KR20150009764A - 광학 필터 및 이를 포함하는 카메라 모듈 - Google Patents

광학 필터 및 이를 포함하는 카메라 모듈 Download PDF

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Abstract

본 발명의 한 실시예에 따른 광학 필터는 기판, 상기 기판 상에 형성된 버퍼층, 그리고 상기 버퍼층 상에 형성되며, 굴절율이 서로 다른 제1 박막층 및 상기 제2 박막층이 적어도 2회 이상 교대로 형성된 코팅층을 포함하며, 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정된다.

Description

광학 필터 및 이를 포함하는 카메라 모듈{OPTICAL FILTER AND CAMERA MODULE FOR COMPRISING THE SAME}
본 발명은 카메라 모듈에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광학 필터 및 이를 포함하는 카메라 모듈에 관한 것이다.
스마트폰 및 이에 내장되는 카메라의 기술이 발달함에 따라, 슬림화, 저소비전력, 고해상도 및 경량화 등에 대한 요구가 커지고 있다. 카메라 모듈에 일반적으로 사용되는 CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor) 센서는 적색에 대한 감도가 높아, 이미지가 붉게 구현될 가능성이 크다. 이에 따라, IR 필터를 이용하여 근적외선이 센서에 의해 감지되는 것을 차단할 필요가 있다.
IR 필터의 일 예인 반사형 필터는 유리 기판 상에 고굴절, 저굴절 물질을 다층으로 쌓아 올린 구조이다. 반사형 필터는 카메라 모듈 내에 들어오는 근적외선을 반사시켜 차폐한다.
IR 필터의 다른 예인 흡수형 필터는 700nm 이상의 빛을 선택적으로 흡수하는 흡수체가 첨가된 유리 기판이다. 흡수형 필터는 카메라 모듈 내에 들어오는 근적외선을 흡수시키며, 블루 필터(blue filter) 또는 블루 글라스(blue glass)라고 불릴 수도 있다.
이러한 IR 필터는 청색광의 색번짐 문제가 있다. 이는 필터를 투과하는 청색광의 양이 많고, 입사각에 따라 청색광의 시프트(shift)가 일어나기 때문이다.
특히, 카메라 모듈의 슬림화 추세에 따라 렌즈의 표면에 DOE(Diffractive Optical Element) 패턴을 형성하는 경우, 청색광의 투과율이 더욱 높아지며, 중심부와 주변부 간의 청색광 투과율 차가 커지는 문제가 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 광학 필터 및 이를 포함하는 카메라 모듈을 제공하는 데 있다.
본 발명의 한 실시예에 따른 광학 필터는 기판, 상기 기판 상에 형성된 버퍼층, 상기 버퍼층 상에 형성되며, 굴절율이 서로 다른 제1 박막층 및 상기 제2 박막층이 적어도 2회 이상 교대로 형성된 코팅층을 포함하며, 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정된다.
상기 기판은 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정된 흡수체를 포함할 수 있다.
상기 기판은 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 투과율이 10% 내지 40%일 수 있다.
파장이 415nm 내지 450nm인 제1 파장 영역에 대한 투과율은 10% 내지 25%이고, 파장이 450nm 내지 495nm인 제2 파장 영역에 대한 투과율은 25% 내지 40%일 수 있다.
상기 기판은 근적외선을 흡수하는 흡수체를 더 포함할 수 있다.
상기 코팅층은 중심으로부터 주변으로 갈수록 두께가 두꺼워질 수 있다.
적어도 하나의 제1 박막층 및 적어도 하나의 제2 박막층 중 적어도 하나는 415nm 내지 495nm의 0.15 내지 0.35배의 두께로 형성될 수 있다.
적어도 하나의 제1 박막층 및 적어도 하나의 제2 박막층 중 적어도 하나는 415nm 내지 450nm의 0.15 내지 0.35배의 두께로 형성되는 제1 영역, 그리고 상기 제1 영역의 가장자리에 위치하며, 450nm 내지 495nm의 0.15 내지 0.35배의 두께로 형성되는 제2 영역을 포함할 수 있다.
상기 제1 박막층은 TiO2를 포함하고, 상기 제2 박막층은 SiO2를 포함할 수 있다.
본 발명의 한 실시예에 따른 카메라 모듈은 인쇄회로기판, 상기 인쇄회로기판 상에 장착되며, 와이어에 의하여 상기 인쇄회로기판과 연결되는 이미지 센서, 상기 이미지 센서 상에 형성되며, 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정되는 광학 필터, 상기 광학 필터 상에 형성되는 렌즈 어셈블리, 그리고 상기 광학 필터 및 상기 렌즈 어셈블리를 내장하며, 지지하는 렌즈 홀더를 포함한다.
상기 렌즈 어셈블리는 DOE(Diffractive Optical element) 패턴이 형성된 렌즈를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 청색광의 투과율 및 파장 시프트를 낮춘 광학 필터를 얻을 수 있다. 이에 따라, 청색광의 색번짐 문제를 줄일 수 있으며, 중심부와 주변부의 색번짐 차이를 낮출 수 있다. 특히, DOE 패턴이 형성된 렌즈를 포함하는 카메라 모듈에도 적용할 수 있으므로, 카메라 모듈을 슬림하게 구현하는 것도 가능하다.
도 1은 카메라 모듈의 단면도를 예시한다.
도 2는 DOE 렌즈 및 415nm CUT IR 필터를 포함하는 카메라 모듈로부터 얻어진 영상이다.
도 3은 도 2의 A 부분을 확대한 도면이고, 도 4는 도 2의 B부분을 확대한 도면이다.
도 5는 입사각에 따른 파장 시프트 현상을 나타내는 그래프이며, 도 6은 도 5의 청색광 영역을 확대한 그래프이다.
도 7은 본 발명의 한 실시예에 따른 광학 필터의 단면도이다.
도 8은 TiO2와 SiO2의 파장 별 굴절율을 비교하는 그래프이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
제2, 제1 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제2 구성요소는 제1 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제1 구성요소도 제2 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
본 명세서에서 광학 필터의 일 예인 IR 필터를 중심으로 설명하나, 이는 예시에 지나지 않으며, 본 발명의 기술적 사상이 이에 제한되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 IR 필터뿐만 아니라 다양한 광학 필터에 적용될 수 있다.
도 1은 카메라 모듈의 단면도를 예시한다.
도 1을 참조하면, 카메라 모듈(100)은 인쇄회로기판(110), 이미지 센서(120), IR(InfraRed) 필터(130), 렌즈 어셈블리(140) 및 렌즈 홀더(150)를 포함한다.
인쇄회로기판(110) 상에 이미지 센서(120)가 장착되며, 이미지 센서(120)는 와이어(wire, 112)에 의하여 인쇄회로기판(110)과 연결된다. 이미지 센서(120)는, 예를 들면 CCD(Charge-Coupled Device) 또는 CMOS 센서일 수 있다.
이미지 센서(120) 상에는 IR 필터(130)가 형성된다. IR 필터(130)는 카메라 모듈(100) 내에 입사되는 광으로부터 근적외선, 예를 들면 파장이 700nm 내지 1100nm 사이인 빛을 선택적으로 차단한다.
렌즈 어셈블리(140)는 IR 필터(130) 상에 형성된다. 렌즈 어셈블리(140)는 DOE(Diffractive Optical Element) 패턴이 형성된 렌즈를 포함할 수 있다.
그리고, IR 필터(130) 및 렌즈 어셈블리(140)는 렌즈 홀더(150) 내에 내장되며, 지지된다.
이때, 카메라 모듈(100)로부터 얻어진 영상에는 청색광의 색번짐 문제가 발생할 수 있다. 이는 IR 필터(130)를 투과한 청색광의 양이 많으며, 입사각에 따라 청색광의 파장 시프트(shift)가 일어나기 때문이다. 특히, 렌즈가 DOE 패턴을 포함하는 경우, 청색광의 색번짐은 더욱 심해질 수 있다.
예를 들어, 일반적인 렌즈를 포함하는 카메라 모듈로부터 얻어진 영상의 경우, 중심부 및 주변부의 청색광 투과율이 약 5%이다. 그러나, DOE 렌즈 및 파장이 415nm 이하인 광을 차단하는 415nm CUT IR 필터를 포함하는 카메라 모듈로부터 얻어진 영상의 경우, 중심부의 청색광 투과율이 약 13%이고, 주변부의 청색광 투과율이 약 37%이다.
이러한 영상은 도 2에 예시되어 있으며, 도 3은 도 2의 A 부분을 확대한 도면이고, 도 4는 도 2의 B부분을 확대한 도면이다. 이와 같이, 카메라 모듈의 슬림화 및 색수차 개선을 위하여 DOE 패턴이 형성된 렌즈를 사용하는 경우, 청색광의 색번짐이 심하며, 영상의 중심부(도 2의 A 부분, 예를 들면, 0.0F 내지 0.5F)에서 주변부(도 2의 B 부분, 예를 들면, 0.5F 내지 1.0F)로 갈수록 청색광의 색번짐이 더욱 심해진다. 이는 입사각이 작은 중심부에서는 적색광과 청색광의 노이즈가 유사하나, 입사각이 큰 주변부에서는 청색광의 노이즈가 현저히 커져, 파장 시프트가 일어나기 때문이다.
도 5는 입사각에 따른 파장 시프트 현상을 나타내는 그래프이며, 도 6은 도 5의 청색광 영역을 확대한 그래프이다. 도 5 내지 6과 같이, 입사각에 따라 청색광의 파장 시프트가 발생하면, 영상의 중심부와 주변부 사이의 색번짐 정도가 달라지며, 영상의 질을 떨어뜨리게 된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 청색광 범위에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정된 광학 필터를 제공하고자 한다.
본 명세서에서, 투과율(%)은 빛이 광학 필터를 투과한 비율을 의미한다. 그리고, 청색광은 파장 영역이 415nm 내지 495nm, 바람직하게는 430nm 내지 460nm인 광을 의미한다.
도 7은 본 발명의 한 실시예에 따른 광학 필터의 단면도이다.
도 7을 참조하면, 광학 필터(700)는 기판(710), 버퍼층(720) 및 코팅층(730)을 포함한다. 광학 필터(700)의 두께는 0.3mm이하일 수 있다. 여기서, 광학 필터(700)는, 예를 들면 카메라 모듈에 입사되는 광으로부터 근적외선을 차단하는 IR 필터일 수 있다.
기판(710)은 가시광선 투과율이 90% 이상이고, 유리전이온도가 100℃ 이상인 수지, 필름 또는 유리일 수 있다.
버퍼층(720)은 기판(710) 상에 형성되며, 코팅층(730)은 버퍼층(720) 상에 형성된다. 코팅층(730)은 굴절율이 서로 다른 제1 박막층(731) 및 제2 박막층(732)이 적어도 2회 이상 교대로 형성될 수 있다. 제1 박막층(731)은 TiO2를 포함하고, 제2 박막층(732)은 SiO2를 포함할 수 있다.
차단하고자 하는 기준 파장이 Xnm인 경우, 제1 박막층과 제2 박막층 중 적어도 하나의 두께를 0.15Xnm 내지 0.35Xnm, 바람직하게는 0.2Xnm 내지 0.3Xnm로 설정하면, 기준 파장에 대한 반사율을 최적화할 수 있다. 예를 들어, 기준 파장이 820nm인 경우, 제1 박막층과 제2 박막층 중 적어도 하나의 두께를 123nm 내지 328nm, 바람직하게는 164nm 내지 246nm로 설정하면, 근적외선에 대한 반사율을 높일 수 있다.
제1 박막층과 제2 박막층의 두께 비는 각 박막층에 포함되는 물질의 굴절율(Reflactive Index, n)에 따를 수도 있다. TiO2와 SiO2의 파장 별 굴절율을 비교하는 그래프인 도 8을 참조하면, 820nm에서 TiO2와 SiO2의 귤절율의 비는 약 2.8/1.55(=1.81)이다. 이에 따라, 제1 박막층 두께의 1.81배가 되도록 제2 박막층 두께를 설정할 수 있다.
본 발명의 한 실시예에 따르면, 청색광 범위에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정하기 위하여, 기판(710) 또는 코팅층(730)은 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정된 흡수체를 포함할 수 있다. 기판(710)이 Si 글라스인 경우, 파장 영역 별로 선택적으로 청색광을 흡수하는 흡수체는, 예를 들면 Na, K 및 Zn을 포함하는 물질일 수 있다. 또는, 가시광선 흡수 염료인 YT-245(ADEKA ARLKS, λmax=430nm) 또는 GPX-201(ADEKA ARLKS, λmax=493nm) 등이 청색광을 흡수하는 흡수체로 사용될 수도 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 흡수체의 농도 및 비율을 조절하여 파장 영역 별로 원하는 수준의 투과율을 얻을 수 있다.
도 9는 본 발명의 한 실시예에 따라 파장 영역 별 청색광의 투과율을 설정하는 그래프이다.
도 9를 참조하면, 기판(710) 또는 코팅층(730)은 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 투과율이 10% 내지 40%인 것으로 설정될 수 있다. 예를 들어, 파장이 415nm 내지 450nm인 제1 파장 영역에 대한 투과율은 10% 내지 25%으로 설정되고, 파장이 450nm 내지 495nm인 제2 파장 영역에 대한 투과율은 25% 내지 40%으로 설정될 수 있다.
430nm CUT IR 필터의 중심부에서의 청색광 투과율이 약 21%이고, 주변부에서의 청색광 투과율이 약 26%이며, 460nm CUT IR 필터의 중심부에서의 청색광 투과율이 약 4%이고, 주변부에서의 청색광 투과율이 약 21%이다. 이와 같이, 특정 파장 이하의 광을 모두 차단하도록 설계된 IR 필터는 중심부 및 주변부의 청색광 투과율이 모두 높거나, 중심부 및 주변부의 청색광 투과율 차가 커지게 된다.
이에 반해, 도 9와 같이 파장 영역 별 청색광의 투과율이 달라지도록 설정하면, IR 필터를 청색광의 투과율을 적절하게 유지하여 색번짐을 줄이면서도, 중심부와 주변부의 영상을 균일하게 유지할 수 있다.
한편, 본 발명의 한 실시예에 따르면, 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정하기 위하여, 코팅층(730)의 두께를 조절할 수도 있다.
즉, 도 5 및 6에 도시된 바와 같이, 광학 필터(700)를 통과한 빛은 입사각에 따라 파장 시프트가 일어난다. 입사각에 따른 파장 시프트를 줄이기 위하여, 코팅층(730)의 중심부로부터 주변부로 갈수록 코팅층의 두께를 두껍게 설정할 수 있다.
이를 위하여, 적어도 하나의 제1 박막층 및 적어도 하나의 제2 박막층 중 적어도 하나는 중심부로부터 주변부로 갈수록 두꺼워지도록 설정할 수 있다. 이에 따라, 입사각이 작은 영역 및 입사각이 큰 영역 각각에서 청색광의 반사율 또는 투과율을 최적화할 수 있다.
일반적으로, 제1 박막층 및 제2 박막층 중 적어도 하나의 두께는 차단하고자 하는 파장의 0.15 내지 0.35배, 바람직하게는 0.2 내지 0.3의 두께로 설계할 수 있다. 따라서, 적어도 하나의 제1 박막층 및 적어도 하나의 제2 박막층 중 적어도 하나를 415nm 내지 495nm의 0.15 내지 0.35배, 바람직하게는 0.2 내지 0.3배의 두께로 형성할 수 있다.
그리고, 적어도 하나의 제1 박막층 및 적어도 하나의 제2 박막층 중 적어도 하나는 415nm 내지 450nm의 0.15 내지 0.35배, 바람직하게는 0.2 내지 0.3배의 두께로 형성되는 제1 영역, 그리고 상기 제1 영역의 가장자리에 위치하며, 450nm 내지 495nm의 0.15 내지 0.35배, 바람직하게는 0.2 내지 0.3배의 두께로 형성되는 제2 영역을 포함할 수 있다.
이때, 제1 박막층 및 제2 박막층의 두께는 각 박막층에 포함되는 물질의 굴절율을 고려하여 설정될 수도 있다. 예를 들어, 도 8에서 나타낸 바와 같이, 430nm에서 TiO2와 SiO2의 귤절율의 비는 3.15/1.55이고, 460nm에서 TiO2와 SiO2의 귤절율의 비는 3.1/1.55이다. 이에 따라, 제1 박막층 및 제2 박막층 중 적어도 하나를 제1 영역에서 415nm 내지 450nm의 0.15 내지 0.35배, 바람직하게는 0.2 내지 0.3배의 두께로 형성하고, 제2 영역에서 450nm 내지 495nm의 0.15 내지 0.35배, 바람직하게는 0.2 내지 0.3배의 두께로 형성하되, 제1 영역에서는 제1 박막층 두께의 3.15/1.55배가 되도록 제2 박막층 두께를 설정하고, 제2 영역에서는 제1 박막층 두께의 3.1/1.55배가 되도록 제2 박막층 두께를 설정할 수 있다.
이에 따라, 도 10에서 도시된 바와 같이, 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 입사각에 따른 파장 시프트가 최소화된 광학 필터를 얻을 수 있다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 IR 필터는 기판, 버퍼층 및 코팅층을 포함하는 것으로 예시되어 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. IR 필터는 버퍼층 및 코팅층을 포함하지 않을수도 있다. 이때, IR 필터는 근적외선을 흡수하는 흡수체 및 415nm 내지 495nm의 범위에서 파장 영역 별로 투과율이 다른 흡수체를 더 포함하는 기판을 포함할 수 있다. 근적외선을 흡수하는 흡수체는, 예를 들면 P2O5계 물질을 포함할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100: 카메라 모듈
110: 인쇄회로기판
120: 이미지 센서
130: IR 필터
140: 렌즈 어셈블리
150: 렌즈 홀더
700: 광학 필터
710: 기판
720: 버퍼층
730: 코팅층

Claims (13)

  1. 기판,
    상기 기판 상에 형성된 버퍼층, 그리고
    상기 버퍼층 상에 형성되며, 굴절율이 서로 다른 제1 박막층 및 상기 제2 박막층이 적어도 2회 이상 교대로 형성된 코팅층
    을 포함하며,
    파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정되는 광학 필터.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기판은 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정된 흡수체를 포함하는 광학 필터.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 기판은 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 투과율이 10% 내지 40%인 광학 필터.
  4. 제3항에 있어서,
    파장이 415nm 내지 450nm인 제1 파장 영역에 대한 투과율은 10% 내지 25%이고,
    파장이 450nm 내지 495nm인 제2 파장 영역에 대한 투과율은 25% 내지 40%인 광학 필터.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 기판은 근적외선을 흡수하는 흡수체를 더 포함하는 광학 필터.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 코팅층은 중심으로부터 주변으로 갈수록 두께가 두꺼워지는 광학 필터.
  7. 제6항에 있어서,
    적어도 하나의 제1 박막층 및 적어도 하나의 제2 박막층 중 적어도 하나는 415nm 내지 495nm의 0.15 내지 0.35배의 두께로 형성되는 광학 필터.
  8. 제7항에 있어서,
    적어도 하나의 제1 박막층 및 적어도 하나의 제2 박막층 중 적어도 하나는
    415nm 내지 450nm의 0.15 내지 0.35배의 두께로 형성되는 제1 영역, 그리고
    상기 제1 영역의 가장자리에 위치하며, 450nm 내지 495nm의 0.15 내지 0.35배의 두께로 형성되는 제2 영역
    을 포함하는 광학 필터.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 제1 박막층은 TiO2를 포함하고, 상기 제2 박막층은 SiO2를 포함하는 광학 필터.
  10. 인쇄회로기판,
    상기 인쇄회로기판 상에 장착되며, 와이어에 의하여 상기 인쇄회로기판과 연결되는 이미지 센서,
    상기 이미지 센서 상에 형성되며, 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정되는 광학 필터,
    상기 광학 필터 상에 형성되는 렌즈 어셈블리, 그리고
    상기 광학 필터 및 상기 렌즈 어셈블리를 내장하며, 지지하는 렌즈 홀더
    를 포함하는 카메라 모듈.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 렌즈 어셈블리는 DOE(Diffractive Optical element) 패턴이 형성된 렌즈를 포함하는 카메라 모듈.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 광학 필터는
    기판,
    상기 기판 상에 형성된 버퍼층, 그리고
    상기 버퍼층 상에 형성되며, 굴절율이 서로 다른 제1 박막층 및 상기 제2 박막층이 적어도 2회 이상 교대로 형성된 코팅층
    을 포함하며,
    상기 기판은 파장이 415nm 내지 495nm인 범위 내에서 파장 영역 별 투과율이 달라지도록 설정된 흡수체를 포함하는 카메라 모듈.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 광학 필터는
    기판,
    상기 기판 상에 형성된 버퍼층, 그리고
    상기 버퍼층 상에 형성되며, 굴절율이 서로 다른 제1 박막층 및 상기 제2 박막층이 적어도 2회 이상 교대로 형성된 코팅층
    을 포함하며,
    상기 코팅층은 중심으로부터 주변으로 갈수록 두께가 두꺼워지는 카메라 모듈.
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