KR20140144011A - 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법 - Google Patents

마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20140144011A
KR20140144011A KR20130065902A KR20130065902A KR20140144011A KR 20140144011 A KR20140144011 A KR 20140144011A KR 20130065902 A KR20130065902 A KR 20130065902A KR 20130065902 A KR20130065902 A KR 20130065902A KR 20140144011 A KR20140144011 A KR 20140144011A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
curved surface
forming portion
forming
mold
planar
Prior art date
Application number
KR20130065902A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101498789B1 (ko
Inventor
김장규
Original Assignee
김장규
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김장규 filed Critical 김장규
Priority to KR1020130065902A priority Critical patent/KR101498789B1/ko
Publication of KR20140144011A publication Critical patent/KR20140144011A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101498789B1 publication Critical patent/KR101498789B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C45/26—Moulds
    • B29C45/263—Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
    • B29C45/2632—Stampers; Mountings thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C45/26—Moulds
    • B29C45/2673—Moulds with exchangeable mould parts, e.g. cassette moulds
    • B29C45/2675—Mounting of exchangeable mould inserts
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C45/26—Moulds
    • B29C45/37—Mould cavity walls, i.e. the inner surface forming the mould cavity, e.g. linings
    • B29C45/372—Mould cavity walls, i.e. the inner surface forming the mould cavity, e.g. linings provided with means for marking or patterning, e.g. numbering articles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • B29D99/006—Producing casings, e.g. accumulator cases
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00—Electroforming
    • C25D1/10—Moulds; Masks; Masterforms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
    • B29K2995/0037—Other properties
    • B29K2995/0072—Roughness, e.g. anti-slip
    • B29K2995/0074—Roughness, e.g. anti-slip patterned, grained

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

본 발명은, 상부 소정의 위치에 양각 형태의 평면 형성부 및 상기 평면 형성부의 각 측면에 하방향으로 절곡된 곡면 형성부를 가지고 상부 표면에 마이크로 패턴이 형성된 하부 스템퍼 금형과 금속 코어를 전주도금용 전해액에 침전시키고, 상기 금속 코어의 표면에 상기 양각 형태의 평면 형성부 및 곡면 형성부와 대응되는 음각 형태의 평면 형성부 및 곡면 형성부를 가지는 전주 도금부를 형성한 후 상기 전주 도금부 및 금속 코어로 이루어진 음각 금형부에 수지를 주입하여 사출하는 방법으로 제조되는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법을 제공한다.

Description

마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법{Case Having Curved Surface of Micro Pattern, and Method of Making the Same}
본 발명은 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 불량률이 낮고, 고품위의 곡면부의 마이크로 패턴을 다양하게 형성할 수 있는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법에 관한 것이다.
케이스(Case)는 물품을 보관 또는 보호하기 위한 외장재로, 각종 전자 제품, 통신기기, 가구, 일반 물품 등에 광범위하게 사용되고 있다. 최근 수요자가 제품을 선택하는 기준에 있어서, 물품의 디자인이 중요한 요소로 부각됨에 따라, 수요자의 요구를 충족시킬 수 있는 물품의 케이스에 대한 디자인의 연구가 증가하고 있다. 또한, 물품의 케이스는 일반적으로 입체적 형상 및 곡면부를 포함하는 형상을 가지므로, 특히 케이스의 평면 형상뿐만 아니라 곡면부에도 평면 형상과 동일한 연속적인 마이크로 패턴을 가지는 케이스 및 그 제조방법에 대한 많은 연구가 이루어지고 있다.
기존의 케이스는 평면부에만 마이크로 패턴이 형성되고 곡면부에는 어떠한 패턴도 포함되지 않거나, 곡면부에 마이크로 패턴을 형성하기 위해 인서트(Insert) 사출 방법을 이용한다. 인서트 사출은 마이크로 패턴 형상을 가지는 패턴 필름을 사출 공정에서 투입하여 용융된 수지와 함께 사출하는 것으로, 인서트 사출 과정이 번잡하고, 불량률이 높으며, 제품 형상을 다양하게 구성할 수 없다는 문제점이 있다.
이러한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여, 최근에는 케이스의 제조에 있어서, 마이크로 패턴을 금형에 직접 가공하는 기술에 대한 개발이 활발하게 이루어지고 있으나 금형 가공 장치의 문제 등으로 인하여 케이스의 곡면부에 마이크로 패턴을 가공하기 어렵기 때문에 여전히 인서트 사출을 기본 제조 방식으로 하여 이에 대한 기술의 보완을 하는 수준에 그치고 있는 실정이다. 특히, 최근 수요가 급증하고 있는 스마트폰, 노트북 등 각종 전자 제품의 케이스는 평면부뿐만 아니라 곡면부의 마이크로 패턴 형상이 수요자의 구매 선택 요소에서 매우 중요한 요소를 차지하기 때문에 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스를 효율적으로 양산하는 기술이 필요하다.
본 발명자는 상기 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 단일 사출 공정에 의해 평면 및 곡면부의 마이크로 패턴을 형성할 수 있고, 불량률이 낮으며, 고품위의 곡면부의 마이크로 패턴을 다양하게 형성할 수 있는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법을 개발하기에 이르렀다.
본 발명의 목적은 단일 사출 공정에 의해 평면 및 곡면부의 마이크로 패턴을 형성할 수 있는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 다른 목적은 불량률이 낮은 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 고품위의 곡면부의 마이크로 패턴을 다양하게 형성할 수 있는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 상기 및 기타 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.
본 발명에 따른 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스는, 상부 소정의 위치에 양각 형태의 평면 형성부 및 상기 평면 형성부의 각 측면에 하방향으로 절곡된 곡면 형성부를 가지고 상부 표면에 마이크로 패턴이 형성된 하부 스템퍼 금형과 금속 코어를 전주도금용 전해액에 침전시키고, 상기 금속 코어의 표면에 상기 양각 형태의 평면 형성부 및 곡면 형성부와 대응되는 음각 형태의 평면 형성부 및 곡면 형성부를 가지는 전주 도금부를 형성한 후 상기 전주 도금부 및 금속 코어로 이루어진 음각 금형부에 수지를 주입하여 사출하는 방법으로 제조되는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 하부 스템퍼 금형은, 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제1 평면 형성부 및 상기 제1 평면 형성부의 각 측면에 하방향으로 절곡된 제1 곡면 형성부를 가지는 하부 금형; 상기 제1 평면 형성부 및 제1 곡면 형성부의 형상에 따라 그 상부면에 균일하게 도포되는 접착층; 및 상기 제1 평면 형성부 및 제1 곡면 형성부의 형상에 따라 상기 접착층의 상부면에 부착되어 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제2 평면 형성부 및 제2 곡면 형성부를 가지고 그 표면에 마이크로 패턴이 형성된 스템퍼;로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 전주 도금부는 음각 형태의 제3 평면 형성부 및 제3 곡면 형성부를 가지고, 상기 제3 평면 형성부 및 제3 곡면 형성부는 상기 스템퍼의 제2 평면 형성부 및 제2 곡면 형성부와 대응되는 형상으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 전주 도금부 및 금속 코어로 이루어진 음각 금형부에 수지를 주입하여 사출하는 방법은, 상기 전주 도금부의 제3 평면 형성부 및 제3 곡면 형성부와 대응되는 양각 형태의 제4 평면 형성부 및 제4 곡면 형성부를 가지는 양각 금형부와 상기 음각 금형부를 형합시키고, 상기 형합된 양각 금형부와 음각 금형부 사이에 수지를 주입하여 제조되는 것을 특징으로 한다.
상기 수지는 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 또는 폴리비닐클로라이드(PVC) 수지인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스의 제조방법은, 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제2 평면 형성부 및 상기 제2 평면 형성부의 각 측면에 하방향으로 절곡된 제2 곡면 형성부를 가지고 상부 표면에 마이크로 패턴이 형성된 하부 스템퍼 금형과 금속 코어를 전주도금용 전해액에 침전시키는 단계(S100); 상기 금속 코어의 표면에 상기 하부 스템퍼 금형의 양각 형태의 제2 평면 형성부 및 제2 곡면 형성부와 대응되는 음각 형태의 제3 평면 형성부 및 제3 곡면 형성부를 가지는 전주 도금부를 전해도금의 방식으로 제조하는 단계(S200); 상기 금속 코어와 전주 도금부로 이루어지는 음각 금형부를 하부 스템퍼 금형과 분리하는 단계(S300); 및 상기 전주 도금부의 제3 평면 형성부 및 제3 곡면 형성부와 대응되는 양각 형태의 제4 평면 형성부 및 제4 곡면 형성부를 가지는 양각 금형부와 상기 음각 금형부를 형합시키고, 상기 양각 금형부와 음각 금형부 사이에 수지를 주입하는 단계(S400);를 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 제조방법은 S100 단계 이전에, 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제1 평면 형성부 및 상기 제1 평면 형성부의 각 측면에 하방향으로 절곡된 제1 곡면 형성부를 가지는 하부 금형; 상기 제1 평면 형성부 및 제1 곡면 형성부의 형상에 따라 그 상부면에 균일하게 도포되는 접착층; 및 상기 제1 평면 형성부 및 제1 곡면 형성부의 형상에 따라 상기 접착층의 상부면에 부착되어 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제2 평면 형성부 및 제2 곡면 형성부를 가지고 그 표면에 마이크로 패턴이 형성된 스템퍼;를 포함하는 하부 스템퍼 금형을 제조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 단일 사출 공정에 의해 평면 및 곡면부의 마이크로 패턴을 형성할 수 있고, 불량률이 낮으며, 고품위의 곡면부의 마이크로 패턴을 다양하게 형성할 수 있는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법을 제공하는 발명의 효과를 가진다.
도 1은 본 발명에 따른 하부 스템퍼 금형과 금속 코어의 모습을 개략적으로 나타낸 설명도이다.
도 2는 본 발명에 따른 하부 스템퍼 금형과 금속 코어를 전주도금용 전해액에 침전시킨 후 전주 도금부를 제조하는 모습을 개략적으로 나타낸 설명도이다.
도 3은 본 발명에 따른 음각 금형부를 하부 스템퍼 금형과 분리시킨 모습을 개략적으로 나타낸 설명도이다.
도 4는 본 발명에 따른 음각 금형부와 양각 금형부의 모습을 개략적으로 나타낸 설명도이다.
도 5는 본 발명에 따른 음각 금형부와 양각 금형부를 이용하여 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스를 제조하는 모습을 개략적으로 나타낸 설명도이다.
도 6은 본 발명에 따른 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스의 모습을 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 7은 본 발명에 따른 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스의 제조방법을 개략적으로 나타낸 순서도이다.
본 발명의 상기와 같은 목적, 특징 및 다른 장점들은 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명함으로써 더욱 명백해질 것이다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법을 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 하부 스템퍼 금형과 금속 코어의 모습을 개략적으로 나타낸 설명도이고, 도 2는 본 발명에 따른 하부 스템퍼 금형과 금속 코어를 전주도금용 전해액에 침전시킨 후 전주 도금부를 제조하는 모습을 개략적으로 나타낸 설명도이며, 도 3은 본 발명에 따른 음각 금형부를 하부 스템퍼 금형과 분리시킨 모습을 개략적으로 나타낸 설명도이고, 도 4는 본 발명에 따른 음각 금형부와 양각 금형부의 모습을 개략적으로 나타낸 설명도이며, 도 5는 본 발명에 따른 음각 금형부와 양각 금형부를 이용하여 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스를 제조하는 모습을 개략적으로 나타낸 설명도이다.
도 1 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스(10)는 상부 소정의 위치에 양각 형태의 평면 형성부 및 상기 평면 형성부의 각 측면에 하방향으로 절곡된 곡면 형성부를 가지고 상부 표면에 마이크로 패턴이 형성된 하부 스템퍼 금형(100)과 금속 코어(210)를 전주도금용 전해액에 침전시키고, 상기 금속 코어(210)의 표면에 상기 양각 형태의 평면 형성부 및 곡면 형성부와 대응되는 음각 형태의 평면 형성부 및 곡면 형성부를 가지는 전주 도금부(220)를 형성한 후 상기 전주 도금부(220) 및 금속 코어(210)로 이루어진 음각 금형부(200)에 수지를 주입하여 사출하는 방법으로 제조된다.
보다 구체적으로, 본 발명의 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스(10)를 제조하기 위해서는, 먼저 표면에 양각 형태의 제2 평면 형성부(131) 및 상기 제2 평면 형성부(131)의 각 측면에 하방향으로 절곡된 제2 곡면 형성부(132)를 가지고 그 상부 표면에 마이크로 패턴이 형성된 하부 스템퍼 금형(100)과 금속 코어(210)를 전주도금용 전해액(미도시)에 침전시켜 금속 코어(210)의 표면에 전주 도금부(220)가 형성되도록 한다.
여기서, 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스(10)는 곡면부에 형성되는 마이크로 패턴이 평면부에 형성되는 마이크로 패턴의 품질과 동일하고, 곡면 디자인에 대한 결함이 없어야 하기 때문에 본 발명의 하부 스템퍼 금형(100)은 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제1 평면 형성부(111) 및 상기 제1 평면 형성부(111)의 각 측면에 하방향으로 절곡된 제1 곡면 형성부(112)를 가지는 하부 금형(110); 상기 제1 평면 형성부(111) 및 제1 곡면 형성부(112)의 형상에 따라 그 상부면에 균일하게 도포되는 접착층(120); 및 상기 제1 평면 형성부(111) 및 제1 곡면 형성부(112)의 형상에 따라 상기 접착층(120)의 상부면에 부착되어 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제2 평면 형성부(131) 및 제2 곡면 형성부(132)를 가지고 그 표면에 마이크로 패턴이 형성된 스템퍼;로 이루어지는 것이 바람직하다.
전주 도금부(220)가 금속 코어(210)의 표면에 형성되면, 금속 코어(210)와 전주 도금부(220)로 이루어진 음각 금형부(200)를 하부 스템퍼 금형(100)과 분리시킨다. 이 경우 전주 도금부(220)는 하부 표면에 음각 형태의 제3 평면 형성부(221)와 제3 곡면 형성부(222)를 가지고, 상기 제3 평면 형성부(221)와 제3 곡면 형성부(222)의 형상 및 그 표면에 형성된 마이크로 패턴은 스템퍼(130)의 제2 평면 형성부(131)와 제2 곡면 형성부(132)의 형상 및 그 표면에 형성된 마이크로 패턴과 정확히 대응한다. 따라서, 전주 도금부(220)가 완성되면, 음각 금형부(200)는 그 하부면에 제2 평명 형성부(131)와 제2 곡면 형성부(132)와 대응되는 음각 형태의 제3 평면 형성부(221)와 제3 곡면 형성부(222)를 가지는 금형으로 이용할 수 있다. 상기 음각 금형부(200)는 전주 도금 방법에 의하여 제조되기 때문에 내구성 및 마이크로 패턴의 품질이 우수하고, 전주 도금부(220)가 금속 코어(210)와 분리되지 않는다는 이점을 가진다.
그 후, 음각 금형부(200)의 저면에 양각 금형부(300)를 배치한다. 양각 금형부(300)는 상부면에 양각 형태의 제4 평면 형성부(310)와 제4 곡면 형성부(320)를 가지고, 상기 제4 평면 형성부(310)와 제4 곡면 형성부(320)는 상기 전주 도금부(220)의 제3 평면 형성부(221)와 제3 곡면 형성부(222)와 대응된다. 여기서, 양각 금형부(300)는 상기 하부 금형(110)과 동일한 상부면의 형태를 가지기 때문에 상기 하부 금형(110)을 양각 금형부(300)로 이용할 수도 있다.
최종적으로, 음각 금형부(200)와 양각 금형부(300)를 소정의 압력으로 형합시킨 후 상기 음각 금형부(200)와 양각 금형부(300) 사이에 수지를 주입한다. 이 때, 음각 금형부(200)와 양각 금형부(300)를 형합시키기 위한 압력은 상기 음각 금형부(200)와 양각 금형부(300) 사이에 수지가 주입되는 압력보다 커야 한다. 만약 수지 주입 압력이 형합시키는 압력보다 크면, 수지 주입 과정에서 제품의 형상에 대한 불량이 발생할 수 있다. 수지 주입 후, 음각 금형부(200)와 양각 금형부(300)를 분리하면, 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스(10)를 양산할 수 있다.
도 6은 본 발명에 따른 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스의 모습을 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스(10)의 곡면부(12)는 종래 인서트 사출 방법에 의해 제조된 케이스와 비교할 때 마이크로 패턴의 평면부(11)와 마이크로 패턴의 곡면부(12)의 마이크로 패턴 형상이 품질의 차이가 없고, 음각 금형부의 내구성이 우수하기 때문에 제조 과정에 있어서 마이크로 패턴의 곡면부(12)의 패턴 불량을 방지할 수 있다는 이점을 갖는다.
본 발명의 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스(10)의 소재는 각종 수지를 이용할 수 있으나, 기계적 강도 및 성형성이 우수한 폴리카보네이트(PolyCarbonate; PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PolyMethylMethAcrylate; PMMA) 또는 폴리비닐클로라이드(PolyVinylChrolide; PVC)를 사용하는 것이 바람직하다.
도 7은 본 발명에 따른 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스의 제조방법을 개략적으로 나타낸 순서도이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스의 제조방법은, 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제2 평면 형성부(131) 및 상기 제2 평면 형성부(131)의 각 측면에 하방향으로 절곡된 제2 곡면 형성부(132)를 가지고 상부 표면에 마이크로 패턴이 형성된 하부 스템퍼 금형(100)과 금속 코어(210)를 전주도금용 전해액에 침전시키는 S100 단계; 상기 금속 코어(210)의 표면에 상기 하부 스템퍼 금형(100)의 양각 형태의 제2 평면 형성부(131) 및 제2 곡면 형성부(132)와 대응되는 음각 형태의 제3 평면 형성부(221) 및 제3 곡면 형성부(222)를 가지는 전주 도금부(220)를 전해도금의 방식으로 제조하는 S200 단계; 상기 금속 코어(210)와 전주 도금부(220)로 이루어지는 음각 금형부(200)를 하부 스템퍼 금형(100)과 분리하는 S300 단계; 및 상기 전주 도금부의 제3 평면 형성부 및 제3 곡면 형성부와 대응되는 양각 형태의 제4 평면 형성부 및 제4 곡면 형성부를 가지는 양각 금형부와 상기 음각 금형부를 형합시키고, 상기 양각 금형부와 음각 금형부 사이에 수지를 주입하는 S400 단계;를 포함하여 구성된다.
또한, 본 발명의 제조방법은 S100 단계 이전에, 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제1 평면 형성부(111) 및 상기 제1 평면 형성부(111)의 각 측면에 하방향으로 절곡된 제1 곡면 형성부(112)를 가지는 하부 금형(110); 상기 제1 평면 형성부(111) 및 제1 곡면 형성부(112)의 형상에 따라 그 상부면에 균일하게 도포되는 접착층(120); 및 상기 제1 평면 형성부(111) 및 제1 곡면 형성부(112)의 형상에 따라 상기 접착층(120)의 상부면에 부착되어 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제2 평면 형성부(131) 및 제2 곡면 형성부(132)를 가지고 그 표면에 마이크로 패턴이 형성된 스템퍼(130)를 포함하는 하부 스템퍼 금형(100)을 제조하는 단계를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 하부 스템퍼 금형(100)은 접착층(120)이 일면에 도포된 스템퍼(130)를 하부 금형(110)으로 가공하여 제조할 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정 실시예에 한정되지 아니한다. 즉, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자라면 첨부된 특허청구범위의 사상 및 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능하며, 그러한 모든 적절한 변경 및 수정은 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.
10: 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스
11: 마이크로 패턴의 평면부
12: 마이크로 패턴의 곡면부
100: 하부 스템퍼 금형
110: 하부 금형
111: 제1 평면 형성부
112: 제1 곡면 형성부
120: 접착층
130: 스템퍼
131: 제2 평면 형성부
132: 제2 곡면 형성부
200: 음각 금형부
210: 금속 코어
220: 전주 도금부
221: 제3 평면 형성부
222: 제3 곡면 형성부
300: 양각 금형부
310: 제4 평면 형성부
320: 제4 곡면 형성부

Claims (7)

  1. 상부 소정의 위치에 양각 형태의 평면 형성부 및 상기 평면 형성부의 각 측면에 하방향으로 절곡된 곡면 형성부를 가지고 상부 표면에 마이크로 패턴이 형성된 하부 스템퍼 금형과 금속 코어를 전주도금용 전해액에 침전시키고, 상기 금속 코어의 표면에 상기 양각 형태의 평면 형성부 및 곡면 형성부와 대응되는 음각 형태의 평면 형성부 및 곡면 형성부를 가지는 전주 도금부를 형성한 후 상기 전주 도금부 및 금속 코어로 이루어진 음각 금형부에 수지를 주입하여 사출하는 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 하부 스템퍼 금형은, 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제1 평면 형성부 및 상기 제1 평면 형성부의 각 측면에 하방향으로 절곡된 제1 곡면 형성부를 가지는 하부 금형; 상기 제1 평면 형성부 및 제1 곡면 형성부의 형상에 따라 그 상부면에 균일하게 도포되는 접착층; 및 상기 제1 평면 형성부 및 제1 곡면 형성부의 형상에 따라 상기 접착층의 상부면에 부착되어 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제2 평면 형성부 및 제2 곡면 형성부를 가지고 그 표면에 마이크로 패턴이 형성된 스템퍼;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 전주 도금부는 음각 형태의 제3 평면 형성부 및 제3 곡면 형성부를 가지고, 상기 제3 평면 형성부 및 제3 곡면 형성부는 상기 스템퍼의 제2 평면 형성부 및 제2 곡면 형성부와 대응되는 형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 전주 도금부 및 금속 코어로 이루어진 음각 금형부에 수지를 주입하여 사출하는 방법은, 상기 전주 도금부의 제3 평면 형성부 및 제3 곡면 형성부와 대응되는 양각 형태의 제4 평면 형성부 및 제4 곡면 형성부를 가지는 양각 금형부와 상기 음각 금형부를 형합시키고, 상기 형합된 양각 금형부와 음각 금형부 사이에 수지를 주입하여 제조되는 것을 특징으로 하는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 수지는 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 또는 폴리비닐클로라이드(PVC) 수지인 것을 특징으로 하는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스.
  6. 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제2 평면 형성부 및 상기 제2 평면 형성부의 각 측면에 하방향으로 절곡된 제2 곡면 형성부를 가지고 상부 표면에 마이크로 패턴이 형성된 하부 스템퍼 금형과 금속 코어를 전주도금용 전해액에 침전시키는 단계(S100);
    상기 금속 코어의 표면에 상기 하부 스템퍼 금형의 양각 형태의 제2 평면 형성부 및 제2 곡면 형성부와 대응되는 음각 형태의 제3 평면 형성부 및 제3 곡면 형성부를 가지는 전주 도금부를 전해도금의 방식으로 제조하는 단계(S200);
    상기 금속 코어와 전주 도금부로 이루어지는 음각 금형부를 하부 스템퍼 금형과 분리하는 단계(S300); 및
    상기 전주 도금부의 제3 평면 형성부 및 제3 곡면 형성부와 대응되는 양각 형태의 제4 평면 형성부 및 제4 곡면 형성부를 가지는 양각 금형부와 상기 음각 금형부를 형합시키고, 상기 양각 금형부와 음각 금형부 사이에 수지를 주입하는 단계(S400);
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제조방법은 S100 단계 이전에, 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제1 평면 형성부 및 상기 제1 평면 형성부의 각 측면에 하방향으로 절곡된 제1 곡면 형성부를 가지는 하부 금형; 상기 제1 평면 형성부 및 제1 곡면 형성부의 형상에 따라 그 상부면에 균일하게 도포되는 접착층; 및 상기 제1 평면 형성부 및 제1 곡면 형성부의 형상에 따라 상기 접착층의 상부면에 부착되어 상부 소정의 위치에 양각 형태의 제2 평면 형성부 및 제2 곡면 형성부를 가지고 그 표면에 마이크로 패턴이 형성된 스템퍼;를 포함하는 하부 스템퍼 금형을 제조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스의 제조방법.
KR1020130065902A 2013-06-10 2013-06-10 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법 KR101498789B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130065902A KR101498789B1 (ko) 2013-06-10 2013-06-10 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130065902A KR101498789B1 (ko) 2013-06-10 2013-06-10 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140144011A true KR20140144011A (ko) 2014-12-18
KR101498789B1 KR101498789B1 (ko) 2015-03-06

Family

ID=52674490

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130065902A KR101498789B1 (ko) 2013-06-10 2013-06-10 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101498789B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102115123B1 (ko) * 2019-12-27 2020-05-26 이상원 단말기 커버 제조용 금형 및 이를 이용한 단말기 커버 제조방법

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110005584A (ko) * 2009-07-10 2011-01-18 (주)대동아이텍 사출 금형 제조 방법 및 합성수지 제품 제조 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102115123B1 (ko) * 2019-12-27 2020-05-26 이상원 단말기 커버 제조용 금형 및 이를 이용한 단말기 커버 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR101498789B1 (ko) 2015-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105345985A (zh) 一种具有三维金属纹理的塑料壳件及其制造方法
KR101405500B1 (ko) 헤어 라인 가공 방법
KR20140000549A (ko) 하우징 가공 방법 및 장치
TW201345364A (zh) 電子裝置殼體及其製造方法
KR100915150B1 (ko) 합성수지 제품 표면의 패턴 형성 방법
CN104339531A (zh) 一种内嵌件双色注塑的方法
CN102683833B (zh) 天线结构及其制造方法
KR101498789B1 (ko) 마이크로 패턴의 곡면부를 가지는 케이스 및 그 제조방법
KR101038088B1 (ko) 파이버를 이용한 패턴 형성용 다공성 전주 쉘의 제조방법 및 그 다공성 전주 쉘
CN107717348B (zh) 一种壳体制作方法、壳体及移动终端
US9074293B2 (en) Porous electroformed shell for patterning and manufacturing method thereof
CN102223774A (zh) 制造具有金属表面的模内成形薄膜的方法
KR100996655B1 (ko) 패턴 형성용 다공성 전주 쉘의 제조방법
KR101376183B1 (ko) 사출 패턴 형성 방법
CN101028661A (zh) 成型模具亮、雾面加工方法
CN102431259A (zh) 三维可成行拉丝片材在iml工艺中的应用方法
EP2405033A1 (en) Porous electroformed shell for patterning and manufacturing method thereof
CN105563756A (zh) 成型模具及该成型模具的制作方法
KR20100060791A (ko) 접합된 사출성형부를 갖는 금속 몰딩물의 제조방법 및 그 제조방법에 의한 금속 몰딩물
JP2010064485A (ja) ハウジングの製造方法
KR101768157B1 (ko) 곡면 제품 성형용 금형 코어 제조 방법
KR101498798B1 (ko) 마이크로 패턴을 가지는 스템퍼 금형 및 그 제조방법
CN211221739U (zh) 模具及壳体
KR100945291B1 (ko) 장식품의 제조방법
KR101409438B1 (ko) 사출 패턴 형성 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee