KR20150025688A - 고도산화수를 이용하는 구강세정기 - Google Patents

고도산화수를 이용하는 구강세정기 Download PDF

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Abstract

일 실시 예에 따르는 구강 세정기는 수돗물 수조 및 자외선 광원을 구비하는 고도산화수 제조부, 및 상기 고도산화수 제조부로부터 제조된 고도산화수를 구강 내에 공급하는 노즐부를 구비한다.

Description

고도산화수를 이용하는 구강세정기{mouse washing machine using advanced oxidized water}
본 개시(disclosure)는 구강세정기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 고도산화수를 이용하는 구강세정기에 관한 것이다.
최근 언론 기사에 따르면 우리나라 성인의 80%는 치아 관련 질환을 겪고 있다고 보고되고 있다. 치아 관련 질환을 예방하기 위해서는 치아 사이를 골고루 세척할 수 있는 올바른 칫솔질이 필요하며, 이에 따라 다양한 형태의 칫솔, 치실이 제조되어 유통되고 있다.
구강세정기는 수압에 의해 분사되는 세정액에 의해, 치아 사이 사이를 세척해주고, 아울러 잇몸마사지를 수행해주는 장치를 의미한다. 이때, 구강세정기는 상기 세정액이 직접 구강 내부에 분사되는 구조이므로, 상기 구강세정기 자체의 작동 신뢰성 뿐만 아니라, 상기 세정액 자체의 살균 또는 세정 능력도 중요한 역할을 수행할 수 있다.
상기 구강세정기에 적용되는 상기 세정액과 관련하여, 가정에서는 일반적으로 수돗물을 이용하게 된다. 이때, 상기 수돗물은 내부에 잔류하는 염소에 기인하는 이미 또는 이취가 발생하여, 사용자가 기피하는 경우가 발생할 수 있다. 또한, 상기 세정액을 보관하는 수조 또는 세정 팁은 습한 환경에 노출되는 시간이 길기 때문에, 미생물 오염의 위험성이 존재할 수 있다. 따라서, 상기 구강세정기 자체의 살균 기능 여부도 소비자의 선택을 받기 위한 주요한 구성상 요구사항이 될 수 있다.
본 개시는 살균 능력을 구비하는 세정액을 제조함과 동시에, 제조된 세정액을 이용하는 구강 세정기를 제공한다.
일 측면에 따르는 구강 세정기는 수돗물 수조 및 자외선 광원을 구비하는 고도산화수 제조부, 및 상기 고도산화수 제조부로부터 제조된 고도산화수를 구강 내에 공급하는 노즐부를 구비한다.
다른 측면에 따르는 구강 세정기는 자외선 발광다이오드가 배치되고 수돗물을 수용할 수 있는 수조를 구비하며, 상기 자외선 발광다이오드로부터 방출되는 자외선과 상기 수조에 공급되는 수돗물 내 잔류 염소를 반응시켜 수산화 라디칼(OH·)을 포함하는 산화수를 제조하는 고도산화수 제조부를 포함한다. 또한, 상기 구강 세정기는 상기 고도산화수 제조부로부터 제조된 상기 산화수를 구강 내로 공급하는 노즐부를 구비한다.
또다른 측면에 따르는 구강 세정기의 구동 방법에 있어서, 먼저, 자외선 광원이 배치된 수조 내에 수돗물을 공급한다. 상기 자외선 광원으로부터 생성되는 자외선을 상기 수돗물에 조사하여 수산화 라디칼(OH·)을 포함하는 산화수를 생성한다. 구강 내로 제공되는 상기 산화수의 유량 또는 유속을 결정한다. 상기 산화수를 노즐부를 통해 상기 구강 내로 분사한다.
본 개시의 실시예들에 따르면, 세정액으로서 고도산화수를 적용하되, 수돗물로부터 상기 고도산화수를 제조할 수 있다. 이를 위해, 본 실시예에 따르는 구강 세정기는 수돗물 수조 및 자외선 광원을 구비하는 고도산화수 제조부를 구비할 수 있다. 구체적으로, 자외선을 이용하여, 수돗물 내의 잔류 염소를 광분해시킴으로써 수산화 라디칼을 포함하는 고도산화수를 제조할 수 있다. 상기 수산화 라디칼은 산화제로 기능함으로써, 구강 내의 유기물을 산화 및 분해시킬 수 있다. 또한, 상기 수산화 라디칼의 형성과정에서 상기 잔류 염소가 제거됨으로써, 상기 수돗물 내의 이미 또는 이취가 제거될 수 있다.
또한, 상기 자외선에 의해, 수돗물 내의 미생물이 살균되거나, 상기 수돗물 내의 항생제 성분이 광분해되어 제거될 수 있다. 이로서, 세정액으로서 청정도를 유지할 수 있게 된다.
본 개시의 실시예들에 따르면, 상기 구강 세정액의 원료수로서 고도산화수를 적용하되 수돗물로부터 제조함으로써, 가정에서도 상기 고도산화수를 쉽고 빠르게 제조할 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 개시의 일 실시 예에 따르는 구강 세정기를 개략적으로 나타내는 사시도이다.
도 2는 본 개시의 일 실시 예에 따르는 고도산화수 제조부를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 개시의 일 실시 예에 따르는 몸체부(120)를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 개시의 일 실시 예에 따르는 노즐부를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 본 개시의 다른 실시 예에 따르는 구강 세정기의 구동 방법을 개략적으로 나타내는 순서도이다.
본 개시의 실시예의 기재에서 어느 부재의 "상"에 위치하거나 “상부” 또는 ”하부”, “측면”에 위치한다는 기재는 상대적인 위치 관계를 의미하는 것이지 그 부재에 직접 접촉하거나 또는 사이 계면에 다른 부재가 더 도입되는 특정한 경우를 한정하는 것은 아니다. 또한, 어느 한 구성 요소가 다른 구성 요소에 “연결되어” 있다거나 “설치되어 있다”의 기재는, 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수 있으며, 또는, 중간에 다른 별도의 구성 요소들이 개재되어 연결 관계 또는 접속 관계를 구성할 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 실질적으로 동일한 구성 요소들을 의미할 수 있다.
본 명세서에서, 고도산화수란 고도산화공정을 통하여 생성되어, 강력한 산화력을 가지는 수산화 라디칼(OH·)을 포함하는 용액을 의미한다.
본 개시의 실시 예들은 수돗물을 세정액의 원료수로 적용하되, 수돗물 내의 잔류 염소와 자외선을 반응시켜, 상기 잔류 염소로부터 수산화 라디칼(OH·)을 생성함으로써, 고도산화수를 제조할 수 있다. 상기 수돗물은 약 0.1 mg/L 내지 4.0 mg/L의 잔류 염소를 포함할 수 있다. 또한, 상기 잔류 염소로부터 염소 라디칼(Cl·)을 생성할 수도 있다. 상기 고도산화수는 그 자체로서 내부에 잔류하여 이미 또는 이취를 생성하는 염소 성분이 제거된 청정수이며, 또한, 상기 고도산화수는 상기 수산화 라디칼을 이용하여 구강 내에 잔류하는 유기물질을 산화 분해시키는 기능을 수행할 수 있다.
상기 잔류 염소와 상기 자외선을 반응시켜 수산화 라디칼(radical)(OH·)을 생성시키는 과정은 다음과 같이 설명될 수 있다. 살균 또는 소독을 위해 정수장에서 첨가되는 염소는 수돗물 내에서 식 (1)과 같이, 차아염소산(HOCl)과 염산(HCl)의 형태로 존재한다. 상기 차아염소산은 식 (2)에서와 같이, 수소 이온(H+)과 하이포아염소산이온(OCl-)으로 분해되어 수돗물 내에 존재할 수 있다.
Cl2 + H2O -> HOCl + HCl --------------- (1)
HOCl -> H+ + OCl- --------------- (2)
식 (2) 에 있어서, 20℃에서의 pKa는 7.6 으로서, 차아염소산 내의 수소이온이 충분히 해리되어, 수소 이온(H+)과 하이포아염소산이온(OCl-)으로 존재하고 있음을 알 수 있다.
수돗물 내에 존재하는 차아염소산은 아래 식 (3)에서와 같이, 상기 자외선 광원이 제공하는 자외선에 의해 광분해되어, 수산화 라디칼(radical)(OH·) 및 염소 라디칼(Cl·)을 생성한다. 수돗물 내에 존재하는 하이포아염소산이온은 식 (4)에서와 같이, 상기 자외선 광원이 제공하는 자외선에 의해 광분해되어, 산소 라디칼(O·-)과 염소 라디칼(Cl·)을 생성한다. 상기 산소 라디칼은 식 (5)에서와 같이, 물과 반응하여 수산화 라디칼과 수산화 이온을 생성한다. 상기 자외선은 약 200 nm 내지 300 nm의 파장을 가질 수 있다.
HOCl + 자외선 -> OH· + Cl· ------------------ (3)
OCl- + 자외선 -> O·- + Cl· ------------------ (4)
O·- + H2O -> OH· + OH- ------------------ (5)
상술한 반응식 (3) 내지 (5)를 통해 생성되는 수산화 라디칼 또는 염소 라디칼은 강한 산화제 역할을 수행함으로써, 구강 내의 유기 물질 등을 분해시키는 기능을 수행할 수 있다.
또한, 상술한 식 (1) 내지 (5)를 통해, 수돗물 내에 잔류하고 있는 미세 농도의 염소가 제거됨으로써, 상기 수돗물의 이미 또는 이취가 제거될 수 있다. 상술한 바와 같이, 수돗물 내에는 잔류 염소가 하이포아염소산이온의 형태로 존재할 가능성이 높으며, 200 nm 내지 300 nm의 파장을 가지는 자외선 조사를 통해 효율적으로 제거될 수 있다.
또한, 상기 자외선 광원은 상기 수돗물 내의 미생물을 상기 자외선으로 살균하는 기능을 수행할 수 있다. 또한, 상기 자외선 광원은 상기 수돗물 내의 항생제 성분을 상기 자외선으로 광분해하는 기능을 수행할 수 있다. 일 예로서, 상기 항생제 성분은 이부프로펜(ibuprofen, IBF), 설파메톡사졸(sulfamethoxazole, SMX), 시프로플록사신(ciproflaoxacin, CFX) 또는 이들의 둘 이상의 결합을 포함할 수 있다. 상기 항생제 성분은 약 200 nm 내지 300 nm의 파장을 가지는 자외선 조사를 통해 광분해되어 제거될 수 있다. 이로서, 상기 항생제 성분을 제거함으로써, 보다 청정수로 정화된 수돗물을 세정액의 원료수로 적용할 수 있다.
도 1은 본 개시의 일 실시 예에 따르는 구강 세정기를 개략적으로 나타내는 사시도이다. 도 1을 참조하면, 구강 세정기(100)는 고도산화수 제조부(110), 몸체부(120) 및 노즐부(130)을 구비한다. 고도산화수 제조부(110)는 수돗물을 수용할 수 있는 수조(112) 및 자외선 광원(미도시)를 구비한다. 고도산화수 제조부(110)는 수돗물에 자외선을 조사하여 수산화 라디칼을 포함하는 고도산화수를 제조하는 역할을 수행한다. 몸체부(120)은 고도산화수 제조부(110)와 결합되며, 고도산화수 제조부(110)의 동작을 제어하거나, 고도산화수 제조부(110)로부터 노즐부(130)로 상기 고도산화수를 전달하는 역할을 수행한다. 노즐부(130)는 고도산화수 제조부(110)로부터 제조된 상기 고도산화수를 구강 내로 공급하는 역할을 수행한다.
도시된 바와 같이, 고도산화수 제조부(110)는 수조(112) 상에 설치된 수돗물 유입구(113)를 구비할 수 있다. 몸체부(120)는 전원 스위치(123) 및 수압 조절 노브(125)가 배치되는 패널(121)을 구비할 수 있다. 노즐부(130)은 노즐 몸체(131), 상기 고도산화수를 유동시키는 튜브(132) 및 세정팁(138)을 구비할 수 있다.
도면을 참조하여 구강 세정기의 동작을 설명하면, 고도산화수 제조부(110)에서 생성되는 상기 고도산화수는 몸체부(120) 내에 임시 저장되거나, 몸체부(120) 내에서 수압, 유량 또는 유속이 제어될 수 있다. 상기 수압, 유량 또는 유속이 제어된 상기 고도산화수는 노즐부(130)에 제공되고, 노즐 몸체(131)에 배치되는 세정팁(138)을 통해 외부로 분사될 수 있다.
도 2는 본 개시의 일 실시 예에 따르는 고도산화수 제조부를 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 2를 참조하면, 고도산화수 제조부(110)는 수돗물을 수용할 수 있는 수조(112) 및 수조(112)의 내벽에 배치되는 자외선 광원(114)을 포함한다. 자외선 광원(114)은 약 200 nm 내지 300 nm 파장의 자외선을 방출할 수 있다. 자외선 광원(114)은 일 예로서, 자외선 발광다이오드를 포함할 수 있다. 상기 자외선 발광다이오드는 소형화가 가능하고, 내구성이 우수하여 수조(112)의 내벽에 용이하게 설치될 수 있다. 상기 자외선 발광다이오드는 수조(112)의 내벽을 따라 적어도 일면 이상에 복수 개 배치될 수 있다. 도면에서는 일 실시 예로서, 내벽의 4면에 복수개의 자외선 발광다이오드가 배치되는 구성을 나타내고 있다. 상기 복수개의 자외선 발광다이오드는 동일 파장의 자외선을 방출할 수 있으며, 다르게는 서로 다른 파장의 자외선을 방출할 수도 있다. 이 경우, 상기 자외선과 반응하여 이온 또는 유기물질의 광흡수를 고려하여 상기 파장의 종류 및 갯수를 결정할 수 있다. 구체적인 실시 예에서, 상기 자외선 발광다이오드는 패키지의 형태로서, 패키지 기판에 실장될 수 있으며 상기 패키지 기판이 수조(112)의 내벽에 부착될 수 있다. 또는 상기 자외선 발광다이오드는 패키지의 형태로 직접 수조(112)의 내벽에 설치될 수도 있다.
도면에 도시된 것과는 다르게, 자외선 광원(114)은 다른 예로서, 자외선 램프를 포함할 수도 있다. 상기 자외선 램프는 수조(112)의 내부에 설치될 수 있다.
수조(112)는 유입구(113)를 통해 외부로부터 수돗물을 공급받아 상기 고도산화수를 제조하고 배출구(115)를 통해 몸체부(120)로 상기 고도산화수를 전달할 수 있다.
상술한 바와 같이, 고도산화수 제조부(110)는, 200 nm 내지 300 nm의 자외선을 이용하여 상기 수돗물의 잔류 염소 및 항생제 성분을 광분해하여 제거하고, 상기 수돗물의 미생물을 살균할 수 있다. 또한, 고도산화수 제조부(110)는 상기 수돗물로부터 산화력이 강한 상기 수산화 라디칼 또는 상기 염소 라디칼을 구비하는 고도산화수를 제조할 수 있다.
도 3은 본 개시의 일 실시 예에 따르는 몸체부(120)를 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 3을 참조하면, 몸체부(120)는 저장조(122), 내부 유로(124) 및 제어 장치(128)를 포함할 수 있다.
저장조(122)는 고도산화수 제조부(110)의 수조(112)와 연결되도록 결합될 수 있다. 저장조(122)는 고도산화수 제조부(110)에서 제조된 상기 고도산화수를 임시로 저장하는 역할을 수행할 수 있다. 저장조(122)의 일단부에는 내부 유로(124)가 배치되어 노즐부(130)와 연결될 수 있다. 내부 유로(124)에는 유량 또는 유속을 제어할 수 있는 밸브(126)가 설치될 수 있다. 밸브(126)는 제어 장치(128)의 제어에 따라, 내부 유로(124)를 흐르는 상기 고도산화수의 흐름을 제어할 수 있다.
제어 장치(128)는 도 1의 전원스위치(123) 또는 수압 조절 노브(125)와 연결되어, 외부 입력에 대해 상응하는 제어신호를 고도산화수 제조부(110) 및 밸브(126)에 전달할 수 있다.
도 4는 본 개시의 일 실시 예에 따르는 노즐부를 개략적으로 나타내는 도면이다. 노즐부(130)는 노즐 몸체(131), 노즐 몸체(131)와 내부 유로(124)를 연결시키는 튜브(132) 및 세정팁(138)을 구비한다. 노즐 몸체(131)의 내부에는 상기 고도산화수가 유동하는 유로가 배치된다. 노즐 몸체(131)에는 동작 스위치(134)가 배치되고, 동작 스위치(134)는 노즐 몸체(131) 내부의 유로에서 상기 고도산화수의 흐름을 차단하거나 허용할 수 있다. 동작 스위치(134) 상단에는 미세조절 노브(136)가 배치되어, 노즐 몸체(131) 내부를 흐르는 상기 고도산화수의 유속, 유량 등을 미세하게 조절할 수 있다. 미세조절 노브(136)에 의해, 유속, 유량 등이 미세하게 조정된 상기 고도산화수는 동작 스위치(134)가 턴온될 때, 세정팁(138)으로 이동한 후에, 외부로 분사될 수 있다.
도 5는 본 개시의 다른 실시 예에 따르는 구강 세정기의 구동 방법을 개략적으로 나타내는 순서도이다. 도 5를 참조하면, 510 블록에서, 자외선 광원이 배치된 수조 내에 수돗물을 공급한다. 상기 수돗물은 약 0.1 mg/L 내지 4.0 mg/L 인 잔류 염소 농도를 가질 수 있다. 상기 자외선 광원은 일 예로서, 자외선 발광다이오드 또는 자외선 램프일 수 있다.
520 블록에서, 상기 자외선 광원으로부터 생성되는 자외선을 상기 수돗물에 조사하여 수산화 라디칼 또는 염소 라디칼을 포함하는 산화수를 생성한다. 상기 자외선은 약 200 nm 내지 300 nm의 파장을 가질 수 있다. 추가하여, 상기 자외선이 상기 수돗물에 조사될 때, 상기 수돗물 내의 항생제 성분 및 잔류 염소가 광분해되어 제거될 수 있으며, 상기 수돗물 내의 미생물이 살균될 수 있다.
530 블록에서, 상기 산화수를 노즐부를 통해 구강 내로 분산한다. 상기 분사된 상기 산화수는 상기 수산화 라디칼 또는 염소 라디칼에 의해 구강 내 유기물질이 분해될 수 있다. 상기 산화수는 수돗물 내 염소 성분으로부터 기인하는 이미 또는 이취가 제거된 상태로서, 사용자로 하여금 이질감을 완화시킬 수 있다. 또한 상기 산화수는 상기 수돗물 내의 항생제 성분이 제거되고 미생물이 살균된 청정수일 수 있다.
상술한 바와 같이 본 개시의 실시 형태들을 도면들을 예시하며 설명하지만, 이는 본 개시에서 제시하고자 하는 바를 설명하기 위한 것이며, 세밀하게 제시된 형상으로 본 개시에서 제시하고자 하는 바를 한정하고자 한 것은 아니다. 본 개시에서 제시한 기술적 사상이 반영되는 한 다양한 다른 변형예들이 가능할 것이다.
100: 구강 세정기,
110: 고도산화수 제조부, 120: 몸체부, 130: 노즐부,
112: 수조, 113: 유입구, 114: 발광다이오드,
115: 배출구, 122: 저장조, 124: 내부 유로,
126: 밸브, 128: 제어 장치, 131: 노즐 몸체,
132: 튜브, 134: 동작 스위치, 136: 미세조절 노브,
138: 세정팁.

Claims (19)

  1. 수돗물 수조 및 자외선 광원을 구비하는 고도산화수 제조부; 및
    상기 고도산화수 제조부로부터 제조된 고도산화수를 구강 내에 공급하는 노즐부를 구비하는 구강 세정기.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 고도산화수 제조부와 결합되며 상기 고도산화수를 보관하는 몸체부를 더 포함하는
    구강 세정기.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 몸체부는
    상기 고도산화수 제조부와 연결되며 상기 고도산화수를 저장하는 저장조;
    상기 저장조와 상기 노즐부를 연결시키는 내부 유로; 및
    상기 고도산화수 제조부의 동작을 제어하고, 상기 저장조로부터 상기 노즐부에 공급되는 상기 고도산화수의 유량 및 유속을 제어하는 제어 장치를 구비하는
    구강 세정기.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 자외선 광원은 200 nm 내지 300 nm의 파장의 자외선을 방출하는
    구강 세정기.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 자외선 광원은 자외선 발광다이오드 또는 자외선 램프를 포함하는
    구강 세정기.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 자외선 발광다이오드는 상기 수돗물 수조의 내벽의 적어도 일면 이상에 배치되는
    구강 세정기.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 고도산화수 제조부는 상기 수돗물 수조에 공급되는 수돗물 내 잔류 염소와 상기 자외선 광원의 자외선을 반응시켜 수산화 라디칼(OH·)을 포함하는 상기 고도산화수를 제조하는
    구강 세정기.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 잔류 염소의 농도는 0.1 mg/L 내지 2.0 mg/L 인
    구강 세정기.
  9. 제7 항에 있어서,
    상기 고도산화수는 염소 라디칼(Cl·)을 더 포함하는
    구강 세정기.
  10. 제7 항에 있어서,
    상기 자외선 광원은 상기 수돗물 내의 미생물을 상기 자외선으로 살균하는 기능을 더 수행하는
    구강 세정기.
  11. 제7 항에 있어서,
    상기 자외선 광원은 상기 수돗물 내의 항생제 성분을 상기 자외선으로 광분해하는 기능을 더 수행하는
    구강 세정기.
  12. 자외선 발광다이오드가 배치되고 수돗물을 수용할 수 있는 수조를 구비하며, 상기 자외선 발광다이오드로부터 방출되는 자외선과 상기 수조에 공급되는 수돗물 내 잔류 염소를 반응시켜 수산화 라디칼(OH·)을 포함하는 산화수를 제조하는 고도산화수 제조부; 및
    상기 고도산화수 제조부로부터 제조된 상기 산화수를 구강 내로 공급하는 노즐부를 구비하는 구강 세정기.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 자외선은 200 nm 내지 300 nm의 파장을 가지는
    구강 세정기.
  14. 제12 항에 있어서,
    상기 산화수는 염소라디칼(Cl·)을 더 포함하는
    구강 세정기.
  15. 제12 항에 있어서,
    상기 잔류 염소의 농도는 0.1 mg/L 내지 2.0 mg/L 인
    구강 세정기.
  16. (a) 자외선 광원이 배치된 수조 내에 수돗물을 공급하는 단계;
    (b) 상기 자외선 광원으로부터 생성되는 자외선을 상기 수돗물에 조사하여 수산화 라디칼(OH·)을 포함하는 산화수를 생성하는 단계;
    (c) 구강 내로 제공되는 상기 산화수의 유량 또는 유속을 결정하는 단계; 및
    (d) 상기 산화수를 노즐부를 통해 구강 내로 분사하는 단계를 포함하는
    구강 세정기의 구동 방법.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 자외선 광원은 자외선 발광다이오드 또는 자외선 램프인
    구강 세정기의 구동 방법.
  18. 제16 항에 있어서,
    (b) 단계는
    200 nm 내지 300 nm의 파장을 가지는 상기 자외선을 조사하는
    구강 세정기의 구동 방법.
  19. 제16 항에 있어서,
    (b) 단계는
    (b1) 상기 수돗물 내의 항생제 성분 및 잔류 염소를 광분해하는 단계; 및
    (b2) 상기 수돗물 내의 미생물을 살균하는 단계를 포함하는
    구강 세정기의 구동 방법.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108609715A (zh) * 2018-05-18 2018-10-02 厦门大学 羟基自由基矿化四环素类抗生素的方法和装置
US11389270B2 (en) * 2020-05-01 2022-07-19 Water Pik, Inc. Button assembly for electronic device, such as oral irrigator
US11918530B2 (en) 2019-02-22 2024-03-05 Water Pik, Inc. Countertop water flosser

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