KR20140147047A - 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 - Google Patents
알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 Download PDFInfo
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Abstract
본 명세서는 신규한 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 수지 조성물을 제공한다. 보다 구체적으로, 본 명세서의 알칼리 가용성 수지는, 산기를 포함하는 모노머; 불포화 에틸렌성 모노머; 및 티올계 화합물을 열중합하여 제조되는 것을 특징으로 한다.
Description
본 출원은 2013년 6월 18일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제10-2013-0069820호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.
본 명세서는 신규한 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
감광성 수지 조성물은 기판 상에 도포되어 도막을 형성하고, 이 도막의 특정 부분에 포토마스크 등을 이용하여 광조사에 의한 노광을 실시한 후, 비노광부를 현상 처리하여 제거함으로써 패턴을 형성하는데 사용될 수 있다. 이러한 감광성 수지 조성물은 광을 조사하여 중합하고 경화시키는 것이 가능하므로, 광경화성 잉크, 감광성 인쇄판, 각종 포토레지스트, LCD용 컬러필터 포토레지스트, 수지 블랙 매트릭스용 포토레지스트, 투명 감광재 등에 이용되고 있다.
감광성 수지 조성물에서 알칼리 가용성 수지는 기판과의 접착력을 갖게 하여 코팅이 가능하게 하고, 알칼리 현상액에 녹아서 미세 패턴의 형성을 가능하게 하며, 동시에 얻어진 패턴에 강도를 갖게 하여 후처리 공정시 패턴이 깨지는 것을 막아주는 역할을 한다. 또한, 내열성 및 내약품성에도 큰 영향을 미친다.
최근, LCD 시장에서는 기존보다 더 높은 콘트라스트 및 휘도가 요구되고 있는 실정이다. 이 중 휘도 개선을 위하여 종래에는 기존에 널리 알려져 있는 안료를 사용하여 미립화 시키거나 분산성 개선 및 분산조제를 변경하여 휘도 개선을 꾀하였으나, 최근에 요구되는 휘도 수준을 구현하기에는 한계에 이르게 되었다. 그리하여, 최근 들어서는 염료를 적용하여 휘도 개선을 시도하는 노력이 계속되고 있다.
그러나, 염료를 적용하는 경우, 패턴 형성을 위해 노광 후 알칼리 현상액으로 현상시 안료 대비 좋은 용해도로 인하여 염료가 씻겨 나가는 경우가 많으며, 패턴 위 또는 기판 위에 잔사 및 염료 뭉침성 돌기가 발생하는 경우가 많다.
본 명세서는 신규한 알칼리 가용성 수지를 제공하고, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공하고자 한다.
본 명세서의 일 구현예는,
산기를 포함하는 모노머;
불포화 에틸렌성 모노머; 및
하기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 티올계 화합물을 열중합하여 제조되는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지를 제공한다.
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
상기 화학식 1 및 3에서, R1 내지 R4 중 적어도 세 개, 및 R8 내지 R13 중 적어도 세 개는 하기 화학식 4로 표시되고, 나머지는 각각 독립적으로 수소; 할로겐기; 탄소수 1 내지 25의 치환 또는 비치환된 알킬기; 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기로 이루어진 군에서 선택되고,
상기 화학식 2에서, R5 내지 R7은 하기 화학식 4로 표시되며,
[화학식 4]
상기 화학식 4에서, R14는 직접결합; 또는 탄소수 1 내지 5의 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고,
R15는 수소; 할로겐기; 또는 탄소수 1 내지 25의 치환 또는 비치환된 알킬기이다.
또한, 본 명세서의 일 구현예는, 상기 분지형 알칼리 가용성 수지, 염료 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
본 명세서의 분지형 알칼리 가용성 수지는 2차 또는 3차 티올계 화합물을 포함하여 소수성의 성질을 가지므로, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물은 알칼리 현상액에 의한 현상 공정시 패턴 탈락 및 염료 용출성이 적은 장점이 있다.
또한, 본 명세서의 분지형 알칼리 가용성 수지를 포함하는 감광성 수지 조성물은 알칼리 현상액에 의한 현상 공정시 패턴 위 또는 기판 위의 잔사 및 염료 뭉침성 돌기의 발생이 적은 장점이 있다.
이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.
본 명세서의 일 구현예는, 산기를 포함하는 모노머; 불포화 에틸렌성 모노머; 및 상기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 티올계 화합물을 열중합하여 제조되는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지를 제공한다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 산기를 포함하는 모노머, 불포화 에틸렌성 모노머 및 티올계 화합물을 열중합하는 경우에는 열중합 개시제를 이용할 수 있다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 티올계 화합물은 2차 또는 3차 티올계 화합물일 수 있다. 보다 구체적으로, 본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 화학식 1의 R1 내지 R4 중 적어도 세 개가 상기 화학식 4로 표시될 수 있고, 모두가 상기 화학식 4로 표시될 수 있다. 또한, 상기 화학식 3의 R8 중 R13 중 적어도 세 개가 상기 화학식 4로 표시될 수 있고, 적어도 네 개가 상기 화학식 4로 표시될 수 있으며, 적어도 다섯 개가 상기 화학식 4로 표시될 수 있고, 모두가 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.
상기 화학식 1 내지 4의 치환기들의 예시들은 아래에서 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 "치환 또는 비치환된"이라는 용어는 중수소; 할로겐기; 알킬기; 아릴기; 또는 헤테로아릴기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환되었거나 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다. 이들 치환기는 추가로 치환기를 가질 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 할로겐기는 플루오르, 염소, 브롬, 요오드 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 25인 것이 바람직하다. 일 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 10이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 6이다. 상기 알킬기의 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-프로필기, 이소프로필기, 부틸기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, 1-메틸-부틸기, 1-에틸-부틸기, 펜틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 헥실기, n-헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 3,3-디메틸부틸기, 2-에틸부틸기, 헵틸기, n-헵틸기, 1-메틸헥실기, 시클로펜틸메틸기, 시클로헥틸메틸기, 옥틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, 1-메틸헵틸기, 2-에틸헥실기, 2-프로필펜틸기, n-노닐기, 2,2-디메틸헵틸기, 1-에틸-프로필기, 1,1-디메틸-프로필기, 이소헥실기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 아릴기는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 6 내지 30인 것이 바람직하며, 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 20이다. 상기 아릴기가 단환식 아릴기로는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트릴기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 플루오레닐기는 치환될 수 있고, 치환기 2개가 서로 결합하여 스피로 구조를 형성할 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 헤테로아릴기는 이종 원소로 O, N, S 및 Si 중 1개 이상을 포함하는 헤테로아릴기로서, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 2 내지 30인 것이 바람직하다. 상기 헤테로아릴기의 예로는 티오펜기, 퓨란기, 피롤기, 이미다졸기, 티아졸기, 옥사졸기, 옥사디아졸기, 트리아졸기, 피리딜기, 비피리딜기, 피리미딜기, 트리아진기, 트리아졸기, 아크리딜기, 피리다진기, 피라지닐기, 퀴놀리닐기, 퀴나졸린기, 퀴녹살리닐기, 프탈라지닐기, 피리도 피리미디닐기, 피리도 피라지닐기, 피라지노 피라지닐기, 이소퀴놀린기, 인돌기, 카바졸기, 벤조옥사졸기, 벤조이미다졸기, 벤조티아졸기, 벤조카바졸기, 벤조티오펜기, 디벤조티오펜기, 벤조퓨라닐기, 페난쓰롤린기(phenanthroline), 티아졸릴기, 이소옥사졸릴기, 옥사디아졸릴기, 티아디아졸릴기, 벤조티아졸릴기, 페노티아지닐기 및 디벤조퓨라닐기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 알킬렌기는 2가기인 것을 제외하고는 전술한 알킬기에 관한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 티올계 화합물은 하기 화학식 5 내지 8 중 어느 하나로 표시되는 화합물 중 1종 이상을 포함할 수 있다.
[화학식 5]
[화학식 6]
[화학식 7]
[화학식 8]
종래의 알칼리 가용성 수지는 고분자 사슬이 선형 구조를 형성하는 반면에, 본 출원의 일 실시상태에 따른 알칼리 가용성 수지는 상기 티올계 화합물을 포함함으로써 하기와 같은 분지형 구조를 형성할 수 있는 특징이 있다. 특히, 본 출원의 일 실시상태에 따른 알칼리 가용성 수지는 2차 이상의 티올계 화합물을 포함함으로써 보다 우수한 효과를 나타낼 수 있다. 또한, 본 출원의 일 실시상태에 따른 알칼리 가용성 수지는 염료가 적용되는 감광성 수지 조성물에 보다 바람직하게 적용될 수 있다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 분지형 알칼리 가용성 수지의 중량 평균 분자량은 3,000 내지 50,000 일 수 있고, 5,000 내지 30,000 일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 산기를 포함하는 모노머는 (메타)아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 모노메틸 말레인산, 이소프렌 술폰산, 스티렌 술폰산, 5-노보넨-2-카르복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 숙시네이트, 및 ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메타)아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 불포화 에틸렌성 모노머는 불포화 카르복시산 에스테르류 모노머, 방향족 비닐류 모노머, 불포화 에테르류 모노머, N-비닐 삼차아민류 모노머, 불포화 이미드류 모노머 및 무수 말레산류 모노머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 불포화 카르복시산 에스테르류 모노머는 벤질(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트,이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메틸에테르(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필(메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 부틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 디시클로펜타닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 옥시에틸 (메타)아크릴레이트 및 디시클로펜테닐 옥시에틸 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 방향족 비닐류 모노머는 스티렌, α-메틸스티렌, (o,m,p)-비닐 톨루엔, (o,m,p)-메톡시 스티렌 및 (o,m,p)-클로로 스티렌으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 불포화 에테르류 모노머는 비닐 메틸 에테르 및 비닐 에틸 에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 N-비닐 삼차아민류 모노머는 N-비닐 피롤리돈, N-비닐 카바졸 및 N-비닐 모폴린으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 불포화 이미드류 모노머는 N-페닐 말레이미드, N-(4-클로로페닐) 말레이미드, N-(4-히드록시페닐) 말레이미드 및 N-시클로헥실 말레이미드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 무수 말레산류 모노머는 무수 말레인산 및 무수 메틸 말레인산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 열중합 개시제는 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 2,2'-아조비스-(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스-(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴), 벤조일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시피발레이트 및 1,1'-비스-(비스-t-부틸퍼옥시)시클로헥산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 분지형 알칼리 가용성 수지 100 중량부를 기준으로, 상기 산기를 포함하는 모노머 4 내지 50 중량부; 상기 불포화 에틸렌성 모노머 30 내지 95 중량부; 및 상기 티올계 화합물 1 내지 20 중량부를 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 산기를 포함하는 모노머의 함량이 분지형 알칼리 가용성 수지 100 중량부를 기준으로 4 중량부 미만인 경우에는 현상이 잘 되지 않으며, 50 중량부를 초과하는 경우에는 과현상이 되어서 패턴 탈락 문제가 발생할 수 있다. 또한, 상기 티올계 화합물의 함량이 분지형 알칼리 가용성 수지 100 중량부를 기준으로 1 중량부 미만인 경우에는 티올계 화합물의 도입 효과가 적어서 현상 공정시 잔사 및 염료 용출 개선 효과가 미미하게 되며, 20 중량부를 초과하는 경우에는 합성된 고분자의 분자량이 많이 작아져서 패턴의 물성이 저하될 수 있다.
본 명세서의 일 구현예는 상기 분지형 알칼리 가용성 수지를 바인더 수지로 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
본 명세서의 상기 알칼리 가용성 수지를 포함하는 감광성 수지 조성물은 분지형의 고분자로서, 선형 타입의 알칼리 가용성 수지에 비하여 염료 및 안료에 대한 바인딩 효과를 높이게 되어 패턴 형성을 위해 노광 후 알칼리 현상액으로 현상시, 알칼리 현상액에 의한 염료 용출 현상을 대폭 완화할 수 있다. 나아가, 패턴 위 또는 기판 위의 잔사 및 염료 뭉침성 돌기의 발생을 개선하는 효과도 있다. 나아가, 본 명세서의 티올 화합물, 구체적으로 2차 또는 3차 티올 화합물은, 중합 후 미반응 티올 화합물이 잔존했을 때 감광성 수지 조성물 상에서의 보관 안정성이 일차 티올에 비하여 현저하게 개선되는 특징이 있을 수 있다. 나아가, 본 명세서의 상기 감광성 수지 조성물은 형성된 막에 소수화를 부여하여 알칼리 현상액에 대한 막의 내부 침투를 줄여줌으로써 염료 용출현상을 개선하는 효과를 얻을 수 있다. 상기의 소수화는 2차 티올 구조에 의하여 강화되는 것으로서 1차 티올을 사용한 알칼리 가용성 수지에 비하여 알칼리 현상액에 대한 염료 용출을 방지할 수 있는 기능을 할 수 있다. 또한 분지형 구조로 인해 현상시 염료 잔사를 줄여주는 기능을 한다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물은 열가소성 또는 열경화성 수지 조성물일 수 있다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물은 상기 분지형 알칼리 가용성 수지 외에 불포화 에틸렌성 모노머; 열중합 개시제 또는 광중합 개시제; 안료 및 염료 중 1종 이상; 및 용매를 더 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물에 포함되는 불포화 에틸렌성 모노머 및 열중합 개시제는 전술한 바와 같을 수 있다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 용매는 메틸 에틸 케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸 에틸 에테르, 2-에톡시 프로판올, 2-메톡시 프로판올, 3-메톡시 부탄올, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸 셀로솔브아세테이트, 부틸 아세테이트, 디프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 또는 이들의 1종 이상 혼합물일 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물은 안료, 염료, 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 염료는 피라졸아조계, 아닐리노아조계, 아릴아조계, 피라졸로트리아졸아조계, 피리돈아조계, 트리페닐메탄계, 안트라퀴논계, 안스라피리돈계, 벤지리덴계, 옥소놀계, 시아닌계, 폴리메틴계, 페노티아진계, 피롤로피라졸아조메틴계, 크산텐계, 프탈로시아닌계, 키노프탈론계, 벤조피란계, 인디고계, 디옥사딘계, 쿠마린계, 스쿠아릴륨계 등으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.
또한, 흑색 안료로는 카본 블랙, 흑연, 티탄 블랙 등과 같은 금속산화물 등을 사용할 수 있다. 카본 블랙의 예로는 시스토 5HIISAF-HS, 시스토 KH, 시스토 3HHAF-HS, 시스토 NH, 시스토 3M, 시스토 300HAF-LS, 시스토 116HMMAF-HS, 시스토 116MAF, 시스토 FMFEF-HS, 시스토 SOFEF, 시스토 VGPF, 시스토 SVHSRF-HS 및 시스토 SSRF(동해카본 ㈜) ; 다이어그램 블랙 II, 다이어그램 블랙 N339, 다이어그램 블랙 SH, 다이어그램 블랙 H, 다이어그램 LH, 다이어그램 HA, 다이어그램 SF, 다이어그램 N550M, 다이어그램 M, 다이어그램 E, 다이어그램 G, 다이어그램 R, 다이어그램 N760M, 다이어그램 LR, #2700, #2600, #2400, #2350, #2300, #2200, #1000, #980, #900, MCF88, #52, #50, #47, #45, #45L, #25, #CF9, #95, #3030, #3050, MA7, MA77, MA8, MA11, MA100, MA40, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B 및 OIL31B(미쯔비시화학㈜) ; PRINTEX-U, PRINTEX-V, PRINTEX-140U, PRINTEX-140V, PRINTEX-95, PRINTEX-85, PRINTEX-75, PRINTEX-55, PRINTEX-45, PRINTEX-300, PRINTEX-35, PRINTEX-25, PRINTEX-200, PRINTEX-40, PRINTEX-30, PRINTEX-3, PRINTEX-A, SPECIAL BLACK-550, SPECIAL BLACK-350, SPECIAL BLACK-250, SPECIAL BLACK-100, 및 LAMP BLACK-101(대구사㈜); RAVEN-1100ULTRA, RAVEN-1080ULTRA, RAVEN-1060ULTRA, RAVEN-1040, RAVEN-1035, RAVEN-1020, RAVEN-1000, RAVEN-890H, RAVEN-890, RAVEN-880ULTRA, RAVEN-860ULTRA, RAVEN-850, RAVEN-820, RAVEN-790ULTRA, RAVEN-780ULTRA, RAVEN-760ULTRA, RAVEN-520, RAVEN-500, RAVEN-460, RAVEN-450, RAVEN-430ULTRA, RAVEN-420, RAVEN-410, RAVEN-2500ULTRA, RAVEN-2000, RAVEN-1500, RAVEN-1255, RAVEN-1250, RAVEN-1200, RAVEN-1190ULTRA, RAVEN-1170(콜롬비아 카본㈜) 또는 이들의 혼합물 등이 있다. 또한, 색깔을 띄는 착색제의 예로는 카민 6B(C.I.12490), 프탈로시아닌 그린(C.I. 74260), 프탈로시아닌 블루(C.I. 74160), 페릴렌 블랙(BASF K0084. K0086), 시아닌 블랙, 리놀옐로우(C.I.21090), 리놀 옐로우GRO(C.I. 21090), 벤지딘 옐로우4T-564D, 빅토리아 퓨어 블루(C.I.42595), C.I. PIGMENT RED 3, 23, 97, 108, 122, 139, 140, 141, 142, 143, 144, 149, 166, 168, 175, 177, 180, 185, 189, 190, 192, 202, 214, 215, 220, 221, 224, 230, 235, 242, 254, 255, 260, 262, 264, 272; C.I. PIGMENT GREEN 7, 36; C.I. PIGMENT blue 15:1, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 28, 36, 60, 64; C.I. PIGMENT yellow 13, 14, 35, 53, 83, 93, 95, 110, 120, 138, 139, 150, 151, 154, 175, 180, 181, 185, 194, 213; C.I. PIGMENT VIOLET 15, 19, 23, 29, 32, 37 등이 있고, 이 밖에 백색 안료, 형광 안료 등도 이용할 수 있다. 안료로 사용되는 프탈로시아닌 계 착화합물로는 구리 외에 아연을 중심 금속으로 하는 물질도 사용 가능하다.
본 명세서의 상기 염료는 안료에 비하여 용해도가 높아서 분산제, 분산조제 등을 사용하지 않을 수 있는 장점이 있다. 또한, 본 명세서의 상기 염료는 몰흡광 계수가 높아서 적은 사용량으로도 원하는 색을 얻을 수 있으므로, 높은 휘도를 구현할 수 있다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 광중합 개시제는 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시페닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시스티릴)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(피플로닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(3',4'-디메톡시페닐)-6-트리아진, 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오} 프로판산 등의 트리아진 화합물; 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 등의 비이미다졸 화합물; 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)-페닐 (2-히드록시)프로필 케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐 케톤, 2,2-디메톡시-2-페닐 아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-몰폴리노-1-프로판-1-온(Irgacure-907), 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온 등의 아세토페논계 화합물(Irgacure-369); CibaGeigy 사의 Irgacure OXE 01, Irgacure OXE 02와 같은 O-아실옥심계 화합물, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 2,4-디에틸 티옥산톤, 2-클로로 티옥산톤, 이소프로필 티옥산톤, 디이소프로필 티옥산톤 등의 티옥산톤계 화합물; 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일) 프로필 포스핀 옥사이드 등의 포스핀 옥사이드계 화합물; 3,3'-카르보닐비닐-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-(2-벤조티아졸일)-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시-쿠마린, 10,10'-카르보닐비스[1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라하이드로-1H,5H,11H-Cl]-벤조피라노[6,7,8-ij]-퀴놀리진-11-온 등의 쿠마린계 화합물 또는 이들의 1종 이상 혼합물일 수 이다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부를 기준으로, 상기 분지형 알칼리 가용성 수지 1 내지 20 중량부; 상기 불포화 에틸렌성 모노머 0.5 내지 30 중량부; 상기 열중합 개시제 또는 광중합 개시제 0.1 내지 5 중량부; 상기 안료 및 염료 중 1종 이상 0.1 내지 10 중량부; 및 상기 용매 10 내지 95 중량부를 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물은 가소제; 접착 촉진제; 충전제, 및 계면활성제로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 추가로 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 구현예에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물은 컬러필터 감광제용, 오버코트 감광제용, 컬럼 스페이서용, 절연재용 등에 사용될 수 있다.
이하에서는 실시예를 통하여 본 발명에 대하여 보다 상세히 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 의하여 한정되는 것은 아니다.
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실시예
>
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합성예
1>
반응 용기에 열개시제 V-65 2.88 중량부를 용매에 녹인 후 벤질메타크릴레이트/N-페닐말레이미드/스티렌/메타크릴산/화학식 5를 62/10/7/17/4의 중량%로 투입한 후 질소 분위기에서 60℃를 유지하며 12시간 반응시켰다. 제조된 바인더 수지의 산가는 106 KOH mg/g, 중량 평균 분자량은 9,100이었다.
<
합성예
2>
반응 용기에 열개시제 V-65 2.88 중량부를 용매에 녹인 후 벤질메타크릴레이트/N-페닐말레이미드/스티렌/메타크릴산/화학식 7을 62/10/7/17/4의 중량%로 투입한 후 질소 분위기에서 60℃를 유지하며 12시간 반응시켰다. 제조된 바인더 수지의 산가는 108 KOH mg/g, 중량 평균 분자량은 9,500이었다.
<
합성예
3>
반응 용기에 열개시제 V-65 2.88 중량부를 용매에 녹인 후 벤질메타크릴레이트/메틸메타크릴레이트/메타크릴산/화학식 5를 51/29/16/4의 중량%로 투입한 후 질소 분위기에서 60℃를 유지하며 12시간 반응시켰다. 제조된 바인더 수지의 산가는 105 KOH mg/g, 중량 평균 분자량은 8,700이었다.
<
합성예
4>
반응 용기에 열개시제 V-65 2.88 중량부를 용매에 녹인 후 벤질메타크릴레이트/N-페닐말레이미드/스티렌/메타크릴산/화학식 6을 41/7/5/43/4의 중량% 로 투입한 후 질소 분위기에서 60℃를 유지하며 12시간 반응시켰다. 이렇게 얻어진 수지 용액에 열중합 금지제와 촉매를 첨가한 후 글리시딜메타크릴레이트 26.30g을 공기 분위기에서 투입하여 110℃를 유지하며 12시간 반응시켰다. 제조된 바인더 수지의 산가는 110 KOH mg/g, 중량 평균 분자량은 11,000이었다.
<
합성예
5>
반응 용기에 열개시제 V-65 2.88 중량부를 용매에 녹인 후 시클로헥실메타크릴레이트/메틸메타크릴레이트/메타크릴산/화학식 8을 31/19/46/4의 중량% 로 투입한 후 질소 분위기에서 60℃를 유지하며 12시간 반응시켰다. 이렇게 얻어진 수지 용액에 열중합 금지제와 촉매를 첨가한 후 글리시딜메타크릴레이트 29.03g을 공기 분위기에서 투입하여 110℃를 유지하며 12시간 반응시켰다. 제조된 바인더 수지의 산가는 108 KOH mg/g, 중량 평균 분자량은 11,500이었다.
<
비교합성예
1>
반응 용기에 열개시제 V-65 2.88 중량부를 용매에 녹인 후 벤질메타크릴레이트/N-페닐말레이미드/스티렌/메타크릴산/3-메르캅토 프로피온산을 62/10/7/17/4의 중량%로 투입한 후 질소 분위기에서 60℃를 유지하며 12시간 반응시켰다. 제조된 바인더 수지의 산가는 104 KOH mg/g, 중량 평균 분자량은 8,800이었다.
<
비교합성예
2>
반응 용기에 열개시제 V-65 2.88 중량부를 용매에 녹인 후 벤질메타크릴레이트/N-페닐말레이미드/스티렌/메타크릴산/1-도데칸티올을 62/10/7/17/4의 중량%로 투입한 후 질소 분위기에서 60℃를 유지하며 12시간 반응시켰다. 제조된 바인더 수지의 산가는 110 KOH mg/g, 중량 평균 분자량은 9,000이었다.
<
비교합성예
3>
반응 용기에 열개시제 V-65 2.88 중량부를 용매에 녹인 후 시클로헥실메타크릴레이트/메틸메타크릴레이트/메타크릴산/3-메르캅토 프로피온산을 50/30/16/4의 중량%로 투입한 후 질소 분위기에서 60℃를 유지하며 12시간 반응시켰다. 제조된 바인더 수지의 산가는 102 KOH mg/g, 중량 평균 분자량은 8,200이었다.
<
실시예
1>
염료로서 Acid Red 289를 1.19 중량부, 안료로서 피그먼트 B15:6 을 4.74 중량부, 아크릴계 분산용 수지 2.0 중량부, 아크릴계 분산제 3.62 중량부, 용매로 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 38.8 중량부를 혼합하였으며, 상기 혼합물을 교반하여 착색 조성물을 제조하였다. 상기 제조된 착색 조성물 20 중량부, 에틸렌성 불포화 중합성 화합물로 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 3.27 중량부, 바인더 수지로 합성예 1에서 합성된 수지 3.27 중량부, 광개시제로 2,4-크리클로로메틸-(4'-메톡시페닐)-6-트리아진 0.55 중량부, 접착촉진제로 3-메타아크릴옥시프로필트리메톡시실란 0.24 중량부, 계면활성제로 F-475 (DaiNippon Ink & Chemicals) 0.07 중량부, 용매로 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 72.60 중량부를 혼합하였으며, 상기 혼합물을 5시간 동안 교반하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
<
실시예
2>
상기 합성예 1에서 제조된 고분자 대신 상기 합성예 2에서 제조된 수지 3.27 중량부를 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 조성물을 제조하였다.
<
실시예
3>
상기 합성예 1에서 제조된 고분자 대신 상기 합성예 3에서 제조된 고분자 3.27 중량부를 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 조성물을 제조하였다.
<
실시예
4>
상기 합성예 1에서 제조된 고분자 대신 상기 합성예 4에서 제조된 고분자 3.27 중량부를 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 조성물을 제조하였다.
<
실시예
5>
상기 합성예 1에서 제조된 고분자 대신 상기 합성예 5에서 제조된 고분자 3.27 중량부를 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 조성물을 제조하였다.
<
비교예
1>
상기 합성예 1에서 제조된 고분자 대신 상기 비교합성예 1에서 제조된 고분자 3.27 중량부를 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 조성물을 제조하였다.
<
비교예
2>
상기 합성예 1에서 제조된 고분자 대신 상기 비교합성예 2에서 제조된 고분자 3.27 중량부를 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 조성물을 제조하였다.
<
비교예
3>
상기 합성예 1에서 제조된 고분자 대신 상기 비교합성예 3에서 제조된 고분자 3.27 중량부를 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 착색 조성물을 제조하였다.
<
실험예
1>
상기 실시예 1 ~ 5 및 비교예 1 ~ 3에서 얻어진 착색 조성물의 염료 용출 정도를 측정하기 위해 상기 착색 조성물을 유리에 스핀 코팅(spin coating)하고, 약 100℃에서 2분 전열 처리(prebake)하여 필름을 형성시켰다. 상기 필름을 포토마스크를 이용하여 고압 수은 램프 하에서 50 ~ 100 mJ/cm2의 에너지로 노광시킨 후, 패턴을 KOH 알칼리 수용액을 이용하여 현상하고 탈이온수로 세척하였다. 이 때, 염료 기인성의 붉은색이 우러나오는 정도를 육안으로 측정하였다.
O : 전혀 우러나오지 않음.
△: 현상 공정 초기에는 우러나오나 일정 시간 후 더 이상 우러나오지 않음.
X : 현상 전 공정에 걸쳐서 계속 우러나옴.
그 결과는 하기 표 1과 같다.
[표 1]
<
실험예
2>
상기 실시예 1 ~ 5 및 비교예 1 ~ 3에서 얻어진 착색 조성물의 염료 잔사 정도를 측정하기 위해 상기 착색 조성물을 유리에 스핀 코팅(spin coating)하고, 약 100℃에서 2분 전열 처리(prebake)하여 필름을 형성시켰다. 상기 필름을 포토마스크를 이용하여 고압 수은 램프 하에서 50 ~ 100 mJ/cm2의 에너지로 노광시킨 후, 패턴을 KOH 알칼리 수용액을 이용하여 현상하고 탈이온수로 세척하였다. 그 후 패턴이 형성되지 않은 부분의 유리 기판 상부의 표면 상태를 광학 현미경으로 관찰하였다.
O : 잔사 없음.
△: 패턴 끝단에만 약간 잔사 있음.
X : 기판 전면에 걸쳐서 잔사 다발.
그 결과는 하기 표 2와 같다.
[표 2]
상기 결과와 같이, 본 명세서의 분지형 알칼리 가용성 수지는 소수성의 성질을 가지므로, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물은 알칼리 현상액에 의한 현상 공정시 패턴 탈락 및 염료 용출성이 적은 장점이 있다.
또한, 본 명세서의 분지형 알칼리 가용성 수지를 포함하는 감광성 수지 조성물은 알칼리 현상액에 의한 현상 공정시 패턴 위 또는 기판 위의 잔사 및 염료 뭉침성 돌기의 발생이 적은 장점이 있다.
Claims (17)
- 산기를 포함하는 모노머;
불포화 에틸렌성 모노머; 및
하기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표시되는 티올계 화합물을 열중합하여 제조되는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지:
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
상기 화학식 1 및 3에서, R1 내지 R4 중 적어도 세 개, 및 R8 내지 R13 중 적어도 세 개는 하기 화학식 4로 표시되고, 나머지는 각각 독립적으로 수소; 할로겐기; 탄소수 1 내지 25의 치환 또는 비치환된 알킬기; 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기로 이루어진 군에서 선택되고,
상기 화학식 2에서, R5 내지 R7은 하기 화학식 4로 표시되며,
[화학식 4]
상기 화학식 4에서, R14는 직접결합; 또는 탄소수 1 내지 5의 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고,
R15는 수소; 할로겐기; 또는 탄소수 1 내지 25의 치환 또는 비치환된 알킬기이다. - 청구항 1에 있어서, 상기 티올계 화합물은 2차 또는 3차 티올계 화합물인 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지.
- 청구항 1에 있어서, 상기 분지형 알칼리 가용성 수지의 중량 평균 분자랑은 3,000 내지 50,000인 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지.
- 청구항 1에 있어서, 상기 산기를 포함하는 모노머는 (메타)아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 모노메틸 말레인산, 이소프렌 술폰산, 스티렌 술폰산, 5-노보넨-2-카르복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 숙시네이트, 및 ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메트)아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지.
- 청구항 1에 있어서, 상기 불포화 에틸렌성 모노머는 불포화 카르복시산 에스테르류 모노머, 방향족 비닐류 모노머, 불포화 에테르류 모노머, N-비닐 삼차아민류 모노머, 불포화 이미드류 모노머 및 무수 말레산류 모노머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지.
- 청구항 6에 있어서, 상기 불포화 카르복시산 에스테르류 모노머는 벤질(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트,이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메틸에테르(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필(메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 부틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 디시클로펜타닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 옥시에틸 (메타)아크릴레이트 및 디시클로펜테닐 옥시에틸 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지.
- 청구항 6에 있어서, 상기 방향족 비닐류 모노머는 스티렌, α-메틸스티렌, (o,m,p)-비닐 톨루엔, (o,m,p)-메톡시 스티렌 및 (o,m,p)-클로로 스티렌으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지.
- 청구항 6에 있어서, 상기 불포화 에테르류 모노머는 비닐 메틸 에테르 및 비닐 에틸 에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지.
- 청구항 6에 있어서, 상기 N-비닐 삼차아민류 모노머는 N-비닐 피롤리돈, N-비닐 카바졸 및 N-비닐 모폴린으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지.
- 청구항 6에 있어서, 상기 불포화 이미드류 모노머는 N-페닐 말레이미드, N-(4-클로로페닐) 말레이미드, N-(4-히드록시페닐) 말레이미드 및 N-시클로헥실 말레이미드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지.
- 청구항 6에 있어서, 상기 무수 말레산류 모노머는 무수 말레인산 및 무수 메틸 말레인산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지.
- 청구항 1에 있어서, 상기 열중합 개시제는 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 2,2'-아조비스-(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스-(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴), 벤조일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시피발레이트 및 1,1'-비스-(비스-t-부틸퍼옥시)시클로헥산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지.
- 청구항 1에 있어서, 상기 분지형 알칼리 가용성 수지 100 중량부를 기준으로,
상기 산기를 포함하는 모노머 4 내지 50 중량부;
상기 불포화 에틸렌성 모노머 30 내지 95 중량부; 및
상기 티올계 화합물 1 내지 20 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 분지형 알칼리 가용성 수지. - 청구항 1 내지 14 중 어느 한 항의 분지형 알칼리 가용성 수지를 바인더 수지로서 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 15에 있어서, 상기 감광성 수지 조성물은 불포화 에틸렌성 모노머; 열중합 개시제 또는 광중합 개시제; 안료 및 염료 중 1종 이상; 및 용매를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 15에 있어서, 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부를 기준으로,
상기 분지형 알칼리 가용성 수지 1 내지 20 중량부;
상기 불포화 에틸렌성 모노머 0.5 내지 30 중량부;
상기 열중합 개시제 또는 광중합 개시제 0.1 내지 5 중량부;
상기 안료 및 염료 중 1종 이상 0.1 내지 10 중량부; 및
상기 용매 10 내지 95 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
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