KR20140118386A - Polyimide resin and film thereof - Google Patents

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KR20140118386A KR1020130034190A KR20130034190A KR20140118386A KR 20140118386 A KR20140118386 A KR 20140118386A KR 1020130034190 A KR1020130034190 A KR 1020130034190A KR 20130034190 A KR20130034190 A KR 20130034190A KR 20140118386 A KR20140118386 A KR 20140118386A
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Abstract

The present invention relates to a polyimide resin and a polyimide film using the same. Provided are a polyimide resin and a polyimide film which are colorless and transparent and have an excellent thermal expansion coefficient and low birefringence properties by including repeating units derived from a diamine-based monomer and a dianhydride-based monomer, and including 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) and bistrifluoromethylbenzylamines (TFDB) for the diamine-based monomer.

Description

폴리이미드 수지 및 이를 이용한 폴리이미드 필름{Polyimide resin and film thereof} TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polyimide resin and a polyimide film using the same,

본 발명은 폴리이미드 수지 및 이를 이용한 폴리이미드 필름에 관한 것이다.
The present invention relates to a polyimide resin and a polyimide film using the same.

일반적으로 폴리이미드(PI) 필름은 폴리이미드 수지를 필름화한 것으로, 폴리이미드 수지는 방향족 디안하이드라이드와 방향족 디아민 또는 방향족 디이소시아네이트를 용액 중합하여 폴리아믹산 유도체를 제조한 후, 고온에서 폐환 탈수시켜 이미드화하여 제조되는 고내열 수지를 일컫는다. 폴리이미드 수지를 제조하기 위하여 방향족 디안하이드라이드 성분으로서 피로멜리트산이무수물(PMDA) 또는 비페닐테트라카르복실산이무수물(BPDA) 등을 사용하고 있고, 방향족 디아민 성분으로서는 옥시디아닐린(ODA), p-페닐렌 디아민(p-PDA), m-페닐렌 디아민(m-PDA), 메틸렌디아닐린(MDA), 비스아미노페닐헥사플루오로프로판(HFDA) 등을 사용하고 있다. In general, a polyimide (PI) film is a film made of a polyimide resin, and a polyimide resin is produced by solution polymerization of an aromatic dianhydride and an aromatic diamine or aromatic diisocyanate to prepare a polyamic acid derivative, Refers to a high heat-resistant resin produced by imidization. (PMDA) or biphenyltetracarboxylic acid dianhydride (BPDA) or the like is used as an aromatic dianhydride component, and examples of the aromatic diamine component include oxydianiline (ODA), p (P-PDA), m-phenylenediamine (m-PDA), methylene dianiline (MDA), and bisaminophenylhexafluoropropane (HFDA).

이와 같은 폴리이미드 수지는 불용, 불융의 초고내열성 수지로서 내열산화성, 내열특성, 내방사선성, 저온특성, 내약품성 등에 우수한 특성을 가지고 있어, 자동차 재료, 항공소재, 우주선 소재 등의 내열 첨단소재 및 절연코팅제, 절연막, 반도체, TFT-LCD의 전극 보호막 등 전자재료에 광범위한 분야에 사용되고 있다. Such a polyimide resin is an insoluble and non-fusible ultra high heat resistant resin, and has excellent heat resistant oxidizing property, heat resistance property, radiation resistance property, low temperature property, chemical resistance, etc. and is excellent in heat resistant materials such as automobile materials, Insulating coatings, semiconductors, and electrode protection films for TFT-LCDs.

그러나 폴리이미드 수지는 높은 방향족 고리 밀도로 인하여 갈색 및 황색으로 착색되어 있어 가시광선 영역에서의 투과도가 낮고, 노란색 계열의 색을 나타내어 광투과율이 낮으며, 큰 복굴절률을 가지게 하여 광학부재로 사용하기에는 곤란한 점이 있다. However, since the polyimide resin is colored with brown and yellow due to high aromatic ring density, it has low transmittance in the visible light region, has a yellowish color and low light transmittance, and has a large birefringence, There are difficulties.

이러한 점을 해결하기 위하여 종래에는 단량체 및 용매를 정제하여 중합하는 방법이 시도되었으나, 투과율의 개선점은 크지 않았다.In order to solve this problem, conventionally, a method of purifying monomers and a solvent and polymerizing them has been attempted, but the improvement of the transmittance has not been remarkable.

또한, 미국특허 제5053480호에서는 방향족 디안하이드라이드 대신 지방족 고리계 디안하이드라이드 성분을 사용하는 방법이 기재되어 있는데, 정제 방법에 비해서는 용액이나 필름화하였을 경우 투명도 및 색상의 개선이 있었으나, 역시 투과도의 개선에 한계가 있어 높은 투과도는 만족하지 못하였으며, 또한, 열적 및 기계적 특성의 저하를 가져오는 결과를 나타내었다.In addition, U.S. Patent No. 5053480 discloses a method of using an aliphatic cyclic dianhydride component instead of an aromatic dianhydride. Compared with the purification method, there is an improvement in transparency and color when it is made into a solution or a film, And thus the high transmittance was not satisfied and the thermal and mechanical properties were deteriorated.

또한, 미국특허 제4595548호, 제4603061호, 제4645824, 제4895972호, 제5218083호, 제5093453호, 제5218077호, 제5367046호, 제5338826호. 제5986036호, 제6232428호 및 대한민국 특허공개공보 제2003-0009437호에는 -O-, -SO2-, CH2- 등의 연결기와 p-위치가 아닌 m-위치로의 연결된 굽은 구조의 단량체를 사용하거나, -CF3 등의 치환기를 갖는 방향족 디안하이드라이드 이무수물과 방향족 디아민 단량체를 사용하여 열적 특성이 크게 저하되지 않는 한도에서 투과도 및 색상의 투명도를 향상시킨 신규 구조의 폴리이미드를 제조한 보고가 있으나, 복굴절 특성에 있어서는 부족한 결과를 보였다.Also, U.S. Patent Nos. 4595548, 4603061, 4645824, 4895972, 5218083, 5093453, 5218077, 5367046, 5338826. 5986036 and 6232428 and Korean Patent Laid-Open Publication No. 2003-0009437 disclose that a monomer having a bridged structure connecting to a linking group such as -O-, -SO 2 -, or CH 2 - and the like at an m- , Or a novel structure of polyimide with improved transparency and color transparency as long as the thermal properties are not significantly deteriorated by using an aromatic dianhydride dianhydride having a substituent such as -CF 3 and an aromatic diamine monomer However, the birefringence characteristics were insufficient.

따라서, 무색투명한 폴리이미드 필름의 경우 다양한 디스플레이 소재 분야에 적용되기 위해서는 낮은 열팽창계수와 시야각 확보를 위한 낮은 복굴절 특성이 절실하다.
Therefore, a colorless transparent polyimide film is required to have a low thermal expansion coefficient and low birefringence characteristics for securing a viewing angle in order to be applied to various display materials fields.

본 발명의 주된 목적은 우수한 열팽창계수와 낮은 복굴절 특성을 가지는 무색투명한 폴리이미드 수지 및 이를 이용한 폴리이미드 필름을 제공하는데 있다.The main object of the present invention is to provide a colorless transparent polyimide resin having excellent thermal expansion coefficient and low birefringence characteristics and a polyimide film using the same.

본 발명은 또한, 상기 폴리이미드 필름을 포함하는 영상 표시 소자용 기판을 제공하는데 있다.
The present invention also provides a substrate for an image display device comprising the polyimide film.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 구현예는 디아민계 모노머 및 디안하이드라이드계 모노머로부터 유래되는 반복단위를 포함하고, 상기 디아민계 모노머로 1,4-디아미노 사이클로헥산(TCHD) 및 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지를 제공한다.In order to achieve the above-mentioned object, one embodiment of the present invention is a polymer electrolyte membrane comprising a repeating unit derived from a diamine-based monomer and a dianhydride-based monomer, wherein the diamine-based monomer is 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) And bis (trifluoromethyl) benzidine (TFDB).

본 발명의 바람직한 일 구현예에서, 상기 1,4-디아미노 사이클로헥산(TCHD)은 그 함량이 전체 디아민계 모노머에 대하여 10 ~ 40mol%이고, 상기 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)은 그 함량이 전체 디아민계 모노머에 대하여 60 ~ 90mol%인 것을 특징으로 할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) is contained in an amount of 10 to 40 mol% based on the total diamine monomer, and the bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) Is 60 to 90 mol% with respect to the total diamine-based monomer.

본 발명의 바람직한 일 구현예에서, 상기 디아민계 모노머는 비스 아미노하이드록시 페닐 헥사플로오로프로판(DBOH), 비스 아미노페녹시 벤젠(133APB, 134APB, 144APB), 비스 아미노페닐 헥사플루오로 프로판(33-6F, 44-6F), 비스 아미노페닐술폰(4DDS, 3DDS), 비스 아미노 페녹시 페닐헥사플루오로프로판(4BDAF), 비스 아미노 페녹시페닐프로판(6HMDA) 및 비스 아미노페녹시 디페닐술폰(DBSDA)로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the diamine-based monomer is at least one member selected from the group consisting of bisaminohydroxyphenylhexafluoropropane (DBOH), bisaminophenoxybenzene (133APB, 134APB, 144APB), bisaminophenylhexafluoropropane 6F and 44-6F), bisaminophenyl sulfone (4DDS, 3DDS), bisaminophenoxyphenylhexafluoropropane (4BDAF), bisaminophenoxyphenylpropane (6HMDA) and bisaminophenoxy diphenyl sulfone (DBSDA) And at least one compound selected from the group consisting of

본 발명의 바람직한 일 구현예에서, 상기 디안하이드라이드계 모노머는 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA), 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA), 비페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BPDA), 바이시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BTA), 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복실릭디안하이드라이드(TDA), 피로멜리틱산 디안하이드라이드(1,2,4,5-벤젠 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(PMDA), 벤조페논 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BTDA), 비스카르복시페닐 디메틸 실란 디안하이드라이드(SiDA), 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(ODPA), 비스 디카르복시페녹시 디페닐 설파이드 디안하이드라이드(BDSDA), 술포닐 디프탈릭안하이드라이드(SO2DPA) 및 이소프로필리덴이페녹시 비스 프탈릭안하이드라이드(6HDBA)로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the dianhydride monomer is selected from the group consisting of 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydride (6FDA), cyclobutane tetracarboxylic dianhydride (CBDA), biphenyl tetracarboxylic dianhydride (BPDA), bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride (BTA), 4 - (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic dianhydride (TDA), pyromellitic acid dianhydride (1,2,4,5-benzene tetracarboxylic dianhydride (PMDA), benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA), biscarboxyphenyldimethylsilanediamine hydride (SiDA), oxydiphthalic dianhydride Hydride (ODPA), bisdicarboxyphenoxy diphenylsulfide dianhydride (BDSDA), sulfonyl diptal The anhydride (SO2DPA) isopropylidene and the at least one selected from the group consisting of phenoxy-bis program anhydride (6HDBA) Talic can be characterized.

본 발명의 바람직한 일 구현예에서, 상기 디안하이드라이드계 모노머는 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA) 및 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA)인 것을 특징으로 할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the dianhydride monomer is selected from the group consisting of 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydrate (6FDA) and cyclobutane tetracarboxylic dianhydride (CBDA).

본 발명의 바람직한 일 구현예에서, 상기 디안하이드라이드계 모노머는 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA) 및 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA)은 그 함량이 전체 디안하이드라이드계 모노머에 대하여 20 ~ 100mol%이고, 상기 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)는 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA) 1몰에 대하여, 1 내지 5몰비로 함유하는 것을 특징으로 할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the dianhydride monomer is selected from the group consisting of 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydrate (6FDA) and cyclobutane tetracarboxylic dianhydride (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (6FDA) is present in an amount of from 20 to 100 mol% based on the total dianhydride monomer, and the 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) May be characterized by containing 1 to 5 molar ratio with respect to 1 mol of the carboxylic dianhydride (CBDA).

본 발명의 다른 구현예는 상기 폴리이미드 수지를 포함하는 폴리이미드 필름을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides a polyimide film comprising the polyimide resin.

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, 복굴절률이 0.008 이하인 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the birefringence is 0.008 or less.

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, Ro(면방향 위상차)는 1nm 이하이고, Rth(두께방향 위상차)는 100nm 이하(두께 10 ~ 12㎛)인 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, R o (planar phase difference) is 1 nm or less and R th (thickness direction retardation) is 100 nm or less (thickness is 10 to 12 μm).

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, 필름두께 10 ~ 12㎛를 기준으로 UV분광계로 투과도 측정시 550㎚에서 투과도가 88% 이상인 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, when the transmittance is measured by a UV spectrometer based on a film thickness of 10 to 12 μm, the transmittance at 550 nm is 88% or more.

본 발명의 바람직한 다른 구현예에서, 50 ~ 300℃에서의 열팽창계수(CTE)가 40ppm/℃ 이하인 것을 특징으로 할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, the thermal expansion coefficient (CTE) at 50 to 300 DEG C is 40 ppm / DEG C or less.

본 발명의 또 다른 구현예는 상기 폴리이미드 필름을 포함하는 영상표시소자용 기판을 제공한다.
Another embodiment of the present invention provides a substrate for an image display device comprising the polyimide film.

본 발명에 따르면, 무색투명하면서 우수한 열팽창계수와 낮은 복굴절 특성을 가지는 폴리이미드 수지 및 필름을 제공할 수 있어, 반도체 절연막, TFT-LCD 절연막, 패시베이션막, 액정배향막, 광통신용 재료, 태양전지용 보호막, 영상표시소자용 기판 등과 같이 우수한 광학특성과 함께 열 안정성이 요구되는 다양한 분야에 적용할 수 있는 효과가 있다.
According to the present invention, it is possible to provide a polyimide resin and a film which are colorless and transparent and have an excellent thermal expansion coefficient and a low birefringence characteristic, and can be used as a semiconductor insulating film, a TFT-LCD insulating film, a passivation film, a liquid crystal alignment film, There is an effect that the present invention can be applied to various fields in which thermal stability is required along with excellent optical characteristics such as substrates for image display devices.

다른 식으로 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용된 모든 기술적 및 과학적 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 숙련된 전문가에 의해서 통상적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로, 본 명세서에서 사용된 명명법 은 본 기술분야에서 잘 알려져 있고 통상적으로 사용되는 것이다.Unless otherwise defined, all technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. In general, the nomenclature used herein is well known and commonly used in the art.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. Throughout this specification, when an element is referred to as "including " an element, it is understood that the element may include other elements as well, without departing from the other elements unless specifically stated otherwise.

본 발명은 일 관점에서, 디아민계 모노머 및 디안하이드라이드계 모노머로부터 유래되는 반복단위를 포함하고, 상기 디아민계 모노머로 1,4-디아미노 사이클로헥산(TCHD) 및 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지에 관한 것이다.In one aspect of the present invention, there is provided a process for producing a polymer comprising repeating units derived from a diamine-based monomer and a dianhydride-based monomer, wherein the diamine-based monomer is 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) and bistrifluoromethylbenzidine ). ≪ / RTI >

본 발명은 다른 관점에서, 상기 폴리이미드 수지를 포함하는 폴리이미드 필름에 관한 것이다.
In another aspect, the present invention relates to a polyimide film comprising the polyimide resin.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명은 디아민계 모노머 및 디안하이드라이드계 모노머로부터 유래되는 반복단위를 포함하는 폴리이미드 수지에 있어서, 광학적 특성을 유지하면서 열팽창계수와 복굴절 특성을 개선시키기 위해 디아민계 모노머로 1,4-디아미노 사이클로헥산(TCHD) 및 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)을 사용하여 제조되는 폴리이미드 수지 및 필름에 관한 것이다.Disclosed is a polyimide resin comprising a repeating unit derived from a diamine-based monomer and a dianhydride-based monomer. The polyimide resin is obtained by reacting 1,4-diamino (TCHD), and bistrifluoromethylbenzidine (TFDB). ≪ Desc / Clms Page number 2 >

상기 1,4-디아미노 사이클로헥산(TCHD)은 사이클로헥산기를 가지고 있어 벤젠링을 가지고 있는 다른 디아민계 모노머에 비해 낮은 복굴절값을 가진다. 한편, 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)은 열팽창계수를 향상시킬 수 있어, 1,4-디아미노 사이클로헥산(TCHD)과 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)을 함께 사용할 경우, 폴리이미드 필름의 광학적 특성을 유지하면서 열팽창계수를 향상시킬 수 있는 동시에 낮은 복굴절값을 가진 폴리이미드 수지 및 필름을 제조할 수 있다.The 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) has a cyclohexane group and has a lower birefringence value than other diamine monomers having a benzene ring. On the other hand, bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) can improve the thermal expansion coefficient. When 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) and bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) are used together, A polyimide resin and a film having a low birefringence value can be produced while improving the thermal expansion coefficient while maintaining optical properties.

상기 1,4-디아미노 사이클로헥산(TCHD)은 그 함량이 전체 디아민계 모노머에 대해 10 ~ 40몰%로, 전체 디아민계 모노머에 대해 그 함량이 10몰% 미만인 경우, 물성 개선이 없으며, 40몰%를 초과하는 경우에는 낮은 분자량을 가져 필름의 유연성이 저하되는 문제점이 발생될 수 있다.When the content of the 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) is 10-40 mol% based on the total diamine-based monomer and the content of the 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) is less than 10 mol% based on the total diamine-based monomer, When the content is more than the mol%, a low molecular weight may cause a problem that flexibility of the film is deteriorated.

또한, 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)은 그 함량이 전체 디아민계 모노머에 대해 60 ~ 90몰%로, 전체 디아민계 모노머에 대해 함량이 60몰% 미만인 경우, 물성 개선이 없으며, 90몰%를 초과하는 경우에는 필름의 복굴절값이 높아지는 문제점이 발생될 수 있다.In the case where the content of bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) is 60 to 90 mol% based on the total diamine-based monomer and the content is less than 60 mol% based on the total diamine-based monomer, The birefringence value of the film may be increased.

본 발명에서는 디아민계 모노머로 1,4-디아미노 사이클로헥산(TCHD) 및 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB) 이외에 다른 디아민계 모노머를 더 포함하여 사용할 수 있으며, 그 예로는 비스 아미노하이드록시 페닐 헥사플로오로프로판(DBOH), 비스 아미노페녹시 벤젠(133APB, 134APB, 144APB), 비스 아미노페닐 헥사플루오로 프로판(33-6F, 44-6F), 비스 아미노페닐술폰(4DDS, 3DDS), 비스 아미노 페녹시 페닐헥사플루오로프로판(4BDAF), 비스 아미노 페녹시페닐프로판(6HMDA) 및 비스 아미노페녹시 디페닐술폰(DBSDA)로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In the present invention, other diamine-based monomers other than 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) and bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) may be used as the diamine-based monomer, and examples thereof include bisaminohydroxyphenylhexa- (33D), bisaminophenoxybenzene (133APB, 134APB, 144APB), bisaminophenylhexafluoropropane (33-6F, 44-6F), bisaminophenyl sulfone (4DDS, 3DDS), bisaminophenoxy But is not limited to, at least one selected from the group consisting of cyphenylhexafluoropropane (4BDAF), bisaminophenoxyphenylpropane (6HMDA), and bisaminophenoxy diphenylsulfone (DBSDA).

한편, 본 발명에서 사용되는 디안하이드라이드계 모노머는 특별히 한정되는 것은 아니나, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA), 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA), 비페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BPDA), 바이시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BTA), 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복실릭디안하이드라이드(TDA), 피로멜리틱산 디안하이드라이드(1,2,4,5-벤젠 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(PMDA), 벤조페논 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BTDA), 비스카르복시페닐 디메틸 실란 디안하이드라이드(SiDA), 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(ODPA), 비스 디카르복시페녹시 디페닐 설파이드 디안하이드라이드(BDSDA), 술포닐 디프탈릭안하이드라이드(SO2DPA) 및 이소프로필리덴이페녹시 비스 프탈릭안하이드라이드(6HDBA)로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The dianhydride monomer used in the present invention is not particularly limited, but may be 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (6FDA), cyclobutane tetracarboxylic (CBDA), biphenyl tetracarboxylic dianhydride (BPDA), bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride (BTA ), 4- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic dianhydride (TDA), pyromellitic acid Dianhydride (1,2,4,5-benzene tetracarboxylic dianhydride (PMDA), benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA), biscarboxyphenyldimethylsilanediamine hydride (SiDA), oxy Diphthalic dianhydride (ODPA), bisdicarboxyphenoxy diphenylsulfide dianhydride (BDSD A), sulfonyldiphthalic anhydride (SO2DPA), and isopropylidene may be at least one selected from the group consisting of phenoxy bisphthalic anhydride (6HDBA).

또한, 본 발명의 디안하이드라이드계 모노머는 열팽창계수 향상과 낮은 복굴절율 구현 측면에서, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA) 및 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA)인 것이 바람직하다. 상기 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)의 플루오로계는 낮은 열팽창계수를 구현할 수 있으며, 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA)은 사이클로부탄 구조로 인해 폴리이미드 수지의 낮은 복굴절값을 구현시킬 수 있다.In addition, the dianhydride monomer of the present invention can be preferably used in combination with 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (6FDA) and cyclobutane tetra It is preferably a carboxylic dianhydride (CBDA). The fluoro system of the 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydride (6FDA) can realize a low thermal expansion coefficient, and the cyclobutane tetracarboxylic dianhydride (CBDA) Can realize a low birefringence value of the polyimide resin due to the cyclobutane structure.

만일, 디안하이드라이드계 모노머로 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA) 및 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA)를 사용할 경우, 그 함량이 전체 디안하이드라이드계 모노머에 대하여 20 ~ 100mol%로 사용하는 것이 열팽창계수 및 복굴절값 측면에서 바람직하고, 더욱 바람직하게는 60 ~ 90mol%일 수 있다. If 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydrate (6FDA) and cyclobutane tetracarboxylic dianhydride (CBDA) are used as the dianhydride monomer, It is preferable that the content is 20 to 100 mol% with respect to the total dianhydride monomer in terms of the thermal expansion coefficient and the birefringence value, more preferably 60 to 90 mol%.

상기 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)는 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA) 1몰에 대하여, 1 내지 5 몰비로 함유하는 것이 열적 안정성 및 낮은 복굴절값을 구현하는데 바람직하다. The above 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydride (6FDA) is used in an amount of 1 to 5 mol per 1 mol of the cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) Are desirable for achieving thermal stability and low birefringence values.

전술된 디안하이드라이드계 모노머와 디아민계 모노머를 1:1당량비로 하여, 반응온도 -10 ~ 80℃, 반응시간 1 ~ 48시간 동안, 질소 또는 아르곤 분위기에서 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조할 수 있다.The polyamic acid solution can be prepared by polymerizing the above-mentioned dianhydride monomer and diamine monomer in a 1: 1 equivalent ratio at a reaction temperature of -10 to 80 ° C and a reaction time of 1 to 48 hours in a nitrogen or argon atmosphere .

상기 모노머들의 중합반응을 위한 용매(중합용 용매)로는 폴리아믹산을 용해하는 용매이면 특별히 한정되지 않는다. 공지된 반응용매로서 m-크레졸, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸설폭사이드(DMSO), 아세톤, 디에틸아세테이트 중에서 선택된 하나 이상의 극성용매를 사용한다. 이외에도 테트라하이드로퓨란(THF), 클로로포름과 같은 저비점 용액 또는 γ-부티로락톤과 같은 저흡수성 용매를 사용할 수 있다. 이외에도 테트라하이드로퓨란(THF), 클로로포름과 같은 저비점 용액 또는 γ-부티로락톤과 같은 저흡수성 용매를 사용할 수 있다.The solvent (polymerization solvent) for the polymerization reaction of the above monomers is not particularly limited as long as it is a solvent dissolving the polyamic acid. As the known reaction solvent, there may be used, for example, m-cresol, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethylsulfoxide (DMSO) One or more polar solvents are used. In addition, a low boiling point solution such as tetrahydrofuran (THF), chloroform or a low-absorbency solvent such as? -Butyrolactone may be used. In addition, a low boiling point solution such as tetrahydrofuran (THF), chloroform or a low-absorbency solvent such as? -Butyrolactone may be used.

용매의 함량에 대하여 특별히 한정되지는 않으나, 적절한 폴리아믹산 용액의 분자량과 점도를 얻기 위하여 중합용 용매(제1 용매)의 함량은 전체 폴리아믹산 용액 중 50 ~ 95중량%가 바람직하고, 더욱 좋게는 70 ~ 90중량%인 것이 보다 바람직하다. Although the content of the solvent is not particularly limited, the content of the solvent for the polymerization (first solvent) in the polyamic acid solution is preferably 50 to 95% by weight, more preferably, And more preferably 70 to 90% by weight.

이와 같이 제조된 폴리아믹산 용액을 이미드화하여 제조된 폴리이미드 수지는 열안정성을 고려하여 유리전이온도(Tg)가 200 ~ 400℃인 것이 바람직하다.The polyimide resin prepared by imidizing the polyamic acid solution thus prepared preferably has a glass transition temperature (Tg) of 200 to 400 ° C in consideration of thermal stability.

본 발명에 따른 폴리이미드 필름 제조방법에 있어서, 중합된 폴리아믹산을 지지체에 캐스팅하여 이미드화하는 단계에서, 적용되는 이미드화법으로는 열이미드화법, 화학이미드화법, 또는 열이미드화법과 화학이미드화법을 병용하여 적용할 수 있다. In the method of producing a polyimide film according to the present invention, in the step of casting and polymerizing a polymerized polyamic acid in a support, imidation methods to be applied include a thermal imidation method, a chemical imidation method, The chemical imidation method can be used in combination.

상기 열이미드화법은 폴리아믹산 용액을 지지체상에 캐스팅하여 40 ~ 400℃의 온도범위에서 서서히 승온시키면서 1 ~ 8시간 가열하여 폴리이미드 필름을 얻는 방법이다.The thermal imidation method is a method in which a polyamic acid solution is cast on a support, and the polyimide film is obtained by heating the solution for 1 to 8 hours while gradually heating the solution in a temperature range of 40 to 400 ° C.

상기 화학이미드화법은 폴리아믹산 용액에 아세트산무수물 등의 산무수물로 대표되는 탈수제와 이소퀴놀린, β-피콜린, 피리딘 등의 3급 아민류 등으로 대표되는 이미드화 촉매를 투입하는 방법이다. 이러한, 화학이미드화법에 열이미드화법 또는 열이미드화법을 병용하는 경우, 폴리아믹산 용액의 가열 조건은 폴리아믹산 용액의 종류, 제조되는 폴리이미드 필름의 두께 등에 의하여 변동될 수 있다.In the chemical imidation method, a dehydrating agent represented by an acid anhydride such as acetic anhydride and a imidation catalyst represented by tertiary amines such as isoquinoline, β-picoline, and pyridine are added to the polyamic acid solution. When the thermal imidation method or the thermal imidization method is used in combination with the chemical imidation method, the heating conditions of the polyamic acid solution may be varied depending on the type of the polyamic acid solution, the thickness of the polyimide film to be produced, and the like.

상기 열이미드화법과 화학이미드화법을 병용하는 경우의 폴리이미드 필름 제조예를 보다 구체적으로 설명하면, 폴리아믹산 용액에 탈수제 및 이미드화 촉매를 투입하여 지지체상에 캐스팅한 후 80 ~ 200℃, 바람직하게는 100 ~ 180℃에서 가열하여 탈수제 및 이미드화 촉매를 활성화함으로써 부분적으로 경화 및 건조한 후, 200 ~ 400℃에서 5 ~ 400초간 가열함으로써 폴리이미드 필름을 얻을 수 있다.More specifically, a polyimide film production example in which the thermal imidation method and the chemical imidization method are used in combination is described. More specifically, a polyimamic acid solution is loaded with a dehydrating agent and an imidation catalyst, cast on a support, Preferably at 100 to 180 ° C to activate the dehydrating agent and the imidization catalyst to partially cure and dry the polyimide film, and then heat at 200 to 400 ° C for 5 to 400 seconds to obtain a polyimide film.

한편, 본 발명에서는 상기 수득된 폴리아믹산 용액으로부터 다음과 같이 폴리이미드 필름을 제조할 수도 있다. 즉, 수득된 폴리아믹산 용액을 이미드화한 후, 이미드화한 용액을 제2 용매에 투입하고 침전, 여과 및 건조하여 폴리이미드 수지의 고형분을 수득하고, 수득된 폴리이미드 수지 고형분을 제1 용매에 용해시킨 폴리이미드 용액을 이용하여 제막공정을 통하여 얻을 수 있다.In the present invention, a polyimide film may be prepared from the polyamic acid solution as follows. Namely, after the obtained polyamic acid solution is imidized, the imidized solution is put into a second solvent, followed by precipitation, filtration and drying to obtain a solid content of the polyimide resin, and the solid content of the obtained polyimide resin is added to the first solvent Can be obtained through a film-forming process using a dissolved polyimide solution.

상기 제1 용매는 폴리아믹산 용액 중합시 사용한 용매와 동일한 용매를 사용할 수 있으며, 상기 제2 용매는 폴리이미드 수지의 고형분을 수득하기 위하여 제1 용매보다 극성이 낮은 것을 사용하며, 구체적으로는 물, 알코올류, 에테르류 및 케톤류 중 선택된 1종 이상인 것일 수 있다. 이때 상기 제2 용매의 함량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 폴리아믹산 용액의 중량 대비 5 ~ 20중량%인 것이 바람직하다.The first solvent may be the same solvent as that used in the polymerization of the polyamic acid solution. The second solvent may be one having a lower polarity than the first solvent in order to obtain the solid content of the polyimide resin, Alcohols, ethers, and ketones. At this time, the content of the second solvent is not particularly limited, but is preferably 5 to 20% by weight based on the weight of the polyamic acid solution.

전술된 바와 같이 수득된 폴리이미드 수지 고형분을 여과한 후 건조하는 조건은 제2 용매의 끓는점을 고려하여 온도는 50 ~ 120℃, 시간은 3 ~ 24시간인 것이 바람직하다.It is preferable that the polyimide resin solids obtained as described above are filtered and dried by considering the boiling point of the second solvent at a temperature of 50 to 120 ° C and a time of 3 to 24 hours.

이후 제막공정에서 폴리이미드 수지 고형분이 용해되어 있는 폴리이미드 용액을 지지체상에 캐스팅하여 40 ~ 400℃의 온도범위에서 서서히 승온시키면서 1분 ~ 8시간 가열하여 폴리이미드 필름을 얻는다. Thereafter, the polyimide solution in which the solid polyimide resin is dissolved is cast on a support, and heated at a temperature in the range of 40 to 400 ° C for 1 minute to 8 hours while gradually heating the polyimide solution to obtain a polyimide film.

전술된 방법으로 얻어지는 폴리이미드 필름의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 10 ~ 250㎛의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 ~ 150㎛인 것이 좋다.The thickness of the polyimide film obtained by the above-described method is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 250 mu m, more preferably 10 to 150 mu m.

이상에서 설명한 바와 같은 방법으로 얻어지는 폴리이미드 필름은 필름두께 10 ~ 12㎛를 기준으로 UV분광계로 투과도 측정시 550㎚에서 투과도가 88% 이상이고, 50 ~ 300℃에서의 열팽창계수(CTE)가 40ppm/℃이하이며, 복굴절률이 0.008 이하이고, Ro(면방향 위상차)는 1nm 이하이고, Rth(두께방향 위상차)는 100nm 이하(두께 10 ~ 12㎛)이다.The polyimide film obtained by the method described above has a transmittance of at least 88% at 550 nm and a thermal expansion coefficient (CTE) at 50 to 300 캜 of 40 ppm / ° C .; the birefringence is 0.008 or less; R o (plane direction retardation) is 1 nm or less; and R th (thickness direction retardation) is 100 nm or less (thickness 10 to 12 μm).

본 발명은 다른 관점에서, 상기 폴리이미드 필름을 포함하는 영상표시소자용 기판에 관한 것이다.In another aspect, the present invention relates to a substrate for an image display device comprising the polyimide film.

본 발명에 따른 영상표시소자용 기판은 열팽창계수가 우수하고, 낮은 복굴절 특성을 가지는 고내열 무색투명한 폴리이미드 필름을 포함함으로써, 고온 공정 및 시야각 확보에 이점을 가질 수 있다.
The substrate for an image display device according to the present invention has a high heat-resistant colorless and transparent polyimide film having an excellent thermal expansion coefficient and a low birefringence characteristic, so that it can be advantageous in a high-temperature process and securing a viewing angle.

이하, 본 발명을 실시예를 통하여 보다 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to the following Examples.

<< 실시예Example 1>  1>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 572.6g을 채운 다음, 반응기의 온도를 60℃로 맞추고, TCHD 3.43g(0.03mol)과 TFDB 38.43g(0.12mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 냉각하였다. 여기에 6FDA 53.31g(0.12mol)과 CBDA 5.88g(0.03mol)을 첨가한 후 1시간 동안 25℃에서 반응하여 고형분의 농도가 15중량%이고, 점도가 475 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.N, N-dimethylacetamide (DMAc) was charged in a 1 L reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser while nitrogen was passed through the reactor, the temperature of the reactor was adjusted to 60 ° C, 3.43 g (0.03 mol) of TCHD and 38.43 g (0.12 mol) of TFDB were dissolved and the solution was cooled to 25 캜. 53.31 g (0.12 mol) of 6FDA and 5.88 g (0.03 mol) of CBDA were added and reacted at 25 ° C for 1 hour to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 15% by weight and a viscosity of 475 poise.

반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후 90㎛로 캐스팅하고 150℃의 열풍으로 1시간, 200℃에서 1시간, 300℃에서 30분 열풍으로 건조한 후 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 12㎛ 폴리이미드 필름을 수득하였다.
After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 90 μm, dried with hot air at 150 ° C. for 1 hour, 200 ° C. for 1 hour and 300 ° C. for 30 minutes with hot air, 12 占 퐉 polyimide film was obtained.

<< 실시예Example 2>  2>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 530.4g을 채운 다음, 반응기의 온도를 60℃로 맞추고 TCHD 3.43g(0.03mol)과 TFDB 38.43g(0.12mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 냉각하였다. 여기에 6FDA 39.98g(0.09mol)과 CBDA 11.77g(0.06mol)을 첨가한 후 25℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 15중량%이고, 점도가 502 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다. Nitrogen was passed through a 1 L reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, and 530.4 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) was charged. The temperature of the reactor was adjusted to 60 ° C, 3.43 g (0.03 mol) of TFDB and 38.43 g (0.12 mol) of TFDB were dissolved and the solution was cooled to 25 캜. 39.98g (0.09mol) of 6FDA and 11.77g (0.06mol) of CBDA were added and reacted at 25 ° C for 12 hours to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 15 wt% and a viscosity of 502 poise.

이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 기재 폴리이미드 필름을 제조하였다.
Thereafter, a base polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1 above.

<< 실시예Example 3> 3>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 535.6g을 채운 다음, 반응기의 온도를 60℃로 맞추고, TCHD 3.43g(0.03mol)과 TFDB 38.43g(0.12mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 냉각하였다. 여기에 6FDA 39.98g(0.09mol)과 CBDA 8.83g(0.045mol)과 PMDA 3.27g(0.015mol)을 첨가한 후 25℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 15중량%이고, 점도가 582 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다. N, N-dimethylacetamide (DMAc) was charged into a 1 L reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser while passing nitrogen through the reactor, the temperature of the reactor was adjusted to 60 ° C, 3.43 g (0.03 mol) of TCHD and 38.43 g (0.12 mol) of TFDB were dissolved and the solution was cooled to 25 캜. After adding 39.98g (0.09mol) of 6FDA, 8.83g (0.045mol) of CBDA and 3.27g (0.015mol) of PMDA, the mixture was reacted at 25 ° C for 12 hours to obtain a solution having a solid content of 15% by weight and a viscosity of 582 poise A polyamic acid solution was obtained.

이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 기재 폴리이미드 필름을 제조하였다.
Thereafter, a base polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1 above.

<< 실시예Example 4> 4>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 514.5g을 채운 다음, 반응기의 온도를 60℃로 맞추고 TCHD 3.43g(0.03mol)과 TFDB 38.43g(0.12mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 냉각하였다. 여기에 6FDA 33.32g(0.075mol)과 CBDA 11.77g(0.06mol)과 PMDA 3.27g(0.015mol)을 첨가한 후 25℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 15중량%이고, 점도가 496 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.Nitrogen was passed through a 1 L reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, and 514.5 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) was charged. The temperature of the reactor was adjusted to 60 ° C, 3.43 g (0.03 mol) of TFDB and 38.43 g (0.12 mol) of TFDB were dissolved and the solution was cooled to 25 캜. After adding 33.32g (0.075mol) of 6FDA, 11.77g (0.06mol) of CBDA and 3.27g (0.015mol) of PMDA and reacting at 25 ° C for 12 hours, the solid content was 15% by weight and the viscosity was 496 poise A polyamic acid solution was obtained.

이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 기재 폴리이미드 필름을 제조하였다.
Thereafter, a base polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1 above.

<< 실시예Example 5>  5>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 555.9g을 채운 다음, 반응기의 온도를 60℃로 맞추고 TCHD 3.43g(0.03mol)과 TFDB 38.43g(0.12mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 냉각하였다. 여기에 6FDA 39.98g(0.09mol)과 CBDA 5.88g(0.03mol)과 BPDA 8.83g(0.03mol)을 첨가한 후 25℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 15중량%이고, 점도가 528 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.N, N-dimethylacetamide (DMAc) 555.9 g was charged into a 1 L reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser while nitrogen was passed through the reactor, the temperature of the reactor was adjusted to 60 ° C, 3.43 g (0.03 mol) of TFDB and 38.43 g (0.12 mol) of TFDB were dissolved and the solution was cooled to 25 캜. After adding 39.98g (0.09mol) of 6FDA, 5.88g (0.03mol) of CBDA and 8.83g (0.03mol) of BPDA, the mixture was reacted at 25 ° C for 12 hours to obtain a solution having a solid content of 15% by weight and a viscosity of 528 poise A polyamic acid solution was obtained.

이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 기재 폴리이미드 필름을 제조하였다.
Thereafter, a base polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1 above.

<< 비교예Comparative Example 1> 1>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 447.31g을 채운 다음, 반응기의 온도를 25℃로 맞춘 후 TFDB 48.03g(0.15mol)을 용해하고 여기에 6FDA 66.64g(0.15mol)을 첨가한 후 25℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 15중량%이고, 점도가 512 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.As a reactor, 447.31 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen through a 1 L reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser. (0.15 mol) of TFDB were dissolved. 66.64 g (0.15 mol) of 6FDA was added thereto and reacted at 25 ° C for 12 hours to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 15 wt% and a viscosity of 512 poise.

이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 기재 폴리이미드 필름을 제조하였다.
Thereafter, a base polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1 above.

<< 비교예Comparative Example 2> 2>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 624.30g을 채운 다음, 반응기의 온도를 25℃로 맞춘 후 TFDB 48.03g(0.15mol)을 용해하고 여기에 6FDA 53.31g(0.12mol)과 BPDA 8.83g(0.03mol)을 첨가한 후 25℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 15중량%이고, 점도가 536 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.N, N-dimethylacetamide (DMAc) (624.30 g) was charged into a 1 L reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, and the temperature of the reactor was adjusted to 25 ° C 53.31 g (0.12 mol) of 6FDA and 8.83 g (0.03 mol) of BPDA were added thereto and reacted at 25 ° C for 12 hours to obtain a solution having a solid concentration of 15% by weight and a viscosity of 536 poise solution of polyamic acid was obtained.

이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 기재 폴리이미드 필름을 제조하였다.
Thereafter, a base polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1 above.

<< 비교예Comparative Example 3> 3>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 432.49g을 채운 다음, 반응기의 온도를 60℃로 맞추고 TCHD 17.13g(0.15mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 냉각하였다. 여기에 6FDA 53.31g(0.12mol)과 CBDA 5.88g(0.03mol)을 첨가한 후 25℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 15중량%이고, 점도가 574 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.432.49 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) was charged into a 1 L reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser while passing nitrogen, and the temperature of the reactor was adjusted to 60 ° C. 17.13g (0.15mol) was dissolved and the solution was cooled to 25 占 폚. 53.31 g (0.12 mol) of 6FDA and 5.88 g (0.03 mol) of CBDA were added and reacted at 25 ° C for 12 hours to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 15 wt% and a viscosity of 574 poise.

이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 기재 폴리이미드 필름을 제조하였다.
Thereafter, a base polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1 above.

<< 비교예Comparative Example 4> 4>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 607.62g을 채운 다음, 반응기의 온도를 25℃로 맞추고 TFDB 48.03g(0.15mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 냉각하였다. 여기에 6FDA 53.31g(0.12mol)과 CBDA 5.88g(0.03mol)을 첨가한 후 25℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 15중량%이고, 점도가 496 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.N, N-dimethylacetamide (DMAc) (607.62 g) was charged into a 1 L reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser while nitrogen was passed through the reactor. (0.15 mol) was dissolved and the solution was cooled to 25 캜. 53.31 g (0.12 mol) of 6FDA and 5.88 g (0.03 mol) of CBDA were added and reacted at 25 ° C for 12 hours to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 15% by weight and a viscosity of 496 poise.

이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 기재 폴리이미드 필름을 제조하였다.
Thereafter, a base polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1 above.

<< 비교예Comparative Example 5> 5>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 1L 반응기에 질소를 통과시키면서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 473.6g을 채운 다음, 반응기의 온도를 60℃로 맞추고 TCHD 8.56g(0.075mol)과 TFDB 24.02g(0.075mol)을 용해하여 이 용액을 25℃로 냉각하였다. 여기에 6FDA 53.31g(0.12mol)과 CBDA 5.88g(0.03mol)을 첨가한 후 25℃에서 12시간 반응하여 고형분의 농도가 15중량%이고, 점도가 420 poise인 폴리아믹산 용액을 얻었다.N, N-dimethylacetamide (DMAc) was charged with 473.6 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) through a 1 L reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser. (0.075 mol) of TFDB and 24.02 g (0.075 mol) of TFDB were dissolved and the solution was cooled to 25 캜. 53.31 g (0.12 mol) of 6FDA and 5.88 g (0.03 mol) of CBDA were added and reacted at 25 ° C for 12 hours to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 15% by weight and a viscosity of 420 poise.

이후 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 기재 폴리이미드 필름을 제조하였다.
Thereafter, a base polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1 above.

상기 실시예 및 비교예로 제조된 폴리이미드 필름을 하기의 방법으로 물성을 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
The properties of the polyimide films prepared in Examples and Comparative Examples were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 1 below.

<물성평가 방법>&Lt; Property evaluation method &

(1)투과도 측정(1) Measurement of permeability

실시예 및 비교예에서 제조된 필름을 UV분광계(코티카 미놀타 CM-3700d)를 이용하여 550nm에서의 투과도를 측정하였다.The films prepared in Examples and Comparative Examples were measured for transmittance at 550 nm using a UV spectrometer (Kotika Minolta CM-3700d).

(2) 열팽창계수(CTE) 측정(2) Coefficient of thermal expansion (CTE) measurement

TMA(Perkin Elmer사, Diamond TMA)를 이용하여 TMA-Method에 따라 2번에 걸쳐 50 ~ 300℃에서의 열팽창계수를 측정하였으며, 승온속도는 10℃/min, 100mN의 하중을 가하여 첫번째 값을 실측정치로 제시하였다.TMA (Perkin Elmer, Diamond TMA) was used to measure the thermal expansion coefficient at 50 to 300 ° C. twice in accordance with the TMA-method. The temperature was measured at a rate of 10 ° C./min and a load of 100 mN Politics.

(3) 두께 측정(3) Thickness measurement

Anritsu Electronic Micrometer로 두께를 측정하였으며 장치의 편차는 ±0.5%이하이다.The thickness was measured with an Anritsu Electronic Micrometer and the deviation of the device was less than ± 0.5%.

(4) 복굴절 측정(4) Birefringence measurement

복굴절 분석기(Prism Coupler, Sairon SPA4000)를 이용하여 630nm에서 3회 측정하여 평균값을 측정하였다.The average value was measured three times at 630 nm using a birefringence analyzer (Prism Coupler, Sairon SPA4000).

(6) 리타데이션(Retardation) 측정(6) Retardation measurement

리타데이션(Retardation)은 OTSUKA ELECTRONICS의 RETS를 사용하여 측정하였다. 샘플 크기는 가로 및 세로 각각 1인치 정사각형 형태로 시편을 샘플 홀더에 장착하고 모노크로미터를 이용하여 550nm로 고정하였으며, Ro(면방향 위상차)는 입사각이 0°에서 측정하여 면내 복굴절을 측정, Rth(두께방향 위상차)는 입사각을 45°에서 측정하여 두께 위상차를 측정하였다.Retardation was measured using RETS from OTSUKA ELECTRONICS. The specimen was mounted on a sample holder in the shape of a square of 1 inch each in the horizontal and the vertical directions and fixed at 550 nm using a monochrometer. R o (plane retardation) was measured at an incident angle of 0 ° to measure in- R th (thickness direction retardation) was measured at an incident angle of 45 ° to measure the thickness retardation.

Ro= (nx-ny)*dR o = (n x -n y ) * d

Rth= [(ny-nz)*d+(nx-nz)*d]/2 R th = [(n y -n z) * d + (n x -n z) * d] / 2

여기서, nx는 x방향으로의 굴절율이고, ny는 y방향으로의 굴절율이며, nz는 z방향으로의 굴절율이고, d는 폴리이미드 필름의 두께이다.
Here, n x is the refractive index in the x direction, n y is the refractive index in the y direction, n z is the refractive index in the z direction, and d is the thickness of the polyimide film.

구분 division 성분ingredient 몰비Mole ratio 두께
(㎛)
thickness
(탆)
투과도 (%)Permeability (%) Prism CouplerPrism Coupler
TE(transverse electric) 모드Transverse electric (TE) mode TM(transverse magnetic) 모드TM (transverse magnetic) mode 복굴절Birefringence 실시예1Example 1 TCHD+TFDB/6FDA+CBDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA 20:80/80:2020: 80/80: 20 1212 89.989.9 1.55741.5574 1.55201.5520 0.0050.005 실시예2Example 2 TCHD+TFDB/6FDA+CBDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA 20:80/60:4020: 80/60: 40 1010 90.790.7 1.55761.5576 1.55051.5505 0.0070.007 실시예3Example 3 TCHD+TFDB/6FDA+CBDA+PMDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA + PMDA 20:80/60:30:1020: 80/60: 30: 10 1111 90.690.6 1.56011.5601 1.55201.5520 0.0080.008 실시예4Example 4 TCHD+TFDB/6FDA+CBDA+PMDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA + PMDA 20:80/50:40:1020: 80/50: 40: 10 1212 90.590.5 1.56381.5638 1.55541.5554 0.0080.008 실시예5Example 5 TCHD+TFDB/6FDA+CBDA+BPDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA + BPDA 20:80/60:20:2020: 80/60: 20: 20 1111 89.589.5 1.57101.5710 1.56461.5646 0.0060.006 비교예1Comparative Example 1 TFDB/6FDATFDB / 6FDA 100/100100/100 1010 90.690.6 1.56111.5611 1.55541.5554 0.0060.006 비교예2Comparative Example 2 TFDB/6FDA+BPDATFDB / 6FDA + BPDA 100/80:20100/80: 20 1212 89.589.5 1.56451.5645 1.55941.5594 0.0050.005 비교예3Comparative Example 3 TCHD/6FDA+CBDATCHD / 6FDA + CBDA 100/80:20100/80: 20 1111 90.390.3 1.55901.5590 1.54481.5448 0.0140.014 비교예4Comparative Example 4 TFDB/6FDA+CBDATFDB / 6FDA + CBDA 100/80:20100/80: 20 1212 88.188.1 1.55101.5510 1.54111.5411 0.0100.010 비교예5Comparative Example 5 TCHD+TFDB/6FDA+CBDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA 50:50/80:2050: 50/80: 20 1212 89.489.4 1.55641.5564 1.54341.5434 0.0130.013

성분ingredient 몰비Mole ratio 두께
(㎛)
thickness
(탆)
열팽창계수
(ppm/℃)
Coefficient of thermal expansion
(ppm / DEG C)
위상차 측정기 (RETS)Phase difference meter (RETS)
Ro R o Rth R th 실시예1Example 1 TCHD+TFDB/6FDA+CBDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA 20:80/80:2020: 80/80: 20 1212 39.339.3 0.020.02 57.757.7 실시예2Example 2 TCHD+TFDB/6FDA+CBDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA 20:80/60:4020: 80/60: 40 1010 37.437.4 0.240.24 82.082.0 실시예3Example 3 TCHD+TFDB/6FDA+CBDA+PMDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA + PMDA 20:80/60:30:1020: 80/60: 30: 10 1111 39.439.4 0.280.28 97.997.9 실시예4Example 4 TCHD+TFDB/6FDA+CBDA+PMDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA + PMDA 20:80/50:40:1020: 80/50: 40: 10 1212 35.135.1 0.190.19 74.874.8 실시예5Example 5 TCHD+TFDB/6FDA+CBDA+BPDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA + BPDA 20:80/60:20:2020: 80/60: 20: 20 1111 30.430.4 0.200.20 95.195.1 비교예1Comparative Example 1 TFDB/6FDATFDB / 6FDA 100/100100/100 1010 64.164.1 0.170.17 42.942.9 비교예2Comparative Example 2 TFDB/6FDA+BPDATFDB / 6FDA + BPDA 100/80:20100/80: 20 1212 30.330.3 0.740.74 186.0186.0 비교예3Comparative Example 3 TCHD/6FDA+CBDATCHD / 6FDA + CBDA 100/80:20100/80: 20 1111 45.245.2 0.820.82 435.2435.2 비교예4Comparative Example 4 TFDB/6FDA+CBDATFDB / 6FDA + CBDA 100/80:20100/80: 20 1212 42.142.1 0.520.52 223.3223.3 비교예5Comparative Example 5 TCHD+TFDB/6FDA+CBDATCHD + TFDB / 6FDA + CBDA 50:50/80:2050: 50/80: 20 1212 44.144.1 0.020.02 50.450.4

실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 5에서 제조된 폴리이미드 필름의 물성측정결과, 표 1 및 표 2에 나타난 바와 같이, 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB) 및 1,4-디아미노사이클로헥산(TCHD)에 함유된 트리플루오르기 및 사이클로헥산기가 벤젠링을 가지고 있는 디아민계 모노머를 사용한 경우보다 낮은 복굴절 값을 가지며 열팽창계수 또한 우수함을 확인할 수 있었다.As a result of measurement of the physical properties of the polyimide films produced in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5, as shown in Tables 1 and 2, bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) and 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) had a lower birefringence value than the case of using a diamine-based monomer having a benzene ring, and the thermal expansion coefficient was also excellent.

또한, 비교예 1 내지 4에서와 같이 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB) 또는 1,4-디아미노사이클로헥산(TCHD)을 단독으로 사용한 폴리이미드 필름에 비해 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB) 및 1,4-디아미노사이클로헥산(TCHD)을 함께 사용한 폴리이미드 필름의 경우가 광투과율을 유지하면서 낮은 복굴절률과 열팽창계수를 가짐을 알 수 있었다.
Further, compared with the polyimide film using bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) or 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) alone as in Comparative Examples 1 to 4, the ratio of bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) and It was found that the polyimide film using 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) had a low birefringence and a thermal expansion coefficient while maintaining the light transmittance.

본 발명의 단순한 변형 또는 변경은 모두 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

Claims (12)

디아민계 모노머 및 디안하이드라이드계 모노머로부터 유래되는 반복단위를 포함하고, 상기 디아민계 모노머로는 1,4-디아미노 사이클로헥산(TCHD) 및 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지.
And a repeating unit derived from a diamine-based monomer and a dianhydride-based monomer, and the diamine-based monomer includes 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) and bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) By weight.
제1항에 있어서, 상기 1,4-디아미노 사이클로헥산(TCHD)은 그 함량이 전체 디아민계 모노머에 대하여 10 ~ 40mol%이고, 상기 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)은 그 함량이 전체 디아민계 모노머에 대하여 60 ~ 90mol%인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지.
[3] The method according to claim 1, wherein the content of the 1,4-diaminocyclohexane (TCHD) is 10 to 40 mol% based on the total diamine monomer, and the content of the bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) Based on the weight of the polyimide resin.
제1항에 있어서, 상기 디아민계 모노머는 비스 아미노하이드록시 페닐 헥사플로오로프로판(DBOH), 비스 아미노페녹시 벤젠(133APB, 134APB, 144APB), 비스 아미노페닐 헥사플루오로 프로판(33-6F, 44-6F), 비스 아미노페닐술폰(4DDS, 3DDS), 비스 아미노 페녹시 페닐헥사플루오로프로판(4BDAF), 비스 아미노 페녹시페닐프로판(6HMDA) 및 비스 아미노페녹시 디페닐술폰(DBSDA)로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지.
The method according to claim 1, wherein the diamine-based monomer is at least one selected from the group consisting of bisaminohydroxyphenylhexafluoropropane (DBOH), bisaminophenoxybenzene (133APB, 134APB, 144APB), bisaminophenylhexafluoropropane 6F), bisaminophenyl sulfone (4DDS, 3DDS), bisaminophenoxyphenylhexafluoropropane (4BDAF), bisaminophenoxyphenylpropane (6HMDA) and bisaminophenoxy diphenylsulfone (DBSDA) Wherein the polyimide resin further comprises at least one selected from the group consisting of polyimide resin and polyimide resin.
제1항에 있어서, 상기 디안하이드라이드계 모노머는 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA), 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA), 비페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BPDA), 바이시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BTA), 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복실릭디안하이드라이드(TDA), 피로멜리틱산 디안하이드라이드(1,2,4,5-벤젠 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(PMDA), 벤조페논 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BTDA), 비스카르복시페닐 디메틸 실란 디안하이드라이드(SiDA), 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(ODPA), 비스 디카르복시페녹시 디페닐 설파이드 디안하이드라이드(BDSDA), 술포닐 디프탈릭안하이드라이드(SO2DPA) 및 이소프로필리덴이페녹시 비스 프탈릭안하이드라이드(6HDBA)로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지.
The method of claim 1, wherein the dianhydride monomer is selected from the group consisting of 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydrate (6FDA), cyclobutane tetracarboxylic dianhydride (CBDA) , Biphenyl tetracarboxylic dianhydride (BPDA), bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride (BTA), 4- , 5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic dianhydride (TDA), pyromellitic acid dianhydride (Meth) acrylate, 2,4,5-benzene tetracarboxylic dianhydride (PMDA), benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA), biscarboxyphenyldimethylsilanediamine hydride (SiDA), oxydiphthalic dianhydride ODPA), bisdicarboxyphenoxy diphenylsulfide dianhydride (BDSDA), sulfonyldiphthalic anhydride (SO2D PA) and isopropylidene are at least one selected from the group consisting of phenoxy bis-phthalic anhydride (6HDBA).
제1항에 있어서, 상기 디안하이드라이드계 모노머는 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA) 및 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA)인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지.
The method of claim 1, wherein the dianhydride monomer is selected from the group consisting of 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydrate (6FDA) and cyclobutane tetracarboxylic dianhydride (CBDA) And a polyimide resin.
제4항에 있어서, 상기 디안하이드라이드계 모노머는 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA) 및 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA)은 그 함량이 전체 디안하이드라이드계 모노머에 대하여 20 ~ 100mol%이고, 상기 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA)는 사이클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA) 1몰에 대하여, 1 내지 5몰비로 함유하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지.
The method of claim 4, wherein the dianhydride monomer is selected from the group consisting of 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydrate (6FDA) and cyclobutane tetracarboxylic dianhydride (CBDA) (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (6FDA) is present in an amount of from 20 to 100 mol% based on the total dianhydride monomer, and the 2,2-bis Wherein the polyimide resin is contained in an amount of 1 to 5 mol per mol of dianhydride (CBDA).
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 폴리이미드 수지를 포함하는 폴리이미드 필름.
A polyimide film comprising the polyimide resin of any one of claims 1 to 6.
제7항에 있어서, 복굴절률이 0.008 이하인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.
The polyimide film according to claim 7, wherein the polyimide film has a birefringence of 0.008 or less.
제7항에 있어서, Ro(면방향 위상차)는 1nm 이하이고, Rth(두께방향 위상차)는 100nm 이하(두께 10 ~ 12㎛)인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.
The polyimide film according to claim 7, wherein R o (surface direction retardation) is 1 nm or less and R th (thickness direction retardation) is 100 nm or less (thickness 10 to 12 μm).
제7항에 있어서, 필름두께 10 ~ 12㎛를 기준으로 UV분광계로 투과도 측정시 550㎚에서 투과도가 88% 이상인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.
The polyimide film according to claim 7, wherein the film has a transmittance of at least 88% at 550 nm when measured with a UV spectrometer based on a thickness of 10 to 12 μm.
제7항에 있어서, 50 ~ 300℃에서의 열팽창계수(CTE)가 40ppm/℃ 이하인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.
The polyimide film according to claim 7, wherein a coefficient of thermal expansion (CTE) at 50 to 300 캜 is 40 ppm / 캜 or less.
제7항 내지 제11항 중 어느 한 항의 폴리이미드 필름을 포함하는 영상표시소자용 기판.A substrate for an image display device comprising the polyimide film of any one of claims 7 to 11.
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