KR20150000129A - 글라스 기판의 유분을 제거하기 위한 세정액 - Google Patents

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Abstract

기술분야
터치 스크린 패널에 사용되는 글라스 세정액에 관한 것으로 글라스 표면에 존재할 수 있는 유분 및 파티클과 같은 불술물을 제거하기 위한 글라스 세정액 조성물.
해결하고자하는 과제
테트라메틸암모늄히드록사이드 희석액 및 계면 활성제를 포함하고 있는 세정제를 사용함므로 써 발생되는 기포를 억제하고 글라스 표면에 존재하는 유분 및 파티클을 단시간 내에 세정을 통해 생산성 향상을 하기 위한 글라스 세정 조성물.
과제의 해결 수단
본 발명은 터치 스크린 패널 글라스 세정을 위한 조성물로서 본 발명은 무기염류와 아민류를 주 성분으로 표면 세정력을 향상 시키기 위해서 계면 활성제, 알코올류, 아민계, 소포제를 사용하는 것을 특징으로 하고 있다.
무기염류 0.1-20중량%, 아민류0.1-20중량% 범위일 때 세정력 및 생산성 향상 면에서 바람직하다.
발명의 효과
기포를 억제하여 미세 공정에서 까지의 글라스 세정이 가능하고 단 시간 내에 유분 및 파티클이 제거 될수 있다는 장점을 가지고있다.
또한 5배 희석을 통해서도 세정 능력이 지속되어 제조 원가 절감 및 생산성 향상을 시킬 수 있다.

Description

글라스 기판의 유분을 제거하기 위한 세정액{Cleaning solvent to remove the oil in the glass substrate}
본 발명은 터치 스크린 패널에 보편적으로 사용되는 글라스 세정액에 관한 것으로 글라스 표면에 존재할 수 있는 유분 및 파티클과 같은 불순물을 제거하기 위한 글라스 세정액 조성물에 관한 것이다.
글라스 세정액의 기존 조성물은 유분 및 파티클을 제거하기 위하여 테트라메틸암모늄히드록사이드 희석액, 에탄올 또는 이소프로필알코올, 계면 활성제을 사용하였으나 계면 활성제을 함유하는 세정액의 경우 기포가 많이 발생 하여 미세 회로 세정이 어렵다는 문제점이 있었다.
또한 터치 스크린 패널은 전자적인 특성으로 미세 파티클까지 세정하지 않고 다음 공정을 진행하게 되면 수율 저하의 원인이 되어 미세 파티클까지의 세정이 필요하지만 테트라메틸암모늄히드록사이드 희석액 및 계면 활성제를 포함하고 있는 세정제를 사용하므로 인해 미세입자까지의 제거가 힘들다는 문제점이 있었다.
대한민국 공개특허 2011-0047693호에서는 터펜계 오일에 알킬렌옥사이드가 부가된 비온성 계면활성제, 다가알코올계 화합물, 알칼리 금속수산화물 및 물을 포함하는 유리기판용 세정제 조성물을 교시하였다.
본 발명은 상기와 같이 테트라메틸암모늄히드록사이드 희석액 및 계면 활성제를 포함하고 있는 세정제를 사용하므로 써 발생되는 기포를 억제하고 미세부분까지 세정할 수 있으며 글라스 표면에 존재하는 유분 및 파티클을 단시간 내에 세정을 통해 생산성 향상을 하기 위한 글라스 세정 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 터치 스크린 패널 글라스 세정을 위한 조성물로서 본 발명은 테트라에틸암모늄히드록사이드(Tetraethylammonium hydroxide), 테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide)의 무기염류와 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4), 아미노프로필아민(C6H17N3), 디에틸에틸렌디아민(C6H16N2)의 아민류를 주 성분으로 표면 세정력을 향상 시키기 위해서 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르의 계면 활성제, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether), 디프로필렌그리콜(Diprophyleneglycol), 디에틸렌글리콜모노에틸에테르(Diethyleneglycolmonoethylether)의 알코올류, N-메틸포름아미드(C2H5NO), N-메틸트리플루오르아세트아미드(C3H4F3NO), N-에틸포름아미드(C3H7NO), N,N-디메틸포름아미드(C3H7NO)의 아민계, 소포제를 사용하는 것을 특징으로 하고 있다.
무기염류 0.1-20중량%, 아민류0.1-20중량% 범위일 때 세정력 및 생산성 향상 면에서 바람직하다.
본 발명은 종래 테트라메틸암모늄히드록사이드 희석액, 에탄올 또는 이소프로필알코올, 계면 활성제을 사용하므로 인해 발생하는 기포를 억제하여 미세 공정에서 까지의 글라스 세정이 가능 하고 단 시간 내에 유분 및 파티클이 제거 될 수 있다는 장점을 가지고 있다.
또한 5배 희석을 통해서도 세정 능력이 지속되어 제조 원가 절감 및 생산성 향상을 시킬 수 있고 환경적으로 유리하다는 장점을 가지고 있다.
제 1도는 본 발명의 실시 예로 세정 후 시편의 세정 정도를 나타내는 도면이다.
제 2도는 실시 예9에 대한 접촉각 사진이다.
실시예1
테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 10중량%, N-메틸포름아미드(C2H5NO) 25중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 1에 기재하였다.
실시예2
테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 10중량%, N-메틸포름아미드(C2H5NO) 25중량%, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 1중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 1에 기재하였다.
실시예3
테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 10중량%, 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4) 3중량%, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 1중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 1에 기재하였다.
실시예4
테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 10중량%, 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4) 3중량%, 폴리옥시에틸렌알킬에테르 1중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 1에 기재하였다.
실시예5
테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 10중량%, 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4) 3중량%, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 3중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표1, 표3, 표4에 기재하였다.
실시예6
테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 10중량%, 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4) 3중량%, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 3중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조 후 5배 희석한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 1에 기재하였다.
실시예7
테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 5중량%, 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4) 15중량%, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 1중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표1, 표3, 표4에 기재하였다.
실시예8
테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 5중량%, 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4) 15중량%, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 1중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조 후 5배 희석한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 1에 기재하였다.
실시예9
테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 5중량%, 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4) 15중량%, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 1중량%, 소포제(BAN810G) 1중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표1, 표3, 표4에 기재하였다.
실시예10
테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 5중량%, 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4) 15중량%, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 1중량%, 소포제(BAN810G) 1중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조 후 5배 희석한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 1에 기재하였다.
실시예11
테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 5중량%, 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4) 15중량%, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 1중량%, 소포제(BAN642) 1중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 1에 기재하였다.
비교예1
트리에틸렌테트라아민(C6H15N4) 10중량%, 수산화칼륨(KOH) 5중량%, N-메틸포름아미드(C2H5NO) 10중량%, 소포제(BAN642) 1중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 2에 기재하였다.
비교예2
디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 15중량%, 수산화칼륨(KOH) 5중량%, N-메틸포름아미드(C2H5NO) 10중량%, 소포제(BAN642) 1중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 2에 기재하였다.
비교예3
디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 15중량%, 수산화칼륨(KOH) 10중량%, N-메틸포름아미드(C2H5NO) 5중량%, 소포제(BAN642) 1중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 2에 기재하였다.
비교예4
디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethyleneglycolmonobuthylether) 15중량%, 수산화칼륨(KOH) 5중량%, 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4) 10중량%, 소포제(BAN642) 1중량%, 테트라에틸암모늄히드록사이드(Tetraethylammonium hydroxide) 5중량% 나머지 잔량의 초순수를 첨가하여 100중량%가 되도록 세정액을 제조한다. 유분 제거력를 보기 위해 절삭유를 도포 후 60℃로 baking한다. 세정 공정은 30℃에서 5분동안 수행한다. 결과는 하기 표 2에 기재하였다.
표1
Figure pat00001
TETA: Triethylenetetramine
BDG: Diethyleneglycolmonobutylether
TMAH: Tetramethylammonium hydroxide
NMF: N-methylformamide
NP1019: Polyoxyetheylenenonylphenylether
LE1017: Polyoxyethylene lauryl ether
표2
Figure pat00002
TETA: Triethylenetetramine
MEDG: Diethyleneglycolmethylethylether
BDG: Diethyleneglycolmonobutylether
KOH: Potassiumhydroxide
TMAH: Tetramethylammonium hydroxide
NMF: N-methylformamide
표3
Figure pat00003
표4
Figure pat00004
파티클 수는 표면입자측정기로 0.3㎛ 이상의 파티클 측정.

Claims (9)

  1. 무기염류 0.1-20중량%, 계면 활성제 0.1-15중량%, 아민류 0.1-20중량%, 아미드계 0.1-40중량%, 알코올류 0.1-15중량%, 소포제 0.1-5중량% 및 잔량의 초순수를 첨가하여 총 중량이 100중량%가 되는 글라스 세정용 조성물.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 무기염류는 테트라에틸암모늄히드록사이드(Tetraethylammonium hydroxide), 테트라메틸암모늄히드록사이드(Tetramethylammonium hydroxide) 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 하나 이상을 포함하는 글라스 세정용 조성물.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 계면 활성제는 비이온계면활성제 폴리에틸렌글리콜모노에테르, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, 폴리옥시에틸렌글리콜, 음이온계면활성제 폴리옥시에틸렌알킬포스페이트, 디옥틸나트륨설포석시네이트 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 하나 이상을 포함하는 글라스 세정용 조성물.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 계면 활성제는 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것이 바람직한 글라스 세정용 조성물.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 아민류는 트리에틸렌테트라아민(C6H15N4), 아미노프로필아민(C6H17N3), 디에틸에틸렌디아민(C6H16N2) 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 하나 이상을 포함하는 글라스 세정용 조성물.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 아미드계는 N-메틸포름아미드(C2H5NO), N-메틸트리플루오르아세트아미드(C3H4F3NO), N-에틸포름아미드(C3H7NO), N,N-디메틸포름아미드(C3H7NO) 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 하나 이상을 포함하는 글라스 세정용 조성물.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 알코올류는 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(Diethylene glycol monobuthyl ether), 디에틸렌글리콜모노에틸에테르(Diethylene glycol monoethyl ether), 디프로필렌그리콜(Diprophyleneglycol), 디에틸렌글리콜모노메틸에테르(Diethylene glycol monomethyl ether) 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 하나 이상을 포함하는 글라스 세정용 조성물.
  8. 제 1항에 있어서,
    세정 조성물 PH 9~13로 Residue 재 흡착을 방지하는 것을 특징으로 하는 글라스 세정용 조성물.
  9. 제 1항에 있어서,
    세정 조성물은 10배 초순수 희석하여도 글라스 세정 효과가 지속되는 것을 특징으로 하는 글라스 세정용 조성물.
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