KR20150006529A - Apparatus for clamping mask and manufacturing method of mask - Google Patents

Apparatus for clamping mask and manufacturing method of mask Download PDF

Info

Publication number
KR20150006529A
KR20150006529A KR1020130079864A KR20130079864A KR20150006529A KR 20150006529 A KR20150006529 A KR 20150006529A KR 1020130079864 A KR1020130079864 A KR 1020130079864A KR 20130079864 A KR20130079864 A KR 20130079864A KR 20150006529 A KR20150006529 A KR 20150006529A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
ineffective
area
region
mask sheet
Prior art date
Application number
KR1020130079864A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102131659B1 (en
Inventor
김호언
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020130079864A priority Critical patent/KR102131659B1/en
Priority to US14/172,013 priority patent/US9500962B2/en
Publication of KR20150006529A publication Critical patent/KR20150006529A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102131659B1 publication Critical patent/KR102131659B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B12/00—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
    • B05B12/16—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area
    • B05B12/20—Masking elements, i.e. elements defining uncoated areas on an object to be coated
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C17/00—Hand tools or apparatus using hand held tools, for applying liquids or other fluent materials to, for spreading applied liquids or other fluent materials on, or for partially removing applied liquids or other fluent materials from, surfaces
    • B05C17/06—Stencils
    • B05C17/08—Stencil holders
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C21/00—Accessories or implements for use in connection with applying liquids or other fluent materials to surfaces, not provided for in groups B05C1/00 - B05C19/00
    • B05C21/005—Masking devices
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70783—Handling stress or warp of chucks, masks or workpieces, e.g. to compensate for imaging errors or considerations related to warpage of masks or workpieces due to their own weight
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

A method of manufacturing a mask is to arrange a mask sheet including an effective region and a non-effective region in the upper part of a mask frame. Hereafter, the warpage of the non-effective region is prevented by applying a pressure from a lower part to the non-effective region part upwards. At this time, a gas can be injected from a lower part upwards by using a warpage prevention unit arranged in the lower part of the non-effective region. Thereafter, a clamping unit is transferred to the mask sheet in parallel so that the non-effective region is clamped. The mask frame and the effective region are welded to remove the non-effective region. Accordingly, the warpage of the non-effective region is prevented so that the clamping unit clamps the mask sheet by only horizontal movement without vertical movement.

Description

마스크 클램핑 장치 및 마스크 제조 방법{APPARATUS FOR CLAMPING MASK AND MANUFACTURING METHOD OF MASK}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a mask clamping apparatus,

본 발명은 마스크 클램핑 장치 및 마스크 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 증착 공정 또는 노광 공정에 사용되는 마스크 클램핑 장치 및 마스크 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a mask clamping apparatus and a mask manufacturing method, and more particularly, to a mask clamping apparatus and a mask manufacturing method used in a deposition process or an exposure process.

유기 발광 다이오드(Organic Light-Emitting Diode, 이하, OLED라 함)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광현상을 이용하여 스스로 빛을 내는 '자체발광형 유기물질'을 말한다. OLED는 낮은 전압에서 구동이 가능하고 얇은 박형으로 만들 수 있으며, 넓은 시야각과 빠른 응답 속도를 갖고 있어 현재의 LCD를 대체할 수 있는 차세대 디스플레이 장치로 각광받고 있다.An organic light-emitting diode (hereinafter, referred to as OLED) refers to a 'self-emitting organic material' that emits light by using an electroluminescent phenomenon that emits light when a fluorescent organic compound is supplied with an electric current. OLEDs can be driven at low voltages and can be made thinner, have a wide viewing angle, and have a fast response time, making them a next-generation display device that can replace current LCDs.

유기 발광 표시패널을 형성하기 위해 화소 정의막이 형성된 절연 기판에 증착용 마스크를 이용하여 유기물을 증착한다. 증착용 마스크는 마스크 프레임에 마스크 시트를 부착시키고, 잉여 부분을 제거함으로써 형성된다. 이때, 마스크 시트의 크기가 마스크 프레임 보다 크게 형성되어, 잉여 부분은 마스크 프레임에 지지되지 못하고 중력 방향으로 처지는 문제가 있다. Organic materials are deposited on an insulating substrate on which a pixel defining layer is formed to form an organic light emitting display panel using an evaporation mask. The vapor deposition mask is formed by attaching a mask sheet to the mask frame and removing the excess portion. At this time, the size of the mask sheet is formed larger than that of the mask frame, and the surplus portion can not be supported by the mask frame, and the mask sheet is sagged in the gravitational direction.

본 발명이 이루고자 하는 과제는 마스크 시트의 유효 영역뿐만 아니라 비유효 영역의 처짐을 방지하여, 클램핑 유닛이 상하 이동없이 좌우 이동만으로도 마스크 시트를 클램핑할 수 있는 마스크 클램핑 장치 및 마스크 제조 방법을 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a mask clamping apparatus and a mask manufacturing method capable of preventing deflection of not only an effective region but also an ineffective region of a mask sheet so that the clamping unit can clamp the mask sheet only by moving left and right without moving up and down .

본 발명의 마스크 클램핑 장치는 클램핑 유닛 및 처짐 방지 유닛을 포함한다. The mask clamping apparatus of the present invention includes a clamping unit and a sag prevention unit.

상기 클램핑 유닛은 유효 영역 및 비유효 영역을 포함하는 마스크 시트의 상기 비유효 영역을 클램핑한다. 상기 처짐 방지 유닛은 기체를 분사하거나 흡입하여 상기 비유효 영역이 처지는 것을 방지한다. The clamping unit clamps the ineffective area of the mask sheet including the effective area and the non-valid area. The slack prevention unit prevents the ineffective area from sagging by spraying or sucking the gas.

일 실시예에서 상기 처짐 방지 유닛은 상기 비유효 영역의 하부에 배치되고, 하부에서 상부 방향으로 상기 기체를 분사할 수 있다. In one embodiment, the sag prevention unit is disposed below the ineffective area, and can spray the gas in the upper direction from the lower part.

다른 실시예에서 상기 처짐 방지 유닛은 상기 비유효 영역의 상부에 배치되고, 하부에서 상부 방향으로 상기 기체를 흡입할 수 있다. In another embodiment, the sag prevention unit is disposed on the upper portion of the ineffective area and can suck the gas upward from the lower part.

본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 제조 방법은, 유효 영역 및 비유효 영역을 포함하는 마스크 시트를 마스크 프레임 상부에 정렬시키는 단계; 상기 비유효 영역에 하부에서 상부 방향으로 압력을 가하여 비유효 영역의 처짐을 방지하는 단계; 클램핑 유닛을 상기 마스크 시트에 평행하게 전진시켜 상기 비유효 영역을 클램핑하는 단계; 상기 마스크 프레임과 상기 유효 영역을 용접하는 단계; 및 상기 비유효 영역을 제거하는 단계를 포함한다. A method of manufacturing a mask according to an embodiment of the present invention includes aligning a mask sheet including a valid region and an ineffective region on a mask frame; Applying pressure to the ineffective area from the bottom to the top to prevent deflection of the ineffective area; Advancing the clamping unit parallel to the mask sheet to clamp the ineffective area; Welding the mask frame and the effective area; And removing the ineffective area.

상기 비유효 영역의 처짐을 방지하는 단계는, 상기 비유효 영역의 하부에 배치된 처짐 방지 유닛을 이용하여 상기 비유효 영역의 하부에서 상부 방향으로 기체를 분사할 수 있다. The step of preventing deflection of the ineffective area may include injecting the gas upward in the lower portion of the ineffective area using a deflection preventing unit disposed below the ineffective area.

상기 비유효 영역의 처짐을 방지하는 단계는, 상기 비유효 영역의 상부에 배치된 처짐 방지 유닛을 이용하여 상기 비유효 영역의 하부에서 상부 방향으로 기체를 흡입할 수 있다. The step of preventing sagging of the non-effective region may include sucking the gas upwardly from a lower portion of the non-effective region using a sag prevention unit disposed above the non-effective region.

본 발명의 마스크 클램핑 장치 및 마스크 제조 방법에 의하면, 마스크 시트의 유효 영역뿐만 아니라 비유효 영역의 처짐을 방지하여, 클램핑 유닛이 상하 이동없이 좌우 이동만으로도 마스크 시트를 클램핑할 수 있다.According to the mask clamping apparatus and the mask manufacturing method of the present invention, not only the effective area but also the ineffective area of the mask sheet can be prevented from sagging, so that the clamping unit can clamp the mask sheet only by moving left and right without moving up and down.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 클램핑 장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1의 마스크 클램핑 장치의 측면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 클램핑 장치의 측면도이다.1 is a perspective view showing a mask clamping apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a side view of the mask clamping apparatus of FIG.
3 is a side view of a mask clamping apparatus according to another embodiment of the present invention.

이상의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other objects, features, and advantages of the present invention will become more readily apparent from the following description of preferred embodiments with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Rather, the embodiments disclosed herein are provided so that the disclosure can be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art.

본 실시 예에서는 마스크로 평판 디스플레이(FPD)의 증착 장치에 사용되는 증착 마스크를 예로 들어 설명한다. 그러나, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다. 본 발명에 의한 마스크 제조 방법은 반도체 디바이스(Semiconductor Device)의 증착 공정에 사용되는 증착 마스크, 또는 평판 디스플레이나 반도체 디바이스의 포토리소그래피 공정에 사용되는 포토 마스크 등 다양한 종류의 마스크 제조에 적용될 수 있다.In this embodiment, a deposition mask used for a deposition apparatus of a flat panel display (FPD) is described as an example of a mask. However, the technical idea of the present invention is not limited thereto. The method of manufacturing a mask according to the present invention can be applied to various types of masks such as a deposition mask used in a deposition process of a semiconductor device or a photomask used in a flat panel display or a photolithography process of a semiconductor device.

증착 마스크는, 예를 들어, 유기 EL 디스플레이 장치의 전극들(양극/음극)과 유기 발광층의 증착 공정에 사용되는 마스크일 수 있으며, 또한 열 증착/e-빔 증착 방법으로 반도체 웨이퍼에 패턴을 형성하는 증착 공정에 사용되는 마스크일 수도 있다.The deposition mask may be, for example, a mask used for the deposition of the electrodes (anode / cathode) of the organic EL display device and the organic light emitting layer, and may also form a pattern on the semiconductor wafer by a thermal evaporation / e- The mask may be a mask used in the deposition process.

포토 마스크는, 예를 들어, 액정 디스플레이 장치의 박막 트랜지스터나 화소 전극을 형성하는 공정 중 노광 공정의 패턴 전사에 사용되는 마스크일 수 있으며, 또한 반도체 디바이스의 제조 공정 중 노광 공정에서의 패턴 전사에 사용되는 마스크일 수도 있다.The photomask can be, for example, a mask used for pattern transfer in an exposure process in a process of forming a thin film transistor or a pixel electrode of a liquid crystal display device, and is also used for pattern transfer in an exposure process in a semiconductor device manufacturing process Lt; / RTI >

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 클램핑 장치와 이를 이용한 마스크 제조 방법을 설명한다. Hereinafter, a mask clamping apparatus and a method of manufacturing a mask using the same according to an embodiment of the present invention will be described.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 클램핑 장치(1000)를 도시한 사시도이고, 도 2는 도 1의 마스크 클램핑 장치(1000)의 측면도이다.FIG. 1 is a perspective view illustrating a mask clamping apparatus 1000 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the mask clamping apparatus 1000 of FIG.

도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 마스크 클램핑 장치(1000)는 클램핑 유닛(200) 및 처짐 방지 유닛(100)를 포함한다. 각 구성들의 설명은 이하, 각 구성이 사용되는 단계에서 구체적으로 설명된다. Referring to FIGS. 1 and 2, the mask clamping apparatus 1000 includes a clamping unit 200 and a sag prevention unit 100. The description of each configuration will be described below in detail at the stage where each configuration is used.

먼저, 마스크 시트(MS)가 제공된다. 상기 마스크 시트(MS)는 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)에 평행한 평판으로 제공된다. 상기 마스크 시트(MS)는 유효 영역(VA)과 비유효 영역(NA)을 포함한다. 상기 유효 영역(VA)은 마스크로서 기능하는 영역이고, 상기 비유효 영역(NA)은 상기 유효 영역(VA)을 둘러싸고, 제거 대상이 되는 영역이다. 상기 마스크 시트(MS)는 40㎛ 이상 80㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다. First, a mask sheet MS is provided. The mask sheet MS is provided in a flat plate parallel to the first direction DR1 and the second direction DR2. The mask sheet MS includes a valid region VA and a non-valid region NA. The effective area VA is an area functioning as a mask, and the non-valid area NA surrounds the effective area VA and is an area to be removed. The mask sheet MS may have a thickness of 40 탆 or more and 80 탆 or less.

상기 마스크 시트(MS)를 마스크 프레임(MF) 상부에 정렬시킨다. 상기 마스크 프레임(MF)은 제3 방향(DR3)으로 상기 마스크 시트(MS)의 하부에 배치된다. 상기 마스크 프레임(MF)은 상기 마스크 시트(MS)를 지지하여 상기 마스크 시트(MS)의 휨을 방지하는 역할을 한다. 상기 마스크 프레임(MF)은 내부에 개구가 구비된 사각 고리 형상일 수 있다. The mask sheet MS is aligned on the mask frame MF. The mask frame MF is disposed below the mask sheet MS in a third direction DR3. The mask frame MF supports the mask sheet MS to prevent warpage of the mask sheet MS. The mask frame MF may have a rectangular ring shape having an opening therein.

상기 유효 영역(VA)의 가장자리는 상기 마스크 프레임(MF)의 상면에 의해 지지된다. 한편, 상기 비유효 영역(NA)은 상기 마스크 프레임(MF)의 상면에 의해 지지되지 않는다. 상기 마스크 시트의 두께가 얇으므로, 상기 비유효 영역(NA)은 중력에 의해 상기 제3 방향(DR3)으로 처질 수 있다. The edge of the effective area VA is supported by the upper surface of the mask frame MF. On the other hand, the ineffective area NA is not supported by the upper surface of the mask frame MF. Since the thickness of the mask sheet is small, the ineffective area NA can be deformed in the third direction DR3 by gravity.

상기 처짐 방지 유닛(100)는 상기 비유효 영역(NA)이 처지는 것을 방지하는 역할을 한다. 상기 처짐 방지 유닛(100)는 상기 제3 방향(DR3)으로 상기 비유효 영역(NA)의 하부에 배치될 수 있다. 상기 처짐 방지 유닛(100)는 중력 반대 방향, 하부에서 상부 방향의 상기 제3 방향(DR3)으로 기체를 분사할 수 있다. 상기 기체는 종류에 제한되는 것은 아니고, 예를 들어, 공기일 수 있다. 상기 처짐 방지 유닛(100)에 의해 상기 비유효 영역(NA)의 하면에는 하부에서 상부 방향으로 압력이 가해지고, 상기 비유효 영역(NA)이 처지는 것을 방지할 수 있다. 상기 처짐 방지 유닛(100)는 분사되는 기체의 속도와 양을 조절할 수 있다. 즉, 상기 처짐 방지 유닛(100)에 의해 상기 비유효 영역(NA) 및 상기 유효 영역(VA)은 상기 제1 방향(DR1) 및 상기 제2 방향(DR2)에 대해 평탄하게 유지될 수 있다. 한편, 도 1에는 상기 처짐 방지 유닛(100)를 하나만 도시하였으나, 이에 제한되는 것은 아니고, 상기 처짐 방지 유닛(100)는 상기 비유효 영역(NA) 하부에 복수개로 구비될 수 있다. The slack prevention unit 100 serves to prevent the ineffective area NA from being sagged. The sag prevention unit 100 may be disposed below the ineffective area NA in the third direction DR3. The sag prevention unit 100 may inject gas in the third direction DR3 in the direction opposite to gravity or in the direction from the lower side to the upper side. The gas is not limited to the type, but may be, for example, air. The sagging preventing unit 100 can prevent the sagging of the ineffective area NA by applying pressure to the lower surface of the ineffective area NA from the lower part to the upper part. The deflection preventing unit 100 can adjust the velocity and the amount of the gas to be injected. That is, the non-effective area NA and the effective area VA can be maintained flat in the first direction DR1 and the second direction DR2 by the sag prevention unit 100. [ 1, the slack prevention unit 100 is not limited thereto, but the slack prevention unit 100 may be provided at a plurality of positions below the non-effective area NA.

상기 클램핑 유닛(200)은 상기 제1 방향(DR1)으로 상기 마스크 시트(MS) 쪽으로 전진하여, 상기 마스크 시트(MS)를 클램핑 한다. 상기 클램핑 유닛(200)은 상기 마스크 시트(MS)의 두께에 대응되는 홈(210)을 갖고, “C” 자 형태일 수 있다. 상기 클램핑 유닛(200)은 상기 비유효 영역(NA)을 클램핑 한다. 상기 클램핑 유닛(200)이 상기 마스크 시트(MS)를 클램핑할 때, 상기 유효 영역(VA)와 상기 비유효 영역(NA)의 평탄도가 변경되지 않도록 유의해야 한다.The clamping unit 200 advances toward the mask sheet MS in the first direction DR1 to clamp the mask sheet MS. The clamping unit 200 may have a groove 210 corresponding to the thickness of the mask sheet MS and may be in a " C " shape. The clamping unit 200 clamps the ineffective area NA. Care must be taken that the flatness of the effective area VA and the non-effective area NA is not changed when the clamping unit 200 clamps the mask sheet MS.

만일, 상기 처짐 방지 유닛(100)가 없다면, 상기 비유효 영역(NA)이 처지게 될 것이다. 이때, 상기 클램핑 유닛(200)은 상기 제1 방향(DR1)으로 전진할 뿐만 아니라, 상기 처진 비유효 영역(NA)을 클램핑하기 위해 상기 제3 방향(DR3)으로도 이동하여야 한다. 상기 클램핑 유닛(200)이 상기 제3 방향(DR3)으로 이동한다면 상기 클램핑 유닛(200)이 상기 마스크 시트(MS)를 클램핑 하였을 때 상기 마스크 시트(MS)의 평탄도를 유지하기 어렵다. 본 발명에서는 상기 처짐 방지 유닛(100)에 의해 상기 비유효 영역(NA)이 처지지 않으므로, 상기 클램핑 유닛(200)이 상기 제1 방향(DR1)으로만 이동하면 되고, 결과적으로, 상기 마스크 시트(MS)의 평탄도를 유지할 수 있다. If there is no sag prevention unit 100, the ineffective area NA will be sagged. At this time, the clamping unit 200 should be moved not only in the first direction DR1 but also in the third direction DR3 in order to clamp the escaping ineffective area NA. It is difficult to maintain the flatness of the mask sheet MS when the clamping unit 200 clamps the mask sheet MS if the clamping unit 200 moves in the third direction DR3. In the present invention, since the ineffective area NA is not sagged by the sag prevention unit 100, the clamping unit 200 only moves in the first direction DR1. As a result, The flatness of the MS can be maintained.

이후, 상기 클램핑 유닛(200)이 상기 마스크 시트(MS)를 클램핑한 상태로 상기 제1 방향(DR1)으로 후진하여 상기 마스크 시트(MS)를 인장한다. 상기 마스크 시트(MS)가 원하는 크기로 신장되면, 상기 마스크 시트(MS)를 상기 마스크 프레임(MF)에 부착시킨다. 이때, 상기 마스크 프레임(MF)의 상면과 맞닿는 상기 유효 영역(VA)의 가장자리(EA)가 상기 마스크 프레임(MF)에 부착된다. 상기 마스크 시트(MS) 상부에 구비된 레이저 조사부(미도시)에서 상기 유효 영역(VA)의 가장자리(EA)를 향해 레이저를 조사하고, 상기 레이저를 이용하여 상기 유효 영역(VA)의 가장자리(EA)가 상기 마스크 프레임(MF)의 상면을 용접할 수 있다. 한편, 이에 제한되는 것은 아니고, 상기 마스크 시트(MS)를 상기 마스크 프레임(MF)에 부착시키는 공정은 다양한 방법이 이용될 수 있다. Thereafter, the clamping unit 200 retracts the mask sheet MS in the first direction DR1 while clamping the mask sheet MS, thereby stretching the mask sheet MS. When the mask sheet MS is stretched to a desired size, the mask sheet MS is attached to the mask frame MF. At this time, an edge (EA) of the effective area VA which abuts on the upper surface of the mask frame MF is attached to the mask frame MF. A laser is irradiated to the edge EA of the effective area VA from a laser irradiator (not shown) provided on the mask sheet MS and the edge EA Can weld the upper surface of the mask frame MF. However, the present invention is not limited thereto, and various methods can be used for the process of attaching the mask sheet MS to the mask frame MF.

이후, 상기 클램핑 유닛(200)이 상기 마스크 시트(MS)를 언클램핑시킨다. 상기 비유효 영역(NA)을 나이프 또는 컷팅기를 이용하여 절단하여 제거한다. Thereafter, the clamping unit 200 unclamps the mask sheet MS. The non-effective area NA is cut and removed using a knife or a cutter.

이하, 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 클램핑 장치를 설명한다. Hereinafter, a mask clamping apparatus according to another embodiment of the present invention will be described.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 클램핑 장치(2000)의 측면도이다. 3 is a side view of a mask clamping apparatus 2000 according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 클램핑 장치(2000)는 일 실시예와 비교하여 처짐 방지 유닛(110)에 차이가 있고, 나머지는 실질적으로 서로 동일하다. 이하에서는, 상기 처짐 방지 유닛(110)를 중심으로 설명하고, 설명되지 않은 부분은 일 실시예에 따른다. The mask clamping apparatus 2000 according to another embodiment of the present invention differs from the one embodiment in the deflection prevention unit 110, and the rest are substantially the same as each other. Hereinafter, the sag prevention unit 110 will be mainly described, and a part not described will be based on one embodiment.

상기 처짐 방지 유닛(110)는 상기 제3 방향(DR3)으로 상기 비유효 영역(NA)의 상부에 배치될 수 있다. 상기 처짐 방지 유닛(110)는 중력 반대 방향, 하부에서 상부 방향의 상기 제3 방향(DR3)으로 기체를 흡입할 수 있다. 상기 기체는 종류에 제한되는 것은 아니고, 예를 들어, 공기일 수 있다. 상기 처짐 방지 유닛(110)에 의해 상기 비유효 영역(NA)의 상면에는 하부에서 상부 방향으로 압력이 가해지고, 상기 비유효 영역(NA)이 처지는 것을 방지할 수 있다. 상기 처짐 방지 유닛(110)는 흡입되는 기체의 속도와 양을 조절할 수 있다. 즉, 상기 처짐 방지 유닛(110)에 의해 상기 비유효 영역(NA) 및 상기 유효 영역(VA)은 상기 제1 방향(DR1) 및 상기 제2 방향(DR2)에 대해 평탄하게 유지될 수 있다. The sag prevention unit 110 may be disposed above the ineffective area NA in the third direction DR3. The slack prevention unit 110 can suck the gas in the third direction DR3, which is the opposite direction of gravity and the lower direction to the upper direction. The gas is not limited to the type, but may be, for example, air. The sagging preventing unit 110 can apply pressure to the upper surface of the ineffective area NA from the lower part to the upper part to prevent sagging of the ineffective area NA. The slack prevention unit 110 can adjust the speed and the amount of the gas to be sucked. That is, the non-effective area NA and the effective area VA can be maintained flat in the first direction DR1 and the second direction DR2 by the sag prevention unit 110. [

상기 처짐 방지 유닛(110)은 상기 클램핑 유닛(200)에 부착될 수 있다. 구체적으로, 상기 처짐 방지 유닛(110)은 상기 클램핑 유닛(200)의 상부에 부착되고, 상기 제1 방향으로 연장될 수 있다. The sag prevention unit 110 may be attached to the clamping unit 200. Specifically, the sag prevention unit 110 is attached to the upper portion of the clamping unit 200 and may extend in the first direction.

이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징으로 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예에는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative and not restrictive in every respect.

1000, 2000: 마스크 클램핑 장치 100, 110: 처짐 방지 유닛
200: 클램핑 유닛 MS: 마스크 시트1000, 2000: mask clamping device 100, 110: deflection prevention unit
200: Clamping unit MS: Mask sheet

Claims (10)

유효 영역 및 비유효 영역을 포함하는 마스크 시트의 상기 비유효 영역을 클램핑하는 클램핑 유닛; 및
기체를 분사하거나 흡입하여 상기 비유효 영역이 처지는 것을 방지하는 처짐 방지 유닛을 포함하는 마스크 클램핑 장치.A clamping unit for clamping the ineffective area of the mask sheet including the effective area and the ineffective area; And
And a sag preventing unit that injects or sucks gas to prevent sagging of the ineffective area. 제1항에 있어서,
상기 유효 영역 및 상기 비유효 영역은 서로 평행한 상태를 유지하는 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치. The method according to claim 1,
Wherein the effective region and the ineffective region maintain a state parallel to each other. 제1항에 있어서,
상기 처짐 방지 유닛은 상기 비유효 영역의 하부에 배치되고, 하부에서 상부 방향으로 상기 기체를 분사하는 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치.The method according to claim 1,
Wherein the sag prevention unit is disposed below the ineffective area and injects the gas upward in the lower direction. 제1항에 있어서,
상기 클램핑 유닛은 상기 마스크 시트와 평행한 방향으로 이동하는 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치. The method according to claim 1,
And the clamping unit moves in a direction parallel to the mask sheet. 제1항에 있어서,
상기 처짐 방지 유닛은 상기 비유효 영역의 상부에 배치되고, 하부에서 상부 방향으로 상기 기체를 흡입하는 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치. The method according to claim 1,
Wherein the sag prevention unit is disposed on the upper side of the ineffective area and sucks the gas in a lower direction to an upper direction. 제5항에 있어서,
상기 처짐 방지 유닛은 상기 클램핑 유닛에 부착된 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치. 6. The method of claim 5,
And the sag prevention unit is attached to the clamping unit. 유효 영역 및 비유효 영역을 포함하는 마스크 시트를 마스크 프레임 상부에 정렬시키는 단계;
상기 비유효 영역에 하부에서 상부 방향으로 압력을 가하여 비유효 영역의 처짐을 방지하는 단계; 및
클램핑 유닛을 상기 마스크 시트에 평행하게 전진시켜 상기 비유효 영역을 클램핑하는 단계를 포함하는 마스크 제조 방법.Aligning a mask sheet comprising a valid region and an ineffective region on top of the mask frame;
Applying pressure to the ineffective area from the bottom to the top to prevent deflection of the ineffective area; And
And advancing the clamping unit parallel to the mask sheet to clamp the ineffective area. 제7항에 있어서,
상기 마스크 프레임과 상기 유효 영역을 용접하는 단계; 및
상기 비유효 영역을 제거하는 단계를 더 포함하는 마스크 제조 방법.8. The method of claim 7,
Welding the mask frame and the effective area; And
And removing the non-effective region. 제7항에 있어서,
상기 비유효 영역의 처짐을 방지하는 단계는,
상기 비유효 영역의 하부에 배치된 처짐 방지 유닛을 이용하여 상기 비유효 영역의 하부에서 상부 방향으로 기체를 분사하는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법. 8. The method of claim 7,
The step of preventing deflection of the ineffective area includes:
And a gas is sprayed upward from a lower portion of the ineffective region using a sag prevention unit disposed below the ineffective region. 제7항에 있어서,
상기 비유효 영역의 처짐을 방지하는 단계는,
상기 비유효 영역의 상부에 배치된 처짐 방지 유닛을 이용하여 상기 비유효 영역의 하부에서 상부 방향으로 기체를 흡입하는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법. 8. The method of claim 7,
The step of preventing deflection of the ineffective area includes:
And the gas is sucked upward from the lower portion of the ineffective region by using the sag prevention unit disposed on the upper side of the ineffective region.
KR1020130079864A 2013-07-08 2013-07-08 Apparatus for clamping mask and manufacturing method of mask KR102131659B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130079864A KR102131659B1 (en) 2013-07-08 2013-07-08 Apparatus for clamping mask and manufacturing method of mask
US14/172,013 US9500962B2 (en) 2013-07-08 2014-02-04 Mask clamping apparatus and method of manufacturing mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130079864A KR102131659B1 (en) 2013-07-08 2013-07-08 Apparatus for clamping mask and manufacturing method of mask

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150006529A true KR20150006529A (en) 2015-01-19
KR102131659B1 KR102131659B1 (en) 2020-07-09

Family

ID=52132622

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130079864A KR102131659B1 (en) 2013-07-08 2013-07-08 Apparatus for clamping mask and manufacturing method of mask

Country Status (2)

Country Link
US (1) US9500962B2 (en)
KR (1) KR102131659B1 (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015069806A (en) * 2013-09-27 2015-04-13 株式会社ジャパンディスプレイ Manufacturing method for organic electroluminescent display device
CN103882375B (en) * 2014-03-12 2016-03-09 京东方科技集团股份有限公司 A kind of mask plate and preparation method thereof
CN105945465A (en) * 2016-06-29 2016-09-21 京东方科技集团股份有限公司 Device and method for welding mask
KR102440363B1 (en) * 2017-08-11 2022-09-05 삼성전자주식회사 Film frame, display substrate manufacturing system and display substrate manufacturing method
CN107604309B (en) * 2017-11-06 2023-09-15 京东方科技集团股份有限公司 Mask plate attaching device and attaching method thereof
EP3693492A1 (en) 2019-02-06 2020-08-12 Dainippon Printing Co., Ltd. Deposition mask apparatus, mask support mechanism, and production method for deposition mask apparatus
CN110055492B (en) * 2019-04-09 2021-03-23 Tcl华星光电技术有限公司 Mask piece forming structure
KR20220030437A (en) 2020-08-31 2022-03-11 삼성디스플레이 주식회사 Mask, method of manufacturing the same, and method of manufacturing display panel

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010070780A (en) * 2001-06-07 2001-07-27 박용석 Delivering apparatus for glass substarte for liquid crystal display
JP2003156860A (en) * 1993-06-02 2003-05-30 Sanee Giken Kk Aligning device for exposure
JP2006164815A (en) * 2004-12-09 2006-06-22 Dainippon Printing Co Ltd Metal mask unit and its manufacturing method

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3110341C2 (en) * 1980-03-19 1983-11-17 Hitachi, Ltd., Tokyo Method and apparatus for aligning a thin substrate in the image plane of a copier
JP3402681B2 (en) * 1993-06-02 2003-05-06 サンエー技研株式会社 Positioning method in exposure
US7196775B2 (en) * 2004-08-23 2007-03-27 Asml Holding N.V. Patterned mask holding device and method using two holding systems
KR100671658B1 (en) * 2005-01-05 2007-01-19 삼성에스디아이 주식회사 Mask frame and method for fixing a mask on the mask frame
KR20060102093A (en) 2005-03-22 2006-09-27 엘지전자 주식회사 Apparatus and method of clamping mask for organic electro luminescence display device
KR100794930B1 (en) 2006-12-06 2008-01-15 아프로시스템 주식회사 Roller shaft sagging prevention apparatus of glass for flat panel display using of compressed air
KR101318229B1 (en) 2006-12-28 2013-10-16 엘지디스플레이 주식회사 Apparatus for fabricating light emitting display device
KR100947442B1 (en) * 2007-11-20 2010-03-12 삼성모바일디스플레이주식회사 Apparatus for fabricating mask of vertical deposition and Fabrication Method for making a mask of vertical deposition
JP2010084205A (en) * 2008-09-30 2010-04-15 Canon Anelva Corp Holding mechanism, processing apparatus with the holding mechanism, deposition method using processing apparatus, and method of manufacturing image display device
KR101117645B1 (en) * 2009-02-05 2012-03-05 삼성모바일디스플레이주식회사 Mask Assembly and Deposition Apparatus using the same for Flat Panel Display

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003156860A (en) * 1993-06-02 2003-05-30 Sanee Giken Kk Aligning device for exposure
KR20010070780A (en) * 2001-06-07 2001-07-27 박용석 Delivering apparatus for glass substarte for liquid crystal display
JP2006164815A (en) * 2004-12-09 2006-06-22 Dainippon Printing Co Ltd Metal mask unit and its manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
KR102131659B1 (en) 2020-07-09
US20150009483A1 (en) 2015-01-08
US9500962B2 (en) 2016-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20150006529A (en) Apparatus for clamping mask and manufacturing method of mask
US11569487B2 (en) Mask assembly, apparatus and method of manufacturing display device using the same, and display device
US8848334B2 (en) Electrostatic chuck
KR101127578B1 (en) Apparatus for thin layer deposition, method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same, and organic light emitting display apparatus manufactured by the method
US20160133838A1 (en) Manufacturing flexible organic electronic devices
KR20090052155A (en) Organic lighting emitting display device
KR102424976B1 (en) A mask assembly, apparatus and method for manufacturing a display apparatus using the same
US20170104158A1 (en) Vapor deposition method and vapor deposition apparatus
JP2014118633A (en) Vapor deposition apparatus, thin film formation method, and manufacturing method of organic light-emitting display device
KR20090059225A (en) Division mask
KR102154706B1 (en) Deposition apparatus, method for manufacturing organic light emitting display apparatus using the same, and organic light emitting display apparatus manufactured by the same
JP5557653B2 (en) Thin film deposition apparatus and organic light emitting display device manufacturing method using the same
KR102131118B1 (en) Mask for forming semiconductor pattern and apparatus for forming semiconductor pattern having the same and method for manufacturing semiconductor device using the same
US11637271B2 (en) Manufacturing flexible organic electronic devices
JP2007200735A (en) Evaporate method and device of organic compound
JP6857522B2 (en) Film formation method, manufacturing method of electronic equipment, and mask holder
KR20110064249A (en) Evaporation apparatus for organic light emitting display
KR102314487B1 (en) Deposition apparatus and method for depositing using the same
EP4343017A2 (en) Mask stage and mask manufacturing apparatus having the same
KR20090072881A (en) Method and apparatus for fabricating of organicelectro-luminescence display device
KR102141855B1 (en) Mask align apparatus
KR20150068022A (en) Mask for depositing organic material and appratus for depositing organic material including the same
KR102524532B1 (en) Controlling method for deposition apparatus and method for manufacturing display apparatus using the same
KR20110064716A (en) Transcripting device in using thermal transfer process
KR20110119382A (en) Removal apparatus of residual material from the substrate for display device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant