KR20140138136A - Conductive fine particles, method for manufacturing same, conductive resin composition, conductive sheet, and electromagnetic shielding sheet - Google Patents

Conductive fine particles, method for manufacturing same, conductive resin composition, conductive sheet, and electromagnetic shielding sheet Download PDF

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KR20140138136A KR1020147023849A KR20147023849A KR20140138136A KR 20140138136 A KR20140138136 A KR 20140138136A KR 1020147023849 A KR1020147023849 A KR 1020147023849A KR 20147023849 A KR20147023849 A KR 20147023849A KR 20140138136 A KR20140138136 A KR 20140138136A
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Abstract

비용 저감이 가능하며 전도 특성이 뛰어나고, 예를 들면 수지와 함께 배합한 조성물을 시트 모양으로 형성했을 때 박막화가 가능한 도전성 미립자를 제공한다. 본 발명의 도전성 미립자는 도전성 물질을 포함한 핵체와, 상기 핵체를 피복하고 그 핵체와는 다른 도전성 물질로 구성된, 적어도 일부가 최 외층을 구성하는 피복 층을 구비하고, 하기 수학 식(1)으로 구해지는 원 지름도 계수가 0.15 이상 0.4 이하이며, 외연 형상에 홈 및 분기엽 중 적어도 한쪽이 복수 형성되고 있다.
[수학 식 1]
원 지름도 계수=(면적×4Π)/(주위길이)2
Provided is a conductive fine particle which can be reduced in cost and excellent in conduction characteristics, and which can be made thin, for example, when a composition blended with a resin is formed into a sheet. The conductive fine particles of the present invention comprise a core including a conductive material and a covering layer covering at least a part of the conductive layer and covering at least a part of the covering layer and being obtained from the following formula A coefficient of losing a circle diameter is 0.15 or more and 0.4 or less, and a plurality of grooves and branch leaves are formed in an outer peripheral shape.
[Equation 1]
Coefficient of circle diameter = (area × 4π) / (circumference) 2

Description

도전성 미립자 및 그 제조 방법, 도전성 수지 조성물, 도전성 시트 및 전자파 차폐 시트{CONDUCTIVE FINE PARTICLES, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, CONDUCTIVE RESIN COMPOSITION, CONDUCTIVE SHEET, AND ELECTROMAGNETIC SHIELDING SHEET}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a conductive fine particle, a conductive fine particle, a conductive resin composition, a conductive sheet, and an electromagnetic wave shielding sheet. BACKGROUND ART [0002]

이 발명은 도전성 미립자 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 또 상기 도전성 미립자를 포함한 도전성 수지 조성물에 관한 것이다. 또한, 상기 도전성 수지 조성물로 형성되는 도전 층을 갖춘 도전성 시트 및 전자파 차폐 시트에 관한 것이다.
The present invention relates to conductive fine particles and a manufacturing method thereof. The present invention also relates to a conductive resin composition containing the conductive fine particles. The present invention also relates to a conductive sheet and an electromagnetic wave shielding sheet having a conductive layer formed of the conductive resin composition.

프린트 배선 판은 휴대 전화, 디지털 카메라 등 전자 기기의 소형화에 따라 박형화하고, 플렉시블 프린트 배선 판이 많이 사용되게 되고 있다. 프린트 배선 판에는 일반적으로 도전성 시트, 전자파 차폐 시트 등(이하, "도전성 시트 등"이라고도 함)이 사용되고 있다. 도전성 시트 등은 경시적인 안정성을 포함해 뛰어난 전도 특성이 요구되고 있고, 시트 중에 함유되는 도전성 필러의 특성이 중요하다.BACKGROUND ART [0002] Printed wiring boards are becoming thinner as electronic apparatuses such as cellular phones and digital cameras are made smaller, and flexible printed wiring boards are in widespread use. A conductive sheet, an electromagnetic wave shielding sheet or the like (hereinafter also referred to as "conductive sheet or the like") is generally used for the printed wiring board. Conductive sheets and the like are required to have excellent conductive properties including stability over time, and the properties of the conductive filler contained in the sheet are important.

도전성 필러로는 은가루가 도전 특성에 있어 뛰어나, 그동안 은가루를 함유하는 도전성 시트 등이 실용화되어 왔다. 그러나, 은가루의 가격은 도전성 시트 등에 사용되는 수지나 다른 원료와 비교해 고가이며, 고비용이다. 게다가 요즘 은 값이 급등하면서 은가루를 사용한 도전성 시트 등의 가격 상승이 심각한 문제다. 전자 기기의 저가격화를 달성하기 위해서는 도전성 필러의 사용 비중을 줄일 필요를 느끼고 있지만, 도전성 필러의 사용 비중을 줄이면 필요한 도전성을 유지할 수 없게 된다는 문제에 직면한다.As the conductive filler, silver is excellent in conductive characteristics, and a conductive sheet containing silver in the meantime has been practically used. However, the price of silver is expensive and expensive compared with resins and other materials used for conductive sheets. In addition, prices are rising nowadays, and the price rise of conductive sheets using silver powder is a serious problem. In order to attain a reduction in the cost of electronic devices, it is necessary to reduce the use proportion of the conductive filler. However, there is a problem that the required conductivity can not be maintained if the use proportion of the conductive filler is reduced.

그래서, 전도 특성을 충족시키면서, 저비용화를 실현하기 위해 각종 제안이 이루어졌다. 예를 들어 특허 문헌 1에서는 도 2와 같은 플레이크 모양(비늘 조각 모양) 은가루를 이용함으로써, 도전성 필러의 양을 줄이면서 부착물에 대한 접착력을 향상시키는 방법이 제안되고 있다. 또 특허 문헌 2에서는 이러한 시트용에 이용하는 도전성 입자로서 구리 표면에 은을 도금한 은 코팅 구리 분말이 게시되어 있다. 또 특허 문헌 3에서는 도전성 입자로서 나뭇가지 모양의 은 코팅 구리 분말과 비늘 조각 모양 은가루를 혼합한 도전성 페이스트가 게시되어 있다.
Thus, various proposals have been made in order to realize the cost while satisfying the conduction characteristics. For example, in Patent Document 1, there has been proposed a method of improving adhesion to an adherend while reducing the amount of the conductive filler by using the flake-like (scaly) silver powder as shown in Fig. In Patent Document 2, silver coated copper powder obtained by plating silver on the copper surface is disclosed as the conductive particles used for such a sheet. In Patent Document 3, a conductive paste in which a silver-coated silver-coated copper powder and scaly flakes are mixed as conductive particles is disclosed.

일본특허공개 2011-86930호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-86930 일본특허공개 2002-75057호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-75057 일본특허공개 2009-230952호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-230952

도전성 시트 등의 시장에서는 전도 특성이 뛰어나고 저비용화를 실현하기 위해 비싼 은가루의 사용량을 삭감하면서 전도 특성이 뛰어난 시트의 개발이 요구되고 있다. 게다가 경박단소화 요구에 대응하기 위해 도전성 시트 등을 박막화하는 기술이 요구된다. 특허 문헌 3의 도전성 페이스트를 도전성 시트로 이용한 경우, 나뭇가지 모양의 은 코팅 구리 분말을 배합하고 있으므로 시트를 박막화하기 어렵다는 문제가 있었다. 이는 나뭇가지 모양의 은 코팅 구리 분말의 일부가 도전 층에서 돌출하여 다른 층을 뚫거나 다른 층을 손상시키거나 할 염려가 있기 때문이다. 또, 상기에서는, 도전성 입자로 은을 이용한 예에 대해 말했지만 다른 도전성 입자를 이용하는 경우에 대해서도 같은 과제가 생길 수 있다. 또 프린트 배선 판에 적용하는 도전성 시트 등에 대해 말했지만 도전성 시트 전반에 대해 같은 과제가 생길 수 있다.In the market of conductive sheets and the like, development of a sheet excellent in conduction characteristics is desired, while reducing the amount of expensive silver used to realize excellent conduction characteristics and low cost. In addition, there is a demand for a technique of thinning a conductive sheet or the like in order to respond to a demand for lightweight shortening. In the case where the conductive paste of Patent Document 3 is used as the conductive sheet, there is a problem that it is difficult to make the sheet thin because the silver-coated copper powder of the branch shape is mixed. This is because a part of the silver-coated silver-coated copper powder may protrude from the conductive layer and may penetrate the other layer or damage the other layer. In the above example, silver is used as the conductive particles, but the same problem may be caused when other conductive particles are used. Furthermore, although the conductive sheet or the like to be applied to the printed wiring board is mentioned, the same problem may occur with respect to the entire conductive sheet.

본 발명은 상기 배경에 따라 이뤄진 것이며 그 목적으로 하는 것은 비용 저감이 가능하며 전도 특성이 뛰어나고, 예를 들면 수지와 함께 배합한 조성물을 시트 모양으로 형성했을 때 박막화가 가능한 도전성 미립자를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a conductive fine particle which can be reduced in thickness and which can be made thin when a composition blended with a resin is formed in a sheet form.

본 발명자들이 예의 검토를 거듭한 결과 다음과 같은 상태에서 본 발명의 과제를 해결할 수 있는 것을 찾아 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명에 관한 도전성 미립자는 도전성 물질을 포함한 핵체와, 상기 핵체를 피복하고 그 핵체와는 다른 도전성 물질로 구성되고 적어도 일부가 최 외층을 구성하는 피복 층을 구비하고, 하기 수학 식(1)에서 구해지는 원 지름도 계수의 평균치가 0.15 이상 0.4이하이며, 외연 형상에 홈 및 분기엽(分岐葉) 중 적어도 한쪽이 복수 형성되고 있다.As a result of intensive investigations by the present inventors, the inventors of the present invention have completed the present invention by finding what can solve the problems of the present invention in the following state. That is, the conductive fine particles according to the present invention comprise a core including a conductive material, and a coating layer covering the core and made of a conductive material different from the core, at least a part of which constitutes an outermost layer, ) Is 0.15 or more and 0.4 or less, and at least one of grooves and branch leaves is formed in the outer shape.

[수학 식 1][Equation 1]

원 지름도 계수=(면적×4Π)/(주위길이)2 Coefficient of circle diameter = (area × 4π) / (circumference) 2

위 구성의 본 발명에 따르면 비용 저감이 가능하며 전도 특성이 뛰어나고, 예를 들면 수지와 함께 배합한 조성물을 시트 모양으로 형성했을 때 박막화가 가능한 도전성 미립자를 제공할 수 있다는 우수한 효과를 나타낸다.According to the present invention, it is possible to provide conductive fine particles which can be reduced in thickness and which are excellent in conduction characteristics and can be made thin, for example, when a composition blended with a resin is formed into a sheet.

본 발명자들이 예의 검토를 거듭한 결과 놀랍게도 원 지름도 계수의 평균치를 상기 범위로 하는 한편, 외연 형상에 홈 및 분기엽의 최소 한쪽을 포함한 잎 모양의 도전성 미립자로 만듦으로써 전도 특성이 뛰어난 것으로 나타났다. 또 특허 문헌 3등의 나뭇가지 모양의 도전성 미립자를 배합할 경우 박막화하기 어렵다는 과제가 있었지만, 본 발명에 관한 도전성 미립자에 따르면 원 지름도 계수의 평균치를 상기 범위로 하는 한편, 상기 외연 형상으로 하는 것에 의해, 조성물에 혼련하여 층상으로 할 때 박막화할 수 있는 것을 알게 되었다. 또 핵체와 피복 층을 다른 도전성 물질을 이용해서, 재료 선택 사항을 늘리고 비용 절감을 달성할 수 있다.
As a result of intensive investigations by the present inventors, it has been surprisingly found that when the average value of the coefficient of circle diameter is within the above-mentioned range, the conductive fine particles are formed into leaf-like conductive fine particles containing at least one of grooves and branching leaves in the outer shape. In addition, there has been a problem that it is difficult to form thin films when tree-shaped conductive fine particles such as Patent Document 3 are mixed. However, according to the conductive fine particles of the present invention, the average value of the coefficient of circle diameter is within the above range, , It has been found that it can be thinned when it is kneaded into a composition to form a layer. Further, by using a conductive material different from the core and the covering layer, it is possible to increase the material selection and achieve cost reduction.

[도 1] 본 발명의 홈 또는 분기엽을 가진 도전성 미립자의 한 예를 보여 주는 전자 현미경 사진이다.
[도 2] 플레이크 모양 은가루의 전자 현미경 사진이다.
[도 3] 나뭇가지 모양의 은 코팅 구리 분말의 전자 현미경 사진이다.
[도 4] 접속 저항값 측정용 시험 샘플의 모식도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is an electron micrograph showing an example of conductive fine particles having a groove or a branch of the present invention. FIG.
Fig. 2 is an electron micrograph of a flake-shaped silver powder.
Fig. 3 is an electron micrograph of a silver-coated silver-coated copper powder.
4 is a schematic view of a test sample for measuring a connection resistance value.

이하, 본 발명을 구현한 실시 형태를 설명한다. 본 발명의 취지에 합치하는 한, 다른 실시 형태도 본 발명의 범주에 포함되는 것은 말할 필요도 없다. 또 본 명세서에서 "~"을 사용하여 특정되는 수치 범위는 "~"전후에 기재되는 수치를 하한치 및 상한치의 범위로 포함한다. 또 본 명세서에서 특히 언급하는 사항 이외의 것으로 본 발명의 실시에 필요한 사항은 해당 분야의 종래 기술에 기해 당업자의 설계 사항으로서 파악될 수 있다. 또 아래의 실시 형태는 서로 바람직하게 조합될 수 있다.DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will now be described. It is needless to say that other embodiments are included in the scope of the present invention as long as they are consistent with the purpose of the present invention. In the present specification, numerical ranges specified by using "~ " include numerical values written before and after" ~ "in the range of lower limit and upper limit. In addition, the matters necessary for the practice of the present invention other than those specifically mentioned in this specification can be understood as design matters of a person skilled in the art based on the prior art in the field. The embodiments described below can be combined with each other preferably.

(도전성 미립자) 본 발명의 도전성 미립자는 이른바 코어 쉘 타입의 입자이며 도전성 물질을 포함한 핵체와, 핵체를 피복하고 이 핵체와는 다른 도전성 물질로 구성된, 적어도 일부가 최 외층을 구성하는 피복 층을 구비한다. 피복 층은 핵체의 적어도 일부를 감싸고 있으면 좋지만 더 뛰어난 전도 특성을 얻기 위해서는 피복률이 높은 것이 좋다. 전도 특성을 잘 유지하는 관점에서는, 피복 층에 의한 평균 피복률을 60%이상으로 하는 것이 바람직하고, 70%이상으로 하는 것이 더 좋고 80%이상으로 하는 것이 더 좋다. 본 명세서의 평균 피복률은 후술하는 실시 예와 같은 방법으로 구한 값을 말한다.(Conductive Fine Particles) The conductive fine particles of the present invention are so-called core-shell type particles and include a core containing a conductive material and a coating layer covering at least a core and at least a part constituting the outermost layer, do. The covering layer should cover at least a part of the core, but it is preferable that the covering ratio is high in order to obtain better conduction characteristics. From the viewpoint of maintaining good conductivity characteristics, it is preferable that the average covering ratio by the covering layer is 60% or more, more preferably 70% or more, and more preferably 80% or more. The average coverage rate in the present specification refers to a value obtained by the same method as the following embodiment.

도전성 미립자는 핵체와 피복 층만으로 구성되어 있어도 좋지만 다른 층을 포함해도 좋다. 예를 들면, 핵체와 피복 층 사이의 접합을 공고히 하는 중간층, 접합 층 등을 비롯한 층이 형성되어 있어도 좋다. 또 핵체, 피복 층, 기타의 층은 각각 독립적으로 단일 종류로 구성되어 있어도 좋고 여러 종류로 구성되어 있어도 좋다. 또 핵체, 피복 층에서 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 도전성 물질 이외의 다른 물질이 혼련되어 있어도 좋다.The conductive fine particles may be composed of only the core and the covering layer, but may include other layers. For example, a layer including an intermediate layer, a bonding layer, or the like for enhancing bonding between the core and the covering layer may be formed. The core, the coating layer, and the other layers may be independently composed of a single kind or may be composed of various kinds. In addition, other materials other than the conductive material may be kneaded in the core and the covering layer within a range not deviating from the object of the present invention.

본 발명의 도전성 미립자는 다음 식(1)에서 구해지는 원 지름도 계수의 평균치가 0.15 이상 0.4 이하이며, 외연 형상에 홈 및 분기엽 중 적어도 한쪽이 복수 형성되어 있는 것이다.In the conductive fine particles of the present invention, the average value of the coefficients of circle diameter obtained in the following formula (1) is 0.15 or more and 0.4 or less, and at least one of grooves and branch leaves is formed in the outer shape.

[수학 식 1][Equation 1]

원 지름도 계수=(면적×4Π)/(주위길이)2 Coefficient of circle diameter = (area × 4π) / (circumference) 2

상기 식(1)의 원 지름도 계수에 의해 도전성 미립자의 외연의 불균형 정도(기복 정도)를 파악할 수 있다. 완전한 구는 원 지름도 계수가 1로 요철 모양의 증대에 따라 원 지름도 계수가 떨어진다. 즉, 원 지름도 계수는 0 보다 크고 1 이하이다. 본 명세서의 원 지름도 계수는 Mac-View Ver.4(마운텍사)의 해석 소프트웨어를 이용하여, 도전성 미립자의 전자 현미경 사진(천배~1만배 정도)를 읽어, 수동 인식 모드에서 도전성 입자를 약 20개 선택했다. 잎이나 플레이크 모양의 입자를 선택할 때, 입자끼리 겹쳐 있지 않은 입자 형태 전체가 확인될 수 있는 것으로, 관찰 시점으로부터 평면 판이 수직이 되는 각도의 것을 추출해 선택했다. 입자 기준 데이터는 투영 면적 원 상당 지름, 분포는 부피 분포의 설정으로 하고, 원 지름도 계수와 원형 계수를 산출해 20개의 평균치를 구했다. 상기 수학 식(1)에서 면적은 2차원에 투영했을 때의 외주를 형성하는 선의 내부 면적을 평판 면으로 하고, 이 평판 면을 2차원에 투영했을 때의 도전성 미립자의 외주를 둘레 길이의 길이로 한다.The unevenness degree (undulation degree) of the outer edge of the conductive fine particles can be grasped by the coefficient of circle diameter of the formula (1). A complete circle has a coefficient of 1 of the circle diameter, and the coefficient of the circle diameter is lowered as the shape of the concave and convex increases. That is, the coefficient of circle diameter is larger than 0 and smaller than 1. The circle diameter coefficient of the present specification was obtained by reading an electron microscope photograph (about 1,000 to 10,000 times) of the conductive fine particles using the analysis software of Mac-View Ver.4 (Mountaineck) I chose dogs. When selecting a leaf or flake-like particle, an entire particle shape not overlapping with each other can be identified, and an angle at which the plane plate becomes perpendicular from the observation point was extracted and selected. In the particle reference data, the average of the projected area circle diameter and the distribution of the volume distribution were set, and the average of 20 pieces of the circle diameter coefficient and the circular coefficient was calculated. In the equation (1), the area of the line forming the outer periphery when projected in two dimensions is the flat surface, and the outer periphery of the conductive fine particles when the flat surface is projected in two dimensions is the length of the peripheral length do.

상기 수학 식(1)에서 구해지는 원 지름도 계수의 평균치를 0.15 이상 0.4 이하로 하고 외연 형상에 홈 및 분기엽 중 적어도 한쪽이 복수 형성되고 있는 것을 이용한 코어 쉘 타입의 도전성 미립자를 이용함으로써, 비용 저감이 가능하며 도전 특성이 뛰어나고, 박막화가 가능하다. 원 지름도 계수의 하한치는 절연 층에 대한 도전 필러의 돌발 방지의 관점에서 0.15 이상이 더 좋고, 0.20 이상으로 하는 것이 더욱 바람직하다. 또 원 지름도 계수의 상한치는 도전 층의 시트 저항의 관점에서 0.4 이하가 더 좋고 0.3 이하로 하는 것이 더욱 바람직하다. 상기 원 지름도 계수의 평균치, 원형 계수의 평균치는 1㎠당 정의하는 입자가 약 10개 이상 존재하는 것이 바람직하다.By using the core-shell type conductive fine particles using the core having an average value of the coefficients of circle diameter obtained in the above-mentioned formula (1) of not less than 0.15 and not more than 0.4 and using at least one of grooves and branch foliage in the outer shape, Can be reduced, excellent in conductive characteristics, and can be made thinner. The lower limit value of the coefficient of circle diameter coefficient is more preferably 0.15 or more and more preferably 0.20 or more from the viewpoint of prevention of the occurrence of the breakage of the conductive filler with respect to the insulating layer. Further, the upper limit value of the coefficient of circle diameter is more preferably 0.4 or less from the viewpoint of the sheet resistance of the conductive layer, and more preferably 0.3 or less. It is preferable that the average value of the circle diameter coefficient and the average value of the circular coefficient exist in about 10 or more particles defined per 1 cm 2.

또한, 도 3과 같은 나뭇가지 모양의 도전성 미립자의 원 지름도 계수는 대체로 0.11 이하이고, 플레이크 모양의 도전성 미립자의 원 지름도 계수는 0.4 초과, 0.5 이하 정도이다.The coefficient of circle diameter of the branch-shaped conductive fine particles as shown in Fig. 3 is generally 0.11 or less, and the coefficient of circle diameter of the flaky conductive fine particles is more than 0.4 and less than 0.5.

본 발명의 도전성 미립자는, 하기 수학 식 (2)에서 구해지는 원화 정도를 나타내는 원형 계수의 평균치가 2 이상 5 이하인 것이 바람직하다.In the conductive fine particles of the present invention, it is preferable that the average value of the circular coefficient indicating the degree of circle obtained from the following formula (2) is 2 or more and 5 or less.

[수학 식 2]&Quot; (2) "

원형 계수=(최대직경×최대직경×Π)/(4×면적)Circular coefficient = (maximum diameter x maximum diameter x pi) / (4 x area)

여기서 최대 직경은 선택 입자의 최대 길이의 길이이다. 원형 계수를 상기 범위로 하는 것에 의해 도전성이 더 향상된다는 효과를 얻는다. 절연 층에 대한 전도 필러 돌발 방지의 관점에서, 원형 계수의 보다 바람직한 상한치는 4.5 이하이며, 더 바람직하게는 4.0 이하이다. 또 도전 층의 시트 저항의 관점에서 원형 계수의 보다 바람직한 하한치는 2 이상으로, 더 바람직하게는 2.4 이상이다. 원형 계수에 의한 미립자 전체의 형상이 원에 가까운지 여부를 알 수 있다(수치가 작을수록 원에 가까움). 또한 원형 계수는 원 지름도 계수에서 사용한 해석 소프트웨어(Mac-View Ver.4)을 사용한 형상 계수 3이다.Where the maximum diameter is the length of the maximum length of the selected particles. When the circular coefficient is in the above range, the effect that the conductivity is further improved is obtained. From the viewpoint of preventing breakage of the conductive filler with respect to the insulating layer, the more preferable upper limit value of the circular coefficient is 4.5 or less, and more preferably 4.0 or less. Further, the lower limit value of the circular coefficient is more preferably 2 or more, more preferably 2.4 or more, from the viewpoint of the sheet resistance of the conductive layer. It is possible to know whether the shape of the entire fine particles by the circular coefficient is close to a circle (the smaller the value, the closer the circle is). Also, the roundness coefficient is the shape coefficient 3 using the analysis software (Mac-View Ver.4) used in the circle diameter coefficient.

본 발명의 도전성 미립자는, 다시 말하면 홈 및 분기엽의 최소 한쪽을 복수 가진 잎 모양 도전성 미립자이다. 도 1에 본 발명에 관한 도전성 미립자의 한 예를 보여 주는 전자 현미경 영상을 나타낸다. 이 도면의 경우, 핵체로 구리 분말을 피복 층으로 은을 사용한 것이다. 이 도면에 나타나듯이, 도전성 미립자는 그 외연 형상에 홈 및 분기엽 중 적어도 한쪽이 복수 형성되어 있다. 다시 말하면 홈, 분기엽 또는 이와 비슷한 형상이 복수 형성된다. 이하 본 발명의 도전성 미립자를 "잎 모양의 도전성 미립자"라고도 한다.The conductive fine particles of the present invention are, in other words, leaf-like conductive fine particles having at least one of grooves and branches. Fig. 1 shows an electron microscope image showing an example of the conductive fine particles according to the present invention. In this drawing, copper is used as a nucleus and silver is used as a covering layer. As shown in this figure, the conductive fine particles have at least one of a groove and a branch leaf formed in an outer peripheral shape thereof. In other words, a plurality of grooves, branches, or similar shapes are formed. Hereinafter, the conductive fine particles of the present invention are also referred to as "leaf-shaped conductive fine particles ".

도전성 미립자의 두께는 0.1~2μm이 바람직하고, 0.2~1μm이 더 바람직하다. 두께가 0.1~2μm의 범위가 되는 것으로 도전성 시트의 도전성을 유지하면서 더 얇게 제조할 수 있다. 또, 그 두께는 전자 현미경으로 천배~5만배 정도로 확대한 화상을 바탕으로 얻은 것이며 여기서 말하는 "두께"는 전자 현미경의 1만배 화상에서, 다른 입자를 약 10~20개를 측정하여 그 평균치를 사용했다.The thickness of the conductive fine particles is preferably 0.1 to 2 占 퐉, more preferably 0.2 to 1 占 퐉. And the thickness is in the range of 0.1 to 2 占 퐉 so that it can be made thinner while maintaining the conductivity of the conductive sheet. In addition, the thickness is obtained based on an image enlarged to about 50 to 50,000 times by an electron microscope, and the term "thickness" used herein means that about 10 to 20 different particles are measured in an electron microscope image 10,000 times, did.

또, 도전성 미립자의 평균 입자 지름(D50)은 1~100μm이 바람직하다. 평균 입자 지름(D50)이 1~100μm의 범위 내에 있는 것으로 도전성이 더 향상되고 나아가 예를 들면 수지와 배합하여 도전성 수지 조성물을 제조한 경우에 그 용액 안정성을 보다 향상시킬 수 있다. 도전성 미립자의 평균 입자 지름(D50)은 3μm 이상이 더 좋고 50μm 이하가 더 바람직하다. 평균 입자 지름(D50)은 레이저 회절·산란법 입도 분포 측정 장치 LS 13 320(베크만 콜터 사제)을 사용해 토네이도 드라이 파우더 샘플 모듈에서 각 도전성 미립자를 측정해 얻은 수치이며, 입자의 적산 값이 50%인 입도의 직경의 평균 입경이다. 또, 굴절률의 설정은 1.6으로 했다.The average particle diameter (D50) of the conductive fine particles is preferably 1 to 100 mu m. The average particle diameter (D50) is in the range of 1 to 100 mu m, which further improves the conductivity and further improves the solution stability when the conductive resin composition is blended with, for example, a resin. The average particle diameter (D50) of the conductive fine particles is more preferably 3 m or more and more preferably 50 m or less. The average particle size (D50) was obtained by measuring each conductive fine particle in a tornado dry powder sample module using a laser diffraction scattering method particle size distribution measuring device LS 13 320 (manufactured by Beckman Coulter Co.). The particle size was 50% The average particle size of the particle diameter. The refractive index was set at 1.6.

또, 도전성 미립자를 도전성 시트의 형태로 했을 때의 평균 입자 지름(D50)의 측정 방법은 원 지름도 계수를 측정하는 방법과 같은 조건에서 도전성 미립자를 SEM 관찰하고, 영상 해석 소프트웨어 Mac-View Ver.4(마운텍사)로, 입자 기준 데이터는 투영 면적 원 상당 지름, 분포는 부피 분포의 설정으로 하여, 평균 입자 지름(D50)을 구한다.The average particle diameter (D50) when the conductive fine particles were in the form of a conductive sheet was measured by SEM observation of the conductive fine particles under the same conditions as the method of measuring the coefficient of circle diameter, and the image analysis software Mac-View Ver. 4 (manufactured by MOUNTAX CORPORATION), and the average particle size (D50) is determined by setting the diameter of the projected area circle corresponding to the particle reference data and the volume distribution of the distribution.

핵체는 도전성 미립자의 코어부로 기능한다. 핵체는 전도 특성을 향상시킨다는 관점에서 도전성 물질만으로 구성하는 것이 좋지만 비 도전성 물질이 포함돼 있어도 좋다. 핵체의 원료는 이들을 충족시키는 것이라면 특히 한정되지 않지만, 도전성 금속, 도전성 카본 또는 도전성 수지 등을 예시할 수 있다. 도전성 금속은 예를 들면, 금, 백금, 구리 니켈, 알루미늄, 철, 또는 그 합금 등 또는 ITO 등이 있는데, 가격과 도전성 측면에서 구리가 좋다. 또, 도전성 카본은 예를 들면, 아세틸렌 블랙, 켓첸 블랙, 퍼니스 블랙, 카본 나노 튜브, 카본 나노 섬유, 그라파이트 및 그래핀 등이 좋다. 또, 도전성 수지의 경우는 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리아세틸렌 및 폴리티오펜 등이 좋다. 핵체는 그 자신이 도전성을 갖는 것이 바람직하다.The core serves as the core portion of the conductive fine particles. The core is preferably composed of only a conductive material from the viewpoint of improving conduction characteristics, but it may contain a non-conductive material. The raw material for the core is not particularly limited as long as it satisfies these requirements, but examples thereof include a conductive metal, a conductive carbon, and a conductive resin. The conductive metal is, for example, gold, platinum, copper nickel, aluminum, iron or an alloy thereof, or ITO. Copper is preferable in terms of price and conductivity. Examples of the conductive carbon include acetylene black, ketjen black, furnace black, carbon nanotube, carbon nanofiber, graphite, and graphene. In the case of the conductive resin, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), polyacetylene and polythiophene are preferable. It is preferable that the core itself has conductivity.

피복 층은 핵체와는 다른 도전성 물질로 이루어진 것이다. 피복 층에 이용할 수 있는 도전성 물질은, 핵체에서 열거된 물질을 예시할 수 있다. 그 중에서도 전도 특성이 높은 물질을 사용하는 것이 본 발명의 목적에 부합한다. 구체적으로는 금, 백금 또는 은이 바람직하고, 특히 은이 더 좋다. 현재의 기술에서는 금속 이외의 도전성 물질, 예를 들어 도전성 수지 등은 도전성이 낮지만 향후 기술이 진보해 도전성이 향상되면, 도전성 수지 등도 피복 층으로 바람직하다. 비용 절감과 전도 특성의 향상을 양립시킨다는 관점에서 피복 층에 전도 특성이 뛰어난 도전성 물질을, 핵체에 비용 면에서 유리한 도전성 물질을 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 핵체와 피복 층의 층간에 도전성의 중간층을 마련할 수 있다.The covering layer is made of a conductive material different from the core. Conductive materials usable for the coating layer can be exemplified by substances listed in the core. Among them, the use of a material having a high conduction characteristic is in accordance with the object of the present invention. Specifically, gold, platinum or silver is preferable, and silver is particularly preferable. Conductive materials other than metals, such as conductive resins, are low in conductivity in the present technology, but conductive resins and the like are also preferable as the covering layer as the technology advances and the conductivity is improved. It is preferable to use a conductive material having excellent conduction characteristics for the coating layer and a conductive material having a cost advantageous to the nucleation layer from the viewpoint of achieving both cost reduction and improvement in conduction characteristics. Further, a conductive intermediate layer can be provided between the core and the covering layer.

피복 층은 핵체 100중량부에 대해 1~40중량부의 비율로 코팅하는 것이 좋고, 5~30중량부가 더 바람직하고 5~20중량부가 더 바람직하다. 1~40중량부의 범위 내의 피복 층을 이용함으로써, 피복 층으로 이용하는 도전성 물질의 사용량을 절감하면서 전도 특성을 끌어낼 수 있다. 예를 들면, 핵체로 구리를 이용하고 피복 층으로 은을 이용한 경우에 전도 특성을 유지하면서 도전성 미립자의 가격을 효과적으로 저감할 수 있다.The coating layer is preferably coated at a ratio of 1 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the core, more preferably 5 to 30 parts by weight, still more preferably 5 to 20 parts by weight. By using the covering layer in the range of 1 to 40 parts by weight, it is possible to draw the conductive characteristic while reducing the amount of the conductive material used as the covering layer. For example, when copper is used as the core and silver is used as the covering layer, the cost of the conductive fine particles can be effectively reduced while maintaining the conductive property.

본 발명의 도전성 미립자에 따르면 원 지름도 계수의 평균치를 상기 범위로 하는 한편, 외연 형상에 홈 및 분기엽 중 적어도 하나를 포함시키는 잎 모양의 도전성 미립자로 만듦으로써 전도 특성이 뛰어난 것으로 나타났다. 이는 요철이나, 기복이 거의 없는 플레이크 모양의 도전성 미립자보다 입자의 요철을 늘리고, 입자의 외연 형상에 홈 및 분기엽 중 적어도 하나를 포함하는 잎 모양으로 함으로써, 층상으로 할 때 도전성 미립자의 접촉점을 증대할 수 있었던 것으로 고찰하고 있다. 또 나뭇가지 모양의 도전성 미립자에 의하면 박막화가 어렵다는 문제가 있었지만, 본 발명에 관한 도전성 미립자에 따르면 쉽게 박막화할 수 있다. 이는 나뭇가지 모양보다 평탄화되었기 때문이다. 또 핵체와 피복 층 간에 다른 도전성 물질을 이용해서, 재료 선택 사항을 늘리고 비용 절감을 달성할 수 있다.According to the conductive fine particles of the present invention, when the average value of the coefficient of circle diameter is within the above-mentioned range, the conductive fine particles are formed into a leaf-like conductive fine particle containing at least one of grooves and branch leaves in the outer shape. This makes it possible to increase the contact points of the conductive fine particles in the layered state by increasing the irregularities of the particles and by forming the outline shape of the particles in the shape of a leaf including at least one of grooves and branching leaves, I think that it was possible to do. Further, according to the conductive fine particles having a branch shape, there is a problem that it is difficult to form a thin film. However, according to the conductive fine particles of the present invention, it is possible to easily make a thin film. This is because it is more flattened than the branches. It is also possible to increase material choice and achieve cost savings by using different conductive materials between the core and the coating layer.

또한 본원 발명의 도전성 미립자는 코어 쉘 타입이지만 단일의 도전성 물질에서, 상기 원 지름도 계수, 외연 형상을 만족하는 입자를 제조한 경우에도 뛰어난 전도 특성 및 박막화를 달성할 수 있다. 따라서, 은 등의 가격이 저하했을 경우, 비용 절감의 과제를 해결하면 단일의 도전성 물질에서도 유용하다. 또 구리를 사용하면 산화에 의해 전도 특성이 떨어진다는 문제가 있지만, 산화 방지 기술 개발에 따른 전도 특성이 양호하게 유지된다면 단일의 도전성 물질에서도 유용하다.Further, the conductive fine particles of the present invention are core shell type, but excellent conductivity and thinning can be achieved even when particles having a coefficient of circle diameter and outer shape are produced from a single conductive material. Therefore, when the price of silver or the like is lowered, solving the problem of cost reduction is useful in a single conductive material. The use of copper also has the problem of degradation of conductivity due to oxidation, but it is also useful in a single conductive material if the conductivity characteristics of the development of antioxidant technology remain good.

(도전성 미립자의 제조 방법) 본 발명의 도전성 미립자의 제조 방법은 도전성 물질을 포함한 핵체와, 이 핵체를 피복하고 그 핵체와는 다른 도전성 물질로 구성되고, 적어도 일부가 최 외층을 구성하는 피복 층을 구비하는 도전성 미립자의 제조 방법이다. 보다 세부적으로는 도전성을 가지는 나뭇가지 모양 미립자와, 나뭇가지 모양 미립자에 충돌시킴으로써 해당 나뭇가지 모양 미립자를 변형시키기 위한 고체 매체를 준비하는 공정과 나뭇가지 모양 미립자와 고체 매체를 밀폐 용기 내에서 충돌시킴으로써 해당 나뭇가지 모양 미립자를 하기 수학 식(1)에서 구해지는 원 지름도 계수가 0.15 이상 0.4 이하이며, 외연 형상에 홈 및 분기엽 중 적어도 한쪽이 복수 형성되도록 변형시키는 공정을 갖추는 것이다.(Method for Producing Conductive Fine Particles) The method for producing conductive fine particles of the present invention is a method for producing conductive fine particles comprising a core containing a conductive material and a coating layer formed of a conductive material which covers the core and is different from the core, And a method for producing the conductive fine particles. The method comprising the steps of preparing a solid medium for deforming the twig shaped fine particles by colliding with the twig shaped fine particles having more electric conductivity and collision with the twig shaped fine particles and a step of colliding the twig shaped fine particles and the solid medium in a hermetically sealed container And a step of deforming the branch-like fine particles so that a plurality of the grooves and the branching leaves are formed in the outer shape with a coefficient of circle diameter obtained by the following formula (1) is 0.15 or more and 0.4 or less.

[수학 식 1][Equation 1]

원 지름도 계수=(면적×4Π)/(주위길이)2 Coefficient of circle diameter = (area × 4π) / (circumference) 2

이하, 본 발명의 도전성 미립자의 제조 방법을 구현하기 위해 바람직한 일례를 설명한다. 단, 이하의 제조 방법에 따라 한정되는 것이 아니라 각종 제조 방법이 가능하다.Hereinafter, preferred examples for implementing the method for producing conductive fine particles of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to the following production methods, but various production methods are possible.

본 발명의 도전성 미립자의 제조 방법은 도전성을 가지는 나뭇가지 모양 미립자와 이 나뭇가지 모양 미립자에 충돌시킴으로써 해당 나뭇가지 모양 미립자를 변형시키기 위한 고체 매체를 준비하는 공정(단계 1)과, 나뭇가지 모양 미립자와 고체 매체를 밀폐 용기 내에서 충돌시킴으로써 해당 나뭇가지 모양 미립자를 변형시키는 공정(단계 2)을 갖춘다.The method for producing conductive fine particles according to the present invention comprises a step of preparing a solid medium for deforming the branch-like fine particles by colliding the branch-like fine particles having conductivity with the branch-like fine particles (Step 1) And a step of deforming the branch-shaped fine particles by colliding the solid medium with each other in the closed vessel (step 2).

단계 1에서, 나뭇가지 모양 미립자는 도 3과 같은 이른바 나뭇가지 모양(덴드라이트 모양)의 전도 특성을 가진 입자를 준비한다. 나뭇가지 모양 미립자는 핵체와 피복 층을 구비해서 이루어지는 잎 모양의 도전성 미립자의 전구체인 비-잎 모양의 도전성 미립자를 바람직하게 사용할 수 있으며, 핵체로만 이루어지는 나뭇가지 모양 미립자도 좋다. 이 경우에는 단계 2의 처리 후에, 단계 3으로 핵체에 피복 층을 마련하는 공정을 실시한다.In step 1, the twig shaped particles prepare particles having a so-called twig shape (dendritic shape) as shown in FIG. The branch-like fine particles may be preferably non-leaf-shaped conductive fine particles which are precursors of leaf-shaped conductive fine particles comprising a core and a coating layer, and may also be twig shaped fine particles composed only of nuclei. In this case, a step of providing a coating layer on the core is performed in step 3 after the treatment in step 2.

단계 1의 고체 매체는, 나뭇가지 모양 미립자에 충돌시킴으로써 나뭇가지 모양 미립자를 수학 식(1)에서 구해지는 원 지름도 계수가 0.15 이상 0.4 이하이며, 외연 형상에 홈 및 분기엽 중 적어도 한쪽이 복수 형성된 도전성 미립자가 얻어지는 것이라면 특히 한정되지 않는다.The solid medium of step 1 is a solid medium having a coefficient of diameter of 0.15 or more and 0.4 or less as determined by the formula (1) by colliding the twig shaped microparticles with the twig shaped microparticles, wherein at least one of the groove and the branched leaf So long as the formed conductive fine particles can be obtained.

고체 매체는 철 등의 금속, 유리와 지르코니아, 알루미나, 플라스틱, 티타니아 및 세라믹 등의 소재가 좋다. 또, 밀폐 용기는 볼 밀, 샌드 밀 등 공지의 분산기 또는 분쇄기 등을 사용할 수 있으며 고체 매체의 형상은 구 모양, 타원형 등 요철이 적은 형상이 바람직하다. 고체 매체의 크기는 예를 들어 0.1~3mm 정도이다. 또 고체 매체의 비중은 예컨대 1.0~10.0 정도이다.The solid medium is preferably made of metal such as iron, glass, zirconia, alumina, plastic, titania and ceramic. The closed container may be a well-known dispersing device such as a ball mill or a sand mill, or a pulverizer. The solid medium preferably has a spherical shape, an elliptical shape, and other shapes with less irregularities. The size of the solid medium is, for example, about 0.1 to 3 mm. The specific gravity of the solid medium is, for example, about 1.0 to 10.0.

단계 2로, 나뭇가지 모양 미립자와 고체 매체를 밀폐 용기 내에 투입해 나뭇가지 모양 미립자와 고체 매체를 충돌시킨다. 나뭇가지 모양 미립자에 고체 매체가 충돌함으로써 나뭇가지 모양 미립자가 변형하여 예를 들어 도 1에 나타낸 바와 같은 잎 모양의 도전성 미립자를 얻을 수 있다. 도전성 입자 제조시에는 수지의 존재하에서 고체 매체를 충돌시켜도 좋다. 이에 따라 도전성 미립자의 제조와 동시에 후술하는 도전성 수지 조성물을 제조할 수 있다. 단계 2의 충돌시키기 위한 분산 시간과 충돌 조건은 상기 특성의 도전성 미립자가 얻을 수 있는 조건이면 특히 한정되지 않는다. 예를 들어 분산 시간을 10분~60분으로 할 수 있다.In Step 2, the twig shaped fine particles and the solid medium are put into a closed container to collide the twig shaped fine particles with the solid medium. The solid particles collide with the branch-like fine particles, so that the branch-shaped fine particles are deformed to obtain, for example, leaf-like conductive fine particles as shown in Fig. During the production of the conductive particles, the solid medium may be impinged in the presence of the resin. Thus, the conductive resin composition described later can be produced simultaneously with the production of the conductive fine particles. The dispersion time and the collision condition for collision of step 2 are not particularly limited as long as the condition that the conductive fine particles of the characteristic can be obtained. For example, the dispersion time can be 10 minutes to 60 minutes.

도전성 미립자를 제조할 때, 도전성 미립자에 첨가하는 것으로서 증점제, 분산제, 중금속 불활성화제 등을 사용할 수 있다. 증점제를 사용하는 것으로, 미립자가 지나치게 침강하는 것을 억제할 수 있다. 증점제는 예를 들어 실리카계 화합물, 폴리카르복실산계 화합물, 폴리우레탄계 화합물, 우레아계 화합물 및 폴리아미드계 등을 들 수 있다. 분산제를 사용함으로써 도전성 미립자의 분산성이 보다 향상된다. 분산제는 예를 들면 카복실산과 인산기로 구성된 산성 분산제, 또는 아민기를 포함한 염기성 분산제, 산 염기로 중화된 염 타입의 분산제가 꼽힌다.When the conductive fine particles are produced, a thickener, a dispersant, a heavy metal deactivator and the like may be used as additives to the conductive fine particles. By using a thickener, excessive sedimentation of the fine particles can be suppressed. Examples of the thickening agent include silica-based compounds, polycarboxylic acid-based compounds, polyurethane-based compounds, urea-based compounds and polyamide-based ones. By using a dispersant, the dispersibility of the conductive fine particles is further improved. As the dispersing agent, for example, an acidic dispersing agent composed of a carboxylic acid and a phosphoric acid group, a basic dispersing agent containing an amine group, and a dispersing agent of a salt type neutralized with an acid base are mentioned.

중금속 불활성화제를 사용함으로써 불순물로서 금속 이온을 포함한 경우에도 도전성이 저해되기 어려워진다. 중금속 불활성화제로는 아세틸 아세톤, 카르복시 벤조 트리아졸계 화합물, 힌더드페놀계 화합물, 히드라진계 화합물, 티오카르바에트계 화합물, 살리실산계 이미다졸 및 티아디아졸계 화합물 등을 들 수 있다. 또 화학 식(1)으로 나타내는 단위를 가진 화합물(이하, "화합물 A"라고 칭한다)이 바람직한 예로 꼽힌다.By using a heavy metal deactivator, even when a metal ion is contained as an impurity, the conductivity is hardly inhibited. Examples of heavy metal deactivators include acetylacetone, carboxybenzotriazole compounds, hindered phenol compounds, hydrazine compounds, thiocarbazole compounds, salicylic acid imidazole compounds and thiadiazole compounds. A compound having a unit represented by the formula (1) (hereinafter referred to as "compound A") is a preferred example.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

화합물 A의 첨가 양은 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 국한되지 않지만, 후술하는 도전성 수지 조성물의 점성도 안정성, 도전성 시트의 저항값의 시간 경과에 따른 안정성, 전자파 차폐 시트의 접착력의 시간 경과에 따른 안정성의 관점으로부터, 도전성 미립자 100중량부에 대해 0.1중량부 이상 30중량부 이하로 하는 것이 바람직하다. 시간 경과에 따른 안정성을 향상시키는 관점에서 0.5중량부 이상이 더 좋다. 또, 비용 저감의 관점에서는, 15중량부 이하가 더 좋다.The amount of the compound A to be added is not limited to the range not deviating from the object of the present invention. However, the stability of the conductive resin composition, From the viewpoint of stability, it is preferable that the amount is not less than 0.1 parts by weight and not more than 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the conductive fine particles. More preferably 0.5 part by weight or more from the viewpoint of improving the stability with time. From the viewpoint of cost reduction, 15 parts by weight or less is more preferable.

화합물 A는 여러 가지 화합물이 있고 특히 한정되지 않지만 좋은 예로서, 예를 들어, N-살리실로일-N'-알데히드라진, N, N-디벤잘(옥잘히드라지드), 이소프랄산비스(2-페녹시프로피오닐히드라진), 3-(N-살리틸로일)아미노-1,2,4-히드록시페닐)프로피오닐]히드라진, 화학식(2)(데카메틸렌 카르복실산 디살리틸로일히드라지드) 및 화학식(3)(N,N'-2[3-(3,5-디아-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐]히드라진)을 예시할 수 있다. 이들 중에서도 화학식(2) 및 화학식(3)의 화합물이 더 좋다. 이들을 포함하는 것에 의해, 신뢰성 높은 도전성 수지 조성물을 제공할 수 있다. 첨가 시기는 도전성 입자 제조시에 국한되지 않고, 도전성 입자 제조 후의 도전성 입자와 수지를 혼합할 때, 도전성 수지 조성물을 제조 후 등에 첨가해도 좋다.Compound A includes various compounds and is not particularly limited, and examples thereof include N-salicyloyl-N'-aldehydrazine, N, N-dibenzal (oxalhydrazide), isophoric acid bis (2- Amino-1,2,4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine, a compound represented by the formula (2) (decamethylenecarboxylic acid disalicyloylhydrazine), 3- (N-salicyloyl) (N, N'-2 [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine) represented by the formula (3). Among them, the compounds of the formulas (2) and (3) are more preferable. By including them, a highly reliable conductive resin composition can be provided. The addition timing is not limited to the production of the conductive particles, and the conductive resin composition may be added after the conductive resin composition is mixed with the conductive particles after the production of the conductive particles.

[화학식 2](2)

Figure pct00002
Figure pct00002

[화학식 3] (3)

Figure pct00003
Figure pct00003

도전성 미립자의 일례로서 은 코팅 구리 분말의 제조의 예에 대해 이하에 설명한다.An example of the production of silver coated copper powder as an example of the conductive fine particles will be described below.

[제조 예 1] 우선 구리 분말에 은도금을 입힌 나뭇가지 모양의 은 코팅 구리 분말을 준비한다. 은 코팅 구리 분말을 고체 매체와 함께 밀폐 용기에 집어넣어, 밀폐 용기 내에서 고체 매체를 은 코팅 구리 분말에 충돌시켜 나뭇가지 모양의 은 코팅 구리 분말을 본원 발명의 도전성 미립자로 변형시킨다. 고체 매체가 은 코팅 구리 분말의 나뭇가지 모양 부분에 충돌함으로써 본원 발명의 홈 또는 분기엽을 가진 도전성 미립자가 얻을 수 있으며, 은 코팅 구리 분말을 투입하는 시기에 중금속 불활성화제 등의 첨가제, 및/또는 도전성 수지 조성물에 이용하는 수지를 투입해도 좋다. 도전성 수지 조성물이나 첨가제를 추가함으로써 도전성 미립자의 제조와 동시에 후술하는 도전성 수지 조성물을 제조할 수도 있다.[Preparation Example 1] First, a silver-coated silver-coated copper powder coated with silver is prepared on a copper powder. The silver coated copper powder is put into a sealed container together with the solid medium and the solid medium is collided with the silver coated copper powder in the closed container to transform the silver coated copper powder of the branch shape into the conductive fine particles of the present invention. The solid medium can collide with the branches of the silver-coated copper powder to obtain the conductive fine particles having the grooves or branches of the present invention, and at the time of applying the silver-coated copper powder, additives such as heavy metal deactivators and / A resin used for the conductive resin composition may be added. A conductive resin composition or an additive may be added to produce a conductive resin composition described later simultaneously with the production of the conductive fine particles.

[제조 예 2] 우선 나뭇가지 모양의 구리 분말을 준비한다. 이 구리 분말을 고체 매체와 함께 밀폐 용기에 집어넣어, 밀폐 용기 내에서 고체 매체를 구리 분말에 충돌시켜 나뭇가지 모양의 구리 분말을 본원 발명의 도전성 미립자로 변형시킨다. 고체 매체가 구리 분말의 나뭇가지 모양 부분에 충돌함으로써 홈 또는 분기엽을 가지는 구리 분말를 얻을 수 있다. 이어, 얻은 홈 또는 분기엽을 가지는 구리 분말에 도금 처리에 의해 은을 코팅함으로써 본원 발명의 홈 또는 분기엽을 가진 도전성 미립자를 얻을 수 있다.[Preparation Example 2] First, a branch-shaped copper powder is prepared. This copper powder is put into a sealed container together with a solid medium, and the solid medium is impinged on the copper powder in the closed container to transform the branch-shaped copper powder into the conductive fine particles of the present invention. The solid medium collides with the branches of the copper powder to obtain a copper powder having grooves or branches. Then, silver is coated on the obtained copper powder having grooves or branching lines by a plating treatment to obtain the conductive fine particles having grooves or branches of the present invention.

(도전성 수지 조성물) 다음으로 본 발명의 도전성 수지 조성물에 대해 설명한다. 본 발명의 도전성 수지 조성물은 본 발명의 도전성 입자와 수지를 포함하는 것이다. 본 발명의 도전성 수지 조성물에는 본 발명의 목적을 일탈하지 않는 범위에서 상기 본 발명의 도전성 미립자 이외의 도전성 미립자를 포함해도 좋다. 단, 신뢰성을 향상시킨다는 관점에서는, 본 발명의 도전성 미립자 이외의 도전성 미립자는, 예를 들면, 수지 100중량부에 대해 3중량부 이하 정도로 하는 것이 바람직하다.(Conductive resin composition) Next, the conductive resin composition of the present invention will be described. The conductive resin composition of the present invention comprises the conductive particles and the resin of the present invention. The conductive resin composition of the present invention may contain conductive fine particles other than the conductive fine particles of the present invention within the range not deviating from the object of the present invention. However, from the viewpoint of improving the reliability, it is preferable that the conductive fine particles other than the conductive fine particles of the present invention are, for example, about 3 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the resin.

도전성 수지 조성물에 사용하는 수지는 열가소성 수지 또는 경화성 수지를 사용할 수 있다. 경화성 수지는 열 경화성 수지 또는 광 경화성 수지가 좋다.As the resin used for the conductive resin composition, a thermoplastic resin or a curable resin can be used. The curable resin is preferably a thermosetting resin or a photocurable resin.

열가소성 수지로서는 폴리올레핀계 수지, 비닐계 수지, 스티렌·아크릴계 수지, 디엔계 수지, 테르펜 수지, 석유 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리아미드 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리이미드계 수지, 불소 수지 등을 들 수 있다.Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins, vinyl resins, styrene / acrylic resins, diene resins, terpene resins, petroleum resins, cellulose resins, polyamide resins, polyurethane resins, polyester resins, polycarbonate resins, , Fluororesin, and the like.

폴리올레핀계 수지는, 에틸렌, 프로필렌, α-올레핀 화합물 등의 단일 중합체 또는 공중합체가 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 에틸렌 프로필렌 고무, 올레핀계 열 가소성 엘라스토머, α-올레핀 중합체 등을 들 수 있다.As the polyolefin-based resin, homopolymers or copolymers such as ethylene, propylene, and -olefin compounds are preferable. Specific examples thereof include polyethylene, ethylene propylene rubber, olefin thermoplastic elastomer and? -Olefin polymer.

비닐계 수지는 초산 비닐 등의 비닐 에스테르의 중합에 의해 얻어지는 중합체 및 비닐 에스테르와 에틸렌 등의 올레핀 화합물과의 공중합체가 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면, 에틸렌-아세트산 비닐 공중 합체, 부분 켄화 폴리비닐 알코올 등을 들 수 있다.The vinyl resin is preferably a copolymer obtained by polymerization of a vinyl ester such as vinyl acetate or a copolymer of a vinyl ester and an olefin compound such as ethylene. Specific examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymer, partially-blocked polyvinyl alcohol, and the like.

스티렌·아크릴계 수지는 스티렌, (메타)아크릴로니트릴, 아크릴 아미드류, (메타)아크릴산 에스테르, 말레이미드류 등으로 구성된 단일 중합체 또는 공중합체가 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면, 신디오탁틱 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴, 아크릴 공중합체, 에틸렌-메틸 메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있다.The styrene / acrylic resin is preferably a homopolymer or a copolymer composed of styrene, (meth) acrylonitrile, acrylamides, (meth) acrylic acid esters, maleimides and the like. Specific examples thereof include syndiotactic polystyrene, polyacrylonitrile, acrylic copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer, and the like.

디엔계 수지는 부타디엔과 이소프렌 등의 공역 디엔 화합물의 단일 중합체 또는 공중합체 및 그것들의 수소 첨가물이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면, 스티렌-부타디엔 스티렌-이소프렌 블록 공중합체 등을 들 수 있다.As the diene resin, homopolymers or copolymers of conjugated diene compounds such as butadiene and isoprene, and hydrogenated products thereof are preferable. Specific examples thereof include styrene-butadiene styrene-isoprene block copolymer and the like.

테르펜 수지는 테르펜류로 구성된 중합체 또는 그 수소 첨가물이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면, 테르펜 수지, 수소 첨가 테르펜 수지가 꼽힌다.The terpene resin is preferably a polymer composed of terpenes or a hydrogenated product thereof. Specifically, for example, a terpene resin and a hydrogenated terpene resin are listed.

석유계 수지는 디시클로펜타디엔형 석유 수지, 수소 첨가 석유 수지가 좋다.The petroleum resin is preferably a dicyclopentadiene type petroleum resin or a hydrogenated petroleum resin.

셀룰로오스계 수지는 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트 수지가 좋다.The cellulose-based resin is preferably a cellulose acetate butyrate resin.

폴리카보네이트 수지는 비스페놀 A 폴리카보네이트가 좋다.The polycarbonate resin is preferably a bisphenol A polycarbonate.

폴리이미드계 수지는 열 가소성 폴리이미드, 폴리아미드이미드 수지, 폴리아믹산형 폴리이미드 수지가 좋다.The polyimide-based resin is preferably a thermoplastic polyimide, a polyamide-imide resin, or a polyamic acid-type polyimide resin.

열 경화성 수지는 가열에 따른 가교 반응에 이용할 수 있는 작용기, 예를 들어 수산기, 페놀성 수산기, 메톡시메틸기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기, 옥세타닐기, 옥사졸린기, 옥사진기, 아지리딘기, 티올기, 이소시아네이트기, 블록화 이소시아네이트기, 블록화 카르복실기, 실란올기 등을 1분자 중에 1개 이상 가진 수지라면 좋고, 예를 들어 아크릴 수지, 말레산 수지, 폴리부타디엔계 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 옥세탄 수지, 페녹시 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 페놀계 수지, 알키드 수지, 아미노 수지, 폴리유산 수지, 옥사졸린 수지, 벤조옥사진 수지, 실리콘 수지, 불소 수지 등을 들 수 있다. 또, 본 발명의 열 경화성 수지는, 상기의 수지에 추가해 필요에 따라 상기의 작용기와 반응해 화학 가교를 형성하는 수지 또는 저분자 화합물 등의 이른바 "경화제"를 포함한 것이 좋다.The thermosetting resin is a functional group which can be used for a crosslinking reaction upon heating such as a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, a methoxymethyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazoline group, an oxazine group, an aziridine group, , An isocyanate group, a blocked isocyanate group, a blocked carboxyl group, a silanol group and the like in one molecule, and examples thereof include acrylic resin, maleic acid resin, polybutadiene resin, polyester resin, polyurethane resin, epoxy Examples of the resin include resins, oxetane resins, phenoxy resins, polyimide resins, polyamide resins, phenol resins, alkyd resins, amino resins, poly lactic acid resins, oxazoline resins, benzoxazine resins, silicone resins, have. The thermosetting resin of the present invention may contain a so-called "curing agent" such as a resin or a low-molecular compound that reacts with the above-mentioned functional group to form a chemical crosslink in addition to the above-mentioned resin.

광 경화성 수지는, 빛에 의한 가교 반응을 일으키는 불포화 결합을 1분자 중에 1개 이상 가진 수지라면 좋고, 예를 들어 아크릴 수지, 말레산 수지, 폴리부타디엔계 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 옥세탄 수지, 페녹시 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 페놀계 수지, 알키드 수지, 아미노 수지, 폴리 유산 수지, 옥사졸린 수지, 벤조옥사진 수지, 실리콘 수지, 불소 수지 등을 들 수 있다.The photocurable resin may be a resin having at least one unsaturated bond which causes a crosslinking reaction by light, and examples thereof include acrylic resin, maleic resin, polybutadiene resin, polyester resin, polyurethane resin, epoxy Examples of the resin include resins, oxetane resins, phenoxy resins, polyimide resins, polyamide resins, phenol resins, alkyd resins, amino resins, poly lactic acid resins, oxazoline resins, benzoxazine resins, silicone resins, have.

도전성 수지 조성물은, 수지 100중량부에 대해 도전성 미립자를 50~500중량부 배합하는 것이 좋고, 100~400중량부가 더 좋다. 도전성 미립자를 50~500중량부 배합하는 것으로 도전성이 보다 향상하여, 도전 층을 더욱 형성하기 쉽게 된다.The conductive resin composition is preferably blended with 50 to 500 parts by weight of conductive fine particles per 100 parts by weight of the resin, more preferably 100 to 400 parts by weight. By mixing the conductive fine particles in an amount of 50 to 500 parts by weight, the conductivity is further improved, and the conductive layer can be further formed.

도전성 수지 조성물은 도전성 입자와 수지에 더해, 상기 금속 불활성화제, 증 점제 등 외에, 예를 들면 분산제, 실란 커플링제, 방청제, 동해 방지제, 환원제, 산화 방지제, 안료, 염료, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소화제, 레벨링 조정제, 충전제, 난연제 등을 배합할 수 있다.The conductive resin composition may contain, in addition to the conductive particles and the resin, the metal deactivating agent, the thickening agent and the like, as well as the dispersant, the silane coupling agent, the rust inhibitor, the antifouling agent, the reducing agent, the antioxidant, An ultraviolet absorber, an extinguishing agent, a leveling agent, a filler, and a flame retardant.

도전성 수지 조성물의 제조는 위와 같이 도전성 미립자를 제조하기 전에 나뭇가지 모양의 은 코팅 가루와 수지를 동시를 집어넣어, 고체 매체를 충돌시켜 얻을 수 있다. 또 도전성 미립자의 제조 후에 수지와 혼합하여 얻을 수도 있다. 수지를 분산체에 혼합할 때는 분산 매트에서 분산체를 섞으면서 수지를 첨가하는 방법을 예시할 수 있다.The conductive resin composition can be obtained by putting the silver-coated silver powder and the resin simultaneously before the conductive fine particles are produced as described above, and colliding the solid medium. It can also be obtained by mixing conductive fine particles with a resin after the production thereof. When the resin is mixed into the dispersion, a method of adding the resin while mixing the dispersion in the dispersion mat may be exemplified.

(도전성 시트) 본 발명의 도전성 시트는 본 발명의 도전성 수지 조성물로 형성되는 도전 층을 갖춘 것이다. 도전성 시트의 제조 방법은 특히 한정되지 않지만 일례로, 도전성 수지 조성물을 박리성 시트에 코팅하고 도전 층을 형성하는 방법을 예시할 수 있다. 도전성 시트는 도전 층의 단층만으로도 좋지만 다른 기능 층이나 지지층 등의 적층 체라도 좋다. 기능 층으로는 절연성, 열 전도성, 전자파 흡수성, 하드 코트성, 수증기 차단성, 산소 차단성, 저유전율, 고유전율성, 저유전정접(低誘電正接), 고유전정접, 내열성 등을 가진 층이 꼽힌다. 본 발명의 도전성 시트를 프린트 배선 판 분야에 사용하는 경우는 내열성의 관점에서 열 경화성 수지를 포함하는 것이 바람직하다.(Conductive Sheet) The conductive sheet of the present invention is provided with a conductive layer formed of the conductive resin composition of the present invention. The method for producing the conductive sheet is not particularly limited, and for example, a method of coating the conductive resin composition on the releasable sheet to form the conductive layer can be exemplified. The conductive sheet may be a single layer of a conductive layer, but may also be a laminate of other functional layers and supporting layers. The functional layer is a layer having insulating properties, thermal conductivity, electromagnetic wave absorptivity, hard coat property, water vapor barrier property, oxygen barrier property, low dielectric constant, high dielectric constant, low dielectric tangent . When the conductive sheet of the present invention is used in the field of printed wiring boards, it is preferable to include a thermosetting resin in view of heat resistance.

본 발명의 도전성 시트는 여러 용도에 제한 없이 이용할 수 있으나 알맞은 예로서, 이방 도전성 시트, 정전 제거 시트, 그랜드 접속용 시트, 멤브레인 회로용, 도전성 접착 시트, 열 도전성 시트, 점퍼 회로용 도전성 시트 등을 들 수 있다.The conductive sheet of the present invention can be used in various applications without limitation, but suitable examples include anisotropically conductive sheets, electrostatic elimination sheets, sheets for gland connection, membrane circuits, conductive adhesive sheets, heat conductive sheets, conductive sheets for jumper circuits, .

상기 도공 방법은 예를 들어 그라비아 코팅 방식, 키스 코팅 방식, 다이 코팅 방식, 립 코팅 방식, 콤마 코팅 방식, 블레이드 방식, 롤 코팅 방식, 나이프 코팅 방식, 스프레이 코팅 방식, 바 코팅 방식, 스피 코팅 방식, 딥 코팅 방식 등을 사용할 수 있다. The coating method can be applied to various coating methods such as gravure coating method, kiss coating method, die coating method, lip coating method, comma coating method, blade method, roll coating method, knife coating method, spray coating method, bar coating method, A dip coating method or the like can be used.

도전성 시트에서의 도전 층의 두께는 1~100μm이 바람직하고, 3~50μm이 더 바람직하다. 두께가 1~100μm의 범위에 있는 것으로 도전성과 기타의 물성을 양립하기 쉬워 진다.The thickness of the conductive layer in the conductive sheet is preferably 1 to 100 mu m, more preferably 3 to 50 mu m. Since the thickness is in the range of 1 to 100 mu m, conductivity and other physical properties are easily compatible.

(전자파 차폐 시트) 본 발명의 전자파 차폐 시트는 본 발명의 도전성 수지 조성물로 형성되는 도전 층과, 절연 층을 갖추는 것으로, 회로에서 발생하는 전자파 차폐를 목적으로 사용 가능하다. 전자파 차폐 시트 제조 방법은 특히 한정되지 않지만, 일례로서, 상기 방법으로 제조한 도전 층과 절연 층을 맞춰 붙이는 방법을 예시할 수 있다. 절연 층으로는 미리 만들어진 절연성 필름을 사용해도 좋고, 박리성 시트에 절연성 수지 조성물을 코팅함으로써 절연 층을 형성하고, 이것과 박리성 시트가 부착된 도전 층을 맞춰 붙여도 좋다. 또는 도전 층 위에 직접 절연성 수지 조성물을 코팅해 절연 층을 형성해도 좋다.(Electromagnetic wave shielding sheet) The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention is provided with a conductive layer formed of the conductive resin composition of the present invention and an insulating layer, and can be used for shielding electromagnetic waves generated in a circuit. The method for producing the electromagnetic wave shielding sheet is not particularly limited, but as an example, a method of aligning the conductive layer and the insulating layer manufactured by the above method can be exemplified. As the insulating layer, a previously made insulating film may be used. Alternatively, an insulating layer may be formed by coating an exfoliating sheet with an insulating resin composition, and the conductive layer having the releasable sheet adhered thereto. Alternatively, the insulating layer may be formed by directly coating the insulating resin composition on the conductive layer.

절연 층의 두께는 용도나 필요에 따라 변화할 수 있지만 예를 들면 플렉시블 프린트 배선판에 사용하는 경우에는 유연성을 유지하면서 전자파 차폐 시트의 차폐 효과를 높이는 관점으로부터, 2~10μm으로 하는 것이 바람직하다. 또 절연 층의 두께는 도전 층의 두께를 100으로 했을 때 50~200의 비율인 것이 좋다. 상기의 비율이 되는 것에 의해 여러 가지 물성의 균형을 얻기가 쉬워진다.The thickness of the insulating layer may vary depending on the application and the necessity. For example, when used for a flexible printed wiring board, the thickness of the insulating layer is preferably 2 to 10 mu m from the viewpoint of enhancing the shielding effect of the electromagnetic shielding sheet while maintaining flexibility. The thickness of the insulating layer is preferably 50 to 200 when the thickness of the conductive layer is 100. As a result, the balance of various physical properties becomes easy to obtain.

절연성 필름 재료는 특히 한정되지 않지만, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리페닐렌술피드 등의 플라스틱 필름을 사용할 수도 있다. 또 절연성 수지 조성물을 성형한 피막이라도 좋다.The insulating film material is not particularly limited, but a plastic film such as polyester, polycarbonate, polyimide, and polyphenylene sulfide may be used. Alternatively, a film formed by molding an insulating resin composition may be used.

절연성 수지 조성물은 수지를 필수 성분으로 하지만, 이 수지는 도전 층에 사용할 수 있는 수지를 사용하는 것이 좋다. 또 절연성 수지 조성물에는 수지와 함께 실란 커플링제, 산화 방지제, 안료, 염료, 분산제, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소화제, 레벨링 조정제, 충전제, 난연제 등을 배합할 수 있다.Although the insulating resin composition contains a resin as an essential component, it is preferable to use a resin that can be used for the conductive layer. In addition, a silane coupling agent, an antioxidant, a pigment, a dye, a dispersant, a tackifier resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an extinguishing agent, a leveling regulator, a filler and a flame retardant may be mixed with the insulating resin composition.

본 발명의 전자파 차폐 시트는 도전 층 및 절연 층 외에 다른 층을 갖출 수 있다. 다른 층은 예를 들어 하드 코트성, 열 전도성, 단열성, 전자파 흡수성, 수증기 차단성, 산소 차단성, 저유전율, 고유전율성, 저유전정접, 고유전정접, 내열성 등을 가진 층이 꼽힌다. 또, 본 발명의 전자파 차폐 시트를 프린트 배선판 분야에 사용하는 경우는 내열성의 관점에서 열 경화성 수지를 포함하는 것이 바람직하다.The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention may have other layers besides the conductive layer and the insulating layer. The other layer is, for example, a layer having hard coat property, thermal conductivity, heat insulating property, electromagnetic wave absorptivity, water vapor barrier property, oxygen barrier property, low permittivity, high dielectric constant, low dielectric loss tangent, When the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention is used in the field of printed wiring boards, it is preferable to include a thermosetting resin from the viewpoint of heat resistance.

본 발명의 전자파 차폐 시트는 플렉시블(flexible) 프린트 기판, 리지드(rigid) 프린트 기판, 리지드플렉시블 기판 등에 붙여 가열 압착함으로써 전자파 차폐층으로 사용할 수 있고, 전자 부품에 직접 붙여 사용할 수도 있다. 본 발명의 전자파 차폐 시트를 넣은 프린트 배선판은, 예를 들어, 스마트 폰 등 휴대 전화, 컴퓨터, 태블릿 단말, LED조명, 유기 EL 조명, 액정 TV, 유기 EL TV, 디지털 카메라, 디지털 비디오 카메라, 자동차 등 차량 부품 등에 사용할 수 있다.The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention can be used as an electromagnetic wave shielding layer by adhering to a flexible printed substrate, a rigid printed substrate, a rigid flexible substrate or the like by heating and pressing, or can be directly attached to an electronic component. The printed wiring board into which the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention is put can be used for various applications such as a mobile phone such as a smart phone, a computer, a tablet terminal, an LED light, an organic EL light, a liquid crystal TV, an organic EL TV, a digital camera, It can be used for vehicle parts.

≪ 실시 예 ≫≪ Embodiment >

이하, 실시 예에 따라 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 의해 한정되는 것은 아니다. 하기에서 "부" 및 "%"는 각각 "중량부" 및 "중량%"에 근거한 값이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In the following, "part" and "%" are values based on "parts by weight"

표 1에 원료로 이용하는 비-잎 모양의 도전성 미립자를 나타낸다. 도전성 미립자 1~7의 나뭇가지 모양의 은 코팅 구리 분말은 미쯔이 긴조쿠 코오교 사의 제품을 사용했다. 또 도전성 미립자 8의 나뭇가지 모양 구리 분말, 도전성 미립자 9의 구 모양의 은 코팅 구리 분말 및 도전성 미립자 11의 플레이크 모양 은가루는 후쿠다 금속박분 공업사 제품을 사용했다. 또 도전성 미립자 10의 플레이크 모양의 은 코팅 구리 분말은 미쯔이 긴조쿠 코오교 사의 제품을 사용했다. 또한 원료의 도전성 미립자의 평균 입자 지름(D50)은 레이저 회절·산란법 입도 분포 측정 장치 LS 13 320(베크만 쿨터사 제품)을 통해 산출하였다.Table 1 shows non-leaf conductive fine particles used as a raw material. Silver-coated silver powder of conductive fine particles 1 to 7 was made by Mitsui Kikuko Kogyo Co., Further, the branch-shaped copper powder of the conductive fine particles 8, the spherical silver-coated copper powder of the conductive fine particles 9, and the flaky silver powder of the conductive fine particles 11 were manufactured by Fukuda Metal & The silver coated copper powder in the form of flakes of the conductive fine particles 10 was a product of Mitsui Kikuko Kogyo Co., Ltd. The average particle size (D50) of the conductive fine particles as raw materials was calculated by a laser diffraction / scattering method particle size distribution measuring device LS 13 320 (manufactured by Beckman Coulter, Inc.).

비-잎 모양의
도전성 미립자
Non-leaf-shaped
Conductive fine particles
핵체
Nucleus
피복 층Coating layer 형상shape 평균 입자 지름
(D50)(㎛)
Average particle diameter
(D50) (占 퐉)
종류Kinds 중량부Weight portion 피복률%Coverage% 1One

구리


Copper








silver



55 95.295.2

나뭇가지 모양





Twig shape



9.39.3
22 1010 100100 9.69.6 33 2020 100100 9.99.9 44 3030 100100 10.310.3 55 4040 100100 10.010.0 66 1010 100100 2.92.9 77 1010 100100 21.321.3 8(비교예α)8 (Comparative Example?)
구리

Copper
없음none -- 나뭇가지 모양Twig shape 9.99.9
9(비교예β)9 (Comparative Example?)
silver
1010 100100 구 모양Sphere shape 20.520.5
10(비교예γ)10 (Comparative Example?) 1010 100100 플레이크 모양Flake shape 18.518.5 11(참고예I)11 (Reference Example I) silver 없음none -- 플레이크 모양Flake shape 10.610.6

피복층의 중량부: 핵체(核體) 100중량부에 대한 값Weight of coating layer: Value for 100 parts by weight of nucleus

<실시 예 A(도전성 미립자의 제조)>&Lt; Example A (Production of conductive fine particles) >

표 1에 나타내는 비-잎 모양의 도전성 미립자 1을 100부, 톨루엔을 400.0부, 증점제(일본 아에로질사 제품 AEROSIL R972)을 10.0부 및 중금속 불활성화제(데카메틸렌 카르복실산 디살리틸로일히드라지드)를 1.0부, 양을 재어, 균일하게 혼합 교반했다. 이어서, 이를 직경 0.5mm의 지르코니아 비드와 함께 아이거 밀(아이거 저팬 사 제\품 "미니 모델 M-250 MKII")에 투입하고 분산 처리를 10분간 했다. 얻은 미립자를 메틸에틸케톤으로 5회 디켄테이션했다. 또한, 100℃의 오븐 안에서 건조하는 것에 의해 실시 예 A의 잎 모양의 도전성 미립자를 얻었다. 실시 예 A에 관련된 잎모양의 도전성 미립자의 평균 입자 지름(D50), 두께, 원 지름도 계수 및 원형 계수를 측정했다. 평균 입자 지름(D50), 두께는 상기 방법에 의해 구했다. 또 원 지름도 계수와 원형 계수는 이하의 방법으로 샘플을 제작해, 상기 방법에 의해 산출했다. 얻은 잎의 도전성 미립자의 두께 평균 입자 지름(D50), 원 지름도 계수, 원형 계수 및 피복률의 값을 표 2에 기재한다.100 parts of the non-leaf shaped conductive fine particles 1 shown in Table 1, 400.0 parts of toluene, 10.0 parts of a thickener (AEROSIL R972 manufactured by Aero Chemical Company, Japan) and 10.0 parts of a heavy metal deactivator (decamethylcarboxylic acid disalityl) Hydrazide) in an amount of 1.0 part, and the mixture was homogeneously mixed and stirred. Subsequently, this was added to Eiger Mill (product of Eiger Japan Co., Ltd., "Mini Model M-250 MKII") together with zirconia beads having a diameter of 0.5 mm and dispersed for 10 minutes. The obtained fine particles were decanted 5 times with methyl ethyl ketone. Further, by drying in an oven at 100 캜, leaf-shaped conductive fine particles of Example A were obtained. The average particle diameter (D50), thickness, circle diameter coefficient and circularity coefficient of the leaf-shaped conductive fine particles relating to Example A were measured. The average particle diameter (D50) and the thickness were obtained by the above method. In addition, the raw diameter coefficient and the circular coefficient were calculated by the above-described method by preparing a sample in the following manner. The thickness average particle diameter (D50), the circle diameter coefficient, the circular coefficient, and the coverage ratio of the conductive fine particles of the obtained leaves are shown in Table 2.

<원 지름도 계수와 원형 계수> 측정 샘플로, 후술하는 전자파 차폐 시트의 제작 방법에 의해, 대응하는 도전성 미립자를 이용한 샘플을 준비했다. 그리고 SEM용 원기둥 모양의 시료대에 도전 점착제를 통해, 1㎠의 샘플을 고정했다. 구체적으로는 전자파 차폐 시트의 도전층 측의 세퍼레이터를 박리하고, 도전 층이 윗 층, 절연 층이 아래층이 되도록 시료대에 고정했다. 그리고 전자파 차폐 시트의 도전 층 위에 도전 페이스트를 바르고, 백금 증착을 행했다. 증착 후, 1000배, 가속 전압 15kV의 조건하에서 도전성 입자의 SEM화상을 취득해 상기한 방법으로 해석했다.&Lt; Round Diameter Coefficient and Circular Coefficient > As a sample to be measured, a sample using the corresponding conductive fine particles was prepared by a manufacturing method of an electromagnetic wave shielding sheet to be described later. Then, a sample of 1 cm 2 was fixed to a columnar sample bed for SEM through a conductive adhesive. Specifically, the separator on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding sheet was peeled off, and the conductive layer was fixed to the sample table so that the upper layer and the insulating layer were the lower layer. Then, a conductive paste was applied on the conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet to perform platinum deposition. After the deposition, SEM images of the conductive particles were obtained under the conditions of 1000 times and an acceleration voltage of 15 kV and analyzed by the above method.

<피복률> 전용 받침대에 양면 점착 테이프를 붙이고, 양면 점착 테이프 위에 각 금속 입자 가루를 떨어뜨린 후 공기로 여분의 가루를 날렸다. 그리고 X선 광 전자 분광 분석 장치(ESCA AXIS-HS, 시마즈 제작소사 제품)로 다른 점을 5개 측정했다. 그리고 해석 소프트(Kratos사 제품)에 의해 피복 층(은)과 핵체(동)의 피크 면적에서 산출되는 피복 층(은)의 질량 농도%의 평균치를 은의 피복률로 하였다.<Coverage> A double-sided adhesive tape was attached to a special pedestal, each metal particle powder was dropped on a double-sided adhesive tape, and then extra powder was blown off with air. And five different points were measured by an X-ray photoelectron spectrometer (ESCA AXIS-HS, manufactured by Shimadzu Corporation). The average value of the mass concentration% of the coating layer (silver) calculated from the peak area of the coating layer (silver) and the core (copper) by the analysis software (manufactured by Kratos) was regarded as the covering ratio of silver.

<실시 예 B~K, 비교 예 δ(도전성 미립자의 제조)>&Lt; Examples B to K, Comparative Example? (Production of conductive fine particles)

비-잎 모양의 도전성 미립자의 원료 및 아이거 밀을 이용한 분산 처리 시간을 표 2에 기재한 대로 변경한 것 외에는 실시 예 A와 같은 방법으로 도전성 미립자를 제조했다.Conductive fine particles were produced in the same manner as in Example A except that the dispersion treatment time using the raw material of the non-leaf shaped conductive fine particles and the Eiger mill was changed as described in Table 2. [

잎 모양의 도전성 미립자Leaf-shaped conductive fine particles 도전성 미립자Conductive fine particles 비-잎 모양의 도전성 미립자Non-leaf shaped conductive fine particles 분산
시간
(분)
Dispersion
time
(minute)
두께
(㎛)
thickness
(탆)
평균 입자 지름
(D50)
(㎛)
Average particle diameter
(D50)
(탆)

지름도 계수
won
Diameter coefficient
원형 계수Circular coefficient 은의
피복률
%
silver
Coverage rate
%
실시예
실시예
실시예
실시예
실시예
실시예
실시예
실시예
실시예
실시예
실시예
비교예
Example
Example
Example
Example
Example
Example
Example
Example
Example
Example
Example
Comparative Example
AA 1One 1010 0.430.43 19.719.7 0.190.19 2.852.85 78.578.5
BB 22 1010 0.540.54 20.520.5 0.210.21 3.183.18 95.695.6 CC 33 1010 0.420.42 21.221.2 0.190.19 2.862.86 99.899.8 DD 44 1010 0.450.45 20.120.1 0.240.24 3.063.06 100100 EE 55 1010 0.660.66 20.020.0 0.170.17 3.153.15 100100 FF
2


2

120120 0.050.05 19.019.0 0.370.37 2.582.58 72.272.2
GG 6060 0.100.10 19.619.6 0.250.25 2.662.66 81.981.9 HH 55 1.901.90 20.020.0 0.180.18 2.612.61 98.198.1 II 1One 2.592.59 18.318.3 0.120.12 3.023.02 100100 JJ 66 1010 0.640.64 5.95.9 0.270.27 3.103.10 92.292.2 KK 77 1010 0.430.43 54.354.3 0.220.22 2.992.99 96.396.3 δδ 88 1010 0.440.44 20.020.0 0.220.22 2.822.82 --

<실시 예 1~20, 비교 예 1~4, 참고 예 1(도전성 수지 조성물 제조)>&Lt; Examples 1 to 20, Comparative Examples 1 to 4 and Reference Example 1 (Production of conductive resin composition)

표 3에 나타낸 원료를 용기에 집어넣어, 디스퍼에서 5분간 교반을 실시하는 것으로 실시 예 1~20, 비교 예 1~4, 참고 예 1의 도전성 수지 조성물을 얻었다.The raw materials shown in Table 3 were placed in a container and stirred in a disperser for 5 minutes to obtain conductive resin compositions of Examples 1 to 20, Comparative Examples 1 to 4, and Reference Example 1.

또, 베이스 수지의 우레탄은, 폴리우레탄 수지(토요켐사 제품), 아미드는 폴리아미드이미드 수지(토요켐사 제품), 폴리에스테르는 축합형 폴리에스테르(토요 켐사 제품)와 부가형 폴리에스테르(토요켐사 제품)를 이용하였다. 베이스 수지 100중량부에 대해 경화제(아지리딘 화합물)을 10부 사용했다.Polyamideimide resin (Toyochem), polyester (condensation type polyester) (Toyo Kensha Co., Ltd.) and addition type polyester (Toyochem Co., Ltd.) are used as the urethane of the base resin, polyurethane resin Respectively. 10 parts of a curing agent (aziridine compound) was used per 100 parts by weight of the base resin.

도전성
조성물
Conductivity
Composition
도전성
미립자
Conductivity
Particulate
베이스 수지Base resin 에폭시
경화제의
배합량
Epoxy
Hardener
Amount of blending
톨루엔/IPA=
8/2의
배합량
Toluene / IPA =
8/2
Amount of blending
도전성
미립자의
배합량
Conductivity
Particulate
Amount of blending
첨가제
A
additive
A
첨가제
B
additive
B
종류Kinds 배합량Amount of blending









실시예

















Example







1One









실시예















Example





AA









우레탄












urethane







22








22








6.80









6.80









41.20









41.20









300









300














없음
















none
















없음

















none







22 BB 33 CC 44 DD 55 EE 66 FF 77 GG 88 HH 99 II 1010 JJ 1111 KK 1212



B







B



7070 21.7221.72 0 0 25 25
1313 5959 18.1318.13 9.86 9.86 50 50 1414 1515 4.53 4.53 47.4647.46 500500 1515 1111 3.89 3.89 51.0551.05 600600 1616 아미드amides


22



22



6.80



6.80



41.20



41.20



300



300
1717 축합형
폴리에스테르
Condensation type
Polyester
1818 부가형
폴리에스테르
Additive type
Polyester
1919 우레탄
urethane
1010
2020 없음none 1010
비교예


Comparative Example

1One
비교예


Comparative Example

αalpha
우레탄


urethane


22


22


6.80


6.80


41.20


41.20


300


300


없음


none


없음


none

22 βbeta 33 γgamma 44 δδ 참고예Reference example 1One 참고예Reference example II 우레탄urethane 2222 6.80 6.80 41.2041.20 300300 없음none 없음none

첨가제A: 데카메틸렌 카르복실산 디살리틸로일히드라지드Additive A: decamethylenecarboxylic acid disalicyloyl hydrazide

첨가제B: N,N'-2[3-(3,5-디아-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐]히드라진Additive B: N, N'-2 [3- (3,5-diacetyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine

배합량:중량부Formulation amount: parts by weight

<실시 예 1의 도전성 시트 제조><Preparation of Conductive Sheet of Example 1>

실시 예 1의 도전성 수지 조성물을 폴리에틸렌테레프탈레이트의 박리성 시트에, 건조 두께가 5μm이 되도록 바 코터를 사용해 도공하고, 100℃의 전기 오븐에서 2분 동안 건조함으로써 도전 층을 가진 도전성 시트 C1을 얻었다.The conductive resin composition of Example 1 was coated on a peelable sheet of polyethylene terephthalate using a bar coater to a dry thickness of 5 탆 and dried in an electric oven at 100 캜 for 2 minutes to obtain a conductive sheet C1 having a conductive layer .

<실시 예 1의 전자파 차폐 시트 제조><Manufacture of Electromagnetic Wave Shielding Sheet of Example 1>

열 경화성 우레탄 수지(토요켐사 제품)을 폴리에틸렌테레프탈레이트의 박리성 시트에, 건조 두께가 5μm이 되도록 바 코터를 사용해 도공하고, 100℃의 전기 오븐에서 2분 동안 건조함으로써 절연 층을 얻었다. 도전성 시트 C1의 도전 층과 전기 절연층을 겹쳐 80℃, 2MPa의 조건에서 열 압착하는 것으로 전자파 차폐 시트 E1을 얻었다.A thermosetting urethane resin (manufactured by Toyochem Co., Ltd.) was applied to a peelable sheet of polyethylene terephthalate using a bar coater so as to have a dry thickness of 5 탆 and dried in an electric oven at 100 캜 for 2 minutes to obtain an insulating layer. The conductive layer of the conductive sheet C1 and the electric insulating layer were superposed and thermally bonded to each other at 80 DEG C under a pressure of 2 MPa to obtain an electromagnetic wave shielding sheet E1.

<실시 예 2~20, 비교 예 1~4, 참고 예 1의 도전성 시트 제조><Preparation of Conductive Sheet of Examples 2 to 20, Comparative Examples 1 to 4 and Reference Example 1>

실시 예 1의 도전성 수지 조성물에 대신해서 실시 예 2~20의 도전성 수지 조성물을 이용한 이외는 실시 예 1과 같은 방법으로 도전성 시트 C2~C20을 얻었다. 또 실시 예 1의 도전성 수지 조성물에 대신해서 비교 예 1~4, 참고 예 1의 도전성 수지 조성물을 이용한 이외는 실시 예 1과 같은 방법으로 도전성 시트 C21~C25를 얻었다.Conductive sheets C2 to C20 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the conductive resin compositions of Examples 2 to 20 were used instead of the conductive resin compositions of Example 1. Conductive sheets C21 to C25 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the conductive resin compositions of Comparative Examples 1 to 4 and Reference Example 1 were used instead of the conductive resin composition of Example 1.

<실시 예 2~20, 비교 예 1~4, 참고 예 1의 전자파 차폐 시트 제조><Preparation of Electromagnetic Wave Shielding Sheet of Examples 2 to 20, Comparative Examples 1 to 4 and Reference Example 1>

도전성 시트 1에 대신해 표 4에 기재한 도전성 시트를 사용한 것 외에는 실시 예 1과 마찬가지로 함으로써 전자파 차폐 시트 E2~E25를 얻었다.Electromagnetic wave shielding sheets E2 to E25 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the conductive sheet described in Table 4 was used in place of the conductive sheet 1.

실시 예 1의 도전성 수지 조성물에 대신해서 실시 예 2~20의 도전성 수지 조성물을 이용한 이외는 실시 예 1과 같은 방법으로 전자파 차폐 시트 E2~E20을 얻었다. 또 실시 예 1의 도전성 수지 조성물에 대신해서 비교 예 1~4, 참고 예 1의 도전성 수지 조성물을 이용한 이외는 실시 예 1과 같은 방법으로 전자파 차폐 시트 E21~E25를 얻었다.Electromagnetic wave shielding sheets E2 to E20 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the conductive resin compositions of Examples 2 to 20 were used instead of the conductive resin composition of Example 1. Electromagnetic shielding sheets E21 to E25 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the conductive resin composition of Comparative Example 1 to 4 and Reference Example 1 was used instead of the conductive resin composition of Example 1.

도전성 시트Conductive sheet 전자파 차폐 시트Electromagnetic wave shielding sheet









실시예

















Example







1One C1C1 E1E1
22 C2C2 E2E2 33 C3C3 E3E3 44 C4C4 E4E4 55 C5C5 E5E5 66 C6C6 E6E6 77 C7C7 E7E7 88 C8C8 E8E8 99 C9C9 E9E9 1010 C10C10 E10E10 1111 C11C11 E11E11 1212 C12C12 E12E12 1313 C13C13 E13E13 1414 C14C14 E14E14 1515 C15C15 E15E15 1616 C16C16 E16E16 1717 C17C17 E17E17 1818 C18C18 E18E18 1919 C19C19 E19E19 2020 C20C20 E20E20
비교예


Comparative Example

1One C21C21 E21E21
22 C22C22 E22E22 33 C23C23 E23E23 44 C24C24 E24E24 참고예 Reference example 1One C25C25 E25E25

<접속 저항값의 측정>&Lt; Measurement of connection resistance value >

세로 25mm, 가로 25mm로 자른 도전성 시트 10을 준비해, 가로 25mm, 세로 100mm, 두께 0.5mm의 스테인레스 판 11의 끝에 고정하고, 80℃, 2MPa의 조건에서 열 압착하는 것으로 임시 접착했다. 그 후, 박리성 시트를 떼어내고 같은 크기의 스테인레스 판 12를 상기와 마찬가지로 겹친 위에 다시 80℃, 2MPa의 조건에서 열 압착하는 것으로 임시 접착했다. 이를 150℃, 2MPa의 조건으로 30분간 열 압착을 통해 도 4에 나타난 접속 저항값 측정용 시편을 얻었다. 이 시편을 사용하고 미쓰비시 가가쿠 아날리텍사 제품 "로레스타 GP"의 BSP프로브를 도 4와 같이, 스테인레스 판 11의 B측 및 스테인레스 판 12의 A측에 접촉시킴으로써 접속 저항값을 측정했다. 평가 기준은 다음과 같다.The conductive sheet 10 was cut to a length of 25 mm and a width of 25 mm and was fixed to the end of a stainless steel plate 11 having a width of 25 mm, a length of 100 mm and a thickness of 0.5 mm and temporarily bonded by thermocompression bonding at 80 캜 and 2 MPa. Thereafter, the peelable sheet was peeled off, and the stainless steel plates 12 of the same size were superimposed in the same manner as above, and temporarily adhered by thermocompression bonding at 80 DEG C and 2 MPa. The specimens for measuring the connection resistance shown in FIG. 4 were obtained by thermocompression bonding at 150 DEG C and 2 MPa for 30 minutes. The connection resistance value was measured by using this specimen and bringing the BSP probe of "Loresta GP" manufactured by Mitsubishi Kagaku Analytec Co., Ltd. into contact with the B side of the stainless steel plate 11 and the A side of the stainless steel plate 12 as shown in Fig. The evaluation criteria are as follows.

A: 1.0×10-3 미만A: less than 1.0 x 10 -3

B: 1.0×10-3 이상 1.0×10-2 미만B: 1.0 x 10 -3 or more and less than 1.0 x 10 -2

C: 1.0×10-2 이상 1.0×10-1 미만C: 1.0 × 10 -2 or more than 1.0 × 10 -1

D: 1.0×10-1 이상D: 1.0 x 10 &lt; -1 &gt;

<표면 저항값 측정>&Lt; Measurement of surface resistance value &

얻은 전자파 차폐 시트의 도전층의 표면 저항값을 미쓰비시 가가쿠 아날리텍사 제품 "로레스타 GP" 4탐침 프로브를 사용해 측정했다. 평가 기준은 다음과 같다.The surface resistance value of the conductive layer of the obtained electromagnetic wave shielding sheet was measured by using a 4-probe probe "Loresta GP" manufactured by Mitsubishi Kagaku Analytec. The evaluation criteria are as follows.

A: 1.0 미만A: less than 1.0

B: 1.0 이상 10.0 미만B: 1.0 to less than 10.0

C: 10.0 이상 50.0 미만C: 10.0 or more and less than 50.0

D: 50.0이상D: 50.0 or higher

한편 전자파 차폐 시트는 절연층의 표면 저항값을 미쓰비시 가가쿠 아날리텍사 제품 "하이레스터 UP"의 링 프로브 URS를 사용해 측정했다. 평가 기준은 다음과 같다.On the other hand, the surface resistance value of the insulating layer of the electromagnetic shielding sheet was measured using a ring probe URS of "Hirestor UP" manufactured by Mitsubishi Kagaku Analytec. The evaluation criteria are as follows.

A: 1×107 이상A: 1 x 10 7 or more

B: 1×107 미만, 1×106 이상B: less than 1 占07 , more than 1 占06

C: 1×106 미만, 1×104 이상C: less than 1 x 10 6, not less than 1 x 10 4

D: 1×104 미만D: less than 1 x 10 4

<접착력의 측정><Measurement of Adhesive Force>

폭 25mm, 길이 70mm의 전자파 차폐 시트를 준비했다. 도전 층과 접하는 박리성 필름을 떼어내고, 노출된 도전 층에 두께가 50μm의 폴리이미드 필름(도레이 듀폰사제"카프통 200EN")을 150℃, 1.0MPa, 30분의 조건으로 압착함으로써 도전 층 및 절연층을 경화시켰다. 전자파 차폐 시트를 측정을 위해 보강하는 목적으로, 50μm 두께의 절연 층과 접하는 박리성 필름을 제거하고 노출된 절연 층에 폴리우레탄 폴리우레아계 접착제를 사용한 접착 시트를 사용해, 폴리이미드 필름(도레이 듀폰사제"카프통 200EN")을 150℃, 1MPa, 30min의 조건으로 압착했다. 이러한 공정을 거쳐 「폴리이미드 필름/전자파 차폐 시트/접착 시트/폴리이미드 필름」의 시편을 얻었다. 이 시편을 23℃, 상대 습도 50%의 분위기 하, 인장 속도 50mm/분, 박리 각도 90°에서 도전 층과 폴리이미드 필름과의 경계면을 박리함으로써 접착력을 측정했다.An electromagnetic wave shielding sheet having a width of 25 mm and a length of 70 mm was prepared. The peelable film in contact with the conductive layer was peeled off and a polyimide film ("Kaff Tong 200 EN" manufactured by Toray DuPont) having a thickness of 50 m was pressed on the exposed conductive layer under the conditions of 150 ° C and 1.0 MPa for 30 minutes, The insulating layer was cured. For the purpose of reinforcing the electromagnetic shielding sheet for measurement, a peelable film in contact with an insulating layer having a thickness of 50 mu m was removed and an adhesive sheet using a polyurethane polyurea adhesive was applied to the exposed insulating layer. A polyimide film Quot; CAP Tong 200EN ") was pressed at 150 DEG C under 1 MPa for 30 minutes. Through these processes, specimens of "polyimide film / electromagnetic shielding sheet / adhesive sheet / polyimide film" were obtained. The adhesive force was measured by peeling the interface between the conductive layer and the polyimide film at an annealing temperature of 23 ° C and a relative humidity of 50% at a tensile rate of 50 mm / min and a peeling angle of 90 °.

A: 8N/25mm 이상A: 8N / 25mm or more

B: 8N/25mm 미만, 6N/25mm 이상B: Less than 8N / 25mm, 6N / 25mm or more

C: 6N/25mm 미만, 3N/25mm 이상C: Less than 6N / 25mm, 3N / 25mm or more

D: 3N/25mm미만D: Less than 3N / 25mm



도전성 시트Conductive sheet 전자파 차폐 시트Electromagnetic wave shielding sheet
접속저항
[Ω/25㎜]
Connection resistance
[Ω / 25 mm]
시트 저항[Ω/□]Sheet resistance [Ω / □] 접착력[N/25㎜]Adhesion [N / 25 mm]
도전 층Conductive layer 절연 층Insulating layer 초기Early 경시depreciation









실시예

















Example







1One 6.7×10-3 6.7 x 10 -3 BB 1.10   1.10 BB 5.4×107 5.4 × 10 7 AA 8.958.95 AA 7.127.12 BB
22 7.3×10-4 7.3 × 10 -4 AA 0.53   0.53 AA 5.7×108 5.7 x 10 8 AA 7.687.68 BB 6.216.21 BB 33 7.9×10-4 7.9 × 10 -4 AA 0.42   0.42 AA 7.3×108 7.3 × 10 8 AA 8.428.42 AA 6.836.83 BB 44 5.1×10-4 5.1 x 10 -4 AA 0.16   0.16 AA 7.2×108 7.2 x 10 8 AA 8.678.67 AA 6.016.01 BB 55 5.5×10-4 5.5 × 10 -4 AA 0.29   0.29 AA 6.5×108 6.5 × 10 8 AA 9.459.45 AA 6.896.89 BB 66 4.0×10-2 4.0 x 10 -2 CC 11.25  11.25 CC 3.6×107 3.6 × 10 7 AA 9.179.17 AA 6.456.45 BB 77 7.3×10-3 7.3 × 10 -3 BB 1.89   1.89 BB 3.5×108 3.5 × 10 8 AA 8.478.47 AA 7.007.00 BB 88 1.4×10-4 1.4 x 10 -4 AA 0.15   0.15 AA 1.9×106 1.9 × 10 6 BB 8.258.25 AA 6.546.54 BB 99 6.5×10-4 6.5 × 10 -4 AA 0.84   0.84 AA 8.4×104 8.4 × 10 4 CC 7.557.55 BB 6.536.53 BB 1010 1.3×10-3 1.3 x 10 -3 BB 0.14   0.14 AA 5.5×108 5.5 × 10 8 AA 6.086.08 BB 6.086.08 BB 1111 1.1×10-4 1.1 × 10 -4 AA 0.35   0.35 AA 6.0×108 6.0 × 10 8 AA 6.396.39 BB 5.085.08 CC 1212 2.1×10-2 2.1 x 10 -2 CC 22.58  22.58 CC 3.7×108 3.7 × 10 8 AA 9.359.35 AA 6.836.83 BB 1313 2.0×10-3 2.0 x 10 -3 BB 8.55   8.55 BB 2.7×108 2.7 × 10 8 AA 9.739.73 AA 6.936.93 BB 1414 3.1×10-4 3.1 × 10 -4 AA 0.14   0.14 AA 4.7×106 4.7 × 10 6 BB 6.936.93 BB 5.285.28 CC 1515 3.7×10-4 3.7 × 10 -4 AA 0.23   0.23 AA 9.6×105 9.6 × 10 5 CC 3.523.52 CC 3.103.10 CC 1616 3.9×10-4 3.9 × 10 -4 AA 0.76   0.76 AA 6.5×106 6.5 × 10 6 BB 3.903.90 CC 3.333.33 CC 1717 2.4×10-4 2.4 × 10 -4 AA 0.60   0.60 AA 7.0×106 7.0 × 10 6 BB 5.895.89 CC 4.894.89 CC 1818 6.7×10-4 6.7 × 10 -4 AA 0.81   0.81 AA 5.1×106 5.1 × 10 6 BB 5.275.27 CC 4.394.39 CC 1919 6.3×10-4 6.3 × 10 -4 AA 0.53   0.53 AA 5.7×108 5.7 x 10 8 AA 8.908.90 AA 8.808.80 AA 2020 5.6×10-4 5.6 × 10 -4 AA 0.53   0.53 AA 5.7×108 5.7 x 10 8 AA 9.009.00 AA 8.908.90 AA
비교예


Comparative Example

1One 1.21.2 DD 189.00 189.00 DD 5.0×102 5.0 × 10 2 DD 6.606.60 BB 5.645.64 CC
22 2.0×102.0 x 10 DD 210.00 210.00 DD 4.1×102 4.1 x 10 2 DD 1.131.13 DD -- -- 33 2.0×103 2.0 x 10 3 DD 2356.02356.0 DD 8.7×108 8.7 x 10 8 AA 9.459.45 AA 6.976.97 BB 44 5.1×102 5.1 x 10 2 DD 571.0 571.0 DD 6.3×108 6.3 × 10 8 AA 9.179.17 AA 5.285.28 CC 참고예Reference example 1One 4.9×10-4 4.9 × 10 -4 AA 0.48   0.48 AA 6.7×108 6.7 x 10 8 AA 8.078.07 AA 6.976.97 BB

[부기] 본 명세서는 상기 실시 형태에서 파악되는 이하에 제시하는 기술 사상의 발명도 공개한다.[Note] This specification also discloses the inventions of technical ideas described below that are grasped in the above embodiments.

(부기 1)(Annex 1)

도전성의 핵체를, 상기 핵체와는 다른 도전성 물질로 피복하고 복수의 홈 또는 분기엽을 가진 잎 모양의 도전성 미립자.A conductive fine particle in the form of a leaf having a conductive nucleus coated with a conductive material different from the nucleus and having a plurality of grooves or branches.

(부기 2)(Annex 2)

고체 매체가 도전성 핵체를 은으로 피복한 나뭇가지 모양 미립자에 충돌함으로써 상기 나뭇가지 모양 도전성 미립자가 변형되어, 복수의 홈 또는 분기엽을 가진 잎의 미립자를 얻는 공정을 포함함을 특징으로 하는 잎 모양 도전성 미립자의 제조 방법.Characterized in that the solid medium comprises a step of obtaining fine particles of leaves having a plurality of grooves or branching leaves by deforming the branchlike conductive fine particles by colliding with conductive fine particles coated with silver on the conductive fine particles, A method for producing conductive fine particles.

(부기 3)(Annex 3)

하기 수학 식(1)에서 구해지는 원 지름도 계수가 0.15 이상 0.4이하이며, 외연 형상에 홈 및 분기엽 중 적어도 한쪽이 복수 형성된 도전성 미립자.A conductive fine particle having a coefficient of circle diameter obtained by the following formula (1) is 0.15 or more and 0.4 or less, and at least one of grooves and branch foliage is formed in an outline shape.

[수학 식 1][Equation 1]

원 지름도 계수=(면적×4Π)/(주위길이)2 Coefficient of circle diameter = (area × 4π) / (circumference) 2

이 출원은 2012년 3월 6일에 출원된 일본 출원 특허 출원 2012-49680을 기초로 하는 우선권을 주장하면서 공개의 모든 것을 여기에 포함한다.This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2012-49680, filed on March 6, 2012, including all disclosures therein.

산업상의 이용 가능성 Industrial availability

본 발명의 도전성 미립자는 전도 특성을 필요로 하는 필러로서 각종 용도로 사용할 수 있다. 바람직하게는 본 발명의 도전성 입자와, 수지를 포함한 도전성 수지 조성물로 각종 용도에 이용할 수 있다. 예를 들면, 도전성 수지 조성물로 도전 층을 형성하고, 도전성 시트와 전자파 차폐 시트로 사용할 수 있다. 도전성 시트는, 예를 들어 회로 간의 전기적 접속을 목적으로 사용할 수 있다. 본 발명의 도전성 시트나 전자파 차폐 시트는, 예를 들면 반복적 굴곡을 받는 플렉시블 프린트 배선판과 리지드 프린트 배선판, 금속판과 플렉시블 커넥터 등에 알맞다.
The conductive fine particles of the present invention can be used for various purposes as a filler requiring conductivity characteristics. Preferably, the conductive particles of the present invention and the conductive resin composition containing the resin can be used for various purposes. For example, a conductive layer can be formed of a conductive resin composition and used as a conductive sheet and an electromagnetic wave shielding sheet. The conductive sheet can be used, for example, for electrical connection between circuits. The conductive sheet or the electromagnetic shielding sheet of the present invention is suitable, for example, for a flexible printed wiring board, a rigid printed wiring board, a metal plate and a flexible connector which are subjected to repeated bending.

10 :샘플
11,12 : 스테인레스 판
10: Sample
11, 12: Stainless steel plate

Claims (12)

도전성 물질을 포함한 핵체와,
상기 핵체를 피복하고, 그 핵체와는 다른 도전성 물질로 구성되고, 적어도 일부가 최 외층을 구성하는 피복 층을 갖추고,
하기 수학 식(1)에서 구해지는 원 지름도 계수가 0.15 이상 0.4 이하이며, 외연 형상에 홈 및 분기엽 중 적어도 한쪽이 복수 형성된 도전성 미립자:
[수학 식 1]
원 지름도 계수=(면적×4Π)/(주위길이)2
A core including a conductive material,
A coating layer covering the core and made of a conductive material different from the core, at least a part of which forms the outermost layer,
A conductive fine particle having a coefficient of circle diameter determined by the following formula (1) of not less than 0.15 and not more than 0.4 and having at least one of grooves and branch foliage in an outer shape:
[Equation 1]
Coefficient of circle diameter = (area × 4π) / (circumference) 2
제 1항에 있어서, 상기 핵체 100중량부에 대해 상기 피복 층이 1중량부 이상 40중량부 이하인 도전성 미립자.The conductive fine particle according to claim 1, wherein the covering layer is 1 part by weight or more and 40 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the core. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 두께가 0.1μm 이상 2μm 이하인 도전성 미립자.3. The conductive fine particle according to claim 1 or 2, wherein the thickness is 0.1 mu m or more and 2 mu m or less. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 피복 층이 은인 도전성 미립자.3. The conductive fine particle according to claim 1 or 2, wherein the coating layer is silver. 제 1항 내지 제 4항 중의 어느 한 항에 기재된 도전성 입자와, 수지를 포함하는, 도전성 수지 조성물.A conductive resin composition comprising the conductive particles according to any one of claims 1 to 4 and a resin. 제 5항에 있어서,
하기 화학식(1)으로 나타내는 단위를 가진 화합물이 배합된 도전성 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure pct00004
6. The method of claim 5,
A conductive resin composition comprising a compound having a unit represented by the following formula (1)
[Chemical Formula 1]
Figure pct00004
제 6항에 있어서,
상기 화학식(1)은 하기 화학식(2) 및 아래 화학식(3) 중 적어도 하나를 포함하는 도전성 수지 조성물:
[화학식 2]
Figure pct00005

[화학식 3]
Figure pct00006
The method according to claim 6,
Wherein the formula (1) comprises at least one of the following formula (2) and the following formula (3):
(2)
Figure pct00005

(3)
Figure pct00006
제 5항 또는 제 6항의 도전성 수지 조성물로 형성되는 도전층을 갖춘 도전성 시트.A conductive sheet having a conductive layer formed of the conductive resin composition of claim 5 or 6. 제 5항 또는 제 6항의 도전성 수지 조성물에서 형성되는 도전층과, 절연층을 갖춘 전자파 차폐 시트.An electromagnetic wave shielding sheet comprising a conductive layer formed from the conductive resin composition of claim 5 or 6, and an insulating layer. 도전성 물질을 포함한 핵체와,
상기 핵체를 피복하고, 그 핵체와는 다른 도전성 물질로 구성되고, 적어도 일부가 최 외층을 구성하는 피복 층을 구비하는 도전성 미립자의 제조 방법에 있어서,
도전성을 가지는 나뭇가지 모양 미립자와, 상기 나뭇가지 모양 미립자에 충돌시키는 것에 의해 그 나뭇가지 모양 미립자를 변형시키기 위한 고체 매체를 준비하는 공정과,
상기 나뭇가지 모양 미립자와 상기 고체 매체를 밀폐 용기 내에서 충돌시킴으로써,그 나뭇가지 모양 미립자를 하기 수학 식(1)으로 구해지는 원 지름도 계수가 0.15 이상 0.4 이하이며, 외연 형상에 홈 및 분기엽 중 적어도 한쪽이 복수 형성되도록 변형시키는 공정을 갖춘 도전성 미립자의 제조 방법:
[수학 식 1]
원 지름도 계수=(면적×4Π)/(주위길이)2
A core including a conductive material,
In a method for producing conductive fine particles which are formed of a conductive material which is different from the core material and covers at least part of the core material and which has a covering layer constituting the outermost layer,
Preparing a solid medium for deforming the branch-shaped fine particles by colliding the branch-shaped fine particles having conductivity with the branch-shaped fine particles;
Wherein the knife-like fine particles and the solid medium are collided in a hermetically sealed container so that the knife-like fine particles have a circle diameter coefficient of not less than 0.15 and not more than 0.4 obtained by the following formula (1) And a step of deforming at least one of the plurality of conductive fine particles so as to form a plurality of conductive fine particles.
[Equation 1]
Coefficient of circle diameter = (area × 4π) / (circumference) 2
제 10항에 있어서, 상기 나뭇가지 모양 미립자는, 나뭇가지 모양의 상기 핵체에 상기 피복 층이 피복되어 있는 것인 도전성 미립자의 제조 방법.11. The method for producing conductive fine particles according to claim 10, wherein the branch-shaped fine particles are coated with the covering layer on the branch-shaped core. 제 10항에 있어서, 상기 나뭇가지 모양 미립자는, 나뭇가지 모양의 상기 핵체를 구비하고, 그 나뭇가지 모양 미립자를 변형시킨 뒤 상기 피복 층을 상기 나뭇가지 모양 미립자에 피복시키는 도전성 미립자의 제조 방법.11. The method for producing conductive fine particles according to claim 10, wherein the branch-like fine particles have the branch-shaped core, and the branch-shaped fine particles are deformed, and then the coated layer is covered with the branch-shaped fine particles.
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015065342A (en) * 2013-09-25 2015-04-09 タツタ電線株式会社 Shield housing body, printed circuit board and electronic apparatus
JP2015065343A (en) * 2013-09-25 2015-04-09 タツタ電線株式会社 Shield housing body, printed circuit board, electronic apparatus and method for manufacturing shield housing body
AU2013263700B1 (en) * 2013-11-25 2015-05-14 Smart Start Technology Pty Ltd Electrical System Enhancer
WO2015122345A1 (en) * 2014-02-12 2015-08-20 東レ株式会社 Conductive paste, method for producing pattern, method for producing conductive pattern, and sensor
JP6466758B2 (en) * 2014-07-31 2019-02-06 Dowaエレクトロニクス株式会社 Silver-coated flaky copper powder, method for producing the same, and conductive paste using the silver-coated flaky copper powder
US10588569B2 (en) * 2015-01-14 2020-03-17 Toyobo Co., Ltd. Conductive fabric
KR20170130530A (en) * 2015-03-26 2017-11-28 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 Silver coating powder and conductive paste using it, a conductive paint, a conductive sheet
JP6332125B2 (en) * 2015-04-17 2018-05-30 住友金属鉱山株式会社 Silver coated copper powder and conductive paste, conductive paint, conductive sheet using the same
JP5907301B1 (en) * 2015-05-15 2016-04-26 住友金属鉱山株式会社 Silver-coated copper powder, copper paste using the same, conductive paint, conductive sheet, and method for producing silver-coated copper powder
JP5907302B1 (en) 2015-05-15 2016-04-26 住友金属鉱山株式会社 Copper powder, copper paste using the same, conductive paint, conductive sheet, and method for producing copper powder
KR102529562B1 (en) 2015-05-20 2023-05-09 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 Electroconductive pressure-sensitive adhesive material, and electroconductive pressure-sensitive adhesive material with electroconductive substrate
JP5871098B1 (en) * 2015-07-16 2016-03-01 東洋インキScホールディングス株式会社 Conductive adhesive layer, conductive adhesive sheet and printed wiring board
WO2017026130A1 (en) * 2015-08-07 2017-02-16 太陽インキ製造株式会社 Conductive composition, conductor and base
WO2017035103A1 (en) * 2015-08-25 2017-03-02 Plant Pv, Inc Core-shell, oxidation-resistant particles for low temperature conductive applications
CN110651004B (en) * 2017-07-07 2022-03-25 拓自达电线株式会社 Conductive resin composition and method for manufacturing shield package using same
KR102113732B1 (en) * 2019-03-21 2020-05-21 주식회사 아이에스시 Conductive powder and test connector comprising the same
CN111462935A (en) * 2020-05-12 2020-07-28 无锡市伍豪机械设备有限公司 Conductive particle and method for producing same

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002075057A (en) 2000-08-30 2002-03-15 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Coated copper powder
JP2002245849A (en) * 2001-02-13 2002-08-30 Dowa Mining Co Ltd Conductive filter for conductive paste and manufacturing method of the same
JP2004068111A (en) * 2002-08-08 2004-03-04 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Silver coated flake copper powder and method for manufacturing silver coated flake copper powder and conductive paste using silver coated flake copper powder
JP2006147351A (en) * 2004-11-19 2006-06-08 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Conductive composite powder and its manufacturing method
JP2006210214A (en) * 2005-01-31 2006-08-10 Dowa Mining Co Ltd Metal powder for conductive paste and conductive paste
JP2008223058A (en) * 2007-03-09 2008-09-25 Alpha Scientific Kk Mixed conductive powder and its manufacturing method, and conductive paste and its manufacturing method
JP2009230952A (en) 2008-03-21 2009-10-08 Fukuda Metal Foil & Powder Co Ltd Conductive paste composition, electronic circuit, and electronic parts
JP2010176976A (en) * 2009-01-28 2010-08-12 Tosoh Corp Composition for conductive film formation, its manufacturing method, and forming method of the conductive film
JP2011086930A (en) 2009-09-18 2011-04-28 Toyo Ink Mfg Co Ltd Electromagnetic wave shielding film and wiring board

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11152505A (en) * 1997-11-18 1999-06-08 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Flat shaped nickel powder and its production
JP2000133050A (en) * 1998-10-27 2000-05-12 Sekisui Chem Co Ltd Anisotropic conductive film and conductive connection structural body
US6663799B2 (en) * 2000-09-28 2003-12-16 Jsr Corporation Conductive metal particles, conductive composite metal particles and applied products using the same
JP4059486B2 (en) * 2002-11-01 2008-03-12 化研テック株式会社 Conductive powder, conductive composition, and method for producing conductive powder
JP4183924B2 (en) * 2001-03-30 2008-11-19 日揮触媒化成株式会社 METAL PARTICLE, PROCESS FOR PRODUCING THE PARTICLE, COATING LIQUID FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM CONTAINING THE PARTICLE, SUBSTRATE WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE COATING, DISPLAY DEVICE
JP4168116B2 (en) * 2002-03-06 2008-10-22 Dowaエレクトロニクス株式会社 Foil flake copper powder and conductive paste using the same
CN1308963C (en) * 2002-03-25 2007-04-04 索尼化学株式会社 Conductive particle and adhesive agent
JP4724369B2 (en) * 2003-09-29 2011-07-13 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 Method for producing conductive particles
CN100588453C (en) * 2006-05-24 2010-02-10 比亚迪股份有限公司 Method for preparing globular shape powdered nickel precursor body and globular shape powdered nickel
CN101041430A (en) * 2007-04-23 2007-09-26 华东理工大学 Preparation method of spherical charcoal-aero gel
JP4623224B2 (en) * 2008-06-26 2011-02-02 日立化成工業株式会社 Resin film sheet and electronic parts
TWI443458B (en) * 2010-04-21 2014-07-01 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Red-coloring composition for color filter and color filter

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002075057A (en) 2000-08-30 2002-03-15 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Coated copper powder
JP2002245849A (en) * 2001-02-13 2002-08-30 Dowa Mining Co Ltd Conductive filter for conductive paste and manufacturing method of the same
JP2004068111A (en) * 2002-08-08 2004-03-04 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Silver coated flake copper powder and method for manufacturing silver coated flake copper powder and conductive paste using silver coated flake copper powder
JP2006147351A (en) * 2004-11-19 2006-06-08 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Conductive composite powder and its manufacturing method
JP2006210214A (en) * 2005-01-31 2006-08-10 Dowa Mining Co Ltd Metal powder for conductive paste and conductive paste
JP2008223058A (en) * 2007-03-09 2008-09-25 Alpha Scientific Kk Mixed conductive powder and its manufacturing method, and conductive paste and its manufacturing method
JP2009230952A (en) 2008-03-21 2009-10-08 Fukuda Metal Foil & Powder Co Ltd Conductive paste composition, electronic circuit, and electronic parts
JP2010176976A (en) * 2009-01-28 2010-08-12 Tosoh Corp Composition for conductive film formation, its manufacturing method, and forming method of the conductive film
JP2011086930A (en) 2009-09-18 2011-04-28 Toyo Ink Mfg Co Ltd Electromagnetic wave shielding film and wiring board

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