 104 and a distribution pipe 106. The distribution pipe 106 is supported by the support body 102. Further, according to some embodiments, the evaporation crucible 104 can also be supported by the support 102. Two substrates 121 are provided in the vacuum chamber 110. Typically, a mask 132 for layer deposition on the substrate can be provided between the substrate and the evaporation source 100. As shown in FIGS. 1A to 1D, the organic material evaporates from the distribution pipe 106. This is indicated by reference numeral 10.

図1Aでは、蒸発源100が第1の位置に示される。図1Bに示されるように、真空チャンバ110の左側の基板は、矢印101Bにより示されるように、蒸発源の並進運動によって有機材料の層で堆積される。左側の基板121が有機材料の層で堆積されている間、第2の基板、例えば、図1Aから図1Dの右側の基板を交換することができる。図1Bは、基板用の搬送トラック124を示す。左側の基板121が有機材料の層で堆積された後に、蒸発源の分配管106は、図1Cの矢印101Cによって示されるように回転する。有機材料の第1の基板(図1Bの左側の基板)への堆積中に、第2の基板が、マスク132に対して位置付け及び整列された。したがって、図1Cに示される回転後に、右側の基板、即ち、第2の基板121は、矢印101Dによって示されるように有機材料の層でコーティングすることができる。第2の基板121が有機材料でコーティングされる間、第1の基板を真空チャンバ110から移動させることができる。図1Dは、第1の基板(図1Dの左側)の位置にある搬送トラック124を示す。   In FIG. 1A, the evaporation source 100 is shown in a first position. As shown in FIG. 1B, the substrate on the left side of the vacuum chamber 110 is deposited with a layer of organic material by translation of the evaporation source, as indicated by arrow 101B. While the left substrate 121 is deposited with a layer of organic material, the second substrate, eg, the right substrate of FIGS. 1A-1D, can be replaced. FIG. 1B shows a transport track 124 for a substrate. After the left substrate 121 is deposited with a layer of organic material, the evaporation source distribution pipe 106 rotates as indicated by arrow 101C in FIG. 1C. During deposition of the organic material on the first substrate (the left substrate of FIG. 1B), the second substrate was positioned and aligned with respect to the mask 132. Thus, after the rotation shown in FIG. 1C, the right substrate, ie, the second substrate 121, can be coated with a layer of organic material as indicated by arrow 101D. The first substrate can be moved out of the vacuum chamber 110 while the second substrate 121 is coated with an organic material. FIG. 1D shows the transport track 124 in the position of the first substrate (left side of FIG. 1D).

本明細書に記載される実施形態によれば、基板は、本質的に垂直位置において有機材料でコーティングされる。要するに、図1Aから図1Dに示される図は、蒸発源100を含む装置の上面図である。典型的には、分配管は、蒸気分配シャワーヘッド、特に直線的蒸気分配シャワーヘッドである。これにより、分配管は、本質的に垂直に延びる線源を提供する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、本明細書に記載の実施形態によれば、本質的に垂直とは、特に基板配向に言及する際に、10度又はそれを下回る垂直方向からの偏差を許容すると理解される。この偏差は、垂直配向からのいくらかの偏差を有する基板支持体がより安定した基板位置をもたらし得るので、提供することができる。しかし、有機材料の堆積中の基板配向は、本質的に垂直と考えられ、水平な基板配向とは異なると考えられる。これにより、基板の表面は、1つの基板寸法及び他の基板寸法に対応する他の方向に沿った並進運動に対応する1つの方向に延びる線源によってコーティングされる。   According to the embodiments described herein, the substrate is coated with an organic material in an essentially vertical position. In summary, the views shown in FIGS. 1A-1D are top views of an apparatus that includes an evaporation source 100. Typically, the distribution pipe is a steam distribution showerhead, in particular a straight steam distribution showerhead. Thereby, the distribution pipe provides an essentially vertically extending source. According to embodiments described herein, which can be combined with other embodiments described herein, essentially vertical is 10 degrees or less, especially when referring to substrate orientation. It is understood to allow deviation from the vertical direction. This deviation can be provided because a substrate support having some deviation from the vertical orientation can result in a more stable substrate position. However, the substrate orientation during the deposition of the organic material is considered essentially vertical and is considered different from the horizontal substrate orientation. Thereby, the surface of the substrate is coated with a source extending in one direction corresponding to a translation movement along one substrate dimension and another direction corresponding to the other substrate dimension.

図1Cに示されるように、分配管106の回転、即ち、第1の基板121から第2の基板121までの回転は180度とすることができる。第2の基板が図1Dに示されるように堆積された後に、分配管106は、後方に180度回転させることができるか、図1Cに示された方向と同一の方向に回転させることができるかのどちらかである。これにより、分配管は、合計で360度回転する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、分配管106は、例えば、参照番号10で示された蒸発コイルが基板121の表面に鉛直に提供されない場合には、少なくとも160度回転される。しかしながら、典型的には、分配管は、180度又は少なくとも360度回転される。   As shown in FIG. 1C, the rotation of the distribution pipe 106, that is, the rotation from the first substrate 121 to the second substrate 121 can be 180 degrees. After the second substrate is deposited as shown in FIG. 1D, the distribution pipe 106 can be rotated 180 degrees backward or can be rotated in the same direction as shown in FIG. 1C. Either. Thereby, the distribution pipe rotates 360 degrees in total. According to embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the distribution pipe 106 can be used, for example, if the evaporation coil indicated by reference numeral 10 is not provided vertically on the surface of the substrate 121. , Rotated at least 160 degrees. Typically, however, the distribution pipe is rotated 180 degrees or at least 360 degrees.

本明細書に記載の実施形態によれば、例えば、直線的蒸気分配シャワーヘッドなどの線源の並進運動と、例えば、直線的蒸気分配シャワーヘッドなどの線源の回転との組み合わせにより、OLEDディスプレイ製造に対する高い蒸発源効率と高い材料利用が可能になり、この場合、基板の高精度のマスキングが所望される。基板及びマスクが静止状態を維持することができるので、源の並進運動により、高いマスキング精度が可能になる。別の基板が有機材料でコーティングされている間、回転移動によってある基板の基板交換が可能である。このことは、アイドル時間、即ち、蒸発源が基板をコーティングせずに有機材料を蒸発させる時間が著しく短縮されるので、材料利用を著しく改善する。   In accordance with embodiments described herein, an OLED display, for example, by a combination of translation of a source such as a linear vapor distribution showerhead and rotation of a source such as a linear vapor distribution showerhead, for example. High evaporation source efficiency and high material utilization for manufacturing are possible, in which case high precision masking of the substrate is desired. Since the substrate and mask can remain stationary, the translational movement of the source allows for high masking accuracy. While another substrate is coated with an organic material, it is possible to change the substrate of one substrate by rotational movement. This significantly improves material utilization as idle time, i.e., the time for the evaporation source to evaporate the organic material without coating the substrate, is significantly reduced.

本明細書に記載される実施形態は、特に、例えば、OLEDディスプレイ製造用の、大面積基板上での、有機材料の堆積に関する。いくつかの実施形態によれば、大面積基板、又は一又は複数の基板を支持するキャリア、即ち、大面積キャリアは、少なくとも0.174mのサイズを有しうる。典型的には、キャリアのサイズを、約1.4mから約8m、より典型的には、約2mから約9m、又は最大12mとすることができる。典型的には、基板が支持され、本明細書に記載の実施形態による保持設備、装置、及び方法が提供される長方形の面積が、本明細書に記載の大面積基板のサイズを有するキャリアである。例えば、単一の大面積基板の面積に対応するであろう大面積キャリアを、約1.4mの基板(1.1m×1.3m)に対応するGEN5、約4.29mの基板(1.95m×2.2m)に対応するGEN7.5、約5.7mの基板(2.2m×2.5m)に対応するGEN8.5、又は約8.7mの基板(2.85m×3.05m)に対応するGEN10とすることができる。GEN11及びGEN12などのよりいっそう大きな世代、並びに対応する基板面積が、同様に実現されうる。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる典型的な実施形態によれば、基板の厚さを0.1から1.8mmとすることができ、保持設備及び特に保持デバイスをこのような基板の厚さに対して適合させることができる。しかしながら、特に基板の厚さを約0.9mm又はそれを下回る、例えば、0.5mm又は0.3mmとすることができ、保持設備及び特に保持デバイスがそのような基板の厚さに適合される。典型的には、基板は、材料堆積に適した任意の材料から作られ得る。例えば、基板は、ガラス(例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラスなど)、金属、ポリマー、セラミック、複合材料、炭素繊維材料、又は堆積プロセスによってコーティングすることできる他の材料若しくは材料の組合せからなるグループから選択された材料から作られ得る。 Embodiments described herein relate specifically to the deposition of organic materials on large area substrates, for example, for OLED display manufacturing. According to some embodiments, a large area substrate, or a carrier that supports one or more substrates, ie, a large area carrier, may have a size of at least 0.174 m 2 . Typically, the size of the carrier can be from about 1.4 m 2 to about 8 m 2 , more typically from about 2 m 2 to about 9 m 2 , or up to 12 m 2 . Typically, a rectangular area on which a substrate is supported and provided with the holding equipment, apparatus and methods according to embodiments described herein is a carrier having the size of a large area substrate described herein. is there. For example, a large area carrier that would correspond to the area of a single large area substrate, corresponding to the substrate of about 1.4m 2 (1.1m × 1.3m) GEN5 , about 4.29M 2 substrate ( GEN 7.5 corresponding to 1.95 m × 2.2 m), GEN 8.5 corresponding to about 5.7 m 2 substrate (2.2 m × 2.5 m), or about 8.7 m 2 substrate (2.85 m) GEN10 corresponding to x3.05 m). Larger generations such as GEN11 and GEN12 and corresponding substrate areas can be realized as well. According to an exemplary embodiment that can be combined with other embodiments described herein, the thickness of the substrate can be 0.1 to 1.8 mm, and the holding equipment and in particular the holding device It can be adapted to the thickness of such a substrate. However, in particular the thickness of the substrate can be about 0.9 mm or less, for example 0.5 mm or 0.3 mm, and the holding equipment and especially the holding device are adapted to the thickness of such a substrate . Typically, the substrate can be made from any material suitable for material deposition. For example, the substrate is a group consisting of glass (eg, soda lime glass, borosilicate glass, etc.), metal, polymer, ceramic, composite material, carbon fiber material, or other material or combination of materials that can be coated by a deposition process. Can be made from materials selected from

良好な信頼性及び歩留まり率を実現するために、本明細書に記載の実施形態は、有機材料の堆積中にマスク及び基板を静止状態に維持する。大面積基板の均一コーティングのための移動可能な直線的源が提供される。アイドル時間が操作と比較して短縮され、各堆積後に、基板が交換される必要があるが、ここにはマスク及び基板の互いに対する新たな位置合わせのステップが含まれる。アイドル時間中には、源が材料を浪費している。従って、堆積位置でマスクに対して容易に位置合わせされる第2の基板を有することにより、アイドル時間が短縮され、材料利用率が増加する。   In order to achieve good reliability and yield rates, the embodiments described herein keep the mask and substrate stationary during the deposition of organic material. A movable linear source is provided for uniform coating of large area substrates. Idle time is reduced compared to operation, and after each deposition, the substrate needs to be replaced, which includes a new alignment step of the mask and substrate relative to each other. During idle time, the source is wasting material. Thus, having a second substrate that is easily aligned with the mask at the deposition location reduces idle time and increases material utilization.

図2は、真空チャンバ110の中に有機材料を堆積させるための堆積装置200の実施形態を示す。蒸発源100は、トラック又は直線的ガイド220上で真空チャンバ110の中に提供される。直線的ガイド220は、蒸発源100の並進運動のために構成される。これにより、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる異なる実施形態によれば、並進運動のためのドライバを、トラック又は直線的ガイド220において、真空チャンバ110内で又はそれらの組み合わせにおいて、蒸発源100の中に提供することができる。図2は、例えば、ゲートバルブなどのバルブ205を示す。バルブ205は、隣接する真空チャンバ(図2に示されず)への真空密閉を可能にする。バルブは、基板121又はマスク132の真空チャンバ110内への又は真空チャンバ110からの搬送のために開放することができる。   FIG. 2 shows an embodiment of a deposition apparatus 200 for depositing organic material in the vacuum chamber 110. The evaporation source 100 is provided in the vacuum chamber 110 on a track or linear guide 220. The linear guide 220 is configured for translational movement of the evaporation source 100. Thus, according to different embodiments that can be combined with other embodiments described herein, a driver for translational movement can be placed in a track or linear guide 220, in a vacuum chamber 110, or combinations thereof. In the evaporation source 100. FIG. 2 shows a valve 205 such as, for example, a gate valve. Valve 205 allows a vacuum seal to an adjacent vacuum chamber (not shown in FIG. 2). The valve can be opened for transfer of the substrate 121 or mask 132 into or out of the vacuum chamber 110.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、保守真空チャンバ210などの更なる真空チャンバが、真空チャンバ110に隣接して提供される。これにより、真空チャンバ110及び保守真空チャンバ210は、バルブ207と連結される。バルブ207は、真空チャンバ110と保守真空チャンバ210との間の真空密閉を開閉するように構成される。蒸発源100は、バルブ207が開放状態にある間、保守真空チャンバ210に移送することができる。その後、バルブは、真空チャンバ110と保守真空チャンバ210との間に真空密閉を提供するように閉鎖することができる。バルブ207が閉鎖される場合、保守真空チャンバ210は、真空チャンバ110の中の真空を破壊せずに、蒸発源100保守のために換気及び開放することができる。   According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, an additional vacuum chamber, such as maintenance vacuum chamber 210, is provided adjacent to vacuum chamber 110. As a result, the vacuum chamber 110 and the maintenance vacuum chamber 210 are connected to the valve 207. Valve 207 is configured to open and close the vacuum seal between vacuum chamber 110 and maintenance vacuum chamber 210. The evaporation source 100 can be transferred to the maintenance vacuum chamber 210 while the valve 207 is open. Thereafter, the valve can be closed to provide a vacuum seal between the vacuum chamber 110 and the maintenance vacuum chamber 210. When valve 207 is closed, maintenance vacuum chamber 210 can be ventilated and opened for evaporation source 100 maintenance without breaking the vacuum in vacuum chamber 110.

2つの基板121は、真空チャンバ110内のそれぞれの搬送トラック上で支持される。更に、その上にマスク132を提供する2つのトラックが提供される。これにより、基板121のコーティングは、それぞれのマスク132によってマスクすることができる。典型的な実施形態によれば、マスク132、即ち、第1の基板121に対応する第1のマスク132、及び第2の基板121に対応する第2のマスク132が、マスクフレーム131の中に提供され、所定の位置でマスク132を保持する。   Two substrates 121 are supported on respective transport tracks in the vacuum chamber 110. In addition, two tracks are provided that provide a mask 132 thereon. Thereby, the coating of the substrate 121 can be masked by the respective masks 132. According to an exemplary embodiment, a mask 132, that is, a first mask 132 corresponding to the first substrate 121 and a second mask 132 corresponding to the second substrate 121 are in the mask frame 131. Provided and holds the mask 132 in place.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、基板121は、位置合わせユニット112に連結された基板支持体126によって支持することができる。位置合わせユニット112は、マスク132に対する基板121の位置を調整することができる。図2は、基板支持体126が位置合わせユニット112に連結されている実施形態を示す。したがって、基板は、有機材料の堆積中に基板とマスクとの間の適切な位置合わせを行うために、マスク132に対して移動される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、代替的に又は追加的に、マスク132及び/又はマスク132を保持するマスクフレーム131を位置合わせユニット112に連結することができる。これにより、マスクを基板121に対して位置付けることができるか、マスク132及び基板121双方を互いに対して位置付けることができるかのどちらかとなる。位置合わせユニット112は、基板121とマスク132との間の相対位置を互いに対して調整するように構成されているが、堆積処理中にマスキングの適切な位置合わせを可能にし、高品質のディスプレイ製造又はLEDディスプレイ製造に有益となる。   According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the substrate 121 can be supported by a substrate support 126 coupled to the alignment unit 112. The alignment unit 112 can adjust the position of the substrate 121 with respect to the mask 132. FIG. 2 shows an embodiment in which the substrate support 126 is coupled to the alignment unit 112. Thus, the substrate is moved relative to the mask 132 to provide proper alignment between the substrate and the mask during the deposition of the organic material. According to further embodiments that can be combined with other embodiments described herein, alternatively or additionally, the mask 132 and / or the mask frame 131 holding the mask 132 may be attached to the alignment unit 112. Can be linked. Thereby, either the mask can be positioned with respect to the substrate 121, or both the mask 132 and the substrate 121 can be positioned with respect to each other. The alignment unit 112 is configured to adjust the relative position between the substrate 121 and the mask 132 relative to each other, but allows for proper alignment of the mask during the deposition process and produces a high quality display. Or it becomes useful for LED display manufacture.

マスク及び基板の互いに対する位置合わせの例は、基板の平面及びマスクの平面に実質的に平行である平面を画定する少なくとも2つの方向における相対的な位置合わせを可能にする位置合わせユニットを含む。例えば、位置合わせは、x−方向及びy−方向で、即ち、上記平行な平面を画定する2つのデカルト方向で少なくとも行うことができる。典型的には、マスク及び基板は、本質的に互いに平行とすることができる。特に、位置合わせは、更に、基板の平面及びマスクの平面に本質的に鉛直な方向に行うことができる。したがって、位置合わせユニットは、少なくともX−Yの位置合わせ、特にマスク及び基板の互いに対するX−Y−Zの位置合わせにおいて構成される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる1つの特定の例は、基板をx−方向、y−方向及びz−方向に、真空チャンバ110の中で静止状態に保持できるマスクに位置合わせすることである。   An example of alignment of the mask and substrate relative to each other includes an alignment unit that allows relative alignment in at least two directions that define a plane of the substrate and a plane that is substantially parallel to the plane of the mask. For example, alignment can be performed at least in the x-direction and the y-direction, i.e., in two Cartesian directions that define the parallel planes. Typically, the mask and substrate can be essentially parallel to each other. In particular, the alignment can further be performed in a direction essentially perpendicular to the plane of the substrate and the plane of the mask. Therefore, the alignment unit is configured in at least XY alignment, in particular XYZ alignment of the mask and the substrate with respect to each other. One particular example that can be combined with other embodiments described herein is a mask that can hold the substrate stationary in the vacuum chamber 110 in the x-, y-, and z-directions. To align.

図2に示されるように、直線的ガイド220は、蒸発源100の並進運動の方向を提供する。蒸発源1000の両側に、マスク132が提供される。これにより、マスク132は、並進運動の方向に本質的に平行に延びることができる。更に、蒸発源100の対向する側面における基板121はまた、並進運動の方向に本質的に平行に延びることができる。典型的な実施形態によれば、基板121は、バルブ205を介して、真空チャンバ110内へ及び真空チャンバ110から移動させることができる。これにより、堆積装置200は、基板121各々の搬送用のそれぞれの搬送トラックを含むことができる。例えば、搬送トラックは、図2に示される基板位置に平行に、真空チャンバ110内へかつ真空チャンバ110から延びることができる。   As shown in FIG. 2, the linear guide 220 provides the direction of translation of the evaporation source 100. A mask 132 is provided on both sides of the evaporation source 1000. This allows the mask 132 to extend essentially parallel to the direction of translation. Furthermore, the substrate 121 on the opposite side of the evaporation source 100 can also extend essentially parallel to the direction of translation. According to an exemplary embodiment, the substrate 121 can be moved into and out of the vacuum chamber 110 via the valve 205. Accordingly, the deposition apparatus 200 can include respective transport tracks for transporting each of the substrates 121. For example, the transport track can extend into and out of the vacuum chamber 110 parallel to the substrate position shown in FIG.

典型的には、更なるトラックが、マスクフレーム131及びゆえにマスク132を支持するように提供される。したがって、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態は、処理真空チャンバ110内に4つのトラックを含むことができる。例えば、マスク洗浄のためなど、チャンバからマスク132のうちの1つを移動させるために、マスクフレーム131及びこれによりマスクを基板121の搬送トラック上に移動させることができる。次いで、それぞれのマスクフレームは、基板の搬送トラック上で真空チャンバ110を出入りすることができる。真空チャンバ110内へ及び真空チャンバ110から分離した搬送トラックをマスクフレーム131に提供することが可能であるにせよ、堆積装置200の所有コストは、ただ2つのトラック、即ち、基板に対する搬送トラックが、真空チャンバ110内に及び真空チャンバ110から延びる場合に、削減することができ、加えて、マスクフレーム131は、適切なアクチュエータ又はロボットによって基板に対する搬送トラックのそれぞれに移動することができる。   Typically, additional tracks are provided to support the mask frame 131 and hence the mask 132. Thus, some embodiments that can be combined with other embodiments described herein can include four tracks within the processing vacuum chamber 110. For example, to move one of the masks 132 out of the chamber, such as for mask cleaning, the mask frame 131 and thereby the mask can be moved onto the transport track of the substrate 121. Each mask frame can then enter and exit the vacuum chamber 110 on the substrate transport track. Even though it is possible to provide the mask frame 131 with transport tracks separated into and out of the vacuum chamber 110, the cost of ownership of the deposition apparatus 200 is only two tracks, i.e. transport tracks for the substrate. When extending into and out of the vacuum chamber 110, this can be eliminated, and in addition, the mask frame 131 can be moved to each of the transport tracks for the substrate by a suitable actuator or robot.

図2は、蒸発源100の別の例示的実施形態を示す。蒸発源100は、支持体102を含む。支持体102は、直線的ガイド220に沿った並進運動のために構成される。支持体102は、蒸発るつぼ104、及び蒸発るつぼ104上に提供された分配管106を支持する。これにより、蒸発るつぼで発生した蒸気は、上に向かって、分配管の一又は複数の排出口から移動することができる。本明細書に記載された実施形態によれば、分配管106はまた、蒸気分配シャワーヘッド、例えば、直線的蒸気分配シャワーヘッドと見なすことができる。   FIG. 2 shows another exemplary embodiment of the evaporation source 100. The evaporation source 100 includes a support 102. The support 102 is configured for translational movement along the linear guide 220. The support 102 supports the evaporation crucible 104 and the distribution pipe 106 provided on the evaporation crucible 104. Thereby, the steam generated in the evaporation crucible can move upward from one or a plurality of outlets of the distribution pipe. According to the embodiments described herein, the distribution pipe 106 can also be considered a vapor distribution showerhead, eg, a straight vapor distribution showerhead.

一又は複数の排出口は、例えば、シャワーヘッド又は他の蒸気分配システムに設けられる、一又は複数の開口部或いは一又は複数のノズルとすることができる。蒸発源は、蒸気分配シャワーヘッド、例えば、複数のノズル又は開口を有する直線的蒸気分配シャワーヘッドを含むことができる。シャワーヘッドは、シャワーヘッドの中の圧力がシャワーヘッドの外側の圧力よりも、例えば、少なくとも1桁ほど高くなるような開口を有する筐体を含むと本明細書では理解できる。   The one or more outlets may be, for example, one or more openings or one or more nozzles provided in a showerhead or other vapor distribution system. The evaporation source can include a vapor distribution showerhead, eg, a linear vapor distribution showerhead having a plurality of nozzles or openings. A showerhead can be understood herein to include a housing having an opening such that the pressure in the showerhead is at least an order of magnitude higher than the pressure outside the showerhead, for example.

図2は、少なくとも1つのシールド202を有するシールドアセンブリを更に示す。典型的には、図2に示すように、実施形態は、2つのシールド202、例えば、サイドシールドを含むことができる。これにより、有機材料の蒸発は、基板に向かった方向に範囲を定めることができる。分配管に対する側方への蒸発、即ち、例えば、正常な(normal)蒸発方向に対して鉛直な方向への蒸発は、回避するかアイドルモードだけで使用することができる。有機材料の蒸気ビームのスイッチを切ることと比較して、有機材料の蒸気ビームを遮断することの方が容易であり得るという事実を考慮すると、分配管106はまた、蒸気放出が望ましくない操作モード中に蒸気が蒸発源100から出ていくのを回避するために、サイドシールド202のうちの1つに向かって回転され得る。   FIG. 2 further illustrates a shield assembly having at least one shield 202. Typically, as shown in FIG. 2, embodiments can include two shields 202, eg, side shields. Thereby, the evaporation of the organic material can be delimited in the direction towards the substrate. Evaporation to the side of the distribution pipe, i.e. evaporation in a direction perpendicular to the normal evaporation direction, for example, can be avoided or used only in the idle mode. In view of the fact that it may be easier to shut off the vapor beam of organic material as compared to switching off the vapor beam of organic material, the distribution pipe 106 also has an operating mode in which vapor release is not desired. In order to avoid vapor from exiting the evaporation source 100, it can be rotated towards one of the side shields 202.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、本明細書に記載の実施形態によれば、分配管の回転は、少なくとも分配管が装着される蒸発器制御ハウジングの回転により提供することができる。典型的には、蒸発るつぼもまた、蒸発器制御ハウジングに装着される。したがって、蒸発源は、少なくとも回転可能に装着される分配管、特に双方が、即ち、一体化して、回転可能に装着される分配管及び蒸発るつぼ、更に具体的には、一体的に回転可能に装着される制御ハウジング、分配管及び蒸発るつぼを含む。典型的には、一又は複数のサイドシールドは、固定して装着することができ、よって分配管と一体化して回転しない。典型的な例によれば、図2及び図3に示されるように、サイドシールドは、蒸気排出口が蒸発源の2つの側面に提供されるように提供でき、2つの側面は、それぞれ2つの基板のうちの1つに面している。したがって、固定されたサイドシールドは、軸周囲で分配管の回転に対して静止している。しかし、サイドシールドは、並進運動に従い、並進運動に対して移動可能である。   According to embodiments described herein, which can be combined with other embodiments described herein, rotation of the distribution pipe is provided by rotation of an evaporator control housing to which at least the distribution pipe is mounted. be able to. Typically, an evaporation crucible is also attached to the evaporator control housing. Accordingly, the evaporation source is at least a distribution pipe that is rotatably mounted, in particular, both, that is, a distribution pipe that is rotatably mounted and an evaporation crucible, and more specifically, can be rotated integrally. Includes mounted control housing, distribution pipe and evaporation crucible. Typically, one or more side shields can be fixedly attached and thus do not rotate integrally with the distribution pipe. According to a typical example, as shown in FIGS. 2 and 3, the side shield can be provided such that a vapor outlet is provided on two sides of the evaporation source, the two sides each having two Facing one of the substrates. Therefore, the fixed side shield is stationary with respect to the rotation of the distribution pipe around the axis. However, the side shield follows the translation movement and is movable with respect to the translation movement.

図3は、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる修正例を示す。これにより、図2に対して既に記載された詳細、態様及び特徴は、参照の便宜上省略されることになる。図2と比較して、図3に示された蒸発源100は、3つの蒸発るつぼ104及び3つの分配管106を含む。有機材料の層で基板をコーティングするために、有機材料の1つの層を堆積させることを目的に、1つの有機材料を蒸発させることができる、又は複数の有機材料を蒸発させることができる。これにより、複数の有機材料が蒸気の状態で及び/又は基板の表面で混ざり、有機材料の1つの層を形成する。このことを考慮し、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、複数の蒸発るつぼ104及び複数の分配管106を支持体102によって支持することができる。前述のように、分配管は、例えば、直線的分配シャワーヘッドなどの線源を提供することができ、更に、支持体102は、有機材料を基板121上に堆積させるために、直線的ガイド220に沿って移動する。   FIG. 3 shows further modifications that can be combined with other embodiments described herein. Thus, details, aspects and features already described for FIG. 2 will be omitted for reference purposes. Compared to FIG. 2, the evaporation source 100 shown in FIG. 3 includes three evaporation crucibles 104 and three distribution pipes 106. To coat a substrate with a layer of organic material, one organic material can be evaporated or a plurality of organic materials can be evaporated for the purpose of depositing one layer of organic material. Thereby, a plurality of organic materials are mixed in the vapor state and / or on the surface of the substrate to form one layer of the organic material. With this in mind, according to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, support a plurality of evaporating crucibles 104 and a plurality of distribution pipes 106 by a support 102. Can do. As previously described, the distribution pipe can provide a source, such as, for example, a linear distribution showerhead, and further, the support 102 can provide a linear guide 220 for depositing organic material on the substrate 121. Move along.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、保守真空チャンバ210における蒸発源100の移送を、直線的ガイド220の細長部分によって提供することができる。これにより、更なる直線的ガイド320が、保守真空チャンバ210の中に提供される。更に、第2の蒸発源100を保守真空チャンバ210の中の待機位置に提供することができる。図3は、保守真空チャンバの左側の待機位置にある更なる蒸発源100を示す。堆積装置200を操作するいくつかの実施形態によれば、真空チャンバ110に示された蒸発源100は、例えば、保守が所望されると、保守真空チャンバ210内に移動することができる。この移動のために、バルブ207を開放することができる。待機位置にあり、作動準備のできた状態にある図3に示された更なる蒸発源100を真空チャンバ110内に移動させることができる。その後、バルブ207を閉鎖することができ、保守真空チャンバ210を、保守真空チャンバの中の待機位置内に移動したばかりの第1の蒸発源100の保守のために換気及び開放することができる。これにより、蒸発源の迅速な交換が可能になる。したがって、堆積装置200は、既知の堆積装置の所有コストのかなりの部分を生み出すダウンタイムを短縮した。   According to further embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the transfer of the evaporation source 100 in the maintenance vacuum chamber 210 can be provided by an elongated portion of the linear guide 220. This provides an additional linear guide 320 into the maintenance vacuum chamber 210. Further, the second evaporation source 100 can be provided at a standby position in the maintenance vacuum chamber 210. FIG. 3 shows a further evaporation source 100 in a standby position on the left side of the maintenance vacuum chamber. According to some embodiments of operating the deposition apparatus 200, the evaporation source 100 shown in the vacuum chamber 110 can be moved into the maintenance vacuum chamber 210, for example, when maintenance is desired. The valve 207 can be opened for this movement. The further evaporation source 100 shown in FIG. 3 in the standby position and ready for operation can be moved into the vacuum chamber 110. Thereafter, the valve 207 can be closed and the maintenance vacuum chamber 210 can be ventilated and opened for maintenance of the first evaporation source 100 that has just moved into a standby position in the maintenance vacuum chamber. As a result, the evaporation source can be quickly replaced. Thus, the deposition apparatus 200 has reduced downtime which creates a significant portion of the cost of ownership of the known deposition apparatus.

更に、本明細書に記載の実施形態により、1週間又はそれを上回る時間的尺度で、例えば、約±5%又はそれを下回る安定した蒸発率が可能になる。これは、特に、改善した保守状況によって提供することができる。しかし、更に有機材料を作用させる(operating organic material)方法によれば、蒸発るつぼの中に有機材料を補充することは、真空を破壊することなく、更には堆積装置の蒸発を停止させることなく実行することができる。1つの蒸発源の保守及び補充は、別の源の動作から独立して実行することができる。源の保守及び補充は多くのOLED製造システムにおいて障害であるため、これは、所有コスト(CoO)を改善する。要するに、ルーチン保守中に又はマスク交換中に基板ハンドリング又は堆積チャンバを換気する必要性がないことによる高いシステム稼働時間が、CoOを著しく改善することができる。前述のように、この改善の1つの理由は、保守真空チャンバ及び/又は本明細書に記載の保守真空チャンバと関連した他の構成要素であり、排気することができる別個のチャンバ、即ち、保守真空チャンバ又は別の源ストレージチャンバの中の一又は複数の蒸発源の保守及び事前調整が提供される。   Furthermore, the embodiments described herein allow for a stable evaporation rate on a time scale of one week or more, for example, about ± 5% or less. This can be provided in particular by improved maintenance situations. However, according to the method of operating organic material, refilling the evaporation crucible with the organic material can be performed without breaking the vacuum and without stopping the evaporation of the deposition apparatus. can do. Maintenance and replenishment of one evaporation source can be performed independently of the operation of another source. This improves cost of ownership (CoO) because source maintenance and replenishment is a bottleneck in many OLED manufacturing systems. In summary, high system uptime due to the absence of the need to vent the substrate handling or deposition chamber during routine maintenance or mask changes can significantly improve CoO. As mentioned above, one reason for this improvement is the maintenance vacuum chamber and / or other components associated with the maintenance vacuum chamber described herein, a separate chamber that can be evacuated, i.e., maintenance. Maintenance and preconditioning of one or more evaporation sources in a vacuum chamber or another source storage chamber is provided.

図4A及び4Bは、有機材料を堆積させるための堆積装置200の概略側断面図を示す。これにより、図4Aは、動作状況を示し、真空チャンバ110の中の左側の基板121は、有機材料でコーティングされる。図4Bは、動作状況を示し、真空チャンバ110の中の右側の基板121は、分配管106(2つの分配管は、図4A及び図4Bの中で見ることができる)が回転された後に、有機材料でコーティングされる。   4A and 4B show schematic side cross-sectional views of a deposition apparatus 200 for depositing organic materials. 4A shows the operating situation, and the left substrate 121 in the vacuum chamber 110 is coated with an organic material. FIG. 4B shows the operating situation, with the right substrate 121 in the vacuum chamber 110 after the distribution pipe 106 (two distribution pipes can be seen in FIGS. 4A and 4B) is rotated. Coated with organic material.

図4A及び図4Bは、第1の基板121に対する第1の搬送トラック、及び第2の基板121に対する第2の搬送トラックを示す。第1のローラアセンブリが、真空チャンバ110の片側に示され、第2のローラアセンブリが、真空チャンバの反対側に示される。図4A及び図4Bには、第1のローラアセンブリ及び第2のローラアセンブリのそれぞれのローラ424が示される。ローラは、軸425周囲を回転することができ、ドライバシステムによって駆動される。典型的には、複数のローラが、1つのモーターによって回転される。基板121は、キャリア421の中で支持される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、キャリア421は、その下側にロッドを有し、ロッドはローラと係合することができる。したがてって、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる典型的な実施形態によれば、第1の基板に対する第1の搬送トレック(trek)及び第2の基板に対する第2の搬送トレックが提供される。2つの更なるトラックが、例えば、それぞれのローラアセンブリによって提供される。図4A及び図4Bは、真空チャンバ110の両側のローラ403を示す。更なるトラックが、マスクフレーム131の中で支持することができるマスク132を支持するように構成される。例示的実施形態によれば、マスクフレーム131は、それぞれのローラアセンブリのローラ403と係合するためのロッド431をその下側に有することができる。   4A and 4B show a first transport track for the first substrate 121 and a second transport track for the second substrate 121. FIG. A first roller assembly is shown on one side of the vacuum chamber 110 and a second roller assembly is shown on the opposite side of the vacuum chamber. 4A and 4B show the respective rollers 424 of the first roller assembly and the second roller assembly. The roller can rotate about shaft 425 and is driven by a driver system. Typically, a plurality of rollers are rotated by a single motor. The substrate 121 is supported in the carrier 421. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the carrier 421 has a rod on its underside that can engage a roller. Thus, according to an exemplary embodiment that can be combined with other embodiments described herein, a first transport trek for the first substrate and a second for the second substrate. Two transport treks are provided. Two further tracks are provided, for example, by respective roller assemblies. 4A and 4B show the rollers 403 on both sides of the vacuum chamber 110. FIG. A further track is configured to support a mask 132 that can be supported in a mask frame 131. According to an exemplary embodiment, the mask frame 131 can have a rod 431 on its underside for engaging the roller 403 of the respective roller assembly.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、処理システムで使用するように適合されたキャリアは、電極アセンブリ及び支持体ベースを含む。電極アセンブリは、基板を基板キャリアに固定するための静電吸着力を生成するように構成される。更なる追加的又は代替的な修正例によれば、支持体ベースは内部に形成された加熱/冷却リザーバを有する。電極アセンブリ及び支持体ベースは、処理システム内部での搬送のために構成された単一本体(unitary body)を形成する。キャリアは、処理システムの中で供給媒体に連結することができる。クイックディスコネクト(quick disconnect)は、本体に結合することができ、本体が熱調節媒体の源から分離されると、リザーバ加熱/冷却リザーバの中で熱調節媒体を捕捉するように構成することができる。クイックディスコネクトは、吸着電荷を加えるために結合することができる。   According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, a carrier adapted for use in a processing system includes an electrode assembly and a support base. The electrode assembly is configured to generate an electrostatic attraction force for securing the substrate to the substrate carrier. According to a further additional or alternative modification, the support base has a heating / cooling reservoir formed therein. The electrode assembly and support base form a unitary body configured for transport within the processing system. The carrier can be coupled to the supply medium in the processing system. A quick disconnect can be coupled to the body and configured to capture the thermal conditioning medium in the reservoir heating / cooling reservoir when the body is disconnected from the source of the thermal conditioning medium. it can. The quick disconnect can be coupled to add an adsorbed charge.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、ローラ403からローラ424までマスクフレーム131を移動させるためのアクチュエータ又はロボットが、真空チャンバ110の中に提供される。これにより、マスクフレーム、更にはマスクが、搬送トラックを提供するローラアセンブリ上に提供される。したがって、マスクフレーム131は、基板のローラアセンブリにより提供される搬送トラックに沿って、真空チャンバ110内へ及び真空チャンバから移動させることができる。   According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, an actuator or robot for moving the mask frame 131 from the roller 403 to the roller 424 is provided in the vacuum chamber 110. Provided. This provides a mask frame, as well as a mask, on a roller assembly that provides a transport track. Thus, the mask frame 131 can be moved into and out of the vacuum chamber 110 along a transport track provided by the substrate roller assembly.

図4Aでは、左側の基板121は、有機材料でコーティングされる。これは、有機材料の蒸気が分配管106の中の複数の排出開口又はノズルから案内されていることを図示している参照番号10によって示される。真空チャンバ110の右側の基板及びキャリアが、点線で図4Aに示される。点線は、基板が真空チャンバ110内への若しくは真空チャンバ110からの搬送下にあること、又は基板及びマスク132が互いに対して現在位置合わせされていることを示す。典型的には、有機材料でコーティングされる基板の搬送及びマスクの位置合わせは、左側の基板上への有機材料の堆積が終了する前に、終了する。これにより、蒸発源100は、左側の基板の堆積位置から、右側の基板の堆積位置まで直ちに観点することができ、これが図4Bに示されている。   In FIG. 4A, the left substrate 121 is coated with an organic material. This is indicated by reference numeral 10 illustrating that the vapor of organic material is being guided from a plurality of discharge openings or nozzles in the distribution pipe 106. The substrate and carrier on the right side of the vacuum chamber 110 are shown in FIG. 4A by dotted lines. The dotted line indicates that the substrate is in or out of transfer from the vacuum chamber 110 or that the substrate and mask 132 are currently aligned with each other. Typically, the transport of the substrate coated with the organic material and the mask alignment are completed before the organic material is deposited on the left substrate. This allows the evaporation source 100 to immediately view from the deposition position of the left substrate to the deposition position of the right substrate, as shown in FIG. 4B.

蒸発源100は、例えば、トルクモーター、電気ロボット又は空気圧ロータなどのアクチュエータ108を含む。アクチュエータ108は、例えば、強磁性流体フィードスルーなどの真空回転フィードスルー109を介して、トルクを提供することができる。アクチュエータ108は、本質的に垂直である軸周囲で少なくとも分配管106を回転させるように構成される。蒸発源は、例えば、アクチュエータ108及びフィードスルー109を収納することができる支持体102を含む。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、蒸発源100は、蒸発器制御ハウジング402を更に含む。蒸発器制御ハウジング402は、大気ボックス、即ち、真空チャンバ110が技術的真空になるまで排気されるときでさえ、内部の大気圧を維持するように構成されたボックスとすることができる。例えば、スイッチ、バルブ、コントローラ、冷却ユニット及び冷却制御ユニットから成るグループから選択された少なくとも1つの要素を蒸発器制御ハウジング402の中に提供することができる。支持体102は、蒸発るつぼ104及び分配管106を更に支持する。   The evaporation source 100 includes an actuator 108 such as a torque motor, an electric robot, or a pneumatic rotor. The actuator 108 can provide torque via a vacuum rotary feedthrough 109 such as, for example, a ferrofluid feedthrough. The actuator 108 is configured to rotate at least the distribution pipe 106 about an axis that is essentially vertical. The evaporation source includes, for example, a support 102 that can accommodate the actuator 108 and the feedthrough 109. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the evaporation source 100 further includes an evaporator control housing 402. The evaporator control housing 402 may be an atmospheric box, i.e. a box configured to maintain an internal atmospheric pressure even when the vacuum chamber 110 is evacuated until it reaches a technical vacuum. For example, at least one element selected from the group consisting of a switch, a valve, a controller, a cooling unit, and a cooling control unit can be provided in the evaporator control housing 402. The support 102 further supports the evaporation crucible 104 and the distribution pipe 106.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、支持体102は、直線的ガイド433と係合される。蒸発源の並進運動は、直線的ガイド433内部へ又は直線的ガイド433上に支持体102を移動させることにより提供することができる。これにより、アクチュエータ、ドライバ、モーター、ドライバベルト、及び/又はドライバチェーンを直線的ガイドの中に又は支持体102の中に提供することができる。更なる代替案によれば、アクチュエータ、ドライバ、モーター、ドライバベルト、及び/又はドライバチェーンのそれぞれの部分を直線的ガイド及び支持体の双方の中に提供することができる。   According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the support 102 is engaged with a linear guide 433. Translational movement of the evaporation source can be provided by moving the support 102 into or on the linear guide 433. Thereby, actuators, drivers, motors, driver belts and / or driver chains can be provided in the linear guide or in the support 102. According to a further alternative, respective portions of the actuator, driver, motor, driver belt, and / or driver chain can be provided in both the linear guide and the support.

分配管が、真空チャンバ110の中の左側の基板121がコーティングされるコーティング位置(図1Aを参照)から、真空チャンバ110の中の右側の基板121が有機材料でコーティングされる位置(図4Bを参照)まで回転された後に、蒸発源100は、真空チャンバ110の中の右側に基板121を堆積させるための直線的ガイド433に沿った並進運動によって移動される。図4Bの左側の点線によって示されるように、有機材料で事前にコーティングされた第1の基板は、真空チャンバ110からこの時点で移動される。新たな基板が左側の真空チャンバ110の中の処理領域内に提供され、マスク132及び基板121が互いに対して位置合わせされる。したがって、右側の基板121が有機材料の層でコーティングされた後に、左側の新たな基板121上に有機材料を再び堆積させるために、分配管106をアクチュエータ108により回転させることができる。   From the coating position where the left substrate 121 in the vacuum chamber 110 is coated (see FIG. 1A) to the distribution pipe, the right substrate 121 in the vacuum chamber 110 is coated with an organic material (see FIG. 4B). After being rotated to (see), the evaporation source 100 is moved by a translational movement along a linear guide 433 for depositing the substrate 121 on the right side in the vacuum chamber 110. As shown by the dotted line on the left side of FIG. 4B, the first substrate pre-coated with an organic material is now removed from the vacuum chamber 110. A new substrate is provided in the processing region in the left vacuum chamber 110 and the mask 132 and the substrate 121 are aligned with respect to each other. Thus, after the right substrate 121 is coated with a layer of organic material, the distribution pipe 106 can be rotated by the actuator 108 to re-deposit the organic material on the new substrate 121 on the left side.

前述のように、本明細書に記載される実施形態は、基板121の1つの寸法に沿って線源を提供する少なくとも1つの分配管の並進運動と、第1の処理領域から第2の処理領域までの少なくとも1つの分配管の回転とを含み、第1の処理領域及び第2の処理領域の各々は、内部で支持される基板を有するように構成される。例えば、処理領域の中の基板は、基板位置の位置合わせのために搬送トラック及び/又はアクチュエータ上に順次提供されるキャリアの中で支持される。典型的には、線源を形成する少なくとも1つの分配管106が、本質的に垂直方向に延び、即ち、線源を画定する線が、本質的に垂直方向に延び、少なくとも1つの分配管106の回転軸もまた、本質的に垂直方向に延びる。少なくとも1つの分配管106は、動作中に回転するように構成される。図4A及び図4Bに関する例について分かるように、線源を形成する方向及び回転軸の方向は、平行とすることができる。   As described above, the embodiments described herein provide translational movement of at least one distribution pipe that provides a source along one dimension of the substrate 121 and second processing from the first processing region. Each of the first processing region and the second processing region is configured to have a substrate supported therein. For example, the substrate in the processing region is supported in a carrier that is sequentially provided on the transport track and / or actuator for alignment of the substrate position. Typically, at least one distribution pipe 106 forming the source extends in an essentially vertical direction, i.e., the line defining the source extends in an essentially vertical direction and the at least one distribution pipe 106. The axis of rotation also extends essentially vertically. At least one distribution pipe 106 is configured to rotate during operation. As can be seen for the example with respect to FIGS. 4A and 4B, the direction of forming the source and the direction of the axis of rotation can be parallel.

いくつかの実施形態によれば、蒸発源は、例えば、スライド式コンタクトを有するなど、源への機械信号及び/又は電力伝送を含み得る。例えば、直線的ドライバ、真空回転ユニット及び/又はスライド式コンタクトの組み合わせを、蒸発源への信号及び/又は電力伝送のために提供することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、蒸発源は、誘導性電力伝送及び/又は誘導性信号伝送を含むことができる。図4A及び図4Bは、蒸発源100における、例えば、支持体102における第1のコイル配置452、及び真空チャンバ110の中の第2のコイル配置453を示す。これにより、電力及び/又は制御信号を真空チャンバ110内から蒸発源100まで誘導的に伝送することができる。例えば、コイル配置453は、電力及び/又は信号伝送を並進運動の位置に関係なく提供することができるように、真空チャンバの中を延びることができる。異なる実施態様によれば、蒸発るつぼ用電力の少なくとも1つ、即ち、有機材料を蒸発させるための電力の少なくとも1つ、アクチュエータ108用の電力、即ち、分配管回転用の電力、蒸発制御用の制御信号、分配管の回転制御用の制御信号、及び並進運動用の制御信号は、コイル配置の組み合わせによって提供することができる。   According to some embodiments, the evaporation source may include mechanical signals and / or power transfer to the source, such as having a sliding contact. For example, a combination of linear drivers, vacuum rotating units and / or sliding contacts can be provided for signal and / or power transfer to the evaporation source. According to further embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the evaporation source can include inductive power transmission and / or inductive signal transmission. 4A and 4B show a first coil arrangement 452 in the evaporation source 100, for example, in the support 102, and a second coil arrangement 453 in the vacuum chamber 110. As a result, power and / or control signals can be inductively transmitted from the vacuum chamber 110 to the evaporation source 100. For example, the coil arrangement 453 can extend through the vacuum chamber so that power and / or signal transmission can be provided regardless of the position of the translational motion. According to different embodiments, at least one of the power for the evaporation crucible, i.e. at least one of the power for evaporating the organic material, the power for the actuator 108, i.e. the power for rotating the distribution pipe, for the evaporation control The control signal, the control signal for controlling the rotation of the distribution pipe, and the control signal for translational motion can be provided by a combination of coil arrangements.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる典型的な実施形態によれば、蒸発源は、少なくとも1つの蒸発るつぼと、少なくとも1つの分配管、例えば、少なくとも1つの直線的蒸気分配シャワーヘッドとを含む。しかしながら、蒸発源は、2つ又は3つの、最終的には4つ又は5つでさえある蒸発るつぼと、対応する分配管とを含むことができる。これにより、異なる有機材料は、基板上に1つの有機層を形成するように、いくつかのるつぼのうちの少なくとも2つの中で蒸発させることができる。追加的に又は代替的には、類似の有機材料は、堆積速度が上昇可能となるように、いくつかのるつぼのうちの少なくとも2つの中で蒸発させることができる。有機材料は、多くの場合、比較的小さな温度範囲の中だけで(例えば、20℃又はそれを下回る)蒸発させることができ、ゆえに、るつぼの中の温度を上昇させることによって、蒸発率を著しく高めることができないので、これが特にあてはまる。   According to exemplary embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the evaporation source includes at least one evaporation crucible and at least one distribution pipe, eg, at least one linear vapor distribution. Including a shower head. However, the evaporation source can include two or three, eventually four or even five evaporation crucibles and corresponding distribution pipes. This allows different organic materials to be evaporated in at least two of the several crucibles so as to form one organic layer on the substrate. Additionally or alternatively, similar organic materials can be evaporated in at least two of several crucibles so that the deposition rate can be increased. Organic materials can often evaporate only in a relatively small temperature range (eg, 20 ° C. or below), and therefore, by increasing the temperature in the crucible, the evaporation rate can be significantly increased. This is especially true because it cannot be increased.

本明細書に記載の実施形態によれば、蒸発源、堆積装置、蒸発源及び/又は堆積装置を操作する方法、並びに蒸発源及び/又は堆積装置を製造する方法が、垂直堆積のために構成される、即ち、基板は、層堆積中に、本質的に垂直配向(例えば、垂直±10度)で支持される。更に、線源、並進運動及び蒸発方向の回転、特に軸が本質的に垂直である、例えば、基板配向及び/又は線源の線延長方向に平行である軸周囲の回転の組み合わせにより、約80%又はそれを上回る高い材料利用率が可能になる。これは、他のシステムと比較して、少なくとも30%の改善である。   According to embodiments described herein, an evaporation source, a deposition apparatus, a method of operating an evaporation source and / or a deposition apparatus, and a method of manufacturing an evaporation source and / or deposition apparatus are configured for vertical deposition. That is, the substrate is supported in an essentially vertical orientation (eg, vertical ± 10 degrees) during layer deposition. Furthermore, by a combination of source, translation and rotation in the direction of evaporation, in particular around the axis where the axis is essentially perpendicular, for example, substrate orientation and / or rotation around the axis parallel to the line extension direction of the source. %, Or higher material utilization is possible. This is an improvement of at least 30% compared to other systems.

処理チャンバ内、即ち、内部での層堆積用の真空チャンバ内での移動可能かつ旋回可能な蒸発源により、高い材料利用率での連続的又はほぼ連続的なコーティングが可能になる。一般的に、本明細書に記載の実施形態により、交互の2つの基板をコーティングするために180度旋回機構を有する走査源アプローチを使用することによって、高い蒸発源効率(>85%)及び高い材料利用率(少なくとも50%又はそれを上回る)が可能になる。これにより、源効率は、蒸気ビームが、コーティング対象の基板の全体面積を均一にコーティングできるように、大面積基板のサイズを超えて延在するという事実により生じる材料損失を考慮に入れる。加えて、材料利用率は、蒸発源のアイドル時間中に、即ち、蒸発源が蒸発した材料を基板上に堆積させることができない時間中に生じる損失も考慮に入れる。   A movable and pivotable evaporation source in the processing chamber, ie in the vacuum chamber for the deposition of the layers therein, allows a continuous or nearly continuous coating with high material utilization. In general, according to embodiments described herein, high evaporation source efficiency (> 85%) and high by using a scan source approach with a 180 degree swivel mechanism to coat alternating two substrates Material utilization (at least 50% or more) is possible. Thereby, the source efficiency takes into account the material loss caused by the fact that the vapor beam extends beyond the size of the large area substrate so that the entire area of the substrate to be coated can be uniformly coated. In addition, the material utilization also takes into account losses that occur during the idle time of the evaporation source, i.e. during the time when the evaporated source cannot deposit the evaporated material on the substrate.

更にまた、本明細書に記載され、垂直基板配向に関する実施形態により、堆積装置の小さな設置面積、及び特に基板上で有機材料のいくつかの層をコーティングするためのいくつかの堆積装置を含む堆積システムが可能になる。これにより、本明細書に記載の装置は、大面積基板処理又は大面積キャリアの中の複数の基板の処理のために構成されていると見なすことができる。垂直配向により、現在及び未来のガラスサイズである、現在及び未来の基板サイズ世代に対する良好なスケーラビリティが更に可能になる。   Still further, according to embodiments described herein with respect to vertical substrate orientation, deposition includes a small footprint of the deposition apparatus, and in particular, several deposition apparatuses for coating several layers of organic material on the substrate. The system becomes possible. Thus, the apparatus described herein can be considered configured for large area substrate processing or processing of multiple substrates in a large area carrier. Vertical orientation further allows for good scalability for current and future substrate size generations, which are current and future glass sizes.

図5A及び図5Bは、堆積装置500の更なる実施形態を示す。図5Aは、堆積装置500の概略上面図を示す。図5Bは、堆積装置500の概略側断面図を示す。堆積装置500は、真空チャンバ110を含む。バルブ205、例えば、ゲートバルブは、隣接する真空チャンバへの真空密閉を可能にする。バルブは、基板121又はマスク132の真空チャンバ110内への又は真空チャンバ110からの搬送のために開放することができる。2つ又はそれを上回る蒸発源100が、真空チャンバ110の中に提供される。図5Aに示された例は、7つの蒸発源を示す。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる典型的な実施形態によれば、2つの蒸発源、3つの蒸発源、又は4つの蒸発源を、有利には提供することができる。またいくつかの実施形態により提供され得る蒸発源のより大きな数と比較して、蒸発源の限定された数(例えば、2から4)の保守のロジスティックの方が容易であり得る。したがって、そのようなシステムに対する所有コストの方が好ましい可能性がある。   5A and 5B illustrate a further embodiment of the deposition apparatus 500. FIG. FIG. 5A shows a schematic top view of the deposition apparatus 500. FIG. 5B shows a schematic cross-sectional side view of the deposition apparatus 500. The deposition apparatus 500 includes a vacuum chamber 110. A valve 205, eg, a gate valve, allows a vacuum seal to the adjacent vacuum chamber. The valve can be opened for transfer of the substrate 121 or mask 132 into or out of the vacuum chamber 110. Two or more evaporation sources 100 are provided in the vacuum chamber 110. The example shown in FIG. 5A shows seven evaporation sources. According to exemplary embodiments that can be combined with other embodiments described herein, two evaporation sources, three evaporation sources, or four evaporation sources can be advantageously provided. Also, a maintenance logistic for a limited number of evaporation sources (eg, 2 to 4) may be easier compared to a larger number of evaporation sources that may be provided by some embodiments. Thus, the cost of ownership for such a system may be preferred.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、図5Aに示された例について、ループ状トラック530を提供することができる。ループ状トラック530は、真っすぐな部分534及び湾曲部分533を含むことができる。ループ状トラック530は、蒸発源の並進運動及び蒸発源の回転のために提供される。前述のように、蒸発源は、典型的には線源、例えば、直線的蒸気分配シャワーヘッドとすることができる。   According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, a looped track 530 can be provided for the example shown in FIG. 5A. The looped track 530 can include a straight portion 534 and a curved portion 533. A loop track 530 is provided for translational movement of the evaporation source and rotation of the evaporation source. As mentioned above, the evaporation source can typically be a radiation source, for example, a linear vapor distribution showerhead.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、ループ状トラックは、ループ状トラックに沿って一又は複数の蒸発源を移動させるために、レール若しくはレール装置、ローラ装置又は磁気ガイドを含む。   According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, a looped track is used to move one or more evaporation sources along the looped track. Includes rail device, roller device or magnetic guide.

ループ状トラック530に基づき、源のトレーンは、典型的にはマスク132によってマスクされる基板121に沿って並進運動で移動することができる。ループ状トラック530の湾曲部分533は、蒸発源100を回転させる。更に、湾曲部分533は、第2の基板121の前に蒸発源を位置付けるように提供することができる。ループ状トラック530の更なる真っすぐな部分534は、更なる基板121に沿って更なる並進運動を提供する。これにより、前述のように、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、基板121及びマスク132は、堆積中に本質的に静止したままである。線源、例えば、複数の線源を線の本質的に垂直配向に提供する蒸発源は、静止した基板に沿って移動される。   Based on the looped track 530, the source train can move in translation along the substrate 121, typically masked by the mask 132. A curved portion 533 of the loop track 530 rotates the evaporation source 100. Further, a curved portion 533 can be provided to position the evaporation source in front of the second substrate 121. A further straight portion 534 of the looped track 530 provides further translational movement along the further substrate 121. This allows the substrate 121 and mask 132 to remain essentially stationary during deposition, according to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, as described above. is there. A source, eg, an evaporation source that provides multiple sources in an essentially vertical orientation of the line, is moved along a stationary substrate.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、真空チャンバ110の中に示された基板121は、ローラ403及び424を有する基板支持体によって、更に静止した堆積位置では、位置合わせユニット112に連結されている基板支持体126によって、支持することができる。位置合わせユニット112は、マスク132に対する基板121の位置を調整することができる。したがって、基板は、有機材料の堆積中に基板とマスクとの間の適切な位置合わせを行うために、マスク132に対して移動することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、代替的に又は追加的に、マスク132及び/又はマスク132を保持するマスクフレーム131を位置合わせユニット112に連結することができる。これにより、マスクを基板121に対して位置付けることができるか、マスク132及び基板121双方を互いに対して位置付けることができるかのどちらかとなる。   According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the substrate 121 shown in the vacuum chamber 110 is further driven by a substrate support having rollers 403 and 424. In the stationary deposition position, it can be supported by the substrate support 126 connected to the alignment unit 112. The alignment unit 112 can adjust the position of the substrate 121 with respect to the mask 132. Thus, the substrate can be moved relative to the mask 132 to provide proper alignment between the substrate and the mask during the deposition of the organic material. According to further embodiments that can be combined with other embodiments described herein, alternatively or additionally, the mask 132 and / or the mask frame 131 holding the mask 132 may be attached to the alignment unit 112. Can be linked. Thereby, either the mask can be positioned with respect to the substrate 121, or both the mask 132 and the substrate 121 can be positioned with respect to each other.

図5A及び図5Bに示される実施形態は、真空チャンバ110の中に提供される2つの基板121を示す。しかし、特に真空チャンバの中に蒸発源100のトレーンを含む実施形態について、少なくとも3つの基板又は少なくとも4つの基板を提供することができる。これにより、基板の交換のための十分な時間、即ち、真空チャンバ内への新しい基板の搬送及び真空チャンバからの処理された基板の搬送のための十分な時間を、多数の蒸発源と、それゆえにより高いスループットとを有する堆積装置500にさえも提供することができる。   The embodiment shown in FIGS. 5A and 5B shows two substrates 121 provided in the vacuum chamber 110. However, at least three substrates or at least four substrates can be provided, particularly for embodiments including a train of evaporation source 100 in a vacuum chamber. This allows sufficient time for the substrate exchange, i.e. the transfer of a new substrate into the vacuum chamber and the transfer of the processed substrate from the vacuum chamber, with multiple evaporation sources and Thus, even a deposition apparatus 500 with higher throughput can be provided.

図5A及び図5Bは、第1の基板121に対する第1の搬送トラック、及び第2の基板121に対する第2の搬送トラックを示す。第1のローラアセンブリが、真空チャンバ110の片側に示される。第1のローラアセンブリは、ローラ424を含む。更に、搬送システムは、磁気案内素子524を含む。同様に、ローラ及び磁気案内素子を有する第2の搬送システムが、真空チャンバの反対側に提供される。搬送システムは、例えば、図4A及び図4Bに関して記載されたように操作することができる。キャリア421の上部は、磁気案内素子524によって案内される。同様に、いくつかの実施形態によれば、マスクフレーム131は、ローラ403及び磁気案内素子503によって支持することができる。   5A and 5B show a first transport track for the first substrate 121 and a second transport track for the second substrate 121. FIG. A first roller assembly is shown on one side of the vacuum chamber 110. The first roller assembly includes a roller 424. Further, the transport system includes a magnetic guide element 524. Similarly, a second transport system having rollers and magnetic guide elements is provided on the opposite side of the vacuum chamber. The transport system can be operated, for example, as described with respect to FIGS. 4A and 4B. The upper part of the carrier 421 is guided by a magnetic guide element 524. Similarly, according to some embodiments, the mask frame 131 can be supported by a roller 403 and a magnetic guide element 503.

図5Bは、ループ状トラック530のそれぞれ真っすぐな部分534上に提供された2つの支持体102を例示的に示す。蒸発るつぼ104及び分配管106は、それぞれの支持体102によって支持される。これにより、図5Bは、支持体102によって支持された2つの分配管106を示す。支持体102は、ループ状トラックの真っすぐな部分534上に案内さているように示される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、アクチュエータ、ドライバ、モーター、ドライバベルト、及び/又はドライバチェーンは、ループ状トラックに沿って、即ち、ループ状トラックの真っすぐな部分534に沿って、且つループ状トラックの湾曲部分533(図5Aを参照)に沿って、支持体102を移動させるように提供することができる。   FIG. 5B exemplarily shows two supports 102 provided on each straight portion 534 of the looped track 530. The evaporation crucible 104 and the distribution pipe 106 are supported by the respective supports 102. Thus, FIG. 5B shows two distribution pipes 106 supported by the support 102. The support 102 is shown guided on a straight portion 534 of the looped track. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the actuators, drivers, motors, driver belts, and / or driver chains are along the looped track, i.e. Support 102 may be provided to move along the straight portion 534 of the looped track and along the curved portion 533 of the looped track (see FIG. 5A).

図6は、第1の堆積装置200及び第2の堆積装置200を有する堆積システム600の実施形態を示す。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、本明細書に記載の実施形態によれば、一又は複数の移送チャンバが提供される。図6は、第1の移送チャンバ610及び第2の移送チャンバ611を例示的に示す。更に、移送チャンバ609及び612の部分が示される。図6に示されるように、ゲートバルブ605が、移送チャンバ610と移送チャンバ609との間に提供される。ゲートバルブ605は、移送チャンバ610と移送チャンバ609との間に真空密閉を提供するように開閉することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、一又は複数のゲートバルブを2つの隣接する移送チャンバの間に提供することができる。ゲートバルブ605の存在は、堆積システム600の適用、即ち、基板上に堆積された有機材料層の種類、数、順番によって決まる。したがって、一又は複数のゲートバルブ605を移送チャンバの間に提供することができる。代替的には、ゲートバルブは、移送チャンバのどの間にも提供されない。   FIG. 6 illustrates an embodiment of a deposition system 600 having a first deposition apparatus 200 and a second deposition apparatus 200. According to the embodiments described herein, which can be combined with other embodiments described herein, one or more transfer chambers are provided. FIG. 6 exemplarily shows a first transfer chamber 610 and a second transfer chamber 611. In addition, portions of transfer chambers 609 and 612 are shown. As shown in FIG. 6, a gate valve 605 is provided between the transfer chamber 610 and the transfer chamber 609. The gate valve 605 can be opened and closed to provide a vacuum seal between the transfer chamber 610 and the transfer chamber 609. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, one or more gate valves can be provided between two adjacent transfer chambers. The presence of the gate valve 605 depends on the application of the deposition system 600, i.e. the type, number and order of the organic material layers deposited on the substrate. Accordingly, one or more gate valves 605 can be provided between the transfer chambers. Alternatively, no gate valve is provided between any of the transfer chambers.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、移送チャンバのうちの一又は複数を真空回転チャンバとして提供することができる。その内部で、基板121を中心軸、例えば、垂直な中心軸周囲で回転させることができる。これによって、搬送トラック621の配向を変更することができる。移送チャンバ611の中に示されるように、2つの基板121が回転される。基板121が位置する2つの搬送トラック621Rは、2つの搬送トラック621に対して回転し、堆積装置200の搬送トラック621から延在する。これらを考慮し、搬送トラック621R上の2つの基板121が、隣接する移送チャンバ610又は612に移送される位置にそれぞれ提供される。   According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, one or more of the transfer chambers can be provided as a vacuum rotation chamber. Inside, the substrate 121 can be rotated around a central axis, for example, a vertical central axis. As a result, the orientation of the transport track 621 can be changed. As shown in the transfer chamber 611, the two substrates 121 are rotated. The two transport tracks 621R where the substrate 121 is located rotate relative to the two transport tracks 621 and extend from the transport track 621 of the deposition apparatus 200. Considering these, the two substrates 121 on the transport track 621R are respectively provided at positions to be transferred to the adjacent transfer chamber 610 or 612.

第1の堆積装置200は、バルブ205によって、第1の移送チャンバ610に連結される。図6に示されるように、且つ本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、搬送トラック621は、真空チャンバ110から移送チャンバ610内まで延びる。これにより、基板121の一又は複数を真空チャンバ110から移送チャンバ610まで移送することができる。これにより、バルブ205は、典型的には、一又は複数の基板の搬送のために開放される。更なる堆積装置200は、更なるバルブ205によって、第2の移送チャンバ611に連結される。したがって、1つの堆積装置から移送チャンバへ、移送チャンバから更なる移送チャンバへ、且つ更なる移送チャンバから更なる堆積装置へ、基板を移送することができる。これによって、基板を大気、及び非真空状態、及び/又は不所望な環境に露出せずに、有機材料のいくつかの層を基板上に堆積させることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる典型的な実施形態によれば、移送チャンバは、例えば、真空状態及び/又は所望の環境下で一又は複数の基板を移送するように構成されている真空移送チャンバである。   The first deposition apparatus 200 is connected to the first transfer chamber 610 by a valve 205. According to some embodiments, as shown in FIG. 6 and can be combined with other embodiments described herein, the transport track 621 extends from the vacuum chamber 110 into the transfer chamber 610. Thereby, one or more of the substrates 121 can be transferred from the vacuum chamber 110 to the transfer chamber 610. As a result, the valve 205 is typically opened for transferring one or more substrates. The further deposition apparatus 200 is connected to the second transfer chamber 611 by a further valve 205. Thus, a substrate can be transferred from one deposition apparatus to a transfer chamber, from a transfer chamber to a further transfer chamber, and from a further transfer chamber to a further deposition apparatus. This allows several layers of organic material to be deposited on the substrate without exposing the substrate to atmospheric and non-vacuum conditions and / or undesired environments. According to an exemplary embodiment that can be combined with other embodiments described herein, the transfer chamber can, for example, transfer one or more substrates under vacuum conditions and / or a desired environment. It is the vacuum transfer chamber comprised.

図6に示された堆積装置200は、図3に関して記載された堆積装置に類似である又はそれに相当する。本明細書中で位置装置について記載された態様、詳細及び特徴はまた、図6に例示的に示された堆積システム600に提供することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、蒸発源100’を堆積装置200の中に提供することができる。蒸発源100’は、基板121上で有機材料を案内するように構成されている4つの分配管を含む。これにより、異なる有機材料は、基板上に1つの有機層を形成するように、4つのるつぼのうちの少なくとも2つの中で蒸発させることができる。追加的に又は代替的には、類似の有機材料は、堆積速度が上昇可能となるように、4つのるつぼのうちの少なくとも2つの中で蒸発させることができる。4つの蒸発るつぼの中で蒸発したそれぞれの材料は、図6に示された4つの分配管のそれぞれによって、基板121の方に案内される。   The deposition apparatus 200 shown in FIG. 6 is similar to or corresponds to the deposition apparatus described with respect to FIG. The aspects, details and features described herein for the position device can also be provided to the deposition system 600 exemplarily shown in FIG. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, an evaporation source 100 ′ can be provided in the deposition apparatus 200. The evaporation source 100 ′ includes four distribution pipes configured to guide the organic material on the substrate 121. This allows different organic materials to be evaporated in at least two of the four crucibles so as to form an organic layer on the substrate. Additionally or alternatively, similar organic materials can be evaporated in at least two of the four crucibles so that the deposition rate can be increased. Each material evaporated in the four evaporation crucibles is guided toward the substrate 121 by each of the four distribution pipes shown in FIG.

前述のように、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、基板121は、真空チャンバ110から第1の方向に沿って移動させることができる。これにより、基板121は、本質的に真っすぐな経路に沿って、隣接する真空チャンバ内に、例えば、移送チャンバ内に移動される。移送チャンバの中で、基板は、第1の方向と異なる第2の方向に第2の真っすぐな経路に沿って移動できるように、回転させることができる。典型的な実施形態によれば、第2の方向は、第1の方向に対して実質的に鉛直である。これは、堆積システムの容易な設計を可能にする。基板を真空チャンバ110の中に積み込むために、基板を第2の方向に沿って移送チャンバの中に移動させることができ、その内部で回転させることができる。その後、第2の方向と異なる第1の方向に沿って、基板を真空チャンバ110内に移動させることができる。   As described above, according to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the substrate 121 can be moved along a first direction from the vacuum chamber 110. . Thereby, the substrate 121 is moved along an essentially straight path into an adjacent vacuum chamber, for example into a transfer chamber. Within the transfer chamber, the substrate can be rotated so that it can move along a second straight path in a second direction different from the first direction. According to an exemplary embodiment, the second direction is substantially perpendicular to the first direction. This allows easy design of the deposition system. To load the substrate into the vacuum chamber 110, the substrate can be moved into the transfer chamber along the second direction and rotated therein. Thereafter, the substrate can be moved into the vacuum chamber 110 along a first direction different from the second direction.

図7Aから図7Cは、本明細書に記載の実施形態従って利用することができる蒸発源の部分を示す。蒸発源は、図7Aに示すように、分配管106及び蒸発るつぼ104を含むことができる。これにより、例えば、この分配管は、加熱ユニット715を有する細長い立方体とすることができる。蒸発るつぼは、加熱ユニット725で蒸発する有機材料用のリザーバとすることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる典型的な実施形態によれば、分配管106は、線源を提供する。例えば、複数の開口及び/又はノズルが、少なくとも1つの線に沿って配置される。代替的実施形態によれば、少なくとも1つの線に沿って延びる1つの細長い開口を提供することができる。例えば、細長い開口は、スリットとすることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、線は本質的に垂直に延びる。例えば、分配管106の長さは、少なくとも堆積装置の中に堆積される基板の高さに対応する。多くの場合、分配管106の長さは、堆積される基板の高さよりも、少なくとも10%ほど又は20%ほど長くなるだろう。これにより、基板の上端及び/又は基板の下端における均一な堆積を提供することができる。   FIGS. 7A-7C illustrate a portion of an evaporation source that can be utilized in accordance with the embodiments described herein. The evaporation source can include a distribution pipe 106 and an evaporation crucible 104 as shown in FIG. 7A. Thereby, for example, this distribution pipe can be an elongated cube having a heating unit 715. The evaporation crucible can be a reservoir for organic material that evaporates in the heating unit 725. According to an exemplary embodiment that can be combined with other embodiments described herein, distribution pipe 106 provides a source. For example, a plurality of openings and / or nozzles are arranged along at least one line. According to an alternative embodiment, an elongated opening can be provided that extends along at least one line. For example, the elongated opening can be a slit. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the lines extend essentially vertically. For example, the length of the distribution pipe 106 corresponds at least to the height of the substrate deposited in the deposition apparatus. In many cases, the length of the distribution pipe 106 will be at least 10% or 20% longer than the height of the substrate being deposited. This can provide uniform deposition at the top and / or bottom of the substrate.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、分配管の長さは、1.3m又はそれを上回る、例えば、2.5m又はそれを上回るとすることができる。1つの構成によれば、図7Aに示されるように、蒸発るつぼ104は、分配管106の下端に提供される。有機材料は、蒸発るつぼ104の中で蒸発する。有機材料の蒸気が、分配管の底で分配管106に入り、本質的に側方から、分配管の中の複数の開口を通って、例えば、本質的に垂直な基板の方へ案内される。例示的目的で、熱シールドを含まない、蒸発るつぼ104及び分配管106が、図7Aに示される。これにより、加熱ユニット715及び加熱ユニット725が、図7Aに示される概略斜視図の中に見られる。   According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the length of the distribution pipe is 1.3 m or more, such as 2.5 m or more. can do. According to one configuration, the evaporation crucible 104 is provided at the lower end of the distribution pipe 106, as shown in FIG. 7A. The organic material evaporates in the evaporation crucible 104. Vapor of organic material enters the distribution pipe 106 at the bottom of the distribution pipe and is guided essentially from the side through a plurality of openings in the distribution pipe, for example, toward an essentially vertical substrate. . For illustrative purposes, an evaporation crucible 104 and distribution pipe 106 that does not include a heat shield is shown in FIG. 7A. Thereby, the heating unit 715 and the heating unit 725 can be seen in the schematic perspective view shown in FIG. 7A.

図7Bは、蒸発源の一部の拡大概略図を示し、分配管106が蒸発るつぼ104に連結されている。蒸発るつぼ104と分配管106との間を連結するように構成されているフランジユニット703が提供される。例えば、蒸発るつぼ及び分配管が、例えば、蒸発源の動作のために、フランジユニットで分離及び連結又は組み立てることができる分離ユニットとして提供される。   FIG. 7B shows an enlarged schematic view of a portion of the evaporation source, with a distribution pipe 106 connected to the evaporation crucible 104. A flange unit 703 configured to connect between the evaporation crucible 104 and the distribution pipe 106 is provided. For example, the evaporation crucible and distribution pipe are provided as a separation unit that can be separated and connected or assembled with a flange unit, for example, for operation of the evaporation source.

分配管106は、内側が中空の空間710を有している。加熱ユニット715は、分配管を加熱するために提供される。したがって、分配管106は、蒸発るつぼ104によって提供される有機材料の蒸気が、分配管106の壁の内側部分で液化しない温度まで加熱することができる。シールド717が、分配管106の管周囲に提供される。シールドは、加熱ユニット715により提供される熱エネルギーを中空スペース710の方に反射し返すように構成される。これにより、分配管を加熱するのに必要なエネルギー、即ち、加熱ユニット715に提供されるエネルギーは、シールド717が熱損失を低下させるので、低下させることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、シールド717は、1つの加熱シールド層を含むことができる。代替的には、2つ又はそれを上回る加熱シールド層を加熱シールド717内に提供することができる。   The distribution pipe 106 has a space 710 that is hollow inside. A heating unit 715 is provided to heat the distribution pipe. Thus, the distribution pipe 106 can be heated to a temperature at which the vapor of the organic material provided by the evaporation crucible 104 does not liquefy at the inner portion of the distribution pipe 106 wall. A shield 717 is provided around the pipe of the distribution pipe 106. The shield is configured to reflect the thermal energy provided by the heating unit 715 back toward the hollow space 710. Thereby, the energy required to heat the distribution pipe, that is, the energy provided to the heating unit 715 can be reduced because the shield 717 reduces heat loss. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the shield 717 can include one heating shield layer. Alternatively, two or more heat shield layers can be provided in the heat shield 717.

典型的には、図7Bに示されるように、熱シールド717は、分配管106の中の開口712の位置に開口を含む。図7Bに示される蒸発源の拡大図は、4つの開口712を示す。開口712は、分配管106の軸に本質的に平行な線に沿って提供される。本明細書に記載されるように、分配管106は、例えば、内部に配置された複数の開口を有する、直線的分配シャワーヘッドとして提供することができる。これにより、本明細書中で理解されるシャワーヘッドは、例えば、蒸発るつぼから、材料を提供又は案内することができる、筐体、中空スペース、又はパイプを有する。シャワーヘッドは、シャワーヘッド内の圧力がシャワーヘッドの外側の圧力より高くなるような複数の開口(又は細長いスリット)を有することができる。例えば、シャワーヘッド内の圧力は、シャワーヘッドの外側の圧力よりも少なくとも1桁高いとすることができる。   Typically, as shown in FIG. 7B, the heat shield 717 includes an opening at the location of the opening 712 in the distribution pipe 106. The enlarged view of the evaporation source shown in FIG. 7B shows four openings 712. The opening 712 is provided along a line that is essentially parallel to the axis of the distribution pipe 106. As described herein, the distribution pipe 106 can be provided, for example, as a linear distribution showerhead having a plurality of openings disposed therein. Thereby, a showerhead as understood herein has a housing, a hollow space or a pipe that can provide or guide material from, for example, an evaporation crucible. The showerhead can have a plurality of openings (or elongated slits) such that the pressure inside the showerhead is higher than the pressure outside the showerhead. For example, the pressure inside the showerhead can be at least an order of magnitude higher than the pressure outside the showerhead.

動作中に、分配管106が、フランジユニット703で蒸発るつぼ104と連結される。蒸発るつぼ104は、蒸発させる対象となる有機材料を受け取り、有機材料を蒸発させるように構成される。図7Bは、蒸発るつぼ104のハウジングを通る断面図を示す。リフィル開口は、例えば、プラグ722、蓋、カバー又は蒸発るつぼ104の筐体を閉じるための同種のものを使用して閉鎖することができる、蒸発るつぼの上部に提供される。   During operation, the distribution pipe 106 is connected to the crucible 104 evaporating at the flange unit 703. The evaporation crucible 104 is configured to receive an organic material to be evaporated and evaporate the organic material. FIG. 7B shows a cross-sectional view through the housing of the evaporation crucible 104. The refill opening is provided at the top of the evaporation crucible, which can be closed using, for example, a plug 722, lid, cover or the like to close the housing of the evaporation crucible 104.

外側加熱ユニット725は、蒸発るつぼ104の筐体内に提供される。外側加熱要素は、少なくとも蒸発るつぼ104の壁の一部に沿って延びるとすることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、一又は複数の中央加熱要素726を追加的に又は代替的に提供することができる。図7Bは、2つの中央加熱要素726を示す。中央加熱要素726は、中央加熱要素に電力を供給するための導体729を含むことができる。いくつかの実施態様によれば、蒸発るつぼ104は、シールド727を更に含むことができる。シールド727は、外側加熱ユニット725、及び存在する場合には、中央加熱要素726によって提供される熱エネルギーを蒸発るつぼ104の筐体内に反射し返すように構成することができる。これにより、蒸発るつぼ104内での有機材料の効率的加熱を提供することができる。   An outer heating unit 725 is provided in the housing of the evaporation crucible 104. The outer heating element can extend along at least a portion of the wall of the evaporation crucible 104. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, one or more central heating elements 726 can be additionally or alternatively provided. FIG. 7B shows two central heating elements 726. The central heating element 726 can include a conductor 729 for supplying power to the central heating element. According to some embodiments, the evaporation crucible 104 can further include a shield 727. The shield 727 can be configured to reflect the thermal energy provided by the outer heating unit 725 and, if present, the central heating element 726 back into the housing of the evaporating crucible 104. This can provide efficient heating of the organic material within the evaporation crucible 104.

本明細書に記載された、いくつかの実施形態によれば、シールド717及びシールド727などの熱シールドを蒸発源に提供することができる。熱シールドは、蒸発源のエネルギー損失を減少させることができる。これにより、エネルギー消費を縮小させることができる。しかしながら、更なる態様として、特に有機材料の堆積について、蒸発源から生じた熱放射、特に堆積中にマスク及び基板に向かった熱放射を減少させることができる。特にマスクされた基板上への有機材料の堆積について、更にディスプレイ製造について、基板及びマスクの温度を正確に制御する必要がある。したがって、蒸発源から生じた熱放射を低下させる又は回避することができる。したがって、本明細書に記載された、いくつかの実施形態は、シールド717及びシールド727などの熱シールドを含む。   According to some embodiments described herein, heat shields, such as shield 717 and shield 727, can be provided to the evaporation source. The heat shield can reduce the energy loss of the evaporation source. Thereby, energy consumption can be reduced. However, as a further aspect, especially for the deposition of organic materials, it is possible to reduce the thermal radiation generated from the evaporation source, in particular towards the mask and the substrate during the deposition. There is a need to accurately control substrate and mask temperatures, particularly for organic material deposition on masked substrates, and for display manufacturing. Thus, the heat radiation generated from the evaporation source can be reduced or avoided. Accordingly, some embodiments described herein include heat shields such as shield 717 and shield 727.

これらのシールドは、蒸発源の外側への熱放射を減少させるためのいくつかのシールド層を含むことができる。更なるオプションとして、熱シールドは、空気、窒素、水又は他の適切な冷却流体などの流体によって能動的に冷却されるシールド層を含み得る。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、蒸発源に提供される一又は複数の熱シールドは、分配管106及び/又は蒸発るつぼ104など、蒸発源のそれぞれの部分を取り囲む薄板金属を含むことができる。例えば、薄板金属は、0.1mmから3mmの厚さを有することができ、鉄系金属(SS)及び非鉄金属(Cu、Ti、Al)から成るグループから選択された少なくとも1つの材料から選択することができ、及び/又は例えば、0.1mm又はそれを上回る間隙によって、互いに対して間隔を空けることができる。   These shields can include several shield layers to reduce heat radiation to the outside of the evaporation source. As a further option, the heat shield may include a shield layer that is actively cooled by a fluid such as air, nitrogen, water or other suitable cooling fluid. According to further embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the one or more heat shields provided to the evaporation source may include an evaporation source, such as a distribution pipe 106 and / or an evaporation crucible 104. A sheet metal surrounding each portion of the plate. For example, the sheet metal can have a thickness of 0.1 mm to 3 mm and is selected from at least one material selected from the group consisting of ferrous metals (SS) and non-ferrous metals (Cu, Ti, Al). And / or can be spaced apart from each other, for example by a gap of 0.1 mm or more.

いくつかの実施形態によれば、図7A及び図7Bに例示的に示されるように、蒸発るつぼ104は、分配管106の下端に提供される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、蒸気導管732は、分配管の中央部分又は分配管の下端と分配管の上端との間の別の位置で分配管1006に提供することができる。図7Cは、分配管106及び分配管の中央部分に提供される蒸発導管732を有する蒸発源の例を示す。有機材料の蒸気は、蒸発るつぼ104の中で発生し、蒸気導管732を通って分配管106の中央部分に案内される。蒸気は、複数の開口712を通って分配管106を出る。分配管106は、本明細書に記載された他の実施形態に関して説明されたように、支持体102によって支持される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、2つ又はそれを上回る蒸気導管732が、分配管106の長さに沿って異なる位置に提供できる。これによって、蒸気導管732は、1つの蒸発るつぼ104かいくつかの蒸発るつぼ104かのどちらかに連結することができる。例えば、各蒸気導管732は、対応する蒸発るつぼ104を有することができる。代替的には、蒸発るつぼ104は、分配管106に連結されている2つ又はそれを上回る蒸気導管732と流体連通することができる。   According to some embodiments, an evaporation crucible 104 is provided at the lower end of the distribution pipe 106, as exemplarily shown in FIGS. 7A and 7B. According to further embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the steam conduit 732 is located at a central portion of the distribution pipe or at another location between the lower end of the distribution pipe and the upper end of the distribution pipe. Can be provided to the distribution pipe 1006. FIG. 7C shows an example of an evaporation source having a distribution pipe 106 and an evaporation conduit 732 provided in the central portion of the distribution pipe. Organic material vapor is generated in the evaporation crucible 104 and guided through the vapor conduit 732 to the central portion of the distribution pipe 106. Steam exits distribution pipe 106 through a plurality of openings 712. Distribution pipe 106 is supported by support 102 as described with respect to the other embodiments described herein. According to further embodiments that can be combined with other embodiments described herein, two or more steam conduits 732 can be provided at different locations along the length of the distribution pipe 106. This allows the vapor conduit 732 to be connected to either one evaporating crucible 104 or several evaporating crucibles 104. For example, each vapor conduit 732 can have a corresponding evaporation crucible 104. Alternatively, the evaporation crucible 104 can be in fluid communication with two or more vapor conduits 732 that are connected to the distribution pipe 106.

本明細書に記載されるように、分配管は、中空の円筒とすることができる。これにより、用語「円筒」は、円形の底形状及び円形の上部形状、並びに上部円形及び小さな下部円形と連結する湾曲した表面積又はシェルを有すると一般的に認められると理解することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、用語「円筒」は、任意の底形状及び一致する上部形状、並びに上部形状及び下部形状と連結する湾曲した表面積又はシェルを有すると数学的意味において更に理解することができる。したがって、円筒は、必ずしも円形の断面を有する必要はない。その代わりに、ベース面及び上面は、円と異なる形状を有することができる。   As described herein, the distribution pipe can be a hollow cylinder. Thereby, it can be understood that the term “cylinder” is generally recognized as having a circular bottom shape and a circular top shape, as well as a curved surface area or shell connected to the upper circle and a small lower circle. According to further embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the term “cylinder” is curved to connect with any bottom shape and matching top shape, and top and bottom shapes. It can be further understood in the mathematical sense to have a surface area or shell. Thus, the cylinder does not necessarily have a circular cross section. Instead, the base surface and the top surface can have a different shape from the circle.

図5A及び図5Bについて記載されたように、蒸発源のトレーンを有する実施形態及び/又は蒸発源の並進運動及び回転運動のためのループ状トラックを有する実施形態は、3つ以上の基板を真空チャンバの中に提供することから恩恵を受けることができる。3つ以上の基板を真空チャンバ110内に提供する異なる実施形態が、図8A、図8B及び図9に示される。図8Aに示された例について、真空チャンバ110は、基板121を処理することができる、例えば、有機材料を基板121上で堆積することができる、4つの位置又は処理領域を含み得る。これにより、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、特に、複数の蒸発源が提供される堆積装置500について、スループットを増加させるために、基板の交換を加速することができる。図8Aに示される堆積装置500は、2つの移送チャンバ810を含む。移送チャンバの各々は、真空チャンバ110に隣接して提供される。例えば、移送チャンバ810は、バルブ205を介して、真空チャンバ110に連結することができる。本明細書に示される他の実施形態に関して記載されるように、図8Aに示された2つの移送チャンバ810の代わりに、1つの移送チャンバを提供することができる。   As described with respect to FIGS. 5A and 5B, embodiments having an evaporation source train and / or an embodiment having looped tracks for translational and rotational movement of the evaporation source can vacuum three or more substrates. Benefits can be provided by providing in the chamber. Different embodiments for providing more than two substrates in the vacuum chamber 110 are shown in FIGS. 8A, 8B and 9. For the example shown in FIG. 8A, the vacuum chamber 110 can include four locations or processing regions where the substrate 121 can be processed, for example, organic materials can be deposited on the substrate 121. Thereby, according to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, particularly for deposition apparatus 500 provided with multiple evaporation sources, to increase throughput Substrate replacement can be accelerated. The deposition apparatus 500 shown in FIG. 8A includes two transfer chambers 810. Each of the transfer chambers is provided adjacent to the vacuum chamber 110. For example, the transfer chamber 810 can be coupled to the vacuum chamber 110 via a valve 205. Instead of the two transfer chambers 810 shown in FIG. 8A, one transfer chamber can be provided as described with respect to other embodiments shown herein.

搬送トラック621が、移送チャンバ810の中に提供される。搬送トラック621は、真空チャンバ110内に延びる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、搬送トラックは、ローラの配置、磁気案内素子の配置、及び/又は基板及び/又は基板を有するキャリアの本質的な直線的運動のために構成された他の搬送要素によって画定することができ、基板は、典型的には、本質的に垂直に配向される。図8Aに示されるように、例えば、基板を内部に配置したキャリア421を支持することによって、基板を支持する基板支持体126を提供することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、基板121は、搬送トラック621から自然にずれる処理位置に提供することができる。例えば、基板121は、処理位置内へ又は処理位置から基板を位置付けるための搬送トラック621の方向と本質的に鉛直な方向に移動させることができる。   A transport track 621 is provided in the transfer chamber 810. The transfer track 621 extends into the vacuum chamber 110. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the transport track comprises a roller arrangement, a magnetic guide element arrangement, and / or a substrate and / or a carrier having a substrate. The substrate can typically be oriented essentially vertically, with other transport elements configured for an essentially linear movement. As shown in FIG. 8A, for example, a substrate support 126 that supports a substrate can be provided by supporting a carrier 421 in which the substrate is disposed. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, the substrate 121 can be provided at a processing position that naturally deviates from the transport track 621. For example, the substrate 121 can be moved in a direction essentially perpendicular to the direction of the transport track 621 for positioning the substrate into or out of the processing position.

4つの基板121が真空チャンバ110の中に提供され、2つの基板は、搬送トラック621の方向と本質的に平行な線に沿って位置付けることができる。したがって、2つの基板は、第1の線に沿って位置付けられ、2つ基板は、第2の線に沿って位置付けられる。複数の蒸発源100を移動させるためのループ状トラック530は、第1の線と第2の線との間に提供される。いくつかの実施形態によれば、ループ状トラックは、2つの真っすぐな部分及び2つの湾曲した部分を含むことができる。2つの真っすぐな部分は、第1の線と本質的に平行とすることができ、及び/又は基板121と本質的に平行とすることができる。蒸発源100は、例えば、直線的分配シャワーヘッドで、基板上の有機材料の位置に並進運動を提供するように、ループ状トラック530の真っすぐな位置に沿って移動させることができる。蒸発源100は、ループ状トラックの湾曲部分に沿って、蒸発源の移動によって回転される。これにより、有機材料の蒸気が蒸発源の分配管により案内される方向は、例えば180度、回転される。したがって、蒸発源の分配管は、少なくとも160度回転可能である。   Four substrates 121 are provided in the vacuum chamber 110 and the two substrates can be positioned along a line that is essentially parallel to the direction of the transport track 621. Thus, the two substrates are positioned along the first line and the two substrates are positioned along the second line. A looped track 530 for moving the plurality of evaporation sources 100 is provided between the first line and the second line. According to some embodiments, the looped track can include two straight portions and two curved portions. The two straight portions can be essentially parallel to the first line and / or can be essentially parallel to the substrate 121. The evaporation source 100 can be moved along the straight position of the looped track 530 to provide translational movement to the position of the organic material on the substrate, for example with a linear distribution showerhead. The evaporation source 100 is rotated by the movement of the evaporation source along the curved portion of the looped track. Thus, the direction in which the vapor of the organic material is guided by the distribution pipe of the evaporation source is rotated, for example, 180 degrees. Therefore, the distribution pipe of the evaporation source can rotate at least 160 degrees.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、例えば、マスクフレーム131によって支持することができるマスク132が、基板位置によって画定される第1の線とループ状トラック530との間、又は更なる基板位置によって画定される第2の線とループトラック530との間にそれぞれ提供される。ループトラック530は、マスク132によってマスクされる基板に沿って複数の蒸発源100の並進運動を可能にする。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、2つ又はそれを上回る蒸発源100が、ループ状トラック530上に提供される。例えば、図8Aは、ループトラック530上に提供された8つの蒸発源100を示す。2つ又はそれを上回る蒸発源は、並進運動が次々に行われている状態で、基板を越えて搬送することができる。これにより、例えば、蒸発源100の各々が、有機材料の1つの層を堆積させることができる。したがって、有機材料のいくつかの異なる層を、処理位置に提供される基板上に堆積させることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、2つ若しくはそれを上回る蒸発源100、又は蒸発源の各々でさえ、基板上に異なる有機材料の異なる層を堆積させることができる。   According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, for example, a mask 132 that can be supported by a mask frame 131 is a first line defined by a substrate position. And the loop track 530, or between the second line defined by the additional substrate position and the loop track 530, respectively. The loop track 530 allows translational movement of the plurality of evaporation sources 100 along the substrate masked by the mask 132. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, two or more evaporation sources 100 are provided on the looped track 530. For example, FIG. 8A shows eight evaporation sources 100 provided on the loop track 530. Two or more evaporation sources can be transported across the substrate with translational movements in sequence. Thereby, for example, each of the evaporation sources 100 can deposit one layer of organic material. Thus, several different layers of organic material can be deposited on the substrate provided at the processing location. According to some embodiments, which can be combined with other embodiments described herein, two or more evaporation sources 100, or even each of the evaporation sources, can have different organic materials on the substrate. Different layers can be deposited.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、保守真空チャンバ210を提供することができる。例えば、保守真空チャンバ210は、バルブ207により真空チャンバ110から分離させることができる。バルブ207は、真空チャンバ110と保守真空チャンバ210との間の真空密閉を開閉するように構成される。蒸発源100は、保守真空チャンバ210に移送することができる。その後、バルブは、真空チャンバ110と保守真空チャンバ210との間に真空密閉を提供するように閉鎖することができる。従って、保守真空チャンバは、真空チャンバ110の真空を破壊せずに、換気及び開放することができる。   According to further embodiments that can be combined with other embodiments described herein, a maintenance vacuum chamber 210 can be provided. For example, the maintenance vacuum chamber 210 can be separated from the vacuum chamber 110 by a valve 207. Valve 207 is configured to open and close the vacuum seal between vacuum chamber 110 and maintenance vacuum chamber 210. The evaporation source 100 can be transferred to the maintenance vacuum chamber 210. Thereafter, the valve can be closed to provide a vacuum seal between the vacuum chamber 110 and the maintenance vacuum chamber 210. Thus, the maintenance vacuum chamber can be ventilated and opened without breaking the vacuum in the vacuum chamber 110.

更なるトラック820、例えば、更なるループ状トラックが、保守真空チャンバ210の中に提供される。図8Aに例示的に示されるように、更なるトラック820の湾曲部分は、ループ状トラック530の湾曲部分と重なることができる。これにより、ループ状トラック530から更なるトラック820への蒸発源100の移送が可能になる。従って、蒸発源をループ状トラック530から更なるトラック820まで、及びその逆に移動させることができる。これにより、蒸発源の保守のため、及び保守真空チャンバ210から真空チャンバ110内への維持された蒸発源の移動のために、保守真空チャンバ210の中での蒸発源の移動が可能になる。維持された蒸発源は、真空チャンバ110の中の基板上で有機材料を蒸発させることができる。   Additional tracks 820, eg, additional looped tracks, are provided in the maintenance vacuum chamber 210. As illustrated in FIG. 8A, the curved portion of the further track 820 can overlap the curved portion of the looped track 530. This allows the evaporation source 100 to be transferred from the looped track 530 to a further track 820. Thus, the evaporation source can be moved from the looped track 530 to the further track 820 and vice versa. This allows for movement of the evaporation source within the maintenance vacuum chamber 210 for maintenance of the evaporation source and for movement of the maintained evaporation source from the maintenance vacuum chamber 210 into the vacuum chamber 110. The maintained evaporation source can evaporate the organic material on the substrate in the vacuum chamber 110.

図8Aには示されないが、基板及びマスクの互いに対する位置合わせのための一又は複数の位置合わせユニットは、図8Aに示される堆積装置500の中に提供することができる。図8Aは、ループ状トラック530が、2つの基板の処理位置によって画定された第1の線と2つの更なる基板の処理位置によって画定された第2の線との間に提供される実施形態を示す。   Although not shown in FIG. 8A, one or more alignment units for alignment of the substrate and mask with respect to each other can be provided in the deposition apparatus 500 shown in FIG. 8A. FIG. 8A shows an embodiment in which a looped track 530 is provided between a first line defined by two substrate processing locations and a second line defined by two additional substrate processing locations. Indicates.

ループ状トラック530の代替的な配置が図8Bに示される。これにより、ループ状トラック530は、少なくとも1つの基板、典型的には、基板の処理位置によって画定された線に沿って配置された2つ又はそれを上回る基板を取り囲む。上記を考慮し、1つのオプションによれば(図8Aを参照)、少なくとも2つの基板は、有機材料が堆積されたそれらの基板のそれぞれの表面が互いに向かい合うように配向することができる。別のオプションによれば(図8Bを参照)、真空チャンバ110の中の基板と、有機材料が堆積されるそれらそれぞれの表面とは、同一方向に配向される。図8A及び図8Bに示された堆積装置500は、4つの基板121を収納するように構成されている真空チャンバ110を示しているが、それぞれの改良を2つの基板121を収納するように構成されている真空チャンバに提供することもできる。例えば、保守真空チャンバ210、更なるトラック820、搬送トラック621、移送チャンバ810又は同種のものに関する、更なる詳細、態様及び特徴を、図8Aに示された実施形態に対して記載された類似の方法で、図8Bに示された実施形態において実施することができる。   An alternative arrangement of looped track 530 is shown in FIG. 8B. Thereby, the looped track 530 surrounds at least one substrate, typically two or more substrates disposed along a line defined by the processing location of the substrate. In view of the above, according to one option (see FIG. 8A), the at least two substrates can be oriented such that the respective surfaces of those substrates on which the organic material is deposited face each other. According to another option (see FIG. 8B), the substrate in the vacuum chamber 110 and their respective surfaces on which the organic material is deposited are oriented in the same direction. Although the deposition apparatus 500 shown in FIGS. 8A and 8B shows a vacuum chamber 110 configured to receive four substrates 121, each improvement is configured to store two substrates 121. It can also be provided in a vacuum chamber. For example, further details, aspects, and features relating to the maintenance vacuum chamber 210, additional track 820, transfer truck 621, transfer chamber 810, or the like, are described in the similar manner described for the embodiment shown in FIG. 8A. The method can be implemented in the embodiment shown in FIG. 8B.

本明細書に記載の実施形態によれば、堆積装置は、2つ又はそれを上回る基板を有するチャンバ、即ち、基板処理領域を含む。1つの基板が処理されている際に、別の基板がチャンバ内へ又はチャンバから移動される。したがって、1つの基板を1つの基板処理領域の中で処理することができる。更に、第2の基板処理領域に位置する基板を除去することができ、新しい基板を第2の基板処理領域内に移動させることができる。   According to embodiments described herein, the deposition apparatus includes a chamber having two or more substrates, ie, a substrate processing region. As one substrate is being processed, another substrate is moved into or out of the chamber. Accordingly, one substrate can be processed in one substrate processing region. Furthermore, the substrate located in the second substrate processing region can be removed, and a new substrate can be moved into the second substrate processing region.

本明細書に記載されるように、一又は複数の蒸発源を、並進運動により静止した基板を走査する一又は複数の線源として提供することができる。特に源トレーン及び/又はループ状トラックを有する実施形態について、有機層毎に少なくとも1つの線源を提供することができる。例えば、ディスプレイを製造している場合に、線源を発光層、孔搬送層、孔注入層又は同種のものに提供することができる。   As described herein, one or more evaporation sources can be provided as one or more sources that scan a stationary substrate by translation. At least one source per organic layer can be provided, particularly for embodiments having source trains and / or looped tracks. For example, when manufacturing a display, the radiation source can be provided in the light emitting layer, hole transport layer, hole injection layer, or the like.

図9は、堆積装置500の更なる実施形態を示す。堆積装置500は、本明細書に記載された他の実施形態に対して先ほど説明されたような移送チャンバ810、バルブ205、保守真空チャンバ210、及び更なるトラック820を含む。図9に示された実施形態が、基板上に有機材料を堆積させるように真空チャンバ内への基板121の更に良好な交換を支援するために、4つの移送チャンバ810を含むにもかかわらず、類似の搬送トラックが移送チャンバ810の中に提供される。搬送トラックは、真空回転区画内への及び真空回転区画からの基板の搬送のための真空回転区画910内へ延びる。図9は、4つの真空回転区画910が真空チャンバ110に連結される例を示す。ループ状トラック530が、真空チャンバ110の中に提供される。複数の蒸発源100は、ループ状トラック530により支持され、ゆえにループ状トラックの真っすぐな部分に沿った並進運動、及びループ状トラックの湾曲部分に沿った回転移動を行うことができる。   FIG. 9 shows a further embodiment of the deposition apparatus 500. The deposition apparatus 500 includes a transfer chamber 810, a valve 205, a maintenance vacuum chamber 210, and a further track 820 as previously described for other embodiments described herein. Although the embodiment shown in FIG. 9 includes four transfer chambers 810 to assist in better exchange of the substrate 121 into the vacuum chamber to deposit organic material on the substrate, A similar transport track is provided in the transfer chamber 810. The transport track extends into the vacuum rotation section 910 for transporting substrates into and out of the vacuum rotation section. FIG. 9 shows an example in which four vacuum rotation sections 910 are connected to the vacuum chamber 110. A looped track 530 is provided in the vacuum chamber 110. The plurality of evaporation sources 100 are supported by the looped track 530 and can therefore perform translational movement along a straight portion of the looped track and rotational movement along a curved portion of the looped track.

真空回転区画910は、真空チャンバ110及び真空回転区画910を含むシステムが排気できるように、真空チャンバ110に連結される。代替的には、回転モジュールを含む1つのチャンバを提供することができる。真空回転区画910内での基板の回転は、参照番号911で表示された円によって示される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる典型的な実施形態によれば、真空回転区画の各々は、真空回転モジュールを含み、基板を真空回転モジュールの第1の部分に積み込む又はそこから取り外すことができる。例えば180度、移送チャンバ810から積み込まれた基板を回転させると、処理位置において基板121が移動し、蒸発源が基板の表面に沿って走査を行う。更なる代替例によれば、基板を処理位置内へ提供するための基板の回転はまた、例えば、真空チャンバ及び区画が別様に配置される場合に、180度とは異なる角度で行うことができる。しかしながら、移送位置から処理位置まで基板を移動させるための180度の回転は、比較的小さな設置面積を提供する。   The vacuum rotation compartment 910 is coupled to the vacuum chamber 110 so that the system including the vacuum chamber 110 and the vacuum rotation compartment 910 can be evacuated. Alternatively, a single chamber containing a rotating module can be provided. The rotation of the substrate within the vacuum rotation section 910 is indicated by a circle indicated by reference numeral 911. According to an exemplary embodiment that can be combined with other embodiments described herein, each of the vacuum rotation compartments includes a vacuum rotation module and loads the substrate onto the first portion of the vacuum rotation module or It can be removed from there. For example, when the substrate loaded from the transfer chamber 810 is rotated 180 degrees, the substrate 121 moves at the processing position, and the evaporation source scans along the surface of the substrate. According to a further alternative, the rotation of the substrate to provide the substrate into the processing position can also take place at an angle different from 180 degrees, for example when the vacuum chamber and compartment are arranged differently. it can. However, a 180 degree rotation to move the substrate from the transfer position to the processing position provides a relatively small footprint.

図9に示されるように、例えば、回転モジュールは、基板121及びマスク132が、回転モジュールの中に提供された2つの基板の場所毎に互いに対して位置合わせできるような2つの位置合わせユニット112を含むことができる。1つの実施形態によれば、堆積装置は、例えば、4つの真空回転モジュールと、8つの基板支持体位置とを含むことができる。しかしながら、本明細書に記載の更なる実施形態と組み合わせることができる他の実施形態によれば、異なる数の基板支持体位置及び/又は異なる数の真空回転モジュールを提供することができる。例えば、少なくとも2つの基板処理位置は、本明細書に記載の実施形態にしたがって提供される。これによって、基板処理位置は、蒸発源の少なくとも分配管の回転によって基板の処理が可能になるように配置される。別の例として、少なくとも2つの回転モジュール、少なくとも2つの基板処理位置及び少なくとも4つの基板支持体位置(そのうちの2つは基板処理位置でもある)を提供することができる。   As shown in FIG. 9, for example, the rotation module includes two alignment units 112 such that the substrate 121 and the mask 132 can be aligned with each other for each of the two substrate locations provided in the rotation module. Can be included. According to one embodiment, the deposition apparatus can include, for example, four vacuum rotation modules and eight substrate support locations. However, according to other embodiments that can be combined with further embodiments described herein, different numbers of substrate support positions and / or different numbers of vacuum rotation modules can be provided. For example, at least two substrate processing locations are provided according to the embodiments described herein. Thereby, the substrate processing position is arranged so that the substrate can be processed by the rotation of at least the distribution pipe of the evaporation source. As another example, at least two rotation modules, at least two substrate processing positions, and at least four substrate support positions (two of which are also substrate processing positions) can be provided.

図10は、本明細書に記載された実施形態による有機材料を蒸発させる方法を示すフローチャートを図示する。一般的に、金属利用率を改善するために、2つの基板位置が提供される。これは、蒸発源の、特に直線的分配シャワーヘッドなどの線源の並進運動及び回転運動と組み合わされる。ステップ802では、本質的に垂直配向で提供される第1の基板は、第1の処理位置において移動される。ステップ804において、蒸発源は、少なくとも並進運動で、例えば、第1の基板を走査するなど、第1の処理位置に位置する第1の基板に沿って移動し、有機材料が第1の基板上に堆積される。第1の基板が処理される間、第2の処理位置を、内部での第2の基板処理のために準備することができる。ステップ806において、例えば、第2の基板は、第1の処理位置とは異なる第2の処理位置の中で移動することができる。更に、第2の基板の準備は、第2の処理位置から事前に処理された基板を除去すること、及び/又はマスク及び第2の基板を互いに対して位置合わせすることを含み得る。ステップ808では、蒸発源のすくなくとも分配管が回転され、次に、第2の処理位置に向けられる。本明細書に記載されるように、本質的に垂直な軸周囲、典型的には、線源が延びる軸周囲で回転を行うことができる。ステップ809において、蒸発源は、少なくとも並進運動で、例えば、第2の基板を走査するなど、第2の処理位置に位置する第2の基板に沿って移動し、有機材料が第2の基板上に堆積される。   FIG. 10 illustrates a flowchart illustrating a method for evaporating organic material according to embodiments described herein. In general, two substrate locations are provided to improve metal utilization. This is combined with the translational and rotational movement of the evaporation source, in particular a source such as a linear distribution showerhead. In step 802, a first substrate provided in an essentially vertical orientation is moved in a first processing position. In step 804, the evaporation source moves in at least a translational motion along the first substrate located at the first processing position, for example, scanning the first substrate, and the organic material is on the first substrate. It is deposited on. While the first substrate is being processed, the second processing position can be prepared for the second substrate processing therein. In step 806, for example, the second substrate can be moved in a second processing position that is different from the first processing position. Further, the preparation of the second substrate can include removing the preprocessed substrate from the second processing location and / or aligning the mask and the second substrate relative to each other. In step 808, at least the distribution pipe of the evaporation source is rotated and then directed to the second processing position. As described herein, rotation can occur around an essentially vertical axis, typically around the axis from which the source extends. In step 809, the evaporation source is moved along the second substrate located at the second processing position, such as scanning the second substrate, at least in translational motion, and the organic material is on the second substrate. It is deposited on.

1つの実施形態によれば、有機材料用の蒸発源が提供される。蒸発源は、有機材料を蒸発させるように構成された蒸発るつぼと;蒸発るつぼと流体連通しており、蒸発中に軸周囲を回転可能である、一又は複数の排出口を有する分配管と;第1のドライバと連結可能であり又は第1のドライバを含む、分配管の支持体であって、第1のドライバが支持体及び分配管の並進運動のために構成される、支持体とを含む。   According to one embodiment, an evaporation source for organic materials is provided. The evaporation source is an evaporation crucible configured to evaporate the organic material; a distribution pipe having one or more outlets in fluid communication with the evaporation crucible and rotatable about the axis during evaporation; A support for a distribution pipe that is connectable to or includes a first driver, wherein the first driver is configured for translational movement of the support and the distribution pipe; Including.

別の実施形態によれば、有機材料を真空チャンバの中に堆積させるための堆積装置が提供される。堆積装置は、処理真空チャンバと;処理真空チャンバの中で有機材料を蒸発させる、有機材料用の蒸発源と;真空チャンバの中に配置され、少なくとも2つのトラックを有する基板支持体システムであって、基板支持体システムのトラック、例えば、各トラックが、基板又は真空チャンバの中で基板を運ぶキャリアの本質的に垂直な支持体のために構成される、基板支持体システムとを備える。蒸発源は、有機材料を蒸発させるように構成された蒸発るつぼと;蒸発るつぼと流体連通しており、蒸発中に軸周囲を回転可能である、一又は複数の排出口を有する分配管と;第1のドライバと連結可能であり又は第1のドライバを含む、分配管の支持体であって、第1のドライバが支持体及び分配管の並進運動のために構成される、支持体とを含む。   According to another embodiment, a deposition apparatus is provided for depositing an organic material into a vacuum chamber. The deposition apparatus comprises: a processing vacuum chamber; an evaporation source for the organic material that evaporates the organic material in the processing vacuum chamber; a substrate support system disposed in the vacuum chamber and having at least two tracks. A substrate support system, eg, each track is configured for an essentially vertical support for a carrier carrying a substrate in a substrate or vacuum chamber. The evaporation source is an evaporation crucible configured to evaporate the organic material; a distribution pipe having one or more outlets in fluid communication with the evaporation crucible and rotatable about the axis during evaporation; A support for a distribution pipe that is connectable to or includes a first driver, wherein the first driver is configured for translational movement of the support and the distribution pipe; Including.

更なる実施形態によれば、有機材料を蒸発させるための方法が提供される。有機材料を蒸発させる方法は、本質的に垂直な第1の処理位置で第1の基板を移動させることと;蒸発源が有機材料を蒸発させる間に、少なくとも並進運動で第1の基板に沿って蒸発源を移動させることと;第1の処理位置と異なる本質的に垂直な第2の処理位置で第2の基板を移動させることと;蒸発中に軸周囲で蒸発源の分配管を回転させることと;蒸発源が有機材料を蒸発させる間に、少なくとも1つの並進運動で第2の基板に沿って蒸発源を移動させることとを含む。   According to a further embodiment, a method for evaporating organic material is provided. The method of evaporating the organic material includes moving the first substrate in a first vertical processing position; and along the first substrate at least in translational motion while the evaporation source evaporates the organic material. Moving the evaporation source; moving the second substrate in a second processing position that is essentially perpendicular to the first processing position; rotating the evaporation source distribution pipe about the axis during evaporation; And moving the evaporation source along the second substrate in at least one translational movement while the evaporation source evaporates the organic material.

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせられるいくつかの実施形態によれば、分配管は、一又は複数の排出口を含む蒸気分配シャワーヘッドであってよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせられるいくつかの実施形態によれば、分配管は、少なくとも180度又は少なくとも360度回転可能であってよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせられるいくつかの実施形態によれば、分配管は、支持体に対して分配管を回転させ、更に特に支持体に対して蒸発るつぼも回転させる第2のドライバによって、軸周囲を回転可能であってよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせられるいくつかの実施形態によれば、分配管は、ループ状トラックに沿って進行することによって、軸周囲を回転可能であってよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせられるいくつかの実施形態によれば、蒸発源は、内部で大気圧を維持するように構成された蒸発器制御ハウジングであって、支持体によって支持され、スイッチ、バルブ、コントローラ、冷却ユニット及び冷却制御ユニットから成るグループから選択された少なくとも1つの要素を収納するように構成されたハウジングを更に備えてよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせられるいくつかの実施形態によれば、蒸発源は、有機材料の蒸発を遮蔽するための少なくとも1つのサイドシールド、特に2つのサイドシールドを更に備えてよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせられるいくつかの実施形態によれば、蒸発源は、誘導性電力伝送及び誘導性信号伝送のうちの少なくとも1つのためのコイルを更に備えてよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせられるいくつかの実施形態によれば、堆積装置は、処理真空チャンバと連結した保守真空チャンバと、処理真空チャンバと保守真空チャンバとの間の真空密閉を開閉するための真空バルブとを更に備えてよく、蒸発源を処理真空チャンバから保守真空チャンバへ及び保守真空チャンバから処理真空チャンバへ移送することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせられるいくつかの実施形態によれば、第2の基板は、蒸発源が第1の基板に沿って移動される間に、本質的に垂直な第2の処理位置で移動されてよい。   According to some embodiments combined with other embodiments described herein, the distribution pipe may be a steam distribution showerhead that includes one or more outlets. According to some embodiments combined with other embodiments described herein, the distribution pipe may be rotatable at least 180 degrees or at least 360 degrees. According to some embodiments combined with other embodiments described herein, the distribution pipe rotates the distribution pipe relative to the support, and more particularly rotates the evaporation crucible relative to the support. It may be rotatable around the axis by two drivers. According to some embodiments combined with other embodiments described herein, the distribution pipe may be rotatable about an axis by traveling along a looped track. According to some embodiments combined with other embodiments described herein, the evaporation source is an evaporator control housing configured to maintain atmospheric pressure therein, supported by a support. And a housing configured to house at least one element selected from the group consisting of a switch, a valve, a controller, a cooling unit, and a cooling control unit. According to some embodiments combined with other embodiments described herein, the evaporation source further comprises at least one side shield for shielding the evaporation of the organic material, in particular two side shields. Good. According to some embodiments combined with other embodiments described herein, the evaporation source may further comprise a coil for at least one of inductive power transmission and inductive signal transmission. According to some embodiments combined with other embodiments described herein, the deposition apparatus includes a maintenance vacuum chamber coupled to the processing vacuum chamber, and a vacuum seal between the processing vacuum chamber and the maintenance vacuum chamber. And a vacuum valve for opening and closing the evaporation source, and the evaporation source can be transferred from the processing vacuum chamber to the maintenance vacuum chamber and from the maintenance vacuum chamber to the processing vacuum chamber. According to some embodiments combined with other embodiments described herein, the second substrate is a substantially vertical second while the evaporation source is moved along the first substrate. It may be moved at two processing positions.

上記は本発明の実施形態を対象とするが、本発明の基本的な範囲から逸脱することなく、本発明の他の更なる実施形態を考案することもでき、本発明の範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。
また、本願は以下に記載する態様を含む。
(態様1)
有機材料用の蒸発源であって、
前記有機材料を蒸発させるように構成された蒸発るつぼと、
前記蒸発るつぼと流体連通しており、蒸発中に軸周囲を回転可能である、一又は複数の排出口を有する分配管と、
有機材料を遮蔽するための少なくとも1つのサイドシールドと
を備える蒸発源。
(態様2)
第1のドライバと連結可能であり又は前記第1のドライバを含む、前記分配管の支持体であって、前記第1のドライバが前記支持体及び前記分配管の並進運動のために構成されている、支持体
を更に備える、態様1に記載の蒸発源。
(態様3)
前記少なくとも1つのサイドシールドが、前記支持体と前記分配管の並進運動に従うように構成されている、態様2に記載の蒸発源。
(態様4)
前記少なくとも1つのサイドシールドが、更なるサイドシールドを備える、態様1から3の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様5)
前記少なくとも1つのサイドシールドが、前記分配管の前記軸周囲での回転が行われているとき、静止している、態様1から4の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様6)
前記少なくとも1つのサイドシールドが、有機材料の蒸発を基板に向かう方向に範囲を定めるように構成されている、態様1から5の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様7)
前記少なくとも1つのサイドシールドが、アイドルモードにおける側方への蒸発のために構成されている、態様1から6の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様8)
前記分配管が、蒸気が前記蒸発源から出ていくのを回避するために前記サイドシールドに向かって回転可能である、態様1から7の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様9)
蒸発器制御ハウジングを更に備え、前記分配管が前記蒸発器制御ハウジングの回転によって回転可能である、態様1から8の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様10)
前記蒸発るつぼが前記蒸発器制御ハウジングに取り付けられ、前記分配管及び前記蒸発るつぼは一緒に回転できるように取り付けられている、態様1から9の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様11)
前記分配管、前記蒸発るつぼ、及び前記蒸発器制御ハウジングが一緒に回転可能である、態様10に記載の蒸発源。
(態様12)
前記少なくとも1つのサイドシールドが、前記支持体に固定して取り付けられている、態様2に記載の蒸発源。
(態様13)
前記少なくとも1つのサイドシールドが、前記分配管と一緒に回転しないように固定して取り付けられている、態様12に記載の蒸発源。
(態様14)
前記蒸気分配シャワーヘッドが、直線的蒸気分配シャワーヘッドである、態様1から13の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様15)
前記分配管が、本質的に垂直に延びる線源を提供し、及び/又は前記分配管を回転させる前記軸が、本質的に垂直に延びる、態様1から14の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様16)
前記分配管が、少なくとも160度回転可能である、態様1から15の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様17)
前記分配管が、前記支持体に対して前記分配管を回転させる第2のドライバによって、前記軸周囲を回転可能である、態様1から16の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様18)
前記支持体が、内部で大気圧を維持するように構成された支持体ハウジングを含み、前記支持体が、回転可能な真空フィードスルーを介して、前記分配管を支持する、態様17に記載の蒸発源。
(態様19)
前記支持体によって支持されている少なくとも1つの第2の蒸発るつぼと、
前記少なくとも1つの第2の蒸発るつぼと流体連通している、前記支持体によって支持されている少なくとも1つの第2の分配管と
を更に備える、態様2から18の何れか一項に記載の蒸発源。
(態様20)
真空チャンバの中で有機材料を堆積させるための堆積装置であって、
真空チャンバと、
前記真空チャンバの中で前記有機材料を蒸発させる、態様1から19の何れか一項に記載の蒸発源と、
前記真空チャンバの中に配置され、少なくとも2つのトラックを有する基板支持体システムであって、前記基板支持体システムの前記少なくとも2つのトラックが、前記基板又は前記真空チャンバの中で前記基板を運ぶキャリアの本質的に垂直な支持のために構成されている、基板支持体システムと
を備える堆積装置。
(態様21)
前記少なくとも1つのサイドシールドが、有機材料の蒸発を前記基板に向かう方向に範囲を定めるように構成されている、態様20に記載の堆積装置。
(態様22)
有機材料を蒸発させるための方法であって、
本質的に垂直な第1の処理位置で第1の基板を移動させることと、
蒸発源が前記有機材料を蒸発させる間に、少なくとも並進運動で前記第1の基板に沿って前記蒸発源を移動させることと、
前記第1の処理位置と異なる本質的に垂直な第2の処理位置で第2の基板を移動させることと、
蒸発中に軸周囲で前記蒸発源の分配管を回転させることと、
少なくとも1つのサイドシールドで前記有機材料の蒸発を遮蔽することと、
前記蒸発源が前記有機材料を蒸発させる間に、少なくとも更なる並進運動で前記第2の基板に沿って前記蒸発源を移動させることと
を含む方法。
(態様23)
アイドルモードにおける側方への蒸発のために前記分配管を回転させることを更に含む、態様22に記載の方法。
(態様24)
蒸気が前記蒸発源から出ていくのを回避するために前記分配管を前記サイドシールドに向かって回転させることを更に含む、態様22又は23に記載の方法。
(態様25)
蒸発中に軸周囲で前記蒸発源の分配管を回転させることが、第1の回転方向で行われ、前記第2の基板に沿って前記蒸発源を移動させることの後に、前記第1の回転方向で蒸発中に軸周囲で前記蒸発源の分配管を回転させることを更に含む、態様22から24の何れか一項に記載の方法。
(態様26)
前記サイドシールドで蒸気ビームを遮断することを更に含む、態様22から25の何れか一項に記載の方法。
While the above is directed to embodiments of the invention, other and further embodiments of the invention may be devised without departing from the basic scope thereof, and the scope of the invention is as follows: Determined by the claims.
Moreover, this application contains the aspect described below.
(Aspect 1)
An evaporation source for organic materials,
An evaporation crucible configured to evaporate the organic material;
A distribution pipe having one or more outlets in fluid communication with the evaporating crucible and rotatable around an axis during evaporation;
At least one side shield for shielding the organic material;
Evaporation source comprising.
(Aspect 2)
A support for the distribution pipe, connectable to or including the first driver, wherein the first driver is configured for translational movement of the support and the distribution pipe Support
The evaporation source according to aspect 1, further comprising:
(Aspect 3)
The evaporation source according to aspect 2, wherein the at least one side shield is configured to follow the translational motion of the support and the distribution pipe.
(Aspect 4)
The evaporation source according to any one of aspects 1 to 3, wherein the at least one side shield comprises a further side shield.
(Aspect 5)
The evaporation source according to any one of aspects 1 to 4, wherein the at least one side shield is stationary when the distribution pipe is rotated around the axis.
(Aspect 6)
The evaporation source according to any one of aspects 1 to 5, wherein the at least one side shield is configured to delimit evaporation of the organic material in a direction toward the substrate.
(Aspect 7)
The evaporation source according to any one of aspects 1 to 6, wherein the at least one side shield is configured for lateral evaporation in idle mode.
(Aspect 8)
The evaporation source according to any one of aspects 1 to 7, wherein the distribution pipe is rotatable toward the side shield in order to avoid vapor from exiting the evaporation source.
(Aspect 9)
The evaporation source according to any one of aspects 1 to 8, further comprising an evaporator control housing, wherein the distribution pipe is rotatable by rotation of the evaporator control housing.
(Aspect 10)
The evaporation source according to any one of aspects 1 to 9, wherein the evaporation crucible is attached to the evaporator control housing, and the distribution pipe and the evaporation crucible are attached so that they can rotate together.
(Aspect 11)
The evaporation source of aspect 10, wherein the distribution pipe, the evaporation crucible, and the evaporator control housing are rotatable together.
(Aspect 12)
The evaporation source according to aspect 2, wherein the at least one side shield is fixedly attached to the support.
(Aspect 13)
The evaporation source according to aspect 12, wherein the at least one side shield is fixedly attached so as not to rotate together with the distribution pipe.
(Aspect 14)
The evaporation source according to any one of aspects 1 to 13, wherein the vapor distribution showerhead is a linear vapor distribution showerhead.
(Aspect 15)
Evaporation according to any of aspects 1 to 14, wherein the distribution pipe provides a source that extends essentially vertically and / or the axis that rotates the distribution pipe extends essentially vertically. source.
(Aspect 16)
The evaporation source according to any one of aspects 1 to 15, wherein the distribution pipe is rotatable at least 160 degrees.
(Aspect 17)
The evaporation source according to any one of aspects 1 to 16, wherein the distribution pipe is rotatable around the axis by a second driver that rotates the distribution pipe with respect to the support.
(Aspect 18)
The aspect of aspect 17, wherein the support includes a support housing configured to maintain atmospheric pressure therein, and the support supports the distribution pipe via a rotatable vacuum feedthrough. Evaporation source.
(Aspect 19)
At least one second evaporation crucible supported by the support;
At least one second distribution pipe supported by the support in fluid communication with the at least one second evaporation crucible;
The evaporation source according to any one of aspects 2 to 18, further comprising:
(Aspect 20)
A deposition apparatus for depositing an organic material in a vacuum chamber,
A vacuum chamber;
The evaporation source according to any one of aspects 1 to 19, wherein the organic material is evaporated in the vacuum chamber;
A substrate support system disposed in the vacuum chamber and having at least two tracks, wherein the at least two tracks of the substrate support system carry the substrate in the substrate or in the vacuum chamber. A substrate support system, configured for an essentially vertical support of
A deposition apparatus comprising:
(Aspect 21)
21. A deposition apparatus according to aspect 20, wherein the at least one side shield is configured to delimit evaporation of organic material in a direction toward the substrate.
(Aspect 22)
A method for evaporating organic material,
Moving the first substrate in an essentially vertical first processing position;
Moving the evaporation source along the first substrate in at least a translational movement while the evaporation source evaporates the organic material;
Moving the second substrate at a second processing position that is essentially perpendicular to the first processing position;
Rotating the evaporation source distribution pipe around the axis during evaporation;
Shielding the evaporation of the organic material with at least one side shield;
Moving the evaporation source along the second substrate with at least a further translational movement while the evaporation source evaporates the organic material;
Including methods.
(Aspect 23)
23. A method according to aspect 22, further comprising rotating the distribution pipe for lateral evaporation in idle mode.
(Aspect 24)
24. A method according to aspect 22 or 23, further comprising rotating the distribution pipe toward the side shield to avoid vapor exiting the evaporation source.
(Aspect 25)
Rotating the evaporation source distribution pipe around the axis during evaporation is performed in a first rotation direction, and after moving the evaporation source along the second substrate, the first rotation 25. A method according to any one of aspects 22 to 24, further comprising rotating the evaporation source distribution pipe about an axis during evaporation in the direction.
(Aspect 26)
26. A method according to any one of aspects 22 to 25, further comprising blocking a vapor beam with the side shield.

Claims (16)

有機材料用の蒸発源であって、
前記有機材料を蒸発させるように構成された蒸発るつぼ(104)と、
前記蒸発るつぼと流体連通しており、蒸発中に軸の周囲を回転可能である、1または複数の排出口を有する分配管(106)と、
第1のドライバと連結された又は前記第1のドライバを含む、前記分配管の支持体(102)であって、前記支持体及び前記分配管の並進運動のために構成されている、支持体(102)と、
前記支持体(102)に支持され、内部の大気圧を維持するように構成された蒸発器制御ハウジング(402)、とを備え、
前記蒸発源はさらに前記蒸発器制御ハウジングに収容されたコントローラを備える、蒸発源。
An evaporation source for organic materials,
An evaporation crucible (104) configured to evaporate the organic material;
A distribution pipe (106) having one or more outlets in fluid communication with the evaporating crucible and rotatable about an axis during evaporation;
A support (102) of the distribution pipe coupled to or including the first driver, the support being configured for translational movement of the support and the distribution pipe (102)
An evaporator control housing (402) supported by the support (102) and configured to maintain an internal atmospheric pressure;
The evaporation source further comprises a controller housed in the evaporator control housing.
前記蒸発るつぼが前記蒸発器制御ハウジングに取り付けられ、前記分配管及び前記蒸発るつぼは一緒に回転できるように取り付けられている、請求項1に記載の蒸発源。   The evaporation source according to claim 1, wherein the evaporation crucible is attached to the evaporator control housing, and the distribution pipe and the evaporation crucible are attached so that they can rotate together. 前記分配管、前記蒸発るつぼ、及び前記蒸発器制御ハウジングが一緒に回転可能である、請求項2に記載の蒸発源。   The evaporation source of claim 2, wherein the distribution pipe, the evaporation crucible, and the evaporator control housing are rotatable together. 前記分配管は前記1または複数の排出口を含む蒸気分配シャワーヘッドである、1から3の何れか一項に記載の蒸発源。 The distribution pipe is steam distribution showerhead comprising the one or more discharge ports, the evaporation source according to any one of 1 to 3. 前記分配管が、本質的に垂直に延びる線源を提供し、及び/又は前記分配管を回転させる前記軸が、本質的に垂直に延びる、請求項1または4に記載の蒸発源。   5. An evaporation source according to claim 1 or 4, wherein the distribution pipe provides a source that extends essentially vertically and / or the axis that rotates the distribution pipe extends essentially vertically. 前記分配管が、少なくとも160度、特に180度回転可能である、請求項1から5の何れか一項に記載の蒸発源。   6. The evaporation source according to claim 1, wherein the distribution pipe is rotatable at least 160 degrees, in particular 180 degrees. 前記分配管が、前記支持体に対して前記分配管を回転させる第2のドライバによって、前記軸周囲を回転可能である、請求項1から6の何れか一項に記載の蒸発源。   The evaporation source according to claim 1, wherein the distribution pipe is rotatable around the axis by a second driver that rotates the distribution pipe with respect to the support. 前記支持体が、内部の大気圧を維持するように構成された支持体ハウジングを含み、前記支持体が、回転可能な真空フィードスルーを介して、前記分配管を支持する、請求項7に記載の蒸発源。   8. The support of claim 7, wherein the support includes a support housing configured to maintain an internal atmospheric pressure, the support supporting the distribution pipe via a rotatable vacuum feedthrough. The source of evaporation. 前記支持体によって支持されている少なくとも1つの第2の蒸発るつぼと、
前記少なくとも1つの第2の蒸発るつぼと流体連通している、前記支持体によって支持されている少なくとも1つの第2の分配管と
を更に備える、請求項1から8の何れか一項に記載の蒸発源。
At least one second evaporation crucible supported by the support;
9. The apparatus of claim 1, further comprising at least one second distribution pipe supported by the support in fluid communication with the at least one second evaporation crucible. Evaporation source.
前記蒸発器制御ハウジングが、スイッチ、バルブ、冷却ユニット及び冷却制御ユニットからなる群から選択される、少なくとも1つの要素をさらに収容する、請求項1から9の何れか一項に記載の蒸発源。   The evaporation source according to any one of claims 1 to 9, wherein the evaporator control housing further contains at least one element selected from the group consisting of a switch, a valve, a cooling unit and a cooling control unit. 請求項1から10のいずれか一項に記載の蒸発源であって、前記有機材料の蒸発を遮蔽するための、少なくとも1つのサイドシールドをさらに備える、蒸発源。 The evaporation source according to any one of claims 1 to 10, further comprising at least one side shield for shielding evaporation of the organic material. 請求項1から11のいずれか一項に記載の蒸発源であって、誘導性電力伝送及び誘導性信号伝送のうちの少なくとも1つのためのコイルをさらに備える、蒸発源。   The evaporation source according to any one of claims 1 to 11, further comprising a coil for at least one of inductive power transmission and inductive signal transmission. 真空チャンバの中で有機材料を堆積させるための堆積装置であって、
真空チャンバと、
前記真空チャンバの中で前記有機材料を蒸発させる、請求項1から12の何れか一項に記載の蒸発源と、
前記真空チャンバの中に配置され、少なくとも2つのトラックを有する基板支持体システムであって、前記基板支持体システムの前記少なくとも2つのトラックが、基板又は前記真空チャンバの中で前記基板を運ぶキャリアの本質的に垂直な支持のために構成されている、基板支持体システムと
を備える堆積装置。
A deposition apparatus for depositing an organic material in a vacuum chamber,
A vacuum chamber;
The evaporation source according to claim 1, wherein the organic material is evaporated in the vacuum chamber.
A substrate support system disposed in the vacuum chamber and having at least two tracks, wherein the at least two tracks of the substrate support system are a substrate or a carrier carrying the substrate in the vacuum chamber. A substrate support system configured for essentially vertical support.
蒸発源で有機材料を蒸発させるための方法であって、
本質的に垂直な第1の処理位置で第1の基板を移動させることと、
前記蒸発源が前記有機材料を蒸発させる間に、少なくとも並進運動で前記第1の基板に沿って前記蒸発源を移動させることと、
前記第1の処理位置と異なる本質的に垂直な第2の処理位置で第2の基板を移動させることと、
蒸発中に軸の周囲で前記蒸発源の分配管を回転させることと、
前記蒸発源が前記有機材料を蒸発させる間に、少なくとも更なる並進運動で前記第2の基板に沿って前記蒸発源を移動させることとを備え、
前記蒸発源が、支持体に支持され、内部の大気圧を維持するように構成された蒸発器制御ハウジングをさらに含み、
前記蒸発源はさらに前記蒸発器制御ハウジングに収容されたコントローラを備える、方法。
A method for evaporating an organic material with an evaporation source,
Moving the first substrate in an essentially vertical first processing position;
Moving the evaporation source along the first substrate in at least a translational movement while the evaporation source evaporates the organic material;
Moving the second substrate at a second processing position that is essentially perpendicular to the first processing position;
Rotating the evaporation source distribution pipe around the shaft during evaporation;
Moving the evaporation source along the second substrate in at least a further translational movement while the evaporation source evaporates the organic material;
The evaporation source further includes an evaporator control housing supported by a support and configured to maintain an internal atmospheric pressure;
The method, wherein the evaporation source further comprises a controller housed in the evaporator control housing.
アイドルモードにおける側方への蒸発のために前記分配管を回転させることを更に含む、請求項14に記載の方法。   15. The method of claim 14, further comprising rotating the distribution pipe for lateral evaporation in idle mode. 蒸発中に軸の周囲で前記蒸発源の分配管を回転させることが、第1の回転方向で行われ、前記方法は、前記第2の基板に沿って前記蒸発源を移動させることの後に、蒸発中に軸の周囲で前記蒸発源の分配管を前記第1の回転方向にさらに回転させることを更に含む、請求項14または15に記載の方法。   Rotating the evaporation source distribution pipe around the axis during evaporation is performed in a first direction of rotation, and the method includes moving the evaporation source along the second substrate, 16. A method according to claim 14 or 15, further comprising further rotating the evaporation source distribution pipe around the axis in the first rotational direction during evaporation.
JP2018095120A 2018-05-17 2018-05-17 Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material Active JP6605073B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018095120A JP6605073B2 (en) 2018-05-17 2018-05-17 Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018095120A JP6605073B2 (en) 2018-05-17 2018-05-17 Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017002003A Division JP6343036B2 (en) 2017-01-10 2017-01-10 Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018154926A JP2018154926A (en) 2018-10-04
JP6605073B2 true JP6605073B2 (en) 2019-11-13

Family

ID=63717702

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018095120A Active JP6605073B2 (en) 2018-05-17 2018-05-17 Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6605073B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102407505B1 (en) * 2020-04-29 2022-06-13 주식회사 선익시스템 Deposition apparatus and in-line deposition system

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090130559A (en) * 2008-06-16 2009-12-24 삼성모바일디스플레이주식회사 Transfer apparatus and organic deposition device with the same
JP5694679B2 (en) * 2009-05-04 2015-04-01 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. Organic matter vapor deposition apparatus and vapor deposition method
KR101708420B1 (en) * 2010-09-15 2017-02-21 삼성디스플레이 주식회사 Depositing system for substrate and depositing method using the same
WO2012081476A1 (en) * 2010-12-14 2012-06-21 シャープ株式会社 Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for manufacturing organic electroluminescent display device
JP2012233242A (en) * 2011-05-09 2012-11-29 Hitachi High-Technologies Corp Organic el device manufacturing apparatus and organic el device manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018154926A (en) 2018-10-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6328766B2 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in vacuum chamber, and method for evaporating organic material
JP6741594B2 (en) System for depositing one or more layers on a substrate supported by a carrier, and methods of using the system
JP6466469B2 (en) Evaporation sources for organic materials
US20210269912A1 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic materials in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material
JP2017500446A5 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in vacuum chamber, and method for evaporating organic material
JP2017509794A (en) Evaporation sources for organic materials
US20200040445A1 (en) Vacuum system and method for depositing a plurality of materials on a substrate
JP6633185B2 (en) Material deposition apparatus, vacuum deposition system and method therefor
JP6343036B2 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material
JP6605073B2 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material
JP6833610B2 (en) Evaporative Sources for Organic Materials, Devices with Evaporative Sources for Organic Materials, Systems with Evaporative Accumulation Devices Containing Evaporative Sources for Organic Materials, and Methods for Manipulating Evaporative Sources for Organic Materials
WO2019063061A1 (en) Material deposition arrangement, vacuum deposition system and methods therefor
WO2020030252A1 (en) Material deposition apparatus, vacuum deposition system and method of processing a large area substrate
JP2019214791A (en) Evaporation source for organic materials
EP3080328A1 (en) A processing apparatus for processing devices, particularly devices including organic materials therein, and method for transferring an evaporation source from a processing vacuum chamber to a maintenance vacuum chamber or from the maintenance vacuum chamber to the processing vacuum chamber

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180608

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180608

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190312

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190319

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190607

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190625

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190917

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20191001

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20191015

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6605073

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250